WO2012008373A1 - 電極形成用の導電微粒子及び金属ペースト並びに電極 - Google Patents

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拓也 細井
順久 岡本
弘一 坂入
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田中貴金属工業株式会社
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    • C09D5/24Electrically-conducting paints
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    • H01B1/22Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
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    • Y10T428/2991Coated

Definitions

  • the present invention relates to conductive fine particles for forming various electrodes such as a sensor electrode, a heater electrode, and a lead wire electrode, and further relates to a metal paste for electrode formation using the same.
  • a metal paste containing conductive metal powder is applied to the substrate by various methods such as screen printing and fired. It is common to manufacture. In addition to being able to deal with complex electrode patterns, the form of metal paste can be used to simultaneously manufacture the substrate and the electrode by applying and baking the metal paste on the green sheet forming the ceramic substrate. This is because it is preferable from the viewpoint of manufacturing efficiency.
  • a metal paste for electrode formation a mixture of conductive particles such as noble metal and ceramic powder such as Al 2 O 3 and ZrO 2 (YSZ) in a solvent is used.
  • ceramic powder is mixed with metal paste, the difference in shrinkage between metal paste and green sheet is corrected when the substrate and electrode are manufactured by applying metal paste to green sheet and firing as described above. This is because the problem of warping or deformation of the substrate due to the difference in shrinkage rate is solved and the adhesion of the electrodes is improved.
  • the conductive particles can be prevented from being oversintered during firing by mixing ceramic with the metal paste.
  • a metal paste for electrode formation is naturally required to have a low electrical resistance value (specific resistance) because it is a precursor material for the electrode.
  • specific resistance specific resistance
  • mixing of the ceramic powder is an impediment, and the resistance value of the electrode film formed by firing the metal paste tends to be considerably higher than that of the bulk metal.
  • the improvement in adhesion due to the mixing of the ceramic in the metal paste is contrary to the requirement for lowering the resistance of the electrode, but if the ceramic is not mixed or the mixing amount is too small, the formation of the electrode itself is not performed. It becomes impossible.
  • the present invention has been made paying attention to the above-described problems, and provides conductive fine particles for producing a metal paste capable of producing a low-resistance electrode film, and a metal paste using the same. For the purpose.
  • the inventors of the present invention conducted various studies on the above-mentioned problems, and firstly considered the cause of the high resistance value of the electrode film formed by the conventional metal paste.
  • the conductive particles and ceramic particles are dispersed in a solvent, and by firing this, the conductive particles are sintered and bonded so as to be conductive as an electrode.
  • the ceramic powder is also sintered.
  • the unsintered ceramic particles present around the conductive particles gather so as to be extruded from the conductive particles that have started sintering. Then, when the sintering of the ceramic proceeds in such a non-uniform dispersion state of the conductive particles and the ceramic particles, the ceramic particles become coarse. According to the present inventors, the high resistance in the prior art was considered that this sintered ceramic powder is coarse, which affects the resistance of the electrode.
  • the ceramic powder is necessary for electrode formation, and it is not a preferable measure to exclude this from the metal paste. Therefore, the present inventors have studied to find a metal paste in which fine ceramic particles can be dispersed in the firing process. As a result, it has been found that the conductive particles preferably have a core / shell structure in which the conductive particles are coated with ceramic.
  • the present invention for solving the above-mentioned problems is a conductive particle for electrode formation, which is made of Pt or a Pt alloy, and is made of a core particle having a particle diameter of 10 to 200 nm and a ceramic containing Al 2 O 3 or ZrO 2 , A shell covering at least a part of the core particles, and the ceramic constituting the shell covers the core at an addition amount of 0.5 to 15% by weight with respect to the core particles. It is the electroconductive particle for electrode formation which has a shell structure.
  • the conventional metal paste is obtained by dispersing conductive particles and ceramic powder separately in a solvent.
  • the conductive particles and the ceramic powder are combined to form a core / shell structure before the paste is formed, and this is dispersed in a solvent to obtain a metal paste.
  • the reason why the ceramic powder becomes finer by making the structure of the conductive particles into the core / shell structure in this way is to reduce the time lag of the start of sintering of the conductive particles and the ceramic particles. That is, in firing the paste containing the conductive particles having the core / shell structure, the shell (ceramic) is detached from the core particles before the core particles are sintered. This ceramic desorption temperature is relatively high, and is close to the sintering temperature of the ceramic. Therefore, the conductive particles cannot be sintered while being covered with the shell, and sintering is started at the stage where the shell is detached. The state can be maintained.
