WO2013015301A1 - 化合物結晶製造用のルツボ、化合物結晶の製造装置及びルツボを用いた化合物結晶の製造方法 - Google Patents

化合物結晶製造用のルツボ、化合物結晶の製造装置及びルツボを用いた化合物結晶の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2013015301A1
WO2013015301A1 PCT/JP2012/068792 JP2012068792W WO2013015301A1 WO 2013015301 A1 WO2013015301 A1 WO 2013015301A1 JP 2012068792 W JP2012068792 W JP 2012068792W WO 2013015301 A1 WO2013015301 A1 WO 2013015301A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
crucible
crystal
compound
state
pretreatment
Prior art date
Application number
PCT/JP2012/068792
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
秀憲 杉崎
Original Assignee
株式会社ニコン
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社ニコン filed Critical 株式会社ニコン
Priority to CN201280036617.8A priority Critical patent/CN103717790A/zh
Priority to JP2013525734A priority patent/JP5741691B2/ja
Priority to DE112012003129.6T priority patent/DE112012003129B4/de
Publication of WO2013015301A1 publication Critical patent/WO2013015301A1/ja
Priority to US14/163,095 priority patent/US20140202377A1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B11/00Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
    • C30B11/002Crucibles or containers for supporting the melt
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/12Halides
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T117/00Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
    • Y10T117/10Apparatus
    • Y10T117/1024Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state
    • Y10T117/1092Shape defined by a solid member other than seed or product [e.g., Bridgman-Stockbarger]

