CN103460131A - 感光性树脂组合物、使用了其的感光性元件、图像显示装置的隔壁的形成方法及图像显示装置的制造方法 - Google Patents

感光性树脂组合物、使用了其的感光性元件、图像显示装置的隔壁的形成方法及图像显示装置的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN103460131A
CN103460131A CN2012800158921A CN201280015892A CN103460131A CN 103460131 A CN103460131 A CN 103460131A CN 2012800158921 A CN2012800158921 A CN 2012800158921A CN 201280015892 A CN201280015892 A CN 201280015892A CN 103460131 A CN103460131 A CN 103460131A
Authority
CN
China
Prior art keywords
polymer combination
photosensitive polymer
image display
display device
methyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN2012800158921A
Other languages
English (en)
Inventor
濑里泰洋
佐藤真弓
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Publication of CN103460131A publication Critical patent/CN103460131A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0041—Photosensitive materials providing an etching agent upon exposure
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0047—Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0382—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable the macromolecular compound being present in a chemically amplified negative photoresist composition
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

本发明提供在可形成耐光性优异的图像显示装置的隔壁的同时、图案形成性优异的感光性树脂组合物。本发明的一个方式为用于形成图像显示装置的隔壁的感光性树脂组合物，上述感光性树脂组合物含有（A）粘合剂聚合物、（B）光聚合性化合物、（C）光聚合引发剂、（D）无机系黑色颜料、（E）表面活性剂以及（F）含巯基化合物，上述（B）光聚合性化合物含有分子内具有至少1个不饱和基团和异氰脲酸环结构的光聚合性化合物。

Description

感光性树脂组合物、使用了其的感光性元件、图像显示装置的隔壁的形成方法及图像显示装置的制造方法
技术领域
本发明涉及感光性树脂组合物、使用了该感光性树脂组合物的感光性元件、图像显示装置的隔壁的形成方法及图像显示装置的制造方法。
背景技术
近年来，像纸那样薄、携带搬运自由、可显示文字或图像的图像显示装置（PLD：Paper Like Display，类纸显示器）受到关注。该图像显示装置具有作为通常印刷物的纸的优点即视觉辨认性、携带性，进而能够将信息进行电改写，因此从环境和成本方面出发尝试了作为纸的代替品进行实用化。
作为图像显示装置的显示技术，考虑了通过电泳等使粒子移动的类型、液晶类型、电化学类型等各种类型（例如参照非专利文献1）。
特别是作为使粒子移动的类型，探讨了微胶囊型电泳方式、微杯型电泳方式、电子粉流体方式、色调剂显示等方式。这些方式中，通过在透明电极间封入作为显示介质的白和黑的粒子并施加电场使这些粒子发生电移动，由此形成白/黑图像来进行显示。另外，作为图像显示装置的驱动方式，有有源驱动和无源驱动，还探讨了图像显示装置用的背面技术（脉冲电路）。
在为上述粒子移动型的图像显示装置时，如上所述需要用于封入白/黑的粒子的隔壁。作为该隔壁的形成方法，提出了模具转印法、丝网印刷法、喷砂法、光刻法、添加法等（例如参照专利文献1）。其中，使用感光性树脂组合物、通过活性光线的照射可高效地形成高精细图案的光刻法备受关注。
另外，最近还有通过在白/黑图像显示中组合滤色器而实现了全彩色显示的报告例（例如参照非专利文献2）。
另外，与上述PLD不同，近年来通过用半导体激光描绘荧光体使其激发、从而进行图像显示的显示器（激光描绘型显示器）备受注目。该显示器由于结构简单，因此具有制造成本低、由于用激光仅描绘显示像素因而低耗电等优异的特征。该显示器由于需要将荧光体隔开、进行封入，因此需要隔壁。作为该隔壁的形成方法，与PLD同样地有各种手法，但其中能够高效地形成高精细图案的光刻法受到关注。
使用了光刻法的图像显示装置的隔壁如下形成。即，通过包含以下工序的方法可形成图像显示装置的隔壁：在基板上根据情况利用光刻技术层叠被称作黑色矩阵的遮光层的工序；通过进一步在上述遮光层上涂布感光性树脂组合物或者层叠感光性膜（感光性元件）而形成感光性树脂组合物层的工序；对上述感光性树脂组合物层的规定部分照射活性光线以使曝光部发生光固化的工序；以及将未曝光部除去以形成光固化物图案的工序。因此，对于用于形成图像显示装置的隔壁的感光性树脂组合物，一般要求图案形成性（感度、析像度及对基板的密合性）。
在制造面向PLD的图像显示装置时，进一步包含以下工序：在上述工序中获得的光固化物图案内填充粒子等显示介质的工序；对上述光固化物图案进行热处理的工序；以及粘贴电极基板的工序等。由此，可获得以感光性树脂组合物层的固化物为隔壁的图像显示装置。由于在上述工序中需要高温过程，因此对于使用感光性树脂组合物形成的图像显示装置的隔壁要求耐热性等。
另外，在制造激光描绘型显示器时，进一步包含对上述工序中获得的光固化物图案进行热处理的工序或者在光固化物图案内涂布荧光体等的工序等。由此，可获得以感光性树脂组合物层的固化物为隔壁的激光描绘型显示器。
进而，作为隔壁材料的色调，虽然也取决于显示器或用途，但期待灰色～黑色。这是因为，通过具有上述颜色，在图像显示时可期待颜色紧密地呈现的效果。
然而，例如下述专利文献2～4中公开了用于形成图像显示装置的隔壁的感光性树脂组合物。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2007-178881号公报
专利文献2：日本特开2010-066676号公报
专利文献3：日本特开2010-169934号公报
专利文献4：日本特开2010-256775号公报
非专利文献
非专利文献1：铃木明、“電子ペーパーの最新動向（电子纸的最新动向）2007”、平成19年10月10日、日本画像学会誌（日本图像学会志）第46卷第5号：372-384（2007）
非专利文献2：田沼逸夫、“電子粉流体を用いたフレキシブル電子ペーパー（使用了电子粉流体的挠性电子纸）”、平成19年10月10日、日本画像学会誌（日本图像学会志）第46卷第5号：396-400（2007）
发明内容
发明要解决的技术问题
当使用上述专利文献2～4所公开的用于形成图像显示装置的隔壁的感光性树脂组合物时，具有以下问题：有时作为显示器所要求的可靠性之一的耐光性并不充分，因紫外线导致褪色而对显示特性造成影响。特别是，激光描绘型显示器在利用紫外线激光照射隔壁材料、使用上述专利文献2～4公开的感光性树脂组合物时，具有感光性树脂组合物褪色、对显示特性造成影响的问题。
本发明鉴于上述问题而作出，其目的在于提供在能够形成耐光性优异的图像显示装置的隔壁的同时、图案形成性也优异的感光性树脂组合物，使用了该感光性树脂组合物的感光性元件，图像显示装置的隔壁的形成方法及图像显示装置的制造方法。
