JP6355535B2 - 反応器及び水処理装置 - Google Patents
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Description
まず、本発明の第1の実施形態に係る超純水製造装置について説明する。超純水製造装置は例えば半導体製造業において、不純物を高度に除去した超純水を用いてシリコンウエハの洗浄を行うために用いられる。超純水は、一般に原水(河川水、地下水、工業用水等)中に含まれる懸濁物質や有機物の一部を前処理工程で除去した後、その処理水を一次純水系システム及び二次純水系システム(サブシステム)で順次処理することによって製造され、ウエハ洗浄を行うユースポイントに供給される。一次純水系システムでは例えば、逆浸透膜分離装置で水から塩類や不純物が除去され、脱気装置で溶存酸素が除去され、純水が製造される。二次純水系システムでは水の純度がさらに高められ超純水が製造される。
本実施形態の反応体収容体22は、容器または配管の内部に設けるようにされている。以降、容器であるカートリッジポリッシャ7を例に説明するが配管の内部にも同様に適用することができる。容器は水処理システムを構成し被処理水が流通可能な容器であれば限定されない。容器の内圧は特に限定されないが、水処理システムの使用中に大気圧を上回る圧力を受ける容器である場合、より大きな効果が期待できる。また、本実施形態は水以外の流体、例えば、アルコール等の薬液の処理(精製)、大気等の気体の処理システムにも適用することができる。
次に、本発明に特徴的なモノリスの充填方法について述べる。以下に述べるモノリスの充填方法は第1の実施形態と第2の実施形態に共通している。図2に示すように、これらの実施形態では、反応体収容体22の中心軸CLを中心とする、反応体充填領域23を内包する最小半径の仮想円411の直径をD1、反応体充填領域23に充填された流路方向のPdモノリスの充填高さをH1としたときに、D1/H1≧1となっている。また、全ての貫通孔34を内包する最小半径の仮想円41の直径をD、貫通孔34の流路方向ないし軸方向の高さをHとしたときに、D/H≧1となっている。通常は仮想円41の直径Dは仮想円411の直径D1と一致するかほぼ等しく、一方Pdモノリスの充填高さH1は貫通孔34の高さHより小さいため、D/H≧1が満足されればD1/H1≧1が満足される。本実施形態では仮想円41の直径Dは仮想円411の直径D1と一致している。
次に、第1及び第2の実施形態に共通して用いられるモノリス状イオン交換体についてさらに詳しく説明する。上述のようにモノリス状イオン交換体は連続細孔構造を有する多孔質イオン交換体である。図8にその概念図を示す。モノリス状イオン交換体としてはモノリスアニオン交換体が好ましく用いられ、特に、以下に述べるAタイプ及びBタイプのモノリスアニオン交換体が好ましく用いられる。特にPdが担持されたPdモノリスは、水中の過酸化水素を分解することができ、水素との共存条件で溶存酸素を分解することもできる。Pdモノリスは粒状のPd樹脂に比べて過酸化水素の分解性能が高い。Pdは触媒であるため、Pdモノリスは、イオン交換機能というよりは触媒機能を有し、長期間使用することができる。
Aタイプのモノリスアニオン交換体は、モノリスにアニオン交換基を導入することで得られるものであり、気泡状のマクロポア同士が重なり合い、この重なる部分が水湿潤状態で平均直径30〜300μm、好ましくは30〜200μm、特に好ましくは40〜100μmの開口(メソポア)となる連続マクロポア構造体である。Aタイプのモノリスアニオン交換体の開口の平均直径は、モノリスにアニオン交換基を導入する際、モノリス全体が膨潤するため、モノリスの開口の平均直径よりも大となる。水湿潤状態での開口の平均直径が30μm未満であると、通水時の圧力損失が大きくなってしまうため好ましくなく、水湿潤状態での開口の平均直径が大き過ぎると、被処理水とAタイプのモノリスアニオン交換体および担持された白金族金属ナノ粒子との接触が不十分となり、その結果、過酸化水素分解特性が低下してしまうため好ましくない。