  • the ceramic which covers this also becomes fine by making conductive particles fine.
  • a fine ceramic in a uniform dispersed state can avoid the conventional coarsening even if sintered.
  • the ceramic particles in the electrode are made finer and the resistance is reduced.
  • the core particles are made of Pt or a Pt alloy. These metals have good conductivity and excellent heat resistance. Since various sensors are used at high temperatures, such as automobile exhaust sensors, they are suitable as their electrode materials.
  • Pt or a Pt alloy as the core particle can be selected depending on its use and required characteristics.
  • Pt has a lower resistance than a Pt alloy, and is suitable for applications in which lower resistance such as sensor electrodes and lead wire electrodes is first required.
  • the Pt alloy has a higher resistance than Pt but has a low resistance temperature coefficient (TCR) and is suitable for applications such as heater electrodes.
  • TCR resistance temperature coefficient
  • Pd, Au, Ag, and Rh are preferable as the metal alloyed with Pt as the Pt alloy.
  • a Pt—Pd alloy containing Pd is preferable from the viewpoint of good compatibility with the ceramic as a substrate and good wettability when used as a paste.
  • the Pd content is preferably 30% by weight or less. This is because if the Pd content is excessive, the Pd oxide is likely to precipitate during the firing process, and the reliability of the electrode is lowered.
  • the core particle Pt or Pt alloy may further contain 3% by weight or less of Al or Zr.
  • the components Al and Zr are diffused and contained in the core particles.
  • Al and Zr in the core particles are released from the core particles when the metal paste is fired, and are oxidized and finely dispersed in the electrode film as a ceramic like the shell. Therefore, there is no problem even if the core particles are an alloy containing Al and Zr, and the core particles must not contain Al and Zr.
  • the shell covering the core particles is made of Al 2 O 3 or ZrO 2 ceramic. This is in consideration of the bondability to the ceramic substrate.
  • the ceramic shell preferably covers the core particles uniformly, but all the conductive particles may not be covered entirely.
  • the conductive particles may be included in a state where the ceramic is partially bonded to the core particles.
  • the ceramic needs to be 0.5 to 15 wt% with respect to the core particles. This is because if it exceeds 15% by weight, the resistance value when the electrode is formed becomes excessive.
  • the amount of ceramic is less than 0.5 weight, peeling and warping deformation are likely to occur when a paste is formed, applied and fired.
  • the amount of ceramic is more preferably 1 to 15% by weight.
  • the thickness of the ceramic shell is preferably in the range of 1 to 100 nm.
  • ZrO 2 includes stabilized zirconia such as YSZ and partially stabilized zirconia such as P—YSZ.
  • Examples of the method for producing the conductive particles having the core / shell structure described above include a method using a gas phase reaction in a high temperature atmosphere.
  • the metal / alloy powder as the core particles and the ceramic powder as the shell are mixed, the mixed powder is discharged into a high-temperature atmosphere above the boiling points of both components, and the fine powder produced by cooling is obtained. It is to be collected.
  • the high-temperature atmosphere for discharging the raw material powder is a plasma atmosphere.
  • the particle diameter of the core particles can be adjusted by heat treatment.
  • the core particles can be increased to 200 nm.
  • the metal paste to which the conductive particles according to the present invention are applied is a mixture of the conductive particles and a solvent.
  • Solvents applicable to the metal paste include ethylene glycol, propylene glycol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, benzyl alcohol, kerosene, paraffin, toluene, cyclohexanone, ⁇ -butyrolactone, methyl ethyl ketone, General materials such as N-methylpyrrolidone, N-dimethylformamide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide, butyl carbitol, turpentine oil, ⁇ -terpineol, terpineol, etc. can be applied, especially ⁇ -terpineol Such a thing is suitable.
  • the amount of conductive particles mixed is preferably 50 to 90% by weight with respect to the entire paste. If it is less than 50% by weight, the electrode film becomes too thin, and if it exceeds 90% by weight, it becomes difficult to form a paste.
  • a resin usually used for imparting viscosity and thixotropy to the metal paste may be added.
  • this resin natural resins, amino resins, alkyd resins and the like are common. Particularly preferred is ethyl cellulose.
  • the firing temperature is preferably 1300 to 1600 ° C. This is because a sufficiently low sintered product can be obtained.
  • the electrode film thus formed is in a state in which fine ceramic particles (Al 2 O 3 particles, ZrO 2 particles) are uniformly dispersed. Specifically, more than half of the ceramic particles are 300 nm or less. It has become.
