JP6029032B2 - 蒸気発生装置及び蒸気発生装置を備えた加熱調理器 - Google Patents

Description

本発明は、水を加熱して蒸気を発生させる蒸気発生装置及びその蒸気発生装置を備えた加熱調理器に関するものである。

従来、蒸気発生装置として、蒸気発生室の内部に迷路状の通路が形成されるように、放熱フィンを配置したものがある（例えば、特許文献１参照）。このように放熱フィンを配置することにより、蒸気発生室の底部から沸騰水が駆け上がり、蒸気吹出口に至ることを防止しようとしている。特許文献１の蒸気発生装置では、特に、沸騰水の駆け上がりの防止を目的として、放熱フィンに水平方向に延びる平状板部分を設けている。

特開２００８−１６４２８４号公報

しかしながら、前記の従来の構成では、沸騰水の駆け上がりを完全には防ぐことができない。昨今では、沸騰水の駆け上がりをより確実に防止することが望まれている。

本発明は、前記従来の課題を解決するもので、蒸気発生室内の沸騰水の駆け上がりを少なくすることにより、沸騰水が蒸気噴出口から噴出することを防ぐことができる蒸気発生装置を提供することを目的とする。

蒸気発生装置は、水を貯める貯水室と、前記貯水室内の水を加熱して蒸気を発生させる少なくとも１つの加熱部と、前記貯水室内に水を給水する給水装置と、前記貯水室内に設けられた複数のフィンとを備え、前記貯水室には、前記加熱部によって発生された蒸気を噴出する蒸気噴出口が設けられており、前記蒸気噴出口の下方において、前記複数のフィンは、蒸気発生方向に沿って形成されるとともに、前記加熱部を横切るように互いに離間して配置される。

このような蒸気発生装置によれば、特に、蒸気噴出口の下方において、蒸気発生方向に沿って形成されるとともに、加熱部を横切るように互いに離間して配置された複数のフィンが設けられている。よって、特に温度の高い加熱部付近の熱が、熱の伝わりにくい貯水室内の水の内部にまでフィンによって伝わり、また、フィンにより貯水室と水との接触面積が増えるため、加熱部からの熱を効率的に水に伝えることができる。これにより、貯水室と水とが接触する部分の温度が下がり、温度の高い部分で発生しうる大きな気泡が少なくなる。よって、大きな気泡が水面に上昇して破裂することによる沸騰水の駆け上がりを少なくし、沸騰水が蒸気噴出口から噴出することを防ぐことができる。また、大きな気泡の発生を少なくすることで、気泡の破裂音を抑えることができる。

また、蒸気発生装置は、水を貯める貯水室と、前記貯水室内の水を加熱して蒸気を発生させる加熱部と、前記貯水室内に水を給水する給水装置とを備え、前記貯水室には、前記加熱部によって発生された蒸気を噴出する蒸気噴出口が設けられており、前記加熱部は、加熱時における貯水室内の水面の上側と下側に少なくとも１つずつ設けられても良い。

このような蒸気発生装置によれば、沸騰時に発生する気泡が水面で破裂して駆け上がろうとしても、水面の上側にある加熱部によって加熱されて蒸気になるため、沸騰水が蒸気噴出口から噴出することを防ぐことができる。

本発明の蒸気発生装置は、蒸気発生室内の沸騰水の駆け上がりを少なくすることにより、沸騰水が蒸気噴出口から噴出することを防ぐことができる。

本発明に係る実施の形態１の蒸気発生装置を備えた加熱調理器の正面断面図 本発明に係る実施の形態１の蒸気発生装置を備えた加熱調理器の外観を示す斜視図 本発明に係る実施の形態１の蒸気発生装置を模式的に示す縦断面図 本発明に係る実施の形態１の蒸気発生装置を模式的に示す横断面図 本発明に係る実施の形態１の蒸気発生装置におけるスチーム加熱モードのフローチャート 本発明に係る実施の形態１の蒸気発生装置が備える貯水室サーミスタの温度と時間の関係を示すグラフ 本発明に係る実施の形態１におけるサイフォンの原理による排水工程時の蒸気発生装置における第１の動作を示す断面図 本発明に係る実施の形態１におけるサイフォンの原理による排水工程時の蒸気発生装置における第２の動作を示す断面図 本発明に係る実施の形態１におけるサイフォンの原理による排水工程時の蒸気発生装置における第３の動作を示す断面図 本発明に係る実施の形態１におけるサイフォンの原理による排水工程時の蒸気発生装置における第４の動作を示す断面図 本発明に係る実施の形態１における給水路の水の排水工程時の蒸気発生装置における第１の動作を示す断面図 本発明に係る実施の形態１における給水路の水の排水工程時の蒸気発生装置における第２の動作を示す断面図 本発明に係る実施の形態１における給水路の水の排水工程時の蒸気発生装置における第３の動作を示す断面図 本発明に係る実施の形態１における給水路の水の排水工程時の蒸気発生装置における第４の動作を示す断面図

第１の発明は、水を貯める貯水室と、前記貯水室内の水を加熱して蒸気を発生させる少なくとも１つの加熱部と、前記貯水室内に水を給水する給水装置と、前記貯水室内に設けられた複数のフィンとを備え、前記貯水室には、前記加熱部によって発生された蒸気を噴出する蒸気噴出口が設けられており、前記蒸気噴出口の下方において、前記複数のフィンは、蒸気発生方向に沿って形成されるとともに、前記加熱部を横切るように互いに離間して配置される、蒸気発生装置である。これにより、特に温度の高い加熱部付近の熱が、熱の伝わりにくい貯水室内の水の内部にまでフィンによって伝わり、また、フィンにより貯水室と水との接触面積が増えるため、加熱部からの熱を効率的に水に伝えることができる。これにより、貯水室と水とが接触する部分の温度が下がり、温度の高い部分で発生しうる大きな気泡が少なくなる。よって、大きな気泡が水面に上昇して破裂することによる沸騰水の駆け上がりを少なくし、沸騰水が蒸気噴出口から噴出することを防ぐことができる。また、大きな気泡の発生を少なくすることで、気泡の破裂音を抑えることができる。また、貯水室と水との接触部分の温度が下がるため、高温になるほど付着しやすいスケールの付着を抑制することができる。また、フィンによって貯水室を細かく区切ることにより、沸騰時の気泡を物理的に小さくすることができ、大きな気泡の発生をさらに少なくすることができる。また、フィンを蒸気発生方向に沿って設けることにより、蒸気の流れを妨げることがないため、蒸気量及び蒸気流速を向上させることができる。

第２の発明は、特に、第１の発明において、蒸気発生方向に垂直な断面における前記貯水室と前記フィンで形成される空間の断面積は、前記蒸気噴出口の断面積以上である。これにより、蒸気の流路において断面積が減少することとなるため、断面積が増加する場合よりも、蒸気に生じる流路圧損を低減することができ、蒸気量の低下を抑制することができる。すなわち、蒸気量の低下を抑制しながら、沸騰水の駆け上がりを少なくし、沸騰水が蒸気噴出口から噴出することを防ぎ、さらに気泡の破裂音を抑えることができる。

