WO2019167814A1 - メルカプトフェノール化合物の製造方法及びその中間体 - Google Patents

メルカプトフェノール化合物の製造方法及びその中間体 Download PDF

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Abstract

【課題】　工業的に好ましい硫黄原子の導入反応を用いて、メルカプトフェノール化合物が得られる製造方法及びその中間体化合物を提供する。 【解決手段】　フェノール化合物を原料として、カルバミン酸フェニル化合物を製造した後、一塩化硫黄との反応により位置選択的に硫黄原子を導入し、メルカプトカルバミン酸フェニル化合物を中間体として経由する、メルカプトフェノール化合物を製造する方法。

Description

メルカプトフェノール化合物の製造方法及びその中間体
　本発明は、農薬化合物の合成中間体として有用なメルカプトフェノール化合物の製造方法、特にフェノール化合物を原料として、カルバミン酸フェニル化合物を製造した後、一塩化硫黄との反応により位置選択的に硫黄原子を導入し、メルカプトカルバミン酸フェニル化合物を中間体として経由する、メルカプトフェノール化合物の製造方法に関する。
　メルカプトフェノール化合物は、医薬・農薬化合物及びそれらの合成中間体として有用である。例えば、特許文献１、特許文献２及び特許文献３に開示されている有害生物防除剤は、ベンゼン環上にトリフルオロエチルスルフィニル基及びメタ位にアルコキシ側鎖を有しており、これらの共通構造が有害生物防除活性の発現において重要であると考えられている。
　特許文献２及び３に記載されているメルカプトフェノール化合物の製造方法では、まず、原料である２－フルオロ－４－メチルフェノールを酢酸フェニル化合物又はフェニルエチルカーボネート化合物とした後、硫黄原子の導入にクロロスルホニル化反応を行っている。その後、リンを用いてクロロスルホニル基の還元を行い、加水分解反応を経て目的のメルカプトフェノール化合物を製造している（特許文献２の「合成例３」及び特許文献３の「参考合成例２及び１２」）。また、非特許文献１及び２にも同様の製造ルートが記載されている。
　特許文献４に記載されているメルカプトフェノール化合物の製造方法では、まず、原料である２，４－ジメチルフェノールをメタンスルホン酸フェニル化合物とした後、硫黄原子の導入にクロロスルホニル化反応を行っている。その後、スズを用いてクロロスルホニル基の還元を行い、加水分解反応を経て目的のメルカプトフェノール化合物を製造している（本文献の「参考例２」）。
　特許文献２、３及び４に記載されているメルカプトフェノール化合物の製造方法では、硫黄原子の導入にクロロスルホニル化反応が採用されている。クロロスルホニル化反応は、フェノールのメタ位に硫黄原子を導入する方法として実験室規模では有用である。しかし、発煙硫酸、塩化チオニル、又はクロロスルホン酸等の強酸性試薬を大量に使用するため、反応缶の腐食及び大量の酸性廃水の処理等が問題になるため、工業的規模での製造では改善が望まれていた。
　一方、含硫黄有機化合物は一般的に特徴的な悪臭を有する場合が多く、この悪臭の防除も工業的規模での製造に際しては配慮する必要がある。このような状況に加え、医薬・農薬化合物及びそれらの合成中間体は、活性・安全性及び安定性の面から高品質な目的化合物を製造することが要求される。製造工程で得られる中間体化合物が液体である場合、化合物の単離方法及び／又は精製方法には蒸留の選択肢しかなく、含硫黄有機化合物の蒸留を工業的規模で行う際には、悪臭の周囲への拡散を防ぐための特殊な設備や複雑な操作が必要である。製造工程で得られる中間体化合物が固体であれば、単離方法及び／又は精製方法としてろ過及び／又は再結晶という選択肢が提供され、中間体化合物の品質向上及び保存安定性も期待される。
国際公開第２０１３／１５７２２９号公報 国際公開第２０１３／１１１８６４号公報 国際公開第２０１５／０２５８２６号公報 国際公開第２０１５／１２２３９６号公報
"Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ｏｆ ｍ－ｈｙｄｒｏｘｙｐｈｅｎｙｌｓｕｌｆｏｎｉｃ ａｃｉｄｓ ａｎｄ ｍ－ｈｙｄｒｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｏｌ"(Ｗｅｓｓｅｌｙ, Ｆ.; Ｓｉｌｈａｎ, Ｗ.; Ｐｏｌａｎｓｋｙ, Ｏ. Ｅ.)Ｍｏｎａｔｓｈｅｆｔｅ ｆｕｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ, ｖｏｌ. ９９, ｐ. ２０４８－２０５８ (１９６８) "Ａｃｔｉｏｎ ｏｆ ｔｈｉｏｌｓ ａｎｄ ｓｕｌｆｉｎｉｃ ａｃｉｄｓ ｏｎ ｑｕｉｎｏｌ ａｃｅｔａｔｅｓ. ＩＩ"（Ｗｅｓｓｅｌｙ, Ｆ.; Ｓｗｏｂｏｄａ, Ｊ.; Ｓｃｈｍｉｄｔ, Ｇ.）Ｍｏｎａｔｓｈｅｆｔｅ ｆｕｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ, ｖｏｌ. ９１, ｐ. ５７－７８ (１９６０)
　本発明の目的は、硫黄原子の導入にクロロスルホニル化反応を用いず、工業的に好ましい硫黄原子の導入反応を用いて、メルカプトフェノール化合物が得られる製造方法及びその中間体化合物を提供することにある。
　本発明の他の目的は、単離方法及び／又は精製方法としてろ過及び／又は再結晶という選択肢が提供される、結晶性の高い中間体化合物を提供することにある。
　上記のような状況に鑑み、本発明者がメルカプトフェノール化合物の製造方法について鋭意研究を重ねた結果、意外にも、カルバミン酸フェニル化合物の結晶性が高いことが見出された。更に、カルバミン酸フェニル化合物と一塩化硫黄との反応により位置選択的に硫黄原子を導入することが見出され、メルカプトカルバミン酸フェニル化合物を中間体として経由する、高品質なメルカプトフェノール化合物の製造方法を見出し、本発明を完成するに至った。
　すなわち、本発明は、下記〔１〕から〔１１２〕項に記載の発明を提供することにより前記課題を解決したものである。
　〔１〕式（１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 （式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ３～Ｃ６シクロアルキル基、
１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルコキシ基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ４アルキル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示す。）
で表されるカルバミン酸５－メルカプトフェニル化合物。
　〔２〕前記式（１）において、
Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいフェニル基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいベンジル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示す、〔１〕に記載の化合物。
　〔３〕前記式（１）において、
Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、メチル基、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、フェニル基又はベンジル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、－（エチレン）－Ｏ－（エチレン）－基、及び、－（エチレン）－Ｎ－（エチレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよい、〔１〕に記載の化合物。
　〔４〕前記式（１）において、
Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、メチル基、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示す、〔１〕に記載の化合物。
　〔５〕前記式（１）において、
Ｒ１はメチル基又は塩素原子を示し、
Ｒ２はメチル基又はフッ素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はメチル基を示す、〔１〕に記載の化合物。
　〔６〕前記式（１）において、
Ｒ１は塩素原子を示し、
Ｒ２はフッ素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示す、〔１〕に記載の化合物。
　〔7〕前記式（１）において、
Ｒ１は塩素原子を示し、
Ｒ２はフッ素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はメチル基を示す、〔１〕に記載の化合物。
　〔８〕式（２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 （式中、式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ３～Ｃ６シクロアルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルコキシ基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ４アルキル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示し、
ｎは２以上の整数を示す。）
で表されるポリスルフィド化合物又はその混合物。
　〔９〕前記式（２）において、
Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいフェニル基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいベンジル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示し、
ｎは２から１０の範囲の整数を示す、〔８〕に記載の化合物。
　〔１０〕前記式（２）において、
Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、メチル基、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、フェニル基又はベンジル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、－（エチレン）－Ｏ－（エチレン）－基、及び、－（エチレン）－Ｎ－（エチレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
ｎは２から８の範囲の整数を示す、〔８〕に記載の化合物。
　〔１１〕前記式（２）において、
Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、メチル基、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示し、
ｎは２から６の範囲の整数を示す、〔８〕に記載の化合物。
　〔１２〕前記式（２）において、
Ｒ１はメチル基又は塩素原子を示し、
Ｒ２はメチル基又はフッ素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はメチル基を示し、
ｎは２から５の範囲の整数を示す、〔８〕に記載の化合物。
　〔１３〕前記式（２）において、
Ｒ１は塩素原子を示し、
Ｒ２はフッ素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示し、
ｎは２から５の範囲の整数を示す、〔８〕に記載の化合物。
　〔１４〕前記式（２）において、
Ｒ１は塩素原子を示し、
Ｒ２はフッ素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はメチル基を示し、
ｎは２から５の範囲の整数を示す、〔８〕に記載の化合物。
　〔１５〕式（３）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 （式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ３～Ｃ６シクロアルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルコキシ基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ４アルキル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示す。）
で表されるカルバミン酸フェニル化合物。
　〔１６〕前記式（３）において、
Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいフェニル基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいベンジル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示す、〔１５〕に記載の化合物。
　〔１７〕前記式（３）において、
Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、メチル基、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、フェニル基又はベンジル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、－（エチレン）－Ｏ－（エチレン）－基、及び、－（エチレン）－Ｎ－（エチレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよい、〔１５〕に記載の化合物。
　〔１８〕前記式（３）において、
Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、メチル基、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示す、〔１５〕に記載の化合物。
　〔１９〕前記式（３）において、
Ｒ１はメチル基又は塩素原子を示し、
Ｒ２はメチル基又はフッ素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はメチル基を示す、〔１５〕に記載の化合物。
　〔２０〕前記式（３）において、
Ｒ１は塩素原子を示し、
Ｒ２はフッ素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示す、〔１５〕に記載の化合物。
　〔２１〕前記式（３）において、
Ｒ１は塩素原子を示し、
Ｒ２はフッ素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はメチル基を示す、〔１５〕に記載の化合物。
　〔２２〕式（２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 （式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ３～Ｃ６シクロアルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルコキシ基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ４アルキル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示し、
ｎは２以上の整数を示す。）
で表されるポリスルフィド化合物又はその混合物の製造方法であって、以下の工程：
（ｉ）　式（５）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 （式中、Ｒ１及びＲ２は前記で定義したとおりである。）
で表される化合物を塩基の存在下、式（ａ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 （式中、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりであり、Ｘはハロゲン原子を示す。）
で表されるカルバモイルハライド化合物と反応させ、式（３）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりである。）
で表される化合物を製造する工程；及び、
（ｉｉ）　前記式（３）で表される化合物を、酸の存在下、硫黄化合物との反応に付して、前記式（２）で表される化合物を製造する工程、
を含む方法。
　〔２３〕Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいフェニル基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいベンジル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示し、
ｎは２から１０の範囲の整数を示し、
Ｘはハロゲン原子を示す、〔２２〕に記載の方法。
　〔２４〕Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、メチル基、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、フェニル基又はベンジル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、－（エチレン）－Ｏ－（エチレン）－基、及び、－（エチレン）－Ｎ－（エチレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
ｎは２から８の範囲の整数を示し、
Ｘはハロゲン原子を示す、〔２２〕に記載の方法。
　〔２５〕Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、メチル基、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示し、
ｎは２から６の範囲の整数を示し、
Ｘは塩素原子を示す、〔２２〕に記載の方法。
　〔２６〕Ｒ１はメチル基又は塩素原子を示し、
Ｒ２はメチル基又はフッ素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はメチル基を示し、
ｎは２から５の範囲の整数を示し、
Ｘは塩素原子を示す、〔２２〕に記載の方法。
　〔２７〕Ｒ１は塩素原子を示し、
Ｒ２はフッ素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示し、
ｎは２から５の範囲の整数を示し、
Ｘは塩素原子を示す、〔２２〕に記載の方法。
　〔２８〕Ｒ１は塩素原子を示し、
Ｒ２はフッ素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はメチル基を示し、
ｎは２から５の範囲の整数を示し、
Ｘは塩素原子を示す、〔２２〕に記載の方法。