  • the conductive particles according to the present invention can be applied to a metal paste and fired to form a low-resistance electrode film in which fine ceramic particles are dispersed. Making it possible to form a low-resistance electrode film makes it possible to reduce the film thickness of the electrode film, leading to a reduction in the amount of noble metal such as Pt and the cost of the apparatus.
  • conductive particles coated with Al 2 O 3 using Pt and Pt—Pd alloys as core particles were manufactured to produce a metal paste, and the resistance value of an electrode obtained by firing the metal paste was measured.
  • the core particles made of the Pt—Pd alloy the characteristics of the paste due to the change in the Pd content were evaluated.
  • FIG. 1 A TEM image of the produced conductive particle powder having a core / shell structure is shown in FIG.
  • this conductive particle powder was subjected to composition analysis by EDX analysis, it was confirmed that it contained 0.93% by weight of Al.
  • This Al is considered that Al of the Al 2 O 3 powder diffused into the Pt particles released into the plasma atmosphere in the above manufacturing process.
  • conductive particles to which a Pt—Pd alloy (Pd 25 wt%) was applied as core particles were also produced (Examples 3 and 4).
  • Pt powder having an average particle diameter of 10 nm, Al 2 O 3 powder having an average particle diameter of 10 nm, and Pd powder having an average particle diameter of 40 nm were used as the raw material powder.
  • Other manufacturing conditions were the same as above.
  • the particle size of the core particle at this time was 20 nm.
  • the conductive particles applying the Pt—Pd alloy to the core particles manufactured in the same manner as in Examples 3 and 4 were heat-treated at 900 ° C. for 1 hour, and granulated (particle size adjustment) to manufacture conductive particles. (Examples 5 and 6).
  • the particle size of the core particles at this time was 200 nm.
  • a TEM image of the produced conductive particle powder having a core / shell structure is shown in FIG.
  • fine particles of Pt and Pt—Pd alloys without coating of Al 2 O 3 were also produced (Comparative Examples 1 to 4).
  • the fine particles were produced by releasing Pt powder and Pd powder as raw materials into the plasma gas phase.
  • the effect of the present invention is not exhibited simply by refining the metal particles. That is, a powder composed only of Pt or a Pt—Pd alloy cannot form an electrode film without blending ceramic, and the resistance value of the electrode is remarkably increased even when ceramic is mixed. As described above, the reason why there is no effect only by miniaturization of the conductive particles is that the conductive particles are likely to aggregate due to the miniaturization, and the sintering start temperature is lowered. 1, 3) On the other hand, it is considered that even when the ceramic mixing amount is increased, the dispersion state of the ceramic particles is not improved and the resistance value is increased.
  • FIG. 2 is a cross-sectional photograph of the electrodes manufactured in Example 1 and Conventional Example 1. From Figure 2, Al 2 O 3 particles in the electrodes prepared in Examples are fine, which are uniformly dispersed. On the other hand, in the conventional example, the presence of coarse ceramic particles is confirmed.
  • Example 1 Al 2 O 3 Pt / Al 2 O 3 mixed powder mixing amount was adjusted powder to produce the release conductively particles in plasma vapor to prepare a metal paste, electrode A membrane was produced. And resistance value was measured like Example 1,2. The results are shown in Table 2.
  • the amount of Al 2 O 3 added up to 13% by weight does not have a great adverse effect on the resistance value.
  • the resistance value could be measured up to 15% by weight, but the resistance value could not be measured beyond this. Therefore, it can be said that the upper limit of the amount of Al 2 O 3 added is preferably 15% by weight.
  • the Pt—Pd alloy has a smaller wetting angle than that of Pt, and is better suited to ceramic than Pt. This effect is considered to be effective even when the powder is made into a paste.
  • the decrease in the wetting angle with respect to the substrate indicates the ease of application of the metal paste to the substrate and the ease of application, and improves the adhesion of the electrode. Connected. It can be seen that the wetting angle tends to decrease by increasing the amount of Pd. Therefore, when the Pt—Pd alloy is applied to the present invention, the Pd content may be increased. However, as described above, when Pd exceeds 30% by weight, Pd oxide tends to precipitate, Reduces electrode reliability.
  • the core / shell structure conductive particles of the first embodiment were manufactured by applying ZrO 2 (YSZ) as a shell.
  • ZrO 2 (YSZ) As a shell.
