WO2004066319A1 - 白金被覆粉末およびその製造方法、ならびに導電性ペースト - Google Patents

白金被覆粉末およびその製造方法、ならびに導電性ペースト Download PDF

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coated
powder
particles
palladium
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PCT/JP2004/000449
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Shinroku Kawasumi
Shin-Ichi Motai
Masahiro Honma
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Toho Titanium Co., Ltd.
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/02Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of metals or alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys

Definitions

  • the present invention relates to a powder comprising a collection of platinum-coated particles in which the periphery of a base particle made of a material such as ceramic is coated with platinum, and a method for producing the same.
  • the present invention also relates to a conductive paste that can be advantageously used particularly for forming a platinum electrode.
  • Platinum is widely used as an electrode material for various electronic components such as multilayer ceramic capacitors because of its high conductivity. Platinum also has a high catalytic effect on various chemical reactions such as hydrogenation, dehydrogenation, and oxidation reactions, so it can be used as a catalyst for synthesizing organic compounds and for decomposing ammonia and carbon monoxide as harmful substances. It is also used as a catalyst. In recent years, exhaust gas of a diesel engine is One Do question, platinum as NO x and force one carbon cracking catalyst of which are contained in the exhaust gas is very effective. More recently, platinum has been used as a catalyst for various gas sensing elements and a catalyst for fuel cell electrodes, utilizing its high conductivity and catalytic action.
  • Platinum electrodes for various electronic components such as multilayer ceramic capacitors are usually prepared by kneading platinum powder, an organic solvent, and an organic or inorganic binder to prepare a conductive paste, which is then heat-resistant to a ceramic substrate or the like. It is formed by coating on a substrate, followed by drying and firing.
  • the platinum electrode thus formed is generally a thin layer and has excellent conductivity.
  • Patent No. 3,316,235 discloses a method for producing a noble metal-coated ceramic powder using an electroless plating method, in which a reducing agent is added to a dispersion in which ceramic powder is dispersed in an aqueous solution of a noble metal salt.
  • Example 8 of this document describes a production example of a platinum-coated PZT fine powder in which the periphery of a PZT fine powder having a platinum thin film layer formed on its surface is coated with platinum.
  • OmQ / sq. was manufactured from a conductive paste prepared using platinum-coated PZT fine powder. .
  • the amount of net platinum used is reduced, so that the manufacturing cost is lower than when using platinum powder.
  • the core particles (ceramic particles) of the platinum-coated ceramic particles are usually non-conductive, the platinum electrode formed using the platinum-coated ceramic powder is compared with the platinum electrode formed using the platinum powder.
  • its resistance value tends to be high (that is, the conductivity is low).
  • an object of the present invention is to provide a platinum-coated powder that can be advantageously used to form a platinum electrode having a low resistance value with a small amount of platinum used, a low production cost, and a method for producing the same. It is in.
  • Another object of the present invention is to provide a conductive paste which is particularly advantageous for forming a platinum electrode.
  • the inventors of the present invention have conducted intensive studies on the above-mentioned problems, and have found that platinum particles are applied to base particles (substrate particles with a palladium layer) of a material such as ceramics having a palladium layer formed on the surface by using an electroless plating method. Deposition, a homogeneous platinum coating layer can be formed around it.Furthermore, platinum electrodes produced from conductive pastes prepared using the platinum-coated particles thus obtained are known in the art. And The present invention was confirmed to exhibit a lower resistance value than a platinum electrode manufactured using a platinum-coated ceramic powder, and completed the present invention.
  • the present invention resides in a platinum-coated powder comprising platinum-coated base particles in which a palladium layer is formed on the entire surface of the base particles and the periphery of the base-particle-coated base particles is coated with platinum.
  • the palladium layer may be formed as a continuous layer that uniformly covers the entire surface of the particle, or locally, such as in a point state or island state (sea-island structure), but substantially uniformly over the entire surface of the base particle. It may be formed so as to be dispersed.
  • the present invention also relates to a method for simultaneously adding a platinum compound aqueous solution and a reducing agent to a dispersion of a base particle with a palladium layer in which a palladium layer is formed on the entire surface of the base particles of a material such as ceramics.
  • a method for producing a platinum-coated powder characterized in that platinum is deposited around particles.
  • the base particles with a palladium layer used in the method for producing a platinum-coated powder according to the present invention are preferably formed by forming a noradium layer on the surfaces of particles whose surfaces have been subjected to an activation treatment.
  • the present invention further resides in a conductive paste containing the platinum-coated powder of the present invention.
  • the platinum-coated powder of the present invention is composed of platinum-coated particles in which a palladium layer-coated substrate particle having a palladium layer formed on the entire surface of the substrate particle is coated with platinum.
  • the amount of palladium is preferably in the range of 0.001 to 1 part by mass per 1 part by mass of the base particles, and more preferably in the range of 0.001 to 0.01 part by mass. More preferred.
  • the amount of platinum is preferably in the range of 0.1 to 100 parts by mass, more preferably in the range of 0.5 to 10 parts by mass, based on 1 part by mass of the base particles. .
  • the material of the base particles serving as the core of the platinum-coated particles can be appropriately selected depending on the use of the platinum-coated particles.
  • examples include: ceramics such as metal oxides, inorganic particles such as carbon and metal, and synthetic materials.
  • Organic particles such as a resin are exemplified.
  • ceramics include alumina, silica, zirconia, titanium dioxide, barium titanate, and glass.
  • examples of metals include nickel, cobalt, copper, iron, titanium, and the like.
  • Synthetic resins include acrylic. Resin, poly power And general-purpose resins such as polyethylene, polypropylene and the like. Of these, ceramics are preferred, and alumina is particularly preferred.
  • the average particle size of the base particles is usually in the range of 0.1 to 100 m, preferably in the range of 0.1 to 10 zm, particularly preferably in the range of 0.1 to 1 zm.
  • the shape of the base particles is preferably spherical.
  • the term “spherical” here does not necessarily mean a true sphere, but includes deformed spherical particles such as an elliptical shape or a rock shape having an uneven surface.
  • the platinum-coated powder of the present invention can be produced by forming a palladium layer on the entire surface of the above-mentioned substrate particles, and then forming a platinum coating layer on the surface of the substrate particles with the palladium layer. Before forming a palladium layer on the substrate particles, it is preferable to activate the surface physically or chemically.
  • a method for physically activating the surface of the base particles there is a method of polishing the surface of the base particles using a vibration mill or a ball mill.
