WO2014069250A1 - 光学部品、光学部品の製造方法、及びゴースト光の定量方法 - Google Patents

光学部品、光学部品の製造方法、及びゴースト光の定量方法 Download PDF

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optical component
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聡 宮本
政興 友田
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    • G02C2202/00—Generic optical aspects applicable to one or more of the subgroups of G02C7/00
    • G02C2202/16—Laminated or compound lenses

Definitions

  • the present invention relates to an optical component, an optical component manufacturing method, and a ghost light quantification method.
  • plastic lenses are frequently used as spectacle lenses because of their advantages of being lightweight, excellent in impact resistance and easy to dye.
  • a plastic lens used for a spectacle lens is usually provided with an antireflection film on both sides.
  • the antireflection film for spectacle lenses generally has low reflection characteristics (broadband low reflection characteristics) over the entire visible region of 400 nm to 700 nm.
  • optical parts such as eyeglass lenses
  • optical parts including a plastic base as disclosed in Patent Documents 1 to 3, and an antireflection film disposed on the base.
  • dyeing lenses such as sunglasses are known.
  • the dyed lens cuts the entire visible region, the visibility may deteriorate due to a decrease in the amount of light.
  • this method has a high reflectivity of the multilayer film, and causes strong multiple reflection within the lens, which may cause clear ghost light to enter the field of view.
  • An aspect of the present invention has an antiglare effect, reduces fatigue, is effective in preventing eye diseases, and has a relatively high reflectivity and good visibility, and manufacture of an optical component It aims to provide a method. Another object of the present invention is to provide a method for quantifying ghost light generated by multiple reflection of light within an optical component.
  • An optical component according to an aspect of the present invention is an optical component comprising a plastic substrate and a multilayer film disposed on both surfaces of the plastic substrate, the plastic substrate including the plastic substrate.
  • the spectral characteristic curve showing the relationship between the wavelength and the reflectance with respect to the multilayer film disposed on the one surface has a maximum value at the first wavelength in the wavelength range of 380 to 780 nm, and the first wavelength
  • the average reflectance of the multilayer film disposed on the one surface is 50% or less in a wavelength range of 25 nm before and after the first wavelength from the first wavelength to the second wavelength within 200 nm from the long wavelength side.
  • the average reflectance of the multilayer film disposed on the two surfaces of the plastic substrate in the wavelength range of about 25 nm before and after the first wavelength is that of the multilayer film disposed on the one surface.
  • Average reflectance The spectral characteristic curve showing the relationship between the wavelength and the reflectance with respect to the multilayer film disposed on the two surfaces of the plastic base material is 0% or less, in the wavelength range of 25 nm before and after the first wavelength, It does not have a maximum value.
  • An optical component manufacturing method is a method for manufacturing an optical component comprising a plastic substrate and a multilayer film disposed on both surfaces of the plastic substrate. And heating the plastic substrate, and adjusting the plastic substrate to a predetermined temperature by the heating, and then forming the multilayer film on the plastic substrate.
  • the forming step includes a step of alternately stacking a plurality of high refractive index materials and low refractive index materials to form a high refractive index layer having a multilayer structure, and a low refractive index having a refractive index lower than the refractive index of the high refractive index layer.
  • Spectral characteristic curve is 380-780n In the wavelength range of 25 nm before and after the first wavelength, the first wavelength has one local maximum value at the first wavelength and the second wavelength within 200 nm from the first wavelength to the long wavelength side.
  • the multilayer film disposed on the one surface has an average reflectance of 50% or less, and is disposed on the two surfaces of the plastic substrate in the wavelength range of 25 nm before and after the first wavelength.
  • the spectral characteristic curve showing the relationship between the wavelength and the reflectance with respect to the reference wavelength is set so as not to have a maximum value in the wavelength range of 25 nm before and after the first wavelength.
  • a ghost light quantification method is an optical component comprising a plastic substrate and a multilayer film disposed on both surfaces of the plastic substrate. Quantification method of ghost light generated by multiple reflections of the multi-layer, wherein the spectral reflectance R 1 ( ⁇ ) [%] of the multilayer film disposed on the one surface and the spectrum of the multilayer film disposed on the two surfaces From the reflectance R 2 ( ⁇ ) [%] and the following equation (1), A n ( ⁇ ) is obtained.
  • n an integer of 1 or more.
  • n an integer of 1 or more.
  • the value of the Y value is the intensity of ghost light.
  • optical component according to the aspect of the present invention even when a multilayer film having a high reflectance is provided, a sufficient antiglare effect can be obtained while maintaining good visibility.
  • the method of manufacturing an optical component according to an aspect of the present invention it is possible to provide an optical component that has optical characteristics that reduce multiple reflections in the lens, are easy to see, and are effective in preventing fatigue and eye diseases. It becomes possible.
  • FIG. 6 is a spectral characteristic diagram on one surface of the lens of Example 1.
  • FIG. 5A is numerical data of the spectral characteristics of FIG. 5A.
  • 2 is a spectral characteristic diagram on two surfaces of the lens of Example 1.
  • FIG. 6A is numerical data of the spectral characteristics of FIG. 6A.
  • FIG. 6 is a spectral characteristic diagram on one surface of a lens according to Example 2.
  • FIG. It is numerical data of the spectral characteristics of FIG. 7A. 6 is a spectral characteristic diagram on two surfaces of the lens of Example 2.
  • FIG. It is numerical data of the spectral characteristic of FIG. 8A. 6 is a spectral characteristic diagram on one surface of a lens according to Example 3.
  • FIG. It is numerical data of the spectral characteristics of FIG. 9A. 6 is a spectral characteristic diagram on two surfaces of the lens of Example 3.
  • FIG. It is numerical data of the spectral characteristics of FIG. 10A. 6 is a spectral characteristic diagram on both surfaces of the lens of Comparative Example 1.
  • FIG. It is numerical data of the spectral characteristic of FIG. 11A. 6 is a spectral characteristic diagram on both surfaces of a lens of Comparative Example 2.
  • FIG. 1 is a side sectional view schematically showing an optical component according to an embodiment of the present invention.
  • reference numeral 1 denotes an optical component for a spectacle lens.
  • the optical component 1 includes a plastic substrate 2 and an inorganic multilayer film 3 disposed on one surface of the plastic substrate 2.
  • a functional thin film 4 is disposed between one surface of the plastic substrate 2 and the inorganic multilayer film 3.
  • the functional thin film 4 is composed of a primer layer 5 and a hard coat layer 6 in this embodiment.
  • the plastic substrate 2 is, for example, a transparent plastic such as acrylic resin, thiourethane resin, methacrylic resin, allyl resin, episulfide resin, polycarbonate resin, polyurethane resin, polyester resin, polystyrene resin, episulfide.
  • the refractive index (nd) of the plastic substrate 2 is selected from, for example, 1.50, 1.60, 1.67, and 1.74.
  • the plastic base material 2 when making the refractive index of the plastic base material 2 1.6 or more, an allyl carbonate resin, an acrylate resin, a methacrylate resin, a thiourethane resin, or the like can be used. .
  • the plastic substrate 2 may not be transparent as long as it has translucency, and may be colored. The transmittance of the colored plastic substrate 2 can be 5 to 85%.
  • the functional thin film 4 is disposed between the plastic substrate 2 and the inorganic multilayer film 3 as described above, and is in contact with the primer layer 5 disposed in contact with the plastic substrate 2, and
  • the hard coat layer 6 is disposed in contact with the inorganic multilayer film 3.
  • the primer layer 5 is for improving the adhesion between the plastic substrate 2 and the hard coat layer 6 and functions as an adhesion layer. Moreover, it is also for absorbing the impact on the optical component 1 and functions as an impact absorbing layer.
  • the primer layer 5 is mainly composed of a polyurethane-based resin, and in this embodiment, the polyurethane-based resin contains, for example, fine particles of an inorganic material.
  • the primer layer 5 may include at least one of acrylic resin, methacrylic resin, and organosilicon resin.
  • the thickness (actual thickness) of the primer layer 5 can be about 0.5 ⁇ m or more and 1.0 ⁇ m or less.
  • the primer layer 5 can be formed on the plastic substrate 2 with a predetermined thickness by immersing the plastic substrate 2 in the forming material solution of the primer layer 5 and then lifting and drying.
  • a material for forming the primer layer 5 for example, a solution obtained by dispersing or dissolving the resin to be the primer layer 5 and the inorganic oxide fine particle sol in water or an alcohol solvent and mixing them can be used.
  • the hard coat layer 6 has a function of protecting the plastic substrate 2 and suppressing damage to the plastic substrate 2, and functions as a scratch-resistant film.
  • the hard coat layer 6 is made of, for example, an organosiloxane hard coat layer.
  • the organosiloxane hard coat layer is obtained by dispersing inorganic oxide fine particles in an organosiloxane resin.
  • the inorganic oxide for example, rutile-type titanium oxide, and oxides of silicon, tin, zirconium, and antimony are used.
  • the hard coat layer 6 may be an organic silicon-based resin containing colloidal silica as disclosed in, for example, Japanese Patent Publication No. 4-55615.
  • the thickness (actual thickness) of the hard coat layer 6 can be about 2 ⁇ m or more and 4 ⁇ m or less.
  • the hard coat layer 6 is formed on the primer layer 5 on the plastic substrate 2 by immersing the plastic substrate 2 on which the primer layer 5 is formed in the forming material solution of the hard coat layer 6, and then pulling up and drying. It can be formed with a thickness of As a forming material liquid for the hard coat layer 6, for example, a liquid obtained by dispersing or dissolving the resin to be the hard coat layer 6 and the inorganic oxide fine particle sol in water or an alcohol solvent and mixing them can be used. .
  • the functional thin film 4 and the plastic substrate 2 can be used as long as the refractive index and the refractive index of the plastic substrate 2 are substantially the same. Generation of interference fringes caused by reflection at the interface and a decrease in transmittance can be suppressed. Therefore, the refractive index of the functional thin film 4 is adjusted according to the refractive index of the plastic substrate 2.
  • the refractive index of the functional thin film 4 (primer layer 5 and hard coat layer 6) can be adjusted by selecting the type (physical properties) of the resin that is the main component of the functional thin film 4, or for the resin that is the main component. This can be done by selecting the type (physical properties) of the fine particles to be added.
  • the functional thin film 4 is formed including the primer layer 5 and the hard coat layer 6.
  • the primer layer 5 and the hard coat layer 6 are formed. It may be omitted.
  • a dielectric film or a metal film made of ITO (Indium Tin Oxide) or the like may be provided in addition to the primer layer 5 and the hard coat layer 6.
  • a dielectric film or a metal film having a thickness of 20 nm or less may be disposed between the high refractive index inorganic material and the low refractive index inorganic material constituting the inorganic multilayer film. Note that the thickness of the dielectric film or the metal film may be 10 nm or less.
  • the inorganic multilayer film 3 includes a high refractive index layer 7 having a multilayer structure in which a plurality of high refractive index inorganic materials and low refractive index inorganic materials are alternately stacked on the plastic substrate 2.
  • the low refractive index layer 8 made of a low refractive index inorganic material having a lower refractive index than that of the high refractive index layer 7 is formed into a multilayer.
  • the inorganic multilayer film 3 has a function as an antireflection film for preventing reflection of incident light.
  • an inorganic multilayer film is used as the multilayer film.
  • an organic multilayer film may be used as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • the high refractive index layer 7 is made of the first layer 9 made of a high refractive index inorganic material provided on the plastic substrate 2 side, and the low refractive index inorganic material provided on the first layer 9. It consists of a second layer 10 and a third layer 11 made of a high refractive index inorganic material provided on the second layer 10.
  • the first layer 9 is provided in contact with the hard coat layer 6 and is made of zirconium dioxide (ZrO 2 ) having a refractive index of 2.0.
  • ZrO 2 zirconium dioxide
  • titanium dioxide (TiO 2 ) or tantalum dioxide (Ta 2 O 5 ) can be used as the high refractive index inorganic material constituting the first layer 9.
  • it can also be formed of an oxide of an alloy composed of a plurality of kinds of zirconium, titanium, and tantalum.
  • Y 2 O 3 yttrium dioxide
  • Nb 2 O 5 niobium dioxide
  • the adhesion between the first layer 9 and the hard coat layer 6 can be obtained by forming the first layer 9 with the high refractive index inorganic material (ZrO 2 ).
  • the adhesion (adhesive strength) between the layer (ZrO 2 ) made of the high refractive index inorganic material and the hard coat layer 6 is more closely adhered to the layer (SiO 2 ) made of the low refractive index inorganic material and the hard coat layer 6. This is because it is larger than the property (adhesion).
  • the adhesion (adhesion) between the high refractive index layer (ZrO 2 ) and the plastic substrate 2 is lower. Since it is larger than the adhesiveness (adhesive force) between the rate layer (SiO 2 ) and the plastic substrate 2, the adhesiveness becomes more advantageous.
  • the second layer 10 is provided in contact with the first layer 9 and is made of silicon dioxide (SiO 2 ) having a refractive index of 1.47.
  • SiO 2 silicon dioxide
  • MgF 2 having a refractive index of 1.36 can be used as the low refractive index inorganic material constituting the second layer 10 in addition to SiO 2 .
  • the third layer 11 is provided in contact with the second layer 10 and is made of zirconium dioxide (ZrO 2 ) in the same manner as the first layer 9.
  • the third layer 11 can also be formed of a high refractive index inorganic material other than ZrO 2 , similarly to the first layer 9. Further, the high refractive index layer 7 is not formed with the three-layer structure of the first layer 9, the second layer 10, and the third layer 11 as described above. It can also be composed of layers, or four or more layers.