  • YSZ ZrO 2
  • the metal paste was manufactured similarly to 1st Embodiment, it apply
  • the characteristics of the electrode film of a metal paste in which Pt powder and ZrO 2 (YSZ) powder were separately mixed were also evaluated. The results are shown in Table 4.
  • the conductive particles were produced by discharging a mixed powder of Pt powder and Al 2 O 3 powder into the plasma gas phase to obtain conductive particles having a core / shell structure.
  • the coating amount of the shell was adjusted by adjusting the amount of Al 2 O 3 powder in the mixed powder.
  • a metal paste is manufactured in the same manner as in the first embodiment, and 0.5 ⁇ 20 mm (three at 1 mm intervals), 0.1 ⁇ 5.0 mm (at 0.1 to 0.5 mm intervals) on an alumina substrate. 11) It was applied and baked in three patterns of 5 ⁇ 5 mm. After firing, the electrode film was peeled off and checked for warpage. The results are shown in Table 5.
  • a metal paste for forming an electrode capable of forming a low-resistance electrode can be provided.

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Abstract

本発明は、低抵抗の電極膜を製造可能な金属ペーストを製造するための導電微粒子、これを利用した金属ペーストを提供することを目的とする。 本発明は、電極形成用の導電性粒子であって、Pt又はPt合金からなり、粒径10~200nmのコア粒子と、Al又はZrOを含むセラミックからなり、前記コア粒子の少なくとも一部を覆うシェルと、からなり、前記シェルを構成する前記セラミックは、コア粒子に対して0.5~15重量%の添加量でコアを被覆するものである、コア/シェル構造を有する電極形成用の導電性粒子である。このコア粒子としては、Pt又はPd、Au、Ag、Rhを合金化したPt合金が好ましい。 

Description

電極形成用の導電微粒子及び金属ペースト並びに電極
 本発明は、センサー電極、ヒーター電極、リード線電極等の各種の電極を形成するための導電微粒子に関し、更に、これを用いた電極形成用の金属ペーストに関する。
 酸素センサー、NOxセンサー、排気温度センサー等の各種のガスセンサーのセンサー電極やヒーター電極等の製造においては、基板に導電金属粉末を含む金属ペーストをスクリーン印刷等の各種方法で塗布して焼成して製造するのが一般的である。金属ペーストの形態が多用されるのは、複雑な電極パターンにも対応できることの他、セラミック基板を形成するグリーンシート上に金属ペーストを塗布し焼成することで、基板と電極を同時に製造することができ製造効率の観点からも好ましいからである。
 従来、電極形成用の金属ペーストとしては、溶剤に、貴金属等の導電粒子とAl、ZrO(YSZ)等のセラミック粉末を混合したものが用いられている。金属ペーストにセラミック粉末を混合するのは、上記のようにグリーンシートに金属ペーストを塗布して焼成して基板と電極を製造する際に、金属ペーストとグリーンシートとの収縮率の差を修正し、収縮率差による基板の反りや変形の問題を解消して、電極の密着性を向上させるためである。また、金属ペーストにセラミックを混合することで、焼成時の導電粒子の過焼結を防止することができるという利点もある。
