WO2018123156A1 - 過酸化水素除去方法及び装置 - Google Patents

過酸化水素除去方法及び装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2018123156A1
WO2018123156A1 PCT/JP2017/033060 JP2017033060W WO2018123156A1 WO 2018123156 A1 WO2018123156 A1 WO 2018123156A1 JP 2017033060 W JP2017033060 W JP 2017033060W WO 2018123156 A1 WO2018123156 A1 WO 2018123156A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
hydrogen peroxide
water
platinum
container
catalyst
Prior art date
Application number
PCT/JP2017/033060
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
森田　博志
康晴 港
Original Assignee
栗田工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 栗田工業株式会社 filed Critical 栗田工業株式会社
Publication of WO2018123156A1 publication Critical patent/WO2018123156A1/ja

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/26—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing in addition, inorganic metal compounds not provided for in groups B01J31/02 - B01J31/24
    • B01J31/28—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing in addition, inorganic metal compounds not provided for in groups B01J31/02 - B01J31/24 of the platinum group metals, iron group metals or copper
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/40—Regeneration or reactivation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J38/00—Regeneration or reactivation of catalysts, in general
    • B01J38/48—Liquid treating or treating in liquid phase, e.g. dissolved or suspended
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/20—Treatment of water, waste water, or sewage by degassing, i.e. liberation of dissolved gases
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/58—Treatment of water, waste water, or sewage by removing specified dissolved compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/725—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation by catalytic oxidation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/02—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
    • C02F2103/04—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply for obtaining ultra-pure water

