WO2013161969A1 - ゴム成形体の製造方法 - Google Patents

Abstract

　従来の架橋剤として用いられていた化合物とは異なる化合物を利用してゴム成形体を製造する方法を提供する。　ゴム成形体の製造方法であって、ゴム成分と、下記の式（Ｉ）で示される構造を有し、前記ゴム成分の架橋剤として使用される化合物と、を含む、硫黄含有量が２．０ｗｔ％以下であるゴム組成物において、前記化合物を分解させることにより、前記ゴム成分の架橋を行う架橋工程を含む、ことを特徴とするゴム成形体の製造方法。　α－β－γ・・・（Ｉ） （式（Ｉ）において、αは一価の有機基であり、βは－Ｎ＝Ｎ－であり、γは水素もしくは一価の有機基である。）

Description

ゴム成形体の製造方法

　本発明は、ゴム成形体の製造方法に関する。

　例えば、ブタジエンゴムに代表されるような、構造中にＣ＝Ｃ不飽和炭化水素を有する合成ゴムは、ブタジエンゴムを構成するポリブタジエン同士を架橋剤によって互いに架橋することによって、優れた弾性が付与される。

　ゴム組成物を架橋する方法としては、古くから硫黄化合物が架橋剤として用いられることが一般的に知られている。硫黄化合物が架橋剤として用いられた場合、硫黄架橋されたものはＣ－Ｓの共有結合をすることとなる。そして、Ｃ－Ｓ共有結合はとても強固な結合であるため、硫黄化合物によって架橋された合成ゴムは、弾性改質のみならず優れた耐熱性が付与されるという点で優れたものである。

　例えば、特許文献１には、結合アクリロニトリル量が３１％以上のＮＢＲの１００重量部に対して、５～２５重量部の硫黄、５～２００重量部のフェノールレジン及び５～４０重量部の発泡剤を配合してなる発泡性ゴム組成物を加熱、発泡せしめて得られた、０．２５よりも大なるｔａｎδを有する発泡体からなることを特徴とする制振材について記載がされている。

　また、Ｃ－Ｃ共有結合はＣ－Ｓ共有結合よりも、さらに強固な結合でものであるため、更なる耐熱性の向上のために、架橋剤として過酸化物が用いられることが知られている。

　例えば、特許文献２には、ニトリル含有量３６％以下のＮＢＲまたは水素化ＮＢＲと、焼成クレーおよび有機過酸化物を含有してなることを特徴とするゴム組成物について記載がされている。

特開平１１－４９８９６号公報 特開２００１－３５４８０６号公報

　ところで、近年、ゴム成形体からの遊離硫黄を低減させることが、例えば自動車産業等から強く要請されている。このため、架橋剤として硫黄化合物を用いることなく、ゴム成形体を製造する方法の確立が望まれている。

　また、過酸化物をゴム組成物における架橋剤として使用する方法は、架橋反応において発生するラジカル（ＣＯＯ・）は大気中の酸素と容易に反応するため、大気雰囲気化で反応を行うことができず、例えば窒素等の不活性ガス雰囲気化（イナート雰囲気化）で反応を行うこととなる。

　このため、一般的に過酸化物架橋を行うには、不活性ガスにて閉じられた空間を準備することが必要である。そして、過酸化物架橋を、閉じられた空間で行う場合には、おのずと生産方式はバッチ方式を採用することとなり、いわゆる連続方式の生産工程を採ることが困難なものとなる。また、常に反応場を不活性ガス雰囲気化（イナート雰囲気化）としさえすれば、解放空間にて過酸化物架橋を行ことが理論的には可能であるが、所定の不活性ガスを供給し続けることが必要となり、ゴム成形体の製造コストは増大することとなる。上記のような事情を鑑みて、架橋剤として過酸化物を用いることなく、ゴム成形体を製造する方法の確立が望まれている。

　上記のような状況を踏まえ、発明者らは様々な化合物についてゴム組成物の架橋剤として利用する新たな方法について、また、ゴム成形体の製造方法について鋭利検討を行った。

　本発明は、従来の架橋剤として用いられていた化合物とは異なる化合物を利用してゴム成形体を製造する方法を提供することを目的の一つとする。また、本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述によって明らかにする。

　上記課題を解決するための本発明の一実施形態に係るゴム成形体の製造方法は、ゴム成形体の製造方法であって、ゴム成分と、下記の式（Ｉ）で示される構造を有し、前記ゴム成分の架橋剤として使用される化合物と、を含む、硫黄含有量が２．０ｗｔ％以下であるゴム組成物において、前記化合物を分解させることにより、前記ゴム成分の架橋を行う架橋工程を含む、ことを特徴とする。

　α－β－γ・・・（Ｉ）
（式（Ｉ）において、αは一価の有機基であり、βは－Ｎ＝Ｎ－であり、γは水素もしくは一価の有機基である。）

　また、前記ゴム組成物は、前記化合物以外の架橋剤を含まないこととしてもよい。また、前記ゴム組成物は、硫黄化合物、過酸化物、キノイド化合物、フェノール樹脂化合物、マレイミド、及びポリサルファイドを、含まないこととしてもよい。また、前記ゴム組成物は、前記化合物に由来するラジカルを捕捉するラジカル捕捉剤を、含まないこととしてもよい。また、前記ゴム組成物は、アミン化合物、フェノール化合物、及び酸化亜鉛を、含まないこととしてもよい。また、前記架橋工程は、大気雰囲気下において行うこととしてもよい。また、前記架橋工程は、前記化合物を分解させることにより、前記ゴム組成物の発泡及び前記ゴム成分の架橋を行い、前記ゴム成形体は、発泡体であることとしてもよい。また、前記ゴム成分は、重量平均分子量が１０００～１００００００であることとしてもよい。