 一方、電極形成用の金属ペーストにとっては、電極の前駆材料であることから、当然に電気抵抗値(比抵抗)が低いことが要求される。しかしながら、電極の低抵抗化の観点からすれば、セラミック粉末の混合は阻害要因となり、金属ペーストの焼成により形成される電極膜の抵抗値は、バルク金属よりもかなり高くなる傾向があった。つまり、金属ペーストにおけるセラミックの混合による密着性向上は、電極の低抵抗化の要求に反するものであるが、かといってセラミックを混合しない、或いは、混合量が少なすぎると、電極の形成自体が不可能になる。
特許第3510050号明細書
 本発明は、上記のような問題点に着目してなされたものであり、低抵抗の電極膜を製造可能な金属ペーストを製造するための導電微粒子、及び、これを利用した金属ペーストを提供することを目的とする。
 本発明者等は、上記課題について種々検討を行い、まず、従来の金属ペーストにより形成される電極膜の抵抗値が高い要因について考察した。従来の金属ペーストにあっては、溶剤中で導電粒子とセラミック粒子が分散した状態にあり、これを焼成することで導電粒子を焼結・結合させて電極として導通が取れるようにするものであるが、金属ペーストの焼成時には、セラミック粉末の焼結も生じている。ここで、導電粒子(金属)の焼結温度とセラミック粉末の焼結温度との間には温度差があり、導電粒子の焼結温度の方が低いため、焼成過程では導電粒子の焼結が優先的に生じる。導電粒子の周囲に存在する未焼結のセラミック粒子は、先に焼結を開始する導電粒子から押し出されるように集合する。そして、このような導電粒子とセラミック粒子の不均一な分散状態でセラミックの焼結が進行するとセラミック粒子の粗大化が生じることとなる。本発明者等によれば、従来技術での抵抗の高さは、この焼結したセラミック粉末が粗大であり、これが電極の抵抗に影響を及ぼすものと考えた。
 一方、上記の通り、セラミック粉末は、電極形成のために必要なものであり、金属ペーストからこれを除外することは好ましい対策とはいえない。そこで、本発明者等は、焼成過程において微細なセラミック粒子が分散し得る金属ペーストを見出すべく検討を行った。そしてその結果、導電粒子の構成として、導電粒子にセラミックを被覆したコア/シェル構造を有するものが好ましいことを見出した。
 上記課題を解決する本願発明は、電極形成用の導電性粒子であって、Pt又はPt合金からなり、粒径10~200nmのコア粒子と、Al又はZrOを含むセラミックからなり、前記コア粒子の少なくとも一部を覆うシェルと、からなり、前記シェルを構成する前記セラミックは、コア粒子に対して0.5~15重量%の添加量でコアを被覆するものである、コア/シェル構造を有する電極形成用の導電性粒子である。
 従来の金属ペーストは、導電粒子とセラミック粉末とを別々に溶剤に分散させたものである。本願発明は、ペースト化の前段階で導電粒子とセラミック粉末とを結合してコア/シェル構造とし、これを溶剤に分散させることで金属ペーストとするものである。このように導電粒子の構造をコア/シェル構造とすることによりセラミック粉末が微細となる理由としては、導電粒子とセラミック粒子の焼結開始のタイムラグを軽減させることにある。即ち、このコア/シェル構造の導電性粒子を含むペーストの焼成においては、コア粒子の焼結の前にコア粒子からのシェル(セラミック)の脱離が生じる。このセラミック脱離の温度は、比較的高温であり、セラミックの焼結温度に近い温度である。従って、導電粒子は、シェルに覆われる間は焼結することができず、シェルが脱離した段階で焼結を開始するが、その段階ではセラミックの焼結も開始することとなり、均一な分散状態を維持することができる。
 そして、本発明では、導電粒子を微細とすることで、これを覆うセラミックも微細なものとなる。上記のように均一な分散状態にある微細なセラミックは、焼結しても従来のような粗大化を回避できる。本発明は、このような導電粒子の微細化と、コア/シェル構造の適用により、電極中のセラミック粒子の微細化、低抵抗化を図るものである。
 以下、本発明について説明する。本願に係る導電性粒子において、コア粒子は、Pt又はPt合金からなる。これらの金属は導電性が良好であり、また、耐熱性も優れる。各種センサーの中には、自動車の排気センサーのように高温下で使用されるものもあることから、それらの電極材料として好適である。
 コア粒子としてPt、Pt合金のいずれを用いるかは、その用途及び要求される特性により選択できる。PtはPt合金に比して抵抗が低く、センサー電極、リード線電極等の低抵抗化が第1に求められる用途に好適である。
 一方、Pt合金は、Ptよりも抵抗は高めになるが、抵抗温度係数(TCR)が低くヒーター電極等の用途に好適である。ここで、Pt合金としてPtと合金化する金属としては、Pd、Au、Ag、Rhが好ましい。また、Pdを含むPt-Pd合金は、基板となるセラミックとの相性が良好であり、ペーストとしたときの濡れ性が良好である点からも好ましい。尚、Pt-Pd合金については、Pd含有量が30重量%以下とするのが好ましい。Pd含有量が過大となると、焼成過程でPd酸化物が析出しやすくなり、電極の信頼性を低下させることとなるからである。
