WO2017065094A1 - 多層基板 - Google Patents

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直樹 郷地
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株式会社村田製作所
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Definitions

  • the present invention relates to a multilayer substrate formed by laminating a plurality of insulator layers.
  • FIG. 7 is an exploded view of the flexible substrate 510 described in Patent Document 1. As shown in FIG.
  • the flexible substrate 510 includes a dielectric body 512, a signal line 520, and ground conductors 522 and 524.
  • the dielectric body 512 is configured by laminating dielectric sheets 518a to 518c in this order from the upper side to the lower side.
  • the signal line 520 is provided on the surface of the dielectric sheet 518b.
  • the ground conductor 522 is provided on the surface of the dielectric sheet 518a.
  • the ground conductor 524 is provided on the back surface of the dielectric sheet 518c.
  • the inventor of the present invention in the flexible substrate having the microstrip line structure as described above, when an external force is applied to the flexible substrate or when the temperature of the flexible substrate changes, the dielectric sheet 518b and the dielectric sheet 518c. It was discovered that delamination is likely to occur at the boundary.
  • an object of the present invention is to provide a multilayer substrate that can suppress the occurrence of delamination.
  • a multilayer substrate includes a first insulator layer having a first main surface and a second main surface, and a second insulator layer having a third main surface and a fourth main surface.
  • a plurality of insulator layers including at least a plurality of insulator layers in a stacking direction, and including a flexible element body, a first conductor layer, and a second conductor layer.
  • the second main surface and the third main surface are in contact with each other, and no planar or linear conductor layer is provided on the second main surface and the third main surface.
  • the first conductor layer is provided on the first main surface
  • the second conductor layer is provided on the fourth main surface
  • the plurality of insulator layers are the first insulator.
  • the one or more other insulator layers are not provided with a conductor layer, and the first main layer is not provided. Face face The ratio of the area of the first conductor layer to the first conductor layer is smaller than the ratio of the area of the second conductor layer to the area of the fourth main surface, and the thickness of the first insulator layer is the second It is smaller than the thickness of the insulator layer.
  • the occurrence of delamination of the multilayer substrate can be suppressed.
  • FIG. 1 is an external perspective view of a multilayer substrate 10 according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is an exploded perspective view of the multilayer substrate 10 according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a cross-sectional structural view taken along line AA in FIG.
  • FIG. 4 is an explanatory diagram when the multilayer substrate 10 is bent.
  • FIG. 5 is a diagram in which a part of the electronic device 50 using the multilayer substrate 10 is extracted.
  • FIG. 6A is a cross-sectional structure diagram of the multilayer substrate 10 when the surface is bent so as to protrude upward.
  • FIG. 6B is a cross-sectional structure diagram of the multilayer substrate 10 when the surface is bent so as to protrude downward.
  • FIG. 6C is a cross-sectional structure view and an enlarged view of a multilayer substrate 10a according to a modification.
  • FIG. 6D is a process cross-sectional view at the time of manufacturing the multilayer substrate 10a.
  • FIG. 6E is a process cross-sectional view at the time of manufacturing the multilayer substrate 10a.
  • FIG. 6F is a cross-sectional structure diagram of the vicinity of the right end of the multilayer substrate 10a and the connector 100b.
  • FIG. 7 is an exploded view of the flexible substrate 510 described in Patent Document 1. As shown in FIG.
  • FIG. 1 is an external perspective view of a multilayer substrate 10 according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is an exploded perspective view of the multilayer substrate 10 according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a cross-sectional structural view taken along line AA in FIG.
  • the stacking direction of the multilayer substrate 10 is defined as the vertical direction.
  • the direction in which the multilayer substrate 10 extends is defined as the left-right direction
  • the vertical direction and the direction orthogonal to the left-right direction are defined as the front-rear direction.
  • the up-down direction, the left-right direction, and the front-rear direction are orthogonal to each other.
  • the multilayer substrate 10 is provided in an electronic device such as a mobile phone, and is, for example, a signal line that connects two circuit boards.
  • the multilayer substrate 10 is a flexible substrate having a belt-like shape having a front surface and a back surface.
  • the element body 12 As shown in FIGS. 1 and 2, the element body 12, the signal line conductor layers 18a and 18b, the ground conductor layers 20a, 20b, and 22 and via holes.
  • Conductors v1 to v4 are provided.
  • FIG. 2 for the via-hole conductors v1 to v4, only representative via-hole conductors are given reference numerals.
  • the element body 12 has a belt-like shape extending in the left-right direction and has flexibility.
  • the element body 12 includes a protective layer 15a, insulating sheets 16a and 16b, and a protective layer 15b (an example of a plurality of insulating layers) stacked in this order from the upper side to the lower side.
  • a protective layer 15a an example of a plurality of insulating layers
  • the upper main surface of the element body 12 is referred to as a front surface
  • the lower main surface of the element body 12 is referred to as a back surface.
  • the insulator sheets 16a and 16b (an example of the first insulator layer and the second insulator layer) have a strip shape extending in the left-right direction when viewed from above, and have the same shape as the element body 12 I am doing.
  • the insulator sheets 16a and 16b are insulator layers made of a flexible thermoplastic resin such as polyimide or liquid crystal polymer. As shown in FIG. 3, the thickness d1 of the insulator sheet 16a is smaller than the thickness d2 of the insulator sheet 16b.
  • the insulator sheet 16a has an upper main surface (an example of a first main surface) and a lower main surface (an example of a second main surface).
  • the insulator sheet 16b has an upper main surface (an example of a third main surface) and a lower main surface (an example of a fourth main surface).
  • the upper main surface of the insulator sheets 16a and 16b is referred to as a front surface
  • the lower main surface of the insulator sheets 16a and 16b is referred to as a back surface.
  • the back surface of the insulator sheet 16a and the surface of the insulator sheet 16b are in contact with each other.
  • the back surface of the insulator sheet 16a and the surface of the insulator sheet 16b are welded.
  • the welding means that the back surface of the insulator sheet 16a and the surface of the insulator sheet 16b are integrated by being melted by heating and then solidified by cooling.
  • a planar or linear conductor layer such as a ground conductor layer or a signal line conductor layer is not provided on the back surface of the insulator sheet 16a and the surface of the insulator sheet 16b.
  • the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are provided on the surface of the insulator sheet 16a as shown in FIGS.
  • the ground conductor layer 20a, the signal line conductor layers 18a and 18b, and the ground conductor layer 20b are linear conductor layers extending in the left-right direction, and are arranged in this order from the back side to the front side. Therefore, the direction in which the element body 12 extends is the same as the direction in which the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b extend.
  • the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are provided on the surface of the insulator sheet 16a.
  • the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are provided on the surface of the insulator sheet 16a.
  • the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are the surface of the insulator sheet 16a. It means that it is fixed to. Further, the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are fixed.
  • the metal foil formed by plating on the surface of the insulator sheet 16a is patterned to form the signal line conductor layers 18a and 18b and The ground conductor layers 20a and 20b are formed, and the metal foil attached to the surface of the insulator sheet 16a is patterned to form the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b. This means that the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are hardly separated from the surface of the insulator sheet 16a by the anchor effect.
  • the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are smoothed, the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are in contact with the insulator sheet 16a.
  • the surface roughness of the contact surface is larger than the surface roughness of the surface where the signal line conductor layers 18a, 18b and the ground conductor layers 20a, 20b are not in contact with the insulator sheet 16a.
  • the ground conductor layer 22 (an example of the second conductor layer) is provided on the back surface of the insulator sheet 16b as shown in FIG.
  • the ground conductor layer 22 is a planar conductor layer extending in the left-right direction and covers most of the back surface of the insulator sheet 16b. Thereby, the ground conductor layer 22 overlaps with the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b when viewed from above.
  • the ground conductor layer 22 is provided on the back surface of the insulator sheet 16b in the same manner that the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are provided on the surface of the insulator sheet 16a. Since there is, description is abbreviate
  • the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b cover a part of the surface of the insulator sheet 16a, and the ground conductor layer 22 covers most of the back surface of the insulator sheet 16b. Yes. Therefore, the ratio of the area of the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b to the area of the surface of the insulator sheet 16a is larger than the ratio of the area of the ground conductor layer 22 to the area of the back surface of the insulator sheet 16b. small.
