WO2016017374A1 - アーク蒸発源 - Google Patents

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WO2016017374A1
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magnet
evaporation source
magnetic field
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好徳 黒川
悟史 廣田
信一 谷藤
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株式会社神戸製鋼所
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    • H01J37/3266Magnetic control means
    • H01J37/32669Particular magnets or magnet arrangements for controlling the discharge

Definitions

  • the present invention relates to an arc evaporation source.
  • a coating on the surface of a substrate using arc discharge have been proposed as a method for forming a coating on the surface of a substrate such as a tool or machine part for the purpose of improving wear resistance.
  • a material for such a film for example, a rod-shaped target may be used to enable continuous film formation.
  • Patent Document 1 discloses an arc evaporation source having a rod-shaped target.
  • arc discharge such as AIP
  • the tip surface of the rod-shaped target is melted and evaporated by arc discharge.
  • the molten and evaporated material adheres to the surface of the substrate.
  • the arc spot which is a point where arc discharge occurs on the tip surface of the target, moves in an unstable manner. For this reason, the arc spot may move out of the range of the front end surface of the target and cause unexpected movement or stray to the side surface of the target or to the direction other than the target. In such a case, since the film forming apparatus must automatically stop the arc discharge, there is a possibility that continuous film formation cannot be performed.
  • an annular coil for generating a magnetic field is arranged coaxially with the target around the rod-shaped target. Has been. In the magnetic field generated by this coil, magnetic field lines extending in the normal direction from the tip surface of the target are formed. The arc spot is maintained so as not to come out of the range of the tip surface of the target by the magnetic force lines extending in the normal direction from the tip surface of the target.
  • film formation may be performed using a carbon target as the target.
  • the arc spot moves more unstable, it tends to come out more easily from the tip surface of the target. Therefore, in order to maintain the arc spot within the range of the tip surface of the target, stronger magnetic field lines are required.
  • An object of the present invention is to provide an arc evaporation source capable of stably holding an arc spot on the tip surface of a target while suppressing an increase in size of the apparatus.
  • the magnetic field formed by the magnets has a magnetic field line with respect to the side surface of the target in order to maintain the arc spot within the range of the tip surface of the target. It has been discovered that the angle of the angle of the target may be lower than a predetermined size, and the size of the component in the axial direction of the target in the strength of the magnetic field lines should satisfy the condition of a predetermined size or more at the same time. The inventor has also found that it is possible to suppress an increase in the size of the apparatus when the magnet is arranged so as to generate a magnetic field that satisfies such a condition.
  • the arc evaporation source of the present invention is A target that is melted and evaporated from the tip surface by arc discharge; At least one magnet disposed at a position spaced apart in a radial direction of the target from a side surface continuous to a peripheral edge of the tip surface of the target; With The magnet In the range from the tip surface of the target in the axial direction of the target perpendicular to the tip surface on the side surface of the target up to 10 mm, the following conditions a) and b): a) The angle formed by the magnetic lines of force with respect to the side surface of the target is 45 degrees or less, and b) The component in the axial direction of the target in the intensity of the magnetic field lines is arranged so as to form a magnetic field that satisfies a condition of 200 G or more.
  • FIG. 1 It is a perspective view of the arc evaporation source which concerns on embodiment of this invention. It is the figure which looked at the target and magnet of FIG. 1 from the side of the target. It is the figure which looked at the target and magnet of FIG. 1 from the front end surface of the target. It is a figure which shows the magnetic field generated by the magnet of FIG. It is the figure which expanded the part between the target front end surface and magnet in the magnetic field of FIG. It is a graph which shows the relationship between the distance from the front end surface of the target of FIG. 1, and a horizontal magnetic flux density. It is a graph which shows the relationship between the distance from the front end surface of the target of FIG. 1, and the angle of the magnetic force line with respect to the side surface of a target.
  • a comparative example of the present invention it is a diagram showing a state where a magnet in which different magnetic poles are arranged in the axial direction of a target generates a magnetic field that does not satisfy the magnetic field generation conditions a) and b) of the present invention. It is a graph which shows the relationship between the distance from the front end surface of the target of FIG. 9, and a horizontal magnetic flux density. 10 is a graph showing the relationship between the distance from the tip surface of the target of FIG. 9 and the angle of the magnetic field lines with respect to the side surface of the target.
  • the arc evaporation source 1 shown in FIGS. 1 to 3 includes a main body 2, a rod-like carbon target 3, a plurality of magnets 4 arranged radially around the target 3, and these magnets 4 are separated from the arc discharge.
  • a shield plate 5 to be protected, a delivery unit 6 for sending the target 3 in the axial direction A, and an ignition device 7 for starting arc discharge of the target 3 are provided.
  • the main body 2 has a main plate 2a and a cylinder 2b.
  • the main plate portion 2a is disposed in a chamber (not shown) of the film forming apparatus.
  • the cylinder portion 2b is disposed outside the chamber on the back side of the main plate portion 2a.
  • the tip of the rod-shaped target 3 penetrates the main plate portion 2a and the shield plate 5 and is exposed in the chamber.
  • the remaining part 3c of the target 3 is accommodated inside the cylindrical part 2b.
  • the shield plate 5 has a through hole 5a through which the target 3 passes.
  • the rod-shaped carbon target 3 has a columnar shape, and specifically has a circular tip surface 3a and a side surface 3b continuous to the periphery of the tip surface 3a.
  • the diameter of the target 3 is about 10 to 30 mm.
  • the length of the target 3 is sufficiently longer than the diameter of the target 3.
  • the arc spot S (see FIG. 2) slowly rotates (one rotation in several seconds) within the range of the circular tip surface 3a, as in the case of the metal target. There is a tendency not to move randomly within the tip surface.
  • the diameter of the target 3 is preferably about 10 to 30 mm as described above.
  • the target 3 may have a shape other than a rod shape (for example, various three-dimensional shapes in which the length of the target 3 is not sufficiently longer than the diameter of the target 3 such as a flat plate shape).
  • the target 3 is made of a material containing carbon (that is, carbon), and is manufactured by, for example, a pure substance of carbon or a mixture of carbon and another substance.
  • the target 3 is melted and evaporated from the front end surface 3a by arc discharge in order to form a film on the surface of the substrate in the chamber of the film forming apparatus.
  • the arc discharge is started when the contact bar 7 a of the ignition device 7 comes into contact with the target 3.
  • the target 3 is automatically sent out in the axial direction A perpendicular to the distal end surface 3a by the delivery unit 6 so as to protrude into the chamber by the melted length. Therefore, the position of the tip surface 3a of the target 3 is maintained at a predetermined position even when the target 3 is consumed.
  • the temperature of the carbon target 3 used in this embodiment is less likely to increase when it is evaporated by arc discharge than a target made of another material (for example, metal). Therefore, the arc evaporation source 1 does not require a mechanism for cooling the target 3.
  • the target may be a material other than carbon (for example, a metal target such as tungsten carbide described later).
  • the plurality of magnets 4 have different magnetic poles 4a and 4b, respectively.
  • the plurality of magnets 4 are arranged such that magnetic poles 4 a and 4 b different from each other are arranged in the radial direction B of the target 3 at positions spaced from the side surface 3 b of the target 3 in the radial direction B of the target 3.
  • These magnets 4 generate a magnetic field MF1 (see FIGS. 4 to 5) that satisfies conditions a) and b) described later.
  • the magnetic pole 4a facing the side surface 3b of the target 3 is an N pole
  • the magnetic pole 4b facing the outside in the radial direction B of the target 3 is an S pole.
  • the plurality of magnets 4 are attached to the main plate portion 2a of the main body 2 so as to be arranged at equal intervals in the circumferential direction of the target 3. Thereby, on the side surface 3 b of the target 3, the magnetic field MF ⁇ b> 1 generated by the magnet 4 can be uniformly distributed in the circumferential direction of the target 3.
  • magnets 4 are arranged on the rear side in the axial direction A of the target 3 from the tip surface 3 a of the target 3.