 また、コア粒子であるPt又はPt合金は、更に、3重量%以下のAl又はZrを含んでいても良い。このAl、Zrは、後述する導電性粒子の製造方法において、コア粒子をセラミックで被覆する際に、その成分であるAl、Zrがコア粒子内に拡散して含まれるものである。コア粒子中のAl、Zrは、金属ペースト焼成の際に、コア粒子から放出されて、酸化されシェルと同様にセラミックとして電極膜内で微細に分散する。そのため、コア粒子がAl、Zrを含む合金であっても問題はなく、また、コア粒子がAl、Zrを含んでいなければならないというものでもない。
 コア粒子を覆うシェルは、Al又はZrOのセラミックからなる。セラミック基板への接合性を考慮したものである。このセラミックシェルは、コア粒子を均一に覆っているものが好ましいが、全ての導電性粒子について全面被覆がなされていなくとも良い。例えば、セラミックが部分的にコア粒子に接合した状態の導電性粒子を含んでいても良い。このとき、セラミックシェル量の基準として、導電性粒子重量に対する重量比を目安とすると、セラミックはコア粒子に対して0.5~15重量%とすることが必要である。15重量%を超えると、電極を形成したときの抵抗値が過大となるからである。また、セラミック量が0.5重量未満であると、ペーストを形成しこれを塗布・焼成したときに剥離や反り変形が生じやすくなる。セラミック量は、より好ましくは1~15重量%である。尚、セラミックシェルの厚さとしては、1~100nmの範囲であるのが好ましい。また、ZrOは、YSZ等の安定化ジルコニアおよびP-YSZ等の部分安定化ジルコニア等を含むものである。
 以上説明したコア/シェル構造を有する導電性粒子の製造方法としては、高温雰囲気内における気相反応を利用したものが挙げられる。この方法は、コア粒子となる金属・合金の粉末と、シェルとなるセラミック粉末とを混合し、この混合粉末を両成分の沸点以上の高温雰囲気中に放出し、冷却して生成した微粉末を回収するものである。このとき、原料となる粉末を放出する高温雰囲気は、プラズマ雰囲気によるのが好ましい。
 また、上記のようにして製造したコア/シェル構造を有する導電性粒子については、加熱処理によりコア粒子の粒径調整が可能である。この加熱処理(造粒処理)により、コア粒子を200nmまで増大させることができる。
 そして、本発明に係る導電性粒子を適用した金属ペーストは、この導電性粒子と溶剤とを混合してなるものである。金属ペーストに適用可能な溶剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ベンジルアルコール、ケロシン、パラフィン、トルエン、シクロヘキサノン、γ―ブチロラクトン、メチルエチルケトン、N‐メチルピロリドン、N‐ジメチルホルムアミド、N‐メチルアセトアミド、N,N‐ジメチルアセトアミド、ブチルカルビトール、テレピン油、α―テルピネオール、タービネオール等の一般的なものが適用でき、特には、α―テルピネオールのようなものが好適である。
 導電性粒子の混合量は、ペースト全体に対して50~90重量%とするのが好ましい。50重量%未満では、電極膜が薄くなりすぎ、90重量%を超えるとペースト化が困難となるからである。
 また、金属ペーストに粘度やチクソトロピーを持たせるために通常使用されている樹脂を添加しても良い。この樹脂としては、天然樹脂、アミノ系樹脂、アルキド樹脂等が一般的である。特には、エチルセルロースのようなものが好適である。
 そして、この電極形成用ペーストにより電極を製造する場合、焼成温度は、1300~1600℃とするのが好ましい。十分に焼結して抵抗値の低いものが得られるからである。このようにして形成される電極膜は、微細なセラミック粒子(Al粒子、ZrO粒子)が均一に分散した状態となり、具体的には、半数以上のセラミック粒子が300nm以下のものとなっている。
 以上説明したように、本発明に係る導電性粒子は、金属ペーストに適用し、これを焼成することで、微細なセラミック粒子が分散した低抵抗の電極膜を形成することができる。低抵抗の電極膜を形成可能とすることは、電極膜の膜厚を薄くすることを可能とし、Pt等の貴金属使用量の低減、装置のコストダウンにも繋がる。
本実施形態で製造した導電性粒子(Pt/Al)のTEM像。 実施例1及び従来例1で製造した電極の断面写真。
第1実施形態:以下、本発明の実施形態について説明する。本実施形態では、Pt、Pt-Pd合金それぞれをコア粒子としてAlで被覆した導電性粒子を製造して金属ペーストを作成し、これを焼成した電極の抵抗値を測定した。また、Pt-Pd合金からなるコア粒子については、Pd含有量の変化によるペーストの特性について評価した。
