JP2016097389A - 反応体収容体、反応器及び水処理装置 - Google Patents
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 84
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 117
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 26
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 21
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 12
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 claims description 9
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 claims description 9
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 230000004323 axial length Effects 0.000 claims 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 70
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 45
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 38
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 23
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 23
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 22
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 18
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 18
- 239000002082 metal nanoparticle Substances 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 9
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 238000005349 anion exchange Methods 0.000 description 6
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 for example Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical group Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000003421 catalytic decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000006392 deoxygenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000003673 groundwater Substances 0.000 description 1
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000002198 surface plasmon resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
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- Removal Of Specific Substances (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
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Abstract
【解決手段】反応体収容体22は、少なくとも一つの貫通孔34を備え、貫通孔34に反応体Mが充填されるようにされた反応体保持部24を有している。貫通孔34と直交する貫通孔断面において、少なくとも一つの貫通孔34を内包する最小の仮想円の直径をD、貫通孔34の軸方向の長さをHとしたときに、D/H≧1である。
【選択図】図2
Description
まず、本発明の第1の実施形態に係る超純水製造装置について説明する。超純水製造装置は例えば半導体製造業において、不純物を高度に除去した超純水を用いてシリコンウエハの洗浄を行うために用いられる。超純水は、一般に原水(河川水、地下水、工業用水等)中に含まれる懸濁物質や有機物の一部を前処理工程で除去した後、その処理水を一次純水系システム及び二次純水系システム(サブシステム)で順次処理することによって製造され、ウエハ洗浄を行うユースポイントに供給される。一次純水系システムでは例えば、逆浸透膜分離装置で水から塩類や不純物が除去され、脱気装置で溶存酸素が除去され、純水が製造される。二次純水系システムでは水の純度がさらに高められ超純水が製造される。
本実施形態の反応体収容体22は、容器または配管の内部に設けるようにされている。以降、容器であるカートリッジポリッシャ7を例に説明するが配管の内部にも同様に適用することができる。容器は水処理システムを構成し被処理水が流通可能な容器であれば限定されない。容器の内圧は特に限定されないが、水処理システムの使用中に大気圧を上回る圧力を受ける容器である場合、より大きな効果が期待できる。また、本実施形態は水以外の流体、例えば、アルコール等の薬液の処理(精製)、大気等の気体の処理システムにも適用することができる。
次に、本発明に特徴的なモノリスの充填方法について述べる。以下に述べるモノリスの充填方法は第1の実施形態と第2の実施形態に共通している。図2に示すように、これらの実施形態では、反応体収容体22の中心軸CLを中心とする、反応体充填領域23を内包する最小半径の仮想円411の直径をD1、反応体充填領域23に充填された流路方向のPdモノリスの充填高さをH1としたときに、D1/H1≧1となっている。また、全ての貫通孔34を内包する最小半径の仮想円41の直径をD、貫通孔34の流路方向ないし軸方向の高さをHとしたときに、D/H≧1となっている。通常は仮想円41の直径Dは仮想円411の直径D1と一致するかほぼ等しく、一方Pdモノリスの充填高さH1は貫通孔34の高さHより小さいため、D/H≧1が満足されればD1/H1≧1が満足される。本実施形態では仮想円41の直径Dは仮想円411の直径D1と一致している。