Definitions

  • the present invention relates to a method and an apparatus for removing hydrogen peroxide in water in a pure water production process.
  • pure water includes ultrapure water.
  • Ultrapure water for cleaning semiconductors and electronic materials is raw water (industrial water, city water, industrial water, city water, etc.), consisting of pretreatment equipment, primary pure water production equipment, and secondary pure water production equipment (subsystem). Manufactured by treating wells).
  • a pretreatment device composed of agglomeration, pressurized flotation (precipitation), filtration (membrane filtration) device, etc.
  • suspended substances and colloidal substances in raw water are removed.
  • ions and organic components in raw water are removed.
  • the reverse osmosis membrane separation apparatus removes salts and ionic and colloidal TOC.
  • the ion exchange apparatus removes salts and removes the TOC component adsorbed or ion exchanged by the ion exchange resin.
  • inorganic carbon (IC) and dissolved oxygen are removed.
  • the primary pure water from the primary pure water production apparatus is processed in a subsystem by an ultraviolet (UV) irradiation apparatus, an ion exchange apparatus, and an ultrafiltration (UF) membrane separation apparatus to produce ultrapure water.
  • UV irradiation apparatus TOC is decomposed into an organic acid and further to CO 2 by 185 nm UV irradiated from a UV lamp.
  • Organic substances and CO 2 produced by the decomposition are removed by a subsequent ion exchange apparatus (usually a mixed bed type ion exchange apparatus).
  • a subsequent ion exchange apparatus usually a mixed bed type ion exchange apparatus.
  • the UF membrane separation device fine particles are removed, and fragments of ion exchange resin flowing out from the ion exchange device are also removed.
  • the ultrapure water obtained in this way is supplied to the use point.
  • Oxidation treatment by ultraviolet irradiation in an ultraviolet oxidizer decomposes organic matter (TOC component) in water to produce organic acid and carbonic acid.
  • the oxidative decomposition mechanism of the TOC component in this ultraviolet oxidation apparatus is to oxidize and decompose water to generate OH radicals, and oxidize and decompose the TOC components by this OH radicals.
  • the amount of ultraviolet irradiation is sufficient to oxidize TOC in water. Excessive irradiation that can be decomposed.
  • Patent Document 1 as a method for removing hydrogen peroxide in ultrapure water, water to be treated containing hydrogen peroxide discharged from an ultraviolet oxidation treatment apparatus of an ultrapure water production apparatus is used, and platinum group metal nanocolloid particles are used. A method for decomposing hydrogen peroxide in water to be treated to 1 ppb or less by contacting with a hydrogen peroxide decomposition catalyst supported on an anion exchange resin carrier is described.
  • Patent Document 2 in order to suppress deterioration of a platinum-based catalyst, in a method for producing pure water in which water to be treated is subjected to ultraviolet oxidation using an ultraviolet oxidizer, hydrogen peroxide is removed using the platinum-based catalyst. It is described that the TOC of water supplied to the ultraviolet oxidizer is 5 ppb or less.
  • platinum group catalysts represented by Pt have been conventionally used for the decomposition of oxidizing substances.
  • removal of hydrogen peroxide generated as a by-product in the ultraviolet oxidation process for the purpose of decomposing organic substances contained in trace amounts in water has become a problem in recent years, and Pt nanocolloids are supported.
  • Hydrogen peroxide decomposition treatment using ion exchange resin, Pd-supported resin, or the like is performed.
  • This hydrogen peroxide decomposition treatment can reduce the hydrogen peroxide concentration in the water to be treated until it falls below a target concentration (for example, 1 ppb), but the performance of the catalyst decreases with long-term use.
  • a target concentration for example, 1 ppb
  • An object of the present invention is to provide a method and an apparatus for removing hydrogen peroxide that can suppress or recover a decrease in the performance of a platinum-based catalyst and can maintain a state of sufficient catalytic activity for a long time.
  • the performance deterioration of the platinum-based catalyst is suppressed, but the present inventor has conducted extensive research to further suppress the performance deterioration. It has been found that the decrease in the performance of the platinum-based catalyst is also due to the oxidation of the catalyst surface, and by suppressing the oxidation of the catalyst surface, the decrease in the performance of the platinum-based catalyst is suppressed.
  • the present invention has been made based on such knowledge.
  • the hydrogen peroxide removal method of the present invention is a hydrogen peroxide removal method in which hydrogen peroxide is removed by passing hydrogen peroxide-containing water through a hydrogen peroxide removal apparatus having platinum-based catalyst filling containers installed in parallel.
  • a hydrogen peroxide removal performance recovery operation is performed in which the flow of hydrogen peroxide-containing water to some containers is stopped for a predetermined period.
  • a non-oxidizing gas such as nitrogen gas is supplied to the container at the predetermined time.
  • the catalyst is taken out from the container and refilled at the predetermined time.
  • hydrogen-dissolved water is passed through the container at the predetermined time.
  • the hydrogen peroxide removal device is installed in an ultrapure water production device, and increases the amount of water flow to a platinum-based catalyst-filled container other than the part during the predetermined time.
  • the hydrogen peroxide removal apparatus of the present invention includes platinum-based catalyst-filled containers installed in parallel, hydrogen peroxide-containing water passage means for passing hydrogen peroxide-containing water into each container, and non-oxidizing properties in each container.
  • Supplying means for supplying gas or hydrogen-dissolved water
  • switching means for switching between hydrogen peroxide-containing water flow and non-oxidizing gas or hydrogen-dissolved water supply to each container.
  • the catalyst originally has the function of promoting the progress by lowering the barrier of some chemical reaction without changing itself, but the surface is oxidized by being exposed to oxidizing conditions for a long time, This can cause performance degradation.
  • the platinum-based catalyst becomes an irreversible oxide when it is strongly oxidized, but at the stage of reversible surface oxidation, it returns to its original state by being released from the continuous oxidation state, and the performance is restored.
  • the platinum-based catalyst is released from the continuous oxidation state by stopping water flow, and the performance of the catalyst is recovered.
  • the hydrogen peroxide decomposition performance can be further improved by ventilating N 2 gas during this water flow stop period, removing the platinum-based catalyst from the container and refilling it, or passing hydrogen-dissolved water after the water flow stop. Effectively recovers.
  • the effective period of the platinum-based catalyst can be extended without replacing the platinum-based catalyst with a new one.
  • the water flow switching operation is repeated in order.
  • the hydrogen peroxide decomposition treatment can be performed over a long period of time while maintaining the desired treated water quality and amount.
  • the hydrogen peroxide removal method and apparatus of the present invention is suitable for use in an ultrapure water production process.
  • the primary pure water from the primary pure water production apparatus is processed by the subsystem to produce ultrapure water.
  • the primary pure water is treated with an ultraviolet oxidizer and then removed with a hydrogen peroxide remover having a platinum-based catalyst, followed by a non-regenerative ion exchange device, a membrane deaerator, and a UF membrane device. Water.
  • the TOC component is oxidatively decomposed by the ultraviolet oxidation treatment in the ultraviolet oxidizer to produce an organic acid and carbonic acid, and hydrogen peroxide is produced.
  • the effluent water from the ultraviolet oxidation device is passed through a hydrogen peroxide removal device to remove hydrogen peroxide.
  • a vessel filled with a platinum-based catalyst is employed as this hydrogen peroxide removing device.
  • the platinum-based catalyst is preferably a platinum-based metal colloidal particle, particularly a nano-colloidal particle supported on a carrier.