用于解决技术问题的手段
本发明提供一种感光性树脂组合物，其是用于形成图像显示装置的隔壁的感光性树脂组合物，上述感光性树脂组合物含有（A）粘合剂聚合物、（B）光聚合性化合物、（C）光聚合引发剂、（D）无机系黑色颜料、（E）表面活性剂以及（F）含巯基化合物，上述（B）光聚合性化合物含有分子内具有至少1个不饱和基团和异氰脲酸环结构的光聚合性化合物。
本发明的感光性树脂组合物通过具有上述构成，可以简便且操作性良好地形成图案形成性优异、同时不会因紫外线而褪色的耐光性优异的图像显示装置用的隔壁。
另外，本发明的感光性树脂组合物中，上述分子内具有至少1个不饱和基团和异氰脲酸环结构的光聚合性化合物优选进一步在分子内具有至少1个羟基。由此，可以进一步提高耐光性和图案形成性。
另外，本发明的感光性树脂组合物中，优选上述（D）无机系黑色颜料含有钛黑。由此，可以以更高水平兼顾耐光性和图案形成性。
另外，本发明的感光性树脂组合物中，优选上述（E）表面活性剂含有咪唑啉系表面活性剂。由此，可以进一步提高本发明的效果。
另外，本发明提供一种感光性元件，其具备支撑体和形成在该支撑体上的由上述感光性树脂组合物构成的感光性树脂组合物层。
本发明的感光性元件通过具备由上述本发明的感光性树脂组合物构成的感光性树脂组合物层，可以简便且操作性良好地形成不会损害涂膜外观、而且不会因紫外线而褪色的耐光性优异的图像显示装置用的隔壁。
另外，在本发明的感光性元件中，优选上述感光性树脂组合物层的膜厚为10～100μm。由此，可以更简便且操作性良好地形成不会损害涂膜外观、而且不会因紫外线而褪色的耐光性优异的图像显示装置用的隔壁。
另外，本发明提供一种图像显示装置的隔壁的形成方法，其具有：在图像显示装置的基板上层叠由上述感光性树脂组合物构成的感光性树脂组合物层的层叠工序；对上述感光性树脂组合物层的规定部分照射活性光线以使曝光部发生光固化的曝光工序；以及将上述感光性树脂组合物层的除上述曝光部以外的部分除去以形成光固化物图案的显影工序。另外，提供在制造激光描绘型显示器时也具有与上述工序同样地形成光固化物图案的工序的图像显示装置的隔壁的形成方法。
本发明的图像显示装置的隔壁的形成方法由于使用上述本发明的感光性树脂组合物，因此可以简便且操作性良好地形成不会因紫外线而褪色的耐光性优异的图像显示装置用的隔壁。
另外，本发明提供一种图像显示装置的隔壁的形成方法，其进一步具有将通过上述图像显示装置的隔壁的形成方法形成的光固化物图案在60～250℃下进行加热处理以使其发生热固化的加热工序。
另外，本发明提供一种图像显示装置的制造方法，其具有：将显示介质填充或涂布在上述隔壁内的工序；和按照与一方的基板相向的方式在隔壁的相反侧粘贴基板的工序。
本发明还提供一种组合物的作为用来形成图像显示装置的隔壁的感光性树脂组合物的用途，所述组合物含有（A）粘合剂聚合物、（B）光聚合性化合物、（C）光聚合引发剂、（D）无机系黑色颜料、（E）表面活性剂以及（F）含巯基化合物，上述（B）光聚合性化合物含有分子内具有至少1个不饱和基团和异氰脲酸环结构的光聚合性化合物。本发明还提供一种组合物的用于制造用来形成图像显示装置的隔壁的感光性树脂组合物的用途，所述组合物含有（A）粘合剂聚合物、（B）光聚合性化合物、（C）光聚合引发剂、（D）无机系黑色颜料、（E）表面活性剂以及（F）含巯基化合物，上述（B）光聚合性化合物含有分子内具有至少1个不饱和基团和异氰脲酸环结构的光聚合性化合物。
发明效果
根据本发明，能够提供在可形成耐光性优异的图像显示装置的隔壁的同时、图案形成性优异的感光性树脂组合物、使用了该感光性树脂组合物的感光性元件、图像显示装置的隔壁的形成方法及图像显示装置的制造方法。另外，本发明的感光性树脂组合物的（D）无机系黑色颜料的分散稳定性优异、可以良好地确保制成感光性元件时的涂膜外观。另外，根据本发明，可以简便且操作性良好地形成不会因紫外线而褪色的耐光性优异的图像显示装置用的隔壁。
附图说明
图1为表示本发明的感光性元件的优选的一个实施方式的示意截面图。
图2为用于说明使用了本发明的感光性元件的图像显示装置的隔壁的形成方法的一个实施方式的示意截面图。
具体实施方式
以下根据情况一边参照附图一边对本发明的优选实施方式进行说明。此外，在说明书附图中，相同或相当的部分带有相同符号，并省略重复的说明。另外，附图中的尺寸比率并不限于图示的比率。此外，本说明书中的（甲基）丙烯酸是指丙烯酸及与其相对应的甲基丙烯酸，（甲基）丙烯酸酯是指丙烯酸酯及与其相对应的甲基丙烯酸酯，（甲基）丙烯酰基是指丙烯酰基及与其相对应的甲基丙烯酰基。
（感光性树脂组合物）
本发明的感光性树脂组合物是含有（A）粘合剂聚合物、（B）光聚合性化合物、（C）光聚合引发剂、（D）无机系黑色颜料、（E）表面活性剂以及（F）含巯基化合物（含巯基供氢体）而成的。
具有上述构成所产生的效果的表现机制虽不清楚，但本发明人如下推测。一直以来，为了使图案形成性良好，作为（C）光聚合引发剂的供氢体，使用隐色结晶紫。隐色结晶紫在曝光后变成结晶紫而显色，从而将树脂进行着色。但是，含有上述结晶紫的树脂具有易因紫外线而褪色的问题。与其相对，本发明中使用的（F）含巯基化合物（含巯基供氢体）由于能够不显色即可提供氢，因此不会发生褪色的问题，使图案形成性变得良好。另外，本发明中，通过利用（D）无机系黑色颜料将树脂进行着色，可以尽量地减少因紫外线导致的褪色。
以下对各成分详细地进行说明。
（A）成分：粘合剂聚合物
作为本发明中的（A）粘合剂聚合物，例如可举出丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂、环氧系树脂、酰胺系树脂、酰胺环氧系树脂、醇酸系树脂、酚醛系树脂。作为（A）粘合剂聚合物，从碱显影性的观点出发，优选丙烯酸系树脂。这些物质可单独使用，或者可以组合使用2种以上的粘合剂聚合物。作为2种以上的粘合剂聚合物的组合的例子，可举出由不同的共聚成分构成的2种以上的粘合剂聚合物、不同重均分子量的2种以上的粘合剂聚合物、不同分散度的2种以上的粘合剂聚合物等。另外，还可以使用日本特开平11-327137号公报记载的具有多模式分子量分布的聚合物。
（A）成分的粘合剂聚合物例如可通过使聚合性单体发生自由基聚合来制造。作为聚合性单体，例如可举出苯乙烯、乙烯基甲苯、α-甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、对乙基苯乙烯等可聚合的苯乙烯衍生物，丙烯酰胺、丙烯腈、乙烯基-正丁基醚等乙烯基醇的醚类，（甲基）丙烯酸烷基酯、（甲基）丙烯酸四氢糠酯、（甲基）丙烯酸二甲基氨基乙酯、（甲基）丙烯酸二乙基氨基乙酯、（甲基）丙烯酸缩水甘油酯等（甲基）丙烯酸酯，（甲基）丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、（甲基）丙烯酸2,2,3,3-四氟丙酯、（甲基）丙烯酸、α-溴（甲基）丙烯酸、α-氯（甲基）丙烯酸、β-呋喃基（甲基）丙烯酸、β-苯乙烯基（甲基）丙烯酸、马来酸、马来酸酐、马来酸单甲酯、马来酸单乙酯、马来酸单异丙酯等马来酸单酯，富马酸、肉桂酸、α-氰基肉桂酸、衣康酸、巴豆酸、丙炔酸等。可以单独使用这些物质制成均聚物，也可组合2种以上制成共聚物。
作为上述（甲基）丙烯酸烷基酯，例如可举出（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸丁酯、（甲基）丙烯酸戊酯、（甲基）丙烯酸己酯、（甲基）丙烯酸庚酯、（甲基）丙烯酸辛酯、（甲基）丙烯酸2-乙基己酯及它们的结构异构体。它们可单独使用或者组合使用2种以上。
（A）粘合剂聚合物从碱显影性的立场出发，优选含有羧基，例如可通过使具有羧基的聚合性单体与其他的聚合性单体发生自由基聚合来制造。作为上述具有羧基的聚合性单体，从显影性及稳定性的观点出发，优选（甲基）丙烯酸。
（A）成分从使耐光性、析像度及密合性良好的观点出发，优选具有基于选自（甲基）丙烯酸丁酯、（甲基）丙烯酸丁酯衍生物、苯乙烯及苯乙烯衍生物中的至少1种聚合性单体的结构单元。另外，更优选含有选自（甲基）丙烯酸丁酯及（甲基）丙烯酸丁酯衍生物中的至少1种和选自苯乙烯及苯乙烯衍生物中的至少1种这两者。即，（A）成分优选为通过使这些聚合性单体发生自由基聚合而获得的成分，更优选为具有来自于这些聚合性单体的结构单元的成分。
