WO2016125390A1 - パワーモジュール - Google Patents

パワーモジュール Download PDF

Info

Publication number
WO2016125390A1
WO2016125390A1 PCT/JP2015/084685 JP2015084685W WO2016125390A1 WO 2016125390 A1 WO2016125390 A1 WO 2016125390A1 JP 2015084685 W JP2015084685 W JP 2015084685W WO 2016125390 A1 WO2016125390 A1 WO 2016125390A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
semiconductor chip
solder
base plate
power module
length
Prior art date
Application number
PCT/JP2015/084685
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
山下 志郎
佑輔 高木
志村 隆弘
Original Assignee
日立オートモティブシステムズ株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日立オートモティブシステムズ株式会社 filed Critical 日立オートモティブシステムズ株式会社
Priority to US15/541,861 priority Critical patent/US9960147B2/en
Priority to DE112015005593.2T priority patent/DE112015005593T5/de
Priority to CN201580071664.XA priority patent/CN107112319B/zh
Publication of WO2016125390A1 publication Critical patent/WO2016125390A1/ja

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L24/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0655Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the devices being arranged next to each other
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3735Laminates or multilayers, e.g. direct bond copper ceramic substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L24/17Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of a plurality of bump connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/07Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/07Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00
    • H01L25/072Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00 the devices being arranged next to each other
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/18Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different subgroups of the same main group of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/06Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
    • H01L2224/0601Structure
    • H01L2224/0603Bonding areas having different sizes, e.g. different heights or widths
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/17Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of a plurality of bump connectors
    • H01L2224/171Disposition
    • H01L2224/1712Layout
    • H01L2224/1713Square or rectangular array
    • H01L2224/17132Square or rectangular array being non uniform, i.e. having a non uniform pitch across the array
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/291Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/33Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of a plurality of layer connectors
    • H01L2224/331Disposition
    • H01L2224/3318Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
    • H01L2224/33181On opposite sides of the body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/34Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/36Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/37Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
    • H01L2224/37001Core members of the connector
    • H01L2224/37099Material
    • H01L2224/371Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/34Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/36Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/37Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
    • H01L2224/37001Core members of the connector
    • H01L2224/37099Material
    • H01L2224/371Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/37117Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/37124Aluminium [Al] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/34Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/36Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/37Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
    • H01L2224/37001Core members of the connector
    • H01L2224/37099Material
    • H01L2224/371Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/37138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/37147Copper [Cu] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/34Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/36Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/37Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
    • H01L2224/3754Coating
    • H01L2224/37599Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/34Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/39Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
    • H01L2224/40Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
    • H01L2224/401Disposition
    • H01L2224/40135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/40137Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00012Relevant to the scope of the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • H01L2924/13055Insulated gate bipolar transistor [IGBT]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/38Effects and problems related to the device integration
    • H01L2924/384Bump effects
    • H01L2924/3841Solder bridging