　〔２９〕工程（ｉ）で使用される塩基が、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ‐ジエチルアニリン、ピリジン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン、２，６－ルチジン又はそれらの混合物である、〔２２〕から〔２８〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔３０〕工程（ｉ）で使用される塩基が、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ‐ジエチルアニリン、ピリジン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン、２，６－ルチジン又はそれらの混合物である、〔２２〕から〔２８〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔３１〕工程（ｉ）で使用される塩基が、トリエチルアミン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン又はそれらの混合物である、〔２２〕から〔２８〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔３２〕前記式（５）の化合物１．０モルに対して０．０３当量以上３．０当量以下の範囲の塩基を使用する、〔２２〕から〔３１〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔３３〕前記式（５）の化合物１．０モルに対して０．０５当量以上２．０当量以下の範囲の塩基を使用する、〔２２〕から〔３１〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔３４〕工程（ｉｉ）で使用される酸が、ルイス酸である、〔２２〕から〔３３〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔３５〕工程（ｉｉ）で使用される酸が、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、塩化鉄（ＩＩＩ）、塩化亜鉛（ＩＩ）、三フッ化ホウ素又はそれらの混合物である、〔２２〕から〔３３〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔３６〕工程（ｉｉ）で使用される酸が、塩化アルミニウムである、〔２２〕から〔３３〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔３７〕前記式（３）の化合物１．０モルに対して０．０３当量以上３．０当量以下の範囲の酸を使用する、〔２２〕から〔３６〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔３８〕前記式（３）の化合物１．０モルに対して０．０５当量以上２．０当量以下の範囲の酸を使用する、〔２２〕から〔３６〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔３９〕工程（ｉｉ）で使用される硫黄化合物が、塩化硫黄化合物である、〔２２〕から〔３８〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔４０〕工程（ｉｉ）で使用される硫黄化合物が、一塩化硫黄である、〔２２〕から〔３８〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔４１〕前記式（３）の化合物１．０モルに対して１．１当量以上３．０当量以下の範囲の硫黄化合物を使用する、〔２２〕から〔４０〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔４２〕前記式（３）の化合物１．０モルに対して１．２当量以上２．０当量以下の範囲の硫黄化合物を使用する、〔２２〕から〔４０〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔４３〕式（１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 （式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ３～Ｃ６シクロアルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルコキシ基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ４アルキル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示す。）
で表されるカルバミン酸５－メルカプトフェニル化合物の製造方法であって、以下の工程：
（ｉ）　式（５）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 （式中、Ｒ１及びＲ２は前記で定義したとおりである。）
で表される化合物を塩基の存在下、式（ａ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 （式中、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりであり、Ｘはハロゲン原子を示す。）
で表されるカルバモイルハライド化合物と反応させ、式（３）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりである。）
で表される化合物を製造する工程；
（ｉｉ）　前記式（３）で表される化合物を、酸の存在下、硫黄化合物との反応に付して、式（２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりであり、ｎは２以上の整数を示す。）
で表されるポリスルフィド化合物又はその混合物を製造する工程；及び、
（ｉｉｉ）　前記式（２）で表される化合物から前記式（１）で表される化合物を製造する工程、
を含む方法。
　〔４４〕Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいフェニル基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいベンジル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示し、
ｎは２から１０の範囲の整数を示し、
Ｘはハロゲン原子を示す、〔４３〕に記載の方法。
　〔４５〕Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、メチル基、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、フェニル基又はベンジル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、－（エチレン）－Ｏ－（エチレン）－基、及び、－（エチレン）－Ｎ－（エチレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
ｎは２から８の範囲の整数を示し、
Ｘはハロゲン原子を示す、〔４３〕に記載の方法。
　〔４６〕Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、メチル基、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示し、
ｎは２から６の範囲の整数を示し、
Ｘは塩素原子を示す、〔４３〕に記載の方法。
　〔４７〕Ｒ１はメチル基又は塩素原子を示し、
Ｒ２はメチル基又はフッ素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はメチル基を示し、
ｎは２から５の範囲の整数を示し、
Ｘは塩素原子を示す、〔４３〕に記載の方法。
　〔４８〕Ｒ１は塩素原子を示し、
Ｒ２はフッ素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示し、
ｎは２から５の範囲の整数を示し、
Ｘは塩素原子を示す、〔４３〕に記載の方法。
　〔４９〕Ｒ１は塩素原子を示し、
Ｒ２はフッ素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はメチル基を示し、
ｎは２から５の範囲の整数を示し、
Ｘは塩素原子を示す、〔４３〕に記載の方法。
　〔５０〕工程（ｉ）で使用される塩基が、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ‐ジエチルアニリン、ピリジン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン、２，６－ルチジン又はそれらの混合物である、〔４３〕から〔４９〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔５１〕工程（ｉ）で使用される塩基が、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ‐ジエチルアニリン、ピリジン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン、２，６－ルチジン又はそれらの混合物である、〔４３〕から〔４９〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔５２〕工程（ｉ）で使用される塩基が、トリエチルアミン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン又はそれらの混合物である、〔４３〕から〔４９〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔５３〕前記式（５）の化合物１．０モルに対して０．０３当量以上３．０当量以下の範囲の塩基を使用する、〔４３〕から〔５２〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔５４〕前記式（５）の化合物１．０モルに対して０．０５当量以上２．０当量以下の範囲の塩基を使用する、〔４３〕から〔５２〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔５５〕工程（ｉｉ）で使用される酸が、ルイス酸である、〔４３〕から〔５４〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔５６〕工程（ｉｉ）で使用される酸が、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、塩化鉄（ＩＩＩ）、塩化亜鉛（ＩＩ）、三フッ化ホウ素又はそれらの混合物である、〔４３〕から〔５４〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔５７〕工程（ｉｉ）で使用される酸が、塩化アルミニウムである、〔４３〕から〔５４〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔５８〕前記式（３）の化合物１．０モルに対して０．０３当量以上３．０当量以下の範囲の酸を使用する、〔４３〕から〔５７〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔５９〕前記式（３）の化合物１．０モルに対して０．０５当量以上２．０当量以下の範囲の酸を使用する、〔４３〕から〔５７〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔６０〕工程（ｉｉ）で使用される硫黄化合物が、塩化硫黄化合物である、〔４３〕から〔５９〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔６１〕工程（ｉｉ）で使用される硫黄化合物が、一塩化硫黄である、〔４３〕から〔５９〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔６２〕前記式（３）の化合物１．０モルに対して１．１当量以上３．０当量以下の範囲の硫黄化合物を使用する、〔４３〕から〔６１〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔６３〕前記式（３）の化合物１．０モルに対して１．２当量以上２．０当量以下の範囲の硫黄化合物を使用する、〔４３〕から〔６１〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔６４〕工程（ｉｉｉ）が還元剤又は塩基の存在下で行われる、〔４３〕から〔６３〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔６５〕工程（ｉｉｉ）が還元剤及び塩基の存在下で行われる、〔４３〕から〔６３〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔６６〕工程（ｉｉｉ）で使用される還元剤が、金属、水素化ホウ素試薬、アルカリ金属硫化物、アルカリ金属ヒドロキシメタンスルフィン酸塩又はそれらの混合物である、〔４３〕から〔６５〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔６７〕工程（ｉｉｉ）で使用される還元剤が、アルカリ金属硫化物、アルカリ金属ヒドロキシメタンスルフィン酸塩又はそれらの混合物である、〔４３〕から〔６５〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔６８〕工程（ｉｉｉ）で使用される還元剤が、アルカリ金属ヒドロキシメタンスルフィン酸塩である、〔４３〕から〔６５〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔６９〕工程（ｉｉｉ）で使用される還元剤が、ヒドロキシメタンスルフィン酸ナトリウムである、〔４３〕から〔６５〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔７０〕前記式（２）の化合物１．０モルに対して０．０５当量以上５．０当量以下の範囲の還元剤を使用する、〔４３〕から〔６９〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔７１〕前記式（２）の化合物１．０モルに対して０．１当量以上４．０当量以下の範囲の還元剤を使用する、〔４３〕から〔６９〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔７２〕工程（ｉｉｉ）で使用される塩基が、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩又はそれらの混合物である、〔４３〕から〔７１〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔７３〕工程（ｉｉｉ）で使用される塩基がアルカリ金属炭酸塩である、〔４３〕から〔７１〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔７４〕工程（ｉｉｉ）で使用される塩基が、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム又はそれらの混合物である、〔４３〕から〔７１〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔７５〕工程（ｉｉｉ）で使用される塩基が炭酸ナトリウムである、〔４３〕から〔７１〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔７６〕前記式（２）の化合物１．０モルに対して０．０３当量以上４．０当量以下の範囲の塩基を使用する、〔４３〕から〔７５〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔７７〕前記式（２）の化合物１．０モルに対して０．０５当量以上３．０当量以下の範囲の塩基を使用する、〔４３〕から〔７５〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔７８〕式（４）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 （式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示す。）
で表されるメルカプトフェノール化合物の製造方法であって、以下の工程：
（ｉ）　式（５）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 （式中、Ｒ１及びＲ２は前記で定義したとおりである。）
で表される化合物を塩基の存在下、式（ａ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 （式中、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ３～Ｃ６シクロアルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルコキシ基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ４アルキル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示し、
Ｘはハロゲン原子を示す。）
で表されるカルバモイルハライド化合物と反応させ、式（３）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりである。）
で表される化合物を製造する工程；
（ｉｉ）　前記式（３）で表される化合物を、酸の存在下、硫黄化合物との反応に付して、式（２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりであり、ｎは２以上の整数を示す。）
で表される化合物を製造する工程；
（ｉｉｉ）　前記式（２）で表される化合物から式（１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりである。）
で表される化合物を製造する工程；及び、
（ｉｖ）　前記式（１）で表される化合物から前記式（４）で表される化合物を製造する工程、
を含む方法。
　〔７９〕Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいフェニル基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいベンジル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示し、
ｎは２から１０の範囲の整数を示し、
Ｘはハロゲン原子を示す、〔７８〕に記載の方法。
　〔８０〕Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、メチル基、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、フェニル基又はベンジル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、－（エチレン）－Ｏ－（エチレン）－基、及び、－（エチレン）－Ｎ－（エチレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
ｎは２から８の範囲の整数を示し、
Ｘはハロゲン原子を示す、〔７８〕に記載の方法。
　〔８１〕Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、メチル基、フッ素原子又は塩素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示し、
ｎは２から６の範囲の整数を示し、
Ｘは塩素原子を示す、〔７８〕に記載の方法。
　〔８２〕Ｒ１はメチル基又は塩素原子を示し、
Ｒ２はメチル基又はフッ素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はメチル基を示し、
ｎは２から５の範囲の整数を示し、
Ｘは塩素原子を示す、〔７８〕に記載の方法。
　〔８３〕Ｒ１は塩素原子を示し、
Ｒ２はフッ素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示し、
ｎは２から５の範囲の整数を示し、
Ｘは塩素原子を示す、〔７８〕に記載の方法。
　〔８４〕Ｒ１は塩素原子を示し、
Ｒ２はフッ素原子を示し、
Ｒ３及びＲ４はメチル基を示し、
ｎは２から５の範囲の整数を示し、
Ｘは塩素原子を示す、〔７８〕に記載の方法。