  • the signal line conductor layers 18a, 18b and the ground conductor layers 20a, 20b, 22 as described above are made of a metal foil such as a copper foil.
  • the plurality of via-hole conductors v1 (an example of the first via-hole conductor) penetrates the insulator sheet 16a in the vertical direction.
  • the plurality of via-hole conductors v2 (an example of the second via-hole conductor) penetrates the insulating sheet 16b in the vertical direction.
  • the via-hole conductors v1 and v2 constitute a single via-hole conductor by being connected to each other, and connect the ground conductor layer 20a and the ground conductor layer 22.
  • the plurality of via-hole conductors v1 and v2 are arranged in a line in the left-right direction at equal intervals.
  • the plurality of via-hole conductors v3 (an example of the first via-hole conductor) penetrates the insulating sheet 16a in the vertical direction.
  • a plurality of via-hole conductors v4 (an example of a second via-hole conductor) penetrates the insulating sheet 16b in the vertical direction.
  • the via-hole conductors v3 and v4 constitute one via-hole conductor by being connected to each other, and connect the ground conductor layer 20b and the ground conductor layer 22.
  • the plurality of via-hole conductors v3, v4 are arranged in a line in the left-right direction at equal intervals.
  • the plurality of via-hole conductors v1 to v4 as described above are formed, for example, by sintering a Cu—Sn based conductive paste.
  • the protective layer 15a (an example of another insulator layer) is an insulator layer that covers most of the surface of the insulator sheet 16a. However, the protective layer 15a does not cover the vicinity of the left end and the vicinity of the right end of the insulating sheet 16a. Thereby, both ends of the signal line conductor layers 18a and 18b and both ends of the ground conductor layers 20a and 20b are exposed to the outside of the element body 12, and function as external electrodes for connection with the connector.
  • the protective layer 15a is made of a resin such as an epoxy resin.
  • the protective layer 15b (an example of another insulator layer) is an insulator layer covering the entire back surface of the insulator sheet 16b.
  • the protective layer 15b is made of a resin such as an epoxy resin.
  • the ground conductor layer 22 is not fixed to the protective layer 15b or is weaker than the back surface of the insulating sheet 16b and fixed to the protective layer 15b.
  • the protective layers 15a and 15b include conductor layers constituting circuit elements such as inductors and capacitors, conductor layers such as wiring and ground conductors, and interlayers such as via-hole conductors. This means that no connection conductor is provided.
  • the protective layers 15a and 15b may be provided with a conductor layer that is not meaningful in terms of an electric circuit, such as a direction identification mark.
  • the elastic modulus of the material constituting the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a, 20b and 22 is different from the elastic modulus of the material constituting the insulator sheets 16a and 16b and the protective layers 15a and 15b.
  • the signal line conductor layers 18a, 18b and the ground conductor layers 20a, 20b, 22 are made of copper
  • the insulator sheets 16a, 16b are made of liquid crystal polymer
  • the protective layers 15a, 15b are made of materials. It is an epoxy resin.
  • the elastic modulus of the material of the signal line conductor layers 18a, 18b and the ground conductor layers 20a, 20b, 22 is larger than the elastic modulus of the material constituting the insulator sheets 16a, 16b and the protective layers 15a, 15b.
  • the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a, 20b, and 22 are less likely to be deformed than the insulator sheets 16a and 16b and the protective layers 15a and 15b.
  • the linear expansion coefficient of the material constituting the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a, 20b and 22 is different from the linear expansion coefficient of the material constituting the insulator sheets 16a and 16b and the protective layers 15a and 15b.
  • the linear expansion coefficients of the materials of the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a, 20b, and 22 are based on the linear expansion coefficients of the materials constituting the insulator sheets 16a and 16b and the protective layers 15a and 15b. Is also small.
  • the multilayer substrate 10 configured as described above is used, for example, when two circuit boards are connected in an electronic device.
  • FIG. 4 is an explanatory diagram when the multilayer substrate 10 is bent.
  • FIG. 5 is a diagram in which a part of the electronic device 50 using the multilayer substrate 10 is extracted.
  • the multilayer substrate 10 is used after being bent as shown in FIGS. More specifically, the multilayer substrate 10 has a crank shape in which the surface is valley-folded and the surface is mountain-folded in the vicinity of the center in the left-right direction.
  • the multilayer substrate 10 is sandwiched from both the upper and lower sides by tools T1 and T2 having steps. At this time, the multilayer substrate 10 is heated and cooled by a heating means such as a heater built in the tools T1 and T2. Thereby, the multilayer substrate 10 is plastically deformed, and the multilayer substrate 10 is bent.
  • the electronic device 50 includes circuit boards 200a and 200b and connectors 100a and 100b.
  • the circuit board 200b is provided on the right side of the circuit board 200a.
  • the upper main surface of the circuit board 200b is located above the upper main surface of the circuit board 200a.
  • the connectors 100a and 100b are mounted on the upper main surfaces of the circuit boards 200a and 200b, respectively.
  • the multilayer substrate 10 and the connector 100a are electrically connected by inserting the left end of the multilayer substrate 10 into the connector 100a, and the multilayer substrate is inserted by inserting the right end of the multilayer substrate 10 into the connector 100b. 10 and the connector 100b are electrically connected.
  • the multilayer substrate 10 is plastically deformed into a bent shape and further has flexibility. Therefore, the multilayer substrate 10 can connect two connectors 100a and 100b located at different heights.
  • digital signals are transmitted to the signal line conductor layers 18a and 18b.
  • the signal line conductor layers 18a and 18b are used as differential transmission lines.
  • Multilayer substrate manufacturing method Below, the manufacturing method of the multilayer substrate 10 is demonstrated, referring drawings.
  • a case where one multilayer substrate 10 is manufactured will be described as an example, but actually, a plurality of multilayer substrates 10 are manufactured simultaneously by laminating and cutting large-sized insulator sheets.
  • insulator sheets 16a and 16b made of a thermoplastic resin such as a liquid crystal polymer are prepared.
  • a copper foil is formed on the entire main surface of one of the insulator sheets 16a and 16b.
  • a copper foil is attached to each of the front surface of the insulator sheet 16a and the back surface of the insulator sheet 16b.
  • the surface of the copper foil of the insulator sheets 16a and 16b is smoothed by applying, for example, zinc plating for rust prevention.
  • metal foils other than copper foil may be used.
  • the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are formed on the surface of the insulator sheet 16a as shown in FIG. Form on top.
  • a resist having the same shape as the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b shown in FIG. 2 is printed on the copper foil on the surface of the insulator sheet 16a.
  • the copper foil of the part which is not covered with the resist is removed by performing an etching process with respect to copper foil. Thereafter, the resist is removed by spraying a cleaning liquid (resist removing liquid).
  • a cleaning liquid resist removing liquid
  • the ground conductor layer 22 is formed on the back surface of the insulator sheet 16b. Since the formation process of the ground conductor layer 22 is the same as the formation process of the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b, description thereof is omitted.
  • a laser beam is irradiated from the back surface of the insulating sheet 16a and the surface of the insulating sheet 16b to the positions where the via-hole conductors v1 to v4 are formed in the insulating sheets 16a and 16b to form through holes. Further, the through-hole is filled with a Cu—Sn based conductive paste.
  • the insulating sheets 16a and 16b are laminated and pressure-bonded. Specifically, after the insulating sheets 16a and 16b are stacked, the insulating sheets 16a and 16b are subjected to pressure treatment and heat treatment (that is, thermocompression bonding). The pressurizing process is performed by sandwiching the insulator sheets 16a and 16b from above and below. By applying pressure treatment and heat treatment to the insulating sheets 16a and 16b, the insulating sheets 16a and 16b are softened and the conductive paste in the through holes is solidified. Thereby, the insulator sheets 16a and 16b are joined, and the via-hole conductors v1 to v4 are formed.