  • platinum-based metals examples include ruthenium, rhodium, palladium, osmium, iridium, and platinum. These platinum group metals can be used singly, in combination of two or more, can be used as two or more alloys, or can be a refinement of a naturally produced mixture. It is also possible to use the product without separating it into a single unit. Among these, platinum, palladium, a platinum / palladium alloy alone or a mixture of two or more of them is particularly suitable because of its strong catalytic activity.
  • platinum metal nanocolloid particles there is no particular limitation on the method of producing platinum metal nanocolloid particles, and examples thereof include a metal salt reduction reaction method and a combustion method. Among these, the metal salt reduction reaction method can be suitably used because it is easy to produce and stable metal nanocolloid particles can be obtained.
  • the average particle size of the platinum-based metal nanocolloid particles is preferably 1 to 50 nm, more preferably 1.2 to 20 nm, and still more preferably 1.4 to 5 nm. This particle size is a value obtained from electron microscope imaging.
  • Examples of the carrier for supporting platinum-based metal nanocolloid particles include magnesia, titania, alumina, silica-alumina, zirconia, activated carbon, zeolite, diatomaceous earth, and ion exchange resin.
  • an anion exchange resin can be particularly preferably used.
  • the platinum-based metal nanocolloid particles have an electric double layer and are negatively charged. Therefore, the platinum-based metal nanocolloid particles are stably supported on the anion exchange resin and are difficult to peel off.
  • Platinum-based metal nanocolloid particles supported on an anion exchange resin exhibit a strong catalytic activity for the decomposition and removal of hydrogen peroxide.
  • the exchange group of the anion exchange resin is preferably in the OH form. In the OH-type anion exchange resin, the resin surface becomes alkaline and promotes decomposition of hydrogen peroxide.
  • the amount of platinum-based metal nanocolloid particles supported on the anion exchange resin is preferably 0.01 to 0.2% by weight, and more preferably 0.04 to 0.1% by weight.
  • the flow rate of the hydrogen peroxide-containing water through the platinum-based catalyst-filled container is preferably a space velocity SV of 100 to 2,000 h ⁇ 1 , more preferably 300 to 1,500 h ⁇ 1 . Since the platinum-based catalyst has a very high decomposition rate of hydrogen peroxide, hydrogen peroxide is sufficiently decomposed even if SV is 100 h ⁇ 1 or more. However, if SV exceeds 2,000 h ⁇ 1 , the pressure loss of water flow becomes excessive and the decomposition and removal of hydrogen peroxide may be insufficient.
  • FIG. 1 a plurality of columns (5 in the figure) 21 to 25 filled with a platinum-based catalyst are installed in parallel. Hydrogen peroxide-containing water such as the ultraviolet irradiation device effluent water is passed from the pipe 1 to the columns 21 to 25 through the valves 11 to 15. The effluent water from the columns 21 to 25 is taken out via the valves 31 to 35 and the collecting pipe 2.
  • Hydrogen peroxide-containing water such as the ultraviolet irradiation device effluent water is passed from the pipe 1 to the columns 21 to 25 through the valves 11 to 15.
  • the effluent water from the columns 21 to 25 is taken out via the valves 31 to 35 and the collecting pipe 2.
  • valves 41 to 45 are installed instead of the valves 11 to 15
  • three-way valves 51 to 55 are installed instead of the valves 31 to 35
  • N 2 gas or hydrogen-dissolved water is added to each column 21 to 25 three-way.
  • a hydrogen peroxide removing device that can be supplied by switching operation of valves 31 to 35 and 51 to 55 is shown.
  • Pipes 61 to 65 branched from the pipe 60 are connected to the third ports of the three-way valves 41 to 45.
  • the third ports of the three-way valves 51 to 55 are connected to the discharge pipe 70 via branch pipes 71 to 75.
  • N 2 gas or hydrogen-dissolved water is supplied to one of the columns 21 to 25 from the pipe 60, and the outflow gas or hydrogen-dissolved water is discharged from the pipe 70.
  • FIGS. 1 and 2 five columns are installed in parallel, but six columns are installed in parallel, one of them is paused sequentially (performance recovery operation), and water is always passed through the five columns. It is good also as driving.
  • one bottle is stopped when a predetermined time (predetermined hydrogen peroxide load) has passed, and the water that has not been used at the same time is started to pass through the water.
  • a so-called merry-go-round operation in which intermittent operation is stopped in order to stop the water flow for 1/6 time, and operation with a margin can be performed.
  • the above embodiment is an example of the present invention, and the present invention may be an embodiment other than the above.
  • the number of columns is not limited to five.
  • the ultrapure water production apparatus 81 includes a three-stage apparatus including a pretreatment apparatus 82, a primary pure water production apparatus 83, and a secondary pure water production apparatus (subsystem) 84.
  • the pretreatment device 82 of the ultrapure water production device 81 the raw water W is filtered, coagulated, and pretreated by a microfiltration membrane.
  • the primary pure water production apparatus 83 includes a tank 85 of pretreated water W1, a reverse osmosis (RO) membrane apparatus 86, an ultraviolet (UV) oxidation apparatus 87, and a regenerative ion exchange apparatus (mixed bed type or 4 beds and 5 towers). 88) and a membrane deaerator 89.
  • RO reverse osmosis
  • UV ultraviolet
  • regenerative ion exchange apparatus mixed bed type or 4 beds and 5 towers.
  • the sub-system 84 includes a sub-tank 91 that stores the primary pure water W2 produced by the primary pure water production apparatus 83, and an ultraviolet oxidizer that processes the primary pure water W2 fed from the sub-tank 91 via a pump (not shown). 92, a platinum group metal catalyst resin tower 93, a membrane deaerator 94, a non-regenerative mixed bed ion exchanger 95, and an ultrafiltration (UF) membrane 96 as a membrane filter. Yes. Fine particles are removed by an ultrafiltration (UF) membrane 96 to obtain ultrapure water W3, which is supplied to a use point 97, and unused ultrapure water is refluxed to the sub tank 91.
  • UF ultrafiltration
  • the platinum group metal catalyst resin tower 93 is constructed using the platinum group metal catalyst resin described above to produce ultrapure water W3, and the platinum group of the subsystem 84 is produced.
  • the hydrogen peroxide concentration (initial stage) of the inlet water and outlet water of the metal catalyst resin tower 93 was measured. The results are shown in Table 1. Further, the hydrogen peroxide concentration (terminal stage) of the outlet water of the platinum group metal catalyst resin tower 93 after the operation of the ultrapure water production apparatus 81 was continued for a long period (30 days) was measured. The results are shown in Table 1.
  • Hydrogen peroxide was added to ultrapure water (less than 1 ⁇ g / L hydrogen peroxide) at 300 ⁇ g / L or 1000 ⁇ g / L to prepare test inlet water, and this test inlet water was passed through the test column described above.
  • the hydrogen peroxide concentration in the outlet water after downward flowing water at a speed (SV) of 300 hr ⁇ 1 was measured. The results are shown in Table 2.
  • Example 1 In the reference example, the test group was filled with the resin of the platinum group metal catalyst resin tower 93 after a long-term operation to obtain a test platinum group metal catalyst resin tower. For comparison, a new platinum group metal catalyst resin was similarly packed in a test column to obtain a platinum group metal catalyst resin tower.
  • Hydrogen peroxide was added at 30 ⁇ g / L to ultrapure water (less than 1 ⁇ g / L hydrogen peroxide) to prepare inlet water, and the inlet water was passed through the test column described above at a flow rate (SV) of 400 hr ⁇ 1 .
  • the hydrogen peroxide concentration in the outlet water after the counter-flowing water was measured. The results are shown in Table 3.
  • the resin of the platinum group metal catalyst resin tower for each test was taken out and stored in ultrapure water (less than 1 ⁇ g / L of hydrogen peroxide) for 2 weeks, and then refilled to obtain ultrapure water (hydrogen peroxide of 1 ⁇ g / L).
  • the hydrogen peroxide concentration of the outlet water was measured when the inlet water to which 30 ⁇ g / L of hydrogen peroxide was added was passed. The results are shown in Table 3.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Removal Of Specific Substances (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)

