WO2015122321A1 - 有機半導体材料 - Google Patents

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淳志 若宮
一剛 萩谷
濱本 史朗
光 田中
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東洋紡株式会社
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    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/50Photovoltaic [PV] devices

Definitions

  • the present invention relates to a polymer compound having a structural unit having a specific benzobisthiazole skeleton, an organic semiconductor material, and a method for producing the same.
  • Organic semiconductor materials are one of the most important materials in the field of organic electronics, and can be classified into electron-donating p-type organic semiconductor materials and electron-accepting n-type organic semiconductor materials.
  • Various semiconductor elements can be manufactured by appropriately combining p-type organic semiconductor materials and n-type organic semiconductor materials. For example, such elements include excitons formed by recombination of electrons and holes. It is applied to organic electroluminescence that emits light by the action of (exciton), an organic thin film solar cell that converts light into electric power, and an organic thin film transistor that controls the amount of current and voltage.
  • organic thin-film solar cells are useful for environmental conservation because they do not release carbon dioxide into the atmosphere, and demand is increasing because they are easy to manufacture with a simple structure.
  • the photoelectric conversion efficiency of the organic thin film solar cell is still not sufficient.
  • FF fill factor
  • the open circuit voltage (Voc) is proportional to the energy difference between the HOMO (highest occupied orbital) level of the p-type organic semiconductor and the LUMO (lowest unoccupied orbital) level of the n-type organic semiconductor, the open circuit voltage (Voc) ) Needs to be deepened (reduced) in the HOMO level of the p-type organic semiconductor.
  • the short circuit current density (Jsc) correlates with the amount of energy received by the organic semiconductor material.
  • the short circuit current density (Jsc) of the organic semiconductor material from the visible region to the near infrared region. It is necessary to absorb light in a wide wavelength range. Of the light that can be absorbed by the organic semiconductor material, the wavelength of the light with the lowest energy (the longest wavelength) is the absorption edge wavelength, and the energy corresponding to this wavelength corresponds to the band gap energy. Therefore, in order to absorb light in a wider wavelength range, it is necessary to narrow the band gap (energy difference between the HOMO level and the LUMO level of the p-type organic semiconductor).
  • Patent Document 1 proposes a compound having a benzobisthiazole skeleton, but the conversion efficiency is not clear.
  • An object of the present invention is to provide an organic semiconductor material excellent in photoelectric conversion efficiency. Another object of the present invention is to provide a raw material compound that can introduce more various skeletons and substituents because the organic semiconductor material is closely related to the chemical structure and the conversion efficiency. Furthermore, it is providing the manufacturing method of such an organic-semiconductor material and its raw material compound.
  • the present inventors In order to improve the conversion efficiency, that is, to improve the short-circuit current density (Jsc) while improving the open circuit voltage (Voc), the present inventors have absorbed light in a wide wavelength range in the p-type organic semiconductor. At the same time, it has been found useful to make the HOMO level appropriately deep. And as a result of earnestly examining paying attention to the correlation between the conversion efficiency and the chemical structure in the p-type organic semiconductor material, by using an organic semiconductor polymer having a specific structure, the entire visible light region has a wide light absorption. At the same time, it was found that the short circuit current density (Jsc) can be improved while improving the open circuit voltage (Voc) because the HOMO level and the LUMO level can be adjusted to appropriate ranges. And when such an organic-semiconductor polymer was used, it discovered that a charge separation could be easily caused between a p-type organic semiconductor and an n-type organic semiconductor, and completed this invention.
  • the polymer compound according to the present invention includes a benzobisthiazole structural unit represented by the formula (1).
  • T 1 and T 2 are each independently a thiophene ring, hydrocarbon group or organosilyl group optionally substituted with an alkoxy group, a thioalkoxy group, a hydrocarbon group or an organosilyl group. It represents a thiazole ring which may be substituted, or a phenyl group which may be substituted with a hydrocarbon group, an alkoxy group, a thioalkoxy group, an organosilyl group, a halogen atom, or a trifluoromethyl group.
  • B 1 and B 2 represent a thiophene ring that may be substituted with a hydrocarbon group, a thiazole ring that may be substituted with a hydrocarbon group, or an ethynylene group.
  • T 1 and T 2 are each preferably a group represented by any of the following formulas (t1) to (t5).
  • R 13 to R 14 each independently represents a hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms.
  • R 15 to R 16 each independently represent a hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms or a group represented by * -Si (R 18 ) 3 .
  • R 15 ′ represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms, or a group represented by * —Si (R 18 ) 3 .
  • R 17 each independently represents a hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms, * —O—R 19 , * —S—R 20 , * —Si (R 18 ) 3 , or * —CF 3 .
  • R 18 each independently represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms, and a plurality of R 18 may be the same or different.
  • R 19 to R 20 each represents a hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms. * Represents a bond. ]
  • B 1 and B 2 are each preferably a group represented by any of the following formulas (b1) to (b3).
  • R 21 , R 22 and R 21 ′ represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms. * Represents a bond, and in particular, * on the left side represents a bond bonded to the benzene ring of the benzobisthiazole compound. ]
  • the polymer compound of the present invention is preferably a donor-acceptor type semiconductor polymer.
  • An organic semiconductor material containing the polymer compound of the present invention is also included in the technical scope of the present invention.
  • this invention contains the benzobis thiazole compound represented by Formula (5).
  • T 1 , T 2 , B 1 and B 2 each represent the same group as described above.
  • R 1 to R 4 each independently represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms.
  • M 1 and M 2 each independently represent a boron atom or a tin atom.
  • R 1 and R 2 may form a ring together with M 1
  • R 3 and R 4 may form a ring together with M 2 .
  • m and n each represents an integer of 1 or 2. When m and n are 2, the plurality of R 1 and R 3 may be the same or different.
  • the present invention also includes a benzobisthiazole compound represented by the formula (4).
  • a benzobisthiazole compound represented by the formula (4).
  • T 1 , T 2 , B 1 and B 2 each represent the same group as described above.
  • the present invention further includes a benzobisthiazole compound represented by the formula (3).
  • T 1 and T 2 each represent the same group as described above.
  • X 1 and X 2 represent a halogen atom.
  • the present invention includes a benzobisthiazole compound represented by the formula (2).
  • T 1 and T 2 each represent the same group as described above. ]
  • the method for producing the polymer compound of the present invention comprises 2,6-diiodobenzo [1,2-d: 4,5-d ′] bisthiazole and 2,6-dibromobenzo [1,2-d: 4, One compound selected from the group consisting of 5-d ′] bisthiazole as a starting material, A compound represented by formula (2),
  • T 1 , T 2 , X 1 and X 2 each represent the same group as described above.
  • T 1 , T 2 , B 1 and B 2 each represent the same group as described above. ] It is characterized by going through.
  • the method for producing a polymer compound of the present invention preferably includes the following first step, second step, and third step.
  • a metal catalyst one compound selected from the group consisting of formula (6) and / or formula (7)
  • T 1 and T 2 each represent the same group as described above.
  • R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom or * -M 3 (R 7 ) k R 8 .
  • R 7 and R 8 each independently represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms.
  • M 3 represents a boron atom or a tin atom. * Represents a bond.
  • R 7 and R 8 may form a ring together with M 3 .
  • k represents an integer of 1 or 2. When k is 2, the plurality of R 7 may be the same or different.
  • Step of obtaining a compound represented by formula (2) by reacting the compound represented by formula (2) Second step: reacting the compound represented by formula (2) with a base and a halogenating reagent to formula (3)
  • Step 3 for obtaining a compound represented by formula (3) A compound represented by formula (3) is reacted with a compound represented by formula (8) and / or formula (9) in the presence of a metal catalyst.
  • B 1 and B 2 each represent the same group as described above.
  • R 9 to R 12 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or 6 to 10 carbon atoms. Represents an aryloxy group.
  • M 4 and M 5 each represent a boron atom, a tin atom, or a silicon atom.
  • R 9 and R 10 may form a ring together with M 4
  • R 11 and R 12 may form a ring together with M 5 .
  • p and q represent an integer of 1 or 2. When p is 2, the plurality of R 9 may be the same or different. When q is 2, the plurality of R 11 may be the same or different. ]
  • the method for producing a polymer compound of the present invention preferably further undergoes a compound represented by the following formula (5).
  • T 1 , T 2 , B 3 , B 4 , R 1 to R 4 , M 1 , M 2 , m, and n each represent the same group as described above.
  • the polymer compound production method of the present invention preferably further includes the following fourth step.
  • Fourth step a step of obtaining a compound represented by the formula (5) by reacting a compound represented by the formula (4) with a base and a tin halide compound.
  • the benzobisthiazole compound of the present invention can form a planar cruciform skeleton by intramolecular SN interaction.
  • ⁇ conjugation is extended to a planar cross-shaped skeleton, so that it exhibits multiband light absorption derived from a plurality of ⁇ - ⁇ * transitions and can absorb a wide range of light from the visible region to the near infrared region.
  • Voc open circuit voltage
  • Jsc short circuit current density
  • substituents can be introduced as substituents into the benzobisthiazole skeleton, and the characteristics of the material (for example, crystallinity, film-forming property, absorption wavelength) are controlled. it can.
  • FIG. 1 shows an ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 22.
  • FIG. 2 shows the ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 23.
  • FIG. 3 shows an ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 24.
  • FIG. 4 shows the ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 25.
  • FIG. 5 shows an ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 26.
  • 6 shows the ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 27.
  • FIG. FIG. 7 shows the ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 28.
  • FIG. 8 shows the ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 29.
  • FIG. 9 shows the ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 30.
  • FIG. 10 shows the ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 31.
  • FIG. 11 shows the ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 32.
  • 12 shows the ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 37.
  • FIG. 13 shows the ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 38.
  • FIG. 14 shows the ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 39.
  • FIG. 15 shows the ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 40.
  • FIG. 16 shows the ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 41.
  • FIG. 17 shows the ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 46.
  • FIG. 18 shows the ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 47.
  • FIG. 19 shows the ultraviolet-visible absorption spectrum of the polymer compound of Example 49.
  • Polymer Compound The polymer compound of the present invention has a benzobisthiazole structural unit represented by the formula (1).
  • T 1 and T 2 are each independently a thiophene ring, hydrocarbon group or organosilyl group optionally substituted with an alkoxy group, a thioalkoxy group, a hydrocarbon group or an organosilyl group. It represents a thiazole ring which may be substituted, or a phenyl group which may be substituted with a hydrocarbon group, an alkoxy group, a thioalkoxy group, an organosilyl group, a halogen atom, or a trifluoromethyl group.
  • B 1 and B 2 represent a thiophene ring that may be substituted with a hydrocarbon group, a thiazole ring that may be substituted with a hydrocarbon group, or an ethynylene group.
  • the polymer compound of the present invention has the benzobisthiazole structural unit represented by the formula (1), the band gap can be narrowed while deepening the HOMO level, which is advantageous for increasing the photoelectric conversion efficiency.
  • the polymer compound of the present invention is preferably a donor-acceptor type semiconductor polymer.
  • the donor-acceptor type semiconductor polymer compound means a polymer compound in which donor units and acceptor units are alternately arranged.
  • the donor unit means an electron donating structural unit, and the acceptor unit means an electron accepting structural unit.
  • the donor-acceptor type semiconductor polymer is preferably a polymer compound in which the structural unit represented by the formula (1) and other structural units are alternately arranged.
  • the organosilyl group means a monovalent group in which one or more hydrocarbon groups are substituted on Si atoms, and the number of hydrocarbon groups substituted on Si atoms is two or more. It is preferable that it is 3 and it is more preferable that it is three.
  • T 1 and T 2 may be the same or different from each other, but are preferably the same from the viewpoint of easy production.
  • T 1 and T 2 are preferably groups represented by the following formulas (t1) to (t5), respectively.
  • the alkoxy group of T 1 and T 2 is preferably a group represented by the following formula (t1)
  • the thioalkoxy group is preferably a group represented by the following formula (t2).
  • a group represented by the following formula (t3) is preferable, and as the thiazole ring optionally substituted with a hydrocarbon group or an organosilyl group, the following formula ( The group represented by t4) is preferable, and the phenyl group which may be substituted with a hydrocarbon group, an alkoxy group, a thioalkoxy group, an organosilyl group, a halogen atom, or a trifluoromethyl group is represented by the following formula (t5). ) Is preferred.
  • T 1 and T 2 are groups represented by the following formulas (t1) to (t5), it is possible to absorb short-wavelength light and to have high planarity, so that ⁇ - ⁇ stacking is efficiently performed. Therefore, photoelectric conversion efficiency can be further increased.
  • R 13 to R 14 each independently represents a hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms.
  • R 15 to R 16 each independently represent a hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms or a group represented by * -Si (R 18 ) 3 .
  • R 15 ′ represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms, or a group represented by * —Si (R 18 ) 3 .
  • R 17 each independently represents a hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms, * —O—R 19 , * —S—R 20 , * —Si (R 18 ) 3 , or * —CF 3 .
  • R 18 each independently represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms, and a plurality of R 18 may be the same or different.
  • R 19 to R 20 each represents a hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms. * Represents a bond. ]
  • the hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms of R 13 to R 17 , R 19 to R 20 and R 15 ′ is preferably a branched hydrocarbon group. More preferably, it is a branched chain saturated hydrocarbon group.
  • the hydrocarbon groups of R 13 to R 17 , R 19 to R 20 and R 15 ′ have a branch, so that the solubility in an organic solvent can be increased, and the polymer compound of the present invention has an appropriate crystallinity. Obtainable.
  • the larger the carbon number of the hydrocarbon group of R 13 to R 17 , R 19 to R 20 , and R 15 ′ the more the solubility in organic solvents can be improved.
  • the carbon number of the hydrocarbon group of R 13 to R 17 , R 19 to R 20 and R 15 ′ is preferably 8 to 25, more preferably 8 to 20, and still more preferably 8 to 16. is there.
  • Examples of the hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms represented by R 13 to R 17 , R 19 to R 20 and R 15 ′ include an alkyl group having 6 carbon atoms such as an n-hexyl group; an n-heptyl group An alkyl group having 7 carbon atoms such as n-octyl group, 1-n-butylbutyl group, 1-n-propylpentyl group, 1-ethylhexyl group, 2-ethylhexyl group, 3-ethylhexyl group, 4-ethylhexyl group, 1 An alkyl group having 8 carbon atoms such as a methylheptyl group, a 2-methylheptyl group, a 6-methylheptyl group, a 2,4,4-trimethylpentyl group or a 2,5-dimethylhexyl group; an n-nonyl group, 1- n-propylhexyl group, 2-n-
  • Alkyl group Alkyl group; and the like.
  • An alkyl group having 8 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 8 to 16 carbon atoms is more preferable, a branched alkyl group having 8 to 16 carbon atoms is further preferable, and 2-ethylhexyl is particularly preferable.
  • R 13 to R 17 , R 19 to R 20 , and R 15 ′ are the above groups, the polymer compound of the present invention has improved solubility in an organic solvent and has appropriate crystallinity.
  • the number of carbon atoms of the aliphatic hydrocarbon group of R 18 is preferably Is 1 to 18, more preferably 1 to 8.
  • the aliphatic hydrocarbon group for R 18 include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, an isobutyl group, an octyl group, and an octadecyl group.
  • the number of carbon atoms of the aromatic hydrocarbon group for R 18 is preferably 6 to 8, more preferably 6 to 7, and particularly preferably 6.
  • R 18 examples include a phenyl group.
  • R 18 is preferably an aliphatic hydrocarbon group, more preferably a branched aliphatic hydrocarbon group, and particularly preferably an isopropyl group.
  • the plurality of R 18 may be the same or different, but are preferably the same.
  • R 15 to R 17 and R 15 ′ are a group represented by * —Si (R 18 ) 3
  • the polymer compound of the present invention has improved solubility in an organic solvent.
  • the groups represented by * -Si (R 18 ) 3 in R 15 to R 17 and R 15 ′ are specifically a trimethylsilyl group, an ethyldimethylsilyl group, Alkylsilyl groups such as isopropyldimethylsilyl group, triisopropylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, triethylsilyl group, triisobutylsilyl group, tripropylsilyl group, tributylsilyl group, dimethylphenylsilyl group, methyldiphenylsilyl group; And arylsilyl groups such as triphenylsilyl group and tert-butylchlorodiphenylsilyl group.
  • an alkylsilyl group is preferable, and a trimethylsilyl group and a triisopropylsilyl group are particularly preferable.
  • R 17 is a halogen atom
  • any of fluorine, chlorine, bromine and iodine can be used.
  • R 15 ′ is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms exemplified as R 15 , or a group similar to the group represented by * —Si (R 18 ) 3 .
  • groups represented by formulas (t1), (t3), and (t5) are preferable from the viewpoint of excellent planarity as a whole structural unit represented by formula (1). More preferred is a group represented by the formula (t3), and further preferred are groups represented by the following formulas (t3-1) to (t3-16). In the formula, * represents a bond.
  • an electron donating group or an electron withdrawing group can be used.
  • the electron donating group include groups represented by formulas (t1) to (t3).
  • R 13 to R 15 and R 15 ′ represent the same groups as described above.
  • R 17 each independently represents a hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms, * —O—R 19 or * —S—R 20 . * Represents a bond.
  • Examples of the electron withdrawing group that can be used as T 1 and T 2 include groups represented by formulas (t4) to (t5).
  • R 16 represents the same group as described above.
  • R 17 represents a halogen atom or a trifluoromethyl group. * Represents a bond.
  • B 1 and B 2 may be the same or different from each other, but are the same from the viewpoint of easy production. Preferably there is.
  • B 1 and B 2 are each preferably a group represented by any of the following formulas (b1) to (b3).
  • B 1 and B 2 are groups represented by the following formulas (b1) to (b3), the obtained polymer compound has good planarity, and the photoelectric conversion efficiency can be further improved.
  • R 21 , R 22 and R 21 ′ represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms. * Represents a bond, and in particular, * on the left side represents a bond bonded to the benzene ring of the benzobisthiazole compound. ]
  • Examples of the hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms of R 21 , R 22 and R 21 ′ are exemplified as the hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms of R 13 to R 17 , R 19 to R 20 and R 15 ′ .
  • a group can be preferably used. It is preferable that R 21 , R 22 , and R 21 ′ are hydrogen atoms because a donor-acceptor type semiconductor polymer can be easily formed. In addition, it is preferable that R 21 , R 22 , and R 21 ′ are hydrocarbon groups having 6 to 30 carbon atoms because the photoelectric conversion efficiency may be further improved.
  • B 1 and B 2 are more preferably groups represented by the formulas (b1) and (b2).
  • B 1 and B 2 are groups represented by the formulas (b1) and (b2)
  • an interaction between an S atom and an N atom occurs in the benzobisthiazole structural unit (1), and planarity is further improved.
  • B 1 and B 2 specifically, a group represented by the following formula is preferable.
  • * represents a bond
  • * on the left side is bonded to the benzene ring of benzobisthiazole.
  • examples of the structural unit represented by the formula (1) include groups represented by the following formulas (1-1) to (1-48).
  • R 30 to R 60 are each independently the same as the hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms of R 13 to R 17 , R 19 to R 20 , and R 15 ′ .
  • a 30 and A 31 each independently represent a group similar to T 1 and T 2 .
  • the groups represented by the above formulas (c1) to (c18) are groups that act as acceptor units, and the groups represented by the formulas (c20) to (c31) are groups that act as donor units. It is.
  • the group represented by the formula (c19) may act as an acceptor unit or may act as a donor unit depending on the types of A 30 and A 31 .
  • the weight average molecular weight and number average molecular weight of the polymer compound of the present invention are generally 2,000 or more and 500,000 or less, more preferably 3,000 or more and 200,000 or less.
  • the weight average molecular weight and number average molecular weight of the polymer compound of the present invention can be calculated based on a calibration curve prepared using polystyrene as a standard sample using gel permeation chromatography.
  • the ionization potential of the polymer compound of the present invention is preferably 4 eV or more, more preferably 4.5 eV or more, still more preferably 5 eV or more, and particularly preferably 5.1 eV or more.
  • the upper limit of ionization potential is not specifically limited, For example, it is 7 eV or less, it is preferable that it is 6.5 eV or less, and it is preferable that it is 6.2 eV or less.
  • the HOMO level is appropriately deepened (lowered), so that both a high open-circuit voltage (Voc) and a short-circuit current density (Jsc) can be obtained. It becomes possible, and higher photoelectric conversion efficiency can be obtained.
  • Compound 2-1 Compound Represented by Formula (5)
  • the present invention includes a compound represented by the following formula (5) (hereinafter sometimes referred to as “compound (5)”).
  • T 1 and T 2 are each independently a thiophene ring, hydrocarbon group or organosilyl group optionally substituted with an alkoxy group, a thioalkoxy group, a hydrocarbon group or an organosilyl group. It represents a thiazole ring which may be substituted, or a phenyl group which may be substituted with a hydrocarbon group, an alkoxy group, a thioalkoxy group, an organosilyl group, a halogen atom, or a trifluoromethyl group.
  • B 3 and B 4 represent a thiophene ring which may be substituted with an alkyl group or a thiazole ring which may be substituted with an alkyl group.
  • R 1 to R 4 each independently represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms.
  • M 1 and M 2 each independently represent a boron atom or a tin atom.
  • R 1 and R 2 may form a ring together with M 1
  • R 3 and R 4 may form a ring together with M 2 .
  • m and n each represents an integer of 1 or 2. When m and n are 2, the plurality of R 1 and R 3 may be the same or different. ]
  • B 3 and B 4 may be the same or different from each other, but are preferably the same from the viewpoint of easy production.
  • B 3 and B 4 are preferably groups represented by the above formulas (b1) to (b2).
  • the number of carbon atoms of the aliphatic hydrocarbon group of R 1 to R 4 is preferably 1 to 5, and more preferably 1 to 4.
  • a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group are preferable, and a methyl group and a butyl group are more preferable.
  • the number of carbon atoms of the alkoxy group of R 1 to R 4 is preferably 1 to 3, and more preferably 1 to 2.
  • alkoxy group for R 1 to R 4 a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group and the like are preferable, and a methoxy group and an ethoxy group are more preferable.
  • the number of carbon atoms of the aryloxy group of R 1 to R 4 is preferably 6 to 9, and more preferably 6 to 8.
  • Examples of the aryloxy group for R 1 to R 4 include a phenyloxy group, a benzyloxy group, a phenylenebis (methyleneoxy) group, and the like.
  • R 1 to R 4 are preferably a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, m, n Is preferably 1.
  • * -M 1 (R 1 ) m R 2 and * -M 2 (R 3 ) n R 4 when M 1 and M 2 are boron atoms include groups represented by the following formulae. . * Represents a bond.
  • R 1 to R 4 are preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and m and n are preferably 2.
  • Examples of * -M 1 (R 1 ) m R 2 and * -M 2 (R 3 ) n R 4 when M 1 and M 2 are tin atoms include groups represented by the following formulae. . However, * represents a bond.
  • the compound (5) is an intermediate compound used for the synthesis of the polymer compound of the present invention. Since this compound (5) has the above-mentioned predetermined group, it has high temporal stability and can react efficiently to form the polymer compound of the present invention.
  • the compound represented by a following formula can be illustrated, for example.
  • the compounds represented by the formulas (5-33) to (5-64) in which the methyl group on the tin atom is substituted with a butyl group are also represented by the compounds ( A preferred example is 5).
  • the present invention includes a compound represented by the following formula (4) (hereinafter sometimes referred to as “compound (4)”).
  • T 1 , T 2 , B 1 and B 2 each represent the same group as described above.
  • Compound (4) is a raw material of the compound (5). That is, the compound (4) corresponds to an intermediate of the compound (5). Since this compound (4) has the above-mentioned predetermined group, it has high temporal stability and has an efficient reactivity. Examples of the compound (4) include the following compounds.
  • Compound Represented by Formula (3) The present invention includes a compound represented by the following formula (3) (hereinafter sometimes referred to as “compound (3)”).
  • T 1 , T 2 , X 1 and X 2 each represent the same group as described above.
  • halogen atom for X examples include chlorine, bromine and iodine. Either can be used, but iodine is particularly preferred from the viewpoint of the balance between reactivity and stability.
  • the compound (3) is a raw material for the compound (4). That is, the compound (3) corresponds to an intermediate of the compound (6). Since this compound (3) has the above-mentioned predetermined group, it has high aging stability and high solubility in an organic solvent, and thus has an efficient reactivity. Furthermore, by using the compound (3), various skeletons and substituents can be introduced into the polymer compound of the present invention. Examples of the compound (3) include the following compounds.
  • a compound represented by the following formula (3 ′) (hereinafter sometimes referred to as “compound (3 ′)”) is also produced.
  • compound (3 ′) in formulas (1), (4) and (5), only at one of the two substitutable positions present on the benzene ring of benzobisthiazole, A compound in which the groups represented by B 1 and B 2 are substituted can be obtained.
  • Such a compound is useful, for example, for the terminal portion of the polymer compound of the present invention.
  • T 1 , T 2 and X 1 each represent the same group as described above.
  • Examples of the compound (3 ′) include compounds represented by the following formula.
  • Compound Represented by Formula (2) The present invention includes a compound represented by the following formula (2) (hereinafter sometimes referred to as “compound (2)”).
  • T 1 and T 2 each represent the same group as described above.
  • the compound (2) is a raw material for the compound (3). That is, the compound (2) corresponds to an intermediate of the compound (5). Since this compound (2) has the above-mentioned predetermined group, it has high temporal stability and has an efficient reactivity. Furthermore, by using the compound (2), various skeletons and substituents can be introduced into the polymer compound of the present invention. Examples of the compound (2) include the following compounds.
  • the polymer compound represented by the formula (1) of the present invention includes 2,6-diiodobenzo [1,2-d: 4,5-d ′] bisthiazole and 2,6-dibromobenzo [1 , 2-d: 4,5-d ′] bisthiazole as a starting material, a compound represented by formula (2),
  • T 1 , T 2 , X 1 and X 2 each represent the same group as described above.
  • T 1 , T 2 , B 1 and B 2 each represent the same group as described above. ] It is manufactured by the manufacturing method characterized by passing through.
  • the method for producing a polymer compound of the present invention further comprises a compound represented by formula (5)
  • T 1 , T 2 , B 3 , B 4 , R 1 to R 4 , M 1 , M 2 , m, and n each represent the same group as described above. ] It is preferable to go through.
  • the manufacturing method of this invention includes the following 1st process.
  • a metal catalyst one compound selected from the group consisting of formula (6) and / or formula (7)
  • T 1 and T 2 each represent the same group as described above.
  • R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom or * -M 3 (R 7 ) k R 8 .
  • R 7 and R 8 each independently represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms.
  • M 3 represents a boron atom or a tin atom. * Represents a bond.
  • R 7 and R 8 may form a ring together with M 3 .
  • k represents an integer of 1 or 2. When k is 2, the plurality of R 7 may be the same or different.
  • 2,6-diiodobenzo [1,2-d: 4,5-d ′] bisthiazole and 2,6-dibromobenzo [1,2-d: 4,5-d ′] bis As one compound selected from the group consisting of thiazole (hereinafter sometimes referred to as “2,6-dihalogenated benzobisthiazole”), 2,6-diiodobenzo [1,2-d: 4,5- d ′] bisthiazole is preferred.
  • the compound represented by the formula (6) and / or (7) to be reacted with 2,6-dihalogenated benzobisthiazole hereinafter sometimes referred to as “compound (6)” or “compound (7)”).
  • the carbon number of the aliphatic hydrocarbon group of R 7 and R 8 when R 5 and R 6 are M 3 (R 7 ) k R 8 is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 4.
  • Examples of the aliphatic hydrocarbon group for R 7 and R 8 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group.
  • the number of carbon atoms of the alkoxy group of R 7 and R 8 is preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2.
  • the alkoxy group for R 7 and R 8 is preferably a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, or the like, more preferably a methoxy group or an ethoxy group.
  • the number of carbon atoms of the aryloxy group of R 7 and R 8 is preferably 6 to 9, and more preferably 6 to 8.
  • Examples of the aryloxy group for R 7 and R 8 include a phenyloxy group, a benzyloxy group, and a phenylenebis (methyleneoxy) group.
  • R 7 and R 8 are * -M 3 (R 7 ) k R 8 and M 3 is a boron atom
  • R 7 and R 8 are a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or carbon It is preferably an aryloxy group of several 6 to 10, and k is preferably 1.
  • * -M 3 (R 7 ) k R 8 when M 3 is a boron atom include groups represented by the following formulae. * Represents a bond.
  • R 7 and R 8 When R 5 and R 6 are * -M 3 (R 7 ) k R 8 and M 3 is a tin atom, R 7 and R 8 must be an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. And k is preferably 2. Examples of * -M 3 (R 7 ) k R 8 in the case where M 3 is a tin atom include groups represented by the following formulae. * Represents a bond.
  • R 5 and R 6 can be appropriately selected according to the types of T 1 and T 2 .
  • T 1 and T 2 are groups represented by formulas (t1) and (t2)
  • R 5 and R 6 are preferably hydrogen atoms.
  • T 1 and T 2 are groups represented by formulas (t3) to (t5)
  • R 5 and R 6 are groups represented by * -M 3 (R 7 ) k R 8.
  • the group represented by * -Sn (R 7 ) 2 R 8 is more preferable.
  • Examples of the compounds (6) and (7) include compounds represented by the following formula.
  • the compounds (6) and (7) may be the same or different depending on the target compound, but are preferably the same from the viewpoint of suppressing the formation of by-products.
  • the molar ratio of 2,6-dihalogenated benzobisthiazole to the total of compounds (6) and (7) (2,6-dihalogenated benzobisthiazole: total of compounds (6) and (7) ) Is generally about 1: 1 to 1:10 and is not particularly limited, but is preferably 1: 1.5 to 1: 8, more preferably 1: 2 to 1: 6, from the viewpoint of yield and reaction efficiency. More preferably, 1: 2 to 1: 5.
  • the metal catalyst used in the reaction of 2,6-dihalogenated benzobisthiazole with compound (6) and / or compound (7) includes a palladium catalyst, a nickel catalyst, an iron catalyst, copper And transition metal catalysts such as rhodium catalysts, rhodium catalysts, and ruthenium catalysts.
  • a copper catalyst and a palladium catalyst are preferable.
  • the valence of palladium is not particularly limited, and may be zero or divalent.
  • the palladium-based catalyst examples include palladium (II) chloride, palladium (II) bromide, palladium (II) iodide, palladium (II) oxide, palladium (II) sulfide, palladium (II) telluride, palladium hydroxide ( II), palladium selenide (II), palladium cyanide (II), palladium acetate (II), palladium trifluoroacetate (II), palladium acetylacetonate (II), diacetate bis (triphenylphosphine) palladium (II) ), Tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium (II), dichlorobis (acetonitrile) palladium (II), dichlorobis (benzonitrile) palladium (II), dichloro [1,2 Bis (diphenyl
  • the copper catalyst examples include copper, copper fluoride (I), copper chloride (I), copper bromide (I), copper iodide (I), copper fluoride (II), copper chloride (II), odor Copper halide compounds such as copper (II) iodide, copper (II) iodide; copper (I) oxide, copper (I) sulfide, copper oxide (II), copper sulfide (II), copper acetate (I), acetic acid Examples include copper (II) and copper (II) sulfate.
  • the metal catalyst can be appropriately selected according to the types of T 1 and T 2.
  • T 1 and T 2 are groups represented by the formulas (t1) and (t2)
  • a copper-based catalyst is preferable, a copper halide compound is more preferable, and copper (I) iodide is most preferable. It is preferable that a base coexists.
  • the metal catalyst is preferably a palladium catalyst, and dichlorobis (triphenyl) Phosphine) palladium (II), tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0), and tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0) chloroform adduct are particularly preferred.
  • the molar ratio of 2,6-dihalogenated benzobisthiazole to metal catalyst is generally about 1: 0.0001 to 1: 0.5. Although not particularly limited, it is preferably 1: 0.001 to 1: 0.4, more preferably 1: 0.005 to 1: 0.3, and 1: 0.01 to 1 from the viewpoint of yield and reaction efficiency. 1: 0.2 is more preferable.
  • a specific ligand may be coordinated with a metal catalyst such as a copper catalyst or a palladium catalyst.
  • the ligands include trimethylphosphine, triethylphosphine, tri (n-butyl) phosphine, tri (isopropyl) phosphine, tri (tert-butyl) phosphine, tri-tert-butylphosphonium tetrafluoroborate, bis (tert-butyl) ) Methylphosphine, tricyclohexylphosphine, diphenyl (methyl) phosphine, triphenisphosphine, tris (o-tolyl) phosphine, tris (m-tolyl) phosphine, tris (p-tolyl) phosphine, tris (2-furyl) phosphine, Tris (2-methoxyphenyl) phosphine, Tris (3-methoxy
  • triphenylphosphine tris (o-tolyl) phosphine, and tris (2-furyl) phosphine are preferable.
  • the molar ratio of the metal catalyst to the ligand is generally about 1: 0.5 to 1:10. Although not particularly limited, it is preferably 1: 1 to 1: 8, more preferably 1: 1 to 1: 7, and even more preferably 1: 1 to 1: 5 from the viewpoint of yield and reaction efficiency.
  • a base when reacting compound (6) and / or compound (7) with 2,6-dihalogenated benzobisthiazole in the presence of a metal catalyst, a base may coexist.
  • T 1 and T 2 are groups represented by the formulas (t1) and (t2)
  • it is preferable that a base coexists.