　〔８５〕工程（ｉ）で使用される塩基が、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ‐ジエチルアニリン、ピリジン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン、２，６－ルチジン又はそれらの混合物である、〔７８〕から〔８４〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔８６〕工程（ｉ）で使用される塩基が、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ‐ジエチルアニリン、ピリジン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン、２，６－ルチジン又はそれらの混合物である、〔７８〕から〔８４〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔８７〕工程（ｉ）で使用される塩基が、トリエチルアミン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン又はそれらの混合物である、〔７８〕から〔８４〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔８８〕前記式（５）の化合物１．０モルに対して０．０３当量以上３．０当量以下の範囲の塩基を使用する、〔７８〕から〔８７〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔８９〕前記式（５）の化合物１．０モルに対して０．０５当量以上２．０当量以下の範囲の塩基を使用する、〔７８〕から〔８７〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔９０〕工程（ｉｉ）で使用される酸が、ルイス酸である、〔７８〕から〔８９〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔９１〕工程（ｉｉ）で使用される酸が、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、塩化鉄（ＩＩＩ）、塩化亜鉛（ＩＩ）、三フッ化ホウ素又はそれらの混合物である、〔７８〕から〔８９〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔９２〕工程（ｉｉ）で使用される酸が、塩化アルミニウムである、〔７８〕から〔８９〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔９３〕前記式（３）の化合物１．０モルに対して０．０３当量以上３．０当量以下の範囲の酸を使用する、〔７８〕から〔９２〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔９４〕前記式（３）の化合物１．０モルに対して０．０５当量以上２．０当量以下の範囲の酸を使用する、〔７８〕から〔９２〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔９５〕工程（ｉｉ）で使用される硫黄化合物が、塩化硫黄化合物である、〔７８〕から〔９４〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔９６〕工程（ｉｉ）で使用される硫黄化合物が、一塩化硫黄である、〔７８〕から〔９４〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔９７〕前記式（３）の化合物１．０モルに対して１．１当量以上３．０当量以下の範囲の硫黄化合物を使用する、〔７８〕から〔９６〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔９８〕前記式（３）の化合物１．０モルに対して１．２当量以上２．０当量以下の範囲の硫黄化合物を使用する、〔７８〕から〔９６〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔９９〕工程（ｉｉｉ）が還元剤又は塩基の存在下で行われる、〔７８〕から〔９８〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔１００〕工程（ｉｉｉ）が還元剤及び塩基の存在下で行われる、〔７８〕から〔９８〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔１０１〕工程（ｉｉｉ）で使用される還元剤が、金属、水素化ホウ素試薬、アルカリ金属硫化物、アルカリ金属ヒドロキシメタンスルフィン酸塩又はそれらの混合物である、〔７８〕から〔１００〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔１０２〕工程（ｉｉｉ）で使用される還元剤が、アルカリ金属硫化物、アルカリ金属ヒドロキシメタンスルフィン酸塩又はそれらの混合物である、〔７８〕から〔１００〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔１０３〕工程（ｉｉｉ）で使用される還元剤が、アルカリ金属ヒドロキシメタンスルフィン酸塩である、〔７８〕から〔１００〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔１０４〕工程（ｉｉｉ）で使用される還元剤が、ヒドロキシメタンスルフィン酸ナトリウムである、〔７８〕から〔１００〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔１０５〕前記式（２）の化合物１．０モルに対して０．０５当量以上５．０当量以下の範囲の還元剤を使用する、〔７８〕から〔１０４〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔１０６〕前記式（２）の化合物１．０モルに対して０．１当量以上４．０当量以下の範囲の還元剤を使用する、〔７８〕から〔１０４〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔１０７〕工程（ｉｉｉ）で使用される塩基が、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩又はそれらの混合物である、〔７８〕から〔１０６〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔１０８〕工程（ｉｉｉ）で使用される塩基がアルカリ金属炭酸塩である、〔７８〕から〔１０６〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔１０９〕工程（ｉｉｉ）で使用される塩基が、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム又はそれらの混合物である、〔７８〕から〔１０６〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔１１０〕工程（ｉｉｉ）で使用される塩基が炭酸ナトリウムである、〔７８〕から〔１０６〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔１１１〕前記式（２）の化合物１．０モルに対して０．０３当量以上４．０当量以下の範囲の塩基を使用する、〔７８〕から〔１１０〕までのいずれか１項に記載の方法。
　〔１１２〕前記式（２）の化合物１．０モルに対して０．０５当量以上３．０当量以下の範囲の塩基を使用する、〔７８〕から〔１１０〕までのいずれか１項に記載の方法。
　本発明によれば、農薬化合物の合成中間体として有用なメルカプトフェノール化合物の新規な製造方法が提供される。
　本発明によれば、硫黄原子の導入にクロロスルホニル化反応を用いず、工業的に好ましい硫黄原子の導入反応を用いて、メルカプトフェノール化合物が得られる製造方法及びその中間体化合物が提供される。
　加えて、本発明によれば、単離方法及び／又は精製方法としてろ過及び／又は再結晶という選択肢を有する、結晶性の高い中間体化合物が提供される。
１．本明細書に記載された記号及び用語について説明する。
　ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。
　Ｃ１～Ｃ３のような元素記号と下付きの数字による表記は、これに続いて表記されている基の元素数が下付きの数字で示される範囲であることを示している。例えば、Ｃ１～Ｃ３の表記では炭素数が１～３であることを示しており、Ｃ１～Ｃ６の表記では、炭素数が１～６であることを示しており、Ｃ１～Ｃ１２の表記では、炭素数が１～１２であることを示している。
　Ｃ１～Ｃ４アルキル基とは、炭素数が１～４の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示す。Ｃ１～Ｃ４アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等を挙げることができる。
　好ましいＣ１～Ｃ４アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基等が挙げられ、より好ましくはメチル基、エチル基等が挙げられる。
　Ｃ１～Ｃ６アルキル基とは、炭素数が１～６の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示す。
Ｃ１～Ｃ６アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
　好ましいＣ１～Ｃ６アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられ、より好ましくはメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられる。
　Ｃ２～Ｃ６アルケニル基とは、炭素数が２～６の直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基を示す。Ｃ２～Ｃ６アルケニル基としては、例えば、ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基、イソプロペニル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、１，３－ブタジエニル基、１－ペンテニル基、２－ペンテニル基、３－ペンテニル基、４－ペンテニル基、１，３－ペンタジエニル基、２，４－ペンタジエニル基、１－ヘキセニル基、２－ヘキセニル基、３－ヘキセニル基、４－ヘキセニル基、５－ヘキセニル基、１，３－ヘキサジエニル基、１，４－ヘキサジエニル基、１，５－ヘキサジエニル基、２，４－ヘキサジエニル基、２，５－ヘキサジエニル基、３，５－ヘキサジエニル基、１，３，５－ヘキサトリエニル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
　好ましいＣ２～Ｃ６アルケニル基としては、例えば、ビニル基、２－プロペニル基、３－ブテニル基、１，３－ブタジエニル基、４－ペンテニル基、１，３－ペンタジエニル基、２，４－ペンタジエニル基、５－ヘキセニル基、１，３－ヘキサジエニル基、２，４－ヘキサジエニル基、３，５－ヘキサジエニル基、１，３，５－ヘキサトリエニル基等が挙げられ、より好ましくはビニル基、２－プロペニル基、３－ブテニル基、４－ペンテニル基、５－ヘキセニル基等が挙げられる。
　Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基とは、炭素数が３～６の環状のアルキル基を示す。Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
　好ましいＣ３～Ｃ６シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、より好ましくはシクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
　Ｃ１～Ｃ６アルコキシ基とは、炭素数が１～６の直鎖又は分岐鎖状のアルコキシ基を示す。Ｃ１～Ｃ６アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
　好ましいＣ１～Ｃ６アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基等が挙げられ、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基等が挙げられ、更に好ましくはメトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。
　Ｃ６～Ｃ１０アリール基としては、例えば、フェニル、１－又は２－ナフチル等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ４アルキル基としては、例えば、ベンジル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
　「Ｒ３及びＲ４は一緒になって環を形成してもよい」とは、Ｒ３基とＲ４基が一緒になって２価の基を形成して、環を形成することである。Ｒ３基とＲ４基が一緒になって形成される２価の基としては、Ｃ３～Ｃ７アルキレン基（例えば、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣH2－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－等）、－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基（例えば、－ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２ＣＨ２－等）、及び、－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基（例えば、－ＣＨ２ＣＨ２－Ｎ－ＣＨ２ＣＨ２－等）を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。アルキレン基とは、直鎖アルカンから水素を２つ除いた２価の基を意味し、例えば、メチレン基（－ＣＨ２－）、エチレン基（－ＣＨ２ＣＨ２－）、ｎ－プロピレン基（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）等が挙げられる。アルキレン基は前記したような置換基Ｂにより置換されていてもよい。
　本明細書中における置換基Ａとは、Ｃ１～Ｃ４アルキル基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる置換基を示す。
　本明細書中における置換基Ｂとは、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子及びオキソ基からなる群より選ばれる置換基を示す。
２．本発明のメルカプトフェノール化合物の製造方法について説明する。
（工程（ｉ））
　まず、工程（ｉ）について説明する。工程（ｉ）は、式（５）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 （式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示す。）
で表される化合物を塩基の存在下、式（ａ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 （式中、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ３～Ｃ６シクロアルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルコキシ基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ４アルキル基を示し、
又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示し、
Ｘはハロゲン原子を示す。）
で表されるカルバモイルハライド化合物と反応させ、式（３）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりである。）
で表される化合物を製造する工程である。以下、工程（ｉ）で使用する化合物や反応条件等について詳細に説明する。
　（原料化合物）
　工程（ｉ）において使用される原料は、式（５）で表されるフェノール化合物であり、公知の化合物であるか、又は公知の化合物から公知の方法により製造することができる。式（５）の化合物としては、例えば、２，４－ジクロロフェノール、２，４－ジフルオロフェノール、４－クロロ－２－フルオロフェノール、２－クロロ－４－メチルフェノール、２－フルオロ－４－メチルフェノール、２，４－ジメチルフェノール等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
　（カルバモイルハライド化合物）
　工程（ｉ）において使用されるカルバモイルハライド化合物は、式（ａ）で表される化合物であり、反応が進行する限りはいずれのカルバモイルハライド化合物でもよい。工程（ｉ）において使用されるカルバモイルハライド化合物としては、例えば、カルバモイルクロリド、メチルカルバモイルクロリド、ジメチルカルバモイルクロリド、ジエチルカルバモイルクロリド、エチルメチルカルバモイルクロリド、ジプロピルカルバモイルクロリド、ジイソプロピルカルバモイルクロリド、ジブチルカルバモイルクロリド、ジアリルカルバモイルクロリド、ビス（２－クロロエチル）カルバモイルクロリド、Ｎ－メトキシ－Ｎ－メチルカルバモイルクロリド、ジフェニルカルバモイルクロリド、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニルカルバモイルクロリド、Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルカルバモイルクロリド、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルカルバモイルクロリド、ピロリジン－１－カルボニルクロリド、ピペリジン－１－カルボニルクロリド、モルフォリン－４－カルボニルクロリド、４－メチルピペラジンカルボニルクロリド等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
　反応性、収率及び経済効率等の観点から、工程（ｉ）のカルバモイルハライド化合物として、好ましくはジメチルカルバモイルクロリド、ジエチルカルバモイルクロリド、エチルメチルカルバモイルクロリド、ジプロピルカルバモイルクロリド、ジイソプロピルカルバモイルクロリド、ジフェニルカルバモイルクロリド、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニルカルバモイルクロリド、ピロリジン－１－カルボニルクロリド、ピペリジン－１－カルボニルクロリド、モルフォリン－４－カルボニルクロリド、４－メチルピペラジンカルボニルクロリド等が挙げられ、より好ましくはジメチルカルバモイルクロリド、ジエチルカルバモイルクロリド、ジイソプロピルカルバモイルクロリド、ジフェニルカルバモイルクロリド等が挙げられ、更に好ましくはジメチルカルバモイルクロリド、ジエチルカルバモイルクロリドが挙げられる。
　（カルバモイルハライド化合物の使用量）
　工程（ｉ）のカルバモイルハライド化合物の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよいが、収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、式（５）の化合物１．０モルに対して、通常０．０１～１０．０モル、好ましくは１．０～５．０モル，より好ましくは１．１～３．０モル，更に好ましくは１．２～２．０モルの範囲を例示できる。
　（塩基）
　工程（ｉ）において使用される塩基は、反応が進行する限りはいずれの塩基でもよい。工程（ｉ）において使用される塩基としては、例えば、金属アルコキシド（例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド等）、アルカリ金属水酸化物（例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）、アルカリ土類金属水酸化物（例えば、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等）、アルカリ金属炭酸塩（例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等）、アルカリ土類金属炭酸塩（例えば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム等）、アルカリ金属炭酸水素塩（例えば、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等）、アルカリ土類金属炭酸水素塩（例えば、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム等）、リン酸塩（例えば、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸カルシウム等）、リン酸水素塩（例えば、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウム、リン酸水素カルシウム等）、及びアミン類（例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ‐ジエチルアニリン、ピリジン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン、２，６－ルチジン等）が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
　反応性、収率及び経済効率等の観点から、工程（ｉ）の塩基として好ましくはアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩及びアミン類等が挙げられ、より好ましくはアミン類が挙げられる。
　工程（ｉ）の塩基の具体的な例として好ましくは炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリン、ピリジン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン、２，６－ルチジン等が挙げられ、より好ましくはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリン、ピリジン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン、２，６－ルチジン等が挙げられ、更に好ましくはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリン、ピリジン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン、２，６－ルチジン等が挙げられ、特に好ましくはトリエチルアミン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン等が挙げられる。
　工程（ｉ）の塩基は、単独で又は任意の割合の２種以上の組み合わせで使用してもよい。工程（ｉ）の塩基の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。当業者は工程（ｉ）の塩基の形態を適宜に選択できる。
　（塩基の使用量）
　工程（ｉ）の塩基の使用量は、反応が進行する限りはいずれの量でもよい。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、工程（ｉ）の塩基の使用量は、式（５）の化合物１．０モルに対して、通常０．０１～１０．０当量、好ましくは０．０２～５．０当量、より好ましくは０．０３～３．０当量、更に好ましくは０．０５～２．０当量の範囲を例示できる。
