WO2012133116A1 - 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法 - Google Patents

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2012133116A1
WO2012133116A1 PCT/JP2012/057364 JP2012057364W WO2012133116A1 WO 2012133116 A1 WO2012133116 A1 WO 2012133116A1 JP 2012057364 W JP2012057364 W JP 2012057364W WO 2012133116 A1 WO2012133116 A1 WO 2012133116A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
resin composition
photosensitive resin
image display
display device
meth
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2012/057364
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
泰洋 瀬里
真弓 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to US14/008,503 priority Critical patent/US9482946B2/en
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to KR1020137027775A priority patent/KR20130132655A/ko
Priority to KR1020167030271A priority patent/KR20160128464A/ko
Priority to JP2013507465A priority patent/JP5660200B2/ja
Priority to CN2012800158921A priority patent/CN103460131A/zh
Publication of WO2012133116A1 publication Critical patent/WO2012133116A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0041—Photosensitive materials providing an etching agent upon exposure
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0047—Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0382—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable the macromolecular compound being present in a chemically amplified negative photoresist composition
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor

Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive resin composition, a photosensitive element using the same, a method for forming partition walls of an image display device, and a method for manufacturing an image display device.
  • an image display device (PLD: Paper Like Display) that is as thin as paper, can be freely carried, and can display characters and images has attracted attention.
  • PLD Paper Like Display
  • Such an image display device has visibility and portability, which are the advantages of paper as a normal printed matter, and is capable of electrically rewriting information, so that it can be used as an alternative to paper in terms of environment and cost. Practical application is being attempted.
  • Non-Patent Document 1 As the display technology of the image display device, various types such as a type in which particles are moved by electrophoresis, a liquid crystal type, and an electrochemical type have been devised (for example, see Non-Patent Document 1).
  • a type for moving particles methods such as a microcapsule electrophoresis method, a microcup electrophoresis method, an electronic powder fluid method, and a toner display are being studied.
  • white and black particles as a display medium are sealed between transparent electrodes, an electric field is applied, and these particles are electrically moved to form and display a white / black image.
  • active driving and passive driving as driving methods of the image display device, and a back technology (panel circuit) for the image display device has been studied.
  • a partition wall for enclosing white / black particles is required as described above.
  • a method for forming such partition walls a mold transfer method, a screen printing method, a sand blast method, a photolithography method, an additive method, and the like have been proposed (for example, see Patent Document 1).
  • a photolithographic method that can form a high-definition pattern efficiently by irradiation with actinic rays using a photosensitive resin composition has attracted attention.
  • Non-Patent Document 2 There is a report example of realizing a full color display by combining a color filter with a white / black image display (for example, see Non-Patent Document 2).
  • a display laser descriptive display
  • this display has a simple structure, the manufacturing cost is low, and since only the display pixels are depicted with a laser, it has excellent features such as low power consumption. Since this display needs to partition and enclose the phosphor, a partition is required.
  • a method for forming such a partition there are various methods as in the case of PLD. Among them, a photolithographic method capable of efficiently forming a high-definition pattern has attracted attention.
  • the partition wall of the image display device using the photolithography method is formed as follows. That is, a step of laminating a light-shielding layer called a black matrix on a substrate by a photolithographic technique, and a photosensitive resin composition or a photosensitive film (photosensitive element) is laminated on the light-shielding layer. A step of forming a photosensitive resin composition layer, a step of irradiating a predetermined portion of the photosensitive resin composition layer with actinic rays to photocure an exposed portion, and a step of removing an unexposed portion to form a photocured product pattern
  • the partition of an image display apparatus is formed by the method containing these. Accordingly, patterning properties (sensitivity, resolution, and adhesion to the substrate) are generally required for the photosensitive resin composition for forming the partition walls of the image display device.
  • an image display device for PLD When manufacturing an image display device for PLD, a process of filling a display medium such as particles in the photocured product pattern obtained in the above process, a process of heat-treating the photocured product pattern, a process of attaching an electrode substrate, etc. In addition. Thereby, the image display apparatus which uses the hardened
  • a laser delineable display it further includes a step of heat-treating the photocured product pattern obtained in the above step, a step of applying a phosphor or the like in the photocured product pattern, and the like.
  • mold display which uses the hardened
  • the color of the partition material is preferably gray to black, depending on the display and application. This is because, by having the above color, it is possible to expect an effect that the color looks tight when an image is displayed.
  • Patent Documents 2 to 4 disclose photosensitive resin compositions for forming partition walls of an image display device.
  • JP 2007-178881 A JP 2010-066666 A JP 2010-169934 A JP 2010-256775 A
  • the photosensitive resin composition for forming the partition walls of the image display device as disclosed in the above Patent Documents 2 to 4 When the photosensitive resin composition for forming the partition walls of the image display device as disclosed in the above Patent Documents 2 to 4 is used, the light resistance which is one of the reliability required for the display is not sufficient. However, there is a problem that the display characteristics may be affected by fading due to ultraviolet rays. In particular, in the laser description type display, the partition wall material is irradiated with an ultraviolet laser, and when a photosensitive resin composition as disclosed in the above Patent Documents 2 to 4 is used, the photosensitive resin composition fades and affects display characteristics. There was a problem.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and can form a partition wall of an image display device excellent in light resistance, and has a photosensitive resin composition excellent in patternability, a photosensitive element using the same, and an image It is an object of the present invention to provide a method for forming partition walls of a display device and a method for manufacturing an image display device.
  • the present invention is a photosensitive resin composition for forming partition walls of an image display device, wherein the photosensitive resin composition comprises (A) a binder polymer, (B) a photopolymerizable compound, and (C) a photopolymerization.
  • An initiator (D) an inorganic black pigment, (E) a surfactant, and (F) a mercapto group-containing compound, wherein the (B) photopolymerizable compound contains at least one unsaturated group and isocyanuric in the molecule.
  • a photosensitive resin composition containing a photopolymerizable compound having a ring structure.
  • the photosensitive resin composition of the present invention has the above-described configuration, it is excellent in patterning properties and easily forms partition walls for an image display device excellent in light resistance without fading due to ultraviolet rays. Can do.
  • the photopolymerizable compound having at least one unsaturated group and isocyanuric ring structure in the molecule further has at least one hydroxyl group in the molecule. Thereby, it becomes possible to further improve light resistance and patterning property.
  • the (D) inorganic black pigment contains titanium black. Thereby, it becomes possible to make light resistance and patterning property compatible at a higher level.
  • the (E) surfactant preferably contains an imidazoline-based surfactant.
  • the present invention also provides a photosensitive element comprising a support and a photosensitive resin composition layer comprising the above-mentioned photosensitive resin composition formed on the support.
  • the photosensitive element of the present invention is provided with a photosensitive resin composition layer comprising the above-described photosensitive resin composition of the present invention, so that the appearance of the coating film is not impaired, and the light resistance is not faded by ultraviolet rays.
  • An excellent partition for an image display device can be easily formed with good workability.
  • the thickness of the photosensitive resin composition layer is preferably 10 to 100 ⁇ m. As a result, it is possible to form a partition for an image display device having excellent light resistance without fading the ultraviolet ray and without fading due to ultraviolet rays.
  • the present invention also includes a lamination step of laminating a photosensitive resin composition layer composed of the photosensitive resin composition on a substrate of an image display device, and irradiating a predetermined portion of the photosensitive resin composition layer with actinic rays.
  • a forming method is provided.
  • the formation method of the partition of the image display apparatus which has the process of forming a photocured material pattern similarly to the said process is provided.
  • the method for forming the partition wall of the image display device of the present invention uses the above-described photosensitive resin composition of the present invention, the partition wall for an image display device having excellent light resistance without fading due to ultraviolet rays can be easily obtained. Can be well formed.
  • the present invention further includes a heating step of heat-curing the photocured product pattern formed by the above-described method for forming a partition wall of an image display device at 60 to 250 ° C. to form a partition wall for the image display device.
  • a heating step of heat-curing the photocured product pattern formed by the above-described method for forming a partition wall of an image display device at 60 to 250 ° C. to form a partition wall for the image display device Provide a method.
  • the present invention also provides a method for manufacturing an image display device, comprising: a step of filling or applying a display medium in the partition wall; and a step of attaching a substrate to the opposite side of the partition wall so as to face one of the substrates.
  • a method for manufacturing an image display device comprising: a step of filling or applying a display medium in the partition wall; and a step of attaching a substrate to the opposite side of the partition wall so as to face one of the substrates.
  • the present invention also includes (A) a binder polymer, (B) a photopolymerizable compound, (C) a photopolymerization initiator, (D) an inorganic black pigment, (E) a surfactant, and (F) a mercapto group-containing compound. And (B) a photopolymerizable compound for forming a partition wall of an image display device, wherein the photopolymerizable compound contains a photopolymerizable compound having at least one unsaturated group and isocyanuric ring structure in the molecule.
  • Application as a functional resin composition is provided.
  • the present invention further includes (A) a binder polymer, (B) a photopolymerizable compound, (C) a photopolymerization initiator, (D) an inorganic black pigment, (E) a surfactant, and (F) a mercapto group-containing compound. And (B) a photopolymerizable compound for forming a partition wall of an image display device, wherein the photopolymerizable compound contains a photopolymerizable compound having at least one unsaturated group and isocyanuric ring structure in the molecule.
  • the present invention provides an application for the production of a conductive resin composition.
  • the photosensitive resin composition excellent in patterning property, the photosensitive element using the same, the formation method of the partition of an image display apparatus, and an image A method for manufacturing a display device can be provided.
  • the photosensitive resin composition of this invention is excellent in the dispersion stability of (D) inorganic type black pigment, and it becomes possible to maintain the coating-film external appearance at the time of setting it as a photosensitive element favorable.
  • (meth) acrylic acid means acrylic acid and methacrylic acid corresponding thereto
  • (meth) acrylate means acrylate and corresponding methacrylate
  • (meth) acryloyl means acryloyl and it. Means the corresponding methacryloyl.
  • the photosensitive resin composition of the present invention comprises (A) a binder polymer, (B) a photopolymerizable compound, (C) a photopolymerization initiator, (D) an inorganic black pigment, (E) a surfactant, and ( F) It contains a mercapto group-containing compound (mercapto group-containing hydrogen donor).
  • the present inventor infers as follows.
  • leuco crystal violet has been used as a hydrogen donor for (C) a photopolymerization initiator in order to improve patterning properties.
  • the leuco crystal violet becomes crystal violet after exposure and colors the resin by coloring.
  • the resin containing crystal violet has a problem that it is easily faded by ultraviolet rays.
  • the (F) mercapto group-containing compound (mercapto group-containing hydrogen donor) used in the present invention can donate hydrogen without color development, patterning property does not occur without causing a problem of fading. Can be improved.
  • by fading the resin with (D) inorganic black pigment fading due to ultraviolet rays can be reduced as much as possible.
  • (A) Component Binder Polymer
  • the (A) binder polymer in the present invention include acrylic resins, styrene resins, epoxy resins, amide resins, amide epoxy resins, alkyd resins, and phenol resins. It is done.
  • an acrylic resin is preferable from the viewpoint of alkali developability. These can be used alone or in combination of two or more binder polymers.
  • combinations of two or more types of binder polymers include two or more types of binder polymers composed of different copolymer components, two or more types of binder polymers having different weight average molecular weights, and two or more types of binder polymers having different degrees of dispersion. Can be mentioned.
  • a polymer having a multimode molecular weight distribution described in JP-A-11-327137 can also be used.
  • the binder polymer of component (A) can be produced, for example, by radical polymerization of a polymerizable monomer.
  • the polymerizable monomer include polymerizable styrene derivatives such as styrene, vinyl toluene, ⁇ -methyl styrene, p-methyl styrene and p-ethyl styrene, and vinyl alcohols such as acrylamide, acrylonitrile and vinyl-n-butyl ether.
  • Examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, (meth Hexyl acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and structural isomers thereof. These can be used alone or in combination of two or more.
  • the binder polymer preferably contains a carboxyl group from the viewpoint of alkali developability.
  • the binder polymer is obtained by radical polymerization of a polymerizable monomer having a carboxyl group and other polymerizable monomers. Can be manufactured.
  • the polymerizable monomer having a carboxyl group is preferably (meth) acrylic acid from the viewpoints of developability and stability.
  • the component (A) is at least one selected from the group consisting of butyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, styrene and styrene derivatives, from the viewpoint of improving light resistance, resolution and adhesion. It is preferable to have a structural unit based on a polymerizable monomer. Moreover, it is more preferable that both at least one selected from the group consisting of butyl (meth) acrylate and a butyl derivative (meth) acrylate and at least one selected from the group consisting of styrene and a styrene derivative are included. That is, the component (A) is preferably obtained by radical polymerization of these polymerizable monomers, and preferably has a structural unit derived from these polymerizable monomers. .
