WO2016008384A1 - 含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用 - Google Patents

含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用 Download PDF

Info

Publication number
WO2016008384A1
WO2016008384A1 PCT/CN2015/083634 CN2015083634W WO2016008384A1 WO 2016008384 A1 WO2016008384 A1 WO 2016008384A1 CN 2015083634 W CN2015083634 W CN 2015083634W WO 2016008384 A1 WO2016008384 A1 WO 2016008384A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
photosensitive composition
meth
acrylate
composition according
Prior art date
Application number
PCT/CN2015/083634
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
钱晓春
Original Assignee
常州强力电子新材料股份有限公司
常州强力先端电子材料有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 常州强力电子新材料股份有限公司, 常州强力先端电子材料有限公司 filed Critical 常州强力电子新材料股份有限公司
Priority to US15/324,996 priority Critical patent/US10392462B2/en
Priority to JP2017502252A priority patent/JP6510028B2/ja
Priority to KR1020177003365A priority patent/KR20170031717A/ko
Publication of WO2016008384A1 publication Critical patent/WO2016008384A1/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F265/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
    • C08F265/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
    • C08F265/06—Polymerisation of acrylate or methacrylate esters on to polymers thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F265/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
    • C08F265/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • C09D4/06—Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/168—Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2004—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/38—Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking

Definitions

  • the invention belongs to the field of photocuring technology, and in particular relates to a photosensitive composition (ie, a photocurable composition) containing an oxime ester photoinitiator and a liquid crystal display device such as a color filter, a photo spacer or Application in ribs.
  • a photosensitive composition ie, a photocurable composition
  • a liquid crystal display device such as a color filter, a photo spacer or Application in ribs.
  • the halide is reacted with an acid anhydride or an acid chloride to give a oxime ester photoinitiator.
  • the ultraviolet photosensitive prepolymer resin described in the component (A) is not particularly limited, and a conventionally known ultraviolet photosensitive prepolymer resin can be used. Among them, resins having a vinyl unsaturated group are preferred, and it is more preferred to use them in combination.
  • the active diluted monomer described in the component (B) is not particularly limited, and a conventionally known active diluted monomer can be used. Among them, monomers having an ethylenically unsaturated group are preferred, and it is more preferred to use them in combination.
  • the monomer having a vinyl unsaturated group includes a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer:
  • Another object of the present invention is to provide a photosensitive composition containing the above-described oxime ester photoinitiator in a liquid crystal display device such as a color filter (RGB and BM photoresist), a photo spacer or a rib wall.
  • a liquid crystal display device such as a color filter (RGB and BM photoresist), a photo spacer or a rib wall.
  • a contactless coating device such as a roll coater, a reverse coater, or a bar coater
  • a non-contact type coating device such as a spinner (rotary coating device) or a curtain flow coater is used. Coating the photosensitive composition on the substrate;
  • the energy line to be irradiated may be ultraviolet light, excimer laser or the like, and the intensity may vary depending on the composition of the photosensitive composition, but is preferably, for example, 30 to 2000 mJ/cm 2 ;
  • Post-baking is carried out, preferably at a baking temperature of 200 ° C to 250 ° C.
  • the following photosensitive composition was prepared, including benzyl methacrylate/methacrylic acid/hydroxyethyl methacrylate (molar ratio 70/10/20) copolymer (Mw: 10000) (50 parts by mass), dipentaerythritol Hexaacrylate (25 parts by mass), photoinitiator and pigment.
  • the photosensitive composition containing the oxime ester photoinitiator of the present invention exhibits very excellent application properties and has broad application prospects.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
  • Furan Compounds (AREA)
  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)

Abstract

提供一种含肟酯类光引发剂的感光性组合物。其中所述肟酯类光引发剂为式（I）所示化合物。该组合物具有固化速度快、曝光剂量小、污染少、节能、几乎没有残渣缺陷等优点，其固化膜的厚度、清晰度和图案完整度俱佳。