　（溶媒）
　工程（ｉ）は、好ましくは溶媒を使用して行われる。工程（ｉ）において使用される溶媒は、反応が進行する限りは、いずれの溶媒でもよい。工程（ｉ）において使用される溶媒としては、例えば、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等）、エーテル類（例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４－ジオキサン、モノグライム、ジグライム等）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン等）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン、キシレン等）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）等）、イミダゾリノン類（例えば、１，３－ジメチル－２－イミダゾリノン（ＤＭＩ）等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの溶媒は単独で、又は任意の混合割合の混合溶媒として用いることができる。
　反応性、収率及び経済効率等の観点から、工程（ｉ）の溶媒として好ましくはニトリル類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化水素類、アミド類が挙げられ、より好ましくはニトリル類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類が挙げられ、更に好ましくはハロゲン化炭化水素類が挙げられる。
　工程（ｉ）の溶媒の具体的な例として、好ましくはアセトニトリル、プロピオニトリル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４－ジオキサン、モノグライム、ジグライム、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン、キシレン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）等が挙げられ、より好ましくはアセトニトリル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４－ジオキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン等が挙げられ、更に好ましくはジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン等が挙げられる。
　（溶媒の使用量）
　工程（ｉ）の溶媒の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、式（５）の化合物１．０モルに対して、通常０．０１～５０Ｌ（リットル）、好ましくは０．１～１５Ｌ、より好ましくは０．１～１０Ｌ、更に好ましくは０．１～５Ｌの範囲を例示できる。
　（反応温度）
　工程（ｉ）における反応温度は、反応が進行する限りは、いずれの温度でもよい。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、反応温度としては、通常－２０℃（マイナス２０℃）以上かつ使用される溶媒の沸点以下の範囲、好ましくは－２０℃以上１００℃以下の範囲、より好ましくは－１０℃以上７０℃以下の範囲、更に好ましくは０℃以上３０℃以下の範囲を例示できる。
　（反応時間）
　工程（ｉ）における反応時間は、特に制限されない。当業者は、工程（ｉ）における反応時間を適切に調整できる。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、通常０．５時間～４８時間、好ましくは０．５時間～３６時間、より好ましくは１時間～２４時間、更に好ましくは１時間～１２時間の範囲を例示できる。
　（生成物）
　工程（ｉ）において製造される生成物は、式（３）で表されるカルバミン酸フェニル化合物である。式（３）の化合物としては、例えば、ジメチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル、ジメチルカルバミン酸２，４－ジメチルフェニル、ジメチルカルバミン酸２－クロロ－４－メチルフェニル、ジメチルカルバミン酸２－フルオロ－４－メチルフェニル、ジエチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル、ジエチルカルバミン酸２，４－ジメチルフェニル、ジエチルカルバミン酸２－クロロ－４－メチルフェニル、ジエチルカルバミン酸２－フルオロ－４－メチルフェニル、ジイソプロピルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル、ジイソプロピルカルバミン酸２，４－ジメチルフェニル、ジイソプロピルカルバミン酸２－クロロ－４－メチルフェニル、ジイソプロピルカルバミン酸２－フルオロ－４－メチルフェニル、ジフェニルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル、ジフェニルカルバミン酸２，４－ジメチルフェニル、ジフェニルカルバミン酸２－クロロ－４－メチルフェニル、ジフェニルカルバミン酸２－フルオロ－４－メチルフェニル、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル、１－ピロリジンカルボン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル、１－ピペリジンカルボン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル、４－モルフォリンカルボン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル、４－メチルピペラジンカルボン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
　工程（ｉ）において製造される生成物として、好ましくはジメチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル、ジメチルカルバミン酸２，４－ジメチルフェニル、ジメチルカルバミン酸２－クロロ－４－メチルフェニル、ジメチルカルバミン酸２－フルオロ－４－メチルフェニル、ジエチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル、ジエチルカルバミン酸２，４－ジメチルフェニル、ジエチルカルバミン酸２－クロロ－４－メチルフェニル、ジエチルカルバミン酸２－フルオロ－４－メチルフェニル、ジイソプロピルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル、ジイソプロピルカルバミン酸２，４－ジメチルフェニル、ジイソプロピルカルバミン酸２－クロロ－４－メチルフェニル、ジイソプロピルカルバミン酸２－フルオロ－４－メチルフェニル、ジフェニルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル、ジフェニルカルバミン酸２，４－ジメチルフェニル、ジフェニルカルバミン酸２－クロロ－４－メチルフェニル、ジフェニルカルバミン酸２－フルオロ－４－メチルフェニル等が挙げられ、より好ましくはジメチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル、ジメチルカルバミン酸２，４－ジメチルフェニル、ジメチルカルバミン酸２－クロロ－４－メチルフェニル、ジメチルカルバミン酸２－フルオロ－４－メチルフェニル、ジエチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル、ジエチルカルバミン酸２，４－ジメチルフェニル、ジエチルカルバミン酸２－クロロ－４－メチルフェニル、ジエチルカルバミン酸２－フルオロ－４－メチルフェニル等が挙げられ、更に好ましくはジメチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル、ジメチルカルバミン酸２，４－ジメチルフェニル、ジエチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル、ジエチルカルバミン酸２，４－ジメチルフェニル等が挙げられる。
（工程（ｉｉ））
　次に、工程（ｉｉ）について説明する。工程（ｉｉ）は、式（３）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりである。）
で表される化合物を、酸の存在下、硫黄化合物との反応に付して、式（２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりであり、ｎは２以上の整数を示す。）
で表される化合物を製造する工程である。以下、工程（ｉｉ）で使用する化合物や反応条件等について詳細に説明する。
　（原料化合物）
　工程（ｉｉ）において使用される原料は、式（３）で表されるカルバミン酸フェニル化合物であり、工程（ｉ）において製造される生成物を使用することができる。
　（硫黄化合物）
　工程（ｉｉ）において使用される硫黄化合物としては、塩化硫黄化合物（例えば、一塩化硫黄、二塩化硫黄、二塩化三硫黄等）等が挙げられる。塩化硫黄化合物を使用する際には、通常に市販されている塩化硫黄化合物を用いてもよく、硫黄と塩素ガスを反応させて製造したものを用いてもよい。
　工程（ｉｉ）において使用される硫黄化合物としては、一塩化硫黄が好ましい。一塩化硫黄とは、Ｓ－Ｃｌ又はＣｌ－Ｓ－Ｓ－Ｃｌで表される化合物であり、二塩化二硫黄ともいう。
　本発明で使用される一塩化硫黄の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよく、当業者が適宜に選択できる。一塩化硫黄は通常に市販されている一塩化硫黄を直接用いることができ、溶媒に溶解した状態でも使用することができる。
　（一塩化硫黄の使用量）
　本明細書中では、一塩化硫黄をＣｌ－Ｓ－Ｓ－Ｃｌで表される化合物として考え、１モルの一塩化硫黄から２当量の硫黄原子が発生するものとして使用量を計算する。工程（ｉｉ）の一塩化硫黄の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよいが、収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、式（３）の化合物１．０モルに対して、通常０．０１～１０．０当量、好ましくは１．０～５．０当量、より好ましくは１．１～３．０当量、更に好ましくは１．２～２．０当量の範囲を例示できる。
　（酸）
　工程（ｉｉ）において使用される酸は、一般にフリーデル－クラフツ反応の触媒として知られるルイス酸が挙げられる。更には、反応が進行する限りはハロゲン化水素酸（例えば、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸等）、無機酸（例えば、硫酸、硝酸、リン酸、ポリリン酸等）、有機酸（例えば、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸等）、金属酸化物（例えば、アルミナ（酸化アルミニウム（ＩＩＩ））等）、酸性イオン交換樹脂、酸性シリカゲル等も使用することができるが、これらに限定されるものではない。
　工程（ｉｉ）の酸の具体的な例として好ましくは塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、ヨウ化アルミニウム、塩化鉄（ＩＩＩ）、臭化鉄（ＩＩＩ）、塩化コバルト（ＩＩ）、塩化ニッケル（ＩＩ）、塩化亜鉛（ＩＩ）、三フッ化ホウ素等が挙げられ、より好ましくは塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、塩化鉄（ＩＩＩ）、塩化亜鉛（ＩＩ）、三フッ化ホウ素等が挙げられ、更に好ましくは塩化アルミニウム等が挙げられる。
　工程（ｉｉ）の酸は、単独で又は任意の割合の２種以上の組み合わせで使用してもよい。工程（ｉｉ）の酸の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよく、当業者は工程（ｉｉ）の酸の形態を適宜に選択できる。また、ルイス酸は反応が十分に進行する限りは無水物であっても水和物であってもよく、当業者が適宜に選択できる。
　（酸の使用量）
　工程（ｉ）の酸の使用量は、反応が進行する限りはいずれの量でもよい。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、工程（ｉｉ）の酸の使用量は、式（３）の化合物１．０モルに対して、通常０．０１～１０．０当量、好ましくは０．０２～５．０当量、より好ましくは０．０３～３．０当量、更に好ましくは０．０５～２．０当量の範囲を例示できる。
　（溶媒）
　工程（ｉｉ）は、好ましくは溶媒を使用して行われる。工程（ｉｉ）において使用される溶媒は、反応が進行する限りは、いずれの溶媒でもよい。工程（ｉｉ）において使用される溶媒としては、例えば、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等）、エーテル類（例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４－ジオキサン、モノグライム、ジグライム等）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン等）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン、キシレン等）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）等）、イミダゾリノン類（例えば、１，３－ジメチル－２－イミダゾリノン（ＤＭＩ）等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの溶媒は単独で、又は任意の混合割合の混合溶媒として用いることができる。
　反応性、収率及び経済効率等の観点から、工程（ｉｉ）の溶媒として好ましくはニトリル類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化水素類、アミド類が挙げられ、より好ましくはニトリル類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類が挙げられ、更に好ましくはハロゲン化炭化水素類が挙げられる。
　工程（ｉｉ）の溶媒の具体的な例として、好ましくはアセトニトリル、プロピオニトリル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４－ジオキサン、モノグライム、ジグライム、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン、キシレン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）等が挙げられ、より好ましくはアセトニトリル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４－ジオキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン等が挙げられ、更に好ましくはジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン等が挙げられる。
　（溶媒の使用量）
　工程（ｉｉ）の溶媒の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、式（３）の化合物１．０モルに対して、通常０．０１～５０Ｌ（リットル）、好ましくは０．１～１５Ｌ、より好ましくは０．１～１０Ｌ、更に好ましくは０．１～５Ｌの範囲を例示できる。
　（反応温度）
　工程（ｉｉ）における反応温度は、反応が進行する限りは、いずれの温度でもよい。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、反応温度としては、通常－２０℃（マイナス２０℃）以上かつ使用される溶媒の沸点以下の範囲、好ましくは－２０℃以上１００℃以下の範囲、より好ましくは－１０℃以上７０℃以下の範囲、更に好ましくは０℃以上５０℃以下の範囲を例示できる。
　（反応時間）
　工程（ｉｉ）における反応時間は、特に制限されない。当業者は、工程（ｉｉ）における反応時間を適切に調整できる。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、通常０．５時間～４８時間、好ましくは０．５時間～３６時間、より好ましくは１時間～２４時間、更に好ましくは１時間～１２時間の範囲を例示できる。
　（生成物）
　工程（ｉｉ）において製造される生成物は、式（２）で表されるポリスルフィド化合物である。工程（ｉｉ）において製造される生成物の主成分は、式（２）におけるｎ＝２のジスルフィド化合物であるが、ｎ＝３以上のポリスルフィド化合物も生成物として確認される。すなわち、工程（ｉｉ）において製造される生成物は、式（２）におけるｎ＝２以上の化合物の混合物として得られる。
　ｎ＝２のジスルフィド化合物及びｎ＝３以上のポリスルフィド化合物は、次工程の工程（ｉｉｉ）により同じ生成物である式（１）で表されるカルバミン酸５－メルカプトフェニル化合物を与える。従って、ｎ＝２のジスルフィド化合物及びｎ＝３以上のポリスルフィド化合物は混合物のまま、それぞれを単離精製せずに、次の工程（ｉｉｉ）の原料として使用することができる。式（２）のジスルフィド化合物としては、例えば、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－４－クロロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－４－フルオロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－４－クロロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－４－フルオロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－イソプロピルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィド、ビス（５－イソプロピルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－イソプロピルカルバモイルオキシ－４－クロロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－イソプロピルカルバモイルオキシ－４－フルオロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジフェニルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジフェニルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジフェニルカルバモイルオキシ－４－クロロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジフェニルカルバモイルオキシ－４－フルオロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド、ビス［５－（Ｎ－メチル－Ｎ－フェニルカルバモイルオキシ）－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィド、ビス［５－（１－ピロリジンカルボニルオキシ）－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィド、ビス［５－（１－ピペリジンカルボニルオキシ）－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィド、ビス［５－（４－モルフォリンカルボニルオキシ）－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィド、ビス［５－（４－メチルピペラジンカルボニルオキシ）－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィド等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