  • the content constitutes the component (A) in terms of excellent adhesion and peelability. It is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, still more preferably 5 to 35% by mass, based on the total mass of the polymerizable monomer, and 10 to 30% by mass. % Is particularly preferred.
  • the content thereof is based on the total mass of the polymerizable monomer constituting the component (A) in terms of excellent adhesion and peelability. Is preferably 10 to 70% by mass, more preferably 15 to 60% by mass, still more preferably 20 to 50% by mass, and particularly preferably 25 to 45% by mass.
  • (A) component has a structural unit based on (meth) acrylic-acid alkylesters other than a (meth) butyl acrylate and a (meth) acrylic acid butyl derivative from a viewpoint of improving alkali developability and peeling characteristics. Is preferred.
  • (A) component has a structural unit based on (meth) acrylic acid alkyl ester other than (meth) acrylic acid butyl and a (meth) acrylic acid butyl derivative
  • the content is in peelability, resolution, and adhesiveness.
  • it is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 45% by mass, based on the total mass of the polymerizable monomers constituting the component (A), and 10 to 40% by mass. More preferably, it is more preferably 15 to 40% by mass.
  • the acid value of the binder polymer is preferably 30 mgKOH / g or more from the viewpoint of resolution, more preferably 80 mgKOH / g or more, still more preferably 130 mgKOH / g or more, 180 mgKOH / g. The above is particularly preferable.
  • the acid value of the binder polymer (A) is preferably 250 mgKOH / g or less, more preferably 240 mgKOH / g or less, and 230 mgKOH / g or less from the viewpoint of developer resistance and adhesion. Is more preferable, and 220 mgKOH / g or less is particularly preferable.
  • the weight average molecular weight of the binder polymer (measured by gel permeation chromatography (GPC) and converted by a calibration curve using standard polystyrene) is preferably 20,000 or more from the viewpoint of developer resistance. 25,000 or more, more preferably 30,000 or more, and particularly preferably 40,000 or more.
  • the weight average molecular weight of the (A) binder polymer is preferably 300,000 or less, more preferably 150,000 or less, and further preferably 100,000 or less, from the viewpoint of shortening the development time. It is preferably 90,000 or less.
  • Component (B) Photopolymerizable compound
  • the component (B) that can be used in the present embodiment is not particularly limited as long as photocrosslinking is possible.
  • the component (B1) at least one in the molecule Photopolymerizable compound having an unsaturated group and an isocyanuric ring structure
  • component (B2) a compound obtained by reacting a polyhydric alcohol and / or a glycidyl group-containing compound with an ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic acid
  • component (B3) The compound which has one ethylenically unsaturated bond in a molecule
  • these can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types, the photosensitive resin composition of this invention contains (B1) component as an essential component among these.
  • Component (B1) Photopolymerizable compound having at least one unsaturated group and isocyanuric ring structure in the molecule
  • the photopolymerizable compound of component (B1) in the present invention has at least one unsaturated group and isocyanuric ring in the molecule.
  • it can be used without particular limitation as long as it has a structure, it preferably has at least one hydroxyl group in the molecule.
  • the photopolymerizable compound of component (B) includes a photopolymerizable compound having at least one unsaturated group and isocyanuric ring structure in the molecule, at least one hydroxyl group, at least one unsaturated group and isocyanuric in the molecule. Both photopolymerizable compounds having a ring structure can also be included.
  • a compound represented by the general formula (I) is preferably used from the viewpoint of adhesion.
  • each R 1 is independently a group represented by the following General Formula (II), a group represented by the following General Formula (III), or a group represented by the following General Formula (IV). Represents a group. However, at least one of R 1 is a group represented by the following general formula (II) or the following general formula (IV). ]
  • R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, and m is an integer of 1 to 14.
  • R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, n is an integer of 1 to 9, and m is an integer of 1 to 14. ]
  • At least one of R 1 is a group represented by the general formula (III), and At least one of R 1 is a group represented by general formula (II) or general formula (IV).
  • m is an integer of 1 to 14, and preferably 1 to 6. By setting m to 14 or less, chemical resistance can be improved.
  • m is an integer of 1 to 14, preferably 1 to 6, and n is an integer of 1 to 9, and preferably 3 to 6. By setting m to 14 or less, chemical resistance can be improved, and by setting n to 9 or less, mechanical strength can be improved.
  • a compound represented by the general formula (V) is particularly preferable.
  • a compound represented by the general formula (VI) is particularly preferable.
  • Examples of commercially available compounds represented by the above general formula (I) include NK oligo UA-21 (trade name of Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., general formula (I), wherein R 1 is all represented by the general formula ( Compound IV), M-315 (trade name of Toa Gosei Co., Ltd., a compound in which R 1 is all of the general formula (II) in general formula (I)), M-215 (trade name of Toa Gosei Co., Ltd.) In general formula (I), two R 1 are general formula (II), and one R 1 is general formula (III)) etc. are mentioned.
  • the content of the photopolymerizable compound having at least one unsaturated group and an isocyanuric ring structure in the molecule is 100 masses of the total amount of the component (A) and the component (B) from the viewpoint of adhesion and film formation.
  • the amount is preferably 1 to 40 parts by mass, more preferably 3 to 30 parts by mass, and still more preferably 6 to 25 parts by mass.
  • Component (B2) Component obtained by reacting polyhydric alcohol and / or glycidyl group-containing compound with ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic acid (B2)
  • Component includes, for example, polyethylene glycol di (meth) acrylate (ethylene group) Polyalkylene glycol di (meth) acrylates such as polypropylene glycol di (meth) acrylate (having 2 to 14 propylene groups); trimethylolpropane di (meth) acrylate, Trimethylolpropane (meth) acrylate compounds such as methylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethoxytri (meth) acrylate, trimethylolpropane propoxytri (meth) acrylate; tetramethylolmethane tri (meth) acrylate, Tetramethylolmethane (meth) acrylate compounds such as lamethylolmethane tetra (meth) acryl
  • group di (meth) acrylate compound is included as (B2) component at the point which is excellent in adhesiveness.
  • Examples of the bisphenol A-based di (meth) acrylate compound include compounds represented by the following general formula (VII).
  • R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
  • XO and YO each independently represent an oxyethylene group or an oxypropylene group, which are different from each other.
  • (XO) m 1 , (XO) m 2 , (YO) n 1 and (YO) n 2 each independently represent a (poly) oxyethylene chain or a (poly) oxypropylene chain.
  • m 1 , m 2 , n 1 and n 2 each independently represents an integer of 0 to 40.
  • n 1 + n 2 is 0 to 20
  • XO is an oxypropylene group and YO is an oxypropylene group
  • m 1 + m 2 is 1 to 40
  • n 1 + n 2 is 0 to 20
  • XO is an oxypropylene group and YO is an oxyethylene group
  • m 1 + m 2 is 0 to 20
  • n 1 + n 2 is 1 to 40.
  • 2,2-bis (4- (methacryloxypentaethoxy) phenyl) propane is BPE-500 (trade name, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) or It is commercially available as FA-321M (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.).
  • 2,2-bis (4- (methacryloxypentadecaethoxy) phenyl) propane is commercially available as BPE-1300 (trade name, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.). These may be used alone or in any combination of two or more.
  • the bisphenol A (meth) acrylate compound is preferably used in combination with the trimethylolpropane (meth) acrylate compound.
  • the content of the component (B2) in the photosensitive resin composition is 1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B) in terms of excellent film formability. Is preferably 5 to 15 parts by mass.
  • Component (B3) Compound having one ethylenically unsaturated bond in the molecule
  • Examples of the compound having one ethylenically unsaturated bond in the molecule include nonylphenoxypolyethyleneoxyacrylate, phthalic acid compounds, and (meth) Examples include alkyl acrylates.
  • nonylphenoxypolyethyleneoxyacrylate or a phthalic acid-based compound from the viewpoint of improving the resolution, adhesion, resist shape, and release property after curing in a well-balanced manner.
  • the component (B3) is not particularly limited, but preferably includes a compound represented by the following general formula (IX) in terms of excellent resolution.
  • R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 6 represents a hydrogen atom, a methyl group or a halogenated methyl group
  • R 7 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom. It represents either an atom or a hydroxyl group
  • p represents an integer of 0 to 4.
  • a plurality of R 7 may be the same or different.
  • Examples of the compound represented by the general formula (IX) include ⁇ -chloro- ⁇ -hydroxypropyl- ⁇ ′-(meth) acryloyloxyethyl-o-phthalate, ⁇ -hydroxyethyl- ⁇ ′-(meth).
  • Examples include acryloyloxyethyl-o-phthalate and ⁇ -hydroxypropyl- ⁇ '-(meth) acryloyloxyethyl-o-phthalate, among which ⁇ -chloro- ⁇ -hydroxypropyl- ⁇ '-(meth) acryloyl Oxyethyl-o-phthalate is preferred.
  • ⁇ -Chloro- ⁇ -hydroxypropyl- ⁇ '-methacryloyloxyethyl-o-phthalate is commercially available as FA-MECH (product name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.).
  • the content of the component (B3) in the photosensitive resin composition is 1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B) in terms of excellent film formability. Is preferably 5 to 15 parts by mass.
  • the component (B3) can be used alone or in combination of two or more. Among them, nonylphenoxypolyethyleneoxyacrylate and a phthalic acid compound are preferably used in combination.
  • (C) Component Photopolymerization Initiator Next, the photopolymerization initiator that is the (C) component will be described.
  • fragrances such as benzophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propanone-1
  • Quinones such as alkyl anthraquinones; benzoin ether compounds such as benzoin alkyl ether; benzoin compounds such as benzoin and alkyl benzoin; benzyl derivatives such as benzyldimethyl ketal; 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole Dimer, 2,4,5-triarylimidazole dimer such as 2- (o-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer; 9-phenylacridine, 1,7- (9,9 Acridine derivatives such as' -a
  • the component (C) preferably contains a 2,4,5-triarylimidazole dimer from the viewpoint of improving the sensitivity at the time of resist pattern formation and the adhesion of the formed resist pattern, and 2- (o- More preferably, it includes (chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer.
  • the 2,4,5-triarylimidazole dimer may be symmetric or asymmetric in structure.
  • Component (D) Inorganic black pigment
  • the inorganic black pigment of component (D) include titanium black, carbon black, cobalt black and the like, and titanium black is preferably used from the viewpoint of patterning properties.
  • the particle size of the inorganic black pigment is preferably 1 nm to 10 ⁇ m and more preferably 10 nm to 1 ⁇ m from the viewpoint of suppressing aggregation. If it is 1 nm or less, it is difficult to obtain industrially, and if it is 10 ⁇ m or more, the patterning property may be affected.
  • Surfactant As the surfactant of the above component (E), for example, surfactants represented by imidazoline, unsaturated polycarboxylic acid polymer, alkylammonium salt of polycarboxylic acid, polysiloxane copolymer, etc. Is mentioned. Examples of commercially available products include homogenol L-100, homogenol L-18 (trade name, manufactured by Kao Corporation), Disperbyk-116, Disperbyk-108 (trade name, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.), and the like.
  • an imidazoline surfactant From the viewpoint of the dispersion stability of the (D) inorganic black pigment in the photosensitive resin composition solution and the appearance of the coating film when forming the photosensitive element, it is preferable to use an imidazoline surfactant.
  • the carbon at the 2-position of the imidazoline is substituted with a linear saturated or unsaturated hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, and the nitrogen at the 3-position is substituted with a hydroxyethyl group.
  • imidazoline derivatives a compound represented by the following formula (VIII) is preferably used, and homogenol L-95 (product name, manufactured by Kao Corporation) is commercially available.
  • the mercapto group-containing compound functions as a hydrogen donor for (C) the photopolymerization initiator.
  • the mercapto group-containing compound of the component (F) as long as it contains a mercapto group, it can be used without particular limitation as long as it does not inhibit the effects of the present invention. In terms of excellent resin transparency after exposure, it preferably contains a mercapto group-containing hydrogen donor compound containing an aromatic ring, and preferably contains a mercapto group-containing hydrogen donor compound containing a heterocyclic ring.
  • mercaptobenzoxazole in combination with a photoinitiator, characteristics such as sensitivity, resolution, and adhesion are good, and from the viewpoint of being industrially available, mercaptobenzoxazole, mercaptobenzimidazole, mercaptobenzotriazole, mercaptobenzothiazole, di- It is more preferable to include at least one selected from mercaptothiadiazole and mercaptodimethylaminopyridine, and it is more preferable to include at least one selected from mercaptobenzimidazole and mercaptobenzoxazole.
  • the content of the component (A) in the photosensitive resin composition is 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B) from the viewpoint of the coating properties of the photosensitive resin composition and the mechanical strength of the photocured product.
  • the content is preferably in the range of 40 to 80 parts by mass, and more preferably 45 to 70 parts by mass.
  • the content of the component (B) in the photosensitive resin composition is 20 to 60 masses with respect to 100 parts by mass of the total amount of the components (A) and (B), from the viewpoints of resolution, adhesion, and film formability.
  • the range is preferably in the range of 30 parts by weight, and more preferably 30 to 55 parts by weight.
  • the content of the (C) photopolymerization initiator in the photosensitive resin composition is 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B) from the viewpoints of sensitivity, adhesion, and curability at the bottom of the photocured product.
  • the content is preferably 0.1 to 20 parts by mass, and more preferably 0.2 to 10 parts by mass.
  • the content of hexaarylbiimidazole in the component (C) is preferably 10 to 90% by mass, and preferably 20 to 80% by mass from the viewpoint of adhesion and suppression of development sludge during development processing. More preferred.
  • the content of the (D) inorganic black pigment in the photosensitive resin composition is the components (A) and ((A) and (A) from the viewpoint of the light shielding properties, dispersion stability, and appearance of the coating film when the photosensitive element is formed.
  • the total amount of component B) is preferably from 0.1 to 10 parts by weight, more preferably from 0.2 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight.
  • the content of the (E) surfactant in the photosensitive resin composition is (A) from the viewpoint of the light shielding properties, dispersion stability, coating film appearance during film formation of the photosensitive element, and film handling properties.
  • Component and (B) component the total amount is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.05 to 3 parts by mass, and 0.1 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass. More preferably, it is 0.1 to 0.9 parts by mass.
  • the resin composition containing the above components may further include a thermochromic inhibitor, a plasticizer such as p-toluenesulfonamide, a pigment, a filler, an antifoaming agent, a flame retardant, a stabilizer, and adhesion.