第３の発明は、特に、第１または第２の発明において、前記フィンは前記貯水室の第１の側面から延出されるとともに、第１の側面と対向する第２の側面に対して前記フィンの先端が離間している。これにより、フィンと第２の側面の間にも水が回り込むため、貯水室と水との接触面積が増大する。よって、水の対流が促進されることで、貯水室内における水の温度分布がより均一となる。これにより、大きな気泡の発生を少なくすることで、沸騰水の駆け上がりを少なくし、沸騰水が蒸気噴出口から噴出することを防ぎ、さらに気泡の破裂音を抑えることができる。

第４の発明は、特に、第１から第３のいずれか１つの発明において、前記加熱部は、加熱時における貯水室内の水面の上側と下側に少なくとも１つずつ設けられる。これにより、沸騰時に発生する気泡が水面で破裂して駆け上がろうとしても、水面の上側にある加熱部によって加熱されて蒸気になるため、沸騰水が蒸気噴出口から噴出することを防ぐことができる。

第５の発明は、水を貯める貯水室と、前記貯水室内の水を加熱して蒸気を発生させる加熱部と、前記貯水室内に水を給水する給水装置とを備え、前記貯水室には、前記加熱部によって発生された蒸気を噴出する蒸気噴出口が設けられており、前記加熱部は、加熱時における貯水室内の水面の上側と下側に少なくとも１つずつ設けられる、蒸気発生装置である。これにより、沸騰時に発生する気泡が水面で破裂して駆け上がろうとしても、水面の上側にある加熱部によって加熱されて蒸気になるため、沸騰水が蒸気噴出口から噴出することを防ぐことができる。

第６の発明は、第１から第５のいずれか１つの発明の蒸気発生装置を備える加熱調理器である。

以下、本発明の実施の形態１について図面を参照しながら説明する。なお、この実施の形態１によって本発明が限定されるものではない。

（実施の形態１）
図１は、本発明に係る実施の形態１の蒸気発生装置を備えた加熱調理器の正面断面図を示す。

図１において、実施の形態１の加熱調理器は、アルミメッキ鋼板の表面をフッ素塗装して構成され、被加熱物である食品５を収納する加熱室１を有している。加熱室１内には、食品５を載置し加熱室１に出し入れ可能な載置皿４と、載置皿４を保持するレール１２と、加熱室１に固定され食品５を載置する結晶化ガラスで形成された載置台３と、加熱室１の天面付近に３本平行に設けられた加熱室ヒータ２とを備えている。加熱室ヒータ２の３本のうち中央部に配置された加熱室ヒータ２の波長のピーク値は他の２本の加熱室ヒータ２の波長のピーク値よりも短く設定されている。

加熱室１を構成する壁面は、アース線（図示せず）に接続されて接地されており、加熱室１と一体成型されたレール１２も接地状態である。

実施の形態１における加熱室１を構成する壁面は、汚れを拭き取りやすいフッ素塗装を行った例で説明するが、ホーロー塗装や他の耐熱性のある塗装を行ってもよい。また、加熱室１の材質としてはアルミメッキ鋼鈑を用いた例で説明するが、他の金属を用いてもよく、例えばステンレスを用いることもできる。

載置皿４は、アルミメッキ鋼鈑で形成されており、載置皿４上の食品５を加熱した時に食品５からの油脂分が流れ出やすいようにプレスで凹凸加工されている。
また、載置皿４の表面はフッ素塗装され、裏面にはマイクロ波を吸収して発熱する発熱体が備えられている。このように、載置皿４の裏面に発熱体を備えることにより、食品５の上方に設けられた加熱室ヒータ２と、載置皿４の裏面の発熱体との組み合わせにより、食品５の両面を加熱することができる。なお、載置皿４とレール１２との接触部分には加熱室１と絶縁するためにＰＰＳ樹脂の成型品が備えられている。

実施の形態１において、載置皿４の表面は汚れを拭き取りやすいフッ素塗装を行った例で説明するが、ホーロー塗装や他の耐熱性のある塗装を行ってもよい。また、載置皿４の材質としてはアルミニウムの例で説明したが、他の金属、例えばステンレスを用いることもできる。

加熱室１の奥である背面側には加熱室１内の空気を撹拌、循環させる循環ファン７と、加熱室１内を循環する空気を加熱する室内加熱ヒータであるコンベクションヒータ８が循環ファン７を取り囲むように設けられている。

加熱室１の背面中央付近には加熱室１側から循環ファン７側に吸気を行う複数の吸気用通風孔１６が形成されている。逆に、循環ファン７側から加熱室１側に送風を行う複数の送風用通風孔１７が、加熱室１の背面におけるコンベクションヒータ８の外周領域の特定区域に形成エリアを区別して形成されている。吸気用通風孔１６及び送風用通風孔１７は多数のパンチング孔で形成されている。

実施の形態１の加熱調理器には、図１に示すように、加熱室１を構成する右方の壁面（右壁面）に検出用孔４６が形成されており、この検出用孔４６を通じて加熱室１内の食品５の温度が赤外線センサ１５により検出される。また、加熱室１の庫内温度は、加熱室１の上部に設けられた庫内サーミスタ９により検出される。

図１に示す実施の形態１の加熱調理器において、加熱室１の下方における左壁面の下にはマイクロ波発生手段であるマグネトロン６が水平方向に出力端が導出するよう設けられている。実施の形態１において用いられているマグネトロン６は、図１における左方から見て約８０ｍｍ×８０ｍｍ角である。マグネトロン６は、加熱室１の底面直下において、アルミメッキ鋼鈑を曲げて略Ｌ字状の内部通路を有する導波管１４に接続されている。水平方向に導出するマグネトロン６の出力端は、導波管１４の内部に導出されており、マグネトロン６からのマイクロ波が導波管１４の内部通路を伝送する。

加熱室１の底面における中央付近にはアルミニウムで構成された回転アンテナ１１が設けられており、回転アンテナ１１は加熱室１の底面直下の導波管１４の内部から開口を通って加熱室１内に突設されている。回転アンテナ１１は、モータ１８により回動されて、導波管１４から加熱室１内に放射されるマイクロ波を攪拌する電波撹拌手段としての機能を有する。

なお、実施の形態１の構成においては、マグネトロン６、回転アンテナ１１、モータ１８、および導波管１４を、加熱室１の下部側に設けているが、本発明はこの構成に限定されない。これらの要素を加熱室１の上部側、または側面側に設けることも可能であり、それぞれの要素の設置方向も各要素に対応してあらゆる方向に設定することが可能である。

上記のように構成された実施の形態１の加熱調理器は、蒸気発生装置２０を備える。図１に示すように、加熱調理器を正面から見たとき、加熱室１の左側には、蒸気を発生させるための水を貯める貯水室１９と、貯水室１９の開口にパッキン（図示せず）を挟んで対向して設けられた貯水室カバー３４とが設けられている。貯水室１９と貯水室カバー３４はともにアルミダイキャストで形成されている。