Description

一种含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用 技术领域
本发明属于光固化技术领域，具体涉及一种含有肟酯类光引发剂的感光性组合物(即光固化组合物)及其在液晶显示装置如彩色滤光片、光间隙物(photospacer)或肋壁(rib)中的应用。
背景技术
近年来，肟酯类光引发剂由于其相对优异的感光性能被逐渐应用于感光性组合物中。但应用中发现，现有产品仍然存在着很多不足，典型问题包括：稳定性不佳，溶解性差；大部分肟酯类光引发剂由于自身吸收波长的限制不能很好地与环保呼声日益高涨的LED点光源及镭射光源相匹配；在染料等有色体系中，感光度、显影性、分辨率效果不佳，不仅降低了生产效率，而且所得的产品达不到需要的精度和可靠性。
另外，随着科学技术的不断发展，在对液晶显示器显示图像的清晰度和完整度提出了更高要求的同时，对工人操作环境的安全性及在制造过程中有害物质的控制也越来越严格，这也对感光性组合物的使用性能特别是安全性和环保性提出了更高的要求。
未来感光性组合物的发展和应用需要考虑各方面的因素，而现有产品的综合性能均略显不足，已经不能满足日益迫切的应用需求。
发明内容
针对现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种含肟酯类光引发剂的感光性组合物，其含有作为光引发剂的式(I)化合物以及与该引发剂相适配的单体和聚合物，该组合物具有固化速度快、曝光剂量小、污染少、节能、几乎没有残渣缺陷等优点。实验表明，其固化成膜的厚度、清晰度和图案完整度均大大优于同类产品。
为了达到上述目的，本发明采用的技术方案如下：
一种含有肟酯类光引发剂的感光性组合物，包含下列组分：
(A)20-60质量份的紫外感光预聚物树脂；
(B)10-30质量份的活性稀释单体；
(C)1-5质量份的肟酯类光引发剂；
作为组分(C)的肟酯类光引发剂选自下列通式(I)所示的双肟酯化合物中的至少一种：
Figure PCTCN2015083634-appb-000001
其中，
R1为
Figure PCTCN2015083634-appb-000002
其中，*表示连接位，A为空(即，左右两个苯环仅通过B彼此相连)、单键或C1-C5的亚烷基基团；B为O、S或R5N-基团，其中R5为氢、C1-C20的直链或支链烷基、C3-C20环烷基、C4-C20的环烷基烷基或C4-C20的烷基环烷基；R6、R7分别独立地代表氢、卤素、硝基、羟基、羧基、磺酸基、氨基、氰基、烷氧基，或者是任选地被一个或多个选自卤素、硝基、羟基、羧基、磺酸基、氨基、氰基和烷氧基的基团取代的C1-C20的直链或支链烷基、C3-C20的环烷基、C4-C20的环烷基烷基、C4-C20的烷基环烷基；
X、Y相互独立地代表羰基(-CO-)或单键；
R2、R3相互独立地表示氢、C1-C20的直链或支链烷基、C3-C20的环烷基、C4-C20的环烷基烷基、C4-C20的烷基环烷基、C7-C20的芳烷基，任选地，上述基团中的一个或多个氢可以相互独立地被选自卤素、硝基、羟基、羧基、磺酸基、氨基、氰基和烷氧基的基团取代；
R4、独立地代表C1-C20的直链或支链烷基、C3-C20的环烷基、C4-C20的环烷基烷基、C4-C20的烷基环烷基、C3-C20的杂芳基、C6-C20的芳基，任选地，上述基团中的一个或多个氢可以相互独立地被选自卤素、苯基、硝基、羟基、羧基、磺酸基、氨基、氰基和烷氧基的基团取代。
作为组分(C)的肟酯类光引发剂可以通过以下方法制备：
Figure PCTCN2015083634-appb-000003
肟化物与酸酐或酰氯反应得带肟酯光引发剂。
作为本发明的优选方案，上述感光性组合物中作为组分(C)的肟酯类光引发剂选自下列结构中的一种或两种以上组合：
Figure PCTCN2015083634-appb-000004
Figure PCTCN2015083634-appb-000005
Figure PCTCN2015083634-appb-000006
Figure PCTCN2015083634-appb-000007
Figure PCTCN2015083634-appb-000008
Figure PCTCN2015083634-appb-000009
Figure PCTCN2015083634-appb-000010
在本发明的感光性组合物中，组分(A)所述的紫外感光预聚物树脂没有特别的限定，可使用以往公知的紫外感光预聚物树脂。其中，优选具有乙烯基不饱和基团的树脂，更优选将它们组合使用。
作为具有乙烯基不饱和基团的树脂，可列举：(甲基)丙烯酸、富马酸、马来酸、富马酸单甲酯、富马酸单乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、乙二醇单甲醚(甲基)丙烯酸酯、乙二醇单乙醚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、(甲基)丙烯酰胺、丙烯腈、甲基丙烯腈、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1，6-乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、cardo-环氧二丙烯酸酯(cardo epoxy diacrylate)等聚合而成的低聚物类；使多元醇类和一元酸或多元酸缩合而得的聚酯预聚物与(甲基)丙烯酸反应，所得到的聚酯(甲基)丙烯酸酯；使多元醇与具有2个异氰酸酯基的化合物反应后，再与(甲基)丙烯酸反应，所得到的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯；双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、双酚S型环氧树脂、苯酚或甲酚线型酚醛环氧树脂、可溶可熔性酚醛环氧树脂、三酚基甲烷型环氧树脂、聚羧酸聚缩水甘油酯、多元醇聚缩水甘油酯、脂肪族或脂环族环氧树脂、胺环氧树脂、二羟基苯型环氧树脂等环氧树脂与(甲基)丙烯酸反应而得的环氧(甲基)丙烯酸酯树脂等。而且，在环氧(甲基)丙烯酸酯树脂中，适宜使用进行了多元酸酐反应的树脂。
组分(B)所述的活性稀释单体没有特别限定，可使用以往公知的活性稀释单体。其中，优选具有乙烯基不饱和基团的单体，更优选将它们组合使用。所述具有乙烯基不饱和基团的单体包括单官能单体和多官能单体：
