WO2014181502A1

WO2014181502A1 - 蒸気発生装置

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Publication number: WO2014181502A1
Application number: PCT/JP2014/002165
Authority: WO
Inventors: 澁谷　昌樹; 早川　雄二; 邦昭阿部; 真一山根
Original assignee: パナソニックＩｐマネジメント株式会社
Priority date: 2013-05-08
Filing date: 2014-04-16
Publication date: 2014-11-13
Also published as: CN105209827A; JP6167333B2; DE112014002313T5; CN105209827B; US10835072B2; US20160066738A1; JP2014219144A

Abstract

　蒸気発生装置は、水を貯める貯水室と、貯水室内を加熱して蒸気を発生させる加熱部と、貯水室に水を給水する給水装置と、貯水室内で発生した蒸気を噴出する蒸気噴出口と、貯水室内の温度を検知する温度検知部と、加熱部および給水装置を制御する制御部と、を備え、制御部は、加熱部による加熱開始後において、温度検知部が検知する貯水室内の温度に基づいて、貯水室内の貯水完了を判定する。

Description

蒸気発生装置

　本発明は、水を加熱して蒸気を発生させる蒸気発生装置に関する。

　従来、この種の蒸気発生装置は、貯水室である第２タンクに多量の水を給水し、液位検知装置が所定の液位を検出すると、ヒータを通電して第２タンク内の水を加熱し、蒸気を発生させていた（例えば、特許文献１参照）。

　また、別の蒸気発生装置として、蒸気用ヒータで蒸気発生容器を加熱するとともに、蒸気発生容器の温度を検知して水蒸気を発生させるために必要な温度に達した後に、間欠的に瞬時に蒸発する量の水を蒸気発生容器に供給し、蒸気を発生させるものもある（例えば、特許文献２参照）。

特開２０１０－０５４０９６号公報特開２０１０－２１６８０３号公報

　しかしながら、特許文献１の構成では、液位を検知する手段として液位検出手段（例えばフロートや電極）を用いている。例えば、液位検出手段としてフロートを用いた場合には、フロート部にスケール等が固着したり、あるいは液面の泡でフロートが変動するため、液位の誤検知が生じやすい。また、液位検出手段として電極を用いた場合には、電極にスケール等が付着したり、あるいは結露が発生したりするため、液位の誤検知が生じやすい。このように、液位検出手段を用いた場合には、水位の誤検知が生じやすく、場合によっては水位を検知できなくなる可能性があった。

　また、特許文献２の構成では、液位検出手段ではなく温度検出手段を用いているが、この温度検出手段は、蒸気発生容器の温度が水を瞬時に蒸発させる温度に到達しているかどうかを判断するために用いられる。温度検出手段によって所定の温度が検出されても、蒸気発生容器には瞬時に蒸発する量の水しか供給されない。このような構成によれば、蒸気発生容器内に多量の水を貯水してその貯水量を精度良く検出することはできない。よって、多量の蒸気を継続的に発生させることはできない。

　本発明は、前記従来の課題を解決するもので、誤検知を生じやすい液位検出手段を用いずに、貯水室内に多量の水を蓄えてもその貯水量を精度良く検出しながら蒸気を発生させることができる蒸気発生装置を提供することを目的とする。

　前記従来の課題を解決するために、本発明の蒸気発生装置は、水を貯める貯水室と、貯水室内を加熱して蒸気を発生させる加熱部と、貯水室に水を給水する給水装置と、貯水室内で発生した蒸気を噴出する蒸気噴出口と、貯水室内の温度を検知する温度検知部と、加熱部および給水装置を制御する制御部と、を備え、制御部は、加熱部による加熱開始後において、温度検知部が検知する貯水室内の温度に基づいて、貯水室内の貯水完了を判定する。

　本発明の蒸気発生装置は、液位検出手段を用いずに、貯水室内に多量の水を蓄えてもその貯水量を精度良く検出しながら蒸気を発生させることができる。

　本発明のこれらの態様と特徴は、添付された図面についての好ましい実施の形態に関連した次の記述から明らかになる。
本発明の実施の形態１における蒸気発生装置を備えた加熱調理器を表す扉が開かれた斜視図実施の形態１における蒸気発生装置を備えた外箱の除かれた加熱調理器を蒸気発生部側から見た斜視図実施の形態１における蒸気発生装置を備えた外箱の除かれた加熱調理器の正面断面図実施の形態１における蒸気発生装置の側面断面図実施の形態１における蒸気発生装置の側面断面図実施の形態１における加熱調理器を蒸気発生部側から見た側面図実施の形態１における貯水室の正面図実施の形態１における貯水室の斜視図実施の形態１における貯水室の斜視図実施の形態１における蒸気発生装置の平面断面図実施の形態１における蒸気発生装置のスチーム加熱モードのフローチャート実施の形態１における蒸気発生装置の貯水室サーミスタの温度と時間の関係を示すグラフ実施の形態１における蒸気発生装置の貯水室サーミスタの温度と時間の関係を示すグラフ本発明の実施の形態１における蒸気発生装置の貯水室サーミスタの温度と時間の関係を示すグラフ実施の形態１におけるサイフォンの原理による排水工程を模式的に示した蒸気発生装置の第１の断面図実施の形態１におけるサイフォンの原理による排水工程を模式的に示した蒸気発生装置の第２の断面図実施の形態１におけるサイフォンの原理による排水工程を模式的に示した蒸気発生装置の第３の断面図実施の形態１におけるサイフォンの原理による排水工程を模式的に示した蒸気発生装置の第４の断面図実施の形態１における給水路の水の排水工程を模式的に示した蒸気発生装置の第１の断面図実施の形態１における給水路の水の排水工程を模式的に示した蒸気発生装置の第２の断面図実施の形態１における給水路の水の排水工程を模式的に示した蒸気発生装置の第３の断面図実施の形態１における給水路の水の排水工程を模式的に示した蒸気発生装置の第４の断面図

　第１の発明は、水を貯める貯水室と、貯水室内を加熱して蒸気を発生させる加熱部と、貯水室に水を給水する給水装置と、貯水室内で発生した蒸気を噴出する蒸気噴出口と、貯水室内の温度を検知する温度検知部と、加熱部および給水装置を制御する制御部と、を備え、制御部は、加熱部による加熱開始後において、温度検知部が検知する貯水室内の温度に基づいて、貯水室内の貯水完了を判定する、蒸気発生装置である。これにより、誤検知を生じやすい液位検出手段ではなく、貯水室内の温度を検知する温度検知部を用いて、貯水室内に多量の水を蓄えてもその貯水量を精度良く検出しながら、蒸気を発生させることができる。

　第２の発明は、特に、第１の発明において、制御部は、加熱部による貯水室内の加熱開始後において、温度検知部が検知する貯水室の温度が第１の所定温度以上になってから、給水装置による給水を開始し、給水開始後における貯水室内の温度に基づいて、貯水室内の貯水完了を判定する。このような制御によれば、貯水室の温度が第１の所定温度以上になったことで、貯水室内の水が少なくなったことを推定し、給水を開始している。よって、温度検知部を用いた構成において、貯水室の貯水量を精度良く検出しながら、蒸気を発生させることができる。

　第３の発明は、特に、第２の発明において、制御部は、給水開始後において、貯水室内の温度が第２の所定温度以下になったときに貯水室内の貯水完了を判定する。このような制御によれば、貯水室の温度が第２の所定温度以下になったことで、貯水室内の水が多くなり所定の貯水量に到達したと推定し、貯水完了を判定している。よって、温度検知部を用いた構成において、貯水室の貯水量を精度良く検出しながら、蒸気を発生させることができる。また、給水過剰により貯水室から水があふれることや、給水過少により蒸気発生が遅くなることを防ぐことができる。

　第４の発明は、特に、第２又は第３の発明において、制御部は、給水開始後において、貯水室内の温度が下がり初めてからの下降温度幅が第１の所定温度幅以上となったときに貯水室内の貯水完了を判定する。このような制御によれば、特に、貯水室内の初期の水位が低い場合において、給水開始後における貯水室内の温度が下がり初めてからの下降温度幅が第１の所定温度幅（例えば２０℃）以上となったときに、貯水室内の貯水量が所定量以上に到達したと推定している。よって、温度検知部を用いた構成において、貯水室の貯水量を精度良く検出しながら、蒸気を発生させることができる。また、給水過剰により貯水室から水があふれることや、給水過少により蒸気発生が遅くなることを防ぐことができる。

　第５の発明は、特に、第１～第４のいずれかの１つの発明において、制御部は、加熱部による貯水室内の加熱開始後において、温度検知部が検知する貯水室の温度の変化が所定期間において第２の温度幅以内であるときに、貯水室内の貯水完了を判定し、給水を行わない。このような制御によれば、加熱部による貯水室の加熱後も貯水室内の温度が所定期間の間、所定の温度幅内にあることをもって、貯水室内の水位が十分高いことを推定している。よって、温度検知部を用いた構成において、貯水室の貯水量を精度良く検出しながら、蒸気を発生させることができる。また、給水過剰により貯水室から水があふれることや、給水過少により蒸気発生が遅くなることを防ぐことができる。

　第６の発明は、特に、第１～第５のいずれかの１つの発明において、制御部は、給水装置による給水を間欠的に行うように制御する。このような制御により、給水量をより精度良く制御することができる。

　第７の発明は、特に、第６の発明において、制御部は、給水装置による給水の回数が所定回数に到達したきに貯水室内の貯水完了を判定する。このような制御によれば、最初に貯水室内の水が全く貯まっていない状態で給水を開始しても十分な給水量を供給して貯水を完了することができるとともに、給水過剰により貯水室から水があふれることを防ぐことができる。

　第８の発明は、特に、第１～第７のいずれかの１つの発明の蒸気発生装置を備える加熱調理器である。

　以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。なお、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。

　（実施の形態１）
　図１は、本発明の実施の形態１における蒸気発生装置を備えた加熱調理器の斜視図である。図１では、加熱調理器の扉が開かれた状態が示される。

　図１において、加熱調理器１は、筐体４を備える。筐体４は、前面２が加熱室開口部３となる直方体状の箱である。筐体４は、内箱５と、外箱６とを備える。内箱５は、内側に加熱室１０を画定する箱である。内箱５は、アルミメッキ鋼板の表面がフッ素塗装されて形成される。外箱６は、内箱５の外方を覆うＰＣＭ鋼板である。載置皿９および食品１１は、加熱室開口部３を通して加熱室１０内に出し入れされる。加熱室１０内において、食品１１を載置した載置皿９は、内箱５のレール１２上をスライドする。なお、実施の形態１では、内箱５にフッ素塗装を行って、内箱５に付着する汚れを拭き取りやすいようにしたが、このような塗装に限らない。ホーロー塗装や他の耐熱用塗装を行ってもよい。また、内箱５の材質としては例えば、ステンレスであってもよい。