Definitions

  • the present invention relates to a crucible for producing a compound crystal, an apparatus for producing a compound crystal, and a method for producing a compound crystal, and more particularly, a crucible suitable for producing a fluoride crystal used as an optical material in the ultraviolet region. , A manufacturing apparatus, and a manufacturing method.
  • the resolution of the projection optical system depends on the wavelength of light used and the NA (numerical aperture) of the projection optical system. That is, in order to improve the resolution, it is necessary to shorten the wavelength of the light to be used or to increase the NA of the projection optical system (the lens has a large aperture). However, if the NA is increased, the depth of focus becomes shallower. Therefore, it is advantageous to shorten the wavelength.
  • the exposure light wavelength is being shortened, and the wavelength shifts from the g-line (wavelength 436 nm) and the i-line (wavelength 365 nm) to the excimer laser having a shorter wavelength.
  • optical glass can be used up to the wavelength range of i-line, but for light in the wavelength range such as KrF excimer laser (wavelength 248 nm) and ArF excimer laser (wavelength 193 nm). Is difficult to use because of the low transmittance of optical glass.
  • an optical element processed with quartz glass or a fluoride crystal for example, calcium fluoride (CaF 2 ) single crystal is generally used for an optical system of an exposure apparatus that uses a wavelength region of 250 nm or less as a light source. It has become.
  • Calcium fluoride (fluorite) has a relatively high transmittance in the wavelength region of 193 nm.
  • ultraviolet light having such a wavelength with high photon energy is irradiated for a long time, absorption and heat generation occur due to fine impurities and lattice defects contained in the crystal, resulting in damage. Therefore, chemically synthesized high-purity calcium fluoride is used for the production of a single crystal of calcium fluoride used as an optical element for an ArF excimer laser.
  • Chemically synthesized high-purity calcium fluoride is generally provided as a raw material having a particle size of about 0.1 ⁇ m to a particle size of about 5 mm.
  • Such powdered or granular calcium fluoride has a low bulk density, and therefore, when melted, its volume is significantly reduced. Therefore, when producing a relatively large calcium fluoride single crystal, a pre-processed product consisting of a polycrystalline bulk is prepared by a pre-processing step in which a powdered or granular calcium fluoride raw material is once melted and then solidified.
  • a single crystal is manufactured by melting again in the crystal growth step (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2).
  • the Bridgman method (generally called the vertical Bridgman method because it uses a vertical furnace, also called the stock burger method or crucible descent method) is widely used.
  • Conventional production of compound crystals taking as an example the production of calcium fluoride crystals, including a pretreatment step of melting a powder raw material to produce a pretreatment product, and a crystal growth step of growing a single crystal by the Bridgeman method
  • a method and a manufacturing apparatus used in this manufacturing method will be described with reference to FIG.
  • a pretreatment crucible 110, a pretreatment furnace 120, a crystal growth crucible 115, a crystal growth furnace 130, a control device (not shown), and the like are used.
  • the pretreatment process for producing the pretreatment product by melting the calcium fluoride powder raw material is performed using the pretreatment crucible 110 shown in FIG. 3 (a) and the pretreatment furnace 120 shown in FIG. 3 (b). Is called.
  • the pretreatment crucible 110 includes a conical bottom portion 110a and a cylindrical tube portion 110b that is connected to the bottom portion 110a and extends upward, and is configured in an open state.
  • the pretreatment crucible 110 is a large-volume crucible in which the vertical dimension of the cylindrical portion 110b is relatively large in order to fill a large amount of powder raw material.
  • the pretreatment furnace 120 is provided so as to be openable and closable by moving up and down with respect to the base plate 121 that forms the base of the furnace, and supports the bell jar 125 and the pretreatment crucible 110 that form a vacuum container together with the base plate in a closed state.
  • the pretreatment crucible 110 is filled with a compound powder raw material Pp obtained by mixing a raw material powder of calcium fluoride and a scavenger.
  • the pretreatment crucible 110 filled with the powder raw material Pp is supported by the crucible support member 122, and the bell jar 125 is lowered and brought into close contact with the base plate 121 to be closed.
  • the inside of the vacuum vessel formed by the base plate 121 and the bell jar 125 is evacuated by a vacuum device and kept at a vacuum degree of about 10 ⁇ 3 to 10 ⁇ 4 Pa.
  • the inside of the vacuum vessel is heated by the heater 126, and the temperature in the vacuum vessel is raised to a temperature range of 1370 to 1450 ° C. higher than the melting point of calcium fluoride to melt the powder raw material Pp.
  • the temperature of is lowered to room temperature to solidify the melt.
  • the pre-processed product Pb which consists of a polycrystalline bulk of calcium fluoride is produced.
  • the pretreatment product Pb produced in the pretreatment process is taken out from the pretreatment crucible 110 and replaced with a crystal growth crucible 115 as shown in FIG.
  • the crystal growing crucible 115 is also in a state where the upper part composed of the conical bottom part 115a and the cylindrical tube part 115b extending upward is connected to the bottom part 115a.
  • the diameter of the cylinder part 115b is slightly larger than the cylinder part 110b of the pretreatment crucible.
  • the crystal growth step is a step of re-melting the polycrystalline calcium fluoride that has been melted and solidified in the pretreatment step into a bulk state to form a single crystal. In this step, the volume change amount when the polycrystalline bulk is changed to a single crystal is small. Therefore, the crucible 115 for crystal growth is a crucible having a small volume that can accommodate the pre-processed product Pb because the size of the cylindrical portion 115b is relatively small.
  • the crystal growth process is performed using the above-described crystal growth crucible 115 and the crystal growth furnace 130 shown in FIG.
  • the crystal growth furnace 130 is provided so as to be openable and closable by moving up and down with respect to the base plate 131 that forms the base of the furnace, and supports the bell jar 135 that forms a vacuum container together with the base plate and the crystal growth crucible 115 in the closed state.
  • a lower heater 136b And a lower heater 136b, a heat insulating material 137 covering the inside of the bell jar 135, a partition heat insulating material 138 provided between the upper heater 136a and the lower heater 136b and dividing the inside of the vacuum vessel into a high temperature side furnace chamber 130a and a low temperature side furnace chamber 130b. Evacuate the vacuum chamber And the like empty device (not shown).
  • the crucible support member 132 supports the crystal growing crucible 115 in which the pre-processed product Pb replaced from the pre-processing crucible is accommodated by the replacement operation described with reference to FIG.
  • the bell jar 135 is lowered and brought into close contact with the base plate 131 to close the inside of the bell jar 135, and the inside of the vacuum vessel formed by the base plate 131 and the bell jar 135 is evacuated by a vacuum device, and 10 ⁇ 3 to 10 ⁇ 4 Pa. Maintain a degree of vacuum.
  • the position of the crystal growth crucible 115 in the height direction is set by the elevating drive mechanism 133 so that the crystal growth crucible 115 is positioned in the high temperature side furnace chamber 130a.
  • the inside of the vacuum vessel When the inside of the vacuum vessel reaches the above degree of vacuum, the inside of the vacuum vessel is heated by the upper heater 136a, and the temperature in the vacuum vessel is raised to a temperature range of 1370 to 1450 ° C., which is higher than the melting point of calcium fluoride. Melt Pb.
  • the crystal growth crucible 115 is pulled down at a speed of about 0.1 to 5 mm / h by the elevating drive mechanism 133 toward the low temperature side furnace chamber 130b, and the crystal Pc is gradually grown from the lower part of the crystal growth crucible 115.
  • the lower heater 136b is set at a lower temperature than the upper heater 136a. The crystal growth is finished when the molten calcium fluoride is crystallized to the uppermost part.
  • the production of calcium fluoride crystals is taken as an example, and the powder raw material Pp filled in the pretreatment crucible 110 is melted by the pretreatment furnace 120 as the first structural example in the conventional production method of compound crystals.
  • FIG. 4 a method in which the replacement work of the pre-processed product Pb is not performed as a second configuration example in the conventional manufacturing method of a compound crystal will be described by taking again the manufacture of calcium fluoride crystals. To do.
  • the crystal growth crucible 215 is a comparatively large size similar to the size of the pretreatment crucible 110 described above, and the crystal growth furnace 230 includes the crystal growth crucible 215. It is a large one according to the size.
  • the basic configuration of the pretreatment furnace and the crystal growth furnace is the same as that of the first configuration example described above. Therefore, the same parts are denoted by the same reference numerals and redundant description is omitted, and different parts are briefly described.
  • the apparatus for producing a calcium fluoride crystal of this configuration example includes a pretreatment furnace 120, a crystal growth crucible 215, a crystal growth furnace 230, and a control device (not shown).
  • a pretreatment crucible is not used when pretreatment is performed, and a crystal raw crucible 215 is filled with a powder raw material and melted to produce a pretreatment product.
  • the crystal growth crucible 215 is configured in such a state that an upper portion composed of a conical bottom portion 215a and a cylindrical tube portion 215b extending upwardly connected to the bottom portion 215a is opened.
  • the raw material powder has a small bulk density, and a single crystal having a sufficient size cannot be grown with a volume comparable to that of the crystal growth crucible 115.
  • the crystal growth crucible 215 is configured as a large-capacity crucible having a vertical dimension of the cylinder portion 215 b longer than the cylinder portion 115 b of the crystal growth crucible 115 and having a volume equivalent to that of the pretreatment crucible 110.
  • the pretreatment process shown in FIG. 4B is performed in the same manner as the pretreatment process described with reference to FIG. That is, the crucible for crystal growth 215 filled with the powder raw material Pp is supported by the crucible support member 122 and closed by closely attaching the bell jar 125 to the base plate 121, and the inside of the vacuum vessel formed by the base plate 121 and the bell jar 125 is closed. Evacuate and depressurize to a predetermined degree of vacuum. When a predetermined degree of vacuum is reached, the inside of the vacuum vessel is heated by the heater 126, and the temperature inside the vacuum vessel is raised to a temperature higher than the melting point of calcium fluoride. After melting the powder raw material Pp, the temperature in the vacuum vessel is lowered to room temperature and solidified to produce a pretreated product Pb made of a calcium fluoride polycrystal bulk.
  • the crystal growth crucible 215 having the pretreatment product Pb therein is taken out from the pretreatment furnace 120 and supported by the crucible support member 132 in the crystal growth furnace 230 shown in FIG.
  • the crystal growth furnace 230 is a large-sized furnace that matches the size of the crystal growth crucible 215.
  • the volume of the pretreatment product Pb obtained in the pretreatment process (the height of the upper surface of the pretreatment product Pb) is approximately the same as the volume of the pretreatment product in the first configuration example described above.
  • the volume of the high temperature side furnace chamber 230a above the partition heat insulating material 138 is larger than the volume of the low temperature side 130b below the partition heat insulating material 138, and the bell jar 235 is the crystal growth in the first configuration example. It is larger than the bell jar 125 of the furnace 230, and the upper heater 236a and the heat insulating material 237 are also large.