  • pressure treatment and heat treatment that is, thermocompression bonding
  • a protective layer 15a, 15b is formed by applying a resin (resist) paste to each of the front surface of the insulating sheet 16a and the back surface of the insulating sheet 16b by screen printing.
  • the multilayer substrate 10 is completed through the above steps.
  • FIG. 6A is a cross-sectional structure diagram of the multilayer substrate 10 when the surface is bent so as to protrude upward.
  • FIG. 6B is a cross-sectional structure diagram of the multilayer substrate 10 when the surface is bent so as to protrude downward.
  • the multilayer substrate 10 may be bent as shown in FIGS. 6A and 6B.
  • FIGS. 6A and 6B a case where the surface of the multilayer substrate 10 is bent so as to protrude upward as shown in FIG. 6A will be described as an example.
  • the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a, 20b, and 22 are curved so as to protrude upward.
  • the elastic modulus of the material of the signal line conductor layers 18a, 18b and the ground conductor layers 20a, 20b, 22 is larger than the elastic modulus of the material of the insulator sheets 16a, 16b.
  • the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a, 20b, and 22 are less likely to be deformed than the insulator sheets 16a and 16b. Therefore, at the interface ⁇ between the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b and the insulator sheet 16a, a large force F1 from the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b to the insulator sheet 16a. Will be added. The force F1 becomes weaker as it moves away from the interface ⁇ . Similarly, a large force F2 is applied from the ground conductor layer 22 to the insulator sheet 16b at the interface ⁇ between the ground conductor layer 22 and the insulator sheet 16b. The force F2 becomes weaker as the distance from the interface ⁇ increases.
  • the ratio of the area of the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b to the area of the surface of the insulator sheet 16a is based on the ratio of the area of the ground conductor layer 22 to the area of the back surface of the insulator sheet 16b. Is also small. Accordingly, the force F1 is smaller than the force F2. Therefore, a greater force is generated in the lower half regions of the insulator sheets 16a and 16b than in the upper half regions of the insulator sheets 16a and 16b.
  • the thickness d1 of the insulator sheet 16a is smaller than the thickness d2 of the insulator sheet 16b.
  • the boundary between the insulator sheet 16a and the insulator sheet 16b is located in the upper half of the insulator sheets 16a and 16b, and is less likely to receive a large force.
  • the occurrence of delamination at the boundary between the insulator sheet 16a and the insulator sheet 16b is suppressed. 6B, even when the surface of the multilayer substrate 10 is bent so as to protrude downward, the same can be said as when the surface of the multilayer substrate 10 is bent so as to protrude upward.
  • the multilayer substrate 10 it is possible to suppress the occurrence of delamination at the boundary between the insulator sheet 16a and the insulator sheet 16b for the following reason.
  • the linear expansion coefficient of the material constituting the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a, 20b and 22 and the linear expansion coefficient of the material constituting the insulator sheets 16a and 16b and the protective layers 15a and 15b. is different.
  • the linear expansion coefficient of the material constituting the signal line conductor layers 18a, 18b and the ground conductor layers 20a, 20b, 22 is larger than the linear expansion coefficient of the material constituting the insulator sheets 16a, 16b and the protective layers 15a, 15b. The case where it is small will be described as an example.
  • the signal line conductor layers 18a and 18b, the ground conductor layers 20a, 20b, and 22, the insulator sheets 16a and 16b, and the protective layers 15a and 15b are stretched. .
  • the linear expansion coefficient of the material constituting the signal line conductor layers 18a, 18b and the ground conductor layers 20a, 20b, 22 is smaller than the linear expansion coefficient of the material constituting the insulator sheets 16a, 16b and the protective layers 15a, 15b. Therefore, the extension amounts of the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a, 20b, and 22 are smaller than the extension amounts of the insulator sheets 16a and 16b and the protective layers 15a and 15b.
  • the ratio of the area of the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b to the area of the surface of the insulator sheet 16a is larger than the ratio of the area of the ground conductor layer 22 to the area of the back surface of the insulator sheet 16b. small. Therefore, the restraining force that the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b prevent the surface of the insulator sheet 16a from extending is the restraining force that the ground conductor layer 22 prevents the back surface of the insulator sheet 16b from extending. Smaller than. Therefore, the elongation amount of the insulator sheet 16b is smaller than the elongation amount of the insulator sheet 16a. As a result, the multilayer substrate 10 is curved so that the surface protrudes upward as shown in FIG. 6A.
  • a large force F3 is applied to the insulator sheet 16a from the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b at the interface ⁇ , and at the interface ⁇ , the ground A large force F4 is applied from the conductor layer 22 to the insulating sheet 16b.
  • the ratio of the area of the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b to the area of the surface of the insulator sheet 16a is based on the ratio of the area of the ground conductor layer 22 to the area of the back surface of the insulator sheet 16b. Is also small. Accordingly, the force F3 is smaller than the force F4. Therefore, a greater force is generated in the lower half regions of the insulator sheets 16a and 16b than in the upper half regions of the insulator sheets 16a and 16b.
  • the thickness d1 of the insulator sheet 16a is smaller than the thickness d2 of the insulator sheet 16b.
  • the boundary between the insulator sheet 16a and the insulator sheet 16b is located in the upper half of the insulator sheets 16a and 16b, and is less likely to receive a large force.
  • the occurrence of delamination at the boundary between the insulator sheet 16a and the insulator sheet 16b is suppressed.
  • the linear expansion coefficient of the material which comprises the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a, 20b and 22 is larger than the linear expansion coefficient of the material which comprises the insulator sheets 16a and 16b and the protective layers 15a and 15b.
  • the multilayer substrate 10 is curved so that the surface protrudes downward.
  • the linear expansion coefficient of the material constituting the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a, 20b, and 22 is greater than the linear expansion coefficient of the material constituting the insulator sheets 16a and 16b and the protective layers 15a and 15b.
  • the via-hole conductors v1 to v4 can be used as interlayer connection conductors connecting the ground conductor layers 20a and 20b and the ground conductor layer 22. More specifically, in the multilayer substrate 10, it is conceivable to use a single-layer insulator sheet instead of using the two-layer insulator sheets 16a and 16b.
  • a multilayer substrate using a single-layer insulator sheet is referred to as a multilayer substrate according to a comparative example.
  • the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are provided on the surface of the single insulator sheet, and the ground conductor layer 22 is provided on the back surface of the single insulator sheet. It is done. Then, the ground conductor layers 20a and 20b and the ground conductor layer 22 are connected by an interlayer connection conductor that penetrates the single insulating sheet in the vertical direction.
  • the multilayer substrate according to the comparative example it is difficult to use a via-hole conductor as an interlayer connection conductor, and it is necessary to use a through-hole conductor. More specifically, in the multilayer substrate according to the comparative example, metal foils are provided on both surfaces of the insulator sheet. Therefore, when forming the via-hole conductor, the insulator sheet is irradiated with a laser beam to form a through hole that penetrates one metal foil and the insulator layer and does not penetrate the other metal foil. Then, the through-hole is filled with a conductive paste. For this reason, it is difficult to adjust the intensity of the laser beam. Specifically, if the intensity of the laser beam is too strong, the through hole penetrates the other metal foil. In this case, the conductive paste leaks from the through hole. On the other hand, if the intensity of the laser beam is too weak, the through hole does not penetrate the insulator sheet. In this case, connection failure occurs between the via-hole conductor and the metal foil.
  • the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are provided on the surface of the insulator sheet 16a, and the ground conductor layer 22 is provided on the back surface of the insulator sheet 16b.
  • the via-hole conductors v1 to v4 can be used as interlayer connection conductors connecting the ground conductor layers 20a and 20b and the ground conductor layer 22.
  • FIG. 6C is a cross-sectional structure view and an enlarged view of a multilayer substrate 10a according to a modification.
  • FIG. 6C corresponds to a cross-sectional structure diagram along AA in FIG.
  • the multilayer substrate 10a has the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b partially embedded in the insulator sheet 16a, and the ground conductor layer 22 partially embedded in the insulator sheet 16b. This is different from the multilayer substrate 10.