  • a thermochromic inhibitor such as p-toluenesulfonamide
  • a pigment such as a pigment
  • a filler such as a plasticizer
  • an antifoaming agent such as p-toluenesulfonamide
  • a pigment such as p-toluenesulfonamide
  • a pigment such as p-toluenesulfonamide
  • a pigment such as p-toluenesulfonamide
  • a pigment such as p-toluenesulfonamide
  • a filler such as p-toluenesulfonamide
  • an antifoaming agent such as a
  • the dye such as leuco crystal violet preferably does not contain 0.1 part by mass or more, and does not contain 0.01 part by mass or more with respect to 100 parts by mass of the total amount of component (A) and component (B). More preferably, it is more preferable not to contain 0.001 part by mass or more.
  • the photosensitive resin composition of the present invention containing the above components can be obtained, for example, by uniformly kneading and mixing the components with a roll mill, a bead mill or the like. If necessary, it can be dissolved in a solvent such as methanol, ethanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, toluene, N, N-dimethylformamide, propylene glycol monomethyl ether, or a mixed solvent thereof to obtain a solid content of 30 It can be used as a solution of about ⁇ 60 mass%.
  • a solvent such as methanol, ethanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, toluene, N, N-dimethylformamide, propylene glycol monomethyl ether, or a mixed solvent thereof to obtain a solid content of 30 It can be used as a solution
  • a method for forming (laminating) the photosensitive material composition layer on the substrate of the image display device using the obtained photosensitive resin composition is not particularly limited, but the photosensitive resin composition is liquid on the substrate.
  • a method of applying and drying as a resist can be used.
  • a protective film can be coat
  • the thickness of the photosensitive resin composition layer to be applied varies depending on the use, but is preferably about 1 to 100 ⁇ m after drying.
  • Examples of the protective film in the case where the protective film is used after being coated as a liquid resist include polymer films such as polyethylene and polypropylene.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a preferred embodiment of the photosensitive element of the present invention.
  • the photosensitive element 10 of the present invention includes a support 1, a photosensitive resin composition layer 2 made of the photosensitive resin composition formed thereon, and a photosensitive resin composition layer.
  • the protective film 3 is provided as needed.
  • a polymer film of polyethylene terephthalate, polypropylene, polyethylene, polyester, or the like can be preferably used as the support 1, for example, a polymer film of polyethylene terephthalate, polypropylene, polyethylene, polyester, or the like can be preferably used.
  • the thickness of the polymer film is preferably about 1 to 100 ⁇ m, more preferably 5 to 50 ⁇ m, and even more preferably 10 to 30 ⁇ m.
  • the formation method of the photosensitive resin composition layer 2 on the support 1 is not particularly limited, it can be preferably carried out by applying and drying a solution of the photosensitive resin composition.
  • the thickness of the applied photosensitive resin composition layer 2 varies depending on the use, but is preferably about 1 to 100 ⁇ m after drying. When used in this application, the thickness of the photosensitive resin composition layer 2 is more preferably 10 to 100 ⁇ m after drying, more preferably 20 to 90 ⁇ m, and more preferably 30 to 80 ⁇ m. Is particularly preferred.
  • Application can be performed by a known method such as a roll coater, comma coater, gravure coater, air knife coater, die coater, bar coater, or the like. Drying can be performed at 70 to 150 ° C. for about 5 to 30 minutes. Moreover, it is preferable that the amount of the residual organic solvent in the photosensitive resin composition layer 2 shall be 2 mass% or less from the point which prevents the spreading
  • the surface of the photosensitive resin composition layer 2 may be coated using the polymer film used as the support 1 as the protective film 3.
  • the protective film 3 has a smaller adhesive force between the photosensitive resin composition layer 2 and the protective film 3 than the adhesive force between the photosensitive resin composition layer 2 and the support 1. Also preferred is a low fisheye film.
  • the photosensitive element 10 includes an intermediate layer and a protective layer such as a cushion layer, an adhesive layer, a light absorption layer, and a gas barrier layer in addition to the photosensitive resin composition layer 2, the support 1 and the optional protective film 3. You may do it.
  • the manufactured photosensitive element 10 is usually stored by being wound around a cylindrical winding core. At this time, it is preferable that the support 1 is wound up so as to be on the outside.
  • An end face separator is preferably installed on the end face of the roll-shaped photosensitive element roll from the viewpoint of end face protection, and a moisture-proof end face separator is preferably installed from the viewpoint of edge fusion resistance.
  • a packing method it is preferable to wrap and package in a black sheet with low moisture permeability.
  • the core include plastics such as polyethylene resin, polypropylene resin, polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, and ABS resin (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer).
  • a method for forming partition walls of an image display device includes a step of laminating a photosensitive resin composition or a photosensitive resin composition layer using a photosensitive element on a substrate of the image display device, and the photosensitive resin composition.
  • a photosensitive resin composition layer is laminated on a substrate of an image display device using the above-described photosensitive resin composition of the present invention.
  • the substrate include an insulating substrate such as a glass substrate or a polymer substrate, a semiconductor substrate such as a silicon substrate, a substrate on which an electrode such as ITO is formed, or a glass substrate on which a color filter is formed.
  • the above-described coating method is used, and a photosensitive element can also be used.
  • the laminating method using the photosensitive element when a protective film is present on the photosensitive resin composition layer, it is laminated on the substrate while removing the protective film.
  • a protective film is present on the photosensitive resin composition layer
  • it is laminated on the substrate while removing the protective film.
  • lamination conditions for example, by heating the photosensitive resin composition layer to about 70 to 130 ° C., pressure bonding is performed on the substrate at a pressure of about 0.1 to 1 MPa (about 1 to 10 kgf / cm 2 ).
  • stacking etc. is mentioned, It is also possible to laminate
  • the shape of the substrate surface is usually flat, but irregularities and electrode patterns may be formed as necessary.
  • the photosensitive resin composition layer is irradiated with actinic rays in an image form to photocur the exposed portion.
  • actinic rays in an image form there is a method of setting a mask pattern on the photosensitive resin composition layer and irradiating the image form with an actinic ray and photocuring the photosensitive resin composition layer in the exposed portion. is there.
  • the mask pattern may be a negative type or a positive type, and a commonly used one can be used.
  • a known light source for example, a light source that effectively emits ultraviolet light, visible light, or the like, such as a carbon arc lamp, a mercury vapor arc lamp, a high-pressure mercury lamp, or a xenon lamp is used.
  • a direct drawing exposure method in which a pattern is directly drawn with a laser without using a mask pattern can also be used.
  • a photocured product pattern is formed on the substrate for the image display device by selectively removing the photosensitive resin composition layer in the unexposed portion by development.
  • the development step when a support is present, the support is removed prior to development.
  • Development is performed by removing unexposed portions by wet development, dry development, or the like using a developer such as an alkaline aqueous solution, an aqueous developer, or an organic solvent. In the present invention, it is preferable to use an alkaline aqueous solution.
  • alkaline aqueous solution examples include a dilute solution of 0.1 to 5% by mass sodium carbonate, a dilute solution of 0.1 to 5% by mass potassium carbonate, a dilute solution of 0.1 to 5% by mass sodium hydroxide, and the like.
  • the pH of the alkaline aqueous solution is preferably in the range of 9 to 11, and the temperature is adjusted according to the developability of the photosensitive resin composition layer. Moreover, you may mix surfactant, an antifoamer, an organic solvent, etc. in alkaline aqueous solution.
  • Examples of the development method include a dip method, a spray method, brushing, and slapping.
  • the formed photocured product pattern may be further cured by a heat treatment at about 60 to 250 ° C., if necessary.
  • the method for manufacturing an image display device of the present invention includes a step of filling or applying a display medium such as particles in the partition obtained in the above step, and a step of attaching a substrate to the opposite side of the partition so as to face one substrate.
  • the substrate include an insulating substrate such as a glass substrate or a polymer substrate, a semiconductor substrate such as a silicon substrate, or a substrate on which an electrode such as ITO is formed.
  • an electrode substrate 30 comprising an electrode 4 and a substrate 5 is prepared.
  • the above-described photosensitive element 10 is formed on the electrode substrate 30.
  • the photosensitive resin composition layer 2 and the support 1 are laminated (lamination step).
  • the photosensitive resin composition layer 2 is irradiated with an actinic ray 8 in an image form using a mask pattern 7, and an exposed portion is formed. Photocuring (exposure process).
  • the photosensitive resin composition layer 2 in the unexposed area is selectively removed by development to be photocured on the substrate for the image display device (electrode substrate 30).
  • An object pattern 20 is formed (development process).
  • the step of attaching another electrode substrate 30 to the photocured material pattern 20 can be performed as follows. That is, in the above process, the adhesive 40 is laminated on the photocured material pattern 20 as shown in FIG. 2D, and the electrode substrate 30 and the photocured material are cured by the adhesive 40 as shown in FIG. This is done by adhering the object pattern 20.
  • a transparent electrode substrate is used at least for the electrode substrate on the display surface side of the image display device.
  • Example 1 Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3
  • the materials shown in Table 1 were mixed with stirring to obtain a photosensitive resin composition solution.
  • the resin (1) as component (A) in Table 1 was synthesized according to Synthesis Example 1 below.
  • the unit of the compounding quantity of each material is g in Table 1, and the compounding quantity of resin (1) shows the compounding quantity of solid content.
  • a solution prepared by dissolving 0.5 g of azobisisobutyronitrile in 150 g of a mixture of methyl cellosolve and toluene having a mass ratio of 3: 2 was dropped into the flask over 10 minutes.
  • Dilution with a solvent gave a binder polymer (resin (1)).
  • the obtained binder polymer had a weight average molecular weight of 50,000, a dispersity of 2.0, and an acid value of 195 mgKOH / g.
  • the weight average molecular weight of the binder polymer was measured by gel permeation chromatography, and was derived by conversion using a standard polystyrene calibration curve.
  • the measurement conditions of gel permeation chromatography (GPC) are shown below.
  • the photosensitive resin composition solution obtained in Table 1 was uniformly applied onto a 16 ⁇ m-thick polyethylene terephthalate film (trade name: HTR-02, manufactured by Teijin DuPont Films, Ltd.), and hot air convection drying at 90 ° C. After drying for 10 minutes in a machine, the film is protected with a protective film made of polyethylene (tensile strength in the film longitudinal direction: 16 MPa, tensile strength in the film width direction: 12 MPa, trade name: NF-15, manufactured by Tamapoly Co., Ltd.). A sex element was obtained. The film thickness after drying of the photosensitive resin composition layer was 40 ⁇ m. About the obtained photosensitive element, the coating-film external appearance was evaluated by visual observation and microscopic observation. As a result, the appearance of the coating film of all the photosensitive elements was good.
  • a glass substrate SiO 2 sputter; length 370 mm, width 480 mm, thickness 0.7 mm, manufactured by Mitsushi Kasei Co., Ltd., trade name: SP-SiO 2
  • SP-SiO 2 glass surface
  • the photosensitive element was laminated through a laminating roll heated to 110 ° C. while peeling off the polyethylene protective film so that the photosensitive resin composition layer was in contact with the glass surface.
  • the resulting laminate has a glass substrate, a photosensitive resin composition layer, and a polyethylene terephthalate film from the bottom.
  • the obtained laminate was evaluated for sensitivity, adhesion, resolution, and fading.
  • the line width / space width is 30/400 to 200/400 (unit: ⁇ m, line width 5 ⁇ m) as a negative for adhesion evaluation
  • a photo tool having a wiring pattern with a space pattern of increasing and a photo pattern having a 41-step tablet is brought into close contact with the polyethylene terephthalate film of the laminate, and the number of remaining step steps after development of the 41-step tablet is 26. Exposure was performed with an energy amount of 0.0.
  • Adhesiveness is expressed by the width ( ⁇ m) of the thinnest line that remains without being peeled off by the developer. The smaller this value, the tighter the line is attached without peeling from the glass substrate. Indicates high. Table 2 shows the evaluation results.
  • a scattered light exposure machine manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.
  • HMW-201GX having a high-pressure mercury lamp lamp
  • exposure was performed with an energy amount such that the number of remaining step stages after development of the 41-step tablet was 26.0.
  • the polyethylene terephthalate film was peeled off, and a 1% by mass aqueous sodium carbonate solution was sprayed at 30 ° C. for 30 seconds to remove the unexposed portion and evaluate the resolution.
  • the resolution is represented by the smallest space width ( ⁇ m) in which the unexposed portion is well removed by the development processing, and the smaller the numerical value, the better the resolution.
  • Table 2 shows the evaluation results.
  • the dried laminate was used as a sample, and its OD (Optical Density) value was measured using a transmission densitometer (Ihara Electronics Co., Ltd.) Ihac-T5. In order to tighten the image on the display, the OD value is preferably around 0.2.
  • the sample was irradiated with ultraviolet rays for 5 days with a light resistance tester (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, model number: Suntest XLS +), and OD was measured with a transmission densitometer (manufactured by Ihara Electronics Co., Ltd.) Ihac-T5. The value was measured and the rate of fading was calculated.
  • the ratio of fading was calculated by the ratio of the OD value after ultraviolet irradiation to the OD value before ultraviolet irradiation, as shown in the following formula (X).
  • Table 2 shows the OD value before ultraviolet irradiation (initial OD value) and the ratio of fading after ultraviolet irradiation.
  • the fading due to heat was evaluated based on the rate of fading after UV irradiation.
  • the evaluation results are shown in Table 2. The closer the numerical value of the fading rate after ultraviolet irradiation is to 1, the less the fading property (the less fading).
  • the color fading property was low (the fading rate was over 0.7 to 1 or less) A, the fading color was slightly seen (the fading rate was over 0.2 to 0.7 or less) B, and the color fading property was large.
  • the product (the fading rate is 0.2 or less) was evaluated as C.
  • Examples 1 to 4 have good sensitivity, adhesion, and resolution, are less faded by ultraviolet rays, and are excellent in light resistance.
  • a partition of an image display device having excellent light resistance can be formed, and a photosensitive resin composition having excellent patterning properties, a photosensitive element using the same, and a partition of an image display device And a method for manufacturing the image display device.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