Definitions

  • the present invention relates to a power module including a power semiconductor chip.
  • the inverter includes a power module containing a power semiconductor chip.
  • a structure in which a semiconductor chip is mounted between a pair of conductor plates thermally coupled to a heat sink is known.
  • a power module that uses a conductor plate also as a heat sink is known.
  • the semiconductor chip has one surface and another surface opposite to the one surface, and is sandwiched between a pair of conductor plates, and one surface and the other surface of the semiconductor chip are soldered to one or the other of the pair of conductor plates, respectively. Is done.
  • a plurality of semiconductor chips may be mounted between a pair of conductor plates. Further, a sealing resin may be filled around the semiconductor chip between the pair of conductor plates (see, for example, Patent Document 1).
  • solder in the solder fillet formation area may cause a short circuit with other members, or the overflowed solder may peel off and become a conductive foreign substance, causing failure or performance degradation. It becomes.
  • the power module includes a base plate, a first semiconductor chip having four sides, and one side disposed adjacent to the first side of the first semiconductor chip.
  • Four sides including a second semiconductor chip soldered to the base plate and one side disposed adjacent to the second side of the first semiconductor chip.
  • a third semiconductor chip soldered to the base plate, wherein at least one of the third side or the fourth side of the first semiconductor chip is disposed adjacent to a side edge of the base plate.
  • a distance of 1 ⁇ 2 of the distance to the one side of the semiconductor chip Among the distances from the third side or the fourth side of the first semiconductor chip disposed adjacent to the side edge of the base plate to the side edge of the base plate;
  • the length of the solder fillet of the first semiconductor chip formed on the side of the part is the shortest.
  • the present invention it is possible to prevent the semiconductor chip from being short-circuited or overflowing from the side edge of the base plate due to the overflow of solder from the solder fillet forming region.
  • FIG. 2 is a sectional view of the power module shown in FIG. 1 taken along the line II-II.
  • FIG. 4 is an enlarged sectional view of a region IV in FIG. 2 and a sectional view taken along line IV-IV in FIG. 3.
  • FIG. 7 is a sectional view taken along line VII-VII in FIG. 6. Sectional drawing of the mounting structure of the semiconductor chip which showed Embodiment 3 of this invention and was provided in the power module.
  • FIG. 10 is a diagram showing a modification of the fifth embodiment.
  • FIG. 10 is a diagram illustrating a first modification of the sixth embodiment.
  • FIG. 10 is a diagram illustrating a second modification of the sixth embodiment.
  • FIG. 10 is a diagram showing a modification of the seventh embodiment.
  • FIG. 1 is an external perspective view showing an embodiment of a power module of the present invention
  • FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of the power module shown in FIG.
  • the power module 100 according to the embodiment of the present invention can be used for, for example, an in-vehicle power conversion device of a rotating electrical machine drive system mounted on an automobile.
  • the power module 100 includes a module case 201 that is mounted between the first lead frame 101 and the second lead frame 102 and accommodates a plurality of power semiconductor chips 11 to 14 (see FIG. 3 and the like), which will be described later. It has.
  • the module case 201 is made of an aluminum alloy material, for example, Al, AlSi, AlSiC, Al—C, etc., and has a can-type (hereinafter referred to as CAN type) shape that is integrally formed with no joints.
  • CAN type refers to a container having an insertion port 306 on a predetermined surface and a bottomed substantially rectangular parallelepiped shape.
  • the module case 201 has a structure in which no opening is provided except for the insertion port 306, and the insertion port 306 is surrounded by a flange 304B.
  • the lower part of the flange 304B of the module case 201 has a thin rectangular parallelepiped shape having a pair of heat radiation bases 307 in which the fins 305 are uniformly arranged.
  • a curved portion 304 ⁇ / b> A having an extremely thin thickness is formed at a connection portion of each heat radiating base 307 with the flange 304 ⁇ / b> B.
  • An insulating sheet 333 having high thermal conductivity is interposed between the inner surface of the heat dissipation base 307 and the first and second lead frames 101 and 102.
  • the power semiconductor chips 11 to 14 generate heat during operation and become high temperature.
  • heat generated during the operation of the semiconductor chips 11 to 14 is diffused by the first and second lead frames 101 and 102 and transmitted to the insulating sheet 333. Then, heat is radiated to the cooling medium from the heat radiation base 307 formed in the module case 201 and the fins 305 provided on the heat radiation base 307. For this reason, high cooling performance can be realized.
  • the semiconductor chips 11 to 14 are mounted between the first lead frame 101 and the second lead frame 102 by soldering, and the periphery thereof is sealed with a primary sealing material 350.
  • a mounting structure of the semiconductor chips 11 to 14, the first lead frame 101, and the second lead frame 102 will be described later.
  • the first lead frame 101 has a plurality of leads 111 extending upward.
  • the tip of each lead 111 is exposed to the outside of the primary sealing material 350. That is, the first lead frame 101 is integrally formed with the primary sealing material 350 with the tip of the lead 111 exposed.
  • a DC positive / negative terminal, an AC terminal 121, and a plurality of external signal terminals 122 are joined to the tips of the leads 111 by soldering or the like.
  • the DC positive / negative terminal and AC terminal 121, the plurality of external signal terminals 122, and the leads 111 of the first lead frame 101 are integrally formed in the auxiliary mold body 380.
  • the primary sealing material 350 in which the first lead frame 101 is integrally formed includes a direct current positive / negative terminal and an alternating current terminal 121 integrally formed in the auxiliary mold body 380, and a plurality of external signal terminals 122, respectively.
  • the lead frame 101 is accommodated in the module case 201 while being connected to the corresponding lead 111.
  • the secondary sealing material 351 is filled from the insertion port 306 of the flange 304B.
  • the secondary sealing material 351 is filled in the gap between the inner side of the flange 304 ⁇ / b> B and the peripheral side edges of the first and second lead frames 101 and 102 and the primary sealing material 350.
  • the secondary sealing material 351 is also filled between the bottom surface of the module case 201 and the lower surface of the primary sealing material 350.
  • the power module 100 has such a structure, and performs the function of an inverter for driving a motor, for example, by converting the DC high voltage output of the high voltage storage battery into an AC high voltage output.
  • FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of a region IV in FIG. 2, and a cross-sectional view taken along the line IV-IV in FIG. In FIG. 3, the second lead frame 102 is removed. Further, in FIG. 4, illustration of the lead 111 and the like outside the region IV in FIG. 2 is omitted.
  • the first base plate, that is, the first lead frame 101, and the second base plate, that is, the second lead frame 102, are formed by punching a metal plate.
  • the metal plate materials such as copper, aluminum, and iron can be used.
  • the first and second lead frames 101 and 102 preferably have high thermal conductivity. For this reason, copper-based and aluminum-based materials having excellent thermal conductivity are particularly preferable.
  • the first and second lead frames 101 and 102 are disposed so as to be opposed to each other, and four semiconductor chips 11 to 14 are disposed between the first and second lead frames 101 and 102.
  • the second lead frame 102 is formed with four protrusions 103 facing the semiconductor chips 11 to 14, respectively.
  • the four protrusions 103 are arranged in a matrix of 2 rows ⁇ 2 columns.
  • the semiconductor chips 11 to 14 have a thin rectangular parallelepiped shape, and are constituted by, for example, an IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor). A diode and a passive element may be included together with the IGBT.
  • Each of the semiconductor chips 11 to 14 has one surface f L which is a lower surface in FIG. 4 and another surface f U which is an upper surface in FIG.
  • an IGBT collector electrode is formed on the other surface f U of each of the semiconductor chips 11 to 14.
  • An IGBT emitter electrode and a plurality of control electrodes are formed on one surface f L of each semiconductor chip 11-14. Although not shown, each control electrode is connected to the lead 111 by a bonding wire.
  • One surface f L of each of the semiconductor chips 11 to 14 is soldered by the first solder 50 of the first lead frame 101.
  • the other surfaces f U of the semiconductor chips 11 to 14 are soldered to the protrusions 103 of the second lead frame 102 by the second solder 60.
  • the protrusion 103 is formed in a rectangular shape slightly smaller than the semiconductor chips 11 to 14 in plan view. Since the other surface f U of each semiconductor chip 11-14 is soldered to the protruding portion 103 of the second lead frame 102, the semiconductor chips 11-14 are also 2 rows ⁇ 2 columns in the same manner as the protruding portion 103. Are arranged in a matrix.
  • solder material of the first and second solders 50 and 60 in addition to Sn-based material containing a large amount of Sn, Au-based material, Zn-Al-based material, and Al-based material can be used.
  • a material containing a resin such as Ag paste, Cu paste, fired Ag, or fired Cu can also be used. Of materials containing a resin, those having low viscosity are preferred.
  • the semiconductor chip mounting structure shown in FIGS. 3 and 4 is formed by the following procedure, for example.
  • a solder material to be solidified as the first solder 50 is supplied to the first lead frame 101.
  • a sheet solder can be used.
  • a method of forming a solder paste by printing or supplying molten solder can be used.
  • the semiconductor chips 11 to 14 are placed on a solder material to be solidified as the first solder 50.
  • a solder material that is solidified as the second solder 60 is supplied onto each of the semiconductor chips 11 to 14. The supply of the solder material can be performed in the same manner as the solder material solidified as the first solder 50.
  • the protrusion 103 is aligned with the solder material solidified as the second solder 60, and the second lead frame 102 is placed on the solder material solidified as the second solder 60.
  • the second lead frame 2 is heated while being pressed against the first lead frame 101, and the semiconductor chips 11 to 14 are soldered to the first and second lead frames 101 and 102. Thereby, the mounting structure of the semiconductor chips 11 to 14 shown in FIGS. 3 and 4 is manufactured. Next, the mounting structure of the semiconductor chips 11 to 14 will be described in more detail.
  • each of the semiconductor chips 11 to 14 is not arranged at the central portion of the first solder 50, and is closer to other adjacent semiconductor chips 11 to 14 than the central portion. It is arranged at the position to do.
  • the illustrated distances a to d are defined as follows. Note that the four sides of the first lead frame 101, that is, the side edges E1 to E4 are as shown in FIG.
  • the distance between the semiconductor chip 11 and the semiconductor chip 12, that is, the distance between the sides where the semiconductor chip 11 and the semiconductor chip 12 face each other is defined as a
  • the distance between the semiconductor chip 11 and the semiconductor chip 13, that is, the distance between the sides where the semiconductor chip 11 and the semiconductor chip 13 face each other is b
  • the distance between the left side of the semiconductor chip 11 and the left side end E1 of the first lead frame 101 is c
  • the distance between the upper side of the semiconductor chip 11 and the upper side end E2 of the first lead frame 101 is defined as d.
  • solder fillet 51a of the semiconductor chip 11 and a solder fillet 52a of the semiconductor chip 12 are formed between the semiconductor chip 11 and the semiconductor chip 12. Between the semiconductor chip 11 and the semiconductor chip 13, a solder fillet 51 b of the first semiconductor chip 11 and a solder fillet 53 b of the semiconductor chip 13 are formed.
  • each length of the solder fillets 51a and 52a needs to be a / 2 or less, and each length of the solder fillets 51b and 53b needs to be b / 2 or less.
  • the length of the solder fillet is defined as the length l from the side of the semiconductor chip to the tip of the solder fillet as shown in FIG.
  • the semiconductor chips 11 to 14 are arranged at positions closer to the other semiconductor chips 11 to 14 adjacent to the central part of the chip mounting area substantially divided into four on the first lead frame 101.
  • the centers of the four projecting portions 103 of the second lead frame 102 coincide with the centers of the semiconductor chips 11 to 14 mounted in an offset manner in each chip mounting region.
  • the distances a / 2 and b / 2 are shorter than the distances c and d, respectively. The shorter the distance between the semiconductor chips, or the shorter the distance between the semiconductor chip and the side edge of the base plate, the more the semiconductor chips are short-circuited due to overflow of the solder fillet, or the solder fillet overflows from the side edge of the base plate. The potential increases.
  • the lengths of the solder fillets 51a and 52a formed on the sides adjacent to the other semiconductor chips 12 and 11 in the respective semiconductor chips 11 and 12 are adjacent to the side ends E1 and E2 of the first lead frame 101.
  • the solder fillets 51 c and 51 d formed on the two sides of the semiconductor chip 11 are formed shorter than the length.
  • the lengths of the solder fillets 51c and 51d are formed longer than the lengths of the solder fillets 51a and 52a.
  • the lengths of the solder fillets 51b and 53b formed on the sides adjacent to the other semiconductor chips 13 and 11 in the respective semiconductor chips 11 and 13 are set to the side ends E1 and E2 of the first lead frame 101, respectively.
  • the solder fillets 51c and 51d formed on the two sides of the adjacent semiconductor chip 11 are formed shorter than the length.
  • the lengths of the solder fillets 51c and 51d are formed longer than the lengths of the solder fillets 51b and 53b.
  • the distance a and the distance b are compared, and the length of the solder fillet formed on the shorter side is shortened.
  • the length of the solder fillet 51a is formed shorter than the length of the solder fillet 51b.
  • the distance c and the distance d may be compared, and the length of the solder fillet formed on the shorter side may be formed shorter.
  • the length of the solder fillet 51c may be formed shorter than the length of the solder fillet 51d.
  • the lengths of the solder fillets 51a, 51b, 52a, 53b can be shortened in the above embodiment. Since the surface tension of the liquid acts, the surface tension acts to reduce the surface area, that is, to reduce the surface energy. Thus, when the surface area is to be increased, energy is required to increase against the surface tension. As the amount of increase in the surface area of the solder increases, the energy required for the increase increases.
  • Solder overflow when the solder fillet is formed is caused by the fact that the solder fillet forming region is short with respect to a predetermined solder volume, and thus the pressure in the solder rises and the solder expands in the solder fillet forming region.
  • the amount of increase in the surface area of the solder varies depending on the length of the solder fillet.
  • FIG. 5A is a cross-sectional view for showing a standard of a soldering structure of a semiconductor chip
  • FIG. 5B is a characteristic diagram showing the relationship between the amount of increase in the solder fillet surface area and the length of the solder fillet formation region. It is.
  • the chip size is 10 mm square.
  • the thickness t of the solder is 0.2 mm.
  • the increase amount of the solder fillet surface area in FIG. 5B is derived from the increase amount of the solder fillet surface area when the semiconductor chip sinks 0.05 mm from the surface of the solder.
  • the solder surface area assumes that the solder fillet swells in an arc.
  • FIG. 5B shows that the amount of increase in the solder surface area decreases as the length l of the solder fillet formation region increases.
  • the amount of increase in the solder surface area of the solder fillet increases as the length l of the solder fillet forming region is shorter.
  • the energy required for the increase increases. Utilizing this phenomenon, when the semiconductor chip 11 is pressed against the first lead frame 101, the energy applied to the solder material in the state where the first solder 50 is melted is determined by the length l of the solder fillet forming region.
  • the long solder fillets 51c, 51d are consumed by increasing the surface area.
  • the semiconductor chips 11 to 14 are arranged concentrically with the protruding portion 103. That is, the distance between each of the four sides of each of the semiconductor chips 11 to 14 and each of the four sides of the protruding portion 103 is substantially the same. Therefore, the second solder 60 that joins the semiconductor chips 11 to 14 and the protrusion 103 has the same length of solder fillet 61 formed on each of the four sides of the semiconductor chips 11 to 14. Yes.
