WO2017213025A1 - 光硬化性樹脂組成物、並びに画像表示装置、及びその製造方法 - Google Patents

光硬化性樹脂組成物、並びに画像表示装置、及びその製造方法 Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to a photocurable resin composition, an image display device, and a manufacturing method thereof.
  • image display devices that are various electronic devices such as televisions, notebook computers, tablet computers, car navigation systems, calculators, mobile phones, smartphones, electronic notebooks, and PDAs (Personal Digital Assistants) include, for example, liquid crystal displays (LCDs).
  • Display elements such as organic EL display (OLED), electroluminescent display (ELD), field emission display (FED), and plasma display (PDP) are used.
  • OLED organic EL display
  • ELD electroluminescent display
  • FED field emission display
  • PDP plasma display
  • a light-transmitting cover member such as a plate glass is bonded to the display element, and a photocurable resin composition is used for the bonding.
  • a composition containing a radical polymerizable component and a photo radical initiator is known (for example, see Patent Documents 1 and 2). Furthermore, a composition containing a radical polymerizable component, a cationic polymerizable component, a photo radical initiator, and a photo acid generator has also been proposed (see, for example, Patent Document 3).
  • a light-shielding layer is provided on the periphery of the surface of the light-transmitting cover member on the image display portion side in order to improve the brightness, contrast, designability, etc. of the display image. Since the photocurable resin composition sandwiched between such a light shielding layer and the image display member is not directly exposed to light during curing, the curing does not proceed sufficiently. For this reason, there arises a problem that components that are not sufficiently cured bleed out (bleed out).
  • a thermal polymerization initiator is blended with the photocurable resin composition to obtain a heat and photocurable resin composition, and the heat and photocurable resin composition is formed on the surface of the light transmissive cover member on which the light shielding layer is formed.
  • the coated surface is overlapped on the image display member, and after being cured by irradiating with ultraviolet rays, the entire structure is heated to heat and light curable sandwiched between the light shielding layer and the image display member.
  • Patent Document 4 It has been proposed to thermally cure a resin composition (see, for example, Patent Document 4).
  • this proposed technique contains a thermal polymerization initiator and thus requires a facility for a thermal polymerization process and has a problem that storage stability is lowered.
  • a photo-curable resin composition that does not require a thermal polymerization process, improves the curability of the region sandwiched between the light-shielding layer and the image display member and does not reach light directly, and prevents bleeding out of the cured product. It is the present situation that provision of is demanded.
  • the present invention provides a photocurable resin composition capable of improving the curability of a region where light does not reach directly and preventing bleed out of a cured product, an image display device using the photocurable resin composition, and the above It aims at providing the manufacturing method of the image display apparatus using a photocurable resin composition.
  • Means for solving the problems are as follows. That is, ⁇ 1> containing a radical polymerizable group-containing compound, a cationic polymerizable group-containing compound, a photo radical initiator, and a photo acid generator, The content of the radical polymerizable group-containing compound is greater than the content of the cationic polymerizable group-containing compound,
  • the photo radical initiator is at least one of an ⁇ -hydroxyalkylphenone photo radical initiator and a benzyl methyl ketal photo radical initiator,
  • a photocurable resin composition characterized in that a mass ratio (photoradical initiator / photoacid generator) of the photoradical initiator to the photoacid generator is 0.5 to 30.
  • ⁇ 2> The photocurable resin composition according to ⁇ 1>, wherein the cationically polymerizable group-containing compound has a radically polymerizable group.
  • ⁇ 3> The photocurable resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 2>, wherein the cationically polymerizable group in the cationically polymerizable group-containing compound is at least one of an alkoxysilyl group and an epoxy group. It is.
  • ⁇ 4> The content of the photoacid generator is 0.01% by mass or more, ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the sum of the content of the photoradical initiator and the content of the photoacid generator (photoradical initiator + photoacid generator) is 1.5% by mass or less.
  • ⁇ 5> The photocurable resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, further including a plasticizer.
  • ⁇ 6> An image display device comprising a cured product of the photocurable resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>.
  • ⁇ 7> It has an image display member and a light-transmitting cover member, The image display device according to ⁇ 6>, wherein the image display member and the light-transmitting cover member are bonded via the cured product.
  • the light-transmitting cover member has a light-shielding layer on a peripheral portion
  • the surface having the light shielding layer is the image display device according to ⁇ 7>, in which the image display member is faced.
  • the photocurable resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5> is applied to a surface of the light-transmitting cover member having a light-shielding layer at a peripheral edge, the surface having the light-shielding layer.
  • a coating process for obtaining a coating layer A temporary curing step of irradiating the coating layer with light from the side opposite to the light-transmitting cover member side, pre-curing the coating layer, and obtaining a temporary cured layer; A bonding step of bonding the temporary cured layer and the image display member; And a main curing step of irradiating the temporary cured layer with light from the light-transmitting cover member side, main-curing the temporary cured layer, and obtaining a main cured layer. It is.
  • the above-mentioned problems in the prior art can be solved, the above-mentioned object can be achieved, the curability of the area where light does not reach directly is improved, and the cured product can be prevented from bleeding out.
  • Product an image display device using the photocurable resin composition, and a method for producing an image display device using the photocurable resin composition.
  • FIG. 1A is a schematic cross-sectional view for explaining an example of a method for producing an image display device of the present invention (part 1).
  • FIG. 1B is a schematic cross-sectional view for explaining an example of the method for manufacturing the image display device of the present invention (part 2).
  • FIG. 1C is a schematic cross-sectional view for explaining an example of the method for manufacturing the image display device of the present invention (part 3).
  • FIG. 1D is a schematic cross-sectional view for explaining an example of the image display device manufacturing method according to the present invention (part 4).
  • FIG. 1E is a schematic cross-sectional view for explaining an example of the image display device manufacturing method according to the present invention (part 5).
  • FIG. 1A is a schematic cross-sectional view for explaining an example of a method for producing an image display device of the present invention (part 1).
  • FIG. 1B is a schematic cross-sectional view for explaining an example of the method for manufacturing the image display device of the present invention (part 2).
  • FIG. 2A is a schematic cross-sectional view for explaining the method of manufacturing the simulated panel in the embodiment (part 1).
  • FIG. 2B is a schematic cross-sectional view for explaining the manufacturing method of the simulated panel in the embodiment (No. 2).
  • FIG. 2C is a schematic cross-sectional view for explaining the method of manufacturing the simulated panel in the embodiment (No. 3).
  • FIG. 2D is a schematic cross-sectional view for explaining the manufacturing method of the simulated panel in the embodiment (No. 4).
  • FIG. 2E is a schematic cross-sectional view for explaining the manufacturing method of the simulated panel in the embodiment (No. 5).
  • the photocurable resin composition of the present invention contains a radically polymerizable group-containing compound, a cationically polymerizable group-containing compound, a photoradical initiator, and a photoacid generator, and, if necessary, other Contains ingredients.
  • the photoradical initiator is at least one of an ⁇ -hydroxyalkylphenone photoradical initiator and a benzylmethyl ketal photoradical initiator.
  • the content of the radical polymerizable group-containing compound is greater than the content of the cationic polymerizable group-containing compound.
  • the present inventors have intensively studied to provide a photocurable resin composition that can improve the curability in a region where light does not reach directly and prevent bleeding out of the cured product.
  • a photocuring system in which a cationic curing system is used in combination with a radical curing system, at least one of an ⁇ -hydroxyalkylphenone photoradical initiator and a benzylmethyl ketal photoradical initiator is used as a photoradical initiator.
  • the present inventors have found that by using a photoacid generator as a cationic curing type curing agent, it is possible to improve the curability in a region where light does not reach directly and prevent bleeding out of the cured product, thereby completing the present invention.
  • FIG. 1 an ⁇ -hydroxyalkylphenone photoradical initiator is used as a photoradical initiator, and an onium salt is used as a photoacid generator.
  • the ⁇ -hydroxyalkylphenone photoradical initiator preferentially absorbs light, and the carbon-carbon bond between the carbonyl group and the hydroxyl group is cleaved ( ⁇ cleavage).
  • Produce radicals Part of the generated radical (A) transfers electrons to the photoacid generator, and the radical (A) becomes a cation (B).
  • the cation (B) rearranges to a nonionic structure (C) which is a more stable structure.
  • protons (H + ) are generated. Proton generation has a time lag from light irradiation. Protons are more stable than radicals, and protons can diffuse in the system.
  • the photocurable resin composition continues to be cured even after light irradiation, and enables curing in a region where light does not reach directly.
  • the hardening after light irradiation is dominated by cationic hardening.
  • the benzylmethyl ketal photoradical initiator is common in that the ⁇ carbon adjacent to the carbonyl group does not have a hydroxyl group, but the bond adjacent to the carbonyl group is ⁇ cleaved. Therefore, when a benzylmethyl ketal photo radical initiator is used, the point of ⁇ -cleavage is the same, but after electrons move to the photo acid generator, protons are generated by a mechanism different from that in Scheme 1 above. It is thought to do.
  • the radical polymerizable group-containing compound (radical polymerization component) is not particularly limited as long as it is a compound having a radical polymerizable group, and can be appropriately selected according to the purpose.
  • the radical polymerizable group include a (meth) acryloyloxy group.
  • the (meth) acryloyloxy group means an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group.
  • the radical polymerizable group-containing compound may have one radical polymerizable group or two or more radical polymerizable groups.
  • radical polymerizable group-containing compound examples include an ester compound obtained by reacting a compound having a hydroxyl group with (meth) acrylic acid, and an epoxy obtained by reacting (meth) acrylic acid with an epoxy compound ( Examples thereof include urethane (meth) acrylates obtained by reacting (meth) acrylates and isocyanates with (meth) acrylic acid derivatives having a hydroxyl group.
  • (meth) acryl means acryl or methacryl
  • (meth) acrylate means acrylate or methacrylate.