また、実施の形態１における蒸気発生装置２０は、貯水室１９の高さ方向に対して中央付近に略水平方向に設けられた第１の蒸気発生ヒータ４０と、第１の蒸気発生ヒータ４０の上方に略水平方向に設けられた第２の蒸気発生ヒータ４１とを備える。第１の蒸気発生ヒータ４０及び第２の蒸気発生ヒータ４１はともに、貯水室１９内の水を加熱して蒸気を発生させるものであり、貯水室１９のアルミダイキャストに鋳込まれている。第１の蒸気発生ヒータ４０は出力６５０Ｗの直線状のシーズヒータであり、第２の蒸気発生ヒータ４１は出力３５０Ｗの直線状のシーズヒータである。

実施の形態１においては、貯水室１９内の水を加熱して蒸気を発生させる加熱部である第１の蒸気発生ヒータ４０及び第２の蒸気発生ヒータ４１として、出力が異なる直線状のシーズヒータを２本用いて、合計の出力を１０００Ｗとしている（下方が６５０Ｗ、上方が３５０Ｗ）。このような場合に限らず、必要な蒸気量等に応じて、所望の出力を有するヒータを設けるようにしても良い。例えば、出力合計１０００Ｗ以外となるヒータや、出力が同じ複数本のヒータや、３本以上や１本だけのヒータを用いても良い。また、ヒータの形状としては、直線状のヒータ以外の各種形状のヒータを用いることが可能であり、例えばＵ字形状やＬ字形状のヒータ等を用いることができる。また、上方に位置するヒータの出力を、下方に位置するヒータの出力よりも大きくしても良い。

また、貯水室１９の天面には、上方向に導出するように蒸気導入路２３が接合されている。蒸気導入路２３は、貯水室１９から上方向に導出した後、加熱室１の外面を沿うようにＬ字形状に曲げられて、加熱室１の側面の上方部分に蒸気噴出口２１を介して接続されている。蒸気導入路２３は、内径φ１０ｍｍのシリコーンチューブで形成されている。蒸気導入路２３と接続された蒸気噴出口２１から、加熱室１内に蒸気が吹出される。

また、第２の蒸気発生ヒータ４１の上方には、貯水室１９内の温度を検知する貯水室サーミスタ４２が設けられる。

また、実施の形態１の蒸気発生装置２０において、貯水室１９の天面から上方向に導出する蒸気導入路２３及び蒸気噴出口２１の断面が円形状である例で説明するが、楕円形状や矩形状でもよい。また、蒸気噴出口２１は加熱室１の側面の上方に１つだけ設けた例で説明するが、加熱室１の天面や底面等の加熱室１内に蒸気を供給できればよく、１つだけでなく複数個備えてもよい。

なお、蒸気噴出口２１の孔の最長内寸は、加熱室１内のマイクロ波が漏れないように、マイクロ波の波長の１／２以下が好ましい。実施の形態１においては、マイクロ波の波長が約１２０ｍｍであるため、蒸気噴出口２１の孔の最長内寸は６０ｍｍ以下が望ましい。

また、スケール付着を減らすために、貯水室１９の内面または貯水室カバー３４の内面をフッ素やシリコーン等でコーティングしてもよい。

また、貯水室サーミスタ４２のような温度検知手段を用いることにより、水位を検知する水位検知手段を用いる場合と異なり、検知部にスケールが付着してもより長く継続的に検知を行うことができる。これにより、スケールに対する信頼性を高くすることができる。

実施の形態１の加熱調理器においては、導波管１４の下方に制御手段１０が設けられている。制御部１０は、ユーザの調理メニューの選択に応じて、マグネトロン６、モータ１８、循環ファン７、加熱室ヒータ２、第１の蒸気発生ヒータ４０、第２の蒸気発生ヒータ４１、コンベクションヒータ８、庫内サーミスタ９、貯水室サーミスタ４２、赤外線センサ１５、給水ポンプ２８、操作表示部３９等を制御している。

図２は、本発明に係る実施の形態１の蒸気発生装置２０を備えた加熱調理器の外観を示す斜視図である。

実施の形態１の加熱調理器の前面には、扉４５が設けられている。扉４５は、底面側を支点として手前側に開くことができ、これにより、加熱室１内に対して被加熱物である食品５を出し入れすることができる。また、加熱調理器の前面には、ユーザが調理メニューや調理時間を設定するための操作表示部３９が備えられている。また、実施の形態１の加熱調理器には、扉４５を開いた時にマグネトロン６や各ヒータの動作を停止することができる安全スイッチ（図示せず）が備えられている。

図３は、本発明に係る実施の形態１の加熱調理器における蒸気発生装置２０を模式的に示す縦断面図である。

貯水室１９の内壁の中央付近には、複数のフィン２２が設けられている。フィン２２は、第１の蒸気発生ヒータ４０と第２の蒸気発生ヒータ４１を略垂直に横切るように、水平方向に約５ｍｍ間隔で並べられている。フィン２２は貯水室１９と一体的であり、実施の形態１ではそれぞれの厚みが約２ｍｍである。また、フィン２２の長手方向は、蒸気発生方向と略同一方向に設定されている。すなわち、フィン２２は、蒸気発生方向に沿って形成されている。なお、蒸気発生方向とは、水中で発生した蒸気が水面に向かう方向、又は水面から出た蒸気が向かう方向のことであり、本実施の形態１では、貯水室１９内の水面に垂直な方向、又は貯水室１９内での上下方向のことである。

なお、フィン２２の厚み、長さ及び間隔は、貯水室１９の形状や、第１の蒸気発生ヒータ４０と第２の蒸気発生ヒータ４１の出力及び形状等に応じて、適宜決定してもよい。

貯水室１９の内面における底面は、その中央部が最下端となるように水平面に対して角度約５°の傾斜を有する傾斜面２４である。すなわち、貯水室１９の底面は、いわゆる漏斗状に形成されており、その中央部である最下点に排水口３７が設けられている。また、貯水室１９へ水を給水するための給水口３６は、貯水室１９の傾斜面２４に形成されている。給水口３６は排水口３７の図３における左方側に設けられており、給水口３６と排水口３７は貯水室１９の底面における別々の位置に設けられている。

実施の形態１における傾斜面２４の傾斜角度は、水平面に対して約５°としたが、排水路３０の形状や排水時の給水量等により水の流れが異なるため、当該加熱調理器の仕様において必要とする水流等に応じて適宜決定される。

図３において、給水口３６の下方となる上流側には半透明で弾性体のシリコーンで形成された内径φ６の給水路２７の一端が接続されている。この給水路２７の他端は、給水装置である給水ポンプ２８を介して給水タンク２９に接続されている。このように、貯水室１９に設けられた給水口３６及び給水路２７を通じて、貯水室内に水を給水する給水装置として給水ポンプ２８が設けられている。