  • a method for chemically activating the surface of the base particles the surface of the base particles is contacted with an acid (eg, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid) or an alkaline solution (eg, aqueous sodium hydroxide solution, aqueous hydroxide solution).
  • an acid eg, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid
  • an alkaline solution eg, aqueous sodium hydroxide solution, aqueous hydroxide solution.
  • an alkali solution particularly, an aqueous solution of potassium hydroxide
  • an aqueous solution of an alkaline solution having a concentration of 1 to 1 ON (preferably 3 to 8 N) is applied to the surface of the base particles at a temperature of 10 to 80 ° C (preferably 30 to 60 ° C). It is preferable to heat to a temperature and contact it for 10 minutes to 5 hours (preferably 30 minutes to 2 hours).
  • a method of forming a palladium layer on the entire surface of the substrate particles a method of contacting a palladium compound and a reducing agent on the surface of the substrate particles to precipitate (spot) palladium on the surface of the substrate particles is used. be able to. Specifically, it is preferable to use a method in which a reducing agent is added to a dispersion of base particles containing a palladium compound to form a palladium layer on the surface of the base particles. Substrate containing palladium compound.
  • the particle dispersion may be prepared by first preparing a dispersion of the base particles and adding the palladium compound thereto, or preparing the aqueous solution of the palladium compound first. It may be manufactured by dispersing substrate particles in this.
  • Examples of the palladium compound used as a raw material for forming the palladium layer include palladium chloride. Palladium bromide, palladium sulfate, palladium nitrate, palladium acetate, dichlorotetraamminepalladium, dibromotetraamminepalladium, dinitrate tetraamminepalladium, disulfitetetraamminepalladium, disulfatetetraamminepalladium, dichlorodiamminepalladium, dibromodiammine Divalent palladium (II) compounds such as palladium, dinitrate diammine palladium, disulfite diammine palladium, disulfate diammine palladium, and monovalent palladium (I) compounds such as tetrachlorodiammine palladium and tetrabromodiammine palladium Can be done. Further, ammonium salts of these palladium compounds can also be used. These palladium compounds may be used alone or in combination of
  • the reducing agent examples include sodium hypophosphite, sodium borohydride, dimethylamine porane, sodium formate, hydrazine, hydrazine hydrochloride, and the like, with hydrazine being preferred. These are usually used as aqueous solutions.
  • the concentration of the palladium compound in the dispersion of the base particles at the time of forming the palladium layer (that is, when the reducing agent is added) is preferably in the range of 0.1 to 5 OmgZL as the metal palladium concentration, More preferably, it is in the range of 1 O mg / L.
  • the thickness of the generated palladium layer is too large (that is, if the amount of deposited palladium is too large), the agglomeration of the base particles tends to easily occur.
  • the amount is preferably in the range of 0.001 to 1 part by mass, more preferably in the range of 0.001 to 0.01 part by mass, per 1 part by mass of the base particles.
  • the pH of the base particle dispersion is preferably in the range of 5 to 10.
  • the pH adjuster As the pH adjusting agent, hydrochloric acid, sulfuric acid, tetraborate, phthalate, acetate, citrate and the like can be used.
  • the liquid temperature of the substrate particle dispersion may be within a range in which the palladium compound can be dissolved, and is usually 0 to 80 ° C, preferably 20 to 80 ° C. 40 temperature.
  • the base particles When the palladium layer is formed, if the base particles are agglomerated, it is difficult to form a palladium layer on the entire surface of the particles.Therefore, the dispersion state of the base particles should be enhanced by stirring or ultrasonic vibration. Is preferred.
  • the substrate particles with a palladium layer obtained as described above are washed with pure water or the like as necessary, and separated from the dispersion by filtration or decantation as necessary. Further, heat treatment can be performed if necessary. By performing the heat treatment, the palladium layer is firmly fixed on the surface of the base particles.
  • a platinum compound and a reducing agent are brought into contact with the palladium layer-attached substrate particles to deposit (spot) platinum on the surface of the substrate particles.
  • a method is available. Specifically, a platinum compound aqueous solution and a reducing agent are simultaneously added to the dispersion of the base layer-coated base particles to form a platinum coating layer around the base particles (simultaneous addition coating method).
  • a method of forming a platinum coating layer around the base particles by adding an aqueous solution of a platinum compound to the dispersion of the base particles with the reducing agent solution containing the reducing agent solution, and particularly the former simultaneous addition coating method. It is preferable to use
  • platinum compound a water-soluble di- or tetravalent platinum salt or platinum complex salt can be used.
  • platinum compounds include dinitrodiamine platinum, hexahydroxoplatinum, hexacloplatinate, tetracloplatinate, tetrabromoplatinate, tetraammineplatinate, hexaammineplatinate, bisoxalato Platinate and the like. These platinum conjugates may be used alone or in combination of two or more.
  • divalent platinum compounds are preferred, and particularly preferred are the same reducing agents used when forming the palladium layer as the hexaclocloplatinate and tetracloplatinate reducing agents. It can be used, and is preferably hydrazine.
  • the reducing agent used for forming the platinum coating layer and the reducing agent used for forming the palladium layer need not necessarily be the same.
  • water-soluble dispersant Any of water-soluble natural polymer, water-soluble semi-synthetic polymer, and water-soluble synthetic polymer can be used.
  • An example of a water-soluble natural product polymer is gelatin.
  • water-soluble semi-synthetic polymers include water-soluble celluloses such as methylcellulose, carboxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, gum arabic, and saccharose.
  • water-soluble synthetic polymers examples include polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, polyethylene glycol, unsaturated carboxylic acid polymers (eg, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polymaleic acid), and salts thereof (eg, ammonium polyacrylate). And its esters (eg, polyacrylic acid ester), isobutylene-maleic anhydride copolymer, phenol modified with ethylene oxide and ethylene oxide or propylene oxide polymer.
  • water-soluble dispersants may be used alone or in combination of two or more.
  • water-soluble dispersants water-soluble natural polymers and water-soluble semi-synthetic polymers are preferably water-soluble celluloses, and water-soluble synthetic polymers are preferably polyvinyl alcohol.
  • the base particle concentration of the base particle-dispersed dispersion with a palladium layer is preferably in the range of 0.05 to 10 gZL, more preferably in the range of 0.1 to 5 gZL.
  • the pH of the substrate particle-dispersed liquid with a palladium layer is preferably 5 or less, more preferably 3 or less. If the pH is higher than 5, the platinum compound becomes unstable, and it becomes difficult to form a uniform platinum coating layer. Therefore, it is preferable to add a pH adjuster, if necessary, together with the addition of the aqueous platinum compound solution and the reducing agent to the dispersion of the substrate particles with a palladium layer.