　工程（ｉｉ）において製造される式（２）で表されるジスルフィド化合物としては、好ましくはビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－４－クロロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－４－フルオロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－４－クロロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－４－フルオロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－イソプロピルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィド、ビス（５－イソプロピルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－イソプロピルカルバモイルオキシ－４－クロロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－イソプロピルカルバモイルオキシ－４－フルオロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジフェニルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジフェニルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジフェニルカルバモイルオキシ－４－クロロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジフェニルカルバモイルオキシ－４－フルオロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド等が挙げられ、より好ましくはビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－４－クロロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－４－フルオロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－４－クロロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－４－フルオロ－２－メチルフェニル）ジスルフィド等が挙げられ、更に好ましくはビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）ジスルフィド等が挙げられる。
　工程（ｉｉ）において製造される，式（２）のｎ＝３以上のポリスルフィド化合物としては、例えば、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）トリスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）トリスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－４－クロロ－２－メチルフェニル）トリスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－４－フルオロ－２－メチルフェニル）トリスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）トリスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）トリスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－４－クロロ－２－メチルフェニル）トリスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－４－フルオロ－２－メチルフェニル）トリスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）テトラスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）テトラスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－４－クロロ－２－メチルフェニル）テトラスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－４－フルオロ－２－メチルフェニル）テトラスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）テトラスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）テトラスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－４－クロロ－２－メチルフェニル）テトラスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－４－フルオロ－２－メチルフェニル）テトラスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ペンタスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）ペンタスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－４－クロロ－２－メチルフェニル）ペンタスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－４－フルオロ－２－メチルフェニル）ペンタスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ペンタスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）ペンタスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－４－クロロ－２－メチルフェニル）ペンタスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－４－フルオロ－２－メチルフェニル）ペンタスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ヘキサスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）ヘキサスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－４－クロロ－２－メチルフェニル）ヘキサスルフィド、ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－４－フルオロ－２－メチルフェニル）ヘキサスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ヘキサスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－２，４－ジメチルフェニル）ヘキサスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－４－クロロ－２－メチルフェニル）ヘキサスルフィド、ビス（５－ジエチルカルバモイルオキシ－４－フルオロ－２－メチルフェニル）ヘキサスルフィド等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
（工程（ｉｉｉ））
　次に、工程（ｉｉｉ）について説明する。工程（ｉｉｉ）は、式（２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びｎは前記で定義したとおりである。）
で表される化合物から式（１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりである。）
で表される化合物を製造する工程である。以下、工程（ｉｉｉ）で使用する化合物や反応条件等について詳細に説明する。
　（原料化合物）
　工程（ｉｉｉ）において使用される原料は、式（２）で表されるポリスルフィド化合物であり、工程（ｉｉ）において製造される生成物を使用することができる。ｎ＝２のジスルフィド化合物及びｎ＝３以上のポリスルフィド化合物は、工程（ｉｉｉ）において同じ生成物である式（１）で表されるカルバミン酸５－メルカプトフェニル化合物を与える。従って、ｎ＝２のジスルフィド化合物及びｎ＝３以上のポリスルフィド化合物は混合物のまま、それぞれを単離精製せずに、工程（ｉｉｉ）の原料として使用することができる。
　工程（ｉｉｉ）は、好ましくは還元剤及び／又は塩基の存在下で行われる。当業者は、工程（ｉｉｉ）を還元剤の存在下、塩基の存在下、又は還元剤及び塩基の存在下で行うかを適宜に選択できる。
　（還元剤）
　工程（ｉｉｉ）において使用される還元剤は、反応が進行する限りはいずれの還元剤でもよい。工程（ｉｉｉ）において使用される還元剤としては、例えば、金属（例えば、鉄、亜鉛、スズ等）、水素化アルミニウム試薬（例えば、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム等）、水素化ホウ素試薬（例えば、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリ(sec-ブチル)ホウ素リチウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素テトラメチルアンモニウム等）、ボラン錯体（例えば、ボランテトラヒドロフラン錯体、ボラントリエチルアミン錯体等）、シラン化合物（例えば、トリメチルシラン、トリエチルシラン等）、アルカリ金属硫化物（例えば、硫化ナトリウム、硫化カリウム等）、アルカリ金属亜硫酸塩（例えば、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム等）、アルカリ金属亜硫酸水素塩（例えば、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カリウム等）、アルカリ金属ヒドロキシメタンスルフィン酸塩（例えば、ヒドロキシメタンスルフィン酸ナトリウム等）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
　反応性、収率及び経済効率等の観点から、工程（ｉｉｉ）の還元剤として好ましくは金属、水素化ホウ素試薬、アルカリ金属硫化物、アルカリ金属亜硫酸塩、アルカリ金属亜硫酸水素塩、アルカリ金属ヒドロキシメタンスルフィン酸塩等が挙げられ、より好ましくは金属、水素化ホウ素試薬、アルカリ金属硫化物、アルカリ金属ヒドロキシメタンスルフィン酸塩等が挙げられ、更に好ましくはアルカリ金属硫化物、アルカリ金属ヒドロキシメタンスルフィン酸塩等が挙げられ、特に好ましくはアルカリ金属ヒドロキシメタンスルフィン酸塩が挙げられる。
　工程（ｉｉｉ）の還元剤の具体的な例として好ましくは鉄、亜鉛、スズ、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、硫化ナトリウム、硫化カリウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カリウム、ヒドロキシメタンスルフィン酸ナトリウム等が挙げられ、より好ましくは鉄、亜鉛、スズ、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、硫化ナトリウム、硫化カリウム、ヒドロキシメタンスルフィン酸ナトリウム等が挙げられ、更に好ましくは硫化ナトリウム、硫化カリウム、ヒドロキシメタンスルフィン酸ナトリウム等が挙げられ、特に好ましくはヒドロキシメタンスルフィン酸ナトリウムが挙げられる。
　ヒドロキシメタンスルフィン酸ナトリウムは、ナトリウムホルムアルデヒドスルホキシレートともいう。ヒドロキシメタンスルフィン酸ナトリウムは、反応が進行する限りは無水物であっても水和物であってもよいが、反応性、入手性及び取り扱いの容易さ等の観点から、二水和物のヒドロキシメタンスルフィン酸ナトリウム・二水和物（商品名：ロンガリット）が好ましい。
　工程（ｉｉｉ）の還元剤は、単独で又は任意の割合の２種以上の組み合わせで使用してもよい。工程（ｉｉｉ）の還元剤の形態は、反応が進行する限りはいずれの形態でもよい。当業者は、還元剤の形態を適宜に選択できる。還元剤の形態としては、例えば、還元剤のみの液体若しくは固体、又は水溶液若しくは水以外の後述する工程（ｉｉｉ）の溶媒の溶液等が挙げられる。
　（還元剤の使用量）
　工程（ｉｉｉ）の還元剤の使用量は、反応が進行する限りは何れの量でもよい。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、式（２）の化合物１．０モルに対して、通常０．１～１０．０当量、好ましくは０．２～８．０当量、より好ましくは０．３～６．０当量、更に好ましくは０．５～４．０当量の範囲を例示できる。
　（還元剤として水素化ホウ素試薬等を用いるとき）
　工程（ｉｉｉ）の還元剤として水素化ホウ素試薬等を用いるときは、アルコールの存在下で使用することが好ましい。アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、２－プロパノール等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。アルコールは、単独で又は任意の割合の２種以上の組み合わせで使用してもよい。アルコールの使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、式（２）の化合物１モルに対して、１～１０モルの範囲を例示できるが、当業者はアルコールの使用量を適切に調整できる。加えて、後述する溶媒を兼ねてアルコールを使用するときは、ここに例示の範囲と関係なく、大過剰量のアルコールを用いてもよい。
　（還元剤としてアルカリ金属ヒドロキシメタンスルフィン酸塩を用いるとき）
　工程（ｉｉｉ）の還元剤としてアルカリ金属ヒドロキシメタンスルフィン酸塩を用いるときは、塩基の存在下で使用することが好ましい。使用する塩基の種類、形態及び使用量は、後述の工程（ｉｉｉ）で使用される塩基の記載を参考に当業者が適宜に選択できる。
　（塩基）
　工程（ｉｉｉ）において使用される塩基は、反応が進行する限りはいずれの塩基でもよい。工程（ｉｉｉ）において使用される塩基としては、例えば、金属アルコキシド（例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド等）、アルカリ金属水酸化物（例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）、アルカリ土類金属水酸化物（例えば、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等）、アルカリ金属炭酸塩（例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等）、アルカリ土類金属炭酸塩（例えば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム等）、アルカリ金属炭酸水素塩（例えば、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等）、アルカリ土類金属炭酸水素塩（例えば、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム等）、リン酸塩（例えば、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸カルシウム等）、リン酸水素塩（例えば、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウム、リン酸水素カルシウム等）、及びアミン類（例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリン、ピリジン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン、２，６－ルチジン等）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
　反応性、収率及び経済効率等の観点から、工程（ｉｉｉ）の塩基として好ましくはアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩及びアルカリ金属炭酸水素塩が挙げられ、より好ましくはアルカリ金属炭酸塩及びアルカリ金属炭酸水素塩が挙げられ、更に好ましくはアルカリ金属炭酸塩が挙げられる。
　工程（ｉｉｉ）の塩基の具体的な例として好ましくは水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられ、より好ましくは炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられ、更に好ましくは炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。
　工程（ｉｉｉ）の塩基は、単独で又は任意の割合の２種以上の組み合わせで使用してもよく、当業者は塩基の組み合わせを適宜に選択できる。工程（ｉｉｉ）の塩基の形態は、反応が進行する限りはいずれの形態でもよく、当業者は塩基の形態を適宜に選択できる。塩基の形態としては、例えば、塩基のみの液体若しくは固体、又は水溶液若しくは水以外の後述する工程（ｉｉｉ）の溶媒の溶液等が挙げられる。
　（塩基の使用量）
　工程（ｉｉｉ）の塩基の使用量は、反応が進行する限りはいずれの量でもよい。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、塩基の使用量は、式（２）の化合物１．０モルに対して、通常０．０１～１０．０当量、好ましくは０．０２～５．０当量、より好ましくは０．０３～４．０当量、更に好ましくは０．０５～３．０当量の範囲を例示できる。
　（溶媒）
　工程（ｉｉｉ）は、好ましくは溶媒を使用して行われる。工程（ｉｉｉ）において使用される溶媒は、反応が進行する限りは、いずれの溶媒でもよい。工程（ｉｉｉ）において使用される溶媒としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、２－プロパノール、ブタノール等）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等）、エーテル類（例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４－ジオキサン、モノグライム、ジグライム等）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等）、カルボン酸エステル類（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン等）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン、キシレン等）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）等）、イミダゾリノン類（例えば、１，３－ジメチル－２－イミダゾリノン（ＤＭＩ）等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの溶媒は単独で、又は任意の混合割合の混合溶媒として用いることができる。
　反応性、収率及び経済効率等の観点から、工程（ｉｉｉ）の溶媒として好ましくは水、アルコール類、ニトリル類、エーテル類、ケトン類、カルボン酸エステル類、ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化水素類、アミド類が挙げられ、より好ましくは水、ニトリル類、エーテル類、ケトン類、ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化水素類が挙げられ、更に好ましくは水、芳香族炭化水素類が挙げられる。
　工程（ｉｉｉ）の溶媒の具体的な例として、好ましくは水、メタノール、エタノール、２－プロパノール、ブタノール、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４－ジオキサン、モノグライム、ジグライム、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン、キシレン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）等が挙げられ、より好ましくは水、アセトニトリル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４－ジオキサン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、更に好ましくは水、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。
　（溶媒の使用量）
　工程（ｉｉｉ）の溶媒の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、式（２）の化合物１．０モルに対して、通常０．０１～５０Ｌ（リットル）、好ましくは０．１～１５Ｌ、より好ましくは０．１～１０Ｌ、更に好ましくは０．１～５Ｌの範囲を例示できる。
　（相間移動触媒）
　工程（ｉｉｉ）の反応を水と他の有機溶媒との混合溶媒中で行う場合、相間移動触媒の存在下又は非存在下で行ってもよい。相間移動触媒を用いるか否かは、当業者が適宜に決定できる。相間移動触媒としては、例えば、四級アンモニウム塩、（例えば、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウム硫酸水素塩、トリメチルベンジルアンモニウムクロリド等）、四級ホスホニウム塩（例えば、テトラブチルホスホニウムブロミド、テトラオクチルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド等）、クラウンエーテル類（例えば、１２－クラウン－４、１５－クラウン－５、１８－クラウン－６等）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