  • the multilayer substrate 10 will be described with a focus on the following differences. Further, in FIG. 3, the difference between the surface roughness of the upper surface and the surface roughness of the lower surface of the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a, 20b, and 22 is not expressed. On the other hand, in FIG. 6C, the difference between the surface roughness of the upper surface and the surface roughness of the lower surface of the signal line conductor layers 18a, 18b and the ground conductor layers 20a, 20b, 22 is expressed.
  • the vicinity of the lower surfaces of the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are buried in the insulator sheet 16a. More specifically, the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are buried in the insulator sheet 16a by a thickness of D2, and protrude upward from the insulator sheet 16a by a thickness of D1. A relationship of D1 ⁇ D2 is established between D1 and D2.
  • the vicinity of the upper surface of the ground conductor layer 22 is buried in the insulator sheet 16b. More specifically, the ground conductor layer 22 is buried in the insulator sheet 16b by the thickness of D2, and protrudes upward from the insulator sheet 16b by the thickness of D1. A relationship of D1 ⁇ D2 is established between D1 and D2. Since the other structure of the multilayer substrate 10a is the same as that of the multilayer substrate 10, the description thereof is omitted.
  • 6D and 6E are process cross-sectional views when manufacturing the multilayer substrate 10a.
  • the manufacturing method of the multilayer substrate 10a it is the same as the manufacturing method of the multilayer substrate 10 except the crimping
  • the insulator sheets 16a and 16b are laminated.
  • the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are not buried in the insulator sheet 16a but are located on the surface of the insulator sheet 16a.
  • the ground conductor layer 22 is not buried in the insulator sheet 16b and is located on the back surface of the insulator sheet 16b.
  • the insulating sheets 16a and 16b are subjected to pressure treatment and heat treatment (that is, thermocompression bonding).
  • thermocompression bonding is performed by pressing the mold with a force larger than that at the time of manufacturing the multilayer substrate 10. Accordingly, the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are pushed into the insulator sheet 16a and buried in the insulator sheet 16a. Similarly, the ground conductor layer 22 is pushed into the insulator sheet 16b and buried in the insulator sheet 16b.
  • the multilayer substrate 10 a configured as described above can achieve the same effects as the multilayer substrate 10.
  • the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are buried in the insulator sheet 16a, the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are peeled from the insulator sheet 16a. It is suppressed.
  • the ground conductor layer 22 is buried in the insulator sheet 16b, the ground conductor layer 22 is suppressed from peeling from the insulator sheet 16b.
  • the relationship of D1 ⁇ D2 is established.
  • the amount buried in the insulator sheet 16a is larger than the amount not buried in the insulator sheet 16a. Thereby, peeling of the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b is more effectively suppressed.
  • the amount embedded in the insulator sheet 16b is larger than the amount not embedded in the insulator sheet 16b. Thereby, peeling of the ground conductor layer 22 is more effectively suppressed.
  • the choice of the material of the protective layer 15a spreads. More specifically, in the multilayer substrate 10, the protective layer 15a exists between the signal line conductor layer 18a and the signal line conductor layer 18b. On the other hand, in the multilayer substrate 10a, the protective layer 15a and the insulator sheet 16a exist between the signal line conductor layer 18a and the signal line conductor layer 18b. As the material for the insulator sheet 16a, a material having a relatively low relative dielectric constant such as a liquid crystal polymer is used. Therefore, the relative dielectric constant between the signal line conductor layer 18 a and the signal line conductor layer 18 b is lower in the multilayer substrate 10 a than in the multilayer substrate 10.
  • the capacitance between the signal line conductor layer 18 a and the signal line conductor layer 18 b is smaller in the multilayer substrate 10 a than in the multilayer substrate 10. Therefore, the relative dielectric constant of the protective layer 15a of the multilayer substrate 10a may be higher than the relative dielectric constant of the protective layer 15a of the multilayer substrate 10.
  • the capacitance between the signal line conductor layer 18a and the signal line conductor layer 18b is preferably small, the relative dielectric constant of the protective layer 15a of the multilayer substrate 10a is equal to the relative dielectric constant of the protective layer 15 of the multilayer substrate 10. May be. That is, in the multilayer substrate 10a, the degree of freedom of the relative dielectric constant of the protective layer 15a is increased. As a result, in the multilayer substrate 10a, options for the material of the protective layer 15a are expanded.
  • FIG. 6F is a cross-sectional structure diagram of the vicinity of the right end of the multilayer substrate 10a and the connector 100b.
  • the right end of the multilayer board 10a is inserted into the recess of the connector 100b.
  • a terminal 300 is provided in the recess of the connector 100b. The terminal 300 contacts the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b from above.
  • the terminal 300 may be caught at a step.
  • part of the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are buried in the insulator sheet 16a. Therefore, the level difference between the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b and the upper surface of the insulator sheet 16a is reduced.
  • the terminal 300 is suppressed from being caught at the step, and the multilayer substrate 10a can be smoothly inserted into the connector 100b. Further, when the terminal 300 is restrained from being caught at the step, the force received by the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b from the terminal 300 when the multilayer substrate 10a is inserted is reduced. As a result, separation of the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b from the insulator sheet 16a is suppressed. Note that the case where the multilayer substrate 10a is inserted into the connector 100a is the same as the case where the multilayer substrate 10a is inserted into the connector 100b, and a description thereof will be omitted.
  • the multilayer substrate according to the present invention is not limited to the multilayer substrates 10 and 10a, and can be changed within the scope of the gist thereof.
  • the configurations of the multilayer substrates 10 and 10a may be arbitrarily combined.
  • the element body 12 may not include the protective layers 15a and 15b. That is, the element body 12 only needs to include at least the insulator sheets 16a and 16b. However, an insulating layer made of the same material as the insulating sheets 16a and 16b may be provided instead of the protective layers 15a and 15b.
  • the signal line conductor layers 18a and 18b and the ground conductor layers 20a and 20b are provided on the surface of the insulator sheet 16a, but other conductor layers (for example, inductor conductors) Layer, capacitor conductor layer, etc.) may be provided.
  • other conductor layers for example, inductor conductors
  • the ground conductor layer 22 is provided on the back surface of the insulating sheet 16b, other conductor layers (for example, an inductor conductor layer and a capacitor conductor layer) may be provided.
  • the via-hole conductors v1 to v4 are not necessarily provided.
  • the multilayer boards 10 and 10a are signal lines that connect two circuit boards, but may be circuit boards on which electronic components are mounted on the surface, for example.
  • the present invention is useful for multilayer substrates, and is particularly excellent in that the occurrence of delamination can be suppressed.