  • T 1 and T 2 are groups represented by the formulas (t3) to (t5)
  • the presence or absence of the base is determined depending on the types of R 5 and R 6. can do.
  • R 5 and R 6 are groups represented by * -M 3 (R 7 ) k R 8 and M 3 is a boron atom
  • R 7 and R 8 and M 3 is a boron atom
  • M 3 is tin.
  • a base does not have to coexist.
  • Examples of the base include lithium metal hydride, sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and other alkali metal salt compounds; magnesium hydroxide, calcium hydroxide, barium hydroxide, Alkaline earth metal salt compounds such as magnesium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate; lithium methoxide, sodium methoxide, potassium methoxide, lithium ethoxide, sodium ethoxide, potassium ethoxide, lithium isopropoxide, sodium isopropoxide Potassium isopropoxide, lithium tert-butoxide, sodium tert-butoxide, potassium tert-butoxide, lithium tert-amyl alkoxide, sodium tert-amyl alkoxide It alkoxy alkali metal compounds such as potassium tert- amyl alkoxide; lithium hydride, sodium hydride, metal hydride compounds such as potassium hydride.
  • an alkoxyalkali metal compound is preferable, and lithium tert-butoxide, sodium tert-butoxide, potassium tert-butoxide, sodium carbonate, potassium carbonate, and cesium carbonate are more preferable.
  • the molar ratio of 2,6-dihalogenated benzobisthiazole and base (2,6-dihalogenated benzobisthiazole: base) is generally about 1: 1 to 1:10 and is not particularly limited. From the viewpoint of yield and reaction efficiency, 1: 1.5 to 1: 8 is preferable, 1: 1.8 to 1: 6 is more preferable, and 1: 2 to 1: 5 is more preferable.
  • the solvent for reacting compound (6) and / or compound (7) with 2,6-dihalogenated benzobisthiazole in the presence of a metal catalyst is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • ether solvents, aromatic solvents, ester solvents, hydrocarbon solvents, halogen solvents, ketone solvents, amide solvents, and the like can be used.
  • ether solvent examples include diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, methyltetrahydrofuran, dimethoxyethane, cyclopentyl methyl ether, t-butyl methyl ether, and dioxane.
  • aromatic solvent examples include benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene.
  • ester solvent examples include methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate.
  • Examples of the hydrocarbon solvent include pentane, hexane, and heptane.
  • Examples of the halogen solvent include dichloromethane, chloroform, dichloroethane, and dichloropropane.
  • Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone.
  • Examples of the amide solvent include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, 1,3-dimethyl3,4,5,6-tetrahydro- (1H ) -Pyrimidine.
  • a nitrile solvent such as acetonitrile, a sulfoxide solvent such as dimethyl sulfoxide, and a sulfone solvent such as sulfolane can be used.
  • a nitrile solvent such as acetonitrile, a sulfoxide solvent such as dimethyl sulfoxide, and a sulfone solvent such as sulfolane
  • tetrahydrofuran, dioxane, and N, N-dimethylformamide are particularly preferable.
  • the amount of solvent used in the first step is generally 1 mL or more and 50 mL or less with respect to 1 g of 2,6-dihalogenated benzobisthiazole, and is not particularly limited, but is 5 mL or more from the viewpoint of yield and reaction efficiency. 40 mL or less, preferably 8 mL or more and 35 mL or less, more preferably 10 mL or more and 30 mL or less.
  • the reaction temperature is not particularly limited, but is preferably 0 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, more preferably 30 ° C. or higher and 180 ° C. or lower, and 40 ° C. or higher from the viewpoint of increasing the reaction yield. More preferably, it is 150 ° C. or lower.
  • Second Step a step of obtaining a compound represented by the formula (3) by reacting a compound represented by the formula (2) with a base and a halogenating reagent.
  • Examples of the base to be reacted with the compound (2) in the second step include alkyl lithium, alkyl metal amide, alkyl magnesium, magnesium complex, and alkali metal hydride.
  • alkyl lithium examples include n-butyl lithium, sec-butyl lithium, and tert-butyl lithium.
  • alkyl metal amide examples include lithium diisopropylamide, lithium diethylamide, lithium bis (trimethylsilyl) amide, sodium bis (trimethylsilyl) amide, potassium bis (trimethylsilyl) amide, lithium-2,2,6,6-tetramethylpiperidide , Lithium amide, sodium amide, potassium amide.
  • alkylmagnesium and the magnesium complex examples include tert-butylmagnesium chloride, ethylmagnesium chloride, 2,2,6,6-tetramethylpiperidinylmagnesium chloride, and lithium chloride complex.
  • alkali metal hydride examples include lithium hydride, sodium hydride, and potassium hydride.
  • alkyl metal amides are preferable from the viewpoint of regioselectivity, and n-butyllithium and lithium diisopropylamide are particularly preferable.
  • the molar ratio of the compound (2) to the base is generally about 1: 1.8 to 1: 3.0, and is not particularly limited. In view of the above, 1: 1.9 to 1: 2.6 is preferable, 1: 2.0 to 1: 2.4 is more preferable, and 1: 2.0 to 1: 2.2 is more preferable.
  • examples of the halogenating reagent to be reacted with the compound (2) together with a base include halogen molecules and N-halogenated succinimide.
  • examples of the halogen molecule include chlorine, bromine and iodine.
  • examples of the N-halogenated succinimide include N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, and N-iodosuccinimide. From the viewpoint of availability and reactivity, halogen molecules are preferable, and iodine is particularly preferable.
  • the molar ratio of the compound (2) to the halogenating reagent is generally about 1: 1.5 to 1: 20.0 and is not particularly limited. From the viewpoint of rate and reaction efficiency, it is preferably 1: 1.7 to 1: 17.0, more preferably 1: 1.9 to 1: 15.0, and even more preferably 1: 2.0 to 1: 10.0. .
  • the molar ratio of base to halogenating reagent is, for example, about 1: 0.5 to 1: 2.0, preferably 1: 0.6 to 1: 1.7, and 1: 0. 7 to 1: 1.5 is more preferable, and 1: 0.8 to 1: 1.2 is more preferable.
  • the base and the halogenating reagent may be reacted at the same time, but from the viewpoint of reaction efficiency, it is preferable to first react the basic compound and then react with the halogenating reagent.
  • the solvent for reacting the compound (2) with the base and the halogenating reagent is not particularly limited, but ether solvents and hydrocarbon solvents can be used.
  • ether solvents include diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, methyltetrahydrofuran, dimethoxyethane, cyclopentyl methyl ether, t-butyl methyl ether, and dioxane.
  • the hydrocarbon solvent include pentane, hexane, heptane, benzene, toluene, and xylene. Of these, ether solvents are preferable, and tetrahydrofuran is particularly preferable.
  • a solvent may be used individually by 1 type and may be used in mixture of 2 or more types.
  • the amount of the solvent used in the second step is generally 3 mL or more and about 150 mL with respect to 1 g of the compound (2) and is not particularly limited, but is preferably 5 mL or more and 120 mL or less from the viewpoint of yield and reaction efficiency. 8 mL or more and 100 mL or less are more preferable, and 10 mL or more and 80 mL or less are more preferable.
  • the temperature at which the compound (2) is reacted with the base and the halogenating reagent is preferably room temperature or lower, more preferably ⁇ 30 ° C. or lower, from the viewpoint of suppressing the formation of by-products. Preferably, it is ⁇ 35 ° C. or lower.
  • Third Step The production method of the present invention preferably includes the following third step.
  • Third step The compound represented by the formula (3) is reacted with a compound represented by the following formula (8) and / or the formula (9) in the presence of a metal catalyst to represent the compound represented by the formula (4). To obtain a compound represented by the formula (3)
  • B 1 and B 2 each represent the same group as described above.
  • R 9 to R 12 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or 6 to 10 carbon atoms. Represents an aryloxy group.
  • M 4 and M 5 each represent a boron atom, a tin atom, or a silicon atom.
  • R 9 and R 10 may form a ring together with M 4
  • R 11 and R 12 may form a ring together with M 5 .
  • p and q represent an integer of 1 or 2. When p is 2, the plurality of R 9 may be the same or different. When q is 2, the plurality of R 11 may be the same or different. ]
  • * -M 4 (R 9 ) p R 10 and * -M 5 (R 11 ) q R 12 are the compounds (6)
  • the groups exemplified when R 11 and R 12 in (7) are * -M 3 (R 13 ) k R 14 , and in formulas (1) to (t5), R 15 to R 17 , R 15 ′ Preferred examples are the same groups as those exemplified when is * -Si (R 18 ) 3 .
  • * -M 4 (R 9 ) p R 10 , * -M 5 (R 11 ) q R 12 is, for example, a group represented by the following formula: It can be preferably used. * Represents a bond.
  • * -M 4 (R 9 ) p R 10 and * -M 5 (R 11 ) q R 12 are, for example, groups represented by the following formulae: Is mentioned. * Represents a bond.
  • * -M 4 (R 9 ) p R 10 , * -M 5 (R 11 ) q R 12 is preferably an alkylsilyl group, such as a trimethylsilyl group or triisopropylsilyl group The group is particularly preferred.
  • B 1 and B 2 may be a thiophene ring optionally substituted with a hydrocarbon group (preferably a group represented by the formula (b1)) or a thiazole ring optionally substituted with a hydrocarbon group (preferably Is a group represented by the formula (b2), it is preferable that M 4 and M 5 are a boron atom or a tin atom.
  • B 1 and B 2 are an ethynylene group (preferably a group represented by the formula (b3))
  • M 4 and M 5 are preferably silicon atoms.
  • Examples of the compounds (8) and (9) include compounds represented by the following formulas.
  • Compounds (8) and (9) may be the same or different depending on the target compound, but are preferably the same from the viewpoint of suppressing the formation of by-products.
  • the molar ratio of compound (3) to the sum of compounds (8) and (9) is generally 1: 1 to 1: Although it is about 10 and is not particularly limited, it is preferably 1: 1.5 to 1: 8, more preferably 1: 2 to 1: 6, and still more preferably 1: 2 to 1: 5 from the viewpoint of yield and reaction efficiency. .
  • the same metal catalyst as exemplified as the metal catalyst used in the first step is preferably used as the metal catalyst used when the compound (3) is reacted with the compounds (8) and / or (9).
  • Transition metal catalysts such as palladium catalysts, nickel catalysts, iron catalysts, copper catalysts, rhodium catalysts, ruthenium catalysts, and the like.
  • the metal catalyst used is preferably a palladium-based catalyst, such as dichlorobis (triphenylphosphine) palladium (II), tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0), tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0 ) Chloroform adduct is particularly preferred.
  • the metal catalyst is preferably a copper-based catalyst when B 1 and B 2 in the formulas (8) and (9) are ethynylene groups (preferably groups represented by the formula (b3)).
  • copper-based catalysts copper (II) iodide is particularly preferable.
  • the molar ratio of the compound (3) to the metal catalyst is generally about 1: 0.0001 to 1: 0.5 and is not particularly limited. From the viewpoint of reaction efficiency, it is preferably 1: 0.001 to 1: 0.4, more preferably 1: 0.005 to 1: 0.3, and still more preferably 1: 0.01 to 1: 0.2.
  • a specific ligand may be coordinated to a metal catalyst such as a copper catalyst or a palladium catalyst, and the ligand is the same as the ligand used in the first step.
  • a metal catalyst such as a copper catalyst or a palladium catalyst
  • the ligand is the same as the ligand used in the first step.
  • the molar ratio of the metal catalyst to the ligand is generally about 1: 0.5 to 1:10. Although not particularly limited, it is preferably 1: 1 to 1: 8, more preferably 1: 1 to 1: 7, and even more preferably 1: 1 to 1: 5 from the viewpoint of yield and reaction efficiency.
  • the compound (3), the presence of a metal catalyst, in the reaction of compound (8) and / or the compound (9) may be allowed to coexist bases of M 4, M 5
  • the presence or absence of a base can be determined depending on the type. For example, when M 4 and M 5 are a boron atom and a silicon atom, it is preferable to make a base coexist, and when M 4 and M 5 are a tin atom, it is not necessary to make a base coexist.
  • the base those similar to those exemplified as the base used in the first step can be preferably used.
  • the base in addition to the base used in the first step, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, diisopropylethylamine, tributylamine, tripentylamine, trihexylamine, trioctylamine, triallylamine, pyridine, 2-methyl Pyridine, 3-methylpyridine, 4-methylpyridine, N-methylmorpholine, N, N-dimethylcyclohexylamine, N, N-dimethylaniline, N-methylimidazole, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane Tertiary amines such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene; dimethylamine, diethylamine, dipropylamine, diisopropylamine, dibutylamine, dipentylamine, dihexylamine, dicycl
  • Base can be selected depending on the kind of M 4, M 5, when M 4, M 5 is boron atom is preferably the base exemplified as the base used in the first step, more preferably, alkoxy alkali Metal compounds, more preferably lithium tert-butoxide, sodium tert-butoxide, potassium tert-butoxide, sodium carbonate, potassium carbonate, and cesium carbonate.
  • the base is preferably an amine, more preferably a secondary amine or a tertiary amine, and particularly preferably diisopropylamine, diisopropylethylamine, or triethylamine.
  • the molar ratio of the compound (3) to the base is generally about 1: 1 to 1:50 and is not particularly limited, but is 1 from the viewpoint of yield and reaction efficiency. : 1.5 to 1:40 is preferable, 1: 1.8 to 1:35 is more preferable, and 1: 2 to 1:30 is more preferable.
  • the molar ratio of compound (3) to base is preferably 1: 1 to 1:10, and 1: 1.5 to 1: 8 is more preferable, 1: 1.8 to 1: 6 is more preferable, and 1: 2 to 1: 5 is particularly preferable.
  • the molar ratio of the compound (3) to the base is preferably 1: 1 to 1:50, more preferably 1: 5 to 1. : 40, more preferably 1: 8 to 1:35, and particularly preferably 1:10 to: 35.
  • the same solvent as used in the first step is preferably used as a solvent for reacting compound (3) with compound (8) and / or compound (9) in the presence of a metal catalyst.
  • a metal catalyst be able to.
  • tetrahydrofuran, dioxane, and N, N-dimethylformamide are particularly preferable.
  • the amount of the solvent used in the third step is generally not less than 1 mL and not more than 50 mL with respect to 1 g of compound (3), but is preferably 5 mL or more and 40 mL or less from the viewpoint of yield and reaction efficiency. 8 mL or more and 35 mL or less is more preferable, and 10 mL or more and 30 mL or less is more preferable.
  • M 4 and M 5 are silicon atoms
  • the total amount of the solvent and the base (preferably amine) used is generally 1 mL or more and 50 mL or less with respect to 1 g of the compound (3).
  • the amount of the solvent used is, for example, 100% by volume or less, more preferably 80% by volume or less, and still more preferably 60% in a total of 100% by volume of the solvent and the base. % By volume or less. Further, the amount of the solvent used may be 40% by volume or less, more preferably 20% by volume or less in 100% by volume of the solvent and the base in total, and 0% by volume, that is, completely used. Not necessary.
  • the reaction temperature is not particularly limited, but is preferably 0 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, more preferably 30 ° C. or higher and 180 ° C. or lower, and 40 ° C. or higher from the viewpoint of increasing the reaction yield. More preferably, it is 150 ° C. or lower.
  • B 1 and B 2 in formulas (8) and (9) are ethynylene groups (preferably groups represented by formula (b3)), and M 4 and M 5 are silicon atoms.
  • the compound obtained by reacting compound (3) with compounds (8) and (9) has the following reaction formula:
  • T 1 , T 2 , R 9 to R 12 , X 1 and X 2 each represent the same group as described above.
  • the production method of the present invention preferably further includes a deorganosilyl group step.
  • the deorganosilyl group step the following deorganosilyl group step 1 or deorganosilyl group step 2 is preferable.
  • Deorganosilyl group step 1 * -Si (R 9 ) p R 10 , * -Si (R 11 ) q A compound having a group derived from R 12 is reacted with a base in an alcohol solvent to obtain *- Step of eliminating a group derived from Si (R 9 ) p R 10 , * -Si (R 11 ) q R 12
  • Deorganosilyl group Step 2 * -Si (R 9 ) p R 10 , * -Si A compound having a group derived from (R 11 ) q R 12 is reacted with a fluorine compound to form a group derived from * -Si (R 9 ) p R 10 , * -Si (R 11 ) q R 12. Desorption process
  • the deorganosilyl group step may be performed on the compound obtained by reacting the compound (3) with the compounds (8) and (9), and a coupling step described later. You may carry out with respect to the high molecular compound obtained by. That is, the deorganosilyl group step may be performed between the third step and the coupling step, or may be performed after the coupling step.
  • B 1 and B 2 are an ethynylene group (preferably a group represented by the formula (b3))
  • the fourth step may not be performed in the production method of the present invention.
  • Deorganosilyl group step 1 Examples of the base used in the deorganosilyl group step 1 include alkali metal salt compounds such as sodium hydroxide, cesium hydroxide, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate; magnesium hydroxide, calcium hydroxide, barium hydroxide Alkaline earth metal salt compounds such as magnesium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate; lithium methoxide, sodium methoxide, potassium methoxide, lithium ethoxide, sodium ethoxide, potassium ethoxide, lithium isopropoxide, sodium isopropoxy Potassium isopropylpropoxide, lithium tert-butoxide, sodium tert-butoxide, potassium tert-butoxide, lithium tert-amyl alkoxide, sodium tert-amylal Kishido, alkoxy alkali metal compounds such as potassium tert- amyl alkoxides.
  • alkali metal salt compounds such as sodium hydroxide
  • the molar ratio (compound: base) of the compound and base obtained by reacting compound (3) with compounds (8) and (9) is generally from 1: 0.01 to 1: Although it is about 10 and is not particularly limited, it is preferably from 1: 0.03 to 1: 8, more preferably from 1: 0.05 to 1: 6, and from 1: 0.1 to 1: from the viewpoint of yield and reaction efficiency. 5 is more preferable.
  • the reaction proceeds even if the base has a molar amount equivalent to that of the catalyst.
  • Examples of the alcohol solvent used in the deorganosilyl group step 1 include methanol, ethanol, propanol, isopropyl alcohol, butanol, isobutyl alcohol, tert-butanol, pentanol, hexanol, cyclohexanol, heptanol, octanol, 2-ethylhexanol, and the like. And methanol and ethanol are particularly preferable.
  • the same solvent as used in the first step may be used together. Examples of such a solvent include ether solvents such as tetrahydrofuran, and aromatic solvents such as toluene.
  • amide solvents such as dimethylformamide.
  • Use of such a solvent is preferable because a compound having a group derived from * -Si (R 9 ) p R 10 and * -Si (R 11 ) q R 12 is easily dissolved.
  • the amount of the alcohol solvent used is generally 1 mL or more and 50 mL or less with respect to 1 g of the compound obtained by reacting the compound (3) with the compounds (8) and (9). Although it is about and is not particularly limited, from the viewpoint of yield and reaction efficiency, 5 mL or more and 40 mL or less are preferable, 8 mL or more and 35 mL or less are more preferable, and 10 mL or more and 30 mL or less are more preferable.
  • the reaction temperature is not particularly limited, but it is preferably 0 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, more preferably 10 ° C. or higher and 180 ° C. or lower from the viewpoint of increasing the reaction yield. More preferably, the temperature is 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower.
  • the fluorine compound used in the deorganosilyl group step 2 includes lithium fluoride, sodium fluoride, potassium fluoride, cesium fluoride, magnesium fluoride, calcium fluoride, barium fluoride, ammonium fluoride, tetramethylammonium fluoride.
  • Tetraethylammonium fluoride Tetraethylammonium fluoride, tetrapropylammonium fluoride, tetrabutylammonium fluoride, tetrapentylammonium fluoride, tetrahexylammonium fluoride, etc.
  • sodium fluoride, potassium fluoride, tetraethylammonium fluoride, tetrabutyl Ammonium fluoride is preferred.
  • the molar ratio of the compound obtained by reacting the compound (3) with the compounds (8) and (9) and the fluorine compound is generally 1: 1 to 1: Although it is about 10 and is not particularly limited, it is preferably 1: 1.5 to 1: 8, more preferably 1: 1.8 to 1: 6, and 1: 2 to 1: 5 from the viewpoint of yield and reaction efficiency. Further preferred.
  • the same solvent as that used in the first step can be preferably used.
  • tetrahydrofuran, dioxane, and N, N-dimethylformamide are particularly preferable.
  • the amount of the solvent used is generally 1 mL or more and 50 mL or less with respect to 1 g of the compound obtained by reacting the compound (3) with the compounds (8) and (9).
  • the amount of the solvent used is generally 1 mL or more and 50 mL or less with respect to 1 g of the compound obtained by reacting the compound (3) with the compounds (8) and (9).
  • 5 mL or more and 40 mL or less are preferable, 8 mL or more and 35 mL or less are more preferable, and 10 mL or more and 30 mL or less are more preferable.
  • the reaction temperature is not particularly limited, but it is preferably 0 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, more preferably 10 ° C. or higher and 180 ° C. or lower from the viewpoint of increasing the reaction yield. More preferably, the temperature is 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower.
  • the production method of the present invention preferably includes the following fourth step.
  • Fourth step A step of reacting a compound represented by the formula (4) with a base and a tin halide compound to obtain a compound represented by the formula (5).
  • the compound (4) In Formula (4), B 1 and B 2 may be substituted with a thiophene ring (preferably a group represented by Formula (b1)) which may be substituted with a hydrocarbon group, or a hydrocarbon group.
  • a good thiazole ring preferably a group represented by the formula (b2)
  • any of the bases exemplified in the second step can be used.
  • an alkyl metal amide is preferable, and lithium diisopropylamide is particularly preferable.
  • the molar ratio of the compound (4) to the base is generally about 1: 1 to 1: 5 and is not particularly limited, but is 1 from the viewpoint of yield and reaction efficiency. : 1.1 to 1: 4 is preferable, 1: 1.5 to 1: 3 is more preferable, and 1: 1.8 to 1: 2.5 is more preferable.
  • examples of the tin halide compound to be reacted with the compound (4) together with a base include a halogenated alkyltin compound, a halogenated cycloalkyltin compound, and a halogenated aryltin compound.
  • examples of the halogenated alkyltin compounds include triethyltin chloride, tripropyltin chloride, tributyltin chloride, trimethyltin bromide, triethyltin bromide, tripropyltin bromide, and tributyltin bromide.
  • halogenated cycloalkyl tin compound examples include tricyclohexyl tin chloride and tricyclohexyl tin bromide.
  • halogenated aryl tin compound examples include triphenyl tin chloride, tribenzyl tin chloride, triphenyl tin bromide, and tribenzyl tin bromide.
  • a halogenated alkyltin compound is preferable, and trimethyltin chloride and tributyltin chloride are more preferable.
  • the molar ratio of the compound (4) to the halogenated silane compound is generally about 1: 1 to 1: 5 and is not particularly limited. From the viewpoint of reaction efficiency, 1: 1.1 to 1: 4 is preferable, 1: 1.5 to 1: 3 is more preferable, and 1: 1.8 to 1: 2.5 is more preferable.
  • the molar ratio of the base and the tin halide compound is, for example, about 1: 0.5 to 1: 2.0, preferably 1: 0.6 to 1: 1.7. The ratio is more preferably 1: 0.7 to 1: 1.5, and further preferably 1: 0.8 to 1: 1.2.
  • the base and the tin halide compound may be reacted with the compound (4) at the same time, from the viewpoint of the reaction yield, the compound (4) is first reacted with the base and then the tin halide compound is reacted. preferable.
  • the temperature at which the compound (4) is reacted with the base and then the tin halide compound is added is preferably room temperature or lower, and preferably 0 ° C. or lower from the viewpoint of suppressing the formation of by-products. More preferred.
  • a solvent for reacting the compound (4) with a base and a tin halide compound is not particularly limited, but an ether solvent, a hydrocarbon solvent, or the like can be used.
  • the ether solvent include diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, methyltetrahydrofuran, dimethoxyethane, cyclopentyl methyl ether, t-butyl methyl ether, and dioxane.
  • the hydrocarbon solvent include pentane, hexane, heptane, benzene, toluene, and xylene. Of these, tetrahydrofuran is preferred.
  • a solvent may be used individually by 1 type and may be used in mixture of 2 or more types.
  • the amount of solvent used in the fourth step is generally 1 mL or more and 70 mL or less with respect to 1 g of compound (4), and is not particularly limited, but is preferably 5 mL or more and 60 mL or less from the viewpoint of yield and reaction efficiency. 10 mL or more and 50 mL are more preferable, and 20 mL or more and 45 mL or less are more preferable.
  • the coupling reaction can be performed by reacting the compound (4) or the compound (5) with any of the compounds represented by the following formulas (C1) to (C31) in the presence of a metal catalyst.
  • R is R 30 ⁇ R 60 are each independently same groups as the hydrocarbon group of R 13 ⁇ R 17, R 19 ⁇ 6 to 30 carbon atoms in R 20 A 30 and A 31 each independently represent the same group as T 1 and T 2, and Y represents a halogen atom.
  • the compounds represented by the above formulas (C1) to (C18) are compounds that form acceptor units, and the compounds represented by formulas (C20) to (C31) are compounds that form donor units. It is.
  • the compound represented by the formula (C19) may form an acceptor unit or a donor unit depending on the types of A 30 and A 31 .
  • the compound of the present invention subjected to the coupling reaction can be selected according to the types of B 1 and B 2 in the formulas (4) and (5), and B 1 and B 2 are substituted with a hydrocarbon group.
  • a thiophene ring preferably a group represented by the formula (b1)
  • a thiazole ring preferably a group represented by the formula (b2)
  • the compound (5) is preferably used, and when B 1 and B 2 are an ethynylene group (preferably a group represented by the formula (b3)), the compound (4) is preferably used.
  • the molar ratio between the compound (4) or the compound (5) and any one of the compounds represented by the formulas (C1) to (C26) is preferably in the range of 1:99 to 99: 1, and 20:80 It is preferably in the range of ⁇ 80: 20, more preferably in the range of 40:60 to 60:40.
  • a transition metal catalyst is preferable, and examples of the transition metal catalyst include a palladium catalyst, a nickel catalyst, an iron catalyst, a copper catalyst, a rhodium catalyst, and a ruthenium catalyst. Among these, a palladium-based catalyst is preferable.
  • the palladium of the palladium-based catalyst may be zero-valent or divalent.
  • any of the palladium-based catalysts exemplified in the first step can be used, and these catalysts may be used alone or in combination of two or more.
  • tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0) and tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0) chloroform adduct are particularly preferable.
  • the molar ratio of the compound represented by formula (4) or (5) to the metal catalyst is generally from 1: 0.0001 to 1: 0. Although not particularly limited, it is preferably 1: 0.001 to 1: 0.3, more preferably 1: 0.005 to 1: 0.2, and 1: 0. More preferably, the ratio is .01 to 1: 0.1.
  • a specific ligand may be coordinated with the metal catalyst.
  • the ligand any of the ligands exemplified in the first step can be used, and a catalyst coordinated with any of these ligands may be used in the reaction.
  • a ligand may be used individually by 1 type and may be used in mixture of 2 or more types. Of these, triphenylphosphine, tris (o-tolyl) phosphine, and tris (2-methoxyphenyl) phosphine are preferable.
  • the molar ratio of the metal catalyst to the ligand is generally about 1: 0.5 to 1:10. Although not particularly limited, it is preferably 1: 1 to 1: 8, more preferably 1: 1 to 1: 7, and even more preferably 1: 1 to 1: 5 from the viewpoint of yield and reaction efficiency.
  • the solvent for reacting compound (4) or compound (5) with any of the compounds represented by formulas (C1) to (C26) is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • Conventionally known solvents can be used.
  • ether solvents, aromatic solvents, ester solvents, hydrocarbon solvents, halogen solvents, ketone solvents, amide solvents and the like can be used.
  • ether solvent examples include diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, methyltetrahydrofuran, dimethoxyethane, cyclopentyl methyl ether, tert-butyl methyl ether, and dioxane.
  • aromatic solvent examples include benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, and tetralin.
  • ester solvent examples include methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate.
  • hydrocarbon solvent examples include pentane, hexane, heptane, octane, and decalin.
  • halogen solvent examples include dichloromethane, chloroform, dichloroethane, and dichloropropane.
  • ketone solvent examples include acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone.
  • amide solvents include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, 1,3-dimethyl-3,4,5,6-tetrahydro- (1H ) -Pyrimidinone.
  • nitrile solvents such as acetonitrile, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide, and sulfone solvents such as sulfolane can be used.
  • sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide
  • sulfone solvents such as sulfolane
  • tetrahydrofuran, toluene, chlorobenzene, and N, N-dimethylformamide are preferable, and chlorobenzene is particularly preferable.
  • a solvent may be used individually by 1 type and may be used in mixture of 2 or more types.
  • the amount of the solvent used relative to 1 g in total of the compound (4) or compound (5) and the compounds represented by formulas (C1) to (C26) is generally about 1 mL or more and 150 mL or less, and is not particularly limited. However, from the viewpoint of yield and reaction efficiency, 5 mL or more and 100 mL or less are preferable, 8 mL or more and 90 mL or less are more preferable, and 10 mL or more and 80 mL or less are more preferable.
  • NMR spectrum measurement About the benzobis thiazole compound, NMR spectrum measurement was performed using the NMR spectrum measuring apparatus (Agilent (formerly Varian), "400MR”, and Bruker, "AVANCE 500").
  • the molecular weight of the benzobisthiazole compound was measured using gel permeation chromatography (GPC).
  • GPC Gel permeation chromatography
  • the benzobisthiazole compound was dissolved in a mobile phase solvent (chloroform) so as to have a concentration of 0.5 g / L, measured under the following conditions, and based on a calibration curve prepared using polystyrene as a standard sample. By conversion, the number average molecular weight and the weight average molecular weight of the benzobisthiazole compound were calculated.
  • the GPC conditions in the measurement are as follows.
  • HLC-8320GPC manufactured by Tosoh Corporation
  • TSKgel registered trademark
  • SuperHM-H′2 + TSKgel registered trademark
  • SuperH2000 manufactured by Tosoh Corporation
  • IR spectrum The IR spectrum of the benzobisthiazole compound was measured using an infrared spectrometer (manufactured by JASCO, “FT / IR-6100”).
  • UV-visible absorption spectrum The obtained benzobisthiazole compound was dissolved in chloroform so as to have a concentration of 0.03 g / L, and an ultraviolet / visible spectrometer (“UV-2450”, “UV-3150” manufactured by Shimadzu Corporation) was dissolved. )) And UV-visible absorption spectrum measurement was performed using a cell having an optical path length of 1 cm.
  • a benzobisthiazole compound was formed on a glass substrate so as to have a thickness of 50 nm to 100 nm.
  • the ionization potential of this membrane was measured with an ultraviolet photoelectron analyzer (“AC-3” manufactured by Riken Keiki Co., Ltd.) at room temperature and normal pressure.
  • tributyltin chloride (352 ⁇ L, 1.30 mmol) was added, and the mixture was warmed to room temperature and stirred for 2 hours. After completion of the reaction, water was added and extracted twice with toluene. The organic layer was washed with water and then dried over anhydrous magnesium sulfate.
  • a donor material: acceptor Material 1: 2 (weight) (total concentration 24 mg / mL) and 1,8-diiodooctane (0.03 mL / mL) were dissolved in chlorobenzene and passed through a 0.45 ⁇ m filter to obtain a mixed solution.
  • the glass substrate on which the ITO film was formed was surface treated by ozone UV treatment, and then PEDOT-PSS ([poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -poly (styrenesulfonic acid)) was applied with a spin coater did.
  • PEDOT-PSS [poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -poly (styrenesulfonic acid)
  • the mixed solution of the above donor material and acceptor material was formed into a film with a spin coater and dried under reduced pressure at room temperature.
  • an ethanol solution of tetraisopropyl orthotitanate (about 0.3 v%) was spin-coated to produce a film converted to titanium oxide by moisture in the atmosphere.
  • aluminum as an electrode was deposited to obtain a device.
  • the glass substrate on which the ITO film was formed was surface treated by ozone UV treatment, and then PEDOT-PSS ([poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -poly (styrenesulfonic acid)) was applied with a spin coater did.
  • PEDOT-PSS [poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -poly (styrenesulfonic acid)
  • the mixed solution of the above donor material and acceptor material was formed into a film with a spin coater and dried under reduced pressure at room temperature.
  • an ethanol solution of tetraisopropyl orthotitanate (about 0.3 v%) was spin-coated to produce a film converted to titanium oxide by moisture in the atmosphere.
  • aluminum which is an electrode was vapor-deposited to make a device.
  • tributyltin chloride (352 ⁇ L, 1.30 mmol) was added, and the mixture was warmed to room temperature and stirred for 2 hours. After completion of the reaction, water was added and extracted twice with toluene. The organic layer was washed with water and then dried over anhydrous magnesium sulfate.
  • a device was prepared in the same manner as in Example 30 except that P-THHDT-DBTH-HTT obtained as described above was used instead of P-THDT-DBTH-EH-IMTH. Produced.
  • the obtained device was subjected to characteristic evaluation using a solar simulator (CEP2000, AM1.5G filter, radiation intensity 100 mW / cm 2 , manufactured by Spectrometer Co., Ltd.).
  • Jsc short-circuit current density
  • Voc open-circuit voltage
  • FF fill factor
  • conversion efficiency is 1.62%. confirmed.
  • the glass substrate on which the ITO film was formed was surface treated by ozone UV treatment, and then PEDOT-PSS ([poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -poly (styrenesulfonic acid)) was applied with a spin coater did.
  • PEDOT-PSS [poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -poly (styrenesulfonic acid)
  • the mixed solution of the above donor material and acceptor material was formed into a film with a spin coater and dried under reduced pressure at room temperature.
  • an ethanol solution of tetraisopropyl orthotitanate (about 0.3 v%) was spin-coated to produce a film converted to titanium oxide by moisture in the atmosphere.
  • aluminum as an electrode was deposited to obtain a device.
  • the obtained device was subjected to characteristic evaluation using a solar simulator (CEP2000, AM1.5G filter, radiation intensity 100 mW / cm 2 , manufactured by Spectrometer Co., Ltd.).
  • Jsc short-circuit current density
  • Voc open end voltage
  • FF curve factor
  • tributyltin chloride 75 ⁇ L, 0.28 mmol was added, and the mixture was warmed to room temperature and stirred for 2 hours. After completion of the reaction, water was added and extracted twice with toluene. The organic layer was washed with water and then dried over anhydrous magnesium sulfate.
  • P-THTIPSTH-DBTH-O-IMTH obtained as described above as a donor material and PCBM (C61) (phenyl C61-butyric acid methyl ester) as an acceptor material
  • a donor material: acceptor Material 1: 1.5 (mass) (total concentration 20 mg / mL) and 1,8-diiodooctane (0.03 mL / mL) dissolved in chlorobenzene and mixed through a 0.45 ⁇ m filter It was.
  • the glass substrate on which the ITO film was formed was surface treated by ozone UV treatment, and then PEDOT-PSS ([poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -poly (styrenesulfonic acid)) was applied with a spin coater did.
  • PEDOT-PSS [poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -poly (styrenesulfonic acid)
  • the mixed solution of the donor material / acceptor material was formed into a film with a spin coater and annealed at 150 ° C.
  • an ethanol solution about 0.3% by volume
  • tetraisopropyl orthotitanate was spin-coated to produce a film converted into titanium oxide by moisture in the atmosphere.
  • aluminum which is an electrode was vapor-deposited to make a device.
  • the obtained device was subjected to characteristic evaluation using a solar simulator (CEP2000, AM1.5G filter, radiation intensity 100 mW / cm 2 , manufactured by Spectrometer Co., Ltd.).
  • Jsc short-circuit current density
  • Voc open-circuit voltage
  • FF curve factor
  • the polymer compound of the present invention has high photoelectric conversion efficiency, it is useful for organic electro devices such as organic electroluminescence elements and organic thin film transistor elements.