  • radical polymerizable group-containing compound having one radical polymerizable group examples include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy Butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, benzyl (meth) Acrylate, ethyl carbitol (meth)
  • radical polymerizable group-containing compound having two radical polymerizable groups examples include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, and 1,6-hexanediol.
  • radical polymerizable group-containing compound having three or more radical polymerizable groups examples include pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and propylene oxide-added trimethylolpropane tri (meth) acrylate.
  • the radical polymerizable group-containing compound may be a so-called oligomer.
  • the oligomer include (meth) acrylate oligomers.
  • a polyurethane (meth) acrylate oligomer, a polyisoprene (meth) acrylate oligomer, a polybutadiene (meth) acrylate oligomer, a polyether (meth) acrylate oligomer etc. are mentioned, for example.
  • a radical polymerizable group may be added to the following acrylic polymer.
  • Acrylic polymer copolymer of butyl acrylate, 2-hexyl acrylate and acrylic acid, copolymer of cyclohexyl acrylate and methacrylic acid
  • the polyurethane (meth) acrylate oligomer is a polyurethane-based (meth) acrylate oligomer having a polyurethane skeleton in the main chain.
  • Specific examples include UV-2000B, UV-2750B, UV-3000B, UV-3010B, UV-3200B, UV-3300B, UV-3700B, UV-6640B, UV-8630B, UV-manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.
  • UV-7610B UV-1700B, UV-7630B, UV-6300B, UV-6640B, UV-7550B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7610B, UV-7630B, UV-7640B, UV-7650B, UT-5449, UT-5454, and the like.
  • the polyisoprene (meth) acrylate oligomer is a polyisoprene (meth) acrylate oligomer having a polyisoprene skeleton in the main chain.
  • Specific examples include an esterified product of a polyisoprene polymer maleic anhydride adduct and 2-hydroxyethyl methacrylate [UC102 (polystyrene equivalent molecular weight 17000), Kuraray Co., Ltd .; UC203 (polystyrene equivalent molecular weight 35000), Kuraray Co., Ltd. And the like.
  • the polybutadiene (meth) acrylate oligomer is a polybutadiene (meth) acrylate oligomer having a polybutadiene skeleton or a hydrogenated polybutadiene skeleton in the main chain.
  • Specific examples include esterified products of polybutadiene polymer and 2-hydroxyethyl methacrylate [EMA-3000 (molecular weight 3700), Nippon Soda Co., Ltd.].
  • the polyether (meth) acrylate oligomer is a polyether (meth) acrylate oligomer having a polyether skeleton such as polyethylene glycol or polypropylene glycol in the main chain.
  • Specific examples include terminal acrylic-modified polyethers [UN-6202 (molecular weight 6500), Negami Kogyo Co., Ltd .; EBECRYL230 (molecular weight 5000), Daicel Ornex Co., Ltd.] and the like.
  • the weight average molecular weight of the oligomer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, but is preferably 1,000 to 100,000, more preferably 2,000 to 80,000, and 5,000. ⁇ 50,000 is particularly preferred.
  • the weight average molecular weight is measured by, for example, GPC (gel permeation chromatography).
  • the content of the radical polymerizable group-containing compound in the photocurable resin composition is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, but is preferably 20% by mass to 80% by mass, and preferably 30% by mass. % To 70% by mass is more preferable, and 40% to 60% by mass is particularly preferable.
  • content in this specification is content with respect to the non volatile matter of the said photocurable resin composition.
  • a numerical range indicated by using “to” indicates a range including the numerical values described before and after “to” as the minimum value and the maximum value, respectively. That is, 20 mass% to 80 mass% means 20 mass% or more and 80 mass% or less.
  • the radical polymerizable group-containing compound may be a combination of the oligomer and a monomer having a lower molecular weight than the oligomer.
  • the molecular weight of the monomer is preferably, for example, less than 1,000, and more preferably 500 or less.
  • the content of the oligomer in the photocurable resin composition is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. However, 20 mass% to 70 mass% is preferable, and 30 mass% to 60 mass% is more preferable.
  • the radical polymerizable group-containing compound contains the oligomer and the monomer
  • the content of the monomer in the photocurable resin composition is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. However, 1% by mass to 20% by mass is preferable, and 3% by mass to 15% by mass is more preferable.
  • cation polymerizable group-containing compound cation polymerization component
  • cation polymerizable group-containing compound cation polymerization component
  • it can select suitably.
  • Examples of the cationic polymerizable group include an alkoxysilyl group, an epoxy group, a vinyl ether group, and an oxetanyl group. Among these, an alkoxysilyl group and an epoxy group are preferable.
  • R 1 represents any one of an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms.
  • R 2 and R 3 each independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
  • the alkoxysilyl group is preferably a trimethoxysilyl group, a triethoxysilyl group, a dimethoxymethylsilyl group, or a diethoxymethylsilyl group from the viewpoint of excellent cationic polymerizability.
  • the epoxy group may be an alicyclic epoxy group or a non-alicyclic epoxy group.
  • examples of the epoxy group include groups represented by the following general formula (2) and the following general formula (3).
  • R 4 represents either a hydrogen atom or a methyl group.
  • the cationically polymerizable group-containing compound is further radically polymerizable in that the compatibility of the raw materials in the photocurable resin composition is improved and the phase separation of the cured product of the photocurable resin composition can be prevented. It preferably has a group.
  • the cation polymerizable group-containing compound having a radical polymerizable group does not belong to the radical polymerizable group-containing compound but belongs to the cation polymerizable group-containing compound.
  • the cationically polymerizable group-containing compound having the radically polymerizable group is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include compounds represented by the following general formula (2). . However, in general formula (4), R represents either a hydrogen atom or a methyl group, X represents a cationically polymerizable group, and Y represents a divalent linking group.
  • Examples of X include a group represented by the general formula (1), a group represented by the general formula (2), and a group represented by the general formula (3).
  • Examples of Y include an alkylene group and an alkyleneoxyalkylene group.
  • Examples of the alkylene group include a C 1-6 alkylene group.
  • Examples of the alkyleneoxyalkylene group include a C 1-6 alkyleneoxy C 1-6 alkylene group.
  • C 1-6 has a carbon number represents 1-6.
  • the content of the cationically polymerizable compound in the photocurable resin composition is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, but is preferably 0.5% by mass to 30% by mass. More preferred is 20% by mass to 20% by mass, and particularly preferred is 2% by mass to 15% by mass.
  • the photoradical initiator is at least one of an ⁇ -hydroxyalkylphenone photoradical initiator and a benzylmethyl ketal photoradical initiator.
  • Examples of the ⁇ -hydroxyalkylphenone photoradical initiator include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- [ 4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- ⁇ 4- [4- (2-hydroxy-2-methylpropionyl) -Benzyl] phenyl ⁇ -2-methyl-1-one, oligo [2-hydroxy-2-methyl- [1- (methylvinyl) phenyl] propanone] and the like.
  • ⁇ -hydroxyalkylphenone photoradical initiator an appropriately synthesized one or a commercially available product may be used.
  • the commercially available products include Irgacure 184 (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, manufactured by BASF), Irgacure 1173 (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, manufactured by BASF), Irgacure 2959 (1 -[4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one (manufactured by BASF), Irgacure 127 (2-hydroxy-1- ⁇ 4- [4- (2-hydroxy-2-methylpropionyl) -benzyl] phenyl ⁇ -2-methyl-1-one (manufactured by BASF), Esacureone (oligo [2-hydroxy-2-methyl- [1- (methylvinyl) phenyl] Propanone], Lamberti) and the like.
  • Examples of the benzyl methyl ketal photo radical initiator include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one.
  • Examples of the benzyl methyl ketal photo radical initiator those appropriately synthesized may be used, or commercially available products may be used. Examples of the commercially available product include Irgacure 651 (2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, manufactured by BASF).
  • 0.1 mass% or more is preferable, 0.1 mass% Is more preferably 2.0% by mass, particularly preferably 0.2% by mass to 1.0% by mass.
  • the photoacid generator is not particularly limited as long as it is a compound that absorbs light and generates an acid, and can be appropriately selected according to the purpose, but an onium salt is preferable.
  • onium salts examples include diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. Among these, iodonium salts and sulfonium salts are preferable from the viewpoint of stability.
  • diazonium salt examples include benzenediazonium hexafluoroantimonate, benzenediazonium hexafluorophosphate, and benzenediazonium hexafluoroborate.
  • iodonium salt examples include diphenyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, diphenyliodonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium hexafluoroantimonate, di (4-nonylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, di (4-t-butyl).
  • sulfonium salt examples include triphenylsulfonium hexafluorophosphate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluoroantimonate, 4 4,4′-bis [diphenylsulfonio] diphenylsulfide bishexafluorophosphate, 4,4′-bis [di ( ⁇ -hydroxyethoxy) phenylsulfonio] diphenylsulfide bishexafluoroantimonate, 4,4′-bis [ Di ( ⁇ -hydroxyethoxy) phenylsulfonio] diphenyl sulfide bishexafluorophosphate, 7- [di (p-toluyl)
  • an appropriately synthesized product or a commercially available product may be used.
  • the commercially available products include CPI-100P, 101A, 200K, 210S (triarylsulfonium salt, manufactured by San Apro Co., Ltd.), Kayalad (registered trademark) PCI-220, PCI-620 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UVI-6990, UVI-6992 (manufactured by Union Carbide), Adekaoptomer SP-150, SP-170 (manufactured by ADEKA Corporation), CI-5102 (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), CIT-1370, 1682 Soda Co., Ltd.), CIP-1866S, 2048S, 2064S (Nippon Soda Co., Ltd.), DPI-101, 102, 103, 105 (Midori Chemical Co., Ltd.), MPI-103, 105 (Midori Chemical Co., Ltd.
  • 0.01 mass% or more is preferable, 0.01 mass% Is more preferably 2.0% by mass, particularly preferably 0.01% by mass to 1.0% by mass.