　本発明は、耐光性に優れた画像表示装置の隔壁を形成できるとともに、パターニング性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。本発明の一態様は、画像表示装置の隔壁を形成するための感光性樹脂組成物であって、上記感光性樹脂組成物が、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）無機系黒色顔料、（Ｅ）界面活性剤及び（Ｆ）メルカプト基含有化合物を含み、上記（Ｂ）光重合性化合物が、分子内に少なくとも１つの不飽和基及びイソシアヌル環構造を有する光重合性化合物を含有する、感光性樹脂組成物である。

Description

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
　本発明は、感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法に関する。
　近年、紙のように薄く、持ち運びが自由で、文字や画像が表示可能な画像表示装置（ＰＬＤ：Ｐａｐｅｒ　Ｌｉｋｅ　Ｄｉｓｐｌａｙ）が注目を集めている。かかる画像表示装置は、通常の印刷物としての紙の長所である視認性、携帯性を有し、さらに、情報を電気的に書き換え可能であるため、環境やコストの面からも紙の代替品として実用化が試みられている。
　画像表示装置の表示技術としては、電気泳動などにより粒子を移動させるタイプ、液晶タイプ、電気化学タイプなど様々なタイプが考案されている（例えば、非特許文献１参照）。
　特に粒子を移動させるタイプとしては、マイクロカプセル型電気泳動方式、マイクロカップ型電気泳動方式、電子粉流体方式、トナーディスプレイ等の方式が検討されている。これらの方式では、透明電極間に表示媒体である白と黒の粒子を封入し電場をかけ、これらの粒子を電気的に移動させることにより白／黒画像を形成し表示させる。また、画像表示装置の駆動方式としては、アクティブ駆動とパッシブ駆動があり、画像表示装置用の背面技術（パネル回路）の検討もなされている。
　上記粒子移動タイプの画像表示装置の場合、上述のように白／黒の粒子を封入するための隔壁が必要となる。かかる隔壁の形成方法としては、金型転写法、スクリーン印刷法、サンドブラスト法、フォトリソ法、アディティブ法等が提案されている（例えば、特許文献１参照）。中でも、感光性樹脂組成物を用いて、活性光線の照射により高精細なパターンが効率よく形成できるフォトリソ法が注目されている。
　また、最近では、白／黒画像表示にカラーフィルターを組み合わせることにより、フルカラー表示を実現させるという報告例もある（例えば、非特許文献２参照）。
　また、上記ＰＬＤとは異なるが、近年蛍光体を半導体レーザーで描画し励起させることによって画像を表示するディスプレイ（レーザー描写型ディスプレイ）が注目を集めている。本ディスプレイは構造がシンプルであるため製造コストが低く、表示画素のみをレーザーで描写するため低消費電力などに優れる特徴を持っている。本ディスプレイは蛍光体を仕切り、封入する必要があるため隔壁が必要となる。かかる隔壁の形成方法としては、ＰＬＤと同様に様々な手法があるが、中でも高精細なパターンが効率よく形成できるフォトリソ法が注目されている。
　フォトリソ法を用いた画像表示装置の隔壁は、以下のようにして形成される。すなわち、基板上に場合によってブラックマトリックスと呼ばれる遮光層をフォトリソ技術により積層する工程、さらに上記遮光層上に感光性樹脂組成物を塗布、又は感光性フィルム（感光性エレメント）を積層することにより感光性樹脂組成物層を形成する工程、上記感光性樹脂組成物層の所定部分に活性光線を照射して露光部を光硬化させる工程、未露光部を除去して光硬化物パターンを形成する工程を含む方法により、画像表示装置の隔壁が形成される。従って、画像表示装置の隔壁を形成するための感光性樹脂組成物には、一般に、パターニング性（感度、解像度及び基板への密着性）が要求される。
　ＰＬＤ向けの画像表示装置を製造する場合、上記工程で得た光硬化物パターン内に粒子等の表示媒体を充填する工程、上記光硬化物パターンを熱処理する工程、電極基板を貼り付ける工程などをさらに含む。これにより、感光性樹脂組成物層の硬化物を隔壁とする画像表示装置が得られる。上記工程においては高温プロセスが必須となるため、感光性樹脂組成物を用いて形成される画像表示装置の隔壁には、耐熱性等が要求される。
　また、レーザー描写型ディスプレイを製造する場合、上記工程で得た光硬化物パターンを熱処理する工程や光硬化物パターン内に蛍光体等を塗布する工程などをさらに含む。これにより、感光性樹脂組成物層の硬化物を隔壁とするレーザー描写型ディスプレイが得られる。
　さらに、隔壁材の色味としては、ディスプレイや用途にもよるが、グレーから黒色が望まれる。上記色を有することにより画像表示時に色が引き締まって見える効果が期待できるためである。
　ところで、例えば下記特許文献２～４には、画像表示装置の隔壁を形成するための感光性樹脂組成物が開示されている。
特開２００７－１７８８８１号公報 特開２０１０－０６６６７６号公報 特開２０１０－１６９９３４号公報 特開２０１０－２５６７７５号公報
鈴木　明、"電子ペーパーの最新動向２００７"、平成１９年１０月１０日、日本画像学会誌　第４６巻　第５号：３７２－３８４（２００７） 田沼　逸夫、"電子粉流体を用いたフレキシブル電子ペーパー"、平成１９年１０月１０日、日本画像学会誌　第４６巻　第５号：３９６－４００（２００７）
　上記特許文献２～４に開示されるような、画像表示装置の隔壁を形成するための感光性樹脂組成物を用いると、ディスプレイに要求される信頼性の一つである耐光性が充分ではなく、紫外線により退色して表示特性に影響を与える場合があるという問題があった。とりわけレーザー描写型ディスプレイは隔壁材が紫外線レーザーにより照射され、上記特許文献２～４に開示されるような感光性樹脂組成物を用いると感光性樹脂組成物が退色して表示特性に影響を与えるという問題があった。
　本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、耐光性に優れた画像表示装置の隔壁を形成できるとともに、パターニング性に優れた感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
　本発明は、画像表示装置の隔壁を形成するための感光性樹脂組成物であって、上記感光性樹脂組成物が、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）無機系黒色顔料、（Ｅ）界面活性剤及び、（Ｆ）メルカプト基含有化合物を含み、上記（Ｂ）光重合性化合物が、分子内に少なくとも１つの不飽和基及びイソシアヌル環構造を有する光重合性化合物を含有する、感光性樹脂組成物を提供する。
　本発明の感光性樹脂組成物は上記構成を有することにより、パターニング性に優れるとともに、紫外線により退色することのない耐光性に優れた画像表示装置用の隔壁を、簡便に作業性よく形成することができる。
　また、本発明の感光性樹脂組成物において、上記分子内に少なくとも１つの不飽和基及びイソシアヌル環構造を有する光重合性化合物が、さらに、分子内に少なくとも１つの水酸基を有することが好ましい。これにより、耐光性とパターニング性を一層向上させることが可能となる。
　また、本発明の感光性樹脂組成物において、上記（Ｄ）無機系黒色顔料がチタンブラックを含むことが好ましい。これにより、耐光性とパターニング性をより高水準で両立させることが可能となる。
　また、本発明の感光性樹脂組成物において、上記（Ｅ）界面活性剤がイミダゾリン系界面活性剤を含むことが好ましい。これにより、本発明の効果を一層向上させることが可能となる。
　また、本発明は、支持体と、該支持体上に形成された上記感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層と、を備える感光性エレメントを提供する。
　本発明の感光性エレメントは、上記本発明の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層を備えることにより、塗膜外観を損なうことなく、また、紫外線により退色することのない耐光性に優れた画像表示装置用の隔壁を、簡便に作業性よく形成することができる。
　また、本発明の感光性エレメントにおいて、上記感光性樹脂組成物層の膜厚は１０～１００μｍであることが好ましい。これにより、塗膜外観を損なうことなく、また、紫外線により退色することのない耐光性に優れた画像表示装置用の隔壁を、より簡便に作業性よく形成することができる。
　また、本発明は、画像表示装置の基板上に、上記感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層を積層する積層工程と、上記感光性樹脂組成物層の所定部分に活性光線を照射して露光部を光硬化せしめる露光工程と、上記感光性樹脂組成物層の上記露光部以外の部分を除去して光硬化物パターンを形成する現像工程と、を有する、画像表示装置の隔壁の形成方法を提供する。また、レーザー描写型ディスプレイを製造する場合も上記工程と同様に光硬化物パターン形成する工程を有する画像表示装置の隔壁の形成方法を提供する。
　本発明の画像表示装置の隔壁の形成方法は、上記本発明の感光性樹脂組成物を用いるため、紫外線により退色することのない耐光性に優れた画像表示装置用の隔壁を、簡便に作業性よく形成することができる。
　また、本発明は、上記画像表示装置の隔壁の形成方法により形成された光硬化物パターンを、６０～２５０℃で加熱処理して熱硬化せしめる加熱工程をさらに有する、画像表示装置の隔壁の形成方法を提供する。
　また、本発明は、表示媒体を、上記隔壁内に充填又は塗布する工程と、一方の基板に対向するように隔壁の反対側に基板を貼り付ける工程と、を有する、画像表示装置の製造方法を提供する。
　本発明はまた、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）無機系黒色顔料、（Ｅ）界面活性剤及び、（Ｆ）メルカプト基含有化合物を含み、上記（Ｂ）光重合性化合物が、分子内に少なくとも１つの不飽和基及びイソシアヌル環構造を有する光重合性化合物を含有する組成物の、画像表示装置の隔壁を形成するための感光性樹脂組成物としての応用を提供する。本発明はさらに、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）無機系黒色顔料、（Ｅ）界面活性剤及び、（Ｆ）メルカプト基含有化合物を含み、上記（Ｂ）光重合性化合物が、分子内に少なくとも１つの不飽和基及びイソシアヌル環構造を有する光重合性化合物を含有する組成物の、画像表示装置の隔壁を形成するための感光性樹脂組成物の製造のための応用を提供する。
　本発明によれば、耐光性に優れた画像表示装置の隔壁を形成できるとともに、パターニング性に優れた感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法を提供することができる。また、本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｄ）無機系黒色顔料の分散安定性に優れ感光性エレメントとした場合の塗膜外観を良好に保つことが可能となる。また、本発明によれば、紫外線により退色することのない耐光性に優れた画像表示装置用の隔壁を、簡便に作業性よく形成することができる。
本発明の感光性エレメントの好適な一実施形態を示す模式断面図である。 本発明の感光性エレメントを用いた画像表示装置の隔壁の形成方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。
　以下、場合により図面を参照しつつ本発明の好適な実施形態について説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。また、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。なお、本明細書における（メタ）アクリル酸とはアクリル酸及びそれに対応するメタクリル酸を意味し、（メタ）アクリレートとはアクリレート及びそれに対応するメタクリレートを意味し、（メタ）アクリロイルとはアクリロイル及びそれに対応するメタクリロイルを意味する。
（感光性樹脂組成物）
　本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）無機系黒色顔料、（Ｅ）界面活性剤、及び、（Ｆ）メルカプト基含有化合物（メルカプト基含有水素供与体）を含有してなる。
　上記構成を有することによる効果の発現機構は必ずしも明らかではないが、本発明者は以下のように推察する。従来、パターニング性を良好にするために、（Ｃ）光重合開始剤の水素供与体としてロイコクリスタルバイオレットが用いられていた。ロイコクリスタルバイオレットは、露光後にクリスタルバイオレットとなり発色することで樹脂を着色する。しかし、上記クリスタルバイオレットを含む樹脂は、紫外線によって退色しやすいという問題がある。これに対し、本発明で使用する（Ｆ）メルカプト基含有化合物（メルカプト基含有水素供与体）は、発色せずに水素を供与することが可能であるため、退色の問題を生じることなくパターニング性を良好にすることができる。また、本発明では、（Ｄ）無機系黒色顔料により樹脂を着色することで、紫外線による退色を限りなく少なくすることができる。
　以下、各成分について詳細に説明する。
（Ａ）成分：バインダーポリマー
　本発明における（Ａ）バインダーポリマーとしては、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、アミド系樹脂、アミドエポキシ系樹脂、アルキド系樹脂、フェノール系樹脂が挙げられる。（Ａ）バインダーポリマーとしては、アルカリ現像性の観点からは、アクリル系樹脂が好ましい。これらは単独で、又は２種類以上のバインダーポリマーを組み合わせて用いることができる。２種類以上のバインダーポリマーの組み合わせの例としては、異なる共重合成分からなる２種類以上のバインダーポリマー、異なる重量平均分子量の２種類以上のバインダーポリマー、異なる分散度の２種類以上のバインダーポリマーなどが挙げられる。また、特開平１１－３２７１３７号公報記載のマルチモード分子量分布を有するポリマーを使用することもできる。
　（Ａ）成分のバインダーポリマーは、例えば、重合性単量体をラジカル重合させることにより製造することができる。重合性単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α－メチルスチレン、ｐ－メチルスチレン、ｐ－エチルスチレン等の重合可能なスチレン誘導体、アクリルアミド、アクリロニトリル、ビニル－ｎ－ブチルエーテル等のビニルアルコールのエーテル類、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル等の（メタ）アクリル酸エステル、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、α－ブロモ（メタ）アクリル酸、α－クロル（メタ）アクリル酸、β－フリル（メタ）アクリル酸、β－スチリル（メタ）アクリル酸、マレイン酸、マレイン酸無水物、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノイソプロピル等のマレイン酸モノエステル、フマール酸、ケイ皮酸、α－シアノケイ皮酸、イタコン酸、クロトン酸、プロピオール酸などが挙げられる。これらを単独で用いてホモポリマーとしてもよいし、２種類以上を組み合わせてコポリマーとしてもよい。