  • the length of the solder fillet 61 can be formed shorter than either of the solder fillets 51a and 51b.
  • the reason for this is as follows. As described above, the semiconductor chips 11 to 14 are heated in a state where the first lead frame 101, the first solder, the semiconductor chips 11 to 14, the second solder 60, and the second lead frame 102 are laminated. Pressurized and soldered. That is, at the time of soldering, both the first solder 50 and the second solder 60 are in a molten state. In this state, the first solder 50 and the second solder 60 are formed separately, but the relationship between the amount of increase in the solder fillet surface area and the length of the solder fillet formation region is shown in FIG. Has the indicated relationship.
  • the energy applied to the solder material in the state where the first and second solders 50 and 60 are melted is increased in the surface area of the solder fillets 51c and 51d and 51a and 51b having a long solder fillet forming region length l.
  • To consume thereby, it is possible to suppress an increase in the surface area of the solder fillet 61 having a short length l of the solder fillet formation region, in other words, overflow of the solder from the solder fillet formation region.
  • the length of the solder fillet 61 is not necessarily shorter than any of the lengths of the solder fillets 51a and 51b.
  • the semiconductor chips 12 to 14 are the same as those of the semiconductor chip 11. That is, also in each of the semiconductor chips 12 to 14, the length of the solder fillet formed on the side adjacent to the other semiconductor chips 11 to 14 is set to the side adjacent to the side edges E1 to E4 of the first lead frame 101. It is formed shorter than the length of the solder fillet to be formed.
  • the semiconductor chips 11 to 14 are soldered to the first lead frame 101 with the first solder 50, respectively.
  • the length of the solder fillet formed on the side adjacent to the side ends E1 to E4 of the first lead frame 101 is formed on the side adjacent to the other semiconductor chips 11 to 14. It was formed longer than the length of the solder fillet. For this reason, it is possible to prevent the solder from overflowing from the formation area of the solder fillet formed on the side of each of the semiconductor chips 11 to 14 adjacent to the other semiconductor chips 11 to 14, and the semiconductor chips 11 to 14 are short-circuited to each other. Can be prevented.
  • FIG. 6 shows a second embodiment of the present invention, and is a schematic plan view of a mounting structure of a semiconductor chip provided in a power module.
  • FIG. 7 is a sectional view taken along line VII-VII in FIG.
  • the first and second lead frames 101 and 102, the semiconductor chips 11 to 14, and the first and second solders 50 and 60 are the same members as in the first embodiment.
  • the second embodiment is different from the first embodiment in that each of the semiconductor chips 11 to 14 is disposed at a position closer to each corner portion of the first lead frame 101 than the central portion of the first solder 50. Is a point.
  • the configuration is as follows.
  • the semiconductor chip 11 will be described as an example.
  • the lengths of the solder fillets 51c and 51d formed on the two sides adjacent to the side edges E1 and E2 of the first lead frame 101 are the same as the solder formed on the side adjacent to the other semiconductor chip 12 in the semiconductor chip 11.
  • the length of the fillet 51a and the length of the solder fillet 52a formed on the side adjacent to the other semiconductor chip 11 in the semiconductor chip 12 are formed.
  • the lengths of the solder fillets 51 a and 52 a formed on the semiconductor chips 11 and 12 are longer than the lengths of the solder fillets 51 c and 51 d formed on the two sides of the semiconductor chip 11.
  • the lengths of the solder fillets 51c and 51d formed on the two sides of the semiconductor chip 11 adjacent to the side edges E1 and E2 of the first lead frame 101 are adjacent to the other semiconductor chips 13 in the semiconductor chip 11.
  • the solder fillet 51b formed on the side to be soldered and the solder fillet 53b formed on the side adjacent to the other semiconductor chip 11 in the semiconductor chip 13 are formed shorter.
  • the lengths of the solder fillets 51 b and 53 b formed on the semiconductor chips 11 and 13 are longer than the lengths of the solder fillets 51 c and 51 d formed on the two sides of the semiconductor chip 11. As a result, it is possible to prevent the solder from overflowing from the formation regions of the solder fillets 51c and 51d to the side ends E1 and E2 of the first lead frame 101.
  • the distance c and the distance d are compared, and the length of the solder fillet formed on the shorter side is shortened.
  • the length of the solder fillet 51c is formed shorter than the length of the solder fillet 51d.
  • the distance a and the distance b may be compared, and the length of the solder fillet formed on the shorter side may be shortened.
  • the length of the solder fillet 51a may be formed shorter than the length of the solder fillet 51b.
  • the semiconductor chip 12 to 14 has a distance a half of a distance a from each side of the semiconductor chips 12 to 14 and a side of each other semiconductor chip 11 to 14 and a half of the distance b.
  • the relationship between the distances c and d from the respective sides of the chips 12 to 14 to the side edges E1 to E4 of the first lead frame 101 is the same as that of the semiconductor chip 11.
  • the length of the solder fillet formed on each side of the semiconductor chips 12 to 14 is the same as that of the solder fillet formed on each side of the semiconductor chip 11.
  • the length of the solder fillet formed on the side adjacent to the side ends E1 to E4 of the first lead frame 101 is formed on the side adjacent to the other semiconductor chips 11 to 14. It is formed shorter than the length of the solder fillet.
  • the semiconductor chips 11 to 14 are soldered to the first lead frame 101 with the first solder 50.
  • the length of the solder fillet formed on the side adjacent to the other semiconductor chips 11 to 14 is set to the length of the solder fillet formed on the side adjacent to the side end of the first lead frame 101. It was formed longer than the length of. For this reason, in each of the semiconductor chips 11 to 14, the solder overflows from the solder fillet formation region formed on the side adjacent to the side end of the first lead frame 101 to the side end of the first lead frame 101. Can be suppressed.
  • FIG. 8 shows a third embodiment of the present invention and is a cross-sectional view of a semiconductor chip mounting structure provided in a power module.
  • FIG. 8 is a diagram of a region corresponding to FIG. 4 of the first embodiment of the power module.
  • the power module 100 according to the third embodiment is different from the first embodiment in that a recess 102b is formed on the inner surface 102a of the second lead frame 102 that faces the first lead frame 101.
  • Other configurations of the power module 100 of the third embodiment are the same as those of the first embodiment.
  • the solder fillets 51c and 51d are formed on the sides adjacent to the side ends E1 and E2 of the first lead frame 101, and the length of each of the semiconductor chips 11 and 12 is the other.
  • the solder fillets 51a and 52a formed on the sides adjacent to the semiconductor chips 12 and 11 are longer than the length. Therefore, the solder tends to overflow from the formation area of the solder fillets 51c and 51d.
  • a recess 102b is formed in a portion of the inner surface 102a of the second lead frame 102 where the solder fillets 51c and 52c face each other.
  • the side ends E1 and E3 of the second lead frame 102 are described, but the concave portions 102b are similarly formed in the side plates E2 and E4. As described above, when the length of the solder fillet forming region is long, the solder tends to overflow.
  • the concave portion 102b is formed in the second lead frame 102 corresponding to the location where the solder is likely to overflow, the first and second lead frames 101, 102 can prevent short circuit.
  • the same effect as the effect (1) of the first embodiment is obtained. Further, as described above, in the third embodiment, among the solder fillets formed on each side of the semiconductor chips 11 to 14, the solder fillet formed on the side adjacent to the first lead frame 101, that is, the longer one A recess 102b was formed in the portion of the second lead frame 102 facing the solder fillet. For this reason, even when the solder overflows from the longer solder fillet formation region, it is possible to prevent the first and second lead frames 101 and 102 from being short-circuited.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view of a semiconductor chip mounting structure provided in a power module according to a fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 is a diagram of a region corresponding to FIG. 7 of the second embodiment of the power module.
  • the power module 100 is different from Embodiment 2 in that a concave portion 102c is formed in an inner surface 102a facing the first lead frame 101 in the second lead frame 102.
  • Other configurations of the power module 100 of the fourth embodiment are the same as those of the second embodiment.
  • the solder fillets 51a and 52a are formed on the sides adjacent to the other semiconductor chips 12 and 11 in the semiconductor chips 11 and 12, respectively.
  • the first lead frame 101 is formed to be longer than the lengths of the solder fillets 51c and 51d formed on the sides adjacent to the side ends E1 and E2. Therefore, the solder tends to overflow from the formation area of the solder fillets 51a and 52a.
  • a recess 102c is formed in a portion of the inner surface 102a of the second lead frame 102 that faces the solder fillets 51a and 52a.
  • the solder fillets 51a and 52a between the semiconductor chips 11 and 12 are described.
  • the solder fillet between the semiconductor chips 11 and 13 the solder fillet between the semiconductor chips 12 and 14, the semiconductor chip 13, Concave portions 102 c are formed in portions facing the solder fillets between 14. For this reason, it is possible to prevent the first and second lead frames 101 and 102 from being short-circuited due to the solder overflowing from the formation regions of the solder fillets 51a and 52a and coming into contact with the second lead frame 102.
  • the other structure in the fourth embodiment is the same as that in the second embodiment, the same effect as the effect (1) of the second embodiment is achieved. Further, as described above, in the fourth embodiment, among the solder fillets formed on the respective sides of the semiconductor chips 11 to 14, the solder fillets formed on the sides adjacent to the other semiconductor chips 11 to 14, ie, long A recess 102c was formed in the second lead frame 102 facing the other solder fillet. For this reason, even when the longer solder fillet overflows, the first and second lead frames 101 and 102 can be prevented from being short-circuited.
  • FIG. 10 shows a fifth embodiment of the present invention and is a schematic plan view of a semiconductor chip mounting structure provided in a power module.
  • the power module 100 according to the fifth embodiment includes three semiconductor chips 21 to 23 arranged in a straight line.
  • the first solder 50 for fixing the semiconductor chips 21 to 23 has a rectangular shape whose length in the arrangement direction, that is, the left-right direction is longer than the length orthogonal to the first direction, ie, the length in the vertical direction, in plan view.
  • Each of the semiconductor chips 21 to 23 is square in plan view.
  • Each of the semiconductor chips 21 to 23 is disposed at a substantially central portion in the left and right direction and the up and down direction of the first solder 50.
  • the illustrated distances a to d are defined as follows.
  • the distance from the side adjacent to the semiconductor chip 22 in the semiconductor chip 21 to the side adjacent to the semiconductor chip 21 of the semiconductor chip 22 is a,
  • the distance from the side adjacent to the conductor chip 23 in the semiconductor chip 21 to the side adjacent to the semiconductor chip 21 of the semiconductor chip 23 is b,
  • the distance from the side adjacent to the lower side end E4 of the first lead frame 101 to the lower side end E4 of the first lead frame 101 is c,
  • the distance from the side adjacent to the upper side end E2 of the first lead frame 101 to the upper side end E2 of the first lead frame 101 is defined as d.
  • the distances a / 2 and b / 2 are shorter than the distances c and d, respectively.
  • the lengths of the solder fillets 51a and 52a formed on the sides adjacent to the other semiconductor chips 22 and 21 of the semiconductor chips 21 and 22 are the semiconductor chips adjacent to the side edges E2 and E4 of the first lead frame 101.
  • the solder fillets 51c and 51d formed on the side 21 are shorter than the length.
  • the lengths of the solder fillets 51c and 51d formed on the semiconductor chip 21 are longer than the lengths of the solder fillets 51a and 52a formed on the semiconductor chips 21 and 22, respectively.
  • the lengths of the solder fillets 51b and 53b formed on the sides adjacent to the other semiconductor chips 23 and 21 of the respective semiconductor chips 21 and 23 are set to the side ends E2 and E4 of the first lead frame 101, respectively. It is formed shorter than the length of the solder fillets 51c and 51d formed on the side of the adjacent semiconductor chip 21. In other words, the lengths of the solder fillets 51c and 51d formed on each semiconductor chip 21 are longer than the lengths of the solder fillets 51b and 53b formed on the semiconductor chips 21 and 23. Thereby, the short circuit of the semiconductor chips 21 and 23 by the overflow of the solder from the formation area of the solder fillets 51b and 53b can be suppressed.
  • the distance a and the distance b are compared, and the length of the solder fillet formed on the shorter side is shortened.
  • the length of the solder fillet 51a is made shorter than the length of the solder fillet 51b.
  • the distance c and the distance d may be compared to shorten the length of the solder fillet formed on the shorter side.
  • the length of the solder fillet 51c may be shorter than the length of the solder fillet 51d.
  • the lengths of the solder fillets 51c and 51d formed on the sides adjacent to the side ends E2 and E4 of the first lead frame 101 in the semiconductor chip 21 are adjacent to the other semiconductor chips 22 and 23. It formed longer than the length of the solder fillets 51a and 51b formed on the side. For this reason, similarly to the effect (1) of the first embodiment, in the semiconductor chip 21, it is possible to suppress the solder from overflowing from the formation area of the solder fillets 51a and 51b formed on the sides adjacent to the semiconductor chips 22 and 23. It is possible to prevent the semiconductor chips 21 to 23 from being short-circuited.
  • a recess 102b may be formed on the inner surface 102a of the second lead frame 102, as in the third embodiment (see FIG. 8). That is, in each of the semiconductor chips 21 to 23, on the portion of the inner surface 102a of the second lead frame 102 corresponding to the solder fillets 51c and 51d formed on the sides adjacent to the side edges E2 and E4 of the first lead frame 101, The recess 102b may be formed.
  • FIG. 11 is a modification of the fifth embodiment illustrated in FIG.
  • the semiconductor chips 21 to 23 are arranged in two rows.
  • the mutual length relationship of the solder fillets 51a to 51d formed on each side of the semiconductor chip 21 arranged in each row is the same as that described with reference to FIG. Therefore, the modification of the fifth embodiment has the same effect as the fifth embodiment.
  • the semiconductor chips 21 to 23 can also be formed in three or more rows. Further, the number of semiconductor chips 21 to 23 arranged in each column may be four or more.
  • FIG. 12 shows a sixth embodiment of the present invention and is a schematic plan view of a semiconductor chip mounting structure provided in a power module.
  • the power module 100 of the sixth embodiment also includes three semiconductor chips 21 to 23 arranged in a straight line. However, each of the semiconductor chips 21 to 23 is arranged at a position away from the center of the first solder 50.
  • the distances b / 2 and c are shorter than the distances a and d, respectively.
  • the distance b / 2 and the distance c are substantially equal, and the distance a and the distance d are substantially equal.
  • the lengths of solder fillets 51b and 53b formed on the sides adjacent to the other semiconductor chips 23 and 21 in the respective semiconductor chips 21 and 23, and the side end E4 of the first lead frame 101 in the semiconductor chip 21 The lengths of the solder fillets 51c formed on adjacent sides are substantially the same.
  • the lengths of the solder fillets 51b and 53b formed on the semiconductor chips 21 and 23 and the length of the solder fillet 51c formed on the semiconductor chip 21 are shorter than the lengths of the solder fillets 51a and 51d formed on the semiconductor chip 21, respectively. Is formed.
  • the lengths of the solder fillets 51a and 51d formed on the semiconductor chip 21 are the lengths of the solder fillets 51b and 53b formed on the semiconductor chips 21 and 23, respectively, and the solder fillets 51c formed on the semiconductor chip 21. It is formed longer than the length of. In the semiconductor chip 22, the length of the solder fillet 52a formed on the side adjacent to the semiconductor chip 21 is substantially the same as the length of the solder fillets 51b and 53b.
  • the lengths of the solder fillets 51a and 51d formed on the semiconductor chip 21 are longer than the lengths of the solder fillets 51b and 53b formed between the semiconductor chip 21 and the semiconductor chip 23. . For this reason, it is possible to prevent the semiconductor chips 21 and 23 from being short-circuited by the solder fillets 51b and 53b.