  • the crystal growth process shown in FIG. 4C is performed in the same manner as the crystal growth process described with reference to FIG. That is, the crystal growing crucible 215 having the solidified pre-processed product Pb therein is supported by the crucible support member 132 and the bell jar 235 is brought into close contact with the base plate 131 to be closed.
  • the inside of the vacuum vessel formed by the base plate 131 and the bell jar 235 is evacuated and depressurized to a predetermined degree of vacuum.
  • the position of the crystal growth crucible 215 in the height direction is set by the elevating drive mechanism 133 so that the entire crystal growth crucible 215 is positioned in the high temperature side furnace chamber 230a.
  • the inside of the vacuum container When the inside of the vacuum container reaches a predetermined degree of vacuum, it is heated by the upper heater 236a, and the temperature in the vacuum container is raised to the melting point of calcium fluoride or higher to melt the pretreatment product Pb.
  • the crystal growth crucible 215 is pulled down by the elevating drive mechanism 133 toward the low temperature side furnace chamber 130b, and the crystal Pc is gradually grown from the lower part of the crystal growth crucible 215.
  • the lower heater 136b is set to a temperature lower than that of the upper heater 236a. The crystal growth is finished when the molten calcium fluoride is crystallized to the uppermost part.
  • the conventional method and apparatus for producing a compound crystal as described above have the following problems.
  • Such replacement work increases the manufacturing cost due to the generation of work man-hours, and may lead to deterioration of optical characteristics due to metal impurity contamination and oxygen storage during the replacement work.
  • the replacement work for replacing the pretreatment product from the pretreatment crucible to the crystal growth crucible does not occur.
  • the same crystal growth crucible 215 is used for the pretreatment step and the crystal growth step for melting a powder material having a low bulk density to produce a pretreatment product, it is necessary to use a large volume crystal growth crucible. is there. Along with this, it is necessary to use a large crystal growth furnace (see FIG. 3 (d) and FIG. 4 (c) in comparison). Increasing the size of the crystal growth furnace increases the capital investment and raises the manufacturing cost.
  • a crucible for producing a compound crystal is prepared by melting a powdery or granular compound raw material in a pretreatment furnace and then cooling and solidifying the compound crystal pretreatment product.
  • a crucible used in the manufacture of a compound crystal that is grown into a compound crystal after melting the pretreatment product in a crystal growth furnace the first member comprising a bottom portion and a cylindrical portion connected to the bottom portion, and a state connected to the cylindrical portion; It consists of a hollow cylindrical second member that can be in both separated states, and the second member is connected to the first member to form a large-capacity crucible for preparing a pre-processed product However, the second member is separated from the first member to form a small volume crucible for crystal growth.
  • the second aspect of the present invention is a crucible for producing a compound crystal according to the first aspect, and the compound is preferably a fluoride.
  • a compound crystal manufacturing apparatus comprising a vacuum vessel, a crucible support member that supports the crucible inside the vacuum vessel, and a heater provided inside the vacuum vessel,
  • the crucible includes a bottom part, a first member composed of a cylindrical part connected to the bottom part, and a hollow cylindrical second member that can be in both a state connected to the cylindrical part of the first member and a separated state.
  • the crucible support portion is configured to support the crucible in a state where the second member of the crucible is connected to the first member.
  • the compound crystal manufacturing apparatus is preferably a fluoride.
  • a compound crystal manufacturing apparatus comprising: a vacuum vessel; a crucible support member that supports the crucible inside the vacuum vessel; and raising and lowering the crucible support member to move the crucible vertically. It consists of an elevating drive mechanism to be moved, and an upper heater and a lower heater provided inside the vacuum vessel, and the crucible is connected to the bottom part, the first member consisting of the cylindrical part connected to the bottom part, and the cylindrical part of the first member A hollow cylindrical second member that can be in both the separated state and the separated state, and the crucible support portion is configured such that the second member of the crucible is separated from the first member.
  • One member is configured to be supported.
  • the compound crystal manufacturing apparatus according to the fifth aspect is preferably a fluoride.
  • a method for producing a compound crystal using a crucible wherein the crucible is separated from a state in which the bottom part and the cylindrical part connected to the bottom part are connected to the cylindrical part.
  • a crystal growth step of growing a compound crystal by melting the compound pretreatment product formed in the first member and then growing the crystal of the compound is provided.
  • the eighth aspect of the present invention there is provided a method for producing a compound crystal using the crucible of the seventh aspect, wherein the compound is preferably a fluoride.
  • the present invention is configured as described above, the following effects can be obtained. Since there is no need to replace the pretreatment product with the crystal growth process for growing a single crystal of the compound, the manufacturing cost can be reduced by that amount, and at the same time, mixing of metal impurities accompanying the replacement operation is suppressed. Thus, a high quality compound single crystal can be obtained. In addition, since a small volume crucible can be used in the crystal growth step, a small crystal growth furnace can be used. In this respect as well, equipment investment can be suppressed and manufacturing costs can be reduced.
  • FIG. 1 is a schematic explanatory diagram for explaining a crucible for producing a compound crystal, an apparatus for producing a compound crystal, and a producing method exemplified as an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a configuration example of a connection portion in the crucible.
  • FIG. 3 is a schematic explanatory view for explaining a conventional compound crystal production apparatus and production method according to the first configuration example.
  • FIG. 4 is a schematic explanatory view for explaining a conventional compound crystal production apparatus and production method of a second configuration example.
  • FIG. 1 is a schematic explanatory view for explaining a manufacturing apparatus and a manufacturing method of an embodiment of the present invention by taking the manufacture of a calcium fluoride single crystal as an example.
  • the crucible 10 In the production of the calcium fluoride single crystal in this embodiment, the crucible 10, the pretreatment furnace 20, the crystal growth furnace 30, and a control device not shown are used. As shown in FIG. 1A, the crucible 10 is connected to the bottom part 11a and the bottom part, a first member 11 comprising a cylindrical part 11b extending upward, and a state fixed to the cylindrical part 11b of the first member. It is comprised from the hollow cylindrical 2nd member 12 which can be set as both the states of isolate
  • the first member 11 and the second member 12 constituting the crucible 10 are materials that can withstand high temperature conditions in the pretreatment furnace 20 and the crystal growth furnace 30 and at the same time, metal impurities and the like are not eluted into the molten calcium fluoride. For example, it is manufactured using isotropic graphite.
  • connection structure configured to be detachably connected to the upper end portion of the cylindrical portion 11b of the first member 11 and the lower end portion of the cylindrical portion 12b of the second member 12 so as to form an integral cylindrical portion when connected. 15 is provided.
  • FIG. 2 shows configuration examples 15 1 , 15 2 , 15 3 of the connection structure 15.
  • Connecting structure 15 of the first configuration example shown in FIG. 2 (a) is an example in which the connection structure detachable by the external thread and a pair 15 11 of the internal thread, 15 12.
  • a male screw 15 11 is formed on the outer peripheral surface of the upper end portion of the cylindrical portion 11 b of the first member 11, and the lower end portion of the cylindrical portion 12 b of the second member 12 is An internal thread 15 12 is formed on the inner peripheral surface to be engaged with the external thread 15 11 .
  • a large-volume crucible for producing a pre-processed product is formed. Also, to release the engagement between the external thread 15 11 and the internal thread 15 12, when separated from the first member 11 and a second member 12, a small volume crucibles for crystal growth is formed by the first member 11.
  • the configuration in which the male screw 15 11 is formed on the first member 11 side and the female screw 15 12 is formed on the second member 12 side is illustrated, but the combination of the male screw and the female screw is reversed (the first member 11 side is the female screw 15 12 ). Also good.
  • Connecting structure 15 2 of the second configuration example shown in FIG. 2 (b) is an example in which the connection structure detachable by a pair of tapered flanges 15 21, 15 22 and the clamp 15 25.
  • the upper end portion of the cylindrical portion 11 b of the first member 11 and the lower end portion of the cylindrical portion 12 b of the second member 12 are respectively tapered flanges whose outer peripheral surfaces are tapered.
  • 15 21 and 15 22 are formed.
  • the clamp 15 25 is formed with a tapered surface in surface contact with the tapered flanges 15 21 and 15 22 on the inner peripheral portion.
  • the clamp being in contact with the tapered flange 15 21 of the first member and the tapered flange 15 22 of the second member, the clamp from their outer periphery 15
  • the first member 11 and the second member 12 are connected to form a large-volume crucible for preparing a pre-processed product.
  • the clamp 15 25 is removed, the connection between the tapered flanges 15 21 and 15 22 is released, and the first member 11 and the second member 12 are separated, the first member 11 forms a small-volume crucible for crystal growth.
  • connection structure 15 3 of the third configuration example shown in FIG. 2C is an example in which a detachable connection structure is configured by a pair of flanges 15 31 and 15 32 and a fastener 15 35 made of bolts and nuts.
  • disk-shaped flanges 15 31 and 15 32 are provided at the upper end portion of the cylindrical portion 11 b of the first member 11 and the lower end portion of the cylindrical portion 12 b of the second member 12, respectively. Is formed.
  • the flanges 15 31 and 15 32 are formed with holes for inserting bolts at a predetermined pitch. Therefore, as shown in the lower part of FIG.
  • the crucible 10 is a pre-processed product when the first member 11 and the second member 12 are connected together using the connection mechanism 15 (15 1 , 15 2 , 15 3 ).
  • a large volume crucible for production is formed, and the first member 11 is configured to form a small volume crucible for crystal growth when the first member 11 and the second member 12 are disconnected and separated.
  • the diameter and height of the first member 11 are set based on the size of the calcium fluoride single crystal to be manufactured, and the height of the second member 12 is the pretreatment product when the powder raw material is melted and solidified.
  • the volume is set so as not to be larger than the volume of the first member 11.
  • crucible 10 L the crucible 10 in the large volume state
  • crucible 10 S the crucible 10 in the small volume state
  • the pretreatment furnace 20 is provided so as to be openable and closable by moving up and down with respect to the base plate 21 that forms the base of the pretreatment furnace 20, and the vacuum vessel together with the base plate in a closed state.
  • a heater 26 is provided at a position surrounding the periphery of the crucible 10 L , and a heat insulating material 27 covering the inner surface of the bell jar is provided outside the heater 26.