作为单官能单体，可列举：(甲基)丙烯酰胺、羟甲基(甲基)丙烯酰胺、甲氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、乙氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、丙氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、丁氧基甲氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟基甲基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸、富马酸、马来酸、马来酸酐、衣康酸、衣康酸酐、柠康酸、柠康酸酐、巴豆酸、2-丙烯酰胺-2-甲基丙烷磺酸、叔丁基丙烯酰胺磺酸(tert-butyl acrylamide sulfonic acid)、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丁酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基-2-羟丙酯、2-(甲基)丙烯酰氧-2-羟丙基邻苯二甲酸酯(2-(meth)acryloyloxy-2-hydroxypropylphthalate)、甘油单 (甲基)丙烯酸酯(glycerin mono(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸四氢糠酯、二甲氨基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、2，2，2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2，2，3，3-四氟丙基(甲基)丙烯酸酯、邻苯二甲酸衍生物的半(甲基)丙烯酸酯等。可以单独使用这些单官能单体，也可以2种以上组合使用。
作为多官能单体，可列举：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、2，2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基二乙氧基苯基)丙烷、2，2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基苯基)丙烷、2-羟基-3-(甲基)丙烯酰氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二缩水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二缩水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、邻苯二甲酸二缩水甘油酯二(甲基)丙烯酸酯、甘油三丙烯酸酯、甘油聚缩水甘油醚聚(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(urethane(meth)acrylate)(即，亚苄基二异氰酸酯)、三甲基六亚甲基二异氰酸酯与六亚甲基二异氰酸酯和(甲基)丙烯酸2-羟乙酯三者的反应物、亚甲基双(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酰胺亚甲基醚、多元醇与N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺的缩合物等多官能单体，以及三丙烯酰基缩甲醛(triacryl formal)等。可以单独使用这些多官能单体，也可以2种以上组合使用。
在本发明的上述感光性组合物中，可以仅使用上述肟酯类化合物(即组分C)作为光聚合引发剂，也可以额外的加入其他类别的光聚合引发剂。可额外加入的光聚合引发剂例如可以选自下列化合物：
卤甲基化的三嗪衍生物，例如2-(4-甲氧苯基)-4，6-双(三氯甲基)-均三嗪、2-(4-甲氧萘基)-4，6-双(三氯甲基)-均三嗪、2-(4-乙氧萘基)-4，6-双(三氯甲基)-均三嗪或2-(4-乙氧羰基萘基)-4，6-双(三氯甲基)-均三嗪；卤甲基化的噁二唑衍生物，例如2-三氯甲基-5-(2’-苯并呋喃基)-1，3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-[β-(2’-苯并呋喃基)乙烯基]-1，3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-[β-(2’-(6”-苯并呋喃基)乙烯基)-1，3，4-噁二唑或2-三氯甲基-5-呋喃基-1，3，4-噁二唑；咪唑衍生物，例如2-(2’-氯苯基)-4，5-二苯基咪唑一聚体、2-(2’-氯苯基)-4，5-双(3’-甲氧苯基)咪唑二聚体、2-(2’-氟苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚体、2-(2’-甲氧苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚体或(4’-甲氧苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚体；苯偶姻烷基醚，例如苯偶姻甲醚、苯偶姻苯醚、苯偶姻异丁醚或苯偶姻异丙醚；蒽醌衍生物，例如2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌或1-氯蒽醌；苯并蒽酮衍生物；二苯甲酮衍生物，例如二苯甲酮、米蚩酮、2-甲基二苯甲酮、3-甲基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、4-溴二苯甲酮或2-羧基二苯甲酮；苯乙酮衍生物，例如2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2，2-二乙氧基苯乙酮、1-羟基环己基苯基酮、α-羟基-2-甲基苯基丙酮、1-羟基-1-甲基乙基-(对异丙基苯基)酮、1-羟基-1-(对十二烷基苯基)酮、2-甲基-(4’-(甲基硫基)苯基)-2-吗啉代-1-丙酮或1，1，1-三氯甲基-(对丁基苯基)酮；噻吨酮衍生物，例如噻吨酮、2-乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2， 4-二甲基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮或2，4-二异丙基噻吨酮；苯甲酸酯衍生物，例如对二甲氨基苯甲酸乙酯或对二乙氨基苯甲酸乙酯；吖啶衍生物，例如9-苯基吖啶或9-(对甲氧基苯基)吖啶；吩嗪衍生物，例如9，10-二甲基苯并吩嗪；或二茂钛衍生物，例如二氯化二茂钛、二苯基二茂钛、二(2，3，4，5，6-五氟苯-1-基)二茂钛、二(2，3，5，6-四氟苯-1-基)二茂钛、二(2，4，6-三氟苯-1-基)二茂钛、2，6-二氟苯-1-基二茂钛、2，4-二氟苯-1-基二茂钛、二(2，3，4，5，6-五氟苯-1-基)二甲基环戊二烯基钛、二(2，6-二氟苯-1-基)二甲基环戊二烯基钛或2，6-二氟-3-(吡咯-1-基)-苯-1-基二茂钛。