Abstract

 変換効率に優れた有機半導体材料を提供する高分子化合物や、材料設計の自由度が高い原材料化合物、および、それらの製造方法を提供する。本発明の高分子化合物は、式(1)で表されるベンゾビスチアゾール構造単位を含むことを特徴とする。[式(1)中、T1、T2は、それぞれ独立に、アルコキシ基、チオアルコキシ基、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチオフェン環、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチアゾール環、または、炭化水素基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、オルガノシリル基、ハロゲン原子、もしくは、トリフルオロメチル基で置換されていてもよいフェニル基を表す。 また、B1、B2は、炭化水素基で置換されていてもよいチオフェン環、炭化水素基で置換されていてもよいチアゾール環、または、エチニレン基を表す。]

Description

有機半導体材料
 本発明は、特定のベンゾビスチアゾール骨格を有する構造単位を有する高分子化合物、有機半導体材料、および、その製造方法に関する。
 有機半導体材料は、有機エレクトロニクス分野において最も重要な材料の1つであり、電子供与性のp型有機半導体材料や電子受容性のn型有機半導体材料に分類することができる。p型有機半導体材料やn型有機半導体材料を適切に組合せることにより様々な半導体素子を製造することができ、このような素子は、例えば、電子と正孔が再結合して形成する励起子(エキシトン)の作用により発光する有機エレクトロルミネッセンスや、光を電力に変換する有機薄膜太陽電池、電流量や電圧量を制御する有機薄膜トランジスタに応用されている。 
 これらの中でも、有機薄膜太陽電池は、大気中への二酸化炭素放出がないため環境保全に有用であり、また簡単な構造で製造も容易であることから、需要が高まっている。しかしながら、有機薄膜太陽電池の光電変換効率はいまだ十分ではない。光電変換効率ηは短絡電流密度(Jsc)と開放電圧(Voc)、曲線因子(FF)の積「η=開放電圧(Voc)×短絡電流密度(Jsc)×曲線因子(FF)」で算出される値であり、光電変換効率を高めるためには、開放電圧(Voc)の向上に加え、短絡電流密度(Jsc)や曲線因子(FF)の向上も必要となる。
 開放電圧(Voc)は、p型有機半導体のHOMO(最高被占軌道)準位とn型有機半導体のLUMO(最低空軌道)準位のエネルギー差に比例するものであるため、開放電圧(Voc)を向上するためには、p型有機半導体のHOMO準位を深くする(引き下げる)必要がある。
 また、短絡電流密度(Jsc)は、有機半導体材料が受け取るエネルギーの量と相関するものであり、有機半導体材料の短絡電流密度(Jsc)を向上するためには、可視領域から近赤外領域までの広い波長範囲の光を吸収させる必要がある。有機半導体材料が吸収できる光のうち、もっとも低いエネルギーの光の波長(もっとも長い波長)が吸収端波長であり、この波長に対応したエネルギーがバンドギャップエネルギーに相当する。そのため、より広い波長範囲の光を吸収させるためにはバンドギャップ(p型有機半導体のHOMO準位とLUMO準位のエネルギー差)を狭くする必要がある。
 一方、特許文献1では、ベンゾビスチアゾール骨格を有する化合物が提案されているが、変換効率が明らかではない。
特開2007-238530号公報
 本発明の課題は、光電変換効率に優れた有機半導体材料を提供することにある。また、有機半導体材料では化学構造と変換効率とが密接に関連していることから、より多様な骨格や置換基を導入できる原材料化合物を提供することをも目的とする。さらに、このような有機半導体材料やその原材料化合物の製造方法を提供することにある。
 本発明者らは、変換効率向上のためには、すなわち開放電圧(Voc)を向上しながら短絡電流密度(Jsc)を向上するためには、p型有機半導体に広い波長の範囲の光を吸収させると同時にHOMO準位を適度に深くすることが有用であることを見出した。そして、p型有機半導体材料における変換効率と化学構造との相関に着目して鋭意検討を行った結果、特定の構造を有する有機半導体ポリマーを用いることによって、可視光領域全体に幅広い光吸収を有するとともに、HOMO準位やLUMO準位を適切な範囲に調整できるため、開放電圧(Voc)を向上しながら短絡電流密度(Jsc)を向上できることをつきとめた。そして、このような有機半導体ポリマーを用いると、p型有機半導体とn型有機半導体との間で容易に電荷分離を起こせることを見出して、本発明を完成した。
 すなわち、本発明に係る高分子化合物は、式(1)で表されるベンゾビスチアゾール構造単位を含むことを特徴とする。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 
[式(1)中、T1、T2は、それぞれ独立に、アルコキシ基、チオアルコキシ基、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチオフェン環、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチアゾール環、または、炭化水素基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、オルガノシリル基、ハロゲン原子、もしくは、トリフルオロメチル基で置換されていてもよいフェニル基を表す。また、B1、B2は、炭化水素基で置換されていてもよいチオフェン環、炭化水素基で置換されていてもよいチアゾール環、または、エチニレン基を表す。]
 式(1)において、T1、T2は、それぞれ、下記式(t1)~(t5)のいずれかで表される基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015

[式(t1)~(t5)中、R13~R14は、それぞれ独立に、炭素数6~30の炭化水素基を表す。R15~R16は、それぞれ独立に、炭素数6~30の炭化水素基、または、*-Si(R183で表される基を表す。R15'は、水素原子、炭素数6~30の炭化水素基、*-Si(R183で表される基を表す。R17は、それぞれ独立に、炭素数6~30の炭化水素基、*-O-R19、*-S-R20、*-Si(R183、または、*-CF3を表す。R18は、それぞれ独立に、炭素数1~20の脂肪族炭化水素基、または、炭素数6~10の芳香族炭化水素基を表し、複数のR18は、同一でも異なっていてもよい。R19~R20は、炭素数6~30の炭化水素基を表す。*は結合手を表す。]
 また式(1)において、B1、B2は、それぞれ、下記式(b1)~(b3)のいずれかで表される基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016

[式(b1)~(b3)中、R21、R22、R21'は、水素原子または炭素数6~30の炭化水素基を表す。*は結合手を表し、特に左側の*は、ベンゾビスチアゾール化合物のベンゼン環に結合する結合手を表すものとする。]
 本発明の高分子化合物は、好ましくは、ドナー-アクセプター型半導体ポリマーである。本発明の高分子化合物を含む有機半導体材料も本発明の技術的範囲に包含される。
 また、本発明は、式(5)で表されるベンゾビスチアゾール化合物を含む。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017

[式(5)中、T1、T2、B1、B2は、それぞれ上記と同様の基を表す。R1~R4は、それぞれ独立に、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基、水酸基、炭素数1~6のアルコキシ基、または、炭素数6~10のアリールオキシ基を表す。M1、M2は、それぞれ独立に、ホウ素原子または錫原子を表す。R1、R2は、M1とともに環を形成していてもよく、R3、R4は、M2とともに環を形成していてもよい。m、nは、それぞれ、1または2の整数を表す。また、m、nが2のとき、複数のR1、R3は、それぞれ同一でも、異なっていてもよい。]
 本発明は、また、式(4)で表されるベンゾビスチアゾール化合物を含む。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018

[式(4)中、T1、T2、B1、B2は、それぞれ上記と同様の基を表す。]
 本発明は、さらに、式(3)で表されるベンゾビスチアゾール化合物を含む。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019

[式(3)中、T1、T2は、それぞれ上記と同様の基を表す。X1、X2は、ハロゲン原子を表す。]
 本発明は、式(2)で表されるベンゾビスチアゾール化合物を含む。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020

[式(2)中、T1、T2は、それぞれ上記と同様の基を表す。]
 本発明の高分子化合物の製造方法は、2,6-ジヨードベンゾ[1,2-d:4,5-d’]ビスチアゾール、および、2,6-ジブロモベンゾ[1,2-d:4,5-d’]ビスチアゾールからなる群より選ばれた1の化合物を出発原料とし、
 式(2)で表される化合物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021