　本発明によれば、従来の架橋剤として用いられていた化合物とは異なる化合物を利用してゴム成形体を製造する方法が提供される。

　本発明は、下記の式（Ｉ）で示される構造を有する化合物を、ゴム組成物の架橋剤として使用することを特徴とする。

　α－β－γ・・・（Ｉ）
（式（Ｉ）において、αは一価の有機基であり、βは－Ｎ＝Ｎ－であり、γは水素もしくは一価の有機基である。）

　ここで、架橋剤とは、ゴム組成物に含有される高分子であるゴム成分同士を連結（架橋）し、物理的、化学的性質を変化させる反応を引き起こす化合物である。

　例えば、上記式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物は、エネルギー（エネルギーについては後に詳細に説明を行う）が与えられることによって、分解する。上記式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物は、分解することによって式（Ｉ）中の一価の有機基であるαのラジカルを発生させ、ゴム組成物に含まれるゴム成分の架橋を行う架橋反応を引き起こす。すなわち、ゴム組成物に含まれるゴム成分は、αのラジカルと反応する。これによって、ゴム組成物に含まれるゴム成分同士は互いに架橋する。

　例えば、αのラジカルは、ゴム成分同士の架橋反応における、架橋開始剤として作用することとしてもよい。すなわち、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物を、ゴム組成物の架橋開始剤として使用することとしてもよい。この場合、式（Ｉ）中の構造αに由来する構造は、ゴム成形体の構造中に含まれることはない。

　また、例えば、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物は、ゴム組成物の共架橋剤として使用することとしてもよい。すなわち、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物を、ゴム組成物の共架橋剤として使用することとしてもよい。この場合、成形されるゴム成形体は、その構造中の架橋部分に少なくとも式（Ｉ）中の構造αに由来する構造を含有することとなる。そして、当該構造αは、ゴム成形体の架橋部分以外の部分には含まれないこととなる。

　また、上記式（Ｉ）中のγは、一価の有機基であることとしてもよい。例えば、上記式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物にエネルギーを与えることによって、当該化合物は分解する。上記式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物は、分解することによって式（Ｉ）中の一価の有機基であるγのラジカルを発生させ、ゴム組成物に含まれるゴム成分の架橋を行う架橋反応を引き起こす。すなわちゴム組成物に含まれるゴム成分は、γのラジカルと反応する。これによって、ゴム組成物に含まれるゴム成分同士は互いに架橋することとなる。

　例えば、γのラジカルは、ゴム成分同士の架橋反応における、架橋開始剤として作用することとしてもよい。すなわち、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物を、ゴム組成物の架橋開始剤として使用することとしてもよい。この場合、式（Ｉ）中の構造γに由来する構造は、ゴム成形体の構造中に含まれることはない。

　また例えば、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物は、ゴム組成物の共架橋剤として使用することとしてもよい。すなわち、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物を、ゴム組成物の共架橋剤として使用することとしてもよい。この場合、成形されるゴム成形体は、その構造中の架橋部分に少なくとも式（Ｉ）中の構造γに由来する構造を含有することとなる。そして、当該構造γは、ゴム成形体の架橋部分以外の部分には含まれないこととなる。

　本方法において、ゴム組成物に含まれるゴム成分の架橋に要するエネルギーは、式（Ｉ）中に含まれる一価の有機基αのラジカルが発生するエネルギーとほぼ一致する。すなわち、ゴム成分を架橋するのに要するエネルギーは、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物の分解に要するエネルギーとほぼ一致する。そして、化合物の分解に要するエネルギーは、その化合物の構造に応じた固有の値をとる。

　例えば、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物の分解に要するエネルギーは、式（Ｉ）中のβと直接結合する炭素原子との結合を切断するエネルギーとほぼ一致する。ここで、複数種の架橋剤が併用された場合、それぞれの架橋剤の分解に要するエネルギーに達した時点にてゴム組成物に含まれるゴム成分の架橋反応が別々に開始されることとなり、ゴム成形体の架橋が不均一なものとなるおそれがある。

　したがって、本方法においては、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物以外の化合物を、架橋剤として併用しないことが好ましい。すなわち、ゴム組成物は、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物以外の架橋剤を含まないこととしてもよい。

　また、本方法は、上記式（Ｉ）で示される構造を有する化合物のみをゴム組成物の架橋剤として使用する方法とすることとしてもよい。また、本方法は、硫黄化合物、過酸化物、キノイド化合物、フェノール樹脂化合物、マレイミド、及びポリサルファイドを含まず、上記式（Ｉ）で示される構造を有する化合物をゴム組成物の架橋剤として使用する方法とすることとしてもよい。また、本発明は、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物の一種のみをゴム組成物の架橋剤として使用する方法とすることとしてもよい。

　ここで、本発明における過酸化物とは、構造中に過カルボン酸構造（－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｏ－）等に含まれるような、ペルオキシド構造（－Ｏ－Ｏ－）を有する化合物である。また、キノイド化合物とは、例えば、ｐ－キノンジオキシム（バルノックＧＭ－Ｐ　大内新興化学工業社製）、ｐ，ｐ´－ジベンゾイルキノンジオキシム（バルノックＤＧＭ　大内新興化学工業社製）が挙げられる。また、フェノール樹脂化合物とは、フェノール、あるいはクレゾールなどのフェノール類と、ホルムアルデヒドと、を原料として触媒下において合成して得た樹脂であり、例えば、アルキルフェノール樹脂（タッキロール２０１　田岡化学工業社製）、ハロゲン化アルキルフェノールホルムアルデヒド樹脂（タッキロール２５０－Ｉ　田岡化学工業社製）が挙げられる。

　そして、例えば、過酸化物をゴム組成物の架橋剤として使用した方法は、当該過酸化物に由来するＣＯＯラジカル（ＣＯＯ・）が酸素によって容易に失活してしまうため、不活性ガス雰囲気化（イナート雰囲気化）にて架橋反応を行うことが必要である。すなわち、過酸化物をゴム組成物の架橋剤として使用した方法は、大気雰囲気下（大気雰囲気下については後に詳細に説明を行う）にて反応を行うことはできない。

　これに対し、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物をゴム組成物の架橋剤として使用する方法は、過酸化物に由来するＣＯＯラジカル（ＣＯＯ・）を利用した従来の架橋方法とは異なるものであるため、大気雰囲気下にて行うこととしてもよい。

　以下、上記にて説明した、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物をゴム組成物の架橋剤として使用することを特徴とする方法を適用したゴム成形体の製造方法の具体的な態様について、詳細に説明を行う。