  • the magnet 4 is disposed so that the center thereof is located 20 mm behind the tip surface 3 a of the target 3 (rightward in FIG. 4). Therefore, it is possible to reliably generate a magnetic field MF1 that satisfies conditions a) and b) to be described later, and it is possible to avoid the possibility that the molten material that jumps out from the tip surface 3a of the target 3 adheres to the magnet 4. It is.
  • the magnet 4 is limited to being arranged on the rear side in the axial direction A of the target 3 from the tip surface 3a of the target 3 as long as the magnetic field MF1 satisfying the conditions a) and b) can be formed. It is not a thing.
  • a part of the magnet 4 may protrude forward from the front end surface 3a (specifically, the side facing the front end surface 3a in FIG. 4 (the left side in FIG. 4)).
  • a shield plate 5 is interposed as shown in FIG.
  • Each magnet 4 is made of a permanent magnet that generates a strong magnetic force, and is made of, for example, an alloy containing neodymium (for example, NdFeB). Although the permanent magnet containing neodymium is small, it can generate a strong magnetic field line FL1 that satisfies conditions a) and b) described later. Moreover, the permanent magnet which generate
  • the magnet 4 is made of a permanent magnet, it can be made smaller than an electromagnet having a coil. Therefore, it is possible to improve the degree of freedom of arrangement of the magnets 4 and more reliably reduce the size of the arc evaporation source 1.
  • the magnets 4 are arranged radially in such a manner as to be separated from the side surface 3b of the target 3 and arranged with the magnetic poles 4a, 4b in the radial direction B as described above. 5 is formed.
  • the magnet 4 is arranged on the rear side from the tip surface 3 a of the target 3, and specifically, the magnet 4 is arranged so that the center of the magnet 4 is located 20 mm behind the tip surface 3 a of the target 3.
  • the positional relationship of the magnet 4 with respect to the tip surface 3a is not limited to this.
  • the magnetic field line FL1 of the magnetic field MF1 emerges from the magnetic pole 4a facing the side surface 3b of the target 3 and is in the vicinity of the tip surface 3a of the side surface 3b of the target 3 (specifically, the range from the tip surface 3a of the target 3 to 10 mm). ) Extend at an acute angle with respect to the side surface 3b of the target 3 (specifically, an acute angle of 45 degrees or less in FIGS. 4 to 5). That is, the magnetic field line FL1 extends in the direction toward the outside in the radial direction B while approaching the tip surface 3a on the side surface 3b of the target 2 in the range from the tip surface 3a to 10 mm of the target 3. Moreover, in this range, the magnetic lines of force FL1 are kept in a dense state (that is, the magnetic flux density is high).
  • This magnetic field MF1 is the following conditions a) and b) in the range from the tip surface 3a of the target 3 in the axial direction A of the target 3 to 10 mm, that is, a) The angle ⁇ formed by the magnetic field line FL1 due to the magnetic field MF1 with respect to the side surface 3b of the target 3 is 45 degrees or less, and b) The condition that the component Bx in the axial direction A of the target 3 at the intensity of the magnetic field line FL1 satisfies the condition of 200 G or more.
  • the magnetic force line FL1 (see FIGS. 4 to 5) on the side surface 3b of the target 3 acts to push the arc spot S back into the front end surface 3a.
  • the arc spot S is maintained within the range of the tip surface 3a of the carbon target 3, and the arc spot S is prevented from going out of the range of the tip surface 3a of the target 3.
  • each magnet 4 Since the magnets 4 are arranged so as to generate a magnetic field that satisfies the above conditions a) and b), each magnet 4 needs to have a large size in order to generate a strong magnetic force. Disappear. Therefore, it is possible to suppress the increase in size of the arc evaporation source 1.
  • the target 3 since the target 3 has a rod shape, continuous film formation is possible for a long time according to the length.
  • the arc spot S tends to move more unstable, and the arc spot S tends to come out from the tip surface 3a.
  • the magnet 4 generates a magnetic field that satisfies the above conditions a) and b), so that the arc spot S can be stably held on the tip surface 3a of the target 3 even when the carbon target 3 is used. Is possible.
  • the plurality of magnets 4 are different from each other on the side of the carbon target 3.
  • the magnetic poles 4 a and 4 b are arranged in the radial direction B of the target 3.
  • the magnet 4 may be arranged such that different magnetic poles 4 a (for example, N pole) and magnetic pole 4 b (for example, S pole) are aligned in the axial direction A of the target 3. Good. Also in this case, if the magnet 4 is arranged so as to generate the magnetic field MF1 ′ satisfying the above conditions a) and b), the target 3 may be out of the range of the tip surface 3a of the carbon target 3. In the vicinity of the tip surface 3a, that is, in the range from the tip surface 3a to 10 mm, the magnetic field lines FL1 ′ on the side surface 3b of the target 3 can push the arc spot S back into the range of the tip surface 3a. In addition, since the individual magnets 4 shown in FIG.
  • the magnetic poles 4a and 4b are arranged side by side in the axial direction of the target 3 in this way, the electrons emitted from the tip surface 3a of the target 3 are magnetic poles 4a on the side close to the tip surface 3a along the magnetic force line FL1 ′. Since the magnetic pole 4a portion of the magnet 4 is heated as an anode (anode), the magnetic pole portion 4a is preferably cooled by a cooling mechanism such as water cooling.
  • the magnet 4 when the magnets 4 are arranged so that the magnetic poles 4a and 4b, which are different from each other, are aligned in the axial direction A of the target 3, the magnet 4 may be a ring-shaped magnet. Alternatively, as shown in FIG. 8, a plurality of magnets 4 may be arranged around the target 3 in the circumferential direction. The number of the ring-shaped magnets may be at least one and only one.
  • the component Bx in the axial direction A of the target 3 at the intensity of the magnetic force line FL1 is preferably 500 G or more.
  • Such magnetic field lines FL1 can surely push back the arc spot S within the range of the tip surface 3a of the target 3 made of carbon.
  • FIG. 6 shows the horizontal magnetic flux of the magnetic field MF1 formed by the distance X (mm) from the tip surface 3a of the target of FIG. 1 and the magnet 4 when the magnets 4 are arranged radially as shown in FIG.
  • the component Bx in the axial direction A of the target 3 in the intensity of the magnetic force line FL1 is shown as a horizontal magnetic flux density Bx.
  • the curve I in the graph of FIG. 6 shows the horizontal magnetic flux density Bx in the magnet 4 made of a permanent magnet made of an alloy containing neodymium (NdFeB) in the present embodiment.
  • the horizontal magnetic flux density Bx of 200 G or more, specifically, the horizontal magnetic flux density Bx of 230 to 800 G is shown in the range where the distance X from the tip surface 3 a of the target 3 is 0 to 10 mm. Therefore, it can be seen that strong magnetic field lines that can push the arc spot S back to the tip surface 3a are generated in this range.
  • Curve I shows a horizontal magnetic flux density Bx of 800 G or more when the distance X is in the range of 10 to 16 mm, and it can be seen that very strong lines of magnetic force are generated in this range. In this range, since the lines of magnetic force are very strong, the arc spot S can be reliably pushed back by the tip surface 3a by the action of the magnetic force.
  • a curve II in the graph of FIG. 6 shows the horizontal magnetic flux density Bx in the magnet 4 made of a permanent magnet made of an alloy containing samarium and cobalt (SmCo) in the present embodiment.
  • the horizontal magnetic flux density Bx of 200 G or more, specifically 210 to 620 G is shown in the range where the distance X from the tip surface 3a of the target 3 is 0 to 10 mm. It can be seen that strong lines of magnetic force that can be pushed back to the tip surface 3a are generated.
  • Curve II shows a horizontal magnetic flux density Bx of 800 G or more in the range where the distance X is 13 to 14 mm.
  • the component Bx in the axial direction A of the target 3 in the strength of the magnetic force line FL1 is It increases as the distance from the surface 3a in the axial direction A of the target 3 increases.