　反応性、収率及び経済効率等の観点から、相間移動触媒として好ましくは四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩が挙げられ、より好ましくは四級アンモニウム塩が挙げられる。
　工程（ｉｉｉ）の相間移動触媒の具体的な例として、好ましくはテトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムヨージド、水酸化テトラブチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム硫酸水素塩、トリブチルメチルアンモニウムクロリド、トリブチルメチルアンモニウムブロミド、トリメチルベンジルアンモニウムクロリド、トリメチルベンジルアンモニウムブロミド、水酸化トリメチルベンジルアンモニウム、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモニウムブロミド、ラウリルトリメチルアンモニウムクロリド、ラウリルトリメチルアンモニウムブロミド、ベンジルラウリルジメチルアンモニウムクロリド、ベンジルラウリルジメチルアンモニウムブロミド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、トリオクチルメチルアンモニウムブロミド、トリオクチルエチルアンモニウムクロリド、トリオクチルエチルアンモニウムブロミド、ベンジルジメチルオクタデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルオクタデシルアンモニウムブロミド、ミリスチルトリメチルアンモニウムブロミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルピロリジニウムクロリド、Ｎ，Ｎ－ジメチルピペリジニウムヨージド、Ｎ－エチル－Ｎ－メチルピロリジニウムブロミド、Ｎ－エチル－Ｎ－メチルピロリジニウムヨージド、Ｎ－ブチル－Ｎ－メチルピロリジニウムブロミド、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルピロリジニウムクロリド、Ｎ－ブチル－Ｎ－メチルモルホリニウムブロミド、Ｎ－ブチル－Ｎ－メチルモルホリニウムヨージド、Ｎ－アリル－Ｎ－メチルモルホリニウムブロミド、Ｎ－メチル－Ｎ－エチルピペリジニウムアセテート、Ｎ－メチル－Ｎ－エチルピペリジニウムヨージド、Ｎ－メチル－Ｎ－ベンジルピペリジニウムクロリド、Ｎ－メチル－Ｎ－ベンジルピペリジニウムブロミド、テトラブチルホスホニウムブロミド、テトラオクチルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド等が挙げられ、より好ましくはテトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウム硫酸水素塩、トリメチルベンジルアンモニウムクロリド、トリメチルベンジルアンモニウムブロミド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、トリオクチルメチルアンモニウムブロミド、ベンジルラウリルジメチルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルオクタデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルオクタデシルアンモニウムブロミド、ミリスチルトリメチルアンモニウムブロミド等が挙げられる。
　（相間移動触媒の使用量）
　工程（ｉｉｉ）の相間移動触媒の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。工程（ｉｉｉ）の相間移動触媒の使用量は、当業者が適宜に調整できる。収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、式（２）の化合物１．０モルに対して、通常０．０１当量～１．０当量、好ましくは０．０３当量～０．８当量、より好ましくは０．０５当量～０．５当量の範囲を例示できる。
　相間移動触媒は、単独で又は任意の割合の２種以上の組み合わせで使用してもよい。相間移動触媒の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。当業者は、相間移動触媒の形態を適宜に選択できる。
　（反応温度）
　工程（ｉｉｉ）における反応温度は、反応が進行する限りは、いずれの温度でもよい。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、反応温度としては、通常－２０℃（マイナス２０℃）以上かつ使用される溶媒の沸点以下の範囲、好ましくは－２０℃以上１００℃以下の範囲、より好ましくは－１０℃以上７０℃以下の範囲、更に好ましくは０℃以上５０℃以下の範囲を例示できる。
　（反応時間）
　工程（ｉｉｉ）における反応時間は、特に制限されない。当業者は、工程（ｉｉｉ）における反応時間を適切に調整できる。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、通常０．５時間～４８時間、好ましくは０．５時間～３６時間、より好ましくは１時間～２４時間、更に好ましくは１時間～１２時間の範囲を例示できる。
　（生成物）
　工程（ｉｉｉ）において製造される生成物は、式（１）で表されるカルバミン酸５－メルカプトフェニル化合物である。式（１）のカルバミン酸５－メルカプトフェニル化合物としては、例えば、ジメチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニル、ジメチルカルバミン酸５－メルカプト－２，４－ジメチルフェニル、ジメチルカルバミン酸２－クロロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル、ジメチルカルバミン酸２－フルオロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル、ジエチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニル、ジエチルカルバミン酸５－メルカプト－２，４－ジメチルフェニル、ジエチルカルバミン酸２－クロロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル、ジエチルカルバミン酸２－フルオロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル、ジイソプロピルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニル、ジイソプロピルカルバミン酸５－メルカプト－２，４－ジメチルフェニル、ジイソプロピルカルバミン酸２－クロロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル、ジイソプロピルカルバミン酸２－フルオロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル、ジフェニルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニル、ジフェニルカルバミン酸５－メルカプト－２，４－ジメチルフェニル、ジフェニルカルバミン酸２－クロロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル、ジフェニルカルバミン酸２－フルオロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニル、１－ピロリジンカルボン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニル、１－ピペリジンカルボン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニル、４－モルフォリンカルボン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニル、４－メチルピペラジンカルボン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
　工程（ｉｉｉ）において製造される生成物として、好ましくはジメチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニル、ジメチルカルバミン酸５－メルカプト－２，４－ジメチルフェニル、ジメチルカルバミン酸２－クロロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル、ジメチルカルバミン酸２－フルオロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル、ジエチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニル、ジエチルカルバミン酸５－メルカプト－２，４－ジメチルフェニル、ジエチルカルバミン酸２－クロロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル、ジエチルカルバミン酸２－フルオロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル、ジイソプロピルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニル、ジイソプロピルカルバミン酸５－メルカプト－２，４－ジメチルフェニル、ジイソプロピルカルバミン酸２－クロロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル、ジイソプロピルカルバミン酸２－フルオロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル、ジフェニルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニル、ジフェニルカルバミン酸５－メルカプト－２，４－ジメチルフェニル、ジフェニルカルバミン酸２－クロロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル、ジフェニルカルバミン酸２－フルオロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル等が挙げられ、より好ましくはジメチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニル、ジメチルカルバミン酸５－メルカプト－２，４－ジメチルフェニル、ジメチルカルバミン酸２－クロロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル、ジメチルカルバミン酸２－フルオロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル、ジエチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニル、ジエチルカルバミン酸５－メルカプト－２，４－ジメチルフェニル、ジエチルカルバミン酸２－クロロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル、ジエチルカルバミン酸２－フルオロ－５－メルカプト－４－メチルフェニル等が挙げられ、更に好ましくはジメチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニル、ジメチルカルバミン酸５－メルカプト－２，４－ジメチルフェニル、ジエチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニル、ジエチルカルバミン酸５－メルカプト－２，４－ジメチルフェニル等が挙げられる。
　（工程（ｉｖ））
　次に、工程（ｉｖ）について説明する。工程（ｉｖ）は、式（１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりである。）
で表される化合物から、式（４）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 （式中、Ｒ１及びＲ２は前記で定義したとおりである。）
で表される化合物を製造する工程である。以下、工程（ｉｖ）で使用する化合物や反応条件等について詳細に説明する。
　（原料化合物）
　工程（ｉｖ）において使用される原料は、式（１）で表されるカルバミン酸５－メルカプトフェニル化合物であり、工程（ｉｉｉ）において製造される生成物を使用することができる。工程（ｉｖ）において使用される原料は、式（１）の化合物をそのまま用いてもよく、また、あらかじめ式（１）の化合物の塩を調製してから工程（ｉｖ）に使用することもできる。式（１）の化合物の塩を調製してから工程（ｉｖ）に使用する場合には、式（１）の化合物の塩を単離してから工程（ｉｖ）に使用してもよく、単離せずに水溶液又は後述する溶媒の溶液として工程（ｉｖ）に使用してもよい。式（１）の化合物の塩は例えば、式（１）の化合物を適当な塩基と反応させることにより、調製することができる。
　（塩基）
　工程（ｉｖ）の反応では、その目的が達せられる限りは塩基を用いてもよく、塩基を用いるかは当業者が適宜に選択できる。工程（ｉｖ）において使用される塩基は、反応が進行する限りはいずれの塩基でもよい。工程（ｉｖ）において使用される塩基としては、例えば、金属アルコキシド（例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド等）、アルカリ金属水酸化物（例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）、アルカリ土類金属水酸化物（例えば、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等）、アルカリ金属炭酸塩（例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等）、アルカリ土類金属炭酸塩（例えば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム等）、アルカリ金属炭酸水素塩（例えば、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等）、アルカリ土類金属炭酸水素塩（例えば、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム等）、リン酸塩（例えば、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸カルシウム等）、リン酸水素塩（例えば、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウム、リン酸水素カルシウム等）、及びアミン類（例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリン、ピリジン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン、２，６－ルチジン等）が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
　反応性、収率及び経済効率等の観点から、工程（ｉｖ）の塩基として好ましくは金属アルコキシド、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩等が挙げられ、より好ましくは金属アルコキシド、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩等が挙げられ、更に好ましくはアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩等が挙げられる。
　工程（ｉｖ）の塩基の具体的な例として好ましくはナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられ、より好ましくはカリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられ、更に好ましくは水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。
　工程（ｉｖ）の塩基は、単独で又は任意の割合の２種以上の組み合わせで使用してもよい。工程（ｉｖ）の塩基の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。当業者は、工程（ｉｖ）の塩基の形態を適宜に選択できる。
　（塩基の使用量）
　工程（ｉｖ）の塩基の使用量は、反応が進行する限りはいずれの量でもよい。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、工程（ｉｖ）の塩基の使用量は、式（１）の化合物１．０モルに対して、通常０．０１～２０．０当量、好ましくは０．１～１５．０当量、より好ましくは０．５～１０．０当量、更に好ましくは１．０～５．０当量の範囲を例示できる。また、式（１）の化合物の塩を調製してから工程（ｉｖ）に使用する場合には、上記塩基の使用量に式（１）の化合物の塩を調製する分の塩基を加算して使用してもよい。
　（溶媒）
　工程（ｉｖ）は、好ましくは溶媒を使用して行われる。工程（ｉｖ）において使用される溶媒は、反応が進行する限りは、いずれの溶媒でもよい。工程（ｉｖ）において使用される溶媒としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、２－プロパノール、ブタノール等）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等）、エーテル類（例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４－ジオキサン、モノグライム、ジグライム等）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン等）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン、キシレン等）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）等）、イミダゾリノン類（例えば、１，３－ジメチル－２－イミダゾリノン（ＤＭＩ）等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの溶媒は単独で、又は任意の混合割合の混合溶媒として用いることができる。
　反応性、収率及び経済効率等の観点から、工程（ｉｖ）の溶媒として好ましくは水、アルコール類、ニトリル類、エーテル類、ケトン類、ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化水素類、アミド類が挙げられ、より好ましくは水、エーテル類、ケトン類、ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化水素類が挙げられ、更に好ましくは水、芳香族炭化水素類が挙げられる。
　工程（ｉｖ）の溶媒の具体的な例として、好ましくは水、メタノール、エタノール、２－プロパノール、ブタノール、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４－ジオキサン、モノグライム、ジグライム、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン、キシレン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）等が挙げられ、より好ましくは水、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４－ジオキサン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、更に好ましくは水、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。
　（溶媒の使用量）
　工程（ｉｖ）の溶媒の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、式（１）の化合物１．０モルに対して、通常０．０１～５０Ｌ（リットル）、好ましくは０．１～１５Ｌ、より好ましくは０．１～１０Ｌ、更に好ましくは０．１～５Ｌの範囲を例示できる。
　（反応温度）
　工程（ｉｖ）における反応温度は、反応が進行する限りは、いずれの温度でもよい。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、反応温度としては、通常－２０℃（マイナス２０℃）以上かつ使用される溶媒の沸点以下の範囲、好ましくは－２０℃以上１００℃以下の範囲を例示できる。
　（反応時間）