　上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルへキシル、及びこれらの構造異性体が挙げられる。これらは、単独で、又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
　（Ａ）バインダーポリマーは、アルカリ現像性の見地から、カルボキシル基を含有していることが好ましく、例えば、カルボキシル基を有する重合性単量体とその他の重合性単量体をラジカル重合させることにより製造することができる。上記カルボキシル基を有する重合性単量体としては、現像性及び安定性の観点から（メタ）アクリル酸が好ましい。
　（Ａ）成分は、耐光性と、解像度及び密着性を良好にする観点から、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ブチル誘導体、スチレン及びスチレン誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種の重合性単量体に基づく構成単位を有することが好ましい。また、（メタ）アクリル酸ブチル及び（メタ）アクリル酸ブチル誘導体からなる群より選ばれる少なくとも一種と、スチレン及びスチレン誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種とを双方含むことがより好ましい。すなわち、（Ａ）成分は、これらの重合性単量体をラジカル重合させることにより得られるものであることが好ましく、これらの重合性単量体に由来する構成単位を有するものであることが好ましい。
　（Ａ）成分が、（メタ）アクリル酸ブチル及び（メタ）アクリル酸ブチル誘導体に基づく構成単位を有する場合、その含有量は、密着性及び剥離性に優れる点では、（Ａ）成分を構成する重合性単量体の全質量を基準として１～５０質量％であることが好ましく、５～４０質量％であることがより好ましく、５～３５質量％であることが更に好ましく、１０～３０質量％であることが特に好ましい。
　（Ａ）成分が、スチレン又はその誘導体に基づく構成単位を有する場合、その含有量は、密着性及び剥離性に優れる点では、（Ａ）成分を構成する重合性単量体の全質量を基準として１０～７０質量％であることが好ましく、１５～６０質量％であることがより好ましく、２０～５０質量％であることが更に好ましく、２５～４５質量％であることが特に好ましい。
　また、（Ａ）成分は、アルカリ現像性及び剥離特性を向上させる観点から、（メタ）アクリル酸ブチル及び（メタ）アクリル酸ブチル誘導体以外の（メタ）アクリル酸アルキルエステルに基づく構成単位を有することが好ましい。
　（Ａ）成分が、（メタ）アクリル酸ブチル及び（メタ）アクリル酸ブチル誘導体以外の（メタ）アクリル酸アルキルエステルに基づく構成単位を有する場合、その含有量は、剥離性、解像度及び密着性に優れる点では、（Ａ）成分を構成する重合性単量体の全質量を基準として１～５０質量％であることが好ましく、５～４５質量％であることがより好ましく、１０～４０質量％であることが更に好ましく、１５～４０質量％であることが特に好ましい。
　上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルに基づく構成単位としては、（メタ）アクリル酸メチル又は（メタ）アクリル酸エチルを含有することが好ましい。
　（Ａ）バインダーポリマーの酸価は、解像性の観点から３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることがより好ましく、１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが更に好ましく、１８０ｍｇＫＯＨ／以上であることが特に好ましい。また、（Ａ）バインダーポリマーの酸価は、耐現像液性及び密着性の観点から２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、２４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、２３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましく、２２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが特に好ましい。現像工程として溶剤による現像を行う場合は、カルボキシル基を有する重合性単量体の使用量を抑えて調製することが好ましい。
　（Ａ）バインダーポリマーの重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定し、標準ポリスチレンを用いた検量線により換算）は、耐現像液性の観点から２０，０００以上であることが好ましく、２５，０００以上であることがより好ましく、３０，０００以上であることが更に好ましく、４０，０００以上であることが特に好ましい。また、（Ａ）バインダーポリマーの重量平均分子量は、現像時間を短くできる観点から３００，０００以下であることが好ましく、１５０，０００以下であることがより好ましく、１００，０００以下であることが更に好ましく、９０，０００以下であることが特に好ましい。
（Ｂ）成分：光重合性化合物
　本実施形態に用いることのできる（Ｂ）成分としては、光架橋が可能であれば特に制限はないが、例えば、（Ｂ１）成分：分子内に少なくとも１つの不飽和基及びイソシアヌル環構造を有する光重合性化合物、（Ｂ２）成分：多価アルコール及び／又はグリシジル基含有化合物にα，β－不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、（Ｂ３）成分：分子内にエチレン性不飽和結合を１つ有する化合物が挙げられる。これらは一種を単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができるが、本発明の感光性樹脂組成物は、これらの中でも、（Ｂ１）成分を必須成分として含む。
（Ｂ１）成分：分子内に少なくとも１つの不飽和基及びイソシアヌル環構造を有する光重合性化合物
　本発明における（Ｂ１）成分の光重合性化合物は、分子内に少なくとも１つの不飽和基及びイソシアヌル環構造を有していれば特に制限なく用いることができるが、さらに、分子内に少なくとも１つの水酸基を有していることが好ましい。
　また、（Ｂ）成分の光重合性化合物は、分子内に少なくとも１つの不飽和基及びイソシアヌル環構造を有する光重合性化合物と、分子内に少なくとも１つの水酸基、少なくとも１つの不飽和基及びイソシアヌル環構造を有する光重合性化合物とを両方含むこともできる。
　分子内に少なくとも１つの不飽和基及びイソシアヌル環構造を有する光重合性化合物としては、密着性の観点から、例えば一般式（Ｉ）で表される化合物を用いることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 ［一般式（Ｉ）中、Ｒ１は、各々独立に、下記一般式（ＩＩ）で表される基、下記一般式（ＩＩＩ）で表される基、又は、下記一般式（ＩＶ）で表される基を示す。但し、Ｒ１の少なくとも１つは、下記一般式（ＩＩ）又は下記一般式（ＩＶ）で表される基である。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 ［一般式（ＩＩ）中、Ｒ２は、水素原子又はメチル基を示し、ｍは１～１４の整数である。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 ［一般式（ＩＩＩ）中、ｍは１～１４の整数である。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 ［一般式（ＩＶ）中、Ｒ２は水素原子又はメチル基を示し、ｎは１～９の整数であり、ｍは１～１４の整数である。］
　光重合性化合物が、分子内に少なくとも１つの水酸基、少なくとも１つの不飽和基及びイソシアヌル環構造を有する場合、Ｒ１の少なくとも１つは一般式（ＩＩＩ）で表される基であり、かつ、Ｒ１の少なくとも１つは一般式（ＩＩ）又は一般式（ＩＶ）で表される基である。
　一般式（ＩＩ）又は一般式（ＩＩＩ）中、ｍは、１～１４の整数であり、１～６であることが好ましい。ｍを１４以下とすることにより、耐薬品性を向上させることができる。また、一般式（ＩＶ）中、ｍは、１～１４の整数であり、１～６であることが好ましく、ｎは、１～９の整数であり、３～６であることが好ましい。ｍを１４以下とすることにより、耐薬品性を向上させることができ、ｎを９以下とすることにより、機械強度を向上させることができる。
　分子内に少なくとも１つの不飽和基及びイソシアヌル環構造を有する光重合性化合物として、特に好ましくは、一般式（Ｖ）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　分子内に少なくとも１つの水酸基、少なくとも１つの不飽和基及びイソシアヌル環構造を有する光重合性化合物として、特に好ましくは、一般式（ＶＩ）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　上記一般式（Ｉ）で表される化合物で、市販のものとしては、例えば、ＮＫオリゴＵＡ－２１（新中村化学工業株式会社商品名、一般式（Ｉ）中、Ｒ１が全て一般式（ＩＶ）である化合物）、Ｍ－３１５（東亜合成株式会社商品名、一般式（Ｉ）中、Ｒ１が全て一般式（ＩＩ）である化合物）、Ｍ－２１５（東亜合成株式会社商品名、一般式（Ｉ）中、２つのＲ１が一般式（ＩＩ）であり、１つのＲ１が一般式（ＩＩＩ）である化合物）等が挙げられる。
　（Ｂ１）分子内に少なくとも１つの不飽和基及びイソシアヌル環構造を有する光重合性化合物の含有量は、密着性及びフィルム形成性の観点から、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、１～４０質量部とすることが好ましく、３～３０質量部とすることがより好ましく、６～２５質量部とすることが更に好ましい。
（Ｂ２）成分：多価アルコール及び／又はグリシジル基含有化合物にα，β－不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物
　（Ｂ２）成分としては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（エチレン基の数が２～１４のもの）、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（プロピレン基の数が２～１４のもの）等のポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロポキシトリ（メタ）アクリレート等のトリメチロールプロパン（メタ）アクリレート化合物；テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等のテトラメチロールメタン（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のジペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物；ビスフェノールＡジオキシエチレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡトリオキシエチレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡデカオキシエチレンジ（メタ）アクリレート等のビスフェノールＡ系ジ（メタ）アクリレート化合物；トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリレート及びビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリレートが挙げられる。
　中でも、密着性に優れる点では、（Ｂ２）成分として、ビスフェノールＡ系ジ（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましい。
　ビスフェノールＡ系ジ（メタ）アクリレート化合物としては、下記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　上記一般式（ＶＩＩ）中、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を示す。ＸＯ及びＹＯはそれぞれ独立に、オキシエチレン基又はオキシプロピレン基を示し、これらは相異なる。（ＸＯ）ｍ１、（ＸＯ）ｍ２、（ＹＯ）ｎ１及び（ＹＯ）ｎ２はそれぞれ独立に、（ポリ）オキシエチレン鎖又は（ポリ）オキシプロピレン鎖を示す。ｍ１、ｍ２、ｎ１及びｎ２はそれぞれ独立に、０～４０の整数を示す。ＸＯがオキシエチレン基、ＹＯがオキシプロピレン基である場合、ｍ１＋ｍ２は１～４０、ｎ１＋ｎ２は０～２０であり、ＸＯがオキシプロピレン基、ＹＯがオキシエチレン基の場合、ｍ１＋ｍ２は０～２０、ｎ１＋ｎ２は１～４０である。
　上記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物のうち、２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパンは、ＢＰＥ－５００（新中村化学工業（株）製、商品名）又はＦＡ－３２１Ｍ（日立化成工業（株）製、商品名）として商業的に入手可能である。２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパンは、ＢＰＥ－１３００（新中村化学工業（株）製、商品名）として商業的に入手可能である。これらは１種単独で又は２種類以上を任意に組み合わせて使用される。
　前記ビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物は、上記トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート化合物と併用することが好ましい。
　感光性樹脂組成物における上記（Ｂ２）成分の含有量は、フィルム形成性に優れる点では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、１～２０質量部であることが好ましく、５～１５質量部であることがより好ましい。
（Ｂ３）成分：分子内にエチレン性不飽和結合を１つ有する化合物
　分子内にエチレン性不飽和結合を１つ有する化合物としては、例えば、ノニルフェノキシポリエチレンオキシアクリレート、フタル酸系化合物及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルが挙げられる。
　上記の中でも、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性をバランスよく向上させる観点から、ノニルフェノキシポリエチレンオキシアクリレート又はフタル酸系化合物を含むことが好ましい。
　（Ｂ３）成分としては、特に制限はないが、解像度に優れる点では、下記一般式（ＩＸ）で表される化合物を含むことが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 ［式（ＩＸ）中、Ｒ５は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ６は水素原子、メチル基又はハロゲン化メチル基のいずれかを示し、Ｒ７は炭素数１～６のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基のいずれかを示し、ｐは０～４の整数を示す。なお、ｐが２以上の場合、複数存在するＲ７は同一でも異なっていてもよい。－（Ｏ－Ａ）－はオキシエチレン基及び／又はオキシプロピレン基を示し、－（Ｏ－Ａ）－の繰り返し総数ａは１～４の整数を示す。］
