WO2021220513A1 - 光学部材 - Google Patents

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WO2021220513A1
WO2021220513A1 PCT/JP2020/018446 JP2020018446W WO2021220513A1 WO 2021220513 A1 WO2021220513 A1 WO 2021220513A1 JP 2020018446 W JP2020018446 W JP 2020018446W WO 2021220513 A1 WO2021220513 A1 WO 2021220513A1
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index layer
group
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圭 石村
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株式会社ニコン・エシロール
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    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films

Definitions

  • This disclosure relates to optical members.
  • Patent Document 1 discloses a plastic optical product containing a low refractive index layer and a high refractive index layer.
  • the present disclosure includes a plastic base material, a hard coat layer arranged on the plastic base material, and an antireflection film arranged on the hard coat layer, and the antireflection films are alternately laminated with high refraction.
  • the high refraction layer contains a rate layer and a low refraction layer, the high refraction layer contains at least one oxide selected from the group consisting of titanium, zirconium, aluminum, niobium, tantalum, and lanthanum, and the low refraction layer contains. , Silicon oxide, calcium fluoride, and magnesium fluoride, and the total number of layers of the high refraction rate layer and the low refraction rate layer in the antireflection coating is 6 layers.
  • the layer most arranged on the plastic substrate side in the antireflection film is the high refraction layer
  • the low refraction layer arranged most on the plastic substrate side in the antireflection film is the first low refraction layer.
  • the low refraction layer is the second low refraction layer
  • the low refraction layer arranged on the plastic base material side next to the first low refraction layer is the second low refraction layer
  • the high refraction layer arranged most on the plastic base material side is the first.
  • the optical member of the present embodiment As the optical member, an optical member having excellent antireflection and scratch resistance and excellent adhesion of the antireflection film is desired.
  • the optical member of the present embodiment has the above characteristics. More specifically, in particular, the low refractive index layer and the high refractive index layer in the antireflection film are arranged in a predetermined configuration, and further, the above characteristics are obtained by satisfying the following formulas 1 to 3 in the optical member. Be done.
  • "-" is used in the meaning which includes the numerical values described before and after it as the lower limit value and the upper limit value.
  • the refractive index is the refractive index in the e-line.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of an embodiment of an optical member.
  • the optical member 10 shown in FIG. 1 includes a plastic base material 12, a primer layer 14, a hard coat layer 16, an antireflection film 18, and a water- and oil-repellent layer 20 in this order.
  • the optical member 10 includes a primer layer 14 and a water-repellent oil-repellent layer 20, but the primer layer and the water-repellent oil-repellent layer are arbitrary members, and the optical members of the present disclosure include a plastic base material and a hard coat. It suffices to include at least a layer and a predetermined antireflection film.
  • the antireflection film 18 has a first high refractive index layer 22H, a first low refractive index layer 22L, a second high refractive index layer 24H, a second low refractive index layer 24L, and a third high refractive index from the plastic base material 12 side. It has a layer 26H, a third low refractive index layer 26L, a fourth high refractive index layer 28H, and a fourth low refractive index layer 28L in this order.
  • the antireflection film 18 has a total number of layers of a high refractive index layer and a low refractive index layer of eight, but as will be described later, the optical member of the present disclosure is not limited to this embodiment and has a high refractive index.
  • the total number of layers of the rate layer and the low refractive index layer may be 6 or more.
  • the description of the high refractive index layer is described as “first high refractive index layer”, “second high refractive index layer”, etc. in order from the high refractive index layer located on the plastic base material side.
  • the notation of the low refractive index layer “first low refractive index layer”, “second low refractive index layer” and the like are described in order from the low refractive index layer located on the plastic base material side.
  • each layer is arranged only on one side of the plastic base material 12, but the primer layer 14, the hard coat layer 16, the antireflection film 18, and the water- and oil-repellent layer are arranged on both sides of the plastic base material 12.
  • 20 and 20 may be arranged in this order. That is, the optical member may have a hard coat layer and an antireflection film on both sides of the plastic base material, respectively.
  • the antireflection film which is a characteristic point of the optical member, will be described in detail first, and then the other members will be described in detail.
  • the optical member includes an antireflection film.
  • the antireflection film is a layer having a function of preventing reflection of incident light. Specifically, it can have low reflection characteristics (wideband low reflection characteristics) over the entire visible region of 380 to 780 nm.
  • the antireflection film includes alternately laminated high refractive index layers and low refractive index layers.
  • the predetermined high refractive index layer and the predetermined low refractive index layer may be arranged alternately. That is, a low refractive index layer is arranged between the two high refractive index layers, and a high refractive index layer is arranged between the two low refractive index layers.
  • another layer for example, SnO 2 layer and ITO layer
  • ITO is indium tin oxide, which is a mixture of indium oxide (In 2 O 3 ) and tin oxide (SnO 2).
  • the high refractive index layer a layer having a refractive index of 1.60 or more is preferable.
  • the high refractive index layer contains at least one oxide selected from the group consisting of titanium, zirconium, aluminum, niobium, tantalum, and lanthanum. Among them, the high refractive index layer preferably contains zirconium oxide (ZrO 2).
  • the high refractive index layer may contain two or more kinds of materials.
  • the low refractive index layer a layer having a refractive index of less than 1.60 is preferable.
  • the low index of refraction layer comprises at least one selected from the group consisting of an oxide of silicon, calcium fluoride, and magnesium fluoride. Among them, the low refractive index layer preferably contains silicon dioxide (SiO 2).
  • the low refractive index layer may contain two or more kinds of materials.
  • the total number of high-refractive-index layers and low-refractive-index layers in the antireflection film is 6 or more. That is, the antireflection film includes at least three high refractive index layers and at least three low refractive index layers.
  • the total number of layers is one in which at least one of the antireflection property, the scratch resistance, and the adhesion of the antireflection film of the optical member is more excellent (hereinafter, also simply referred to as "a point where a predetermined effect is more excellent"). , 8 layers or more are preferable.
  • the upper limit is not particularly limited, but from the viewpoint of productivity, 14 layers or less is preferable, and 12 layers or less is more preferable.
  • the layer most arranged on the plastic substrate side is a high refractive index layer. More specifically, as shown in FIG. 1, the first high refractive index layer 22H is arranged at the position closest to the plastic base material 12 in the antireflection film 18. By arranging the high refractive index layer at the predetermined position, the adhesion of the antireflection film is improved. Although the details of the above reason are unknown, many of the high-refractive index layers show tensile stress, and it is presumed that the peeling of the antireflection film was suppressed by arranging such a material at the above position.
  • the low refractive index layer arranged on the plastic base material side most in the antireflection film is the first low refractive index layer
  • the low refractive index layer arranged on the plastic base material side next to the first low refractive index layer is the first. 2
  • the optical members satisfy the relationships of the formulas 1 to 3. Equation 1 L1 + L2 ⁇ 400 nm Equation 2 L1 / H1 ⁇ 25.0 Equation 3 (L1 + L2) / H1 ⁇ 50.0
  • L1 represents the physical thickness of the first low refractive index layer.
  • L2 represents the physical thickness of the second low refractive index layer.
  • H1 represents the physical thickness of the first high refractive index layer.
  • Equation 1 represents the sum of the physical thickness of the first low refractive index layer and the physical thickness of the second low refractive index layer.
  • L1 + L2 is preferably 450 nm or more, more preferably 480 nm or more, in that a predetermined effect is more excellent.
  • the upper limit is not particularly limited, but from the viewpoint of productivity, 600 nm or less is preferable, and 550 nm or less is more preferable.
  • Equation 2 represents the ratio of the physical thickness of the first low refractive index layer to the physical thickness of the first high refractive index layer.
  • L1 / H1 is preferably 20.0 or less, more preferably 8.0 or less, in that a predetermined effect is more excellent.
  • the lower limit is not particularly limited, but it is often 3.0 or more, and more often 5.0 or more.
  • Equation 3 represents the ratio of the total layer thickness of the physical thickness of the first low refractive index layer and the physical thickness of the second low refractive index layer to the physical thickness of the first high refractive index layer.
  • (L1 + L2) / H1 is preferably 46.0 or less in that a predetermined effect is more excellent.
  • the lower limit is not particularly limited, but it is often 25.0 or more, and more often 30.0 or more.
  • Equation 4 L2 ⁇ L1
  • the physical thickness of the first high-refractive index layer is not particularly limited as long as the above relational expression is satisfied, but 5.0 to 25.0 nm is preferable, and 8.0 to 20.0 nm is more preferable in that a predetermined effect is more excellent. preferable.
  • the physical thickness of the first low refractive index layer is not particularly limited as long as the above relational expression is satisfied, but it is preferably 50 nm or more in terms of more excellent scratch resistance.
  • the upper limit is not particularly limited, but is preferably 300 nm or less, and more preferably 250 nm or less.
  • the physical thickness of the second low refractive index layer is not particularly limited as long as the above relational expression is satisfied, but 200 to 550 nm is preferable, and 300 to 500 nm is more preferable, because a predetermined effect is more excellent.
  • the physical thickness of the second high refractive index layer is not particularly limited, but 5.0 to 25.0 nm is preferable, and 8.0 to 20.0 nm is more preferable, in that a predetermined effect is more excellent.
  • the physical thickness of the third low refractive index layer is preferably 15 to 45 nm in that a predetermined effect is more excellent. , 20-40 nm is more preferred.
  • the physical thickness of the fourth low-refractive index layer is preferably 70 to 110 nm in that a predetermined effect is more excellent. , 85-100 nm is more preferred.
  • the physical thickness of the third high-refractive index layer is preferably 10 to 30 nm in that a predetermined effect is more excellent. , 15-25 nm is more preferred.
  • the physical thickness of the fourth high-refractive index layer is preferably 50 to 110 nm in that a predetermined effect is more excellent. , 55-110 nm is more preferable.
  • the method for producing the antireflection film is not particularly limited, and examples thereof include a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, an ion beam assist method, and a dry method such as a CVD method.
  • a vacuum deposition method a sputtering method, an ion plating method, an ion beam assist method, and a dry method such as a CVD method.
  • the antireflection film may further contain a SnO 2 layer or an ITO layer in addition to the above-mentioned high refractive index layer and low refractive index layer.
  • the SnO 2 layer and the ITO layer can function as an antistatic layer.
  • the arrangement positions of the SnO 2 layer and the ITO layer in the antireflection film are not particularly limited, and may be between the high refractive index layer and the low refractive index layer described above.
  • the plastic base material is a member that supports the antireflection film.
  • the type of plastic (so-called resin) contained in the plastic base material is not particularly limited, and for example, (meth) acrylic acid ester resin, thiourethane resin, allyl resin, episulfide resin, polycarbonate, urethane resin, polyester, polystyrene, polye -Tersalphon, poly4-methylpentene-1, and diethylene glycol bisallyl carbonate resin (CR-39) can be mentioned. Of these, thiourethane resin, episulfide resin, or diethylene glycol bisallyl carbonate resin is preferable.
  • a plastic spectacle lens base material is preferable.
  • the type of the plastic spectacle lens base material is not particularly limited, and examples thereof include an embodiment having a convex surface and a concave surface. More specifically, a finish lens in which both convex and concave surfaces are optically finished and molded according to a desired frequency, and a semi in which only the convex surface is finished as an optical surface (spherical surface, aspherical surface to be rotated, progressive surface, etc.). Examples thereof include a finish lens and a lens in which the concave surface of the semi-finish lens is processed and polished according to the wearer's prescription.