在（A）成分具有基于（甲基）丙烯酸丁酯及（甲基）丙烯酸丁酯衍生物的结构单元时，其含量从密合性及剥离性优异的方面出发，以构成（A）成分的聚合性单体的总质量为基准，优选为1～50质量%、更优选为5～40质量%、进一步优选为5～35质量%、特别优选为10～30质量%。
在（A）成分具有基于苯乙烯或其衍生物的结构单元时，其含量从密合性及剥离性优异的方面出发，以构成（A）成分的聚合性单体的总质量为基准，优选为10～70质量%、更优选为15～60质量%、进一步优选为20～50质量%、特别优选为25～45质量%。
另外，（A）成分从提高碱显影性及剥离特性的观点出发，优选具有基于（甲基）丙烯酸丁酯及（甲基）丙烯酸丁酯衍生物以外的（甲基）丙烯酸烷基酯的结构单元。
在（A）成分具有基于（甲基）丙烯酸丁酯及（甲基）丙烯酸丁酯衍生物以外的（甲基）丙烯酸烷基酯的结构单元时，其含量从剥离性、析像度及密合性优异的方面出发，以构成（A）成分的聚合性单体的总质量为基准，优选为1～50质量%、更优选为5～45质量%、进一步优选为10～40质量%、特别优选为15～40质量%。
作为基于上述（甲基）丙烯酸烷基酯的结构单元，优选含有（甲基）丙烯酸甲酯或（甲基）丙烯酸乙酯。
（A）粘合剂聚合物的酸值从析像度的观点出发，优选为30mgKOH/g以上、更优选为80mgKOH/g以上、进一步优选为130mgKOH/g以上、特别优选为180mgKOH/以上。另外，（A）粘合剂聚合物的酸值从耐显影液性及密合性的观点出发，优选为250mgKOH/g以下、更优选为240mgKOH/g以下、进一步优选为230mgKOH/g以下、特别优选为220mgKOH/g以下。在作为显影工序进行利用溶剂的显影时，优选抑制具有羧基的聚合性单体的使用量来进行制备。
（A）粘合剂聚合物的重均分子量（利用凝胶渗透色谱法（GPC）测定，通过使用了标准聚苯乙烯的标准曲线进行换算）从耐显影液性的观点出发，优选为20,000以上、更优选为25,000以上、进一步优选为30,000以上、特别优选为40,000以上。另外，（A）粘合剂聚合物的重均分子量从可缩短显影时间的观点出发，优选为300,000以下、更优选为150,000以下、进一步优选为100,000以下、特别优选为90,000以下。
（B）成分：光聚合性化合物
作为本实施方式中能够使用的（B）成分，只要是能够进行光交联则无特别限定，例如可举出（B1）成分：分子内具有至少1个不饱和基团和异氰脲酸环结构的光聚合性化合物、（B2）成分：使α,β-不饱和羧酸与多元醇和/或含缩水甘油基的化合物发生反应所获得的化合物、（B3）成分：分子内具有1个烯键式不饱和键的化合物。这些物质可单独使用1种，或者可以组合使用2种以上，但本发明的感光性树脂组合物作为必需成分含有其中的（B1）成分。
（B1）成分：分子内具有至少1个不饱和基团和异氰脲酸环结构的光聚合性化合物
本发明中的（B1）成分的光聚合性化合物只要是分子内具有至少1个不饱和基团和异氰脲酸环结构则可没有特别限定地使用，进而优选分子内具有至少1个羟基。
另外，（B）成分的光聚合性化合物还可含有分子内具有至少1个不饱和基团和异氰脲酸环结构的光聚合性化合物及分子内具有至少1个羟基、至少1个不饱和基团和异氰脲酸环结构的光聚合性化合物这两者。
作为分子内具有至少1个不饱和基团和异氰脲酸环结构的光聚合性化合物，从密合性的观点出发，例如优选使用通式（I）所示的化合物。
[通式（I）中，R1各自独立地表示下述通式（II）所示的基团、下述通式（III）所示的基团或下述通式（IV）所示的基团。但R1中的至少1个为下述通式（II）或下述通式（IV）所示的基团。]
Figure BDA0000388858290000092
[通式（II）中，R2表示氢原子或甲基，m为1～14的整数。]
[通式（III）中，m为1～14的整数。]
Figure BDA0000388858290000102
[通式（IV）中，R2表示氢原子或甲基，n为1～9的整数，m为1～14的整数。]
光聚合性化合物在分子内具有至少1个羟基、至少1个不饱和基团和异氰脲酸环结构时，R1中的至少1个为通式（III）所示的基团，且R1中的至少1个为通式（II）或通式（IV）所示的基团。
通式（II）或通式（III）中，m为1～14的整数、优选为1～6。通过使m为14以下，可以提高耐化学试剂性。另外，通式（IV）中，m为1～14的整数、优选为1～6，n为1～9的整数、优选为3～6。通过使m为14以下，可以提高耐化学试剂性，通过使n为9以下，可以提高机械强度。
作为分子内具有至少1个不饱和基团和异氰脲酸环结构的光聚合性化合物，特别优选通式（V）所示的化合物。
作为分子内具有至少1个羟基、至少1个不饱和基团和异氰脲酸环结构的光聚合性化合物，特别优选通式（VI）所示的化合物。
Figure BDA0000388858290000104
上述通式（I）所示的化合物中，作为市售品例如可举出NKオリゴUA-21（新中村化学工业株式会社商品名，通式（I）中R1全部为通式（IV）的化合物）、M-315（东亚合成株式会社商品名，通式（I）中R1全部为通式（II）的化合物）、M-215（东亚合成株式会社商品名，通式（I）中2个R1为通式（II）、1个R1为通式（III）的化合物）等。
（B1）分子内具有至少1个不饱和基团和异氰脲酸环结构的光聚合性化合物的含量从密合性及膜形成性的观点出发，相对于（A）成分及（B）成分的总量100质量份，优选为1～40质量份、更优选为3～30质量份、进一步优选为6～25质量份。
（B2）成分：使α,β-不饱和羧酸与多元醇和/或含缩水甘油基的化合物发生反应所获得的化合物
作为（B2）成分，例如可举出聚乙二醇二（甲基）丙烯酸酯（亚乙基的数目为2～14者）、聚丙二醇二（甲基）丙烯酸酯（亚丙基的数目为2～14者）等聚烷撑二醇二（甲基）丙烯酸酯；三羟甲基丙烷二（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷乙氧基三（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷丙氧基三（甲基）丙烯酸酯等三羟甲基丙烷（甲基）丙烯酸酯化合物；四羟甲基甲烷三（甲基）丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四（甲基）丙烯酸酯等四羟甲基甲烷（甲基）丙烯酸酯化合物；二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯等二季戊四醇（甲基）丙烯酸酯化合物；双酚A二氧乙烯二（甲基）丙烯酸酯、双酚A三氧乙烯二（甲基）丙烯酸酯、双酚A十氧乙烯二（甲基）丙烯酸酯等双酚A系二（甲基）丙烯酸酯化合物；三羟甲基丙烷三缩水甘油基醚三丙烯酸酯及双酚A二缩水甘油基醚丙烯酸酯。
其中，从密合性优异的方面出发，作为（B2）成分，优选含有双酚A系二（甲基）丙烯酸酯化合物。
作为双酚A系二（甲基）丙烯酸酯化合物，可举出下述通式（VII）所示的化合物。
Figure BDA0000388858290000121
上述通式（VII）中，R3及R4各自独立地表示氢原子或甲基。XO及YO各自独立地表示氧乙烯基或氧丙烯基，它们互不相同。（XO）m1、（XO）m2、（YO）n1及（YO）n2各自独立地表示（聚）氧乙烯链或（聚）氧丙烯链。m1、m2、n1及n2各自独立地表示0～40的整数。XO为氧乙烯基、YO为氧丙烯基时，m1+m2为1～40、n1+n2为0～20，XO为氧丙烯基、YO为氧乙烯基时，m1+m2为0～20、n1+n2为1～40。
上述通式（VII）所示的化合物中，2,2-双（4-（甲基丙烯酰氧基五乙氧基）苯基）丙烷可作为BPE-500（新中村化学工业株式会社制，商品名）或FA-321M（日立化成工业株式会社制，商品名）从商业途径获得。2,2-双（4-（甲基丙烯酰氧基十五乙氧基）苯基）丙烷可作为BPE-1300（新中村化学工业株式会社制，商品名）从商业途径获得。这些物质可单独使用1种或者任意地组合使用2种以上。