　本実施形態に係るゴム成形体の製造方法は、ゴム成分と、上記式（Ｉ）で示される構造を有し、前記ゴム成分の架橋剤として使用される化合物と、を含む、硫黄含有量が２．０ｗｔ％以下であるゴム組成物において、前記化合物を分解させることにより、前記ゴム成分の架橋を行う架橋工程を含む、ことを特徴とする。

　はじめに、本実施形態においてゴム組成物の架橋剤として使用される、上記式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物について説明を行う。

　式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物は、分解することによって、少なくともαのラジカルを発生する。すなわち、αは、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物を分解させたときに、ラジカルを発生させる一価の有機基である。より具体的に説明を行うと、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物は、エネルギーが与えられるとα－β間、β－γ間の結合を切断し、少なくともαのラジカルを発生する。すなわち、αは、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物を含む、ゴム組成物にエネルギーを与え、前記化合物を分解させたときに、ラジカルを発生させる一価の有機基である。

　ここで、式（Ｉ）にて示される化合物における一価の有機基であるαは、その構造中に少なくとも一つの電子吸引基を有することとしてもよい。αがその構造中に少なくとも一つの電子吸引基を有することによって、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物は容易に分解し、結果、αのラジカルは発生し易くなる。すなわち、αがその構造中に少なくとも一つの電子吸引基を有することによって、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物は加熱等、外部からエネルギーが加えられることで、αとβとの間の結合を容易に切断することとなる。

　そして、αのラジカルが容易に発生されることとなると、ゴム組成物に含まれるゴム成分の架橋は促進されることとなる。

　αの構造中に含まれる電子吸引基としては、例えば、アミノ基、ニトリル基、カルボキシル基、ニトロソ基、アルコキシ基、ハロゲン基、及びチオニル基等の一価の複素環構造を有する官能基等が挙げられる。すなわち、αが有する電子吸引基は、アミノ基、ニトリル基、カルボキシル基、ニトロソ基、アルコキシ基、ハロゲン基、及び、一価の複素環構造を有する官能基からなる群から選択される官能基であることとしてもよい。また、ハロゲン基とは、Ｂｒ基、Ｆ基、Ｃｌ基、または、Ｉ基であることとしてもよい。

　また、これらの電子吸引基が、式（Ｉ）にて示される化合物が有するαの構造中において、βと直接結合する炭素原子と直接結合することは更に好ましい。このような場合、式（Ｉ）にて示される化合物におけるαとβとの間の結合は、外部よりエネルギーが付与された際に、より切れやすいものとなり、αのラジカルをより速やかに生成することとなる。結果、ゴム組成物の架橋が速やかに行われることとなるからである。

　以下に、式（Ｉ）にて示される化合物が有するαの構造の具体例を下記式（α－１）乃至（α－５）に示す。式（α－１）乃至（α－５）にて示されるαは、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物を分解させたときに、ラジカルを発生させる一価の有機基である。なお、下記具体例は単に一例であり、αの構造はこれらに限定されるものではない。

　加えて、上記式（Ｉ）にて示される化合物における、水素、もしくは、一価の有機基であるγは、一価の有機基であることとしてもよい。また、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物は、分解することによって、γのラジカルを発生することとしてもよい。すなわち、γは、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物を分解させたときに、ラジカルを発生させる一価の有機基であることとしてもよい。

　より具体的に説明を行うと、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物は、エネルギーが与えられるとβ－γ間の結合を切断し、γのラジカルを発生することとしてもよい。すなわち、γは、水素、もしくは、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物を含むゴム組成物にエネルギーを与え、前記化合物を分解させたときにラジカルを発生させる一価の有機基、であることとしてもよい。または、γは、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物を含むゴム組成物にエネルギーを与え、前記化合物を分解させたときに、ラジカルを発生させる一価の有機基であることとしてもよい。

　そして、γが一価の有機基である場合、γの構造中に少なくとも一つの電子吸引基を有することとしてもよい。γがその構造中に少なくとも一つの電子吸引基を有することによって、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物は容易に分解し、結果、γのラジカルは発生し易くなる。すなわち、γがその構造中に少なくとも一つの電子吸引基を有することによって、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物は加熱等、外部からエネルギーが加えられることで、βとγとの間の結合を容易に切断することとなる。

　γの構造中に含まれる電子吸引基としては、例えば、アミノ基、ニトリル基、カルボキシル基、ニトロソ基、アルコキシ基、ハロゲン基、及びチオニル基等の一価の複素環構造を有する官能基等が挙げられる。すなわち、γが有する電子吸引基は、アミノ基、ニトリル基、カルボキシル基、ニトロソ基、アルコキシ基、ハロゲン基、及び、一価の複素環構造を有する官能基からなる群から選択される官能基であることとしてもよい。また、ハロゲン基とは、Ｂｒ基、Ｆ基、Ｃｌ基、または、Ｉ基であることとしてもよい。

　また、これらの電子吸引基が、式（Ｉ）にて示される化合物が有するγの構造中において、βと直接結合する炭素原子と直接結合することは更に好ましい。このような場合、式（Ｉ）にて示される化合物におけるβとγとの間の結合は、外部よりエネルギーが付与された際に、より切れやすいものとなり、γのラジカルをより速やかに生成することとなる。結果、ゴム組成物の架橋が速やかに行われることとなるからである。

　以下に、式（Ｉ）にて示される化合物が有するγの構造の具体例を下記式（γ－１）乃至（γ－５）に示す。式（γ－１）乃至（γ－５）にて示されるγは、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物を分解させたときに、ラジカルを発生させる一価の有機基である。なお、下記具体例は単に一例であり、γの構造はこれらに限定されるものではない。

　本実施形態に係るゴム成形体の製造方法において、ゴム組成物に与えられるエネルギーは、エネルギー線の照射によって与えられることとしてもよいし、加熱によって与えられることとしてもよい。また、上記エネルギー線とは、例えば、電磁波、放射線、電子線、紫外線、赤外線である。

　すなわち、本実施形態に係るゴム成形体の製造方法における架橋工程は、上記式（Ｉ）で示される構造を有する化合物を、エネルギーを与え分解させることにより、ゴム成分の架橋を行うこととしてもよいし、上記式（Ｉ）で示される構造を有する化合物を、加熱し分解させることにより、ゴム成分の架橋を行うこととしてもよいし、上記式（Ｉ）で示される構造を有する化合物を、エネルギー線の照射及び加熱し分解させることにより、ゴム成分の架橋を行うこととしてもよい。