  • the base plate 21 and the bell jar 25 are required to have corrosion resistance against a reactive gas that may be generated in the pretreatment furnace 20 with little outgas in a high temperature and high vacuum state. Therefore, the base plate 21 and the bell jar 25 are made of stainless steel having these characteristics.
  • the size of the bell jar 25 (the volume of the pretreatment furnace 20) can accommodate the large-volume crucible 10 L in which the first member 11 and the second member 12 are connected, and the large-volume crucible 10 L is filled. The diameter and the height are set so that the powder raw material Pp can be efficiently melted to obtain a pre-processed product.
  • the crucible support member 22 is heated together with the crucible 10 L to above the melting point of calcium fluoride. Therefore, the crucible support member 22 is made of a material that can withstand a high temperature state in the pretreatment furnace 20 and at the same time does not mix metal impurities into the molten calcium fluoride, for example, isotropic graphite similar to the crucible.
  • the heater 26 a heater capable of raising the temperature to the melting point of calcium fluoride or higher is used, and the temperature is controlled by a control device (not shown).
  • the heater control system includes a temperature sensor, a temperature regulator, a power controller, and the like.
  • the crystal growth furnace 30 is provided so that it can be opened and closed by moving up and down with respect to the base plate 31 that forms the base of the crystal growth furnace 30, and forms a vacuum vessel together with the base plate in a closed state.
  • bell jar 35 a crucible support member 32 for supporting the crucible 10 S, to maintain the crucible 10 S by lowering the crucible support member 32 elevation driving mechanism 33 for moving up and down, to a predetermined degree of vacuum evacuating the crystal growth in the 30 to It consists of a vacuum device (not shown).
  • the bell jar 35 is provided with a partition heat insulating material 38 that divides the inside of the crystal growth furnace 30 into a high temperature side furnace chamber 30a and a low temperature side furnace chamber 30b.
  • the upper high temperature side furnace chamber 30a has an upper heater 36a and a lower low temperature side furnace.
  • lower heater 36b to the chamber 30b is provided in a position surrounding each crucible 10 S.
  • a heat insulating material 37 that covers the inner surface of the bell jar 32 is provided outside the upper heater 36a and the lower heater 36b.
  • the crystal growth furnace 30 is also exposed to a high temperature and high vacuum state. Therefore, the base plate 31 and the bell jar 35 are made of a material having a certain degree of corrosion resistance against a reactive gas that can be generated in the crystal growth furnace 30 with a low outgas in a high temperature and high vacuum state, for example, stainless steel having these characteristics.
  • the size of the bell jar 35 (the volume of the crystal growth furnace 30) accommodates a crucible 10 S small volume state from the first member 11 to separate the second member 12, pre-treatment products in the crucible 10 S small volume state
  • the diameter and height are set so that Pb can be efficiently melted and the single crystal can be grown by the vertical Bridgman method.
  • the upper part of the crucible support member 32 is heated to the melting point of calcium fluoride or more together with the crucible 10 S.
  • the crucible support member 32 is similar to a material such as a crucible, in which at least the upper portion of the support member 32 can withstand a high temperature state in the crystal growth furnace 30 and at the same time metal impurities and the like are not mixed into the molten calcium fluoride.
  • As the heater 26, a heater capable of raising the temperature to the melting point of calcium fluoride or higher is used, and the temperature is controlled by a control device (not shown).
  • the heater control system includes a temperature sensor, a temperature regulator, a power controller, and the like.
  • This manufacturing method includes a powder raw material filling step I shown in FIG. 1 (a), a pretreatment step II shown in FIG. 1 (b), a second member separation step III shown in FIG. 1 (c), and FIG. It has a crystal growth process IV shown in d).
  • the crucible 10 is a mixture of calcium fluoride raw material powder and scavenger in a state of a large volume crucible 10 L in which the first member 11 and the second member 12 are connected.
  • the powder raw material Pp thus filled is filled.
  • the raw material powder of calcium fluoride a chemically synthesized high-purity calcium fluoride powder having a particle size of about 0.1 ⁇ m to 5 mm is used.
  • the filling amount of the powder raw material is a weight calculated from the density of the calcium fluoride single crystal so that the volume of the pretreated product solidified after melting does not become larger than the volume of the crucible 10 S in the small volume state.
  • the scavenger has an effect of replacing an element contained as an impurity in the raw material with fluorine and removing the substituted impurity element as a volatile compound.
  • a fluorinating agent such as lead fluoride (PbF 2 ) or carbon tetrafluoride (CF 4 ) is used.
  • PbF 2 lead fluoride
  • CF 4 carbon tetrafluoride
  • the powder raw material Pp is melted in the pretreatment furnace 20 and then solidified by cooling, so that a pretreatment product Pb made of calcium fluoride polycrystal bulk is produced.
  • the crucible 10 L filled with the powder raw material Pp is supported by the crucible support member 22, the bell jar 25 is closed and evacuated by a vacuum apparatus, and the inside of the pretreatment furnace 20 has a degree of vacuum lower than 10 ⁇ 3 Pa (preferably (Vacuum degree of 10 ⁇ 4 Pa or less).
  • the temperature in the pretreatment furnace 20 is increased by the heater 26 to a temperature range of 1370 to 1450 ° C. higher than the melting point of calcium fluoride.
  • the heater 26 When the powder raw material Pp is melted, the heater 26 is turned off to cool and solidify. Thereby, the impurity element contained in the powder raw material is removed as a volatile compound, and a pretreated product Pb made of a polycrystalline bulk of high-purity calcium fluoride is produced in the crucible.
  • the crucible 10 L in the large volume state is changed from the crucible 10 L in the large volume state to the crucible 10 S in the small volume state while holding the pretreated product Pb solidified in the crucible 10 L taken out from the pretreatment furnace 20 as it is.
  • the pretreated product Pb is melted in the crystal growth furnace 30 by the Bridgman method to produce a calcium fluoride single crystal.
  • the crucible 10 S whose height has been lowered by removing the second member 12 is supported by the support member 32 of the crystal growth furnace 30, the bell jar 35 is closed, and the inside of the crystal growth furnace 30 is evacuated by a vacuum apparatus.
  • the inside of the crystal growth furnace 30 is maintained at a vacuum level lower than 10 ⁇ 3 Pa (preferably a vacuum level of 10 ⁇ 4 Pa or less).
  • the position of the crucible 10 S in the height direction is set by the elevating drive mechanism 33 so that the crucible 10 S is positioned in the high temperature side furnace chamber 30a.
  • the temperature of the high temperature side furnace chamber 30a is in a temperature range of 1370 to 1450 ° C. higher than the melting point of calcium fluoride, and the temperature of the low temperature side furnace chamber 30b is slightly lower than the melting point of calcium fluoride. Keep in range.
  • the pre-processed product melted in the high temperature side furnace chamber 30a moves the crucible 10 S at a speed of about 0.1 to 5 mm / h by the elevating drive mechanism 33.
  • the calcium fluoride single crystal is gradually grown from the lower part of the crucible 10 S , and the single crystal is grown to the top. In this way, calcium fluoride single crystal Pc can be obtained.
  • a powder raw material Pp was prepared by mixing lead fluoride (PbF 2 ) as a scavenger with high purity calcium fluoride raw material powder having a purity of 99.0% or more. And this powder raw material Pp was filled in the large-volume crucible 10 L to which the first member 11 and the second member 12 were connected (FIG. 1A, powder raw material filling step I).
  • the inside of the pretreatment furnace 20 was evacuated by a vacuum device to a vacuum degree of 10 ⁇ 4 Pa or less.
  • the temperature in the pretreatment furnace 20 was raised to 850 ° C. by the heater 26 and held for 8 hours, and the reaction between the impurities in the calcium fluoride raw material powder and the scavenger was advanced.
  • the temperature in the pretreatment furnace 20 is raised to 1400 ° C. and maintained in that state, and after the powder raw material Pp is melted, the temperature in the pretreatment furnace 20 is gradually lowered to room temperature to obtain the melt. It was solidified to obtain a pretreated product Pb which is a calcium fluoride polycrystal (FIG. 1 (b), pretreatment step II).
  • the second member 12 is separated from the first member 11 by releasing the connection state between the first member 11 and the second member 12 of the crucible.
  • the second member 12 at the top of the crucible was removed, and the crucible was changed to a small volume crucible 10 S containing the pre-processed product Pb (FIG. 1 (c), second member separation step III).
  • the crucible 10 S containing the pre-processed product Pb is placed in the high temperature side furnace chamber 30a in the crystal growth furnace 30 and evacuated by a vacuum device, and the inside of the crystal growth furnace 30 has a degree of vacuum of 10 ⁇ 4 Pa or less. did.
  • the temperature of the high temperature side furnace chamber 30a was gradually raised to 1410 ° C. by the upper heater 36a and the lower heater 36b to completely melt the pretreatment product Pb in the crucible.
  • the crucible 10 S is pulled down to the low temperature side furnace chamber 30b at a speed of about 0.5 mm / hr, and calcium fluoride is gradually added from the lower part of the crucible 10 S.
  • a single crystal was grown to obtain a calcium fluoride single crystal ingot Pc (FIG. 1 (d), crystal growth step IV).
  • the test piece cut out from the calcium fluoride single crystal ingot thus obtained was irradiated with a deep ultraviolet laser beam having a wavelength of 193 nm, and changes in internal transmittance and the like were measured. As a result, it was confirmed that it had good deep ultraviolet laser durability performance.
  • the pretreatment step of solidifying the compound raw material powder after melting, and the compound single crystal There is no need to replace the pre-processed product between the growing crystal growing steps.
  • the second member can be removed and a small volume crucible can be installed in the crystal growth furnace, so that a compound single crystal can be produced in a relatively small crystal growth furnace. Therefore, according to the present invention, it is possible to omit the replacement work of the pre-processed product which is difficult to handle by itself, and to reduce the manufacturing cost. A compound single crystal can be obtained.
  • a relatively small crystal growth furnace can be used, capital investment can be suppressed and the manufacturing cost of the compound single crystal product can be reduced.
  • the cross-sectional shape of the crucible is a rectangular or polygonal square tube or an ellipse.
  • An elliptic cylinder may be sufficient.
  • the calcium fluoride single crystal is exemplified as a representative example of the fluoride single crystal used for the optical element for the ultraviolet region, but the present invention is limited to the calcium fluoride single crystal.
  • the same effect can be applied to barium fluoride (BaF 2 ) and strontium fluoride (SrF 2 ) whose crystal structure belongs to the same cubic system as calcium fluoride and has similar properties. Can be obtained.
  • the vacuum container is exemplified by a base plate and a bell jar.
  • the shape and material of the vacuum container are not particularly limited, and a desired temperature and degree of vacuum are realized. Any possible configuration can be used without problems.
  • the object of the crucible for producing a compound crystal of the present invention is not limited to fluoride crystals, and oxide crystals such as sapphire ( ⁇ -Al 2 O 3 ) are also present. It is included in the object of the invention.
  • the crucible material is preferably tungsten, molybdenum, or tungsten-molybdenum alloy, and the inside of the pretreatment furnace and the crystal growth furnace is not evacuated but in an inert gas atmosphere such as argon. It is preferable that