一方、排水口３７の下方となる下流側には第１の排水路２５と第２の排水路３５が連続する排水路３０が備えられている。第１の排水路２５は半透明で弾性体のシリコーンで形成され、内径がφ６の管状である。第１の排水路２５はチューブ等の別部品を用いることなく排水口３７に接続されている。図３に示すように、第１の排水路２５は、排水口３７から下方（略鉛直方向）に延設されており、排水口３７から所定の長さで略水平方向に屈曲し、さらに所定の長さで上方（略垂直方向）に屈曲している。即ち、第１の排水路２５は、所謂、下方に凸となるＵ字状の形状を有している。

なお、実施の形態１における第１の排水路２５としては、シリコーンを用いた例で説明したが、フッ素、ポリプロピレン、ポリエチレン等を用いることもできる。また、第１の排水路２５として金属パイプを用いるとともに、少なくともその内面をフッ素、シリコーン等でコーティングしてもよい。

第１の排水路２５の下流側には、内径φ６の銅パイプを曲げて形成された第２の排水路３５がチューブ等の別部品を用いることなく接続されている。第２の排水路３５は、第１の排水路２５との接合部分から第１の蒸気発生ヒータ４０及び第２の蒸気発生ヒータ４１の水平位置を超えて上方に延設されている。第２の排水路３５は、貯水室１９の内面における天面の頂点と略同一高さである排水路頂点３２を頂点として１８０°屈曲しており、排水路頂点３２より下流側は鉛直方向の下方に延設されている。即ち、第２の排水路３５は、所謂、上方に凸となる逆Ｕ字状の形状を有している。このように形成された第２の排水路３５は、第１の排水路２５から流れてきた水を、排水路出口３３を通して排水タンク３１に流す。第２の排水路３５の排水路出口３３は、貯水室１９の底面より下方の位置に設けられている。

実施の形態１においては、第２の排水路３５を銅パイプを用いた例で説明したが、アルミ、鉄等の材質のパイプを用いることもできる。

給水タンク２９は、容器部と蓋部の２つの部品で構成されており、それぞれが透明な非晶性のプラスチックであるＡＳ樹脂で形成されている。給水タンク２９の容器部と蓋部は、パッキン（図示せず）を挟んで水が漏れないように密閉されている。給水タンク２９の側面には排水ライン２６と満水ライン３８がシルク印刷により表示されている。給水タンク２９の排水ライン２６まで注水すると約１００ｍｌとなり、貯水室１９内の内容積より１０ｍｌ程多い容量となる。給水タンク２９の満水ライン３８まで注水すると約４００ｍｌとなる。なお、図３に示す貯水室１９、給水タンク２９および排水タンク３１は、実際の相対的な容量を示しておらず、貯水室１９は、給水タンク２９および排水タンク３１に比べて容量を誇張して示している。

実施の形態１においては、排水ライン２６と満水ライン３８をシルク印刷により表示した例で説明したが、このようなシルク印刷に限るものではなく、給水タンク２９に刻印を付けたり、給水タンク２９に凹凸部を設けて表示してもよい。

図４は、本発明に係る実施の形態１の蒸気発生装置２０を模式的に示す横断面図である。

フィン２２は、貯水室１９の第１の側面１９Ａから延出されるとともに、第１の側面１９Ａと対向する貯水室カバー３４で形成された第２の側面１９Ｂに対してフィン２２の先端が離間している。本実施の形態１では、貯水室１９から延出されたフィン２２の先端と貯水室カバー３４との間隔は約２ｍｍである。また、蒸気発生方向に垂直な断面における貯水室１９、フィン２２及び貯水室カバー３４で形成される空間の断面積（図４で貯水室１９、フィン２２及び貯水室カバー３４で囲まれた白抜き部分の全体）は、蒸気噴出口２１の断面積以上に設定されている。

なお、本実施の形態１では、貯水室１９から延出されたフィン２２の先端と貯水室カバー３４との間隔は約２ｍｍであるが、フィン２２と貯水室カバー３４との間に隙間が存在して水が侵入できるのであれば、この間隔を大きく又は小さくしても良い。

次に、上記のように構成された実施の形態１の蒸気発生装置２０を備えた加熱調理器について、その動作および作用について説明する。

まず、使用者により、マイクロ波加熱モードが選択されて、起動スイッチがＯＮ状態にされた場合には、マグネトロン６からマイクロ波が放出される。マグネトロン６から放出されたマイクロ波は、導波管１４内を伝搬し、回転アンテナ１１を照射する。モータ１８によって回転する回転アンテナ１１により、マイクロ波が加熱室１内に撹拌されながら供給される。加熱室１内に供給されたマイクロ波は、被加熱物である食品５に直接吸収されるものもあれば、加熱室１の壁面を反射しながら食品５に吸収されて、食品５を加熱するものもある。また、自動加熱時においては、主に赤外線センサ１５や庫内サーミスタ９を用いて食品や庫内の状態を検知し、検知された状態に応じて、出力やマイクロ波の放出方向を制御する。なお、このマイクロ波加熱モードの動作時においては、加熱室１の内部から載置皿４が取り外されており、載置台３の上に食品５が載置されて加熱される。

一方、使用者により、オーブン加熱モードが選択されて、起動スイッチがＯＮ状態にされた場合には、加熱室ヒータ２またはコンベクションヒータ８が通電されて発熱し、循環ファン７によって加熱室１内を熱風が循環して、食品５が加熱される。また、自動加熱時においては、主に赤外線センサ１５や庫内サーミスタ９を用いて食品や庫内の状態を検知し、検知された状態に応じて、加熱室ヒータ２とコンベクションヒータ８の切り替えや、出力の制御を行う。

使用者が加熱室１内に載置皿４をセットし、グリル加熱モードを選択して、起動スイッチをＯＮ状態とすると、マイクロ波加熱モードと同様にマイクロ波が加熱室１内に供給され、載置皿４の裏面の発熱体が発熱する。発熱した発熱体の熱が熱伝導により載置皿４の全体が高温度となり、食品５を下方から加熱する。

このとき同時に、マイクロ波が載置皿４と加熱室１の壁面との隙間から回り込み、食品５が加熱させられる。また、グリル加熱モードにおいては、加熱室ヒータ２に通電されて発熱し、その輻射熱により食品５を上方から加熱する。このグリル加熱モードにおいては、使用者による設定内容に応じて、マイクロ波による加熱とともに加熱室ヒータ２による輻射加熱を同時に行う場合と、マイクロ波による加熱または加熱室ヒータ２による輻射加熱のそれぞれを単独で行う場合が自動的に選択される。

また、自動加熱時においては、主に赤外線センサ１５や庫内サーミスタ９を用いて食品や庫内の状態を検知し、検知した状態に応じて、マイクロ波と加熱室ヒータ２との切り替えや、出力の制御を行う。

図５は、本発明に係る実施の形態１の蒸気発生装置２０におけるスチーム加熱モードのフローチャートを示す。図６は、本発明に係る実施の形態１の蒸気発生装置２０が備える貯水室サーミスタの温度と時間の関係を示すグラフである。