[式(2)中、T1、T2は、それぞれ上記と同様の基を表す。]
 式(3)で表される化合物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022

[式(3)中、T1、T2、X1、X2は、それぞれ上記と同様の基を表す。]
 式(4)で表される化合物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023

[式(4)中、T1、T2、B1、B2は、それぞれ上記と同様の基を表す。]
を経ることを特徴とする。
 本発明の高分子化合物の製造方法は、下記第一工程、第二工程、および、第三工程を含むことが好ましい。
第一工程:2,6-ジヨードベンゾ[1,2-d:4,5-d’]ビスチアゾール、および、2,6-ジブロモベンゾ[1,2-d:4,5-d’]ビスチアゾールからなる群より選ばれた1の化合物に、金属触媒の存在下、式(6)および/または式(7)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024

[式(6)、(7)中、T1、T2は、それぞれ上記と同様の基を表す。R5、R6は、それぞれ独立に、水素原子、または、*-M3(R7k8を表す。R7、R8は、それぞれ独立に、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基、水酸基、炭素数1~6のアルコキシ基、または、炭素数6~10のアリールオキシ基を表す。M3は、ホウ素原子または錫原子を表す。*は結合手を表す。R7、R8は、M3とともに環を形成していてもよい。kは1または2の整数を表す。また、kが2のとき、複数のR7は、それぞれ同一でも、異なっていてもよい。]
で表される化合物を反応させて、式(2)で表される化合物を得る工程
第二工程:式(2)で表される化合物に塩基とハロゲン化試薬とを反応させて、式(3)で表される化合物を得る工程
第三工程:式(3)で表される化合物に、金属触媒の存在下、下記式(8)および/または式(9)で表される化合物を反応させて、式(4)で表される化合物を得る工程
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025

[式(8)、(9)中、B1、B2は、それぞれ上記と同様の基を表す。R9~R12は、それぞれ独立に、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基、水酸基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数6~10のアリール基、または、炭素数6~10のアリールオキシ基を表す。M4、M5は、ホウ素原子、錫原子、または、ケイ素原子を表す。R9、R10は、M4とともに環を形成していてもよく、R11、R12は、M5とともに環を形成していてもよい。p、qは1または2の整数を表す。pが2のとき、複数のR9は、それぞれ同一でも、異なっていてもよい。また、qが2のとき、複数のR11は、それぞれ同一でも、異なっていてもよい。]
 本発明の高分子化合物の製造方法は、さらに下記式(5)で表される化合物を経ることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026

[式(5)中、T1、T2、B3、B4、R1~R4、M1、M2、m、nは、それぞれ上記と同様の基を表す。]
 本発明の高分子化合物の製造方法は、さらに下記第四工程を含むことが好ましい。
 第四工程:式(4)で表される化合物に、塩基とハロゲン化錫化合物とを反応させて、式(5)で表される化合物を得る工程
 本発明のベンゾビスチアゾール化合物は、分子内S-N相互作用により平面十字型骨格を形成することができる。その結果、平面十字型骨格にπ共役が拡張されるため複数のπ-π*遷移に由来したマルチバンド光吸収を示し可視領域から近赤外領域の幅広い光を吸収できる。これにより、高い開放電圧(Voc)および短絡電流密度(Jsc)の両方を得ることが可能となり、高い光電変換効率ηを得ることが可能である。また、本発明の製造方法によれば、ベンゾビスチアゾール骨格に置換基として様々な置換基を導入することが可能であり、材料の特性(例えば、結晶性、製膜性、吸収波長)を制御できる。
図1は、実施例22の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。 図2は、実施例23の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。 図3は、実施例24の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。 図4は、実施例25の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。 図5は、実施例26の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。 図6は、実施例27の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。 図7は、実施例28の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。 図8は、実施例29の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。 図9は、実施例30の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。 図10は、実施例31の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。 図11は、実施例32の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。 図12は、実施例37の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。 図13は、実施例38の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。 図14は、実施例39の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。 図15は、実施例40の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。 図16は、実施例41の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。 図17は、実施例46の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。 図18は、実施例47の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。 図19は、実施例49の高分子化合物の紫外可視吸収スペクトルを示す。
1.高分子化合物
 本発明の高分子化合物は、式(1)で表されるベンゾビスチアゾール構造単位を有する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
[式(1)中、T1、T2は、それぞれ独立に、アルコキシ基、チオアルコキシ基、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチオフェン環、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチアゾール環、または、炭化水素基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、オルガノシリル基、ハロゲン原子、もしくは、トリフルオロメチル基で置換されていてもよいフェニル基を表す。また、B1、B2は、炭化水素基で置換されていてもよいチオフェン環、炭化水素基で置換されていてもよいチアゾール環、または、エチニレン基を表す。]
 本発明の高分子化合物は、式(1)で表されるベンゾビスチアゾール構造単位を有するため、HOMO準位を深くしながらバンドギャップを狭めることができ、光電変換効率を高めるのに有利である。本発明の高分子化合物は、好ましくは、ドナー-アクセプター型半導体ポリマーである。ドナー-アクセプター型半導体高分子化合物は、ドナー性ユニットとアクセプター性ユニットが交互に配置した高分子化合物を意味する。ドナー性ユニットは、電子供与性の構造単位を意味し、アクセプター性ユニットは、電子受容性の構造単位を意味する。前記ドナー-アクセプター型半導体ポリマーは、式(1)で表される構造単位と、他の構造単位とが交互に配置した高分子化合物であることが好ましい。
 なお、本明細書において、オルガノシリル基は、Si原子に1個以上の炭化水素基が置換した1価の基を意味するものとし、Si原子に置換する炭化水素基の数は、2個以上であることが好ましく、3個であることがさらに好ましい。
 式(1)で表されるベンゾビスチアゾール構造単位では、T1、T2は互いに同一であっても異なっていてもよいが、製造が容易である観点からは、同一であることが好ましい。
 式(1)で表されるベンゾビスチアゾール構造単位においては、T1、T2は、それぞれ、下記式(t1)~(t5)で表される基であることが好ましい。具体的には、T1、T2のアルコキシ基としては、下記式(t1)で表される基が好ましく、チオアルコキシ基としては、下記式(t2)で表される基が好ましく、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチオフェン環としては下記式(t3)で表される基が好ましく、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチアゾール環としては下記式(t4)で表される基が好ましく、炭化水素基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、オルガノシリル基、ハロゲン原子、もしくは、トリフルオロメチル基で置換されていてもよいフェニル基としては、下記式(t5)で表される基が好ましい。T1、T2が下記式(t1)~(t5)で表される基であると、短波長の光を吸収することができるとともに、高い平面性を有することから効率的にπ-πスタッキングが形成されるため、より一層光電変換効率を高めることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028

[式(t1)~(t5)中、R13~R14は、それぞれ独立に、炭素数6~30の炭化水素基を表す。R15~R16は、それぞれ独立に、炭素数6~30の炭化水素基、または、*-Si(R183で表される基を表す。R15'は、水素原子、炭素数6~30の炭化水素基、*-Si(R183で表される基を表す。R17は、それぞれ独立に、炭素数6~30の炭化水素基、*-O-R19、*-S-R20、*-Si(R183、または、*-CF3を表す。R18は、それぞれ独立に、炭素数1~20の脂肪族炭化水素基、または、炭素数6~10の芳香族炭化水素基を表し、複数のR18は、同一でも異なっていてもよい。R19~R20は、炭素数6~30の炭化水素基を表す。*は結合手を表す。]
 上記式(t1)~(t5)において、R13~R17、R19~R20、R15'の炭素数6~30の炭化水素基としては、分岐を有する炭化水素基であることが好ましく、より好ましくは分岐鎖状飽和炭化水素基である。R13~R17、R19~R20、R15'の炭化水素基は、分岐を有することにより、有機溶剤への溶解度を上げることができ、本発明の高分子化合物は適度な結晶性を得ることができる。R13~R17、R19~R20、R15'の炭化水素基の炭素数は、大きいほど有機溶剤への溶解度を向上させることができるが、大きくなり過ぎると後述するカップリング反応における反応性が低下するため、高分子化合物の合成が困難となる。そのため、R13~R17、R19~R20、R15'の炭化水素基の炭素数は、好ましくは8~25であり、より好ましくは8~20であり、さらに好ましくは8~16である。
 R13~R17、R19~R20、R15'で表される炭素数6~30の炭化水素基としては、例えば、n-ヘキシル基等の炭素数6のアルキル基;n-ヘプチル基等の炭素数7のアルキル基;n-オクチル基、1-n-ブチルブチル基、1-n-プロピルペンチル基、1-エチルヘキシル基、2-エチルヘキシル基、3-エチルヘキシル基、4-エチルヘキシル基、1-メチルヘプチル基、2-メチルヘプチル基、6-メチルヘプチル基、2,4,4-トリメチルペンチル基、2,5-ジメチルヘキシル基等の炭素数8のアルキル基;n-ノニル基、1-n-プロピルヘキシル基、2-n-プロピルヘキシル基、1-エチルヘプチル基、2-エチルヘプチル基、1-メチルオクチル基、2-メチルオクチル基、6-メチルオクチル基、2,3,3,4-テトラメチルペンチル基、3,5,5-トリメチルヘキシル基等の炭素数9のアルキル基;n-デシル基、1-n-ペンチルペンチル基、1-n-ブチルヘキシル基、2-n-ブチルヘキシル基、1-n-プロピルヘプチル基、1-エチルオクチル基、2-エチルオクチル基、1-メチルノニル基、2-メチルノニル基、3,7-ジメチルオクチル基等の炭素数10のアルキル基;n-ウンデシル基、1-n-ブチルヘプチル基、2-n-ブチルヘプチル基、1-n-プロピルオクチル基、2-n-プロピルオクチル基、1-エチルノニル基、2-エチルノニル基等の炭素数11のアルキル基;n-ドデシル基、1-n-ペンチルヘプチル基、2-n-ペンチルヘプチル基、1-n-ブチルオクチル基、2-n-ブチルオクチル基、1-n-プロピルノニル基、2-n-プロピルノニル基等の炭素数12のアルキル基;n-トリデシル基、1-n-ペンチルオクチル基、2-n-ペンチルオクチル基、1-n-ブチルノニル基、2-n-ブチルノニル基、1-メチルドデシル基、2-メチルドデシル基等の炭素数13のアルキル基;n-テトラデシル基、1-n-ヘプチルヘプチル基、1-n-ヘキシルオクチル基、2-n-ヘキシルオクチル基、1-n-ペンチルノニル基、2-n-ペンチルノニル基等の炭素数14のアルキル基;n-ペンタデシル基、1-n-ヘプチルオクチル基、1-n-ヘキシルノニル基、2-n-ヘキシルノニル基等の炭素数15のアルキル基;n-ヘキサデシル基、2-n-ヘキシルデシル基、1-n-オクチルオクチル基、1-n-ヘプチルノニル基、2-n-ヘプチルノニル基等の炭素数16のアルキル基;n-ヘプタデシル基、1-n-オクチルノニル基等の炭素数17のアルキル基;n-オクタデシル基、1-n-ノニルノニル基等の炭素数18のアルキル基;n-ノナデシル基等の炭素数19のアルキル基;n-エイコシル基、2-n-オクチルドデシル基等の炭素数20のアルキル基;n-ヘンエイコシル基等の炭素数21のアルキル基;n-ドコシル基等の炭素数22のアルキル基;n-トリコシル基等の炭素数23のアルキル基;n-テトラコシル基、2-n-デシルテトラデシル基等の炭素数24のアルキル基;等が挙げられる。好ましくは炭素数8~20のアルキル基であり、より好ましくは炭素数8~16のアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数8~16の分岐鎖状アルキル基であり、特に好ましくは2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、、2-n-ブチルオクチル基、2-n-ヘキシルデシル基、2-n-オクチルドデシル基、2-n-デシルテトラデシル基である。R13~R17、R19~R20、R15'が上記の基であると、本発明の高分子化合物は、有機溶剤への溶解度が向上し、適度な結晶性を有する。
 上記式(t1)~(t5)中、R15~R17、R15'の*-Si(R183で表される基において、R18の脂肪族炭化水素基の炭素数は、好ましくは1~18であり、より好ましくは1~8である。R18の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert-ブチル基、イソブチル基、オクチル基、オクタデシル基が挙げられる。R18の芳香族炭化水素基の炭素数は、好ましくは6~8であり、より好ましくは6~7であり、特に好ましくは6である。R18の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。中でも、R18としては、脂肪族炭化水素基が好ましく、分岐を有する脂肪族炭化水素基がより好ましく、イソプロピル基が特に好ましい。複数のR18は、同一でも異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。R15~R17、R15'が*-Si(R183で表される基であると、本発明の高分子化合物は、有機溶剤への溶解度が向上する。
 上記式(t1)~(t5)中、R15~R17、R15'の*-Si(R183で表される基としては、具体的には、トリメチルシリル基、エチルジメチルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、tert-ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソブチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリブチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、メチルジフェニルシリル基等のアルキルシリル基;トリフェニルシリル基、tert-ブチルクロロジフェニルシリル基等のアリールシリル基;等が挙げられる。中でも、アルキルシリル基が好ましく、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基が特に好ましい。
 上記式(t5)中、R17がハロゲン原子である場合、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素のいずれも用いることができる。
 R15'は、水素原子、又は、R15として例示した炭素数6~30の炭化水素基、もしくは*-Si(R183で表される基と同様の基である。
 T1、T2の電子供与性基としては、式(1)で表される構造単位全体として平面性に優れる観点から、式(t1)、(t3)、(t5)で表される基がより好ましく、式(t3)で表される基がさらに好ましく、下記式(t3-1)~(t3-16)で表される基が特に好ましい。式中、*は結合手を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 T1、T2としては、電子供与性の基、或いは、電子求引性の基を用いることができる。電子供与性の基としては、式(t1)~(t3)で表される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031

 
[式(t1)~(t3)中、*は結合手を表し、R13~R15、R15'は、前記と同様の基を表す。R17は、それぞれ独立に、炭素数6~30の炭化水素基、*-O-R19、*-S-R20を表す。*は結合手を表す。]
 T1、T2として用いることができる電子求引性の基としては、式(t4)~(t5)で表される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032

[式(t4)~(t5)中、R16は、前記と同様の基を表す。R17は、ハロゲン原子、または、トリフルオロメチル基を表す。*は結合手を表す。]
 また、式(1)で表されるベンゾビスチアゾール構造単位では、B1、B2は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよいが、製造が容易である観点からは、同一であることが好ましい。式(1)で表される構造単位においては、B1、B2が、それぞれ、下記式(b1)~(b3)のいずれかで表される基であることが好ましい。B1、B2が下記式(b1)~(b3)で表される基であると、得られる高分子化合物の平面性が良好であり、光電変換効率をより一層向上することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033

[式(b1)~(b3)中、R21、R22、R21'は、水素原子または炭素数6~30の炭化水素基を表す。*は結合手を表し、特に左側の*は、ベンゾビスチアゾール化合物のベンゼン環に結合する結合手を表すものとする。]
 R21、R22、R21'の炭素数6~30の炭化水素基としては、R13~R17、R19~R20、R15'の炭素数6~30の炭化水素基として例示した基を好ましく用いることができる。
 R21、R22、R21'が水素原子であると、ドナー-アクセプター型半導体ポリマーの形成が容易であるため、好ましい。また、R21、R22、R21'が炭素数6~30の炭化水素基であると、より一層光電変換効率を高められる可能性があるため好ましい。
 また、式(1)で表されるベンゾビスチアゾール構造単位では、式(1)で表される構造単位全体として平面性に優れるとともに、得られる高分子化合物全体としても平面性に優れる観点から、B1、B2としては、式(b1)、(b2)で表される基がより好ましい。B1、B2が式(b1)、(b2)で表される基であると、ベンゾビスチアゾール構造単位(1)中でS原子とN原子の相互作用が生じ、平面性がさらに向上する。B1、B2としては、具体的には、下記式で表される基が好ましい。ただし、式中、*は結合手を表し、左側の*がベンゾビスチアゾールのベンゼン環に結合するものとする。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 また、式(1)で表される構造単位としては、例えば、下記式(1-1)~(1-48)で表される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
 式(1)で表される構造単位と組み合わせて、ドナー-アクセプター型半導体ポリマーを形成する構造単位(ドナー性ユニット、アクセプター性ユニット)としては、従来公知の構造単位を用いることができる。具体的には、以下の構造単位を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
[式(c1)~(c31)中、R30~R60は、それぞれ独立に、R13~R17、R19~R20、R15'の炭素数6~30の炭化水素基と同様の基を表し、A30、A31は、それぞれ独立に、T1、T2と同様の基を表す。]
 なお、上記式(c1)~(c18)で表される基は、アクセプター性ユニットとして作用する基であり、式(c20)~(c31)で表される基は、ドナー性ユニットとして作用する基である。式(c19)で表される基は、A30、A31の種類により、アクセプター性ユニットとして作用することもあれば、ドナー性ユニットとして作用することもある。
 本発明の高分子化合物の重量平均分子量、数平均分子量は、一般に、2,000以上、500,000以下であり、より好ましくは3,000以上、200,000以下である。本発明の高分子化合物の重量平均分子量、数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィを用い、ポリスチレンを標準試料として作成した較正曲線に基づいて算出することができる。
 本発明の高分子化合物のイオン化ポテンシャルは、4eV以上であることが好ましく、より好ましくは4.5eV以上、さらに好ましくは5eV以上、特に好ましくは5.1eV以上である。イオン化ポテンシャルの上限は、特に限定されないが、例えば、7eV以下であり、6.5eV以下であることが好ましく、6.2eV以下であることが好ましい。本発明の高分子化合物のイオン化ポテンシャルが上記の範囲であると、HOMO準位が適度に深くなる(引き下げられる)ため、高い開放電圧(Voc)および短絡電流密度(Jsc)の両方を得ることが可能となり、より高い光電変換効率を得ることが可能となる。
2.化合物2-1.式(5)で表される化合物
 本発明は、下記式(5)で表される化合物(以下、「化合物(5)」ということがある。)を含む。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042

[式(5)中、T1、T2は、それぞれ独立に、アルコキシ基、チオアルコキシ基、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチオフェン環、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチアゾール環、または、炭化水素基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、オルガノシリル基、ハロゲン原子、もしくは、トリフルオロメチル基で置換されていてもよいフェニル基を表す。また、B3、B4は、アルキル基で置換されていてもよいチオフェン環、または、アルキル基で置換されていてもよいチアゾール環を表す。R1~R4は、それぞれ独立に、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基、水酸基、炭素数1~6のアルコキシ基、または、炭素数6~10のアリールオキシ基を表す。M1、M2は、それぞれ独立に、ホウ素原子または錫原子を表す。R1、R2は、M1とともに環を形成していてもよく、R3、R4は、M2とともに環を形成していてもよい。m、nは、それぞれ、1または2の整数を表す。また、m、nが2のとき、複数のR1、R3は、それぞれ同一でも、異なっていてもよい。]
 式(5)中、B3、B4は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよいが、製造が容易である観点からは、同一であることが好ましい。式(5)においては、B3、B4が、上記式(b1)~(b2)で表される基であることが好ましい。
 式(5)中、R1~R4の脂肪族炭化水素基の炭素数は、好ましくは1~5であり、より好ましくは1~4である。R1~R4の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が好ましく、より好ましくはメチル基、ブチル基である。R1~R4のアルコキシ基の炭素数は、好ましくは1~3であり、より好ましくは1~2である。R1~R4のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。R1~R4のアリールオキシ基の炭素数は、好ましくは6~9であり、より好ましくは6~8である。R1~R4のアリールオキシ基としては、フェニルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェニレンビス(メチレンオキシ)基等が挙げられる。
 M1、M2がホウ素原子である場合、R1~R4は、水酸基、炭素数1~6のアルコキシ基、または、炭素数6~10のアリールオキシ基であることが好ましく、m、nは1であることが好ましい。M1、M2がホウ素原子である場合の*-M1(R1m2、*-M2(R3n4としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。*は結合手を表す。 
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 M1、M2が錫原子である場合、R1~R4は、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、m、nは2であることが好ましい。M1、M2が錫原子である場合の*-M1(R1m2、*-M2(R3n4としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。ただし、*は結合手を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 上記化合物(5)は、本発明の高分子化合物の合成に用いる中間化合物である。この化合物(5)は、上記所定の基を有するため、経時安定性が高く、効率的に反応して本発明の高分子化合物を形成できる。化合物(5)としては、例えば、下記式で表される化合物が例示できる。また、式(5-1)~(5-32)において、錫原子上のメチル基がブチル基に置換された式(5-33)~(5-64)で表される化合物も、化合物(5)として好ましく例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
2-2.式(4)で表される化合物
 本発明は、下記式(4)で表される化合物(以下、「化合物(4)」ということがある。)を含む。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
[式(4)中、T1、T2、B1、B2は、それぞれ上記と同様の基を表す。]
 化合物(4)は、上記化合物(5)の原料である。すなわち、化合物(4)は、化合物(5)の中間体に相当する。この化合物(4)は、上記所定の基を有するため、経時安定性が高く、効率的な反応性を有する。化合物(4)としては、例えば、下記の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
2-3.式(3)で表される化合物
 本発明は、下記式(3)で表される化合物(以下、「化合物(3)」ということがある。)を含む。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060

[式(3)中、T1、T2、X1、X2は、それぞれ上記と同様の基を表す。]
 Xのハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。いずれを用いることもできるが、反応性と安定性のバランスの観点からは、ヨウ素が特に好ましい。
 上記化合物(3)は、前記化合物(4)の原料である。すなわち、化合物(3)は、化合物(6)の中間体に相当する。この化合物(3)は、上記所定の基を有するため、経時安定性が高く、有機溶媒に対する溶解度も高いことから効率的な反応性を有する。さらに、化合物(3)を用いることにより、本発明の高分子化合物に、多様な骨格や置換基を導入できる。化合物(3)としては、例えば、下記の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
 また、本発明の製造方法においては、下記式(3’)で表される化合物(以下、「化合物(3’)」ということがある。)も生成する。化合物(3’)を使用することにより、式(1)、(4)、(5)において、ベンゾビスチアゾールのベンゼン環上に存在する2か所の置換可能位置のうち1か所にのみ、B1、B2で表される基が置換した化合物を得ることができる。このような化合物は、例えば、本発明の高分子化合物の末端部分に有用である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063

[式(3’)中、T1、T2、X1は、それぞれ上記と同様の基を表す。]
 化合物(3’)としては、下記式で表される化合物を例示することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
2-4.式(2)で表される化合物
 本発明は、下記式(2)で表される化合物(以下、「化合物(2)」ということがある。)を含む。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066

[式(2)中、T1、T2は、それぞれ上記と同様の基を表す。]
 上記化合物(2)は、前記化合物(3)の原料である。すなわち、化合物(2)は、化合物(5)の中間体に相当する。この化合物(2)は、上記所定の基を有するため、経時安定性が高く、効率的な反応性を有する。さらに、化合物(2)を用いることにより、本発明の高分子化合物に、多様な骨格や置換基を導入できる。化合物(2)としては、例えば、下記の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
3.製造方法
 本発明の式(1)で表される高分子化合物は、2,6-ジヨードベンゾ[1,2-d:4,5-d’]ビスチアゾール、および、2,6-ジブロモベンゾ[1,2-d:4,5-d’]ビスチアゾールからなる群より選ばれた1の化合物を出発原料とし、式(2)で表される化合物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069

[式(2)中、T1、T2は、それぞれ上記と同様の基を表す。]
 式(3)で表される化合物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070

[式(3)中、T1、T2、X1、X2は、それぞれ上記と同様の基を表す。]
 式(4)で表される化合物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071

[式(4)中、T1、T2、B1、B2は、それぞれ上記と同様の基を表す。]
を経ることを特徴とする製造方法により製造される。
 本発明の高分子化合物の製造方法は、さらに式(5)で表される化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072

[式(5)中、T1、T2、B3、B4、R1~R4、M1、M2、m、nは、それぞれ上記と同様の基を表す。]
を経ることが好ましい。
 本発明の製造方法によれば、ベンゾビスチアゾール骨格に多様な置換基を導入することが可能であり、自由度の高い材料設計が可能となる。その結果、材料の特性(例えば、エネルギー準位、溶解性、結晶性、製膜性、吸収波長)を容易に制御できる。
3-1.第一工程
 本発明の製造方法は、下記第一工程を含むことが好ましい。
第一工程:2,6-ジヨードベンゾ[1,2-d:4,5-d’]ビスチアゾール、および、2,6-ジブロモベンゾ[1,2-d:4,5-d’]ビスチアゾールからなる群より選ばれた1の化合物に、金属触媒の存在下、式(6)および/または式(7)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073