  • the thickness of the plastic base material is not particularly limited, but it is often about 1 to 30 mm from the viewpoint of handleability.
  • the refractive index of the plastic base material is not particularly limited, but is often 1.50 or more, preferably 1.60 to 1.80, and more preferably 1.60 to 1.74.
  • the plastic base material does not have to be colorless as long as it has translucency, and may contain an ultraviolet absorber and a dye that absorbs a specific wavelength region from the ultraviolet region to the infrared region.
  • the plastic substrate may contain additives such as a bluing agent, a light stabilizer, and an antioxidant.
  • the optical member may include a primer layer.
  • the primer layer is a layer arranged between a plastic base material and a hard coat layer, and is a plastic in which an antireflection film is arranged on the hard coat layer while improving the adhesion of the hard coat layer to the plastic base material. Improves the strength of spectacle lenses against static loads or impacts.
  • the material constituting the primer layer is not particularly limited, and known materials can be used.
  • a resin is mainly used.
  • the type of resin used is not particularly limited, and examples thereof include polyurethane-based resin, epoxy-based resin, phenol-based resin, polyimide-based resin, polyester-based resin, bismaleimide-based resin, and polyolefin-based resin, and polyurethane-based resin.
  • the primer layer may contain components other than the above resin.
  • Other components include, for example, oxide fine particles of at least one metal selected from Si, Al, Sn, Sb, Ta, Ce, La, Fe, Zn, W, Zr, In, and Ti, or oxide fine particles thereof.
  • oxide fine particles include composite oxide fine particles, hydrolyzable silicon compounds and / or hydrolyzed condensates thereof, conductive fillers, specific polymers, and surfactants.
  • the method for forming the primer layer is not particularly limited, and a known method can be adopted.
  • a composition for forming a primer layer containing a predetermined resin is applied onto a plastic base material, and if necessary, a curing treatment is performed.
  • a method of forming a primer layer can be mentioned.
  • the method of applying the primer layer forming composition is not particularly limited, and examples thereof include the method of applying the hard coat layer forming composition on a plastic substrate.
  • the thickness of the primer layer is not particularly limited, but is preferably 0.3 to 2 ⁇ m.
  • the optical member includes a hard coat layer.
  • the hard coat layer is a layer arranged between the plastic base material and the antireflection film, and is a layer that imparts scratch resistance to the plastic base material.
  • the hard coat layer preferably has a pencil hardness of "H" or higher according to the test method specified in the international standard ISO 15184 and the Japanese Industrial Standard JIS K5600 prepared based on this international standard.
  • a known hard coat layer can be used, and examples thereof include an organic hard coat layer, an inorganic hard coat layer, and an organic-inorganic hybrid hard coat layer.
  • an organic-inorganic hybrid hard coat layer is generally used.
  • the hard coat layer preferably contains a polymer of a polymerizable monomer (a polymer obtained by polymerizing a polymerizable monomer) and / or a condensate of a hydrolyzable organosilicon compound.
  • the polymerizable monomer is not particularly limited, but for example, a specific (meth) acrylate described later, a silsesquioxane having a radically polymerizable group, a polyfunctional acrylate, a compound having a plurality of epoxy groups, or a sill having an oxetanyl group. Examples include sesquioxane compounds.
  • the hydrolyzable organosilicon compound is not particularly limited, and examples thereof include an organosilicon compound having an epoxy group described later. Further, the hard coat layer may contain an inorganic component such as metal oxide fine particles described later.
  • the hard coat layer is preferably a layer formed by using a composition for forming a hard coat layer containing a polymerizable monomer.
  • the polymerizable monomer that can be contained in the composition for forming a hard coat layer it has at least one group (hereinafter, also simply referred to as “specific group”) selected from the group consisting of a phosphoric acid group and a sulfonic acid group (hereinafter, also simply referred to as “specific group”). Examples thereof include meta) acrylate (hereinafter, also simply referred to as “specific (meth) acrylate”).
  • the (meth) acrylate means acrylate or methacrylate.
  • a phosphoric acid group is preferable.
  • the number of specific groups in the specific (meth) acrylate may be 1 or more, and may be 2 or more.
  • the upper limit can be, for example, 5 or less.
  • the specific (meth) acrylate may be monofunctional or polyfunctional.
  • polyfunctional means that the specific (meth) acrylate has two or more specific groups.
  • the phosphoric acid group is a group represented by the following formula. * Represents the bond position.
  • the sulfonic acid group is a group represented by the following formula.
  • a compound represented by the formula (A) is preferable.
  • L a is a heteroatom (e.g., oxygen atom, nitrogen atom, and sulfur atom) represents an may contain a divalent hydrocarbon group.
  • the number of carbon atoms of the divalent hydrocarbon group is not particularly limited, and is preferably 1 to 10.
  • Examples of the divalent hydrocarbon group include an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, and a combination of these groups, and an alkylene group which may contain a hetero atom (for example, —O— The alkylene group-) is preferable.
  • Ra2 represents a group selected from the group consisting of a phosphoric acid group and a sulfonic acid group.
  • silsesquioxane having a radically polymerizable group examples include silsesquioxane having a radically polymerizable group.
  • the radically polymerizable group a group having an ethylenically unsaturated bond is preferable.
  • the group having an ethylenically unsaturated bond include a (meth) acryloyl group, a styryl group, and a vinyl group.
  • the silsesquioxane compound is a silane having a basic skeleton represented by the formula (B) obtained by hydrolyzing a trifunctional silane compound such as alkoxysilane, chlorosilane, and silanol. It is a compound.
  • the structure of the silsesquioxane compound includes a ladder structure, a cage type (completely condensed cage type) structure, and an incomplete cage type structure (partially cleaved structure of the cage type structure) in addition to an irregular morphology called a random structure.
  • a body having a cage-shaped structure in which a part of silicon atoms is missing or a cage-shaped structure in which a part of the silicon-oxygen bond is broken) is known.
  • R b represents an organic group. Equation (B) R b- SiO 3/2
  • the structure of the silsesquioxane compound having a radically polymerizable group is not particularly limited, but may be any of the above-mentioned random structure, ladder structure, cage structure, and incomplete cage structure, and a plurality of types. It may be a mixture of structures.
  • the amount of radically polymerizable group contained in the silsesquioxane compound is not particularly limited, but 30 to 500 g / eq. Is preferable, and 30 to 150 g / eq. Is more preferable.
  • the silsesquioxane compound having a radically polymerizable group may be synthesized by a known method or a commercially available product may be used.
  • polyfunctional acrylate examples of the polymerizable monomer that can be contained in the composition for forming a hard coat layer include polyfunctional (meth) acrylates that are different from both specific (meth) acrylates and silsesquioxane having a radically polymerizable group.
  • the polyfunctional (meth) acrylate is a compound having a plurality of (meth) acryloyl groups.
  • the number of (meth) acryloyl groups is not particularly limited, but is preferably 2 to 6, and more preferably 2 to 3.
  • L c1 represents a divalent hydrocarbon group which may contain a hetero atom (eg, oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom).
  • the number of carbon atoms of the divalent hydrocarbon group is not particularly limited, and is preferably 1 to 10.
  • Examples of the divalent hydrocarbon group include an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, and a combination of these groups, which may contain a hetero atom, and may contain a hetero atom.
  • a good alkylene group is preferred.
  • an alkylene group containing an oxygen atom is preferable, and a group represented by —O— (L c2- O) r ⁇ is preferable.
  • L c2 represents an alkylene group (preferably 1 to 3 carbon atoms).
  • r represents an integer of 1 or more, preferably an integer of 1 to 10, and more preferably an integer of 2 to 5.
  • Examples of the polymerizable monomer that can be contained in the composition for forming a hard coat layer include compounds having a plurality of epoxy groups (hereinafter, also simply referred to as “polyfunctional epoxy compounds”).
  • the epoxy group is a group represented by the following formula (D).
  • R d represents a hydrogen atom or an alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, and a propyl group). * Represents the bond position.
  • the polyfunctional epoxy compound contains a plurality of (two or more) epoxy groups.
  • the number of epoxy groups is not particularly limited, but is usually 2 to 6, and can be 2 to 3.
  • the type of the polyfunctional epoxy compound is not particularly limited, and examples thereof include known polyfunctional epoxy compounds.
  • Examples of the polyfunctional epoxy compound include a bisphenol A type epoxy compound, a bisphenol F type epoxy compound, a phenol novolac type epoxy compound, a cresol novolac type epoxy compound, and an aliphatic glycidyl ether type epoxy compound.
  • silsesquioxane compound having an oxetanyl group examples of the polymerizable monomer that can be contained in the composition for forming a hard coat layer include silsesquioxane compounds having an oxetanyl group.
  • the oxetanyl group is a group represented by the following formula (E).
  • Re represents a hydrogen atom or an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group). * Represents the bond position.
  • the structure of the silsesquioxane compound having an oxetanyl group is not particularly limited, but may be any of the above random structure, ladder structure, cage structure, and incomplete cage structure, and a plurality of types of structures may be used. It may be a mixture.
  • the amount of oxetanyl group equivalent contained in the silsesquioxane compound is not particularly limited, but 50 to 500 g / eq. Is preferable, and 150 to 300 g / eq. Is more preferable.
  • the silsesquioxane compound having an oxetanyl group may be synthesized by a known method or a commercially available product may be used.
  • Examples of commercially available products include OX-SQ TX-100, OX-SQ SI-20, and OX-SQ HDX manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • the hard coat layer is preferably a layer formed by using a composition for forming a hard coat layer containing a hydrolyzable organosilicon compound, a hydrolyzate thereof, and a hydrolyzed condensate thereof.
  • the composition for forming a hard coat layer is at least one selected from the group consisting of a hydrolyzable silicon compound represented by the formula (F), a hydrolyzate thereof, and a hydrolyzed condensate thereof (hereinafter, simply "" It is also preferably contained (also referred to as "hydrolyzable organosilicon compounds").
  • the hydrolyzable organosilicon compound is intended to be a compound in which an organic group and a hydrolyzable group are bonded to a silicon atom.
  • the organic group is preferably an epoxy group. Equation (F) R f1- L f- Si (R f2 ) s (R f3 ) 3-s R f1 represents an epoxy group.
  • the definition of the epoxy group is as described above.
  • L f represents a divalent hydrocarbon group that may contain a heteroatom.
  • the number of carbon atoms of the hydrocarbon group is not particularly limited, and is preferably 1 to 10.
  • Examples of the divalent hydrocarbon group include an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, and a combination of these groups, and an alkylene group which may contain a hetero atom is preferable.
  • R f2 represents a hydrolyzable group.
  • a hydrolyzable group is a group that is directly linked to Si (silicon atom) and can proceed with a hydrolysis reaction and / or a condensation reaction. Examples of the hydrolyzable group include an alkoxy group, a hydroxyl group, a halogen atom, an acyloxy group, an alkenyloxy group, and an isocyanate group.
  • R f3 represents an alkyl group. The number of carbon atoms of the alkyl group represented by R f3 is preferably 1 to 10. s represents an integer of 1 to 3. s is preferably 3.
  • the hydrolyzate of the hydrolyzable organosilicon compound is intended to be a compound obtained by hydrolyzing a hydrolyzable group in the hydrolyzable organosilicon compound.