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

 本発明の第1の態様によると、フッ化物結晶製造用のルツボは粉状または粒状のフッ化物原料を前処理炉において融解し冷却、固化してフッ化物の前処理品を作製し、作製された前処理品を結晶育成炉において融解して結晶に育成させるフッ化物結晶の製造に用いられるルツボであって、 底部及び底部と繋がる筒部からなる有底筒状の第1部材と、筒部と着脱可能に構成された中空筒状の第2部材とからなり、 第1部材と第2部材とを接続したときに両者が一体となって前処理品作製用の大容積ルツボを形成し、第1部材と第2部材とを分離したときに第1部材により結晶育成用の小容積ルツボを形成するように構成した。

Description

化合物結晶製造用のルツボ、化合物結晶の製造装置及びルツボを用いた化合物結晶の製造方法
 本発明は、化合物結晶製造用のルツボ、化合物結晶の製造装置、並びに化合物結晶の製造方法に関するものであり、なお詳細には、紫外領域で光学材料として使用するフッ化物結晶の製造に好適なルツボ、製造装置、並びに製造方法に関するものである。
 近年、ウエハ上に集積回路パターンを描画するリソグラフィー技術が急速に発展している。集積回路の高集積化の要求は年々高まっており、その実現のためには投影露光装置の投影光学系の解像力を上げる必要がある。投影光学系の解像力は、使用する光の波長と投影光学系のNA(開口数)に依存する。すなわち、解像度を向上させるためには、使用する光の波長をより短くするか、投影光学系のNAをより大きく(レンズを大口径化)する必要があるが、NAを大きくすると焦点深度が浅くなってしまうので、波長を短くする方が有利である。
 そのため、露光装置においては露光光波長の短波長化が進んでおり、g線(波長436nm)、i線(波長365nm)から更に波長が短いエキシマレーザの波長域へと移行してきている。これらの露光装置の光学系において、i線の波長域までは光学ガラスを使用することができるが、KrFエキシマレーザ(波長248nm)やArFエキシマレーザ(波長193nm)等の波長域の光に対しては、光学ガラスの透過率は低いために使用することは困難である。このため、250nm以下の波長域を光源とする露光装置の光学系には、石英ガラスまたはフッ化物結晶、例えばフッ化カルシウム(CaF2)単結晶を加工した光学素子を使用することが一般的になっている。
 フッ化カルシウム(蛍石)は、193nmの波長域に対して比較的高い透過率を有している。しかしながら、光子エネルギーの高いこのような波長の紫外光が長時間照射されると、結晶中に含まれる微細な不純物や格子欠陥で吸収・発熱が生じ損傷を受ける。そのため、ArFエキシマレーザ用の光学素子として使用されるフッ化カルシウムの単結晶製造には、化学的に合成された高純度のフッ化カルシウムが用いられる。
 化学的に合成された高純度のフッ化カルシウムは、一般に粒径0.1μm程度の粉末状~粒径5mm程度の粒状の大きさの原料として提供される。このような粉末状または粒状のフッ化カルシウムは、かさ密度が小さいために、融解すると体積が著しく減少する。そのため、比較的大きなフッ化カルシウム単結晶を製造する場合、粉末状または粒状のフッ化カルシウムの原料を一度融解した後に固化させる前処理工程により多結晶バルクからなる前処理品を作製し、これを結晶育成工程で再び融解して単結晶を製造するのが一般的である(例えば、特許文献1、特許文献2を参照)。
 化合物単結晶の工業的な育成方法としては、ブリッジマン法(一般に垂直型の炉を使用するため垂直ブリッジマン法と呼ばれ、ストックバーガー法またはルツボ降下法とも称される)が広く用いられている。粉末原料を融解して前処理品を作製する前処理工程、及びブリッジマン法により単結晶を育成する結晶育成工程を含む、フッ化カルシウム結晶の製造を例に挙げて、化合物結晶の従来の製造方法及びこの製法に用いる製造装置について、図3を参照して説明する。第1構成例のフッ化物結晶の製造方法は、前処理用ルツボ110、前処理炉120、結晶育成用ルツボ115、結晶育成炉130、及び図示省略する制御装置などが用いられる。
 フッ化カルシウム粉末原料を融解して前処理品を作製する前処理行程は、図3(a)に示す前処理用ルツボ110と、図3(b)に示す前処理炉120とを用いて行われる。前処理用ルツボ110は、円錐状の底部110a及び底部110aと繋がって上方に延びる円筒状の筒部110bからなり、上方は開放された状態に構成される。前処理用ルツボ110は、粉末原料を大量に充填するため、筒部110bの上下方向寸法が比較的大きい大容積のルツボとなっている。
 前処理炉120は、炉の基体をなすベースプレート121、ベースプレート121に対して昇降することで開閉可能に設けられ、閉鎖状態でベースプレートとともに真空容器を形成するベルジャー125、前処理用ルツボ110を支持するルツボ支持部材122、前処理用ルツボ110の周囲を囲むようにベルジャー125の内部に設けられたヒーター126、ベルジャー125の内側を覆う断熱材127、前処理炉120内を真空排気する真空装置(不図示)などから構成される。
 前処理行程は、まず図3(a)に示すように、前処理用ルツボ110にフッ化カルシウムの原料粉末とスカベンジャーとを混合した化合物粉末原料Ppを充填する。次に、図3(b)に示すように、粉末原料Ppが充填された前処理用ルツボ110をルツボ支持部材122に支持させ、ベルジャー125を降下させてベースプレート121に密着させることで閉鎖する。ベースプレート121とベルジャー125とにより形成される真空容器内を真空装置により排気し、10-3~10-4Pa程度の真空度に保持する。その状態でヒーター126により真空容器内を加熱し、真空容器内の温度をフッ化カルシウムの融点より高い1370~1450℃の温度範囲まで昇温して粉末原料Ppを融解させた後、真空容器内の温度を室温まで下げて融解物を固化させる。これにより、フッ化カルシウムの多結晶バルクからなる前処理品Pbが作製される。
 次に、上記前処理行程で作製された前処理品Pbを前処理用ルツボ110から取り出し、図3(c)に示すように、結晶育成用ルツボ115に入れ替える。結晶育成用ルツボ115も、円錐状の底部115a及び底部115aと繋がって上方に延びる円筒状の筒部115bからなる上方が開放された状態となっている。筒部115bの直径は前処理用ルツボの筒部110bよりもやや大きい。結晶育成工程は、前処理工程により融解、固化されてバルク状態になった多結晶フッ化カルシウムを再融解して単結晶化する工程である。この工程では、多結晶バルクから単結晶になる際の体積変化量は小さい。そのため、結晶育成用ルツボ115は、筒部115bの上下方向寸法は比較的小さく、前処理品Pbを収容可能な程度の小容積のルツボとなっている。
 結晶育成工程は、上記の結晶育成用ルツボ115と、図3(d)に示す結晶育成炉130とを用いて行われる。結晶育成炉130は、炉の基体をなすベースプレート131、ベースプレート131に対して昇降することで開閉可能に設けられ、閉鎖状態でベースプレートとともに真空容器を形成するベルジャー135、結晶育成用ルツボ115を支持するルツボ支持部材132、ルツボ支持部材132を昇降することにより結晶育成用ルツボ115を上下移動させる昇降駆動機構133、結晶育成用ルツボ115の周囲を取り囲むようにベルジャー135の内部に設けられた上部ヒーター136a及び下部ヒーター136b、ベルジャー135の内側を覆う断熱材137、上部ヒーター136aと下部ヒーター136bとの間に設けられ真空容器内を高温側炉室130aと低温側炉室130bとに分ける仕切り断熱材138、真空容器内を真空排気する真空装置(不図示)などから構成される。
 図3(c)を参照して説明した入れ替え作業によって、前処理用ルツボから入れ替えられた前処理品Pbが収容された結晶育成用ルツボ115を、ルツボ支持部材132に支持させる。ベルジャー135を降下させてベースプレート131に密着させることでベルジャー135内部を閉鎖して、ベースプレート131とベルジャー135とにより形成される真空容器内を、真空装置により排気し、10-3~10-4Pa程度の真空度に保持する。このとき、結晶育成用ルツボ115が高温側炉室130aに位置するように昇降駆動機構133で結晶育成用ルツボ115の高さ方向の位置を設定しておく。真空容器内が上記の真空度に到達したら上部ヒーター136aにより真空容器内を加熱し、真空容器内の温度をフッ化カルシウムの融点より高い1370~1450℃の温度範囲まで昇温して前処理品Pbを融解する。次に、低温側炉室130bに向けて、昇降駆動機構133により結晶育成用ルツボ115を0.1~5mm/h程度の速度で引き下げ、結晶育成用ルツボ115の下部から徐々に結晶Pcを育成させる。この時、下部ヒーター136bは上部ヒーター136aよりも低温に設定しておく。融解状態だったフッ化カルシウムの最上部まで結晶化したところで結晶育成を終了する。
 以上の説明では、フッ化カルシウム結晶の製造を例に挙げて、化合物結晶の従来の製造方法における第1構成例として、前処理用ルツボ110に充填した粉末原料Ppを前処理炉120により融解した後に固化して前処理品Pbを作製し、このように作製された前処理品Pbを結晶育成用ルツボ115に入れ替えて、結晶育成炉130により再び融解した後に固化することで結晶育成させる手法を例示した。次に、再びフッ化カルシウム結晶の製造を例に挙げて、化合物結晶の従来の製造方法における第2構成例として、前処理品Pbの入れ替え作業を行わない手法について、図4を参照して説明する。
 なお、本構成例においては、結晶育成用ルツボ215は、上記の前処理用ルツボ110の大きさと同程度の比較的大型のものであり、また、結晶育成炉230は、結晶育成用ルツボ215の大きさに合わせて大型のものである。ただし、前処理炉と結晶育成炉については、基本的構成は上述の第1構成例と同様である。そこで、同様部分には同一番号を付して重複説明を省略し、相違する部分について簡潔に説明する。本構成例のフッ化カルシウム結晶の製造装置は、前処理炉120、結晶育成用ルツボ215、結晶育成炉230、及び図示省略する制御装置などから構成される。
 本構成例の製造方法では、前処理を行う際に前処理専用のルツボは用いず、結晶育成用ルツボ215に粉末原料を充填して融解した後に固化して前処理品を作製する。結晶育成用ルツボ215は、前述した結晶育成用ルツボ115と同様に、円錐状の底部215a及び底部215aと繋がって上方に延びる円筒状の筒部215bからなる上方が開放された状態に構成される。上記の通り、原料粉末はかさ密度が小さく、結晶育成用ルツボ115と同程度の容積では十分な大きさの単結晶を育成することができない。そのため、結晶育成用ルツボ215は、筒部215bの上下方向寸法が結晶育成用ルツボ115の筒部115bより長く、前処理用ルツボ110と同等の容積を有する大容積ルツボとして構成される。
 図4(b)に示す前処理工程は、図3(b)を参照して説明した前処理工程と同様に行われる。すなわち、粉末原料Ppが充填された結晶育成用ルツボ215をルツボ支持部材122に支持させてベルジャー125をベースプレート121に密着させることで閉鎖し、ベースプレート121とベルジャー125とにより形成される真空容器内を真空排気して所定の真空度まで減圧する。所定の真空度に到達したら、ヒーター126により真空容器内を加熱し、真空容器内の温度をフッ化カルシウムの融点より高い温度まで昇温する。粉末原料Ppを融解させた後、真空容器内の温度を室温まで下げて固化させ、フッ化カルシウムの多結晶バルクからなる前処理品Pbを作製する。
 次に、前処理品Pbを内部に有する結晶育成用ルツボ215を前処理炉120から取り出し、図4(c)に示した結晶育成炉230内のルツボ支持部材132に支持させる。結晶育成炉230は結晶育成用ルツボ215の大きさに合わせた大型のものである。なお、前処理工程で得られる前処理品Pbの体積(前処理品Pbの上面高さ)は前述した第1構成例における前処理品の体積と同程度である。そのため、結晶育成炉230において、仕切り断熱材138よりも上方の高温側炉室230aの容積は仕切り断熱材138よりも下方の低温側130bの容積より大きく、ベルジャー235は第1構成例における結晶育成炉230のベルジャー125より更に大きく、上部ヒーター236a及び断熱材237も大型である。