  • the magnetic force line FL1 becomes stronger as the distance from the front end surface 3a of the target 3 in the axial direction A of the target 3 increases.
  • the effect of pushing back the arc spot S on the side surface 3b of the carbon target 3 is largely due to the horizontal component strength Bx of the magnetic field lines FL1.
  • the horizontal component strength Bx of the magnetic field lines FL1 are distributed so that the horizontal component strength Bx of the magnetic field lines FL1 uniformly increases monotonously, the arc spot S can be reliably pushed back to 3a on the tip surface of the target 3.
  • a curve III in the graph of FIG. 6 shows a horizontal magnetic flux density Bx in a magnet made of an existing permanent magnet mainly made of iron (Fe) as a reference example.
  • the horizontal magnetic flux density Bx is generally lower in the range where the distance X from the tip surface 3a of the target 3 is 0 to 20 mm as compared with the curves I and II. In most parts of the distance X in the range of 0 to 10 mm, the horizontal magnetic flux density Bx is 200 G or less. Therefore, with such an existing permanent magnet made of iron, the arc spot S can be pushed back to the tip surface 3a. It can be seen that strong magnetic field lines cannot be obtained.
  • FIG. 7 shows the distance X (mm) from the tip surface 3a of the target 3 in FIG. 1 and the angle of the magnetic force line FL1 with respect to the side surface 3b of the target 3 when the magnets 4 are arranged radially as shown in FIG.
  • a graph showing the relationship with ⁇ is shown.
  • the angle ⁇ is in the acute angle range of 0 to 30 degrees, and the magnetic field line FL1 moves the arc spot S to the tip surface 3a. It can be seen that it has a sharp angle that can be pushed back.
  • the magnets 4 made of a permanent magnet made of an alloy containing neodymium (NdFeB) or an alloy containing samarium and cobalt (SmCo) are arranged radially as shown in FIGS. It has been confirmed by experiments by the inventors that the magnetic field lines MF1 satisfying the above conditions a) and b) are generated, thereby preventing the arc spot S from going out of the range of the tip surface 3a of the target 3. ing.
  • NdFeB neodymium
  • SmCo samarium and cobalt
  • the magnet 104 is separated from the side surface 3 b of the target 3, and the magnetic poles 104 a and 104 b are arranged in the axial direction A of the target 3. Thereby, the magnet 104 forms the magnetic field MF2 shown in FIG. 9 on the side surface 3b of the target 3.
  • the magnet 104 is disposed so that the intermediate position in the axial direction of the magnet 104 is 20 mm behind the tip surface 3 a of the target 3.
  • the magnetic field line FL2 of the magnetic field MF2 comes out from the magnetic pole 104a facing the tip surface 3a side of the target 3, but in the vicinity of the tip surface 3a in the side 3b of the target 3 (specifically, from the tip surface 3a of the target 3).
  • the target 3 enters the inside of the target 3 from the side surface 3b. That is, the magnetic field line FL2 extends in the direction toward the inner side in the radial direction B while approaching the front end surface 3a on the side surface 3b of the target 2 in the range from the front end surface 3a of the target 3 to about 6 mm.
  • the magnetic field lines FL2 are sparse (that is, the magnetic flux density is low).
  • FIG. 10 shows the distance X (mm) from the tip surface 3a of the target 3 and the magnetic field MF2 formed by the magnet 4 when the magnet 104 is arranged in the axial direction of the target 3 as shown in FIG.
  • a graph showing the relationship with the horizontal magnetic flux density Bx (the unit is G ( ⁇ 10 ⁇ 4 T)) is shown.
  • FIG. 10 represents a horizontal magnetic flux density Bx in the magnet 104 made of a permanent magnet made of an alloy containing neodymium (NdFeB).
  • Curve V shows horizontal magnetic flux density Bx in magnet 104 made of a permanent magnet made of an alloy containing samarium and cobalt (SmCo).
  • a curve VI indicates the horizontal magnetic flux density Bx in the magnet 104 made of a permanent magnet mainly made of iron (Fe).
  • FIG. 11 when the magnet 104 is arranged in the axial direction of the target 3 as shown in FIG. 9, the distance X (mm) from the tip surface 3 a of the target 3 and the magnetic force line FL ⁇ b> 2 with respect to the side surface 3 b of the target 3.
  • a graph showing the relationship with the angle ⁇ is shown. In the graph of FIG. 11, it is understood that the angle ⁇ is 0 degrees or less in the range where the distance X from the tip surface 3a of the target 3 is 0 to 6 mm.
  • the magnetic field line FL 2 extends in the direction toward the inside of the radial direction B while approaching the tip surface 3 a on the side surface 3 b of the target 3 and enters the target 3. .
  • the magnetic force lines FL2 entering the target 3 have a weak action of pushing the arc spot S back to the tip surface 3a on the side surface 3b of the target 3.
  • the magnetic field MF ⁇ b> 2 formed in the magnet 104 is the target 3 in the axial direction A of the target 3. It can be seen that it is difficult to construct a configuration that satisfies the above conditions a) and b) in the range from the tip surface 3a to 10 mm. Therefore, as shown in FIGS. 9 to 11, when the above conditions a) and b) are not satisfied, the arc spot S is pushed back into the range of the front end surface 3a of the target 3 by the magnetic force line FL2 on the side surface 3b of the target 3. It seems difficult.
  • FIGS. 4 to 5 the configuration in which the magnetic poles 4a and 4b having different magnets 4 are arranged in the radial direction of the target 3 as shown in FIGS.
  • a configuration that satisfies the magnetic field generation conditions a) and b) can be easily constructed. Recognize. Therefore, the configuration in which the magnets 4 shown in FIGS. 4 to 5 are arranged radially can more stably hold the arc spot S on the tip surface 3a of the target 3, and the arc evaporation source 1 It can be seen that it is possible to reliably achieve the downsizing.
  • the target 3 is described by taking a carbon target as an example, but the present invention is not limited to this.
  • the target 3 may include tungsten carbide, tungsten, molybdenum, or niobium.
  • the arc spot tends to move in an unstable manner as in the case of the carbon target 3 described above.
  • the magnet generates a magnetic field that satisfies the above conditions a) and b), so that the arc spot can be stably held on the tip surface of the target 3 even when the target 3 made of tungsten carbide is used. It is possible.
  • the target 3 made of tungsten carbide or the like is expensive, the consumption form and the yield of the target 3 are particularly emphasized. Therefore, using tungsten carbide or the like as the rod-shaped target 3 in the arc evaporation source 1 described above makes the consumption form of the target 3 uniform (that is, the target 3 is uniformly consumed over the entire tip surface) and This is effective in improving the yield.
  • the arc evaporation source of this embodiment is A target that is melted and evaporated from the tip surface by arc discharge; At least one magnet disposed at a position spaced apart in a radial direction of the target from a side surface continuous to a peripheral edge of the tip surface of the target; With The magnet In the range from the tip surface of the target in the axial direction of the target perpendicular to the tip surface on the side surface of the target up to 10 mm, the following conditions a) and b): a) The angle formed by the magnetic lines of force with respect to the side surface of the target is 45 degrees or less, and b) The component in the axial direction of the target in the intensity of the magnetic field lines is arranged so as to form a magnetic field that satisfies a condition of 200 G or more.
  • the magnetic lines of force on the side surface of the target act to push the arc spot back into the front end surface.
  • the arc spot is maintained within the range of the tip surface of the target.
  • each magnet since the magnets are arranged so as to generate a magnetic field that satisfies the above conditions a) and b), each magnet does not need to be large in size in order to generate a strong magnetic force. Therefore, it is possible to suppress the enlargement of the apparatus.
  • the target is preferably rod-shaped. In this case, continuous film formation is possible over a long period of time according to the length of the rod-shaped target.
  • the target may contain carbon.
  • the arc spot tends to move more unstable, and the arc spot tends to come out from the tip surface.
  • a magnetic field that satisfies the above conditions a) and b) as described above, it is possible to stably hold an arc spot on the tip surface of the target even if a carbon target is used. is there.