[式(6)、(7)中、T1、T2は、それぞれ上記と同様の基を表す。R5、R6は、それぞれ独立に、水素原子、または、*-M3(R7k8を表す。R7、R8は、それぞれ独立に、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基、水酸基、炭素数1~6のアルコキシ基、または、炭素数6~10のアリールオキシ基を表す。M3は、ホウ素原子または錫原子を表す。*は結合手を表す。R7、R8は、M3とともに環を形成していてもよい。kは1または2の整数を表す。また、kが2のとき、複数のR7は、それぞれ同一でも、異なっていてもよい。]
で表される化合物を反応させて、式(2)で表される化合物を得る工程
 第一工程において、2,6-ジヨードベンゾ[1,2-d:4,5-d’]ビスチアゾール、および、2,6-ジブロモベンゾ[1,2-d:4,5-d’]ビスチアゾールからなる群より選ばれた1の化合物(以下、「2,6-ジハロゲン化ベンゾビスチアゾール」ということがある。)としては、2,6-ジヨードベンゾ[1,2-d:4,5-d’]ビスチアゾールが好ましい。
 また、2,6-ジハロゲン化ベンゾビスチアゾールと反応させる式(6)および/または(7)で表される化合物(以下、「化合物(6)」、「化合物(7)」ということがある。)としては、T1、T2がそれぞれ前記と同様の基であり、R5、R6が、水素原子、または、*-M3(R7k8である化合物が好ましい。*は結合手を表す。
 R5、R6がM3(R7k8であるときの、R7、R8の脂肪族炭化水素基の炭素数としては、好ましくは1~5であり、より好ましくは1~4である。R7、R8の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられる。R7、R8のアルコキシ基の炭素数は、好ましくは1~3であり、より好ましくは1~2である。R7、R8のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。R7、R8のアリールオキシ基の炭素数は、好ましくは6~9であり、より好ましくは6~8である。R7、R8のアリールオキシ基としては、フェニルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェニレンビス(メチレンオキシ)基が挙げられる。
 R5、R6が*-M3(R7k8であり、M3がホウ素原子である場合、R7、R8は、水酸基、炭素数1~6のアルコキシ基、または、炭素数6~10のアリールオキシ基であることが好ましく、kは1であることが好ましい。M3がホウ素原子である場合の*-M3(R7k8としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。*は結合手を表す。 
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
 R5、R6が*-M3(R7k8であり、M3が錫原子である場合、R7、R8は、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、kは2であることが好ましい。M3が錫素原子である場合の*-M3(R7k8としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。*は結合手を表す。 
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
 また、R5、R6は、T1、T2の種類に応じて適宜選択できる。例えば、T1、T2が、式(t1)、(t2)で表される基の場合、R5、R6は、水素原子であることが好ましい。また、T1、T2が、式(t3)~(t5)で表される基の場合、R5、R6は、*-M3(R7k8で表される基であることが好ましく、*-Sn(R728で表される基であることがより好ましい。
 化合物(6)、(7)としては例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
 化合物(6)、(7)は、目的とする化合物に応じて、同一でも異なっていてもよいが、副生成物の生成を抑制する観点からは、同一であることが好ましい。
 第一工程において、2,6-ジハロゲン化ベンゾビスチアゾールと化合物(6)、(7)の合計とのモル比(2,6-ジハロゲン化ベンゾビスチアゾール:化合物(6)、(7)の合計)は、一般に1:1~1:10程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:1.5~1:8が好ましく、1:2~1:6がより好ましく、1:2~1:5がさらに好ましい。
 第一工程において、2,6-ジハロゲン化ベンゾビスチアゾールと化合物(6)および/または化合物(7)を反応させる際に用いる金属触媒としては、パラジウム系触媒、ニッケル系触媒、鉄系触媒、銅系触媒、ロジウム系触媒、ルテニウム系触媒などの遷移金属触媒が挙げられる。中でも、銅系触媒、パラジウム系触媒が好ましい。
 なお、パラジウムの価数は特に限定されず、0価であっても2価であってもよい。
 前記パラジウム系触媒としては、塩化パラジウム(II)、臭化パラジウム(II)、ヨウ化パラジウム(II)、酸化パラジウム(II)、硫化パラジウム(II)、テルル化パラジウム(II)、水酸化パラジウム(II)、セレン化パラジウム(II)、パラジウムシアニド(II)、パラジウムアセテート(II)、パラジウムトリフルオロアセテート(II)、パラジウムアセチルアセトナート(II)、ジアセテートビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロビス(アセトニトリル)パラジウム(II)、ジクロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム(II)、ジクロロ[1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]パラジウム(II)、ジクロロ[1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]パラジウム(II)、ジクロロ[1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン]パラジウム(II)、ジクロロ[1,1-ビス(ジフェニルホスフィノフェロセン)]パラジウム(II)、ジクロロ[1,1-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロロメタン付加体、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)クロロホルム付加体、ジクロロ[1,3-ビス(2,6-ジイソプロピルフェニル)イミダゾール-2-イリデン](3-クロロピリジル)パラジウム(II)、ビス(トリ-tert-ブチルホスフィン)パラジウム(0)、ジクロロ[2,5-ノルボルナジエン]パラジウム(II)、ジクロロビス(エチレンジアミン)パラジウム(II)、ジクロロ(1,5-シクロオクタジエン)パラジウム(II)、ジクロロビス(メチルジフェニルホスフィン)パラジウム(II)が挙げられる。これらの触媒は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。
 前記銅系触媒としては、銅、フッ化銅(I)、塩化銅(I)、臭化銅(I)、ヨウ化銅(I)、フッ化銅(II)、塩化銅(II)、臭化銅(II)、ヨウ化銅(II)等のハロゲン化銅化合物;酸化銅(I)、硫化銅(I)、酸化銅(II)、硫化銅(II)、酢酸銅(I)、酢酸銅(II)、硫酸銅(II)等が挙げられる。
 金属触媒は、T1、T2の種類に応じて適宜選択でき、式(6)、(7)において、T1、T2が式(t1)、(t2)で表される基の場合、前記金属触媒としては、銅系触媒が好ましく、ハロゲン化銅化合物がより好ましく、ヨウ化銅(I)が最も好ましい。塩基を共存させることが好ましい。また、式(6)、(7)において、T1、T2が式(t3)~(t5)で表される基の場合、前記金属触媒としては、パラジウム系触媒が好ましく、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)クロロホルム付加体が特に好ましい。
 第一工程において、2,6-ジハロゲン化ベンゾビスチアゾールと金属触媒とのモル比(2,6-ジハロゲン化ベンゾビスチアゾール:金属触媒)は、一般に1:0.0001~1:0.5程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:0.001~1:0.4が好ましく、1:0.005~1:0.3がより好ましく、1:0.01~1:0.2がさらに好ましい。
 第一工程においては、銅系触媒、パラジウム系触媒等の金属触媒に特定の配位子を配位させてもよい。配位子としては、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリ(n-ブチル)ホスフィン、トリ(イソプロピル)ホスフィン、トリ(tert-ブチル)ホスフィン、トリ-tert-ブチルホスホニウムテトラフルオロボラート、ビス(tert-ブチル)メチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ジフェニル(メチル)ホスフィン、トリフェニスホスフィン、トリス(o-トリル)ホスフィン、トリス(m-トリル)ホスフィン、トリス(p-トリル)ホスフィン、トリス(2-フリル)ホスフィン、トリス(2-メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(3-メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(4-メトキシフェニル)ホスフィン、2-ジシクロヘキシルホスフィノビフェニル、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’-メチルビフェニル、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’,4’,6’-トリイソプロピル-1,1’-ビフェニル、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’,6’-ジメトキシ-1,1’-ビフェニル、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’-(N,N’-ジメチルアミノ)ビフェニル、2-ジフェニルホスフィノ-2’-(N,N’-ジメチルアミノ)ビフェニル、2-(ジ-tert-ブチル)ホスフィノ-2’-(N,N’-ジメチルアミノ)ビフェニル、2-(ジ-tert-ブチル)ホスフィノビフェニル、2-(ジ-tert-ブチル)ホスフィノ-2’-メチルビフェニル、1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、1,2-ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)エタン、1,3-ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)プロパン、1,4-ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)ブタン、1,2-ビスジフェニルホスフィノエチレン、1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、1,2-エチレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン、2,2’-ビピリジル、1,3-ジフェニルジヒドロイミダゾリリデン、1,3-ジメチルジヒドロイミダゾリリデン、ジエチルジヒドロイミダゾリリデン、1,3-ビス(2,4,6-トリメチルフェニル)ジヒドロイミダゾリリデン、1,3-ビス(2,6-ジイソプロピルフェニル)ジヒドロイミダゾリリデン、1,10-フェナントロリン、5,6-ジメチル-1,10-フェナントロリン、バトフェナントロリンが挙げられる。配位子は、一種のみを用いてもよく、二種以上を用いてもよい。中でも、トリフェニルホスフィン、トリス(o-トリル)ホスフィン、トリス(2-フリル)ホスフィンが好ましい。
 第一工程において、金属触媒に配位子を配位させる場合、金属触媒と配位子とのモル比(金属触媒:配位子)は、一般に1:0.5~1:10程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:1~1:8が好ましく、1:1~1:7がより好ましく、1:1~1:5がさらに好ましい。
 第一工程においては、2,6-ジハロゲン化ベンゾビスチアゾールに、金属触媒の存在下、化合物(6)および/または化合物(7)を反応させる際には、塩基を共存させてもよい。特に、式(6)、(7)において、T1、T2が式(t1)、(t2)で表される基である場合、塩基を共存させることが好ましい。また、式(6)、(7)において、T1、T2が式(t3)~(t5)で表される基である場合、R5、R6の種類により塩基の共存の有無を決定することができる。例えば、R5、R6が*-M3(R7k8で表される基であって、M3がホウ素原子であるときは、塩基を共存させることが好ましく、M3が錫原子であるときは、塩基を共存させなくともよい。
 塩基としては、水素化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属塩化合物;水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム等のアルカリ土類金属塩化合物;リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、リチウムイソプロポキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムイソプロポキシド、リチウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブトキシド、カリウムtert-ブトキシド、リチウムtert-アミルアルコキシド、ナトリウムtert-アミルアルコキシド、カリウムtert-アミルアルコキシド等のアルコキシアルカリ金属化合物;水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の水素化金属化合物等が挙げられる。中でも、塩基としては、アルコキシアルカリ金属化合物が好ましく、リチウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブトキシド、カリウムtert-ブトキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムがより好ましい。
 第一工程において、2,6-ジハロゲン化ベンゾビスチアゾールと塩基とのモル比(2,6-ジハロゲン化ベンゾビスチアゾール:塩基)は、一般に1:1~1:10程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:1.5~1:8が好ましく、1:1.8~1:6がより好ましく、1:2~1:5がさらに好ましい。
 第一工程において、2,6-ジハロゲン化ベンゾビスチアゾールに、金属触媒の存在下、化合物(6)および/または化合物(7)を反応させる溶媒としては、反応に影響を及ぼさない限り特に限定されることはなく、エーテル系溶媒、芳香族系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒等を用いることができる。前記エーテル系溶媒としては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル、t-ブチルメチルエーテル、ジオキサンが挙げられる。前記芳香族系溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンが挙げられる。前記エステル系溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルが挙げられる。前記炭化水素系溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンが挙げられる。前記ハロゲン系溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、ジクロロプロパンが挙げられる。前記ケトン系溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが挙げられる。前記アミド系溶媒としては、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジメチル3,4,5,6-テトラヒドロ-(1H)-ピリミジンが挙げられる。また、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、スルホラン等のスルホン系溶媒を用いることができる。
 これらの中でも、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N-ジメチルホルムアミドが特に好ましい。
 第一工程における溶媒の使用量としては、2,6-ジハロゲン化ベンゾビスチアゾールの1gに対して、一般に1mL以上、50mL以下程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から5mL以上、40mL以下が好ましく、8mL以上、35mL以下がより好ましく、10mL以上、30mL以下がさらに好ましい。
 第一工程では、反応温度は特に限定されないが、反応収率を高める観点から0℃以上、200℃以下であることが好ましく、30℃以上、180℃以下であることがより好ましく、40℃以上、150℃以下であることがさらに好ましい。
3-2.第二工程
 本発明の製造方法は、下記第二工程を含むことが好ましい。
第二工程:式(2)で表される化合物に塩基とハロゲン化試薬とを反応させて、式(3)で表される化合物を得る工程
 第二工程において、化合物(2)と反応させる塩基としては、例えば、アルキルリチウム、アルキル金属アミド、アルキルマグネシウム、および、マグネシウム錯体、ならびに、水素化アルカリ金属などが挙げられる。
 前記アルキルリチウムとしては、n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウムが挙げられる。前記アルキル金属アミドとしては、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムジエチルアミド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド、カリウムビス(トリメチルシリル)アミド、リチウム-2,2,6,6-テトラメチルピペリジド、リチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミドが挙げられる。前記アルキルマグネシウム、および、マグネシウム錯体としては、tert-ブチルマグネシウムクロライド、エチルマグネシウムクロライド、2,2,6,6-テトラメチルピペリジニルマグネシウムクロリド、リチウムクロリド錯体が挙げられる。前記水素化アルカリ金属としては、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムが挙げられる。中でも、位置選択性の観点から、アルキル金属アミドであることが好ましく、n-ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドが特に好ましい。
 第二工程において、化合物(2)と塩基とのモル比(化合物(2):塩基)は、一般に1:1.8~1:3.0程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:1.9~1:2.6が好ましく、1:2.0~1:2.4がより好ましく、1:2.0~1:2.2がさらに好ましい。
 第二工程において、塩基とともに化合物(2)と反応させるハロゲン化試薬としては、ハロゲン分子やN-ハロゲン化スクシンイミドが挙げられる。ハロゲン分子としては、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。N-ハロゲン化スクシンイミドとしては、N-クロロスクシンイミド、N-ブロモスクシンイミド、N-ヨードスクシンイミドが挙げられる。入手容易性や反応性等の観点から、ハロゲン分子が好ましく、ヨウ素が特に好ましい。
 第二工程において、化合物(2)とハロゲン化試薬とのモル比(化合物(2):ハロゲン化試薬)は、一般に1:1.5~1:20.0程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:1.7~1:17.0が好ましく、1:1.9~1:15.0がより好ましく、1:2.0~1:10.0がさらに好ましい。
 塩基とハロゲン化試薬のモル比(塩基:ハロゲン化試薬)は、例えば1:0.5~1:2.0程度であり、1:0.6~1:1.7が好ましく、1:0.7~1:1.5がより好ましく、1:0.8~1:1.2がさらに好ましい。
 第二工程において、塩基とハロゲン化試薬は、同時に反応させてもよいが、反応効率の観点から、まず塩基性化合物を反応させ、次いでハロゲン化試薬とを反応させることが好ましい。
 第二工程において、化合物(2)と塩基とハロゲン化試薬とを反応させる溶媒としては、特に限定されないが、エーテル系溶媒、および、炭化水素系溶媒を用いることができる。エーテル系溶媒としては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル、t-ブチルメチルエーテル、ジオキサンが挙げられる。炭化水素系溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレンが挙げられる。中でも、エーテル系溶媒が好ましく、テトラヒドロフランが特に好ましい。溶媒は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。
 第二工程における溶媒の使用量としては、化合物(2)の1gに対して、一般に3mL以上、150mL程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から5mL以上、120mL以下が好ましく、8mL以上、100mL以下がより好ましく、10mL以上、80mL以下がさらに好ましい。
 第二工程において、化合物(2)に塩基とハロゲン化試薬とを反応させる温度は、副生成物の生成を抑制する観点から、室温以下であることが好ましく、-30℃以下であることがより好ましく、-35℃以下であることがさらに好ましい。
3-3.第三工程
 本発明の製造方法は、下記第三工程を含むことが好ましい。
第三工程:式(3)で表される化合物に、金属触媒の存在下、下記式(8)および/または式(9)で表される化合物を反応させて、式(4)で表される化合物を得る工程
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078