 図4(c)に示す結晶育成工程は、図3(d)を参照して説明した結晶育成工程と同様に行われる。すなわち、固化した前処理品Pbを内部に有する結晶育成用ルツボ215をルツボ支持部材132に支持させて、ベルジャー235をベースプレート131に密着させることで閉鎖する。ベースプレート131とベルジャー235とにより形成される真空容器内を真空排気して所定の真空度まで減圧する。このとき、結晶育成用ルツボ215全体が高温側炉室230aに位置するように昇降駆動機構133により結晶育成用ルツボ215の高さ方向の位置を設定しておく。真空容器内が所定の真空度に到達したら、上部ヒーター236aにより加熱し、真空容器内の温度をフッ化カルシウムの融点以上まで昇温して前処理品Pbを融解する。次に、低温側炉室130bに向けて、昇降駆動機構133により結晶育成用ルツボ215を引き下げ、結晶育成用ルツボ215の下部から徐々に結晶Pcを育成させる。このとき、下部ヒーター136bは上部ヒーター236aよりも低い温度に設定しておく。融解状態だったフッ化カルシウムの最上部まで結晶化したところで結晶育成を終了する。
日本国特許第4569872号 日本国特開2002-308694号公報
 上記説明のような従来の化合物結晶の製造方法及び製造装置には、以下のような課題があった。まず、図3を参照して説明した第1構成例の製造方法では、前処理工程と結晶育成工程との間で、前処理品を前処理用ルツボから結晶育成用ルツボに入れ替える入れ替え作業が必要であった(図3(c)を参照)。このような入れ替え作業は、作業工数の発生により製造コストを上昇させることに加え、入れ替え作業時に金属不純物の混入や酸素の吸蔵が生じて光学特性の悪化を招くおそれがあった。
 一方、図4を参照して説明した第2構成例の製造方法では、前処理品を前処理用ルツボから結晶育成用ルツボに入れ替える入れ替え作業は発生しない。しかしながら、かさ密度の小さい粉末原料を融解して前処理品を作製する前処理工程と結晶育成工程とを同じ結晶育成用ルツボ215を使用することから、大容積の結晶育成用ルツボを用いる必要がある。これに伴って、大型の結晶育成炉を用いる必要がある(図3(d)と図4(c)とを対比して参照)。結晶育成炉の大型化は設備投資を増大させ、製造コストを上昇させるという課題があった。
 本発明の第1の態様によると、化合物結晶製造用のルツボであって、粉状または粒状の化合物原料を前処理炉において融解した後に冷却して固化させて化合物結晶の前処理品を作製し、前処理品を結晶育成炉において融解した後に化合物結晶に育成させる化合物結晶の製造に用いられるルツボであって、底部及び底部と繋がる筒部からなる第1部材と、筒部に接続した状態と分離した状態の両方の状態とすることが可能な中空筒状の第2部材とからなり、第1部材に第2部材が接続された状態となって前処理品作製用の大容積ルツボを形成し、第1部材から第2部材が分離された状態となって結晶育成用の小容積ルツボを形成するように構成されている。
 本発明の第2の態様によると、第1の態様の化合物結晶製造用のルツボであって、化合物はフッ化物であることが好ましい。
 本発明の第3の態様によると、化合物結晶の製造装置であって、真空容器と、真空容器の内部でルツボを支持するルツボ支持部材と、真空容器の内部に設けられたヒーターとからなり、ルツボは、底部と、底部と繋がる筒部からなる第1部材と、第1部材の筒部に接続した状態と分離した状態の両方の状態とすることが可能な中空筒状の第2部材とからなり、ルツボ支持部は、ルツボの第2部材が第1部材に接続された状態で前記ルツボを支持するように構成されている。
 本発明の第4の態様によると、第3の態様の化合物結晶の製造装置であって、化合物はフッ化物であることが好ましい。
 本発明の第5の態様によると、化合物結晶の製造装置であって、真空容器と、真空容器の内部でルツボを支持するルツボ支持部材と、ルツボ支持部材を昇降することによりルツボを上下方向に移動させる昇降駆動機構と、真空容器の内部に設けられた上部ヒーターおよび下部ヒーターとからなり、ルツボは、底部と、底部と繋がる筒部からなる第1部材と、第1部材の筒部に接続した状態と分離した状態の両方の状態とすることが可能な中空筒状の第2部材とからなり、ルツボ支持部は、ルツボの第2部材が第1部材から分離された状態でルツボの第1部材を支持するように構成されている。
 本発明の第6の態様によると、第5の態様の化合物結晶の製造装置であって、化合物はフッ化物であることが好ましい。
 本発明の第7の態様によると、ルツボを用いた化合物結晶の製造方法であって、ルツボは、底部及び底部と繋がる筒部からなる第1部材と、筒部に接続した状態と分離した状態の両方の状態とすることが可能な中空筒状の第2部材とからなり、第1部材に第2部材が固定された状態で、ルツボ内に粉状または粒状の化合物原料を充填し、融解した後に固化することにより化合物結晶の前処理品を第1部材内部に形成する前処理工程と、化合物結晶の前処理品が第1部材内部に形成された状態で、第2部材を第1部材から分離するルツボ分離工程と、第1部材内部に形成された化合物前処理品を融解した後に固化して化合物の結晶を育成させる結晶育成工程と、からなるように構成されている。
 本発明の第8の態様によると、第7の態様のルツボを用いた化合物結晶の製造方法であって、化合物はフッ化物であることが好ましい。
 本発明は、以上説明したように構成しているので、次のような効果を奏する。化合物の単結晶を育成する結晶育成工程との間で、前処理品の入れ替え作業を行う必要が無いので、その分、製造コストを低減できると同時に、入れ替え作業に伴う金属不純物の混入等を抑制して高品質の化合物単結晶を得ることができる。また、結晶育成工程では小容積状態のルツボを用いることができるため、小型の結晶育成炉を用いることができるため、この点でも設備投資を抑制して製造コストを低減することができる。
図1は、本発明の態様として例示する化合物結晶製造用のルツボ、化合物結晶の製造装置及び製造方法を説明するための模式的な説明図である。 図2は、上記ルツボにおける接続部の構成例を示す模式図である。 図3は、従来の第1構成例の化合物結晶の製造装置及び製造方法を説明するための模式的な説明図である。 図4は、従来の第2構成例の化合物結晶の製造装置及び製造方法を説明するための模式的な説明図である。
 以下、本発明を実施するための形態について、図1を参照して説明する。図1は、本発明の態様をフッ化カルシウム単結晶の製造を例に挙げて、その製造装置及び製造方法を説明するための模式的な説明図である。
 本態様におけるフッ化カルシウム単結晶の製造には、ルツボ10、前処理炉20、結晶育成炉30、及び図示省略する制御装置などを用いる。ルツボ10は、図1(a)に示すように、底部11a及び底部と繋がって上方に延びる円筒状の筒部11bからなる第1部材11と、第1部材の筒部11bに固定した状態と分離した状態の両方の状態とすることが可能な中空円筒状の第2部材12とから構成される。ルツボ10を構成する第1部材11及び第2部材12は、前処理炉20及び結晶育成炉30の内部における高温状態に耐えると同時に、融解したフッ化カルシウムに金属不純物等が溶出しないような材質、例えば等方性黒鉛等を用いて製作される。
 第1部材11における筒部11bの上端部、及び第2部材12における筒部12bの下端部には、互いに着脱可能に接続し、接続時に一体の筒部を形成するように構成された接続構造15が設けられている。図2に接続構造15の構成例151,152,153を示す。
 図2(a)に示す第1構成例の接続構造151は、雄ねじと雌ねじの一対1511,1512により着脱可能な接続構造を構成した例である。図2(a)の上側に示すように、第1部材11における筒部11bの上端部には外周面に雄ねじ1511が形成されており、第2部材12における筒部12bの下端部には、内周面に雄ねじ1511と螺合する雌ねじ1512が形成されている。このような構成により、図2(a)の下側に示すように、雄ねじ1511に雌ねじ1512を螺合して第1部材11と第2部材12とを接続したときに、両者が一体となって前処理品作製用の大容積ルツボが形成される。また、雄ねじ1511と雌ねじ1512との螺合を解除し、第1部材11と第2部材12とを分離したときに、第1部材11により結晶育成用の小容積ルツボが形成される。なお、第1部材11側に雄ねじ1511、第2部材12側に雌ねじ1512を形成した構成を例示したが、雄ねじと雌ねじの組み合わせは逆(第1部材11側が雌ねじ1512)であっても良い。
 図2(b)に示す第2構成例の接続構造152は、一対のテーパーフランジ1521,1522とクランプ1525とにより着脱可能な接続構造を構成した例である。図2(b)の上側に示すように、第1部材11における筒部11bの上端部、及び第2部材12における筒部12bの下端部には、それぞれ外周側の面がテーパ状のテーパーフランジ1521,1522が形成されている。クランプ1525には内周部にテーパーフランジ1521,1522と面接触するテーパ面が形成されている。このような構成により、図2(b)の下側に示すように、第1部材のテーパーフランジ1521と第2部材のテーパーフランジ1522とを接触させた状態で、それらの外周からクランプ1525を巻き付けて締め込む(クランプの直径を縮小させる)ことにより第1部材11と第2部材12とが接続され、両者が一体となって前処理品作製用の大容積ルツボが形成される。また、クランプ1525を取り外し、テーパーフランジ1521及び1522の接続を解除して第1部材11と第2部材12とを分離すると、第1部材11により結晶育成用の小容積ルツボが形成される。
 図2(c)に示す第3構成例の接続構造153は、一対のフランジ1531,1532とボルト及びナットからなる締結具1535とにより着脱可能な接続構造を構成した例である。図2(c)の上側に示すように、第1部材11における筒部11bの上端部、及び第2部材12における筒部12bの下端部には、それぞれ円盤状のフランジ1531,1532が形成されている。フランジ1531,1532には、各々所定ピッチでボルトを挿通するための穴が形成されている。そのため、図2(c)の下側に示すように、第1部材のフランジ1531と第2部材のフランジ1532とを接触させた状態で穴を位置合わせし、ボルトを挿通してナットを締め込むことにより、第1部材11と第2部材12とが接続され、両者が一体となって前処理品作製用の大容積ルツボが形成される。また、締結具1535を取り外し、フランジ1531及び1532の接続を解除して第1部材11と第2部材12とを分離すると、第1部材11により結晶育成用の小容積ルツボが形成される。
 このように、ルツボ10は、接続機構15(151,152,153)を利用して、第1部材11と第2部材12とを接続したときに両者が一体となって前処理品作製用の大容積ルツボが形成され、第1部材11と第2部材12との接続を解除して分離したときに第1部材11により結晶育成用の小容積ルツボを形成するように構成される。第1部材11の直径及び高さは、製造すべきフッ化カルシウム単結晶の大きさに基づいて設定され、第2部材12の高さは、粉末原料を融解、固化したときの前処理品の体積が第1部材11の容積よりも大きくならないように設定される。以降では、第1部材11と第2部材12とが接続された大容積状態のルツボ10と、第1部材11から第2部材12が分離されて小容積状態のルツボ10とを識別するときに、大容積状態のルツボ10をルツボ10L、小容積状態のルツボ10をルツボ10Sと表記する。
 前処理炉20は、図1(b)に示すように、前処理炉20の基体をなすベースプレート21、ベースプレート21に対して昇降することで開閉可能に設けられ、閉鎖状態でベースプレートとともに真空容器を構成するベルジャー25、ルツボ10Lを支持するルツボ支持部材22、前処理炉20内を排気し所定の真空度に維持する真空装置(不図示)などを備える。ベルジャー25の内部には、ルツボ10Lの周囲を囲む位置にヒーター26が設けられ、その外側にベルジャー内面を覆う断熱材27が設けられている。