　また、本実施形態に係るゴム成形体の製造方法における架橋工程は、上記式（Ｉ）で示される構造を有する化合物を、当該化合物の分解温度以上に加熱し、分解させることにより、ゴム成分の架橋を行うこととしてもよい。

　ここで、化合物の分解温度とは、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物のみが単独で加熱された際の、式（Ｉ）のα―βの間の結合及び／又はβ―γの間の結合が切断される温度をいう。ここで、化合物の分解温度については後に詳細に説明を行うが、本発明における化合物の分解温度は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）（リガク社製　ＴＰＡ　ＳＣＩＩ２）を使用し、吸熱開始温度（変極点）を測定することにより求められたものである。すなわち、ＤＳＣを用いて測定された吸熱開始温度（変極点）において式（Ｉ）のα―βの間の結合及び／又はβ―γの間の結合が切断されるものとして、化合物の分解温度とした。

　ところで、本実施形態に係るゴム成形体の製造方法におけるゴム組成物は、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物に由来するラジカルを捕捉するラジカル捕捉剤を含まないこととしてもよい。上記説明したように、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物に由来するラジカルは、αのラジカル及び／又はγのラジカルである。ここで、ラジカル補足剤とは、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物に由来するラジカルを捕捉することによって、ゴム成分と、当該ラジカルとの反応を阻害する化合物である。

　式（Ｉ）で示される構造を有する化合物に由来するラジカルを捕捉するラジカル捕捉剤は、例えば、アミン化合物、フェノール化合物、酸化亜鉛等が挙げられる。すなわち、本実施形態に係るゴム成形体の製造方法におけるゴム組成物は、アミン化合物、フェノール化合物、及び酸化亜鉛を含まないこととしてもよい。ここで、上記の説明におけるアミン化合物とは、アンモニアの水素原子の少なくとも１つを炭化水素基で置換した化合物であり、例えば尿素、ビ尿素が挙げられる。また、フェノール化合物とは、フェノールの水素原子の少なくとも１つを炭化水素基で置換した化合物である。

　ここで、上記説明を行ったラジカル捕捉剤のうちの幾つかは、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物の分解温度を低下させる。すなわち、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物の分解温度は、例えば、酸化亜鉛や尿素等の化学物質と混合されることによって低下する。

　換言すると、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物は、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物の分解温度を低減する化学物質との共存下においては、架橋剤としての作用が阻害され、すなわち、架橋剤として使用することができないことがある。

　よって、本実施形態のゴム成形体の製造方法に用いられるゴム組成物は、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物のみが単独で加熱された際の、式（Ｉ）のα―βの間の結合及び／又はβ―γの間の結合が切断される温度を低下させる化学物質を含まない、こととしてもよい。

　また、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物のみが単独で加熱された際の、式（Ｉ）のα―βの間の結合及び／又はβ―γの間の結合が切断される温度を低下させる化学物質としては、アミン化合物、及び一部の金属酸化物が挙げられる。

　よって、本実施形態のゴム成形体の製造方法に用いられるゴム組成物は、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物のみが単独で加熱された際の、式（Ｉ）のα―βの間の結合及び／又はβ―γの間の結合が切断される温度を低下させる、金属酸化物を含まない、及び／又は、アミン化合物を含まないこととしてもよい。

　なお、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物に由来するラジカルを捕捉するラジカル捕捉剤、あるいは、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物のみが単独で加熱された際の、式（Ｉ）のα―βの間の結合及び／又はβ―γの間の結合が切断される温度を低下させる化学物質は、本発明の効果を損なわない範囲においては、ゴム組成物に添加されることとしてもよい。

　また、ゴム組成物においてラジカル捕捉剤として作用せず、式（Ｉ）のα―βの間の結合及び／又はβ―γの間の結合が切断される温度を低下させる化学物質としては、二酸化マンガン、酸化銅、酸化カルシウム、過酸化カルシウム、過塩素酸カリウム、硝酸カリウム、活性炭等が挙げられる。本実施形態に用いられるゴム組成物においては、二酸化マンガン、酸化銅、酸化カルシウム、過酸化カルシウム、過塩素酸カリウム、硝酸カリウム、又は、活性炭を含むこととしてもよい。

　次に、本実施形態に係るゴム成形体の製造方法において、複数種の架橋剤を併用する場合について説明を行う。

　上述のように、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物の分解に要するエネルギーは、その化合物の構造に応じた固有の値をとる。例えば、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物の分解に要するエネルギーは、式（Ｉ）中のα―β間、及び／又は、β―γ間の結合を切断するエネルギーとほぼ一致する。ここで、複数種の架橋剤が併用された場合、それぞれの架橋剤の分解に要するエネルギーに達した時点にてゴム組成物の架橋反応が別々に開始されることとなり、ゴム成形体の架橋が不均一なものとなるおそれがある。

　よって、本実施形態において、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物以外の化合物を、架橋剤として併用しないことが好ましい。よって、本実施形態に係るゴム成形体の製造方法におけるゴム組成物は、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物以外の架橋剤を含まないこととしてもよい。また、例えば、本実施形態におけるゴム組成物は、架橋剤としての、硫黄化合物、過酸化物、キノイド化合物、フェノール樹脂化合物、マレイミド、及びポリサルファイドを含まないこととしてもよい。また、本実施形態におけるゴム組成物は、硫黄化合物、過酸化物、キノイド化合物、フェノール樹脂化合物、マレイミド、及びポリサルファイドを含まないこととしてもよい。また、本実施形態におけるゴム組成物は、架橋剤として上記式（Ｉ）で示される構造を有する化合物の一種のみ含むこととしてもよい。

　次に、本実施形態に係るゴム成形体の製造方法に用いられるゴム組成物について更に詳細に説明を行う。ゴム組成物に含まれるゴム成分は、重量平均分子量が１０００～１００００００であるものであれば適宜用いることができる。ゴム成分の種類については、特に制限はないが、例えば、ニトリルゴム（ニトリルブタジエンラバー：ＮＢＲ）、イソプレンゴム（イソプレンラバー：ＩＲ）、スチレン・ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、もしくは、ブタジエンゴム（ＢＲ）であることとしてもよい。