[式(8)、(9)中、B1、B2は、それぞれ上記と同様の基を表す。R9~R12は、それぞれ独立に、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基、水酸基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数6~10のアリール基、または、炭素数6~10のアリールオキシ基を表す。M4、M5は、ホウ素原子、錫原子、または、ケイ素原子を表す。R9、R10は、M4とともに環を形成していてもよく、R11、R12は、M5とともに環を形成していてもよい。p、qは1または2の整数を表す。pが2のとき、複数のR9は、それぞれ同一でも、異なっていてもよい。また、qが2のとき、複数のR11は、それぞれ同一でも、異なっていてもよい。]
 第三工程において、化合物(3)と反応させる式(8)および/または(9)で表される化合物(以下、「化合物(8)」、「化合物(9)」ということがある。)としては、B1、B2がそれぞれ前記と同様の基である化合物が好ましい。また、上記化合物(8)、(9)のうち、*-M4(R9p10、*-M5(R11q12としては、第一工程において用いる化合物(6)、(7)のR11、R12が*-M3(R13k14である場合に例示した基、および、式(1)~(t5)中、R15~R17、R15'が*-Si(R183である場合に例示した基と同様の基を好ましく例示することができる。
 中でも、M4、M5がホウ素原子である場合の*-M4(R9p10、*-M5(R11q12としては、例えば、下記式で表される基を好ましく用いることができる。*は結合手を表す。 
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
 また、M4、M5が錫素原子である場合の*-M4(R9p10、*-M5(R11q12としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。*は結合手を表す。 
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
 M4、M5がケイ素原子である場合、*-M4(R9p10、*-M5(R11q12としては、アルキルシリル基が好ましく、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基が特に好ましい。
 化合物(8)、(9)における*-M4(R9p10、*-M5(R11q12は、式(8)、(9)のB1、B2に応じて適宜選択することができる。B1、B2が、炭化水素基で置換されていてもよいチオフェン環(好ましくは、式(b1)で表される基)、または、炭化水素基で置換されていてもよいチアゾール環(好ましくは、式(b2)で表される基)である場合、M4、M5は、ホウ素原子または錫原子であることが好ましい。また、B1、B2が、エチニレン基(好ましくは、式(b3)で表される基)である場合、M4、M5は、ケイ素原子であることが好ましい。
 化合物(8)、(9)としては、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
 化合物(8)、(9)は、目的とする化合物に応じて、同一でも異なっていてもよいが、副生成物の生成を抑制する観点からは、同一であることが好ましい。
 第三工程において、化合物(3)と化合物(8)、(9)の合計とのモル比(化合物(3):化合物(8)、(9)の合計)は、一般に1:1~1:10程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:1.5~1:8が好ましく、1:2~1:6がより好ましく、1:2~1:5がさらに好ましい。
 第三工程において、化合物(3)と化合物(8)および/または(9)を反応させる際に用いる金属触媒としては、第一工程で用いられる金属触媒として例示したものと同様のものを好ましく使用することができ、パラジウム系触媒、ニッケル系触媒、鉄系触媒、銅系触媒、ロジウム系触媒、ルテニウム系触媒などの遷移金属触媒が挙げられる。第三工程において、用いられる金属触媒は、パラジウム系触媒が好ましく、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)クロロホルム付加体が特に好ましい。また、金属触媒は、式(8)、(9)のB1、B2が、エチニレン基(好ましくは、式(b3)で表される基)である場合、銅系触媒を用いることも好ましく、銅系触媒の中では、ヨウ化銅(II)が特に好ましい。
 第三工程において、化合物(3)と金属触媒とのモル比(化合物(3):金属触媒)は、一般に1:0.0001~1:0.5程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:0.001~1:0.4が好ましく、1:0.005~1:0.3がより好ましく、1:0.01~1:0.2がさらに好ましい。
 また、第三工程においては、銅系触媒、パラジウム系触媒等の金属触媒に特定の配位子を配位させてもよく、配位子としては、第一工程において用いられる配位子と同様のものを好ましく使用することができ、トリフェニルホスフィン、トリス(o-トリル)ホスフィン、トリス(2-フリル)ホスフィンが好ましい。第三工程において、金属触媒に配位子を配位させる場合、金属触媒と配位子とのモル比(金属触媒:配位子)は、一般に1:0.5~1:10程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:1~1:8が好ましく、1:1~1:7がより好ましく、1:1~1:5がさらに好ましい。
 第三工程においては、化合物(3)に、金属触媒の存在下、化合物(8)および/または化合物(9)を反応させる際には、塩基を共存させてもよく、M4、M5の種類により塩基の共存の有無を決定することができる。例えば、M4、M5がホウ素原子、ケイ素原子であるときは、塩基を共存させることが好ましく、M4、M5が錫原子であるときは、塩基を共存させなくともよい。
 塩基としては、第一工程において用いられる塩基として例示したものと同様のものを好ましく使用することができる。また、塩基としては、第一工程において用いられる塩基のほか、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン、トリアリルアミン、ピリジン、2-メチルピリジン、3-メチルピリジン、4-メチルピリジン、N-メチルモルホリン、N,N-ジメチルシクロヘキシルアミン、N,N-ジメチルアニリン、N-メチルイミダゾール、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセ-7-エン等の3級アミン;ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジオクチルアミン、ジアリルアミン等の2級アミン;メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、オクチルアミン、アリルアミン等の1級アミン;等のアミンが挙げられる。
 塩基は、M4、M5の種類により選択することができ、M4、M5がホウ素原子であるときは、第一工程において用いられる塩基として例示した塩基が好ましく、より好ましくは、アルコキシアルカリ金属化合物であり、さらに好ましくはリチウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブトキシド、カリウムtert-ブトキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムである。またM4、M5がケイ素原子であるときは、塩基としては、アミンが好ましく、第2級アミン、第3級アミンがより好ましく、特に好ましくはジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミンである。
 第三工程において、化合物(3)と塩基とのモル比(化合物(3):塩基)は、一般に1:1~1:50程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:1.5~1:40が好ましく、1:1.8~1:35がより好ましく、1:2~1:30がさらに好ましい。また、M4、M5がホウ素原子である場合、化合物(3)と塩基とのモル比(化合物(3):塩基)は、1:1~1:10が好ましく、1:1.5~1:8がより好ましく、1:1.8~1:6がさらに好ましく、1:2~1:5が特に好ましい。M4、M5がケイ素原子である場合、化合物(3)と塩基とのモル比(化合物(3):塩基)は、1:1~1:50が好ましく、より好ましくは1:5~1:40であり、さらに好ましくは1:8~1:35であり、特に好ましくは1:10~:35である。
 第三工程において、化合物(3)に、金属触媒の存在下、化合物(8)および/または化合物(9)を反応させる溶媒としては、第一工程において用いられる溶媒と同様のものを好ましく使用することができる。中でも、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N-ジメチルホルムアミドが特に好ましい。
 第三工程における溶媒の使用量としては、化合物(3)の1gに対して、一般に1mL以上、50mL以下程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から5mL以上、40mL以下が好ましく、8mL以上、35mL以下がより好ましく、10mL以上、30mL以下がさらに好ましい。
 また、M4、M5がケイ素原子である場合、溶媒と塩基(好ましくはアミン)の合計の使用量は、化合物(3)の1gに対して、一般に1mL以上、50mL以下程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から5mL以上、40mL以下が好ましく、8mL以上、35mL以下がより好ましく、10mL以上、30mL以下がさらに好ましい。さらに、M4、M5がケイ素原子である場合、溶媒の使用量は、溶媒と塩基の合計100体積%中、例えば100体積%以下であり、より好ましくは80体積%以下、さらに好ましくは60体積%以下である。さらに、溶媒の使用量は、溶媒と塩基の合計100体積%中、40体積%以下であってもよく、より好ましくは20体積%以下であってもよく、0体積%、すなわち、全く使用しなくともよい。
 第三工程では、反応温度は特に限定されないが、反応収率を高める観点から0℃以上、200℃以下であることが好ましく、30℃以上、180℃以下であることがより好ましく、40℃以上、150℃以下であることがさらに好ましい。
 また、第三工程において、式(8)、(9)のB1、B2がエチニレン基(好ましくは、式(b3)で表される基)であり、M4、M5がケイ素原子である場合、化合物(3)と化合物(8)、(9)を反応させて得られた化合物には、下記反応式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
[上記反応式中、T1、T2、R9~R12、X1、X2はそれぞれ上記と同様の基を表す。]
に示すように、一般式(8)、(9)で表される化合物における*-Si(R9p10、*-Si(R11q12に由来するオルガノシリル基が残存している(*は結合手を表す)。したがって、本発明の製造方法においては、さらに、脱オルガノシリル基工程を含むことが好ましい。脱オルガノシリル基工程としては、以下の脱オルガノシリル基工程1、または、脱オルガノシリル基工程2が好ましい。
 脱オルガノシリル基工程1:*-Si(R9p10、*-Si(R11q12に由来する基を有する化合物に、アルコール系溶媒中、塩基を反応させて、*-Si(R9p10、*-Si(R11q12に由来する基をを脱離する工程
 脱オルガノシリル基工程2:*-Si(R9p10、*-Si(R11q12に由来する基を有する化合物に、フッ素化合物を反応させて、*-Si(R9p10、*-Si(R11q12に由来する基をを脱離する工程
 本発明の製造方法において、脱オルガノシリル基工程は、化合物(3)と化合物(8)、(9)を反応させて得られた化合物に対して行ってもよく、また、後述するカップリング工程で得られた高分子化合物に対して行ってもよい。すなわち、脱オルガノシリル基工程は、第三工程とカップリング工程の間で行ってもよく、カップリング工程の後で行ってもよい。なお、B1、B2がエチニレン基(好ましくは、式(b3)で表される基)である場合、本発明の製造方法において、第四工程は行わなくてよい。
3-3-1.脱オルガノシリル基工程1
 脱オルガノシリル基工程1において用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化セシウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属塩化合物;水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム等のアルカリ土類金属塩化合物;リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、リチウムイソプロポキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムイソプロポキシド、リチウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブトキシド、カリウムtert-ブトキシド、リチウムtert-アミルアルコキシド、ナトリウムtert-アミルアルコキシド、カリウムtert-アミルアルコキシド等のアルコキシアルカリ金属化合物が挙げられる。中でも、塩基としては、アルコキシアルカリ金属化合物が好ましく炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムがより好ましい。
 脱オルガノシリル基工程1において、化合物(3)と化合物(8)、(9)を反応させて得られた化合物と塩基のモル比(化合物:塩基)は、一般に1:0.01~1:10程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:0.03~1:8が好ましく、1:0.05~1:6がより好ましく、1:0.1~1:5がさらに好ましい。塩基は、触媒と同等のモル量であっても反応が進行する。
 脱オルガノシリル基工程1において用いられるアルコール系溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、tert-ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、2-エチルヘキサノール等が挙げられ、メタノール、エタノールが特に好ましい。脱オルガノシリル基工程1では、必要に応じて、第一工程において用いられる溶媒と同様のものを併用してもよく、このような溶媒としては、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン等の芳香族系溶媒、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒が挙げられる。このような溶媒を使用することで、前記*-Si(R9p10、*-Si(R11q12に由来する基を有する化合物が溶解しやすくなるため好適である。
 脱オルガノシリル基工程1において、アルコール系溶媒の使用量としては、化合物(3)と化合物(8)、(9)を反応させて得られた化合物の1gに対して、一般に1mL以上、50mL以下程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から5mL以上、40mL以下が好ましく、8mL以上、35mL以下がより好ましく、10mL以上、30mL以下がさらに好ましい。
 脱オルガノシリル基工程1においては、反応温度は特に限定されないが、反応収率を高める観点から0℃以上、200℃以下であることが好ましく、10℃以上、180℃以下であることがより好ましく、20℃以上、150℃以下であることがさらに好ましい。
3-3-2.脱オルガノシリル基工程2
 脱オルガノシリル基工程2において用いられるフッ素化合物としては、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、フッ化アンモニウム、テトラメチルアンモニウムフルオリド、テトラエチルアンモニウムフルオリド、テトラプロピルアンモニウムフルオリド、テトラブチルアンモニウムフルオリド、テトラペンチルアンモニウムフルオリド、テトラヘキシルアンモニウムフルオリド等が挙げられ、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、テトラエチルアンモニウムフルオリド、テトラブチルアンモニウムフルオリドが好ましい。
 脱オルガノシリル基工程2において、化合物(3)と化合物(8)、(9)を反応させて得られた化合物とフッ素化合物のモル比(化合物:フッ素化合物)は、一般に1:1~1:10程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:1.5~1:8が好ましく、1:1.8~1:6がより好ましく、1:2~1:5がさらに好ましい。
 脱オルガノシリル基工程2において用いられる溶媒としては、第一工程において用いられる溶媒と同様のものを好ましく使用することができる。中でも、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N-ジメチルホルムアミドが特に好ましい。
 脱オルガノシリル基工程2において、溶媒の使用量としては、化合物(3)と化合物(8)、(9)を反応させて得られた化合物の1gに対して、一般に1mL以上、50mL以下程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から5mL以上、40mL以下が好ましく、8mL以上、35mL以下がより好ましく、10mL以上、30mL以下がさらに好ましい。
 脱オルガノシリル基工程2においては、反応温度は特に限定されないが、反応収率を高める観点から0℃以上、200℃以下であることが好ましく、10℃以上、180℃以下であることがより好ましく、20℃以上、150℃以下であることがさらに好ましい。
3-4.第四工程
 本発明の製造方法は、下記第四工程を含むことが好ましい。
 第四工程:式(4)で表される化合物に、塩基とハロゲン化錫化合物とを反応させて、式(5)で表される化合物を得る工程 なお、本発明において、化合物(4)が、式(4)において、B1、B2が炭化水素基で置換されていてもよいチオフェン環(好ましくは、式(b1)で表される基)、または、炭化水素基で置換されていてもよいチアゾール環(好ましくは、式(b2)で表される基)である場合、第四工程を含むことが好ましい。
 第四工程において、化合物(4)と反応させる塩基としては、第二工程で例示した塩基がいずれも使用でき、これらの中でも、アルキル金属アミドが好ましく、リチウムジイソプロピルアミドが特に好ましい。
 第四工程において、化合物(4)と塩基とのモル比(化合物(4):塩基)は、一般に1:1~1:5程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:1.1~1:4が好ましく、1:1.5~1:3がより好ましく、1:1.8~1:2.5がさらに好ましい。
 第四工程において、塩基とともに化合物(4)と反応させるハロゲン化錫化合物としては、ハロゲン化アルキル錫化合物、ハロゲン化シクロアルキル錫化合物、ハロゲン化アリール錫化合物が挙げられる。ハロゲン化アルキル錫化合物としては、トリエチル錫クロリド、トリプロピル錫クロリド、トリブチル錫クロリド、トリメチル錫ブロミド、トリエチル錫ブロミド、トリプロピル錫ブロミド、トリブチル錫ブロミドが挙げられる。ハロゲン化シクロアルキル錫化合物としては、トリシクロヘキシル錫クロリド、トリシクロヘキシル錫ブロミドが挙げられる。ハロゲン化アリール錫化合物としては、トリフェニル錫クロリド、トリベンジル錫クロリド、トリフェニル錫ブロミド、トリベンジル錫ブロミドが挙げられる。これらの中でも、ハロゲン化アルキル錫化合物が好ましく、トリメチル錫クロリド、トリブチル錫クロリドがより好ましい。
 第四工程において、化合物(4)とハロゲン化シラン化合物とのモル比(化合物(4):ハロゲン化シラン化合物)は、一般に1:1~1:5程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:1.1~1:4が好ましく、1:1.5~1:3がより好ましく、1:1.8~1:2.5がさらに好ましい。
 塩基とハロゲン化錫化合物とのモル比(塩基:ハロゲン化錫化合物)は、例えば1:0.5~1:2.0程度であり、1:0.6~1:1.7が好ましく、1:0.7~1:1.5がより好ましく、1:0.8~1:1.2がさらに好ましい。
 塩基とハロゲン化錫化合物とは、同時に化合物(4)と反応させてもよいが、反応収率の観点から、まず化合物(4)に塩基を反応させ、次いでハロゲン化錫化合物を反応させることが好ましい。第四工程において、化合物(4)と塩基を反応させて次いでハロゲン化錫化合物を加える温度は副生成物の生成を抑制する観点から、室温以下であることが好ましく、0℃以下であることがより好ましい。
 第四工程において、化合物(4)に塩基とハロゲン化錫化合物とを反応させる溶媒としては、特に限定されないが、エーテル系溶媒、および、炭化水素系溶媒などを用いることができる。前記エーテル系溶媒としては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル、t-ブチルメチルエーテル、ジオキサンが挙げられる。炭化水素系溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレンが挙げられる。これらの中でも、テトラヒドロフランが好ましい。溶媒は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。
 第四工程における溶媒の使用量としては、化合物(4)の1gに対して、一般に1mL以上、70mL以下程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から5mL以上、60mL以下が好ましく10mL以上、50mLがより好ましく、20mL以上、45mL以下がさらに好ましい。
3-5.カップリング反応
 さらに、カップリング反応によって、本発明の構造単位と、本発明の構造単位と組合せてドナー-アクセプター型高分子化合物を形成する構造単位とを、交互に配置することによって、本発明の高分子化合物を製造することができる。
 カップリング反応は、金属触媒の存在下、化合物(4)または化合物(5)と、下記式(C1)~(C31)で表される化合物のいずれかとを反応させることによって行うことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
 [式(C1)~(C31)中、Rは、R30~R60は、それぞれ独立に、R13~R17、R19~R20の炭素数6~30の炭化水素基と同様の基を表し、A30、A31は、それぞれ独立に、T1、T2と同様の基を表し、Yはハロゲン原子を表す。]
 なお、上記式(C1)~(C18)で表される化合物は、アクセプター性ユニットを形成する化合物であり、式(C20)~(C31)で表される化合物は、ドナー性ユニットを形成する化合物である。式(C19)で表される化合物は、A30、A31の種類により、アクセプター性ユニットを形成することもあれば、ドナー性ユニットを形成することもある。
 カップリング反応に供される本発明の化合物は、式(4)、(5)におけるB1、B2の種類に応じて選択でき、B1、B2が、炭化水素基で置換されていてもよいチオフェン環(好ましくは、式(b1)で表される基)、または、炭化水素基で置換されていてもよいチアゾール環(好ましくは、式(b2)で表される基)である場合、化合物(5)を用いることが好ましく、B1、B2が、エチニレン基(好ましくは、式(b3)で表される基)である場合、化合物(4)を用いることが好ましい。
 化合物(4)または化合物(5)と、式(C1)~(C26)で表される化合物のいずれかとのモル比は、1:99~99:1の範囲であることが好ましく、20:80~80:20の範囲であることが好ましく、40:60~60:40の範囲であることが好ましい。
 カップリング用の金属触媒としては、遷移金属触媒が好ましく、遷移金属触媒としては、パラジウム系触媒、ニッケル系触媒、鉄系触媒、銅系触媒、ロジウム系触媒、ルテニウム系触媒などが挙げられる。中でも、パラジウム系触媒が好ましい。パラジウム系触媒のパラジウムは、0価でも2価でもよい。
 パラジウム系触媒としては、第一工程で例示したパラジウム系触媒がいずれも使用でき、これらの触媒は一種を単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いても良い。これらの中でも、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)クロロホルム付加体が特に好ましい。
 カップリング工程において、式(4)または(5)で表される化合物と金属触媒とのモル比(化合物(4)または(5):金属触媒)は、一般に1:0.0001~1:0.5程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:0.001~1:0.3が好ましく、1:0.005~1:0.2がより好ましく、1:0.01~1:0.1がさらに好ましい。
 カップリング反応の際には、金属触媒に特定の配位子を配位させてもよい。配位子としては、第一工程で例示した配位子がいずれも使用でき、これらの配位子のいずれかが配位した触媒を反応に用いても良い。配位子は一種を単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いても良い。中でも、トリフェニルホスフィン、トリス(o-トリル)ホスフィン、トリス(2-メトキシフェニル)ホスフィンが好ましい。
 カップリング工程において、金属触媒に配位子を配位させる場合、金属触媒と配位子とのモル比(金属触媒:配位子)は、一般に1:0.5~1:10程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:1~1:8が好ましく、1:1~1:7がより好ましく、1:1~1:5がさらに好ましい。
 カップリング反応において、化合物(4)または化合物(5)と、式(C1)~(C26)で表される化合物のいずれかとを反応させる溶媒としては、反応に影響を及ぼさない限り特に限定されず、従来公知の溶媒を用いることができ、例えば、エーテル系溶媒、芳香族系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒等を用いることができる。前記エーテル系溶媒としては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、ジオキサンが挙げられる。前記芳香族系溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、テトラリンが挙げられる。前記エステル系溶媒としては酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルが挙げられる。前記炭化水素系溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカリンが挙げられる。前記ハロゲン系溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、ジクロロプロパンが挙げられる。前記ケトン系溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが挙げられる。アミド系溶媒としては、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジメチル-3,4,5,6-テトラヒドロ-(1H)-ピリミジノンが挙げられる。その他、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、スルホラン等のスルホン系溶媒を用いることができる。これらの中でも、テトラヒドロフラン、トルエン、クロロベンゼン、N,N-ジメチルホルムアミドが好ましく、クロロベンゼンが特に好ましい。溶媒は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。
 カップリング工程において、化合物(4)または化合物(5)と式(C1)~(C26)で表される化合物の合計1gに対する溶媒の使用量は、一般に1mL以上、150mL以下程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から5mL以上、100mL以下が好ましく、8mL以上、90mL以下がより好ましく、10mL以上、80mL以下がさらに好ましい。
 本願は、2014年2月14日に出願された日本国特許出願第2014-026951号に基づく優先権の利益を主張するものである。2014年2月14日に出願された日本国特許出願第2014-026951号の明細書の全内容が、本願に参考のため援用される。
 以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。なお、以下においては、特に断りのない限り、「%」は「質量%」を意味する。
 実施例で用いた測定方法は、下記の通りである。
(NMRスペクトル測定)
 ベンゾビスチアゾール化合物について、NMRスペクトル測定装置(Agilent社(旧Varian社)製、「400MR」、および、Bruker社製、「AVANCE 500」)を用いて、NMRスペクトル測定を行った。
(高分解能マススペクトル測定)
 ベンゾビスチアゾール化合物について、質量分析装置(Bruker Daltnics社製、「MicrOTOF」)を用いて、高分解能マススペクトル測定を行った。
(ゲル浸透クロマトグラフィ(GPC))
 ベンゾビスチアゾール化合物について、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)を用い、分子量測定を行った。測定に際しては、ベンゾビスチアゾール化合物を0.5g/Lの濃度となるように移動相溶媒(クロロホルム)に溶解して、下記条件で測定を行い、ポリスチレンを標準試料として作成した較正曲線に基づいて換算することによって、ベンゾビスチアゾール化合物の数平均分子量、重量平均分子量を算出した。測定におけるGPC条件は、下記の通りである。
移動相:クロロホルム流速:0.6mL/min
装置:HLC-8320GPC(東ソー社製)
カラム:TSKgel(登録商標)、SuperHM-H’2 + TSKgel(登録商標)、SuperH2000(東ソー社製)
IRスペクトル
 ベンゾビスチアゾール化合物について、赤外分光装置(JASCO社製、「FT/IR-6100」)を用い、IRスペクトル測定を行った。
紫外可視吸収スペクトル
 0.03g/Lの濃度になる様に、得られたベンゾビスチアゾール化合物をクロロホルムに溶解し、紫外・可視分光装置(島津製作所社製、「UV-2450」、「UV-3150」)、および、光路長1cmのセルを用いて紫外可視吸収スペクトル測定を行った。
融点測定
 ベンゾビスチアゾール化合物について、融点測定装置(Buchi社製、「M-560」)を用い、融点測定を行った。
イオン化ポテンシャル測定
 ガラス基板上にベンゾビスチアゾール化合物を50nm~100nmの厚みになるように成膜した。この膜について、常温常圧下、紫外線光電子分析装置(理研計器社製、「AC-3」)によりイオン化ポテンシャルを測定した。
実施例1
2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-DMOTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
 100mLフラスコに2,6-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-DI、3g、6.76mmol)、トリブチル[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]スタンナン(DMOT-Sn、12.1g、22.6mmol)、トリス(2-フリル)ホスフィン(188mg、0.81mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(420mg、0.41mmol)、およびN,N-ジメチルホルムアミド(60mL)を加えて120℃で21時間反応した。反応終了後、室温まで冷却した後に水を加えクロロホルムで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム/ヘキサン=1/1)で精製することで、2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-DMOTH)が2.0g、黄色固体として得られた(収率46%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 8.38 (s, 2H), 7.50 (d, J = 3.8 Hz, 2H), 6.84 (d, J= 3.8 Hz, 2H), 2.89 (m, 4H), 1.76 (m, 2H), 1.54 (m, 6H), 1.33 (m, 6H), 1.15 (m, 6H), 0.92 (d, J= 5.6 Hz, 6H), 0.87 (d, J = 6.4 Hz, 12H).
実施例2
2,6-ビス[5-(2-エチルヘキシル)チオフェン-2-イル]ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-EHTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
 100mLフラスコに2,6-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-DI、2.7g、6.03mmol)、トリブチル[5-(2-エチルヘキシル)チオフェン-2-イル]スタンナン(EHT-Sn、10.2g、21.11mmol)、トリス(2-フリル)ホスフィン(140mg、0.60mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(156mg、0.15mmol)、およびN,N-ジメチルホルムアミド(55mL)を加えて120℃で22時間反応した。反応終了後、室温まで冷却した後に水を加えクロロホルムで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム/ヘキサン=1/1)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-エチルヘキシル)チオフェン-2-イル]ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-EHTH、が1.38g、薄黄色固体として得られた(収率39%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 8.39 (s, 2H), 7.53 (d, J = 3.8 Hz, 2H), 6.83 (d, J= 3.8 Hz, 2H), 2.81 (m, 4H), 1.63 (m, 2H), 1.38 (m, 4H), 1.31 (m, 12H), 0.91 (t, J = 6.4 Hz, 6H), 0.88 (t, J = 6.4 Hz, 6H).
実施例3
2,6-ビス[5-(2-ブチルオクチル)チオフェン-2-イル]ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-BOTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
 50mLフラスコに2,6-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-DI、0.86g、1.93mmol)、トリブチル[5-(2-ブチルオクチル)チオフェン-2-イル]スタンナン(BOT-Sn、3.4g、6.37mmol)、トリス(2-フリル)ホスフィン(72mg、0.31mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(8mg、0.08mol)、およびN,N-ジメチルホルムアミド(20mL)を加えて120℃で24時間反応した。反応終了後、室温まで冷却した後に水を加えクロロホルムで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム/ヘキサン=1/1)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-ブチルオクチル)チオフェン-2-イル]ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-BOTH)が0.68g、薄黄色固体として得られた(収率51%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 8.42(s, 2H), 7.59 (d, J = 3.8 Hz, 2H), 6.82 (d, J= 3.8 Hz, 2H), 2.81 (m, 4H), 1.66 (m, 2H), 1.37-1.24 (m, 32H), 0.91 (t, J = 6.4 Hz, 6H), 0.88 (t, J = 6.4 Hz, 6H).
実施例4
2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-HDTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
 300mLフラスコに2,6-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-DI、5.2g、11.7mmol)、トリブチル[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]スタンナン(HDT-Sn、23.2g、38.6mmol)、トリス(2-フリル)ホスフィン(443mg、1.87mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(490mg、0.47mol)、およびN,N-ジメチルホルムアミド(115mL)を加えて120℃で23時間反応した。反応終了後、室温まで冷却した後に水を加えクロロホルムで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム/ヘキサン=1/1)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-HDTH)が5.62g、薄黄色固体として得られた(収率60%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 8.39 (s, 2H), 7.53 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 6.81 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 2.81 (m, 4H), 1.66 (m, 2H), 1.37-1.24 (m, 48H), 0.90 (t, J = 6.4 Hz, 6H), 0.88 (t, J = 6.4 Hz, 6H).
実施例5
2,6-ビス[5-(2-デシルテトラデシル)チオフェン-2-イル]ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-TDTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
 200mLフラスコに2,6-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-DI、5.2g、11.6mmol)、トリブチル[5-(2-ドデシルテトラデシル)チオフェン-2-イル]スタンナン(TDT-Sn、60.8g、38.0mmol)、トリス(2-フリル)ホスフィン(448mg、2.09mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(493mg、0.46mol)、およびN,N-ジメチルホルムアミド(112mL)を加えて120℃で23時間反応した。反応終了後、室温まで冷却した後に水を加えクロロホルムで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム/ヘキサン=1/1)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-デシルテトラデシル)チオフェン-2-イル]ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-TDTH)が6.12g、薄黄色固体として得られた(収率51%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 8.40 (s, 2H), 7.56 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 6.81 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 2.80 (m, 4H), 1.69 (m, 2H), 1.35-1.20 (m, 80H), 0.87 (t, J = 6.4 Hz, 6H), 0.86 (t, J = 6.4 Hz, 6H).
実施例6
2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-DMOTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
 50mLフラスコに2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-DMOTH、1.4g、2.12mmol)およびテトラヒドロフラン(27mL)を加えて-40℃に冷却した後にリチウムジイソプロピルアミド(2M溶液、2.3mL、4.66mmol)を滴下して30分攪拌した。次いで、ヨウ素(1.6g、6.36mmol)を加えた後に室温で2時間反応した。反応終了後、10%亜硫酸水素ナトリウムを加えクロロホルムで抽出して、得られた有機層を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム/ヘキサン=1/1)で精製することで、2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-DMOTH)が1.32g、黄色固体として得られた(収率70%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ7.51 (d, J = 3.8 Hz, 2H), 6.83 (d, J= 3.8 Hz, 2H), 2.88 (m, 4H), 1.76 (m, 2H), 1.56 (m, 6H), 1.33 (m, 6H), 1.15 (m, 6H), 0.93 (d, J = 5.6 Hz, 6H), 0.87 (d, J = 6.4 Hz, 12H).
実施例7
2,6-ビス[5-(2-エチルヘキシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-EHTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
 50mLフラスコに2,6-ビス[5-(2-エチルヘキシル)チオフェン-2-イル]ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-EHTH、1.3g、2.24mmol)およびテトラヒドロフラン(26mL)を加えて-40℃に冷却した後にリチウムジイソプロピルアミド(2M溶液、2.2mL、4.48mmol)を滴下して30分攪拌した。次いで、ヨウ素(1.7g、6.72mmol)を加えた後に室温で2時間反応した。反応終了後、10%亜硫酸水素ナトリウムを加えクロロホルムで抽出して、得られた有機層を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム/ヘキサン=1/1)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-エチルヘキシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-EHTH)が0.66g、黄色固体として得られた(収率36%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.51 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 6.81 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 2.80 (m, 4H), 1.66 (m, 2H), 1.38 (m, 4H), 1.35-1.25 (m, 12H), 0.91 (t, J = 6.4 Hz, 6H), 0.88 (t, J = 6.4 Hz, 6H).
実施例8
2,6-ビス[5-(2-ブチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-BOTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
 100mLフラスコに2,6-ビス[5-(2-ブチルオクチル)チオフェン-2-イル]ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-BOTH、1.5g、2.16mmol)およびテトラヒドロフラン(30mL)を加えて-40℃に冷却した後にリチウムジイソプロピルアミド(2M溶液、2.4mL、4.75mmol)を滴下して30分攪拌した。次いで、ヨウ素(1.7g、6.48mmol)を加えた後に室温で2時間反応した。反応終了後、10%亜硫酸水素ナトリウムを加えクロロホルムで抽出して、得られた有機層を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム/ヘキサン=1/1)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-ブチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-BOTH)が1.15g、黄色固体として得られた(収率56%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.52 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 6.80 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 2.80 (m, 4H), 1.69 (m, 2H), 1.34-1.23 (m, 32H), 0.89 (t, J = 6.4 Hz, 6H), 0.86 (t, J = 6.4 Hz, 6H).
実施例9
2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-HDTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
 100mLフラスコに2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-HDTH、4g、4.97mmol)およびテトラヒドロフラン(80mL)を加えて-40℃に冷却した後にリチウムジイソプロピルアミド(2M溶液、5.5mL、10.9mmol)を滴下して30分攪拌した。次いで、ヨウ素(3.8g、14.9mol)を加えた後に室温で2時間反応した。反応終了後、10%亜硫酸水素ナトリウムを加えクロロホルムで抽出して、得られた有機層を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム/ヘキサン=1/1)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-HDTH)が2.66g、黄色固体として得られた(収率51%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.53 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 6.81 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 2.80 (m, 4H), 1.70 (m, 2H), 1.36-1.24 (m, 48H), 0.89 (t, J = 6.4 Hz, 6H), 0.86 (t, J = 6.4 Hz, 6H).
実施例10
2,6-ビス[5-(2-デシルテトラデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-TDTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
 200mLフラスコに2,6-ビス[5-(2-デシルテトラデシル)チオフェン-2-イル]ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-TDTH、4.1g、3.97mmol)およびテトラヒドロフラン(80mL)を加えて-40℃に冷却した後にリチウムジイソプロピルアミド(2M溶液、4.4mL、8.8mmol)を滴下して30分攪拌した。次いで、ヨウ素(3.1g、24.0mol)を加えた後に室温で2時間反応した。反応終了後、10%亜硫酸水素ナトリウムを加えクロロホルムで抽出して、得られた有機層を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、酢酸エチル/ヘキサン=5/95)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-デシルテトラデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-TDTH)が3.98g、黄色固体として得られた(収率69%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.53 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 6.80 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 2.80 (m, 4H), 1.70 (m, 2H), 1.38-1.20 (m, 80H), 0.89 (t, J = 6.4 Hz, 6H), 0.86 (t, J = 6.4 Hz, 6H).
実施例11
2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジチオフェン-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-DMOTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
 30mLフラスコに2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-DMOTH、335mg、0.38mmol)、トリブチルチオフェン-2-イル-スタンナン(301μL、0.94mmol)、トリス(2-フリル)ホスフィン(14mg、60μmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(16mg、15μmol)、およびN,N-ジメチルホルムアミド(7mL)を加えて80℃で18時間反応した。反応終了後、室温まで冷却した後に水を加えクロロホルムで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム/ヘキサン=1/1~クロロホルム)で精製することで、2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジチオフェン-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-DMOTH)が248mg、黄色固体として得られた(収率82%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ8.00 (d, J = 4.0 Hz, 2H), 7.59 (d, J = 5.2 Hz, 2H), 7.56 (d, J= 4.0 Hz, 2H), 7.27 (dd, J = 5.2, 4.0 Hz, 2H), 6.85 (d, J= 4.0 Hz, 2H), 2.90 (m, 4H), 1.76 (m, 2H), 1.53 (m, 6H), 1.34 (m, 6H), 1.16 (m, 6H), 0.95 (d, J = 5.8 Hz, 6H), 0.88 (d, J = 6.4 Hz, 12H).
実施例12
2,6-ビス[5-(2-エチルヘキシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジチオフェン-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-EHTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
 20mLフラスコに2,6-ビス[5-(2-エチルヘキシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-EHTH、657mg、0.78mmol)、トリブチルチオフェン-2-イル-スタンナン(630μL、1.95mmol)、トリス(2-フリル)ホスフィン(30mg、0.12mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(34mg、0.03mmol)、およびN,N-ジメチルホルムアミド(12mL)を加えて80℃で19時間反応した。反応終了後、室温まで冷却した後に水を加えクロロホルムで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム/ヘキサン=1/1~クロロホルム)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-エチルヘキシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジチオフェン-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-EHTH)が525mg、黄色固体として得られた(収率89%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ8.00 (dd, J= 4.0, 0.8 Hz, 2H), 7.59 (dd, J = 5.2, 0.8 Hz, 2H), 7.55 (d, J = 4.0 Hz, 2H), 7.27 (dd, J = 5.2, 4.0 Hz, 2H), 6.82 (d, J= 4.0 Hz, 2H), 2.81 (m, 4H), 1.67 (m, 2H), 1.41-1.27 (m, 16H), 0.92 (t J = 6.4 Hz, 6H), 0.88 (t, J = 6.4 Hz, 12H).
実施例13
2,6-ビス[5-(2-ブチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジチオフェン-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-BOTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
 50mLフラスコに2,6-ビス[5-(2-ブチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-BOTH、1.1g、1.16mmol)、トリブチルチオフェン-2-イル-スタンナン(930μL、2.90mmol)、トリス(2-フリル)ホスフィン(33mg、0.14mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(36mg、0.03mmol)、およびN,N-ジメチルホルムアミド(22mL)を加えて80℃で22時間反応した。反応終了後、室温まで冷却した後に水を加えクロロホルムで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム/ヘキサン=1/1~クロロホルム)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-ブチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジチオフェン-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-BOTH)が0.99g、黄色固体として得られた(収率99%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ8.00 (dd, J= 4.0, 0.8 Hz, 2H), 7.58 (dd, J = 5.2, 0.8 Hz, 2H), 7.55 (d, J = 4.0 Hz, 2H), 7.27 (dd, J = 5.2, 4.0 Hz, 2H), 6.81 (d, J= 4.0 Hz, 2H), 2.81 (m, 4H), 1.71 (m, 2H), 1.35-1.24 (m, 32H), 0.90 (t J = 6.4 Hz, 6H), 0.88 (t, J = 6.4 Hz, 12H).
実施例14
2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジチオフェン-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-HDTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
 50mLフラスコに2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-HDTH、1.1g、1.04mmol)、トリブチルチオフェン-2-イル-スタンナン(830μL、2.60mmol)、トリス(2-フリル)ホスフィン(40mg、0.17mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(45mg、0.04mmol)、およびN,N-ジメチルホルムアミド(22mL)を加えて80℃で19時間反応した。反応終了後、室温まで冷却した後に水を加えクロロホルムで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム/ヘキサン=1/1~クロロホルム)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジチオフェン-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-HDTH)が1.01g、黄色固体として得られた(収率100%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ8.00 (dd, J= 4.0, 0.8 Hz, 2H), 7.58 (dd, J = 5.2, 0.8 Hz, 2H), 7.55 (d, J = 4.0 Hz, 2H), 7.27 (dd, J = 5.2, 4.0 Hz, 2H), 6.81 (d, J= 4.0 Hz, 2H), 2.81 (m, 4H), 1.72 (m, 2H), 1.34-1.25 (m, 48H), 0.89 (t J = 6.4 Hz, 6H), 0.87 (t, J = 6.4 Hz, 12H).
実施例15
2,6-ビス[5-(2-デシルテトラデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジチオフェン-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-TDTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
 100mLフラスコに2,6-ビス[5-(2-デシルテトラデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-TDTH、2.5g、1.95mmol)、トリブチルチオフェン-2-イル-スタンナン(1.6mL、4.88mmol)、トリス(2-フリル)ホスフィン(55mg、0.23mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(62mg、0.06mmol)、およびN,N-ジメチルホルムアミド(50mL)を加えて100℃で23時間反応した。反応終了後、室温まで冷却した後に水を加えクロロホルムで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、酢酸エチル/ヘキサン=1/9)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-テトラデシルドデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジチオフェン-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-TDTH)が2.21g、黄色固体として得られた(収率95%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ8.00 (dd, J= 4.0, 0.8 Hz, 2H), 7.58 (dd, J = 5.2, 0.8 Hz, 2H), 7.55 (d, J = 4.0 Hz, 2H), 7.27 (dd, J = 5.2, 4.0 Hz, 2H), 6.81 (d, J= 4.0 Hz, 2H), 2.82 (m, 4H), 1.71 (m, 2H), 1.39-1.20 (m, 80H), 0.88 (t J = 6.4 Hz, 6H), 0.87 (t, J = 6.4 Hz, 12H).
実施例16
2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-DMOTH-DSB)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
 20mLフラスコに2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジチオフェン-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-DMOTH、150mg、0.19mmol)およびテトラヒドロフラン(6mL)を加え-40℃に冷却してリチウムジイソプロピルアミド(2M溶液、0.20mL、0.39mmol)を滴下して30分攪拌した。その後、トリブチル錫クロリド(107μL、0.39mmol)を加え室温に昇温して2時間攪拌した。反応終了後、水を加えトルエンで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をGPC-HPLC(JAIGEL-1H、2H、クロロホルム)で精製することで、2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-DMOTH-DSB)が163mg、薄褐色油状として得られた(収率63%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, C6D6): δ8.53 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 7.53 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 7.38 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 6.55 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 2.69 (m, 4H), 1.79 (m, 14H), 1.51 (m, 18H), 1.34 (m, 18H), 1.12 (m, 6H), 1.03 (t, J = 6.8 Hz, 18H), 0.96 (d, J = 7.2 Hz, 12H), 0.88 (d, J = 6.4 Hz, 6H).
実施例17
2,6-ビス[5-(2-エチルヘキシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリメチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-EHTH-DSM)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
 20mLフラスコに2,6-ビス[5-(2-エチルヘキシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジチオフェン-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-EHTH、500mg、0.67mmol)およびテトラヒドロフラン(10mL)を加え-50℃に冷却してリチウムジイソプロピルアミド(2M溶液、0.74mL、1.47mmol)を滴下して30分攪拌した。その後、トリメチル錫クロリド(1M溶液、15mL、1.47mmol)を加え室温に昇温して2時間攪拌した。反応終了後、水を加えトルエンで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をGPC-HPLC(JAIGEL-1H、2H、クロロホルム)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-エチルヘキシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリメチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-EHTH-DSM)が309mg、黄色固体として得られた(収率43%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ8.16 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 7.56 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 7.37 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 6.82 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 2.82 (m, 4H), 1.66 (m, 2H), 1.42-1.30 (m, 16H), 0.90 (t J = 6.4 Hz, 6H), 0.88 (t, J = 6.4 Hz, 6H), 0.46 (s, 18H).