所述双酚A系（甲基）丙烯酸酯化合物优选与上述三羟甲基丙烷（甲基）丙烯酸酯化合物并用。
感光性树脂组合物中的上述（B2）成分的含量从膜形成性优异的方面出发，相对于（A）成分及（B）成分的总量100质量份，优选为1～20质量份、更优选为5～15质量份。
（B3）成分：分子内具有1个烯键式不饱和键的化合物
作为分子内具有1个烯键式不饱和键的化合物，例如可举出壬基苯氧基聚乙烯氧丙烯酸酯、苯二甲酸系化合物及（甲基）丙烯酸烷基酯。
上述中，从平衡性良好地提高析像度、密合性、抗蚀剂形状及固化后的剥离特性的观点出发，优选含有壬基苯氧基聚乙烯氧丙烯酸酯或苯二甲酸系化合物。
作为（B3）成分并无特别限定，从析像度优异的方面出发，优选含有下述通式（IX）所示的化合物。
Figure BDA0000388858290000131
[式（IX）中，R5表示氢原子或甲基，R6表示氢原子、甲基或卤代甲基中的任一个，R7表示碳数为1～6的烷基、卤原子、羟基中的任一个，p表示0～4的整数。其中，当p为2以上时，多个存在的R7可以相同也可不同。-（O-A）-表示氧乙烯基和/或氧丙烯基，-（O-A）-的重复总数a表示1～4的整数。]
作为上述通式（IX）所示的化合物，例如可举出γ-氯-β-羟基丙基-β’-（甲基）丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸酯、β-羟基乙基-β’-（甲基）丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸酯及β-羟基丙基-β’-（甲基）丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸酯，其中，优选γ-氯-β-羟基丙基-β’-（甲基）丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸酯。γ-氯-β-羟基丙基-β’-甲基丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸酯可作为FA-MECH（日立化成工业株式会社制，制品名）从商业途径获得。
感光性树脂组合物中的上述（B3）成分的含量从膜形成性优异的方面出发，相对于（A）成分及（B）成分的总量100质量份，优选为1～15质量份、更优选为5～15质量份。
上述（B3）成分可单独使用或者组合使用两种以上，其中优选并用壬基苯氧基聚乙烯氧丙烯酸酯和苯二甲酸系化合物。
（C）成分：光聚合引发剂
接着，对作为（C）成分的光聚合引发剂进行说明。
作为（C）成分的光聚合引发剂并无特别限定。例如可举出二苯甲酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-（4-吗啉代苯基）-丁酮-1、2-甲基-1-[4-（甲基硫代）苯基]-2-吗啉代-丙酮-1等芳香族酮；烷基蒽醌等醌类；苯偶姻烷基醚等苯偶姻醚化合物；苯偶姻、烷基苯偶姻等苯偶姻化合物；苄基二甲基缩酮等苄基衍生物；2-（邻氯苯基）-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-（邻氟苯基）-4,5-二苯基咪唑二聚物等2,4,5-三芳基咪唑二聚物；9-苯基吖啶、1,7-（9,9’-吖啶基）庚烷等吖啶衍生物。这些物质可单独使用1种或者组合使用2种以上。
（C）成分从提高抗蚀剂图案形成时的感度及所形成的抗蚀剂图案的密合性的观点出发，优选含有2,4,5-三芳基咪唑二聚物，更优选含有2-（邻氯苯基）-4,5-二苯基咪唑二聚物。2,4,5-三芳基咪唑二聚物的结构可以是对称的，也可以是不对称的。
（D）成分：无机系黑色颜料
作为（D）成分的无机系黑色颜料，例如可举出钛黑、炭黑、钴黑等，从图案形成性的观点出发，优选使用钛黑。无机系黑色颜料的粒径从抑制凝集的方面出发优选为1nm～10μm、更优选为10nm～1μm。1nm以下时，工业上难以获得，为10μm以上时，可能会对图案形成性造成影响。
（E）成分：表面活性剂
作为上述（E）成分的表面活性剂，例如可举出咪唑啉、不饱和聚羧酸聚合物、聚羧酸的烷基铵盐、聚硅氧烷共聚物等所代表的表面活性剂。作为市售品，例如可举出ホモゲノールL-100、ホモゲノールL-18（花王株式会社制，商品名）、Disperbyk-116、Disperbyk-108（BYK JAPAN株式会社制，商品名）等。
从感光性树脂组合物溶液中的（D）无机系黑色颜料的分散稳定性及感光性元件形成时的涂膜外观的立场出发，优选使用咪唑啉系的表面活性剂。
作为上述咪唑啉系表面活性剂，例如可举出咪唑啉的2位的碳被碳数为6～20的直链状饱和或不饱和烃基取代、3位的氮被羟基乙基取代了的咪唑啉衍生物。其中，优选使用下述式（VIII）所示的化合物，可从商业途径获得ホモゲノールL-95（花王株式会社制、产品名）。
Figure BDA0000388858290000141
（F）成分：含巯基化合物
（F）含巯基化合物作为（C）光聚合引发剂的供氢体发挥功能。作为上述（F）成分的含巯基化合物，只要是含有巯基，在不阻碍本发明效果的范围内可以没有特别限制地使用。从曝光后的树脂透明性优异的方面出发，优选含有含芳香族环的含巯基供氢体化合物，优选含有含杂环的含巯基供氢体化合物。其中，从与光引发剂组合、感度、析像度、密合性等特性良好、工业上可获得的观点出发，优选含有选自巯基苯并噁唑、巯基苯并咪唑、巯基苯并三唑、巯基苯并噻唑、二巯基噻二唑、巯基二甲基氨基吡啶中的至少1种，更优选含有选自巯基苯并咪唑、巯基苯并噁唑中的至少1种。
感光性树脂组合物中的（A）成分的含量从感光性树脂组合物的涂膜性及光固化物的机械强度的观点出发，相对于（A）成分及（B）成分的总量100质量份，优选为40～80质量份的范围、更优选为45～70质量份。
感光性树脂组合物中的（B）成分的含量从析像度及密合性和膜形成性的观点出发，相对于（A）成分及（B）成分的总量100质量份，优选为20～60质量份的范围、更优选为30～55质量份。
感光性树脂组合物中的（C）光聚合引发剂的含量从感度、密合性及光固化物底部的固化性的观点出发，相对于（A）成分及（B）成分的总量100质量份，优选为0.1～20质量份、更优选为0.2～10质量份。作为（C）成分中的六芳基联咪唑的含量，从密合性及抑制显影处理时的显影沉积物的观点出发，优选为10～90质量%、更优选为20～80质量%。
感光性树脂组合物中的（D）无机系黑色颜料的含量从感光性树脂组合物的遮光性、分散稳定性及感光性元件形成时的涂膜外观的观点出发，相对于（A）成分及（B）成分的总量100质量份，优选为0.1～10质量份、更优选为0.2～5质量份。
感光性树脂组合物中的（E）表面活性剂的含量从感光性树脂组合物的遮光性、分散稳定性及感光性元件形成时的涂膜外观及膜的处理性的观点出发，相对于（A）成分及（B）成分的总量100质量份，优选为0.01～5质量份、更优选为0.05～3质量份、进一步优选为0.1～1质量份、特别优选为0.1～0.9质量份。
含有以上成分的树脂组合物还可根据需要含有相对于（A）成分及（B）成分的总量100质量份各自为0.01～20质量份左右的热显色防止剂、对甲苯磺酰胺等增塑剂，颜料，填充剂，消泡剂，阻燃剂，稳定剂，密合性赋予剂，流平剂，剥离促进剂，抗氧化剂，香料，成像剂，热交联剂等，但优选不含具有成像性的成分以使得能够识别曝光部分。
特别是，如隐色结晶紫那样的染料相对于（A）成分及（B）成分的总量100质量份优选不含有0.1质量份以上、更优选不含有0.01质量份以上、进一步优选不含有0.001质量份以上。
含有上述成分的本发明的感光性树脂组合物例如可通过将含有成分用辊磨机、珠磨机等均匀地混炼并混合而获得。另外，还可根据需要溶解在甲醇、乙醇、丙酮、甲乙酮、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、甲苯、N,N-二甲基甲酰胺、丙二醇单甲醚等溶剂或它们的混合溶剂中制成固体成分为30～60质量%左右的溶液进行使用。