  • the above-mentioned hydrolyzate is one in which all of the hydrolyzable groups are hydrolyzed (completely hydrolyzed product), but a part of the hydrolyzable groups is hydrolyzed (partially hydrolyzed). It may be a thing). That is, the hydrolyzate may be a complete hydrolyzate, a partial hydrolyzate, or a mixture thereof.
  • the hydrolyzed condensate of the hydrolyzable organosilicon compound is intended to be a compound obtained by hydrolyzing a hydrolyzable group in the hydrolyzable organosilicon compound and condensing the obtained hydrolyzate.
  • the sex group may be hydrolyzed and a part of the hydrolyzate may be condensed (partially hydrolyzed condensate). That is, the hydrolyzed condensate may be a completely hydrolyzed condensate, a partially hydrolyzed condensate, or a mixture thereof.
  • hydrolyzable organosilicon compound may be used alone, or two or more types of hydrolyzable organosilicon compounds may be used at the same time. It can also be used in combination with a composition for forming a hard coat layer containing a polymerizable monomer.
  • the composition for forming a hard coat layer may contain metal oxide fine particles.
  • the type of the metal oxide fine particles is not particularly limited, and examples thereof include known metal oxide fine particles.
  • the metal oxide fine particles include fine particles of at least one metal oxide selected from Si, Al, Sn, Sb, Ta, Ce, La, Fe, Zn, W, Zr, In, and Ti. Can be mentioned. Among them, in terms of handleability, metal oxide fine particles include Si-containing oxide fine particles (silicon oxide fine particles), Sn-containing oxide fine particles (tin oxide fine particles), and Zr-containing oxide fine particles (oxidation). Zirconium fine particles) or oxide fine particles containing Ti (titanium oxide fine particles) are preferable.
  • the metal oxide fine particles may contain only one kind of metal (metal atom) exemplified above, or may contain two or more kinds of metals (metal atoms). Further, Si (silicon) may be classified as a metalloid, but in the present specification, Si is included in the metal.
  • the average particle size of the metal oxide fine particles is not particularly limited, but is preferably 1 to 200 nm, more preferably 5 to 30 nm, for example. Within the above range, the dispersion stability of the metal oxide fine particles in the composition for forming the hard coat layer is more excellent.
  • the average particle size is obtained by measuring the diameters of 20 or more metal oxide fine particles with a transmission electron microscope and arithmetically averaging them. If the metal oxide fine particles are not perfectly circular, the major axis is the diameter. Various functional groups may be introduced into the surface of the metal oxide fine particles, if necessary.
  • composition for forming a hard coat layer may contain components other than those described above.
  • the composition for forming a hard coat layer containing a polymerizable monomer may contain a radical polymerization initiator.
  • the radical polymerization initiator include a photoradical polymerization initiator and a thermal radical polymerization initiator.
  • the composition for forming a hard coat layer containing a polymerizable monomer may contain a cationic polymerization initiator.
  • the cationic polymerization initiator include a photocationic polymerization initiator and a thermal cationic polymerization initiator.
  • the composition for forming a hard coat layer containing a hydrolyzable organosilicon compound may contain a curing catalyst. Examples of the curing catalyst include metal chelate compounds and organotin compounds.
  • the composition for forming a hard coat layer may contain a solvent.
  • the solvent may be water or an organic solvent.
  • the type of the organic solvent is not particularly limited, and for example, an alcohol solvent, a ketone solvent, an ether solvent, an ester solvent, a hydrocarbon solvent, a halogenated hydrocarbon solvent, an amide solvent, a sulfone solvent, and the like. Examples include sulfoxide-based solvents.
  • the composition for forming a hard coat layer is, if necessary, an ultraviolet absorber, an antiaging agent, a coating film modifier, a light stabilizer, an antioxidant, an antioxidant, a dye, a filler, and an internal mold release agent. It may contain various additives such as.
  • the composition for forming a hard coat layer contains the above-mentioned various components.
  • the method for producing the composition for forming a hard coat layer is not particularly limited, and for example, the above-mentioned components may be mixed all at once, or the above-mentioned components may be divided and mixed stepwise.
  • the content of the polymerizable monomer in the composition for forming a hard coat layer is not particularly limited, but the total solid content (constituent component of the hard coat layer) in the composition for forming a hard coat layer is in that a predetermined effect is more excellent. On the other hand, 1 to 100% by mass is preferable, and 5 to 60% by mass is more preferable.
  • the total solid content (hard coat layer constituent component) is a component that constitutes the hard coat layer by the curing treatment, and the solvent is not included in the solid content. Further, even if the component is liquid, if it is a component constituting the hard coat layer, it is calculated as a solid content.
  • the content of the hydrolyzable organosilicon compound in the composition for forming a hard coat layer is not particularly limited, but is 0 with respect to the total solid content in the composition for forming a hard coat layer in that a predetermined effect is more excellent. .5 to 70% by mass is preferable, and 1 to 60% by mass is more preferable.
  • the content of the metal oxide fine particles in the composition for forming a hard coat layer is not particularly limited, but 10 to 90 with respect to the total solid content in the composition for forming a hard coat layer in that a predetermined effect is more excellent. It is preferably by mass, more preferably 25 to 75% by mass.
  • composition for forming a hard coat layer a composition for forming a hard coat layer containing a polyfunctional epoxy compound, a silsesquioxane compound having an oxetanyl group, and a polymerization initiator (hereinafter, simply referred to as a composition for forming a hard coat layer). Also referred to as a "specific composition").
  • a polymerization initiator it is preferable to use a cationic polymerization initiator, and a photocationic polymerization initiator and a thermal cationic polymerization initiator may be used in combination.
  • the content of the polyfunctional epoxy compound in the specific composition is not particularly limited, but the total solid in the specific composition is excellent in scratch resistance and appearance characteristics of the hard coat layer and has a high curing reaction rate. It is preferably 1 to 15% by mass, more preferably 1 to 10% by mass, based on the amount (hard coat layer constituent component).
  • the content of the silsesquioxane compound having an oxetanyl group in the specific composition is not particularly limited, but the specific composition is excellent in scratch resistance of the hard coat layer and less stress in the hard coat layer. It is preferably 35 to 70% by mass, more preferably 35 to 60% by mass, based on the total solid content in the medium.
  • the content of the polymerization initiator in the specific composition is not particularly limited, but is 0.1 to 3.0 mass by mass with respect to the total solid content in the specific composition in that the scratch resistance of the hard coat layer is more excellent. % Is preferable, and 0.2 to 1.5% by mass is more preferable.
  • the specific composition contains metal oxide particles
  • the content of the metal oxide particles is not particularly limited, but the scratch resistance of the hard coat layer is more excellent with respect to the total solid content in the specific composition. , 25-60% by mass, more preferably 30-50% by mass.
  • Hydrolyzable silicon compounds may be added to a composition for forming a hard coat layer containing a polyfunctional epoxy compound and a silsesquioxane compound having an oxetanyl group.
  • the content of the hydrolyzable silicon compounds is not particularly limited, but is preferably less than 10% by mass with respect to the total solid content in the specific composition in that the adhesion between the hard coat layer and the base material is more excellent. More preferably less than 9% by mass.
  • the lower limit is not particularly limited, but may be 1% by mass or more.
  • the content of the silsesquioxane compound having an oxetanyl group with respect to the total mass of the polyfunctional epoxy compound and the silsesquioxane compound having an oxetanyl group is 70 in that the hard coat layer has better scratch resistance and appearance characteristics. More than mass% is preferable, 80% by mass or more is more preferable, and 85% by mass or more is further preferable.
  • the upper limit is not particularly limited, but may be 98% by mass or less.
  • the total mass of the polyfunctional epoxy compound and the silsesquioxane compound having an oxetanyl group with respect to the total solid content in the specific composition is not particularly limited, but is 35 to 70% by mass in that the hard coat layer is excellent in scratch resistance. Is preferable.
  • the composition for forming a hard coat layer is applied on a plastic base material (or on a primer layer) to form a coating film, and the coating film is formed.
  • a method of performing a curing treatment such as a light irradiation treatment and a heat treatment.
  • a curing treatment only one of the light irradiation treatment and the heat treatment may be carried out, or both may be carried out.
  • the light irradiation treatment and the heat treatment may be carried out at the same time, or one may be carried out and then the other may be carried out.
  • a drying treatment such as a heat treatment may be carried out in order to remove the solvent from the coating film.
  • the method for applying the composition for forming a hard coat layer is not particularly limited, and examples thereof include known methods (for example, dipping coating method, spin coating method, spray coating method, inkjet coating method, and flow coating method).
  • the film thickness of the coating film to be formed is not particularly limited, and a film thickness such that the film thickness is a predetermined hard coat layer is appropriately selected.
  • the conditions of the light irradiation treatment are not particularly limited, and suitable conditions are selected depending on the type of polymerization initiator used.
  • the type of light at the time of light irradiation is not particularly limited, and examples thereof include ultraviolet rays and visible rays.
  • Examples of the light source include a high-pressure mercury lamp.
  • the heat treatment conditions are not particularly limited, and the optimum conditions are selected depending on the type of polymerization initiator used.
  • the heating temperature is preferably 30 to 100 ° C., and the heating time is preferably 5 to 360 minutes.
  • the film thickness of the hard coat layer is not particularly limited, but is preferably 1 ⁇ m or more, more preferably 3 ⁇ m or more, still more preferably 10 ⁇ m or more.
  • the upper limit of the film thickness can be, for example, 30 ⁇ m or less.
  • the above-mentioned film thickness is an average film thickness, and as a measuring method thereof, the film thicknesses at any five points of the hard coat layer are measured, and they are calculated by arithmetic mean.
  • the hard coat layer may contain additives such as a bluing agent, a light stabilizer, and an antioxidant.
  • the optical member may include a water-repellent and oil-repellent layer.
  • the optical member preferably has a water- and oil-repellent layer on the surface of the antireflection film on the side opposite to the plastic base material side.
  • the optical member preferably has a water-repellent and oil-repellent layer on the outermost layer.
  • the water- and oil-repellent layer lowers the surface energy of the optical member, improves the function of preventing contamination of the optical member, and improves the slipperiness of the surface of the optical member, and as a result, improves the wear resistance of the optical member. ..
  • the material constituting the water- and oil-repellent layer is not particularly limited, and examples thereof include a fluorine-containing compound (a compound containing a fluorine atom) and a silicon-containing compound (a compound containing a silicon atom).
  • the water-repellent oil-repellent layer preferably contains a fluorine-containing compound in that the water-repellent and oil-repellent properties are more excellent, and is derived from a fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound, a hydrolyzate thereof, and a hydrolyzed condensate thereof. It is more preferable to include at least one selected from the group.
  • the material constituting the water-repellent and oil-repellent layer one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
  • the fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound is an organosilicon compound containing an alkyl group in which a part or all of a hydrogen atom is substituted with a fluorine atom, and has a hydrolyzable group.
  • the hydrolyzable group is a group that is directly linked to a silicon atom and can proceed with a hydrolysis reaction and a condensation reaction.
  • an alkoxy group, a halogen atom, an acyloxy group, an alkenyloxy group, and an isocyanate group are used. Can be mentioned.
  • a plurality of hydrolyzable groups are directly linked to one silicon atom, they may be the same or different.
  • the hydrolyzate of a fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound is intended to be a compound obtained by hydrolyzing a hydrolyzable group in a fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound.