Abstract

過酸化水素含有水を白金系触媒充填カラム２１～２５に通水して過酸化水素を分解除去する方法及び装置において、所定時間に一個のカラムへの通水を停止し、過酸化水素除去性能を回復させる。この所定時間に、この通水を停止したカラムに窒素ガス又は水素溶解水を流してもよく、その他のカラムへの通水量を増加させてもよい。

Description

過酸化水素除去方法及び装置
　本発明は、純水製造工程において水中の過酸化水素を除去するための方法及び装置に関する。なお、本発明において、純水は超純水を包含する。
　半導体・電子材料洗浄用の超純水は、前処理装置、一次純水製造装置、二次純水製造装置（サブシステム）から構成される超純水製造設備で原水（工業用水、市水、井水等）を処理することにより製造される。
　凝集、加圧浮上（沈殿）、濾過（膜濾過）装置などよりなる前処理装置では、原水中の懸濁物質やコロイド物質の除去を行う。また、この過程では高分子系有機物、疎水性有機物などの除去も可能である。
　逆浸透膜分離装置、脱気装置及びイオン交換装置（混床式又は４床５塔式など）を備える一次純水製造装置では、原水中のイオンや有機成分の除去を行う。なお、逆浸透膜分離装置では、塩類を除去すると共に、イオン性、コロイド性のＴＯＣを除去する。イオン交換装置では、塩類を除去すると共にイオン交換樹脂によって吸着又はイオン交換されるＴＯＣ成分の除去を行う。脱気装置では無機系炭素（ＩＣ）、溶存酸素の除去を行う。
　一次純水製造装置からの一次純水は、サブシステムにおいて、紫外線（ＵＶ）照射装置、イオン交換装置及び限外濾過（ＵＦ）膜分離装置で処理されて、超純水が製造される。ＵＶ酸化装置では、ＵＶランプより照射される１８５ｎｍのＵＶによりＴＯＣを有機酸、さらにはＣＯ２まで分解する。分解により生成した有機物及びＣＯ２は後段のイオン交換装置（通常は混床式イオン交換装置）で除去される。ＵＦ膜分離装置では微粒子が除去され、イオン交換装置から流出するイオン交換樹脂の破片等も除去される。このようにして得られた超純水がユースポイントに供給される。
　紫外線酸化装置での紫外線照射による酸化処理により、水中の有機物（ＴＯＣ成分）が分解して有機酸及び炭酸が生じる。この紫外線酸化装置におけるＴＯＣ成分の酸化分解機構は、水を酸化分解してＯＨラジカルを生成させ、このＯＨラジカルによりＴＯＣ成分を酸化分解するものであり、紫外線照射量は水中のＴＯＣを十分に酸化分解できるような過剰照射とされている。
　このように紫外線照射量が多い場合、水の分解で生成したＯＨラジカルが過剰となるため、余剰のＯＨラジカルが会合することにより過酸化水素が生成する。生成した過酸化水素は、後段の混床式イオン交換装置のアニオン交換樹脂と接触すると分解されるが、その際、イオン交換樹脂を劣化させる。この分解にともない、溶存酸素も増加する。また、イオン交換樹脂の分解で新たにイオン交換樹脂由来のＴＯＣ成分が生成し、得られる超純水の水質が低下する。また、混床式イオン交換装置に通水後もなお残留する過酸化水素は、混床式イオン交換装置の後段の脱気装置やＵＦ膜を劣化させる。
　特許文献１には、超純水中の過酸化水素除去方法として、超純水製造装置の紫外線酸化処理装置から排出される過酸化水素を含む被処理水を、白金族の金属ナノコロイド粒子をアニオン交換樹脂担体に担持させた過酸化水素分解触媒と接触させて、被処理水中の過酸化水素を１ｐｐｂ以下にまで分解する方法が記載されている。
　特許文献２には、白金系触媒の劣化抑制のために、被処理水を紫外線酸化装置で紫外線酸化処理した後、白金系触媒を用いて過酸化水素除去処理する純水の製造方法において、該紫外線酸化装置への給水のＴＯＣを５ｐｐｂ以下とすることが記載されている。
特開２００７－１８５５８７号公報 特開２０１５－９３２２６号公報
　上述の通り、Ｐｔに代表される白金族触媒は、酸化性物質の分解などで従来から活用されている。超純水製造システムにおいては、水中に微量含まれる有機物の分解を目的とした紫外線酸化工程で副生成物として生じる過酸化水素の除去が近年の課題となっており、Ｐｔナノコロイドを担持させたイオン交換樹脂やＰｄ担持樹脂などによる過酸化水素分解処理が行われている。
　この過酸化水素分解処理により、目標濃度（例えば１ｐｐｂ）を下回るまで被処理水中の過酸化水素濃度を低減させることができるが、長期間の使用に伴い触媒の性能が低下していく。
　本発明は、白金系触媒の性能低下を抑制し、あるいは回復させ、十分な触媒活性のある状態を長く保つことができる過酸化水素除去方法及び装置を提供することを目的とする。
　一般に、白金系触媒装置に流入する被処理水中の有機物濃度を低下させることにより、白金系触媒の性能低下は抑制されるが、本発明者はさらに性能低下を抑制すべく鋭意研究を重ねた結果、白金系触媒の性能低下は、触媒表面の酸化も一因であり、この触媒表面の酸化を抑制することにより、白金系触媒の性能低下が抑制されることを見出した。
　本発明は、かかる知見に基づいてなされたものである。
　本発明の過酸化水素除去方法は、並列設置された白金系触媒充填容器を有する過酸化水素除去装置に過酸化水素含有水を通水して過酸化水素を除去する過酸化水素除去方法において、一部の容器への過酸化水素含有水の通水を所定期間停止する過酸化水素除去性能回復操作を行うことを特徴とする。
　本発明の一態様では、前記所定時間に、前記容器に窒素ガスなどの非酸化性ガスを供給する。
　本発明の一態様では、前記所定時間に、前記容器から触媒を取り出して再充填する。
　本発明の一態様では、前記所定時間に、前記容器に水素溶解水を通水する。
　本発明の一態様では、前記過酸化水素除去装置は超純水製造装置に設置されており、前記所定時間に、前記一部以外の白金系触媒充填容器への通水量を増加させる。
　本発明の過酸化水素除去装置は、並列設置された白金系触媒充填容器と、各容器に過酸化水素含有水を通水する過酸化水素含有水通水手段と、各容器に、非酸化性ガス又は水素溶解水を供給する供給手段と、各容器への過酸化水素含有水通水と非酸化性ガス又は水素溶解水供給とを切り替える切替手段とを備える。
　触媒とは本来、それ自身は変化することなく何らかの化学的反応の障壁を低くして進行を促す機能のあるものであるが、長期にわたり酸化条件下に曝されることにより、表面が酸化し、それによる性能低下が起こりうる。
　白金系触媒は、強く酸化が進むと不可逆的な酸化物となるが、可逆的表面酸化の段階では、継続的な酸化状態から開放することで元に戻り性能が回復する。本発明では、通水停止によって白金系触媒を継続的な酸化状態から開放し、触媒の性能を回復させる。この通水停止期間中にＮ２ガスを通気したり、白金系触媒を容器から取り出して再充填したり、通水停止後に、水素溶解水を通水することにより、過酸化水素分解性能がさらに効果的に回復する。
　触媒の劣化の原因は、白金族触媒自身の表面酸化による変質以外に、被処理水中に含まれる有機物等の不純物による汚染もある。また、基材である担体（例えばイオン交換樹脂）自身の劣化もある。このため、被処理水中の不純物が少なく、かつ過酸化水素濃度が比較的高い場合には、酸化が性能低下の主原因になるので、特に本発明が有効となる。