　すなわち、上記式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物は、ニトリルゴム（ニトリルブタジエンラバー：ＮＢＲ）、イソプレンゴム（イソプレンラバー：ＩＲ）、スチレン・ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、もしくは、ブタジエンゴム（ＢＲ）からなる群から選択されるゴム成分を含むゴム組成物の架橋剤として使用することとしてもよい。

　また、ゴム組成物に含まれるゴム成分は、その構造中に－Ｃ＝Ｃ－にて示される不飽和結合を２０ｗｔ％以上含むこととしてもよい。ゴム組成物に含まれるゴム成分が、その構造中に－Ｃ＝Ｃ－にて示される不飽和結合を２０ｗｔ％以上含むことによって、ゴム組成物の架橋を行う架橋工程を容易に行うことができる。

　また、ゴム組成物に含まれるゴム成分は、その構造中に－Ｃ＝Ｃ－にて示される不飽和結合を３０ｗｔ％以上含むこととしてもよいし、４０ｗｔ％以上含むこととしてもよいし、５０ｗｔ％以上含むこととしてもよいし、５５ｗｔ％以上含むこととしてもよい。ゴム組成物に含まれるゴム成分が、その構造中に－Ｃ＝Ｃ－にて示される不飽和結合を多く含めば含むほど、ゴム組成物の架橋を行う架橋工程をより容易に行うことができる。また、ゴム組成物に含まれるゴム成分は、その構造中に－Ｃ＝Ｃ－にて示される不飽和結合を９０ｗｔ％以下含むこととしてもよい。

　また、ゴム組成物に含まれるゴム成分は、重量平均分子量が、３０００～１００００００であることとしてもよいし、３０００～５０００００であることとしてもよいし、１００００～５０００００であることとしてもよい。ゴム組成物に含まれるゴム成分の重量平均分子量が、１０００以下である場合、架橋反応の進行は抑制される。すなわち、ゴム組成物に含有される高分子であるゴム成分同士を連結（架橋）し、物理的、化学的性質を変化させる反応が抑制され好ましくない。

　本実施形態に係るゴム成形体の製造方法によって得られるゴム成形体は、引張破断伸び特性が、１０％以上（２９６Ｋ）であることとしてもよいし、５０％以上（２９６Ｋ）であることは好ましい。また、当該引張破断伸びは、ＡＳＴＭ　Ｄ－１７０８に準拠して測定されるものである。

　本実施形態に係るゴム成形体の製造方法に用いられるゴム組成物においては、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物は、上述のゴム成分１００重量部に対し、１重量部～３０重量部含有されることとしてもよい。また、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物は、上述のゴム成分１００重量部に対し、３重量部～３０重量部含有されることとしてもよい。

　ここで、本実施形態に係るゴム成形体の製造方法において、ゴム組成物は、硫黄成分を出来るだけ含まないものを用いることが望ましい。これは、ゴム成形体の遊離硫黄を低減する必要があるからである。そして、ゴム成形体の遊離硫黄を低減するためには、ゴム成形体の原料となるゴム組成物に硫黄成分を出来るだけ含まないことが求められる。

　したがって、本実施形態に係るゴム成形体の製造方法におけるゴム組成物に含まれる硫黄含有量は、２．０ｗｔ％以下であることとした。また、ゴム組成物に含まれる硫黄含有量は、１．０ｗｔ％以下であることとしてもよいし、０．２５ｗｔ％以下であることとしてもよい。更に、ゴム組成物は、硫黄成分を含まないこととしてもよい。

　また、ゴム組成物に２．０ｗｔ％以下硫黄化合物が仮に含まれていたとしても、当該硫黄化合物はゴム組成物において配合量が少ないものであるため、架橋剤として作用するものではない。

　上記、ゴム組成物を用いた場合、本実施形態に係るゴム成形体の製造方法によって得られるゴム成形体は、硫黄含有量が２．０ｗｔ％以下のゴム成形体である。また、本発明のゴム成形体の製造方法によって得られるゴム成形体は、硫黄含有量が１．０ｗｔ％以下のゴム成形体であることはより好ましく、硫黄含有量が０．２５ｗｔ％以下のゴム成形体であることは特に好ましい。

　ゴム成形体に硫黄が２．０ｗｔ％を超えて含まれると、当該ゴム成形体と接触した金属部品は変色、腐食し、結果として電気的な抵抗が増加する、いわゆる被毒の減少を引き起こすおそれがある。

　ここで、ゴム成形体の硫黄含有量の分析方法について説明を行う。本発明におけるゴム成形体の硫黄含有量の測定は、イオンクロマトグラフィー（日本ダイオネクス社製　イオンクロマトグラフ　ＩＣＳ－１５００）および燃焼前処理装置（三菱化学アナリテック社製　燃焼前処理装置　ＡＱＦ－１００）を使用し、分離カラムは無機陰イオンカラム（日本ダイオネクス社製　ＩｏｎＰａｃ　ＡＳ１２Ａ）を用い、電気伝導度ディテクターを用いて、ゴム成形体中に含まれる硫黄成分を、イオンクロマトグラフィーを用いて分離、定量を行った。

　なお、上記説明を行ったゴム成形体の硫黄含有量の分析方法は、上記方法に限られず、例えば、他のカラムを用いて硫黄成分の分離を行うこととしてもよい。

　また、本実施形態に係るゴム成形体の製造方法によって得られるゴム成形体は、遊離硫黄が０．１ｗｔ％以下のゴム成形体であることとしてもよい。また、本発明のゴム成形体の製造方法によって得られるゴム成形体は、遊離硫黄が０．０５ｗｔ％以下のゴム成形体であることはより好ましく、遊離硫黄が０．０１ｗｔ％以下のゴム成形体であることは特に好ましい。

　また、本発明における、遊離硫黄とは、ゴム成形体に含有される硫黄のうち、化学結合が弱い、及び／又は、化学結合がされていない状態の硫黄で、外部からの熱、水分、あるいは、有機溶剤等によって物理的に当該ゴム成形体から移行しやすい状態にある硫黄である。