  • the lengths of the solder fillets 51 a and 51 d formed on the semiconductor chip 21 are longer than the length of the solder fillet 51 c formed on the semiconductor chip 21. For this reason, it is possible to prevent the solder from overflowing from the formation region of the solder fillet 51 c formed on the semiconductor chip 21 to the side end E4 of the first lead frame 101.
  • the recess 102b or 102c may be formed on the inner surface 102a of the second lead frame 102. That is, in the semiconductor chip 21, the solder fillet 51 a formed on the side adjacent to the semiconductor chip 22 and the second solder fillet 51 d formed on the side adjacent to the side ends E 2 and E 4 of the first lead frame 101. Concave portions 102 c and 102 b may be formed on the inner surface 102 a of the lead frame 102.
  • a concave portion 102b is formed on the inner surface 102a of the second lead frame 102 corresponding to the side edge E1 and E2 of the first lead frame 101 or the side adjacent to E2 and E3. May be.
  • FIG. 13 is a diagram illustrating a first modification of the sixth embodiment illustrated in FIG. 12.
  • the semiconductor chips 21 to 23 shown in FIG. 12 are arranged in two rows.
  • the mutual relationship between the distances a to d between the adjacent semiconductor chips 21 to 23 or the side ends E1 to E4 of the first lead frame 101 is one row. Both the eyes and the second row are the same as those in the sixth embodiment shown in FIG.
  • the mutual relationship between the lengths of the solder fillets (51a to 51d, 52a, 53b, etc.) formed on the four sides of each of the semiconductor chips 21 to 23 is shown in FIG. This is the same as the sixth embodiment. Therefore, also in the modification 1, there exists an effect similar to Embodiment 6 shown by FIG.
  • the semiconductor chips 21 to 23 can be formed in three or more rows. Further, the number of semiconductor chips 21 to 23 arranged in each column may be four or more.
  • FIG. 14 is a diagram illustrating a second modification of the sixth embodiment illustrated in FIG. 12. Also in FIG. 14, the semiconductor chips 21 to 23 shown in FIG. 12 are arranged in two rows. However, unlike the first modification shown in FIG. 13, the semiconductor chips 21 to 23 in the second row are arranged in an inverted state with respect to the semiconductor chips 21 to 23 in the first row, respectively. ing.
  • the mutual relationship between the distances a to d between the adjacent semiconductor chips 21 to 23 or the side ends E1 to E4 of the first lead frame 101 is one row. Both the eyes and the second row are the same as those in the sixth embodiment shown in FIG. Also, the mutual relationship between the lengths of the solder fillets (51a to 51d, 52a, 53b, etc.) formed on the four sides of each of the semiconductor chips 21 to 23 is shown in FIG. This is the same as the sixth embodiment. Therefore, also in the modification 2, there exists an effect similar to Embodiment 6 shown by FIG.
  • the arrangement of the semiconductor chips 21 to 23 in the first row and the second row can be alternately added so that the number of rows is three or more. Further, the number of semiconductor chips 21 to 23 arranged in each column may be four or more.
  • FIG. 15 shows a seventh embodiment of the present invention and is a schematic plan view of a semiconductor chip mounting structure provided in a power module.
  • the power module 100 according to the seventh embodiment includes three semiconductor chips 21 to 23 arranged in a straight line, and each of the semiconductor chips 21 to 23 has a horizontal direction and a first solder 50. It is arranged at the substantially central part in the vertical direction.
  • the first solder 50 for soldering the semiconductor chips 21 to 23 has a rectangular shape whose length in the left-right direction is larger than the length in the vertical direction.
  • the seventh embodiment has the following configuration.
  • the distance a from the side of the semiconductor chip 21 adjacent to the semiconductor chip 22 to the side of the semiconductor chip 22 adjacent to the semiconductor chip 21 and the side of the semiconductor chip 21 adjacent to the semiconductor chip 23 adjacent to the semiconductor chip 21 of the semiconductor chip 23 The distance b to the side to be performed is almost equal.
  • the distance c from the side adjacent to the side edge E4 of the first lead frame 101 is substantially equal.
  • the distances c and d are shorter than the distances a / 2 and b / 2, respectively.
  • the lengths of the solder fillets 51a and 52a formed on the sides adjacent to the other semiconductor chips 22 and 21 in the semiconductor chips 21 and 22 are adjacent to the other semiconductor chips 23 and 21 in the semiconductor chips 21 and 23, respectively.
  • the lengths of the solder fillets 51b and 53b formed on the sides to be formed are almost the same.
  • the lengths of the solder fillets 51c and 51d formed on the sides adjacent to the side edges E4 and E2 of the first lead frame 101 are substantially the same.
  • the solder fillets 51a, 51b, 52a, 53b are formed longer than the solder fillets 51c, 51d.
  • the solder fillets 51a, 51b, 52a, and 53b are more likely to overflow the solder fillet formation region than the solder fillets 51c and 51d. As a result, it is possible to prevent the solder from overflowing from the formation regions of the solder fillets 51c and 51d to the side ends E2 and E4 of the first lead frame 101.
  • a recess 102c may be formed on the inner surface 102a of the second lead frame 102 in the same manner as shown in the fourth embodiment (see FIG. 9). That is, in each of the semiconductor chips 21 to 23, a recess is formed in the inner surface 102a of the second lead frame 102 corresponding to the solder fillets 51a, 51b, 52a and 53b formed on the side adjacent to the other semiconductor chips 21 to 23. 102c may be formed.
  • FIG. 16 is a modification of the seventh embodiment shown in FIG.
  • the semiconductor chips 21 to 23 are arranged in two rows.
  • the mutual length relationship of the solder fillets 51a to 51d formed on each side of the semiconductor chip 21 arranged in each row is the same as that described with reference to FIG. Therefore, the modification of the seventh embodiment has the same effect as that of the seventh embodiment.
  • the semiconductor chips 21 to 23 can also be formed in three or more rows. Further, the number of semiconductor chips 21 to 23 arranged in each column may be four or more.
  • FIG. 17 is a diagram showing the first effect of the present invention, and shows the frequency of occurrence of short circuits between semiconductor chips in Example 1 of the present invention.
  • Example 1 has a soldering structure of the first and second lead frames 101 and 102 and the semiconductor chips 11 to 14 shown in FIGS. 3 and 4 as the first embodiment.
  • the first and second lead frames 101 and 102 are formed of a copper plate.
  • Four protrusions 103 are formed on the second lead frame 102, and four semiconductor chips 11 to 14 are mounted corresponding to the protrusions 103, respectively.
  • Each of the semiconductor chips 11 to 14 has a 10 mm square rectangular parallelepiped shape.
  • the distance (a and b etc.) between the adjacent semiconductor chips 11 to 14 was set to 1.0 mm.
  • the distance (c, d, etc.) between each of the semiconductor chips 11-14 and the side edges E1-E4 of the first lead frame 101 was 2.0 mm.
  • the length of solder fillets (51a, 51b, 52a, 53b, etc.) formed on the side adjacent to the other semiconductor chips 11-14 was set to 0.3 mm.
  • the length of solder fillets (51c, 51d, etc.) formed on the sides adjacent to the side edges E1 to E4 of the first lead frame 101 was 1.0 mm.
  • the solder 50 a sheet-like Sn3Ag0.5Cu solder was used.
  • a vacuum reflow apparatus was used, and the connection was made using a temperature profile with a peak at 250 ° C.
  • Example 1 a soldering structure of the first and second lead frames 101 and 102 and the semiconductor chips 11 to 14 shown below was produced.
  • the length of solder fillets (51a, 51b, 52a, 53b, etc.) formed on the side adjacent to the other semiconductor chips 11-14 was set to 0.3 mm.
  • the length of solder fillets (51c, 51d, etc.) formed on the sides adjacent to the side edges E1 to E4 of the first lead frame 101 was set to 0.3 mm. That is, the lengths of the solder fillets formed on the four sides of each of the semiconductor chips 11 to 14 are all 0.3 mm. Except for the above, everything is the same as Example 1.
  • Example 1 and Comparative Example 1 20 pieces of each of Example 1 and Comparative Example 1 were produced.
  • Example 1 and Comparative Example 1 the number of short circuits generated between the semiconductor chips 11 to 14 and the occurrence of solder overflow from the solder fillet formation region on the side end of the first lead frame 101 in the semiconductor chips 11 to 14 The number was examined. The result is shown in FIG.
  • Comparative Example 1 that is, a mounting structure in which the lengths of the solder fillets formed on each of the four sides of the semiconductor chips 11 to 14 are all 0.3 mm, a short circuit between the semiconductor chips 11 to 14 occurs in 7 out of 20 chips. did.
  • the length of the solder fillets (51a, 51b, 52a, 53b, etc.) formed on the side adjacent to the other semiconductor chips 11-14 in the first embodiment, that is, the semiconductor chips 11-14 is set to 0.
  • the semiconductor chip The short circuit between 11 and 14 was 0 out of 20.
  • the number of occurrences of solder overflow from the solder fillets to the side edges E1 to E4 of the first lead frame 101 in the semiconductor chips 11 to 14 was 0 out of 20. It was.
  • the overflow of solder from the formation area of the solder fillet formed in the side adjacent to the other semiconductor chips 11 to 14 in the semiconductor chips 11 to 14 is suppressed. It was confirmed that the chips 11 to 14 can be prevented from short-circuiting each other.
  • FIG. 18 is a diagram showing the second effect of the present invention, and shows the frequency of occurrence of short circuits between semiconductor chips in Example 2 of the present invention.
  • Example 2 has a soldering structure of the first and second lead frames 101 and 102 and the semiconductor chips 11 to 14 shown in FIGS. 6 and 7 as the second embodiment.
  • the first and second lead frames 101 and 102 are formed of a copper plate.
  • Four protrusions 103 are formed on the second lead frame 102, and four semiconductor chips 11 to 14 are mounted corresponding to the protrusions 103, respectively.
  • Each of the semiconductor chips 11 to 14 has a 10 mm square rectangular parallelepiped shape.
  • the distance (a and b etc.) between adjacent semiconductor chips 11 to 14 was set to 3.0 mm.
  • the distance (c, d, etc.) between each of the semiconductor chips 11 to 14 and the side edges E1 to E4 of the first lead frame 101 was 1.0 mm.
  • the length of the solder fillets (51a, 51b, 52a, 53b, etc.) formed on the side adjacent to the other semiconductor chips 11-14 was 1.0 mm.
  • the length of solder fillets (51c, 51d, etc.) formed on the sides adjacent to the side edges E1 to E4 of the first lead frame 101 was set to 0.3 mm.
  • the solder 50 a sheet-like Sn3Ag0.5Cu solder was used.
  • a vacuum reflow apparatus was used, and the connection was made using a temperature profile with a peak at 250 ° C.
  • a soldering structure of the first and second lead frames 101 and 102 and the semiconductor chips 11 to 14 shown below was produced.
  • the length of solder fillets (51a, 51b, 52a, 53b, etc.) formed on the side adjacent to the other semiconductor chips 11-14 was set to 0.3 mm.
  • the length of solder fillets (51c, 51db, etc.) formed on the sides adjacent to the side edges E1 to E4 of the first lead frame 101 was set to 0.3 mm. That is, the lengths of the solder fillets formed on the four sides of each of the semiconductor chips 11 to 14 are all 0.3 mm. Except for the above, everything is the same as Example 2.
  • Example 2 and Comparative Example 2 were produced. Regarding Example 2 and Comparative Example 2, the number of short circuits generated between the semiconductor chips 11 to 14 and the occurrence of overflow of solder from the solder fillet formation region on the side edges of the first lead frame 101 in the semiconductor chips 11 to 14 The number was examined. The result is shown in FIG. In Comparative Example 2, that is, a mounting structure in which the length of the solder fillet formed on each of the four sides of the semiconductor chips 11 to 14 is 0.3 mm, the solder formed on the semiconductor chips 11 to 14 is included in 11 out of 20 chips. Solder overflowed from one of the fillet formation regions to any one of the side ends E1 to E4 of the first lead frame 101.
  • Example 2 that is, in each semiconductor chip 11-14, the length of the solder fillet formed on the side adjacent to the other semiconductor chips 11-14 is 1.0 mm.
  • the solder fillet forming region formed on the semiconductor chips 11 to 14 From any one, 0 out of 20 solders overflowed to the side ends E1 to E4 of the first lead frame 101.
  • the number of occurrences of defects in which the semiconductor chips 11 to 14 were short-circuited to each other was zero.
  • each of the semiconductor chips 11 to 14 has the first region from the formation area of the solder fillet formed on the side adjacent to the side ends E1 to E4 of the first lead frame 101. It is possible to prevent the solder from overflowing to the side edges E1 to E4 of the lead frame 101.
  • the length of solder fillets (51a, 51b, 52a, 53b, etc.) formed on the sides adjacent to the other semiconductor chips 11-14 in each of the semiconductor chips 11-14 is 0.3 mm.
  • the length of the solder fillets (51c, 51d, etc.) formed on the sides adjacent to the side edges E1 to E4 of the first lead frame 101 in each of the semiconductor chips 11 to 14 is exemplified as 1.0 mm.
  • the length of each solder fillet is an example, and the length of solder fillets (51a, 51b, 52a, 53b, etc.) formed on the sides adjacent to the other semiconductor chips 11-14 in each semiconductor chip 11-14.
  • the length may be shorter than 0.3 mm or longer than 0.3 mm.
  • the lengths of solder fillets (51a, 51b, etc.) formed on two sides adjacent to the other semiconductor chips 11-14 in each semiconductor chip 11-14 may be different from each other.
  • the length of solder fillets (51c, 51d, etc.) formed on the sides adjacent to the side edges E1 to E4 of the first lead frame 101 in each of the semiconductor chips 11 to 14 is shorter than 1.0 mm. It may be longer than 1.0 mm.
  • the lengths of solder fillets (51c and 51d, etc.) formed on two sides adjacent to the side edges E1 to E4 of the first lead frame 101 in each of the semiconductor chips 11 to 14 may be different.
  • the length of the solder fillets (51a, 51b, 52a, 53b, etc.) formed on the sides adjacent to the other semiconductor chips 11-14 in each of the semiconductor chips 11-14 is 1.0 mm
  • the length of solder fillets (51c, 51d, etc.) formed on the sides adjacent to the side edges E1 to E4 of the first lead frame 101 is exemplified as 0.3 mm.
  • the length of each solder fillet is an example, and the length of solder fillets (51a, 51b, 52a, 53b, etc.) formed on the sides adjacent to the other semiconductor chips 11-14 in each semiconductor chip 11-14.
  • the length may be shorter than 1.0 mm or longer than 1.0 mm.
  • the lengths of solder fillets (51a, 51b, etc.) formed on two sides adjacent to the other semiconductor chips 11-14 may be different from each other.
  • the length of the solder fillets (51c, 51d, etc.) formed on the sides adjacent to the side edges E1 to E4 of the first lead frame 101 in each of the semiconductor chips 11 to 14 may be shorter than 0.3 mm. It may be longer than 0.3 mm.
  • the lengths of the solder fillets (51c and 51d, etc.) formed on the two sides adjacent to the side edges of the first lead frame 101 in each of the semiconductor chips 11 to 14 may be different.
  • the solder wetting for preventing the solder wetting around the area where the solder fillet is formed As a method for surely adjusting the length of the solder fillet formed on each side of each of the semiconductor chips 11 to 14 and 21 to 23, the solder wetting for preventing the solder wetting around the area where the solder fillet is formed.
  • a prevention structure may be formed.
  • the solder wetting prevention structure can be formed, for example, by applying a solder resist, performing dimple processing, or performing oxidation treatment with a laser or chemical roughening treatment.
  • the semiconductor chips 11 to 14 and 21 to 23 are exemplified as a structure in which the first and second lead frames 101 and 102 are soldered by the solders 50 and 60.
  • the present invention can be applied to a structure that does not include the second lead frame 102.
  • the semiconductor chips 11 to 14 and 21 to 23 are exemplified as a structure in which the protrusion 103 is provided on the second lead frame 102 to be soldered by the solder 60.
  • the second lead frame 102 may have a structure in which the protruding portion 103 is not formed.
  • the semiconductor chips 11 to 14 and 21 to 23 are exemplified as structures that are soldered to the first and second lead frames 101 and 102 by the solders 50 and 60.
  • a cast product such as aluminum die-cast or a sintered body such as ceramic can be used.
  • Embodiments 1 to 7 may be selectively combined.
  • the present invention can be variously modified and applied within the scope of the gist of the invention.
  • the first side of the second semiconductor chip is the first side of the first semiconductor chip.
  • the distance from the second side of the first semiconductor chip to the second side of the first semiconductor chip in the third semiconductor chip is 1 ⁇ 2 of the distance to one side adjacent to the first side of the semiconductor chip.
  • the shortest distance among the distance of 1/2 of the distance to one adjacent side and the distance from at least one of the third side or the fourth side of the first semiconductor chip to the side edge of the base plate What is necessary is that the length of the solder fillet of the first semiconductor chip formed on the side of the portion to be formed is the shortest.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Abstract