  • Multilayer substrate 12 Element bodies 15a, 15b: Protection layers 16a, 16b: Insulator sheets 18a, 18b: Signal line conductor layers 20a, 20b, 22: Ground conductor layers v1 to v4: Via-hole conductors ⁇ , ⁇ : interface

Landscapes

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Abstract

層間剥離の発生を抑制できる多層基板を提供することである。 本発明に係る多層基板は、第1及び第2の主面を有する第1の絶縁体層と第3及び第4の主面を有する第2の絶縁体層とが積層されることにより構成されている素体と、第1及び第2の導体層と、を備えており、第2の主面と第3の主面とは接触しており、第2及び第3の主面には導体層が設けられておらず、第1の導体層は、第1の主面に設けられ、第2の導体層は、第4の主面に設けられ、複数の絶縁体層が第1及び第2の絶縁体層以外の1以上の別の絶縁体層が設けられている場合には、1以上の別の絶縁体層には導体層が設けられておらず、第1の主面の面積に対する第1の導体層の面積の割合は、第4の主面の面積に対する第2の導体層の面積の割合よりも小さく、第1の絶縁体層の厚みは、第2の絶縁体層の厚みよりも小さいこと、を特徴とする。

Description

多層基板
 本発明は、複数の絶縁体層が積層されて構成された多層基板に関する。
 従来の多層基板に関する発明としては、例えば、特許文献1に記載のフレキシブル基板が知られている。図7は、特許文献1に記載のフレキシブル基板510の分解図である。
 フレキシブル基板510は、誘電体素体512、信号線520及びグランド導体522,524を備えている。誘電体素体512は、誘電体シート518a~518cが上側から下側へとこの順に積層されて構成されている。信号線520は、誘電体シート518bの表面に設けられている。グランド導体522は、誘電体シート518aの表面に設けられている。グランド導体524は、誘電体シート518cの裏面に設けられている。これにより、信号線520及びグランド導体522,524は、ストリップライン構造をなしている。
 ところで、フレキシブル基板510において、マイクロストリップライン構造を構成したい場合には、例えば、誘電体シート518a及びグランド導体522を取り除くことが考えられる。これにより、信号線520及びグランド導体524は、マイクロストリップライン構造をなすようになる。
 しかしながら、本願発明者は、上記のようなマイクロストリップライン構造を有するフレキシブル基板では、フレキシブル基板に外力が加わった場合やフレキシブル基板の温度が変化した場合等に、誘電体シート518bと誘電体シート518cとの境界において層間剥離が発生しやすいことを発見した。
特開2014-86655号公報
 そこで、本発明の目的は、層間剥離の発生を抑制できる多層基板を提供することである。
 本発明の一形態に係る多層基板は、第1の主面及び第2の主面を有する第1の絶縁体層と第3の主面及び第4の主面を有する第2の絶縁体層とを少なくとも含む複数の絶縁体層が積層方向に積層されることにより構成され、かつ、可撓性を有する素体と、第1の導体層と、第2の導体層と、を備えており、前記第2の主面と前記第3の主面とは接触しており、前記第2の主面及び前記第3の主面には面状または線状の導体層が設けられておらず、前記第1の導体層は、前記第1の主面に設けられ、前記第2の導体層は、前記第4の主面に設けられ、前記複数の絶縁体層が前記第1の絶縁体層及び前記第2の絶縁体層以外の1以上の別の絶縁体層を含む場合には、該1以上の別の絶縁体層には導体層が設けられておらず、前記第1の主面の面積に対する前記第1の導体層の面積の割合は、前記第4の主面の面積に対する前記第2の導体層の面積の割合よりも小さく、前記第1の絶縁体層の厚みは、前記第2の絶縁体層の厚みよりも小さいこと、を特徴とする。
 本発明によれば、多層基板の層間剥離の発生を抑制できる。
図1は、本発明の一実施形態に係る多層基板10の外観斜視図である。 図2は、本発明の一実施形態に係る多層基板10の分解斜視図である。 図3は、図1のA-Aにおける断面構造図である。 図4は、多層基板10が折り曲げ加工される際の説明図である。 図5は、多層基板10が用いられた電子機器50の一部を抽出した図である。 図6Aは、表面が上側に突出するように曲がった際の多層基板10の断面構造図である。 図6Bは、表面が下側に出するように曲がった際の多層基板10の断面構造図である。 図6Cは、変形例に係る多層基板10aの断面構造図及び拡大図である。 図6Dは、多層基板10aの製造時の工程断面図である。 図6Eは、多層基板10aの製造時の工程断面図である。 図6Fは、多層基板10aの右端近傍及びコネクタ100bの断面構造図である。 図7は、特許文献1に記載のフレキシブル基板510の分解図である。
(実施形態)
<多層基板の構成>
 以下に、本発明の一実施形態に係る多層基板10の構成について図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る多層基板10の外観斜視図である。図2は、本発明の一実施形態に係る多層基板10の分解斜視図である。図3は、図1のA-Aにおける断面構造図である。以下では、多層基板10の積層方向を上下方向と定義する。また、上側から見たときに、多層基板10が延在している方向を左右方向と定義し、上下方向及び左右方向に直交する方向を前後方向と定義する。上下方向、左右方向及び前後方向は互いに直交している。
 多層基板10は、携帯電話等の電子機器内に設けられ、例えば、2つの回路基板を接続する信号線路である。多層基板10は、表面及び裏面を有する帯状をなすフレキシブル基板であり、図1及び図2に示すように、素体12、信号線路導体層18a,18b、グランド導体層20a,20b,22及びビアホール導体v1~v4を備えている。なお、図2では、ビアホール導体v1~v4については、代表的なビアホール導体にのみ参照符号を付した。
 素体12は、左右方向に延在する帯状をなしており、可撓性を有している。また、素体12は、図1及び図2に示すように、保護層15a、絶縁体シート16a,16b及び保護層15b(複数の絶縁体層の一例)が上側から下側へとこの順に積層されて構成されている。以下では、素体12の上側の主面を表面と称し、素体12の下側の主面を裏面と称す。
 絶縁体シート16a,16b(第1の絶縁体層及び第2の絶縁体層の一例)は、上側から見たときに、左右方向に延在する帯状をなしており、素体12と同じ形状をなしている。絶縁体シート16a,16bは、ポリイミドや液晶ポリマ等の可撓性を有する熱可塑性樹脂により作製されている絶縁体層である。図3に示すように、絶縁体シート16aの厚みd1は、絶縁体シート16bの厚みd2よりも小さい。絶縁体シート16aは、上側の主面(第1の主面の一例)及び下側の主面(第2の主面の一例)を有している。絶縁体シート16bは、上側の主面(第3の主面の一例)及び下側の主面(第4の主面の一例)を有している。以下では、絶縁体シート16a,16bの上側の主面を表面と称し、絶縁体シート16a,16bの下側の主面を裏面と称す。
 絶縁体シート16aの裏面と絶縁体シート16bの表面とは接触している。本実施形態では、後述するように、絶縁体シート16a,16bは熱圧着されているので、絶縁体シート16aの裏面と絶縁体シート16bの表面とは溶着している。溶着とは、絶縁体シート16aの裏面と絶縁体シート16bの表面とが、加熱により溶融させられた後に冷却により固化させられることによって、一体化されることである。また、絶縁体シート16aの裏面及び絶縁体シート16bの表面には、グランド導体層や信号線路導体層のような面状又は線状の導体層が設けられていない。
 信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b(第1の導体層の一例)は、図1及び図2に示すように、絶縁体シート16aの表面に設けられている。グランド導体層20a、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20bは、左右方向に延在する直線状の導体層であり、後ろ側から前側へとこの順に並んでいる。従って、素体12が延在する方向と信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが延在する方向とは同じである。
 ここで、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが絶縁体シート16aの表面に設けられていることについてより詳細に説明する。信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが絶縁体シート16aの表面に設けられているとは、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが絶縁体シート16aの表面に固着していることを意味する。また、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが固着しているとは、絶縁体シート16aの表面にめっきにより形成された金属箔がパターニングされて信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが形成されていることや、絶縁体シート16aの表面に張り付けられた金属箔がパターニングされて信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが形成されていること等により、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが絶縁体シート16aの表面からアンカー効果によって剥離しにくくなっていることを意味する。また、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bの表面には平滑化が施されるので、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが絶縁体シート16aに接している面の表面粗さは信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが絶縁体シート16aに接していない面の表面粗さよりも大きくなる。