　載置皿９は、アルミメッキ鋼鈑で形成されている。また、載置皿９上の食品１１を加熱した時に食品１１からの油脂分が流れ出やすいように、載置皿９はプレスで凹凸加工されている。また、載置皿９の表面はフッ素塗装され、載置皿９の裏面には、マイクロ波を吸収して発熱する発熱体が備えられている。このように、載置皿９の裏面に発熱体を備えることにより、載置皿９の上方に設けられた加熱室ヒータ１５（図３参照）と、載置皿９の裏面の発熱体との組み合わせにより、食品１１の両面を加熱することができる。なお、載置皿９の下部には、レール台１３が設けられている。レール台１３は、載置皿９におけるレール１２との接触部分に配置されており、載置皿９の下部にねじ止めされて固定されている。レール台１３がＰＰＳ樹脂の成型品で形成されることで、載置皿９は加熱室１０と絶縁される。

　実施の形態１において、載置皿９の表面は、汚れを拭き取りやすいフッ素塗装を行ったが、ホーロー塗装や他の耐熱用塗装を行ってもよい。また、載置皿９の材質としては、アルミニウムやステンレスであってもよい。

　筐体４の前面２には、扉７が取り付けられている。扉７は、水平方向の軸を中心として回転可能（開閉自在）に取り付けられている。扉７が垂直状態まで回転される（扉７を閉じる）と、加熱室１０は閉鎖される。扉７が水平状態まで回転される（扉７を開く）と、加熱室１０は解放される。筐体４の前面２には、安全スイッチ８が取り付けられている。安全スイッチ８は、扉７を開いた時にマグネトロンや各ヒータの動作を止める。

　図２は、外箱６を除いた、実施の形態１における加熱調理器１の斜視図である。図２では、蒸気発生装置２７が露出して示されている。

　図２において、扉７には、タッチパネル５７および操作部５８が配置されている。タッチパネル５７は、ユーザによって接触可能な画面で構成される。ユーザがタッチパネル５７の画面を指で接触することで、調理メニューや調理時間を詳細に設定することができる。操作部５８は、ユーザによって操作されることで、「戻る」、「取消」、「スタート」の基本の操作を行うことができる。なお、実施の形態１では、タッチパネル５７を設けたが、タッチパネル５７の代わりに、単なる液晶表示を採用してもよい。タッチパネル５７の代わりに液晶表示を採用した場合、ユーザは、操作部５８の十字キーやダイヤルキーを用いて、液晶表示に表示された調理メニューや調理時間を選択してもよい。

　図３は、外箱６を除いた、実施の形態１における加熱調理器１の正面断面図を示す。

　図３に示すように、加熱調理器１は、載置台１４と、加熱室ヒータ１５とを備える。載置台１４は、食品を載置する台であり、加熱室１０に固定されて加熱室１０の底面を構成する。載置台１４は、結晶化ガラスで形成されている。加熱室ヒータ１５は、加熱室１０の天面付近に３本平行に設けられたヒータである。加熱室ヒータ１５の３本のうち、中央部に配置された加熱室ヒータ１５の波長のピーク値は、他の２本の加熱室ヒータ１５の波長のピーク値よりも短い。

　加熱室１０を構成する壁面は、アースコード（図示せず）によって接地されており、加熱室１０と一体成型されたレール１２も接地されている。

　加熱室１０の奥である背面側には、循環ファン１６と、コンベクションヒータ１７とが設けられている。循環ファン１６は、加熱室１０内の空気を撹拌、循環させるファンである。コンベクションヒータ１７は、加熱室１０内を循環する空気を加熱する室内気加熱ヒータであり、循環ファン１６を取り囲むように設けられている。

　加熱室１０の背面中央付近には、複数の吸気用通風孔１８と、複数の送風用通風孔１９とが、別々のエリアにて設けられている。吸気用通風孔１８は、加熱室１０側から循環ファン１６側に吸気を行うための孔である。逆に、送風用通風孔１９は、循環ファン１６側から加熱室１０側に送風を行うための孔である。吸気用通風孔１８および送風用通風孔１９は、複数のパンチング孔で形成されている。

　図３における加熱室１０の右上方には、赤外線センサ２１と、庫内サーミスタ２２とが設けられている。赤外線センサ２１は、加熱室１０の壁面に設けられた検出用孔２０を通じて、加熱室１０内の食品の温度を検出する。庫内サーミスタ２２は、加熱室１０の温度（庫内温度）を検出する。

　図３における加熱室１０の下方には、マグネトロン２３と、導波管２４と、回転アンテナ２５と、モータ２６とが設けられている。マグネトロン２３は、マイクロ波を発生させるマイクロ波発生部の一例であり、左方から見て９０ｍｍ×８０ｍｍの形状を有し、水平方向に設けられている。マグネトロン２３は、導波管２４に接続されている。導波管２４は、マグネトロン２３からのマイクロ波を伝送するための管であり、アルミメッキ鋼鈑を曲げて略Ｌ字状として内部通路が構成されている。回転アンテナ２５は、加熱室１０の水平方向中央付近に設けられた電波撹拌手段の一例であり、アルミニウムで構成されている。回転アンテナ２５は、モータ２６に接続されている。

　なお、実施の形態１では、マグネトロン２３、回転アンテナ２５、モータ２６、導波管２４は加熱室１０の下側に設けているが、これに限らない。例えば、これらの部材を加熱室１０の上側又は側面側に設けることも可能である。また、これらの部材の設置方向もあらゆる方向に設定することができる。また、回転アンテナ２５とモータ２６は必ずしも必要ではない。

　実施の形態１では、導波管２４の下方に制御部３４が設けられている。制御部３４は、ユーザの調理メニューの選択に基づいて、マグネトロン２３、モータ２６、循環ファン１６、加熱室ヒータ１５、第１の蒸気発生ヒータ５０、第２の蒸気発生ヒータ５１、コンベクションヒータ１７、庫内サーミスタ２２、貯水室サーミスタ３３、赤外線センサ２１、給水ポンプ４１、タッチパネル５７、操作部５８、庫内灯（図示せず）等を制御している。

　加熱室１０の左方には、蒸気発生装置２７が設けられている。蒸気発生装置２７は、貯水室２８と、貯水室パッキン２９と、貯水室カバー３０と、蒸気導入路３１と、蒸気噴出口３２とを備える。貯水室２８は、蒸気発生のための水を貯める容器であり、アルミダイキャストで形成されている。貯水室カバー３０は、貯水室２８に対向するように設けられ、シリコーン製の貯水室パッキン２９を介して貯水室２８に取り付けられる。また、貯水室カバー３０は、貯水室２８よりも加熱室１０に近い側に設けられ、アルミダイキャストで形成される。貯水室２８と貯水室カバー３０の両方を合わせて「貯水室」と称する場合もある。蒸気導入路３１は、貯水室２８の上方において貯水室２８と接続された管であり、加熱室１０の上方の側面から加熱室１０内に蒸気を供給する。蒸気導入路３１は、内径φ１０ｍｍのシリコーンチューブで形成されている。蒸気噴出口３２は、蒸気導入路３１と接続され、加熱室１０の側面における最上段のレール１２の上方から加熱室１０内に蒸気を吹出す。つまり、蒸気噴出口３２は、貯水室２８内で発生した蒸気を加熱室１０内に噴出する。蒸気噴出口３２は、ＰＰＳ樹脂で形成されている。

　蒸気噴出口３２は、蒸気導入路３１から加熱室１０に向かって、水平方向から概ね斜め３０°下方に傾斜して延びて、加熱室１０の凹面に接続されている。蒸気噴出口３２の先端は、加熱室１０の側面から加熱室１０内に突出しない。蒸気噴出口３２の先端部には、コの字状の切欠きが２つ設けられている。実施の形態１では、蒸気噴出口３２が水平方向から概ね斜め３０°下方に傾斜しているが、角度は３０°に限らない。

　また実施の形態１では、蒸気導入路３１および蒸気噴出口３２の断面形状は円形状であるが、楕円形や矩形状などでもよい。蒸気噴出口３２は、加熱室１０の側面の上方に１つ設けたが、位置や数はこれに限らない。例えば、加熱室１０の天面、底面および奥面など、加熱室１０に蒸気を供給できる位置であれば、蒸気噴出口３２をどこに配置してもよい。また、蒸気噴出口３２は、１つだけでなく複数個備えられてもよい。蒸気発生装置２７の位置も加熱室１０の側方に限らず、加熱室１０の上側、下側および奥側などに設けてもよい。

　なお、蒸気噴出口３２の孔の最長内寸は、加熱室１０内のマイクロ波が漏れないように、マイクロ波の波長の１／２以下が好ましい。実施の形態１では、マイクロ波の波長が約１２０ｍｍであるため、蒸気噴出口３２の孔の最長内寸は６０ｍｍ以下が望ましい。

　図４Ａは、実施の形態１における蒸気発生装置２７の全体構成を示す側面断面図であり、図４Ｂは、実施の形態１における蒸気発生装置２７の要部拡大図である。

　図４Ａ、４Ｂに示すように、蒸気発生装置２７は、第１の蒸気発生ヒータ５０と、第２の蒸気発生ヒータ５１とを備える。第１の蒸気発生ヒータ５０は、貯水室２８内の水を加熱して蒸気を発生させる第１の加熱部の一例であり、出力６５０Ｗの直線状のシーズヒータで構成されている。第１の蒸気発生ヒータ５０は、貯水室２８の高さ方向に対して中央付近において略水平方向に延びるように、貯水室２８のアルミダイキャストに鋳込まれている。第２の蒸気発生ヒータ５１は、貯水室２８内の水を加熱して蒸気を発生させる第２の加熱部の一例であり、出力３５０Ｗの直線状のシーズヒータで構成されている。第２の蒸気発生ヒータ５１は、第１の蒸気発生ヒータ５０の上方において、略水平方向に設けられている。第２の蒸気発生ヒータ５１は、第１の蒸気発生ヒータ５０と同様に、貯水室２８のアルミダイキャストに鋳込まれている。なお、加熱部はヒータ以外であってもよく、例えば、ＩＨ式の加熱部であってもよい。