水湿潤状態のAタイプのモノリスアニオン交換体の開口の平均直径は、乾燥状態のAタイプのモノリスあるいはモノリスアニオン交換体の開口の平均直径に、膨潤率を乗じて算出される値である。乾燥状態のモノリスアニオン交換体の開口の平均直径は、水銀圧入法により測定される。水銀圧入法は、水銀の表面張力が大きいことを利用して細孔に水銀を浸入させるために圧力を加え、圧力と圧入された水銀量から比表面積や細孔分布を求める方法である。また、膨潤率は、1.4〜1.9である。Aタイプのモノリスアニオン交換体において、連続マクロポア構造体の切断面のSEM画像において、断面に表れる骨格部面積が、画像領域中、25〜50%、好ましくは25〜45%である。断面に表れる骨格部面積が、画像領域中、25%未満であると、細い骨格となり、機械的強度が低下して、特に高流速で通水した際にモノリスアニオン交換体が大きく変形してしまうため好ましくない。さらに、被処理水とAタイプのモノリスアニオン交換体およびそれに担持された白金族金属ナノ粒子との接触効率が低下し、触媒効果が低下するため好ましくなく、50%を超えると、骨格が太くなり過ぎ、通水時の圧力損失が増大するため好ましくない。
Bタイプのモノリスアニオン交換体は、アニオン交換基が導入された全構成単位中、架橋構造単位を0.3〜5.0モル%含有する芳香族ビニルポリマーからなる平均太さが水湿潤状態で1〜60μmの三次元的に連続した骨格と、その骨格間に平均直径が水湿潤状態で10〜100μmの三次元的に連続した空孔とからなる共連続構造体であって、全細孔容積が0.5〜5ml/gであり、水湿潤状態での体積当りのイオン交換容量が0.3〜1.0mg当量/mlであり、アニオン交換基が該多孔質イオン交換体中に均一に分布している。
触媒金属担持体は、モノリスアニオン交換体に白金族金属が担持されてなるものであり、モノリスアニオン交換体に、白金族金属のナノ粒子が担持されている触媒金属担持体であることが好ましい。
5 紫外線酸化装置
6 過酸化水素除去装置
7 カートリッジポリッシャ
14 第3のフランジ
21 反応器
22 反応体収容体
23 反応体充填領域
24 反応体保持部
26 上蓋
28 底蓋
29 上部保持プレート
30 スナップリング
31 支持プレート
34 流路、貫通孔
37 入口開口
38 出口開口
39 第1のフランジ
41,411 仮想円
72 第2のフランジ
73 イオン交換樹脂充填部
CL 中心線
M モノリス状イオン交換体
D 全ての貫通孔を内包する最小半径の仮想円の直径
D1 反応体充填領域を内包する最小半径の仮想円の直径
H 貫通孔の流路方向ないし軸方向の高さ
H1 モノリスの充填高さ
Claims (4)
- 白金族金属触媒が担持されたモノリス状イオン交換体または白金族金属触媒が担持されたイオン交換樹脂が充填された反応体収容体と、第1のフランジと、を有し、前記反応体収容体が、イオン交換樹脂が充填され被処理水が流通可能で、且つ第2のフランジを備えた開口部を有する容器の内部に収容されるようにされた反応器であって、
前記第1のフランジが前記第2のフランジ上に支持されることで、前記容器の前記開口部内に吊り下げられる、反応器。 - 前記反応体収容体は前記モノリス状イオン交換体または前記イオン交換樹脂を充填するための少なくとも1つの貫通孔を有する、請求項1に記載の反応器。
- 前記貫通孔と直交する貫通孔断面において、前記少なくとも1つの貫通孔を内包する最小の仮想円の直径をD、前記貫通孔の軸方向の長さをHとしたときに、D/H≧1である、請求項2に記載の反応器。
- イオン交換樹脂が充填され被処理水が流通可能で、且つ第2のフランジを備えた開口部を有する容器と、請求項1から3のいずれか1項に記載の反応器と、を有し、
前記反応器の前記第1のフランジが前記第2のフランジ上に支持されることで、前記反応器が前記容器の前記開口部内に吊り下げられている、水処理装置。
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Applications Claiming Priority (1)
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