　ここで、ゴム成形体の遊離硫黄の分析方法について説明を行う。本発明におけるゴム成形体の遊離硫黄の測定は、ＩＣＰ－ＭＳ（島津製作所社製　ＩＣＰ－ＡＥＳ　ＩＣＰＳ－１０００ＩＶ）を使用し、ＩＣＰ発光分析法により行った。より具体的に説明を行うと、１ｇ秤量された分析対象であるゴム成形体を、円筒ガラスフィルタの中に入れた後、これをソックスレ抽出器にセットし、メタノール溶媒８０ｍｌで８０℃／６時間、抽出を行った。抽出後、抽出溶媒であるメタノールをエバポレータで除き、２３℃／８時間放置し、抽出物を得た。次に当該抽出物と、硝酸１０ｍｌと、過塩素酸５ｍｌと、を混合した溶液を調製し、過塩素酸の白煙が発生するまで当該溶液を加熱した。当該加熱後、更に放冷され室温に戻された溶液にイオン交換水を加え、正確に全体量を１００ｍｌとした検液を得た。

　そして、当該検液をＩＣＰ－ＭＳに導入し、遊離硫黄の定量分析を行った。すなわち、ＩＣＰ－ＭＳの高周波発生装置（出力１２００Ｗ）を用いて発生するプラズマに、同軸型ネブライザーで霧状にした前処理によって得られた検液をサイクロンチャンバー内に導入し、励起発光させる。そして、当該発光をＩＣＰ－ＭＳの分光器でスペクトル分離し、定量波長１８２．０３７ｎｍにおける発光強度を光電子倍増管で検出し、得られた電気信号を演算処理することによって、硫黄の存在量（すなわち遊離硫黄の量）を求めた。遊離硫黄の定量は、検量線法（０～２０ｐｐｍ）を用いて行った。

　また、本実施形態に係るゴム成形体の製造方法において、架橋剤として用いられる上記式（Ｉ）で示される構造を有する化合物はその構造中に硫黄成分を出来るだけ含まないものを用いることが望ましい。したがって、上記式（Ｉ）で示される構造を有する化合物に含まれる硫黄含有量は、０．１ｗｔ％以下であることとしてもよいし、０．０５ｗｔ％以下であることとしてもよいし、０．０１ｗｔ％以下であることとしてもよい。更に、上記式（Ｉ）で示される構造を有する化合物は、硫黄成分を含まないこととしてもよい。

　すなわち、上記式（Ｉ）において、αは一価の有機基であり構造中に硫黄を含まないこととしてもよい。また、式（Ｉ）において、γは水素もしくは一価の有機基であり、γの構造中に硫黄を含まないこととしてもよい。

　また、本実施形態に係るゴム成形体の製造方法において、ゴム組成物に含まれるゴム成分も、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物と同様に、構造中に硫黄成分を出来るだけ含まないものを用いることが望ましい。したがって、ゴム組成物に含まれるゴム成分中の硫黄含有量は、０．１ｗｔ％以下であることとしてもよいし、０．０５ｗｔ％以下であることとしてもよいし、０．０１ｗｔ％以下であることとしてもよい。更に、ゴム組成物に含まれるゴム成分は、硫黄成分を含まないこととしてもよい。

　次に、本実施形態に係るゴム成形体の製造方法における、架橋工程について説明を行う。本実施形態に係るゴム成形体の製造方法における、架橋工程は、大気雰囲気下において行うこととしてもよい。

　上述したように、例えば、過酸化物をゴム組成物の架橋剤として使用した従来の架橋方法は、当該過酸化物に由来するＣＯＯラジカル（ＣＯＯ・）が酸素によって容易に失活してしまうため、不活性ガス雰囲気化（イナート雰囲気化）にて架橋反応を行うことが必要である。すなわち、過酸化物をゴム組成物の架橋剤として使用した方法は、大気雰囲気下にて反応を行うことはできない。

　これに対し、本実施形態に係るゴム成形体の製造方法に使用される、上記式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物は、当該化合物に由来するαのラジカル、あるいはγのラジカルは、酸素によって失活することがないため、大気雰囲気下において、ゴム組成物に含まれるゴム成分の架橋を行うことができる。

　これによって、本実施形態に係るゴム成形体の製造方法における、架橋工程は、搬送装置上で連続的に行うことができる。ここでいう搬送装置とは、製造ラインに設置されるベルトコンベア等が例示される。

　また、本発明における大気雰囲気下とは、酸素を含有する大気雰囲気下を示すこととする。すなわち、従来架橋剤として用いられている過酸化物に由来するＣＯＯラジカル（ＣＯＯ・）が失活する大気雰囲気下を示すこととする。例えば、本発明における大気雰囲気下は、空気雰囲気下であることとしてもよいし、窒素約８０ｖｏｌ％、酸素約２０ｖｏｌ％を含有する大気雰囲気下であることとしてもよいし、酸素の体積含有率が１０ｖｏｌ％以上、３ｖｏｌ％以上、あるいは１ｖｏｌ％以上の大気雰囲気下であることとしてもよい。

　また、架橋工程は、上記式（Ｉ）で示される構造を有する化合物を分解させることにより、ゴム組成物の発泡及びゴム成分の架橋を行いうこととしてもよい。これによって、ゴム成形体は、発泡体であることとしてもよい。すなわち、ゴム成形体は、内部に複数の空隙を有する多孔体であることとしてもよい。

　式（Ｉ）で示される構造を有する化合物は、分解することによって、式（Ｉ）で示される構造中のβに由来する窒素ガスが発生することとなる。そして、当該窒素ガスは、式（Ｉ）で示される構造中のα（及び／又はβ）に由来する、αのラジカル（及び／又はβのラジカル）の発生と同じタイミングで、発生することとなる。発泡体であるゴム成形体、すなわち、発泡ゴム成形体を製造する場合、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物を架橋剤として使用することによって、理想的なタイミングでゴム成分の架橋と、ゴム組成物の発泡と、を行うこととなる。