まず、ユーザによって、給水タンク２９の満水ライン３８まで水が補充された後、スチーム加熱モードが選択・決定される（ステップＳ１０）。そうすると、制御手段１０は、第１の蒸気発生ヒータ４０と第２の蒸気発生ヒータ４１を起動（ＯＮ）して発熱させる（ステップＳ１１）。

次に、図６のＡ１に示すように、貯水室サーミスタ４２が検知する貯水室１９の温度が、通電開始から３０秒間で６０℃以上上昇した場合（ステップＳ１２）、制御手段１０は、給水ポンプ２８に給水命令を出し、約４０ｍｌの給水を行う（ステップＳ１３）。給水ポンプ２８による給水により、給水タンク２９の水が、給水ポンプ２８から給水路２７及び給水口３６を通じて貯水室１９に給水される。所定量の給水が完了すると、給水ポンプ２８の動作が停止される。一方で、図６のＡ２に示すように、貯水室１９の温度上昇値が３０秒間で６０℃以下かつ５０℃を超える場合（ステップＳ１４）、制御手段１０は、給水ポンプ２８に給水命令を出し、約２０ｍｌの給水を行う（ステップＳ１５）。

図６のＡ３に示すように、貯水室１９の温度上昇値が５０℃以下の場合には、貯水室１９に十分な水が溜まっていると判断され、給水を行わない（ステップＳ１６）。

Ｓ１３やＳ１５において給水ポンプ２８による給水が行われたときに、給水後の５秒間で貯水室１９の温度上昇値が７℃を超えることがある（ステップＳ１７）。この場合には、制御手段１０は、給水ポンプ２８に給水命令を出し、約１０ｍｌの給水を行う（ステップＳ１８）。前述した５秒間での貯水室１９の温度上昇値が７℃を下回るまで、Ｓ１８による給水が繰り返される。

こうして貯水室１９に給水されると、第２の蒸気発生ヒータ４１の下方まで水位が上昇するとともに、水がフィン２２に接触するように満たされる。この状態で第１の蒸気発生ヒータ４０と第２の蒸気発生ヒータ４１による加熱を行うことで、直接的に又はフィン２２を介して貯水室１９内の水が加熱され、加熱された水が蒸発することで蒸気が発生する。貯水室１９で発生した蒸気は、蒸気導入路２３を通って蒸気噴出口２１から加熱室１内に放出される。加熱室１内に放出された蒸気によって食品５が加熱される。

なお、貯水室１９と排水路３０は連通しているため、貯水室１９内の水位が上昇すると、排水路３０の水位も同時に上昇する。なお、給水ポンプ２８による給水量は、貯水室１９内の水位が第２の蒸気発生ヒータ４１を超えないように調整されている。

また、自動加熱時においては、主に赤外線センサ１５や庫内サーミスタ９を用いて食品や庫内の状態を検知し、検知した状態に応じて、第１の蒸気発生ヒータ４０と第２の蒸気発生ヒータ４１との切り替えや、出力の制御、及び給水ポンプ２８の制御を行う。

上述した制御によれば、貯水室１９に少量の水を供給して瞬時に蒸発させるのではなく、貯水室１９に水を貯えた状態で蒸発させている。これにより、蒸発が進んでも貯水室１９内の水が残りやすくなるため、スケールの析出を抑えることができる。すなわち、信頼性が高い蒸気発生装置２０を提供することができる。

さらに本実施の形態１では、水面（通常水位）の近傍に第１の蒸気発生ヒータ４０と第２の蒸気発生ヒータ４１を配置している。これにより、貯水室１９内における下方の水を温める前に水面付近の水だけを蒸発させることができ、速く蒸気を発生させることができる。すなわち、初期段階における蒸気発生が速い蒸気発生装置２０を提供することができる。また、第１の蒸気発生ヒータ４０と第２の蒸気発生ヒータ４１を複数のフィン２２を横切るように配置することで、フィン２２を介して水を加熱することができ、均一な加熱を行うことができる。

また本実施の形態１では、水面の下方に第１の蒸気発生ヒータ４０を配置するとともに、水面の上方に第２の蒸気発生ヒータ４１を配置している。このような配置によれば、下側にある第１の蒸気発生ヒータ４０で主に水を加熱して蒸気を発生させつつ、上側にある第２の蒸気発生ヒータ４１で主に蒸気や沸騰水を加熱する。第２の蒸気発生ヒータ４１により沸騰水を加熱することで沸騰水を蒸気に変えることができるため、沸騰水の駆け上がりを防止することができる。また本実施の形態１では、主に水を加熱する第１の蒸気発生ヒータ４０の出力を、主に蒸気や沸騰水を加熱する第２の蒸気発生ヒータ４１の出力よりも大きく設定している。このように、求められる加熱量に応じてヒータの出力を設定することで、効率的に蒸気を発生させることができる。

なお、本実施の形態１では、満水ライン３８まで水を補充した例で説明したが、満水ライン３８まで水を補充しなくても、スチーム加熱を行うことができる。

また、本実施の形態１では、第１の蒸気発生ヒータ４０と第２の蒸気発生ヒータ４１を同時に通電した例で説明したが、選択された調理メニューや出力によっては、どちらか一方のヒータを単独で通電する場合もある。

第１の蒸気発生ヒータ４０と第２の蒸気発生ヒータ４１の加熱による蒸発を続けると、貯水室１９及び排水路３０での水位が下がるとともに、貯水室１９の温度が上昇する。

その後、予め設定されたスチーム加熱時間が終了したこと、又はスチーム加熱が取り消されたことが判定される（Ｓ１９）。その判定結果がいずれもＮＯである場合に、貯水室サーミスタ４２が検知する温度が１１０℃以上になると（Ｓ２０）、制御手段１０は給水ポンプ２８に給水命令を出し、約２０ｍｌの給水を自動で行う（Ｓ２１）。

Ｓ２１で給水ポンプ２８による給水を行うと、貯水室１９の温度が下がる。一度給水を行った後も水の蒸発を続けるが、水位が下がり温度が上昇するまで次の給水は行わない。このような制御により、貯水室１９内の水位を一定の水位以上に維持することができる。すなわち、水位センサを用いなくとも、簡易的に水位を検出して給水を行うことができる。

一方で、給水ポンプ２８に給水命令を出しても、貯水室１９の温度上昇が止まらない場合には、給水タンク２９内の水がなくなった、又は給水ポンプ２８等が故障したと判定する。そのように判定された場合には、スチーム加熱を終了するとともに、ブザー音を鳴らし、給水タンク２９への注水を促す内容を操作表示部３９に表示して、ユーザに報知する。

最終的に、Ｓ１９において、スチーム加熱時間が終了したこと、又はスチーム加熱が取り消されたことの判定結果がＹＥＳである場合には、第１の蒸気発生ヒータ４０と第２の蒸気発生ヒータ４１への通電を停止して（Ｓ２２）、調理を終了する（Ｓ２３）。