  • the liquid temperature of the dispersion may be within a range in which the platinum compound can be dissolved, and is usually 0 to 100 ° C, preferably 20 to 80 ° C; particularly preferably 50 to 70 ° C.
  • the supply rates of the aqueous platinum compound solution and the reducing agent are each 0.1 g of the platinum compound aqueous solution per 1 g of the base particles.
  • the reducing agent is in the range of 0.1 to 10 mLZ, and the reducing agent is in the range of 0.1 to 10 mLZ. If the supply rates of the aqueous solution of the platinum compound and the reducing agent are respectively higher than the above ranges, pure platinum particles will not be produced around the base particles, and pure platinum particles will be produced. It is easy to achieve.
  • the temperature of the reaction system when forming the platinum coating layer by the reduction reaction is usually 0 to 90 ° C., preferably 10 to 80 ° C., and particularly preferably 30 to 7 ′ 0 °. C.
  • the supply rate and concentration of the platinum compound aqueous solution and the reducing agent, and the temperature of the reaction system are controlled to simultaneously form the base surface platinum coating layer. It is also possible to form pure pure platinum particles which are not coated on the substrate surface. At this time, it is desirable to control the formed amount and the particle size of the formed platinum-coated particles and the pure platinum particles. For example, the platinum-coated particles and the pure platinum particles are formed to have different particle sizes. Thus, by simultaneously forming the platinum-coated killer and the pure platinum particles and using this as a conductive paste, it is possible to improve the conductivity when the electrodes are formed.
  • the platinum coating layer When forming the platinum coating layer, it is difficult to form a uniform platinum coating layer if the base particles are agglomerated, so that the dispersion state of the base particles can be enhanced by stirring or ultrasonic vibration. preferable.
  • the platinum-coated powder formed as described above is washed with pure water or the like to remove unreacted platinum compounds and reducing agents, and dried if necessary.
  • the condition of the heat treatment is a temperature lower than the temperature at which sintering of the platinum-coated particles starts, usually 100 to 600 ° C., preferably 300 to 500 ° C. Is 1 to 100 hours, preferably 5 to 50 hours.
  • the platinum-coated powder formed as described above may be dried and replaced with a solvent used for forming a conductive paste by removing the dispersion medium from the aqueous dispersion.
  • a solvent used for forming a conductive paste such as Yuichi Vineol is added to the aqueous dispersion, Then the water is removed.
  • a surfactant it is preferable to add a surfactant at any stage because the aqueous solvent and the organic solvent are easily replaced.
  • an anionic surfactant, a cationic surfactant, a nonionic surfactant and the like are used.
  • lipophilic ones are preferable, and nonionic surfactants having an HLB (hydrophilic-lipophilic balance) value of usually 3 to 20 are preferably used, and hydrophilicity having an HLB value of 10 to 20 is preferable.
  • HLB hydrophilic-lipophilic balance
  • polyoxyethylene alkyl ethers such as nonylphenol ether and their phosphates, phosphates or mixtures thereof, and polyoxyethylene sorbitan such as polyoxyethylene sorbitan monostearate
  • fatty acid esters, polyglycerin fatty acid esters such as polyglycerin monostearate, and sorbitan fatty acid esters such as sorbitan monostearate are particularly preferably used.
  • Particularly preferred surfactants are polyoxyethylene alkylphenyl ethers and their phosphates or mixtures thereof.
  • ethyl cellulose ethylene glycol, toluene, xylene, mineral oil, High-boiling organic solvents such as butyl carbitol, Yuichi Pineoyl, and ethyl carbitol acetate are used.
  • An organic or inorganic binder is used as the binder, and an organic binder such as ethyl cellulose or an epoxy resin is preferable. It is preferable that solid substances be removed from these binders by filtration or the like before use.
  • the above-mentioned surfactants such as polyoxyethylene alkylester phosphate, and amine-based or polyamine-based dispersants such as aliphatic amine salts are used.
  • the conductive paste may be made of glass frit such as lead-based glass, zinc-based glass, or silicate-based glass, manganese oxide, magnesium oxide, or oxidized bismuth as necessary.
  • a metal oxide filler such as a mass may be added.
  • a heat-resistant substrate such as ceramics and sintered to form an electrode
  • an electrode having excellent adhesion to the substrate and high conductivity can be formed.
  • the wettability with solder is improved.
  • a plasticizer such as fluoric acid ester and stearic acid, a dispersant, and the like can be added to the conductive paste.
  • a conductive paste When a conductive paste is applied to an unfired substrate (green sheet), firing of the conductive paste (forming a platinum electrode layer) and firing of the substrate are performed simultaneously to produce a platinum electrode, In order to adjust the degree of shrinkage of the substrate and the electrode and to prevent the occurrence of delamination and cracks, it is preferable to add a powder made of the same material as the material of the substrate to the conductive paste.
  • ceramic powder is added to the conductive paste and dispersed well with the platinum-coated powder.
  • the addition amount of this powder is usually in the range of 0.01 to 10 parts by mass, preferably in the range of 0.1 to 1 part by mass with respect to 1 part by mass of the platinum-coated powder.
  • platinum powder (powder of pure platinum particles) may be mixed with the conductive paste.
  • the amount of the platinum powder to be added is generally in the range of 0.1 to 100 parts by mass, preferably in the range of 1 to 50 parts by mass, per 1 part by mass of the platinum-coated powder.
  • a conductive paste is formed by mixing a platinum-coated powder and, if necessary, a powder of alumina or the like, or a platinum powder.In this case, rather than mixing particles having a uniform particle size, a wider particle size distribution is obtained. Therefore, it is preferable to mix powders having different average particle diameters. For example, two or more types of platinum-coated powders having different average particle sizes are formed and mixed in an appropriate amount, or platinum-coated powder, alumina powder and platinum powder having different average particle sizes are mixed to form a conductive paste. I do.
  • a conductive paste is formed by mixing l ⁇ 2 ⁇ m platinum-coated powder, 0.1 ⁇ 0.50m alumina ceramic powder such as alumina, and 0.3 ⁇ 1.5 ⁇ m platinum powder. Let it. In this way, the dispersibility of the conductive paste is improved by blending so as to broaden the particle size distribution of the entire powder contained in the conductive paste, and as a result, the packing density is reduced when the electrode is formed. And the conductivity is improved. W
  • spherical alumina powder having an average particle diameter of 0.5 m by a laser diffraction method and 18 OmL of a 6N potassium hydroxide solution were charged into a 1 L flask equipped with a reflux condenser. Next, the temperature of the aqueous potassium hydroxide solution was heated to .50 ° C. for 1 hour, and then cooled. After cooling, the alumina powder was taken out from the aqueous potassium hydroxide solution, thoroughly washed with pure water, and dried.