作为使用所得的感光性树脂组合物在图像显示装置的基板上形成（层叠）感光物组合物层的方法，并无特别限定，可以使用将感光性树脂组合物制成液状抗蚀剂涂布在上述基板上并进行干燥的方法。另外，还可根据需要在感光性树脂组合物层上被覆保护膜。进而，优选以感光性元件的形态使用感光性树脂组合物层，这会在之后详述。所涂布的感光性树脂组合物层的厚度根据用途而不同，优选以干燥后的厚度计为1～100μm左右。作为制成液状抗蚀剂进行涂布后再被覆保护膜来进行使用时的保护膜，例如可举出聚乙烯、聚丙烯等聚合物膜。
（感光性元件）
图1为表示本发明的感光性元件的优选的一个实施方式的示意截面图。如图1所示，本发明的感光性元件10具备支撑体1、形成在其上的由上述感光性树脂组合物构成的感光性树脂组合物层2、以及形成于感光性树脂组合物层2上的保护膜3。其中，保护膜3是根据需要设置的。
作为支撑体1，例如可优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、聚酯等聚合物膜。聚合物膜的厚度优选为1～100μm左右、更优选为5～50μm、进一步优选为10～30μm。
感光性树脂组合物层2在支撑体1上的形成方法并无特别限定，通过将感光性树脂组合物的溶液进行涂布、干燥，可优选地实施。所涂布的感光性树脂组合物层2的厚度根据用途而不同，优选以干燥后的厚度计为1～100μm左右。在本用途中使用时，感光性树脂组合物层2的厚度以干燥后的厚度计更优选为10～100μm、进一步优选为20～90μm、特别优选为30～80μm。
涂布可通过例如辊涂机、逗号涂布机、凹版涂布机、气刀涂布机、模涂机、棒涂机等公知的方法进行。干燥可以在70～150℃下进行5～30分钟左右。另外，感光性树脂组合物层2中的残存有机溶剂量从防止之后工序中的有机溶剂的扩散的方面出发，优选为2质量%以下。
还可使用作为支撑体1使用的上述聚合物膜作为保护膜3，将感光性树脂组合物层2表面被覆。作为保护膜3，优选感光性树脂组合物层2与保护膜3之间的粘接力小于感光性树脂组合物层2与支撑体1之间的粘接力，另外优选低鱼眼的膜。进而，感光性元件10除了感光性树脂组合物层2、支撑体1及任意的保护膜3之外，还可具有缓冲层、粘接层、光吸收层、气体阻隔层等中间层或保护层。
所制造的感光性元件10通常卷绕成圆筒状的卷芯进行储藏。另外，此时优选按照支撑体1处于外侧的方式进行卷绕。从端面保护的立场出发，优选在上述辊状的感光性元件辊的端面上设置端面隔膜，从耐熔边的立场出发，优选设置防湿端面隔膜。另外，作为捆包方法，优选包裹在透湿性小的黑铁皮中进行包装。作为上述卷芯，例如可举出聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚氯乙烯树脂、ABS树脂（丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物）等塑料。
（图像显示装置的隔壁的形成方法及图像显示装置的制造方法）
接着，对本发明的图像显示装置的隔壁的形成方法及图像显示装置的制造方法进行说明。图像显示装置的隔壁的形成方法具有以下工序：使用感光性树脂组合物或感光性元件将感光性树脂组合物层层叠在图像显示装置的基板上的层叠工序；对上述感光性树脂组合物层的规定部分照射活性光线以使曝光部发生光固化的曝光工序；以及将上述感光性树脂组合物层的除上述曝光部以外的部分除去以形成光固化物图案的显影工序。
首先，使用上述本发明的感光性树脂组合物，将感光性树脂组合物层层叠在图像显示装置的基板上。作为上述基板，可举出玻璃基板或聚合物基板等绝缘基板或硅基板等半导体基板或形成有ITO等电极的基板或形成有滤色器的玻璃基板。作为层叠方法，除了使用上述的涂布方法之外，还可使用感光性元件。
使用感光性元件的层叠方法在感光性树脂组合物层上存在保护膜时，一边将保护膜除去一边层叠在基板上。作为上述层叠条件，例如可举出一边将感光性树脂组合物层加热至70～130℃左右、一边以0.1～1MPa左右（1～10kgf/cm2左右）的压力压接在基板上、从而进行层叠的方法等，还可以在减压下进行层叠。基板表面的形状通常是平坦的，但也可根据需要形成有凹凸或电极图案。
在感光性树脂组合物的层叠后，以图像状对感光性树脂组合物层照射活性光线，使曝光部发生光固化。作为以图像状照射活性光线的方法，有在感光性树脂组合物层上设置掩模图案、以图像状照射活性光线以使曝光部的感光性树脂组合物层发生光固化的方法。掩模图案可以是负型，也可以是正型，可以使用通常使用的掩模。作为活性光线的光源，可使用公知的光源，例如碳弧灯、汞蒸汽弧灯、高压汞灯、氙灯等有效放射紫外线、可见光等的光源。另外，作为曝光方法，还可利用在不使用掩模图案的情况下用激光直接描绘图案的直接描绘曝光法。
在曝光后通过利用显影将未曝光部的感光性树脂组合物层选择性地除去，在图像显示装置用基板上形成光固化物图案。此外，显影工序在存在支撑体时，在显影前将支撑体除去。显影通过利用碱性水溶液、水系显影液、有机溶剂等显影液的湿式显影、干式显影等将未曝光部除去来进行。本发明中，优选使用碱性水溶液。作为碱性水溶液，例如可举出0.1～5质量%碳酸钠的稀溶液、0.1～5质量%碳酸钾的稀溶液、0.1～5质量%氢氧化钠的稀溶液等。该碱性水溶液的pH优选为9～11的范围，其温度根据感光性树脂组合物层的显影性进行调节。另外，还可在碱性水溶液中混入表面活性剂、消泡剂、有机溶剂等。作为上述显影的方式，例如可举出浸渍方式、喷雾方式、刷洗、拍击等。
作为显影后的处理，还可根据需要通过60～250℃左右的加热处理进一步使所形成的上述光固化物图案固化。
本发明的图像显示装置的制造方法具有以下工序：将粒子等显示介质填充或涂布在通过上述工序获得的隔壁内的工序；和按照与一方的基板相向的方式在隔壁的相反侧粘贴基板的工序。作为上述基板，可举出玻璃基板或聚合物基板等绝缘基板或硅基板等半导体基板或形成有ITO等电极的基板。
以下对上述图像显示装置的隔壁的形成方法及图像显示装置的制造方法使用附图来说明使用了感光性元件时的一个实施方式。
首先，如图2（a）所示，准备由电极4和基板5构成的电极基板30，如图2（b）所示，在该电极基板30上层叠上述感光性元件10中的感光性树脂组合物层2及支撑体1（层叠工序）。
在感光性树脂组合物层2的层叠后，如图2（b）所示，使用掩模图案7对感光性树脂组合物层2以图像状照射活性光线8，使曝光部发生光固化（曝光工序）。
曝光后，如图2（c）所示，通过利用显影将未曝光部的感光性树脂组合物层2选择性地除去，在图像显示装置用的基板（电极基板30）上形成光固化物图案20（显影工序）。
之后，经过在通过上述工序形成的光固化物图案20内填充或涂布粒子等显示介质的工序、在上述光固化物图案20上粘贴其他的电极基板30的工序（图2的（d）及（e））等，可以完成图像显示装置的隔壁的形成及图像显示装置的制造。
在光固化物图案20上粘贴其他的电极基板30的工序可如下进行。即，上述工序如图2（d）所示，在光固化物图案20上层叠粘接剂40，如图2（e）所示，通过粘接剂40将电极基板30和光固化物图案20粘接，从而进行。另外，至少在图像显示装置的显示面侧的电极基板中使用透明的电极基板。
实施例
以下通过实施例更具体地说明本发明，但只要不脱离本发明的技术思想，则本发明并不限于这些实施例。
（实施例1～4及比较例1～3）
将表1所示的材料搅拌混合，获得感光性树脂组合物的溶液。其中，作为表1中（A）成分的树脂（1）按照下述合成例1进行合成。另外，表1中各材料的配合量的单位为g、树脂（1）的配合量表示固体成分的配合量。
（合成例）
[粘合剂聚合物的合成]
在具备搅拌器、回流冷却器、温度计、滴液漏斗及氮气导入管的烧瓶中添加质量比3：2的甲基溶纤剂及甲苯的配合物500g，一边吹入氮气一边进行搅拌，加热至85℃。另一方面，准备混合了作为聚合性单体的甲基丙烯酸150g、甲基丙烯酸甲酯110g、丙烯酸乙酯65g、甲基丙烯酸丁酯50g及苯乙烯125g和偶氮双异丁腈2.5g的溶液（以下称作“溶液a”），在加热至85℃的质量比3：2的甲基溶纤剂及甲苯的上述配合物中用4小时的时间滴加溶液a后，一边在85℃下搅拌一边保温2小时。进而，用10分钟的时间将在质量比3：2的甲基溶纤剂及甲苯的配合物150g中溶解有偶氮双异丁腈0.5g的溶液滴加至烧瓶内。一边搅拌滴加后的溶液一边在85℃下保温5小时后，进行冷却，按照不挥发成分（固体成分）达到43质量%的方式用质量比3：2的丙酮及丙二醇单甲基醚的混合溶剂进行稀释，获得粘合剂聚合物（树脂（1））。所得粘合剂聚合物的重均分子量为50000、分散度为2.0、酸值为195mgKOH/g。