  • the mass ratio of the photo radical initiator to the photo acid generator is 0.5 to 30, preferably 1.0 to 20. If the mass ratio is less than 0.5, bleeding occurs, and if it exceeds 30, bleeding occurs.
  • the sum of the content of the photoradical initiator and the content of the photoacid generator is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. However, if the content of the photo radical initiator and the photo acid generator is too large, discoloration of the cured product may occur, so 4.0% by mass or less is preferable, and 2.5% by mass or less is more preferable. Preferably, 1.5 mass% or less is especially preferable.
  • the other components are not particularly limited as long as they do not impair the effects of the present invention, and can be appropriately selected according to the purpose.
  • other photoradical initiators plasticizers, tackifiers, sensitization Agents and the like.
  • photoradical initiators include acylphosphine oxide photo radical polymerization initiators and oxime ester photo radical polymerization initiators.
  • acylphosphine oxide-based photoradical polymerization initiator examples include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide (trade name Lucillin TPO, Lucirin is a registered trademark of BASF), bis (2,4,6 -Trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide (trade name Irgacure 819).
  • Examples of the oxime ester-based photoradical polymerization initiator include (2E) -2- (benzoyloxyimino) -1- [4- (phenylthio) phenyl] octan-1-one (trade name Irgacure OXE-01) Is mentioned.
  • the plasticizer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose.
  • the plasticizer component does not have a radical polymerizable group and a cationic polymerizable group in the molecule and is irradiated with ultraviolet rays. Accordingly, a known plasticizer that does not undergo radical polymerization or cationic polymerization can be used.
  • phthalate ester plasticizer phthalate ester plasticizer, phosphate ester plasticizer, adipic acid ester plasticizer, trimellitic acid ester plasticizer, polyester plasticizer, epoxy plasticizer, sebacic acid ester plasticizer, azelaic acid Ester plasticizer, citrate ester plasticizer, glycolic acid plasticizer, ricinoleic acid plasticizer, maleate ester plasticizer, fumarate ester plasticizer, pyromellitic ester plasticizer, itaconate ester A plasticizer, a cyclohexane dicarboxylate type plasticizer, etc. are mentioned.
  • the plasticizer imparts flexibility to the cured product after curing and reduces the shrinkage of curing.
  • the content of the plasticizer in the photocurable resin composition is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, but is preferably 10% by mass to 50% by mass, and more preferably 20% by mass to 40% by mass. % Is more preferable.
  • the tackifier is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include terpene resins (for example, terpene resins, terpene phenol resins, hydrogenated terpene resins), rosin resins (for example, Natural rosin, polymerized rosin, rosin ester, hydrogenated rosin, etc.), petroleum resins (for example, polybutadiene, polyisoprene, etc.). Further, the tackifier may be a material obtained by polymerizing a photo-radically polymerizable (meth) acrylate in advance.
  • terpene resins for example, terpene resins, terpene phenol resins, hydrogenated terpene resins
  • rosin resins for example, Natural rosin, polymerized rosin, rosin ester, hydrogenated rosin, etc.
  • petroleum resins for example, polybutadiene, polyisoprene, etc.
  • the tackifier
  • Examples of such a polymerized material include a copolymer of butyl acrylate, 2-hexyl acrylate, and acrylic acid, a copolymer of cyclohexyl acrylate, and methacrylic acid.
  • the tackifier imparts tackiness to the cured product and increases the adhesive strength.
  • the content of the tackifier in the photocurable resin composition is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, but is preferably 10% by mass to 50% by mass, and more preferably 20% by mass to 40%. The mass% is more preferable.
  • the sensitizer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose.
  • the sensitizer may be a sensitizer that sensitizes the photo radical initiator, or the photo acid generator is sensitized. It may be a sensitizer.
  • sensitizer examples include benzophenone sensitizers, anthracene sensitizers, thioxanthone sensitizers, and carbazole sensitizers.
  • the image display device of the present invention has at least the cured product of the photocurable resin composition of the present invention, preferably has an image display member and a light-transmitting cover member, and, if necessary, other It has the member of.
  • the image display member and the light transmissive cover member are bonded via the cured product of the photocurable resin composition.
  • Image display member examples include a liquid crystal display (LCD) panel, an organic EL display (OLED) panel, an electroluminescent display (ELD) panel, a field emission display (FED) panel, a plasma display (PDP) panel, and the like.
  • LCD liquid crystal display
  • OLED organic EL display
  • ELD electroluminescent display
  • FED field emission display
  • PDP plasma display
  • the light transmissive cover member may be light transmissive so that an image formed on the image display member can be visually recognized.
  • Examples of the material include glass, acrylic resin, polyethylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. Examples include phthalate and polycarbonate.
  • Examples of the shape of the light transmissive cover member include a plate shape.
  • the light-transmitting cover member can be subjected to single-sided or double-sided hard coat treatment, antireflection treatment, or the like. Physical properties such as average thickness and elasticity of the light-transmitting cover member can be appropriately determined according to the purpose of use.
  • the light-transmitting cover member has a light shielding layer at the peripheral edge.
  • the light shielding layer is provided, for example, for improving the brightness, contrast, designability, etc. of the display image.
  • the surface having the light shielding layer faces the image display member.
  • the light shielding layer can be produced, for example, by applying black ink to a predetermined region on the light transmissive cover member and drying it.
  • Examples of the image display device include a television, a notebook personal computer, a tablet personal computer, a car navigation system, a calculator, a mobile phone, a smartphone, an electronic notebook, and a PDA (Personal Digital Assistant).
  • a television a notebook personal computer, a tablet personal computer, a car navigation system, a calculator, a mobile phone, a smartphone, an electronic notebook, and a PDA (Personal Digital Assistant).
  • the manufacturing method of the image display device of the present invention includes at least a coating process, a temporary curing process, a bonding process, and a main curing process, and further includes other processes as necessary.
  • a coating layer is obtained by coating the photocurable resin composition of the present invention on the surface of the light-transmitting cover member having a light-shielding layer at the peripheral portion and having the light-shielding layer. If there is, there is no restriction
  • coating process is a liquid state, for example.
  • Examples of the light transmissive cover member include the light transmissive cover member exemplified in the description of the image display device of the present invention.
  • the photocurable resin composition is also coated on the light shielding layer.
  • it may be applied to the entire surface of the light shielding layer, or may be applied to a part thereof.
  • the photocurable resin composition is applied so that a step formed between the light shielding layer and the light shielding layer forming side surface of the light transmissive cover member is canceled.
  • average thickness of the said application layer is 2.5 of the average thickness of the light shielding layer so that the step formed between the light shielding layer and the light shielding layer forming side surface of the light transmissive cover member is canceled. Double to 40 times are preferable, 2.5 to 10 times are more preferable, and 2.5 to 4.0 times are particularly preferable.
  • the temporary curing step is not particularly limited as long as it is a step in which the coating layer is irradiated with light from the side opposite to the light-transmitting cover member side to temporarily cure the coating layer to obtain a temporary cured layer. Can be appropriately selected according to the purpose.
  • the photocurable resin composition is brought into a state where it does not flow from a liquid state.
  • the handleability is improved.
  • the uniformity of the thickness of the main cured layer obtained by the main curing step is improved.
  • the pre-cured layer may be cured to the extent that it does not flow, and the curing rate (gel fraction) is preferably 90% or more, and more preferably 95% or more.
  • an ultraviolet-ray is preferable and a near-ultraviolet is more preferable.
  • a near-ultraviolet time There is no restriction
  • the device that irradiates near ultraviolet rays include a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a fluorescent chemical lamp, a fluorescent blue lamp, and an LED lamp.
  • the wavelength region of near ultraviolet rays is preferably 300 nm or more and 500 nm or less.
  • the amount of light irradiated to the coating layer in the temporary curing step is, for example, smaller than the amount of light irradiated to the temporary cured layer in the main curing step.
  • the bonding step is not particularly limited as long as it is a step of bonding the temporarily cured layer and the image display member, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, using a known pressure bonding device It can be carried out by applying pressure at 10 to 80 ° C.
  • Examples of the image display member include the light-transmitting cover member exemplified in the description of the image display member of the present invention.
  • the main curing step is not particularly limited as long as it is a step of irradiating the temporary cured layer with light from the light-transmitting cover member side, main curing the temporary cured layer, and obtaining the final cured layer. It can be selected as appropriate according to the conditions.
  • the light irradiated to the said temporary hardening layer in the said main curing process Although it can select suitably according to the objective, An ultraviolet-ray is preferable and a near-ultraviolet is more preferable. There is no restriction
  • the device that irradiates near ultraviolet rays include a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a fluorescent chemical lamp, a fluorescent blue lamp, and an LED lamp.
  • the wavelength region of near ultraviolet rays is preferably 300 nm or more and 500 nm or less.
  • the light source used in the temporary curing step and the light source used in the main curing step may be the same or different.
  • the light transmittance of the obtained hardened layer may be light transmissive so that an image formed on the image display member can be visually recognized.
  • FIG. 1A to 1E are schematic cross-sectional views for explaining an example of a method for manufacturing an image display device of the present invention.
  • a light-transmitting cover member 1 having a light shielding layer 1A formed on the peripheral edge of one side is prepared (FIG. 1A).
  • the step formed between the light shielding layer 1 ⁇ / b> A and the light shielding layer forming side surface of the light transmissive cover member 1 is canceled on the surface of the light transmissive cover member 1 with the liquid photocurable resin composition.
  • the coating layer 2A is formed by coating thicker than the thickness of the light shielding layer 1A (FIG. 1B).
  • the temporarily hardened layer 2B is formed by irradiating the formed coating layer 2A with ultraviolet rays using the light source 100 and temporarily hardening it (FIG. 1C).
  • the light-transmitting cover member 1 is bonded to the image display member 3 from the temporarily cured layer 2B side (FIG. 1D).
  • the hardened layer 2B sandwiched between the image display member 3 and the light-transmitting cover member 1 is finally cured by irradiating with ultraviolet light using the light source 200 to form the hardened layer 2C.