次に、第1及び第2の実施形態に共通して用いられるモノリス状イオン交換体についてさらに詳しく説明する。上述のようにモノリス状イオン交換体は連続細孔構造を有する多孔質イオン交換体である。図8にその概念図を示す。モノリス状イオン交換体としてはモノリスアニオン交換体が好ましく用いられ、特に、以下に述べるAタイプ及びBタイプのモノリスアニオン交換体が好ましく用いられる。特にPdが担持されたPdモノリスは、水中の過酸化水素を分解することができ、水素との共存条件で溶存酸素を分解することもできる。Pdモノリスは粒状のPd樹脂に比べて過酸化水素の分解性能が高い。Pdは触媒であるため、Pdモノリスは、イオン交換機能というよりは触媒機能を有し、長期間使用することができる。
Aタイプのモノリスアニオン交換体は、モノリスにアニオン交換基を導入することで得られるものであり、気泡状のマクロポア同士が重なり合い、この重なる部分が水湿潤状態で平均直径30〜300μm、好ましくは30〜200μm、特に好ましくは40〜100μmの開口(メソポア)となる連続マクロポア構造体である。Aタイプのモノリスアニオン交換体の開口の平均直径は、モノリスにアニオン交換基を導入する際、モノリス全体が膨潤するため、モノリスの開口の平均直径よりも大となる。水湿潤状態での開口の平均直径が30μm未満であると、通水時の圧力損失が大きくなってしまうため好ましくなく、水湿潤状態での開口の平均直径が大き過ぎると、被処理水とAタイプのモノリスアニオン交換体および担持された白金族金属ナノ粒子との接触が不十分となり、その結果、過酸化水素分解特性が低下してしまうため好ましくない。水湿潤状態のAタイプのモノリスアニオン交換体の開口の平均直径は、乾燥状態のAタイプのモノリスあるいはモノリスアニオン交換体の開口の平均直径に、膨潤率を乗じて算出される値である。乾燥状態のモノリスアニオン交換体の開口の平均直径は、水銀圧入法により測定される。水銀圧入法は、水銀の表面張力が大きいことを利用して細孔に水銀を浸入させるために圧力を加え、圧力と圧入された水銀量から比表面積や細孔分布を求める方法である。また、膨潤率は、1.4〜1.9である。Aタイプのモノリスアニオン交換体において、連続マクロポア構造体の切断面のSEM画像において、断面に表れる骨格部面積が、画像領域中、25〜50%、好ましくは25〜45%である。断面に表れる骨格部面積が、画像領域中、25%未満であると、細い骨格となり、機械的強度が低下して、特に高流速で通水した際にモノリスアニオン交換体が大きく変形してしまうため好ましくない。さらに、被処理水とAタイプのモノリスアニオン交換体およびそれに担持された白金族金属ナノ粒子との接触効率が低下し、触媒効果が低下するため好ましくなく、50%を超えると、骨格が太くなり過ぎ、通水時の圧力損失が増大するため好ましくない。
Bタイプのモノリスアニオン交換体は、アニオン交換基が導入された全構成単位中、架橋構造単位を0.3〜5.0モル%含有する芳香族ビニルポリマーからなる平均太さが水湿潤状態で1〜60μmの三次元的に連続した骨格と、その骨格間に平均直径が水湿潤状態で10〜100μmの三次元的に連続した空孔とからなる共連続構造体であって、全細孔容積が0.5〜5ml/gであり、水湿潤状態での体積当りのイオン交換容量が0.3〜1.0mg当量/mlであり、アニオン交換基が該多孔質イオン交換体中に均一に分布している。
触媒金属担持体は、モノリスアニオン交換体に白金族金属が担持されてなるものであり、モノリスアニオン交換体に、白金族金属のナノ粒子が担持されている触媒金属担持体であることが好ましい。
5 紫外線酸化装置
6 過酸化水素除去装置
7 カートリッジポリッシャ
14 第3のフランジ
21 反応器
22 反応体収容体
23 反応体充填領域
24 反応体保持部
26 上蓋
28 底蓋
29 上部保持プレート
30 スナップリング
31 支持プレート
34 流路、貫通孔
37 入口開口
38 出口開口
39 第1のフランジ
41,411 仮想円
72 第2のフランジ
73 イオン交換樹脂充填部
CL 中心線
M モノリス状イオン交換体
D 全ての貫通孔を内包する最小半径の仮想円の直径
D1 反応体充填領域を内包する最小半径の仮想円の直径
H 貫通孔の流路方向ないし軸方向の高さ
H1 モノリスの充填高さ
Claims (7)
- 少なくとも一つの貫通孔を備え、前記貫通孔に反応体が充填されるようにされた反応体保持部を有し、前記貫通孔と直交する貫通孔断面において、前記少なくとも一つの貫通孔を内包する最小の仮想円の直径をD、前記貫通孔の軸方向の長さをHとしたときに、D/H≧1である、反応体収容体。
- 前記反応体保持部の上側周縁部に連結され、被処理水が供給される入口部を備えた上蓋と、前記反応体保持部の下側周縁部に連結され、前記被処理水が排出される出口部を備えた底蓋と、を有している、請求項1に記載の反応体収容体。
- 請求項1または2に記載の反応体収容体と、前記反応体収容体の前記貫通孔に充填された反応体と、を有する反応器。
- 前記反応体は、イオン交換体である、請求項3に記載の反応器。
- 前記反応体は、モノリス状イオン交換体である、請求項3に記載の反応器。
- 前記反応体は、白金族金属触媒が担持されたモノリス状イオン交換体、または白金族金属触媒が担持されたイオン交換樹脂である、請求項3に記載の反応器。
- 請求項6に記載の反応器と、前記反応器の上流側に位置する紫外線酸化装置と、前記反応器の下流側に位置する非再生型イオン交換装置と、を有する水処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014238737A JP6490952B2 (ja) | 2014-11-26 | 2014-11-26 | 反応器及び水処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014238737A JP6490952B2 (ja) | 2014-11-26 | 2014-11-26 | 反応器及び水処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016097389A true JP2016097389A (ja) | 2016-05-30 |
JP6490952B2 JP6490952B2 (ja) | 2019-03-27 |
Family
ID=56076316
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014238737A Active JP6490952B2 (ja) | 2014-11-26 | 2014-11-26 | 反応器及び水処理装置 |
Country Status (1)
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---|---|
JP (1) | JP6490952B2 (ja) |
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JP6490952B2 (ja) | 2019-03-27 |
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