　上記一般式（ＩＸ）で表される化合物としては、例えば、γ－クロロ－β－ヒドロキシプロピル－β’－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｏ－フタレート、β－ヒドロキシエチル－β’－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｏ－フタレート、及びβ－ヒドロキシプロピル－β’－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｏ－フタレートが挙げられ、なかでも、γ－クロロ－β－ヒドロキシプロピル－β’－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｏ－フタレートが好ましい。γ－クロロ－β－ヒドロキシプロピル－β’－メタクリロイルオキシエチル－ｏ－フタレートは、ＦＡ－ＭＥＣＨ（日立化成工業株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。
　感光性樹脂組成物における上記（Ｂ３）成分の含有量は、フィルム形成性に優れる点では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、１～１５質量部であることが好ましく、５～１５質量部であることがより好ましい。
　上記（Ｂ３）成分は、単独で、又は二種類以上を組み合わせて用いることができるが、中でも、ノニルフェノキシポリエチレンオキシアクリレートと、フタル酸系化合物を併用することが好ましい。
（Ｃ）成分：光重合開始剤
　次に、（Ｃ）成分である光重合開始剤について説明する。
　（Ｃ）成分である光重合開始剤としては、特に制限はない。例えばベンゾフェノン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン－１、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノ－プロパノン－１等の芳香族ケトン；アルキルアントラキノンなどのキノン類；ベンゾインアルキルエーテルなどのベンゾインエーテル化合物；ベンゾイン、アルキルベンゾインなどのベンゾイン化合物；ベンジルジメチルケタールなどのベンジル誘導体；２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－フルオロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体；９－フェニルアクリジン、１，７－（９，９’－アクリジニル）ヘプタンなどのアクリジン誘導体が挙げられる。これらは１種単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
　（Ｃ）成分は、レジストパターン形成時の感度及び形成されたレジストパターンの密着性を向上させる観点から、２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体を含むことが好ましく、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体を含むことがより好ましい。２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体はその構造が対称であっても非対称であってもよい。
（Ｄ）成分：無機系黒色顔料
　（Ｄ）成分の無機系黒色顔料としては、例えば、チタンブラック、カーボンブラック、コバルトブラック等が挙げられ、パターニング性の観点から、チタンブラックが好ましく用いられる。無機系黒色顔料の粒径は、凝集を抑える点では、１ｎｍ～１０μｍが好ましく、１０ｎｍ～１μｍがより好ましい。１ｎｍ以下は工業的に入手が難しく、また１０μｍ以上だとパターニング性に影響を及ぼす可能性がある。
（Ｅ）成分：界面活性剤
　上記（Ｅ）成分の界面活性剤としては、例えば、イミダゾリン、不飽和ポリカルボン酸ポリマー、ポリカルボン酸のアルキルアンモニウム塩、ポリシロキサンコポリマー等に代表される界面活性剤が挙げられる。市販品としては、例えば、ホモゲノール　Ｌ－１００、ホモゲノール　Ｌ－１８（花王株式会社製、商品名）、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１１６、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１０８（ビックケミー・ジャパン株式会社製、商品名）等が挙げられる。
　感光性樹脂組成物溶液における（Ｄ）無機系黒色顔料の分散安定性、及び、感光性エレメント形成時の塗膜外観の見地からは、イミダゾリン系の界面活性剤を用いることが好ましい。
　上記イミダゾリン系界面活性剤としては、例えば、イミダゾリンの２位の炭素が、炭素数６～２０の直鎖状飽和又は不飽和炭化水素基で置換され、３位の窒素がヒドロキシエチル基により置換されたイミダゾリン誘導体が挙げられる。中でも、下記式（ＶＩＩＩ）で表される化合物が好ましく用いられ、ホモゲノールＬ－９５（花王株式会社製、製品名）が商業的に入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
（Ｆ）成分：メルカプト基含有化合物
　（Ｆ）メルカプト基含有化合物は、（Ｃ）光重合開始剤の水素供与体として機能するものである。上記（Ｆ）成分のメルカプト基含有化合物としては、メルカプト基を含有する限り、本発明の効果を阻害しない範囲であれば特に制限無く使用することができる。露光後の樹脂透明性に優れる点では、芳香族環を含むメルカプト基含有水素供与体化合物を含むことが好ましく、複素環を含むメルカプト基含有水素供与体化合物を含むことが好ましい。これらの中でも、光開始剤と組み合わせて感度、解像度、密着性などの特性が良好であり、工業的に入手可能な観点から、メルカプトベンゾオキサゾール、メルカプトベンゾイミダゾール、メルカプトベンゾトリアゾール、メルカプトベンゾチアゾール、ジメルカプトチアジアゾール、メルカプトジメチルアミノピリジンから選択される少なくとも一種を含むことがより好ましく、メルカプトベンゾイミダゾール、メルカプトベンゾオキサゾール、から選択される少なくとも一種を含むことがさらに好ましい。
　感光性樹脂組成物における（Ａ）成分の含有量は、感光性樹脂組成物の塗膜性及び光硬化物の機械的強度の観点から、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、４０～８０質量部の範囲とすることが好ましく、４５～７０質量部とすることがより好ましい。
　感光性樹脂組成物における（Ｂ）成分の含有量は、解像度及び密着性と、フィルム形成性の観点から、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、２０～６０質量部の範囲とすることが好ましく、３０～５５質量部とすることがより好ましい。
　感光性樹脂組成物における（Ｃ）光重合開始剤の含有量は、感度、密着性及び光硬化物の底部の硬化性の観点から、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．１～２０質量部であることが好ましく、０．２～１０質量部であることがより好ましい。（Ｃ）成分中のヘキサアリールビイミダゾールの含有量としては、密着性及び現像処理時の現像スラッジ抑制の観点から、１０～９０質量％であることが好ましく、２０～８０質量％であることがより好ましい。
　感光性樹脂組成物における（Ｄ）無機系黒色顔料の含有量は、感光性樹脂組成物の遮光性、分散安定性及び感光性エレメント形成時の塗膜外観の観点から、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．１～１０質量部であることが好ましく、０．２～５質量部であることがより好ましい。
　感光性樹脂組成物における（Ｅ）界面活性剤の含有量は、感光性樹脂組成物の遮光性、分散安定性、感光性エレメント形成時の塗膜外観及びフィルムの取り扱い性の観点から、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０１～５質量部であることが好ましく、０．０５～３質量部であることがより好ましく、０．１～１質量部であることがさらに好ましく、０．１～０．９質量部であることが特に好ましい。
　以上のような成分を含む樹脂組成物は、さらに必要に応じて、熱発色防止剤、ｐ－トルエンスルホンアミド等の可塑剤、顔料、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、密着性付与剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、イメージング剤、熱架橋剤などを、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して各々０．０１～２０質量部程度含有することができるが、露光部分を視認できるようにイメージング性を持たせる成分は含まないことが好ましい。
　特に、ロイコクリスタルバイオレットのような染料は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して０．１質量部以上含有しないことが好ましく、０．０１質量部以上含有しないことがより好ましく、０．００１質量部以上含有しないことがさらに好ましい。
　以上のような成分を含む本発明の感光性樹脂組成物は、たとえば、含有成分をロールミル、ビーズミル等で均一に混練、混合することにより得ることができる。また、必要に応じて、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル等の溶剤又はこれらの混合溶剤に溶解して、固形分３０～６０質量％程度の溶液として用いることができる。
　得られた感光性樹脂組成物を用いて画像表示装置の基板上に感光物組成物層を形成（積層）する方法としては、特に制限はないが、上記基板上に感光性樹脂組成物を液状レジストとして塗布して乾燥する方法を用いることができる。また、必要に応じて感光性樹脂組成物層上に保護フィルムを被覆することができる。さらに、後に詳しく述べるが感光性樹脂組成物層を感光性エレメントの形態で用いることが好ましい。塗布される感光性樹脂組成物層の厚みは、用途により異なるが、乾燥後の厚みで１～１００μｍ程度であることが好ましい。液状レジストとして塗布後、保護フィルムを被覆して用いる場合の保護フィルムとしては、たとえば、ポリエチレン、ポリプロピレン等の重合体フィルムが挙げられる。
（感光性エレメント）
　図１は、本発明の感光性エレメントの好適な一実施形態を示す模式断面図である。図１に示すように、本発明の感光性エレメント１０は、支持体１と、その上に形成された上記感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層２と、感光性樹脂組成物層２上に形成された保護フィルム３と、を備える。なお、保護フィルム３は、必要に応じて設けられる。
　支持体１としては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエステル等の重合体フィルムを好ましく用いることができる。重合体フィルムの厚みは、１～１００μｍ程度とすることが好ましく、５～５０μｍであることがより好ましく、１０～３０μｍであることがさらに好ましい。
　支持体１上への感光性樹脂組成物層２の形成方法は、特に限定されないが、感光性樹脂組成物の溶液を塗布、乾燥することにより好ましく実施できる。塗布される感光性樹脂組成物層２の厚みは、用途により異なるが、乾燥後の厚みで１～１００μｍ程度であることが好ましい。本用途に使用する場合は、感光性樹脂組成物層２の厚みは、乾燥後の厚みで１０～１００μｍであることがより好ましく、２０～９０μｍであることがさらに好ましく、３０～８０μｍであることが特に好ましい。
　塗布は、たとえば、ロールコータ、コンマコータ、グラビアコータ、エアーナイフコータ、ダイコータ、バーコータ等の公知の方法で行うことができる。乾燥は、７０～１５０℃、５～３０分間程度で行うことができる。また、感光性樹脂組成物層２中の残存有機溶剤量は、後の工程での有機溶剤の拡散を防止する点から、２質量％以下とすることが好ましい。
　支持体１として用いられる上記重合体フィルムを保護フィルム３として用いて、感光性樹脂組成物層２表面を被覆してもよい。保護フィルム３としては、感光性樹脂組成物層２と支持体１との間の接着力よりも、感光性樹脂組成物層２と保護フィルム３との間の接着力の方が小さくなるものが好ましく、また、低フィッシュアイのフィルムが好ましい。さらに、感光性エレメント１０は、感光性樹脂組成物層２、支持体１及び任意の保護フィルム３の他に、クッション層、接着層、光吸収層、ガスバリア層等の中間層や保護層を有していてもよい。
　製造された感光性エレメント１０は、通常、円筒状の巻芯に巻きとって貯蔵される。なお、この際、支持体１が外側になるように巻き取られることが好ましい。上記ロール状の感光性エレメントロールの端面には、端面保護の見地から端面セパレータを設置することが好ましく、耐エッジフュージョンの見地から防湿端面セパレータを設置することが好ましい。また、梱包方法として、透湿性の小さいブラックシートに包んで包装することが好ましい。上記巻芯としては、たとえば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体）等のプラスチックが挙げられる。
（画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法）
　次に、本発明の画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法について説明する。画像表示装置の隔壁の形成方法は、画像表示装置の基板上に、感光性樹脂組成物、又は感光性エレメントを用いて感光性樹脂組成物層を積層する積層工程と、上記感光性樹脂組成物層の所定部分に活性光線を照射して露光部を光硬化せしめる露光工程と、上記感光性樹脂組成物層の上記露光部以外の部分を除去して光硬化物パターンを形成する現像工程と、を有する。
　まず、上述した本発明の感光性樹脂組成物を用いて、感光性樹脂組成物層を画像表示装置の基板上に積層する。上記基板としては、ガラス基板若しくはポリマー基板のような絶縁基板又はシリコン基板などの半導体基板若しくはＩＴＯのような電極が形成された基板若しくはカラーフィルターが形成されたガラス基板が挙げられる。積層方法としては、上述した塗布方法が用いられる他、感光性エレメントを用いることもできる。
　感光性エレメントを用いる積層方法は、感光性樹脂組成物層上に保護フィルムが存在している場合には、保護フィルムを除去しながら基板上へ積層する。上記積層条件としては、例えば、感光性樹脂組成物層を７０～１３０℃程度に加熱しながら、基板上に０．１～１ＭＰａ程度（１～１０ｋｇｆ／ｃｍ２程度）の圧力で圧着することにより積層する方法などが挙げられ、減圧下で積層することも可能である。基板表面の形状は、通常は平坦であるが、必要に応じて凹凸や電極パターンが形成されていてもよい。
　感光性樹脂組成物の積層後、感光性樹脂組成物層に画像状に活性光線を照射して、露光部を光硬化させる。画像状に活性光線を照射させる方法としては、感光性樹脂組成物層上にマスクパターンを設置して画像状に活性光線を照射し、露光部の感光性樹脂組成物層を光硬化させる方法がある。マスクパターンは、ネガ型でもポジ型でもよく、一般に用いられているものを使用できる。活性光線の光源としては、公知の光源、たとえば、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線、可視光などを有効に放射するものが用いられる。また、露光方法としては、マスクパターンを用いずにレーザーで直接パターンを描画する、直接描画露光法を用いることもできる。