 パワーモジュールは、ベース板と、第一、第二および第三の半導体チップとを備え、第一の半導体チップの第3または第4の辺の少なくとも一方は、ベース板の側端に隣接して配置され、第一の半導体チップの第1の辺から第二の半導体チップの一辺までの距離の1/2の距離と、第一の半導体チップの第2の辺から第三の半導体チップの一辺までの距離の1/2の距離と、ベース板の側端に隣接して配置された第一の半導体チップの第3または第4の辺からベース板の側端までの距離とのうち、最も短い距離となる箇所の辺に形成された第一の半導体チップのはんだフィレットの長さが最も短く形成されている。

Description

パワーモジュール
 本発明は、パワー用の半導体チップを備えるパワーモジュールに関する。
 ハイブリッド車やプラグインハイブリッド車、電気自動車などの車両には、動力駆動用の高電圧蓄電池と、高電圧蓄電池の直流高電圧出力を交流高電圧出力に電力変換してモータを駆動するためのインバータ等が搭載される。インバータには、パワー用の半導体チップを内蔵するパワーモジュールを備えている。
 パワーモジュールとして、放熱板に熱結合される一対の導体板間に半導体チップが実装された構造が知られている。なお、導体板を放熱板と兼用するパワーモジュールが知られている。半導体チップは、一面および一面に対向する他面を有し、一対の導体板間に挟まれた状態で、半導体チップの一面および他面が、それぞれ、一対の導体板の一方または他方にはんだ付けされる。高実装密度化を図り、一対の導体板間に複数の半導体チップが実装されることもある。また、一対の導体板間における半導体チップの周囲に封止樹脂が充填されることもある(例えば、特許文献1参照)。
日本国特開2005-244166号公報
 高実装密度化を図り、導体板上に実装される半導体チップ間の距離または半導体チップと導体板の周囲外線との距離をより小さくすることが求められている。しかし、従来では、半導体チップ相互間の距離および半導体チップと導体板の周囲外線との距離は、すべて等しくされていた。このため、半導体チップ相互間の距離および半導体チップと導体板の周囲外線との距離の一部でも所定の距離より小さくなると、半導体チップと導体板を接合するはんだフィレットの形成領域からはんだが溢れることにより半導体チップ同士が短絡したり、導体板の周囲外線からはんだフィレットの形成領域からはんだが溢れ出たりする可能性が生じる。はんだフィレットの形成領域のはんだが導体板の周囲外線から溢れ出ると、他の部材との間で短絡が生じたり、溢れたはんだが落剥して導電性異物となり故障や性能の低下を起こす要因となったりする。
 本発明の第1の態様によると、パワーモジュールは、ベース板と、四つの辺を有する第一の半導体チップと、前記第一の半導体チップの第1の辺に隣接して配置された一辺を含む四つの辺を有し、前記ベース板にはんだ付けされた第二の半導体チップと、前記第一の半導体チップの第2の辺に隣接して配置された一辺を含む四つの辺を有し、前記ベース板にはんだ付けされた第三の半導体チップとを備え、前記第一の半導体チップの第3の辺または第4の辺の少なくとも一方は、前記ベース板の側端に隣接して配置され、前記第一の半導体チップの第1の辺から前記第二の半導体チップの前記一辺までの距離の1/2の距離と、前記第一の半導体チップの第2の辺から前記第三の半導体チップの前記一辺までの距離の1/2の距離と、前記ベース板の前記側端に隣接して配置された前記第一の半導体チップの前記第3の辺または前記第4の辺から前記ベース板の側端までの距離とのうち、 最も短い距離となる箇所の辺に形成された前記第一の半導体チップのはんだフィレットの長さが最も短く形成されている。
 本発明によれば、はんだフィレット形成領域からのはんだの溢れにより半導体チップが短絡したり、ベース板の側端から溢れ出たりするのを抑制することができる。
本発明のパワーモジュールの一実施の形態を示す外観斜視図。 図1に示すパワーモジュールのII-II線断面図。 半導体チップの実装構造を示す模式的平面図。 図2の領域IVの拡大断面図であり、図3のIV-IV線断面図。 はんだフィレット表面積の増加量とはんだフィレット形成領域の長さとの関係を説明するための図であり、(a)は、半導体チップのはんだ付け構造の基準を示すための断面図、(b)は、はんだフィレット表面積増加量とはんだフィレット形成領域の長さとの関係を示す特性図。 本発明の実施形態2を示し、パワーモジュールに設けられた半導体チップの実装構造の模式的平面図。 図6のVII-VII線断面図。 本発明の実施形態3を示し、パワーモジュールに設けられた半導体チップの実装構造の断面図。 本発明の実施形態4を示し、パワーモジュールに設けられた半導体チップの実装構造の断面図。 本発明の実施形態5を示し、パワーモジュールに設けられた半導体チップの実装構造の模式的平面図。 実施形態5の変形例を示す図。 本発明の実施形態6を示し、パワーモジュールに設けられた半導体チップの実装構造の模式的平面図。 実施形態6の変形例1を示す図。 実施形態6の変形例2を示す図。 本発明の実施形態7を示し、パワーモジュールに設けられた半導体チップの実装構造の模式的平面図。 実施形態7の変形例を示す図。 本発明の第1の効果を示す図であり、本発明の実施例1における半導体チップ間の短絡の発生頻度を示す。 本発明の第2の効果を示す図であり、本発明の実施例2におけるフレーム側端へのはんだ溢れの発生頻度を示す。
-実施形態1-
(パワーモジュールの全体構造)
 以下、図1乃至図4を参照して、本発明のパワーモジュールの実施形態1を説明する。
 図1は、本発明のパワーモジュールの一実施の形態を示す外観斜視図であり、図2は、図1に示すパワーモジュールのII-II線断面図である。
 本発明の実施形態に係るパワーモジュール100は、例えば、自動車に搭載される回転電機駆動システムの車載用電力変換装置等に用いることができる。
 パワーモジュール100は、第1のリードフレーム101および第2のリードフレーム102間に実装された、後述する、複数のパワー用の半導体チップ11~14(図3等参照)が収容されたモジュールケース201を備えている。
 モジュールケース201は、アルミ合金材料、例えばAl、AlSi、AlSiC、Al-C等から構成され、かつ、つなぎ目の無い一体成形された、キャン型(以下CAN型と記す)の形状をなす。ここで、CAN型とは、所定の一面に挿入口306を備え、かつ有底の略直方体形状の容器を指す。また、モジュールケース201は、挿入口306以外に開口を設けない構造であり、挿入口306は、フランジ304Bに、その外周を囲まれている。
 このような形状の金属性のケースとすることで、モジュールケース201を水や油などの冷却媒体が流れる流路内に挿入しても、冷却媒体に対するシールをフランジ304Bにて確保できる。つまり、冷却媒体がモジュールケース201の内部及び端子部分に侵入するのを、簡易な構成にて防ぐことができる。
 モジュールケース201のフランジ304Bの下方は、フィン305が均一に配置された一対の放熱ベース307を有する薄型の直方体形状とされている。各放熱ベース307のフランジ304Bとの接続部には、厚みが極端に薄くなっている湾曲部304Aが形成されている。放熱ベース307の内面と第1、第2のリードフレーム101、102との間には、それぞれ、熱伝導性が高い絶縁シート333が介装されている。パワー用の半導体チップ11~14は動作時に発熱して高温となる。本実施形態のパワーモジュール100では、半導体チップ11~14の動作時の発熱が、第1、第2のリードフレーム101、102で拡散して絶縁シート333に伝わる。そして、モジュールケース201に形成された放熱ベース307、および放熱ベース307に設けられたフィン305から冷却媒体に放熱される。このため、高い冷却性能を実現することができる。
 半導体チップ11~14は、第1のリードフレーム101および第2のリードフレーム102間にはんだ付けにより実装され、その周囲は、一次封止材350により封止されている。半導体チップ11~14と、第1のリードフレーム101および第2のリードフレーム102との実装構造については後述する。
 第1のリードフレーム101は、上方に延出される複数のリード111を有する。各リード111の先端は一次封止材350の外部に露出している。つまり、リード111の先端が露出され状態で、第1のリードフレーム101は一次封止材350に一体成形される。リード111の先端には、それぞれ、直流正・負極端子、交流端子121、および複数の外部信号端子122がはんだ付け等により接合されている。直流正・負極端子および交流端子121、複数の外部信号端子122、および第1のリードフレーム101のリード111は、補助モールド体380に一体成形されている。
 第1のリードフレーム101が一体に形成された一次封止材350は、補助モールド体380に一体に形成された直流正・負極端子および交流端子121、複数の外部信号端子122が、それぞれ、第1のリードフレーム101の対応するリード111に接続された状態でモジュールケース201内に収容される。この状態で、フランジ304Bの挿入口306から二次封止材351が充填される。二次封止材351は、フランジ304Bの内側および第1、第2のリードフレーム101、102の周側縁と一次封止材350との隙間に充填される。また、二次封止材351は、モジュールケース201の底面と一次封止材350の下面との間にも充填される。パワーモジュール100は、このような構造を有しており、高電圧蓄電池の直流高電圧出力を交流高電圧出力に電力変換して、例えば、モータを駆動するためのインバータの機能を果たす。
(半導体チップの実装構造)
 図3は、半導体チップの実装構造を示す模式的平面図であり、図4は、図2の領域IVの拡大断面図であり、図3のIV-IV線断面図である。なお、図3では、第2のリードフレーム102を取り除いた状態で図示されている。また、図4では、リード111等、図2の領域IVの外部の図示が省略されている。
 第1のベース板、すなわち第1のリードフレーム101、および第2のベース板、すなわち第2のリードフレーム102は、金属板を打ち抜き加工して形成されている。金属板としては、銅系、アルミニウム系、鉄系等の材料を用いることができる。第1、第2のリードフレーム101、102は熱伝導率が高いことが好ましい。このため、熱伝導率に優れている、特に、銅系、アルミニウム系の材料が好ましい。
 第1、第2のリードフレーム101、102は、離間対向して配置されており、第1、第2のリードフレーム101、102の間に四つの半導体チップ11~14が配置されている。図4に示すように、第2のリードフレーム102には、半導体チップ11~14のそれぞれに対向する四つの突出部103が形成されている。四つの突出部103は、2行×2列のマトリックス状に配置されている。
 半導体チップ11~14は、薄い直方体形状を有し、例えば、IGBT(絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ)により構成されている。IGBTと共にダイオードや受動素子が含まれていてもよい。各半導体チップ11~14は、図4では下面となる一面fLと、図4では上面となる他面fUとを有している。各半導体チップ11~14の他面fUには、例えば、IGBTのコレクタ電極が形成されている。また、各半導体チップ11~14の一面fLには、IGBTのエミッタ電極および複数の制御電極が形成されている。各制御電極は、図示はしないが、ボンディングワイヤにより、リード111に接続されている。
 各半導体チップ11~14の一面fLは、第1のリードフレーム101の第1のはんだ50によりはんだ付けされている。各半導体チップ11~14の他面fUは、第2のリードフレーム102の突出部103に、第2のはんだ60によりはんだ付けされている。突出部103は、平面視で、半導体チップ11~14より少し小さい矩形形状に形成されている。各半導体チップ11~14の他面fUが第2のリードフレーム102の突出部103にはんだ付けされる構造であるので、半導体チップ11~14も、突出部103と同様、2行×2列のマトリックス状に配置されている。
 第1、第2のはんだ50、60のはんだ材としては、Snを多く含むSn系の他、Au系、Zn-Al系、Al系を用いることができる。また、はんだ材の他、Agペースト、Cuペースト、焼成Ag、焼成Cu等の樹脂を含む材料を用いることもできる。樹脂を含む材料では、粘性が低いものが好ましい。
 図3、図4に図示される半導体チップの実装構造は、例えば、下記の手順で形成される。
第1のリードフレーム101に、第1のはんだ50として固化するはんだ素材を供給する。このはんだとして、シートはんだを用いることができる。または、はんだペーストを印刷により形成したり、溶融はんだを供給したりする方法を用いることもできる。第1のはんだ50として固化するはんだ素材上に、半導体チップ11~14を載置する。各半導体チップ11~14上に第2のはんだ60として固化するはんだ素材を供給する。このはんだ素材の供給は、第1のはんだ50として固化するはんだ素材と同様に行うことができる。第2のはんだ60として固化するはんだ素材に突出部103を位置合わせして、第2のリードフレーム102を第2のはんだ60として固化するはんだ素材上に載置する。第1のリードフレーム101に対して第2のリードフレーム2を加圧しながら加熱して、第1、第2のリードフレーム101、102に各半導体チップ11~14をはんだ付けする。これにより、図3、図4に図示される半導体チップ11~14の実装構造が作製される。
 次に、半導体チップ11~14の実装構造を、より詳細に説明する。
(半導体チップと第1のリードフレームとのはんだ付け構造)
 図3、図4に図示されるように、各半導体チップ11~14は、第1のはんだ50の中央部に配置されておらず、中央部よりも隣接する他の半導体チップ11~14に接近する位置に配置されている。
 図示の距離a~dを下記のように定義する。なお、第1のリードフレーム101の四辺、すなわち側端E1~E4を、図3に図示された通りとする。
 半導体チップ11と半導体チップ12との間の距離、すなわち、半導体チップ11と半導体チップ12が互いに対向する辺の間の距離をaとし、
 半導体チップ11と半導体チップ13との間の距離、すなわち、半導体チップ11と半導体チップ13が互いに対向する辺の間の距離をbとし、
 半導体チップ11の左辺と第1のリードフレーム101の左側の側端E1との間の距離をcとし、
 半導体チップ11の上辺と第1のリードフレーム101の上側の側端E2との間の距離をdとする。
 半導体チップ11と半導体チップ12との間には、半導体チップ11のはんだフィレット51aと半導体チップ12のはんだフィレット52aとが形成される。半導体チップ11と半導体チップ13との間には、第一の半導体チップ11のはんだフィレット51bと半導体チップ13のはんだフィレット53bとが形成される。
 はんだフィレット51aの長さとはんだフィレット52aの長さとが同一であり、はんだフィレット51bの長さとはんだフィレット53bの長さとが同一であるとする。この場合、はんだフィレット51a、52aの各長さは、a/2以下とし、はんだフィレット51b、53bの各長さはb/2以下とする必要がある。なお、本明細書において、はんだフィレットの長さとは、図5(a)に図示されるように半導体チップの辺からはんだフィレットの先端までの長さlとする。
 各半導体チップ11~14は、第1のリードフレーム101上にほぼ四等分されたチップ実装領域の中央部よりも隣接する他の半導体チップ11~14に接近する位置に配置されている。ここで、第2のリードフレーム102の4つの突出部103の中心は、各チップ実装領域で偏って実装された半導体チップ11~14の中心と合致する。距離a/2、b/2は、それぞれ、距離c、dよりも短くなっている。半導体チップ間の距離が短いほど、または半導体チップとベース板の側端との距離が短いほど、はんだフィレットの溢れにより半導体チップ同士が短絡したり、ベース板の側端からはんだフィレットが溢れたりする可能性が大きくなる。
 そこで、半導体チップ11、12それぞれにおける、他の半導体チップ12、11に隣接する辺に形成されるはんだフィレット51a、52aの長さを、第1のリードフレーム101の側端E1、E2に隣接する半導体チップ11の2つの辺に形成されるはんだフィレット51c、51dの長さよりも短く形成する。換言すれば、はんだフィレット51c、51dの長さを、はんだフィレット51a、52aの長さより長く形成する。これにより、はんだフィレット51a、52aの形成領域からのはんだの溢れによる半導体チップ11、12の短絡を抑制することができる。
 同様に、各半導体チップ11、13それぞれにおける、他の半導体チップ13、11に隣接する辺に形成されるはんだフィレット51b、53bの長さを、第1のリードフレーム101の側端E1、E2に隣接する半導体チップ11の2つの辺に形成されるはんだフィレット51c、51dの長さよりも短く形成する。換言すれば、はんだフィレット51c、51dの長さを、はんだフィレット51b、53bの長さより長く形成する。これにより、はんだフィレット51b、53bの形成領域からのはんだの溢れによる半導体チップ11、13の短絡を抑制することができる。
 また、距離aと距離bとを比較して、短い方に形成されるはんだフィレットの長さを短くする。例えば、距離aが距離bよりも短い場合は、はんだフィレット51aの長さをはんだフィレット51bの長さよりも短く形成する。
 また、距離cと距離dとを比較して、短い方に形成されるはんだフィレットの長さを短く形成するようにしてもよい。例えば、距離cが距離dよりも短い場合は、はんだフィレット51cの長さをはんだフィレット51dの長さよりも短く形成するようにしてもよい。
 上記実施形態において、はんだフィレット51a、51b、52a、53bの長さを短くすることができる理由を説明する。
 液体の表面は表面張力が働くため、表面積を小さくするように、すなわち表面エネルギが小さくなるように表面張力が働く。よって、表面積が大きくなろうとする場合、表面張力に対抗して大きくなるためのエネルギが必要である。はんだの表面積の増加量が多くなればなるほど、その増加のために必要なエネルギは多くなる。
 はんだフィレットが形成される際のはんだ溢れは、所定のはんだ体積に対し、はんだフィレット形成領域の長さが短いことに起因して、はんだ内の圧力が上昇し、はんだフィレット形成領域においてはんだが膨らむことにより発生する。はんだフィレットを形成するはんだ体積を同一とした場合、はんだフィレットの長さに依存して、はんだの表面積の増加量は変化する。
 はんだフィレットの長さlとはんだの表面積の増加量との相関の一例を図5に示す。図5(a)は、半導体チップのはんだ付け構造の基準を示すための断面図であり、図5(b)は、はんだフィレット表面積増加量とはんだフィレット形成領域の長さとの関係を示す特性図である。
 図5(a)に示す半導体チップとベース板とのはんだ付け構造において、チップサイズは10mm角である。はんだの厚さtは0.2mmである。
 図5(b)におけるはんだフィレット表面積増加量は、半導体チップがはんだの表面から0.05mm沈んだ場合のはんだフィレット表面積の増加量を導出したものである。はんだ表面積は、はんだフィレットが円弧状に膨らむと仮定している。