其中，粘合剂聚合物的重均分子量利用凝胶渗透色谱法进行测定，使用标准聚苯乙烯的标准曲线进行换算，从而导出。凝胶渗透色谱法（GPC）的测定条件示于以下。
[GPC测定条件]
泵：日立L-6000型（株式会社日立制作所制）
色谱柱：Gelpack GL-R440+GL-R450+GL-R400M
色谱柱规格：10.7mmφ×300mm
洗脱液：四氢呋喃
测定温度：室温（20～25℃）
流量：2.05mL/分钟
浓度：120mg/5mL
注入量：200μL
压力：49Kgf/cm2
检测器：日立L-3300型RI（株式会社日立制作所制）
表1
Figure BDA0000388858290000211
表中的各成分如下所述。
M-215：双（丙烯酰氧基乙基）羟基乙基异氰脲酸酯（东亚合成株式会社制，商品名）
HT-9082-95：丙烯酸树脂溶液（使末端具有羟基的聚碳酸酯化合物、有机异氰酸酯及丙烯酸2-羟基乙酯发生反应所获得的光聚合性化合物：重均分子量为4000，日立化成工业株式会社制，商品名）
FA-MECH：γ-氯-2-羟基丙基-β’-甲基丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸酯（大阪有机化学工业株式会社制，商品名）
FA-314A：壬基苯基EO改性单丙烯酸酯（1分子中加成有4摩尔环氧乙烷（EO）基的产物，日立化成工业株式会社制，商品名）
FA-321M：EO改性双酚A二甲基丙烯酸酯（1分子中加成有10摩尔环氧乙烷（EO）基的产物，日立化成工业株式会社制，商品名）
TMPT-21：三羟甲基丙烷EO改性三丙烯酸酯（1分子中加成有21摩尔环氧乙烷（EO）基的产物，日立化成工业株式会社制，商品名）
B-CIM：2-（2-氯苯基）-1-[2-（2-氯苯基）-4,5-二苯基-1,3-二唑-2-基]-4,5-二苯基咪唑（保土ヶ谷化学工业株式会社制，商品名）
EAB：N,N’-四乙基-4,4’-二氨基二苯甲酮（保土ヶ谷化学工业株式会社制，商品名）
N-1717：1,7-双（9-吖啶基）庚烷（株式会社ADEKA制，商品名）
I-651：苄基二甲基缩酮（Ciba specialty chemicals公司制，商品名）
钛黑：BT-1HCA（三菱Materials电子化成公司制，商品名）
咪唑啉系分散剂（表面活性剂）：（花王株式会社制，商品名ホモゲノールL-95）
LCV：隐色结晶紫（山田化学株式会社制，商品名）
将表1所得的感光性树脂组合物的溶液均匀地涂布在16μm厚的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜（帝人杜邦薄膜株式会社制，商品名：HTR-02）上，利用90℃的热风对流式干燥机干燥10分钟后，用聚乙烯制保护膜（膜长度方向上的拉伸强度：16MPa、膜宽度方向上的拉伸强度：12MPa，商品名：NF-15，Tamapoly株式会社制）进行保护，获得感光性元件。感光性树脂组合物层的干燥后的膜厚为40μm。对所得感光性元件通过目视及显微镜观察评价涂膜外观。结果，任一个感光性元件的涂膜外观均良好。
另一方面，将玻璃基板（SiO2溅射；长度为70mm、宽度为480mm、厚度为0.7mm，三立化成株式会社制，商品名：SP-SiO2）加热至80℃，在其玻璃表面（SiO2溅射面）上按照感光性树脂组合物层与玻璃表面相接触的方式一边剥离聚乙烯制保护膜一边将上述感光性元件通过加热至110℃的层压辊来进行层压。完成的层叠物的构成自下而上为玻璃基板、感光性树脂组合物层、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。对所得层叠物进行感度、密合性、析像度及褪色性的评价。
＜感度的评价＞
使用具有高压汞灯的散射光曝光机（株式会社ORC制作所制）HMW-201GX，使具有41段阶段式曝光表的光具密合于层叠物的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜上进行曝光。曝光后，将聚对苯二甲酸乙二醇酯膜剥离，在30℃下喷雾1质量%碳酸钠水溶液30秒，从而将未曝光部分除去。将41段阶段式曝光表的显影后的残存阶段数达到26.0时的能量作为感度（mJ/cm2）。该能量的数目值越小，则表示感度越高。表2示出评价结果。
＜密合性的评价＞
使用具有高压汞灯的散射光曝光机（株式会社ORC制作所制）HMW-201GX，使作为密合性评价用负型的具有线宽/间距宽为30/400～200/400（单位：μm、线宽每5μm进行增加、间距宽恒定）的配线图案的光具和具有41段阶段式曝光表的光具密合在层叠物的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜上，以41段阶段式曝光表的显影后的残存阶段数达到26.0时的能量进行曝光。曝光后，将聚对苯二甲酸乙二醇酯膜剥离，在30℃下喷雾1质量%碳酸钠水溶液30秒，从而将未曝光部分除去，评价密合性。密合性用不被显影液剥离而残留的最细线的宽度（μm）来表示，该数值越小，由于即便是很细的线也不会从玻璃基板上剥离而密合，因此表示密合性越高。表2示出评价结果。
＜析像度的评价＞
使具有41段阶段式曝光表的光具和作为析像度评价用负型的具有线宽/间距宽为30/30～200/200（单位：μm）的配线图案的光具密合在层叠物的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜上，使用具有高压汞灯的散射光曝光机（株式会社ORC制作所制）HMW-201GX，以41段阶段式曝光表的显影后的残存阶段数达到26.0时的能量进行曝光。曝光后，将聚对苯二甲酸乙二醇酯膜剥离，在30℃下喷雾1质量%碳酸钠水溶液30秒，从而将未曝光部分除去，评价析像度。析像度用通过显影处理良好地除去了未曝光部的最小间距宽（μm）来表示，该数值越小，则析像度越良好。表2示出评价结果。
＜耐光性的评价＞
使用具有高压汞灯的散射光曝光机（株式会社ORC制作所制）HMW-201GX，对层叠物以41段阶段式曝光表的显影后的残存阶段数达到26.0时的能量进行曝光。曝光后，将聚对苯二甲酸乙二醇酯膜剥离，在30℃下喷雾1质量%碳酸钠水溶液30秒，在加热至160℃的箱型干燥机（三菱电机株式会社制，型号：NV50-CA）内静置1小时。将干燥后的层叠物作为样品，使用透射浓度计（伊原电子工业株式会社制）Ihac-T5测定其OD（Optical Density，光学浓度）值。为了使显示器的图像紧密，优选OD值为0.2附近。接着，对样品使用耐光性试验机（株式会社东洋精器制作所制，型号：サンテストXLS+）照射紫外线5天，使用透射浓度计（伊原电子工业株式会社制）Ihac-T5测定OD值，计算褪色的比例。褪色的比例如下述式（X）所示，通过紫外线照射后的OD值相对于紫外线照射前的OD值的比例来算出。表2示出紫外线照射前的OD值（初始OD值）及紫外线照射后的褪色比例。
Figure BDA0000388858290000241
另外，以紫外线照射后的褪色比例为基础，进行因热导致的褪色性的评价。将评价结果示于表2。紫外线照射后的褪色比例的数值越接近1，则表示越没有褪色性（难以褪色）。将褪色性少的情况（褪色的比例超过0.7且为1以下）评价为A、将稍可见褪色的情况（褪色的比例超过0.2且为0.7以下）评价为B、将褪色性大的情况（褪色的比例0.2以下）评价为C。
表2
Figure BDA0000388858290000251
由表2可知，实施例1～4具有良好的感度、密合性及析像度，而且因紫外线导致的褪色少，耐光性优异。
产业上的可利用性
如上说明，根据本发明，可以提供能够形成耐光性优异的图像显示装置的隔壁、同时图案形成性优异的感光性树脂组合物、使用了该感光性树脂组合物的感光性元件、图像显示装置的隔壁的形成方法及图像显示装置的制造方法。
符号说明
1、支撑体；2、感光性树脂组合物层；3、保护膜；4、电极；5、基板；10、感光性元件；20、感光性树脂组合物的固化物（光固化物图案）；30、电极基板；40、粘接剂。

Claims (9)

1.一种感光性树脂组合物，其是用于形成图像显示装置的隔壁的感光性树脂组合物，其中，