　本発明によると、白金系触媒を新品に交換することなく白金系触媒の有効期間を延長することができる。
　白金系触媒充填容器を複数個並列設置し、性能回復処理を一部の容器に施している間、他の容器への通水流量を高めに設定することを順に繰り返していく通水切替操作により、所望の処理水質と水量を維持しながら長期にわたって過酸化水素分解処理を行うことができる。
本発明方法の説明図である。 本発明装置の一例の説明図である。 超純水製造装置のシステム図である。
　以下、本発明についてさらに詳細に説明する。
　本発明の過酸化水素除去方法及び装置は、超純水製造工程で用いるのに好適である。超純水製造工程では、前述の通り、一次純水製造装置からの一次純水がサブシステムで処理されて超純水が製造される。サブシステムでは、一次純水を紫外線酸化装置で処理した後、白金系触媒を有する過酸化水素除去装置で過酸化水素除去処理し、次いで非再生イオン交換装置、膜式脱気装置、ＵＦ膜装置に通水する。
　紫外線酸化装置での紫外線酸化処理によりＴＯＣ成分は酸化分解され、有機酸及び炭酸が生成すると共に、過酸化水素が生じる。本発明では、紫外線酸化装置からの流出水を過酸化水素除去装置に通水して過酸化水素を除去する。この過酸化水素除去装置としては、容器に白金系触媒を充填したものを採用する。白金系触媒としては、白金系金属のコロイド粒子、特にナノコロイド粒子を担体に担持させたものが好ましい。
　白金系金属としては、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム及び白金を挙げることができる。こられの白金族金属は、１種を単独で用いることができ、２種以上を組み合わせて用いることもでき、２種以上の合金として用いることもでき、あるいは、天然に産出される混合物の精製品を単体に分離することなく用いることもできる。これらの中で、白金、パラジウム、白金／パラジウム合金の単独又はこれらの２種以上の混合物は、触媒活性が強いので特に好適に用いることができる。
　白金系金属のナノコロイド粒子を製造する方法に特に制限はなく、例えば、金属塩還元反応法、燃焼法などを挙げることができる。これらの中で、金属塩還元反応法は、製造が容易であり、安定した品質の金属ナノコロイド粒子を得ることができるので好適に用いることができる。
　白金系金属のナノコロイド粒子の平均粒子径は好ましくは１～５０ｎｍであり、より好ましくは１.２～２０ｎｍであり、さらに好ましくは１.４～５ｎｍである。この粒径は電子顕微鏡撮像から得た値である。
　白金系金属ナノコロイド粒子を担持させる担体としては、例えば、マグネシア、チタニア、アルミナ、シリカ－アルミナ、ジルコニア、活性炭、ゼオライト、ケイソウ土、イオン交換樹脂などを挙げることができる。これらの中で、アニオン交換樹脂を特に好適に用いることができる。白金系金属ナノコロイド粒子は、電気二重層を有し、負に帯電しているので、アニオン交換樹脂に安定に担持されて剥離しにくいものとなる。アニオン交換樹脂に担持された白金系金属ナノコロイド粒子は、過酸化水素の分解除去に対して強い触媒活性を示す。アニオン交換樹脂の交換基は、ＯＨ形であることが好ましい。ＯＨ形アニオン交換樹脂は、樹脂表面がアルカリ性となり、過酸化水素の分解を促進する。
　アニオン交換樹脂への白金系金属ナノコロイド粒子の担持量は、０.０１～０.２重量％であることが好ましく、０.０４～０.１重量％であることがより好ましい。
　白金系金属ナノコロイド粒子を担体に担持させた過酸化水素分解触媒に対し過酸化水素含有水を接触させることにより、水中の過酸化水素は、２Ｈ２Ｏ２→２Ｈ２Ｏ＋Ｏ２の反応により分解される。
　過酸化水素含有水の白金系触媒充填容器への通水速度は、空間速度ＳＶ１００～２,０００ｈ－１であることが好ましく、３００～１,５００ｈ－１であることがより好ましい。白金系触媒は、過酸化水素の分解速度が非常に速いので、ＳＶが１００ｈ－１以上であっても過酸化水素が十分に分解される。ただし、ＳＶが２,０００ｈ－１を超えると、通水の圧力損失が過大になるとともに、過酸化水素の分解除去が不十分となるおそれがある。
　図１及び図２を参照して本発明の過酸化水素除去方法及び装置の具体例について説明する。
　図１では、白金系触媒が充填されたカラム２１～２５が複数本（図示では５本）並列に設置されている。上記紫外線照射装置流出水などの過酸化水素含有水が配管１から弁１１～１５を介してカラム２１～２５に通水される。カラム２１～２５からの流出水は、弁３１～３５及び集合配管２を介して取り出される。
　５本のカラム２１～２５に並列通水する要領で処理を行う。処理水劣化の兆候が認められた時点で、図１（ｂ）のように１本のカラム（図１（ｂ）ではカラム２１）への通水を、弁１１，３１を閉とすることにより停止させ、一時的に残りの４本のカラム２２～２５の通水量をそれぞれ２５％増加させて処理水量を確保する並列運転とする。
　通水を停止したカラム２１について、
（１）一定期間静置する。
（２）Ｎ２ガス等の非酸化性ガスでカラム内の雰囲気を置換する。
（３）白金系触媒を一旦抜き出し、好ましくは超純水中に浸漬して所定時間（好ましくは１日以上、特に２～１０日程度）保管した後、再充填する。
（４）水素溶解水を通水する。
のいずれか１又は２以上の組合せの処理を施して過酸化水素分解性能を回復させる。
　その後、好ましくはこのカラム２１に試験的に通水し、処理水質が良好であることを確認した後、弁１１，３１を開としてカラム２１への通水を再開する。その後、他のカラム２２～２５についても同様の性能回復操作を順次に行い、性能を良好な状態に戻す。
　５本のカラム２１～２５すべてについての回復処理が済んだ後は、もとの標準流量による５本並列通水に戻す。
　図２は弁１１～１５の代わりに三方弁４１～４５を設置し、弁３１～３５の代わりに三方弁５１～５５を設置し、各カラム２１～２５にＮ２ガス又は水素溶解水を三方弁３１～３５、５１～５５の切替操作により供給可能とした過酸化水素除去装置を示している。
　三方弁４１～４５の第３ポートには、配管６０から分岐した配管６１～６５が接続されている。三方弁５１～５５の第３ポートは、分岐配管７１～７５を介して排出用配管７０に接続されている。配管６０からＮ２ガス又は水素溶解水をカラム２１～２５のいずれかに供給し、その流出ガス又は水素溶解水を配管７０から排出する。
　図１，２のように並列に５本のカラム２１～２５を備えた過酸化水素除去装置の各カラム２１～２５に均等に標準的なＳＶが４００／ｈで通水する場合、１本が回復処理に入り４本並列通水（例えば図１（ｂ））になると、各カラムのＳＶは５００／ｈに増大する。これは処理水質維持の面で望ましいことではない。しかしながら、白金系樹脂の過酸化水素分解寿命（回復処理を施さない場合）が数年であるのに対し、回復処理は１本当り長くて１週間程度であるので、各カラムに２５％増の負担が掛るのは長くて４週間程度である。この間、次々に性能回復したカラムへの通水が再開されるので、過酸化水素除去装置全体として処理水量（ＳＶ５００／ｈ）を維持することは難しくない。