 図5(b)により、はんだフィレット形成領域の長さlが長くなるほど、はんだ表面積の増加量は少なくなることが解る。換言すれば、はんだフィレット形成領域の長さlが短いほど、はんだフィレットのはんだ表面積の増加量は増加する。上述したように、はんだ表面積の増加量が多くなればなるほど、その増加のために必要なエネルギは多くなる。この現象を利用して、半導体チップ11を第1のリードフレーム101に加圧した際に、第1のはんだ50が溶融した状態のはんだ素材にかかるエネルギを、はんだフィレット形成領域の長さlが長いはんだフィレット51c、51dの表面積を増加させることにより消費させる。これにより、はんだフィレット形成領域の長さlが短いはんだフィレット51a、51bの表面積の増加、換言すれば、はんだフィレット形成領域からのはんだの溢れを抑制することが可能となる。
 図4を参照して、各半導体チップ11~14は、突出部103と同心に配置されている。すなわち、半導体チップ11~14それぞれの四つの辺の各辺と突出部103の四つの辺の各辺との間隔は、ほぼ同一である。従って、各半導体チップ11~14と突出部103とを接合する第2のはんだ60は、半導体チップ11~14それぞれの四つの辺の各辺には、同じ長さのはんだフィレット61が形成されている。
 はんだフィレット61の長さは、はんだフィレット51a、51bのいずれよりも短く形成することができる。この理由は、以下の通りである。
 上述した通り、半導体チップ11~14は、第1のリードフレーム101、第1のはんだ、半導体チップ11~14、第2のはんだ60および第2のリードフレーム102が積層された状態で、加熱・加圧してはんだ付けされる。すなわち、はんだ付け時には、第1のはんだ50および第2のはんだ60が共に溶融状態となっている。この状態では、第1のはんだ50と第2のはんだ60とは、分離して形成されているが、はんだフィレット表面積増加量とはんだフィレット形成領域の長さとの関係では、図5(b)に示された関係を有している。このため、第1、第2のはんだ50、60が溶融した状態のはんだ素材にかかるエネルギを、はんだフィレット形成領域の長さlが長いはんだフィレット51c、51dおよび51a、51bの表面積を増加させることにより消費させる。これにより、はんだフィレット形成領域の長さlが短いはんだフィレット61の表面積の増加、換言すれば、はんだフィレット形成領域からのはんだの溢れを抑制することが可能となる。
 なお、はんだフィレット61の長さは、必ずしも、はんだフィレット51a、51b、の長さのいずれよりも短くする必要は無い。
 なお、上記では半導体チップ11について説明したが、半導体チップ12~14に関し半導体チップ11の場合と同様である。つまり、半導体チップ12~14それぞれにおいても、他の半導体チップ11~14に隣接する辺に形成されるはんだフィレットの長さは、第1のリードフレーム101の側端E1~E4に隣接する辺に形成されるはんだフィレットの長さよりも短く形成されている。
 上記実施形態によれば、下記の効果を奏する。
(1)第1のリードフレーム101に、半導体チップ11~14を、それぞれ、第1のはんだ50によりはんだ付けした。半導体チップ11~14それぞれにおいて、第1のリードフレーム101の側端E1~E4に隣接する辺に形成されたはんだフィレットの長さを、他の半導体チップ11~14に隣接する辺に形成されたはんだフィレットの長さよりも長く形成した。
 このため、各半導体チップ11~14の、他の半導体チップ11~14に隣接する辺に形成されるはんだフィレットの形成領域からはんだが溢れるのを抑制し、半導体チップ11~14が相互に短絡するのを防止することができる。
-実施形態2-
 図6は、本発明の実施形態2を示し、パワーモジュールに設けられた半導体チップの実装構造の模式的平面図あり、図7は、図6のVII-VII線断面図である。
 実施形態2において、第1、第2のリードフレーム101、102、半導体チップ11~14、および第1、第2のはんだ50、60は、実施形態1と同じ部材である。実施形態2が実施形態1と異なる点は、半導体チップ11~14それぞれが、第1のはんだ50の中央部よりも、第1のリードフレーム101の各コーナー部に接近する位置に配置されている点である。
 すなわち、実施形態2における距離a、b、c、dの定義を実施形態1と同じとすると、下記の構成となっている。
 半導体チップ11を一例に説明する。第1のリードフレーム101の側端E1、E2に隣接する2つの辺に形成されたはんだフィレット51c、51dの長さは、半導体チップ11における他の半導体チップ12に隣接する辺に形成されたはんだフィレット51aの長さと、半導体チップ12における他の半導体チップ11に隣接する辺に形成されたはんだフィレット52aの長さよりも短く形成されている。換言すれば、各半導体チップ11、12に形成されたはんだフィレット51a、52aの長さは、半導体チップ11の2つの辺に形成されたはんだフィレット51c、51dの長さより長く形成されている。これにより、はんだフィレット51c、51dの形成領域からはんだが第1のリードフレーム101の側端E1、E2に溢れ出るのが抑制される。
 同様に、第1のリードフレーム101の側端E1、E2に隣接する半導体チップ11の2つの辺に形成されるはんだフィレット51c、51dの長さは、半導体チップ11における他の半導体チップ13に隣接する辺に形成されたはんだフィレット51bと、半導体チップ13における他の半導体チップ11に隣接する辺に形成されたはんだフィレット53bの長さよりも短く形成されている。換言すれば、各半導体チップ11、13に形成されたはんだフィレット51b、53bの長さは、半導体チップ11の2つの辺に形成されたはんだフィレット51c、51dの長さより長く形成されている。これにより、はんだフィレット51c、51dの形成領域からはんだが第1のリードフレーム101の側端E1、E2に溢れ出るのが抑制される。
 また、距離cと距離dとを比較して、短い方に形成されるはんだフィレットの長さを短くする。例えば、距離cが距離dよりも短い場合は、はんだフィレット51cの長さをはんだフィレット51dの長さよりも短く形成する。
 また、距離aと距離bとを比較して、短い方に形成されるはんだフィレットの長さを短くするようにしてもよい。例えば、距離aが距離bよりも短い場合は、はんだフィレット51aの長さを、はんだフィレット51bの長さよりも短く形成するようにしてもよい。
 なお、半導体チップ12~14に関しても、半導体チップ12~14それぞれの各辺から隣接する他の半導体チップ11~14の各辺までの距離aの1/2、距離bの1/2と、半導体チップ12~14それぞれの各辺から第1のリードフレーム101の側端E1~E4までの距離c、dとの関係は、半導体チップ11の場合と同様である。また、半導体チップ12~14それぞれの各辺に形成されるはんだフィレットの長さは、半導体チップ11の各辺に形成されるはんだフィレットと同様である。すなわち、半導体チップ12~14に関しても、第1のリードフレーム101の側端E1~E4に隣接する辺に形成されるはんだフィレットの長さは、他の半導体チップ11~14に隣接する辺に形成されるはんだフィレットの長さより短く形成されている。
 実施形態2によれば下記の効果を奏する。
(1)第1のリードフレーム101に、半導体チップ11~14を第1のはんだ50によりはんだ付けした。各半導体チップ11~14それぞれにおいて、他の半導体チップ11~14に隣接する辺に形成されたはんだフィレットの長さを、第1のリードフレーム101の側端に隣接する辺に形成されたはんだフィレットの長さよりも長く形成した。
 このため、各半導体チップ11~14における、第1のリードフレーム101の側端に隣接する辺に形成されるはんだフィレットの形成領域から第1のリードフレーム101の側端にはんだが溢れ出るのを抑制することができる。
-実施形態3-
 図8は、本発明の実施形態3を示し、パワーモジュールに設けられた半導体チップの実装構造の断面図である。図8は、パワーモジュールの実施形態1の図4に対応する領域の図である。
 実施形態3のパワーモジュール100は、第2のリードフレーム102における、第1のリードフレーム101に対向する内面102aに凹部102bが形成されている点で、実施形態1と相違する。実施形態3のパワーモジュール100の他の構成は、実施形態1と同様である。
 実施形態1で説明した通り、はんだフィレット51c、51dは、第1のリードフレーム101の側端E1、E2に隣接する辺に形成されており、その長さは半導体チップ11、12それぞれの、他の半導体チップ12、11に隣接する辺に形成されたはんだフィレット51a、52aの長さより長く形成されている。従って、はんだフィレット51c、51dの形成領域からはんだが溢れ易い。
 実施形態3では、第2のリードフレーム102の内面102aにおける、はんだフィレット51c、52cが対向する部分に凹部102bが形成されている。図8では、第2のリードフレーム102の側端E1、E3について説明しているが、側板E2、E4についても同様に凹部102bが形成されている。上述した通り、はんだフィレット形成領域の長さが長いとはんだが溢れ易い。このため、はんだフィレット形成領域の長さが長いはんだフィレット51c、52c、51d、52の形成領域からはんだが溢れて第2のリードフレーム102に接触し、第1、第2のリードフレーム101、102が短絡することがある。実施形態3では、はんだが溢れ易い箇所に対応して第2のリードフレーム102に凹部102bが形成されているため、第1、第2のリードフレーム101、102が短絡を防止することができる。
 実施形態3における他の構造は、実施形態1と同一であるので、実施形態1の効果(1)と同じ効果を奏する。
 また、上述したように、実施形態3では、半導体チップ11~14の各辺に形成されたはんだフィレットのうち、第1のリードフレーム101に隣接する辺に形成されたはんだフィレット、すなわち、長い方のはんだフィレットに対向する第2のリードフレーム102の部分に凹部102bを形成した。このため、長い方のはんだフィレットの形成領域からはんだが溢れた場合でも、第1、第2のリードフレーム101、102の短絡を防止することができる。
-実施形態4-
 図9は本発明の実施形態4示し、パワーモジュールに設けられた半導体チップの実装構造の断面図である。図9は、パワーモジュールの実施形態2の図7に対応する領域の図である。
 実施形態4パワーモジュール100は、第2のリードフレーム102に、第1のリードフレーム101に対向する内面102aに凹部102cが形成されている点で、実施形態2と相違する。実施形態4のパワーモジュール100の他の構成は、実施形態2と同様である。
 実施形態2で説明した通り、はんだフィレット51a、52aは、それぞれ、半導体チップ11、12における、他の半導体チップ12、11に隣接する辺に形成されており、その長さは、半導体チップ11における、第1のリードフレーム101の側端E1、E2に隣接する辺に形成されたはんだフィレット51c、51dの長さより長く形成されている。従って、はんだフィレット51a、52aの形成領域からはんだが溢れ易い。
 実施形態4では、第2のリードフレーム102の内面102aにおける、はんだフィレット51a、52aに対向する部分に凹部102cが形成されている。図9では、半導体チップ11、12の間のはんだフィレット51a、52aについて説明しているが、半導体チップ11、13の間のはんだフィレット、半導体チップ12、14の間のはんだフィレット、半導体チップ13、14の間のはんだフィレットにそれぞれ対向する部分に凹部102cが形成されている。このため、はんだフィレット51a、52aの形成領域からはんだが溢れて第2のリードフレーム102に接触し、第1、第2のリードフレーム101、102が短絡するのを防止することができる。
 実施形態4における他の構造は、実施形態2と同一であるので、実施形態2の効果(1)と同じ効果を奏する。
 また、上述したように、実施形態4では、半導体チップ11~14それぞれの各辺に形成されたはんだフィレットのうち、他の半導体チップ11~14に隣接する辺に形成されたはんだフィレット、すなわち長い方のはんだフィレットに対向する第2のリードフレーム102に凹部102cを形成した。このため、長い方のはんだフィレットが溢れた場合でも、第1、第2のリードフレーム101、102の短絡を防止することができる。
-実施形態5-
 図10は、本発明の実施形態5を示し、パワーモジュールに設けられた半導体チップの実装構造の模式的平面図である。
 実施形態5のパワーモジュール100は、直線状に配列された3つの半導体チップ21~23を備えている。各半導体チップ21~23を固定する第1のはんだ50は、平面視で、配列方向、すなわち左右方向の長さが、それに直交する方向、すなわち上下方向の長さよりも長い矩形形状を有する。各半導体チップ21~23は平面視が正方形である。各半導体チップ21~23は、第1のはんだ50における左右方向及び上下方向のほぼ中央部に配置されている。
 図示の距離a~dを下記のように定義する。
 半導体チップ21における、半導体チップ22に隣接する辺から半導体チップ22の半導体チップ21に隣接する辺までの距離をaとし、
 半導体チップ21における、導体チップ23に隣接する辺から半導体チップ23の半導体チップ21に隣接する辺までの距離をbとし、
 半導体チップ21における、第1のリードフレーム101の下方側の側端E4に隣接する辺から第1のリードフレーム101の下方側の側端E4までの距離をcとし、
 半導体チップ21における、第1のリードフレーム101の上方側の側端E2に隣接する辺から第1のリードフレーム101の上方側の側端E2までの距離をdとする。
 実施形態5では、距離a/2、b/2は、それぞれ、距離c、dよりも短くなっている。
 半導体チップ21、22それぞれの、他の半導体チップ22、21に隣接する辺に形成されたはんだフィレット51a、52aの長さは、第1のリードフレーム101の側端E2、E4に隣接する半導体チップ21の辺に形成されたはんだフィレット51c、51dの長さよりも短く形成されている。換言すれば、半導体チップ21に形成されたはんだフィレット51c、51dの長さは、半導体チップ21、22それぞれに形成されたはんだフィレット51a、52aの長さよりも長く形成されている。これにより、はんだフィレット51a、52aの形成領域からのはんだの溢れによる半導体チップ21、22の短絡を抑制することができる。
 同様に、各半導体チップ21、23それぞれの、他の半導体チップ23、21に隣接する辺に形成されたはんだフィレット51b、53bの長さは、第1のリードフレーム101の側端E2、E4に隣接する半導体チップ21の辺に形成されたはんだフィレット51c、51dの長さよりも短く形成されている。換言すれば、各半導体チップ21に形成されたはんだフィレット51c、51dの長さは、半導体チップ21、23に形成されたはんだフィレット51b、53bの長さよりも長く形成されている。これにより、はんだフィレット51b、53bの形成領域からのはんだの溢れによる半導体チップ21、23の短絡を抑制することができる。
 また、距離aと距離bとを比較して、短い方に形成されるはんだフィレットの長さを短くする。例えば、距離aが距離bよりも短い場合は、はんだフィレット51aの長さをはんだフィレット51bの長さよりも短くする。
 また、距離cと距離dとを比較して、短い方に形成されるはんだフィレットの長さを短くするようにしてもよい。例えば、距離cが距離dよりも短い場合は、はんだフィレット51cの長さをはんだフィレット51dの長さよりも短くするようにしてもよい。
 実施形態5では、半導体チップ21における、第1のリードフレーム101の側端E2,E4に隣接する辺に形成されたはんだフィレット51c、51dの長さを、他の半導体チップ22、23に隣接する辺に形成されたはんだフィレット51a、51bの長さよりも長く形成した。
 このため、実施形態1の効果(1)と同様に、半導体チップ21における、半導体チップ22、23に隣接する辺に形成されたはんだフィレット51a、51bの形成領域からはんだが溢れるのを抑制し、半導体チップ21~23が短絡するのを防止することができる。
 なお、実施形態5において、実施形態3(図8参照)に示したと同様に、第2のリードフレーム102の内面102aに凹部102bを形成するようにしてもよい。すなわち、各半導体チップ21~23における、第1のリードフレーム101の側端E2、E4に隣接する辺に形成するはんだフィレット51c、51dに対応する第2のリードフレーム102の内面102aの部分に、凹部102bを形成してもよい。
-実施形態5の変形例-
 図11は、図10に図示された実施形態5の変形例である。
 図11に示された変形例では、半導体チップ21~23が2列に配列されている。
 各列に配置された半導体チップ21の各辺に形成されるはんだフィレット51a~51dの相互の長さ関係は、図10について説明した関係と同一である。従って、実施形態5の変形例は、実施形態5と同様な効果を奏する。
 半導体チップ21~23は、3列以上に形成することもできる。
 また、各列に配置する半導体チップ21~23の数を4つ以上とすることもできる。
-実施形態6-
 図12は、本発明の実施形態6を示し、パワーモジュールに設けられた半導体チップの実装構造の模式的平面図である。
 実施形態6のパワーモジュール100も、実施形態5と同様に、直線状に配列された3つの半導体チップ21~23を備えている。しかし、各半導体チップ21~23は、第1のはんだ50の中央部から外れた位置に配置されている。
 図示の距離a~dの定義を、実施形態5と同一とするとき、実施形態6では、距離b/2、cは、それぞれ、距離a、dよりも短くなっている。また、距離b/2と距離cとは、ほぼ等しく、距離aと距離dとは、ほぼ等しくなっている。
 各半導体チップ21、23それぞれにおける、他の半導体チップ23、21に隣接する辺に形成されたはんだフィレット51b、53bの長さ、および半導体チップ21における、第1のリードフレーム101の側端E4に隣接する辺に形成されたはんだフィレット51cの長さはほぼ同一である。半導体チップ21における、半導体チップ22に隣接する辺に形成されたはんだフィレット51aの長さと、半導体チップ21における、第1のリードフレーム101の側端E2に隣接する辺に形成されたはんだフィレット51dの長さは、ほぼ同一である。半導体チップ21、23それぞれに形成されたはんだフィレット51b、53bの長さおよび半導体チップ21に形成されたはんだフィレット51cの長さは、半導体チップ21に形成されたはんだフィレット51a、51dの長さより短く形成されている。
 換言すれば、半導体チップ21に形成されたはんだフィレット51a、51dの長さは、半導体チップ21、23それぞれに形成されたはんだフィレット51b、53bの長さおよび半導体チップ21に形成されたはんだフィレット51cの長さより長く形成されている。なお、半導体チップ22における、半導体チップ21に隣接する辺に形成されたはんだフィレット52aの長さは、はんだフィレット51b、53bの長さとほぼ同一である。
 実施形態6では、半導体チップ21に形成されたはんだフィレット51a、51dの長さが、半導体チップ21と半導体チップ23との間に形成されたはんだフィレット51b、53bの長さよりも長く形成されている。このため、半導体チップ21と23とが、はんだフィレット51b、53bにより短絡するのを防止することができる。また、半導体チップ21に形成されたはんだフィレット51a、51dの長さが、半導体チップ21に形成されたはんだフィレット51cの長さよりも長く形成されている。このため、半導体チップ21に形成されたはんだフィレット51cの形成領域から第1のリードフレーム101の側端E4にはんだが溢れ出るのを抑制することができる。