  • the low refractive index layer 8 is provided in contact with the third layer 11 and is made of silicon dioxide (SiO 2 ) as in the second layer 10.
  • the fluorine-containing alkyl group-containing organosilicon compound is included on the inorganic multilayer film 3, that is, on the outermost layer (low refractive index layer 8) of the inorganic multilayer film 3 farthest from the plastic substrate 2.
  • a water / oil repellent film 12 is provided.
  • the water / oil repellent film 12 is mainly composed of a fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound and has liquid repellency (water repellency, oil repellency).
  • the water / oil repellent film 12 lowers the surface energy of the optical component, exhibits functions of preventing water scorching and dirt, and improves the sliding performance of the surface of the optical component, resulting in improved scratch resistance. Can be made.
  • the fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound the following general formula (1):
  • Rf represents a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms
  • Y represents iodine or hydrogen
  • Y ′ represents hydrogen or a lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • Y ′′ represents a fluorine or trifluoromethyl group
  • R 1 represents a hydrolyzable group
  • R 2 represents hydrogen or an inert monovalent organic group
  • a, b, c, d are Each represents an integer of 0 to 200, e represents 0 or 1, s and t each represents an integer of 0 to 2, and w represents an integer of 1 to 10) and the following general formulas (2) to ( 5):
  • X represents oxygen or a divalent organic group
  • X ′ represents a hydrolyzable group
  • X ′′ represents a divalent organic silicone group
  • R 3 represents carbon.
  • q represents an integer of 1 to 3
  • m, n and o each represents an integer of 0 to 200
  • p represents 1 or 2
  • r Represents an integer of 2 to 20
  • k represents an integer of 0 to 2
  • z represents an integer of 0 to 10 when k is 0 or 1
  • Rf 2 represents a divalent linear perfluoropolyether group
  • R 4 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group
  • R 5 represents a hydrolyzable group.
  • I represents an integer of 0 to 2
  • j represents an integer of 1 to 5
  • u represents 2 or 3.
  • a fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound selected from the general formulas (1) to (5) and the general formula (6) The selected fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound can be used in combination.
  • the fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound represented by the general formulas (1) to (5) OPTOOL-DSX, OPTOOL-AES4, etc. manufactured by Daikin Industries, Ltd. can be used.
  • As the fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound represented by the general formula (6) KY-130, KY-164 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. can be used.
  • the optical component 1 further includes an inorganic multilayer film 3 ′ disposed on two surfaces of the plastic substrate 2.
  • a functional thin film 4 is disposed between the two surfaces of the plastic substrate 2 and the inorganic multilayer film 3 ′, as with the first surface.
  • the inorganic multilayer film 3 ′ has a high refractive index layer 7 ′ having a multilayer structure in which a plurality of high refractive index inorganic materials and low refractive index inorganic materials are alternately laminated on the plastic substrate 2.
  • On the 7 ' it is composed of a multilayer having a low refractive index layer 8' made of a low refractive index inorganic material having a lower refractive index than that of the high refractive index layer 7 '.
  • the high refractive index layer 7 ′ includes a first layer 9 ′ made of a high refractive index inorganic material provided on the plastic substrate 2 side, and a low refractive index inorganic provided on the first layer 9 ′.
  • a second layer 10 ′ made of a material and a third layer 11 ′ made of a high refractive index inorganic material provided on the second layer 10 ′.
  • Inorganic materials used for the first layer 9 ′, the second layer 10 ′, and the third layer 11 ′ in the present embodiment include the first layer 9, the second layer 10, and the third layer 11 in the first embodiment.
  • the thing similar to the inorganic material used is mentioned.
  • the high refractive index layer 7 ′ can be composed of two layers or four or more layers without forming it in a three-layer structure, like the high refractive index layer 7 in the first embodiment.
  • the functional thin film 4 is formed including the primer layer 5 and the hard coat layer 6.
  • the primer layer 5 or the hard coat layer 6 is selected.
  • One or both may be omitted.
  • a dielectric film or a metal film made of ITO (Indium Tin Oxide) or the like may be provided in addition to the primer layer 5 and the hard coat layer 6.
  • a dielectric film or a metal film having a thickness of 20 nm or less may be disposed between the high refractive index inorganic material and the low refractive index inorganic material constituting the inorganic multilayer film. Note that the thickness of the dielectric film or the metal film may be 10 nm or less.
  • an inorganic multilayer film is used as the multilayer film, but an organic multilayer film may be used as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • any one of the both surfaces of the plastic substrate may be the front surface or the rear surface.
  • one surface can be a front surface and two surfaces can be a rear surface.
  • FIG. 2 shows the relationship between the light wavelength and the reflectance of the inorganic multilayer film 3 (multilayer film disposed on one surface) or the inorganic multilayer film 3 ′ (multilayer film disposed on two surfaces) at the light wavelength.
  • the spectral characteristic curve O1 showing the relationship between the wavelength range and the reflectance of the inorganic multilayer film 3 in the wavelength range has one (reflectance) maximum value (FIG. 2) in the wavelength range of 380 to 780 nm.
  • the reflectance at the point X1 and one (reflectance) minimum value (the reflectance at the point X2 in FIG. 2) within the wavelength 200 nm from the wavelength corresponding to the maximum value (first wavelength). .
  • the wavelength region is preferably 400 to 500 nm, more preferably 410 to 465 nm, and particularly preferably 430 to 450 nm.
  • the average reflectance in the wavelength range of 25 nm before and after the wavelength corresponding to the maximum value (the wavelength at the point X1 in FIG. 2) (the wavelength range at the points X3 to X4 in FIG. 2) is 50% or less, and 20 % Or less, and more preferably 10% or less.
  • the average reflectance of the inorganic multilayer film 3 ′ (multilayer film disposed on two surfaces) is 40% or less, preferably 20% or less, and more preferably 10% or less.
  • the spectral characteristic curve O2 showing the relationship between the wavelength range and the reflectance of the inorganic multilayer film 3 ′ in the wavelength range corresponds to the maximum value of the spectral characteristic curve O1 (the reflectance at the point X1 in FIG. 2). There is no maximum value in the wavelength range of 25 nm before and after the wavelength (the wavelength range at point X3 to point X4 in FIG. 2).
  • the spectral characteristic curve O1 showing the relationship between the wavelength and the reflectance with respect to the inorganic multilayer film 3 disposed on one surface of the plastic substrate 2 is the first wavelength in the wavelength range of 380 to 780 nm (in FIG. 2).
  • the wavelength at the point X1) has one maximum value (reflectance at the point X1 in FIG. 2), and the second wavelength within 200 nm from the first wavelength (the wavelength at the point X2 in FIG. 2). It has one minimum value (reflectance at point X2 in FIG. 2), and the average reflectance in the wavelength range from the first wavelength to 25 nm before and after (wavelength range from point X3 to point X4 in FIG. 2) is 50% or less.
  • the average reflectance of the inorganic multilayer film 3 ′ disposed on the two surfaces of the plastic substrate 2 is the average of the inorganic multilayer film 3 disposed on the one surface.
  • the spectral characteristic curve O2 showing the relationship between the wavelength and the reflectance with respect to the inorganic multilayer film 3 ′ disposed on the two surfaces of the tic substrate 2 does not have a maximum value in the wavelength range of 25 nm before and after the first wavelength.
  • the inorganic multilayer film 3 and the inorganic multilayer film 3 ′ have the above characteristics, generation of ghost light generated in the optical component can be suppressed.
  • the inorganic multilayer film 3 and the inorganic multilayer film 3 ′ can have a property that satisfies the following conditions.
  • n an integer of 1 or more.
  • n an integer of 1 or more.
  • Y of the tristimulus values XYZ is calculated from K, S ( ⁇ ), color matching function x ( ⁇ ) y ( ⁇ ) z ( ⁇ ), T gn ( ⁇ ), and the following equation (4). Find the value.
  • the inorganic multilayer film 3 and the inorganic multilayer film 3 ′ are configured to have a Y value of 2.0 ⁇ 10 ⁇ 2 or less.
  • the inorganic multilayer film 3 and the inorganic multilayer film 3 ′ have such a Y value, generation of ghost light generated in the optical component can be more effectively suppressed.
  • the manufacturing method of the present embodiment includes a step of forming the functional thin film 4 (primer layer 5 and hard coat layer 6) on the plastic substrate 2 by a method similar to the conventional method, and a step of heating the plastic substrate 2. After the plastic substrate 2 is adjusted to a predetermined temperature (for example, 70 ° C.) by heating, the inorganic multilayer film 3 and the inorganic multilayer film 3 ′ are formed on both surfaces of the plastic substrate 2 consisting of one surface and two surfaces, respectively. And a step of forming a water / oil repellent film 12 on the inorganic multilayer film 3 and the inorganic multilayer film 3 ′.
  • a predetermined temperature for example, 70 ° C.
  • the step of forming the inorganic multilayer film 3 and the inorganic multilayer film 3 ′ is a process of forming a plurality of high refractive index layers 7 and 7 ′ having a multilayer structure by alternately laminating a plurality of high refractive index inorganic materials and low refractive index inorganic materials. And a process of forming low refractive index layers 8 and 8 'made of a low refractive index inorganic material on the high refractive index layers 7 and 7'. For example, a vacuum deposition method can be used for forming these layers.
  • FIG. 3 is a diagram showing an example of a vapor deposition apparatus (film formation apparatus) 30 for forming each layer of the inorganic multilayer film 3.
  • the vapor deposition apparatus 30 includes a first film formation chamber 31, a second film formation chamber 32, and a third film formation chamber 33.
  • the first film forming chamber 31, the second film forming chamber 32, and the third film forming chamber 33 are configured so that the inside thereof is substantially decompressed to a vacuum and maintained in that state.
  • the vapor deposition apparatus 30 can adjust the internal temperature of each of the first film forming chamber 31, the second film forming chamber 32, and the third film forming chamber 33 by temperature control means (not shown).
  • the vapor deposition apparatus 30 includes a holding member 34 in each internal space of the first film formation chamber 31, the second film formation chamber 32, and the third film formation chamber 33.
  • the holding member 34 has a curved upper surface (holding surface) and is configured to be rotatable, and holds a plurality of plastic substrates 2 on the upper surface.
  • the vapor deposition source 35 of the vapor deposition apparatus 30 is disposed in a space inside the second film formation chamber 32.
  • the vapor deposition source 35 includes a first vapor deposition source 35A and a second vapor deposition source 35B.
  • a light source device 36 capable of irradiating the vapor deposition source 35 with a beam is disposed.
  • the light source device 36 can strike the constituent particles of the vapor deposition source 35 by irradiating the vapor deposition source 35 with electrons.
  • a material (gas) for forming the inorganic multilayer film 3 and the inorganic multilayer film 3 ′ is emitted from the vapor deposition source 35.
  • the light source device 36 irradiates the first vapor deposition source 35A with a beam
  • the vapor of ZrO 2 is discharged from the first vapor deposition source 35A, and is supplied onto the plastic substrate 2 held by the holding member 34 for vapor deposition.
  • the second vapor deposition source 35B by irradiating the second vapor deposition source 35B with a beam, SiO 2 vapor is released from the second vapor deposition source 35B, and is supplied onto the plastic substrate 2 held by the holding member 34 for vapor deposition.
  • the second layers 10 and 10 ′ and the low refractive index layers 8 and 8 ′ in the high refractive index layers 7 and 7 ′ of the inorganic multilayer film 3 and the inorganic multilayer film 3 ′ can be formed.
  • the optical component according to the embodiment of the present invention is a spectroscope that shows the relationship between the wavelength range and the reflectance of the multilayer film (inorganic multilayer film 3) disposed on one surface of the plastic substrate 2 in the wavelength range.
  • the characteristic curve has one maximum value in the wavelength range of 380 to 780 nm and one minimum value at the second wavelength within 200 nm from the wavelength corresponding to the maximum value (first wavelength) on the long wavelength side.
  • the wavelength corresponding to the maximum value (first wavelength) is set so that the average reflectance of the multilayer film disposed on one surface of the plastic substrate 2 in the wavelength range of 25 nm before and after the wavelength corresponding to the value is 50% or less.
  • the average reflectance of the multilayer film (inorganic multilayer film 3 ') disposed on the two surfaces of the plastic substrate 2 in the wavelength range of 25 nm from the front to the back is 40 of the average reflectance of the multilayer film disposed on the one surface.
  • the spectral characteristic curve showing the relationship with the reflectance of the multilayer film disposed on the two surfaces of the plastic substrate 2 in the wavelength range does not have a maximum value in the wavelength range of 25 nm before and after the wavelength corresponding to the maximum value.
  • a vapor deposition source made of zirconium oxide (ZrO) was used as the first vapor deposition source 35A, and the first vapor deposition source 35A was irradiated with a beam while introducing oxygen into the internal space of the second film formation chamber 32, so that zirconium dioxide (ZrO You may make it form the high refractive index inorganic material layer which consists of 2 ).
  • the step of forming the inorganic multilayer film 3 and the inorganic multilayer film 3 ′ includes at least one of the layers constituting the inorganic multilayer film 3 and the inorganic multilayer film 3 ′.
  • a step of forming a film while performing ion beam assist may be included.
  • a dielectric film is disposed between the high refractive index inorganic material and the low refractive index inorganic material constituting the inorganic multilayer film. .
  • FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a film forming apparatus 30 ′ for performing ion beam assist.