  • the above-mentioned hydrolyzate is one in which all of the hydrolyzable groups are hydrolyzed (completely hydrolyzed product), but a part of the hydrolyzable groups is hydrolyzed (partially hydrolyzed). It may be a thing). That is, the hydrolyzate may be a complete hydrolyzate, a partial hydrolyzate, or a mixture thereof.
  • the hydrolyzed condensate of a fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound is intended to be a compound obtained by hydrolyzing a hydrolyzable group in a fluorosubstituted alkyl group-containing organosilicon compound and condensing the obtained hydrolyzate. do.
  • the hydrolyzed condensate even if all the hydrolyzable groups are hydrolyzed and all the hydrolyzated products are condensed (completely hydrolyzed condensate), some of the hydrolyzed products are hydrolyzed.
  • the sex group may be hydrolyzed and a part of the hydrolyzate may be condensed (partially hydrolyzed condensate). That is, the hydrolyzed condensate may be a completely hydrolyzed condensate, a partially hydrolyzed condensate, or a mixture thereof.
  • the method for forming the water-repellent and oil-repellent layer is not particularly limited, and can be arbitrarily selected depending on the material used, desired performance or thickness, and the like.
  • a method of applying a water-repellent oil-repellent layer-forming composition containing a fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound onto a lens substrate and performing a curing treatment as necessary, and a vacuum vapor deposition method can be mentioned.
  • the thickness of the water-repellent and oil-repellent layer of the optical member is not particularly limited, but is preferably 5 to 35 nm. If the thickness is within the above range, the optical member has excellent water and oil repellency.
  • a thiourethane-based synthetic resin substrate having a refractive index of 1.60 was prepared.
  • a polyurethane primer layer having a refractive index of 1.67 (thickness: 1 ⁇ m) and a silicon-based hard coat layer having a refractive index of 1.67 (thickness: 3 ⁇ m) were sequentially formed on both sides of the plastic base material.
  • the silicon-based hard coat layer having a refractive index of 1.67 contains an organosilicon compound having an epoxy group (including its hydrolyzate and its hydrolyzed condensate) and composite oxide fine particles mainly composed of TiO 2. It is formed by thermosetting a hard coat composition containing.
  • the obtained plastic substrate was set in a rotating dome provided in the vacuum chamber of a vacuum vapor deposition apparatus (manufactured by Syncron, "ACE-1150"), and the pressure was adjusted to 1.3 ⁇ 10 -3 Pa.
  • Ar ion beam cleaning is performed on the hard coat layer for 60 seconds under the condition of acceleration voltage 500V and acceleration current 100mA, and then Ar ion beam under the condition of acceleration voltage 500V and acceleration current 250mA for all the following layers.
  • the first layer to the eighth layer having the physical thickness shown in Table 1 described later were laminated by an electron beam method to form an antireflection film.
  • the antireflection film was formed on both sides of the plastic base material.
  • the plastic base material having the antireflection film was taken out from the vacuum vapor deposition apparatus, and a water-repellent oil-repellent layer was formed on the antireflection film by a dipping method.
  • the material used for the water- and oil-repellent layer was a mixture of Optool AES4E (fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound solution, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) and KY164 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), which was pulled up at a speed of 15 mm / sec. ..
  • an optical member having a primer layer, a hard coat layer, an antireflection film, and a water- and oil-repellent layer on both sides of the plastic base material was obtained.
  • Examples 2 to 10 As shown in Table 1 described later, an optical member is obtained according to the same procedure as in Example 1 except that the number of layers constituting the antireflection film and the physical thickness of each layer constituting the antireflection film are adjusted. rice field.
  • Example 11> Instead of the polyurethane primer layer with a refractive index of 1.67 (thickness: 1 ⁇ m), a primer layer with a refractive index of 1.50 polyurethane (thickness: 1 ⁇ m) is used, and a silicon-based hard coat layer with a refractive index of 1.67 (thickness:: An optical member was obtained according to the same procedure as in Example 1 except that a silsesquioxane-based hard coat layer (thickness: 10 ⁇ m) having a refractive index of 1.50 was used instead of 3 ⁇ m).
  • the silsesquioxane-based hard coat layer having a refractive index of 1.50 includes silsesquioxane having an oxetanyl group, a polyfunctional epoxy compound, a hydrolyzate of an organic silicon compound having an epoxy group, and colloidal silica ( It is formed by subjecting a hard coat composition containing (SiO 2 fine particles) to ultraviolet rays and thermosetting. Next, an optical member was obtained according to the same procedure as in Example 1 except that the physical thickness of each layer constituting the antireflection film was adjusted as shown in Table 1.
  • Example 12 As a plastic base material, a primer layer and a hard coat layer similar to those in Example 1 were sequentially formed on a thiourethane-based synthetic resin substrate having a refractive index of 1.60. Next, the obtained plastic substrate was set in a rotating dome provided in the vacuum chamber of a vacuum anode device (manufactured by Satis Law, "MC-1200DLX"), and the pressure was 3.5 ⁇ 10 -3. Exhaust until Pa, and perform Ar ion beam cleaning on the hard coat layer for 60 seconds under the conditions of anode voltage 120V and anode current 3.5A, and then the following 1st to 7th layers have anode voltage 120V and anode.
  • MC-1200DLX vacuum anode device
  • the first to seventh layers having the physical thickness shown in Table 2 described later are laminated by the electron beam method, and the anode voltage of 120 V is applied to the eighth layer.
  • the eighth layer having the physical thickness shown in Table 2 described later was laminated by the electron beam method, and the anode voltage of 120 V and the anode current were laminated on the ninth layer.
  • the ninth layer having the physical thickness shown in Table 2 described later was laminated by the electron beam method to form an antireflection film.
  • the antireflection film was formed on both sides of the plastic base material.
  • the plastic base material having the antireflection film was taken out from the vacuum vapor deposition apparatus, and a water-repellent oil-repellent layer was formed on the antireflection film by a dipping method.
  • the material used for the water- and oil-repellent layer was a mixture of Optool AES4E (fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound solution, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) and KY164 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), which was pulled up at a speed of 15 mm / sec. ..
  • an optical member having a primer layer, a hard coat layer, an antireflection film, and a water- and oil-repellent layer on both sides of the plastic base material was obtained.
  • Example 13 As a plastic base material, a primer layer and a hard coat layer similar to those in Example 12 were sequentially formed on a thiourethane-based synthetic resin substrate having a refractive index of 1.60. Next, an optical member was obtained according to the same procedure as in Example 12 except that the physical thickness of each layer constituting the antireflection film was adjusted as shown in Table 2.
  • the haze value of the optical member was Hs
  • the haze value of the comparative standard product was Hcr
  • the reflectance of the convex surface of the manufactured optical member with a wavelength from 380 to 780 nm was measured by USPM-RU manufactured by Olympus.
  • the visual reflectance Rv was obtained from the obtained reflectance, and Rv ⁇ 1.0% was "A", 1.0% ⁇ Rv ⁇ 2.0% was “B”, and 2.0% ⁇ Rv ⁇ 3. 0% was defined as “C” and 3.0% ⁇ Rv was defined as "D”.
  • the refractive index of the ZrO 2 layer in Tables 1 to 3 was 2.00, and the refractive index of the SiO 2 layer was 1.47.
  • the "Layer structure” column shows the layers constituting the antireflection film.
  • the layers arranged on the plastic base material side are shown in order from the top.
  • “H1” and “H2” represent the order of the high refractive index layers counted from the plastic base material side
  • "L1" and “L2” represent the order of the low refractive index layers counted from the plastic base material side.
  • each numerical value in the "Layer structure” column indicates the physical thickness of each layer.
  • "80" in the “1: ZrO 2 (H1)” column means that the physical thickness of the first high refractive index layer is 80 nm.
  • the layer described in the “3: ZrO 2 (H2)” column corresponds to the first high refractive index layer (H1), and is “L1 / H1” and “(L1 + L2) / H1”.
  • the above “3: ZrO 2 (H2)” column was used.