  • the dispersion is allowed to stand, the supernatant is removed by decantation, pure water is added to adjust the alumina concentration of the dispersion to 10 g / 3 L, and stirring is started again to disperse the alumina powder. I let it. Then, 2 mL of a hydrazine aqueous solution having a concentration of 10 OmL ZL was added to the dispersion, and stirring was continued at room temperature for 30 minutes to precipitate palladium on the surface of the alumina particles ⁇ . The ⁇ of the dispersion when the aqueous hydrazine solution was added was 7. Finally, the powder was washed with pure water and dried to obtain an alumina powder with a palladium layer.
  • the amount of palladium was 0.001 part by mass and the amount of platinum was 9 parts by mass with respect to 1 part by mass of alumina.
  • the obtained platinum-coated alumina powder was observed with an electron microscope, it was confirmed that a uniform platinum coating layer was formed on the entire surface of each particle.
  • the average particle size of the platinum-coated alumina powder measured from the image of the electron microscope was 0.6 zm.
  • the mixture is mixed using a three-roll kneader to prepare a conductive paste.
  • the above-mentioned conductive paste was linearly applied to an alumina substrate and dried at 150 ° C. Then, it was baked at 1450 ° C. for 2 hours to form a linear platinum electrode.
  • the length, cross-sectional area, and sheet resistance of this linear platinum electrode were measured, and the specific resistance was calculated from the following equation (1).
  • the cross-sectional area of the linear platinum electrode was measured using an ultra-depth shape measuring microscope (manufactured by KEYENCE CORPORATION, VK-8550), and the sheet resistance was measured using a multi-meter manufactured by Toyo Tech Nikki Co., Ltd. It measured using.
  • Example 2 The same operation as in (1) of Example 1 was performed to activate the alumina powder. was.
  • Example 1 was repeated except that 4 ml of an aqueous solution of platinum chloride having a concentration of 5 g / L was added as a platinum component, instead of adding the aqueous solution of palladium salt in the night of the alumina powder.
  • Example 2 The same operation as in (3) of Example 1 is performed on the alumina powder with a platinum layer obtained in (2) to deposit platinum around the alumina particles with a platinum layer, to obtain a platinum-coated alumina powder.
  • a platinum layer obtained in (2) The same operation as in (3) of Example 1 is performed on the alumina powder with a platinum layer obtained in (2) to deposit platinum around the alumina particles with a platinum layer, to obtain a platinum-coated alumina powder.
  • the amount of platinum relative to 1 part by mass of alumina was 0.2 part by mass.
  • the obtained platinum-coated alumina powder was observed with an electron microscope, it was confirmed that a large number of particles having a non-uniform platinum layer were present.
  • a conductive paste was prepared according to the method described in Example 1, and then an electrode was formed from the conductive paste.
  • the specific resistance value of this electrode was calculated, it was 348 ⁇ ⁇ cm, which was higher than that of the electrode made in Example 1.
  • Example 2 The same operation as in (1) of Example 1 was performed, except that a spherical alumina powder having an average particle diameter of 1.2 m was used, to activate the alumina powder.
  • Example 2 The same operation as in (1) of Example 1 was performed to produce an alumina powder having a palladium layer.
  • Alumina powder was dispersed therein, 25 OmL of a 10 g / L aqueous solution of carboxymethyl cellulose was added, and the mixture was stirred at 60 ° C for 30 minutes. Then, simultaneously, 25 OmL of hexaclo-mouth platinic acid aqueous solution with a concentration of 36 g / L and 25 OmL of hydrazine aqueous solution with a concentration of 4 OmL / L as a platinum content were added at a rate of 2.5 mLZ per minute. Then, stirring was further continued at 60 ° C. for 1 hour to precipitate platinum around the alumina particles with the palladium layer.
  • the pH of the dispersion after the addition of the aqueous tetrachloroplatinic acid solution and the aqueous hydrazine solution was 1. Finally, the powder was washed with pure water, dried, and then heated at 400 ° C. for 3 hours to obtain about 10 g of a platinum-coated alumina powder.
  • the amount of palladium was 0.001 part by mass and the amount of platinum was 5.7 parts by mass with respect to 1 part by mass of alumina.
  • the obtained platinum-coated alumina powder was observed with an electron microscope, it was confirmed that a uniform platinum coating layer was formed on the entire surface of each particle. Further, the average particle size of the platinum-coated alumina powder measured from the image of the electron microscope was 1.5 zm.
  • An electrode was formed in the same manner as in Example 1, and the specific resistance value was calculated to be 43 Q'cm.
  • the conductive paste was prepared by mixing using a roll-type kneading apparatus.
  • the platinum content in this conductive paste was 87% by weight, the same as that of the conductive paste prepared in Example 2, and the alumina content was 13% by weight.
  • An electrode was formed in the same manner as in Example 1, and the specific resistance value was calculated to be 52 jQ ⁇ cm.
  • the platinum-coated powder of the present invention can be advantageously used to form a platinum electrode having a low resistance value while using base particles of a material such as ceramics as core particles. Further, by using the method for producing a platinum-coated powder of the present invention, it is possible to uniformly coat the periphery of base particles of a material such as ceramics with platinum.