　露光後に未露光部の感光性樹脂組成物層を現像により選択的に除去することにより、画像表示装置用の基板上に光硬化物パターンが形成される。なお現像工程は、支持体が存在する場合は、現像に先立ち、支持体を除去する。現像は、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤等の現像液によるウエット現像、ドライ現像等で未露光部を除去することにより行われる。本発明においては、アルカリ性水溶液を用いることが好ましい。アルカリ性水溶液としては、例えば、０．１～５質量％炭酸ナトリウムの希薄溶液、０．１～５質量％炭酸カリウムの希薄溶液、０．１～５質量％水酸化ナトリウムの希薄溶液等が挙げられる。このアルカリ性水溶液のｐＨは９～１１の範囲とすることが好ましく、その温度は、感光性樹脂組成物層の現像性に合わせて調節される。また、アルカリ性水溶液中には、界面活性剤、消泡剤、有機溶剤等を混入させてもよい。上記現像の方式としては、たとえば、ディップ方式、スプレー方式、ブラッシング、スラッピング等が挙げられる。
　現像後の処理として、形成された上記光硬化物パターンを、必要に応じて６０～２５０℃程度の加熱処理によりさらに硬化してもよい。
　本発明の画像表示装置の製造方法は、粒子等の表示媒体を上記工程で得た隔壁内に充填又は塗布する工程と、一方の基板に対向するように隔壁の反対側に基板を貼り付ける工程と、を有する。上記基板としては、ガラス基板若しくはポリマー基板のような絶縁基板又はシリコン基板などの半導体基板若しくはＩＴＯのような電極が形成された基板が挙げられる。
　以下、上述した画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法について、感光性エレメントを用いた場合の一実施形態を、図面を用いて説明する。
　まず、図２（ａ）に示すように、電極４と基板５とからなる電極基板３０を用意し、図２（ｂ）に示すように、この電極基板３０上に、上述した感光性エレメント１０における感光性樹脂組成物層２及び支持体１を積層する（積層工程）。
　感光性樹脂組成物層２の積層後、図２（ｂ）に示すように、マスクパターン７を用いて、感光性樹脂組成物層２に画像状に活性光線８を照射して、露光部を光硬化させる（露光工程）。
　露光後、図２（ｃ）に示すように、未露光部の感光性樹脂組成物層２を現像により選択的に除去することにより、画像表示装置用の基板（電極基板３０）上に光硬化物パターン２０が形成される（現像工程）。
　その後、上記工程で形成した光硬化物パターン２０内に、粒子等の表示媒体を充填又は塗布する工程、上記光硬化物パターン２０に別の電極基板３０を貼り付ける工程（図２の（ｄ）及び（ｅ））等を経て、画像表示装置の隔壁の形成、及び、画像表示装置の製造を完了することができる。
　光硬化物パターン２０に別の電極基板３０を貼り付ける工程は、以下のようにして行うことができる。すなわち、上記工程は、図２（ｄ）に示すように、光硬化物パターン２０上に接着剤４０を積層し、図２（ｅ）に示すように、接着剤４０によって電極基板３０と光硬化物パターン２０とを接着することにより行われる。なお、少なくとも画像表示装置の表示面側の電極基板には、透明な電極基板が用いられる。
　以下に、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の技術思想を逸脱しない限り、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
（実施例１～４及び比較例１～３）
　表１に示す材料を撹拌混合し、感光性樹脂組成物の溶液を得た。なお、表１中の（Ａ）成分である樹脂（１）は、下記の合成例１に従って合成した。また、表１中、各材料の配合量の単位はｇであり、樹脂（１）の配合量は、固形分の配合量を示す。
（合成例）
［バインダーポリマーの合成］
　撹拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロート及び窒素ガス導入管を備えたフラスコに、質量比３：２であるメチルセロソルブ及びトルエンの配合物５００ｇを加え、窒素ガスを吹き込みながら撹拌して、８５℃まで加熱した。一方、重合性単量体としてメタクリル酸１５０ｇ、メタクリル酸メチルエステル１１０ｇ、アクリル酸エチルエステル６５ｇ、メタクリル酸ブチルエステル５０ｇ及びスチレン１２５ｇと、アゾビスイソブチロニトリル２．５ｇとを混合した溶液（以下、「溶液ａ」という）を用意し、８５℃に加熱された質量比３：２であるメチルセロソルブ及びトルエンの上記配合物に溶液ａを４時間かけて滴下した後、８５℃で撹拌しながら２時間保温した。さらに、質量比３：２であるメチルセロソルブ及びトルエンの配合物１５０ｇにアゾビスイソブチロニトリル０．５ｇを溶解した溶液を、１０分かけてフラスコ内に滴下した。滴下後の溶液を撹拌しながら８５℃で５時間保温した後、冷却して不揮発分（固形分）が４３質量％になるように、質量比３：２であるアセトン及びプロピレングリコールモノメチルエーテルの混合溶媒で希釈してバインダーポリマー（樹脂（１））を得た。得られたバインダーポリマーの重量平均分子量は５００００、分散度は２．０、酸価は１９５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
　なお、バインダーポリマーの重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）の測定条件は、以下に示す。
［ＧＰＣ測定条件］
ポンプ：日立　Ｌ－６０００型（株式会社日立製作所製）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ　ＧＬ－Ｒ４４０　＋　ＧＬ－Ｒ４５０　＋　ＧＬ－Ｒ４００Ｍ
カラム仕様：１０．７ｍｍφ　×　３００ｍｍ
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：室温（２０～２５℃）
流量：２．０５ｍＬ／分
濃度：１２０ｍｇ／５ｍＬ
注入量：２００μＬ
圧力：４９Ｋｇｆ／ｃｍ２
検出器：日立　Ｌ－３３００型ＲＩ（株式会社日立製作所製）
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
　表中の各成分は下記の通りである。
Ｍ－２１５；ビス（アクリロキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート（東亜合成株式会社製、商品名）
ＨＴ－９０８２－９５；アクリル樹脂溶液（末端にヒドロキシル基を有するポリカーボネート化合物、有機イソシアネート及び２－ヒドロキシエチルアクリレートを反応させて得られた光重合性化合物：重量平均分子量４０００、日立化成工業株式会社製、商品名）
ＦＡ－ＭＥＣＨ；γ－クロロ－２－ヒドロキシプロピル－β’－メタクリロイルオキシエチル－ｏ－フタレート（大阪有機化学工業株式会社製、商品名）
ＦＡ－３１４Ａ；ノニルフェニルＥＯ変性モノアクリレート（１分子中にエチレンオキサイド（ＥＯ）基を４モル付加させたもの、日立化成工業株式会社製、商品名）
ＦＡ－３２１Ｍ；ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート（１分子中にエチレンオキサイド（ＥＯ）基を１０モル付加させたもの、日立化成工業株式会社製、商品名）
ＴＭＰＴ－２１；トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（１分子中にエチレンオキサイド（ＥＯ）基を２１モル付加させたもの、日立化成工業株式会社製、商品名）
Ｂ－ＣＩＭ；２－（２－クロロフェニル）－１－［２－（２－クロロフェニル）－４，５－ジフェニル－１，３－ジアゾール－２－イル］－４，５－ジフェニルイミダゾール（保土ヶ谷化学工業株式会社製、商品名）
ＥＡＢ；Ｎ，Ｎ’－テトラエチル－４，４’－ジアミノベンゾフェノン（保土ヶ谷化学工業株式会社製、商品名）
Ｎ－１７１７；１，７－ビス（９－アクリジニル）ヘプタン（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）
Ｉ－６５１；ベンジルジメチルケタール（チバスペシャリティーケミカル社製、商品名）
チタンブラック；ＢＴ－１ＨＣＡ（三菱マテリアル電子化成社製、商品名）
イミダゾリン系分散剤（界面活性剤）；（花王株式会社製、商品名ホモゲノール　Ｌ－９５）
ＬＣＶ；ロイコクリスタルバイオレット（山田化学株式会社製、商品名）
　表１で得られた感光性樹脂組成物の溶液を、１６μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：ＨＴＲ－０２）上に均一に塗布し、９０℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥した後、ポリエチレン製保護フィルム（フィルム長手方向の引張強さ：１６ＭＰａ、フィルム幅方向の引張強さ：１２ＭＰａ、商品名：ＮＦ－１５、タマポリ株式会社製）で保護して感光性エレメントを得た。感光性樹脂組成物層の乾燥後の膜厚は、４０μｍであった。得られた感光性エレメントについて、目視及び顕微鏡観察にて塗膜外観を評価した。その結果、いずれの感光性エレメントも塗膜外観は良好であった。
　一方、ガラス基板（ＳｉＯ２スパッタ；長さ３７０ｍｍ、幅４８０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ、三立化成株式会社製、商品名：ＳＰ－ＳｉＯ２）を８０℃に加温し、そのガラス表面（ＳｉＯ２スパッタ面）上に、上記感光性エレメントを、感光性樹脂組成物層がガラス表面に接するように、ポリエチレン製保護フィルムを剥離しながら１１０℃に加熱したラミネートロールを通してラミネートした。できあがった積層物の構成は、下からガラス基板、感光性樹脂組成物層、ポリエチレンテレフタレートフィルムとなる。得られた積層物について、感度、密着性、解像度及び退色性の評価を行った。
＜感度の評価＞
　高圧水銀灯ランプを有する散乱光露光機（株式会社オーク製作所製）ＨＭＷ－２０１ＧＸを用いて、４１段ステップタブレットを有するフォトツールを積層物のポリエチレンテレフタレートフィルム上に密着させ、露光を行った。露光後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、１質量％炭酸ナトリウム水溶液を３０℃で３０秒間スプレーすることにより、未露光部分を除去した。４１段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が２６．０となるエネルギー量を感度（ｍＪ／ｃｍ２）とした。このエネルギー量の数値が小さい程、感度が高いことを示す。表２に評価結果を示した。
＜密着性の評価＞
　高圧水銀灯ランプを有する散乱光露光機（株式会社オーク製作所製）ＨＭＷ－２０１ＧＸを用いて、密着性評価用ネガとしてライン幅／スペース幅が３０／４００～２００／４００（単位：μｍ、ライン幅５μｍずつ増加、スペース幅一定）の配線パターンを有するフォトツールと、４１段ステップタブレットを有するフォトツールとを積層物のポリエチレンテレフタレートフィルム上に密着させ、４１段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が２６．０となるエネルギー量で露光を行った。露光後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、１質量％炭酸ナトリウム水溶液を３０℃で３０秒間スプレーすることにより、未露光部分を除去して密着性を評価した。密着性は現像液により剥離されずに残った最も細いラインの幅（μｍ）で表され、この数値が小さい程、細いラインでもガラス基板から剥離せずに密着していることから、密着性が高いことを示す。表２に評価結果を示した。
＜解像度の評価＞
　４１段ステップタブレットを有するフォトツールと、解像度評価用ネガとしてライン幅／スペース幅が３０／３０～２００／２００（単位：μｍ）の配線パターンを有するフォトツールとを積層物のポリエチレンテレフタレートフィルム上に密着させ、高圧水銀灯ランプを有する散乱光露光機（株式会社オーク製作所製）ＨＭＷ－２０１ＧＸを用いて、４１段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が２６．０となるエネルギー量で露光を行った。露光後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、１質量％炭酸ナトリウム水溶液を３０℃で３０秒間スプレーすることにより、未露光部分を除去して解像度を評価した。解像度は現像処理によって未露光部が良好に除去された最も小さいスペース幅（μｍ）で表され、この数値が小さいほど解像度は良好である。表２に評価結果を示した。
＜耐光性の評価＞
　積層物に、高圧水銀灯ランプを有する散乱光露光機（株式会社オーク製作所製）ＨＭＷ－２０１ＧＸを用いて、４１段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が２６．０となるエネルギー量で露光を行った。露光後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、１質量％炭酸ナトリウム水溶液を３０℃で３０秒間スプレーし、１６０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０－ＣＡ）内に１時間静置した。乾燥後の積層物をサンプルとし、そのＯＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｄｅｎｓｉｔｙ）値を、透過濃度計（伊原電子工業株式会社製）Ｉｈａｃ－Ｔ５を用いて測定した。ディスプレイの画像を引き締めるために、ＯＤ値は０．２付近が望ましい。次いで、サンプルに対し、耐光性試験機（株式会社東洋精器製作所製、型番：サンテストＸＬＳ＋）にて５日間紫外線を照射し、透過濃度計（伊原電子工業株式会社製）Ｉｈａｃ－Ｔ５でＯＤ値を測定し、退色の割合を算出した。退色の割合は、下記式（Ｘ）に示すように、紫外線照射前のＯＤ値に対する紫外線照射後のＯＤ値の割合により算出した。表２に紫外線照射前のＯＤ値（初期ＯＤ値）及び紫外線照射後の退色の割合を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000011
　また、紫外線照射後の退色の割合を元に熱による退色性の評価を行った。評価結果を表２に示した。紫外線照射後の退色の割合の数値が１に近い程、退色性がない（退色しにくい）ことを示す。退色性が少なかったもの（退色の割合が０．７超１以下）をＡ、退色がやや見られたもの（退色の割合が０．２超０．７以下）をＢ、退色性が大きかったもの（退色の割合が０．２以下）をＣとして評価した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
　表２より、実施例１～４は、良好な感度、密着性及び解像度を有し、かつ紫外線による退色が少なく耐光性に優れることが明らかである。
　以上説明したとおり、本発明によれば、耐光性に優れた画像表示装置の隔壁を形成できるとともに、パターニング性に優れた感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法を提供することができる。
　１…支持体、２…感光性樹脂組成物層、３…保護フィルム、４…電極、５…基板、１０…感光性エレメント、２０…感光性樹脂組成物の硬化物（光硬化物パターン）、３０…電極基板、４０…接着剤。