 なお、実施形態6において、実施形態3、4(図8、図9参照)に示したように、第2のリードフレーム102の内面102aに凹部102bまたは102cを形成するようにしてもよい。すなわち、半導体チップ21における、半導体チップ22に隣接する辺に形成されるはんだフィレット51aおよび第1のリードフレーム101の側端E2、E4に隣接する辺に形成するはんだフィレット51dに対応する第2のリードフレーム102の内面102aの部分に、凹部102c、102bを形成してもよい。また、半導体チップ22、23それぞれにおける、第1のリードフレーム101の側端E1およびE2、またはE2およびE3に隣接する辺に対応する第2のリードフレーム102の内面102aに、凹部102bを形成してもよい。
-実施形態6の変形例1-
 図13は、図12に図示された実施形態6の第1の変形例を示す図である。
 図13では、図12に示された半導体チップ21~23が2列に配列されている。図13に示された実施形態6の変形例1において、隣接する半導体チップ21~23間または第1のリードフレーム101の側端E1~E4との距離a~dの相互の関係は、1列目および2列目共に、図12に示された実施形態6と同一である。また、半導体チップ21~23それぞれの四つの辺に形成されたはんだフィレット(51a~51d、52a、53b等)の長さの相互の関係も、1列目および2列目共に、図12に示された実施形態6と同一である。従って、変形例1においても、図12に示された実施形態6と同様な効果を奏する。
 なお、半導体チップ21~23は、3列以上に形成することもできる。また、各列に配置する半導体チップ21~23の数を4つ以上とすることもできる。
-実施形態6の変形例2-
 図14は、図12に図示された実施形態6の変形例2を示す図である。
 図14でも、図12に示された半導体チップ21~23が2列に配列されている。しかし、図13に示された第1の変形例とは異なり、2列目の半導体チップ21~23は、それぞれ、1列目の半導体チップ21~23に対して上下が反転した状態で配置されている。
 図14に示された実施形態6の変形例2において、隣接する半導体チップ21~23間または第1のリードフレーム101の側端E1~E4との距離a~dの相互の関係は、1列目および2列目共に、図12に示された実施形態6と同一である。また、半導体チップ21~23それぞれの四つの辺に形成されたはんだフィレット(51a~51d、52a、53b等)の長さの相互の関係も、1列目および2列目共に、図12に示された実施形態6と同一である。従って、変形例2においても、図12に示された実施形態6と同様な効果を奏する。
 なお、図14において、1列目および2列目の半導体チップ21~23の配置を交互に付加して、3列以上とすることもできる。また、各列に配置する半導体チップ21~23の数を4つ以上とすることもできる。
-実施形態7-
 図15は、本発明の実施形態7を示し、パワーモジュールに設けられた半導体チップの実装構造の模式的平面図である。
 実施形態7のパワーモジュール100は、実施形態5と同様、直線状に配列された3つの半導体チップ21~23を備えており、各半導体チップ21~23は、第1のはんだ50における左右方向及び上下方向のほぼ中央部に配置されている。しかし、各半導体チップ21~23をはんだ付けする第1のはんだ50は、左右方向の長さが、上下方向の長さよりも大きい矩形形状を有している。
 つまり、距離a~dを、実施形態5と同様に定義するとき、実施形態7では、下記の構成を有している。
 半導体チップ21の半導体チップ22に隣接する辺から半導体チップ22の半導体チップ21に隣接する辺までの距離aと、半導体チップ21の半導体チップ23に隣接する辺から半導体チップ23の半導体チップ21に隣接する辺までの距離bは、ほぼ等しい。半導体チップ21の第1のリードフレーム101の側端E2に隣接する辺から第1のリードフレーム101の側端E2までの距離dと、半導体チップ21における、第1のリードフレーム101の側端E4に隣接する辺から第1のリードフレーム101の側端E4までの距離cは、ほぼ等しい。距離c、dは、それぞれ、距離a/2、b/2より短く形成されている。
 半導体チップ21、22それぞれにおける、他の半導体チップ22、21に隣接する辺に形成されたはんだフィレット51a、52aの長さは、半導体チップ21、23それぞれにおける、他の半導体チップ23、21に隣接する辺に形成されたはんだフィレット51b、53bの長さと、ほぼ同一に形成されている。半導体チップ21における、第1のリードフレーム101の側端E4およびE2に隣接する辺に形成されるはんだフィレット51cおよび51dの長さは、ほぼ同一に形成されている。はんだフィレット51a、51b、52a、53bは、はんだフィレット51c、51dより長く形成されている。
 従って、実施形態7では、はんだフィレット51a、51b、52a、53bは、はんだフィレット51c、51dよりも、はんだフィレット形成領域からはんだが溢れ易くなっている。これにより、はんだフィレット51c、51dの形成領域から第1のリードフレーム101の側端E2、E4にはんだが溢れ出るのが抑制される。
 なお、実施形態7において、実施形態4(図9参照)に示したと同様に第2のリードフレーム102の内面102aに凹部102cを形成するようにしてもよい。すなわち、半導体チップ21~23それぞれにおける、他の半導体チップ21~23に隣接する辺に形成されるはんだフィレット51a、51b、52a、53bに対応する第2のリードフレーム102の内面102aの部分に凹部102cを形成してもよい。
-実施形態7の変形例-
 図16は、図15に図示された実施形態7の変形例である。
 図16に示された変形例では、半導体チップ21~23が2列に配列されている。
 各列に配置された半導体チップ21の各辺に形成されるはんだフィレット51a~51dの相互の長さ関係は、図15について説明した関係と同一である。従って、実施形態7の変形例は、実施形態7と同様な効果を奏する。
 半導体チップ21~23は、3列以上に形成することもできる。
 また、各列に配置する半導体チップ21~23の数を4つ以上とすることもできる。
-効果の検証-
 以下、本発明の実施例による効果の具体例を示す。
[実施例1]
 図17は、本発明の第1の効果を示す図であり、本発明の実施例1における半導体チップ間の短絡の発生頻度を示す。
 実施例1は、実施形態1として図3および図4に示される第1、第2のリードフレーム101、102と半導体チップ11~14のはんだ付け構造を有する。詳細には、第1、第2のリードフレーム101、102は銅板により形成した。第2のリードフレーム102には、四つの突出部103を形成し、四つの半導体チップ11~14をそれぞれ、各突出部103に対応して実装した。各半導体チップ11~14は、10mm角の直方体形状を有する。隣接する半導体チップ11~14間それぞれの距離(aおよびb等)を1.0mmとした。各半導体チップ11~14と第1のリードフレーム101の側端E1~E4までの距離(cおよびd等)を2.0mmとした。
 各半導体チップ11~14における、他の半導体チップ11~14に隣接する辺に形成するはんだフィレット(51a、51b、52a、53b等)の長さを0.3mmとした。各半導体チップ11~14における、第1のリードフレーム101の側端E1~E4に隣接する辺に形成するはんだフィレット(51c、51d等)の長さを1.0mmとした。はんだ50は、シート状のSn3Ag0.5Cuはんだを用いた。リフローは真空リフロー装置を用い、250℃ピークの温度プロファイルを用いて接続した。
 比較例1として、下記に示す、第1、第2のリードフレーム101、102と半導体チップ11~14のはんだ付け構造を作製した。
 各半導体チップ11~14における、他の半導体チップ11~14に隣接する辺に形成するはんだフィレット(51a、51b、52a、53b等)の長さを0.3mmとした。各半導体チップ11~14における、第1のリードフレーム101の側端E1~E4に隣接する辺に形成するはんだフィレット(51c、51d等)の長さを0.3mmとした。すなわち、各半導体チップ11~14の四つの辺に形成されるはんだフィレットの長さをすべて0.3mmとした。
 上記以外は、すべて実施例1と同じである。
 実施例1および比較例1を、それぞれ、20個作製した。実施例1と比較例1とについて、半導体チップ11~14間の短絡発生個数および半導体チップ11~14における、第1のリードフレーム101の側端へのはんだフィレット形成領域からのはんだの溢れの発生個数を調べた。その結果を図17に示す。
 比較例1、すなわち半導体チップ11~14の四つの辺それぞれに形成するはんだフィレットの長さをすべて0.3mmにした実装構造では、20個中7個に半導体チップ11~14相互の短絡が発生した。
 これに対し、実施例1、すなわち、各半導体チップ11~14における、他の半導体チップ11~14に隣接する辺に形成するはんだフィレット(51a、51b、52a、53b等)の長さを0.3mmとし、各半導体チップ11~14における、第1のリードフレーム101の側端に隣接する辺に形成するはんだフィレット(51c、51d等)の長さを1.0mmとした実装構造では、半導体チップ11~14相互の短絡は、20個中0個であった。
 なお、実施例1および比較例1共に、半導体チップ11~14における、第1のリードフレーム101の側端E1~E4へのはんだフィレットからのはんだ溢れの発生個数は、20個中0個であった。
 上記により、本発明の実施例1によれば、半導体チップ11~14における、他の半導体チップ11~14に隣接する辺に形成されるはんだフィレットの形成領域からはんだが溢れるのが抑制され、半導体チップ11~14が相互に短絡するのを防止することができることが確認された。
[実施例2]
 図18は、本発明の第2の効果を示す図であり、本発明の実施例2における半導体チップ間の短絡の発生頻度を示す。
 実施例2は、実施形態2として図6および図7に示される第1、第2のリードフレーム101、102と半導体チップ11~14のはんだ付け構造を有する。詳細には、第1、第2のリードフレーム101、102は銅板により形成した。第2のリードフレーム102には、四つの突出部103を形成し、四つの半導体チップ11~14をそれぞれ、各突出部103に対応して実装した。各半導体チップ11~14は、10mm角の直方体形状を有する。隣接する半導体チップ11~14間それぞれの距離(aおよびb等)を3.0mmとした。各半導体チップ11~14と第1のリードフレーム101の側端E1~E4までの距離(cおよびd等)を1.0mmとした。
 各半導体チップ11~14における、他の半導体チップ11~14に隣接する辺に形成するはんだフィレット(51a、51b、52a、53b等)の長さを1.0mmとした。各半導体チップ11~14における、第1のリードフレーム101の側端E1~E4に隣接する辺に形成するはんだフィレット(51c、51d等)の長さを0.3mmとした。はんだ50は、シート状のSn3Ag0.5Cuはんだを用いた。リフローは真空リフロー装置を用い、250℃ピークの温度プロファイルを用いて接続した。
 比較例2として、下記に示す、第1、第2のリードフレーム101、102と半導体チップ11~14のはんだ付け構造を作製した。
 各半導体チップ11~14における、他の半導体チップ11~14に隣接する辺に形成するはんだフィレット(51a、51b、52a、53b等)の長さを0.3mmとした。各半導体チップ11~14における、第1のリードフレーム101の側端E1~E4に隣接する辺に形成するはんだフィレット(51c、51db等)の長さを0.3mmとした。すなわち、各半導体チップ11~14の四つの辺に形成されるはんだフィレットの長さをすべて0.3mmとした。
 上記以外は、すべて実施例2と同じである。
 実施例2および比較例2を、それぞれ、20個作製した。実施例2と比較例2とについて、半導体チップ11~14間の短絡発生個数および半導体チップ11~14における、第1のリードフレーム101の側端にはんだフィレットの形成領域からはんだが溢れ出た発生個数を調べた。その結果を図18に示す。
 比較例2、すなわち半導体チップ11~14の四つの辺それぞれに形成するはんだフィレットの長さを0.3mmにした実装構造では、20個中11個に、半導体チップ11~14に形成されたはんだフィレットの形成領域のいずれかから、第1のリードフレーム101の側端E1~E4のいずれかにはんだが溢れた。
 これに対し、実施例2、すなわち、各半導体チップ11~14における、他の半導体チップ11~14に隣接する辺に形成するはんだフィレットの長さを1.0mmとし、各半導体チップ11~14における、第1のリードフレーム101の側端E1~E4に隣接する辺に形成するはんだフィレットの長さを0.3mmとした実装構造では、半導体チップ11~14に形成されたはんだフィレットの形成領域のいずれかから、第1のリードフレーム101の側端E1~E4にはんだが溢れたのは、20個中0個であった。
 なお、実施例2および比較例2共に、半導体チップ11~14が相互に短絡する不具合の発生個数は0個であった。
 上記により、本発明の実施例2によれば、各半導体チップ11~14における、第1のリードフレーム101の側端E1~E4に隣接する辺に形成されるはんだフィレットの形成領域から第1のリードフレーム101の側端E1~E4にはんだが溢れ出るのを抑制することができる。
 なお、上記実施例1では、各半導体チップ11~14における、他の半導体チップ11~14に隣接する辺に形成するはんだフィレット(51a、51b、52a、53b等)の長さを0.3mmとし、各半導体チップ11~14における、第1のリードフレーム101の側端E1~E4に隣接する辺に形成するはんだフィレット(51c、51d等)の長さを1.0mmとして例示した。しかし、各はんだフィレットの長さは一例であって、各半導体チップ11~14における、他の半導体チップ11~14に隣接する辺に形成するはんだフィレット(51a、51b、52a、53b等)の長さは、0.3mmより短くしてもよいし、0.3mmより長くしてもよい。各半導体チップ11~14における他の半導体チップ11~14に隣接する二つの辺に形成するはんだフィレット(51aと51b等)の長さを、それぞれ、異なる長さとしてもよい。同様に、各半導体チップ11~14における、第1のリードフレーム101の側端E1~E4に隣接する辺に形成するはんだフィレット(51c、51d等)の長さを1.0mmより短くしてもよいし、1.0mmより長くしてもよい。各半導体チップ11~14における、第1のリードフレーム101の側端E1~E4に隣接する二つの辺に形成するはんだフィレット(51cと51d等)の長さを異なる長さとしてもよい。
 上記実施例2では、各半導体チップ11~14における、他の半導体チップ11~14に隣接する辺に形成するはんだフィレット(51a、51b、52a、53b等)の長さを1.0mmとし、各半導体チップ11~14における、第1のリードフレーム101の側端E1~E4に隣接する辺に形成するはんだフィレット(51c、51d等)の長さを0.3mmとして例示した。しかし、各はんだフィレットの長さは一例であって、各半導体チップ11~14における、他の半導体チップ11~14に隣接する辺に形成するはんだフィレット(51a、51b、52a、53b等)の長さは、1.0mmより短くしてもよいし、1.0mmより長くしてもよい。各半導体チップ11~14における、他の半導体チップ11~14に隣接する二つの辺に形成するはんだフィレット(51aと51b等)の長さを、それぞれ、異なる長さとしてもよい。同様に、各半導体チップ11~14における、第1のリードフレーム101の側端E1~E4に隣接する辺に形成するはんだフィレット(51c、51d等)の長さを0.3mmより短くしてもよいし、0.3mmより長くしてもよい。各半導体チップ11~14における、第1のリードフレーム101の側端に隣接する二つの辺に形成するはんだフィレット(51cと51d等)の長さを異なる長さとしてもよい。
 半導体チップ11~14、21~23それぞれの各辺に形成するはんだフィレットの長さを確実に調整可能な方法として、はんだフィレットが形成される領域の周囲に、はんだ濡れを防止するためのはんだ濡れ防止構造を形成するようにしてもよい。はんだ濡れ防止構造は、例えば、ソルダレジストを塗布したり、ディンプル加工を施したり、レーザ等による酸化処理、あるいは化学的粗化処理等を施したりすることにより形成することができる。
 上記実施形態では、半導体チップ11~14、21~23を、第1、第2のリードフレーム101、102にはんだ50、60によりはんだ付けする構造として例示した。しかし、第2のリードフレーム102を備えていない構造に適用することができる。
 上記実施形態では、半導体チップ11~14、21~23が、はんだ60によりはんだ付けされる第2のリードフレーム102に、突出部103を設けた構造として例示した。しかし、第2のリードフレーム102に突出部103を形成しない構造とすることもできる。
 上記実施形態では、半導体チップ11~14、21~23が、はんだ50、60により第1、第2のリードフレーム101、102に、はんだ付けされる構造として例示した。しかし、第1、第2のリードフレーム101、102に代えて、アルミダイキャスト等の鋳造品や、セラミック等の焼結体を用いることもできる。
 上記実施形態1~7を、選択的に組み合わせてもよい。
 その他、本発明は、発明の趣旨の範囲内において、種々、変形して適用することが可能であり、要は、第一の半導体チップの第1の辺から第二の半導体チップにおける第一の半導体チップの第1の辺に隣接する一辺までの距離の1/2の距離と、第一の半導体チップの第2の辺から第三の半導体チップにおける第一の半導体チップの第2の辺に隣接する一辺までの距離の1/2の距離と、第一の半導体チップの第3の辺または第4の辺の少なくとも一方の辺からベース板の側端までの距離とのうち、 最も短い距離となる箇所の辺に形成された第一の半導体チップのはんだフィレットの長さが最も短く形成されているものであればよい。
 次の優先権基礎出願の開示内容は引用文としてここに組み込まれる。
 日本国特許出願2015年第22257号(2015年2月6日出願)
  11~14   半導体チップ
  21~23   半導体チップ
  50   第1のはんだ
  51a、51b、51c、51d   はんだフィレット
  52a、52c   はんだフィレット
  53a、53b   はんだフィレット
  60   第2のはんだ
  61   はんだフィレット
 100   パワーモジュール
 101   第1のリードフレーム(ベース板)
 102   第2のリードフレーム
 102a  内面
 102b、102c  凹部
 103   突出部
 111   リード
 201   モジュールケース
 304B  フランジ
 305   フィン
 307   放熱ベース
 350   一次封止材
 351   二次封止材
 a~d   距離
 E1、E2、E3、E4   側端