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Abstract

セラミックスなどの材料からなる基体粒子の表面全体にパラジウム層が形成さたパラジウム層付粒子の周囲を、白金により被覆した白金被覆粒子からなる白金被覆粉末は、電極材料として好適である。

Description

明 細 書 白金被覆粉末およびその製造方法、 ならびに導電性ペースト
[技術分野]
本発明は、 セラミックスなどの材料からなる基体粒子の周囲が白金にて被覆さ れている白金被覆粒子が集合してなる粉末、 及びその製造方法に関する。 また、 本発明は、 特に白金電極の形成に有利に用いることができる導電性ペーストにも 阅 ^~る。
[背景技術]
白金は、 高い導電性を示すことから、 積層セラミックコンデンサなどの各種の 電子部品の電極材料として広く利用されている。 白金はまた、 水素化、 脱水素あ るいは酸化反応など種々の化学反応に対して高い触媒作用を示すことから、 有機 化合物の合成用触媒、 有害物質としてのアンモニアや一酸化炭素などの分解用触 媒としても利用されている。 ここ数年、 ディーゼルエンジンの排ガスが問題とな つているが、 排ガスに含まれる N O xや力一ボンの分解用触媒として白金は非常 に有効である。 さらに最近では、 白金は、 その高い導電性と触媒作用を利用して、 種々のガス検知用素子の触媒や燃料電池用電極の触媒として利用されている。 積層セラミックコンデンサなどの各種の電子部品用の白金電極は、 通常、 白金 粉末、 有機溶剤、 そして有機バインダあるいは無機バインダを混練して導電性べ 一ストを調製し、 これをセラミヅクス基板などの耐熱性基材の上に塗布し、 その 後、 乾燥と焼成を行なうことにより形成されている。 このようにして形成された 白金電極は、 一般に薄層で、 導電性に優れている。
白金は高価な金属のひとつであることから、 白金粉末 (すなわち、 純白金粒子 の粉末) の代わりに、 セラミックス粒子などを核粒子 (基体粒子) として、 その 周囲を白金にて被覆した白金被覆粒子の粉末を用いることが検討されている。 白 金被覆粉末を製造する方法としては、 各種の方法が知られており、 その代表的な 方法として無電解メツキ法がある。 , 特許第 3 3 1 6 2 3 5号公報には、 無電解メツキ法を利用した貴金属被覆セラ ミックス粉末の製造方法として、 貴金属塩の水溶液中にセラミックス粉末を分散 させた分散液に還元剤を添加し、 セラミックス粉末の表面に貴金属薄膜層を形成 させる工程、 そして、 この貴金属薄膜層を有するセラミックス粉末を、 貴金属塩 と水溶性ポリマーとを含む水溶液に分散させ、 次いで該分散液に還元剤を添加し て、 貴金属層をセラミックス粉末表面の貴金属薄膜層の周りに形成する方法が開 示されている。 特に、 この文献の実施例 8には、 表面に白金薄膜層が形成された P Z T微粉末の周囲を白金により被覆した白金被覆 P Z T微粉末の製造例が記載 されている。 そして、 この実施例では、 白金被覆 P Z T微粉末を用いて調製した 導電性ペーストから抵抗値 (シ一ト抵抗値) が 3 6 8 . O m Q / s q . の白金電 極が製造されている。
白金電極を白金被覆セラミックス粉末を用いて形成することにより、 使用する 正味の白金の量が少なくなるため、 白金粉末を用いる場合と比べて製造コストは 安価になる。 しかしながら、 通常、 白金被覆セラミックス粒子の核粒子 (セラミ ヅクス粒子) は非導電性であるため、 白金被覆セラミックス粉末を用いて形成し た白金電極は、 白金粉末を用いて形成した白金電極と比べて、 その抵抗値が高く なる (すなわち、 導電性が低下する) 傾向にある。
' 従って、 本発明の目的は、 白金の使用量が少なく、 安価な製造コストで、 抵抗 値の低い白金電極を形成するのに有利に用いることができる白金被覆粉末、 及び その製造方法を提供することにある。 本発明の課題はまた、 白金電極の形成用と して特に有利な導電性ペーストを提供することにもある。
[発明の開示]
本発明者らは、 上記課題について鋭意検討を重ねた結果、 表面にパラジウム層 が形成されているセラミックスなどの材料の基体粒子 (パラジウム層付基体粒子) に、 無電解メツキ法を利用して白金を析出させることにより、 その周囲に均質な 白金の被覆層を形成できることを見出し、 さらに、 そのようにして得た白金被覆 粒子を用いて調製した導電性ペーストから製造した白金電極は、 従来知られてい る白金被覆セラミックス粉末を用いて製造した白金電極に比較して、 低い抵抗値 を示すことを確認して、 本発明を完成するに至った。
従って、 本発明は、 基体粒子の表面全体にパラジウム層が形成されてなるパラ ジゥム層付基体粒子の周囲を、 白金にて被覆した白金被覆基体粒子からなる白金 被覆粉末にある。 パラジウム層は、 粒子表面全体を均一に覆う連続層として形成 されていてもよいし、 点状態、 島状態 (海島構造) のような局部的に、 但し、 基 体粒子の表面全体に略均一に分散するように形成されていてもよい。
本発明はまた、 セラミックスなど材料の基体粒子の表面の全体にパラジウム層 が形成されてなるパラジゥム層付基体粒子の分散液に、 白金化合物水溶液と還元 剤とを同時に添カ卩して、 該基体粒子の周囲に白金を析出させることを特徴とする 白金被覆粉末の製造方法にもある。 本発明の白金被覆粉末の製造方法において用 いるパラジウム層付基体粒子は、 表面に活性化処理が施された粒子の表面に、 ノ ラジウム層を形成したものであることが好ましい。
本発明はさらに、 上記本発明の白金被覆粉末を含む導電性べ一ストにもある。
[発明の詳細な説明]
本発明の白金被覆粉末は、 基体粒子の表面全体にパラジウム層が形成されてな るパラジウム層付基体粒子の周囲を、 白金により被覆した白金被覆粒子からなる。 パラジウムの量は、 基体粒子 1質量部に対して 0 . 0 0 0 1〜1質量部の範囲に あることが好ましく、 0 . 0 0 0 1〜0 . 0 1質量部の範囲にあることがより好 ましい。 また、 白金の量は、 基体粒子 1質量部に対して 0 . 1〜 1 0 0質量部の 範囲にあることが好ましく、 0 . 5〜1 0質量部の範囲にあることがより好まし い。