除了上述组分(A)-(C)，本发明感光性组合物还可根据需要添加各种添加剂，包括但不限于着色剂、溶剂、增感剂、固化促进剂、光交联剂、光增感剂、分散辅助剂、填充剂、附着力促进剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、防絮凝剂、热聚合抑制剂、消泡剂、表面活性剂等。[0015]作为本发明感光性组合物中可以含有的着色剂，其没有特别限定，但优选使用例如颜色指数(color index)(C.I.；The Society of Dyers and Colourists社发行)中被分类成颜料(Pigment)的化合物，具体可以使用具有下述颜色指数(C.I.)序号的着色剂：
C.I.颜料黄1(以下由于“C.I.颜料黄”是相同的，所以为简化撰写，仅记载序号)、3、11、12、13、14、15、16、17、20、24、31、53、55、60、61、65、71、73、74、81、83、86、93、95、97、98、99、100、101、104、106、108、109、110、113、114、116、117、119、120、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、166、167、168、175、180、185；
C.I.颜料橙1(以下由于“C.I.颜料橙”是相同的，所以为简化撰写，仅记载序号)、5、13、14、16、17、24、34、36、38、40、43、46、49、51、55、59、61、63、64、71、73；
C.I.颜料紫1(以下由于“C.I.颜料紫”是相同的，所以为简化撰写，仅记载序号)、19、23、29、30、32、36、37、38、39、40、50；
C.I.颜料红1(以下由于“C.I.颜料红”是相同的，所以为简化撰写，仅记载序号)、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、14、15、16、17、18、19、21、22、23、30、31、32、37、38、40、41、42、48:1、48:2、48:3、48:4、49:1、49:2、50:1、52:1、53:1、57、57:1、57:2、58:2、58:4、60:1、63:1、63:2、64:1、81:1、83、88、90:1、97、101、102、104、105、106、108、112、113、114、122、123、144、146、149、150、151、155、166、168、170、171、172、174、175、176、177、178、179、180、185、187、188、190、192、193、194、202、206、207、208、209、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、242、243、245、254、255、264、265；
C.I.颜料蓝1(以下由于“C.I.颜料蓝”是相同的，所以为简化撰写，仅记载序号)、2、15、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、66；
C.I.颜料绿7、C.I.颜料绿36、C.I.颜料绿37；
C.I.颜料棕23、C.I.颜料棕25、C.I.颜料棕26、C.I.颜料棕28；
C.I.颜料黑1、C.I.颜料黑7。
另外，无机颜料可列举例如氧化钛、硫酸钡、碳酸钙、锌白、硫酸铅、铅黄(黄色)、锌黄、氧化铁红、镉红、群青、普鲁士蓝、氧化铬绿、钴绿、昂伯、钛黑、合成铁黑、炭黑等。
本发明中，上述有机颜料和无机颜料可以分别单独使用或将2种以上混合使用，还可以将有机颜料和无机颜料并用。
在将着色剂作为遮光剂的情况下，优选使用黑色颜料作为遮光剂。作为黑色颜料，有机颜料和无机颜料均可，可列举：炭黑、钛黑(titan black)、铜、铁、锰、钴、铬、镍、锌、钙、 银等金属氧化物、复合氧化物、金属硫化物、金属硫酸盐或金属碳酸盐等。这些黑色颜料中，优选使用具有高遮光性的炭黑。并且，为了调整炭黑的色调，可适宜添加上述有机颜料作为辅助颜料。
为了使上述着色剂在感光性组合物中均匀分散，可进一步使用分散剂。作为这种分散剂，优选使用聚乙烯亚胺类、聚氨酯树脂类、丙烯酸树脂类高分子分散剂。特别地，在使用炭黑作为着色剂的情况下，优选使用丙烯酸树脂类分散剂作为分散剂。
本发明的感光性组合物所使用的溶剂，可列举：乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇正丙醚、乙二醇单正丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单正丙醚、二乙二醇单正丁醚、三乙二醇单甲醚、三乙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单正丙醚、丙二醇单正丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单正丙醚、二丙二醇单正丁醚、三丙二醇单甲醚、三丙二醇单乙醚等(聚)亚烷基二醇单烷基醚类；乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇单乙醚乙酸酯、二乙二醇单甲醚乙酸酯、二乙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯等(聚)亚烷基二醇单烷基醚乙酸酯类；二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二乙醚、四氢呋喃等其它醚类；丁酮、环己酮、2-庚酮、3-庚酮等酮类；2-羟基丙酸甲酯、2-羟基丙酸乙酯等乳酸烷基酯类；2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、羟基乙酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯(3-methyl-3-methoxy butyl