  • Optical member 10
  • Plastic base material 14
  • Primer layer 16
  • Hard coat layer 18
  • Antireflection film 20
  • Water-repellent oil-repellent layer 22H 1st high refractive index layer 22L 1st low refractive index layer 24H 2nd high refractive index layer 24L 2nd low refractive index Layer 26H 3rd high refractive index layer 26L 3rd low refractive index layer 28H 4th high refractive index layer 28L 4th low refractive index layer

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Abstract

本開示は、プラスチック基材と、プラスチック基材上に配置されたハードコート層と、ハードコート層上に配置された反射防止膜と、を含み、反射防止膜は、交互に積層された所定の高屈折率層および所定の低屈折率層を含み、高屈折率層および低屈折率層が所定の要件を満たす光学部材に関する。

Description

光学部材
　本開示は、光学部材に関する。
　眼鏡レンズなどの光学部材の研究が活発に行われており、特許文献１では低屈折率層および高屈折率層を含むプラスチック光学製品が開示されている。
特開２０１９－１５７６４号公報
　本開示は、プラスチック基材と、プラスチック基材上に配置されたハードコート層と、ハードコート層上に配置された反射防止膜と、を含み、反射防止膜は、交互に積層された高屈折率層および低屈折率層を含み、高屈折率層は、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、ニオブ、タンタル、および、ランタンからなる群から選択される少なくとも１種の酸化物を含み、低屈折率層は、ケイ素の酸化物、フッ化カルシウム、および、フッ化マグネシウムからなる群から選択される少なくとも１種を含み、反射防止膜中における、高屈折率層および低屈折率層の合計層数が６層以上であり、反射防止膜中において最もプラスチック基材側に配置された層が、高屈折率層であり、反射防止膜中において最もプラスチック基材側に配置された低屈折率層を第１低屈折率層とし、第１低屈折率層の次にプラスチック基材側に配置された低屈折率層を第２低屈折率層とし、最もプラスチック基材側に配置された高屈折率層を第１高屈折率層とした場合、後述する式１～３の関係を満たす、光学部材に関する。
光学部材の一実施形態の断面図である。
　以下、本実施形態の光学部材について詳述する。
　光学部材としては、反射防止性および耐擦傷性に優れ、かつ、反射防止膜の密着性に優れた光学部材が望まれている。本実施形態の光学部材では、上記特性が得られる。
　より具体的には、特に、反射防止膜中の低屈折率層および高屈折率層が所定の構成で配置され、さらに、光学部材が後述する式１～３を満たすことにより、上記特性が得られる。
　なお、本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
　また、本明細書において、屈折率は、ｅ線における屈折率である。
　図１は、光学部材の一実施形態の断面図である。
　図１に示す光学部材１０は、プラスチック基材１２と、プライマー層１４と、ハードコート層１６と、反射防止膜１８と、撥水撥油層２０とをこの順に含む。
　上記光学部材１０には、プライマー層１４、および、撥水撥油層２０が含まれるが、プライマー層および撥水撥油層は任意の部材であり、本開示の光学部材にはプラスチック基材、ハードコート層、および所定の反射防止膜が少なくとも含まれていればよい。
　反射防止膜１８は、プラスチック基材１２側から、第１高屈折率層２２Ｈ、第１低屈折率層２２Ｌ、第２高屈折率層２４Ｈ、第２低屈折率層２４Ｌ、第３高屈折率層２６Ｈ、第３低屈折率層２６Ｌ、第４高屈折率層２８Ｈ、および、第４低屈折率層２８Ｌをこの順に有する。
　図１において、反射防止膜１８は、高屈折率層および低屈折率層の合計層数は８層であるが、後述するように本開示の光学部材はこの態様には限定されず、高屈折率層および低屈折率層の合計層数は６層以上であればよい。
　なお、本明細書において、高屈折率層の表記に関して、プラスチック基材側に位置する高屈折率層から順に「第１高屈折率層」、「第２高屈折率層」などと表記する。また、低屈折率層の表記に関して、プラスチック基材側に位置する低屈折率層から順に「第１低屈折率層」、「第２低屈折率層」などと表記する。
　図１においては、プラスチック基材１２の片面にのみ各層が配置されているが、プラスチック基材１２の両面に、プライマー層１４と、ハードコート層１６と、反射防止膜１８と、撥水撥油層２０とがこの順に配置されていてもよい。つまり、光学部材は、プラスチック基材の両面に、ハードコート層および反射防止膜をそれぞれ有していてもよい。
　以下では、まず、光学部材の特徴点である反射防止膜について詳述し、その後、他の部材について詳述する。
＜反射防止膜＞
　光学部材は、反射防止膜を含む。
　反射防止膜は、入射した光の反射を防止する機能を有する層である。具体的には、３８０～７８０ｎｍの可視領域全域にわたって、低い反射特性（広帯域低反射特性）を有することができる。
　反射防止膜は、交互に積層された高屈折率層および低屈折率層を含む。反射防止膜において、所定の高屈折率層および所定の低屈折率層は、それぞれが交互に配置されていればよい。つまり、２つの高屈折率層の間には低屈折率層が配置され、２つの低屈折率層の間には高屈折率層が配置される。なお、後述するように、高屈折率層および低屈折率層の間に他の層（例えば、ＳｎＯ２層およびＩＴＯ層）が配置されていてもよい。ＩＴＯは酸化インジウムスズで、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）と酸化スズ（ＳｎＯ２）の混合物である。
　高屈折率層としては、屈折率が１．６０以上である層が好ましい。
　高屈折率層は、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、ニオブ、タンタル、および、ランタンからなる群から選択される少なくとも１種の酸化物を含む。なかでも、高屈折率層は、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）を含むことが好ましい。
　高屈折率層には、２種以上の材料が含まれていてもよい。
　低屈折率層としては、屈折率が１．６０未満である層が好ましい。
　低屈折率層は、ケイ素の酸化物、フッ化カルシウム、および、フッ化マグネシウムからなる群から選択される少なくとも１種を含む。なかでも、低屈折率層は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を含むことが好ましい。
　低屈折率層には、２種以上の材料が含まれていてもよい。
　反射防止膜中における、高屈折率層および低屈折率層の合計層数は、６層以上である。つまり、反射防止膜は、少なくとも３層の高屈折率層および少なくとも３層の低屈折率層を含む。
　上記合計層数は、光学部材の反射防止性、耐擦傷性、および、反射防止膜の密着性の少なくとも１つがより優れる点（以後、単に「所定の効果がより優れる点」とも称する。）で、８層以上が好ましい。上限は特に制限されないが、生産性の点から、１４層以下が好ましく、１２層以下がより好ましい。
　反射防止膜中において、最もプラスチック基材側に配置された層は、高屈折率層である。
　より具体的には、図１に示すように、反射防止膜１８中において、最もプラスチック基材１２側の位置には、第１高屈折率層２２Ｈが配置されている。
　高屈折率層が上記所定の位置に配置されることにより、反射防止膜の密着性が向上する。上記理由の詳細は不明だが、高屈折率層は引張応力を示す材料が多く、このような材料を上記位置に配置することにより、反射防止膜の剥離が抑制されたと推測される。
　反射防止膜中において最もプラスチック基材側に配置された低屈折率層を第１低屈折率層とし、第１低屈折率層の次にプラスチック基材側に配置された低屈折率層を第２低屈折率層とし、最もプラスチック基材側に配置された高屈折率層を第１高屈折率層とした場合、光学部材は、式１～３の関係を満たす。
　式１　　Ｌ１＋Ｌ２≧４００ｎｍ
　式２　　Ｌ１／Ｈ１≦２５．０
　式３　　（Ｌ１＋Ｌ２）／Ｈ１≦５０．０
　Ｌ１は、第１低屈折率層の物理的厚みを表す。Ｌ２は、第２低屈折率層の物理的厚みを表す。Ｈ１は、第１高屈折率層の物理的厚みを表す。
　式１は、第１低屈折率層の物理的厚みおよび第２低屈折率層の物理的厚みの合計を表す。式１の関係を満たすことにより、主に、光学部材の耐擦傷性が向上する。
　なかでも、所定の効果がより優れる点で、Ｌ１＋Ｌ２は、４５０ｎｍ以上が好ましく、４８０ｎｍ以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、生産性の点から、６００ｎｍ以下が好ましく、５５０ｎｍ以下がより好ましい。
　式２は、第１高屈折率層の物理的厚みに対する、第１低屈折率層の物理的厚みの比を表す。式２の関係を満たすことにより、主に、反射防止膜の密着性が向上する。
　なかでも、所定の効果がより優れる点で、Ｌ１／Ｈ１は、２０．０以下が好ましく、８．０以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、３．０以上の場合が多く、５．０以上の場合がより多い。
　式３は、第１高屈折率層の物理的厚みに対する、第１低屈折率層の物理的厚みおよび第２低屈折率層の物理的厚みの合計層厚みの比を表す。式３の関係を満たすことにより、主に、反射防止膜の密着性が向上する。
　なかでも、所定の効果がより優れる点で、（Ｌ１＋Ｌ２）／Ｈ１は、４６．０以下が好ましい。下限は特に制限されないが、２５．０以上の場合が多く、３０．０以上の場合がより多い。
　なかでも、光学部材の反射防止性がより優れる点で、式４の関係を満たすことが好ましい。
　式４　　Ｌ２≧Ｌ１
　第１高屈折率層の物理的厚みは上記関係式を満たせば特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、５．０～２５．０ｎｍが好ましく、８．０～２０．０ｎｍがより好ましい。
　第１低屈折率層の物理的厚みは上記関係式を満たせば特に制限されないが、耐擦傷性がより優れる点で、５０ｎｍ以上が好ましい。上限は特に制限されないが、３００ｎｍ以下が好ましく、２５０ｎｍ以下がより好ましい。
　第２低屈折率層の物理的厚みは上記関係式を満たせば特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、２００～５５０ｎｍが好ましく、３００～５００ｎｍがより好ましい。
　第２高屈折率層の物理的厚みは特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、５．０～２５．０ｎｍが好ましく、８．０～２０．０ｎｍがより好ましい。
　反射防止膜に含まれる高屈折率層および低屈折率層の合計層数が８層の場合、第３低屈折率層の物理的厚みは所定の効果がより優れる点で、１５～４５ｎｍが好ましく、２０～４０ｎｍがより好ましい。
　反射防止膜に含まれる高屈折率層および低屈折率層の合計層数が８層の場合、第４低屈折率層の物理的厚みは所定の効果がより優れる点で、７０～１１０ｎｍが好ましく、８５～１００ｎｍがより好ましい。
　反射防止膜に含まれる高屈折率層および低屈折率層の合計層数が８層の場合、第３高屈折率層の物理的厚みは所定の効果がより優れる点で、１０～３０ｎｍが好ましく、１５～２５ｎｍがより好ましい。
　反射防止膜に含まれる高屈折率層および低屈折率層の合計層数が８層の場合、第４高屈折率層の物理的厚みは所定の効果がより優れる点で、５０～１１０ｎｍが好ましく、５５～１１０ｎｍがより好ましい。
　反射防止膜の製造方法は特に制限されないが、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法、および、ＣＶＤ法などの乾式法が挙げられる。
　なかでも、所定の効果がより優れる点で、反射防止膜の製造においては、反射防止膜中の少なくとも一部の層がイオンビームによりエネルギーを受けた状態（イオンアシスト蒸着）で成膜された層であることが好ましい。
　反射防止膜は、上述した高屈折率層および低屈折率層以外に、ＳｎＯ２層、または、ＩＴＯ層をさらに含んでいてもよい。ＳｎＯ２層およびＩＴＯ層は、帯電防止層として機能し得る。
　反射防止膜中におけるＳｎＯ２層およびＩＴＯ層の配置位置は特に制限されず、上述した高屈折率層および低屈折率層の間であってもよい。
＜プラスチック基材＞
　プラスチック基材は、反射防止膜を支持する部材である。
　プラスチック基材に含まれるプラスチック（いわゆる、樹脂）の種類は特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル樹脂、チオウレタン樹脂、アリル樹脂、エピスルフィド樹脂、ポリカーボネート、ウレタン樹脂、ポリエステル、ポリスチレン、ポリエ－テルサルホン、ポリ４－メチルペンテン－１、および、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ－３９）が挙げられる。なかでも、チオウレタン樹脂、エピスルフィド樹脂、または、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂が好ましい。
　プラスチック基材としては、プラスチック眼鏡レンズ基材が好ましい。
　プラスチック眼鏡レンズ基材の種類は特に制限されないが、凸面および凹面を有する態様が挙げられる。より具体的には、凸面および凹面共に光学的に仕上げ、所望の度数にあわせて成形されるフィニッシュレンズ、凸面のみが光学面（球面、回転対象非球面、累進面など）として仕上げられているセミフィニッシュレンズ、および、セミフィニッシュレンズの凹面が装用者の処方に合わせて加工研磨されたレンズが挙げられる。