　貯水室２８内の対向する第１の側面５３と第２の側面５４の間隔は、第１の蒸気発生ヒータ５０よりも下方において大きくなっている（Ｌ１＞Ｌ２）。すなわち、貯水室２８と貯水室カバー３０との距離は、第１の蒸気発生ヒータ５０および第２の蒸気発生ヒータ５１近傍よりも、第１の蒸気発生ヒータ５０の下方にある貯水室凹部２８ａの方が大きくなっており、断面積も大きくなっている。また、貯水室カバー３０の内壁面のうち、第１の蒸気発生ヒータ５０に対向する位置には凹部３０ａが設けられる。すなわち、貯水室カバー３０は、第１の蒸気発生ヒータ５０に対向する位置に、第１の蒸気発生ヒータ５０と同心円状で右方に膨らんだ凹部３０ａを形成している。

　第１の蒸気発生ヒータ５０と第２の蒸気発生ヒータ５１の間には、貯水室サーミスタ３３が設けられている。貯水室サーミスタ３３は、貯水室２８の温度を検知する温度検知部の一例であり、熱伝導グリスが塗布され、貯水室２８と接触して設けられている。

　実施の形態１では、加熱部である第１の蒸気発生ヒータ５０及び第２の蒸気発生ヒータ５１として、出力が異なる直線状のシーズヒータを２本用いて、合計の出力を１０００Ｗとしている（下方が６５０Ｗ、上方が３５０Ｗ）。このような場合に限らず、必要な蒸気量等に応じて、所望の出力を有するヒータを設けるようにしても良い。例えば、出力合計１０００Ｗ以外となるヒータや、出力が同じ複数本のヒータや、３本以上や１本だけのヒータを用いても良い。また、ヒータの形状としては、直線状のヒータ以外の各種形状のヒータを用いることが可能であり、例えばＵ字形状やＬ字形状のヒータ等を用いることができる。また、上方に位置するヒータの出力を、下方に位置するヒータの出力よりも大きくしても良い。

　また、実施の形態１では、貯水室カバー３０の凹部３０ａは、第１の蒸気発生ヒータ５０と同心円状で右方に膨らんだ形状としたが、このような場合に限らない。例えば、貯水室カバー３０において、第２の蒸気発生ヒータ５１や他のヒータに対向する位置に同様の形状を設けてもよく、凹部３０ａと同様の効果が得られる。

　また、スケール付着を減らすために、貯水室２８の内面または貯水室カバー３０内面をフッ素やシリコーン等でコーティングしてもよい。

　また、貯水室サーミスタ３３のような温度検知部を用いることにより、水位を直接的に検知するフロートなどの水位検知部と異なり、検知部にスケールが付着しても、長く継続的に温度を検知することができる。これにより、スケールに対する信頼性を高くすることができる。

　図５は、実施の形態１における蒸気発生装置２７を備えた加熱調理器１を蒸気発生部２７側から見た側面図を示す。

　図５に示すように、蒸気導入路３１は、蒸気発生装置２７の中央部から上方に伸びて、略水平方向（図５の右方）に屈曲している。蒸気発生装置２７の左上部には、２個の温度スイッチ６０が設けられている。温度スイッチ６０は、温度が１３５℃以上になると導通しなくなるスイッチである。温度スイッチ６０は、厚み１ｍｍのアルミ板を介して、貯水室２８とビスによって固定されている。貯水室２８の左下方には、給水口３８と、給水路４０と、給水ポンプ４１と、給水タンク４２とが設けられている。給水路４０は、給水口３８の上流側に配置された管であり、半透明で弾性体のシリコーンで形成されている。給水路４０の内径はφ３ｍｍであり、外径はφ５ｍｍである。給水ポンプ４１は、水を送るポンプである。給水タンク４２は、給水ポンプ４１から貯水室２８に送る水を貯えたタンクである。このように、貯水室２８に設けられた給水口３８及び給水路４０を通じて水を送る給水装置として、給水ポンプ４１が設けられている。

　一方、貯水室２８の右下方には、排水口３９と、排水路４３と、排水路出口４６と、排水タンク４７とが設けられている。排水路４３は、排水口３９に接続された管であり、半透明で弾性体の内径φ７ｍｍ外径φ１１ｍｍのシリコーンで形成されている。排水路４３は、排水口３９から略水平方向に右方に伸びてから、垂直方向に屈曲し、やや右上方に傾斜しながら伸びる。排水路４３はさらに、排水路頂点４４を頂点として、チューブ屈曲部材６１により１８０°屈曲させられて、略垂直方向下方に伸びる。排水路頂点４４は、貯水室２８の上側に設けられた蒸気噴出口４５と略同一高さに位置される。排水路４３はその後、やや右下方に傾斜しながら伸びて、排水口３９とほぼ同一高さ位置で排水路出口４６（内径φ８ｍｍ）に接続される。排水路出口４６の下方には、排水を貯えるための排水タンク４７が設けられている。このように、貯水室２８に設けられた排水口３９を通じて貯水室２８内の水を排水する排水路４３が備えられている。

　実施の形態では、排水路４３がシリコーンで形成されるが、これに限らず例えば、フッ素、ポリプロピレン、ポリエチレン等で形成されてもよい。

　給水タンク４２は、容器部と蓋部の２部品で構成されており、それぞれが透明なＡＳ樹脂で形成されている。給水タンク４２の容器部と蓋部は、パッキン（図示せず）を挟んで水が漏れないように密閉されている。給水タンク４２の側面には、排水ライン４９と満水ライン５２がシルク印刷により表示されている。給水タンク４２の排水ライン４９まで注水すると、給水タンク４２に収納される水容量は約１００ｍｌとなる。この水容量は、貯水室２８内の内容積より１０ｍｌ程多い。給水タンク４２の満水ライン５２まで注水すると、給水タンク４２に収納される水容量は約６５０ｍｌとなる。

　排水タンク４７は、容器部の１部品としてＡＢＳ樹脂で形成されている。なお、加熱調理器１には、排水タンク脱着検出手段（図示せず）が設けられている。排水タンク脱着検出手段を用いることで、排水タンク４７が加熱調理器１に装着されているか、装着されていないかを認識することができる。

　実施の形態１では、排水ライン４９と満水ライン５２はシルク印刷によって表示したが、このようなシルク印刷に限らない。例えば、給水タンク４２に刻印を付けたり、給水タンク４２に凹部や凸部を設けて表示してもよい。

　図６は、実施の形態１における蒸気発生装置２７を構成する貯水室２８の正面図であり、図７Ａ、７Ｂは、実施の形態１における蒸気発生装置２７を構成する貯水室２８の斜視図である。図７Ａは、実施の形態１における蒸気発生装置２７を構成する貯水室２８を右下方から見た斜視図であり、図７Ｂは、実施の形態１における蒸気発生装置２７を構成する貯水室２８を左上方から見た斜視図である。

　図６に示すように、貯水室２８には、仕切り板５６と、複数のフィン３６とが設けられている。仕切り板５６は、貯水室２８内の水が貯水室２８から吹き零れることを防止する板である。仕切り板５６は、頂点が貯水室２８の中央上部となるような略円弧形状を有する。複数のフィン３６は、貯水室２８の内壁に一体的に形成されたフィンであり、それぞれの厚みは約２ｍｍである。フィン３６の長手方向は、第１の蒸気発生ヒータ５０と第２の蒸気発生ヒータ５１を略垂直に横切るように延びている。複数のフィン３６は、蒸気が発生する方向である蒸気発生方向（図６において、下から上に向かう方向）に沿って形成され、互いに離間して配置される。複数のフィン３６のうち、貯水室２８の中央部（第１の範囲ｅ１）にあるフィン３６は、水平方向に第１の間隔ｄ１（約５ｍｍ）で並べられているが、貯水室２８の左右端部側（第２の範囲ｅ２）にあるフィン３６ａ、３６ｂは、水平方向に第２の間隔ｄ２（約１２ｍｍ）で並べられている。なお、第１の範囲ｅ１と、第２の範囲ｅ２×２との比は、５：６としている。具体的には、第１の範囲ｅ１が５０ｍｍであり、第２の範囲ｅ２が３０ｍｍである。フィン３６のうち、貯水室２８の中央部にあるフィン３６ｃ、３６ｄは、貯水室サーミスタ３３の取付部と繋がっている。

　なお、フィン３６の厚み、長さおよび間隔はこのような値に限らず、フィン３６の熱伝導性を考慮して適宜決定してもよい。例えば、貯水室２８の形状や、第１の蒸気発生ヒータ５０と第２の蒸気発生ヒータ５１の構成等を考慮して、フィン３６の厚み、長さおよび間隔を適宜決定してもよい。

　貯水室２８の内底面３７は、水平面との角度が約５°のテーパー状に形成される。内底面３７の右上方における貯水室２８の右下端には、給水口３８が設けられている。内底面３７の左下方における貯水室２８の左下端には、排水口３９が設けられている。給水口３８と排水口３９は別々に設けられるとともに、それぞれ逆向きに延びている。内底面３７は、給水口３８から排水口３９に向かって下方に傾斜している。

　実施の形態１では、内底面３７は水平面との角度が約５°のテーパー状としたが、角度はこれに限らない。内底面３７における水の流れが異なるため、貯水室２８の形状、排水路４３の形状および排水時の給水量などを考慮して、内底面３７の角度を適宜決定してもよい。また、内底面３７は水平面と平行であってもよく、直線でなくてもよい。

　第１の蒸気発生ヒータ５０の下方において、フィン３６の下端には、リブ５５が設けられている。リブ５５は、貯水室２８の内側側壁２８Ａとフィン３６を連結するように貯水室２８に一体に形成されており、内底面３７と平行に延びる。リブ５５の厚みは約２ｍｍである。リブ５５は、フィン３６の下端で複数のフィン３６を連結している。リブ５５と内底面３７によって、排水口３９から給水口３８をつなぐ内部流路が形成されている。

　なお、リブ５５をフィン３６の下端に設けたが、リブ５５の位置はこれに限らず、排水口３９よりも上流であればどこでもよい。例えば、貯水室２８の内側側壁２８Ａとフィン３６を連結していれば、フィン３６のどこにリブ５５を設けてもよい。また、リブ５５を内底面３７と平行に設けたが、内底面３７と平行である必要はなく、水平でも曲線でもよい。さらに、フィン３６とリブ５５とを連結させるように設けたが、完全に連結する必要はなく、フィン３６とリブ５５とを微小隙間を介して配置させても良い。

　図８は、実施の形態１における蒸気発生装置２７の平面断面図を示す。

　図８に示すように、フィン３６は、貯水室２８の第１の側面５３から突出形成されている。フィン３６の先端３６Ａは、第１の側面５３と対向する貯水室カバー３０で形成された第２の側面５４に対して離間している（図４Ｂの側面断面図を参照）。ここで、フィン３６の先端３６Ａと第２の側面５４との隙間は、約２ｍｍ開いている。一方で、リブ５５の近傍にあるフィン３６の先端３６Ｂは、第２の側面５４と略接するように設けられている。また、リブ５５と第２の側面５４との隙間（図８）は、約５ｍｍ開いている。