acetate)、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯(3-methyl-3-methoxy butyl propionate)、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸异丙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、甲酸正戊酯、乙酸异戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸异丙酯、丁酸正丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸正丙酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、2-乙酰乙酸乙酯等其它酯类；甲苯、二甲苯等芳香烃类；N-甲基吡咯烷酮、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺等酰胺类等。可以单独使用这些溶剂，也可以2种以上组合使用。
作为本发明的感光性组合物所使用的热聚合抑制剂，例如可列举氢醌、氢醌单乙醚等。
作为消泡剂，可以是聚硅氧烷类、氟类等化合物。
作为表面活性剂，可以是阴离子类、阳离子类、非离子类表面活性剂。
本发明的另一个目的在于提供上述含有肟酯类光引发剂的感光性组合物在液晶显示装置如彩色滤光片(RGB和BM光阻)、光间隙物(photospacer)或肋壁(rib)中的应用。
本发明的再一个目的还在于提供由上述含肟酯类光引发剂的感光性组合物制备而成的光致抗蚀剂膜、彩色滤光片膜、光间隙物(photospacer)和肋壁(rib)。
利用感光性组合物通过光固化和光刻工艺制备光致抗蚀剂膜、彩色滤光片膜、光间隙物等的技术已经为本领域的技术人员所熟知，通常包括以下步骤：
i)将各组分混合均匀，形成感光性组合物；
ii)将感光性组合物涂布在基板上；
例如，通过使用滚涂机、逆向涂布机、棒材涂布机等接触转印型涂布装置或旋转器(旋转式涂布装置)、帘式流动涂布机等非接触型涂布装置来将感光性组合物涂布在基板上；
iii)将涂布在基板上的感光性组合物干燥，形成涂膜；
干燥方法没有特别限定，例如可采用以下任一种方法：(1)在热板上使其在80～120℃、优选90～100℃的温度下干燥60～120秒的方法；(2)在室温下放置数小时～数天的方法；(3)将其放入暖风加热器或红外线加热器中数十分钟～数小时来除去溶剂；
iv)经由负像掩模用活性能量线照射该涂膜使其部分曝光；
照射的能量线可以是紫外线、准分子激光等，强度可根据感光性组合物的组成而不同，但优选例如为30～2000mJ/cm2；
v)用显影液对曝光后的涂膜进行显影，形成期望形状的图案；
显影方法没有特别限定，例如可使用浸渍法、喷雾法等；作为显影液，例如可列举单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺等有机类物质，或者氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、氨、季铵盐等的水溶液；
vi)进行后烘烤，优选烘烤温度200℃～250℃。
本发明中作为组分(C)的肟酯类光引发剂与组分(A)和(B)具有很好的适配性。通过这些组分的组合，所得组合物具有非常好的存储稳定性，不仅适用于普通光源，而且在LED光源及镭射光源照射下具有非常高的感光度，在很低的曝光剂量下就可以很好的交联固化，且固化效果极佳。由该组合物制成的膜边缘平整无缺陷，没有浮渣，整个图案完整度好，抗蚀剂膜硬度高，制成的滤光片光学透明度高，不漏光。尤其是，制作彩色滤光片中黑色矩阵(BM)时，黑色颜料或染料的存在，使得光源的利用效果极差，而使用该组合物依然可以在很低的曝光剂量下完成BM的制作，制成的BM具有高遮光性、优异的精度、平坦性和耐久性。同时，本发明的组合物还是制作光间隙物和肋壁的优异材料。
具体实施方式
以下通过具体实施例来对本发明进行进一步详细的说明，但不能将其理解为对本发明保护范围的限制。
实施例
配制如下的感光性组合物，包括甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸羟乙酯(摩尔比70/10/20)共聚物(Mw：10000)(50质量份数)、二季戊四醇六丙烯酸酯(25质量份数)、光引发剂和颜料。
上述光引发剂和颜料的种类及其用量如表1中所示。
表1
Figure PCTCN2015083634-appb-000011
根据表1所示配方配制感光性组合物，并将其溶解在100质量份的溶剂丙二醇单甲醚醋酸酯(PGMEA)中，形成液态组合物；
利用旋转涂布机将液态组合物涂覆在玻璃基板上，在90℃下干燥5min除去溶剂，形成膜厚为1.5μm的涂膜；为获得上述厚度的涂膜，涂覆过程可以是一次完成也可以分多次进行；
将形成有涂膜的基板冷却至室温，附上掩膜板，用395nmLED光源对涂膜进行曝光；
在25℃的温度下，使用1％的NaOH水溶液显影，再用超纯水洗涤，风干；
最后，在220℃的烘箱中后烘烤30min，得到掩膜板转移的图案。
性能评价
1、储存稳定性评价方法
将液态组合物在室温下储存1个月后，根据以下标准在视觉上评价物质的沉淀程度：
A：没有观察到沉淀；
B：略微观察到沉淀；
C：观察到明显沉淀。
2、曝光灵敏度评价方法
将在曝光步骤中光辐照区域显影后残膜率在90％或以上的最小曝光量评价为曝光需求量。曝光需求量越小表示灵敏度越高。
3、显影性和图案完整性评价方法
用扫描电子显微镜(SEM)观察基板上图案，以评价显影性和图案完整性。
显影性根据以下标准评价:
○：在未曝光部分未观察到残留物；
◎：在未曝光部分观察到少量残留物，但残留量可以接受；
●：在未曝光部分观察到明显残留物。
图案完整性根据以下标准评价:
△：没有观察到图案缺陷；
□：观察到小部分图案有些许缺陷；
▲：明显观察到许多图案缺陷。
评价结果如表2中所示。
表2性能评价结果
Figure PCTCN2015083634-appb-000012
从表2的结果可以看出，实施例1-8的组合物在溶液体系中的储存稳定性极佳，曝光需求量小，所制得的滤光片光阻具有很好的显影性和图案完整性，各项性能明显优于比较例1-3。
需要特别注意的是，实施例1-8的组合物在LED点灯光源照射下的曝光剂量均不足50mJ/cm2，远远低于比较实施例1-3，表现出了极其优异的感光灵敏度。这对于更为节能 环保的LED点光源在光固化技术领域的推广应用有着很好的推动作用。
综上所述，本发明的含肟酯类光引发剂的感光性组合物表现出了非常优异的应用性能，具有广阔的应用前景。