 ベースプレート21及びベルジャー25は、高温高真空状態でアウトガスが少なく、また、前処理炉20内で発生する可能性がある反応性ガスに対して耐食性を有することが求められる。そのため、ベースプレート21及びベルジャー25はこれらの特性を備えたステンレス鋼で製作される。ベルジャー25の大きさ(前処理炉20の容積)は、第1部材11と第2部材12とを接続した大容積状態のルツボ10Lを収容可能とされ、大容積状態のルツボ10Lに充填された粉末原料Ppを効率的に融解して前処理品が作製できるサイズとなるように、直径及び高さが設定されている。
 ルツボ支持部材22は、ルツボ10Lとともにフッ化カルシウムの融点以上まで昇温される。そのため、ルツボ支持部材22は、前処理炉20内での高温状態に耐えると同時に、融解したフッ化カルシウムに金属不純物等が混入しないような材質、例えばルツボと同様の等方性黒鉛により構成される。ヒーター26は、フッ化カルシウムの融点以上まで昇温可能なものが用いられ、図示省略する制御装置によって温度制御される。ヒーターの制御系は温度センサ、温度調節器、電力制御器などから構成される。
 結晶育成炉30は、図1(d)に示すように、結晶育成炉30の基体をなすベースプレート31、ベースプレート31に対して昇降することで開閉可能に設けられ閉鎖状態でベースプレートとともに真空容器を形成するベルジャー35、ルツボ10Sを支持するルツボ支持部材32、ルツボ支持部材32を昇降することによりルツボ10Sを上下移動させる昇降駆動機構33、結晶育成30内を排気し所定の真空度に維持する真空装置(不図示)などから構成される。ベルジャー35には、結晶育成炉30内を高温側炉室30aと低温側炉室30bとに分ける仕切り断熱材38が設けられ、上方の高温側炉室30aに上部ヒーター36a、下方の低温側炉室30bに下部ヒーター36bが、それぞれルツボ10Sの周囲を取り囲む位置に設けられている。また、上部ヒーター36a、下部ヒーター36bの外側には、ベルジャー32の内面を覆う断熱材37が設けられている。
 前処理炉20と同様に、結晶育成炉30も内部が高温高真空の状態に曝される。そのため、ベースプレート31及びベルジャー35は、高温高真空状態でアウトガスが少なく、結晶育成炉30内で発生し得る反応性ガスに対して一定の耐食性を有する材質、例えばこれらの特性を備えたステンレス鋼により製作される。ベルジャー35の大きさ(結晶育成炉30の容積)は、第1部材11から第2部材12を分離した小容積状態のルツボ10Sを収容し、小容積状態のルツボ10S内で前処理品Pbを効率的に融解し、垂直ブリッジマン法により単結晶を育成できるようなサイズとなるように、直径及び高さが設定されている。
 ルツボ支持部材32は、上部がルツボ10Sとともにフッ化カルシウムの融点以上まで昇温される。そのため、ルツボ支持部材32は、少なくとも支持部材32の上部が、結晶育成炉30内での高温状態に耐えると同時に、融解したフッ化カルシウムに金属不純物等が混入しないような材質、例えばルツボと同様の等方性黒鉛により構成される。ヒーター26は、フッ化カルシウムの融点以上まで昇温可能なものが用いられ、図示省略する制御装置によって温度制御される。ヒーターの制御系は温度センサ、温度調節器、電力制御器などから構成される。
 次に、フッ化カルシウム単結晶の製造方法について説明する。この製造方法は、図1(a)に示す粉末原料の充填工程I、図1(b)に示す前処理工程II、図1(c)に示す第2部材の分離工程III、及び同図(d)に示す結晶育成工程IVを有して構成される。
 粉末原料の充填工程Iでは、ルツボ10は、第1部材11と第2部材12とが接続された大容積状態のルツボ10Lとされた状態で、フッ化カルシウムの原料粉末とスカベンジャーとを混合した粉末原料Ppが充填される。フッ化カルシウムの原料粉末としては、化学的に合成された粒径0.1μm~5mm程度の高純度のフッ化カルシウム粉末が用いられる。粉末原料の充填量は、融解した後に固化した前処理品の体積が、小容積状態のルツボ10Sの容積よりも大きくならないように、フッ化カルシウム単結晶の密度から算出した重量とする。スカベンジャーは、原料中に不純物として含まれる元素をフッ素に置換すると共に、置換された不純物元素を揮発性の化合物として除去する作用を持つ。スカベンジャーとしては、フッ化鉛(PbF2)や四フッ化炭素(CF4)などのフッ素化剤が用いられる。例えば、フッ化カルシウムの原料粉末にフッ化鉛を添加して前処理炉で加熱して融解すると、原料粉末に不純物として含まれる酸化カルシウム(CaO)の酸素を、揮発性の酸化鉛(PbO)として除去することができる。
 前処理行程IIでは、前処理炉20により粉末原料Ppが融解された後に冷却により固化され、フッ化カルシウム多結晶のバルクからなる前処理品Pbが作製される。まず、粉末原料Ppが充填されたルツボ10Lをルツボ支持部材22により支持させ、ベルジャー25を閉鎖して真空装置により排気し、前処理炉20内を10-3Paより低い真空度(好ましくは10-4Pa以下の真空度)に保持する。次いで、ヒーター26により加熱して前処理炉20内の温度をフッ化カルシウムの融点より高い1370~1450℃の温度範囲まで昇温する。粉末原料Ppが融解したらヒーター26をオフにして冷却し固化させる。これにより、粉末原料中に含まれていた不純物元素が揮発性の化合物として除去され、ルツボ内には高純度のフッ化カルシウムの多結晶バルクからなる前処理品Pbが作製される。
 第2部材の分離工程IIIでは、前処理炉20から取り出したルツボ10L内で固化した前処理品Pbをそのまま保持した状態で、大容積状態のルツボ10Lから小容積状態のルツボ10Sに変化させる。すなわち、第1部材11と第2部材12との接続構造15を解除することで、第1部材11から第2部材12を分離し、小容積状態のルツボ10Sに変化させる。
 結晶育成工程IVでは、ブリッジマン法により、結晶育成炉30により前処理品Pbが融解され、フッ化カルシウムの単結晶が製造される。まず、第2部材12が取り外されて高さが低くなったルツボ10Sを、結晶育成炉30の支持部材32に支持させ、ベルジャー35を閉鎖して結晶育成炉30内を真空装置により排気し、結晶育成炉30内を10-3Paよりも低い真空度(好ましくは10-4Pa以下の真空度)に保持する。このとき、ルツボ10Sが高温側炉室30aに位置するように昇降駆動機構33でルツボ10Sの高さ方向の位置を設定しておく。上部ヒーター36a及び下部ヒーター36bにより、高温側炉室30aの温度はフッ化カルシウムの融点より高い1370~1450℃の温度範囲に、低温側炉室30bの温度はフッ化カルシウムの融点よりやや低い温度範囲に保持する。上部ヒーター36a及び下部ヒーター36bに供給する電力を制御しながら、高温側炉室30aで融解された前処理品は、昇降駆動機構33によりルツボ10Sを0.1~5mm/h程度の速度で低温側炉室30bに引き下げることにより、ルツボ10Sの下部から徐々にフッ化カルシウム単結晶が育成され、最上部まで単結晶が育成される。このようにしてフッ化カルシウム単結晶Pcを得ることができる。
 (実施例)
 次に、実施例として、フッ化カルシウム単結晶の製造について説明する。純度99.0%以上の高純度フッ化カルシウム原料粉末に、スカベンジャーとしてフッ化鉛(PbF2)を混合して粉末原料Ppを調製した。そして、この粉末原料Ppを第1部材11と第2部材12が接続された大容積状態のルツボ10Lに充填した(図1(a)、粉末原料の充填工程I)。
 次に、粉末原料Ppが充填されたルツボ10Lを前処理炉20内に設置した後、前処理炉20内を真空装置により排気し、10-4Pa以下の真空度とした。この状態でヒーター26により前処理炉20内の温度を850℃まで昇温して8時間保持し、フッ化カルシウム原料粉末内の不純物とスカベンジャーとの反応を進行させた。次いで、前処理炉20内の温度を1400℃まで昇温してその状態に保持し、粉末原料Ppを融解させた後、前処理炉20内の温度を室温まで徐々に降下させて融解物を固化させ、フッ化カルシウム多結晶体である前処理品Pbを得た(図1(b)、前処理工程II)。
 次に、前処理炉20からルツボ10Lを取出した後、ルツボの第1部材11と第2部材12との接続状態を解除することで、第1部材11から第2部材12を分離して、ルツボ上部の第2部材12を取り外し、ルツボを前処理品Pbが入った小容積状態のルツボ10Sに変化させた(図1(c)、第2部材の分離工程III)。
 次に、前処理品Pbが入ったルツボ10Sを結晶育成炉30内の高温側炉室30aに配置して真空装置により排気し、結晶育成炉30内を10-4Pa以下の真空度とした。この状態で、上部ヒーター36a及び下部ヒーター36bにより、高温側炉室30aの温度を1410℃まで徐々に昇温してルツボ内の前処理品Pbを完全に融解した。次いで、上部ヒーター36a及び下部ヒーター36bのヒーター電力を制御しながら、0.5mm/hr程度の速度でルツボ10Sを低温側炉室30bに引き下げて、ルツボ10Sの下部から徐々にフッ化カルシウム単結晶を育成させ、フッ化カルシウム単結晶インゴットPcを得た(図1(d)、結晶育成工程IV)。
 ルツボ10Sから取り出したフッ化カルシウム単結晶インゴットには大きな残留応力が存在するため、インゴットが割れない程度のアニールを実施して残留応力を低減し、その後、結晶育成炉30からルツボ10Sを取り出してフッ化カルシウム単結晶インゴットPcを得た(熱処理工程は不図示、)。
 こうして得られたフッ化カルシウム単結晶インゴットから切り出したテストピースに波長193nmの深紫外レーザ光を照射して、内部透過率の変化等を測定した。その結果、良好な深紫外レーザ耐久性能を持つことが確認された。
 以上説明した通り、本発明の化合物結晶製造用のルツボ、化合物結晶の製造装置及び化合物結晶の製造方法によれば、化合物の原料粉末を融解した後に固化する前処理工程と、化合物の単結晶を育成する結晶育成工程との間で、前処理品の入れ替え作業を行う必要が無い。また、結晶育成工程では第2部材を取り外して小容積状態のルツボを結晶育成炉に設置できるため、比較的小型の結晶育成炉で化合物単結晶を製造することができる。従って、本発明によれば、単体では取り扱いが煩雑な前処理品の入れ替え作業を省略でき、製造コストを低減できることができると同時に、入れ替え作業に伴う金属不純物の混入等を抑制して高品質の化合物単結晶を得ることができる。また、結晶育成炉は比較的小型のものを使用できるため、設備投資を抑制して化合物単結晶製品の製造コストを低減することができる。
 なお、以上説明した実施形態では、第1部材11及び第2部材12からなるルツボ10が円筒状である場合を例示したが、ルツボの断面形状は四角形あるいは多角形の角筒状や楕円形の楕円筒状であっても良い。また、本発明の実施の形態においては、紫外領域用の光学素子用として用いられるフッ化物単結晶の代表例としてフッ化カルシウム単結晶を例示したが、本発明はフッ化カルシウム単結晶に限定されるものではなく、例えば、結晶構造がフッ化カルシウムと同じ立方晶系に属し性質が類似するフッ化バリウム(BaF2)やフッ化ストロンチウム(SrF2)についても同様に適用可能で、同様の効果を得ることができる。
 また、以上説明した実施形態では、真空容器としてベースプレート及びベルジャーから構成されるものを例示したが、本発明の実施において真空容器の形状や材質に特に制限は無く、所望の温度および真空度を実現可能な構成であれば問題なく使用することができる。
 更に、本発明の化合物結晶製造用のルツボ、化合物結晶の製造装置及び化合物結晶の製造方法の対象は、フッ化物結晶に限られず、サファイア(α-Al)等の酸化物結晶も本発明の対象に含まれる。なお、サファイアを製造する場合は、ルツボの材料はタングステン、モリブデン、あるいはタングステン・モリブデン合金とすることが好ましく、前処理炉及び結晶育成炉の内部は真空排気ではなく、アルゴン等の不活性ガス雰囲気とすることが好ましい。
 上記の通り、種々の実施の形態を説明したが、本発明はこれらの内容に限定されるものではない。
 次の優先権基礎出願の開示内容は引用文としてここに組み込まれる。
 日本国特許出願2011年第163031号(2011年7月26日出願)