　リブ５５は、複数の凹部５５Ａで形成された複数の開口５９を有している。開口５９は、フィン３６と、リブ５５の凹部５５Ａと、第２の側面５４とにより形成されており、断面が略四角形である。開口５９の略四角形の対角線の長さは、図７Ａに示す排水口３９の排水口入口３９Ａよりも小さくなっている。つまり、開口５９は、排水口３９の上流に配置され、開口５９の大きさは、排水口入口３９Ａより小さい。

　なお、フィン３６およびリブ５５は第１の側面５３から第２の側面５４に近づくに連れて約２°の傾斜角度で徐々に細くなっている。第１の側面５３、第２の側面５４およびフィン３６で形成される空間の断面積は、蒸気噴出口３２の断面積以上となっている。

　なお、実施の形態１では、貯水室２８から突出形成されたフィン３６の先端３６Ａは、貯水室カバー３０の第２の側面５４と約２ｍｍの隙間を設けたが、隙間の長さはこれに限らない。フィン３６と貯水室カバー３０の間を水が通過することができる隙間であれば、フィン３６の先端３６Ａと第２の側面５４との隙間を適宜設定してもよい。

　以上のように構成された蒸気発生装置２７を備えた加熱調理器１について、以下その動作、作用を説明する。

　ユーザによって、タッチパネル５７でマイクロ波加熱モードが選択され、操作部５８のスタートが押されると、マグネトロン２３からマイクロ波が放出される。マグネトロン２３から放出されたマイクロ波は、導波管２４を通り、回転アンテナ２５に伝わる。モータ２６によって回転する回転アンテナ２５によって、マイクロ波が加熱室１０内に撹拌されながら供給される。加熱室１０内に供給されたマイクロ波は、被加熱物である食品１１に直接吸収されるものもあれば、加熱室１０の壁面を反射しながら食品１１に吸収されて、食品１１を加熱するものもある。マイクロ波の中には、マグネトロン２３に戻ってくるものもある。また、自動加熱時においては、主に赤外線センサ１５や庫内サーミスタ９を用いて食品や庫内の状態を検知し、検知された状態に応じて、マイクロ波の出力や放出方向を制御部３４が制御する。なお、このマイクロ波加熱モード時においては、加熱室１の内部から載置皿９が取り外されており、載置台１４の上に食品１１が載置された状態で加熱される。

　ユーザによって、タッチパネル５７でオーブン加熱モードが選択され、操作部５８のスタートが押されると、加熱室ヒータ１５またはコンベクションヒータ１７が通電されて発熱し、循環ファン１６によって加熱室１０内を熱風が循環し、食品１１が加熱される。また、自動加熱時においては、主に赤外線センサ２１や庫内サーミスタ２２を用いて食品や庫内の状態を検知し、検知された状態に応じて、加熱室ヒータ１５、コンベクションヒータ１７および循環ファン１６の切り替えや、出力の制御を制御部３４が行う。

　ユーザが加熱室１０内に載置皿９をセットし、タッチパネル５７でグリル加熱モードを選択し、操作部５８のスタートを押すと、マイクロ波加熱モードと同様にマイクロ波が加熱室１０内に供給され、載置皿９の底面の発熱体が発熱する。発熱した発熱体の熱が熱伝導によって載置皿９に伝わり、載置皿９が加熱され、食品１１を下方から加熱する。

　それと同時に、マイクロ波が載置皿９と加熱室１０の壁面との隙間から回り込み、食品１１が加熱される。また、グリル加熱モードにおいては、加熱室ヒータ１５もマイクロ波と複合してもしくは単独で通電されて発熱し、その輻射熱により食品１１を上から加熱する。

　また、自動加熱時においては、主に赤外線センサ２１や庫内サーミスタ２２を用いて食品や庫内の状態を検知し、検知した状態に応じて、マイクロ波と加熱室ヒータ１５の切り替えや、出力の制御を制御部３４が行う。このようにして、食品１１を上下両面から焼き上げる。

　図９は、実施の形態１における蒸気発生装置２７のスチーム加熱モードのフローチャートを示す。図１０Ａ―１０Ｃは、実施の形態１における蒸気発生装置２７が備える貯水室サーミスタ３３の温度と時間の関係を示すグラフである。図１０Ａは、貯水室２８内の初期の水位が高水位のとき（初期の貯水量が多いとき）を示し、図１０Ｂは、貯水室２８内の初期の水位が中水位のとき（初期の貯水量が多くも少なくもないとき）を示し、図１０Ｃは、貯水室２８内の初期の水位が低水位のとき（初期の貯水量が少ないとき）を示す。

　まず、ユーザによって、給水タンク４２の満水ライン５２まで水が補充された後、タッチパネル５７でスチーム加熱モードが選択され、操作部５８のスタートが押される（ステップＳ１０）。そうすると、制御部３４は、第１の蒸気発生ヒータ５０と第２の蒸気発生ヒータ５１を起動（ＯＮ）して発熱させる（ステップＳ１１）。この動作とともに、制御部３４は、貯水室サーミスタ３３による貯水室２８の温度検知を開始して、貯水室２８の温度を継続的に検知する。

　次に、貯水室サーミスタ３３が検知する貯水室２８の温度変化が１０秒間で±１℃以内に収まっているかどうかを判定する（Ｓ１２）。温度変化が±１℃以内に収まっている場合には、貯水室２８には初期から十分な量の水が溜まっていると推定して、貯水完了と判断する（Ｓ１９）。この場合には、貯水完了と判断するまで、給水は行わない。なお、図１０Ａには、Ｓ１２において温度変化が±１℃以内に収まっていると判定され、Ｓ１９において貯水完了と判断された場合の例が示される。

　Ｓ１２において、温度変化が±１℃以内に収まってないと判定されると、制御部３４は、次に、貯水室２８の温度が１１０℃以下であるかどうかを判定する（Ｓ１３）。Ｓ１３において、貯水室２８の温度が１１０℃以下であると判定された場合には、Ｓ１２に戻る。一方で、Ｓ１３において、貯水室２８の温度が１１０℃を超えると判定された場合には、制御部３４は、給水ポンプ４１に給水命令を出して、給水ポンプ４１を１．５秒間動作させる（Ｓ１４）。これにより、給水タンク４２内の約９ｍｌの水が、給水ポンプ４１から給水路４０および給水口３８を通じて、貯水室２８内に給水される。

　その後、給水判定のための５秒間のマスク時間を設ける（Ｓ１５）。具体的には、Ｓ１４の実施後における５秒間、給水を行わずに待機する。

　次に、制御部３４は、貯水室２８の温度が１１０℃以下であるかどうかを判定する（Ｓ１６）。具体的には、給水開始後におけるＳ１５によるマスク時間の経過後、貯水室２８内の温度が所定温度（１１０℃）以下になったかどうかを判定する。Ｓ１６において、貯水室２８内の温度が１１０℃以下であると判定された場合には、制御部３４は、貯水室２８内に所定量の水が貯水されたと推定して、貯水室２８内の貯水が完了したと判定する（Ｓ１９）。図１０Ｂには、そのように判定された場合の例が示される。

　一方で、Ｓ１６において、貯水室２８内の温度が１１０℃を超えると判定された場合には、制御部３４は、次に、貯水室２８の温度が極大値から２０℃以上下降したかどうかを判定する（Ｓ１７）。具体的には、Ｓ１４による給水開始後において、貯水室２８内の温度が下がり始めてからの下降温度幅が所定温度幅（実施の形態１では２０℃）以上かどうかを判定する。Ｓ１７において、貯水室２８内の温度が下がり始めてからの下降温度幅が２０℃以上であると判定された場合には、制御部３４は、貯水室２８内に所定量の水が貯水されたと推定して、貯水室２８内の貯水が完了したと判定する（Ｓ１９）。図１０Ｃには、そのように判定された場合の例が示される。

　一方で、Ｓ１７において、貯水室２８内の温度が下がり始めてからの下降温度幅が２０℃よりも小さいと判定された場合には、次に、制御部３４は、給水回数が８回以上かどうかを判定する（Ｓ１８）。具体的には、Ｓ１４による給水開始後において、給水ポンプ４１による給水回数が８回以上かどうかを判定する。Ｓ１８において、給水回数が８回以上と判定された場合には、制御部３４は、貯水室２８に十分な量の給水を行っていると判断して、貯水室２８内の貯水が完了したと判定する。

　Ｓ１８において、給水回数が８回よりも少ないと判定された場合には、再度、Ｓ１４に戻り、貯水室２８へ給水を行う。

　このようなフローによれば、Ｓ１６－Ｓ１８のいずれの判定結果がＹＥＳとなり、Ｓ１９で貯水完了と判断されるまで、Ｓ１４－Ｓ１８が繰り返される。すなわち、貯水室２８に対して間欠的に給水が行われる。

　なお、本実施の形態１では、繰り返し間欠的に給水を行ったが、このような場合に限らず、給水ポンプ４１の流量を減らすとともに１度の給水時間を長くすることで、同じ水量を供給するようにしてもよい。

　こうして貯水室２８に給水されると、第２の蒸気発生ヒータ５１の下方まで水位が上昇するとともに、水がフィン３６の間に満たされる。この状態で、第１の蒸気発生ヒータ５０と第２の蒸気発生ヒータ５１による加熱を行うことで、直接的に又はフィン３６を介して貯水室２８内の水が加熱され、加熱された水が蒸発することで蒸気が発生する。貯水室２８で発生した蒸気は、蒸気噴出口４５および蒸気導入路３１を通って蒸気噴出口３２から加熱室１０内に放出される。加熱室１０内に放出された蒸気によって、加熱室１０内部および食品１１が加熱される。このとき、載置皿９の上に食品１１を載置し、載置皿９をレール１２の上に置くと、載置皿９により加熱室１０内の空間が仕切られて、蒸気が充満する空間が狭くなる。これにより、食品１１の存在する空間だけを効率よく加熱することもできる。