　工程（ｉｖ）における反応時間は、特に制限されない。当業者は、工程（ｉｖ）における反応時間を適切に調整できる。収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、通常０．１時間～４８時間、好ましくは０．１時間～３６時間、より好ましくは０．１時間～２４時間、更に好ましくは０．１時間～１２時間の範囲を例示できる。
　（生成物）
　工程（ｉｖ）において製造される生成物は、式（４）で表されるメルカプトフェノール化合物である。工程（ｉｖ）において、式（１）の化合物又は式（１）の化合物の塩と塩基との反応により得られた式（４）で表されるメルカプトフェノール化合物の塩を適当な酸で処理することにより、式（４）で表されるメルカプトフェノール化合物を製造することができる。式（４）の化合物としては、例えば、４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェノール、５－メルカプト－２，４－ジメチルフェノール、２－クロロ－５－メルカプト－４－メチルフェノール、２－フルオロ－５－メルカプト－４－メチルフェノール等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
　次に、実施例を挙げて本発明の製造方法を具体的に説明するが、本発明は、これら実施例によって何ら限定されるものではない。
　以下の実施例において、室温とは、通常１０℃～３５℃の範囲である。
　本明細書中、実施例及び参考例の各物性の測定には次の機器を用いた。
　（１Ｈ核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ－ＮＭＲ））
Ｖａｒｉａｎ　Ｍｅｒｃｕｒｙ-３００、内部基準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）
　（ＨＰＬＣ：高速液体クロマトグラフィー）
ポンプ：ＬＣ－２０１０Ａ（株式会社島津製作所製）、カラム：ＣＥＲＩ　Ｌ－ｃｏｌｕｍｎ　ＯＤＳ（４．６×２５０ｍｍ），Ｌ－Ｃ１８，５μｍ，１２ｎｍ
　ＨＰＬＣ分析方法に関しては、必要に応じて、以下の文献を参照することができる。
（ａ）：（社）日本化学会編、「新実験化学講座９　分析化学　ＩＩ」、第８６～１１２頁（１９７７年）、発行者　飯泉新吾、丸善株式会社（例えば、カラムに使用可能な充填剤－移動相の組合せに関しては、第９３～９６頁を参照できる。）
（ｂ）：（社）日本化学会編、「実験化学講座２０－１　分析化学」第５版、第１３０～１５１頁（２００７年）、発行者　村田誠四郎、丸善株式会社（例えば、逆相クロマトグラフィー分析の具体的な使用方法及び条件に関しては、第１３５～１３７頁を参照できる。）
　（ＬＣ／ＭＳ：液体クロマトグラフ質量分析）
ポンプ：Ｗａｔｅｒｓ　Ａｃｑｕｉｔｙ　Ｈ　Ｃｌａｓｓ，検出器：Ｗａｔｅｒｓ　Ｑ－Ｔｏｆ　Ｐｒｅｍｉｅｒ，カラム：ＣＥＲＩ　Ｌ－ｃｏｌｕｍｎ　ＯＤＳ（４．６×２５０ｍｍ），Ｌ－Ｃ１８，５μｍ，１２ｎｍ
　（ｐＨの測定方法）
　ｐＨはガラス電極式水素イオン濃度指示計により測定した。ガラス電極式水素イオン濃度指示計としては、例えば、東亜ディーケーケー株式会社製、形式：ＨＭ－２０Ｐが使用できる。
　（融点の測定方法）
　ＤＳＣ示差走査熱量計により測定した。示差走査熱量分析は、機種：ＤＳＣ－６０（株式会社島津製作所社製）を用いて、１０～４００℃の温度範囲において１０℃／ｍｉｎの加熱速度で行われた。示差走査熱量測定方法に関しては、必要に応じて、以下の文献を参照することができる。
（ａ）：（社）日本化学会編、「第４版実験化学講座４　熱、圧力」、第５７～９３頁（１９９２年）、発行者　海老原熊雄、丸善株式会社
（ｂ）：（社）日本化学会編、「第５版実験化学講座６　温度・熱、圧力」、第２０３～２０５頁（２００５年）、発行者　村田誠四郎、丸善株式会社
　（実施例１）
　Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロフェニルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
　攪拌機、還流冷却器、温度計及び滴下ロートを備えた３Ｌの四つ口フラスコに、４－クロロ－２－フルオロフェノール２９３ｇ（２．００ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン１２．２ｇ（０．１００ｍｏｌ）、ジメチルカルバモイルクロリド２５８ｇ（２．４０ｍｏｌ）及びジクロロメタン１．４３Ｌを加え、撹拌した。混合物が溶解した後、トリエチルアミン２６３ｇ（２．６０ｍｏｌ）を室温下で1時間かけて滴下し、更に室温下で５時間撹拌した。反応が終了したことを確認し、反応混合物に水４００ｍＬ、３５％塩酸６２．５ｇを加え、室温下で３０分間撹拌した。その後、有機層と水層に分離し、得られた有機層に水４５０ｍＬ、５％炭酸水素ナトリウム水溶液３８１ｇを加え、室温下で３０分間撹拌し有機層を洗浄した。その後、有機層と水層に分離し、得られた有機層を減圧下、６０℃にてジクロロメタンを留去した。得られた残渣にイソプロピルアルコール４００ｍＬを加え、目的物の結晶を析出させた後、更に水６４０ｍＬを４時間かけて滴下した。結晶の懸濁液を１０℃で１時間撹拌した後、結晶を濾別・乾燥し、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル４０４g（収率９３％）を白色結晶として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：７．１９－７．０８（ｍ，３Ｈ），３．１１（ｓ，３Ｈ），３．０２（ｓ，３Ｈ）
融点：４７．６℃
数多くの類似化合物の中でも、特に、実施例１で得られた化合物（３ａ）のようなカルバミン酸フェニル化合物の結晶性は高かった。
　（実施例２）
　ビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィドの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
　攪拌機、還流冷却器、温度計及び滴下ロートを備えた３００ｍLの四つ口フラスコに、ジクロロメタン９０ｍＬ、塩化アルミニウム６０．０ｇ（０．４５ｍｏｌ）を加えた。次に、混合物を室温下で撹拌しながら、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル６５．３ｇ（０．３０ｍｏｌ）のジクロロメタン６０ｍＬ溶液を滴下した。その後、混合物に一塩化硫黄３０．４ｇ（０．２２５ｍｏｌ）を４０℃で３時間かけて滴下し、更に１時間撹拌した。
　攪拌機、還流冷却器、温度計及び滴下ロートを備えた１Ｌの四つ口フラスコに、水２７９ｍＬ、ジクロロメタン１２１ｍＬを加え、そこに上記で得られた反応混合物を室温下で滴下し、室温下で３０分間撹拌した。その後、有機層と水層に分離し、得られた有機層を減圧下、６０℃にてジクロロメタンを留去した。得られた残渣にトルエン３００ｍＬを加え、続いて水１２４ｍＬ、３５％塩酸１５６ｇを６０℃で加え、３０分間撹拌し、有機層を洗浄した。同様の洗浄操作を５％炭酸水素ナトリウム水溶液２８６ｇ及び１５％食塩水２７９ｇのそれぞれを用いて行い、目的物をトルエン溶液として得た。得られたトルエン溶液の成分について、ＬＣ－ＭＳを用いて分析したところ、ジスルフィド化合物の他にトリスルフィド化合物、テトラスルフィド化合物及びペンタスルフィド化合物の存在も確認された。
　（ジスルフィド化合物の１Ｈ－ＮＭＲシフト）
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：７．４５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，２Ｈ），３．１０（ｓ，６Ｈ），３．００（ｓ，６Ｈ）
　（ジスルフィド化合物の融点）
融点：１４０．４℃
　（ＬＣ－ＭＳ分析）
ジスルフィド化合物：Ｍ＋Ｈ＝４９６．９９；トリスルフィド化合物：Ｍ＋Ｈ＝５２８．９６；テトラスルフィド化合物：Ｍ＋Ｈ＝５６０．９４；ペンタスルフィド化合物：Ｍ＋Ｈ＝５９２．９２
　（実施例３）
　Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
　実施例２で得られたビス（５－ジメチルカルバモイルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィドのトルエン溶液の三分の一（０．０５０ｍｏｌ）を取り出し、攪拌機、還流冷却器、温度計及び滴下ロートを備えた３００ｍLの四つ口フラスコに加えた。更に、水２５ｍＬ、炭酸ナトリウム１０．６ｇ（０．１００ｍｏｌ）及び５０％テトラブチルアンモニウムブロミド水溶液０．６４５ｇ（０．００１ｍｏｌ）を１０℃にて加えた。混合物を撹拌しながら、水１００ｍＬに溶解させたロンガリット２３．１ｇ（０．１５０ｍｏｌ）の水溶液を１０℃にて１時間かけて滴下し、更に１０℃にて１時間撹拌した。反応混合物に３５％塩酸１５．６ｇを１０℃にて滴下し、反応混合物のｐＨが６．０～７．０となるように調整した。その後、有機層と水層に分離し、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニルをトルエン溶液として得た。得られたトルエン溶液について検量線を用いＬＣ分析を行ったところ、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニルの収率は７０．６％（二工程）であった。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：７．２１４（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．２１２（ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，１Ｈ），３．８２（ｓ，１Ｈ），３．１０（ｓ，３Ｈ），３．０１（ｓ，３Ｈ）
融点：８１．１℃
　（実施例４）
　４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェノールの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
　実施例３で得られたＮ，Ｎ－ジメチルカルバミン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニルのトルエン溶液（０．０７０６ｍｏｌ）を攪拌機、還流冷却器、温度計及び滴下ロートを備えた２００ｍLの四つ口フラスコに加えた。更に、水２７．５ｍＬ、２５％水酸化ナトリウム水溶液１２．０ｇ（０．０７５０ｍｏｌ）を加え、混合物のｐＨが１２以上となるように調整した。混合物を１０℃にて３０分間撹拌した後、有機層と水層に分離した。得られた水層をトルエン１２．５ｍＬで洗浄し、原料のナトリウム塩水溶液を得た。
　攪拌機、還流冷却器、温度計及び滴下ロートを備えた２００ｍLの四つ口フラスコに、２５％水酸化ナトリウム水溶液３６．０ｇ（０．２３０ｍｏｌ）を加え、８０℃に昇温した。そこへ上記で得た原料のナトリウム塩水溶液を８０℃にて１時間かけて滴下し、更に１時間撹拌した。
　攪拌機、還流冷却器、温度計及び滴下ロートを備えた２００ｍLの四つ口フラスコに、トルエン２０ｍＬ、３５％塩酸３１．２ｇ（０．３００ｍｏｌ）を加え、上記で得られた反応混合物を室温下で１時間かけて滴下した。反応混合物のｐＨが２以下となるように調整した後、室温下で３０分間撹拌した。反応混合物を有機層と水層に分離し、４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェノールをトルエン溶液として得た。得られたトルエン溶液について検量線を用いＬＣ分析を行ったところ、４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェノールの収率は９６．６％であった。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：７．１４（ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ），５．５４（ｂｓ，１Ｈ），３．８１（ｓ，１Ｈ）
融点：６５．１℃
　（実施例５）
　Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバミン酸２－クロロ－４－メチルフェニルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
　攪拌機、還流冷却器、温度計及び滴下ロートを備えた２５０ｍＬの四つ口フラスコに、２－クロロ－４－メチルフェノール１４．３ｇ（０．１０ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン０．６１ｇ（０．００５ｍｏｌ）、ジメチルカルバモイルクロリド１２．９ｇ（０．１２ｍｏｌ）及びジクロロメタン６０ｍＬを加え、撹拌した。混合物が溶解した後、トリエチルアミン１３．２ｇ（０．１３ｍｏｌ）を室温下で1時間かけて滴下し、更に室温下で５時間撹拌した。反応が終了したことを確認し、反応混合物に水２０ｍＬ、３５％塩酸３．１ｇを加え、室温下で３０分間撹拌した。その後、有機層と水層に分離し、得られた有機層に水２０ｍＬ、５％炭酸水素ナトリウム水溶液１９．１ｇを加え、室温下で３０分間撹拌し有機層を洗浄した。その後、有機層と水層に分離し、得られた有機層を減圧下、６０℃にてジクロロメタンを留去し、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバミン酸２－クロロ－４－メチルフェニル２１．２g（収率９9％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：７．２３－７．２２（ｍ，１Ｈ），７．０９－７．０３（ｍ，２Ｈ），３．１４（ｓ，３Ｈ），３．０２（ｓ，３Ｈ），２．３２（ｓ，３Ｈ）
融点：２７．１℃
　（参考例１）
　メタンスルホン酸４－クロロ－２－フルオロフェニルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
　攪拌機、還流冷却器、温度計及び滴下ロートを備えた１Ｌの四つ口フラスコに、４－クロロ－２－フルオロフェノール１２８ｇ（０．８７４ｍｏｌ）、メシルクロライド１１０ｇ（０．９６１ｍｏｌ）及びジクロロメタン２２４ｍＬを加え、撹拌した。混合物が溶解した後、トリエチルアミン１２４ｇ（１．２２ｍｏｌ）を１０℃にて1時間かけて滴下し、更に１０℃にて１時間撹拌した。反応が終了したことを確認し、反応混合物に水３６７ｍＬ、２０％塩酸７９．６ｇを加え、室温下で３０分間撹拌した。その後、有機層と水層に分離し、得られた有機層に水１９７ｍLを加え、８.５％炭酸水素ナトリウム水溶液１７３ｇを加え、室温下で３０分間撹拌し有機層を洗浄した。水３９３ｍＬを用いて同様の洗浄操作を行い、得られた有機層を４０～４５℃で共沸脱水し、メタンスルホン酸４－クロロ－２－フルオロフェニルをジクロロメタン溶液として得た。得られたジクロロメタン溶液について検量線を用いＬＣ分析を行ったところ、メタンスルホン酸４－クロロ－２－フルオロフェニルの収率は９６．２％であった。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：７．３７－７．３０（ｍ，１Ｈ），７．２８－７．２３（ｍ，１Ｈ），７．２１－７．１６（ｍ，１Ｈ），３．２３（ｄ，Ｊ＝０．７３Ｈｚ，３Ｈ）
融点：２０．９℃
　（参考例２）
　ビス（５－メタンスルホニルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィドの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
　攪拌機、還流冷却器、温度計及び滴下ロートを備えた１００ｍＬの四つ口フラスコに、ジクロロメタン３２.２ｍＬ、塩化アルミニウム１６．０ｇ（０．１２０ｍｏｌ）を加えた。次に、混合物を室温下で撹拌しながら、メタンスルホン酸４－クロロ－２－フルオロフェニル１８．０ｇ（０．０８ｍｏｌ）のジクロロメタン８ｍＬ溶液を滴下した。その後、混合物に一塩化硫黄８．１０ｇ（０．０６００ｍｏｌ）を４０℃で３時間かけて滴下し、更に３時間撹拌した。
　攪拌機、還流冷却器、温度計及び滴下ロートを備えた２００ｍＬの四つ口フラスコに、水７４．５ｍＬ、ジクロロメタン３２．２ｍＬを加え、そこに上記で得られた反応混合物を室温下で滴下し、室温下で３０分間撹拌した。その後、有機層と水層に分離し、得られた有機層に水３３．１ｍＬ、３５％塩酸４１．７ｇを加え、３０分間撹拌し、有機層を洗浄した。同様の洗浄操作を水７４．５ｍＬ、４％炭酸水素ナトリウム水溶液７７．８ｇ及び水７４．５ｇのそれぞれを用いて行い、有機層と水層に分離した。得られた有機層を減圧下、８０℃にてジクロロメタンを留去し、得られた残渣にトルエン８０ｍＬを加え、目的物をトルエン溶液として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：７．６３（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，２Ｈ），３．２０（ｄ，Ｊ＝０．６Ｈｚ，６Ｈ）
融点：１５４．７℃
　（参考例３）
　メタンスルホン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
　参考例２で得られたビス（５－メタンスルホニルオキシ－２－クロロ－４－フルオロフェニル）ジスルフィドのトルエン溶液（０．０４０ｍｏｌ）を攪拌機、還流冷却器、温度計及び滴下ロートを備えた３００ｍＬの四つ口フラスコに加えた。更に、水４０ｍＬ、炭酸ナトリウム８．４８ｇ（０．０８０ｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド０．２５８ｇ（０．０００８ｍｏｌ）を１０℃にて加えた。混合物を撹拌しながら、水８０ｍＬに溶解させたロンガリット１８．５ｇ（０．１２０ｍｏｌ）の水溶液を１０℃にて１時間かけて滴下し、更に１０℃にて３時間撹拌した。反応混合物に３５％塩酸１６．７ｇを１０℃にて滴下し、反応混合物のｐＨが３．０～４．０となるように調整した。その後、有機層と水層に分離し、メタンスルホン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニルをトルエン溶液として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：７．３９（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，１Ｈ），３．９１（ｓ，１Ｈ），３．２４（ｄ，Ｊ＝０．６Ｈｚ，３Ｈ）
　（参考例４）
　４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェノールの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
　参考例３で得られたメタンスルホン酸４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェニルのトルエン溶液（０．０８ｍｏｌ）を攪拌機、還流冷却器、温度計及び滴下ロートを備えた２００ｍＬの四つ口フラスコに加えた。更に、水４０ｍＬに溶解させた炭酸ナトリウム４．２４ｇ（０．０４００ｍｏｌ）の水溶液を加え、混合物を室温下で３０分撹拌した後、有機層と水層に分離した。上記抽出操作を再度繰り返し、得られた水層を併せて原料のナトリウム塩水溶液を得た。
　得られたナトリウム塩水溶液に、２５％水酸化ナトリウム水溶液３２．０ｇ（０．２００ｍｏｌ）を加え、室温下で３０分間撹拌した。その後、トルエン４０ｍＬ、３５％塩酸３３．３ｇ（０．３２０ｍｏｌ）を加え、反応混合物のｐＨが２以下となるように調整した。反応混合物を室温下で３０分間撹拌した後、有機層と水層に分離し、４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェノールをトルエン溶液として得た。得られたトルエン溶液について検量線を用いＬＣ分析を行ったところ、４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェノールの収率は４２．７％（三工程）であった。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：７．１４（ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ），５．５４（ｂｓ，１Ｈ），３．８１（ｓ，１Ｈ）
融点：６５．１℃
　（参考製造例１）
　４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェノールの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
（１）ｐ－トルエンスルホン酸２，２，２－トリフルオロエチルの製造
　攪拌機、還流冷却器、温度計を備えた１００ｍＬの四つ口フラスコに、トルエン２８．６ｍＬ、トリフルオロエタノール１０．９ｇ（０．１０９ｍｏｌ）、ｐ－トルエンスルホン酸クロライド１９．１ｇ（０．１００ｍｏｌ）を加え、６０℃で溶解するまで撹拌した。