なお、図５に示すフローで使用される貯水室１９の温度上昇の閾値や、給水を行うタイミングは、第１の蒸気発生ヒータ４０と第２の蒸気発生ヒータ４１の出力や、貯水室１９の形状によって大きく異なるため、給水量も考慮して適宜決定しても良い。

図７Ａは、本発明に係る実施の形態１におけるサイフォンの原理による排水工程時の蒸気発生装置２０における第１の動作を示す断面図である。図７Ｂは、本発明に係る実施の形態１におけるサイフォンの原理による排水工程時の蒸気発生装置２０における第２の動作を示す断面図である。図７Ｃは、本発明に係る実施の形態１におけるサイフォンの原理による排水工程時の蒸気発生装置２０における第３の動作を示す断面図である。図７Ｄは、本発明に係る実施の形態１におけるサイフォンの原理による排水工程時の蒸気発生装置２０における第４の動作を示す断面図である。

図７Ａに示すように、通常加熱時は貯水室１９内の第２の蒸気発生ヒータ４１の上方となる水位まで給水ポンプ２８からの給水によって水が貯められ、同時に排水路３０内の水位も上昇する。貯水室１９内において蒸気が発生していないとき、貯水室１９内の水位と排水路３０の水位は同じである。一方、貯水室１９内において蒸気が発生しているとき、貯水室１９内部の圧力が高まり排水路３０の水位が上昇するため、貯水室１９内の水位と排水路３０の水位は必ずしも同一ではない。

図７Ｂに示すように、スチーム加熱が終了すると、貯水室１９内の水位が通常加熱時の水位よりも上方である排水路頂点３２に達するまで、自動的に給水ポンプ２８を動作させて給水を行う。排水路頂点３２まで水位が上昇すると、貯水室１９内での水位と排水路３０内との水位に高低差ａができる。図７Ｂに示すように、貯水室１９内の水位と排水路３０内の水位に高低差ａができると、図７Ｃに示すように、サイフォンの原理により貯水室１９内および第１の排水路２５内のスケール凝縮水および析出したスケールが、排水口３７、排水路３０、および排水路出口３３を通って排水タンク３１に向かって流れる。

なお、貯水室１９内の水位と排水路３０内の水位に高低差ａが発生すると排水が始まり、排水流量より給水流量が少ない場合には、給水しても貯水室１９内の水位は上昇せず、給水ポンプ２８によって排水に必要な給水量より若干多く給水しても、貯水室１９を溢れたりすることはない。このため、実施の形態１の蒸気発生装置２０においては、給水ポンプ２８の動作バラツキを考慮して、排水に必要な給水量より少し多めの給水量となるように駆動時間を設定している。このため、実施の形態１の蒸気発生装置２０の構成においては、排水時の貯水室１９内の水位を検知する検知手段は省略することができる。

最終的に、図７Ｄに示すように貯水室１９内および排水路３０の水は空になり、排水タンク３１に排水された水が蓄えられる。排水タンク３１はユーザによって当該加熱調理器から取り出され、排水タンク３１に蓄えられた水が捨てられる。なお、この排水工程では、給水ポンプ２８に接続された上流側および下流側である給水ポンプ２８の前後の給水路２７の水は排水されない。

このような排水路３０の構成を採用するとともに、排水路頂点３２まで給水することにより、貯水室１９内に析出するスケールをクリーニングしている。これにより、給水を行うだけで、サイフォンの原理による排水を行うことができる。よって、単純な構成を用いながら、スケールおよびスケール凝縮水の排出を行うことができる。すなわち、信頼性が高く、安価で、かつユーザの負担を軽減した蒸気発生装置２０を提供することができる。

なお、実施の形態１における蒸気発生装置２０においては、スチーム加熱の都度自動排水を行う例で説明したが、使用者が当該蒸気発生装置２０を洗浄したいと考えたとき、サイフォンの原理により排水できる手動排水モードを設けてもよい。

図８Ａは、本発明に係る実施の形態１における給水路の水の排水工程時の蒸気発生装置２０における第１の動作を示す断面図である。図８Ｂは、本発明に係る実施の形態１における給水路の水の排水工程時の蒸気発生装置２０における第２の動作を示す断面図である。図８Ｃは、本発明に係る実施の形態１における給水路の水の排水工程時の蒸気発生装置２０における第３の動作を示す断面図である。図８Ｄは、本発明に係る実施の形態１における給水路の水の排水工程時の蒸気発生装置２０における第４の動作を示す断面図である。

使用者により給水タンク２９の排水ライン２６まで水が補充された後、排水モードが選択されて、起動スイッチがＯＮ状態とされると、図８Ａに示すように、給水タンク２９の水が給水ポンプ２８により給水路２７および給水口３６を通じて貯水室１９に給水される。

さらに給水を続けると、図８Ｂに示すように、貯水室１９および排水路３０の水位は、排水路頂点３２に達する。給水タンク２９には貯水室１９内の内容積より１０ｍｌ程多い容量しか蓄えられていないため、給水タンク２９内の水はほとんどなくなる。

そして、図８Ｃに示すように、排水口３７、排水路３０、および排水路出口３３を通って排水タンク３１に対してサイフォンの原理による排水が行われる。このように排水タンク３１に対して排水が行われている間においてもさらに給水ポンプ２８は動作を続ける。給水ポンプ２８が動作を続けることにより、給水タンク２９内の水は空になり、給水ポンプ２８が水ではなく空気を給水路２７に送り込むようになる。この結果、給水ポンプ２８は給水路２７内の水を貯水室１９内に空気で押し出して、排水路３０から排水する。給水ポンプ２８は所定時間経過後に動作を停止する。

最終的には、図８Ｄに示すように、貯水室１９内に押し出された水がサイフォンの原理による排水と合流して、同時に排水タンク３１に向かって排水される。これにより、給水タンク２９、給水路２７、貯水室１９、および排水路３０の水は完全に空になる。

なお、実施の形態１における蒸気発生装置２０においては、給水タンク２９に排水ライン２６を設けたが、操作表示部３９に排水に必要量である１００ｍｌを表示し、使用者に水を補充してもらってもよい。また、水の代わりにクエン酸等の洗浄剤を用いると、貯水室１９内のスケール、水垢等の汚れも落としやすくなり、より清潔な蒸気発生装置２０を提供することができる。

このように、給水タンク２９に所定量の水を入れた状態にて、給水ポンプ２８を動作させて排水路頂点３２まで水位を押し上げることで、サイフォンの原理による排水を行う。さらにサイフォンの原理による排水を行っている間にも、給水ポンプ２８を動作させ、給水を継続している。このような制御によれば、給水タンク２９の水が空になった場合にも、給水ポンプ２８が水ではなく空気を給水路２７に送り込むため、給水路２７内に残った水を空気で押し出して排水することができる。このように排水された水は、サイフォンの原理による排水に合流して同時に排水される。よって、サイフォンの原理では排水できない、給水ポンプ２８の上流及び下流に位置する給水路２７及び給水ポンプ２８内の水を排水することができる。すなわち、安価に排水を行う蒸気発生装置２０を提供することができる。