Claims (8)

  1. 一种含有肟酯类光引发剂的感光性组合物，包含下列组分：
    20-60质量份的紫外感光预聚物树脂；
    10-30质量份的活性稀释单体；
    1-5质量份的肟酯类光引发剂；
    作为组分(C)的肟酯类光引发剂选自下列通式(I)所示的双肟酯化合物中的至少一种：
    Figure PCTCN2015083634-appb-100001
    其中，
    R1为
    Figure PCTCN2015083634-appb-100002
    其中，*表示连接位，A为空(即，左右两个苯环仅通过B彼此相连)、单键或C1-C5的亚烷基基团；B为O、S或R5N-基团，其中R5为氢、C1-C20的直链或支链烷基、C3-C20环烷基、C4-C20的环烷基烷基或C4-C20的烷基环烷基；R6、R7分别独立地代表氢、卤素、硝基、羟基、羧基、磺酸基、氨基、氰基、烷氧基，或者是任选地被一个或多个选自卤素、硝基、羟基、羧基、磺酸基、氨基、氰基和烷氧基的基团取代的C1-C20的直链或支链烷基、C3-C20的环烷基、C4-C20的环烷基烷基、C4-C20的烷基环烷基；
    X、Y相互独立地代表羰基(-CO-)或单键；
    R2、R3相互独立地表示氢、C1-C20的直链或支链烷基、C3-C20的环烷基、C4-C20的环烷基烷基、C4-C20的烷基环烷基、C7-C20的芳烷基，任选地，上述基团中的一个或多个氢可以相互独立地被选自卤素、硝基、羟基、羧基、磺酸基、氨基、氰基和烷氧基的基团取代；
    R4独立地代表C1-C20的直链或支链烷基、C3-C20的环烷基、C4-C20的环烷基烷基、C4-C20的烷基环烷基、C3-C20的杂芳基、C6-C20的芳基，任选地，上述基团中的一个或多个氢可以相互独立地被选自卤素、苯基、硝基、羟基、羧基、磺酸基、氨基、氰基和烷氧基的基团取代。
  2. 权利要求1所述的感光性组合物，其特征在于，作为组分(C)的肟酯类光引发剂选自下列结构中的一种或两种以上组合：
    Figure PCTCN2015083634-appb-100003
    Figure PCTCN2015083634-appb-100004
    Figure PCTCN2015083634-appb-100005
    Figure PCTCN2015083634-appb-100006
    Figure PCTCN2015083634-appb-100007
    Figure PCTCN2015083634-appb-100008
    Figure PCTCN2015083634-appb-100009
  3. 权利要求1所述的感光性组合物中，其特征在于：组分(A)所述的紫外感光预聚物树脂选自具有乙烯基不饱和基团的树脂。
  4. 权利要求1所述的感光性组合物中，其特征在于：组分(B)所述的活性稀释单体选自具有乙烯基不饱和基团的单体。
  5. 权利要求1所述的感光性组合物中，其特征在于：还包括额外的其他类别的光聚合引发剂。
  6. 权利要求1所述的感光性组合物中，其特征在于：还包括着色剂、溶剂、增感剂、固化促进剂、光交联剂、光增感剂、分散辅助剂、填充剂、附着力促进剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、防絮凝剂、热聚合抑制剂、消泡剂、表面活性剂中的至少一种。
  7. 权利要求1所述的感光性组合物在液晶显示装置中的应用。
  8. 权利要求1所述的感光性组合物制备而成的光致抗蚀剂膜、彩色滤光片膜、光间隙物或肋壁。
PCT/CN2015/083634 2014-07-15 2015-07-09 含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用 WO2016008384A1 (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US15/324,996 US10392462B2 (en) 2014-07-15 2015-07-09 Photosensitive composition containing oxime-ester photoinitiator and application thereof
JP2017502252A JP6510028B2 (ja) 2014-07-15 2015-07-09 オキシムエステル類光開始剤含有感光性組成物及びその使用
KR1020177003365A KR20170031717A (ko) 2014-07-15 2015-07-09 옥심-에스테르 광개시제를 함유하는 감광성 조성물 및 이의 응용