 グランド導体層22(第2の導体層の一例)は、図2に示すように、絶縁体シート16bの裏面に設けられている。グランド導体層22は、左右方向に延在する面状の導体層であり、絶縁体シート16bの裏面の大部分を覆っている。これにより、グランド導体層22は、上側から見たときに、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bと重なっている。グランド導体層22が絶縁体シート16bの裏面に設けられている点については、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが絶縁体シート16aの表面に設けられている点と同じであるので、説明を省略する。
 また、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bは、絶縁体シート16aの表面の一部を覆っており、グランド導体層22は、絶縁体シート16bの裏面の大部分を覆っている。従って、絶縁体シート16aの表面の面積に対する信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bの面積の割合は、絶縁体シート16bの裏面の面積に対するグランド導体層22の面積の割合よりも小さい。
 以上のような信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b,22は、銅箔等の金属箔により構成されている。
 複数のビアホール導体v1(第1のビアホール導体の一例)は、絶縁体シート16aを上下方向に貫通している。複数のビアホール導体v2(第2のビアホール導体の一例)は、絶縁体シート16bを上下方向に貫通している。ビアホール導体v1,v2は、互いに接続されることにより1本のビアホール導体を構成しており、グランド導体層20aとグランド導体層22とを接続している。また、複数のビアホール導体v1,v2は、等間隔に左右方向に一列に配置されている。
 複数のビアホール導体v3(第1のビアホール導体の一例)は、絶縁体シート16aを上下方向に貫通している。複数のビアホール導体v4(第2のビアホール導体の一例)は、絶縁体シート16bを上下方向に貫通している。ビアホール導体v3,v4は、互いに接続されることにより1本のビアホール導体を構成しており、グランド導体層20bとグランド導体層22とを接続している。また、複数のビアホール導体v3,v4は、等間隔に左右方向に一列に配置されている。
 以上のような複数のビアホール導体v1~v4は、例えば、Cu-Sn系の導電性ペーストが焼結されることにより形成される。
 保護層15a(別の絶縁体層の一例)は、絶縁体シート16aの表面の大部分を覆っている絶縁体層である。ただし、保護層15aは、絶縁体シート16aの左端近傍及び右端近傍を覆っていない。これにより、信号線路導体層18a,18bの両端及びグランド導体層20a,20bの両端は、素体12外に露出しており、コネクタとの接続のための外部電極として機能する。保護層15aは、エポキシ樹脂等の樹脂により作製される。
 保護層15b(別の絶縁体層の一例)は、絶縁体シート16bの裏面の全面を覆っている絶縁体層である。保護層15bは、エポキシ樹脂等の樹脂により作製される。グランド導体層22は、保護層15bに対して固着していないか、又は、絶縁体シート16bの裏面よりも弱く保護層15bに対して固着している。
 また、保護層15a,15bには、導体パターンが設けられていない。保護層15a,15bに導体パターンが設けられていないとは、保護層15a,15bにインダクタやコンデンサ等の回路素子を構成する導体層や、配線やグランド導体等の導体層、ビアホール導体等の層間接続導体が設けられていないことを意味する。ただし、保護層15a,15bには、方向識別マーク等の電気回路的に意義のない導体層は設けられていてもよい。
 また、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b,22を構成する材料の弾性率と絶縁体シート16a,16b及び保護層15a,15bを構成する材料の弾性率とは異なる。本実施形態では、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b,22の材料は銅であり、絶縁体シート16a,16bの材料は液晶ポリマであり、保護層15a,15bの材料はエポキシ樹脂である。よって、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b,22の材料の弾性率は、絶縁体シート16a,16b及び保護層15a,15bを構成する材料の弾性率よりも大きい。これにより、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b,22は、絶縁体シート16a,16b及び保護層15a,15bよりも変形しにくくなっている。
 また、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b,22を構成する材料の線膨張係数と絶縁体シート16a,16b及び保護層15a,15bを構成する材料の線膨張係数とは異なる。本実施形態では、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b,22の材料の線膨張係数は、絶縁体シート16a,16b及び保護層15a,15bを構成する材料の線膨張係数よりも小さい。
 以上のように構成された多層基板10は、例えば、電子機器内において2つの回路基板を接続する際に用いられる。図4は、多層基板10が折り曲げ加工される際の説明図である。図5は、多層基板10が用いられた電子機器50の一部を抽出した図である。
 多層基板10は、図4及び図5に示すように、折り曲げ加工が施されて用いられる。より詳細には、多層基板10は、左右方向の中央近傍において、表面が谷折りされると共に表面が山折りされることにより、クランク状をなしている。このように多層基板10を2箇所において折り曲げるために、図4に示すように、段差を有するツールT1,T2により上下両側から多層基板10を挟む。この際、ツールT1,T2に内蔵されたヒータ等の加熱手段により多層基板10を加熱し、冷却する。これにより、多層基板10が塑性変形し、多層基板10に折り曲げ加工が施される。
 電子機器50は、図5に示すように、回路基板200a,200b及びコネクタ100a,100bを備えている。回路基板200bは、回路基板200aの右側に設けられている。また、回路基板200bの上側の主面は、回路基板200aの上側の主面よりも上側に位置している。
 コネクタ100a,100bはそれぞれ、回路基板200a,200bの上側の主面に実装されている。そして、多層基板10の左端がコネクタ100aに対して挿入されることにより多層基板10とコネクタ100aとが電気的に接続され、多層基板10の右端がコネクタ100bに対して挿入されることにより多層基板10とコネクタ100bとが電気的に接続される。このように、多層基板10は、折り曲げられた形状に塑性変形が施され、更に、可撓性を有している。そのため、多層基板10は、異なる高さに位置する2つのコネクタ100a,100bを接続することが可能である。以上のような多層基板10では、信号線路導体層18a,18bにはデジタル信号が伝送される。また、信号線路導体層18a,18bは、差動伝送線路として用いられる。
<多層基板の製造方法>
 以下に、多層基板10の製造方法について図面を参照しながら説明する。以下では、一つの多層基板10が作製される場合を例にとって説明するが、実際には、大判の絶縁体シートが積層及びカットされることにより、同時に複数の多層基板10が作製される。
 まず、液晶ポリマ等の熱可塑性樹脂により作製された絶縁体シート16a,16bを準備する。次に、絶縁体シート16a,16bの一方の主面の全面に銅箔を形成する。具体的には、絶縁体シート16aの表面及び絶縁体シート16bの裏面のそれぞれに銅箔を張り付ける。更に、絶縁体シート16a,16bの銅箔の表面に、例えば、防錆のための亜鉛鍍金を施して、平滑化する。なお、銅箔以外の金属箔が用いられてもよい。
 次に、絶縁体シート16aの表面上に形成された銅箔をパターニングすることにより、図2に示すように、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bを絶縁体シート16aの表面上に形成する。具体的には、絶縁体シート16aの表面の銅箔上に、図2に示す信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bと同じ形状のレジストを印刷する。そして、銅箔に対してエッチング処理を施すことにより、レジストにより覆われていない部分の銅箔を除去する。その後、洗浄液(レジスト除去液)を吹き付けてレジストを除去する。これにより、図2に示すような、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが絶縁体シート16aの表面上にフォトリソグラフィ工程により形成される。
 次に、図2に示すように、グランド導体層22を絶縁体シート16bの裏面上に形成する。なお、グランド導体層22の形成工程は、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bの形成工程と同じであるので説明を省略する。
 次に、絶縁体シート16a,16bにおけるビアホール導体v1~v4が形成される位置に、絶縁体シート16aの裏面及び絶縁体シート16bの表面からレーザービームを照射して、貫通孔を形成する。更に、貫通孔に対して、Cu-Sn系の導電性ペーストを充填する。
 次に、絶縁体シート16a,16bを積層し圧着する。具体的には、絶縁体シート16a,16bを積層した後、絶縁体シート16a,16bに対して加圧処理及び加熱処理(すなわち、熱圧着)を施す。加圧処理は、上下方向から絶縁体シート16a,16bを挟むことにより行う。絶縁体シート16a,16bに対して加圧処理及び加熱処理が施されることにより、絶縁体シート16a,16bが軟化すると共に、貫通孔内の導電性ペーストが固化する。これにより、絶縁体シート16a,16bが接合されると共に、ビアホール導体v1~v4が形成される。
 次に、絶縁体シート16aの表面及び絶縁体シート16bの裏面のそれぞれに樹脂(レジスト)ペーストをスクリーン印刷により塗布することにより、保護層15a,15bを形成する。以上の工程を経て、多層基板10が完成する。
<効果>
 本実施形態に係る多層基板10によれば、絶縁体シート16aと絶縁体シート16bとの境界において層間剥離が発生することを抑制できる。図6Aは、表面が上側に突出するように曲がった際の多層基板10の断面構造図である。図6Bは、表面が下側に突出するように曲がった際の多層基板10の断面構造図である。