(i)導電性粒子の製造
 平均粒径10nmのPt粉末と、平均粒径10nmのAl粉末とを、V型混合機で混合して均一な混合粉末を用意した。このときの混合比は、Alシェルの添加量に相当する。そして、これを高周波誘導熱プラズマ装置にてアルゴン雰囲気でプラズマ雰囲気中に放出した。発生した微粉末をフィルターにて回収した。以上の工程により、Ptをコア粒子とするコア/シェル構造の導電粒子粉末を得た(実施例1、2)。このとき導電粒子粉末について、TEM写真から粒子の寸法(最大寸法)を読み取ったところ、コア粒子の粒径は、20nmであり、粒子全体の粒径は、40nmであった。
 この製造したコア/シェル構造の導電粒子粉末のTEM像を図1(a)に示す。この導電粒子粉末について、組成分析をEDX分析で行ったところ、Alを0.93重量%含むことが確認されている。このAlは、上記製造工程でプラズマ雰囲気中に放出されたPt粒子にAl粉末のAlが拡散したものと考えられる。
 上記と同様に、コア粒子としてPt-Pd合金(Pd25重量%)を適用する導電性粒子も製造した(実施例3、4)。原料粉末として、平均粒径10nmのPt粉末、平均粒径10nmのAl粉末および平均粒径40nmのPd粉末を用いた。他の製造条件は上記と同様とした。また、このときのコア粒子の粒径は、20nmであった。
 また、上記実施例3、4と同様にして製造したコア粒子にPt-Pd合金を適用する導電性粒子を900℃で1時間熱処理し、造粒(粒径調整)して導電性粒子を製造した(実施例5、6)。このときのコア粒子の粒径は200nmであった。この製造したコア/シェル構造の導電粒子粉末のTEM像を図1(b)に示す。
 以上の各実施例のコア/シェル構造の粉末に対する比較として、Alの被覆のないPt、Pt-Pd合金それぞれの微粒子も製造した(比較例1~4)。この微粒子の製造は、原料となるPt粉末、Pd粉末をプラズマ気相中に放出して製造した。
(ii)電極形成用ペーストの作製
 上記で製造した導電性粒子を、有機溶剤であるエステルアルコールに投入し、更に、ジアミン系界面活性剤及びエチルセルロースを混合して、3本ロールミルにて混合・混練してペースト化した。導電性粒子の混合量は、70%とした。また、このペースト作製においては、従来の金属ペーストとして粒径0.7μmの金属粉末と、粒径0.3μmのAl粉末を混合したものを用意した(従来例1~4))。更に、Alの被覆のないコア粒子のみからなる粒径20nmの粒子(比較例1~4)については、導電粒子に粒径10nmのAl粉末を混合して金属ペーストとした。
(iii)電極の作製
 上記の金属ペーストを、96%アルミナ基板上にスクリーン印刷にて塗布形成した。その後120℃で10分乾燥し、1500℃で1時間焼成処理し、電極膜を作製した。
 以上の工程で製造した電極膜について、その抵抗値をデジタルマルチメーターを用い4端子法にて測定した。結果を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表から、各実施例に係るコア/シェル構造の導電性粒子を適用した金属ペーストにより作製される電極は、抵抗値の低下が認められ、従来例の金属ペーストについて同一金属で対比した場合、20~40%程度の抵抗値の低減が確認された。この電極膜の低抵抗化は、電極膜を従来より薄くしても同等の性能を発揮し得ることに繋がり、その結果、金属ペーストの使用量の低減、即ち、貴金属使用量の低減を実現できる。
 また、本発明の効果は、単に金属粒子を微細化したのみで発揮されるものではないことが比較例の結果から確認された。即ち、Pt又はPt-Pd合金のみからなる粉末は、セラミックの配合無しでは電極膜を形成することができず、また、セラミックを混合しても電極の抵抗値は著しく高くなる。このように、導電粒子の微細化のみで効果がない理由としては、微細化により導電粒子が凝集し易くなり、焼結開始温度が却って低くなるため、少量のセラミック混合では形成され難く(比較例1、3)、他方、セラミック混合量を増加させてもセラミック粒子の分散状態に改善は見られず抵抗値が上昇したと考えられる。
 図2は、実施例1及び従来例1で製造した電極の断面写真である。図2から、実施例で作製された電極においてはAl粒子が微細であり、これが均一に分散している。一方、従来例においては、粗大なセラミック粒子の存在が確認される。
 次に、Al添加量による金属ペーストの特性評価を行った。実施例1、2と同様に、Al粉末の混合量を調整したPt/Al混合粉末をプラズマ気相中に放出し導電粒子粉末を製造して金属ペーストを作製し、電極膜を製造した。そして、実施例1、2と同様に、抵抗値を測定した。この結果を表2に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 Al添加量については、13重量%までは抵抗値に大きな悪影響を与えるものではない。そして、15重量%までは、抵抗値の測定が可能であったが、これを超えると抵抗値が測定できなかった。従って、Al添加量は、15重量%を上限とするのが好ましいといえる。