白金被覆粒子の核となる基体粒子の材料は、 白金被覆粒子の用途により適宜選 択することができ、 その例としては > 金属酸化物などのセラミックス、 カーボン、 金属のような無機物粒子、 また合成樹脂のような有機物粒子が挙げられる。 セラ ミックスとしては、 アルミナ、 シリカ、 ジルコニァ、 二酸化チタン、 チタン酸バ リウム、 ガラスなどを挙げることができ、 金属としてはニッケル、 コバルト、 銅、 鉄、 チタンなどが挙げられ、 また合成樹脂としてはアクリル樹脂、 ポリ力一ボネ ート、 ポリエチレン、 ポリプロピレンなどの汎用樹脂が挙げられる。 これらのう ち好ましいのはセラミックスであり、 特に好ましいのはアルミナである。 基体粒 子の平均粒径は、 通常 0 . 1〜1 0 0 mの範囲、 好ましくは 0 . l〜1 0 zm の範囲、 特に好ましくは 0 . l〜l zmの範囲である。 基体粒子の形状は、 球状 であることが好ましい。 ただし、 ここで球状とは、 必ずしも真球ではなく、 楕円 状や表面に凹凸のある岩石状などの変形した球状粒子を含む。
本発明の白金被覆粉末は、 上記基体粒子の表面全体にパラジゥ厶層を形成し、 次いでそのパラジゥム層付基体粒子の表面に白金の被覆層を形成することにより 製造することができる。 基体粒子にパラジウム層を形成する前に、 その表面を物 理的または化学的に活性化させておくことが好ましい。
物理的な基体粒子の表面活性化処理方法としては、 基体粒子の表面を振動ミル やボールミルを用いて研磨する方法が挙げられる。 化学的な基体粒子の表面活性 化処理方法としては、 基体粒子の表面に酸 (例:塩酸、 硝酸、 硫酸) またはアル 力リ溶液 (例:水酸化ナトリゥム水溶液、 水酸化力リゥム水溶液) を接触させる 方法が挙げられる。 これらの表面活性化処理方法の中でも、 化学的な方法が好ま しく、 基体粒子の表面にアルカリ溶液 (特に、 水酸化カリウム水溶液) を接触さ せる方法が特に好ましい。 具体的には、 基体粒子の表面に、 濃度が 1〜1 O N (好ましくは 3〜 8 N) のアル力リ水溶液を 1 0〜 8 0 °C (好ましくは 3 0〜 6 0 °C) の温度に加熱して、 1 0分〜 5時間 (好ましくは 3 0分〜 2時間) 接触さ せることが好ましい。
基体粒子の表面全体にパラジウム層を形成する方法としては、 基体粒子の表面 に、 パラジゥム化合物と還元剤とを接触させることにより基体粒子表面にパラジ ゥムを析出 (点着) させる方法を利用することができる。 具体的には、 パラジゥ ム化合物を含む基体粒子の分散液に、 還元剤を添加して基体粒子の表面にパラジ ゥム層を形成する方法を利用することが好ましい。 パラジウム化合物を含む基体. 粒子分散液は、 基体粒子の分散液を先に調製して、 これにパラジウム化合物を添 加することにより製造してもよいし、 パラジウム化合物水溶液を先に調製して、 これに基体粒子を分散させることにより製造してもよい。
パラジゥム層形成の原料となるパラジゥム化合物の例としては、 塩化パラジゥ ム、 臭化パラジウム、 硫酸パラジウム、 硝酸パラジウム、 酢酸パラジウム、 ジク ロロテトラアンミンパラジウム、 ジブロモテトラアンミンパラジウム、 ジナイ ト レイ トテトラアンミンパラジウム、 ジサルフアイ トテトラアンミンパラジウム、 ジサルフェイ トテトラアンミンパラジウム、 ジクロロジァミンパラジウム、 ジブ ロモジアンミンパラジウム、 ジニトレイ トジアンミンパラジウム、 ジサルフアイ トジアンミンパラジウム、 ジサルフェイ トジアンミンパラジウムなどの二価のパ ラジウム (II) 化合物、 及びテトラクロロジアンミンパラジウム、 テトラブロモ ジアンミンパラジウムなどの一価のパラジウム (I ) 化合物を挙げることができ る。 さらにこれらのパラジウム化合物のアンモニゥム塩も用いることができる。 これらのパラジウム化合物は単独で用いてもよいし、 二種以上を組合せて用いて ' 'もよい。
還元剤の例としてほ、 次亜燐酸ナトリウム、 水素化ホウ素ナトリウム、 ジメチ ルァミンポラン、 蟻酸ナトリウム、 ヒドラジン、 塩酸ヒドラジンなどが挙げられ るが、 好ましくはヒドラジンである。 これらは、 通常は、 水溶液として用いる。 パラジウム層形成の際 (すなわち、 還元剤の添加時) の基体粒子分散液のパラ ジゥム化合物濃度は、 金属パラジウム濃度として 0 . 1 ~ 5 O m gZLの範囲に あることが好ましく、 0 . 1〜1 O m g/Lの範囲にあることがより好ましい。 また、 生成するパラジウム層の厚さが厚くなり過ぎると (すわなち、 パラジウム 析出量が多くなり過ぎると) 、 基体粒子の凝集が起こり易くなる傾向にあるため、 分散液中のパラジウム化合物量は、 基体粒子 1質量に対して、 0 . 0 0 0 1〜1 質量部の範囲にあることが好ましく、 0 . 0 0 0 1〜0 . 0 1質量部の範囲にあ ることがより好ましい。
パラジウム層形成の際には、 基体粒子分散液の p Hは 5〜 1 0の範囲にあるこ とが好ましい。 p Hがこの範囲から外れた場合、 分散液中のパラジウム化合物が 不安定になり、 基体粒子の表面にパラジウムが不均一に析出する傾向にある。 し たがって分散液への還元剤の添加と共に、 必要に応じて p H調整剤を添加するこ とが好ましい。 p H調製剤としては、 塩酸、 硫酸、 四ホウ酸塩、 フタル酸塩、 酢 酸塩、 クェン酸塩等を用いることができる。 基体粒子分散液の液温は、 パラジゥ ム化合物が溶解し得る範囲にあればよく、 通常は 0〜8 0 °C、 好ましくは 2 0 ~ 4 0の温度である。
パラジウム層形成の際には、 基体粒子が凝集していると、 粒子表面全体にパラ ジゥム層を形成することが困難となるため、 撹拌や超音波振動などにより基体粒 子の分散状態を高めることが好ましい。
上記のようにして得られたパラジゥム層付基体粒子は、 必要に応じて純水など で洗浄し、 また必要に応じてろ過あるいはデカンテ一シヨンなどにより分散液と 分離する。 さらに必要に応じて加熱処理を行うことも可能である。 加熱処理を行 うことにより、 パラジゥム層が強固に基体粒子の表面上に定着する。