 電子機器50が落下等により衝撃を受けた場合には、多層基板10が図6A及び図6Bに示すように曲るおそれがある。以下では、図6Aのように多層基板10の表面が上側に突出するように曲った場合を例に挙げて説明する。この場合、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b,22が上側に突出するように湾曲する。信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b,22の材料の弾性率は、絶縁体シート16a,16bの材料の弾性率よりも大きい。そのため、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b,22は、絶縁体シート16a,16bよりも変形しにくい。よって、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bと絶縁体シート16aとの界面αでは、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bから絶縁体シート16aに大きな力F1が加わる。力F1は、界面αから上側に離れるにしたがって弱くなっていく。同様に、グランド導体層22と絶縁体シート16bとの界面βでは、グランド導体層22から絶縁体シート16bに大きな力F2が加わる。力F2は、界面βから離れるにしたがって弱くなっていく。
 ここで、絶縁体シート16aの表面の面積に対する信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bの面積の割合は、絶縁体シート16bの裏面の面積に対するグランド導体層22の面積の割合よりも小さい。従って、力F1は力F2よりも小さい。そのため、絶縁体シート16a,16bにおける下半分の領域の方が絶縁体シート16a,16bにおける上半分の領域よりも大きな力が発生している。
 そこで、多層基板10では、絶縁体シート16aの厚みd1は絶縁体シート16bの厚みd2よりも小さくなっている。これにより、絶縁体シート16aと絶縁体シート16bとの境界は、絶縁体シート16a,16bの上半分に位置するようになり、大きな力を受けにくくなる。その結果、絶縁体シート16aと絶縁体シート16bとの境界において層間剥離が発生することが抑制される。なお、図6Bのように多層基板10の表面が下側に突出するように曲った場合においても、多層基板10の表面が上側に突出するように曲った場合と同じことが言える。
 また、本実施形態に係る多層基板10によれば、以下の理由によっても、絶縁体シート16aと絶縁体シート16bとの境界において層間剥離が発生することを抑制できる。
 多層基板10では、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b,22を構成する材料の線膨張係数と絶縁体シート16a,16b及び保護層15a,15bを構成する材料の線膨張係数とは異なる。以下では、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b,22を構成する材料の線膨張係数が絶縁体シート16a,16b及び保護層15a,15bを構成する材料の線膨張係数よりも小さい場合を例に挙げて説明する。
 電子機器50の温度上昇によって多層基板10が加熱されると、信号線路導体層18a,18b、グランド導体層20a,20b,22、絶縁体シート16a,16b及び保護層15a,15bに伸びが発生する。信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b,22を構成する材料の線膨張係数は、絶縁体シート16a,16b及び保護層15a,15bを構成する材料の線膨張係数よりも小さい。そのため、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b,22の伸び量は絶縁体シート16a,16b及び保護層15a,15bの伸び量よりも小さい。このように、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b,22の伸び量と絶縁体シート16a,16b及び保護層15a,15bの伸び量とに差が生じると、これらの界面において絶縁体シート16a,16bが伸びることを妨げる拘束力が生じる。
 ただし、絶縁体シート16aの表面の面積に対する信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bの面積の割合は、絶縁体シート16bの裏面の面積に対するグランド導体層22の面積の割合よりも小さい。従って、絶縁体シート16aの表面が伸びることを信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが妨げる拘束力は、絶縁体シート16bの裏面が伸びることをグランド導体層22が妨げる拘束力よりも小さくなる。そのため、絶縁体シート16bの伸び量は絶縁体シート16aの伸び量よりも小さい。その結果、多層基板10は、図6Aに示すように表面が上側に突出するように湾曲する。
 表面が上側に突出するように多層基板10が湾曲すると、界面αでは、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bから絶縁体シート16aに大きな力F3が加わり、界面βでは、グランド導体層22から絶縁体シート16bに大きな力F4が加わる。
 ここで、絶縁体シート16aの表面の面積に対する信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bの面積の割合は、絶縁体シート16bの裏面の面積に対するグランド導体層22の面積の割合よりも小さい。従って、力F3は力F4よりも小さい。そのため、絶縁体シート16a,16bにおける下半分の領域の方が絶縁体シート16a,16bにおける上半分の領域よりも大きな力が発生している。
 そこで、多層基板10では、絶縁体シート16aの厚みd1は絶縁体シート16bの厚みd2よりも小さくなっている。これにより、絶縁体シート16aと絶縁体シート16bとの境界は、絶縁体シート16a,16bの上半分に位置するようになり、大きな力を受けにくくなる。その結果、絶縁体シート16aと絶縁体シート16bとの境界において層間剥離が発生することが抑制される。
 なお、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b,22を構成する材料の線膨張係数が絶縁体シート16a,16b及び保護層15a,15bを構成する材料の線膨張係数よりも大きい場合には、多層基板10は、図6Bに示すように、表面が下側に突出するように湾曲する。この場合も、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b,22を構成する材料の線膨張係数が絶縁体シート16a,16b及び保護層15a,15bを構成する材料の線膨張係数よりも小さい場合と同じ理由により、絶縁体シート16aと絶縁体シート16bとの境界において層間剥離が発生することが抑制される。
 また、多層基板10によれば、グランド導体層20a,20bとグランド導体層22とを接続する層間接続導体にビアホール導体v1~v4を用いることができる。より詳細には、多層基板10において、2層の絶縁体シート16a,16bを用いる代わりに、1層の絶縁体シートを用いることが考えられる。以下では、1層の絶縁体シートが用いられた多層基板を比較例に係る多層基板と呼ぶ。比較例に係る多層基板では、1層の絶縁体シートの表面に信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが設けられ、1層の絶縁体シートの裏面にグランド導体層22が設けられる。そして、1層の絶縁体シートを上下方向に貫通する層間接続導体により、グランド導体層20a,20bとグランド導体層22とが接続される。
 しかしながら、比較例に係る多層基板では、層間接続導体として、ビアホール導体を用いることが困難であり、スルーホール導体を用いる必要がある。より詳細には、比較例に係る多層基板では、絶縁体シートの両面に金属箔が設けられている。そのため、ビアホール導体を形成する際には、絶縁体シートにレーザービームを照射して、一方の金属箔及び絶縁体層を貫通し、かつ、他方の金属箔を貫通しない貫通孔を形成する。そして、貫通孔に導電性ペーストを充填する。そのため、レーザービームの強度の調整が難しい。具体的には、レーザービームの強度が強すぎると他方の金属箔を貫通孔が貫通してしまう。この場合には、導電性ペーストが貫通孔から漏れてしまう。一方、レーザービームの強度が弱すぎると絶縁体シートを貫通孔が貫通しない。この場合には、ビアホール導体と金属箔との間で接続不良が発生する。
 そこで、多層基板10では、絶縁体シート16aの表面に信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが設けられ、絶縁体シート16bの裏面にグランド導体層22が設けられる。その結果、絶縁体シート16aの裏面及び絶縁体シート16bの表面からレーザービームを照射して、貫通孔を形成することが可能である。その結果、多層基板10では、グランド導体層20a,20bとグランド導体層22とを接続する層間接続導体にビアホール導体v1~v4を用いることができる。
(変形例)
 以下に、変形例に係る多層基板10aについて図面を参照しながら説明する。図6Cは、変形例に係る多層基板10aの断面構造図及び拡大図である。図6Cは、図1のA-Aにおける断面構造図に相当する。
 多層基板10aは、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bの一部が絶縁体シート16aに埋没している点、及び、グランド導体層22の一部が絶縁体シート16bに埋没している点において多層基板10と相違する。以下に係る相違点を中心に多層基板10について説明する。また、図3では、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b、22の上面の表面粗さと下面の表面粗さとの差を表現していない。一方、図6Cでは、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20b、22の上面の表面粗さと下面の表面粗さとの差を表現した。
 図6Cに示すように、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bの下面近傍は、絶縁体シート16aに埋没している。より詳細には、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bは、D2の厚みだけ絶縁体シート16aに埋没しており、D1の厚みだけ絶縁体シート16aから上側に突出している。そして、D1とD2との間には、D1<D2の関係が成立している。