  • the image display member 3 and the light-transmitting cover member 1 are laminated via the light-transmitting hardened layer 2C to obtain an image display device.
  • Photocurable resin compositions having the compositions and contents shown in Table 1-1 to Table 1-7 below were prepared. Specifically, after mixing a radical polymerizable group-containing compound, a cationic polymerizable group-containing compound, a photo radical initiator, a photo acid generator, a sensitizer, and a plasticizer, the mixture was stirred until the solid content was dissolved.
  • the unit of content in Tables 1-1 to 1-7 is parts by mass.
  • Irgacure 1173 BASF Corporation 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one
  • Irgacure 2959 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one by BASF
  • Irgacure 127 BASF Corporation 2-hydroxy-1- ⁇ 4- [4- (2-hydroxy-2-methylpropionyl) -benzyl] phenyl ⁇ -2-methyl-1-one
  • Esacureone Lamberti Oligo [2-hydroxy-2-methyl- [1- (methylvinyl) phenyl] propanone
  • OXE-01 BASF Corporation 1.2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)]
  • ⁇ Bleed test> -Printing and exposure- Printing and exposure were performed using any of the substrates shown in Table 3 below (a glass plate or a PMMA (polymethyl methacrylate) plate) and a light source to prepare a simulated panel.
  • a manufacturing procedure will be described with reference to FIGS. 2A to 2E.
  • a 5-cm square substrate 11 having a light-shielding portion 11A having a width of 3 mm and a thickness of 20 ⁇ m around a point 1 cm from the outer periphery was used (FIG. 2A).
  • the photocurable resin composition was printed on an area 4 cm square from the center of the substrate 11 so that the average thickness was 100 ⁇ m, to obtain a coating layer 12A (FIG. 2B).
  • the first exposure was performed using the light source 100 to obtain a temporarily cured layer 12B (FIG. 2C).
  • a 5 cm square polarizing plate 13 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) is bonded to the temporarily cured layer 12B (FIG. 2D), and from the substrate 1 side, the second exposure is performed using the light source 200, and the main cured layer 12C is formed. Obtained (FIG. 2E).
  • a simulated panel was produced.
  • the photocurable resin composition of the present invention continues to cure even after light irradiation and cure proceeds even in a region where light does not reach directly, it can prevent bleeding due to insufficient curing in a region where light does not reach directly. did it. Further, yellowing did not occur even when the cured product was irradiated with ultraviolet rays for a long time.
  • Comparative Example 1 Although it contains a photoacid generator, it does not contain a photoradical initiator and a cationic polymerization component.
  • Comparative Example 2 Although it contains a photoacid generator and a cationic polymerization component, it does not contain a photoradical initiator.
  • Comparative Example 3 Although it contains a photoacid generator and a cationic polymerization component, the photoradical initiator is not an ⁇ -hydroxyalkylphenone photoradical initiator or a benzylmethyl ketal photoradical initiator.
  • Comparative Example 4 Although it contains a photoacid generator, it does not contain a cationic polymerization component.
  • Comparative Example 5 Does not contain a photoacid generator and a cationic polymerization component.
  • Comparative Example 6 Although containing a photoacid generator and a cationic polymerization component, the mass ratio (A / B) exceeds 30.
  • Comparative Example 7 Although containing a photoacid generator and a cationic polymerization component, the mass ratio (A / B) is less than 0.5.
  • Comparative Examples 8 to 10 Although containing a photoacid generator and a cationic polymerization component, the photoradical initiator is not an ⁇ -hydroxyalkylphenone photoradical initiator or a benzylmethyl ketal photoradical initiator.
  • the photocurable resin composition of the present invention can improve the curability of a region where light does not reach directly and can prevent bleed out of the cured product, a light transmissive cover member having a light shielding layer on the peripheral edge, and an image display It can be used favorably for adhesion to a member.

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Abstract

ラジカル重合性基含有化合物と、カチオン重合性基含有化合物と、光ラジカル開始剤と、光酸発生剤とを含有し、　前記ラジカル重合性基含有化合物の含有量が、前記カチオン重合性基含有化合物の含有量よりも多く、　前記光ラジカル開始剤が、α－ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤、及びベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤の少なくともいずれかであり、　前記光ラジカル開始剤と、前記光酸発生剤との質量比率（光ラジカル開始剤／光酸発生剤）が、０．５～３０である光硬化性樹脂組成物である。

Description

光硬化性樹脂組成物、並びに画像表示装置、及びその製造方法
　本発明は、光硬化性樹脂組成物、並びに画像表示装置、及びその製造方法に関する。
　近年、テレビ、ノートパソコン、タブレットパソコン、カーナビゲーション、電卓、携帯電話、スマートフォン、電子手帳、及びＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ　Ｄｉｇｉｔａｌ　Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）等の各種電子機器である画像表示装置には、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ）、電界発光ディスプレイ（ＥＬＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）、及びプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）などの表示素子が使用されている。
　前記画像表示装置において、前記表示素子を保護するために、板ガラスなどの光透過性カバー部材を前記表示素子に貼り合わせることが行われており、貼合せには光硬化性樹脂組成物が用いられる。
　ここで、一般的な光硬化性樹脂組成物としては、ラジカル重合性成分と、光ラジカル開始剤とを含有する組成物が知られている（例えば、特許文献１～２参照）。更に、ラジカル重合性成分と、カチオン重合性成分と、光ラジカル開始剤と、光酸発生剤とを含有する組成物も提案されている（例えば、特許文献３参照）。
　ところで、光透過性カバー部材の画像表示部側表面の周縁部には、表示画像の輝度、コントラスト、意匠性等の向上のために遮光層が設けられている。そのような遮光層と画像表示部材との間に挟まれた光硬化性樹脂組成物は、硬化の際に光が直接当たらないため、硬化が十分に進行しない。そのために、十分に硬化しなかった成分が滲み出す（ブリードアウト）という不具合が生じる。
　そこで、光硬化性樹脂組成物に熱重合開始剤を配合して熱及び光硬化性樹脂組成物とし、遮光層が形成された光透過性カバー部材の表面に、この熱及び光硬化性樹脂組成物を塗布し、この塗布面を画像表示部材に重ね、紫外線を照射して光硬化させた後に、全体を加熱することにより遮光層と画像表示部材との間に挟まれた熱及び光硬化性樹脂組成物を熱硬化させることが提案されている（例えば、特許文献４参照）。
　しかし、この提案の技術では、熱重合開始剤を含有するために、熱重合プロセスのための設備を要することや、保存安定性が低下するという問題がある。
　したがって、熱重合プロセスを必要とせず、かつ遮光層と画像表示部材との間に挟まれ光が直接届かない領域の硬化性を良好にし、硬化物のブリードアウトを防止できる光硬化性樹脂組成物の提供が求められているのが現状である。
特開２０１５－３４２４０号公報 特開２０００－６７６７７号公報 特開２０００－３３６１２７号公報 国際公開第２００８／１２６８６０号パンフレット
　本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、光が直接届かない領域の硬化性を良好にし、硬化物のブリードアウトを防止できる光硬化性樹脂組成物、前記光硬化性樹脂組成物を用いた画像表示装置、及び前記光硬化性樹脂組成物を用いた画像表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
　前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
　＜１＞　ラジカル重合性基含有化合物と、カチオン重合性基含有化合物と、光ラジカル開始剤と、光酸発生剤とを含有し、
　前記ラジカル重合性基含有化合物の含有量が、前記カチオン重合性基含有化合物の含有量よりも多く、