所述感光性树脂组合物含有（A）粘合剂聚合物、（B）光聚合性化合物、（C）光聚合引发剂、（D）无机系黑色颜料、（E）表面活性剂以及（F）含巯基化合物，
所述（B）光聚合性化合物含有在分子内具有至少1个不饱和基团和异氰脲酸环结构的光聚合性化合物。
2.如权利要求1所述的感光性树脂组合物，其中，所述在分子内具有至少1个不饱和基团和异氰脲酸环结构的光聚合性化合物进一步在分子内具有至少1个羟基。
3.如权利要求1或2所述的感光性树脂组合物，其中，所述（D）无机系黑色颜料含有钛黑。
4.如权利要求1～3中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，所述（E）表面活性剂含有咪唑啉系表面活性剂。
5.一种感光性元件，其具备支撑体和形成在该支撑体上的由权利要求1～4中任一项所述的感光性树脂组合物构成的感光性树脂组合物层。
6.如权利要求5所述的感光性元件，其中，所述感光性树脂组合物层的膜厚为10～100μm。
7.一种图像显示装置的隔壁的形成方法，其具有：
在图像显示装置的基板上层叠由权利要求1～4中任一项所述的感光性树脂组合物构成的感光性树脂组合物层的层叠工序；
对所述感光性树脂组合物层的规定部分照射活性光线以使曝光部发生光固化的曝光工序；以及
将所述感光性树脂组合物层的除所述曝光部以外的部分除去以形成光固化物图案的显影工序。
8.一种图像显示装置的隔壁的形成方法，其进一步具有将通过权利要求7所述的图像显示装置的隔壁的形成方法形成的光固化物图案在60～250℃下进行加热处理以使其发生热固化的加热工序。
9.一种图像显示装置的制造方法，其具有：
将显示介质填充或涂布在通过权利要求7或8所述的方法形成的隔壁内的工序；和
按照与一方的基板相向的方式在隔壁的相反侧粘贴基板的工序。
CN2012800158921A 2011-03-30 2012-03-22 感光性树脂组合物、使用了其的感光性元件、图像显示装置的隔壁的形成方法及图像显示装置的制造方法 Pending CN103460131A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011074948 2011-03-30
JP2011-074948 2011-03-30
PCT/JP2012/057364 WO2012133116A1 (ja) 2011-03-30 2012-03-22 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN103460131A true CN103460131A (zh) 2013-12-18

Family

ID=46930843

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2012800158921A Pending CN103460131A (zh) 2011-03-30 2012-03-22 感光性树脂组合物、使用了其的感光性元件、图像显示装置的隔壁的形成方法及图像显示装置的制造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9482946B2 (zh)
JP (1) JP5660200B2 (zh)
KR (2) KR20130132655A (zh)
CN (1) CN103460131A (zh)
TW (1) TW201308000A (zh)
WO (1) WO2012133116A1 (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104081281A (zh) * 2012-02-02 2014-10-01 日立化成株式会社 感光性树脂组合物和使用了该组合物的感光性元件、间隔物的形成方法以及间隔物
CN105487336A (zh) * 2014-10-01 2016-04-13 奇美实业股份有限公司 树脂组合物、黑色矩阵、滤光片及其制法、以及显示装置
CN108241259A (zh) * 2018-01-24 2018-07-03 浙江福斯特新材料研究院有限公司 一种具有良好孔掩蔽功能可直接描绘曝光成像的抗蚀剂组合物

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI613221B (zh) * 2012-11-27 2018-02-01 富士軟片股份有限公司 光硬化性組成物、轉印材料、硬化物及其製造方法、樹脂圖案製造方法、硬化膜、液晶顯示裝置、有機ｅｌ顯示裝置及觸控面板顯示裝置
JP2015069161A (ja) * 2013-09-30 2015-04-13 東京応化工業株式会社 感光性樹脂組成物、樹脂パターンの製造方法、及び表示装置
JP6482206B2 (ja) * 2014-08-22 2019-03-13 キヤノン株式会社 中空構造を有するパターンの形成方法
KR20190094731A (ko) 2018-02-05 2019-08-14 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 컬러소자 및 표시장치
WO2023073799A1 (ja) * 2021-10-26 2023-05-04 株式会社レゾナック 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、及び、積層体の製造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050288166A1 (en) * 2004-06-24 2005-12-29 Jun-Kyu Cha Lead-free black ceramic composition for filter and filter formed using the same
CN101681097A (zh) * 2007-05-29 2010-03-24 旭硝子株式会社 感光性组合物、间隔壁、黑色矩阵
JP2010066676A (ja) * 2008-09-12 2010-03-25 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
JP2010237567A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Fujifilm Corp フォトマスクブランクス、及びフォトマスク
WO2010134550A1 (ja) * 2009-05-20 2010-11-25 旭硝子株式会社 光学素子の製造方法
JP2010266861A (ja) * 2009-04-16 2010-11-25 Fujifilm Corp カラーフィルタ用重合性組成物、カラーフィルタ、及び固体撮像素子

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4563936B2 (ja) * 2003-04-10 2010-10-20 株式会社カネカ 硬化性組成物
JP2007072035A (ja) 2005-09-06 2007-03-22 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性組成物
JP5066337B2 (ja) 2005-12-28 2012-11-07 株式会社ブリヂストン 情報表示用パネル
JP2007249190A (ja) 2006-02-14 2007-09-27 Fujifilm Electronic Materials Co Ltd 光硬化性組成物、それを用いた反射防止膜、及び固体撮像素子
KR101030022B1 (ko) * 2007-09-11 2011-04-20 제일모직주식회사 안료 분산액 조성물, 이를 포함하는 컬러필터용 레지스트조성물 및 이로부터 제조된 컬러필터
JP5589270B2 (ja) 2007-10-23 2014-09-17 Ｊｓｒ株式会社 青色カラーフィルタ用感放射線性組成物、カラーフィルタ及び液晶表示素子