実施例18
2,6-ビス[5-(2-ブチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリメチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-BOTH-DSM)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
 20mLフラスコに2,6-ビス[5-(2-ブチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジチオフェン-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-BOTH、400mg、0.47mmol)およびテトラヒドロフラン(8mL)を加え-50℃に冷却してリチウムジイソプロピルアミド(2M溶液、0.51mL、1.03mmol)を滴下して30分攪拌した。その後、トリメチル錫クロリド(1M溶液、10mL、1.03mmol)を加え室温に昇温して2時間攪拌した。反応終了後、水を加えトルエンで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をGPC-HPLC(JAIGEL-1H、2H、クロロホルム)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-エチルヘキシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリメチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-BOTH-DSM)が149mg、黄色固体として得られた(収率27%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ8.16 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 7.56 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 7.37 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 6.82 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 2.82 (m, 4H), 1.71 (m, 2H), 1.35-1.22 (m, 32H), 0.89 (t J = 6.4 Hz, 6H), 0.88 (t, J = 6.4 Hz, 6H), 0.47 (s, 18H).
実施例19
2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリメチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-HDTH-DSM)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
 30mLフラスコに2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジチオフェン-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-HDTH、700mg、0.72mmol)およびテトラヒドロフラン(14mL)を加え-50℃に冷却してリチウムジイソプロピルアミド(2M溶液、0.79mL、1.58mmol)を滴下して30分攪拌した。その後、トリメチル錫クロリド(1M溶液、16mL、1.58mmol)を加え室温に昇温して2時間攪拌した。反応終了後、水を加えトルエンで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をGPC-HPLC(JAIGEL-1H、2H、クロロホルム)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリメチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-HDTH-DSM)が518mg、黄色固体として得られた(収率55%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ8.16 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 7.56 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 7.37 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 6.82 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 2.82 (m, 4H), 1.71 (m, 2H), 1.35-1.25 (m, 48H), 0.88 (t J = 6.4 Hz, 6H), 0.87 (t, J = 6.4 Hz, 6H), 0.47 (s, 18H).
実施例20
2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-HDTH-DSB)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
 50mLフラスコに2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジチオフェン-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-HDTH、602mg、0.62mmol)およびテトラヒドロフラン(18mL)を加え-40℃に冷却してリチウムジイソプロピルアミド(2M溶液、0.65mL、1.30mmol)を滴下して30分攪拌した。その後、トリブチル錫クロリド(352μL、1.30mmol)を加え室温に昇温して2時間攪拌した。反応終了後、水を加えトルエンで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をGPC-HPLC(JAIGEL-1H、2H、クロロホルム)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-HDTH-DSB)が634mg、薄褐色油状として得られた(収率66%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, C6D6): δ8.47 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 7.47 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 7.33 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 6.54 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 2.64 (m, 4H), 1.78-1.68 (m, 14H), 1.44 (m, 12H), 1.35-1.22 (m, 60H), 0.97 (t, J= 6.8 Hz, 18H), 0.91 (d, J = 7.2 Hz, 12H), 0.89 (d, J = 6.4 Hz, 6H).
実施例21
2,6-ビス[5-(2-デシルテトラデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリメチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-TDTH-DSM)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
 30mLフラスコに2,6-ビス[5-(2-デシルテトラデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジチオフェン-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-TDTH、1.5g、1.26mmol)およびテトラヒドロフラン(50mL)を加え-30℃に冷却してリチウムジイソプロピルアミド(2M溶液、1.38mL、2.77mmol)を滴下して30分攪拌した。その後、トリメチル錫クロリド(1M溶液、3.0mL、3.02mmol)を加え室温に昇温して2時間攪拌した。反応終了後、水を加えトルエンで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をGPC-HPLC(JAIGEL-1H、2H、クロロホルム)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-デシルテトラデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリメチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-TDTH-DSM)が1.28g、黄色固体として得られた(収率67%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ8.15 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 7.56 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 7.35 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 6.84 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 2.82 (m, 4H), 1.71 (m, 2H), 1.39-1.20 (m, 80H), 0.88 (t J = 6.4 Hz, 6H), 0.86 (t, J = 6.4 Hz, 12H), 0.47 (s, 18H).
実施例22
P-TDMOT-DBTH-O-IMTHの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
 20mLフラスコに、2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-DMOTH-DSB、113mg、0.08mmol)、1,3-ジブロモ-5-オクチルチエノ[3,4-c]ピローロ-4,6-ジオン(O-IMTH-DB、35mg、0.08mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(3mg、3.3μmol)、トリス(o-トリル)ホスフィン(4mg、13μmol)およびクロロベンゼン(10mL)を加え120℃で24時間反応した。反応終了後、メタノール(50mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-TDMOT-DBTH-O-IMTHが71mg(69%)で黒色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図1に示す。
イオン化ポテンシャル:5.24eV(HOMO -5.24eV)
実施例23
P-THDT-DBTH-EH-IMTHの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
 20mLフラスコに、2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-HDTH-DSB、150mg、0.10mmol)、1,3-ジブロモ-5-(2-エチルヘキシル)チエノ[3,4-c]ピローロ-4,6-ジオン(EH-IMTH-DB、41mg、0.10mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(4mg、3.9μmol)、トリス(o-トリル)ホスフィン(5mg、15.5μmol)およびクロロベンゼン(12mL)を加え120℃で22時間反応した。反応終了後、メタノール(60mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-THDT-DBTH-EH-IMTHが109mg(91%)で黒色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図2に示す。
イオン化ポテンシャル:5.36eV(HOMO -5.36eV)
GPC測定結果 Mw(重量平均分子量):68000  
Mn(数平均分子量):21100
光電変換素子の作製・評価
 前記のように得られたP-THDT-DBTH-EH-IMTHを
ドナー材料、PCBM(C61)(フェニルC61-酪酸メチルエステル)をアクセプター材料として用いて、ドナー材料:アクセプター材料=1:2(重量)(合計濃度24mg/mL)、および1,8-ジヨードオクタン(0.03mL/mL)をクロロベンゼンに溶解させて0.45μmのフィルターに通して混合溶液とした。
 ITOが成膜されたガラス基板をオゾンUV処理して表面処理を行った後に、PEDOT-PSS([ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)-ポリ(スチレンスルホン酸))をスピンコーターで塗布した。次に、上記のドナー材料・アクセプター材料の混合溶液をスピンコーターで成膜して室温で減圧乾燥した。その上に、オルトチタン酸テトライソプロピルのエタノール溶液(約0.3v%)をスピンコートして雰囲気中の水分により酸化チタンに変換した膜を作製した。その後、電極であるアルミニウムを蒸着してデバイスとした。
 得られたデバイスにソーラーシミュレーター(CEP2000、AM1.5Gフィルター、放射強度100mW/cm2、分光計器製)を用いて特性評価を行った。その結果、Jsc(短絡電流密度)=8.64mA/cm2、Voc(開放端電圧)=0.86V、FF(曲線因子)=0.58で変換効率4.34%であることが確認された。
実施例24
P-THDT-DBTH-O-IMTHの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000107
 20mLフラスコに、2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリメチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-HDTH-DSM、90mg、0.07mmol)、1,3-ジブロモ-5-オクチルチエノ[3,4-c]ピローロ-4,6-ジオン(O-IMTH-DB、30mg、0.07mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(3mg、2.8μmol)、トリス(2-メトキシフェニル)ホスフィン(4mg、11.1μmol)およびクロロベンゼン(7mL)を加え120℃で24時間反応した。反応終了後、メタノール(50mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-THDT-DBTH-O-IMTHが74mg(87%)で黒色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図3に示す。
イオン化ポテンシャル:5.25eV(HOMO -5.25eV)
GPC測定結果 Mw(重量平均分子量):34000  
Mn(数平均分子量):12700
光電変換素子の作製・評価
 P-THDT-DBTH-EH-IMTHの代わりに、前記のように得られたP-THDT-DBTH-O-IMTHを用いたこと以外は実施例23と同様にして、デバイスを作製した。得られたデバイスにソーラーシミュレーター(CEP2000、AM1.5Gフィルター、放射強度100mW/cm2、分光計器製)を用いて特性評価を行った。その結果、Jsc(短絡電流密度)=7.51mA/cm2、Voc(開放端電圧)=0.79V、FF(曲線因子)=0.70で変換効率4.13%であることが確認された。
実施例25
P-TEHT-DBTH-HD-IMTHの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000108
 20mLフラスコに、2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリメチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-EHTH-DSM、100mg、0.09mmol)、1,3-ジブロモ-5-(2-ヘキシルデシル)チエノ[3,4-c]ピローロ-4,6-ジオン(HD-IMTH-DB、50mg、0.09mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(4mg、3.7μmol)、トリス(2-メトキシフェニル)ホスフィン(6mg、14.9μmol)およびクロロベンゼン(7mL)を加え120℃で24時間反応した。反応終了後、メタノール(40mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-TEHT-DBTH-HD-IMTHが39mg(37%)で黒色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図4に示す。
イオン化ポテンシャル:5.25eV(HOMO -5.25eV)
GPC測定結果 Mw(重量平均分子量):15900
Mn(数平均分子量):8100
光電変換素子の作製・評価
 P-THDT-DBTH-EH-IMTHの代わりに、前記のように得られたP-TEHT-DBTH-HD-IMTHを用いたこと以外は実施例23と同様にして、デバイスを作製した。得られたデバイスにソーラーシミュレーター(CEP2000、AM1.5Gフィルター、放射強度100mW/cm2、分光計器製)を用いて特性評価を行った。その結果、Jsc(短絡電流密度)=5.55mA/cm2、Voc(開放端電圧)=0.78V、FF(曲線因子)=0.64で変換効率2.81%であることが確認された。
実施例26
P-TBOT-DBTH-DMO-IMTHの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000109
 20mLフラスコに、2,6-ビス[5-(2-ブチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリメチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-BOTH-DSM、100mg、0.09mmol)、1,3-ジブロモ-5-(3,7-ジメチルオクチル)チエノ[3,4-c]ピローロ-4,6-ジオン(DMO-IMTH-DB、38mg、0.09mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(4mg、3.6μmol)、トリス(2-メトキシフェニル)ホスフィン(5mg、14.4μmol)およびクロロベンゼン(8mL)を加え120℃で24時間反応した。反応終了後、メタノール(40mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-TBOT-DBTH-DMO-IMTHが26mg(27%)で黒色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図5に示す。
イオン化ポテンシャル:5.23eV(HOMO -5.23eV)
実施例27
P-TEHT-DBTH-ODD-IMTHの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000110
 20mLフラスコに、2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリメチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-EHTH-DSM、100mg、0.09mmol)、1,3-ジブロモ-5-(2-オクチルドデシル)チエノ[3,4-c]ピローロ-4,6-ジオン(ODD-IMTH-DB、55mg、0.09mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(4mg、3.7μmol)、トリス(2-メトキシフェニル)ホスフィン(6mg、14.9μmol)およびクロロベンゼン(7mL)を加え120℃で24時間反応した。反応終了後、メタノール(40mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-TEHT-DBTH-ODD-IMTHが91mg(76%)で黒色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図6に示す。
イオン化ポテンシャル:5.27eV(HOMO -5.27eV)
実施例28
P-TDMOT-DBTH-TDZの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000111
 20mLフラスコに、2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-DMOTH-DSB、122mg、0.09mmol)、4,7-ジブロモベンゾ[1,2,5]チアジアゾール(TDZ-DB、26mg、0.09mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(4mg、3.5μmol)、トリス(o-トリル)ホスフィン(4mg、14.0μmol)およびクロロベンゼン(10mL)を加え120℃で24時間反応した。反応終了後、メタノール(50mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-TDMOT-DBTH-TDZが31mg(38%)で黒色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図7に示す。
 イオン化ポテンシャル:5.11eV(HOMO -5.11eV)
実施例29
P-THDT-DBTH-FFTDZの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000112
 20mLフラスコに、2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-HDTH-DSB、122mg、0.08mmol)、4,7-ジブロモ-5,6-ジフルオロベンゾ[1,2,5]チアジアゾール(FFTDZ-DB、28mg、0.08mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(4mg、3.4μmol)、トリス(o-トリル)ホスフィン(4mg、13.4μmol)およびクロロベンゼン(10mL)を加え120℃で23時間反応した。反応終了後、メタノール(50mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-THDT-DBTH-FFTDZが27mg(29%)で黒色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図8に示す。
イオン化ポテンシャル:5.55eV(HOMO -5.55eV)
GPC測定結果 Mw(重量平均分子量):4500  
Mn(数平均分子量):3300
実施例30
P-THDT-DBTH-DMO-DPPの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000113
 20mLフラスコに、2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-HDTH-DSB、100mg、0.06mmol)、3,6-ビス(5-ブロモチオフェン-2-イル)-2,5-(3,7-ジメチルオクチル)-2,5-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(DMO-DPP-DB、49mg、0.06mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(3mg、2.6μmol)、トリス(o-トリル)ホスフィン(3mg、10.4μmol)およびクロロベンゼン(10mL)を加え120℃で23時間反応した。反応終了後、メタノール(60mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-THDT-DMO-DPPが26mg(26%)で黒色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図9に示す。
イオン化ポテンシャル:5.10eV(HOMO -5.10eV)
GPC測定結果 Mw(重量平均分子量):6100  
Mn(数平均分子量):3600
光電変換素子の作製・評価
 前記のように得られたP-THDT-DBTH-DMO-DPPをドナー材料、PCBM(C61)(フェニルC61-酪酸メチルエステル)をアクセプター材料として用いて、ドナー材料:アクセプター材料=1:2(重量)(合計濃度24mg/mL)、および1,8-ジヨードオクタン(0.03mL/mL)をオルトジクロロベンゼンに溶解させて0.45μmのフィルターに通して混合溶液とした。
 ITOが成膜されたガラス基板をオゾンUV処理して表面処理を行った後に、PEDOT-PSS([ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)-ポリ(スチレンスルホン酸))をスピンコーターで塗布した。次に、上記のドナー材料・アクセプター材料の混合溶液をスピンコーターで成膜して室温で減圧乾燥した。その上に、オルトチタン酸テトライソプロピルのエタノール溶液(約0.3v%)をスピンコートして雰囲気中の水分により酸化チタンに変換した膜を作製した。その後、電極であるアルミニウムを蒸着してデバイスとした。
 得られたデバイスにソーラーシミュレーター(CEP2000、AM1.5Gフィルター、放射強度100mW/cm2、分光計器製)を用いて特性評価を行った。その結果、Jsc(短絡電流密度)=6.66mA/cm2、Voc(開放端電圧)=0.45V、FF(曲線因子)=0.62で変換効率2.02%であることが確認された。
実施例31
 P-THDT-DBTH-EH-OFTTの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000114
 20mLフラスコに、2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリメチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-HDTH-DSM、90mg、0.07mmol)、4,6-ジブロモ-3-フルオロチエノ[3,4-b]チオフェン-2-カルボン酸(2-エチルヘキシル)エステル(EH-OFTT-DB、33mg、0.07mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(3mg、2.1μmol)、トリス(2-メトキシフェニル)ホスフィン(4mg、8.4μmol)およびクロロベンゼン(7mL)を加え120℃で24時間反応した。反応終了後、メタノール(40mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-THDT-DBTH-EH-OFTTが80mg(87%)で黒色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図10に示す。
イオン化ポテンシャル:5.10eV(HOMO -5.10eV)
GPC測定結果 Mw(重量平均分子量):6700
Mn(数平均分子量):4800
実施例32
P-TTDT-DBTH-EHP-IMTHの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000115
 20mLフラスコに、2,6-ビス[5-(2-デシルテトラデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリメチルスタンニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTH-DBTH-TDTH-DSM、100mg、0.07mmol)、1,3-ジブロモ-5-(2-エチルヘキシロキシ)チエノ[3,4-c]ピローロ-4,6-ジオン(EHP-IMTH-DB、33mg、0.07mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(3mg、2.6μmol)、トリス(2-メトキシフェニル)ホスフィン(4mg、10.5μmol)およびクロロベンゼン(7mL)を加え120℃で24時間反応した。反応終了後、メタノール(40mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-TTDT-DBTH-EHP-IMTHが79mg(79%)で黒色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図11に示す。
イオン化ポテンシャル:5.30eV(HOMO -5.30eV)
GPC測定結果 Mw(重量平均分子量):20200
Mn(数平均分子量):10300
実施例33
2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビスチアゾール-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTHA-DBTH-DMOTH)の合成
 20mLフラスコに2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-DMOTH、250mg、0.28mmol)、2-トリブチルスタンナニルチアゾール(263mg、0.70mmol)、トリス(2-フリル)ホスフィン(12mg、11μmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(10mg、45μmol)、およびN,N-ジメチルホルムアミド(5mL)を加えて80℃で24時間反応した。反応終了後、室温まで冷却した後に水を加えクロロホルムで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム)で精製することで、2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビスチアゾール-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTHA-DBTH-DMOTH)が208mg、黄色固体として得られた(収率92%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ8.17 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 7.71 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 7.60 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 6.88 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 2.92 (m, 4H), 1.80 (m, 2H), 1.53 (m, 6H), 1.34 (m, 6H), 1.18 (m, 6H), 0.96 (d, J = 5.8 Hz, 6H), 0.88 (d, J= 6.4 Hz, 12H).
実施例34
2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビスチアゾール-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTHA-DBTH-HDTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000117
 30mLフラスコに2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-HDTH、800mg、0.76mmol)、2-トリブチルスタンナニルチアゾール(708mg、1.89mmol)、トリス(2-フリル)ホスフィン(29mg、0.12mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(32mg、30μmol)、およびN,N-ジメチルホルムアミド(5mL)を加えて80℃で17時間反応した。反応終了後、室温まで冷却した後に水を加えクロロホルムで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビスチアゾール-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTHA-DBTH-HDTH)が684mg、黄色固体として得られた(収率94%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ8.15 (d, J= 3.46 Hz, 2H), 7.70 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 7.60 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 6.85 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 2.84 (m, 4H), 1.75 (m, 2H), 1.23-1.37 (m, 48H), 0.89 (t, J = 6.4 Hz, 6H), 0.88 (t, J = 6.4 Hz, 6H).
実施例35
2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチアゾール-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTHA-DBTH-DMOTH-DSB)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000118
 20mLフラスコに2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビスチアゾール-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTHA-DBTH-DMOTH、205mg、0.26mmol)およびテトラヒドロフラン(10mL)を加え-40℃に冷却してリチウムジイソプロピルアミド(2M溶液、0.27mL、0.54mmol)を滴下して30分攪拌した。その後、トリブチル錫クロリド(145μL、0.54mmol)を加え室温に昇温して2時間攪拌した。反応終了後、水を加えトルエンで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をGPC-HPLC(JAIGEL-1H、2H、クロロホルム)で精製することで、2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチアゾール-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTHA-DBTH-DMOTH-DSB)が158mg、薄褐色油状として得られた(収率45%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, C6D6): δ8.43 (s , 2H), 7.62 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 6.58 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 2.72 (m, 4H), 1.77 (m, 14H), 1.53 (m, 18H), 1.34 (m, 18H), 1.13 (m, 6H), 1.04 (t, J = 6.8 Hz, 18H), 0.96 (d, J = 7.2 Hz, 12H), 0.88 (d, J= 6.4 Hz, 6H).
実施例36
2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチアゾール-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTHA-DBTH-DMOTH-DSB)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000119
 20mLフラスコに2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビスチアゾール-2-イル-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTHA-DBTH-HDTH、600mg、0.62mmol)およびテトラヒドロフラン(24mL)を加え-40℃に冷却してリチウムジイソプロピルアミド(2M溶液、0.65mL、1.30mmol)を滴下して30分攪拌した。その後、トリブチル錫クロリド(352μL、1.30mmol)を加え室温に昇温して2時間攪拌した。反応終了後、水を加えトルエンで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をGPC-HPLC(JAIGEL-1H、2H、クロロホルム)で精製することで、2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチアゾール-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTHA-DBTH-HDTH-DSB)が470mg、薄褐色油状として得られた(収率49%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, C6D6): δ8.36 (s , 2H), 7.60 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 6.56 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 2.68 (m, 4H), 1.81-1.64 (m, 14H), 1.46-1.28 (m, 60H), 1.21-1.15 (m, 12H), 1.13 (m, 6H), 0.97 (t, J = 6.8 Hz, 18H), 0.90 (t, J = 6.4 Hz, 6H), 0.88 (t, J = 6.4 Hz, 6H). 
実施例37
P-THDMOT-DBTH-O-IMTHの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000120
 20mLフラスコに、2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチアゾール-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTHA-DBTH-DMOTH-DSB、88mg、0.06mol)、1,3-ジブロモ-5-オクチルチエノ[3,4-c]ピローロ-4,6-ジオン(O-IMTH-DB、26mg、0.06mol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(3mg、2.5μmol)、トリス(o-トリル)ホスフィン(3mg、10μmol)およびクロロベンゼン(8mL)を加え120℃で24時間反応した。反応終了後、メタノール(50mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-THDMOT-DBTH-O-IMTHが34mg(50%)で黒色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図12に示す。
イオン化ポテンシャル:5.62eV(HOMO -5.62eV)
実施例38
P-THHDT-DBTH-EH-IMTHの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000121
 20mLフラスコに、2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチアゾール-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTHA-DBTH-HDTH-DSB、130mg、0.08mmol)、1,3-ジブロモ-5-(2-エチルヘキシル)チエノ[3,4-c]ピローロ-4,6-ジオン(EH-IMTH-DB、35mg、0.08mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(4mg、3.4μmol)、トリス(o-トリル)ホスフィン(4mg、13.4μmol)およびクロロベンゼン(8mL)を加え120℃で22時間反応した。反応終了後、メタノール(60mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-THHDT-DBTH-EH-IMTHが78mg(76%)で黒色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図13に示す。
イオン化ポテンシャル:5.61eV(HOMO -5.61eV)
GPC測定結果 Mw(重量平均分子量):20300 
Mn(数平均分子量):8800
実施例39
 P-THHDT-DBTH-EH-IMTHT
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000122
 20mLフラスコに、2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチアゾール-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTHA-DBTH-HDTH-DSB、110mg、0.07mmol)、1,3-ビス(5-ブロモチオフェン-2-イル)-5-(2-エチルヘキシル)-チエノ[3,4-c]ピローロ-4,6-ジオン(EH-IMTHT-DB、42mg、0.07mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(3mg、2.8μmol)、トリス(o-トリル)ホスフィン(4mg、11.3μmol)およびクロロベンゼン(8mL)を加え120℃で22時間反応した。反応終了後、メタノール(40mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-THHDT-DBTH-EH-IMTHTが35mg(35%)で黒色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図14に示す。
イオン化ポテンシャル:5.42eV(HOMO -5.42eV)
実施例40
P-THHDT-DBTH-HTTの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000123
 20mLフラスコに、2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチアゾール-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTHA-DBTH-HDTH-DSB、120mg、0.08mmol)、5,5’-ジブロモ-3-ヘキシル[2,2’]ビチオフェニル(HTT-DB、32mg、0.08mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(3mg、3.1μmol)、トリス(o-トリル)ホスフィン(4mg、12.3μmol)およびクロロベンゼン(10mL)を加え120℃で24時間反応した。反応終了後、メタノール(60mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-THHDT-DBTH-HTTが72mg(77%)で黒色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図15に示す。
イオン化ポテンシャル:5.61eV(HOMO -5.61eV)
GPC測定結果 Mw(重量平均分子量):8400  
Mn(数平均分子量):1600
光電変換素子の作製・評価
 P-THDT-DBTH-EH-IMTHの代わりに、前記のように得られたP-THHDT-DBTH-HTTを用いたこと以外は実施例30と同様にして、デバイスを作製した。得られたデバイスにソーラーシミュレーター(CEP2000、AM1.5Gフィルター、放射強度100mW/cm2、分光計器製)を用いて特性評価を行った。その結果、Jsc(短絡電流密度)= 4.67 mA/cm2、Voc(開放端電圧) = 0.59 V、FF(曲線因子) = 0.59で変換効率1.62%であることが確認された。
実施例41
P-THHDT-DBTH-EH-BDTの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000124
 20mLフラスコに、2,6-ビス[5-(2-ヘキシルデシル)チオフェン-2-イル]-4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチアゾール-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DTHA-DBTH-HDTH-DSB、120mg、0.08mmol)、2,6-ジブロモ-4,8-ビス(2-エチルヘキシロキシ)-1,5-ジチア-s-インデセン(EH-BDT-DB、47mg、0.08mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(3mg、3.1μmol)、トリス(o-トリル)ホスフィン(4mg、12.3μmol)およびクロロベンゼン(10mL)を加え120℃で25時間反応した。反応終了後、メタノール(50mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-THHDT-DBTH-HTTが70mg(64%)で濃赤色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図16に示す。
イオン化ポテンシャル:5.24eV(HOMO -5.24eV)
GPC測定結果 Mw(重量平均分子量):15200  
Mn(数平均分子量):6500
光電変換素子の作製・評価
 前記のように得られたP-THHDT-DBTH-EH-BDTをドナー材料、PCBM(C61)(フェニルC61-酪酸メチルエステル)をアクセプター材料として用いて、ドナー材料:アクセプター材料=1:2(重量)(合計濃度30mg/mL)、および1,8-ジヨードオクタン(0.03mL/mL)をオルトジクロロベンゼンに溶解させて0.45μmのフィルターに通して混合溶液とした。
 ITOが成膜されたガラス基板をオゾンUV処理して表面処理を行った後に、PEDOT-PSS([ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)-ポリ(スチレンスルホン酸))をスピンコーターで塗布した。次に、上記のドナー材料・アクセプター材料の混合溶液をスピンコーターで成膜して室温で減圧乾燥した。その上に、オルトチタン酸テトライソプロピルのエタノール溶液(約0.3v%)をスピンコートして雰囲気中の水分により酸化チタンに変換した膜を作製した。その後、電極であるアルミニウムを蒸着してデバイスとした。
 得られたデバイスにソーラーシミュレーター(CEP2000、AM1.5Gフィルター、放射強度100mW/cm2、分光計器製)を用いて特性評価を行った。その結果、Jsc(短絡電流密度)= 3.65 mA/cm2、Voc(開放端電圧) = 0.74 V、FF(曲線因子) = 0.47で変換効率1.26%であることが確認された。
実施例42
2,6-ビス(5-トリイソプロピルシラニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-TIPSTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000125
 200mLフラスコに2,6-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-DI、1.5g、3.38mmol)、4,4,5,5-テトラメチル-2-(5-トリイソプロピルシラニルチオフェン-2-イル)-[1,3,2]ジオキサボロラン(TIPSTH-BP、3.1g、8.44mmol)、S-PHOS(2-ジシクロヘキシルホスフィノ2’,6’-ジメトキシビフェニル、111mg、0.27mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(140mg、0.14mmol)、および1,2-ジメトキシエタン(120mL)、水(30mL)を加えて110℃で18時間反応した。反応終了後、室温まで冷却した後に水およびクロロホルムを加えてセライトろ過をしてからクロロホルムで2回抽出した。有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥して、次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム)で精製することで、2,6-ビス(5-トリイソプロピルシラニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-TIPSTH)が0.83g、黄色固体として得られた(収率38%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 8.44 (s, 2H), 7.76 (d, J =3.6 Hz, 2H), 7.30 (d, J=3.6 Hz, 2H), 1.38 (m, 6H), 1.11 (d, J =7.5 Hz, 36H).
実施例43
4,8-ジヨード-2,6-ビス-(5-トリイソプロピルシラニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-TIPSTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000126
 50mLフラスコに2,6-ビス-(5-トリイソプロピルシラニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-TIPSTH、600mg、0.90mmol)およびテトラヒドロフラン(20mL)を加えて-30℃に冷却した後にリチウムジイソプロピルアミド(1.5M溶液、1.3mL、1.89mmol)を滴下した。次いで-80℃まで冷却してヨウ素(1.14mg、4.48mmol)を加えた後に室温で2時間反応した。反応終了後、10%亜硫酸水素ナトリウムを加えクロロホルムで抽出して得られた有機層を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。ろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム/ヘキサン=1/1)で精製することで、4,8-ジヨード-2,6-ビス(5-トリイソプロピルシラニルチオフェン-2-イル)ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-TIPSTH)が579mg(収率70%)、黄色固体として得られた。
 1H-NMR測定、高分解能マススペクトル測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400MHz, CDCl3): δ 7.77 (d, J = 2.8 Hz, 2H), 7.28 (d, J = 2.8 Hz, 2H), 1.40 (sept, J = 7.2 Hz, 6H), 1.14 (d, J = 7.2 Hz, 36H).
高分解能マススペクトル分析(APCI:大気圧化学イオン化法)
計算値:C34H46I2N2S4Si2+H: 921.0245
測定値: 921.02444
実施例44
4,8-ビス-(チオフェン-2-イル)-2,6-ビス-(5-トリイソプロピルシラニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-TIPSTH-THA)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000127
 10mLフラスコに4,8-ジヨード-2,6-ビス(5-トリイソプロピルシラニルチオフェン-2-イル)ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-TIPSTH、46mg、0.05mmol)、2-トリブチルスタンナニルチアゾール(57mg、0.15mmol)、トリス(2-フリル)ホスフィン(2mg、8μmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(2mg、2μmol)、およびテトラヒドロフラン(2mL)を加えて加熱還流下、21時間反応した。反応終了後、室温まで冷却した後に10%フッ化カリウム水溶液を加えクロロホルムで2回抽出して得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム/ヘキサン=1/1)で精製することで、4,8-ビスチアゾール-2-イル-2,6-ビス(5-トリイソプロピルシラニルチオフェン-2-イル)ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-TIPSTH-THA)が22mg(収率45%)、黄色固体として得られた。
 1H-NMR測定、13C-NMR測定、IRスペクトル測定、融点測定、高分解能マススペクトル測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (500MHz, CDCl3): δ8.20 (d, J= 3.3 Hz, 2H), 8.01 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 7.67 (d,J = 3.3 Hz, 2H), 7.36 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 1.45 (sep, J =7.5 Hz, 6H), 1.19 (d, J=7.5 Hz, 36H).
13C NMR (125MHz, CDCl3): δ165.74, 161.98, 148.32, 142.31, 142.10, 141.29, 136.67, 131.61, 130.24, 122.81, 121.00, 17.85, 4.11.
IR (KBr): 2941, 1864, 1539, 1474, 1460, 1323, 999, 976, 659 cm-1.
融点:285℃で分解
高分解能マススペクトル分析(APCI:大気圧化学イオン化法)
計算値:C405146Si2+H:835.1971
測定値:835.1999
実施例45
4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチオフェン-2-イル)-2,6-ビス(5-トリイソプロピルシラニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-TIPSTH-THA-DSB)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000128
 20mLフラスコに4,8-ビスチアゾール-2-イル-2,6-ビス(5-トリイソプロピルシラニルチオフェン-2-イル)ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-TIPSTH-THA、110mg、0.13mmol)およびテトラヒドロフラン(4mL)を加え-40℃に冷却してリチウムジイソプロピルアミド(2M溶液、0.14mL、0.28mmol)を滴下して30分攪拌した。その後、トリブチル錫クロリド(75μL、0.28mmol)を加え室温に昇温して2時間攪拌した。反応終了後、水を加えトルエンで2回抽出して、有機層を水洗した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をGPC-HPLC(JAIGEL-1H、2H、クロロホルム)で精製することで、4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチオフェン-2-イル)-2,6-ビス(5-トリイソプロピルシラニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-TIPSTH-THA-DSB)が91mg、薄褐色油状として得られた(収率49%)。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400MHz, C6D6): δ8.42 (s, 2H), 7.93 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 7.12 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 1.74 (m, 12H), 1.48 (m, 12H), 1.43 (sep, J =7.5 Hz, 6H), 1.27 (m, 12H), 1.21 (d, J=7.2 Hz, 36H), 0.98 (t, J =6.8 Hz, 18H).
実施例46
P-THTIPSTH-DBTH-O-IMTHの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000129
 20mLフラスコに、4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチオフェン-2-イル)-2,6-ビス(5-トリイソプロピルシラニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-TIPSTH-THA-DSB、88mg、0.06mmol)、1,3-ジブロモ-5-オクチルチエノ[3,4-c]ピローロ-4,6-ジオン(O-IMTH-DB、26mg、0.06mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(3mg、2.5μmol)、トリス(o-トリル)ホスフィン(4mg、10μmol)およびクロロベンゼン(8mL)を加え120℃で24時間反応した。反応終了後、メタノール(50mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-THTIPSTH-DBTH-O-IMTHが34mg(50%)で黒色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図17に示す。
GPC測定結果 
Mw(重量平均分子量):31800  
Mn(数平均分子量):3300
イオン化ポテンシャル:5.65eV(HOMO -5.65eV)
光電変換素子の作製・評価
 前記のように得られたP-THTIPSTH-DBTH-O-IMTHをドナー材料、PCBM(C61)(フェニルC61-酪酸メチルエステル)をアクセプター材料として用いて、ドナー材料:アクセプター材料=1:1.5(質量)(合計濃度20mg/mL)、および、1,8-ジヨードオクタン(0.03mL/mL)をクロロベンゼンに溶解させて0.45μmのフィルターに通して混合溶液とした。
 ITOが成膜されたガラス基板をオゾンUV処理して表面処理を行った後に、PEDOT-PSS([ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)-ポリ(スチレンスルホン酸))をスピンコーターで塗布した。次に、上記のドナー材料・アクセプター材料の混合溶液をスピンコーターで成膜して150℃でアニールした。その上に、オルトチタン酸テトライソプロピルのエタノール溶液(約0.3体積%)をスピンコートして雰囲気中の水分により酸化チタンに変換した膜を作製した。その後、電極であるアルミニウムを蒸着してデバイスとした。
 得られたデバイスにソーラーシミュレーター(CEP2000、AM1.5Gフィルター、放射強度100mW/cm2、分光計器製)を用いて特性評価を行った。その結果、Jsc(短絡電流密度)=2.23mA/cm2、Voc(開放端電圧)=0.80V、FF(曲線因子)=0.36であり、変換効率0.64%であることが確認された。
実施例47
P-THTIPSTH-DBTH-O-DPPの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000130
 20mLフラスコに、4,8-ビス(5-トリブチルスタンニルチオフェン-2-イル)-2,6-ビス(5-トリイソプロピルシラニルチオフェン-2-イル)-ベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DBTH-TIPSTH-THA-DSB、106mg、0.07mmol)、3,6-ビス(5-ブロモチオフェン-2-イル)-2,5-ジオクチル-2,5-ジヒドロピローロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(O-DPP-DB、49mg、0.07mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)-クロロホルム付加体(3mg、2.9μmol)、トリス(o-トリル)ホスフィン(4mg、11.5μmol)およびクロロベンゼン(10mL)を加え120℃で24時間反応した。反応終了後、メタノール(50mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-THTIPSTH-DBTH-O-DPPが10mg(10%)で黒色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図18に示す。
 イオン化ポテンシャル:5.13eV(HOMO -5.13eV)
実施例48
2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジエチニルベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DY-DBTH-DMOTH)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000131
 10mLフラスコに2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジヨードベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DI-DBTH-DMOTH、100mg、0.11mmol)、トリメチルシリルアセチレン(47μL、0.33mmol)、よう化銅(I)(2mg、8.8μmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(7mg、8.8μmol)、テトラヒドロフラン(2mL)、ジイソプロピルアミン(2mL)を加え45℃で44時間反応した。その後、減圧濃縮により揮発成分を留去して炭酸カリウム(15mg、0.11mmol)、メタノール(2mL)を加え室温で更に6時間反応した。反応終了後、水を加えクロロホルムで2回抽出して得られた有機層を水で洗浄して無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。次いでろ過・濃縮して得られた粗品をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム/ヘキサン=1/1)で精製することで2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジエチニルベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DY-DBTH-DMOTH)が32mg(42%)、黄色固体として得られた。
 1H-NMR測定により、目的とする化合物が生成したことを確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ7.55 (d, J= 3.6 Hz, 2H), 6.84 (d, J = 3.6 Hz, 2H), 3.89 (s, 2H), 2.89 (m, 4H), 1.78 (m, 2H), 1.53 (m, 6H), 1.34 (m, 6H), 1.18 (m, 6H), 0.96 (d, J = 5.8 Hz, 6H), 0.88 (d, J = 6.4 Hz, 12H).
実施例49
P-DMOTH-YDBTH-DMO-IMTHの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000132
 20mLフラスコに2,6-ビス[5-(3,7-ジメチルオクチル)チオフェン-2-イル]-4,8-ジエチニルベンゾ[1,2-d;4,5-d’]ビスチアゾール(DY-DBTH-DMOTH、50mg、0.07mmol)、よう化銅(I)(3mg、15μmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(4mg、5.8μmol)、テトラヒドロフラン(2mL)、ジイソプロピルアミン(2mL)を加え70℃で64時間反応した。反応終了後、メタノール(60mL)に反応液を加えて析出した固体をろ取して、得られた固体をソックスレー洗浄(メタノール、アセトン、ヘキサン)した。次いでソックスレー抽出(クロロホルム)することでP-DMOTH-YDBTH-DMO-IMTHが31mg(43%)で濃赤色固体として得られた。紫外可視吸収スペクトルを図19に示す。
GPC測定結果 Mw(重量平均分子量):8700  
Mn(数平均分子量):5700
イオン化ポテンシャル:6.18eV(HOMO -6.18eV)
 本発明の高分子化合物は、高光電変換効率を有するため、有機エレクトロルミネッセンス素子、有機薄膜トランジスタ素子等の有機エレクトロデバイス等に有用である。