　前記光ラジカル開始剤が、α－ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤、及びベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤の少なくともいずれかであり、
　前記光ラジカル開始剤と、前記光酸発生剤との質量比率（光ラジカル開始剤／光酸発生剤）が、０．５～３０であることを特徴とする光硬化性樹脂組成物である。
　＜２＞　前記カチオン重合性基含有化合物が、ラジカル重合性基を有する前記＜１＞に記載の光硬化性樹脂組成物である。
　＜３＞　前記カチオン重合性基含有化合物におけるカチオン重合性基が、アルコキシシリル基、及びエポキシ基の少なくともいずれかである前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物である。
　＜４＞　前記光酸発生剤の含有量が、０．０１質量％以上であり、
　前記光ラジカル開始剤の含有量と、前記光酸発生剤の含有量との和（光ラジカル開始剤＋光酸発生剤）が、１．５質量％以下である前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物である。
　＜５＞　更に可塑剤を含有する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物である。
　＜６＞　前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物の硬化物を有することを特徴とする画像表示装置である。
　＜７＞　画像表示部材と、光透過性カバー部材とを有し、
　前記画像表示部材と、前記光透過性カバー部材とが、前記硬化物を介して接着されている前記＜６＞に記載の画像表示装置である。
　＜８＞　前記光透過性カバー部材が、周縁部に遮光層を有し、
　前記光透過性カバー部材において、前記遮光層を有する面が、前記画像表示部材を向いている前記＜７＞に記載の画像表示装置である。
　＜９＞　周縁部に遮光層を有する光透過性カバー部材の前記遮光層を有する側の面に、前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物を塗布し、塗布層を得る塗布工程と、
　前記塗布層に、前記光透過性カバー部材側と反対側から光を照射し、前記塗布層を仮硬化させ、仮硬化層を得る仮硬化工程と、
　前記仮硬化層と、画像表示部材とを貼り合わせる貼合工程と、
　前記光透過性カバー部材側から前記仮硬化層に光を照射し、前記仮硬化層を本硬化させ、本硬化層を得る本硬化工程と、を含むことを特徴とする画像表示装置の製造方法である。
　本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、光が直接届かない領域の硬化性を良好にし、硬化物のブリードアウトを防止できる光硬化性樹脂組成物、前記光硬化性樹脂組成物を用いた画像表示装置、及び前記光硬化性樹脂組成物を用いた画像表示装置の製造方法を提供することができる。
図１Ａは、本発明の画像表示装置の製造方法の一例を説明するための断面模式図である（その１）。 図１Ｂは、本発明の画像表示装置の製造方法の一例を説明するための断面模式図である（その２）。 図１Ｃは、本発明の画像表示装置の製造方法の一例を説明するための断面模式図である（その３）。 図１Ｄは、本発明の画像表示装置の製造方法の一例を説明するための断面模式図である（その４）。 図１Ｅは、本発明の画像表示装置の製造方法の一例を説明するための断面模式図である（その５）。 図２Ａは、実施例における模擬パネルの製造方法を説明するための断面模式図である（その１）。 図２Ｂは、実施例における模擬パネルの製造方法を説明するための断面模式図である（その２）。 図２Ｃは、実施例における模擬パネルの製造方法を説明するための断面模式図である（その３）。 図２Ｄは、実施例における模擬パネルの製造方法を説明するための断面模式図である（その４）。 図２Ｅは、実施例における模擬パネルの製造方法を説明するための断面模式図である（その５）。
（光硬化性樹脂組成物）
　本発明の光硬化性樹脂組成物は、ラジカル重合性基含有化合物と、カチオン重合性基含有化合物と、光ラジカル開始剤と、光酸発生剤とを含有し、更に必要に応じて、その他の成分を含有する。
　前記光ラジカル開始剤は、α－ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤、及びベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤の少なくともいずれかである。
　前記光硬化性樹脂組成物において、前記ラジカル重合性基含有化合物の含有量は、前記カチオン重合性基含有化合物の含有量よりも多い。
　本発明者らは、光が直接届かない領域の硬化性を良好にし、硬化物のブリードアウトを防止できる光硬化性樹脂組成物を提供すべく、鋭意検討を行った。その結果、ラジカル硬化系にカチオン硬化系を併用した光硬化系において、光ラジカル開始剤として、α－ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤、及びベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤の少なくともいずれかを用い、カチオン硬化系の硬化剤として光酸発生剤を用いることにより、光が直接届かない領域の硬化性を良好にし、硬化物のブリードアウトを防止できることを見出し、本発明の完成に至った。
　ここで、本発明者が考える、本発明の効果が得られる推定メカニズムを以下のスキーム１を用いて説明する。以下の例は、光ラジカル開始剤として、α－ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤を用い、光酸発生剤としてオニウム塩を用いた例である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　光硬化性樹脂組成物に光が照射されると、α－ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤が優先的に光を吸収し、カルボニル基と水酸基の炭素-炭素結合が開裂を起こし（α開裂）、ラジカルを生じる。生じたラジカル（Ａ）の一部は、光酸発生剤に電子を移動し、ラジカル（Ａ）は、カチオン（Ｂ）となる。カチオン（Ｂ）は、より安定構造である非イオン性の構造（Ｃ）に転位する。その際、プロトン（Ｈ＋）が生じる。
　プロトンの発生には、光照射からタイムラグが有る。また、プロトンはラジカルに比べて安定であり、プロトンは系内を拡散可能である。そのため、光硬化性樹脂組成物は光照射後においても硬化が継続し、かつ光が直接届かない領域における硬化を可能にする。なお、光照射後の硬化は、カチオン硬化が支配的であると考えられる。
　なお、ベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤は、カルボニル基に隣接するα炭素が水酸基を有しないが、カルボニル基に隣接した結合がα開裂する点で共通している。そのため、ベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤を用いた場合には、α開裂する点は同じであるが、光酸発生剤へ電子が移動した後は、上記スキーム１とは異なるメカニズムによりプロトンを生成するものと考えられる。
＜ラジカル重合性基含有化合物＞
　前記ラジカル重合性基含有化合物（ラジカル重合成分）としては、ラジカル重合性基を有する化合物であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
　前記ラジカル重合性基としては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシ基が挙げられる。
　ここで、（メタ）アクリロイルオキシ基とは、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を意味する。
　前記ラジカル重合性基含有化合物が有するラジカル重合性基は、１つであってもよく、２つ以上であってもよい。
　前記ラジカル重合性基含有化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物、（メタ）アクリル酸とエポキシ化合物とを反応させることにより得られるエポキシ（メタ）アクリレート、イソシアネートに水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
　ここで、（メタ）アクリルとは、アクリル又はメタクリルを意味し、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。
　１つのラジカル重合性基を有する前記ラジカル重合性基含有化合物としては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、２－エトキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ－オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、イミド（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、２－ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２－フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ビシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、２－（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２－（メタ）アクリロイロキシエチル２－ヒドロキシプロピルフタレート、２－（メタ）アクリロイロキシエチルホスフェートなどが挙げられる。
　２つのラジカル重合性基を有する前記ラジカル重合性基含有化合物としては、例えば、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、２－ｎ－ブチル－２－エチル－１，３－プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタジエニルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－（メタ）アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、カーボネートジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエーテルジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエステルジオールジ（メタ）アクリレート、ポリカプロラクトンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリブタジエンジオールジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
　３つ以上のラジカル重合性基を有する前記ラジカル重合性基含有化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェートなどが挙げられる。
　前記ラジカル重合性基含有化合物は、所謂オリゴマーであってもよい。
　前記オリゴマーとしては、例えば、（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられる。
　前記（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、例えば、ポリウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、ポリイソプレン（メタ）アクリレートオリゴマー、ポリブタジエン（メタ）アクリレートオリゴマー、ポリエーテル（メタ）アクリレートオリゴマーなどが挙げられる。更に、以下のアクリル重合体にラジカル重合性基を付与させたものであってもよい。
　アクリル重合体：ブチルアクリレート、２－ヘキシルアクリレート、及びアクリル酸の共重合体や、シクロヘキシルアクリレート、メタクリル酸の共重合体
　前記ポリウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとは、主鎖にポリウレタン骨格を有するポリウレタン系（メタ）アクリレートオリゴマーである。具体例として、日本合成化学工業株式会社製のＵＶ－２０００Ｂ、ＵＶ－２７５０Ｂ、ＵＶ－３０００Ｂ、ＵＶ－３０１０Ｂ、ＵＶ－３２００Ｂ、ＵＶ－３３００Ｂ、ＵＶ－３７００Ｂ、ＵＶ－６６４０Ｂ、ＵＶ－８６３０Ｂ、ＵＶ－７０００Ｂ、ＵＶ－７６１０Ｂ、ＵＶ－１７００Ｂ、ＵＶ－７６３０Ｂ，ＵＶ－６３００Ｂ、ＵＶ－６６４０Ｂ、ＵＶ－７５５０Ｂ、ＵＶ－７６００Ｂ、ＵＶ－７６０５Ｂ、ＵＶ－７６１０Ｂ、ＵＶ－７６３０Ｂ、ＵＶ－７６４０Ｂ、ＵＶ－７６５０Ｂ、ＵＴ－５４４９、ＵＴ－５４５４などが挙げられる。
　前記ポリイソプレン（メタ）アクリレートオリゴマーとは、主鎖にポリイソプレン骨格を有するポリイソプレン系（メタ）アクリレートオリゴマーである。具体例として、ポリイソプレン重合体の無水マレイン酸付加物と２－ヒドロキシエチルメタクリレートとのエステル化物〔ＵＣ１０２（ポリスチレン換算分子量１７０００）、（株）クラレ；ＵＣ２０３（ポリスチレン換算分子量３５０００）、（株）クラレ〕などが挙げられる。
　前記ポリブタジエン（メタ）アクリレートオリゴマーとは、主鎖にポリブタジエン骨格又は水素化ポリブタジエン骨格を有するポリブタジエン系（メタ）アクリレートオリゴマーである。具体例として、ポリブタジエン重合体と２－ヒドロキシエチルメタクリレートとのエステル化物〔ＥＭＡ－３０００（分子量３７００）、日本曹達（株）〕などが挙げられる。
　前記ポリエーテル（メタ）アクリレートオリゴマーとは、主鎖にポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールなどのポリエーテル骨格を有するポリエーテル系（メタ）アクリレートオリゴマーである。具体例として、末端アクリル変性ポリエーテル〔ＵＮ－６２０２（分子量６５００）、根上工業（株）；ＥＢＥＣＲＹＬ２３０（分子量５０００）、ダイセル・オルネクス(株)〕などが挙げられる。