Claims (14)

  1.  ベース板と、
     四つの辺を有する第一の半導体チップと、
     前記第一の半導体チップの第1の辺に隣接して配置された一辺を含む四つの辺を有し、前記ベース板にはんだ付けされた第二の半導体チップと、
     前記第一の半導体チップの第2の辺に隣接して配置された一辺を含む四つの辺を有し、前記ベース板にはんだ付けされた第三の半導体チップとを備え、
     前記第一の半導体チップの第3の辺または第4の辺の少なくとも一方は、前記ベース板の側端に隣接して配置され、
     前記第一の半導体チップの第1の辺から前記第二の半導体チップの前記一辺までの距離の1/2の距離と、前記第一の半導体チップの第2の辺から前記第三の半導体チップの前記一辺までの距離の1/2の距離と、前記ベース板の前記側端に隣接して配置された前記第一の半導体チップの前記第3の辺または前記第4の辺から前記ベース板の側端までの距離とのうち、 最も短い距離となる箇所の辺に形成された前記第一の半導体チップのはんだフィレットの長さが最も短く形成されている、パワーモジュール。
  2.  請求項1に記載のパワーモジュールにおいて、
     前記第一の半導体チップの前記第1の辺から前記第二の半導体チップの前記一辺までの距離の1/2の距離および前記第一の半導体チップの前記第2の辺から前記第三の半導体チップの前記一辺までの距離の1/2の距離が、前記ベース板の前記側端に隣接して配置された前記第一の半導体チップの前記第3の辺または第4の辺から前記ベース板の側端までの距離より短く、
     前記第一の半導体チップの前記第1の辺および前記第2の辺に形成された前記はんだフィレットの長さが、それぞれ、前記ベース板の前記側端に隣接する前記第一の半導体チップの前記第3の辺または前記第4の辺に形成された前記はんだフィレットの長さよりも短く形成されている、パワーモジュール。
  3.  請求項2に記載のパワーモジュールにおいて、
     前記第一の半導体チップの前記第1の辺と前記第2の辺とは、相互に隣接する辺であり、前記第一の半導体チップの前記第3の辺および前記第4の辺は、それぞれ、前記ベース板の相互に隣接する第1の側端および第2の側端に隣接して配置されており、前記第一の半導体チップの前記第1の辺および前記第2の辺に形成されたはんだフィレットの長さが、それぞれ、前記第一の半導体チップの前記第3の辺および前記第4の辺に形成された前記はんだフィレットの長さのいずれよりも短く形成されている、パワーモジュール。
  4.  請求項2に記載のパワーモジュールにおいて、
     前記第一の半導体チップの前記第1の辺と前記第2の辺とは、相互に対向する一対の辺であり、前記第一の半導体チップの前記第3の辺または前記第4の辺の少なくとも一方が、前記ベース板の前記側端に隣接して配置されており、前記第一の半導体チップの前記第1の辺および前記第2の辺に形成された前記はんだフィレットの長さが、前記ベース板の前記側端に隣接して配置された前記第一の半導体チップの前記第3の辺または前記第4の辺に形成された前記はんだフィレットの長さよりも短く形成されている、パワーモジュール。
  5.  請求項4に記載のパワーモジュールにおいて、
     前記第一の半導体チップの第3の辺および前記第4の辺は、それぞれ、前記ベース板の前記側端に隣接して配置されており、
     前記第一の半導体チップの前記第1の辺および前記第2の辺に形成された前記はんだフィレットの長さが、それぞれ、前記第一の半導体チップの前記第3の辺および前記第4の辺に形成されたはんだフィレットの長さのいずれよりも短く形成されている、パワーモジュール。
  6.  請求項4に記載のパワーモジュールにおいて、
     さらに、前記第一の半導体チップの前記第3の辺に隣接して配置された第4の半導体チップを備え、
     前記第一の半導体チップの前記第4の辺が前記ベース板の前記側端に隣接して配置され、
     前記第一の半導体チップの前記第1の辺および前記第2の辺に形成された前記はんだフィレットの長さが、それぞれ、前記第一の半導体チップの第3の辺および前記第4の辺に形成された前記はんだフィレットの長さのいずれよりも短く形成されている、パワーモジュール。
  7.  請求項1に記載のパワーモジュールにおいて、
     前記第一の半導体チップの前記第1の辺と前記第2の辺とは、相互に対向する一対の辺であり、
     前記第一の半導体チップの前記第3の辺と前記第4の辺とは、相互に対向する他の一対の辺であり、
     前記第一の半導体チップの前記第3の辺および前記第4の辺の少なくとも一方は、前記ベース板の前記側端に隣接して配置され、
     前記第一の半導体チップの前記第1の辺に形成された前記はんだフィレットの長さが、前記第一の半導体チップの前記第2の辺、および前記ベース板の前記側端に隣接して配置された前記第3の辺または前記第4の辺に形成された前記はんだフィレットの長さのいずれよりも短く形成されている、パワーモジュール。
  8.  請求項1に記載のパワーモジュールにおいて、
     前記第一の半導体チップの前記第1の辺と前記第2の辺とは、相互に対向する一対の辺であり、
     前記第一の半導体チップの前記第3の辺と前記第4の辺とは、相互に対向する他の一対の辺であり、
     前記第一の半導体チップの前記第3の辺または前記第4の辺の少なくとも一方は、前記ベース板の側端に隣接して配置され、
     前記ベース板の前記側端に隣接して配置された前記第一の半導体チップの前記第3の辺または前記第4の辺から前記ベース板の前記側端までの距離は、前記第一の半導体チップの前記第1の辺から前記第二の半導体チップの前記一辺までの1/2の距離および前記第一の半導体チップの前記第2の辺から前記第三の半導体チップの前記一辺までの1/2の距離のいずれより短く、
     前記ベース板の前記側端に隣接して配置された前記第一の半導体チップの前記第3の辺または前記第4の辺に形成された前記第一の半導体チップの前記はんだフィレットの長さが、前記第一の半導体チップの前記第1の辺および前記第2の辺に形成された前記はんだフィレットの長さのいずれよりも短く形成されている、パワーモジュール。
  9.  請求項8に記載のパワーモジュールにおいて、
     前記第一の半導体チップの第3の辺および前記第4の辺は、それぞれ、前記ベース板の前記側端に隣接して配置されており、
     前記第一の半導体チップの前記第3の辺および第4の辺に形成された前記はんだフィレットの長さが、前記第一の半導体チップの前記第1の辺および前記第2の辺に形成された前記はんだフィレットの長さよりも短く形成されている、パワーモジュール。
  10.  請求項9に記載のパワーモジュールにおいて、
     さらに、前記第一の半導体チップの前記第3の辺に隣接して配置された第四の半導体チップを備え、
     前記第一の半導体チップの前記第4の辺が前記ベース板の前記側端に隣接して配置され、
     前記第一の半導体チップの前記第3の辺および前記第4の辺に形成された前記はんだフィレットの長さが、それぞれ、前記第一の半導体チップの第1の辺および前記第2の辺に形成された前記はんだフィレットの長さよりも短く形成されている、パワーモジュール。
  11.  請求項1乃至10のいずれか1項に記載のパワーモジュールにおいて、
     前記第一の半導体チップの前記四つの辺に形成された前記はんだフィレットは、前記半導体チップの二辺に形成された長さが、それぞれ、前記第一の半導体チップの他の二辺に形成された前記はんだフィレットの長さのいずれより短く形成されている、パワーモジュール。
  12.  請求項11に記載のパワーモジュールにおいて、
     さらに、前記ベース板に対向して配置された別のベース板を備え、
     前記第一、第二、第三の半導体チップは、それぞれ、一面が前記ベース板にはんだ付けされ、他面が前記別のベース板にはんだ付けされ、
     前記第一の半導体チップの各辺に形成された前記はんだフィレットのうち、少なくとも最も長い前記はんだフィレットに対向する前記別のベース板の前記ベース板との対向面側に凹部が形成されている、パワーモジュール。
  13.  第1のベース板と、
     前記第1のベース板に対向して配置され、前記第1のベース板との対向面側に突出部が形成された第2のベース板と、
     第1の面および前記第1の面に対向する第2の面を有し、前記第1の面が第1のはんだにより前記第1のベース板にはんだ付けされ、前記第2の面が第2のはんだにより前記第2のベース板の前記突出部にはんだ付けされた、四辺を有する半導体チップとを備え、
     前記半導体チップの前記第1の面の前記四辺のそれぞれに形成された前記第1のはんだのはんだフィレットは、少なくとも前記半導体チップの一辺に形成された長さが他の三辺のいずれかに形成された長さとは異なっており、
     前記半導体チップの前記第2の面の前記四辺のそれぞれに形成された前記第2のはんだのはんだフィレットの長さは、前記半導体チップの前記第1の面の前記四辺のそれぞれに形成された前記第1のはんだの前記はんだフィレットの長さのいずれよりも短く形成されている、パワーモジュール。
  14.  請求項13に記載のパワーモジュールにおいて、
     前記半導体チップの前記第1の面の前記四辺のそれぞれに形成された前記第1のはんだの前記はんだフィレットは、前記半導体チップの前記第1の面の二辺に形成された長さが、それぞれ、前記半導体チップの前記第1の面の他の二辺に形成された前記はんだフィレットの長さのいずれより短く形成されている、パワーモジュール。
     
     
      
PCT/JP2015/084685 2015-02-06 2015-12-10 パワーモジュール WO2016125390A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US15/541,861 US9960147B2 (en) 2015-02-06 2015-12-10 Power module
DE112015005593.2T DE112015005593T5 (de) 2015-02-06 2015-12-10 Leistungsmodul
CN201580071664.XA CN107112319B (zh) 2015-02-06 2015-12-10 功率模块

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015-022257 2015-02-06
JP2015022257A JP6276721B2 (ja) 2015-02-06 2015-02-06 パワーモジュール

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2016125390A1 true WO2016125390A1 (ja) 2016-08-11

Family

ID=56563747

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2015/084685 WO2016125390A1 (ja) 2015-02-06 2015-12-10 パワーモジュール

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9960147B2 (ja)
JP (1) JP6276721B2 (ja)
CN (1) CN107112319B (ja)
DE (1) DE112015005593T5 (ja)
WO (1) WO2016125390A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020240866A1 (ja) * 2019-05-31 2020-12-03 Jx金属株式会社 半導体デバイス
CN112151565B (zh) * 2019-06-27 2023-01-24 成都辰显光电有限公司 微发光二极管显示面板的制造方法
JP7356402B2 (ja) * 2020-05-18 2023-10-04 日立Astemo株式会社 パワーモジュール

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002176128A (ja) * 2000-12-06 2002-06-21 Toyota Motor Corp マルチチップモジュールの冷却構造
JP2013069825A (ja) * 2011-09-22 2013-04-18 Hitachi Automotive Systems Ltd 両面冷却型半導体パワーモジュール
JP2014078739A (ja) * 2007-08-23 2014-05-01 Daishinku Corp 電子部品用パッケージのベース、及び電子部品用パッケージ

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4302607B2 (ja) 2004-01-30 2009-07-29 株式会社デンソー 半導体装置
JP6150375B2 (ja) * 2012-12-06 2017-06-21 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
JP6112077B2 (ja) * 2014-07-03 2017-04-12 トヨタ自動車株式会社 半導体装置
TWI595810B (zh) * 2015-05-22 2017-08-11 欣興電子股份有限公司 封裝結構及其製作方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002176128A (ja) * 2000-12-06 2002-06-21 Toyota Motor Corp マルチチップモジュールの冷却構造
JP2014078739A (ja) * 2007-08-23 2014-05-01 Daishinku Corp 電子部品用パッケージのベース、及び電子部品用パッケージ
JP2013069825A (ja) * 2011-09-22 2013-04-18 Hitachi Automotive Systems Ltd 両面冷却型半導体パワーモジュール

Also Published As

Publication number Publication date
JP6276721B2 (ja) 2018-02-07
CN107112319A (zh) 2017-08-29
CN107112319B (zh) 2019-07-02
JP2016146398A (ja) 2016-08-12
DE112015005593T5 (de) 2017-09-28
US9960147B2 (en) 2018-05-01
US20180005986A1 (en) 2018-01-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5279632B2 (ja) 半導体モジュール
US9306020B2 (en) Power module and method of manufacturing the power module
JP4973059B2 (ja) 半導体装置及び電力変換装置
JP2005303018A (ja) 半導体装置
JP2019067857A (ja) 電力変換装置
JP5213919B2 (ja) 半導体装置
WO2020184053A1 (ja) 半導体装置
WO2016125390A1 (ja) パワーモジュール
JP2013171891A (ja) 半導体装置、半導体モジュール、及び半導体モジュールの製造方法
JP6948855B2 (ja) パワー半導体装置及びそれを用いた電力変換装置
JP7124133B2 (ja) 半導体装置
JP6899784B2 (ja) パワー半導体装置
KR20180087330A (ko) 파워 모듈의 양면 냉각을 위한 금속 슬러그
JP4935783B2 (ja) 半導体装置および複合半導体装置
JP4883684B2 (ja) 絶縁型大電力用半導体装置の製造方法
US20200258823A1 (en) Power semiconductor device and manufacturing method of the same
KR20170069365A (ko) 직접 냉각식 파워모듈 및 그 제조 방법
US11735557B2 (en) Power module of double-faced cooling
WO2020184050A1 (ja) 半導体装置
JP5631100B2 (ja) 電子部品搭載基板の冷却構造
JP7147186B2 (ja) 半導体装置
JP2013149643A (ja) 半導体装置
JP7023339B1 (ja) 半導体装置
JP5899962B2 (ja) 半導体モジュール及び電力変換装置
JP6834673B2 (ja) 半導体モジュール

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 15881207

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 15541861

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 112015005593

Country of ref document: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 15881207

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1