Claims (8)

  1.  化合物結晶製造用のルツボであって、
     粉状または粒状の化合物原料を前処理炉において融解した後に冷却して固化させて化合物結晶の前処理品を作製し、前記前処理品を結晶育成炉において融解した後に化合物結晶に育成させる化合物結晶の製造に用いられるルツボであって、
     底部及び前記底部と繋がる筒部からなる第1部材と、前記筒部に接続した状態と分離した状態の両方の状態とすることが可能な中空筒状の第2部材とからなり、
     前記第1部材に前記第2部材が接続された状態となって前処理品作製用の大容積ルツボを形成し、前記第1部材から前記第2部材が分離された状態となって結晶育成用の小容積ルツボを形成するように構成した化合物結晶製造用のルツボ。
  2.  請求項1に記載の化合物結晶製造用のルツボであって、前記化合物はフッ化物である。
  3.  化合物結晶の製造装置であって、
     真空容器と、前記真空容器の内部でルツボを支持するルツボ支持部材と、前記真空容器の内部に設けられたヒーターとからなり、
     前記ルツボは、底部と前記底部と繋がる筒部からなる第1部材と、前記第1部材の前記筒部に接続した状態と分離した状態の両方の状態とすることが可能な中空筒状の第2部材とからなり、
     前記ルツボ支持部は、前記ルツボの前記第2部材が前記第1部材に接続された状態で前記ルツボを支持するように構成した化合物結晶の製造装置。
  4.  請求項3に記載の化合物結晶の製造装置であって、前記化合物結晶はフッ化物結晶である。
  5.  化合物結晶の製造装置であって、
     真空容器と、前記真空容器の内部でルツボを支持するルツボ支持部材と、前記ルツボ支持部材を昇降することにより前記ルツボを上下方向に移動させる昇降駆動機構と、前記真空容器の内部に設けられた上部ヒーターおよび下部ヒーターとからなり、
     前記ルツボは、底部と前記底部と繋がる筒部からなる第1部材と、前記第1部材の前記筒部に接続した状態と分離した状態の両方の状態とすることが可能な中空筒状の第2部材とからなり、
     前記ルツボ支持部は、前記ルツボの前記第2部材が前記第1部材から分離された状態で前記ルツボの前記第1部材を支持するように構成した化合物結晶の製造装置。
  6.  請求項5に記載の化合物結晶の製造装置であって、前記化合物はフッ化物である。
  7. ルツボを用いた化合物結晶の製造方法であって、
     前記ルツボは、底部及び前記底部と繋がる筒部からなる第1部材と、前記筒部に接続した状態と分離した状態の両方の状態とすることが可能な中空筒状の第2部材とからなり、
     前記第1部材に前記第2部材が固定された状態で、前記ルツボ内に前記粉状または粒状の化合物原料を充填し、融解した後に固化することにより前記化合物結晶の前処理品を前記第1部材内部に形成する前処理工程と、
     前記化合物結晶の前処理品が前記第1部材内部に形成された状態で、前記第2部材を前記第1部材から分離するルツボ分離工程と、
     前記第1部材内部に形成された前記化合物前処理品を融解した後に固化して前記化合物の結晶を育成させる結晶育成工程と、からなるルツボを用いた化合物結晶の製造方法。
  8.  請求項7に記載のルツボを用いた化合物結晶の製造方法であって、前記化合物はフッ化物である。
PCT/JP2012/068792 2011-07-26 2012-07-25 化合物結晶製造用のルツボ、化合物結晶の製造装置及びルツボを用いた化合物結晶の製造方法 WO2013015301A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201280036617.8A CN103717790A (zh) 2011-07-26 2012-07-25 化合物晶体制造用的坩埚、化合物晶体的制造装置以及使用坩埚的化合物晶体的制造方法
JP2013525734A JP5741691B2 (ja) 2011-07-26 2012-07-25 化合物結晶製造用のルツボ、化合物結晶の製造装置及びルツボを用いた化合物結晶の製造方法
DE112012003129.6T DE112012003129B4 (de) 2011-07-26 2012-07-25 Verfahren zum Herstellen eines Verbindungskristalls mittels eines Tiegels
US14/163,095 US20140202377A1 (en) 2011-07-26 2014-01-24 Crucible for producing compound crystal, apparatus for producing compound crystal, and method for producing compound crystal using crucible

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011163031 2011-07-26
JP2011-163031 2011-07-26

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US14/163,095 Continuation US20140202377A1 (en) 2011-07-26 2014-01-24 Crucible for producing compound crystal, apparatus for producing compound crystal, and method for producing compound crystal using crucible

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2013015301A1 true WO2013015301A1 (ja) 2013-01-31

Family

ID=47601142

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2012/068792 WO2013015301A1 (ja) 2011-07-26 2012-07-25 化合物結晶製造用のルツボ、化合物結晶の製造装置及びルツボを用いた化合物結晶の製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20140202377A1 (ja)
JP (1) JP5741691B2 (ja)
CN (1) CN103717790A (ja)
DE (1) DE112012003129B4 (ja)
WO (1) WO2013015301A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105683425A (zh) * 2013-10-30 2016-06-15 联合材料公司 坩埚以及使用了该坩埚的单晶蓝宝石的制造方法
USD839444S1 (en) 2013-08-21 2019-01-29 A.L.M.T. Corp. Crucible
CN111379023A (zh) * 2018-12-29 2020-07-07 北京首量科技股份有限公司 一种氟化钙单晶的制备方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112538654B (zh) * 2020-11-20 2021-08-27 湖南烁科晶磊半导体科技有限公司 一种分子束外延源料冷却方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6221077U (ja) * 1985-07-15 1987-02-07
JPS6442388A (en) * 1987-08-07 1989-02-14 Toshiba Ceramics Co Quartz crucible for silicon single crystal pulling apparatus
JP2001240497A (ja) * 2000-02-29 2001-09-04 Kobe Steel Ltd フッ化物単結晶製造方法及び製造装置
JP2002170780A (ja) * 2000-12-01 2002-06-14 Sharp Corp ルツボおよびそれを使用した多結晶シリコンの成長方法
JP2002193609A (ja) * 2000-12-26 2002-07-10 Mitsubishi Materials Corp 結晶シリコン製造装置
JP2003002789A (ja) * 2001-04-09 2003-01-08 Kobe Steel Ltd フッ化物単結晶の製造方法
JP2004315255A (ja) * 2003-04-14 2004-11-11 Nikon Corp フッ化物結晶の製造方法、フッ化物結晶、光学系、及び光リソグラフィ装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000169285A (ja) * 1998-12-10 2000-06-20 Sumitomo Metal Ind Ltd 融液収容ルツボ
JP2002308694A (ja) 2002-02-12 2002-10-23 Canon Inc フッ化物結晶及びフッ化物結晶レンズの製造方法
JP2006016242A (ja) * 2004-07-01 2006-01-19 Nikon Corp フッ化物結晶の製造方法、光学部材および露光装置
JP4569872B2 (ja) 2005-05-23 2010-10-27 株式会社ニコン 蛍石の単結晶製造装置及びそれを用いた蛍石単結晶の製造方法
DE102006017622B4 (de) 2006-04-12 2008-03-27 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von multikristallinem Silizium
JP2011163031A (ja) 2010-02-10 2011-08-25 Hitachi Constr Mach Co Ltd 油圧ショベルのアタッチメント制御装置
CN201706886U (zh) * 2010-03-04 2011-01-12 佛山通宝精密合金股份有限公司 一种用于感应加热的拼装式石墨坩埚
CN102071457A (zh) * 2011-01-30 2011-05-25 江西赛维Ldk太阳能高科技有限公司 一种盛装硅料用的组合式坩埚

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6221077U (ja) * 1985-07-15 1987-02-07
JPS6442388A (en) * 1987-08-07 1989-02-14 Toshiba Ceramics Co Quartz crucible for silicon single crystal pulling apparatus
JP2001240497A (ja) * 2000-02-29 2001-09-04 Kobe Steel Ltd フッ化物単結晶製造方法及び製造装置
JP2002170780A (ja) * 2000-12-01 2002-06-14 Sharp Corp ルツボおよびそれを使用した多結晶シリコンの成長方法
JP2002193609A (ja) * 2000-12-26 2002-07-10 Mitsubishi Materials Corp 結晶シリコン製造装置
JP2003002789A (ja) * 2001-04-09 2003-01-08 Kobe Steel Ltd フッ化物単結晶の製造方法
JP2004315255A (ja) * 2003-04-14 2004-11-11 Nikon Corp フッ化物結晶の製造方法、フッ化物結晶、光学系、及び光リソグラフィ装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USD839444S1 (en) 2013-08-21 2019-01-29 A.L.M.T. Corp. Crucible
USD872872S1 (en) 2013-08-21 2020-01-14 A.L.M.T. Corp. Crucible
CN105683425A (zh) * 2013-10-30 2016-06-15 联合材料公司 坩埚以及使用了该坩埚的单晶蓝宝石的制造方法
JP2016108241A (ja) * 2013-10-30 2016-06-20 株式会社アライドマテリアル 坩堝
JP2016108240A (ja) * 2013-10-30 2016-06-20 株式会社アライドマテリアル 坩堝
CN111379023A (zh) * 2018-12-29 2020-07-07 北京首量科技股份有限公司 一种氟化钙单晶的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE112012003129T5 (de) 2014-04-10
JPWO2013015301A1 (ja) 2015-02-23
JP5741691B2 (ja) 2015-07-01
US20140202377A1 (en) 2014-07-24
CN103717790A (zh) 2014-04-09
DE112012003129B4 (de) 2018-12-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4154744B2 (ja) フッ化カルシウム結晶の製造方法および原料の処理方法
JP5741691B2 (ja) 化合物結晶製造用のルツボ、化合物結晶の製造装置及びルツボを用いた化合物結晶の製造方法
CN107849732B (zh) 单晶制造装置和单晶制造方法
TWI422716B (zh) 長晶方法
JPH09315893A (ja) フッ化カルシウム結晶の製造方法
JP4569872B2 (ja) 蛍石の単結晶製造装置及びそれを用いた蛍石単結晶の製造方法
JP5260797B2 (ja) 蛍石の製造方法
WO2021020539A1 (ja) ScAlMgO4単結晶及びその作成方法並びに自立基板
JP2004531444A (ja) フッ化物単結晶の調製方法
JP4844429B2 (ja) サファイア単結晶の製造方法
JP4931106B2 (ja) シリカガラスルツボ
JP4463730B2 (ja) フッ化金属単結晶の製造方法
WO2005116305A1 (ja) フッ化カルシウム結晶の製造方法
JP2004315255A (ja) フッ化物結晶の製造方法、フッ化物結晶、光学系、及び光リソグラフィ装置
EP1424408A1 (en) Single crystal pulling apparatus for metal fluoride
JP4821623B2 (ja) 単結晶育成用ルツボ及びこのルツボにより育成されるフッ化物結晶
JP4839205B2 (ja) 蛍石の製造方法
JP2005035825A (ja) フッ化物結晶製造用ルツボおよびフッ化物結晶の製造方法
JP2006347792A (ja) フッ化金属単結晶体の製造方法
JP4839204B2 (ja) 蛍石
JP6035584B2 (ja) 蛍石結晶の製造方法
JP2006117494A (ja) フッ化金属単結晶体の製造方法および該方法により製造されるフッ化金属のアズグロウン単結晶体
US20040099207A1 (en) As-grown single crystal of calcium fluoride
JP2005200279A (ja) シリコンインゴットの製造方法、太陽電池
JP2012036054A (ja) フッ化金属単結晶の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 12817870

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2013525734

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1120120031296

Country of ref document: DE

Ref document number: 112012003129

Country of ref document: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 12817870

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1