　前記オリゴマーの重量平均分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１，０００～１００，０００が好ましく、２，０００～８０，０００がより好ましく、５，０００～５０，０００が特に好ましい。前記重量平均分子量は、例えば、ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）により測定される。
　前記光硬化性樹脂組成物における前記ラジカル重合性基含有化合物の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０質量％～８０質量％が好ましく、３０質量％～７０質量％がより好ましく、４０質量％～６０質量％が特に好ましい。なお、前記光硬化性樹脂組成物が揮発分（例えば、有機溶剤）を含有する場合、本明細書における含有量は、前記光硬化性樹脂組成物の不揮発分に対する含有量である。
　本明細書において「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。即ち、２０質量％～８０質量％は、２０質量％以上８０質量％以下を意味する。
　前記ラジカル重合性基含有化合物は、前記オリゴマーと、前記オリゴマーよりも低分子量のモノマーとを併用していてもよい。前記モノマーの分子量としては、例えば、１，０００未満が好ましく、５００以下がより好ましい。
　前記ラジカル重合性基含有化合物が、前記オリゴマーと、前記モノマーとを含有する場合、前記光硬化性樹脂組成物における前記オリゴマーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０質量％～７０質量％が好ましく、３０質量％～６０質量％がより好ましい。
　前記ラジカル重合性基含有化合物が、前記オリゴマーと、前記モノマーとを含有する場合、前記光硬化性樹脂組成物における前記モノマーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１質量％～２０質量％が好ましく、３質量％～１５質量％がより好ましい。
＜カチオン重合性基含有化合物＞
　前記カチオン重合性基含有化合物（カチオン重合成分）としては、ブレンステッド酸由来又はルイス酸の作用により生成したプロトン又は炭素カチオンと反応する官能基（カチオン重合性基）を有していれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
　前記カチオン重合性基としては、例えば、アルコキシシリル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、オキセタニル基などが挙げられる。これらの中でも、アルコキシシリル基、及びエポキシ基が好ましい。
　前記アルコキシシリル基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、下記一般式（１）で表される基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 　ただし、一般式（１）中、Ｒ１は、炭素数１～３のアルキル基、及び炭素数１～３のアルコキシ基のいずれかを表す。Ｒ２、及びＲ３は、それぞれ独立して、炭素数１～３のアルキル基を表す。
　前記アルコキシシリル基としては、カチオン重合性に優れる点で、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、ジメトキシメチルシリル基、ジエトキシメチルシリル基が好ましい。
　前記エポキシ基は、脂環式エポキシ基であってもよいし、非脂環式エポキシ基であってもよい。前記エポキシ基としては、例えば、下記一般式（２）、下記一般式（３）で表される基などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 　ただし、一般式（２）中、Ｒ４は、水素原子、及びメチル基のいずれかを表す。
　前記カチオン重合性基含有化合物は、前記光硬化性樹脂組成物中の原材料の相溶性を良好にし、かつ前記光硬化性樹脂組成物の硬化物の相分離を防止できる点で、更にラジカル重合性基を有することが好ましい。
　なお、本発明において、ラジカル重合性基を有する前記カチオン重合性基含有化合物は、前記ラジカル重合性基含有化合物に属するのではなく、前記カチオン重合性基含有化合物に属するものとする。
　前記ラジカル重合性基を有する前記カチオン重合性基含有化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記一般式（２）で表される化合物などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 　ただし、一般式（４）中、Ｒは、水素原子及びメチル基のいずれかを表し、Ｘは、カチオン重合性基を表し、Ｙは、２価の連結基を表す。
　前記Ｘとしては、例えば、前記一般式（１）で表される基、前記一般式（２）で表される基、前記一般式（３）で表される基などが挙げられる。
　前記Ｙとしては、例えば、アルキレン基、アルキレンオキシアルキレン基などが挙げられる。前記アルキレン基としては、例えば、Ｃ１～６アルキレン基などが挙げられる。前記アルキレンオキシアルキレン基としては、例えば、Ｃ１～６アルキレンオキシＣ１～６アルキレン基などが挙げられる。ここで、Ｃ１～６は、炭素数が１～６を表す。
　前記光硬化性樹脂組成物における前記カチオン重合性含有化合物の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．５質量％～３０質量％が好ましく、１質量％～２０質量％がより好ましく、２質量％～１５質量％が特に好ましい。
＜光ラジカル開始剤＞ 
　前記光ラジカル開始剤は、α－ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤、及びベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤の少なくともいずれかである。
　前記α－ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤としては、例えば、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－１－オン、オリゴ［２－ヒドロキシ－２－メチル－［１－（メチルビニル）フェニル］プロパノン］などが挙げられる。
　前記α－ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤としては、適宜合成したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。前記市販品としては、イルガキュア１８４（１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ＢＡＳＦ社製）、イルガキュア１１７３（２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、ＢＡＳＦ社製）、イルガキュア２９５９（１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、ＢＡＳＦ社製）、イルガキュア１２７（２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－１－オン、ＢＡＳＦ社製）、Ｅｓａｃｕｒｅｏｎｅ（オリゴ［２－ヒドロキシ－２－メチル－［１－（メチルビニル）フェニル］プロパノン］、Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製）などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
　前記ベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤としては、例えば、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オンなどが挙げられる。
　前記ベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤としては、適宜合成したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。前記市販品としては、例えば、イルガキュア６５１（２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　前記光硬化性樹脂組成物における前記光ラジカル開始剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１質量％以上が好ましく、０．１質量％～２．０質量％がより好ましく、０．２質量％～１．０質量％が特に好ましい。
＜光酸発生剤＞
　前記光酸発生剤としては、光を吸収して酸を発生する化合物であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、オニウム塩が好ましい。
　前記オニウム塩としては、例えば、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、安定性の点から、ヨードニウム塩、及びスルホニウム塩が好ましい。
　前記ジアゾニウム塩としては、例えば、ベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロボレートなどが挙げられる。
　前記ヨードニウム塩としては、例えば、ジフェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジ（４－ノニルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジ（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジ（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリルクミルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（４－メチルフェニル）［４－（２－メチルプロピル）フェニル］ヨードニウムヘキサフロオロホスフェートなどが挙げられる。
　前記スルホニウム塩としては、例えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフェニル［４－（フェニルチオ）フェニル］スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４，４’－ビス〔ジフェニルスルホニオ〕ジフェニルスルフィドビスヘキサフルオロホスフェート、４，４’－ビス〔ジ（β－ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ〕ジフェニルスルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート、４，４’－ビス〔ジ（β－ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ〕ジフェニルスルフィドビスヘキサフルオロホスフェート、７－〔ジ（ｐ－トルイル）スルホニオ〕－２－イソプロピルチオキサントンヘキサフルオロアンチモネート、７－〔ジ（ｐ－トルイル）スルホニオ〕－２－イソプロピルチオキサントンテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４－フェニルカルボニル－４’－ジフェニルスルホニオ－ジフェニルスルフィドヘキサフルオロホスフェート、４－（ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルカルボニル）－４’－ジフェニルスルホニオ－ジフェニルスルフィドヘキサフルオロアンチモネート、４－（ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルカルボニル）－４’－ジ（ｐ－トルイル）スルホニオ－ジフェニルスルフィドテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフェニル［４－（フェニルチオ）フェニル］スルホニウムのリン酸塩などが挙げられる。
　前記光酸発生剤としては、適宜合成したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。前記市販品としては、例えば、ＣＰＩ－１００Ｐ、１０１Ａ、２００Ｋ、２１０Ｓ（トリアリールスルホニウム塩、サンアプロ株式会社製）、カヤラッド（登録商標）ＰＣＩ－２２０、ＰＣＩ－６２０（日本化薬株式会社製）、ＵＶＩ－６９９０、ＵＶＩ－６９９２（ユニオンカーバイド社製）、アデカオプトマーＳＰ－１５０、ＳＰ－１７０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＣＩ－５１０２（日本曹達株式会社製）、ＣＩＴ－１３７０、１６８２、（日本曹達株式会社製）、ＣＩＰ－１８６６Ｓ、２０４８Ｓ、２０６４Ｓ、（日本曹達株式会社製）、ＤＰＩ－１０１、１０２、１０３、１０５（みどり化学株式会社製）、ＭＰＩ－１０３、１０５（みどり化学株式会社製）、ＢＢＩ－１０１、１０２、１０３、１０５、１０９、２０１（みどり化学株式会社製）、ＴＰＳ－１０１、１０２、１０３、１０５（みどり化学株式会社製）、ＭＤＳ－１０３、１０５（みどり化学株式会社製）、ＤＴＳ－１０２、１０３、２０００（みどり化学株式会社製）、ＰＩ－２０７４（ローディアジャパン株式会社製）、ＷＰＩ－１１３、１１６（和光純薬工業株式会社製）、イルガキュア２５０（ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　前記光硬化性樹脂組成物における前記光酸発生剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０１質量％以上が好ましく、０．０１質量％～２．０質量％がより好ましく、０．０１質量％～１．０質量％が特に好ましい。
　前記光ラジカル開始剤と、前記光酸発生剤との質量比率（光ラジカル開始剤／光酸発生剤）は、０．５～３０であり、１．０～２０が好ましい。前記質量比率が、０．５未満であると、ブリードを生じ、３０を超えても、ブリードを生じる。