  • the film forming apparatus 30 ′ has a configuration in which an ion gun 37 is provided in the second film forming chamber of the vapor deposition apparatus 30 shown in FIG.
  • a dielectric film such as ITO is disposed between the high refractive index layers 7 and 7 ′ and the low refractive index layers 8 and 8 ′ constituting the inorganic multilayer film 3 and the inorganic multilayer film 3 ′.
  • film formation is performed while performing ion beam assist.
  • At least one of the layers constituting the inorganic multilayer film 3 in the second film forming chamber 32 may be formed while performing ion beam assist, and the target to be subjected to ion beam assist is limited to the dielectric film. Not.
  • the second film forming chamber of the film forming apparatus 30 ′ includes a holding member 34 that holds the base material on which the high refractive index layers 7 and 7 ′ are formed on the plastic base material 2, and a vapor deposition source. 35 ', an ion gun 37 that is spaced apart from the vapor deposition source 35', and a light source device 36. Further, the film forming apparatus 30 ′ is configured so that the inside thereof is substantially decompressed to a vacuum, and the periphery of the plastic substrate 2 can be maintained in a vacuum atmosphere.
  • an atmospheric gas supply source such as a gas cylinder is connected to the film forming apparatus 30 ′, and the inside of the vacuum vessel is in a low pressure state such as a vacuum, and an oxygen gas, argon gas, or other inert gas atmosphere, Or it is comprised so that it can be set as the inert gas atmosphere containing oxygen.
  • the vapor deposition source 35 ' includes, for example, ITO.
  • ITO indium gallium tin oxide
  • the gasified ITO is emitted from the vapor deposition source 35 ′ and supplied to the plastic substrate 2 held by the holding member 34.
  • a dielectric film made of ITO can be formed on the high refractive index layers 7 and 7 ′.
  • the ion gun 37 includes a gas introduction part for introducing a gas to be ionized inside the second film forming chamber 32 and a lead electrode on the front.
  • the ion gun 37 is a device that ionizes a part of gas atoms or molecules, and irradiates the ionized particles as an ion beam by controlling with an electric field generated by an extraction electrode.
  • the light source device 36 has a configuration equivalent to that of the ion gun 37, and can irradiate electrons to the vapor deposition source 35 'to knock out the constituent particles of the vapor deposition source 35'.
  • a voltage is applied to the vapor deposition source 35 ′ with a high-frequency coil or the like to form the constituent particles of the vapor deposition source 35 ′.
  • the light source device 36 may be omitted.
  • an ITO dielectric film is formed on the high refractive index layers 7 and 7 ′ on the plastic substrate 2 using the film forming apparatus 30 ′ having the above-described configuration.
  • an ITO vapor deposition source 35 ′ is used, and ions irradiated from the ion gun 37 can be irradiated onto the upper surface of the holding member 34.
  • the inside of the film forming chamber 32 containing the plastic substrate 2 is evacuated to make a reduced pressure atmosphere. Then, the ion gun 37 and the light source device 36 are operated.
  • the constituent particles of the vapor deposition source 35' are knocked out and fly onto the high refractive index layers 7 and 7 '. Then, on the high refractive index layers 7 and 7 ′, the constituent particles knocked out from the vapor deposition source 35 ′ are deposited, and at the same time, argon ions are irradiated from the ion gun 37 as an ion beam.
  • ion beam assist is performed using at least one gas selected from an inert gas, an oxygen gas, and a mixed gas of an inert gas and an oxygen gas.
  • argon can be used as the inert gas.
  • the water / oil repellent film 12 is formed thereon.
  • a wet method such as a dipping method, a spin coat method and a spray method, or a dry method such as a vacuum deposition method.
  • the dipping method is common and is often used.
  • the optical component formed up to the inorganic multilayer films 3 and 3 ′ is immersed in a solution obtained by dissolving a fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound in an organic solvent, and the film is formed by pulling up and drying under certain conditions. It is.
  • the organic solvent perfluorohexane, perfluoro-4-methoxybutane, perfluoro-4-ethoxybutane, metaxylene hexafluoride, or the like is used.
  • the dilution concentration with the organic solvent can be 0.01 to 0.5% by weight, preferably 0.03 to 0.1% by weight. If the concentration is too low, the water / oil repellent layer 12 having a sufficient film thickness may not be obtained. If the concentration is too high, uneven coating tends to occur and the material cost may increase. Of the dry methods, vacuum deposition is often used. This method is a method of forming the water- and oil-repellent film 12 by heating and evaporating the fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound in a vacuum chamber.
  • the inorganic multilayer film 3 and the inorganic multilayer film 3 ′ are designed so as to have the above-described characteristics, so that the generation of ghost light generated in the optical component can be suppressed.
  • the method of manufacturing an optical component such a well-balanced and excellent optical component can be reliably provided.
  • the ghost light quantification method of this embodiment is a method of multiply reflecting light within an optical component including a plastic substrate 2 and a multilayer film disposed on both sides of the plastic substrate 2.
  • n an integer of 1 or more.
  • n an integer of 1 or more.
  • the obtained Y value is defined as the intensity of ghost light.
  • the present inventor has found a method for quantifying the intensity of ghost light generated in an optical component. Reduction of ghost light by using the method according to the embodiment of the present invention and setting, for example, a Y value of 2.0 ⁇ 10 ⁇ 2 or less as a reference for a multilayer film disposed in an optical component Can be manufactured.
  • the optical thickness is 0.060 ⁇
  • the fifth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is the optical thickness 0.190 ⁇
  • the sixth layer SiO 2 (refractive index 1.47) is the optical thickness 0.340 ⁇ .
  • ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • 2 side Using the same apparatus as for 1 side, after pre-processing in the same processing atmosphere, the first layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is sequentially applied to the optical film thickness of 0.050 ⁇ from the plastic substrate side.
  • the second layer SiO 2 (refractive index 1.47) has an optical film thickness of 0.080 ⁇
  • the third layer ZrO 2 (refractive index 2.00) has an optical film thickness of 0.150 ⁇
  • the fourth layer SiO 2 (refractive index).
  • the refractive index 1.47) is the optical film thickness 0.040 ⁇
  • the fifth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is the optical film thickness 0.110 ⁇
  • the sixth layer SiO 2 (refractive index 1.47) is optical.
  • Lamination was performed with a film thickness of 0.220 ⁇ . Note that ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • FIG. 5A shows the spectral characteristics on one surface of the lens of Example 1.
  • FIG. Numerical data of the spectral characteristics of FIG. 5A is shown in FIG. 5B.
  • FIG. 6A shows the spectral characteristics of the two surfaces of the lens of Example 1.
  • FIG. Numerical data of the spectral characteristics of FIG. 6A is shown in FIG. 6
  • the optical thickness is 0.500 ⁇
  • the fifth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is the optical thickness 0.170 ⁇
  • the sixth layer SiO 2 (refractive index 1.47) is the optical thickness 0.110 ⁇ .
  • the seventh layer ZrO 2 (refractive index 2.00) has an optical thickness of 0.190 ⁇
  • the eighth layer SiO 2 (bending A refractive index of 1.47) was laminated with an optical film thickness of 0.280 ⁇ . Note that ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • 2 side Using the same apparatus as that for 1 side, after pre-processing in the same processing atmosphere, the first layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is sequentially applied to the optical film thickness of 0.110 ⁇ from the plastic substrate side.
  • the second layer SiO 2 (refractive index 1.47) has an optical thickness of 0.090 ⁇
  • the third layer ZrO 2 (refractive index 2.00) has an optical thickness of 0.220 ⁇
  • the fourth layer SiO 2 (refractive index).
  • the refractive index 1.47) is the optical film thickness 0.060 ⁇
  • the fifth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is the optical film thickness 0.200 ⁇
  • the sixth layer SiO 2 (refractive index 1.47) is optical.
  • Lamination was performed with a film thickness of 0.330 ⁇ . Note that ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • FIG. 7A shows the spectral characteristics on one surface of the lens of Example 2.
  • FIG. Numerical data of the spectral characteristics of FIG. 7A is shown in FIG. 7B.
  • the spectral characteristics of the two surfaces of the lens of Example 2 are shown in FIG. 8A.
  • Numerical data of the spectral characteristics of FIG. 8A is shown in FIG. 8B
  • the optical thickness is 0.060 ⁇
  • the fifth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is the optical thickness 0.160 ⁇
  • the sixth layer SiO 2 (refractive index 1.47) is the optical thickness 0.340 ⁇ .
  • ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • 2 side Using the same apparatus as for 1 side, after pre-processing in the same processing atmosphere, the first layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is sequentially applied to the optical film thickness of 0.070 ⁇ from the plastic substrate side.
  • the second layer SiO 2 (refractive index 1.47) has an optical film thickness of 0.070 ⁇
  • the third layer ZrO 2 (refractive index 2.00) has an optical film thickness of 0.140 ⁇
  • the fourth layer SiO 2 (refractive index).
  • the optical thickness is 0.050 ⁇
  • the fifth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is the optical thickness 0.120 ⁇
  • the sixth layer SiO 2 (refractive index 1.47) is the optical thickness.
  • the layers were laminated with a film thickness of 0.290 ⁇ . Note that ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • FIG. 9A shows the spectral characteristics on one surface of the lens of Example 3.
  • FIG. 9B The numerical data of the spectral characteristics of FIG. 9A is shown in FIG. 9B.
  • FIG. 10A shows the spectral characteristics of the two surfaces of Example 3.
  • FIG. 10B The numerical data of the spectral characteristics of FIG. 10A is shown in FIG. 10B.
  • the optical thickness is 0.060 ⁇
  • the fifth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is the optical thickness 0.160 ⁇
  • the sixth layer SiO 2 (refractive index 1.47) is the optical thickness 0.340 ⁇ .
  • ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • 2 side Using the same apparatus as for 1 side, after pre-processing in the same processing atmosphere under the same processing atmosphere, the first layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is sequentially applied from the plastic substrate side to the optical film thickness of 0.100 ⁇ .
  • the second layer SiO 2 (refractive index 1.47) has an optical film thickness of 0.100 ⁇
  • the third layer ZrO 2 (refractive index 2.00) has an optical film thickness of 0.200 ⁇
  • the fourth layer SiO 2 (refractive index).
  • the refractive index 1.47) is the optical film thickness 0.060 ⁇
  • the fifth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is the optical film thickness 0.160 ⁇
  • the sixth layer SiO 2 (refractive index 1.47) is optical.
  • Lamination was performed with a film thickness of 0.340 ⁇ . Note that ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • FIG. 11A shows numerical data of the spectral characteristics of FIG. 11A.
  • the optical thickness is 0.550 ⁇
  • the fifth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is the optical thickness 0.160 ⁇
  • the sixth layer SiO 2 (refractive index 1.47) is the optical thickness 0.090 ⁇ .
  • the seventh layer ZrO 2 (refractive index 2.00) has an optical film thickness of 0.200 ⁇ and the eighth layer SiO 2 (bending A refractive index of 1.47) was laminated with an optical film thickness of 0.310 ⁇ . Note that ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • 2 side Using the same apparatus as that for 1 side, after pre-processing in the same processing atmosphere, the first layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is sequentially applied to the optical film thickness of 0.150 ⁇ from the plastic substrate side.
  • the second layer SiO 2 (refractive index 1.47) has an optical film thickness of 0.050 ⁇
  • the third layer ZrO 2 (refractive index 2.00) has an optical film thickness of 0.170 ⁇
  • the fourth layer SiO 2 (refractive index).
  • the refractive index 1.47) is the optical film thickness 0.550 ⁇
  • the fifth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is the optical film thickness 0.160 ⁇
  • the sixth layer SiO 2 (refractive index 1.47) is optical.
  • an eighth layer SiO 2 (refractive index 1.47) with an optical thickness of 0.310 ⁇ were laminated. .
  • ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • the spectral characteristics on both surfaces of the lens of Comparative Example 2 are shown in FIG. 12A.
  • Numerical data of the spectral characteristics of FIG. 12A is shown in FIG. 12
  • Tables 1 and 2 show details of the respective film formation layers in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2.
  • n an integer of 1 or more.
  • n an integer of 1 or more.
  • the Y value of the tristimulus values XYZ is calculated according to JIS 8701, with the relative spectral intensity of the standard light source (D65) as S ( ⁇ ) and the color matching function as x ( ⁇ ) y ( ⁇ ) z ( ⁇ ). Y is
  • This Y value was used as a ghost light intensity for quantitative comparative evaluation. Further, in the spectral characteristic curve, the sum of the average reflectance of one surface in the wavelength range of 25 nm before and after the wavelength at which the reflectance of one surface exhibits an extreme value (first wavelength) and the average reflectance of the two surfaces in this wavelength range. was calculated. The results are shown in Table 3.
  • Example 1 the ghost light was reduced by 40% in spite of the fact that the average reflectance in the above wavelength range was maintained at the same level as in Comparative Example 1. Similarly, when Example 3 was compared with Comparative Example 1, it was confirmed that Example 3 reduced ghost light by 63%. Furthermore, when Example 2 and Comparative Example 2 were compared, it was confirmed that Example 2 reduced ghost light by 72%. Furthermore, wearing evaluation was performed using these optical components.
  • an optical component that has an antiglare effect, reduces fatigue, is effective in preventing eye disease, and has a relatively high reflection and good visibility.
  • SYMBOLS 1 Optical component, 2 ... Plastic base material, 3, 3 '... Inorganic multilayer film, 4 ... Functional thin film, 5 ... Primer layer (functional thin film), 6 ... Hard-coat layer (functional thin film), 7, 7 '... high refractive index layer, 8, 8' ... low refractive index layer, 9, 9 '... first layer, 10, 10' ... second layer, 11, 11 '... third layer, 12 ... water / oil repellent film 30 ... deposition device, 30 '... deposition device, 31 ... first deposition chamber, 32 ... second deposition chamber, 33 ... third deposition chamber, 34 ... holding member, 35, 35' ... deposition source, 35A ... first vapor deposition source, 35B ... second vapor deposition source, 36 ... light source device, 37 ... ion gun.