　また、本実施形態のゴム成形体の製造方法において、架橋工程が、上記式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物を分解させることにより、ゴム組成物の発泡及びゴム成分の架橋を行う場合、ゴム成形体は発泡体であり、当該ゴム成形体の厚さは０．０５０ｍｍ以上であることとしてもよい。また、当該ゴム成形体の厚さは０．０６５ｍｍ以上であることとしてもよいし、０．１５０ｍｍ以上であることとしてもよい。

　また、本実施形態のゴム成形体の製造方法において、架橋工程が、上記式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物を分解させることにより、ゴム組成物の発泡及びゴム成分の架橋を行う場合、ゴム成形体は発泡体であり、当該ゴム成形体の発泡倍率は１．２倍以上であることとしてもよい。また、当該ゴム成形体の発泡倍率は１．３倍以上であることとしてもよいし、１．９倍以上であることとしてもよい。ここで、発泡倍率は、ゴム成形体の発泡後の体積／ゴム成形体の内部に空隙を有さない場合の体積、にて算出される。

　また、本実施形態に用いられるゴム組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、カーボンブラック、炭酸カルシウム、シリカ、アルミナ、珪酸塩鉱物（例えば、マイカ、タルク等）、硫酸バリウム、及び、有機補強材等の充填材、又は老化防止剤等を含むこととしてもよい。

　以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。なお、これらの実施例は本発明の実施形態を具体的に説明するものであり、本発明の範囲を限定するものではない。

　まず、表１Ａ～１Ｃに示されるゴム組成物（Ｒ１～Ｒ１７）を調製した。表１Ａ～１Ｃ中の架橋剤として使用される化合物は、下記の（α－１）乃至（α－６）にて示されるα構造、（β－１）乃至（β－３）にて示されるβ構造、および（γ－１）乃至（γ－６）にて示されるγ構造らを組み合わせた化学構造を有するものである。

　表１Ａ、１Ｂに示されるゴム組成物Ｒ１～Ｒ１０は、ゴム成分をＮＢＲ（ＪＳＲ社製Ｎ２３７）とし、架橋剤として使用される化合物の種類をそれぞれ変更したものである。例えば、ゴム組成物Ｒ１は、ＮＢＲ（ＪＳＲ社製Ｎ２３７）１００重量部に対し、架橋剤として使用される化合物であるアゾジカルボンアミド（ＡＤＣＡ）が１２重量部配合されたものである。

　また、表１Ｃに示されるゴム組成物Ｒ１１～１７は架橋剤として使用される化合物をアゾジカルボンアミド（ＡＤＣＡ）とし、ゴム成分の種類をそれぞれ変更したものである。ここで、ＪＳＲ社製Ｎ２６０Ｓは、ＣＮ単位が１５ｗｔ％のＮＢＲであり、ＪＳＲ社製Ｎ２４１は、ＣＮ単位が２９ｗｔ％のＮＢＲであり、ＪＳＲ社製Ｎ２３７は、ＣＮ単位が３４ｗｔ％のＮＢＲであり、ＪＳＲ社製Ｎ２２２Ｌは、ＣＮ単位が４３ｗｔ％のＮＢＲである。

　ゴム組成物Ｎｏ．Ｒ１～Ｒ１７のそれぞれを、ゴム成分、架橋剤として使用される化合物を８インチオープンロールで混練し、５０ｍｍ×５０ｍｍ×２ｍｍの金型に入れプレス成形し、未架橋のゴムシートとした。そして、当該未架橋のゴムシートを熱風循環式ギアオーブンに入れ、所定の温度、時間、熱処理を行った。

　上記熱処理は、本発明における、ゴム組成物にエネルギーを与え、表１Ａ～１Ｃに示される化合物を分解させて、前記化合物をゴム組成物の架橋剤として使用することにより、前記ゴム組成物に含まれるゴム成分の架橋を行う架橋工程に相当するものである。本実施例では、当該熱処理を大気雰囲気下（窒素約８０ｖｏｌ％、酸素約２０ｖｏｌ％）、不活性ガス（窒素）雰囲気下、それぞれの場合において、架橋工程を行った。

　本実施例における熱処理の温度、時間、および架橋剤として使用される化合物の分解温度を、下記表２に示す。ここで、化合物の分解温度とは、それぞれの化合物のみが単独で加熱された際の、化合物中のα構造―β構造の間の結合及び／又はβ構造―γ構造の間の結合が切断される温度をいう。表２にて示されるように、本実施例における熱処理温度は、化合物の分解温度よりも高い温度である。

　ここで、化合物の分解温度の測定方法について説明を行う。本発明における化合物の分解温度の測定は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）（リガク社製　ＴＰＡ　ＳＣＩＩ２）を使用し、吸熱開始温度（変極点）を測定することにより行った。すなわち、ＤＳＣ測定によって得られた、化合物の吸熱開始温度（変極点）を、当該化合物の分解温度とした。よりＤＳＣ測定の具体的な条件について説明を行うと、測定対象となる化合物１０ｍｇを、アルミニウム試料皿に置き、１０℃／ｍｉｎの条件で昇温を行い、標準試料をβ－Ａｌ_２Ｏ_３として、吸熱開始温度（すなわち分解温度）を測定した。

　熱処理後のゴム成形体を、φ１３ｍｍ×２ｍｍに切りだし、ゴム成分の良溶媒中、２３℃、２４時間浸漬し、ゴム成形体の良溶媒への溶解有無を目視で確認した。仮にゴム組成物の架橋が行われている場合、架橋後のゴム成形体は、良溶媒には溶解しないこととなる。したがって、ゴム成形体の良溶媒への溶解有無によって、○：良溶媒に溶解せず、架橋が進行したことが確認された、×：良溶媒に溶解し、架橋が進行しなかったことが確認された、の二段階にて架橋の有無の評価を行った。下記の表３に評価結果を示す。

　表３にて示されるように、ゴム組成物Ｎｏ．Ｒ１～Ｒ６は、不活性ガス（窒素）雰囲気下において架橋が進んでいることが確認された。また、ゴム組成物Ｎｏ．Ｒ１～Ｒ６に含まれるゴム成分、および架橋剤として用いられる化合物のいずれも、硫黄の含有量が０．２５ｗｔ％以下のものであり、得られたゴム成形体の硫黄含有量は０．２５ｗｔ％以下、遊離硫黄は０．１ｗｔ％以下であった。