JP5512095B2 (ja) 2008-04-28 2014-06-04 富士フイルム株式会社 感光性組成物、固体撮像素子用感光性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、及び固体撮像素子
US20110003279A1 (en) * 2009-06-04 2011-01-06 Gordhanbhai Nathalal Patel Monitoring devices and processes based on transformation, destruction and conversion of nanostructures
JP4935833B2 (ja) 2009-01-23 2012-05-23 日立化成工業株式会社 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
JP4873043B2 (ja) 2009-04-28 2012-02-08 日立化成工業株式会社 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050288166A1 (en) * 2004-06-24 2005-12-29 Jun-Kyu Cha Lead-free black ceramic composition for filter and filter formed using the same
CN101681097A (zh) * 2007-05-29 2010-03-24 旭硝子株式会社 感光性组合物、间隔壁、黑色矩阵
JP2010066676A (ja) * 2008-09-12 2010-03-25 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
JP2010237567A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Fujifilm Corp フォトマスクブランクス、及びフォトマスク
JP2010266861A (ja) * 2009-04-16 2010-11-25 Fujifilm Corp カラーフィルタ用重合性組成物、カラーフィルタ、及び固体撮像素子
WO2010134550A1 (ja) * 2009-05-20 2010-11-25 旭硝子株式会社 光学素子の製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104081281A (zh) * 2012-02-02 2014-10-01 日立化成株式会社 感光性树脂组合物和使用了该组合物的感光性元件、间隔物的形成方法以及间隔物
CN105487336A (zh) * 2014-10-01 2016-04-13 奇美实业股份有限公司 树脂组合物、黑色矩阵、滤光片及其制法、以及显示装置
CN108241259A (zh) * 2018-01-24 2018-07-03 浙江福斯特新材料研究院有限公司 一种具有良好孔掩蔽功能可直接描绘曝光成像的抗蚀剂组合物
CN108241259B (zh) * 2018-01-24 2021-08-10 杭州福斯特电子材料有限公司 一种具有良好孔掩蔽功能可直接描绘曝光成像的抗蚀剂组合物

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130132655A (ko) 2013-12-04
KR20160128464A (ko) 2016-11-07
JP5660200B2 (ja) 2015-01-28
US20140087619A1 (en) 2014-03-27
WO2012133116A1 (ja) 2012-10-04
TW201308000A (zh) 2013-02-16
JPWO2012133116A1 (ja) 2014-07-28
US9482946B2 (en) 2016-11-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103460131A (zh) 感光性树脂组合物、使用了其的感光性元件、图像显示装置的隔壁的形成方法及图像显示装置的制造方法
CN104282360B (zh) 感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板
CN101432661B (zh) 感光性树脂层压体
CN103091989B (zh) 感光性树脂层压体
JP4924776B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法、画像表示装置の製造方法及び画像表示装置
WO2009145120A1 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
CN102341753B (zh) 感光性树脂组合物、使用了该组合物的感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷配线板的制造方法
CN102007451A (zh) 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图形的形成方法及印刷电路板的制造方法
CN104204948A (zh) 感光性树脂组合物及使用其的加工玻璃基板的制造方法、和触控面板及其制造方法
CN102037406A (zh) 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图形的制造方法以及印刷电路板的制造方法
CN102067037B (zh) 感光性树脂组合物及使用其的感光性元件、抗蚀剂图形的形成方法及印刷电路板的制造方法
CN104081281A (zh) 感光性树脂组合物和使用了该组合物的感光性元件、间隔物的形成方法以及间隔物
CN1928718B (zh) 用于形成等离子显示器的遮光性图案的感光性树脂组合物
JP2008304710A (ja) 感光性樹脂組成物及び感光性フィルム
JP4941438B2 (ja) 感光性樹脂組成物、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
CN101855597A (zh) 间隔物形成用感放射线性树脂组合物、间隔物、间隔物的形成方法及液晶显示元件
JPWO2007114014A1 (ja) 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
KR20150063033A (ko) 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 레지스터 패턴의 형성 방법 및 터치 패널의 제조 방법
JP4887965B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JP5626574B2 (ja) 感光性樹脂組成物並びにこれを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
JP4873043B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
JPWO2007034610A1 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法、及び、プラズマディスプレイの隔壁形成方法
JP4147920B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
CN102854750A (zh) 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图形制法、引线框制法及线路板制法
JP5126408B2 (ja) 感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20131218