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Abstract

　光学部品は、プラスチック基材の１面に配設された多層膜の分光特性曲線が、３８０～７８０ｎｍの波長範囲における第１波長で一つの極大値を有するとともに、第１波長から長波長側２００ｎｍ以内の第２波長に一つの極小値を有し、第１波長から前後２５ｎｍの波長範囲において、１面に配設された多層膜の平均反射率が５０％以下であり、第１波長から前後２５ｎｍの波長範囲において、プラスチック基材の２面に配設された多層膜の平均反射率が、１面に配設された多層膜の平均反射率の４０％以下であり、２面に配設された多層膜の分光特性曲線が、第１波長から前後２５ｎｍの波長範囲において、極大値を有しないことを特徴とする。

Description

光学部品、光学部品の製造方法、及びゴースト光の定量方法
　本発明は、光学部品、光学部品の製造方法、及びゴースト光の定量方法に関する。
　本願は、２０１２年１１月５日に出願された特願２０１２－２４３９５６号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
　近年、眼鏡レンズでは、軽量で耐衝撃性に優れ、かつ染色しやすいとの利点からプラスチックレンズが多用されている。眼鏡レンズに使用されるプラスチックレンズには、表面反射を防止する目的で、その両面に反射防止膜が通常施されている。眼鏡レンズ用反射防止膜は、一般的に４００ｎｍ～７００ｎｍの可視領域全域にわたって、低い反射特性（広帯域低反射特性）を有する。
　眼鏡レンズ等の光学部品において、例えば特許文献１～３に開示されているようなプラスチックの基材と、その基材上に配置される反射防止膜とを備えた光学部品が知られている。
特開平１１－３０７０３号公報 特開２００６－２５１７６０号公報 特開２００７－１２７６８１号公報
　しかし、最近の研究より、必ずしも可視領域全域にわたって低い反射特性を有することが視認性及び目の健康に対して望ましいことではないことがわかってきた。例えば、可視光線の青色領域（３８０～５００ｎｍ）をカットすることにより、眩しさが低減され視認性、コントラストが向上する。
　また、目の健康に対して、可視光線の青色領域（３８０～５００ｎｍ）はエネルギーが強いため、網膜などに好ましくない影響を与える原因になると言われている。
　可視光線をカットする手段としては、サングラスなどの染色レンズが知られている。しかし、染色レンズでは全可視領域をカットするため、光量低下により視認性が悪くなることがある。また、眼鏡レンズ表面の光学多層膜で反射させることで可視光線をカットする方法がある。
　しかし、この方法では多層膜の反射率が高く、レンズ内で強い多重反射を起こし、鮮明なゴースト光が視界に入ってしまう可能性がある。
　本発明の態様は、防眩効果を有し、疲労感を軽減させ、眼病予防にも効果的で、かつ、比較的高い反射率を有しながら視認性が良好な光学部品及び光学部品の製造方法を提供することを目的とする。また、本発明の態様は、光学部品内で、光の多重反射により生じるゴースト光の定量方法を提供することを目的とする。
　本発明の一態様に係る光学部品は、プラスチック基材と、前記プラスチック基材の１面と２面からなる両面に配設された多層膜とを備えた光学部品であって、前記プラスチック基材の前記１面に配設された前記多層膜に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線が、３８０～７８０ｎｍの波長範囲における第１波長で一つの極大値を有するとともに、前記第１波長から長波長側２００ｎｍ以内の第２波長に一つの極小値を有し、前記第１波長から前後２５ｎｍの波長範囲において、前記１面に配設された前記多層膜の平均反射率が５０％以下であり、前記第１波長から前後２５ｎｍの前記波長範囲において、前記プラスチック基材の前記２面に配設された前記多層膜の平均反射率が、前記１面に配設された前記多層膜の平均反射率の４０％以下であり、前記プラスチック基材の前記２面に配設された前記多層膜に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線が、前記第１波長から前後２５ｎｍの前記波長範囲において、極大値を有しないことを特徴とする。
　本発明の他の態様に係る光学部品の製造方法は、プラスチック基材と、前記プラスチック基材の１面と２面からなる両面に配設された多層膜とを備えた光学部品の製造方法であって、前記プラスチック基材を加熱する工程と、前記加熱によって前記プラスチック基材を所定温度に調整した後、前記プラスチック基材上に前記多層膜を形成する工程と、を備え、前記多層膜を形成する工程は、高屈折率材料と低屈折率材料とを交互に複数積層し多層構造の高屈折率層を形成する処理と、前記高屈折率層の屈折率より低い屈折率の低屈折率材料からなる低屈折率層を前記高屈折率層上に形成する処理と、を有し、前記プラスチック基材の前記１面に配設された前記多層膜に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線が、３８０～７８０ｎｍの波長範囲における第１波長で一つの極大値を有するとともに、前記第１波長から長波長側２００ｎｍ以内の第２波長に一つの極小値を有し、前記第１波長から前後２５ｎｍの波長範囲において、前記１面に配設された前記多層膜の平均反射率が５０％以下となるようにし、前記第１波長から前後２５ｎｍの前記波長範囲において、前記プラスチック基材の前記２面に配設された前記多層膜の平均反射率が、前記１面に配設された前記多層膜の平均反射率の４０％以下となるようにし、前記プラスチック基材の前記２面に配設された前記多層膜に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線が、前記第１波長から前後２５ｎｍの前記波長範囲において、極大値を有しないようにすることを特徴とする。
　本発明の他の態様に係るゴースト光の定量方法は、プラスチック基材と、前記プラスチック基材の１面と２面からなる両面に配設された多層膜とを備えた光学部品内で、光の多重反射により生じるゴースト光の定量方法であって、前記１面に配設された多層膜の分光反射率Ｒ１（λ）［％]と、前記２面に配設された多層膜の分光反射率Ｒ２（λ）［％]と、以下の式（１）とから、Ａｎ（λ）を求め、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000015
 （式中、ｎは１以上の整数を表す。）
　前記Ｒ１（λ）と、前記Ｒ２（λ）と、前記Ａｎ（λ）と、前記プラスチック基材による光吸収率Ｆ（λ）［％]と、以下の式（２）とから、光学部品内での多重反射によるゴースト光の分光特性Ｔｇｎ（λ）［％]を求め、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000016
 （式中、ｎは１以上の整数を表す。）
　前記Ｔｇｎ（λ）を用いて、ＪＩＳ８７０１に従い、標準光源（Ｄ６５）の相対分光強度Ｓ（λ）と、等色関数ｘ（λ）ｙ（λ）ｚ（λ）と、以下の式（３）とから、Ｋを求め、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000017
　前記Ｋと、前記Ｓ（λ）と、前記等色関数ｘ（λ）ｙ（λ）ｚ（λ）と、前記Ｔｇｎ（λ）と、以下の式（４）とから、三刺激値ＸＹＺのＹ値を求め、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000018
　前記Ｙ値の値をゴースト光の強度とすることを特徴とする。
　本発明の態様に係る光学部品によれば、高い反射率を有する多層膜を配設した場合においても、良好な視認性を維持したまま充分な防眩効果が得ることができる。
　また、本発明の態様に係る光学部品の製造方法によれば、レンズ内の多重反射を軽減し、見え易く、疲労、眼病予防にも効果的な光学特性を有した光学部品を提供することが可能となる。
第１実施形態に係る光学部品の一例を示す模式図である。 第１実施形態に係る光学部品の分光特性図である。 第１実施形態に係る蒸着装置の一例を示す模式図である。 第１実施形態に係る成膜装置の一例を示す模式図である。 実施例１のレンズの１面における分光特性図である。 図５Ａの分光特性の数値データである。 実施例１のレンズの２面における分光特性図である。 図６Ａの分光特性の数値データである。 実施例２のレンズの１面における分光特性図である。 図７Ａの分光特性の数値データである。 実施例２のレンズの２面における分光特性図である。 図８Ａの分光特性の数値データである。 実施例３のレンズの１面における分光特性図である。 図９Ａの分光特性の数値データである。 実施例３のレンズの２面における分光特性図である。 図１０Ａの分光特性の数値データである。 比較例１のレンズの両面における分光特性図である。 図１１Ａの分光特性の数値データである。 比較例２のレンズの両面における分光特性図である。 図１２Ａの分光特性の数値データである。
　以下、本発明を実施形態によって詳しく説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
［光学部品］
　図１は、本発明の実施形態に係る光学部品を模式的に示す側断面図である。図１において符号１は眼鏡レンズ用の光学部品である。
　光学部品１は、プラスチック基材２と、プラスチック基材２の１面に配設された無機多層膜３とを備えている。プラスチック基材２の１面と無機多層膜３との間には、本実施形態では機能性薄膜４が配設されている。機能性薄膜４は、本実施形態ではプライマー層５とハードコート層６とからなっている。
　プラスチック基材２は、例えば透明なプラスチックであるアクリル系樹脂、チオウレタン系樹脂、メタクリル系樹脂、アリル系樹脂、エピスルフィド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エピスルフィド樹脂、ポリエ－テルサルホン樹脂、ポリ４－メチルペンテン－１樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ－３９）、ポリ塩化ビニル樹脂、ハロゲン含有共重合体、及びイオウ含有共重合体等によって形成される。
　また、本実施形態では、プラスチック基材２の屈折率（ｎｄ）としては、例えば１．５０、１．６０、１．６７、及び１．７４のうちから選択されたものが用いられる。なお、プラスチック基材２の屈折率を１．６以上にする場合、プラスチック基材２としては、アリルカーボネート系樹脂、アクリレート系樹脂、メタクリレート系樹脂、及びチオウレタン系樹脂等を使用することができる。
　また、プラスチック基材２は透光性を有していれば透明でなくてもよく、着色されていてもよい。着色されたプラスチック基材２の透過率は、５～８５％とすることができる。
　機能性薄膜４は、上述のようにプラスチック基材２と無機多層膜３との間に配置され、プラスチック基材２に接して配設されたプライマー層５と、このプライマー層５に接し、かつ無機多層膜３に接して配設されたハードコート層６とからなっている。
　プライマー層５は、プラスチック基材２とハードコート層６との密着性を良好にするためのもので、密着層として機能するようになっている。また、光学部品１に対する衝撃を吸収するためのものでもあり、衝撃吸収層としても機能するようになっている。
　このプライマー層５は、ポリウレタン系樹脂を主成分とするもので、本実施形態では、ポリウレタン系樹脂に例えば無機材料の微粒子を含有させたものである。なお、プライマー層５は、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、及び有機珪素系樹脂の少なくとも一種を含んでいてもよい。プライマー層５の厚み（実際の厚み）は、０．５μｍ以上１．０μｍ以下程度とすることができる。
　プライマー層５は、プライマー層５の形成材料液にプラスチック基材２を浸漬し、その後引き上げて乾燥することにより、プラスチック基材２上に所定の厚さで形成することができる。プライマー層５の形成材料液としては、例えば水又はアルコール系の溶媒に、上記のプライマー層５となる樹脂と無機酸化物微粒子ゾルとを分散又は溶解し、混合した液を用いることができる。
　ハードコート層６は、プラスチック基材２を保護し、プラスチック基材２の損傷を抑制する機能を有するもので、耐擦傷性膜として機能するようになっている。
　ハードコート層６は、例えばオルガノシロキサン系ハードコート層からなっている。オルガノシロキサン系ハードコート層は、オルガノシロキサン系樹脂に無機酸化物の微粒子を分散させたものである。無機酸化物としては、例えばルチル型の酸化チタンや、ケイ素、錫、ジルコニウム、及びアンチモンの酸化物が用いられる。また、ハードコート層６として、例えば特公平４－５５６１５号公報に開示されているような、コロイド状シリカ含有の有機ケイ素系樹脂であってもよい。ハードコート層６の厚み（実際の厚み）は、２μｍ以上４μｍ以下程度とすることができる。
　ハードコート層６は、ハードコート層６の形成材料液に、プライマー層５を形成したプラスチック基材２を浸漬し、その後引き上げて乾燥することにより、プラスチック基材２上のプライマー層５上に所定の厚さで形成することができる。ハードコート層６の形成材料液としては、例えば水又はアルコール系の溶媒に、上記のハードコート層６となる樹脂と無機酸化物微粒子ゾルとを分散又は溶解し、混合した液を用いることができる。
　プライマー層５及びハードコート層６を含む機能性薄膜４については、その屈折率と、プラスチック基材２の屈折率とが実質的に同じであれば、機能性薄膜４とプラスチック基材２との界面での反射で生じる干渉縞の発生及び透過率の低下を抑制することができる。したがって、プラスチック基材２の屈折率に応じて、機能性薄膜４の屈折率が調整される。機能性薄膜４（プライマー層５、ハードコート層６）の屈折率の調整は、機能性薄膜４の主成分となる樹脂の種類（物性）を選択すること、あるいは、その主成分となる樹脂に添加する微粒子の種類（物性）を選択すること等によって行うことができる。
　なお、本実施形態においては、機能性薄膜４がプライマー層５及びハードコート層６を含んで形成されているが、例えばプライマー層５とハードコート層６とのうち、いずれか一方、あるいは両方が省略されていてもよい。また、機能性薄膜４の構成膜として、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などからなる誘電体膜や金属膜を、プライマー層５及びハードコート層６に加えて配設してもよい。
　また、本実施形態において、無機多層膜を構成する高屈折率無機材料と低屈折率無機材料との間に、厚さ２０ｎｍ以下の誘電体膜又は金属膜を配設してもよい。なお、誘電体膜又は金属膜の厚さは、１０ｎｍ以下であってもよい。
　無機多層膜３は、プラスチック基材２に、高屈折率無機材料と低屈折率無機材料とが交互に複数積層されてなる多層構造の高屈折率層７を有し、高屈折率層７上に、この高屈折率層７の屈折率より低い屈折率の低屈折率無機材料からなる低屈折率層８を有した複層に構成されている。無機多層膜３は、入射した光の反射を防止する反射防止膜としての機能を有する。
　また、本実施形態においては、多層膜として無機多層膜を用いているが、本発明の効果を損なわない限り、有機多層膜を用いてもよい。
　高屈折率層７は、本実施形態では、プラスチック基材２側に設けられた高屈折率無機材料よりなる第１層９と、第１層９上に設けられた低屈折率無機材料よりなる第２層１０と、第２層１０上に設けられた高屈折率無機材料よりなる第３層１１と、からなる。
　第１層９は、ハードコート層６に接して設けられ、屈折率が２．０の二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）からなっている。なお、第１層９を構成する高屈折率無機材料としては、ＺｒＯ２以外にも、例えば二酸化チタン（ＴｉＯ２）や二酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）を用いることもできる。さらには、ジルコニウム、チタン、タンタルの複数種からなる合金の酸化物によって形成することもできる。また、これら以外にも、例えば酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、二酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、二酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、Ｎｂ２Ｏ５（二酸化ニオブ）を用いることもできる。
　ここで、このように第１層９を高屈折率無機材料（ＺｒＯ２）で形成することにより、第１層９とハードコート層６との間の密着性を得ることができる。すなわち、高屈折率無機材料からなる層（ＺｒＯ２）とハードコート層６との密着性（密着力）のほうが、低屈折率無機材料からなる層（ＳｉＯ２）とハードコート層６との密着性（密着力）よりも大きいためである。また、機能性薄膜４（プライマー層５、ハードコート層６）が省略された場合においても、高屈折率層（ＺｒＯ２）とプラスチック基材２との密着性（密着力）のほうが、低屈折率層（ＳｉＯ２）とプラスチック基材２との密着性（密着力）よりも大きいため、密着性についてより有利になる。
　第２層１０は、第１層９に接して設けられたもので、屈折率が１．４７の二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなっている。なお、第２層１０を構成する低屈折率無機材料としては、ＳｉＯ２以外にも、例えば屈折率が１．３６のＭｇＦ２を用いることができる。
　第３層１１は、第２層１０に接して設けられたもので、第１層９と同様に二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）からなっている。なお、この第３層１１についても、第１層９と同様に、ＺｒＯ２以外の高屈折率無機材料によって形成することもできる。
　また、高屈折率層７については、上記のように第１層９、第２層１０、第３層１１の３層構造で形成することなく、上述した反射率についての条件を満たせば、２層、または４層以上で構成することもできる。
　低屈折率層８は、第３層１１に接して設けられたもので、第２層１０と同様に二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなっている。
　また、本実施形態では、無機多層膜３の上、すなわちプラスチック基材２から最も遠い無機多層膜３の最外層（低屈折率層８）の上に、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水撥油膜１２が設けられている。
　撥水撥油膜１２は、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を主成分とするもので、撥液性（撥水性、撥油性）を有するものである。すなわち、撥水撥油膜１２は、光学部品の表面エネルギーを低下させ、水やけ防止、汚れ防止の機能を発揮するとともに、光学部品表面のすべり性能を向上させ、その結果として、耐擦傷性を向上させることができる。
　フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物としては、下記一般式（１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
（式（１）中、Ｒｆは炭素数１～１６の直鎖状又は分岐状パーフルオロアルキル基を表し、Ｙはヨウ素又は水素を表し、Ｙ’は水素または炭素数１～５の低級アルキル基を表し、Ｙ”はフッ素又はトリフルオロメチル基を表し、Ｒ１は加水分解可能な基を表し、Ｒ２は水素又は不活性な一価の有機基を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０～２００の整数を表し、ｅは０又は１を表し、ｓおよびｔはそれぞれ０～２の整数を表し、ｗは１～１０の整数を表す。）及び下記一般式（２）～（５）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
（式（２）～（５）中、Ｘは酸素又は二価の有機基を表し、Ｘ’は加水分解可能な基を表し、Ｘ”は二価の有機シリコーン基を表し、Ｒ３は炭素数１～２２の直鎖状又は分岐状アルキレン基を表し、ｑは１～３の整数を表し、ｍ、ｎ、ｏはそれぞれ０～２００の整数を表し、ｐは１又は２を表し、ｒは２～２０の整数を表し、ｋは０～２の整数を表し、ｚはｋが０又は１である場合に０～１０の整数を表す。）及び下記一般式（６）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 （式（６）中、Ｒｆ２は２価の直鎖状のパーフルオロポリエーテル基を表し、Ｒ４は炭素数１～４のアルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ５は加水分解可能な基を表し、ｉは０～２の整数を表し、ｊは１～５の整数を表し、ｕは２又は３を表す。）の中から選択される。
　ここで、撥水撥油膜１２に優れた耐久性を付与するために、一般式（１）～（５）の中から選択されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物と、一般式（６）から選択されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物とを組み合わせて用いることができる。
　一般式（１）～（５）で示されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物としては、ダイキン工業株式会社製オプツール－ＤＳＸ、オプツール－ＡＥＳ４などを用いることができる。また、一般式（６）で示されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物としては、信越化学工業株式会社製ＫＹ－１３０、ＫＹ－１６４などを用いることができる。
　この光学部品１は、更に、プラスチック基材２の２面に配設された無機多層膜３’を備えている。プラスチック基材２の２面と無機多層膜３’との間には、１面と同様、機能性薄膜４が配設されている。
　無機多層膜３’は、プラスチック基材２に、高屈折率無機材料と低屈折率無機材料とが交互に複数積層されてなる多層構造の高屈折率層７’を有し、高屈折率層７’上に、高屈折率層７’の屈折率より低い屈折率の低屈折率無機材料からなる低屈折率層８’を有した複層に構成されている。
　高屈折率層７’は、本実施形態では、プラスチック基材２側に設けられた高屈折率無機材料よりなる第１層９’と、第１層９’上に設けられた低屈折率無機材料よりなる第２層１０’と、第２層１０’上に設けられた高屈折率無機材料よりなる第３層１１’と、からなる。
　本実施形態における第１層９’、第２層１０’、第３層１１’に用いられる無機材料としては、第一の実施形態における第１層９、第２層１０、第３層１１に用いられる無機材料と同様のものが挙げられる。
　高屈折率層７’については、第一の実施形態における高屈折率層７と同様に、三層構造で形成することなく、二層、または四層以上で構成することもできる。
　なお、本実施形態においては、機能性薄膜４がプライマー層５及びハードコート層６を含んで形成されているが、１面と同様、例えばプライマー層５とハードコート層６とのうち、いずれか一方、あるいは両方が省略されていてもよい。また、機能性薄膜４の構成膜として、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などからなる誘電体膜や金属膜を、プライマー層５及びハードコート層６に加えて配設してもよい。
　また、本実施形態において、無機多層膜を構成する高屈折率無機材料と低屈折率無機材料との間に、厚さ２０ｎｍ以下の誘電体膜又は金属膜を配設してもよい。なお、誘電体膜又は金属膜の厚さは、１０ｎｍ以下であってもよい。
　また、本実施形態においては、多層膜として無機多層膜を用いているが、本発明の効果を損なわない限り、有機多層膜を用いてもよい。
　本実施形態において、プラスチック基材両面のうち、どちらが表面であっても後面であってもよい。具体的には、例えば、１面を表面とし、２面を後面とすることができる。
　 図２は、光波長と、その光波長における無機多層膜３（１面に配設された多層膜）又は無機多層膜３’（２面に配設された多層膜）の反射率との関係を示す分光特性曲線である。
　本実施形態において、波長範囲と、その波長範囲における無機多層膜３の反射率との関係を示す分光特性曲線Ｏ１は、３８０～７８０ｎｍの波長範囲に、一つの（反射率）極大値（図２中、点Ｘ１における反射率）と、その極大値に対応する波長（第１波長）から長波長側２００ｎｍ以内に一つの（反射率）極小値（図２中、点Ｘ２における反射率）を有する。点Ｘ１について、例えば青色光の好ましくない影響を有効に低減することを目的とした場合、その波長領域は、４００～５００ｎｍが好ましく、４１０～４６５ｎｍがより好ましく、４３０～４５０ｎｍが特に好ましい。
　更に、極大値に対応する波長（図２中、点Ｘ１における波長）から前後２５ｎｍの波長範囲（図２中、点Ｘ３～点Ｘ４における波長範囲）における平均反射率が５０％以下であり、２０％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましい。
　極大値に対応する波長から前後２５ｎｍの波長範囲（図２中、点Ｘ３～点Ｘ４における波長範囲）において、無機多層膜３’（２面に配設された多層膜）の平均反射率が、無機多層膜３（１面に配設された多層膜）の平均反射率の４０％以下であり、２０％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましい。
　更に、波長範囲と、その波長範囲における無機多層膜３’の反射率との関係を示す分光特性曲線Ｏ２は、分光特性曲線Ｏ１の極大値（図２中、点Ｘ１における反射率）に対応する波長から前後２５ｎｍの波長範囲（図２中、点Ｘ３～点Ｘ４における波長範囲）において、極大値を有しない。
　図２では、プラスチック基材２の１面に配設された無機多層膜３に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線Ｏ１が、３８０～７８０ｎｍの波長範囲における第１波長（図２中、点Ｘ１における波長）で一つの極大値（図２中、点Ｘ１における反射率）を有するとともに、第１波長から長波長側２００ｎｍ以内の第２波長（図２中、点Ｘ２における波長）に一つの極小値（図２中、点Ｘ２における反射率）を有し、第１波長から前後２５ｎｍの波長範囲（図２中、点Ｘ３～点Ｘ４における波長範囲）における平均反射率が５０％以下であり、第１波長から前後２５ｎｍの波長範囲において、プラスチック基材２の２面に配設された無機多層膜３’の平均反射率が、１面に配設された無機多層膜３の平均反射率の４０％以下であり、プラスチック基材２の２面に配設された無機多層膜３’に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線Ｏ２が、第１波長から前後２５ｎｍの波長範囲において、極大値を有しない。
　本実施形態において、無機多層膜３及び無機多層膜３’が上記特性を有することにより、光学部品内に生じるゴースト光の発生を抑制できる。
　また、本実施形態において、無機多層膜３及び無機多層膜３’は、以下の条件を満たす性質を有することができる。
　先ず、１面に配設された多層膜（無機多層膜３）の分光反射率Ｒ１（λ）［％]と、前記２面に配設された多層膜（無機多層膜３’）の分光反射率Ｒ２（λ）［％]と、以下の式（１）とから、Ａｎ（λ）を求める。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000025
 （式中、ｎは１以上の整数を表す。）
　次いで、Ｒ１（λ）と、Ｒ２（λ）と、Ａｎ（λ）と、プラスチック基材２による光吸収率Ｆ（λ）［％]と、以下の式（２）とから、光学部品内での多重反射によるゴースト光の分光特性Ｔｇｎ（λ）［％]を求める。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000026
 （式中、ｎは１以上の整数を表す。）
　次いで、Ｔｇｎ（λ）を用いて、ＪＩＳ８７０１に従い、標準光源（Ｄ６５）の相対分光強度Ｓ（λ）と、等色関数ｘ（λ）ｙ（λ）ｚ（λ）と、以下の式（３）とから、Ｋを求める。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000027
　次いで、Ｋと、Ｓ（λ）と、等色関数ｘ（λ）ｙ（λ）ｚ（λ）と、Ｔｇｎ（λ）と、以下の式（４）とから、三刺激値ＸＹＺのＹ値を求める。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000028
　本実施形態において、例えば、無機多層膜３及び無機多層膜３’は、２．０ｘ１０－２以下のＹ値を有するように構成される。無機多層膜３及び無機多層膜３’ が、このようなＹ値を有することにより、光学部品内に生じるゴースト光の発生をより効果的に抑制できる。
［光学部品の製造方法］
　次に、光学部品１の実施形態に基づき、本発明の光学部品の製造方法の一実施形態について説明する。
　本実施形態の製造方法は、プラスチック基材２に対して従来と同様の方法で機能性薄膜４（プライマー層５、ハードコート層６）を形成する工程と、プラスチック基材２を加熱する工程と、加熱によってプラスチック基材２を所定温度（例えば７０℃）に調整した後、このプラスチック基材２の１面と２面からなる両面に、無機多層膜３及び無機多層膜３’をそれぞれ形成する工程と、無機多層膜３及び無機多層膜３’上に撥水撥油膜１２を形成する工程と、を備える。
　無機多層膜３及び無機多層膜３’を形成する工程は、高屈折率無機材料と低屈折率無機材料とを交互に複数積層して多層構造の高屈折率層７，７’を形成する処理と、この高屈折率層７，７’上に、低屈折率無機材料からなる低屈折率層８，８’を形成する処理と、を有している。これら各層の形成には、例えば、真空蒸着法を用いることができる。
　図３は、無機多層膜３の各層を形成するための蒸着装置（成膜装置）３０の一例を示す図である。図３に示すように蒸着装置３０は、第１成膜室３１と第２成膜室３２と第３成膜室３３とを備えて構成されている。これら第１成膜室３１、第２成膜室３２、第３成膜室３３は、それぞれの内部が実質的に真空に減圧され、その状態に保持されるようになっている。また、蒸着装置３０は、図示しない温調手段により、第１成膜室３１、第２成膜室３２、第３成膜室３３のそれぞれの内部温度が調整可能になっている。
　蒸着装置３０は、第１成膜室３１、第２成膜室３２、第３成膜室３３のそれぞれの内部空間に、保持部材３４を備えている。保持部材３４は、その上面（保持面）が曲面状になっており、かつ、回転可能に構成されており、この上面に複数のプラスチック基材２を保持するようになっている。
　蒸着装置３０の蒸着源３５は、第２成膜室３２の内側の空間に配置されている。蒸着源３５は、第１蒸着源３５Ａ及び第２蒸着源３５Ｂからなる。また、第２成膜室３２には、蒸着源３５にビームを照射可能な光源装置３６が配置されている。光源装置３６は、蒸着源３５に対して電子を照射して蒸着源３５の構成粒子を叩き出すことができる。
　光源装置３６から射出された電子が蒸着源３５に照射されることによって、蒸着源３５から、無機多層膜３及び無機多層膜３’を形成するための材料（ガス）が放出される。
　例えば、光源装置３６が第１蒸着源３５Ａにビームを照射することにより、ＺｒＯ２の蒸気を第１蒸着源３５Ａから放出させ、保持部材３４に保持されているプラスチック基材２上に供給し蒸着させる。これにより、無機多層膜３及び無機多層膜３’の高屈折率層７，７’における第１層９，９’と第３層１１，１１’を形成することができる。同様に、第２蒸着源３５Ｂにビームを照射することにより、ＳｉＯ２の蒸気を第２蒸着源３５Ｂから放出させ、保持部材３４に保持されているプラスチック基材２上に供給し蒸着させる。これにより、無機多層膜３及び無機多層膜３’の高屈折率層７，７’における第２層１０，１０’と、低屈折率層８，８’を形成することができる。
　すなわち、第１蒸着源３５Ａに対するビームの照射と第２蒸着源３５Ｂに対するビームの照射とを交互に行うことにより、保持部材３４に保持されているプラスチック基材２上に、高屈折率無機材料からなる層と低屈折率無機材料からなる層とを交互に形成し積層することができる。
　ただし、本発明の実施形態に係る光学部品は、波長範囲と、その波長範囲におけるプラスチック基材２の１面に配設された多層膜（無機多層膜３）の反射率との関係を示す分光特性曲線が、３８０～７８０ｎｍの波長範囲に、一つの極大値と、その極大値に対応する波長（第１波長）から長波長側２００ｎｍ以内の第２波長に一つの極小値を有し、極大値に対応する波長から前後２５ｎｍの波長範囲におけるプラスチック基材２の１面に配設された多層膜の平均反射率が５０％以下となるようにし、極大値に対応する波長（第１波長）から前後２５ｎｍの波長範囲において、プラスチック基材２の２面に配設された多層膜（無機多層膜３’）の平均反射率が、１面に配設された多層膜の平均反射率の４０％以下となるようにし、波長範囲と、その波長範囲におけるプラスチック基材２の２面に配設された多層膜の反射率との関係を示す分光特性曲線が、極大値に対応する波長から前後２５ｎｍの波長範囲において、極大値を有しないように設計する。
　なお、第１蒸着源３５Ａとして酸化ジルコニウム（ＺｒＯ）からなる蒸着源を用い、第２成膜室３２の内部空間に酸素を導入しながら第１蒸着源３５Ａにビームを照射し、二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）からなる高屈折率無機材料層を形成するようにしてもよい。
　また、本実施形態の光学部品の製造方法において、無機多層膜３及び無機多層膜３’を形成する工程は、無機多層膜３及び無機多層膜３’を構成する層のうちの少なくとも一層を、イオンビームアシストを施しながら成膜を行う工程を含んでいてもよい。本実施形態の光学部品の製造方法が、このような工程を含むことにより、無機多層膜を構成する高屈折率無機材料と低屈折率無機材料との間に、誘電体膜が配設される。
　図４は、イオンビームアシストを施すための成膜装置３０’の一例を示す図である。成膜装置３０’は、図３で示された蒸着装置３０の第２成膜室にイオンガン３７が備え付けられた構成となっている。図４において、図３に示した蒸着装置３０と同じ構成要素には、同一の符号を付して説明を省略する。
　本実施形態においては、無機多層膜３及び無機多層膜３’を構成する高屈折率層７，７’と低屈折率層８，８’との間に、ＩＴＯ等の誘電体膜を配設する際に、イオンビームアシストを施しながら成膜を行う。
　なお、第２成膜室３２内で無機多層膜３を構成する層のうち少なくとも一層を、イオンビームアシストを施しながら成膜を行えばよく、イオンビームアシストを施す対象は、誘電体膜に限定されない。
　本実施形態において、この成膜装置３０’の第２成膜室は、プラスチック基材２上に高屈折率層７，７’が成膜された基材を保持する保持部材３４と、蒸着源３５’と、蒸着源３５’と離間して配置されたイオンガン３７と、光源装置３６を主体として構成されている。
　また、成膜装置３０’はその内部が実質的に真空に減圧され、プラスチック基材２の周囲を真空雰囲気に保持できるように構成されている。更に成膜装置３０’には、ガスボンベ等の雰囲気ガス供給源が接続されていて、真空容器の内部を真空等の低圧状態で、かつ、酸素ガス、アルゴンガス、またはその他の不活性ガス雰囲気、あるいは、酸素を含む不活性ガス雰囲気にすることができるように構成されている。
　蒸着源３５’は、例えばＩＴＯを含む。光源装置３６が蒸着源３５’にビームを照射することによって、ガス化されたＩＴＯがその蒸着源３５’から放出され、保持部材３４に保持されているプラスチック基材２に供給される。これにより、高屈折率層７，７’の上にＩＴＯからなる誘電体膜を形成することができる。
　イオンガン３７は、第２成膜室３２の内部に、イオン化させるガスを導入するガス導入部と、正面に引き出し電極を備えて構成されている。イオンガン３７は、ガスの原子または分子の一部をイオン化し、そのイオン化した粒子を引き出し電極で発生させた電界で制御してイオンビームとして照射する装置である。
　光源装置３６は、イオンガン３７と同等の構成をなし、蒸着源３５’に対して電子を照射して蒸着源３５’の構成粒子を叩き出すことができる。なお、成膜装置３０’においては、蒸着源３５’の構成粒子を叩き出すことができることが重要であるので、蒸着源３５’に高周波コイル等で電圧を印加して蒸着源３５’の構成粒子を叩き出し可能なように構成し、光源装置３６を省略しても良い。
　次に上記構成の成膜装置３０’を用いてプラスチック基材２上の高屈折率層７，７’上にＩＴＯの誘電体膜を形成する場合について説明する。ＩＴＯの誘電体膜を形成するには、ＩＴＯの蒸着源３５’を用いるとともに、イオンガン３７から照射されるイオンを保持部材３４の上面に照射できるようにする。次にプラスチック基材２を収納している成膜室３２の内部を真空引きして減圧雰囲気とする。そして、イオンガン３７と光源装置３６を作動させる。
　光源装置３６から蒸着源３５’に電子を照射すると、蒸着源３５’の構成粒子が叩き出されて高屈折率層７，７’上に飛来する。そして、高屈折率層７，７’上に、蒸着源３５’から叩き出した構成粒子を堆積させると同時に、イオンガン３７からアルゴンイオンをイオンビームとして照射する。
　本実施形態において、イオンビームアシストは、不活性ガス、酸素ガス、及び不活性ガスと酸素ガスの混合ガスから選ばれる少なくとも一種のガスを用いて行われる。不活性ガスとして、例えば、アルゴンを用いることができる。
　このようにして無機多層膜３及び無機多層膜３’を形成したら、これらの上に撥水撥油膜１２を形成する。
　撥水撥油膜１２の形成方法としては、ディッピング法、スピンコート法、スプレー法などの湿式法、あるいは真空蒸着法などの乾式法がある。
　湿式法の中では、ディッピング法が一般的であり、よく用いられる。この方法は、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を有機溶剤に溶解した液中に、無機多層膜３，３’まで形成した光学部品を浸漬し、一定条件で引き上げ、乾燥させて成膜する方法である。