  • the target may include tungsten carbide, tungsten, molybdenum, or niobium.
  • the arc spot tends to move in an unstable manner, similar to the carbon target.
  • the arc spot can be stably held on the tip surface of the target even when a target such as tungsten carbide is used. Is possible. Targets such as those made of tungsten carbide are expensive, and therefore, the consumption form and yield of the target are particularly emphasized. Therefore, the use of tungsten carbide or the like as the rod-shaped target in the arc evaporation source is effective in terms of uniformizing the consumption of the target and improving the yield.
  • the magnet has magnetic poles different from each other, and the magnets are arranged so that the magnetic poles different from each other are arranged in the radial direction of the target.
  • the magnets are arranged such that different magnetic poles of the magnets are arranged in the radial direction of the target on the side of the target. In this case, one magnetic pole of each magnet faces the side surface of the target, and the other magnetic pole faces radially outward of the target.
  • the magnetic pole facing the side surface of the target has an acute angle of 45 degrees or less and strong magnetic field lines satisfying the above conditions a) and b) with respect to the side surface of the target in the range of 10 mm from the tip surface. Can occur.
  • the individual magnets can be small while generating strong magnetic field lines with an acute angle of 45 degrees or less with respect to the side surface of the target. Can be reliably reduced in size.
  • the magnet may have magnetic poles different from each other, and the magnets may be arranged so that the magnetic poles different from each other are arranged in the axial direction of the target. Also in this case, if the magnets are arranged so as to generate a magnetic field that satisfies the above conditions a) and b), the individual magnets generate a strong magnetic force, so that it is not necessary to enlarge the magnets. Therefore, it is possible to suppress the enlargement of the apparatus.
  • the axial component of the target in the intensity of the magnetic field lines is preferably 500 G or more.
  • This magnetic field line can surely push back the arc spot within the range of the tip surface of the target.
  • the axial component of the target in the strength of the magnetic field lines increases as the distance from the tip surface of the target increases in the axial direction of the target.
  • the magnetic field lines become stronger from the tip surface of the target in the axial direction of the target.
  • the arc spot can be reliably pushed back to the tip surface of the target by the action of magnetic force without staying on the side surface.
  • the magnetic field has a place where the axial component of the target in the intensity of the magnetic field lines is 800 G or more in the range of 20 mm from the tip surface of the target in the axial direction of the target on the side surface of the target. .
  • This configuration makes it possible to push the arc spot back more reliably to the tip surface of the target by the action of magnetic force without the arc spot staying on the side surface of the target.
  • the magnet is preferably a permanent magnet.
  • the magnet can be made smaller than an electromagnet having a coil.
  • the degree of freedom in arranging the magnets can be improved, and the arc evaporation source can be reduced in size more reliably.
  • the permanent magnet preferably contains neodymium.
  • a permanent magnet containing neodymium is capable of generating strong lines of magnetic force that satisfy the above conditions a) and b) while being small.
  • the plurality of magnets are preferably arranged at equal intervals in the circumferential direction of the target.
  • the magnetic field generated by the magnet can be uniformly distributed in the circumferential direction of the target on the target side surface. Therefore, it is possible to eliminate a portion where the magnetic field lines are locally weak where the arc spot may stay on the side surface of the target. As a result, the arc spot can be more reliably pushed back to the target tip surface by the action of magnetic force.