　前記光ラジカル開始剤の含有量と、前記光酸発生剤の含有量との和（光ラジカル開始剤＋光酸発生剤）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記光ラジカル開始剤及び前記光酸発生剤の含有量が多すぎると、硬化物の変色が生じる恐れがあることから、４．０質量％以下が好ましく、２．５質量％以下がより好ましく、１．５質量％以下が特に好ましい。
＜その他の成分＞
　前記その他の成分としては、本発明の効果を阻害しない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、その他の光ラジカル開始剤、可塑剤、粘着付与剤、増感剤などが挙げられる。
＜＜その他の光ラジカル開始剤＞＞
　前記その他の光ラジカル開始剤としては、例えば、アシルホスフィンオキサイド系光ラジカル重合開始剤、オキシムエステル系光ラジカル重合開始剤などが挙げられる。
　前記アシルホスフィンオキサイド系光ラジカル重合開始剤としては、例えば、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニルホスフィンオキサイド（商品名ルシリンＴＰＯ、ルシリンはビーエーエスエフ社の登録商標）、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイド（商品名イルガキュア８１９）などが挙げられる。
　前記オキシムエステル系光ラジカル重合開始剤としては、例えば、（２Ｅ）－２－（ベンゾイルオキシイミノ）－１－［４－（フェニルチオ）フェニル］オクタン－１－オン（商品名イルガキュアＯＸＥ－０１）などが挙げられる。
　前記光硬化性樹脂組成物における前記その他の光ラジカル開始剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１質量％以上が好ましく、０．１質量％～２．０質量％がより好ましく、０．２質量％～１．０質量％が特に好ましい。
＜＜可塑剤＞＞
　前記可塑剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、可塑剤成分としては、ラジカル重合性基、及びカチオン重合性基を分子内に持たず、紫外線の照射を受けてラジカル重合及びカチオン重合しない公知の可塑剤を使用することができる。例えば、フタル酸エステル系可塑剤、リン酸エステル系可塑剤、アジピン酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、エポキシ系可塑剤、セバシン酸エステル系可塑剤、アゼライン酸エステル系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、グリコール酸系可塑剤、リシノール酸系可塑剤、マレイン酸エステル系可塑剤、フマル酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸エステル系可塑剤、イタコン酸エステル系可塑剤、及びシクロヘキサンジカルボキシレート系可塑剤などが挙げられる。
　前記可塑剤は、硬化後の硬化物に柔軟性を与え、また硬化収縮率を低減させるものである。
　前記光硬化性樹脂組成物における前記可塑剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０質量％～５０質量％が好ましく、２０質量％～４０質量％がより好ましい。
＜＜粘着付与剤＞＞
　前記粘着付与剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、テルペン系樹脂（例えば、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、水素添加テルペン樹脂など）、ロジン樹脂（例えば、天然ロジン、重合ロジン、ロジンエステル、水素添加ロジンなど）、石油樹脂（例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン等）などが挙げられる。
　また、前記粘着付与剤は、光ラジカル重合性（メタ）アクリレートを予めポリマー化した材料であってもよい。そのようなポリマー化した材料としては、ブチルアクリレート、２－ヘキシルアクリレート、及びアクリル酸の共重合体や、シクロヘキシルアクリレート、及びメタクリル酸の共重合体などが挙げられる。
　前記粘着付与剤は、硬化物にタック性を付与し、接着強度を高める。
　前記光硬化性樹脂組成物における前記粘着付与剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０質量％～５０質量％が好ましく、２０質量％～４０質量％がより好ましい。
＜＜増感剤＞＞
　前記増感剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記光ラジカル開始剤を増感させる増感剤であってもよいし、前記光酸発生剤を増感させる増感剤であってもよい。
　前記増感剤としては、例えば、ベンゾフェノン系増感剤、アントラセン系増感剤、チオキサントン系増感剤、カルバゾール系増感剤などが挙げられる。
（画像表示装置）
　本発明の画像表示装置は、本発明の前記光硬化性樹脂組成物の硬化物を少なくとも有し、好ましくは画像表示部材と、光透過性カバー部材とを有し、更に必要に応じて、その他の部材を有する。
　前記画像表示部材と、前記光透過性カバー部材とは、前記光硬化性樹脂組成物の前記硬化物を介して接着されている。
＜画像表示部材＞
　前記画像表示部材としては、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）パネル、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ）パネル、電界発光ディスプレイ（ＥＬＤ）パネル、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）パネル、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）パネルなどが挙げられる。
＜光透過性カバー部材＞
　前記光透過性カバー部材としては、前記画像表示部材に形成された画像が視認可能となるような光透過性があればよく、その材質としては、例えば、ガラス、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネートなどが挙げられる。
　前記光透過性カバー部材の形状としては、例えば、板状などが挙げられる。
　前記光透過性カバー部材には、片面又は両面ハードコート処理、反射防止処理などを施すことができる。
　前記光透過性カバー部材の平均厚み、弾性等の物性は、使用目的に応じて適宜決定することができる。
　前記光透過性カバー部材は、周縁部に遮光層を有する。前記遮光層は、例えば、表示画像の輝度、コントラスト、意匠性等の向上のために設けられる。その場合、前記光透過性カバー部材において、前記遮光層を有する面は、前記画像表示部材を向いている。
　前記遮光層は、例えば、前記光透過性カバー部材上に黒色インクを所定の領域に塗布し、乾燥させることにより作製することができる。
　前記画像表示装置としては、例えば、テレビ、ノートパソコン、タブレットパソコン、カーナビゲーション、電卓、携帯電話、スマートフォン、電子手帳、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ　Ｄｉｇｉｔａｌ　Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）などが挙げられる。
（画像表示装置の製造方法）
　本発明の画像表示装置の製造方法は、塗布工程と、仮硬化工程と、貼合工程と、本硬化工程とを少なくとも含み、更に必要に応じて、その他の工程を含む。
＜塗布工程＞
　前記塗布工程としては、周縁部に遮光層を有する光透過性カバー部材の前記遮光層を有する側の面に、本発明の前記光硬化性樹脂組成物を塗布し、塗布層を得る塗布工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
　前記塗布工程に供される前記光硬化性樹脂組成物は、例えば、液状である。
　前記光透過性カバー部材としては、例えば、本発明の前記画像表示装置の説明において例示した前記光透過性カバー部材などが挙げられる。
　前記塗布工程において、前記光硬化性樹脂組成物は、前記遮光層上にも塗布されることが好ましい。この場合、前記遮光層の表面の全面に塗布されてもよいし、一部に塗布されてもよい。
　前記塗布工程においては、前記遮光層と前記光透過性カバー部材の遮光層形成側表面とで形成される段差がキャンセルされるように、前記光硬化性樹脂組成物を塗布することが好ましい。
　前記塗布層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記遮光層の平均厚みよりも厚いことが好ましい。
　前記塗布層の平均厚みは、前記遮光層と前記光透過性カバー部材の遮光層形成側表面とで形成される段差がキャンセルされるようにするために、前記遮光層の平均厚みの２．５倍～４０倍が好ましく、２．５倍～１０倍がより好ましく、２．５倍～４．０倍が特に好ましい。
　前記塗布工程における塗布方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
　なお、前記光硬化性樹脂組成物の塗布は、必要な厚みが得られるように複数回行ってもよい。
＜仮硬化工程＞
　前記仮硬化工程としては、前記塗布層に、前記光透過性カバー部材側と反対側から光を照射し、前記塗布層を仮硬化させ、仮硬化層を得る工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
　前記仮硬化工程により、例えば、光硬化性樹脂組成物を液状から流動しない状態にする。そうすることにより、取り扱い性が向上する。また、本硬化工程により得られる本硬化層の厚みの均一性が向上する。
　前記仮硬化層としては、流動しない程度に硬化していればよく、硬化率（ゲル分率）としては、９０％以上が好ましく、９５％以上がより好ましい。
　前記仮硬化工程において前記塗布層に照射する光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、紫外線が好ましく、近紫外線がより好ましい。
　照射時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
　前記近紫外線を照射する装置としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、蛍光ケミカルランプ、蛍光青色ランプ、ＬＥＤランプなどが挙げられる。また、近紫外線の波長領域としては、３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。
　前記仮硬化工程において前記塗布層に照射される光の照射量は、例えば、前記本硬化工程において前記仮硬化層に照射される光の照射量よりも少ない。
＜貼合工程＞
　前記貼合工程としては、前記仮硬化層と、画像表示部材とを貼り合わせる工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、公知の圧着装置を用いて、１０℃～８０℃で加圧することにより行うことができる。
　前記画像表示部材としては、例えば、本発明の前記画像表示部材の説明において例示した前記光透過性カバー部材などが挙げられる。
＜本硬化工程＞
　前記本硬化工程としては、前記光透過性カバー部材側から前記仮硬化層に光を照射し、前記仮硬化層を本硬化させ、本硬化層を得る工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
　前記本硬化工程において前記仮硬化層に照射する光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、紫外線が好ましく、近紫外線がより好ましい。
　照射時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
　前記近紫外線を照射する装置としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、蛍光ケミカルランプ、蛍光青色ランプ、ＬＥＤランプなどが挙げられる。また、近紫外線の波長領域としては、３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。
　前記仮硬化工程において使用する光源と、前記本硬化工程において使用する光源とは同じであってもよいし、異なっていてもよい。
　得られる前記本硬化層の光透過性としては、前記画像表示部材に形成された画像が視認可能となるような光透過性であればよい。
　ここで、本発明の画像表示装置の製造方法の一例を、図を用いて説明する。
　図１Ａ～図１Ｅは、本発明の画像表示装置の製造方法の一例を説明するための断面模式図である。
　まず、片面の周縁部に形成された遮光層１Ａを有する光透過性カバー部材１を用意する（図１Ａ）。
　次に、光透過性カバー部材１の表面に、液状の光硬化性樹脂組成物を、遮光層１Ａと光透過性カバー部材１の遮光層形成側表面とで形成される段差がキャンセルされるように、遮光層１Ａの厚さより厚く塗布し、塗布層２Ａを形成する（図１Ｂ）。
　次に、形成された塗布層２Ａに対し光源１００を用いて紫外線を照射して仮硬化させることにより仮硬化層２Ｂを形成する（図１Ｃ）。
　次に、画像表示部材３に、光透過性カバー部材１を仮硬化層２Ｂ側から貼り合わせる（図１Ｄ）。
　次に、画像表示部材３と光透過性カバー部材１との間に挟持されている仮硬化層２Ｂに対し光源２００を用いて紫外線を照射して本硬化させ、本硬化層２Ｃを形成する。
　これにより、画像表示部材３と光透過性カバー部材１とを光透過性の本硬化層２Ｃを介して積層して画像表示装置を得る。
　以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
（実施例１～２７、及び比較例１～１０）
　下記表１－１～表１－７に示す組成、及び含有量の光硬化性樹脂組成物を調製した。具体的には、ラジカル重合性基含有化合物、カチオン重合性基含有化合物、光ラジカル開始剤、光酸発生剤、増感剤、及び可塑剤を混合した後、固形分が溶解するまで撹拌した。
　なお、表１－１～表１－７中の含有量の単位は、質量部である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
　表１－１～表１－７中の各種材料は以下のとおりである。