　貯水完了と判断され、Ｓ１９に移行すると、給水判定のための１０秒間のマスク時間を設ける（Ｓ２０）。具体的には、給水を行わない１０秒間の待機時間を設ける。

　その後、蒸発を続けると、貯水室２８及び排水路４３の水位が下がり、貯水室２８の温度が上昇する。次に、貯水室２８内の温度が１１０℃以下であるかどうかを判定する（Ｓ２１）。Ｓ２１において、貯水室２８内の温度が１１０℃を超えると判定された場合には、制御部３４は、給水ポンプ４１を１．５秒間動作させる（Ｓ２２）。これにより、約９ｍｌの水が貯水室２８に供給される。その後、再度、Ｓ２０に戻る。給水を行うと、貯水室２８の温度が下がり、蒸発を続けて水位が下がり温度が上昇するまで次の給水は行わない。ここで、給水ポンプ４１による給水量は、貯水室２８内の水位が第２の蒸気発生ヒータ５１を超えないように調整されている。すなわち、貯水室サーミスタ３３が給水タイミングである１１０℃を超えたことを検知するときの図６の給水前水位ｈ１は、第１の蒸気発生ヒータ５０の中心位置より下方に設定される。また、図６の給水後水位ｈ２は、第１の蒸気発生ヒータ５０の中心位置より上方に設定される。このような設定により、蒸気発生中における水位を第１の蒸気発生ヒータ５０の近傍に維持している。そのため、貯水室２８の水位が一定の水位より下がらないように制御でき、直接的に水位を検出する水位センサなしで貯水室サーミスタ３３により水位を検出することができる。本実施の形態１では、蒸気発生時において、制御部３４は、第１の蒸気発生ヒータ５０から水位までの水の容量（体積あるいは距離）が、第１の蒸気発生ヒータ５０から貯水室２８内の底面３７までの水の容量（体積あるいは距離）よりも小さくなるように給水制御する。

　なお、実施の形態１では、水位が第１の蒸気発生ヒータ５０の中心位置よりも下方に来た時に、第１の蒸気発生ヒータ５０の中心位置よりも上方まで給水したが、このような場合に限らない。例えば、第１の蒸気発生ヒータ５０の近傍であれば、給水前水位ｈ１と給水後水位ｈ２がともに第１の蒸気発生ヒータ５０の中心位置より下方であってもよい。同様に、第１の蒸気発生ヒータ５０の近傍であれば、給水前水位ｈ１と給水後水位ｈ２がともに第１の蒸気発生ヒータ５０の中心位置より上方であってもよい。このように、蒸気発生中の水位を常に第１の蒸気発生ヒータ５０の近傍に維持することができればよい。

　一方で、給水ポンプ４１に給水命令を出しても、貯水室２８の温度上昇が止まらない場合には、給水タンク４２内の水がなくなった、又は給水ポンプ４１等が故障したと判定する。そのように判定された場合には、スチーム加熱を終了するとともに、ブザー音を鳴らし、給水タンク２９への注水を促す内容をタッチパネル５７に表示して、ユーザに報知する。なお、スチーム加熱の有無によって、調理性能に影響が大きく与えられないメニューに関しては、ブザー音を鳴らさずに調理を続行する場合もある。

　Ｓ２１において、貯水室２８内の温度が１１０℃以下であると判定された場合には、Ｓ２３に移行する。Ｓ２３においては、スチーム加熱時間が終了したかどうか、およびスチーム加熱が取り消されたかどうかを判定する。Ｓ２３における判定結果がＮＯである場合には、Ｓ２１に戻る。一方で、Ｓ２３における判定結果がＹＥＳである場合には、第１の蒸気発生ヒータ５０と第２の蒸気発生ヒータ５１への通電を停止（ＯＦＦ）して（Ｓ２４）、調理を終了する（Ｓ２５）。

　なお、図９に示すフローで使用される貯水室２８の温度の閾値（例えば１１０℃、２０℃）、給水ポンプの動作時間（例えば１．５秒）および給水判定時間（例えば５秒、１０秒）は、第１の蒸気発生ヒータ５０と第２の蒸気発生ヒータ５１の出力や、貯水室２８の形状によって大きく異なるため、適宜決定してもよい。

　このように、本実施の形態１の蒸気発生装置２７は、水を貯める貯水室２８と、貯水室２８内を加熱して蒸気を発生させる加熱部（第１の蒸気発生ヒータ５０又は第２の蒸気発生ヒータ５１）と、貯水室２８に水を給水する給水装置（給水ポンプ４１）と、貯水室２８内で発生した蒸気を噴出する蒸気噴出口３２と、貯水室２８内の温度を検知する温度検知部（貯水室サーミスタ３３）と、加熱部および給水装置を制御する制御部３４とを備える。また、制御部３４は、加熱部による加熱開始後において、温度検知部が検知する貯水室２８内の温度に基づいて、貯水室２８内の貯水完了を判定する。これにより、誤検知を生じやすい液位検出手段ではなく、貯水室２８内の温度を検知する温度検知部を用いて、貯水室２８内に多量の水を蓄えてもその貯水量を精度良く検出しながら、蒸気を発生させることができる。

　また、本実施の形態１の蒸気発生装置２７によれば、制御部３４は、加熱部による貯水室２８内の加熱開始後において、温度検知部が検知する貯水室２８の温度が第１の所定温度（例えば１１０℃）以上になってから、給水装置による給水を開始し、給水開始後における貯水室２８内の温度に基づいて、貯水室２８内の貯水完了を判定する。このような制御によれば、貯水室２８の温度が第１の所定温度以上になったことで、貯水室２８内の水が少なくなったことを推定し、給水を開始している。よって、温度検知部を用いた構成において、貯水室２８の貯水量を精度良く検出しながら、蒸気を発生させることができる。

　また、本実施の形態１の蒸気発生装置２７によれば、制御部３４は、給水開始後において、貯水室２８内の温度が第２の所定温度（例えば１１０℃）以下になったときに貯水室２８内の貯水完了を判定する。このような制御によれば、貯水室２８の温度が第２の所定温度以下になったことで、貯水室２８内の水が多くなり所定の貯水量に到達したと推定し、貯水完了を判定している。よって、温度検知部を用いた構成において、貯水室２８の貯水量を精度良く検出しながら、蒸気を発生させることができる。また、給水過剰により貯水室２８から水があふれることや、給水過少により蒸気発生が遅くなることを防ぐことができる。

　また、本実施の形態１の蒸気発生装置２７によれば、貯水室サーミスタ３３により検知された温度が上昇から下降に変化した極大値より所定温度値以上低下し、貯水を完了したと判断するまで、制御部３４は給水ポンプを用いて給水を行うように制御する。すなわち、制御部３４は、給水開始後において、貯水室２８内の温度が下がり初めてからの下降温度幅が第１の所定温度幅（例えば２０℃）以上となったときに貯水室２８内の貯水完了を判定する。このような制御によれば、特に、貯水室２８内の初期の水位が低い場合において、給水開始後における貯水室２８内の温度が下がり初めてからの下降温度幅が第１の所定温度幅（例えば２０℃）以上となったときに、貯水室２８内の貯水量が所定量以上に到達したと推定している。よって、温度検知部を用いた構成において、貯水室２８の貯水量を精度良く検出しながら、蒸気を発生させることができる。また、給水過剰により貯水室２８から水があふれることや、給水過少により蒸気発生が遅くなることを防ぐことができる。

　また、本実施の形態１の蒸気発生装置２７によれば、貯水室サーミスタ３３により検知された温度が所定時間、略一定温度を維持し貯水を完了したと判断するまで、制御部３４は給水ポンプを用いて給水を行うように制御する。すなわち、制御部３４は、加熱部による貯水室２８内の加熱開始後において、温度検知部が検知する貯水室２８の温度の変化が所定期間（例えば１０秒間）において第２の温度幅以内（例えば±１℃）であるときに、貯水室２８内の貯水完了を判定し、給水を行わない。このような制御によれば、加熱部による貯水室２８の加熱後も貯水室２８内の温度が所定期間の間、所定の温度幅内にあることをもって、貯水室２８内の水位が十分高いことを推定している。よって、温度検知部を用いた構成において、貯水室２８の貯水量を精度良く検出しながら、蒸気を発生させることができる。また、給水過剰により貯水室２８から水があふれることや、給水過少により蒸気発生が遅くなることを防ぐことができる。

　また、制御部３４は、給水ポンプによる給水を間欠的に行うように制御する。このような制御により、給水量をより精度良く制御することができる。

　さらに、本実施の形態１の蒸気発生装置２７によれば、給水ポンプ４１により給水された回数が所定回数に達し貯水を完了したと判断するまで、制御部３４は給水ポンプ４１を用いて給水を行うように制御する。すなわち、制御部３４は、給水装置による給水の回数が所定回数（例えば８回）に到達したきに貯水室２８内の貯水完了を判定する。このような制御によれば、最初に貯水室２８内の水が全く貯まっていない状態で給水を開始しても十分な給水量を供給して貯水を完了することができるとともに、給水過剰により貯水室２８から水があふれることを防ぐことができる。

　実施の形態１における蒸気発生装置２７は、水を貯める貯水室２８と、貯水室２８内の水を加熱して蒸気を発生させる第１の加熱部（第１の蒸気発生ヒータ５０）と、貯水室２８内に水を給水する給水装置（給水ポンプ４１）と、給水装置による給水を制御する制御部３４と、貯水室２８内で発生した蒸気を噴出する蒸気噴出口３２と、貯水室２８内の温度を検出する温度検出部（貯水室サーミスタ３３）と、を備える。また、温度検出部が検出する温度に応じて、貯水室２８内の水位が算出され、蒸気発生時において、制御部３４は、算出される水位に応じて、第１の加熱部から水位までの水の容量が第１の加熱部から貯水室内の底面までの水の容量よりも小さくなるように給水制御する。これにより、第１の蒸気発生ヒータ５０により貯水室２８内の水面付近の水を集中的に加熱して蒸発させることができるため、素早く蒸気を発生させることができる。よって、貯水室２８内に多量の水を貯えても、初期の蒸気発生が早い蒸気発生装置２７を提供することができる。また、貯水室２８内における下方の水への加熱を最小限に抑えることにより、貯水室２８内の下方での沸騰を抑制することができる。これにより、沸騰により発生した気泡が上昇しながら成長して大きな気泡となり、水面に上昇して破裂することによる沸騰水の駆け上がりを少なくすることができ、沸騰水が蒸気噴出口３２から噴出することを防ぐことができる。また、気泡の破裂音を抑えることができる。

　また、実施の形態１における蒸気発生装置２７は、第１の蒸気発生ヒータ５０よりも上方に配置される第２の蒸気発生ヒータ５１をさらに備え、第１の蒸気発生ヒータ５０の出力は、第２の蒸気発生ヒータ５１の出力以上である。これにより、貯水室２８内の水面付近の水をより効率よく加熱することができるため、素早く蒸気を発生させることができる。よって、貯水室２８内に多量の水を貯えても、初期の蒸気発生が早い蒸気発生装置２７を提供することができる。