　プラスチック基材の厚さは特に制限されないが、取り扱い性の点から、１～３０ｍｍ程度の場合が多い。
　プラスチック基材の屈折率は特に制限されないが、１．５０以上の場合が多く、１．６０～１．８０が好ましく、１．６０～１．７４がより好ましい。
　また、プラスチック基材は透光性を有していれば無色でなくてもよく、紫外線吸収剤、および、紫外域から赤外域にかけての特定の波長領域を吸収する染料を含んでいてもよい。
　また、プラスチック基材は、ブルーイング剤、光安定剤、および、酸化防止剤などの添加剤を含んでいてもよい。
＜プライマー層＞
　光学部材は、プライマー層を含んでいてもよい。
　プライマー層は、プラスチック基材とハードコート層との間に配置される層であり、ハードコート層のプラスチック基材に対する密着性を向上させるとともに、ハードコート層上に反射防止膜が配置されたプラスチック眼鏡レンズの、静荷重または衝撃に対する強度を向上させる。
　プライマー層を構成する材料は特に制限されず、公知の材料を使用でき、例えば、主に樹脂が使用される。使用される樹脂の種類は特に制限されず、例えば、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ビスマレイミド系樹脂、および、ポリオレフィン系樹脂が挙げられ、ポリウレタン系樹脂が好ましい。
　プライマー層は、上記樹脂以外の他の成分を含んでいてもよい。
　他の成分としては、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｃｅ、Ｌａ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｗ、Ｚｒ、Ｉｎ、および、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物微粒子またはこれらの複合酸化物微粒子、加水分解性ケイ素化合物および／またはその加水分解縮合物、導電性フィラー、特定高分子、並びに、界面活性剤が挙げられる。
　プライマー層の形成方法は特に制限されず、公知の方法を採用でき、例えば、所定の樹脂を含むプライマー層形成用組成物をプラスチック基材上に塗布して、必要に応じて硬化処理を施して、プライマー層を形成する方法が挙げられる。
　プライマー層形成用組成物を塗布する方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層形成用組成物をプラスチック基材上に塗布する方法で例示した方法が挙げられる。
　プライマー層の厚さは特に制限されないが、０．３～２μｍが好ましい。
＜ハードコート層＞
　光学部材は、ハードコート層を含む。
　ハードコート層は、プラスチック基材と反射防止膜との間に配置される層であり、プラスチック基材に耐擦傷性を付与する層である。
　ハードコート層としては、国際規格ＩＳＯ　１５１８４、およびこの国際規格に基づき作成された日本工業規格ＪＩＳ　Ｋ５６００において定められた試験法による鉛筆硬度で、「Ｈ」以上の硬度を示すものが好ましい。
　ハードコート層としては、公知のハードコート層を用いることができ、例えば、有機系ハードコート層、無機系ハードコート層、および、有機－無機ハイブリッドハードコート層が挙げられる。例えば、眼鏡レンズの分野においては、有機－無機ハイブリッドハードコート層が一般的に使用されている。
　ハードコート層は、重合性モノマーの重合体（重合性モノマーを重合させて得られる重合体）、および／または、加水分解性有機ケイ素化合物の縮合体を含むことが好ましい。
　重合性モノマーは特に制限されないが、例えば、後述する特定（メタ）アクリレートや、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンや、多官能アクリレートや、エポキシ基を複数有する化合物や、オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物が挙げられる。
　加水分解性有機ケイ素化合物は特に制限されないが、例えば後述するエポキシ基を有する有機ケイ素化合物が挙げられる。
　また、ハードコート層は、後述する金属酸化物微粒子などの無機成分を含んでいてもよい。
　ハードコート層は、重合性モノマーを含むハードコート層形成用組成物を用いて形成された層であることが好ましい。
（リン酸基、および、スルホン酸基からなる群から選択される基を少なくとも１つ有する（メタ）アクリレート）
　ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、リン酸基、および、スルホン酸基からなる群から選択される基（以後、単に「特定基」とも称する）を少なくとも１つ有する（メタ）アクリレート（以後、単に「特定（メタ）アクリレート」とも称する）が挙げられる。
　なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。
　特定基としては、リン酸基が好ましい。
　特定（メタ）アクリレート中における特定基の数は１以上であればよく、２以上であってもよい。上限としては、例えば、５以下とすることができる。
　特定（メタ）アクリレートは、単官能であっても、多官能であってもよい。なお、多官能とは、特定（メタ）アクリレートが２以上の特定基を有することを意味する。
　リン酸基は、以下の式で表される基である。＊は、結合位置を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　スルホン酸基は、以下の式で表される基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　特定（メタ）アクリレートとしては、式（Ａ）で表される化合物が好ましい。
　式（Ａ）　　ＣＨ２＝ＣＲａ１－ＣＯＯ－Ｌａ－Ｒａ２
　Ｒａ１は、水素原子またはメチル基を表す。
　Ｌａは、ヘテロ原子（例えば、酸素原子、窒素原子、および、硫黄原子）を含んでいてもよい２価の炭化水素基を表す。２価の炭化水素基の炭素数は特に制限されず、１～１０が好ましい。２価の炭化水素基としては、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、および、これらの基の組み合わせが挙げられ、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキレン基（例えば、－Ｏ－アルキレン基－）が好ましい。
　Ｒａ２は、リン酸基、および、スルホン酸基からなる群から選択される基を表す。
（ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサン）
　ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンが挙げられる。
　ラジカル重合性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基が好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、スチリル基、および、ビニル基が挙げられる。
　なお、一般的に、シルセスキオキサン化合物とは、アルコキシシラン、クロロシラン、および、シラノールなどの３官能性シラン化合物を加水分解することで得られる式（Ｂ）で表される基本骨格を有するシラン化合物である。シルセスキオキサン化合物の構造としては、ランダム構造と呼ばれる不規則の形態のほかに、ラダー構造、かご型（完全縮合ケージ型）構造、および、不完全かご型構造（かご型構造の部分開裂構造体であって、かご型構造からケイ素原子のうちの一部が欠けた構造やかご型構造の一部のケイ素－酸素結合が切断された構造のもの）が知られている。
　以下の式（Ｂ）中、Ｒｂは有機基を表す。
　式（Ｂ）　　　Ｒｂ－ＳｉＯ３/２
　ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサン化合物の構造は特に制限されないが、上記ランダム構造、ラダー構造、かご型構造、および、不完全かご型構造のいずれであってもよく、また、複数種の構造の混合物であってもよい。
　シルセスキオキサン化合物に含まれるラジカル重合性基当量は特に制限されないが、ハードコート層の硬度がより優れる点で、３０～５００ｇ／ｅｑ.が好ましく、３０～１５０ｇ／ｅｑ．がより好ましい。
　ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサン化合物は、公知の方法にて合成してもよいし、市販品を用いてもよい。
（多官能アクリレート）
　ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、特定（メタ）アクリレートおよびラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンのいずれとも異なる多官能（メタ）アクリレートが挙げられる。
　多官能（メタ）アクリレートとは、（メタ）アクリロイル基を複数有する化合物である。（メタ）アクリロイル基の数は特に制限されないが、２～６個が好ましく、２～３個がより好ましい。
　多官能（メタ）アクリレートとしては、式（Ｃ）で表される化合物が好ましい。
　式（Ｃ）　　ＣＨ２＝ＣＲｃ１－ＣＯ－Ｌｃ１－ＣＯ－ＣＲｃ２＝ＣＨ２
　Ｒｃ１およびＲｃ２は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を表す。
　Ｌｃ１は、ヘテロ原子（例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子）を含んでいてもよい２価の炭化水素基を表す。２価の炭化水素基の炭素数は特に制限されず、１～１０が好ましい。２価の炭化水素基としては、例えば、ヘテロ原子を含んでいてもよい、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、および、これらの基の組み合わせが挙げられ、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキレン基が好ましい。
　なかでも、酸素原子を含むアルキレン基が好ましく、－Ｏ－（Ｌｃ２－Ｏ）ｒ－で表される基が好ましい。なお、Ｌｃ２は、アルキレン基（好ましくは、炭素数１～３）を表す。ｒは、１以上の整数を表し、１～１０の整数が好ましく、２～５の整数がより好ましい。
（エポキシ基を複数有する化合物）
　ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、エポキシ基を複数有する化合物（以後、単に「多官能エポキシ化合物」とも称する）が挙げられる。
　エポキシ基とは、以下の式（Ｄ）で表される基である。Ｒｄは、水素原子またはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、および、プロピル基）を表す。＊は、結合位置を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　多官能エポキシ化合物には、エポキシ基が複数（２個以上）含まれる。エポキシ基の数は特に制限されないが、通常、２～６個とすることができ、また２～３個とすることができる。
　多官能エポキシ化合物の種類は特に制限されず、公知の多官能エポキシ化合物が挙げられる。多官能エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、および、脂肪族グリシジルエーテル型エポキシ化合物が挙げられる。
（オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物）
　ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物が挙げられる。
　オキセタニル基とは、以下の式（Ｅ）で表される基である。Ｒｅは、水素原子またはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基）を表す。＊は、結合位置を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物の構造は特に制限されないが、上記ランダム構造、ラダー構造、かご型構造、および、不完全かご型構造のいずれであってもよく、また、複数種の構造の混合物であってもよい。
　シルセスキオキサン化合物に含まれるオキセタニル基当量は特に制限されないが、ハードコート層の硬度がより優れる点で、５０～５００ｇ／ｅｑ.が好ましく、１５０～３００ｇ／ｅｑ．がより好ましい。
　オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物は、公知の方法にて合成してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、東亞合成社製：ＯＸ－ＳＱ　ＴＸ－１００、ＯＸ－ＳＱ　ＳＩ－２０、ＯＸ－ＳＱ　ＨＤＸが挙げられる。
　ハードコート層は、加水分解性有機ケイ素化合物、その加水分解物、および、その加水分解縮合物を含むハードコート層形成用組成物を用いて形成された層であることが好ましい。
（式（Ｆ）で表される加水分解性有機ケイ素化合物、その加水分解物、および、その加水分解縮合物からなる群から選択される少なくとも１種）
　ハードコート層形成用組成物は、式（Ｆ）で表される加水分解性ケイ素化合物、その加水分解物、および、その加水分解縮合物からなる群から選択される少なくとも１種（以後、単に「加水分解性有機ケイ素化合物類」とも称する）を含んでいることが好ましい。なお、加水分解性有機ケイ素化合物とは、ケイ素原子に有機基、および、加水分解性基が結合した化合物を意図する。有機基はエポキシ基であることが好ましい。
　式（Ｆ）　　Ｒｆ１－Ｌｆ－Ｓｉ（Ｒｆ２）ｓ（Ｒｆ３）３－ｓ
　Ｒｆ１は、エポキシ基を表す。
　エポキシ基の定義は、上述した通りである。
　Ｌｆは、ヘテロ原子を含んでいてもよい２価の炭化水素基を表す。炭化水素基の炭素数は特に制限されず、１～１０が好ましい。２価の炭化水素基としては、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、および、これらの基の組み合わせが挙げられ、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキレン基が好ましい。