　図１，２では５本のカラムを並列設置しているが、６本のカラムを並列設置し、そのうちの１本を順次に休止（性能回復操作）し、常時５本のカラムに通水する運転としてもよい。
　この場合は、所定時間（所定の過酸化水素負荷）が過ぎたところで１本を停止し、同時に使用していなかった１本を通水開始させる要領で、各容器とも全体の５／６の時間は通水、１／６の時間は停止させる間欠運転を順繰りに回すいわゆるメリーゴーランド式の運用となり、余裕をもった運転ができる。
　本発明者の実験結果によると、次のことが認められた。
（１）　白金系触媒充填容器への被処理水の通水を所定時間停止させた後に通水を再開させたところ、過酸化水素分解性能の回復が認められた。停止時間を長くするほど、その回復度合いは高くなった。
（２）　白金系触媒充填容器への被処理水の通水停止中にＮ２ガス通気により該容器内からＯ２を排除する操作を加えたところ、（１）よりさらに短時間で過酸化水素分解性能が回復することが認められた。
（３）　白金系触媒充填容器への被処理水の通水停止中に一旦白金系触媒を容器から抜出し、所定時間、超純水中に保管した後に改めて充填して通水再開したところ、上記（１）及び（２）よりさらに短時間で過酸化水素分解性能が回復することが認められた。
（４）　白金系触媒充填容器への被処理水の通水を停止した後、水素溶解水を通水したところ、上記（１）～（３）よりさらに短時間で過酸化水素分解性能が回復することが認められた。
　上記実施の形態は本発明の一例であり、本発明は上記以外の実施の形態とされてもよい。例えばカラムは５本に限定されない。
［参考例］
　超純水製造装置として、図３に示すものを用意した。この超純水製造装置８１は、前処理装置８２、一次純水製造装置８３、及び二次純水製造装置（サブシステム）８４の３段の装置で構成されている。この超純水製造装置８１の前処理装置８２では、原水Ｗの濾過、凝集沈殿、精密濾過膜による前処理が施される。
　一次純水製造装置８３は、前処理水Ｗ１のタンク８５と、逆浸透（ＲＯ）膜装置８６と、紫外線（ＵＶ）酸化装置８７と、再生型イオン交換装置（混床式又は４床５塔式など）８８と、膜式脱気装置８９とを有する。
　サブシステム８４は、一次純水製造装置８３で製造された一次純水Ｗ２を貯留するサブタンク９１と、このサブタンク９１から図示しないポンプを介して送給される一次純水Ｗ２を処理する紫外線酸化装置９２と、白金族金属触媒樹脂塔９３と、膜式脱気装置９４と、非再生型混床式イオン交換装置９５と、膜濾過装置としての限外濾過（ＵＦ）膜９６とにより構成されている。限外濾過（ＵＦ）膜９６で微粒子を除去して超純水Ｗ３とし、これをユースポイント９７に供給し、未使用の超純水をサブタンク９１に還流させる。
　平均粒子径３．５ｎｍの白金ナノコロイド粒子を、０．０７重量％の担持量で強塩基性ゲル型アニオン交換樹脂に担持させ、白金族金属触媒樹脂として白金族の金属ナノ粒子を担持したアニオン交換樹脂を調製した。
　図３に示す装置構成の超純水製造装置８１において、上述した白金族金属触媒樹脂を用いて白金族金属触媒樹脂塔９３を構成して超純水Ｗ３を製造し、サブシステム８４の白金族金属触媒樹脂塔９３の入口水及び出口水の過酸化水素濃度（初期）を測定した。結果を表１に示す。また、この超純水製造装置８１の運転を長期間（３０日）継続した後の白金族金属触媒樹脂塔９３の出口水の過酸化水素濃度（末期）を測定した。結果を表１にあわせて示す。
　過酸化水素濃度を測定するために、フェノールフタレイン４．８ｍｇ、硫酸銅（無水）８ｍｇ及び水酸化ナトリウム４８ｍｇに硫酸ナトリウム（無水）を添加して１０ｇとし、微量過酸化水素濃度定量用試薬を調製した。試験水１０ｍＬに該試薬０．５ｇを添加、溶解し、室温で１０分間静置した後、５５２ｎｍにおける吸光度を測定し、この測定値に基づき過酸化水素濃度を算定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１から明らかな通り、長期間運転後の超純水Ｗ３の過酸化水素濃度の上昇が顕著である。
［比較例１］
　参考例において、長期間運転後の白金族金属触媒樹脂塔９３の樹脂を取り出し、試験用のカラムに充填し、試験用の白金族金属触媒樹脂塔とした。また、比較のために新品の白金族金属触媒樹脂を同様に試験用のカラムに充填し、白金族金属触媒樹脂塔とした。
　超純水（過酸化水素１μｇ／Ｌ未満）に過酸化水素をそれぞれ３００μｇ／Ｌ又は１０００μｇ／Ｌ添加して試験用入口水を調製し、この試験用入口水を上述した試験用カラムに通水速度（ＳＶ）３００ｈｒ－１で下向流通水した後の出口水の過酸化水素濃度を測定した。結果を表２に示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表２から明らかなとおり、長期間運転後の白金族金属触媒樹脂塔９３の樹脂をカラムに充填した比較例１の方が新品よりも過酸化水素の濃度が高かった。これにより、過酸化水素分解能が低下していることがわかる。
［実施例１］
　参考例において、長期間運転後の白金族金属触媒樹脂塔９３の樹脂を試験用のカラムに充填し、試験用の白金族金属触媒樹脂塔とした。また、比較のために新品の白金族金属触媒樹脂を同様に試験用のカラムに充填し、白金族金属触媒樹脂塔とした。
　超純水（過酸化水素１μｇ／Ｌ未満）に過酸化水素を３０μｇ／Ｌ添加して入口水を調製し、この入口水を上述した試験用カラムに通水速度（ＳＶ）４００ｈｒ－１で下向流通水した後の出口水の過酸化水素濃度を測定した。結果を表３に示す。
　また、負荷試験として超純水（過酸化水素１μｇ／Ｌ未満）に過酸化水素を４００μｇ／Ｌ添加して試験用入口水を調製し、この試験用入口水を上述した試験用カラムに通水速度（ＳＶ）６４００ｈｒ－１で２２時間下向流通水した後運転を停止した後、超純水（過酸化水素１μｇ／Ｌ未満）に過酸化水素を３０μｇ／Ｌ添加した入口水を通水し、５分後、６０分後の出口水の過酸化水素濃度を測定した。結果を表３に示す。
　また、各試験用の白金族金属触媒樹脂塔の樹脂を取り出し、超純水（過酸化水素１μｇ／Ｌ未満）に２週間保管した後、再度充填して、超純水（過酸化水素１μｇ／Ｌ未満）に過酸化水素を３０μｇ／Ｌ添加した入口水を通水した際の出口水の過酸化水素濃度を測定した。結果を表３に示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　表３から明らかなとおり、２週間超純水中で保管することにより、白金族金属触媒の性能が回復する。
　本発明を特定の態様を用いて詳細に説明したが、本発明の意図と範囲を離れることなく様々な変更が可能であることは当業者に明らかである。
　本出願は、２０１６年１２月２８日付で出願された日本特許出願２０１６－２５５４４５に基づいており、その全体が引用により援用される。
　１１～１５、３１～３５　弁
　２１～２５　カラム
　４１～４５、５１～５５　三方弁