　さらに、実施の形態１における蒸気発生装置２７によれば、貯水室２８内の対向する第１の側面５３と第２の側面の間隔は、第１の蒸気発生ヒータ５０よりも下方において大きくなる。これにより、貯水室２８の下方（貯水室凹部２８ａ）には多量の水を貯えることができ、蒸発が進んでも貯えられている水量が多くなる。これにより、スケールが濃縮されにくくなり、スケールの析出を抑えながら素早く蒸気を発生させることができる。よって、貯水室２８内に多量の水を貯えても、初期の蒸気発生が早い蒸気発生装置２７を提供することができる。

　また、実施の形態１における蒸気発生装置２７によれば、貯水室２８内の第１の蒸気発生ヒータ５０よりも下方において、給水装置（給水ポンプ４１）が貯水室２８内に水を給水するための給水口３８が設けられる。これにより、温度の高い第１の蒸気発生ヒータ５０近傍の水面付近に給水して水面付近の温度を下げることなく、温度の低い貯水室２８内の下方の水に給水する。よって、すでに加熱されていた水を第１の蒸気発生ヒータ５０の方に押し上げることで、効率的に素早く蒸気を発生させることができる。すなわち、貯水室２８内に多量の水を貯えても、初期の蒸気発生が早い蒸気発生装置２７を提供することができる。

　さらに、実施の形態１では、満水ライン５２まで水を補充したが、満水ライン５２まで水を補充しなくても、長時間のスチーム加熱でなければ、スチーム加熱を行うことができる。

　また、実施の形態１では、給水口３８と排水口３９は、貯水室２８内の下方に設けられている。これにより、蒸気発生時において、給水口３８と排水口３９は水に浸かっている状態となるため、給水口３８と排水口３９の温度上昇が低くなり、給水口３８と排水口３９にスケールが付着しにくくなる。よって、給水口３８および排水口３９にスケールが詰まって給水および排水ができなくなることを防ぐことができ、長期間使用し続けても蒸気発生性能を維持することができる信頼性の高い蒸気発生装置２７を提供することができる。

　図１１Ａは、実施の形態１におけるサイフォンの原理による排水工程を模式的に示した蒸気発生装置２７の第１の断面図である。図１１Ｂは、実施の形態１におけるサイフォンの原理による排水工程を模式的に示した第２の蒸気発生装置２７の第２の断面図である。図１１Ｃは、実施の形態１におけるサイフォンの原理による排水工程を模式的に示した蒸気発生装置２７の第３の断面図である。図１１Ｄは、実施の形態１におけるサイフォンの原理による排水工程を模式的に示した蒸気発生装置２７の第４の断面図を示す。

　図１１Ａに示すように、通常加熱時において、貯水室２８内の第２の蒸気発生ヒータ５１の下方となる水位（通常水位Ｈ）まで、給水ポンプ４１からの給水によって水が貯められ、同時に排水路４３内の水位も上昇する。貯水室２８内において蒸気が発生していないとき、貯水室２８内の水位と排水路４３の水位は同じである。一方、貯水室２８内において蒸気が発生しているとき、貯水室２８内部の圧力が高まり、排水路４３の水位が上昇する。この場合、貯水室２８内の水位と排水路４３の水位は必ずしも同一ではない。

　ユーザによって、給水タンク４２の満水ライン５２まで水が補充された後、タッチパネル５７で排水モードが選択され、操作部５８のスタートが押されると、給水を行う。具体的には、図１１Ｂに示すように、貯水室２８内の水位が通常加熱時の水位よりも上方である排水路頂点４４に達するまで、自動的に給水ポンプ４１を動作させて給水を行う。排水路頂点４４まで水位が上昇すると、貯水室２８内での水位と排水路４３内の水位に高低差ａができる。図１１Ｃに示すように、サイフォンの原理により、貯水室２８内および排水路４３内のスケール凝縮水及び析出したスケールが、排水口３９、排水路４３、および排水路出口４６を通って排水タンク４７に向かって流れる。

　なお、貯水室２８内の水位と排水路４３内の水位に高低差ａが発生すると、排水が始まるが、排水流量より給水流量が少ない場合がある。この場合、給水しても貯水室２８内の水位は上昇せず、給水ポンプ４１によって排水に必要な給水量より若干多く給水しても、貯水室２８から溢れることはない。このため、実施の形態１の蒸気発生装置２７においては、給水ポンプ４１の動作バラツキを考慮して、排水に必要な給水量より少し多めの給水量となるように駆動時間を設定している。このため、実施の形態１の蒸気発生装置２８においては、排水時の貯水室２８内の水位を検知する検知手段は省略することができる。

　最終的に、図１１Ｄに示すように、貯水室２８内および排水路４３の水は空になり、排水された水が排水タンク４７に蓄えられる。排水タンク４７はユーザによって加熱調理器１から取り出され、排水タンク４７に蓄えられた水が捨てられる。なお、この排水工程では、給水ポンプ４１に接続された上流側および下流側である給水ポンプ４１の前後の給水路４０の水は排水されない。

　このような排水路４３の構成を採用するとともに、排水路頂点４４まで給水することにより、貯水室２８内に析出するスケールをクリーニングしている。これにより、給水を行うだけで、サイフォンの原理による排水を行うことができる。よって、単純な構成を用いながら、スケールおよびスケール凝縮水の排出を行うことができる。すなわち、信頼性が高く、安価で、かつユーザの負担を軽減した蒸気発生装置２７を提供することができる。

　なお、実施の形態１における蒸気発生装置２７においては、ユーザにより排水モードが選択された場合に排水を行ったが、このような場合に限らない。例えば、調理後において給水タンク４２に十分な量の水が残るように設定して、スチーム加熱の都度、自動排水を行ってもよい。

　図１２Ａは、実施の形態１における給水路４０の排水工程を模式的に示した蒸気発生装置２７の第１の断面図である。図１２Ｂは、実施の形態１における給水路４０の排水工程を模式的に示した蒸気発生装置２７の第２の断面図である。図１２Ｃは、実施の形態１における給水路４０の排水工程を模式的に示した蒸気発生装置２７の第３の断面図である。図１２Ｄは、実施の形態１における給水路４０の排水工程を模式的に示した蒸気発生装置２７の第４の断面図を示す。

　ユーザによって給水タンク４２の排水ライン４９まで水が補充された後、タッチパネル５７で給水経路排水モードが選択され、操作部５８のスタートが押される。そうすると、図１２Ａに示すように、給水タンク４２の水が給水ポンプ４１により給水路４０および給水口３８を通じて貯水室２８に給水される。

　さらに給水を続けると、図１２Ｂに示すように、貯水室２８および排水路４３の水位は、排水路頂点４４に達する。給水タンク４２には、貯水室２８内の内容積より１０ｍｌ程多い容量しか蓄えられていないため、給水タンク４２内の水はほとんどなくなる。

　そして、図１２Ｃに示すように、排水口３９、排水路４３、および排水路出口４６を通って、排水タンク４７に向かってサイフォンの原理による排水が行われる。このように排水タンク４７への排水が行われている間にもさらに、給水ポンプ４１は動作し続ける。給水ポンプ４１が動作を続けることにより、給水タンク４２内の水は空になり、給水ポンプ４１が水ではなく空気を給水路４０に送り込むようになる。この結果、給水ポンプ４１は、給水路４０内の水を貯水室２８内に空気で押し出して、排水路４３から排水する。給水ポンプ４１は、一定時間経過後に動作を停止する。

　最終的には、図１２Ｄに示すように、貯水室２８内に押し出された水がサイフォンの原理による排水と合流して、同時に排水タンク４７に向かって排水される。これにより、給水タンク４２、給水ポンプ４１、給水路４０、貯水室２８および排水路４３の水は空になる。

　なお、実施の形態１では、給水タンク４２に排水ライン４９を設けたが、タッチパネル５７に、排水に必要量な１００ｍｌを表示し、ユーザに水を補充してもらってもよい。また、水の代わりにクエン酸水等の洗浄剤を用いるとともに、排水時に第１の蒸気発生ヒータ５０と第２の蒸気発生ヒータ５１による加熱を行ってもよい。これにより、貯水室２８内のスケールや水垢等の汚れを落としやすくなり、より清潔な蒸気発生装置２７を提供することができる。

　このように、給水タンク４２に所定容量の水を入れた状態にて、給水ポンプ４１を動作させて、排水路頂点４４まで水位を押し上げることで、サイフォンの原理による排水を行う。このような排水を行っている間にも、給水ポンプ４１を動作させ、給水を継続している。このような制御によれば、給水タンク４２の水が空になった場合にも、給水ポンプ４１が水ではなく空気を給水路４０に送り込むため、給水路４０内に残った水を空気で押し出して排水することができる。排水された水は、サイフォンの原理による排水に合流して同時に排水される。よって、サイフォンの原理では排水できない、給水ポンプ４１の上流および下流に位置する給水路４０および給水ポンプ４１内の水の排水することができる。すなわち、安価に排水を行う蒸気発生装置２７を提供することができる。

　以上のように、実施の形態１における蒸気発生装置２７は、水を貯める貯水室２８と、貯水室２８内の水を加熱して蒸気を発生させる少なくとも１つの加熱部（第１の蒸気発生ヒータ５０）と、貯水室２８に水を給水する給水装置（給水ポンプ４１）と、貯水室２８内で発生した蒸気を噴出する蒸気噴出口３２と、蒸気噴出口３２の下方において、蒸気発生方向に沿って形成され互いに離間して配置された複数のフィン３６とを備える。また、複数のフィン３６の間隔である第１の間隔ｄ１は、フィン３６と貯水室２８の内壁側面２８Ａとの間隔である第２の間隔ｄ２と異なる。これにより、第１の間隔ｄ１と第２の間隔ｄ２のうち、狭い方の間隔では、フィン３６と水の接触面積を増やし、伝熱効率を上げることができる。一方で、広い方の間隔では、スケールが完全に詰まる前にスケール片が剥がれ落ちるため、完全には詰まりにくい。よって、フィン３６と水の伝熱効率を上げつつ、蒸気噴出口３２から常に蒸気を噴出させることができる。すなわち、蒸気発生装置２７の内部圧力が高まっても、蒸気や水が貯水室２８から漏れることを防ぐことができるため、長期間使用し続けても蒸気発生性能を維持することができる信頼性の高い蒸気発生装置２７を提供することができる。

　また、実施の形態１における蒸気発生装置２７によれば、加熱部はヒータ（第１の蒸気発生ヒータ５０および第２の蒸気発生ヒータ５１）であり、少なくとも１つのフィン３６は、ヒータと交差するように設けられている。これにより、特に温度の高い第１の蒸気発生ヒータ５０と第２の蒸気発生ヒータ５１付近の熱が、熱の伝わりにくい貯水室２８内の水の内部にまでフィン３６によって伝わる。また、フィン３６によって貯水室２８と水との接触面積が増えて、効率的に水に伝熱することができるため、第１の蒸気発生ヒータ５０と第２の蒸気発生ヒータ５１付近の温度が下がる。これにより、高温になればなるほど付着しやすいスケールが第１の蒸気発生ヒータ５０と第２の蒸気発生ヒータ５１に付着することを抑制することができる。