  • the magnet is preferably disposed on the rear side in the axial direction of the target from the tip surface of the target.
  • the magnet By arranging the magnet as described above, it is possible to reliably generate a magnetic field that satisfies the above conditions a) and b), and the molten material that jumps out from the tip surface of the target adheres to the magnet. It is possible to avoid fear.

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Abstract

 ターゲットの先端面にアークスポットを安定して保持することができ、しかも、装置の小型化が達成可能なアーク蒸発源を提供する。 アーク蒸発源1は、アーク放電によって先端面3aから溶解されて蒸発されるターゲット3と、ターゲット3の側面3bから当該ターゲット3の半径方向に離間した位置に配置された少なくとも1つの磁石4とを備えている。磁石4は、ターゲット3の側面3bにおいてターゲット3の軸方向のターゲット3の先端面3aから10mmまでの範囲において、以下の条件a)およびb)、すなわち、a)ターゲット3の側面3bに対して磁場による磁力線がなす角度は、45度以下であり、かつ、b)当該磁力線の強度におけるターゲット3の軸方向の成分は、200G以上であるという条件を満たす磁場MF1を形成するように配置されている。

Description

アーク蒸発源
 本発明は、アーク蒸発源に関する。
 従来より、工具や機械部品などの基材の表面に耐摩耗性の向上等の目的のために被膜を形成する方法として、アーク放電を用いて基材の表面に被膜を形成する方法が種々提案されている。そのような被膜の材料としては、例えば、連続的な成膜を可能にするために棒状のターゲットが用いられる場合がある。
 特許文献1記載には、棒状のターゲットを有するアーク蒸発源が開示されている。このようなアーク蒸発源では、AIPなどのアーク放電を利用して成膜を行う場合、棒状のターゲットの先端面は、アーク放電によって溶融されて蒸発される。その溶融されて蒸発された材料は、基材の表面に付着する。
 ここで、成膜中には、ターゲットの先端面においてアーク放電が生じる点であるアークスポットは、不安定な動きをする。そのため、アークスポットは、ターゲットの先端面の範囲から出てターゲットの側面やターゲット以外の方へ予期せぬ移動や迷走を起こすおそれがある。そのような場合、成膜装置はアーク放電を自動的に停止せざるをえないので、連続的な成膜ができなくなるおそれがある。
 そこで、アークスポットをターゲットの先端面の範囲内に維持するために、特許文献1記載のアーク蒸発源では、棒状のターゲットの周囲に磁場発生用の円環状のコイルが当該ターゲットと同軸上に配置されている。このコイルで発生した磁場では、ターゲットの先端面からほぼ法線方向にのびる磁力線が形成される。このようなターゲットの先端面からほぼ法線方向にのびる磁力線によって、アークスポットは、ターゲットの先端面の範囲から出ないように維持される。
 ここで、ターゲットとして、近年、カーボン製のターゲットを用いて成膜が行われる場合がある。このような場合、アークスポットがより不安定な動きをするので、当該ターゲットの先端面からさらに出やすくなる傾向がある。そのため、アークスポットをターゲットの先端面の範囲内に維持するためには、より強い磁力線が必要になる。
 しかし、特許文献1記載のアーク蒸発源のように、棒状のターゲットの周囲に磁場発生用のコイルが配置された構造では、強い磁力線を発生するためには、コイルやその周辺の機器が大型化し、当該アーク蒸発源の製造コストが増大するという問題がある。
特開2007-70690号公報
 本発明の目的は、装置の大型化を抑えながらターゲットの先端面にアークスポットを安定して保持することが可能なアーク蒸発源を提供することである。
 本発明者は、上記の課題を解決するために、鋭意研究を重ねた結果、磁石によって形成される磁場は、アークスポットをターゲットの先端面の範囲内に維持するために、ターゲットの側面に対する磁力線の角度が所定の大きさより低く、かつ、磁力線の強度におけるターゲットの軸方向の成分の大きさが所定の大きさ以上の条件を同時に満たせばよいことを発見した。また、発明者は、磁石がこのような条件を満たす磁場を発生するように配置された場合には、装置の大型化を抑えることが可能であることを発見した。
 すなわち、本発明のアーク蒸発源は、
 アーク放電によって先端面から溶解されて蒸発されるターゲットと、
 前記ターゲットの前記先端面の周縁に連続する側面から当該ターゲットの半径方向に離間した位置に配置された少なくとも1つの磁石と、
 を備えており、
 前記磁石は、
 前記ターゲットの側面において前記先端面に直交する前記ターゲットの軸方向の前記ターゲットの先端面から10mmまでの範囲において、以下の条件a)およびb)、すなわち、
a)前記ターゲットの側面に対して磁場による磁力線がなす角度は、45度以下であり、かつ、
b)当該磁力線の強度における前記ターゲットの軸方向の成分は、200G以上である
という条件を満たす磁場を形成するように配置されていることを特徴とする。
本発明の実施形態に係るアーク蒸発源の斜視図である。 図1のターゲットおよび磁石をターゲットの側面から見た図である。 図1のターゲットおよび磁石をターゲットの先端面から見た図である。 図1の磁石によって発生した磁場を示す図である。 図4の磁場におけるターゲット先端面と磁石との間の部分を拡大した図である。 図1のターゲットの先端面からの距離と水平磁束密度との関係を示すグラフである。 図1のターゲットの先端面からの距離とターゲットの側面に対する磁力線の角度との関係を示すグラフである。 本発明の変形例であって、磁石の磁極がターゲットの軸方向に並ぶように磁石が配置された場合のターゲット先端面と磁石との間の部分を拡大した図である。 本発明の比較例として、ターゲットの軸方向に異なる磁極が並ぶ磁石が本発明の磁場の発生条件a)およびb)を満足しない磁場を発生した状態を示す図である。 図9のターゲットの先端面からの距離と水平磁束密度との関係を示すグラフである。 図9のターゲットの先端面からの距離とターゲットの側面に対する磁力線の角度との関係を示すグラフである。
 以下、図面を参照しながら本発明のアーク蒸発源の実施形態についてさらに詳細に説明する。
 図1~3に示されるアーク蒸発源1は、本体部2と、棒状のカーボン製のターゲット3と、ターゲット3の周囲に放射状に配置された複数の磁石4と、これら磁石4をアーク放電から保護するシールド板5と、ターゲット3を軸方向Aに送り出す送出部6と、ターゲット3のアーク放電を開始させる着火装置7とを備えている。
 本体部2は、主板部2aと、筒部2bとを有する。主板部2aは、成膜装置のチャンバ(図示せず)内に配置されている。筒部2bは、主板部2aの背面側においてチャンバの外に配置されている。棒状のターゲット3の先端部は、主板部2aおよびシールド板5を貫通して、チャンバ内に露出している。ターゲット3の残りの部分3cは、筒部2b内部に収容されている。なお、シールド板5は、ターゲット3が貫通する貫通孔5aを有する。
 棒状のカーボン製のターゲット3は、円柱状を有しており、具体的には、円形の先端面3aと、当該先端面3aの周縁に連続する側面3bとを有する。ターゲット3の直径は、10~30mm程度である。ターゲット3の長さは、当該ターゲット3の直径よりも十分に長い。ここで、カーボン製のターゲット3の場合はアークスポットS(図2参照)は、円形の先端面3aの範囲内で、ゆっくりと回転(数秒で1回転)し、金属製のターゲットの場合のように先端面内でランダムに動かない傾向がある。そのため、カーボン製のターゲットでは、直径が太く、平板に近い形状を有する場合には、成膜時の膜厚分布がばらつき、ターゲット先端面の角部だけ消耗して均一に消耗しないおそれがある。そこで、このような問題を解消するために、カーボン製のターゲットの場合には、ターゲット3の直径は、上記のように10~30mm程度であるのが好ましい。
 なお、ターゲット3は、棒状以外の形状(例えば、平板状などのように、ターゲット3の長さが当該ターゲット3の直径と比較して十分に長くない種々の立体形状)であってもよい。
 ターゲット3は、カーボン(すなわち炭素)を含む材料からなり、例えば、炭素の純物質、または炭素と他の物質との混合物によって製造される。
 ターゲット3は、成膜装置にチャンバ内において、基材の表面に成膜を行うために、アーク放電によって先端面3aから溶解されて蒸発される。アーク放電は、着火装置7の接触棒7aがターゲット3に接触したときに開始される。ターゲット3は、送出部6によって、溶融した長さの分だけチャンバ内に突出するように、先端面3aに直交する軸方向Aへ自動的に送り出される。そのため、ターゲット3の先端面3aの位置は、ターゲット3が消耗しても所定の位置に維持される。