Claims (7)

  1. 　並列設置された白金系触媒充填容器を有する過酸化水素除去装置に過酸化水素含有水を通水して過酸化水素を除去する過酸化水素除去方法において、
    　一部の容器への過酸化水素含有水の通水を所定期間停止する過酸化水素除去性能回復操作を行うことを特徴とする過酸化水素除去方法。
  2. 　請求項１において、前記所定時間に、前記容器に非酸化性ガスを供給することを特徴とする過酸化水素除去方法。
  3. 　請求項２において、非酸化性ガスは窒素ガスであることを特徴とする過酸化水素除去方法。
  4. 　請求項１～３のいずれか１項において、前記所定時間に、前記容器から触媒を取り出して再充填することを特徴とする過酸化水素除去方法。
  5. 　請求項１～４のいずれか１項において、前記所定時間に、前記容器に水素溶解水を通水することを特徴とする過酸化水素除去方法。
  6. 　請求項１～５のいずれか１項において、前記過酸化水素除去装置は超純水製造装置に設置されており、前記所定時間に、前記一部以外の白金系触媒充填容器への通水量を増加させることを特徴とする過酸化水素除去方法。
  7. 　並列設置された白金系触媒充填容器と、
    　各容器に過酸化水素含有水を通水する過酸化水素含有水通水手段と、
    　各容器に、非酸化性ガス又は水素溶解水を供給する供給手段と、
    　各容器への過酸化水素含有水通水と非酸化性ガス又は水素溶解水供給とを切り替える切替手段と
    を備えたことを特徴とする過酸化水素除去装置。
PCT/JP2017/033060 2016-12-28 2017-09-13 過酸化水素除去方法及び装置 WO2018123156A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016-255445 2016-12-28
JP2016255445 2016-12-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2018123156A1 true WO2018123156A1 (ja) 2018-07-05

Family

ID=62707073

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2017/033060 WO2018123156A1 (ja) 2016-12-28 2017-09-13 過酸化水素除去方法及び装置
PCT/JP2018/033813 WO2019116653A1 (ja) 2016-12-28 2018-09-12 過酸化水素除去方法及び装置

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2018/033813 WO2019116653A1 (ja) 2016-12-28 2018-09-12 過酸化水素除去方法及び装置

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6451824B2 (ja)
KR (1) KR102340160B1 (ja)
CN (1) CN111183118B (ja)
TW (2) TW201823166A (ja)
WO (2) WO2018123156A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022122556A1 (en) 2020-12-10 2022-06-16 Basf Se Process for the controlled decomposition of peroxo compounds