　Ｒｆ２は、加水分解性基を表す。加水分解性基は、Ｓｉ（ケイ素原子）に直結し、加水分解反応および／または縮合反応を進行し得る基である。加水分解性基としては、例えば、アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子、アシルオキシ基、アルケニルオキシ基、および、イソシアネート基が挙げられる。
　Ｒｆ３は、アルキル基を表す。Ｒｆ３で表されるアルキル基の炭素数は、１～１０が好ましい。
　ｓは、１～３の整数を表す。ｓは、３が好ましい。
　加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解物とは、加水分解性有機ケイ素化合物中の加水分解性基が加水分解して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解物は、加水分解性基のすべてが加水分解されているもの（完全加水分解物）であっても、加水分解性基の一部が加水分解されているもの（部分加水分解物）であってもよい。つまり、上記加水分解物は、完全加水分解物、部分加水分解物、または、これらの混合物であってもよい。
　また、加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解縮合物とは、加水分解性有機ケイ素化合物中の加水分解性基が加水分解し、得られた加水分解物を縮合して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解縮合物としては、すべての加水分解性基が加水分解され、かつ、加水分解物がすべて縮合されているもの（完全加水分解縮合物）であっても、一部の加水分解性基が加水分解され、一部の加水分解物が縮合しているもの（部分加水分解縮合物）であってもよい。つまり、上記加水分解縮合物は、完全加水分解縮合物、部分加水分解縮合物、または、これらの混合物であってもよい。
　加水分解性有機ケイ素化合物は１種類を単独で使用してもよいし、２種類以上の加水分解性有機ケイ素化合物を同時に使用してもよい。また、重合性モノマーを含むハードコート層形成用組成物と併用することもできる。
（金属酸化物微粒子）
　ハードコート層形成用組成物は、金属酸化物微粒子を含んでいてもよい。
　金属酸化物微粒子の種類は特に制限されず、公知の金属酸化物微粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子としては、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｃｅ、Ｌａ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｗ、Ｚｒ、Ｉｎ、および、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物の微粒子が挙げられる。なかでも、取り扱い性の点で、金属酸化物微粒子を、Ｓｉを含む酸化物の微粒子（酸化ケイ素微粒子）、Ｓｎを含む酸化物の微粒子（酸化スズ微粒子）、Ｚｒを含む酸化物の微粒子（酸化ジルコニウム微粒子）、または、Ｔｉを含む酸化物の微粒子（酸化チタン微粒子）が好ましい。
　なお、金属酸化物微粒子には、上記に例示した１種の金属（金属原子）のみが含まれていてもよいし、２種以上の金属（金属原子）が含まれていてもよい。
　また、Ｓｉ（ケイ素）は半金属に分類される場合があるが、本明細書ではＳｉを金属に含めるものとする。
　金属酸化物微粒子の平均粒径は特に制限されないが、例えば、１～２００ｎｍが好ましく、５～３０ｎｍがより好ましい。上記範囲内であれば、ハードコート層形成用組成物中での金属酸化物微粒子の分散安定性がより優れる。
　なお、上記平均粒径は、透過型電子顕微鏡にて２０個以上の金属酸化物微粒子の直径を測定して、それらを算術平均して求める。なお、金属酸化物微粒子が真円状でない場合、長径を直径とする。
　金属酸化物微粒子の表面には、必要に応じて、各種官能基が導入されていてもよい。
（その他成分）
　ハードコート層形成用組成物は、上述した成分以外の成分を含んでいてもよい。
　重合性モノマーを含むハードコート層形成用組成物は、ラジカル重合開始剤を含んでいてもよい。ラジカル重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤および熱ラジカル重合開始剤が挙げられる。
　重合性モノマーを含むハードコート層形成用組成物は、カチオン重合開始剤を含んでいてもよい。カチオン重合開始剤としては、光カチオン重合開始剤および熱カチオン重合開始剤が挙げられる。
　加水分解性有機ケイ素化合物を含むハードコート層形成用組成物は、硬化触媒を含んでいてもよい。硬化触媒としては、金属キレート化合物および有機スズ化合物が挙げられる。
　ハードコート層形成用組成物は、溶媒を含んでいてもよい。
　溶媒としては、水であっても、有機溶媒であってもよい。
　有機溶媒の種類は特に制限されず、例えば、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、アミド系溶媒、スルホン系溶媒、および、スルホキシド系溶媒が挙げられる。
　ハードコート層形成用組成物は、必要に応じて、紫外線吸収剤、老化防止剤、塗膜調整剤、光安定剤、酸化防止剤、着色防止剤、染料、充填剤、および、内部離型剤などの種々の添加剤を含んでいてもよい。
　ハードコート層形成用組成物は、上述した各種成分を含む。
　ハードコート層形成用組成物の製造方法は特に制限されず、例えば、上述した成分を一括で混合してもよいし、分割して段階的に各成分を混合してもよい。
　ハードコート層形成用組成物中における重合性モノマーの含有量は特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、ハードコート層形成用組成物中の全固形分（ハードコート層構成成分）に対して、１～１００質量％が好ましく、５～６０質量％がより好ましい。
　なお、全固形分（ハードコート層構成成分）とは、硬化処理によりハードコート層を構成する成分であり、溶媒は固形分に含まれない。また、成分が液状であっても、ハードコート層を構成する成分であれば、固形分として計算する。
　ハードコート層形成用組成物における加水分解性有機ケイ素化合物類の含有量は特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５～７０質量％が好ましく、１～６０質量％がより好ましい。
　ハードコート層形成用組成物中における金属酸化物微粒子の含有量は特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、１０～９０質量％が好ましく、２５～７５質量％がより好ましい。
　ハードコート層形成用組成物の好適態様の一つとしては、多官能エポキシ化合物と、オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物と、重合開始剤とを含むハードコート層形成用組成物（以下、単に「特定組成物」ともいう。）が挙げられる。
　重合開始剤としては、カチオン重合開始剤を用いることが好ましく、光カチオン重合開始剤および熱カチオン重合開始剤を併用してもよい。
　特定組成物中における多官能エポキシ化合物の含有量は特に制限されないが、ハードコート層の耐擦傷性および外観特性がより優れ、かつ、硬化反応速度が速いという点で、特定組成物中の全固形分（ハードコート層構成成分）に対して、１～１５質量％が好ましく、１～１０質量％がより好ましい。
　特定組成物中におけるオキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物の含有量は特に制限されないが、ハードコート層の耐擦傷性がより優れ、かつ、ハードコート層の応力が少ないという点で、特定組成物中の全固形分に対して、３５～７０質量％が好ましく、３５～６０質量％がより好ましい。
　特定組成物中における重合開始剤の含有量は特に制限されないが、ハードコート層の耐擦傷性がより優れる点で、特定組成物中の全固形分に対して、０．１～３．０質量％が好ましく、０．２～１．５質量％がより好ましい。
　特定組成物に金属酸化物粒子が含まれる場合、金属酸化物粒子の含有量は特に制限されないが、ハードコート層の耐擦傷性がより優れる点で、特定組成物中の全固形分に対して、２５～６０質量％が好ましく、３０～５０質量％がより好ましい。
　多官能エポキシ化合物と、オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物とを含むハードコート層形成用組成物に、加水分解性ケイ素化合物類を加えてもよい。加水分解性ケイ素化合物類の含有量は特に制限されないが、ハードコート層と基材との密着性がより優れる点で、特定組成物中の全固形分に対して、１０質量％未満が好ましく、９質量％未満がより好ましい。下限は特に制限されないが、１質量％以上が挙げられる。
　多官能エポキシ化合物およびオキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物の合計質量に対する、オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物の含有量は、ハードコート層の耐擦傷性および外観特性がより優れる点で、７０質量％超が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、８５質量％以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、９８質量％以下とすることができる。
　特定組成物中の全固形分に対する、多官能エポキシ化合物およびオキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物の合計質量は特に制限されないが、ハードコート層の耐擦傷性が優れる点で、３５～７０質量％が好ましい。
　ハードコート層形成用組成物を用いたハードコート層の形成方法としては、ハードコート層形成用組成物をプラスチック基材上（または、プライマー層上）に塗布して塗膜を形成し、塗膜に対して光照射処理および加熱処理などの硬化処理を実施する方法が挙げられる。
　硬化処理としては、光照射処理および加熱処理のいずれか一方のみを実施してもよいし、両方を実施してもよい。両方を実施する場合、光照射処理および加熱処理は、同時に実施してもよいし、一方を実施した後、他方を実施してもよい。
　なお、塗膜を形成した後、必要に応じて、塗膜から溶媒を除去するために、加熱処理などの乾燥処理を実施してもよい。
　ハードコート層形成用組成物を塗布する方法は特に制限されず、公知の方法（例えば、ディッピングコート法、スピンコート法、スプレーコート法、インクジェットコート法、および、フローコート法）が挙げられる。
　形成される塗膜の膜厚は特に制限されず、所定のハードコート層の膜厚となるような膜厚が適宜選択される。
　光照射処理の条件は特に制限されず、使用される重合開始剤の種類によって適した条件が選択される。
　光照射の際の光の種類は特に制限されないが、例えば、紫外線および可視光線が挙げられる。光源としては、例えば、高圧水銀灯が挙げられる。
　光照射の際の積算光量は特に制限されないが、生産性および塗膜の硬化性の点で、１００～３０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１００～２０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
　加熱処理の条件は特に制限されず、使用される重合開始剤の種類によって最適な条件が選択される。
　加熱温度は３０～１００℃が好ましく、加熱時間は５～３６０分が好ましい。
　ハードコート層の膜厚は特に制限されないが、１μｍ以上が好ましく、３μｍ以上がより好ましく、１０μｍ以上がさらに好ましい。なお、膜厚の上限は、例えば、３０μｍ以下とすることができる。
　上記膜厚は平均膜厚であり、その測定方法としては、ハードコート層の任意の５点の膜厚を測定し、それらを算術平均して求める。
　なお、ハードコート層は、ブルーイング剤、光安定剤、および、酸化防止剤などの添加剤を含んでいてもよい。
＜撥水撥油層＞
　光学部材は、撥水撥油層を含んでいてもよい。
　光学部材は、反射防止膜のプラスチック基材側とは反対側の表面上に撥水撥油層を有することが好ましい。なかでも、光学部材は、最外層に撥水撥油層を有することが好ましい。
　撥水撥油層は光学部材の表面エネルギーを低下させ、光学部材の汚染防止の機能を向上させるとともに、光学部材の表面のすべり性を向上させ、その結果として、光学部材の耐摩耗性を向上させる。
　撥水撥油層を構成する材料は特に制限されず、例えば、フッ素含有化合物（フッ素原子を含む化合物）、および、ケイ素含有化合物（ケイ素原子を含む化合物）が挙げられる。なかでも、撥水撥油性がより優れる点で、撥水撥油層は、フッ素含有化合物を含むことが好ましく、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物、その加水分解物、および、その加水分解縮合物からなる群から選択される少なくとも１種を含むことがより好ましい。
　なお、撥水撥油層を構成する材料は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
　フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物とは、水素原子の一部または全部がフッ素原子により置換されたアルキル基を含有する有機ケイ素化合物であり、加水分解性基を有する。
　ここで、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応および縮合反応を進行し得る基であり、例えば、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシルオキシ基、アルケニルオキシ基、および、イソシアネート基が挙げられる。なお、加水分解性基が１つのケイ素原子に複数直結する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
　フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物の加水分解物とは、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物中の加水分解性基が加水分解して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解物は、加水分解性基のすべてが加水分解されているもの（完全加水分解物）であっても、加水分解性基の一部が加水分解されているもの（部分加水分解物）であってもよい。つまり、上記加水分解物は、完全加水分解物、部分加水分解物、または、これらの混合物であってもよい。
　フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物の加水分解縮合物とは、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物中の加水分解性基が加水分解し、得られた加水分解物を縮合して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解縮合物としては、すべての加水分解性基が加水分解され、かつ、加水分解物がすべて縮合されているもの（完全加水分解縮合物）であっても、一部の加水分解性基が加水分解され、一部の加水分解物が縮合しているもの（部分加水分解縮合物）であってもよい。つまり、上記加水分解縮合物は、完全加水分解縮合物、部分加水分解縮合物、または、これらの混合物であってもよい。
　撥水撥油層の形成方法は特に制限されず、使用する材料、所望の性能または厚さなどによって任意に選択できる。例えば、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水撥油層形成用組成物をレンズ基材上に塗工して、必要に応じて硬化処理を施す方法、および、真空蒸着法が挙げられる。
　光学部材が有する撥水撥油層の厚さは特に制限されないが、５～３５ｎｍが好ましい。厚さが上記の範囲内であれば撥水撥油性に優れた光学部材となる。
　以下、上記形態に関して実施例および比較例によりさらに詳しく説明するが、これらの実施例によって何ら制限されるものではない。
＜実施例１＞
　プラスチック基材として、屈折率１．６０のチオウレタン系合成樹脂基板を準備した。
　次に、プラスチック基材の両面上に、屈折率１．６７のポリウレタンプライマー層（厚み：１μｍ）、および、屈折率１．６７のシリコン系ハードコート層（厚み：３μｍ）を順次形成した。なお、屈折率１．６７のシリコン系ハードコート層は、エポキシ基を有する有機ケイ素化合物（その加水分解物、および、その加水分解縮合物を含む）と、ＴｉＯ２を主体とした複合酸化物微粒子を含むハードコート組成物を熱硬化して形成されたものである。
　次に、得られたプラスチック基材を真空蒸着装置（シンクロン社製、「ＡＣＥ－１１５０」）の真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、圧力が１．３×１０－３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングをハードコート層上に６０秒間施した後、以下のすべての層に加速電圧５００Ｖ、加速電流２５０ｍＡの条件でＡｒイオンビームを照射しながら、後述する表１に示す物理的厚みの第１層から第８層までを電子ビーム法にて積層して、反射防止膜を形成した。なお、反射防止膜は、プラスチック基材の両面に形成した。
　次に、反射防止膜を有するプラスチック基材を真空蒸着装置から取り出し、ディッピング法により反射防止膜上に撥水撥油層を形成した。撥水撥油層に使用される材料は、オプツールＡＥＳ４Ｅ（フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物溶液、ダイキン工業製）とＫＹ１６４（信越化学製）との混合液を用い、１５ｍｍ／ｓｅｃのスピードで引き上げた。
　以上により、プラスチック基材の両面上に、それぞれ、プライマー層と、ハードコート層と、反射防止膜と、撥水撥油層とを有する光学部材を得た。
＜実施例２～１０＞
　後述する表１に示すように、反射防止膜を構成する層数、および、反射防止膜を構成する各層の物理的厚みを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学部材を得た。
＜実施例１１＞
　屈折率１．６７のポリウレタンプライマー層（厚み：１μｍ）の代わりに、屈折率１．５０ポリウレタンのプライマー層（厚み：１μｍ）を使用し、屈折率１．６７のシリコン系ハードコート層（厚み：３μｍ）の代わりに、屈折率１．５０のシルセスキオキサン系ハードコート層（厚み：１０μｍ）を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学部材を得た。なお、屈折率１．５０のシルセスキオキサン系ハードコート層は、オキセタニル基を有するシルセスキオキサンと、多官能エポキシ化合物と、エポキシ基を有する有機ケイ素化合物の加水分解物と、コロイダルシリカ（ＳｉＯ２微粒子）を含むハードコート組成物を、紫外線および熱硬化して形成されたものである。
　次に、反射防止膜を構成する各層の物理的厚みを表１に示すように調整した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学部材を得た。
＜実施例１２＞
　プラスチック基材として、屈折率１．６０のチオウレタン系合成樹脂基板に、実施例１と同様のプライマー層、および、ハードコート層を順次形成した。
　次に、得られたプラスチック基材を真空蒸着装置（サティス・ロー社製、「ＭＣ－１２００ＤＬＸ」）の真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、圧力が３．５×１０－３Ｐａになるまで排気し、アノード電圧１２０Ｖ、アノード電流３．５Ａの条件でＡｒイオンビームクリーニングをハードコート層上に６０秒間施した後、以下の第１層から第７層にアノード電圧１２０Ｖ、アノード電流３．５Ａの条件でＡｒイオンビームを照射しながら、後述する表２に示す物理的厚みの第１層から第７層までを電子ビーム法にて積層し、第８層にはアノード電圧１２０Ｖ、アノード電流２．０Ａの条件でＯ２イオンビームを照射しながら、後述する表２に示す物理的厚みの第８層を電子ビーム法にて積層し、第９層にアノード電圧１２０Ｖ、アノード電流３．５Ａの条件でＡｒイオンビームを照射しながら、後述する表２に示す物理的厚みの第９層を電子ビーム法にて積層し、反射防止膜を形成した。なお、反射防止膜は、プラスチック基材の両面に形成した。
　次に、反射防止膜を有するプラスチック基材を真空蒸着装置から取り出し、ディッピング法により反射防止膜上に撥水撥油層を形成した。撥水撥油層に使用される材料は、オプツールＡＥＳ４Ｅ（フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物溶液、ダイキン工業製）とＫＹ１６４（信越化学製）との混合液を用い、１５ｍｍ／ｓｅｃのスピードで引き上げた。
　以上により、プラスチック基材の両面上に、それぞれ、プライマー層と、ハードコート層と、反射防止膜と、撥水撥油層とを有する光学部材を得た。
＜実施例１３＞
　プラスチック基材として、屈折率１．６０のチオウレタン系合成樹脂基板に、実施例１２と同様のプライマー層、および、ハードコート層を順次形成した。
　次に、反射防止膜を構成する各層の物理的厚みを表２に示すように調整した以外は、実施例１２と同様の手順に従って、光学部材を得た。
＜比較例１＞
　反射防止膜を形成しなかった以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学部材を作製した。
＜比較例２～９＞
　後述する表３に示すように、反射防止膜を構成する各層の物理的厚みを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学部材を得た。
＜評価＞
（耐擦傷性評価（Ｂａｙｅｒ試験方法））
　４インチの距離の往復運動を１サイクルとした際に、１分間に１５０サイクルの往復運動を実施する揺動試験装置に、各実施例および比較例にて作製された光学部材と比較用標準品（ノンコートＣＲ３９）の２枚の光学部材を凸面が上向きになるようにトレイの底面にセットし、５００ｇのアランダムをトレイに注ぎ、４分間揺動させた。
　揺動完了後、揺動試験装置から光学部材を取り出し、ＢＹＫ製ヘイズガードプラスにより、各実施例および比較例の光学部材と比較用標準品とのヘーズ値を測定した。
　光学部材のヘーズ値をＨｓ、比較用標準品のヘーズ値をＨｃｒとし、それらの比Ｒ（Ｒ＝Ｈｓ／Ｈｃｒ）を求めた。比Ｒが１０．０以上の場合を合格とした。
（密着性評価）
　各実施例および比較例の手順において反射防止膜を形成した後であって、撥水撥油層を形成する前の光学部材を取り出した。取り出された光学部材の反射防止膜にカッターによって、１辺が１ｃｍの正方形の内側に１００マスの正方形を形成するようにキザミを入れた。引き続き、形成された１００マスのキザミが入れられた反射防止膜上にセロハンテープを付着させ、その後すぐに、勢いよくセロハンテープを垂直に引きはがす動作を５回繰りした。上記動作終了後の反射防止膜を観察して、１００マスの剥離が生じているかどうかを確認した。剥離が無い場合を「Ａ」、一部でも剥離がある場合を「Ｂ」とする。
（反射防止性評価）
　オリンパス製ＵＳＰＭ－ＲＵにより、作製された光学部材の凸面の３８０～７８０ｎｍまでの波長の反射率を測定した。得られた反射率より視感反射率Ｒｖを求め、Ｒｖ＜１．０％を「Ａ」、１．０％≦Ｒｖ＜２．０％を「Ｂ」、２．０％≦Ｒｖ＜３．０％を「Ｃ」、３．０％≦Ｒｖを「Ｄ」とした。
　表１～３中のＺｒＯ２層の屈折率は２．００であり、ＳｉＯ２層の屈折率は１．４７であった。
　表１～３中、「層構成」欄は、反射防止膜を構成する層を示す。なお、「層構成」欄においては、上からプラスチック基材側に配置される層を順に示す。また、「Ｈ１」「Ｈ２」などはプラスチック基材側から数えた高屈折率層の順番を表し、「Ｌ１」「Ｌ２」などはプラスチック基材側から数えた低屈折率層の順番を表す。例えば、「１：ＺｒＯ２（Ｈ１）」は、反射防止膜中においてプラスチック基材側から１番目に配置されるＺｒＯ２層であり、プラスチック基材側から数えて１番目の高屈折率層に該当する。また、「６：ＳｉＯ２層（Ｌ３）」は、反射防止膜中においてプラスチック基材側から６番目に配置されるＳｉＯ２層であり、プラスチック基材側から数えて３番目の低屈折率層に該当する。
　表１～３中、「層構成」欄の各数値は、各層の物理的厚みを示す。例えば、「１：ＺｒＯ２（Ｈ１）」欄の「８０」は、第１高屈折率層の物理的厚みが８０ｎｍであることを意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
　なお、上記比較例９においては、「３：ＺｒＯ２（Ｈ２）」欄に記載の層が第１高屈折率層（Ｈ１）に該当し、「Ｌ１／Ｈ１」および「（Ｌ１＋Ｌ２）／Ｈ１」中の「Ｈ１」の値としては上記「３：ＺｒＯ２（Ｈ２）」欄を用いた。
　表１に示すように、所定の光学部材であれば、所望の効果が得られることが確認された。
　なかでも、式４（Ｌ２≧Ｌ１）を満たす場合、反射防止性がより優れることが確認された。
　１０　　光学部材
　１２　　プラスチック基材
　１４　　プライマー層
　１６　　ハードコート層
　１８　　反射防止膜
　２０　　撥水撥油層
　２２Ｈ　　第１高屈折率層
　２２Ｌ　　第１低屈折率層
　２４Ｈ　　第２高屈折率層
　２４Ｌ　　第２低屈折率層
　２６Ｈ　　第３高屈折率層
　２６Ｌ　　第３低屈折率層
　２８Ｈ　　第４高屈折率層
　２８Ｌ　　第４低屈折率層

Claims (7)

  1. 　プラスチック基材と、
    　前記プラスチック基材上に配置されたハードコート層と、
    　前記ハードコート層上に配置された反射防止膜と、を含み、
    　前記反射防止膜は、交互に積層された高屈折率層および低屈折率層を含み、
    　前記高屈折率層は、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、ニオブ、タンタル、および、ランタンからなる群から選択される少なくとも１種の酸化物を含み、
    　前記低屈折率層は、ケイ素の酸化物、フッ化カルシウム、および、フッ化マグネシウムからなる群から選択される少なくとも１種を含み、
    　前記反射防止膜中における、前記高屈折率層および前記低屈折率層の合計層数が６層以上であり、
    　前記反射防止膜中において最も前記プラスチック基材側に配置された層が、前記高屈折率層であり、
    　前記反射防止膜中において最も前記プラスチック基材側に配置された前記低屈折率層を第１低屈折率層とし、前記第１低屈折率層の次に前記プラスチック基材側に配置された前記低屈折率層を第２低屈折率層とし、最も前記プラスチック基材側に配置された前記高屈折率層を第１高屈折率層とした場合、式１～３の関係を満たす、光学部材。
    　式１　　Ｌ１＋Ｌ２≧４００ｎｍ
    　式２　　Ｌ１／Ｈ１≦２５．０
    　式３　　（Ｌ１＋Ｌ２）／Ｈ１≦５０．０
    　Ｌ１は、前記第１低屈折率層の物理的厚みを表す。Ｌ２は、前記第２低屈折率層の物理的厚みを表す。Ｈ１は、前記第１高屈折率層の物理的厚みを表す。
  2. 　式４の関係を満たす、請求項１に記載の光学部材。
    　式４　　Ｌ２≧Ｌ１
  3. 　前記高屈折率層が、酸化ジルコニウムを含む、請求項１または２に記載の光学部材。
  4. 　前記低屈折率層が、二酸化ケイ素を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学部材。
  5. 　前記反射防止膜の前記プラスチック基材側とは反対側の表面上に撥水撥油層を有する、請求項１～４のいずれか１項に記載の光学部材。
  6. 　前記反射防止膜が、ＳｎＯ２層、または、ＩＴＯ層をさらに含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の光学部材。
  7. 　眼鏡レンズに用いられる、請求項１～６のいずれか１項に記載の光学部材。
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