　また、表３にて示されるように、ゴム組成物Ｎｏ．Ｒ１～Ｒ５は、大気雰雰囲気下においても架橋が進んでいることが確認され、得られたゴム成形体の遊離硫黄は０．１ｗｔ％以下であった。

　また、表３にて示されるように、異なるゴム成分を含有するゴム組成物Ｎｏ．Ｒ１１～Ｒ１７は、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物を架橋剤として使用した場合、大気雰囲気下（窒素約８０ｖｏｌ％、酸素約２０ｖｏｌ％）、不活性ガス（窒素）雰囲気下、それぞれの架橋条件下においても架橋が進んでいることが確認された。

　次に、ＮＢＲ（ゴム成分：ＪＳＲ社製Ｎ２３７）１００重量部と、カーボンブラック（充填材：キャンカーブ社製Ｎ９９０）５０重量部と、式（Ｉ）で示される構造を有する化合物（架橋剤：ＡＤＣＡ）１２重量部と、を含有するゴム組成物を準備して、当該ゴム組成物を８インチオープンロールで混練し、５０ｍｍ×５０ｍｍ×所定厚（０．０２６～０．１５９ｍｍ）の金型に入れプレス成形し、未架橋のゴムシートとした。そして、当該未架橋のゴムシートを熱風循環式ギアオーブンに入れ、所定の温度、時間、熱処理を行い、発泡及びゴム成分の架橋を同時に行った。

　そして、未架橋のゴムシートの厚さと、架橋工程後のゴム成形体の厚さと、を測定し、発泡状態および発泡倍率を確認した。本実施例では、未架橋のゴムシートの縦横長さと、架橋工程後のゴム成形体の縦横長さと、が変化しないように架橋工程を行った。よって、発泡倍率は、発泡後のゴム成形体の厚さ／発泡前の未架橋のゴムシートの厚さ、によって求めることができる。

　表４は、発泡前の未架橋のゴムシートの厚さ（発泡前ゴム厚さ）と、発泡及びゴム成分の架橋を同時に行った架橋工程後のゴム成形体の厚さ（発泡前ゴム厚さ）と、を測定した結果を示すものである。表４における発泡状態は、発泡なし：ゴム成形体の内部には空隙が存在しない若しくはほんの僅かな空隙しか存在しない、部分発泡：ゴム成形体の内部に一部空隙が存在する、完全発泡：ゴム成形体の内部に空隙が存在し、発泡倍率は２倍以上である、で評価を行った。

　表４に示されるように、架橋工程が、ゴム組成物にエネルギーを与え、式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物を分解させることにより、発泡及びゴム成分の架橋を行う場合、架橋工程後のゴム成形体は内部に空隙を有し、当該ゴム成形体の厚さは０．０５０ｍｍ以上であった。また、ゴム成形体の厚さが０．１５０ｍｍ以上である場合、当該ゴム成形体の発泡倍率は２．０倍以上であった。また、架橋工程が、上記式（Ｉ）にて示される構造を有する化合物を分解させることにより、発泡及びゴム成分の架橋を行う場合、ゴム成形体は内部に空隙を有し、前記ゴム成形体の発泡倍率は１．２倍以上であった。

Claims (11)

1. 　ゴム成形体の製造方法であって、
   　ゴム成分と、下記の式（Ｉ）で示される構造を有し、前記ゴム成分の架橋剤として使用される化合物と、を含む、硫黄含有量が２．０ｗｔ％以下であるゴム組成物において、前記化合物を分解させることにより、前記ゴム成分の架橋を行う架橋工程を含む、ことを特徴とするゴム成形体の製造方法。
   　α－β－γ・・・（Ｉ）
   （式（Ｉ）において、αは一価の有機基であり、βは－Ｎ＝Ｎ－であり、γは水素もしくは一価の有機基である。）
2. 　前記ゴム組成物は、前記化合物以外の架橋剤を含まない、ことを特徴とする請求項１に記載のゴム成形体の製造方法。
3. 　前記ゴム組成物は、硫黄化合物、過酸化物、キノイド化合物、フェノール樹脂化合物、マレイミド、及びポリサルファイドを、含まない、ことを特徴とする請求項１又は２に記載のゴム成形体の製造方法。
4. 　前記ゴム組成物は、前記化合物に由来するラジカルを捕捉するラジカル捕捉剤を、含まない、ことを特徴とする請求項１乃至３いずれか一項に記載のゴム成形体の製造方法。
5. 　前記ゴム組成物は、アミン化合物、フェノール化合物、及び酸化亜鉛を、含まない、ことを特徴とする請求項１乃至４いずれか一項に記載のゴム成形体の製造方法。
6. 　前記架橋工程は、大気雰囲気下において行う、ことを特徴とする請求項１乃至５いずれか一項に記載のゴム成形体の製造方法。
7. 　前記架橋工程は、前記化合物を分解させることにより、前記ゴム組成物の発泡及び前記ゴム成分の架橋を行い、
   　前記ゴム成形体は、発泡体である、ことを特徴とする請求項１乃至６いずれか一項に記載されたゴム成形体の製造方法。
8. 　前記ゴム成分は、重量平均分子量が１０００～１００００００である、ことを特徴とする請求項１乃至７いずれか一項に記載されたゴム成形体の製造方法。
9. 　下記の式（Ｉ）で示される構造を有する化合物を、ゴム組成物の架橋剤として使用する、
   ことを特徴とする方法。
   　α－β－γ・・・（Ｉ）
   （式（Ｉ）において、αは一価の有機基であり、βは－Ｎ＝Ｎ－であり、γは水素もしくは一価の有機基である。）
10. 　ゴム成分と、下記の式（Ｉ）で示される構造を有し、前記ゴム成分の架橋剤として使用される化合物と、を含み、
    　硫黄含有量が２．０ｗｔ％以下である、ことを特徴とするゴム組成物。
    　α－β－γ・・・（Ｉ）
    （式（Ｉ）において、αは一価の有機基であり、βは－Ｎ＝Ｎ－であり、γは水素もしくは一価の有機基である。）
11. 　請求項１乃至８いずれか一項に記載のゴム成形体の製造方法によって製造された、ことを特徴とするゴム成形体。