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021261144A1 (ja) * 2020-06-23 2021-12-30 オルガノ株式会社 水処理装置、超純水製造装置及び水処理方法
CN113019362B (zh) * 2021-05-31 2021-09-07 江苏欣诺科催化剂有限公司 金属钌负载催化剂

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04126793U (ja) * 1991-05-02 1992-11-18 須賀工業株式会社 過酸化水素水の分解装置
JP2003305465A (ja) * 2002-04-15 2003-10-28 Mitsubishi Electric Corp 純水製造システムおよび水質モニタリング方法
JP2007185587A (ja) * 2006-01-12 2007-07-26 Kurita Water Ind Ltd 過酸化水素の除去方法及び除去装置
JP2013215679A (ja) * 2012-04-09 2013-10-24 Nomura Micro Sci Co Ltd 超純水製造装置
JP2015088740A (ja) * 2013-09-25 2015-05-07 オルガノ株式会社 基板処理方法および基板処理装置
JP2015093226A (ja) * 2013-11-11 2015-05-18 栗田工業株式会社 純水製造方法及び装置
JP2015166064A (ja) * 2014-03-04 2015-09-24 オルガノ株式会社 超純水製造装置
JP2016097389A (ja) * 2014-11-26 2016-05-30 オルガノ株式会社 反応体収容体、反応器及び水処理装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1063354C (zh) * 1993-12-22 2001-03-21 三菱化学株式会社 钌系催化剂的再生方法
JP2780652B2 (ja) * 1993-12-22 1998-07-30 三菱化学株式会社 ルテニウム系再生触媒
JP4578048B2 (ja) * 2002-06-21 2010-11-10 中国電力株式会社 脱硝触媒再生方法
JP2007160268A (ja) * 2005-12-16 2007-06-28 Tokyo Electric Power Co Inc:The 脱硝触媒の再生処理方法
JP5098215B2 (ja) * 2006-05-01 2012-12-12 三菱瓦斯化学株式会社 水素化触媒の賦活方法およびそれを含む過酸化水素の製造方法
JP2010017633A (ja) * 2008-07-09 2010-01-28 Japan Organo Co Ltd 水素溶解水の製造装置及びこれを用いた製造方法ならびに電子部品又は電子部品の製造器具用の洗浄装置
JP5838485B2 (ja) * 2012-02-14 2016-01-06 国立大学法人大阪大学 グリセロールの水素化分解用触媒、及び該触媒を使用する１，３−プロパンジオールの製造方法
WO2014203601A1 (ja) * 2013-06-18 2014-12-24 株式会社ダイセル 水素化反応用触媒の再生方法、及び多価アルコールの水素化物の製造方法
CN104785254B (zh) * 2015-03-20 2017-04-12 西安凯立新材料股份有限公司 一种降解双氧水用催化剂及其制备方法和应用
JP6670047B2 (ja) * 2015-05-22 2020-03-18 オルガノ株式会社 超純水製造装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04126793U (ja) * 1991-05-02 1992-11-18 須賀工業株式会社 過酸化水素水の分解装置
JP2003305465A (ja) * 2002-04-15 2003-10-28 Mitsubishi Electric Corp 純水製造システムおよび水質モニタリング方法
JP2007185587A (ja) * 2006-01-12 2007-07-26 Kurita Water Ind Ltd 過酸化水素の除去方法及び除去装置
JP2013215679A (ja) * 2012-04-09 2013-10-24 Nomura Micro Sci Co Ltd 超純水製造装置
JP2015088740A (ja) * 2013-09-25 2015-05-07 オルガノ株式会社 基板処理方法および基板処理装置
JP2015093226A (ja) * 2013-11-11 2015-05-18 栗田工業株式会社 純水製造方法及び装置
JP2015166064A (ja) * 2014-03-04 2015-09-24 オルガノ株式会社 超純水製造装置
JP2016097389A (ja) * 2014-11-26 2016-05-30 オルガノ株式会社 反応体収容体、反応器及び水処理装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022122556A1 (en) 2020-12-10 2022-06-16 Basf Se Process for the controlled decomposition of peroxo compounds

Also Published As

Publication number Publication date
WO2019116653A1 (ja) 2019-06-20
TWI820042B (zh) 2023-11-01
CN111183118B (zh) 2021-10-22
KR102340160B1 (ko) 2021-12-15
CN111183118A (zh) 2020-05-19
JP2018108577A (ja) 2018-07-12
KR20200096485A (ko) 2020-08-12
TW201930200A (zh) 2019-08-01
JP6451824B2 (ja) 2019-01-16
TW201823166A (zh) 2018-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2015068635A1 (ja) 純水の製造方法及び装置
JP5454468B2 (ja) 純水製造方法及び純水製造装置
TWI408107B (zh) 超純水製造裝置及其運轉方法
JP6439777B2 (ja) 超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法
JP2007185587A (ja) 過酸化水素の除去方法及び除去装置
JP2011167633A (ja) 水処理方法及び装置
JP6451824B2 (ja) 過酸化水素除去方法及び装置
JP4920019B2 (ja) 過酸化水素低減方法、過酸化水素低減装置及び超純水製造装置並びに洗浄方法
WO2022024815A1 (ja) 純水製造装置及び超純水製造装置並びに純水製造方法及び超純水製造方法
JP5499433B2 (ja) 超純水製造方法及び装置並びに電子部品部材類の洗浄方法及び装置
JP5320723B2 (ja) 超純水製造方法及び装置並びに電子部品部材類の洗浄方法及び装置
JP5854163B2 (ja) 超純水の製造方法及び超純水製造設備
JP7368310B2 (ja) ホウ素除去装置及びホウ素除去方法、並びに、純水製造装置及び純水の製造方法
JP2000308815A (ja) オゾン溶解水の製造装置
JP6848415B2 (ja) 超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法
JP7570249B2 (ja) 水処理システム及び水処理方法
JP6728913B2 (ja) 超純水製造方法
JP2021191566A (ja) 純水製造方法及び製造装置
JP2022124773A (ja) 水処理システム及び水処理方法
JP2016112532A (ja) 超純水製造装置の運転方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 17885865

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 17885865

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1