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410334871.7A CN104076606B (zh) 2014-07-15 2014-07-15 一种含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用
CN201410334871.7 2014-07-15

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2016008384A1 true WO2016008384A1 (zh) 2016-01-21

Family

ID=51597964

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/CN2015/083634 WO2016008384A1 (zh) 2014-07-15 2015-07-09 含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10392462B2 (zh)
JP (1) JP6510028B2 (zh)
KR (1) KR20170031717A (zh)
CN (1) CN104076606B (zh)
WO (1) WO2016008384A1 (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017167399A (ja) * 2016-03-17 2017-09-21 株式会社Ｄｎｐファインケミカル カラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物、カラーフィルタ、表示装置
KR20170131218A (ko) * 2016-05-19 2017-11-29 주식회사 삼양사 옥심에스테르 유도체 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제, 및 감광성 조성물
KR20200114880A (ko) * 2019-03-29 2020-10-07 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 컬러 필터 및 상기 컬러 필터를 포함하는 표시장치

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103833872B (zh) * 2014-03-18 2016-04-06 常州强力先端电子材料有限公司 一种双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
CN104076606B (zh) * 2014-07-15 2019-12-03 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用
JP6195584B2 (ja) * 2015-02-04 2017-09-13 東京応化工業株式会社 着色剤分散液、それを含む感光性樹脂組成物、及び分散助剤
CN104614940B (zh) * 2015-02-05 2019-04-09 常州强力先端电子材料有限公司 一种感光性树脂组合物及其应用
JP6408715B2 (ja) * 2015-02-06 2018-10-17 コリア リサーチ インスティテュート オブ ケミカル テクノロジー 新規のオキシムエステル誘導体化合物およびこれを含む光重合開始剤、ならびにフォトレジスト組成物
CN106565864B (zh) * 2015-10-08 2018-10-02 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含芴肟酯类光引发剂及其合成和应用
CN106749776B (zh) * 2015-10-08 2019-07-12 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含芴肟酯类光引发剂
CN107325206B (zh) * 2016-04-12 2018-12-18 常州强力先端电子材料有限公司 一种含硝基咔唑肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
CN107936145A (zh) * 2016-10-12 2018-04-20 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含芴肟酯类光引发剂
JP6949527B2 (ja) * 2017-03-31 2021-10-13 株式会社Ｄｎｐファインケミカル 感光性着色樹脂組成物、硬化物、カラーフィルタ、表示装置
CN108727517B (zh) * 2017-04-25 2021-05-07 常州强力先端电子材料有限公司 含有可聚合基团的芴肟酯类光引发剂、其制备方法及应用
KR102362859B1 (ko) * 2017-04-25 2022-02-14 창저우 트론리 어드벤스드 일렉트로닉 머티어리얼스 컴퍼니, 리미티드 중합성 기를 함유하는 플루오렌 옥심 에스테르 광 개시제, 및 이의 제조방법 및 용도
CN107163169B (zh) * 2017-05-25 2018-08-24 同济大学 一类香豆素并咔唑型肟酯类化合物及其制备方法和应用
CN109666088A (zh) 2017-10-16 2019-04-23 北京英力科技发展有限公司 一种双酮肟酯化合物及其制造方法与应用
CN109957351B (zh) * 2017-12-14 2021-11-26 常州强力电子新材料股份有限公司 各向异性导电膜、用于形成其的组合物及其应用
CN109957349B (zh) * 2017-12-14 2022-02-22 常州强力电子新材料股份有限公司 各向异性导电膜、用于形成其的组合物及其应用
CN110066225B (zh) * 2018-01-23 2022-06-03 常州强力先端电子材料有限公司 双肟酯类光引发剂、制备方法、感光性树脂组合物及应用
KR102335614B1 (ko) * 2018-03-21 2021-12-03 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러필터 및 화상표시장치
KR102509789B1 (ko) 2018-03-29 2023-03-20 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 이를 구비한 화상 표시 장치
KR102029733B1 (ko) * 2018-08-23 2019-10-08 주식회사 삼양사 감광성 수지 조성물
JP6677330B2 (ja) * 2019-02-21 2020-04-08 三菱ケミカル株式会社 カルバゾール化合物
EP3992254B1 (en) 2019-06-27 2024-02-21 FUJIFILM Corporation Composition, film, and optical sensor
CN112745401B (zh) * 2019-10-30 2023-03-28 常州强力电子新材料股份有限公司 阳离子引发剂、其制备方法、光固化组合物及其应用
JP7470780B2 (ja) 2020-03-30 2024-04-18 富士フイルム株式会社 組成物、膜及び光センサ
JP7371554B2 (ja) 2020-03-30 2023-10-31 日油株式会社 ビスオキシムエステル系光重合開始剤、重合性組成物、ならびに硬化物およびその製造方法
JP7477628B2 (ja) 2020-09-28 2024-05-01 富士フイルム株式会社 積層体の製造方法、アンテナインパッケージの製造方法、及び積層体
CN112279864A (zh) * 2020-09-30 2021-01-29 湖北固润科技股份有限公司 双官能团香豆素肟酯类化合物及其制备和应用
EP4266094A1 (en) 2020-12-16 2023-10-25 FUJIFILM Corporation Composition, membrane, optical filter, solid image pickup element, image display apparatus, and infrared ray sensor
JPWO2022130773A1 (zh) 2020-12-17 2022-06-23
WO2022196599A1 (ja) 2021-03-19 2022-09-22 富士フイルム株式会社 膜および光センサ
TW202248755A (zh) 2021-03-22 2022-12-16 日商富士軟片股份有限公司 負型感光性樹脂組成物、硬化物、積層體、硬化物的製造方法以及半導體元件
JPWO2022210175A1 (zh) 2021-03-29 2022-10-06
KR102627683B1 (ko) 2021-08-31 2024-01-23 후지필름 가부시키가이샤 경화물의 제조 방법, 적층체의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스의 제조 방법, 및, 처리액
CN117916279A (zh) 2021-09-29 2024-04-19 富士胶片株式会社 组合物、树脂、膜及光传感器
CN117348340A (zh) * 2022-06-24 2024-01-05 常州强力先端电子材料有限公司 负型感光性树脂组合物、固化膜及其制备方法、el元件和显示装置
WO2024004426A1 (ja) * 2022-06-27 2024-01-04 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、硬化物の製造方法、膜、光学素子、イメージセンサ、固体撮像素子、画像表示装置、及び、ラジカル重合開始剤
CN117510396A (zh) * 2022-07-27 2024-02-06 常州强力电子新材料股份有限公司 肟酯光引发剂、其制备方法及应用
WO2024043108A1 (ja) * 2022-08-25 2024-02-29 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、硬化膜の製造方法、膜、固体撮像素子、画像表示装置、及び、ラジカル重合開始剤