 なお、本実施形態で用いられるカーボン製のターゲット3は、他の材料(例えば金属)からなるターゲットと比較して、アーク放電によって蒸発されるときに温度が上昇しにくい。そのためアーク蒸発源1は、ターゲット3を冷却するための機構が不要である。なお、ターゲットは、カーボン以外の他の材料(例えば、後述するタングステンカーバイドなどの金属製ターゲットなど)であってもよい。
 複数の磁石4は、互いに異なる磁性の磁極4a、4bをそれぞれ有している。複数の磁石4は、ターゲット3の側面3bから当該ターゲット3の半径方向Bに離間した位置において、互いに異なる磁性の磁極4a、4bが当該ターゲット3の半径方向Bに並ぶように配置されている。これらの磁石4は、後述の条件a)およびb)を満たす磁場MF1(図4~5参照)を発生する。ターゲット3の側面3bに対向する磁極4aは、N極であり、ターゲット3の半径方向B外側を向く磁極4bは、S極である。
 これら複数の磁石4は、ターゲット3の周方向において互いに等間隔に配置されるように、本体部2の主板部2aに取り付けられている。これにより、ターゲット3の側面3bにおいて、磁石4によって発生する磁場MF1をターゲット3の周方向において均一に分布させることが可能である。
 これらの磁石4は、ターゲット3の先端面3aから当該ターゲット3の軸方向Aにおける後方側に配置されている。例えば、図4に示されるように、磁石4は、その中心がターゲット3の先端面3aから20mm後方(図4の右方向)の位置にあるように、配置される。そのため、後述の条件a)およびb)を満たす磁場MF1を確実に発生することが可能であり、しかも、ターゲット3の先端面3aから飛び出す溶融材料が磁石4に付着するおそれを回避することが可能である。磁石4は、条件a)およびb)を満たす磁場MF1を形成することができるのであれば、ターゲット3の先端面3aから当該ターゲット3の軸方向Aにおける後方側に配置されることに限定されるものではない。例えば、磁石4の一部が、先端面3aから前方側(具体的には、図4における先端面3aが向く方向(図4における左方向)を向く側)に突出していてもよい。
 ターゲットの先端面3aと磁石4との間には、図2に示されるように、シールド板5が介在している。
 それぞれの磁石4は、強い磁力を発生する永久磁石からなり、例えば、ネオジムを含む合金(例えば、NdFeBなど)によって製造される。ネオジムを含む永久磁石は、小型でありながら、後述する条件a)およびb)を満足する強い磁力線FL1を発生することが可能である。また、強い磁力を発生する永久磁石は、サマリウムおよびコバルトを含む合金(SmCo)によっても製造される。
 磁石4は、永久磁石からなるので、コイルを有する電磁石と比べて小型化が可能である。したがって、磁石4の配置自由度が向上するとともに、アーク蒸発源1の小型化をより確実に達成することが可能である。
 磁石4は、上記のようにターゲット3の側面3bから離間して半径方向Bに磁極4a、4bが並ぶように放射状に配置されることにより、磁石4は、ターゲット3の側面3bにおいて図4~5に示される磁場MF1を形成する。なお、図4では、磁石4は、ターゲット3の先端面3aから後方側に配置され、具体的には、当該磁石4の中心がターゲット3の先端面3aから20mm後方の位置にあるように配置されている。ただし、先端面3aに対する磁石4の位置関係については、本発明はこれに限定されるものではない。
 この磁場MF1の磁力線FL1は、ターゲット3の側面3bに対向する磁極4aから出て、ターゲット3の側面の3bにおける先端面3a付近(具体的には、ターゲット3の先端面3aから10mmまでの範囲)では、ターゲット3の側面3bに対して鋭角(具体的には、図4~5では45度以下の鋭角)に延びる。すなわち、磁力線FL1は、ターゲット3の先端面3aから10mmまでの範囲では、ターゲット2の側面3bにおいて、先端面3aへ近づきながら半径方向Bの外側に向かう方向へ延びる。しかも、この範囲では、磁力線FL1は、密集状態を保っている(すなわち、磁束密度が高い)。
 この磁場MF1は、ターゲット3の軸方向Aのターゲット3の先端面3aから10mmまでの範囲において、以下の条件a)およびb)、すなわち、
a)ターゲット3の側面3bに対して磁場MF1による磁力線FL1がなす角度θは、45度以下であり、かつ、
b)当該磁力線FL1の強度におけるターゲット3の軸方向Aの成分Bxは、200G以上である
という条件を満たす。
 上記の条件a)およびb)を満たすことにより、図2~3に示されるアークスポットSは、カーボン製のターゲット3の先端面3aの範囲から出ようとしても、ターゲット3の先端面3a付近、すなわち先端面3aから10mmまでの範囲においてターゲット3の側面3bにおける磁力線FL1(図4~5参照)がアークスポットSを当該先端面3aの範囲内へ押し戻すように作用する。これによって、アークスポットSは、カーボン製のターゲット3の先端面3aの範囲内に維持され、アークスポットSがターゲット3の先端面3aの範囲外へ出ることが防止される。
 そして、磁石4は、上記の条件a)およびb)を満たす磁場を発生するように配置されたことによって、個々の磁石4は強力な磁力を発生するために当該磁石4を大型にする必要がなくなる。そのため、アーク蒸発源1の大型化を抑えることが可能である。
 また、ターゲット3は、棒状であるので、その長さに応じて長時間にわたって連続的な成膜が可能である。
 本実施形態では、ターゲット3としてカーボン製のターゲットが採用されているので、アークスポットSがより不安定な動きをして、アークスポットSが先端面3aから出やすい傾向がある。しかし、上記のように磁石4が上記の条件a)およびb)を満たす磁場を発生することにより、カーボン製のターゲット3を用いてもターゲット3の先端面3aにアークスポットSを安定して保持することが可能である。
 本実施形態では、上記の条件a)およびb)を満たす磁場MF1を発生するための磁石4の配置として、複数の磁石4は、カーボン製のターゲット3の側方においてそれら磁石4が有する互いに異なる磁極4a、4bがターゲット3の半径方向Bに並ぶように配置されている。これによって、ターゲット3の側面3bに対して45度以下の鋭角で且つ強い磁力線FL1を発生しながらも、個々の磁石4は小さくてすむので、アーク蒸発源1の装置全体を確実に小型化することが可能である。
 なお、磁石4は、図8に示されるように、互いに異なる磁性の磁極4a(例えばN極)および磁極4b(例えばS極)が当該ターゲット3の軸方向Aに並ぶように配置されていてもよい。この場合も、磁石4が上記の条件a)およびb)を満たす磁場MF1’を発生するように配置されていれば、カーボン製のターゲット3の先端面3aの範囲から出ようとしても、ターゲット3の先端面3a付近、すなわち先端面3aから10mmまでの範囲においてターゲット3の側面3bにおける磁力線FL1’がアークスポットSを当該先端面3aの範囲内へ押し戻すことが可能である。しかも、このような図8に示される構成個々の磁石4は強力な磁力を発生するために当該磁石4を大型にする必要がなくなる。そのため、アーク蒸発源1の大型化を抑えることが可能である。なお、このように磁極4a、4bがターゲット3の軸方向に並んで配置された場合、ターゲット3の先端面3aから放出される電子は磁力線FL1’に沿って先端面3aに近い側の磁極4aに向かって流れるので、磁石4の磁極4aの部分はアノード(陽極)となって加熱されるので、この磁極4aの部分を水冷などによる冷却機構によって冷却されるのが好ましい。
 なお、上記のように、磁石4が互いに異なる磁性の磁極4aおよび磁極4bが当該ターゲット3の軸方向Aに並ぶように配置される場合には、磁石4は、リング状の磁石であってもよいし、図8に示されるようにターゲット3の周囲に複数の磁石4を周方向に配置してもよい。上記のリング状の磁石は、少なくとも1つあればよく、1個だけでもよい。
 磁力線FL1の強度におけるターゲット3の軸方向Aの成分Bxは、500G以上であるのが好ましい。このような磁力線FL1は、アークスポットSをカーボン製のターゲット3の先端面3aの範囲内により確実に押し戻すことが可能である。
 上記の条件a)およびb)に関しては、さらに詳細な説明が行われる。
 図6には、磁石4が図4に示されるように放射状に配置された場合において、図1のターゲットの先端面3aからの距離X(mm)と磁石4によって形成される磁場MF1の水平磁束密度Bx(単位はG(=×10-4T))との関係を示すグラフが示されている。この図6では、磁力線FL1の強度におけるターゲット3の軸方向Aの成分Bxは、水平磁束密度Bxとして示される。
 図6のグラフの曲線Iは、本実施形態におけるネオジムを含む合金(NdFeB)で製造された永久磁石からなる磁石4における水平磁束密度Bxが示されている。この曲線Iでは、ターゲット3の先端面3aからの距離Xが0~10mmの範囲において、200G以上の水平磁束密度Bx、具体的には230~800Gの水平磁束密度Bxが示される。よって、この範囲においてアークスポットSを先端面3aに押し戻すことが可能な強い磁力線が発生していることがわかる。また、曲線Iでは、距離Xが10~16mmの範囲において、800G以上の水平磁束密度Bxが示され、この範囲において非常に強い磁力線が発生していることがわかる。この範囲では、磁力線が非常に強いので、アークスポットSを磁力の作用でアークスポットSを先端面3aにより確実に押し戻すことが可能である。