Claims (13)

  1.  式(1)で表されるベンゾビスチアゾール構造単位を含むことを特徴とする高分子化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001

    [式(1)中、
     T1、T2は、それぞれ独立に、アルコキシ基、チオアルコキシ基、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチオフェン環、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチアゾール環、または、炭化水素基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、オルガノシリル基、ハロゲン原子、もしくは、トリフルオロメチル基で置換されていてもよいフェニル基を表す。
     また、B1、B2は、炭化水素基で置換されていてもよいチオフェン環、炭化水素基で置換されていてもよいチアゾール環、または、エチニレン基を表す。]
  2.  T1、T2が、それぞれ、下記式(t1)~(t5)のいずれかで表される基である請求項1に記載の高分子化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002

    [式(t1)~(t5)中、
     R13~R14は、それぞれ独立に、炭素数6~30の炭化水素基を表す。
     R15~R16は、それぞれ独立に、炭素数6~30の炭化水素基、または、*-Si(R183で表される基を表す。
     R15'は、水素原子、炭素数6~30の炭化水素基、*-Si(R183で表される基を表す。
     R17は、それぞれ独立に、炭素数6~30の炭化水素基、*-O-R19、*-S-R20、*-Si(R183、または、*-CF3を表す。
     R18は、それぞれ独立に、炭素数1~20の脂肪族炭化水素基、または、炭素数6~10の芳香族炭化水素基を表し、複数のR18は、同一でも異なっていてもよい。
     R19~R20は、炭素数6~30の炭化水素基を表す。
     *は結合手を表す。]
  3.  B1、B2が、それぞれ、下記式(b1)~(b3)のいずれかで表される基である請求項1または2に記載の高分子化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003

    [式(b1)~(b3)中、
    21、R22、R21'は、水素原子または炭素数6~30の炭化水素基を表す。*は結合手を表し、特に左側の*は、ベンゾビスチアゾール化合物のベンゼン環に結合する結合手を表すものとする。]
  4.  ドナー-アクセプター型半導体ポリマーである請求項1~3のいずれか一項に記載の高分子化合物。
  5.  請求項1~4のいずれか一項に記載の高分子化合物を含む有機半導体材料。
  6.  式(5)で表されるベンゾビスチアゾール化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004

    [式(5)中、
     T1、T2は、それぞれ独立に、アルコキシ基、チオアルコキシ基、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチオフェン環、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチアゾール環、または、炭化水素基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、オルガノシリル基、ハロゲン原子、もしくは、トリフルオロメチル基で置換されていてもよいフェニル基を表す。
     また、B3、B4は、アルキル基で置換されていてもよいチオフェン環、または、アルキル基で置換されていてもよいチアゾール環を表す。
     R1~R4は、それぞれ独立に、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基、水酸基、炭素数1~6のアルコキシ基、または、炭素数6~10のアリールオキシ基を表す。
     M1、M2は、それぞれ独立に、ホウ素原子または錫原子を表す。
     R1、R2は、M1とともに環を形成していてもよく、R3、R4は、M2とともに環を形成していてもよい。
     m、nは、それぞれ、1または2の整数を表す。また、m、nが2のとき、複数のR1、R3は、それぞれ同一でも、異なっていてもよい。]
  7.  式(4)で表されるベンゾビスチアゾール化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005

    [式(4)中、
     T1、T2は、それぞれ独立に、アルコキシ基、チオアルコキシ基、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチオフェン環、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチアゾール環、または、炭化水素基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、オルガノシリル基、ハロゲン原子、もしくは、トリフルオロメチル基で置換されていてもよいフェニル基を表す。
     また、B1、B2は、炭化水素基で置換されていてもよいチオフェン環、炭化水素基で置換されていてもよいチアゾール環、または、エチニレン基を表す。]
  8.  式(3)で表されるベンゾビスチアゾール化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006

    [式(3)中、
     T1、T2は、それぞれ独立に、アルコキシ基、チオアルコキシ基、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチオフェン環、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチアゾール環、または、炭化水素基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、オルガノシリル基、ハロゲン原子、もしくは、トリフルオロメチル基で置換されていてもよいフェニル基を表す。
     X1、X2は、ハロゲン原子を表す。]
  9.  式(2)で表されるベンゾビスチアゾール化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007

    [式(2)中、
    1、T2は、それぞれ独立に、アルコキシ基、チオアルコキシ基、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチオフェン環、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチアゾール環、または、炭化水素基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、オルガノシリル基、ハロゲン原子、もしくは、トリフルオロメチル基で置換されていてもよいフェニル基を表す。]
  10.  請求項1~4のいずれか一項に記載の高分子化合物の製造方法であって、
     2,6-ジヨードベンゾ[1,2-d:4,5-d’]ビスチアゾール、および、2,6-ジブロモベンゾ[1,2-d:4,5-d’]ビスチアゾールからなる群より選ばれた1の化合物を出発原料とし、
     式(2)で表される化合物、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008

    [式(2)中、
    1、T2は、それぞれ独立に、アルコキシ基、チオアルコキシ基、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチオフェン環、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチアゾール環、または、炭化水素基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、オルガノシリル基、ハロゲン原子、もしくは、トリフルオロメチル基で置換されていてもよいフェニル基を表す。]
     式(3)で表される化合物、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009

    [式(3)中、
     T1、T2は、それぞれ上記と同様の基を表す。
     X1、X2は、ハロゲン原子を表す。]
     式(4)で表される化合物、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010

    [式(4)中、
     T1、T2は、それぞれ上記と同様の基を表す。
     また、B1、B2は、炭化水素基で置換されていてもよいチオフェン環、炭化水素基で置換されていてもよいチアゾール環、または、エチニレン基を表す。]
    を経ることを特徴とする製造方法。
  11.  下記第一工程、第二工程、および、第三工程を含む請求項10に記載の製造方法。
    第一工程:2,6-ジヨードベンゾ[1,2-d:4,5-d’]ビスチアゾール、および、2,6-ジブロモベンゾ[1,2-d:4,5-d’]ビスチアゾールからなる群より選ばれた1の化合物に、金属触媒の存在下、式(6)および/または式(7)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011

    [式(6)、(7)中、
     T1、T2は、それぞれ上記と同様の基を表す。
     R5、R6は、それぞれ独立に、水素原子、または、*-M3(R7k8を表す。
     R7、R8は、それぞれ独立に、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基、水酸基、炭素数1~6のアルコキシ基、または、炭素数6~10のアリールオキシ基を表す。
     M3は、ホウ素原子または錫原子を表す。*は結合手を表す。
     R7、R8は、M3とともに環を形成していてもよい。
     kは1、または、2の整数を表す。また、kが2のとき、複数のR7は、それぞれ同一でも、異なっていてもよい。]で表される化合物を反応させて、式(2)で表される化合物を得る工程
     第二工程:式(2)で表される化合物に塩基とハロゲン化試薬とを反応させて、式(3)で表される化合物を得る工程
     第三工程:式(3)で表される化合物に、金属触媒の存在下、下記式(8)および/または式(9)で表される化合物を反応させて、式(4)で表される化合物を得る工程
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012

    [式(8)、(9)中、 B1、B2は、それぞれ上記と同様の基を表す。
     R9~R12は、それぞれ独立に、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基、水酸基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数6~10のアリール基、または、炭素数6~10のアリールオキシ基を表す。
     M4、M5は、ホウ素原子、錫原子、または、ケイ素原子を表す。
     R9、R10は、M4とともに環を形成していてもよく、R11、R12は、M5とともに環を形成していてもよい。
     p、qは1または2の整数を表す。pが2のとき、複数のR9は、それぞれ同一でも、異なっていてもよい。また、qが2のとき、複数のR11は、それぞれ同一でも、異なっていてもよい。]
  12.  さらに、式(5)で表される化合物
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013

    [式(5)中、
     T1、T2、B3、B4は、それぞれ上記と同様の基を表す。
     R1~R4は、それぞれ独立に、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基、水酸基、炭素数1~6のアルコキシ基、または、炭素数6~10のアリールオキシ基を表す。
     M1、M2は、それぞれ独立に、ホウ素原子または錫原子を表す。
     R1、R2は、M1とともに環を形成していてもよく、R3、R4は、M2とともに環を形成していてもよい。
     m、nは、それぞれ、1または2の整数を表す。また、m、nが2のとき、複数のR1、R3は、それぞれ同一でも、異なっていてもよい。]を経る請求項10または11に記載の製造方法。
  13.  さらに下記第四工程を含む請求項12に記載の製造方法。
     第四工程:式(4)で表される化合物に、塩基とハロゲン化錫化合物とを反応させて、式(5)で表される化合物を得る工程
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