　有機溶剤としては、パーフルオロヘキサン、パーフルオロ－４－メトキシブタン、パーフルオロ－４－エトキシブタン、メタキシレンヘキサフルオライドなどが使用される。
　有機溶剤による希釈濃度は、０．０１～０．５重量％とすることができ、０．０３～０．１重量％が好ましい。濃度が低すぎると十分な膜厚の撥水撥油層１２が得られないことがあり、また、濃度が高すぎると塗布むらが発生しやすく、材料コストも高くなってしまうことがある。
　乾式法の中では、真空蒸着法がよく用いられる。この方法は、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を真空槽内で加熱して蒸発させ、撥水撥油膜１２を形成する方法である。
　このようにして形成された光学部品１にあっては、無機多層膜３及び無機多層膜３’が上記特性を有するように設計したので、光学部品内に生じるゴースト光の発生を抑制できる
　また、光学部品の製造方法にあっては、このようなバランスのとれた優れた光学部品を確実に提供することができる。
［ゴースト光の定量方法］
　次に、上記光学部品１の説明に基づき、本実施形態のゴースト光の定量方法について説明する。
　本実施形態のゴースト光の定量方法は、プラスチック基材２と、プラスチック基材２の１面と２面からなる両面に配設された多層膜とを備えた光学部品内で、光の多重反射により生じるゴースト光の定量方法であって、１面に配設された多層膜の分光反射率Ｒ１（λ）［％]と、２面に配設された多層膜の分光反射率Ｒ２（λ）［％]と、以下の式（１）とから、Ａｎ（λ）を求め、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000029
 （式中、ｎは１以上の整数を表す。）
　Ｒ１（λ）と、Ｒ２（λ）と、Ａｎ（λ）と、プラスチック基材による光吸収率Ｆ（λ）［％]と、以下の式（２）とから、光学部品内での多重反射によるゴースト光の分光特性Ｔｇｎ（λ）［％]を求め、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000030
 （式中、ｎは１以上の整数を表す。）
　Ｔｇｎ（λ）を用いて、ＪＩＳ８７０１に従い、標準光源（Ｄ６５）の相対分光強度Ｓ（λ）と、等色関数ｘ（λ）ｙ（λ）ｚ（λ）と、以下の式（３）とから、Ｋを求め、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000031
　Ｋと、Ｓ（λ）と、等色関数ｘ（λ）ｙ（λ）ｚ（λ）と、Ｔｇｎ（λ）と、以下の式（４）とから、三刺激値ＸＹＺのＹ値を求め、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000032
　得られたＹ値の値をゴースト光の強度とする。このように、本発明者は、光学部品に生じるゴースト光の強度を定量化する方法を見出した。本発明の実施形態に係る方法を用い、光学部品に配設される多層膜の基準として、例えば、Ｙ値が、２．０ｘ１０－２以下であるもの、と設定することにより、ゴースト光の低減に優れた光学部品を製造することができる。
　以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
≪実験１≫
　ウレタン系合成樹脂基板上に、屈折率１．６７のシリコン系ハードコート、及び屈折率１．６７のプライマーコートを加熱硬化にて施し、以下に示すように真空蒸着法により成膜した。
＜実施例１＞
　１面：レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０－３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１１０λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．１３０λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１６０λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０６０λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１９０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．３４０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　２面：１面と同様の装置を用いて、同様の加工雰囲気下で前処理後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．０５０λ、第２層ＳｉＯ２（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．０８０λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１５０λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０４０λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１１０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．２２０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　実施例１のレンズの１面における分光特性を図５Ａに示す。図５Ａの分光特性の数値データを図５Ｂに示す。実施例１のレンズの２面における分光特性を図６Ａに示す。図６Ａの分光特性の数値データを図６Ｂに示す。
＜実施例２＞
　１面：レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０－３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１２０λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０５０λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１５０λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．５００λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１７０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．１１０λ、第７層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１９０λ、第８層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．２８０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　２面：１面と同様の装置を用いて、同様の加工雰囲気下で前処理後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１１０λ、第２層ＳｉＯ２（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．０９０λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２２０λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０６０λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２００λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０.３３０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　実施例２のレンズの１面における分光特性を図７Ａに示す。図７Ａの分光特性の数値データを図７Ｂに示す。実施例２のレンズの２面における分光特性を図８Ａに示す。図８Ａの分光特性の数値データを図８Ｂに示す。
＜実施例３＞　
　１面：レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０－３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１００λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．１００λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２００λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０６０λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１６０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．３４０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　２面：１面と同様の装置を用いて、同様の加工雰囲気下で前処理後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．０７０λ、第２層ＳｉＯ２（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．０７０λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１４０λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０５０λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１２０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０.２９０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　実施例３のレンズの１面における分光特性を図９Ａに示す。図９Ａの分光特性の数値データを図９Ｂに示す。実施例３の２面における分光特性を図１０Ａに示す。図１０Ａの分光特性の数値データを図１０Ｂに示す。
＜比較例１＞
　１面：レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０－３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１００λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．１００λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２００λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０６０λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１６０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．３４０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　２面：１面と同様の装置を用いて、同様の加工雰囲気下で前処理後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１００λ、第２層ＳｉＯ２（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．１００λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２００λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０６０λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１６０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．３４０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　比較例１のレンズの両面における分光特性を図１１Ａに示す。図１１Ａの分光特性の数値データを図１１Ｂに示す。
＜比較例２＞
　１面：レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０－３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１５０λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０５０λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１７０λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．５５０λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１６０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０９０λ、第７層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２００λ、第８層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．３１０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　２面：１面と同様の装置を用いて、同様の加工雰囲気下で前処理後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１５０λ、第２層ＳｉＯ２（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．０５０λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１７０λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．５５０λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１６０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０９０λ、第７層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２００λ、第８層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．３１０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　比較例２のレンズの両面における分光特性を図１２Ａに示す。図１２Ａの分光特性の数値データを図１２Ｂに示す。
　実施例１～３及び比較例１～２における各成膜層の詳細を表１～表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
　また、実施例１～３及び比較例１～２において、１面の分光反射率をＲ１（λ）［％]、２面の分光反射率をＲ２（λ）［％]とし、基材による光吸収率をＦ（λ）［％]とすると、ゴースト光の分光分布は、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000035
 （式中、ｎは１以上の整数を表す。）
　で与えられる。ここで、Ａｎ（λ）は以下の式で与えられる。尚、式（１）及び式（２）において、ｎ＝１で計算している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000036
 （式中、ｎは１以上の整数を表す。）
　これを用いてＪＩＳ８７０１に従い、標準光源（Ｄ６５）の相対分光強度をＳ（λ）、等色関数をｘ（λ）ｙ（λ）ｚ（λ）として三刺激値ＸＹＺのＹ値を計算すると、Ｙは、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000037
で与えられる。ここで、Ｋは以下の式で与えられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000038
　このＹ値をゴースト光の強度として定量的な比較評価に用いた。更に、分光特性曲線において、１面の反射率が極値を示す波長（第１波長）から前後２５ｎｍの波長範囲における１面の平均反射率と、この波長範囲における２面の平均反射率の和を計算した。結果を表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000039
　実施例１は、上記の波長範囲における平均反射率が、比較例１と同程度を維持しているにもかかわらず、ゴースト光を４０％低減していた。同様に、実施例３と比較例１を比較すると、実施例３は６３％ゴースト光を低減していることが確認された。更に実施例２と比較例２を比較すると、実施例２は７２％ゴースト光を低減していることが確認された。
　さらに、これらの光学部品を用いて装用評価を行った。
（装用評価）
　実施例に沿って作成した光学部品を装備した眼鏡を装用し、蛍光灯照明によるゴースト光の評価を行った。評価時の条件は以下の通りである。
　　　モニタ人数　：１０名
　　　照明：蛍光灯（昼光色）
　以上の条件で実施例１～３と比較例１～２を比較して、ゴースト光の強度が低いものから順位付けを行った。結果を表４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000040
　このような装用比較評価を行った結果、官能試験においても比較例１と２に比べて実施例１～３はレンズ内での多重反射によるゴースト光の強度が改善されていることが確認された。
　以上の結果から、本発明の態様によれば防眩効果を有し、疲労感を軽減させ、眼病予防にも効果的で、かつ、比較的高い反射でありながら視認性が良好な光学部品及び光学部品の製造方法、並びに、光学部品内で、光の多重反射により生じるゴースト光の定量方法を提供できることが明らかである。
　１…光学部品、２…プラスチック基材、３，３’…無機多層膜、４…機能性薄膜、５…プライマー層（機能性薄膜）、６…ハードコート層（機能性薄膜）、７，７’…高屈折率層、８，８’…低屈折率層、９，９’…第１層、１０，１０’…第２層、１１，１１’…第３層、１２…撥水撥油膜、３０…蒸着装置、３０’…成膜装置、３１…第１成膜室、３２…第２成膜室、３３…第３成膜室、３４…保持部材、３５，３５’…蒸着源、３５Ａ…第１蒸着源、３５Ｂ…第２蒸着源、３６…光源装置、３７…イオンガン。