 また、図6のグラフの曲線IIは、本実施形態におけるサマリウムおよびコバルトを含む合金(SmCo)で製造された永久磁石からなる磁石4における水平磁束密度Bxが示されている。この曲線IIでは、ターゲット3の先端面3aからの距離Xが0~10mmの範囲において、200G以上、具体的には、210~620Gの水平磁束密度Bxが示され、この範囲においてアークスポットSを先端面3aに押し戻すことが可能な強い磁力線が発生していることがわかる。また、曲線IIでは、距離Xが13~14mmの範囲において、800G以上の水平磁束密度Bxが示されている。
 また、図6のグラフの曲線I、IIにおけるターゲット3の先端面3aからの距離Xが0~14mmの範囲では、磁力線FL1の強度におけるターゲット3の軸方向Aの成分Bxは、ターゲット3の先端面3aから当該ターゲット3の軸方向Aへ離れるにしたがって増加する。これにより、磁力線FL1は、ターゲット3の先端面3aからターゲット3の軸方向Aへ離れるにしたがって強くなっていく。その結果、アークスポットSがターゲット3の先端面3aから外れてターゲット3の側面3bへ移動した場合でも当該側面3bでとどまることなく、アークスポットSを磁力の作用で確実にターゲット3先端面3aに押し返すことが可能である。
 言い換えれば、カーボン製のターゲット3の側面3bにおいてアーククスポットSを押し返す効果は、磁力線FL1の水平成分強度Bxによるところが大きい。しかし、側面3b上において水平成分強度Bxが局所的に弱い箇所がある場合には、その箇所においてアークスポットSが意図しない挙動をするおそれが高くなり、アークスポットSの位置を制御することが難しくなる。そこで、磁力線FL1の水平成分強度Bxが均一に単調増加するように当該磁力線FL1が分布していれば、アークスポットSを確実にターゲット3先端面の3aへ押し返すことが可能である。
 さらに、図6のグラフの曲線IIIは、参考例として鉄(Fe)を主原料とする既存の永久磁石からなる磁石における水平磁束密度Bxが示されている。この曲線IIIでは、上記の曲線I、IIと比較して、ターゲット3の先端面3aからの距離Xが0~20mmの範囲において、水平磁束密度Bxが全体的に低いことが理解される。この距離Xが0~10mmの範囲の大半の部分では、水平磁束密度Bxが200G以下であるので、このような鉄製の既存の永久磁石では、アークスポットSを先端面3aに押し戻すことが可能な強さの磁力線を得ることができないことがわかる。
 図7には、磁石4が図4に示されるように放射状に配置された場合において、図1のターゲット3の先端面3aからの距離X(mm)とターゲット3の側面3bに対する磁力線FL1の角度θとの関係を示すグラフが示されている。この図7のグラフでは、ターゲット3の先端面3aからの距離Xが0~12mmの範囲において、角度θが0~30度の鋭角の範囲にあり、磁力線FL1がアークスポットSを先端面3aへ押し戻すこと可能な鋭利な角度を有していることがわかる。
 上記のように、ネオジムを含む合金(NdFeB)またはサマリウムおよびコバルトを含む合金(SmCo)で製造された永久磁石からなる磁石4が、図4~5に示されるように放射状に配置された構成では、上記の条件a)およびb)を満たす磁力線MF1を発生し、それによって、アークスポットSがターゲット3の先端面3aの範囲外へ出ることが防止することができることが発明者による実験により確認されている。
 一方、本発明の比較例として、図9に示されるように、永久磁石からなる磁石104がターゲット3の軸方向Aに配置された場合に本発明の磁場の発生条件である上記の条件a)、b)を満たさない磁場を発生する構成について考察する。
 図9に示される構成では、磁石104は、ターゲット3の側面3bから離間し、磁極104a、104bがターゲット3の軸方向Aに並ぶように配置されている。これにより、磁石104は、ターゲット3の側面3bにおいて図9に示される磁場MF2を形成する。なお、図9では、磁石104は、磁石104の軸方向の中間位置がターゲット3の先端面3aから20mm後方の位置にあるように配置されている。
 この磁場MF2の磁力線FL2は、ターゲット3の先端面3aの側を向く磁極104aから出ているが、ターゲット3の側面の3bにおける先端面3a付近(具体的には、ターゲット3の先端面3aから6mm程度までの範囲)では、ターゲット3の側面3bからターゲット3の内部に入り込んでいる。すなわち、磁力線FL2は、ターゲット3の先端面3aから6mm程度までの範囲では、ターゲット2の側面3bにおいて、先端面3aへ近づきながら半径方向Bの内側に向かう方向へ延びている。しかも、この範囲では、磁力線FL2は、まばらである(すなわち、磁束密度が低い)。
 図10には、磁石104が図9に示されるようにターゲット3の軸方向に配置された場合において、ターゲット3の先端面3aからの距離X(mm)と磁石4によって形成される磁場MF2の水平磁束密度Bx(単位はG(=×10-4T))との関係を示すグラフが示されている。
 図10のグラフの曲線IVは、ネオジムを含む合金(NdFeB)で製造された永久磁石からなる磁石104における水平磁束密度Bxが示されている。また、曲線Vは、サマリウムおよびコバルトを含む合金(SmCo)で製造された永久磁石からなる磁石104における水平磁束密度Bxが示されている。曲線VIは、鉄(Fe)を主原料とする永久磁石からなる磁石104における水平磁束密度Bxが示されている。
 これら曲線IV~VIでは、ターゲット3の先端面3aからの距離Xが0~10mmの範囲において、水平磁束密度Bxが200G未満の低い値を維持していることが示されている。したがって、この範囲では、磁力線FL2の強度が弱いので、ターゲットのアークスポットSを先端面3aに押し戻すことが難しいと考えられる。
 図11には、磁石104が図9に示されるようにターゲット3の軸方向に配置された場合において、ターゲット3の先端面3aからの距離X(mm)とターゲット3の側面3bに対する磁力線FL2の角度θとの関係を示すグラフが示されている。この図11のグラフでは、ターゲット3の先端面3aからの距離Xが0~6mmの範囲において、角度θが0度以下になることが理解される。すなわち、磁力線FL2は、ターゲット3の先端面3aから6mmまでの範囲では、ターゲット3の側面3bにおいて、先端面3aへ近づきながら半径方向Bの内側に向かう方向へ延び、ターゲット3内部に入り込んでいる。そのため、このようなターゲット3内部に入り込んだ磁力線FL2は、ターゲット3の側面3bにおいてアークスポットSを先端面3aに押し戻す作用が弱いと考えられる。
 以上のように、図9に示されるように、磁石104がターゲット3の軸方向Aに配置された場合には、当該磁石104において形成される磁場MF2は、ターゲット3の軸方向Aのターゲット3の先端面3aから10mmまでの範囲において、上記の条件a)およびb)を満足する構成を構築することが難しいことがわかる。そのため、図9~11に示されるように上記の条件a)およびb)を満たさない場合には、ターゲット3の側面3bにおける磁力線FL2によってアークスポットSをターゲット3の先端面3aの範囲内へ押し戻すことが難しいと考えられる。
 そして、このような磁石104がターゲット3の軸方向Aに配置された構成では、たとえネオジムを含む合金(NdFeB)またはサマリウムおよびコバルトを含む合金(SmCo)で製造された永久磁石を用いても、上記の本実施形態の図4~5に示されるように磁石4が放射状に配置された構成のように、アークスポットSがターゲット3の先端面3aの範囲外へ出ることが防止することができないことが発明者による実験により確認されている。
 したがって、図4~5に示されるように磁石4が互いに異なる磁性の磁極4a、4bが当該ターゲット3の半径方向に並ぶように配置されている構成の方が、図9に示されるように磁極104a、104bがターゲット3の軸方向に並ぶように磁石104が配置されている構成と比較して、上記の磁場の発生条件a)およびb)を満足する構成を容易に構築することができることがわかる。よって、図4~5に示される磁石4が放射状に配置された構成の方が、ターゲット3の先端面3aにアークスポットSをより安定して保持することができ、しかも、当該アーク蒸発源1の小型化を確実に達成することが可能であることがわかる。
 上記の実施形態では、ターゲット3として、カーボン製のターゲットを例に挙げて説明しているが、本発明はこれに限定されるものではない。ターゲット3は、タングステンカーバイド、タングステン、モリブデン、あるいは、ニオブを含んでもよい。これらタングステンカーバイド製などのターゲット3についても、上記のカーボン製のターゲット3と同様に、アークスポットが不安定な動きをする傾向がある。しかし、上記のように磁石が上記の条件a)およびb)を満たす磁場を発生することにより、タングステンカーバイド製などのターゲット3を用いてもターゲット3の先端面にアークスポットを安定して保持することが可能である。タングステンカーバイド製などのターゲット3は、高価であるので、とくにターゲット3の消耗形態および歩留りも重視される。そのため、上記のアーク蒸発源1において棒状のターゲット3としてタングステンカーバイドなどを使用することは、このターゲット3の消耗形態の均一化(すなわち、ターゲット3がその先端面全体にわたって均一に消耗すること)および歩留りの向上の点で有効である。
 なお、上述した具体的実施形態には以下の構成を有する発明が主に含まれている。
 本実施形態のアーク蒸発源は、