パラジウム層付基体粒子の周囲に白金の被覆層を形成する方法としては、 パラ ジゥム層付基体粒子に、 白金化合物と還元剤とを接触させることにより基体粒子 表面に白金を析出 (点着) させる方法を利用することができる。 具体的には、 ノ ラジゥム層付基体粒子の分散液に、 白金化合物水溶液と還元剤とを同時に添加す ることにより、 基体粒子の周囲に白金被覆層を形成する方法 (同時添加被覆法) 、 もしくは還元剤溶液を含むバラジウム層付基体粒子の分散液に白金化合物水溶液 を添加することにより、 基体粒子の周囲に白金被覆層を形成する方法を利用する ことが好ましく、 特に前者の同時添加被覆法を利用することが好ましい。
白金化合物には、 水溶性の二 または四価の白金塩または白金錯塩を用いるこ とができる。 白金化合物の具体的な例としては、 ジニトロジァミン白金、 へキサ ヒドロキソ白金、 へキサクロ口白金酸塩、 テトラクロ口白金酸塩、 テトラブロモ 白金酸塩、 テトラアンミン白金酸塩、 へキサアンミン白金水酸塩、 ビスォキサラ ト白金酸塩などが挙げられる。 これらの白金ィ匕合物は単独で用いてもよいし、 二 種以上を組合せて用いてもよい。 上記の白金化合物の中でも二価の白金化合物が 好ましく、 特に好ましいのは、 へキサクロ口白金酸塩およびテトラクロ口白金酸 還元剤には、 パラジウム層を形成する際に用いた還元剤と同じ物を用いること ができ、 好ましくはヒドラジンである。 但し、 白金被覆層の形成に用いる還元剤 とパラジウム層形成用の還元剤とは、 必ずしも同一である必要はない。
パラジウム層付基体粒子分散液には、 基体粒子の凝集を防ぐために、 水溶性分 散剤 (あるいは、 保護コロイド) を添加しておくことが望ましい。水溶性分散剤 には、 水溶性天然物ポリマー、 水溶性半合成ポリマー、 及び水溶性合成ポリマー のいずれも用いることができる。 水溶性天然物ポリマーの例としては、 ゼラチン が挙げられる。 水溶性半合成ポリマーの例としては、 メチルセルロース、 カルボ キシメチルセルロース、 ヒドロキシェチルセルロースなどの水溶性セルロース類、 アラビアゴム、 及びサッカロ一スが挙げられる。 水溶性合成ポリマ一の例として は、 ポリビニルアルコール、 ポリ酢酸ビニル、 ポリエチレングリコール、 不飽和 カルボン酸ポリマー (例:ポリアクリル酸、 ポリメタクリル酸、 ポリマレイン酸) 、 その塩 (例:ポリアクリル酸アンモニゥム) 、 そのエステル (例:ポリアクリ ル酸エステル) 、 イソプチレン—無水マレイン酸共重合体、 エチレンォキサイ ド で変性したフエノールおよびエチレンォキサイ ドまたはプロピレンォキサイドボ リマ一などが挙げられる。 これらの水溶性分散剤は単独で使用しても、 あるいは 二種以上を組合せて使用してもよい。 これらの水溶性分散剤のうち水溶性天然物 ポリマ一、 水溶性半合成ポリマ一では水溶性セルロース類、 水溶性合成ポリマー ではポリビニルアルコールが好ましい。
パラジウム層付基体粒子分散液の基体粒子濃度は、 0 . 0 5〜1 0 gZLの範 囲にあることが好ましく、 0 . 1 ~ 5 gZLの範囲にあることがより好ましい。 白金被覆層形成の際には、 パラジゥム層付基体粒子分散液の p Hは 5以下にあ ることが好ましく、 3以下にあることがより好ましい。 p Hが 5よりも高くなる と、 白金化合物が不安定になり均一な白金被覆層の形成が困難となる。 したがつ て、 パラジゥム層付基体粒子分散液への白金化合物水溶液と還元剤の添加と共に、 必要に応じて p H調整剤を添加することが好ましい。 p H調整剤としては、 塩酸、 硫酸、 四ホウ酸塩、 フタル酸塩、 酢酸塩、 クェン酸塩等を用いることができる。 分散液の液温は白金化合物が溶解し得る範囲にあればよく、 通常は 0 ~ 1 0 0 ° 好ましくは 2 0〜8 0 °C;、 特に好ましくは 5 0〜7 0 °Cである。
同時添加被覆法を利用して白金被覆層を形成する場合、 白金化合物水溶液と還 元剤の供給速度は、 それそれ基体粒子 1 gに対して、 白金化合物水溶液が金属白 金分として 0 . l〜5 0 gZ分の範囲、 還元剤が 0 . l〜1 0 mLZ分の範囲と することが好ましい。 白金化合物水溶液と還元剤の供給速度がそれぞれ上記の範 囲を超えて速くなると、 基体粒子の周囲に白金が析出しないで、 純白金粒子が生 成し易くなる。 一方、 白金化合物水溶液と還元剤の供給速度がそれそれ上記の範 囲を超えて遅くなると、 生成した白金が析出した基体粒子が分散液中に沈降して 凝集し易くなる。 また還元反応により白金被覆層を形成する際の反応系の温度は、 通常は 0〜9 0 °Cであり、 好ましくは 1 0〜8 0 °C、 特に好ましいのは 3 0〜7 ' 0 °Cである。 このようにある程度加熱状態で反応させ反応速度を高めることによ つて、 均一な白金被覆層は基体粒子表面に形成され、 白金被覆粒子どうしの凝集 を防ぐことができ、 結果として分散性のよい導電ペーストが形成でき、 電極を形 成した際、 導電性が向上する。
また、 本発明の方法においては、 白金被覆層を形成する際、 白金化合物水溶液 と還元剤の供給速度および濃度、 また反応系の温度を制御することによって、 基 体表面白金被覆層を形成すると同時に、 基体表面'に被覆しない単独の純白金粒子 を形成することもできる。 この際、 形成された白金被覆粒子と純白金粒子のそれ それの形成量と粒径とを制御することが望ましく、 例えば、 白金被覆粒子と純白 金粒子の粒径が異なるように形成する。 このように白金被覆殺子と純白金粒子を 同時に形成し、 これを導電ペーストにすることによって、 電極を形成したときの 導電性を向上させることができる。
白金被覆層形成の際には、 基体粒子が凝集していると、 均一な白金被覆層を形 成することが困難となるため、 撹拌や超音波振動などにより基体粒子の分散状態 を高めることが好ましい。
上記のように形成した白金被覆粉末は純水等で洗浄して未反応の白金化合物や 還元剤を除去し、 必要に応じて乾燥する。 また、 本発明において上記のように形 成した白金被覆粉末を加熱処理することも好ましい。 加熱処理の条件は、 白金被 覆粒子どうしの焼結が開始する温度より低い温度であり、 通常 1 0 0〜6 0 0 °C、 好ましくは 3 0 0〜5 0 0 °Cであり、 時間は 1〜1 0 0時間、 好ましくは 5〜5 0時間である。 このように加熱処理を施すことにより、 白金被覆層の密度が高ま り、 結果として電極を形成した際の導電性が向上する。