Claims (16)

  1. 　プラスチック基材と、前記プラスチック基材の１面と２面からなる両面に配設された多層膜とを備えた光学部品であって、
    　前記プラスチック基材の前記１面に配設された前記多層膜に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線が、３８０～７８０ｎｍの波長範囲における第１波長で一つの極大値を有するとともに、前記第１波長から長波長側２００ｎｍ以内の第２波長に一つの極小値を有し、
    　前記第１波長から前後２５ｎｍの波長範囲において、前記１面に配設された前記多層膜の平均反射率が５０％以下であり、
    　前記第１波長から前後２５ｎｍの前記波長範囲において、前記プラスチック基材の前記２面に配設された前記多層膜の平均反射率が、前記１面に配設された前記多層膜の平均反射率の４０％以下であり、
    　前記プラスチック基材の前記２面に配設された前記多層膜に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線が、前記第１波長から前後２５ｎｍの前記波長範囲において、極大値を有しないことを特徴とする光学部品。
  2. 　前記１面に配設された前記多層膜の分光反射率Ｒ１（λ）［％]と、前記２面に配設された前記多層膜の分光反射率Ｒ２（λ）［％]と、以下の式（１）とから、Ａｎ（λ）を求め、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
     （式中、ｎは１以上の整数を表す。）
    　前記Ｒ１（λ）と、前記Ｒ２（λ）と、前記Ａｎ（λ）と、前記プラスチック基材による光吸収率Ｆ（λ）［％]と、以下の式（２）とから、光学部品内での多重反射によるゴースト光の分光特性Ｔｇｎ（λ）［％]を求め、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
     （式中、ｎは１以上の整数を表す。）
    　前記Ｔｇｎ（λ）を用いて、ＪＩＳ８７０１に従い、標準光源（Ｄ６５）の相対分光強度Ｓ（λ）と、等色関数ｘ（λ）ｙ（λ）ｚ（λ）と、以下の式（３）とから、Ｋを求め、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
     　前記Ｋと、前記Ｓ（λ）と、前記等色関数ｘ（λ）ｙ（λ）ｚ（λ）と、前記Ｔｇｎ（λ）と、以下の式（４）とから、三刺激値ＸＹＺのＹ値を求めた場合において、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
     　前記プラスチック基材の前記１面と前記２面からなる前記両面に配設された前記多層膜のＹ値が、２．０ｘ１０－２以下である請求項１に記載の光学部品。
  3. 　前記プラスチック基材は、着色され、５～８５％の透過率を有する請求項１又は２に記載の光学部品。
  4. 　前記プラスチック基材から最も遠い、前記多層膜の少なくとも一方の最外層の上に、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水撥油膜を更に備える請求項１～３のいずれか一項に記載の光学部品。
  5. 　前記フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物は、下記一般式（１）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     （式（１）中、Ｒｆは炭素数１～１６の直鎖状又は分岐状パーフルオロアルキル基を表し、Ｙはヨウ素又は水素を表し、Ｙ’は水素または炭素数１～５の低級アルキル基を表し、Ｙ”はフッ素又はトリフルオロメチル基を表し、Ｒ１は加水分解可能な基を表し、Ｒ２は水素又は不活性な一価の有機基を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０～２００の整数を表し、ｅは０又は１を表し、ｓおよびｔはそれぞれ０～２の整数を表し、ｗは１～１０の整数を表す。）及び下記一般式（２）～（５）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
     （式（２）～（５）中、Ｘは酸素又は二価の有機基を表し、Ｘ’は加水分解可能な基を表し、Ｘ”は二価の有機シリコーン基を表し、Ｒ３は炭素数１～２２の直鎖状又は分岐状アルキレン基を表し、ｑは１～３の整数を表し、ｍ、ｎ、ｏはそれぞれ０～２００の整数を表し、ｐは１又は２を表し、ｒは２～２０の整数を表し、ｋは０～２の整数を表し、ｚはｋが０又は１である場合に０～１０の整数を表す。）及び下記一般式（６）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
     （式（６）中、Ｒｆ２は２価の直鎖状のパーフルオロポリエーテル基を表し、Ｒ４は炭素数１～４のアルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ５は加水分解可能な基を表し、ｉは０～２の整数を表し、ｊは１～５の整数を表し、ｕは２又は３を表す。）の中から選択される１種類以上のフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物である請求項４に記載の光学部品。
  6. 　前記多層膜は、４層以上の多層膜である請求項１～５のいずれか一項に記載の光学部品。
  7. 　前記プラスチック基材と前記多層膜との間に、機能性薄膜を備えた請求項１～６のいずれか一項に記載の光学部品。
  8. 　前記多層膜を構成する高屈折率材料と低屈折率材料との間に、厚さ２０ｎｍ以下の誘電体膜又は金属膜を備えた請求項１～７のいずれか一項に記載の光学部品。
  9. 　前記高屈折率材料は、二酸化ジルコニウムを含み、前記低屈折率材料は、二酸化珪素を含む請求項８に記載の光学部品。
  10. 　眼鏡レンズ用である請求項１～９のいずれか一項に記載の光学部品。
  11. 　プラスチック基材と、前記プラスチック基材の１面と２面からなる両面に配設された多層膜とを備えた光学部品の製造方法であって、
    　前記プラスチック基材を加熱する工程と、前記加熱によって前記プラスチック基材を所定温度に調整した後、前記プラスチック基材上に前記多層膜を形成する工程と、を備え、
    　前記多層膜を形成する工程は、高屈折率材料と低屈折率材料とを交互に複数積層し多層構造の高屈折率層を形成する処理と、前記高屈折率層の屈折率より低い屈折率の低屈折率材料からなる低屈折率層を前記高屈折率層上に形成する処理と、を有し、
    　前記プラスチック基材の前記１面に配設された前記多層膜に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線が、３８０～７８０ｎｍの波長範囲における第１波長で一つの極大値を有するとともに、前記第１波長から長波長側２００ｎｍ以内の第２波長に一つの極小値を有し、前記第１波長から前後２５ｎｍの波長範囲において、前記１面に配設された前記多層膜の平均反射率が５０％以下となるようにし、
    　前記第１波長から前後２５ｎｍの前記波長範囲において、前記プラスチック基材の前記２面に配設された前記多層膜の平均反射率が、前記１面に配設された前記多層膜の平均反射率の４０％以下となるようにし、
    　前記プラスチック基材の前記２面に配設された前記多層膜に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線が、前記第１波長から前後２５ｎｍの前記波長範囲において、極大値を有しないようにすることを特徴とする請求項１～１０のいずれかの一項に記載の光学部品の製造方法。
  12. 　前記多層膜を、真空蒸着法を用いて形成する工程を含む請求項１１に記載の光学部品の製造方法。
  13. 　前記多層膜を形成する工程は、前記多層膜を構成する層のうちの少なくとも一層を、イオンビームアシストを施しながら成膜を行う工程を含む請求項１１又は１２に記載の光学部品の製造方法。
  14. 　前記イオンビームアシストは、不活性ガス、酸素ガス、及び不活性ガスと酸素ガスとの混合ガスのうちから選ばれる少なくとも一種のガスを用いて行われる請求項１３に記載の光学部品の製造方法。
  15. 　前記不活性ガスはアルゴンである請求項１４に記載の光学部品の製造方法。
  16. 　プラスチック基材と、前記プラスチック基材の１面と２面からなる両面に配設された多層膜とを備えた光学部品内で、光の多重反射により生じるゴースト光の定量方法であって、
    　前記１面に配設された多層膜の分光反射率Ｒ１（λ）［％]と、前記２面に配設された多層膜の分光反射率Ｒ２（λ）［％]と、以下の式（１）とから、Ａｎ（λ）を求め、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000011
     （式中、ｎは１以上の整数を表す。）
    　前記Ｒ１（λ）と、前記Ｒ２（λ）と、前記Ａｎ（λ）と、前記プラスチック基材による光吸収率Ｆ（λ）［％]と、以下の式（２）とから、光学部品内での多重反射によるゴースト光の分光特性Ｔｇｎ（λ）［％]を求め、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000012
     （式中、ｎは１以上の整数を表す。）
    　前記Ｔｇｎ（λ）を用いて、ＪＩＳ８７０１に従い、標準光源（Ｄ６５）の相対分光強度Ｓ（λ）と、等色関数ｘ（λ）ｙ（λ）ｚ（λ）と、以下の式（３）とから、Ｋを求め、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000013
     　前記Ｋと、前記Ｓ（λ）と、前記等色関数ｘ（λ）ｙ（λ）ｚ（λ）と、前記Ｔｇｎ（λ）と、以下の式（４）とから、三刺激値ＸＹＺのＹ値を求め、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000014
     　前記Ｙ値の値をゴースト光の強度とすることを特徴とするゴースト光の定量方法。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015029644A1 (ja) * 2013-08-28 2015-03-05 東海光学株式会社 光学製品及び眼鏡レンズ
WO2019103105A1 (ja) 2017-11-24 2019-05-31 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 眼鏡レンズおよび眼鏡
JP2019207424A (ja) * 2015-01-07 2019-12-05 ローデンシュトック ゲーエムベーハー 層システムおよび層システムを備える光学素子
JPWO2021024895A1 (ja) * 2019-08-08 2021-02-11
JPWO2020067408A1 (ja) * 2018-09-28 2021-08-30 ホヤ レンズ タイランド リミテッドＨＯＹＡ Ｌｅｎｓ Ｔｈａｉｌａｎｄ Ｌｔｄ 眼鏡レンズ
JPWO2020067407A1 (ja) * 2018-09-28 2021-08-30 ホヤ レンズ タイランド リミテッドＨＯＹＡ Ｌｅｎｓ Ｔｈａｉｌａｎｄ Ｌｔｄ 眼鏡レンズ
JPWO2021220513A1 (ja) * 2020-05-01 2021-11-04