 アーク放電によって先端面から溶解されて蒸発されるターゲットと、
 前記ターゲットの前記先端面の周縁に連続する側面から当該ターゲットの半径方向に離間した位置に配置された少なくとも1つの磁石と、
 を備えており、
 前記磁石は、
 前記ターゲットの側面において前記先端面に直交する前記ターゲットの軸方向の前記ターゲットの先端面から10mmまでの範囲において、以下の条件a)およびb)、すなわち、
a)前記ターゲットの側面に対して磁場による磁力線がなす角度は、45度以下であり、かつ、
b)当該磁力線の強度における前記ターゲットの軸方向の成分は、200G以上である
という条件を満たす磁場を形成するように配置されていることを特徴とする。
 上記の構成によれば、磁石によって発生する磁場は、上記の条件a)およびb)を満たすことにより、アークスポットは、ターゲットの先端面の範囲から出ようとしても、ターゲットの先端面付近、すなわち先端面から10mmまでの範囲においてターゲットの側面における磁力線がアークスポットを当該先端面の範囲内へ押し戻すように作用する。これによって、アークスポットは、ターゲットの先端面の範囲内に維持される。
 そして、磁石が上記の条件a)およびb)を満たす磁場を発生するように配置されたことによって、個々の磁石は強力な磁力を発生するために当該磁石を大型にする必要がなくなる。そのため、装置の大型化を抑えることが可能である。
 前記ターゲットは、棒状であるのが好ましい。この場合には、棒状のターゲットの長さに応じて長時間にわたって連続的な成膜が可能になる。
 前記ターゲットは、カーボンを含んでもよい。カーボン製のターゲットは、アークスポットがより不安定な動きをして、アークスポットが先端面から出やすい傾向がある。しかし、上記のように磁石が上記の条件a)およびb)を満たす磁場を発生することにより、カーボン製のターゲットを用いてもターゲットの先端面にアークスポットを安定して保持することが可能である。
 前記ターゲットは、タングステンカーバイド、タングステン、モリブデン、あるいは、ニオブを含んでもよい。これらタングステンカーバイド製などのターゲットについても、上記のカーボン製のターゲットと同様に、アークスポットが不安定な動きをする傾向がある。しかし、上記のように磁石が上記の条件a)およびb)を満たす磁場を発生することにより、タングステンカーバイド製などのターゲットを用いてもターゲットの先端面にアークスポットを安定して保持することが可能である。タングステンカーバイド製などのターゲットは、高価であるので、とくにターゲットの消耗形態および歩留りも重視される。そのため、上記のアーク蒸発源において棒状のターゲットとしてタングステンカーバイドなどを使用することは、このターゲットの消耗形態の均一化および歩留りの向上の点で有効である。
 前記磁石は、互いに異なる磁性の磁極を有し、当該互いに異なる磁性の磁極が当該ターゲットの半径方向に並ぶように、前記磁石が配置されているのが好ましい。上記の条件a)およびb)を満たす磁場を発生するための磁石の配置として、磁石は、ターゲットの側方においてそれら磁石が有する互いに異なる磁極がターゲットの半径方向に並ぶように配置されている場合には、個々の磁石における一方の磁極は、ターゲットの側面に対向し、他方の磁極は、ターゲットの半径方向外側を向く。これにより、ターゲットの側面に対向する磁極は、ターゲットの側面に対して、先端面から10mmまでの範囲において、上記の条件a)およびb)を満たすような45度以下の鋭角で且つ強い磁力線を発生することが可能である。言い換えれば、上記のように磁石を配置することによって、ターゲットの側面に対して45度以下の鋭角で且つ強い磁力線を発生しながらも、個々の磁石は小さくてすむので、アーク蒸発源の装置全体を確実に小型化することが可能である。
 なお、前記磁石は、互いに異なる磁性の磁極を有し、当該互いに異なる磁性の磁極が当該ターゲットの軸方向に並ぶように、前記磁石が配置されていてもよい。この場合も、磁石が上記の条件a)およびb)を満たす磁場を発生するように配置されていれば、個々の磁石は強力な磁力を発生するために当該磁石を大型にする必要がなくなる。そのため、装置の大型化を抑えることが可能である。
 前記磁力線の強度における前記ターゲットの軸方向の成分は、500G以上であるのが好ましい。
 この磁力線は、アークスポットをターゲットの先端面の範囲内により確実に押し戻すことが可能である。
 前記磁力線の強度における前記ターゲットの軸方向の成分は、前記ターゲットの先端面から当該ターゲットの軸方向へ離れるにしたがって増加するのが好ましい。
 この構成では、磁力線は、ターゲットの先端面からターゲットの軸方向へ離れるにしたがって強くなっていく。その結果、アークスポットがターゲットの先端面から外れてターゲットの側面へ移動した場合でも当該側面でとどまることなく、アークスポットを磁力の作用で確実にターゲット先端面に押し返すことが可能である。
 前記磁場は、前記ターゲットの側面において前記ターゲットの軸方向の前記ターゲットの先端面から20mmまでの範囲において、前記磁力線の強度における前記ターゲットの軸方向の成分が800G以上になる場所を有するのが好ましい。
 この構成によって、アークスポットがターゲットの側面でとどまることなく、アークスポットを磁力の作用でより確実にターゲット先端面に押し返すことが可能である。
 前記磁石は、永久磁石であるのが好ましい。
 この場合、コイルを有する電磁石と比べて磁石を小型にすることが可能になる。そのため、磁石の配置自由度が向上するとともに、アーク蒸発源の小型化をより確実に達成することが可能である。
 前記永久磁石は、ネオジムを含んでいるのが好ましい。
 ネオジムを含む永久磁石は、小型でありながら、上記の条件a)およびb)を満足する強い磁力線を発生することが可能である。
 複数の前記磁石は、前記ターゲットの周方向において、互いに等間隔に配置されているのが好ましい。
 これにより、前記ターゲット側面において、磁石によって発生する磁場をターゲットの周方向において均一に分布させることが可能である。そのため、アークスポットがターゲットの側面にとどまるおそれがある局所的に磁力線が弱い部分をなくすことができる。その結果、アークスポットを磁力の作用でより確実にターゲット先端面に押し返すことが可能である。
 前記磁石は、前記ターゲットの先端面から当該ターゲットの軸方向における後方側に配置されているのが好ましい。
 磁石が上記のように配置されていることにより、上記の条件a)およびb)を満たす磁場を確実に発生することが可能であり、しかも、ターゲットの先端面から飛び出す溶融材料が磁石に付着するおそれを回避することが可能である。

Claims (13)

  1.  アーク放電によって先端面から溶解されて蒸発されるターゲットと、
     前記ターゲットの前記先端面の周縁に連続する側面から当該ターゲットの半径方向に離間した位置に配置された少なくとも1つの磁石と、
     を備えており、
     前記磁石は、
     前記ターゲットの側面において前記先端面に直交する前記ターゲットの軸方向の前記ターゲットの先端面から10mmまでの範囲において、以下の条件a)およびb)、すなわち、
    a)前記ターゲットの側面に対して磁場による磁力線がなす角度は、45度以下であり、かつ、
    b)当該磁力線の強度における前記ターゲットの軸方向の成分は、200G以上である
    という条件を満たす磁場を形成するように配置されているアーク蒸発源。
  2.  前記ターゲットは、棒状である、請求項1に記載のアーク蒸発源。
  3.  前記ターゲットは、カーボンを含んでいる、請求項1に記載のアーク蒸発源。
  4.  前記ターゲットは、タングステンカーバイド、タングステン、モリブデン、または、ニオブを含んでいる、請求項1に記載のアーク蒸発源。
  5.  前記磁石は、互いに異なる磁性の磁極を有し、
     当該互いに異なる磁性の磁極が当該ターゲットの半径方向に並ぶように、前記磁石が配置されている、請求項1に記載のアーク蒸発源。
  6.  前記磁石は、互いに異なる磁性の磁極を有し、
     当該互いに異なる磁性の磁極が当該ターゲットの軸方向に並ぶように、前記磁石が配置されている、請求項1に記載のアーク蒸発源。
  7.  前記磁力線の強度における前記ターゲットの軸方向の成分は、500G以上である
    請求項1に記載のアーク蒸発源。
  8.  前記磁力線の強度における前記ターゲットの軸方向の成分は、前記ターゲットの先端面から当該ターゲットの軸方向へ離れるにしたがって増加する
    請求項1に記載のアーク蒸発源。
  9.  前記磁場は、前記ターゲットの側面において前記ターゲットの軸方向の前記ターゲットの先端面から20mmまでの範囲において、前記磁力線の強度における前記ターゲットの軸方向の成分が800G以上になる場所を有する、
    請求項1に記載のアーク蒸発源。
  10.  前記磁石は、永久磁石である、
    請求項1に記載のアーク蒸発源。
  11.  前記永久磁石は、ネオジムを含む、
    請求項10に記載のアーク蒸発源。
  12.  複数の前記磁石は、前記ターゲットの周方向において、互いに等間隔に配置されている
     請求項1に記載のアーク蒸発源。
  13.  前記磁石は、前記ターゲットの先端面から当該ターゲットの軸方向における後方側に配置されている
     請求項1に記載のアーク蒸発源。
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