 また、コア粒子としてPt-Pd合金を適用した場合のPd濃度の範囲について検討した。この検討は、種々のPd濃度のPt-Pd合金粉末を0.5g用意し、これをセラミック基板上に載置して融点以上に加熱して溶融させ、その際の濡れ角を測定して行った。その結果を表3に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 表3から、Pt-Pd合金は、Ptよりも濡れ角が小さくなり、Ptよりもセラミックに対するなじみ易さが良好であることがわかる。この作用は、粉末をペースト化した場合にも有効であると考えられる、基板に対する濡れ角の低下は、金属ペーストの基板へのなじみ易さ、塗布の容易さを示し、電極の密着性向上に繋がる。そして、Pd量を増加させることで濡れ角が小さくなる傾向にあることがわかる。従って、本発明にPt-Pd合金を適用する場合には、Pd含有量を増大させればよいが、上記したように、Pdが30重量%を超えるとPd酸化物が析出する傾向があり、電極の信頼性を低下させる。
第2実施形態:ここでは、第1実施形態のコア/シェル構造の導電性粒子について、シェルとしてZrO(YSZ)を適用したものを製造した。この製造方法は、基本的に第1実施形態と同様の条件を適用し、Pt粉末とZrO(YSZ)粉末との混合粉末をプラズマ気相中に放出してコア/シェル構造の導電性粒子とした。そして、第1実施形態と同様に金属ペーストを製造して、ジルコニア基板に塗布・焼成して電極膜とし、その抵抗値測定を行った。また、比較として、Pt粉末とZrO(YSZ)粉末とを別々に混合した金属ペーストの電極膜の特性も評価した。その結果を表4に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
 表からわかるように、シェルをZrO(YSZ)とした導電性粒子についても、従来例の金属ペーストに対して抵抗値の低下が認められた。
第3実施形態:ここでは、コア/シェル構造の導電性粒子のセラミック(シェル)の被覆量に関し、その下限を明確にする検討を行った。導電性粒子の製造は、第1実施形態と同様、Pt粉末とAl粉末との混合粉末をプラズマ気相中に放出してコア/シェル構造の導電性粒子とした。シェルの被覆量は、混合粉末中のAl粉末の量を調整することにより行なった。そして、第1実施形態と同様に金属ペーストを製造して、アルミナ基板に、0.5×20mm(1mm間隔で3本)、0.1×5.0mm(0.1から0.5mm間隔で11本)、5×5mmの3種のパターンで塗布・焼成した。焼成後、電極膜の剥がれ、反りの有無を確認した。この結果を表5に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
 表5から、セラミック量が少ない場合、焼成後に剥がれや変形が生じやすくなることがわかる。そして、実用上で許容されるセラミック量としては、0.5重量%が下限であることが確認できる。尚、上記結果は、セラミックとしてAlを適用したものであるが、ZrOを用いた場合においても同様の結果が得られた。
 本発明によれば、低抵抗の電極を形成可能な電極形成用の金属ペーストを提供することができる。

Claims (7)

  1. 電極形成用の導電性粒子であって、
    Pt又はPt合金からなり、粒径10~200nmのコア粒子と、
    Al又はZrOを含むセラミックからなり、前記コア粒子の少なくとも一部を覆うシェルと、からなり、
    前記シェルを構成する前記セラミックは、コア粒子に対して0.5~15重量%の添加量でコアを被覆するものである、コア/シェル構造を有する電極形成用の導電性粒子。
  2. コア粒子は、Ptである請求項1記載の電極形成用の導電性粒子。
  3. コア粒子は、30重量%以下のPdを含むPt-Pd合金である請求項1記載の電極形成用の導電性粒子。
  4. コア粒子は、更に、3重量%以下のAl又はZrを含むPt又はPt合金である請求項1~請求項3のいずれかに記載の電極形成用の導電性粒子。
  5. 電極形成用の金属ペーストにおいて、
    請求項1~請求項4のいずれかに記載の電極形成用の導電性粒子と溶剤とからなることを特徴とする金属ペースト。
  6. 導電性粒子の混合量は、ペースト全体に対して50~90重量%である請求項5記載の電極形成用の金属ペースト。
  7. 請求項5又は請求項6記載の電極形成用の金属ペーストを焼成してなる電極。
     
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