＜＜ラジカル重合性基含有化合物＞＞
　・ＵＶ－３７００Ｂ：日本合成化学株式会社
　　　ウレタンアクリレート
　・ＬＡ（ライトアクリレート）：共栄社化学株式会社
　　　ラウリルアアクリレート
　・４ＨＢＡ：日本化成株式会社
　　　４－ヒドロキシブチルアクリレート
＜＜カチオン重合性基含有化合物＞＞
　・ＫＢＭ－５１０３：信越化学工業株式会社
　　　３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　・ＫＢＭ－５０２：信越化学工業株式会社
　　　３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　・ＫＢＭ－５０３：信越化学工業株式会社
　　　３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　・ＫＢＥ－５０２：信越化学工業株式会社
　　　３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　・ＫＢＥ－５０３：信越化学工業株式会社
　　　３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　・４ＨＢＡＧＥ：日本化成株式会社
　　　４－ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　・Ｍ－１００：ダイセル社
　　３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
＜＜光ラジカル開始剤＞＞
　・Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１８４：ＢＡＳＦ社
　　１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
　・Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１１７３：ＢＡＳＦ社
　　２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　・Ｉｒｇａｃｕｒｅ　６５１：ＢＡＳＦ社
　　２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　・Ｉｒｇａｃｕｒｅ　２９５９：ＢＡＳＦ社
　　１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　・Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１２７：ＢＡＳＦ社
　　　２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－１－オン
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　・ｅｓａｃｕｒｅｏｎｅ：Ｌａｍｂｅｒｔｉ社
　　オリゴ［２－ヒドロキシ－２－メチル－［１－（メチルビニル）フェニル］プロパノン
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　・Ｓｐｅｅｄ　Ｃｕｒｅ　ＴＰＯ：Ｌａｍｂｅｒｔｉ社
　　２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニルホスフィンオキサイド
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　・ＯＸＥ－０１：ＢＡＳＦ社
　　１．２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　・ＤＥＴＸ－Ｓ：日本化薬株式会社
　　２，４－ジエチルチオキサントン
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
　・ベンゾフェノン：東京化成工業株式会社
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
＜＜光酸発生剤＞＞
　・ＰＩ－２０７４：ローディアジャパン株式会社
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
　・ＢＢＩ－１０５：みどり化学株式会社
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　・ＢＢＩ－１０９：みどり化学株式会社
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
　・ＢＢＩ－２０１：みどり化学株式会社
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
　・ＤＴＳ－２０００：みどり化学株式会社
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
＜＜増感剤＞＞
　・ベンゾフェノン
　・ｅｓａｃｕｒｅＴＺＴ：Ｌａｍｂｅｒｔｉ社
　　４－メチルベンゾフェノンと２，４，６－トリメチルベンゾフェノンとの混合物
＜＜可塑剤＞
　・Ｈｅｘａｍｏｌｌ　ＤＩＮＣＨ：ＢＡＳＦ社
　　ジイソノニルシクロヘキサン－１，２－ジカルボキシレート
（評価）
　光硬化性樹脂組成物を以下の評価に供した。
＜相溶性＞
　光硬化性樹脂組成物に白濁があるかどうかについて目視で観察し、下記評価基準で評価した。結果を、表２－１～表２－７に示す。
〔評価基準〕
　○：白濁がなかった。
　×：白濁があった。
＜後硬化＞
　得られた光硬化性樹脂組成物についてＵＶレオメーター（ＭＡＲＳ、ＨＡＫＫＥ社製）を用いて、下記測定条件、及び評価基準により後硬化の有無を評価した。結果を、表２－１～表２－７に示す。
－測定条件－
　光源：ＬＥＤ　３６５ｎｍ
　波長３６５ｎｍにおけるＵＶ照度：２００ｍＷ／ｃｍ２
　照射時間：６０秒間
　温度：２５℃
〔評価基準〕
　○：照射終了時から３６０秒間経過後のＧ’の値／照射終了直後のＧ’の値が、１．１０超
　×：照射終了時から３６０秒間経過後のＧ’の値／照射終了直後のＧ’の値が、１．１０以下
　なお、Ｇ’は、貯蔵弾性率を意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000040
　増感剤を含有する光硬化性樹脂組成物（実施例１８、及び実施例１９）については、照射する波長を３６５ｎｍからより長波長側の３８５ｎｍに変えた場合でも、照射する波長が３６５ｎｍの場合と同様に後硬化することが確認できた。
＜ブリード試験＞
－印刷及び露光－
　下記表３に示すいずれかの基板〔ガラス板又はＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）板〕、及び光源を用いて印刷及び露光を行い、模擬パネルを作製した。作製手順を図２Ａ～図２Ｅを用いて説明する。
　外周から１ｃｍの地点を中心に幅３ｍｍ、厚み２０μｍの遮光部１１Ａを有する５ｃｍ四方の基板１１を用いた（図２Ａ）。
　基板１１の中心から４ｃｍ四方に、光硬化性樹脂組成物を平均厚みが１００μｍになるように印刷し、塗布層１２Ａを得た（図２Ｂ）。
　光硬化性樹脂組成物を印刷した面側から、光源１００を用いて１回目の露光を行い、仮硬化層１２Ｂ得た（図２Ｃ）。
　次に、５ｃｍ四方の偏光板１３（住友化学社製）を仮硬化層１２Ｂに貼りあわせ（図２Ｄ）、基板１側から、光源２００を用いて２回目の露光を行い、本硬化層１２Ｃを得た（図２Ｅ）。
　以上により、模擬パネルを作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000041
－評価方法－
　作製した模擬パネルを、９５℃０％ＲＨ下において１００時間保管（保管条件Ａ）し、又は６０℃９０％ＲＨ下において１００時間保管（保管条件Ｂ）し、光硬化性樹脂組成物の硬化物のブリードの有無を目視により観察し、下記評価基準で評価した。結果を表４－１～表４－７に示す。
〔評価基準〕
　○：ブリードがなかった。
　×：ブリードがあった。
＜黄変＞
　作製した前記模擬パネルに対し、紫外線フェードメーター（Ｕ４８、スガ試験機株式会社）を用いて１００時間光照射を行い、光照射後の黄変の有無を目視により観察し、下記評価基準で評価した。結果を表４－１～表４－７に示す。
〔評価基準〕
　○：黄変がなかった。
　×：黄変があった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000042
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000045
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000048
　プロセスｃ、ｄについては、実施例１～２７の光硬化性樹脂組成物を代表して、実施例１９及び２１の光硬化性樹脂組成物について、行った。そのところ、保管条件Ａ及び保管条件Ｂのいずれにおいてもブリードは見られなかった。
　本発明の光硬化性樹脂組成物は、光照射後も硬化が継続し、かつ光が直接届かない領域においても硬化が進行するため、光が直接届かない領域の硬化不足によるブリードを防ぐことができた。また、硬化物に対して、長時間紫外線を照射しても黄変が生じなかった。
　一方、以下の比較例１～１０では、後硬化が生じておらす、かつブリードが生じた。
　比較例１：光酸発生剤を含有するものの、光ラジカル開始剤とカチオン重合成分とを含有しない。
　比較例２：光酸発生剤とカチオン重合成分とを含有するものの、光ラジカル開始剤を含有しない。
　比較例３：光酸発生剤とカチオン重合成分とを含有するものの、光ラジカル開始剤がα－ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤、又はベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤ではない。
　比較例４：光酸発生剤を含有するものの、カチオン重合成分を含有しない。
　比較例５：光酸発生剤とカチオン重合成分とを含有しない。
　比較例６：光酸発生剤と、カチオン重合成分とを含有するものの、質量比率（Ａ／Ｂ）が、３０を超える。
　比較例７：光酸発生剤と、カチオン重合成分とを含有するものの、質量比率（Ａ／Ｂ）が、０．５未満である。
　比較例８～１０：光酸発生剤とカチオン重合成分とを含有するものの、光ラジカル開始剤がα－ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤、又はベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤ではない。
　本発明の光硬化性樹脂組成物は、光が直接届かない領域の硬化性を良好にし、硬化物のブリードアウトを防止できるため、周縁部に遮光層を有する光透過性カバー部材と、画像表示部材との接着に良好に用いることができる。
　　１　　　光透過性カバー部材
　　１Ａ　　遮光層
　　２Ａ　　塗布層
　　２Ｂ　　仮硬化層
　　２Ｃ　　本硬化層
　　３　　　画像表示部材
　　１１　　基板
　　１１Ａ　遮光部
　　１２Ａ　塗布層
　　１２Ｂ　仮硬化層
　　１２Ｃ　本硬化層
　　１３　　偏光板
　　１００　光源
　　２００　光源

 

Claims (9)

  1. 　ラジカル重合性基含有化合物と、カチオン重合性基含有化合物と、光ラジカル開始剤と、光酸発生剤とを含有し、
    　前記ラジカル重合性基含有化合物の含有量が、前記カチオン重合性基含有化合物の含有量よりも多く、
    　前記光ラジカル開始剤が、α－ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤、及びベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤の少なくともいずれかであり、
    　前記光ラジカル開始剤と、前記光酸発生剤との質量比率（光ラジカル開始剤／光酸発生剤）が、０．５～３０であることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。
  2. 　前記カチオン重合性基含有化合物が、ラジカル重合性基を有する請求項１に記載の光硬化性樹脂組成物。
  3. 　前記カチオン重合性基含有化合物におけるカチオン重合性基が、アルコキシシリル基、及びエポキシ基の少なくともいずれかである請求項１から２のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。
  4. 　前記光酸発生剤の含有量が、０．０１質量％以上であり、
    　前記光ラジカル開始剤の含有量と、前記光酸発生剤の含有量との和（光ラジカル開始剤＋光酸発生剤）が、１．５質量％以下である請求項１から３のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。
  5. 　更に可塑剤を含有する請求項１から４のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。
  6. 　請求項１から５のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物の硬化物を有することを特徴とする画像表示装置。
  7. 　画像表示部材と、光透過性カバー部材とを有し、
    　前記画像表示部材と、前記光透過性カバー部材とが、前記硬化物を介して接着されている請求項６に記載の画像表示装置。
  8. 　前記光透過性カバー部材が、周縁部に遮光層を有し、
    　前記光透過性カバー部材において、前記遮光層を有する面が、前記画像表示部材を向いている請求項７に記載の画像表示装置。
  9. 　周縁部に遮光層を有する光透過性カバー部材の前記遮光層を有する側の面に、請求項１から５のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物を塗布し、塗布層を得る塗布工程と、
    　前記塗布層に、前記光透過性カバー部材側と反対側から光を照射し、前記塗布層を仮硬化させ、仮硬化層を得る仮硬化工程と、
    　前記仮硬化層と、画像表示部材とを貼り合わせる貼合工程と、
    　前記光透過性カバー部材側から前記仮硬化層に光を照射し、前記仮硬化層を本硬化させ、本硬化層を得る本硬化工程と、を含むことを特徴とする画像表示装置の製造方法。

     
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