 また、グランド導体層22の上面近傍は、絶縁体シート16bに埋没している。より詳細には、グランド導体層22は、D2の厚みだけ絶縁体シート16bに埋没しており、D1の厚みだけ絶縁体シート16bから上側に突出している。そして、D1とD2との間には、D1<D2の関係が成立している。多層基板10aのその他の構成は、多層基板10と同じであるので説明を省略する。
 次に、多層基板10aの製造方法について説明する。図6D及び図6Eは、多層基板10aの製造時の工程断面図である。なお、多層基板10aの製造方法において、絶縁体シート16a,16bの圧着工程以外は、多層基板10の製造方法と同じである。そのため、以下では、圧着工程のみ説明し、他の工程の説明については省略する。
 図6Dに示すように、絶縁体シート16a,16bを積層する。この段階では、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bは、絶縁体シート16aに埋没しておらず、絶縁体シート16aの表面上に位置している。同様に、グランド導体層22は、絶縁体シート16bに埋没しておらず、絶縁体シート16bの裏面上に位置している。
 次に、図6Cに示すように、絶縁体シート16a,16bに対して加圧処理及び加熱処理(すなわち、熱圧着)を施す。この際、多層基板10の製造時よりも大きな力で金型を押すことにより熱圧着を施す。これにより、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが絶縁体シート16aに押し込まれて絶縁体シート16aに埋没する。同様に、グランド導体層22が絶縁体シート16bに押し込まれて絶縁体シート16bに埋没する。
 以上のように構成された多層基板10aは、多層基板10と同じ作用効果を奏することができる。
 また、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが絶縁体シート16aに埋没しているので、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが絶縁体シート16aから剥離することが抑制される。同様に、グランド導体層22が絶縁体シート16bに埋没しているので、グランド導体層22が絶縁体シート16bから剥離することが抑制される。本実施形態では、D1<D2の関係が成立している。すなわち、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bにおいて、絶縁体シート16aに埋没している量が絶縁体シート16aに埋没していない量よりも大きい。これにより、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bの剥離がより効果的に抑制されるようになる。同様に、グランド導体層22において、絶縁体シート16bに埋没している量が絶縁体シート16bに埋没していない量よりも大きい。これにより、グランド導体層22の剥離がより効果的に抑制されるようになる。
 また、多層基板10aによれば、保護層15aの材料の選択肢が広がる。より詳細には、多層基板10では、信号線路導体層18aと信号線路導体層18bとの間には、保護層15aが存在している。一方、多層基板10aでは、信号線路導体層18aと信号線路導体層18bとの間には、保護層15a及び絶縁体シート16aが存在している。絶縁体シート16aの材料には、液晶ポリマ等の比較的に比誘電率が低い材料が用いられる。そのため、信号線路導体層18aと信号線路導体層18bとの間の比誘電率は、多層基板10aの方が多層基板10よりも低くなる。すなわち、信号線路導体層18aと信号線路導体層18bとの間の容量は、多層基板10aの方が多層基板10よりも小さくなる。そこで、多層基板10aの保護層15aの比誘電率を多層基板10の保護層15aの比誘電率よりも高くしてもよい。また、信号線路導体層18aと信号線路導体層18bとの間の容量は小さいことが好ましいので、多層基板10aの保護層15aの比誘電率を多層基板10の保護層15の比誘電率と等しくしてもよい。すなわち、多層基板10aでは、保護層15aの比誘電率の自由度が高くなる。その結果、多層基板10aでは、保護層15aの材料の選択肢が広がる。
 また、多層基板10aでは、多層基板10aをコネクタ100a,100bにスムーズに挿入することができる。以下に、多層基板10aをコネクタ100bに挿入する場合を例に挙げて説明する。図6Fは、多層基板10aの右端近傍及びコネクタ100bの断面構造図である。
 多層基板10aの右端は、コネクタ100bの凹部に挿入される。コネクタ100bの凹部内には、端子300が設けられている。端子300は、上側から信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bに接触する。
 ここで、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bと絶縁体シート16aの上面との間には段差が存在する。そのため、多層基板10aの挿入時には、端子300が段差において引っかかる恐れがある。ただし、多層基板10aでは、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bの一部が絶縁体シート16aに埋没している。そのため、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bと絶縁体シート16aの上面との間の段差が小さくなる。その結果、端子300が段差において引っかかることが抑制され、多層基板10aをコネクタ100bにスムーズに挿入することができる。更に、端子300が段差において引っかかることが抑制されると、多層基板10aの挿入時に、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが端子300から受ける力が小さくなる。その結果、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが絶縁体シート16aから剥離することが抑制される。なお、多層基板10aをコネクタ100aに挿入する場合については、多層基板10aをコネクタ100bに挿入する場合と同じであるので説明を省略する。
(その他の実施形態)
 本発明に係る多層基板は、前記多層基板10,10aに限らず、その要旨の範囲内において変更可能である。なお、多層基板10,10aの構成を任意に組み合わせてもよい。
 なお、素体12は、保護層15a,15bを含んでいなくてもよい。すなわち、素体12は、少なくとも絶縁体シート16a,16bを含んでいればよい。ただし、保護層15a,15bの代わりに、絶縁体シート16a,16bと同じ材料により作製された絶縁体層が設けられていてもよい。
 また、多層基板10,10aにおいて、絶縁体シート16aの表面には、信号線路導体層18a,18b及びグランド導体層20a,20bが設けられているとしたが、その他の導体層(例えば、インダクタ導体層やコンデンサ導体層など)が設けられていてもよい。同様に、絶縁体シート16bの裏面には、グランド導体層22が設けられているとしたが、その他の導体層(例えば、インダクタ導体層やコンデンサ導体層など)が設けられていてもよい。
 また、ビアホール導体v1~v4は必ずしも設けられていなくてもよい。
 また、多層基板10,10aは、2つの回路基板を接続する信号線路であるが、例えば、表面上に電子部品が実装される回路基板であってもよい。
 以上のように、本発明は、多層基板に有用であり、特に、層間剥離の発生を抑制できる点において優れている。
10,10a:多層基板
12:素体
15a,15b:保護層
16a,16b:絶縁体シート
18a,18b:信号線路導体層
20a,20b,22:グランド導体層
v1~v4:ビアホール導体
α,β:界面
 

Claims (6)

  1.  第1の主面及び第2の主面を有する第1の絶縁体層と第3の主面及び第4の主面を有する第2の絶縁体層とを少なくとも含む複数の絶縁体層が積層方向に積層されることにより構成され、かつ、可撓性を有する素体と、
     第1の導体層と、
     第2の導体層と、
     を備えており、
     前記第2の主面と前記第3の主面とは接触しており、
     前記第2の主面及び前記第3の主面には面状又は線状の導体層が設けられておらず、
     前記第1の導体層は、前記第1の主面に設けられ、
     前記第2の導体層は、前記第4の主面に設けられ、
     前記複数の絶縁体層が前記第1の絶縁体層及び前記第2の絶縁体層以外の1以上の別の絶縁体層を含む場合には、該1以上の別の絶縁体層には導体層が設けられておらず、
     前記第1の主面の面積に対する前記第1の導体層の面積の割合は、前記第4の主面の面積に対する前記第2の導体層の面積の割合よりも小さく、
     前記第1の絶縁体層の厚みは、前記第2の絶縁体層の厚みよりも小さいこと、
     を特徴とする多層基板。
  2.  前記第1の導体層及び前記第2の導体層を構成する材料の弾性率と前記第1の絶縁体層及び前記第2の絶縁体層を構成する材料の弾性率とは異なること、
     を特徴とする請求項1に記載の多層基板。
  3.  前記第1の導体層及び前記第2の導体層を構成する材料の線膨張係数と前記第1の絶縁体層及び前記第2の絶縁体層を構成する材料の線膨張係数とは異なること、
     を特徴とする請求項1又は請求項2のいずれかに記載の多層基板。
  4.  前記第1の絶縁体層を前記積層方向に貫通する第1のビアホール導体と、
     前記第2の絶縁体層を前記積層方向に貫通する第2のビアホール導体と、
     を更に備えており、
     前記第1のビアホール導体と前記第2のビアホール導体とは、互いに接続されることにより、前記第1の導体層と前記第2の導体層とを接続していること、
     を特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の多層基板。
  5.  前記第1の導体層は、線状の信号線路導体層を含んでおり、
     前記第2の導体層は、面状のグランド導体層を含んでいること、
     を特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の多層基板。
  6.  前記素体は帯状をなしていること、
     を特徴とする請求項5に記載の多層基板。
     
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