Claims (9)

  1. 　画像表示装置の隔壁を形成するための感光性樹脂組成物であって、
    　前記感光性樹脂組成物が、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）無機系黒色顔料、（Ｅ）界面活性剤及び（Ｆ）メルカプト基含有化合物を含み、
    　前記（Ｂ）光重合性化合物が、分子内に少なくとも１つの不飽和基及びイソシアヌル環構造を有する光重合性化合物を含有する、感光性樹脂組成物。
  2. 　前記分子内に少なくとも１つの不飽和基及びイソシアヌル環構造を有する光重合性化合物が、さらに、分子内に少なくとも１つの水酸基を有する、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
  3. 　前記（Ｄ）無機系黒色顔料が、チタンブラックを含む、請求項１又は２に記載の感光性樹脂組成物。
  4. 　前記（Ｅ）界面活性剤が、イミダゾリン系界面活性剤を含む、請求項１～３のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
  5. 　支持体と、該支持体上に形成された請求項１～４のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層と、を備える感光性エレメント。
  6. 　前記感光性樹脂組成物層の膜厚が１０～１００μｍである、請求項５に記載の感光性エレメント。
  7. 　画像表示装置の基板上に、請求項１～４のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層を積層する積層工程と、
    　前記感光性樹脂組成物層の所定部分に活性光線を照射して露光部を光硬化せしめる露光工程と、
    　前記感光性樹脂組成物層の前記露光部以外の部分を除去して光硬化物パターンを形成する現像工程と、
    を有する、画像表示装置の隔壁の形成方法。
  8. 　請求項７に記載の画像表示装置の隔壁の形成方法により形成された光硬化物パターンを、６０～２５０℃で加熱処理して熱硬化せしめる加熱工程をさらに有する、画像表示装置の隔壁の形成方法。
  9. 　表示媒体を、請求項７又は８に記載の方法により形成された隔壁内に充填又は塗布する工程と、
    　一方の基板に対向するように隔壁の反対側に基板を貼り付ける工程と、
    を有する、画像表示装置の製造方法。
PCT/JP2012/057364 2011-03-30 2012-03-22 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法 Ceased WO2012133116A1 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/008,503 US9482946B2 (en) 2011-03-30 2012-03-20 Photosensitive resin composition, photosensitive element using same, method for forming partition wall of image display device, and method for manufacturing image display device
KR1020137027775A KR20130132655A (ko) 2011-03-30 2012-03-22 감광성 수지 조성물, 이를 사용한 감광성 엘리먼트, 화상 표시 장치의 격벽의 형성 방법 및 화상 표시 장치의 제조 방법
KR1020167030271A KR20160128464A (ko) 2011-03-30 2012-03-22 감광성 수지 조성물, 이를 사용한 감광성 엘리먼트, 화상 표시 장치의 격벽의 형성 방법 및 화상 표시 장치의 제조 방법
JP2013507465A JP5660200B2 (ja) 2011-03-30 2012-03-22 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
CN2012800158921A CN103460131A (zh) 2011-03-30 2012-03-22 感光性树脂组合物、使用了其的感光性元件、图像显示装置的隔壁的形成方法及图像显示装置的制造方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011-074948 2011-03-30
JP2011074948 2011-03-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2012133116A1 true WO2012133116A1 (ja) 2012-10-04

Family

ID=46930843

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2012/057364 Ceased WO2012133116A1 (ja) 2011-03-30 2012-03-22 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9482946B2 (ja)
JP (1) JP5660200B2 (ja)
KR (2) KR20160128464A (ja)
CN (1) CN103460131A (ja)
TW (1) TW201308000A (ja)
WO (1) WO2012133116A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015069161A (ja) * 2013-09-30 2015-04-13 東京応化工業株式会社 感光性樹脂組成物、樹脂パターンの製造方法、及び表示装置
JPWO2013115262A1 (ja) * 2012-02-02 2015-05-11 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント、スペーサーの形成方法、並びに、スペーサー
CN104813231A (zh) * 2012-11-27 2015-07-29 富士胶片株式会社 光硬化性组合物、转印材料、硬化物及其制造方法、树脂图案制造方法、硬化膜、液晶显示装置、有机el显示装置及触摸屏显示装置
WO2023074630A1 (ja) * 2021-10-26 2023-05-04 株式会社レゾナック 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、及び、積層体の製造方法

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI563030B (en) * 2014-10-01 2016-12-21 Chi Mei Corp Photosensitive resin composition for black matrix, black matrix, color filter and method for manufacturing the same, and liquid crystal display apparatus
JP6482206B2 (ja) * 2014-08-22 2019-03-13 キヤノン株式会社 中空構造を有するパターンの形成方法
CN108241259B (zh) * 2018-01-24 2021-08-10 杭州福斯特电子材料有限公司 一种具有良好孔掩蔽功能可直接描绘曝光成像的抗蚀剂组合物
KR20190094731A (ko) 2018-02-05 2019-08-14 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 컬러소자 및 표시장치
CN117083706A (zh) * 2021-03-29 2023-11-17 株式会社钟化 基板层叠体、图像传感器和基板层叠体的制造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008146855A1 (ja) * 2007-05-29 2008-12-04 Asahi Glass Company, Limited 感光性組成物、隔壁、ブラックマトリックス
JP2010066676A (ja) * 2008-09-12 2010-03-25 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
JP2010237567A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Fujifilm Corp フォトマスクブランクス、及びフォトマスク
JP2010266861A (ja) * 2009-04-16 2010-11-25 Fujifilm Corp カラーフィルタ用重合性組成物、カラーフィルタ、及び固体撮像素子

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ATE532825T1 (de) * 2003-04-10 2011-11-15 Kaneka Corp Härtbare zusammensetzung
US20050288166A1 (en) * 2004-06-24 2005-12-29 Jun-Kyu Cha Lead-free black ceramic composition for filter and filter formed using the same
JP2007072035A (ja) 2005-09-06 2007-03-22 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性組成物
JP5066337B2 (ja) 2005-12-28 2012-11-07 株式会社ブリヂストン 情報表示用パネル
JP2007249190A (ja) 2006-02-14 2007-09-27 Fujifilm Electronic Materials Co Ltd 光硬化性組成物、それを用いた反射防止膜、及び固体撮像素子
KR101030022B1 (ko) * 2007-09-11 2011-04-20 제일모직주식회사 안료 분산액 조성물, 이를 포함하는 컬러필터용 레지스트조성물 및 이로부터 제조된 컬러필터
JP5589270B2 (ja) 2007-10-23 2014-09-17 Ｊｓｒ株式会社 青色カラーフィルタ用感放射線性組成物、カラーフィルタ及び液晶表示素子
JP5512095B2 (ja) 2008-04-28 2014-06-04 富士フイルム株式会社 感光性組成物、固体撮像素子用感光性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、及び固体撮像素子
JP4935833B2 (ja) 2009-01-23 2012-05-23 日立化成工業株式会社 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
JP4873043B2 (ja) 2009-04-28 2012-02-08 日立化成工業株式会社 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
WO2010134550A1 (ja) 2009-05-20 2010-11-25 旭硝子株式会社 光学素子の製造方法
EP2475612A4 (en) * 2009-09-11 2017-09-13 Jp Laboratories, Inc. Monitoring devices and processes based on transformation, destruction and conversion of nanostructures

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008146855A1 (ja) * 2007-05-29 2008-12-04 Asahi Glass Company, Limited 感光性組成物、隔壁、ブラックマトリックス
JP2010066676A (ja) * 2008-09-12 2010-03-25 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
JP2010237567A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Fujifilm Corp フォトマスクブランクス、及びフォトマスク
JP2010266861A (ja) * 2009-04-16 2010-11-25 Fujifilm Corp カラーフィルタ用重合性組成物、カラーフィルタ、及び固体撮像素子

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2013115262A1 (ja) * 2012-02-02 2015-05-11 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント、スペーサーの形成方法、並びに、スペーサー
CN104813231A (zh) * 2012-11-27 2015-07-29 富士胶片株式会社 光硬化性组合物、转印材料、硬化物及其制造方法、树脂图案制造方法、硬化膜、液晶显示装置、有机el显示装置及触摸屏显示装置
JP6045603B2 (ja) * 2012-11-27 2016-12-14 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、転写材料、硬化物の製造方法、樹脂パターン製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機ｅｌ表示装置並びにタッチパネル表示装置
CN104813231B (zh) * 2012-11-27 2018-12-04 富士胶片株式会社 光硬化性组合物、转印材料、硬化物及其制造方法、树脂图案制造方法、硬化膜及其应用
JP2015069161A (ja) * 2013-09-30 2015-04-13 東京応化工業株式会社 感光性樹脂組成物、樹脂パターンの製造方法、及び表示装置
WO2023074630A1 (ja) * 2021-10-26 2023-05-04 株式会社レゾナック 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、及び、積層体の製造方法
JPWO2023074630A1 (ja) * 2021-10-26 2023-05-04

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130132655A (ko) 2013-12-04
US20140087619A1 (en) 2014-03-27
JP5660200B2 (ja) 2015-01-28
JPWO2012133116A1 (ja) 2014-07-28
TW201308000A (zh) 2013-02-16
CN103460131A (zh) 2013-12-18
US9482946B2 (en) 2016-11-01
KR20160128464A (ko) 2016-11-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5660200B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
JP6019791B2 (ja) 隔壁形成材料、これを用いた感光性エレメント、隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
CN101218538B (zh) 感光性树脂组合物和使用其的感光性部件，抗蚀剂图案的形成方法，印刷配线板的制造方法和等离子显示面板用间隔壁的制造方法
JP5884337B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法、画像表示装置の製造方法及び画像表示装置
JP5924350B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント、スペーサーの形成方法、並びに、スペーサー
JP4941438B2 (ja) 感光性樹脂組成物、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
CN101410755B (zh) 感光性树脂组合物、使用其的感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷电路板的制造方法
JP2010169934A (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
JP2008304710A (ja) 感光性樹脂組成物及び感光性フィルム
JP5626574B2 (ja) 感光性樹脂組成物並びにこれを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
WO2014050567A1 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びタッチパネルの製造方法
JP4873043B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
JP5920357B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、硬化物、画像表示装置の隔壁の形成方法、画像表示装置の製造方法及び画像表示装置
JP5126408B2 (ja) 感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
JP2014041188A (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、隔壁、隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
JP2007304536A (ja) 感光性樹脂組成物
JP4555988B2 (ja) 感光性エレメント
JP2012162601A (ja) オーバーコート用光硬化性樹脂組成物、オーバーコート用光硬化性エレメント、導電膜基板の製造方法及び導電膜基板
JP2018049055A (ja) 感光性導電フィルム、導電パターンの形成方法及び導電パターン基板の形成方法
JP2016161666A (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びガラス基板の加工方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 12764528

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2013507465

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20137027775

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 14008503

Country of ref document: US

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 12764528

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1