　さらに、実施の形態１における蒸気発生装置２７によれば、貯水室２８内の第１の範囲ｅ１における第１の間隔ｄ１が、第２の範囲ｅ２における第２の間隔ｄ２より小さい。第２の範囲ｅ２と比べて、中央部にある第１の範囲ｅ１では蒸気発生ヒータ５０、５１の温度が高いため、第１の間隔ｄ１を第２の間隔ｄ２よりも小さくすることで、水への接触面積を増やして、伝熱効率をさらに上げている。一方で、蒸気発生ヒータ５０、５１の温度が低い第２の範囲ｅ２では、第２の間隔ｄ２を第１の間隔ｄ１よりも大きくしているため、スケールが詰まりにくくなる。よって、フィン３６と水の伝熱効率を上げつつ、蒸気噴出口３２から常に蒸気を噴出させることができる。すなわち、蒸気発生装置２７の内部圧力が高まっても、蒸気や水が貯水室２８から漏れることを防ぐことができるため、長期間使用し続けても蒸気発生性能を維持することができる信頼性の高い蒸気発生装置２７を提供することができる。

　なお、実施の形態１では、第１の範囲ｅ１における第１の間隔ｄ１を第２の範囲ｅ２における第２の間隔ｄ２よりも小さくしたが、第１の間隔ｄ１を第２の間隔ｄ２よりも大きい場合であってもよい。

　また、実施の形態１における蒸気発生装置２７によれば、貯水室２８の内壁面のうち、加熱部（第１の蒸気発生ヒータ５０）に対向する位置に凹部３０ａが設けられる。すなわち、貯水室カバー３０において、貯水室２８の貯水室凸部２８ｂに対向する位置に貯水室カバー凹部３０ａを設けている。これにより、特に高温でスケールが付着しやすい第１の蒸気発生ヒータ５０付近の貯水室凸部２８ｂと貯水室カバー凹部３０ａの間の内容積が増加するため、スケールが詰まりにくくなる。よって、フィン３６と水の伝熱効率を上げつつ、蒸気噴出口３２から常に蒸気を噴出させることができる。すなわち、蒸気発生装置２７の内部圧力が高まっても、蒸気や水が貯水室２８から漏れることを防ぐことができるため、長期間使用し続けても蒸気発生性能を維持することができる信頼性の高い蒸気発生装置２７を提供することができる。

　また、実施の形態１における蒸気発生装置２７は、水を貯める貯水室２８と、貯水室２８内の水を加熱して蒸気を発生させる加熱部（第１の蒸気発生ヒータ５０）と、貯水室２８内に水を給水する給水装置（給水ポンプ４１）と、貯水室２８に設けられた排水口３９を通じて水を排水する排水路４３と、貯水室２８内で発生した蒸気を噴出する蒸気噴出口３２と、貯水室２８内を横切るように貯水室２８の内壁面と一体に形成され、複数の開口５９を有するリブ５５とを備える。また、リブ５５の開口５９は、排水口３９よりも小さい。これにより、開口５９を有するリブ５５によってスケールをせき止めることができるため、別部材のフィルターなどを用いることなく、排水口３９にスケールが詰まることを防止することができる。別部材のフィルターを用いた場合、フィルターを溶接等で固定するときに固定位置がバラついたり、貯水室２８とフィルターが異金属であることによりその接触部が腐食して隙間が生じる場合がある。これにより、スケールがその隙間を通過して排水口３９にスケールが詰まることがある。これに対して、実施の形態１のように、排水口３９よりも小さい開口５９を有するリブ５５によってスケールをせき止めることで、スケール詰まりによって排水ができなくなることを防ぐことができる。すなわち、長期間使用し続けても蒸気発生性能を維持することができる信頼性が高い蒸気発生装置２７を提供することができる。

　なお、実施の形態１では、リブ５５に形成された凹部５５Ａにより開口５９を形成したが、このような場合に限らず、リブ５５の貫通孔として開口５９を形成しても良い。また、リブ５５の開口５９の断面形状は四角形に限らず、円形、楕円形あるいは他の多角形でもよい。

　また、実施の形態１における蒸気発生装置２７によれば、リブ５５の開口５９は、加熱部（第１の蒸気発生ヒータ５０および第２の蒸気発生ヒータ５１）の下方に形成される。これにより、特に温度が高くスケールが付着しやすい第１の蒸気発生ヒータ５０と第２の蒸気発生ヒータ５１付近に付着したスケールが剥がれてきたときに、その下方にあるリブ５５の開口５９で確実にせき止めることができる。

　また、実施の形態１における蒸気発生装置２７によれば、貯水室２８内の水面の高さ位置を制御する制御部３４をさらに備え、リブ５５の開口５９は、蒸気発生時において制御部３４によって制御される水面の高さ位置の下限よりも下方に形成される。これにより、開口５９を形成するリブ５５が水と接触するため、リブ５５の温度上昇が抑えられ、リブ５５により形成される流路自体にスケールが付着することを防ぐことができる。よって、スケールが排水口３９に詰まって排水ができなくなることを防ぐことができる。

　また、実施の形態１における蒸気発生装置２７は、蒸気噴出口３２の下方において、蒸気発生方向に沿って形成され互いに離間して配置された複数のフィン３６をさらに備え、リブ５５は、フィン３６を横切るように形成され、リブ５５の開口５９は、フィン３６とフィン３６の間に配置される。これにより、複数のフィン３６が貯水室２８に付着したスケールを分断して、大きく成長させないようにすることができる。よって、スケールが剥がれてきても、開口５９や排水口入口３９Ａが詰まって排水ができなくなることを防ぐことができる。また、複数のフィン３６によって貯水室２８が仕切られ、それぞれの開口５９が独立しているため、大きなスケールで複数の開口５９が同時に詰まることを防ぐことができる。

　さらに、実施の形態１における蒸気発生装置２７によれば、リブ５５近傍のフィン３６の先端３６Ｂは、第２の側面５４と略接するように設けられている。これにより、フィン３６の先端３６Ｂと第２の側面５４の隙間からスケールが通過しにくくなるため、排水口入口３９Ａにスケールが詰まり排水ができなくなることを防ぐことができる。よって、長期間使用し続けても蒸気発生性能を維持することができる信頼性が高い蒸気発生装置２７を提供することができる。

　また、実施の形態１における蒸気発生装置２７は、水を貯める貯水室２８と、貯水室２８内の水を加熱して蒸気を発生させる少なくとも１つの加熱部（第１の蒸気発生ヒータ５０、第２の蒸気発生ヒータ５１）と、貯水室２８内に水を給水する給水装置（例えば、給水ポンプ４１）と、貯水室２８内に設けられた複数のフィン３６とを備える。また、貯水室２８には、加熱部によって発生された蒸気を噴出する蒸気噴出口３２が設けられており、蒸気噴出口３２の下方において、複数のフィン３６は、蒸気発生方向に沿って形成されるとともに、加熱部を横切るように互いに離間して配置される。これにより、特に温度の高い加熱部付近の熱が、熱の伝わりにくい貯水室２８内の水の内部にまでフィン３６によって伝わる。また、フィン３６により貯水室２８と水との接触面積が増えるため、加熱部からの熱を効率的に水に伝えることができる。これにより、貯水室２８と水とが接触する部分の温度が下がり、温度の高い部分で発生しうる大きな気泡が少なくなる。よって、大きな気泡が水面に上昇して破裂することによる沸騰水の駆け上がりを少なくし、沸騰水が蒸気噴出口３２から噴出することを防ぐことができる。また、大きな気泡の発生を少なくすることで、気泡の破裂音を抑えることができる。また、貯水室２８と水との接触部分の温度が下がるため、高温になるほど付着しやすいスケールの付着を抑制することができる。

　また、実施の形態１における蒸気発生装置２７によれば、フィン３６によって貯水室２８を細かく区切っている。これにより、沸騰時の気泡を物理的に小さくすることができ、大きな気泡の発生をさらに少なくすることができる。また、実施の形態１における蒸気発生装置２７では、フィン３６が蒸気発生方向に沿って設けている。これにより、蒸気の流れを妨げることがないため、蒸気量及び蒸気流速を向上させることができる。

　また、実施の形態１における蒸気発生装置２７によれば、蒸気発生方向に垂直な断面における貯水室２８とフィン３６で形成される空間の断面積は、蒸気噴出口３２の断面積以上である。これにより、蒸気の流路において断面積が減少することとなるため、断面積が増加する場合よりも、蒸気に生じる流路圧損を低減することができ、蒸気量の低下を抑制することができる。すなわち、蒸気量の低下を抑制しながら、沸騰水の駆け上がりを少なくし、沸騰水が蒸気噴出口３２から噴出することを防ぎ、さらに気泡の破裂音を抑えることができる。

　さらに、実施の形態１における蒸気発生装置２７では、フィン３６は貯水室２８の第１の側面５３から延出されるとともに、第１の側面５３と対向する第２の側面５４に対してフィン３６の先端が離間している。これにより、フィン３６と第２の側面５４の間にも水が回り込むため、貯水室２８と水との接触面積が増大する。よって、水の対流が促進されることで、貯水室２８内における水の温度分布がより均一となる。これにより、大きな気泡の発生を少なくすることで、沸騰水の駆け上がりを少なくし、沸騰水が蒸気噴出口３２から噴出することを防ぎ、さらに気泡の破裂音を抑えることができる。

　また、実施の形態１における蒸気発生装置２７では、加熱部（第１の蒸気発生ヒータ５０、第２の蒸気発生ヒータ５１）は、加熱時における貯水室２８内の水面の上側と下側に少なくとも１つずつ設けられる。これにより、沸騰時に発生する気泡が水面で破裂して駆け上がろうとしても、水面の上側にある加熱部によって加熱されて蒸気になる。よって、沸騰水が蒸気噴出口３２から噴出することを防ぐことができる。

　また、実施の形態１における蒸気発生装置２７は、水を貯める貯水室２８と、貯水室２８内の水を加熱して蒸気を発生させる加熱部と、貯水室２８内に水を給水する給水装置とを備える。また、貯水室２８の内壁には、加熱部によって発生された蒸気を噴出する蒸気噴出口３２が設けられている。また、加熱部は、加熱時における貯水室２８内の水面の上側と下側に少なくとも１つずつ設けられる。これにより、沸騰時に発生する気泡が水面で破裂して駆け上がろうとしても、水面の上側にある加熱部によって加熱されて蒸気になるため、沸騰水が蒸気噴出口３２から噴出することを防ぐことができる。