上記のように、実施の形態１における蒸気発生装置２０では、水を貯める貯水室１９と、貯水室１９内の水を加熱して蒸気を発生させる少なくとも１つの加熱部（例えば、第１の蒸気発生ヒータ４０又は第２の蒸気発生ヒータ４１）と、貯水室１９内に水を給水する給水装置（例えば、給水ポンプ２８）と、貯水室１９内に設けられた複数のフィン２２とを備え、貯水室１９には、加熱部によって発生された蒸気を噴出する蒸気噴出口２１が設けられており、蒸気噴出口２１の下方において、複数のフィン２２は、蒸気発生方向に沿って形成されるとともに、加熱部を横切るように互いに離間して配置される。これにより、特に温度の高い加熱部付近の熱が、熱の伝わりにくい貯水室１９内の水の内部にまでフィン２２によって伝わり、また、フィン２２により貯水室１９と水との接触面積が増えるため、加熱部からの熱を効率的に水に伝えることができる。これにより、貯水室１９と水とが接触する部分の温度が下がり、温度の高い部分で発生しうる大きな気泡が少なくなる。よって、大きな気泡が水面に上昇して破裂することによる沸騰水の駆け上がりを少なくし、沸騰水が蒸気噴出口２１から噴出することを防ぐことができる。また、大きな気泡の発生を少なくすることで、気泡の破裂音を抑えることができる。また、貯水室１９と水との接触部分の温度が下がるため、高温になるほど付着しやすいスケールの付着を抑制することができる。

また、実施の形態１における蒸気発生装置２０においては、フィン２２によって貯水室１９を細かく区切っている。これにより、沸騰時の気泡を物理的に小さくすることができ、大きな気泡の発生をさらに少なくすることができる。また、実施の形態１における蒸気発生装置２０においては、フィン２２が蒸気発生方向に沿って設けている。これにより、蒸気の流れを妨げることがないため、蒸気量及び蒸気流速を向上させることができる。

また、実施の形態１における蒸気発生装置２０においては、蒸気発生方向に垂直な断面における貯水室１９とフィン２２で形成される空間の断面積は、蒸気噴出口２１の断面積以上である。これにより、蒸気の流路において断面積が減少することとなるため、断面積が増加する場合よりも、蒸気に生じる流路圧損を低減することができ、蒸気量の低下を抑制することができる。すなわち、蒸気量の低下を抑制しながら、沸騰水の駆け上がりを少なくし、沸騰水が蒸気噴出口２１から噴出することを防ぎ、さらに気泡の破裂音を抑えることができる。

さらに、実施の形態１における蒸気発生装置２０では、フィン２２は貯水室１９の第１の側面１９Ａから延出されるとともに、第１の側面１９Ａと対向する第２の側面１９Ｂに対してフィン２２の先端が離間している。これにより、フィン２２と第２の側面１９Ｂの間にも水が回り込むため、貯水室１９と水との接触面積が増大する。よって、水の対流が促進されることで、貯水室１９内における水の温度分布がより均一となる。これにより、大きな気泡の発生を少なくすることで、沸騰水の駆け上がりを少なくし、沸騰水が蒸気噴出口２１から噴出することを防ぎ、さらに気泡の破裂音を抑えることができる。

また、実施の形態１における蒸気発生装置２０では、加熱部は、加熱時における貯水室内の水面の上側と下側に少なくとも１つずつ設けられる。これにより、沸騰時に発生する気泡が水面で破裂して駆け上がろうとしても、水面の上側にある加熱部によって加熱されて蒸気になるため、沸騰水が蒸気噴出口２１から噴出することを防ぐことができる。

また、実施の形態１における蒸気発生装置２０では、水を貯める貯水室１９と、貯水室１９内の水を加熱して蒸気を発生させる加熱部（例えば、第１の蒸気発生ヒータ４０又は第２の蒸気発生ヒータ４１）と、貯水室１９内に水を給水する給水装置とを備え、貯水室１９の内壁には、加熱部によって発生された蒸気を噴出する蒸気噴出口２１が設けられており、加熱部は、加熱時における貯水室１９内の水面の上側と下側に少なくとも１つずつ設けられる。これにより、沸騰時に発生する気泡が水面で破裂して駆け上がろうとしても、水面の上側にある加熱部によって加熱されて蒸気になるため、沸騰水が蒸気噴出口２１から噴出することを防ぐことができる。

また、実施の形態１における蒸気発生装置２０では、水を貯める貯水室１９と、貯水室１９内の水を加熱して蒸気を発生させる第１の蒸気発生ヒータ４０及び第２の蒸気発生ヒータ４１と、貯水室１９に設けられた給水口３６および給水路２７を通じて水を送る給水ポンプ２８と、貯水室１９内で発生した蒸気を噴出する蒸気噴出口２１と、貯水室１９の温度を検知する貯水室サーミスタ４２とが設けられている。さらに、運転開始後、制御手段１０は第１の蒸気発生ヒータ４０と第２の蒸気発生ヒータ４１による貯水室１９の加熱を開始するとともに、貯水室サーミスタ４２で検知した貯水室１９の所定時間における温度上昇率に応じて、初期給水量を決定する。このような初期給水量の決定により、貯水室１９内に水を貯えて蒸気を発生させることで、スケールに対して信頼性の低い水位検知手段を用いることなく、貯水室１９から水があふれることを防ぐとともに、貯水室１９が空焚きになることを防ぐことができる。したがって、第１の蒸気発生ヒータ４０と第２の蒸気発生ヒータ４１における過加熱による故障や、蒸気発生効率の低下を防ぐことができる。すなわち、信頼性及び安全性の高い蒸気発生装置２０を提供することができる。

また、実施の形態１における蒸気発生装置２０では、貯水室サーミスタ４２で検知した貯水室１９の温度上昇が３０秒間で５０℃以下である場合（図６のＡ３）には、給水ポンプ２８による給水は行わない。一方で、貯水室１９の温度上昇が３０秒間で５０℃を超える場合（図６のＡ２）には、給水ポンプ２８を用いて貯水室１９に約２０ｍｌの水を給水する。すなわち、貯水室１９の温度上昇が３０秒間で５０℃以下である場合には、貯水室１９内の水位が高いと推定して、給水を行わないようにしている。これにより、貯水室１９から水があふれることを防ぐことができる。また、貯水室１９の温度上昇が３０秒間で５０℃を超える場合には、貯水室１９内の水位が低いと推定して、所定量の給水を行うようにしている。これにより、貯水室１９の温度を下げることで、貯水室１９が空焚きになることを防止することができる。よって、第１の蒸気発生ヒータ４０と第２の蒸気発生ヒータ４１における過加熱による故障や、蒸気発生効率の低下を防ぐことができる。すなわち、信頼性及び安全性の高い蒸気発生装置２０を提供することができる。