　攪拌機、還流冷却器、温度計及び滴下ロートを備えた２００ｍＬの四つ口フラスコに、トルエン２７．３ｍＬ、炭酸カリウム１４．８ｇ（０．１０７ｍｏｌ）を加えた。そこに上記で得られた混合物を４０℃で１時間かけて滴下し、続いて水０．９ｇを同様に滴下した後、４０℃で１時間撹拌した。反応の終了を確認した後、反応混合物に水４８．６ｇを加え、有機層と水層に分離した。得られた有機層を減圧下、６０℃にてトルエンを留去した後、残渣にＤＭＦ１７．９ｍＬを加え、ｐ－トルエンスルホン酸２，２，２－トリフルオロエチルをＤＭＦ溶液として得た。得られたＤＭＦ溶液について検量線を用いＬＣ分析を行ったところ、ｐ－トルエンスルホン酸２，２，２－トリフルオロエチルの収率は９５．７％であった。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：７．８２（ｍ，２Ｈ），７．３９（ｍ，２Ｈ），４．３５（ｑ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４７（ｓ，３Ｈ）
（２）４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェノールの製造
　実施例４で得られた４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェノールのトルエン溶液９７．６ｇ（濃度：４７．６％、０．２６０ｍｏｌ）を攪拌機、還流冷却器、温度計及び滴下ロートを備えた１０００ｍＬの四つ口フラスコに加えた。減圧下、６０℃にてトルエンを留去し、残渣にＤＭＦ６５ｍＬを加えた。混合物に上記（１）で得られたｐ－トルエンスルホン酸２，２，２－トリフルオロエチルのＤＭＦ溶液１６０．３ｇ（濃度：５７．７％）を加えた後、２５％水酸化ナトリウム水溶液５８．３ｇ（０.３６４ｍｏｌ）を８０℃で１時間かけて滴下し、更に８０℃で２時間撹拌した。そこへ水１７ｍＬに溶解させたロンガリット４．０１ｇ（０．０２６０ｍｏｌ）の水溶液を８０℃で１時間かけて滴下し、更に８０℃で２時間撹拌した。得られた反応混合物にトルエン１２９ｍＬ、水２６０ｍＬ、２５％水酸化ナトリウム水溶液３１．２ｇ（０．１９５ｍｏｌ）を加え、反応混合物のｐＨが１２以上となるように調整した。反応混合物を室温下で３０分間撹拌した後、有機層と水層に分離し、得られた水層をトルエン１２９ｍＬで洗浄し、目的物のナトリウム塩水溶液を得た。
　攪拌機、還流冷却器、温度計及び滴下ロートを備えた１０００ｍＬの四つ口フラスコに、トルエン２６０ｍＬ及び上記で得られたナトリウム塩水溶液を加えた。そこに３５％塩酸８１．２ｇ（０．７８０ｍｏｌ）を室温下で滴下し、混合物のｐＨが４以下となるように調整した後、室温下で３０分間撹拌した。反応混合物を有機層と水層に分離し、得られた有機層を水１３０ｍＬで洗浄し、４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェノールをトルエン溶液として得た。得られたトルエン溶液について検量線を用いＬＣ分析を行ったところ、４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェノールの収率は９３．２％であった。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：７．２７（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，１Ｈ），５．１５（ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，１Ｈ），３．４３（ｑ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，２Ｈ）
　本発明によれば、農薬化合物の合成中間体として有用なメルカプトフェノール化合物の新規な製造方法及び新規な製造中間体が提供される。
　本発明によれば、硫黄原子の導入にクロロスルホニル化反応を用いず、工業的に好ましい硫黄原子の導入反応を用いて、メルカプトフェノール化合物が得られる製造方法及びその中間体化合物が提供される。
　本発明によれば、単離方法及び／又は精製方法としてろ過及び／又は再結晶という選択肢が提供される、結晶性の高い中間体化合物が提供される。
　本発明で製造したメルカプトフェノール化合物は、特許文献１、２及び３に開示されている優れた有害生物防除剤の製造中間体として、産業上有用である。
　例えば、実施例４で製造した４－クロロ－２－フルオロ－５－メルカプトフェノールは、参考製造例１に記載の方法に従って４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェノールとした後、国際公開第２０１３／１５７２２９号公報等に開示されている反応を行うことで、優れた有害生物防除活性を有する化合物へと誘導できる。
　したがって、本発明は、高い工業的利用価値を有する。
 
 

 

Claims (18)

  1. 　式（１）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
    Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ３～Ｃ６シクロアルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよい
    Ｃ１～Ｃ６アルコキシ基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ４アルキル基を示し、
    又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
    置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
    置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示す。）
    で表されるカルバミン酸５－メルカプトフェニル化合物。
  2. 　前記式（１）において、
    Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、メチル基、フッ素原子又は塩素原子を示し、
    Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示す、請求項１に記載の化合物。
  3. 　式（２）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     （式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
    Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ３～Ｃ６シクロアルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルコキシ基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ４アルキル基を示し、
    又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
    置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
    置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示し、
    ｎは２以上の整数を示す。）
    で表されるポリスルフィド化合物又はその混合物。
  4. 　前記式（２）において、
    Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、メチル基、フッ素原子又は塩素原子を示し、
    Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示し、
    ｎは２から６の範囲の整数を示す、請求項３に記載のポリスルフィド化合物又はその混合物。
  5. 　式（３）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     （式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
    Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ３～Ｃ６シクロアルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルコキシ基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ４アルキル基を示し、
    又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
    置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
    置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示す。）
    で表されるカルバミン酸フェニル化合物。
  6. 　前記式（３）において、
    Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、メチル基、フッ素原子又は塩素原子を示し、
    Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示す、請求項５に記載の化合物。
  7. 　式（２）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     （式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
    Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ３～Ｃ６シクロアルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルコキシ基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ４アルキル基を示し、
    又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
    置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
    置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示し、
    ｎは２以上の整数を示す。）
    で表されるポリスルフィド化合物又はその混合物の製造方法であって、以下の工程：
    （ｉ）　式（５）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     （式中、Ｒ１及びＲ２は前記で定義したとおりである。）
    で表される化合物を塩基の存在下、式（ａ）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     （式中、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりであり、Ｘはハロゲン原子を示す。）
    で表されるカルバモイルハライド化合物と反応させ、式（３）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
     （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりである。）
    で表される化合物を製造する工程；及び、
    （ｉｉ）　前記式（３）で表される化合物を、酸の存在下、硫黄化合物との反応に付して、前記式（２）で表される化合物を製造する工程、
    を含む方法。
  8. 　Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、メチル基、フッ素原子又は塩素原子を示し、
    Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示し、
    ｎは２から６の範囲の整数を示し、
    Ｘは塩素原子を示す、請求項７に記載の方法。
  9. 　工程（ｉ）で使用される塩基が、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ‐ジエチルアニリン、ピリジン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン、２，６－ルチジン又はそれらの混合物である、請求項７に記載の方法。
  10. 　工程（ｉｉ）で使用される酸が、ルイス酸である、請求項７に記載の方法。
  11. 　式（１）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
     （式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
    Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ３～Ｃ６シクロアルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルコキシ基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ４アルキル基を示し、
    又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
    置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
    置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示す。）
    で表されるカルバミン酸５－メルカプトフェニル化合物の製造方法であって、以下の工程：
    （ｉ）　式（５）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
     （式中、Ｒ１及びＲ２は前記で定義したとおりである。）
    で表される化合物を塩基の存在下、式（ａ）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
     （式中、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりであり、Ｘはハロゲン原子を示す。）
    で表されるカルバモイルハライド化合物と反応させ、式（３）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
     （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりである。）
    で表される化合物を製造する工程；
    （ｉｉ）　前記式（３）で表される化合物を、酸の存在下、硫黄化合物との反応に付して、式（２）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
     （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりであり、ｎは２以上の整数を示す。）
    で表されるポリスルフィド化合物又はその混合物を製造する工程；及び、
    （ｉｉｉ）　前記式（２）で表される化合物から前記式（１）で表される化合物を製造する工程、
    を含む方法。
  12. 　Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、メチル基、フッ素原子又は塩素原子を示し、
    Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示し、
    ｎは２から６の範囲の整数を示し、
    Ｘは塩素原子を示す、請求項１１に記載の方法。
  13. 　工程（ｉ）で使用される塩基が、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ‐ジエチルアニリン、ピリジン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン、２，６－ルチジン又はそれらの混合物である、請求項１１に記載の方法。
  14. 　工程（ｉｉ）で使用される酸が、ルイス酸である、請求項１１に記載の方法。
  15. 　式（４）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
     （式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示す。）
    で表されるメルカプトフェノール化合物の製造方法であって、以下の工程：
    （ｉ）　式（５）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
     （式中、Ｒ１及びＲ２は前記で定義したとおりである。）
    で表される化合物を塩基の存在下、式（ａ）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
     （式中、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１～Ｃ６アルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよいＣ３～Ｃ６シクロアルキル基、１又は２個以上の同一又は異なるハロゲン原子により置換されていてもよい
    Ｃ１～Ｃ６アルコキシ基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基、又は、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ａにより置換されていてもよいＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ４アルキル基を示し、
    又は、Ｒ３及びＲ４は一緒になって、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよいＣ３～Ｃ７アルキレン基、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｏ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基、及び、１又は２個以上の同一又は異なる置換基Ｂにより置換されていてもよい－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３アルキレン）－基からなる群より選ばれる２価の基を形成することにより４～８員環を形成してもよく、
    置換基ＡはＣ１～Ｃ４アルキル基又はハロゲン原子を示し、
    置換基ＢはＣ１～Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又はオキソ基を示し、
    Ｘはハロゲン原子を示す。）
    で表されるカルバモイルハライド化合物と反応させ、式（３）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
     （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりである。）
    で表される化合物を製造する工程；
    （ｉｉ）　前記式（３）で表される化合物を、酸の存在下、硫黄化合物との反応に付して、式（２）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
     （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりであり、ｎは２以上の整数を示す。）
    で表される化合物を製造する工程；
    （ｉｉｉ）　前記式（２）で表される化合物から式（１）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
     （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記で定義したとおりである。）
    で表される化合物を製造する工程；及び
    （ｉｖ）　前記式（１）で表される化合物から前記式（４）で表される化合物を製造する工程、
    を含む方法。
  16. 　Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、メチル基、フッ素原子又は塩素原子を示し、
    Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を示し、
    ｎは２から６の範囲の整数を示し、
    Ｘは塩素原子を示す、請求項１５に記載の方法。
  17. 　工程（ｉ）で使用される塩基が、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、Ｎ，Ｎ‐ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ‐ジエチルアニリン、ピリジン、４－(ジメチルアミノ)－ピリジン、２，６－ルチジン又はそれらの混合物である、請求項１５に記載の方法。
  18. 　工程（ｉｉ）で使用される酸が、ルイス酸である、請求項１５に記載の方法。
     

     
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