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20170031525A1 (en) 2010-05-14 2017-02-02 Racing Optics, Inc. Touch screen shield
US9295297B2 (en) 2014-06-17 2016-03-29 Racing Optics, Inc. Adhesive mountable stack of removable layers
US11402666B2 (en) * 2014-10-17 2022-08-02 Hoya Lens Thailand Ltd. Spectacle lens and spectacles
CN109923447B (zh) * 2016-11-14 2021-03-30 日本板硝子株式会社 光吸收性组合物及滤光器
CN106680216B (zh) * 2016-12-06 2019-04-19 天津津航技术物理研究所 一种二元叠层光学材料反射率和透射率光谱的计算方法
CN106992268A (zh) * 2017-04-28 2017-07-28 京东方科技集团股份有限公司 一种有机发光二极管器件及其制造方法、显示装置
EP3505999B1 (en) * 2017-09-29 2024-10-02 Hoya Lens Thailand Ltd. Spectacle lens and spectacles
JP2020052135A (ja) 2018-09-25 2020-04-02 東海光学株式会社 眼鏡レンズ及び眼鏡
US11585962B2 (en) 2018-10-19 2023-02-21 Racing Optics, Inc. Transparent covering having anti-reflective coatings
US11846788B2 (en) 2019-02-01 2023-12-19 Racing Optics, Inc. Thermoform windshield stack with integrated formable mold
WO2020160492A1 (en) 2019-02-01 2020-08-06 Racing Optics, Inc. Thermoform windshield stack with integrated formable mold
US11364715B2 (en) 2019-05-21 2022-06-21 Racing Optics, Inc. Polymer safety glazing for vehicles
US11912001B2 (en) 2019-12-03 2024-02-27 Ro Technologies, Llc Method and apparatus for reducing non-normal incidence distortion in glazing films
US11648723B2 (en) 2019-12-03 2023-05-16 Racing Optics, Inc. Method and apparatus for reducing non-normal incidence distortion in glazing films
US20210285661A1 (en) 2020-03-10 2021-09-16 Wolf Steel Ltd. Heating and cooling appliance
US11548356B2 (en) 2020-03-10 2023-01-10 Racing Optics, Inc. Protective barrier for safety glazing
US12560804B2 (en) * 2020-10-23 2026-02-24 Essilor International Transmission optical system with limited ghost image visibility, system and method for evaluating ghost image visibility of a transmission optical system
WO2022097751A1 (ja) * 2020-11-09 2022-05-12 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 眼鏡レンズおよび眼鏡
US11490667B1 (en) 2021-06-08 2022-11-08 Racing Optics, Inc. Low haze UV blocking removable lens stack
US11307329B1 (en) 2021-07-27 2022-04-19 Racing Optics, Inc. Low reflectance removable lens stack
US11709296B2 (en) 2021-07-27 2023-07-25 Racing Optics, Inc. Low reflectance removable lens stack
US12140781B2 (en) 2021-07-27 2024-11-12 Laminated Film Llc Low reflectance removable lens stack
TWI797836B (zh) * 2021-11-17 2023-04-01 逢甲大學 光學多層膜防畏光鏡片及其用途
US12162330B2 (en) 2022-02-08 2024-12-10 Ro Technologies, Llc Multi-layer windshield film having progressive thickness layers
US11933943B2 (en) 2022-06-06 2024-03-19 Laminated Film Llc Stack of sterile peelable lenses with low creep
US11808952B1 (en) 2022-09-26 2023-11-07 Racing Optics, Inc. Low static optical removable lens stack
JP2024146005A (ja) 2023-03-31 2024-10-15 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 眼鏡レンズ及び眼鏡

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6381404A (ja) * 1986-09-26 1988-04-12 Minolta Camera Co Ltd 合成樹脂製光学部品の反射防止膜
JPH0455615B2 (ja) 1986-06-30 1992-09-03 Hoya Corp
JPH0643304A (ja) * 1992-07-24 1994-02-18 Nikon Corp 反射防止膜及び反射防止膜付き光学部品
JPH1130703A (ja) 1997-05-16 1999-02-02 Hoya Corp 反射防止膜を有するプラスチック光学部品
JP2002006128A (ja) * 2000-04-20 2002-01-09 Canon Inc 回折光学素子を用いた撮像装置
JP2002031701A (ja) * 2000-07-17 2002-01-31 Konica Corp 光学素子および眼鏡用レンズ
JP2002189122A (ja) * 2000-12-20 2002-07-05 Bridgestone Corp プラズマディスプレイ用前面保護フィルター
JP2002296405A (ja) * 2001-03-29 2002-10-09 Sumitomo Chem Co Ltd 反射干渉色とその色ムラの少ない反射防止基材
JP2002296406A (ja) * 2001-03-29 2002-10-09 Sumitomo Chem Co Ltd 反射干渉色の少ない反射防止基材
JP2004126532A (ja) * 2002-08-02 2004-04-22 Hoya Corp 光学部材
JP2005148375A (ja) * 2003-11-14 2005-06-09 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 反射防止膜及びそれを備えた反射防止材
JP2006251760A (ja) 2005-02-08 2006-09-21 Seiko Epson Corp 光学部品およびその製造方法
JP2007127681A (ja) 2005-11-01 2007-05-24 Tokai Kogaku Kk プラスチックレンズ
WO2008053712A1 (en) * 2006-10-31 2008-05-08 Nikon-Essilor Co., Ltd. Eyeglass lens and method for production thereof
JP2012093689A (ja) * 2010-09-29 2012-05-17 Nikon-Essilor Co Ltd 光学部品およびその製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1130575C (zh) * 1997-05-16 2003-12-10 保谷株式会社 具有抗反射膜的塑料光学器件以及用来使抗反射膜的厚度均一的机构
CN101290413A (zh) * 2007-04-17 2008-10-22 华生科技股份有限公司 影像模块的设计方法及使用该方法的液晶显示器
WO2010016242A1 (ja) * 2008-08-04 2010-02-11 株式会社ニコン・エシロール 光学部品及び光学部品の製造方法

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0455615B2 (ja) 1986-06-30 1992-09-03 Hoya Corp
JPS6381404A (ja) * 1986-09-26 1988-04-12 Minolta Camera Co Ltd 合成樹脂製光学部品の反射防止膜
JPH0643304A (ja) * 1992-07-24 1994-02-18 Nikon Corp 反射防止膜及び反射防止膜付き光学部品
JPH1130703A (ja) 1997-05-16 1999-02-02 Hoya Corp 反射防止膜を有するプラスチック光学部品
JP2002006128A (ja) * 2000-04-20 2002-01-09 Canon Inc 回折光学素子を用いた撮像装置
JP2002031701A (ja) * 2000-07-17 2002-01-31 Konica Corp 光学素子および眼鏡用レンズ
JP2002189122A (ja) * 2000-12-20 2002-07-05 Bridgestone Corp プラズマディスプレイ用前面保護フィルター
JP2002296405A (ja) * 2001-03-29 2002-10-09 Sumitomo Chem Co Ltd 反射干渉色とその色ムラの少ない反射防止基材
JP2002296406A (ja) * 2001-03-29 2002-10-09 Sumitomo Chem Co Ltd 反射干渉色の少ない反射防止基材
JP2004126532A (ja) * 2002-08-02 2004-04-22 Hoya Corp 光学部材
JP2005148375A (ja) * 2003-11-14 2005-06-09 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 反射防止膜及びそれを備えた反射防止材
JP2006251760A (ja) 2005-02-08 2006-09-21 Seiko Epson Corp 光学部品およびその製造方法
JP2007127681A (ja) 2005-11-01 2007-05-24 Tokai Kogaku Kk プラスチックレンズ
WO2008053712A1 (en) * 2006-10-31 2008-05-08 Nikon-Essilor Co., Ltd. Eyeglass lens and method for production thereof
JP2012093689A (ja) * 2010-09-29 2012-05-17 Nikon-Essilor Co Ltd 光学部品およびその製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2916148A4

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015045743A (ja) * 2013-08-28 2015-03-12 東海光学株式会社 光学製品及び眼鏡レンズ
US10101502B2 (en) 2013-08-28 2018-10-16 Tokai Optical Co., Ltd. Optical product and spectacle lens
WO2015029644A1 (ja) * 2013-08-28 2015-03-05 東海光学株式会社 光学製品及び眼鏡レンズ
JP7021156B2 (ja) 2015-01-07 2022-02-16 ローデンシュトック ゲーエムベーハー 層システムおよび層システムを備える光学素子
JP2019207424A (ja) * 2015-01-07 2019-12-05 ローデンシュトック ゲーエムベーハー 層システムおよび層システムを備える光学素子
WO2019103105A1 (ja) 2017-11-24 2019-05-31 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 眼鏡レンズおよび眼鏡
KR20190069402A (ko) 2017-11-24 2019-06-19 호야 렌즈 타일랜드 리미티드 안경 렌즈 및 안경
US11526030B2 (en) 2017-11-24 2022-12-13 Hoya Lens Thailand Ltd. Spectacle lens and spectacles
JP7136907B2 (ja) 2018-09-28 2022-09-13 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 眼鏡レンズ
JPWO2020067407A1 (ja) * 2018-09-28 2021-08-30 ホヤ レンズ タイランド リミテッドＨＯＹＡ Ｌｅｎｓ Ｔｈａｉｌａｎｄ Ｌｔｄ 眼鏡レンズ
JPWO2020067408A1 (ja) * 2018-09-28 2021-08-30 ホヤ レンズ タイランド リミテッドＨＯＹＡ Ｌｅｎｓ Ｔｈａｉｌａｎｄ Ｌｔｄ 眼鏡レンズ
JP7136908B2 (ja) 2018-09-28 2022-09-13 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 眼鏡レンズ
KR20220044773A (ko) * 2019-08-08 2022-04-11 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 불소 함유 유기 규소 화합물의 박막의 광학 상수 계측 방법
WO2021024895A1 (ja) * 2019-08-08 2021-02-11 信越化学工業株式会社 含フッ素有機ケイ素化合物の薄膜の光学定数計測方法
JPWO2021024895A1 (ja) * 2019-08-08 2021-02-11
JP7188600B2 (ja) 2019-08-08 2022-12-13 信越化学工業株式会社 含フッ素有機ケイ素化合物の薄膜の光学定数計測方法
US12105018B2 (en) 2019-08-08 2024-10-01 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method for measuring optical constants of thin film of fluorine-containing organosilicon compound
KR102830903B1 (ko) 2019-08-08 2025-07-08 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 불소 함유 유기 규소 화합물의 박막의 광학 상수 계측 방법
JPWO2021220513A1 (ja) * 2020-05-01 2021-11-04
WO2021220513A1 (ja) * 2020-05-01 2021-11-04 株式会社ニコン・エシロール 光学部材
JP7519434B2 (ja) 2020-05-01 2024-07-19 株式会社ニコン・エシロール 光学部材

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