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103819583A (zh) * 2014-03-18 2014-05-28 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含硝基双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
CN103833872A (zh) * 2014-03-18 2014-06-04 常州强力先端电子材料有限公司 一种双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
CN104076606A (zh) * 2014-07-15 2014-10-01 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL1016815C2 (nl) * 1999-12-15 2002-05-14 Ciba Sc Holding Ag Oximester-fotoinitiatoren.
KR100801457B1 (ko) * 2001-06-11 2008-02-11 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크. 결합된 구조를 가지는 옥심 에스테르 광개시제
JP4830310B2 (ja) * 2004-02-23 2011-12-07 三菱化学株式会社 オキシムエステル系化合物、光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター
JP5117397B2 (ja) * 2005-12-20 2013-01-16 チバ ホールディング インコーポレーテッド オキシムエステル光開始剤
JP2009179619A (ja) * 2008-02-01 2009-08-13 Toyo Ink Mfg Co Ltd 新規オキシムエステル化合物およびそれを含んでなるラジカル重合開始剤および重合性組成物
JP5494479B2 (ja) 2008-04-25 2014-05-14 三菱化学株式会社 ケトオキシムエステル系化合物及びその利用
JP5760374B2 (ja) * 2009-10-23 2015-08-12 三菱化学株式会社 ケトオキシムエステル系化合物及びその利用
CN101941920B (zh) * 2010-07-21 2015-04-08 深圳市有为化学技术有限公司 芳香酮肟类光引发剂化合物
KR20120019619A (ko) 2010-08-26 2012-03-07 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 이를 구비한 액정 표시 장치
CN102775527B (zh) * 2012-07-05 2014-03-05 常州强力先端电子材料有限公司 一种酮肟酯类光引发剂及其制备方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103819583A (zh) * 2014-03-18 2014-05-28 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含硝基双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
CN103833872A (zh) * 2014-03-18 2014-06-04 常州强力先端电子材料有限公司 一种双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
CN104076606A (zh) * 2014-07-15 2014-10-01 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017167399A (ja) * 2016-03-17 2017-09-21 株式会社Ｄｎｐファインケミカル カラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物、カラーフィルタ、表示装置
KR20170131218A (ko) * 2016-05-19 2017-11-29 주식회사 삼양사 옥심에스테르 유도체 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제, 및 감광성 조성물
KR101892086B1 (ko) * 2016-05-19 2018-08-27 주식회사 삼양사 옥심에스테르 유도체 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제, 및 감광성 조성물
CN109153658A (zh) * 2016-05-19 2019-01-04 株式会社三养社 肟酯衍生化合物、包含其的光聚合引发剂和感光性组合物
JP2019519518A (ja) * 2016-05-19 2019-07-11 サムヤン コーポレイション オキシムエステル誘導体化合物、それを含む光重合開始剤及び感光性組成物
JP2021011486A (ja) * 2016-05-19 2021-02-04 サムヤン コーポレイション オキシムエステル誘導体化合物、それを含む光重合開始剤及び感光性組成物
JP7002617B2 (ja) 2016-05-19 2022-01-20 サムヤン コーポレイション オキシムエステル誘導体化合物、それを含む光重合開始剤及び感光性組成物
CN109153658B (zh) * 2016-05-19 2022-11-22 株式会社三养社 肟酯衍生化合物、包含其的光聚合引发剂和感光性组合物
KR20200114880A (ko) * 2019-03-29 2020-10-07 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 컬러 필터 및 상기 컬러 필터를 포함하는 표시장치
KR102508343B1 (ko) 2019-03-29 2023-03-09 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 컬러 필터 및 상기 컬러 필터를 포함하는 표시장치

Also Published As

Publication number Publication date
JP6510028B2 (ja) 2019-05-08
JP2017523465A (ja) 2017-08-17
KR20170031717A (ko) 2017-03-21
US10392462B2 (en) 2019-08-27
CN104076606A (zh) 2014-10-01
CN104076606B (zh) 2019-12-03
US20170210838A1 (en) 2017-07-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2016008384A1 (zh) 含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用
JP6409936B2 (ja) 着色感光性組成物、ブラックフォトスペーサー、カラーフィルター、及び液晶表示装置
EP3002632B1 (en) Acrylic photocurable composition
TWI536104B (zh) A photosensitive resin composition, and a color filter and a display device using the same
JP4988457B2 (ja) フォトレジスト組成物及びこれを利用したカラーフィルタ基板の製造方法
KR100910085B1 (ko) 감광성 조성물 및 이 감광성 조성물에 의해 형성된 컬러필터
TWI419905B (zh) 黑色感光性樹脂組成物、使用其所製造之黑色矩陣及具備該黑色矩陣之彩色濾光片
CN101891845A (zh) 咔唑肟酯类化合物在可光聚合丙烯酸酯类组合物中作为光引发剂的用途
TW201808874A (zh) 一種芴類多官能度光引發劑及其製備和應用、含芴類光引發劑的感光性樹脂組合物及其應用
JP3967947B2 (ja) 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
TW200811598A (en) Radiation sensitive composition for forming a colored layer, color filter and color liquid crystal display device
TW200921271A (en) Colored photosensitive resin composition
JP2000338322A (ja) カラーフィルター用光重合性組成物およびカラーフィルター
JP2002341533A (ja) 着色組成物及びカラーフィルター用感光性着色組成物
JPH10282325A (ja) カラーフィルター用光重合性組成物及びカラーフィルター
TW201802589A (zh) 著色感光性樹脂組合物及含彼之彩色濾光片
KR20180007808A (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상표시장치
JP4196548B2 (ja) カラーフィルタ用感放射線性組成物、カラーフィルタ、および液晶表示素子、
KR20100094811A (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 액정표시장치
JPH11109616A (ja) 着色樹脂組成物及びカラーフィルター
KR102206495B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물
KR101917406B1 (ko) 고색재현이 가능한 착색 광경화성 수지조성물, 컬러필터 및 이를 구비한 액정표시장치
JPH10282326A (ja) カラーフィルター用光重合性組成物及びカラーフィルター
KR101401488B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된컬러필터와 액정표시장치
KR20160112645A (ko) 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하는 컬러 필터

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 15821385

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 15324996

Country of ref document: US

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2017502252

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20177003365

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 15821385

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1