さらに、実施の形態１における蒸気発生装置２０では、貯水室１９の温度上昇が３０秒間で６０℃を超える場合（図６のＡ１）の給水量を、貯水室１９の温度上昇が３０秒間で６０℃以下でかつ５０℃を超える場合（図６のＡ２）の給水量よりも多くしている。すなわち、貯水室１９の温度上昇率がより高い場合には、貯水室１９での水位がより低いと推定し、温度上昇率が低い場合よりも、多量の水を給水している。これにより、貯水室１９の温度を下げ、貯水室１９から水があふれることを防ぐことができる。さらに、所定量の給水を行うことで、貯水室１９が空焚きになることを防止することができるため、第１の蒸気発生ヒータ４０と第２の蒸気発生ヒータ４１における過加熱による故障や、蒸気発生効率の低下を防ぐことができる。すなわち、信頼性及び安全性の高い蒸気発生装置２０を提供することができる。

また、実施の形態１における蒸気発生装置２０では、貯水室１９に設けられた排水口３７から、貯水室１９内で通常加熱時に貯められている水面（図３や図７Ａに示す通常水位Ｈ）より上方を経由して延びる排水路３０が設けられている。この排水路３０における水位を、給水ポンプ２８による給水により排水路頂点３２を超えるように押し上げることによって、サイフォンの原理により、貯水室１９に貯まっていた水を排水口３７及び排水路３０を通じて排水することができる。これにより、貯水室１９の水位が高いにもかかわらず多量の水が給水された場合であっても、排水路３０での水位が排水路頂点３２に到達するまで排水は行われない。したがって、排水の誤動作を防ぐことができる。

また、本実施の形態１における蒸気発生装置２０においては、排水路３０の第１の排水路２５がシリコーンで構成しているため、スケールとの結合が弱く、スケールと第１の排水路２５との間で固着することがなくなり、サイフォンの原理により排水した時に第１の排水路２５から容易に、且つ確実にスケールを排出することができる。この結果、実施の形態１における蒸気発生装置２０においては、長期間使用し続けても蒸気発生性能が低下しない、信頼性の高い蒸気発生装置２０を提供することができる。

さらに、実施の形態１における蒸気発生装置２０においては、排水路３０における第１の排水路２５を非金属で構成し、第２の排水路３５を金属で構成することにより、特にスケールの溜まりやすい第１の排水路２５にスケールが固着することがなくなり、また第２の排水路３５は金属製のパイプを曲げて構成することにより固定しやすく安価に構成することができる。

また、第１の排水路２５の非金属部分を弾性体によって構成することより、第１の排水路２５と貯水室１９とを接続する排水口３７、および第１の排水路２５と第２の排水路３５との接続部分をチューブ等の別部品を用いることなく構成することができる。このため、実施の形態１における蒸気発生装置２０は、部品数が増えることによる水漏れ等を防止することができ、信頼性が高く安価に構成することができる。

さらに、排水路３０における少なくとも第１の排水路２５の内面を非金属のコーティングを施して非金属のコーティング層を形成することにより、例えば耐熱性等の理由により金属製の第１の排水路２５を用いる必要がある場合であっても、第１の排水路２５におけるスケールの固着を簡単な構成で防止することができる。勿論、非金属の第１の排水路２５の内面に上記のようなコーティング層が形成することにより、耐熱性や信頼性をより高めることが可能な構成とすることもできる。

なお、実施の形態１における蒸気発生装置２０においては、１つの貯水室サーミスタ４２を貯水室１９に設けて簡易的に貯水室１９の水位を推定したが、貯水室サーミスタ４２を貯水室に複数設けたり、水位センサを用いて貯水室１９または排水路３０の水位を測定したりすることにより、より正確に給水量を調整することができる。

さらに、実施の形態１における蒸気発生装置２０においては、給水タンク２９と排水タンク３１を別々に形成した例で説明したが、一体に形成することにより、排水タンク３１の付け忘れを防止し、排水が床面にこぼれることを防ぐことができる。また、このように給水タンク２９と排水タンク３１を一体に形成することにより、給水タンク２９への注水時に排水タンク３１を取り出すことになるため、排水タンク３１の取り出し忘れによる水の捨て忘れを防止することができるとともに、排水タンク３１が満水になり溢れることを防止することができる。

なお、排水タンク３１が所定の位置に装着されているか否かを検知する排水タンク検知装置を設けることにより、排水タンク３１が付け忘れているときには少なくとも排水工程を実行できないように構成することが可能であり、排水路３０に蓄えられた水が流れて、床面にこぼれることを防止することができる。

また、実施の形態１の構成においては、スチーム加熱が終了後、サイフォンの原理による排水を行うために給水を行った際に同時に貯水室１９内の水の温度を下げることができるため、すぐに排水工程に移ったとしても、貯水室１９内の水の温度が所定温度以下となるまでしばらく自然冷却を行った後に排出を行うように構成してもよい。これはスケールの一種である炭酸カルシウムは温度が低いほど溶解度が大きく、また排水された直後の水にユーザが触れたとしても火傷を起こさないためである。なお、排出される水の温度としては低いほうが好ましいが、排水温度を低くするほど自然冷却の時間が長くなるため、排水温度は冷却時間とのバランスを考慮して適宜設定される。

なお、本発明に係る実施の形態１の加熱調理器においては、マイクロ波加熱モード、オーブン加熱モード、グリル加熱モード、スチーム加熱モードは、それぞれ単独で動作させることもできるが、それぞれの加熱方式を組み合わせて手動もしくは自動で加熱を行うこともできる。

本発明に係る蒸気発生装置は、蒸気を使用する調理器具としての電子レンジ、オーブン電子レンジ、電気オーブン、炊飯器、業務用の解凍装置等の各種用途に適用でき、有用性の高い装置である。

Claims (4)

1. 水を貯める貯水室と、
   前記貯水室内の水を加熱して蒸気を発生させる少なくとも１つの加熱部と、
   前記貯水室内に水を給水する給水装置と、
   前記貯水室内に設けられた複数のフィンとを備え、
   前記貯水室は、開口を有しアルミダイキャストで形成された前記貯水室の本体部と、前記開口に対向して設けられた貯水室カバーとを備え、
   前記貯水室には、前記加熱部によって発生された蒸気を噴出する蒸気噴出口が設けられており、
   前記複数のフィンは、前記貯水室の本体部の一部である第１の側面から延出され、前記蒸気噴出口の下方において、蒸気発生方向に沿って形成されるとともに、前記加熱部を横切るように互いに離間して配置され、
   前記複数のフィンの先端は、前記貯水室の第１の側面と対向する前記貯水室カバーの一部である第２の側面に対して離間し、
   前記加熱部は、前記貯水室の本体部に鋳込まれている、蒸気発生装置。
2. 蒸気発生方向に垂直な断面における前記貯水室と前記フィンで形成される空間の断面積は、前記蒸気噴出口の断面積以上である、
   請求項１に記載の蒸気発生装置。
3. 前記加熱部は、加熱時における貯水室内の水面の上側と下側に少なくとも１つずつ設けられる、
   請求項１又は２に記載の蒸気発生装置。
4. 請求項１、２、４のいずれか１つに記載の蒸気発生装置を備える加熱調理器。

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