　また、実施の形態１における蒸気発生装置２７は、水を貯める貯水室２８と、貯水室２８内の水を加熱して蒸気を発生させる第１の蒸気発生ヒータ５０及び第２の蒸気発生ヒータ５１と、貯水室２８に設けられた給水口３８および給水路４０を通じて水を送る給水ポンプ４１と、貯水室２８内で発生した蒸気を噴出する蒸気噴出口３２と、貯水室２８の温度を検知する貯水室サーミスタ３３とを備える。さらに、運転開始後、制御部３４は、第１の蒸気発生ヒータ５０と第２の蒸気発生ヒータ５１による貯水室２８の加熱を開始するとともに、貯水室サーミスタ３３で検知した貯水室２８の所定時間における温度上昇率に応じて、初期給水量を決定する。このような初期給水量の決定により、貯水室２８内に水を貯えて蒸気を発生させることで、水位検知手段を用いることなく、貯水室２８から水があふれることを防ぐとともに、貯水室２８が空焚きになることを防ぐことができる。したがって、第１の蒸気発生ヒータ５０と第２の蒸気発生ヒータ５１における過加熱による故障や、蒸気発生効率の低下を防ぐことができる。すなわち、信頼性及び安全性の高い蒸気発生装置２７を提供することができる。

　また、実施の形態１における蒸気発生装置２７によれば、貯水室サーミスタ３３で検知した貯水室２８の温度上昇が３０秒間で５０℃以下である場合（図１０のＡ３）には、給水ポンプ４１による給水は行わない。一方で、貯水室２８の温度上昇が３０秒間で５０℃を超える場合（図１０のＡ２）には、給水ポンプ４１を用いて貯水室２８に約２０ｍｌの水を給水する。すなわち、貯水室２８の温度上昇が３０秒間で５０℃以下である場合には、貯水室２８内の水位が高いと推定して、給水を行わないようにしている。これにより、貯水室２８から水があふれることを防ぐことができる。また、貯水室２８の温度上昇が３０秒間で５０℃を超える場合には、貯水室２８内の水位が低いと推定して、所定量の給水を行うようにしている。これにより、貯水室２８の温度を下げることで、貯水室２８が空焚きになることを防止することができる。よって、第１の蒸気発生ヒータ５０と第２の蒸気発生ヒータ５１における過加熱による故障や、蒸気発生効率の低下を防ぐことができる。すなわち、信頼性及び安全性の高い蒸気発生装置２７を提供することができる。

　さらに、実施の形態１における蒸気発生装置２７では、貯水室２８の温度上昇が３０秒間で６０℃を超える場合（図１０のＡ１）の給水量を、貯水室２８の温度上昇が３０秒間で６０℃以下でかつ５０℃を超える場合（図１０のＡ２）の給水量よりも多くしている。すなわち、貯水室２８の温度上昇率がより高い場合には、貯水室２８での水位がより低いと推定し、温度上昇率が低い場合よりも、多量の水を給水している。これにより、貯水室２８の温度を下げ、貯水室２８から水があふれることを防ぐことができる。さらに、所定量の給水を行うことで、貯水室２８が空焚きになることを防止することができるため、第１の蒸気発生ヒータ５０と第２の蒸気発生ヒータ５１における過加熱による故障や、蒸気発生効率の低下を防ぐことができる。すなわち、信頼性および安全性の高い蒸気発生装置２７を提供することができる。

　また、実施の形態１における蒸気発生装置２７では、貯水室２８に設けられた排水口３９から、貯水室２８内で通常加熱時に貯められている水面より上方を経由して延びる排水路４３が設けられている。この排水路４３における水位を、給水ポンプ４１による給水により排水路頂点４４を超えるように押し上げることによって、サイフォンの原理により、貯水室２８に貯まっていた水を排水口３９及び排水路４３を通じて排水することができる。これにより、貯水室２８の水位が高いにもかかわらず多量の水が給水された場合であっても、排水路４３での水位が排水路頂点４４に到達するまで排水は行われない。したがって、排水の誤動作を防ぐことができる。

　また、実施の形態１における蒸気発生装置２７では、排水路４３をシリコーンで構成している。これにより、排水路４３はスケールとの結合が弱くなるため、排水路４３にスケールが固着しにくくなる。よって、サイフォンの原理により排水した時に、排水路４３から容易に、かつ確実にスケールを排出することができる。この結果、長期間使用し続けても蒸気発生性能を維持することができる信頼性の高い蒸気発生装置２７を提供することができる。

　また、排水路４３を弾性体によって構成することより、排水口３９と排水路出口４６との接続部分をチューブ等の別部品を用いることなく構成することができる。このため、部品数が増えることによる水漏れ等を防ぐことができ、信頼性が高く安価な蒸気発生装置２７を提供することができる。

　なお、実施の形態１では、１つの貯水室サーミスタ３３を用いて簡易的に貯水室２８内の水位を推定したが、このような場合に限らない。例えば、貯水室サーミスタ３３を貯水室２８に複数設けてもよい。また、貯水室２８内の水位を直接検知する水位センサを用いて、貯水室２８または排水路４３の水位を測定してもよく、これにより、より正確に給水量を調整することができる。すなわち、蒸気発生装置は、以下のような構成であってもよい：水を貯める貯水室２８と、貯水室２８内の水を加熱して蒸気を発生させる第１の加熱部（第１の蒸気発生ヒータ５０）と、貯水室２８内に水を給水する給水装置（給水ポンプ４１）と、給水装置による給水を制御する制御部３４と、貯水室２８内で発生した蒸気を噴出する蒸気噴出口３２と、貯水室２８内の水位を直接的又は間接的に検出する水位検出手段（水位を直接検知する水位センサ又は貯水室サーミスタ３３）と、を備え、蒸気発生時において、制御部３４は、水位検出手段が検出する水位に応じて、第１の加熱部から水位までの水の容量が第１の加熱部から貯水室内の底面までの水の容量よりも小さくなるように給水制御する。

　さらに、実施の形態１では、給水タンク４２と排水タンク４７を別々に形成したが、一体に形成することにより、排水タンク４７の付け忘れを防止し、排水が床面にこぼれることを防ぐことができる。また、給水タンク４２と排水タンク４７を一体に形成することにより、給水タンク４２への注水時に排水タンク４７を取り出すことになるため、排水タンク４７の取り出し忘れによる水の捨て忘れを防止することができる。また、排水タンク４７が満水になり溢れることを防ぐことができる。

　また、実施の形態１における蒸気発生装置２７では、排水タンク脱着検知装置（図示せず）を設けている。排水タンク脱着検知装置は、排水タンク４７が付け忘れられたとき又は途中で外された場合に、第１の蒸気発生ヒータ５０、第２の蒸気発生ヒータ５１および給水ポンプ４１の動作を停止する。これにより、排水が床面にこぼれることを防ぐことができる。

　さらに、実施の形態１における蒸気発生装置２７では、貯水室２８の内底面３７を排水口３９に向かって下方に傾斜するテーパ状として、給水口３８と排水口３９を対向する位置にそれぞれ逆向きに配置している。これにより、貯水室２８の内底面３７に溜まった小さいスケールを給水口３８からの水流によって排水口３９に押し流しやすくすることができる。よって、サイフォンの原理による排水時の水残りも減らすことができる。

　また、実施の形態１では、スチーム加熱の終了後、サイフォンの原理による排水を行うために給水を行った際に同時に貯水室２８内の水の温度を下げることができるため、すぐに排水工程に移っている。しかし、このような場合に限らず、スチーム加熱の終了後、貯水室２８内の水の温度が所定温度以下となるまでしばらく自然冷却を行った後に、排水を行ってもよい。これは、スケールの一種である炭酸カルシウムが、温度が低いほど溶解度が大きく、また、排水された直後の水にユーザが触れても火傷を起こさないためである。なお、排水される水の温度としては低いほうが好ましいが、排水温度を低くするほど自然冷却の時間が長くなる。よって、冷却時間とのバランスを考慮して排水温度を適宜設定してもよい。

　なお、実施の形態１の加熱調理器１においては、マイクロ波加熱モード、オーブン加熱モード、グリル加熱モード、スチーム加熱モードは、それぞれ単独で動作させることもできるが、それぞれの加熱方式を組み合わせて手動もしくは自動で加熱を行うこともできる。

　本発明にかかる蒸気発生装置は、蒸気を使用する調理器具としての電子レンジ、オーブン電子レンジ、電気オーブン、炊飯器、業務用の解凍装置等の各種用途に適用できる。

　本発明は、添付図面を参照しながら好ましい実施形態に関連して充分に記載されているが、この技術の熟練した人々にとっては種々の変形や修正は明白である。そのような変形や修正は、添付した請求の範囲による本開示の範囲から外れない限りにおいて、その中に含まれると理解されるべきである。

Claims

　水を貯める貯水室と、
　貯水室内を加熱して蒸気を発生させる加熱部と、
　貯水室に水を給水する給水装置と、
　貯水室内で発生した蒸気を噴出する蒸気噴出口と、
　貯水室内の温度を検知する温度検知部と、
　加熱部および給水装置を制御する制御部と、を備え、
　制御部は、加熱部による加熱開始後において、温度検知部が検知する貯水室内の温度に基づいて、貯水室内の貯水完了を判定する、蒸気発生装置。
　制御部は、加熱部による貯水室内の加熱開始後において、温度検知部が検知する貯水室の温度が第１の所定温度以上になってから、給水装置による給水を開始し、給水開始後における貯水室内の温度に基づいて、貯水室内の貯水完了を判定する、請求項１に記載の蒸気発生装置。
　制御部は、給水開始後において、貯水室内の温度が第２の所定温度以下になったときに貯水室内の貯水完了を判定する、請求項２に記載の蒸気発生装置。
　制御部は、給水開始後において、貯水室内の温度が下がり初めてからの下降温度幅が第１の所定温度幅以上となったときに貯水室内の貯水完了を判定する、請求項２又は３に記載の蒸気発生装置。
　制御部は、加熱部による貯水室内の加熱開始後において、温度検知部が検知する貯水室の温度の変化が所定期間において第２の温度幅以内であるときに、貯水室内の貯水完了を判定し、給水を行わない、請求項１から４のいずれか１つに記載の蒸気発生装置。
　制御部は、給水装置による給水を間欠的に行うように制御する、請求項１から５のいずれか１つに記載の蒸気発生装置。
　制御部は、給水装置による給水の回数が所定回数に到達したきに貯水室内の貯水完了を判定する、請求項６に記載の蒸気発生装置。
　請求項１から７のいずれか１つに記載の蒸気発生装置を備える加熱調理器。