また、 上記のように形成した白金被覆粉末を乾燥せずに、 水性分散体の状態か ら、.分散媒を除去して導電ペーストを形成する際の溶媒に置換してもよい。 具体 的には、 水性分散体に夕一ビネオールのような導電ペースト用有機溶媒を添加し、 その後水を除去する。 この際いずれかの段階で界面活性剤を添加すると、 水溶媒 と有機溶媒が容易に置換され好ましい。 界面活性剤としては、 陰イオン性界面活 性剤、 陽イオン性界面活性剤、 非イオン性界面活性剤などが用いられる。 これら の中でも親油性のものが好ましく、 H L B (親水親油バランス) 価が通常 3〜 2 0である非イオン性界面活性剤が好ましく用いられ、 好ましくは H L B価が 1 0 〜2 0の親水性の非イオン性界面活性剤が用いられる。 具体的には、 ノニルフヱ ノールエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフエ二ルェ一テル及びそのリン 酸塩、 リン酸エステル又はこれら,の混合物、 ポリオキシエチレンソルビ夕ンモノ ステアレート等のポリオキシエチレンソルビ夕ン脂肪酸エステル、 ポリグリセリ ンモノステアレ一ト等のポリグリセリン脂肪酸エステル、 ソルビ夕ンモノステア レート等のソルビ夕ン脂肪酸エステルから選ばれる一種または二種以上が特に好 ましく用いられる。 特に好ましい界面活性剤は、 ポリオキシエチレンアルキルフ ェニルェ一テル及びそのリン酸塩又はこれらの混合物である。 このように導電ぺ —ストを形成する前に白金被覆粉末を界面活性剤で処理することにより、 導電ぺ —ストを形成した際の分散性が向上し、 結果として電極の導電性が向上する。 本発明の白金被覆粉末は、 有機溶媒およびバインダまたは必要に応じて分散剤 と混鰊しペースト状に調製して、 白金電極形成用の導電性ペーストとして有利に 使用することができる,。 導電性ペースト調製用の有機溶媒 (有機ビヒクル) とし ては、 従来の導電ペーストに用いられているものを用いることができ、 例えば、 ェチルセルロース、 エチレングリコ一ル、 トルエン、 キシレン、 ミネラルオイル、 ブチルカルビトール、 夕一ピネオ一ル、 ェチルカルビトールアセテート等の高沸 点有機溶媒が用いられる。 また、 バインダとしては有機また無機パインダが用い られ、 好ましくはェチルセルロース、 エポキシ樹脂などの有機バインダーである。 これらのバインダ一は使用する前に固形物をろ過などにより除去しておくことが 好ましい。 分散剤としては、 上述した界面活性剤や、 ポリオキシエチレンアルキ ルェ一テルリン酸塩などのリン酸エステル系、 脂肪族ァミン塩などのアミン系ぁ るいはポリアミン系の分散剤が用いられる。
導電性ペーストには、 必要に応じて鉛系ガラス、 亜鉛系ガラスあるいはケィ酸 系ガラスなどのガラスフリットや、 酸化マンガン、 酸化マグネシウム、 酸ィ匕ビス マスなどの金属酸化物フイラ一などを添加してもよい。 これらの添加物を混合す ることによってセラミヅクスなどの耐熱性基材に塗布、 焼結して電極を形成した 際、 基材との密着性に優れ伝導性の高い電極を形成することができ、 また半田と の濡れ性が向上する。 その他、 フ夕ル酸エステルゃステアリン酸などの可塑剤や、 分散剤などを導電性ペーストに添加することができる。
導電性ペーストを未焼成基板 (グリーンシート) に塗布して、 導電性ペースト の焼成 (白金電極層の形成) と基板の焼成とを同時に行なって、 白金電極を製造 する場合には、 焼成時の基板と電極の収縮度合いを調整し、 デラミネ一シヨンや クラックの発生を防ぐため、 導電性ペーストに、 基板の材料と同じ材料からなる 粉末を添加することが好ましく、 基板がアルミナのようなセラミヅクスの場合は、 導電ペーストにセラミックス粉末を添カ卩し白金被覆粉末と良く分散させる。 この 粉末の添加量は、 白金被覆^末 1質量部に対して、 通常は 0 . 0 1〜1 0質量部 の範囲、 好ましくは 0 . 1 ~ 1質量部の範囲にある。 , 電極の導電性をさらに向上させるために、 白金粉末 (純白金粒子の粉末) を導 電性ぺ一ストに混合してもよい。 白金粉末の添加量は、 白金被覆粉末 1質量部に 対して、 通常は 0 . 1〜1 0 0質量部の範囲、 好ましくは 1〜 5 0質量部の範囲 である。
上記のように白金被覆粉末また必要に応じてアルミナなどの粉末また白金粉末 を混合し導電性ペーストを形成するが、 この際、 均一な粒径の粒子を混合するよ り、 ある程度広い粒度分布になるように、 平均粒径の異なる粉末を混合すること が好ましい。 例えば、 平均粒径の異なる二種以上の白金被覆粉末を形成し、 これ らを適量混合したり、 あるいは平均粒径の異なる白金被覆粉末、 アルミナ粉末お よび白金粉末を混合し導電性ペーストを形成する。 具体的には l〜2〃mの白金 被覆粉末と 0 . 1〜0 . 5〃mのアルミナのごときセラミックス粉末および 0 . 3〜1 . 5〃mの白金粉末を混合し、 導電ペーストを形成させる。 このように導 電性ペースト中に含まれる全体の粉末の粒度分布を広げるように配合することに より、 導電性べ一ストの分散性が向上し、 結果として電極を形成した際に充填密 度が高くなり、 導電性が向上する。 W
[実施例 1]
[白金被覆アルミナ粉末の製造]
(1) アルミナ粉末の活性化処理
レーザ回折法による平均粒径が 0. 5 mの球状アルミナ粉末 100 gと 6N の水酸化カリゥム溶液 18 OmLとを、 還流器付きの 1 Lフラスコに投入した。 次いで、 水酸化カリウム水溶液の液温を.50°Cに 1時間加熱した後、 冷却した。 冷却後、 水酸化カリウム水溶液からアルミナ粉末を取り出して、 純水で十分に洗 浄して乾燥した。
(2)パラジウム層付アルミナ^末の製造
上記 (1) の活性化処理が施されたアルミナ粉末 1 Ogを、 超音波振動装置の 振動浴に設置した撹拌機付きの 5 Lフラスコに投入した。 次いで、 このアルミナ '粉末に純水 1 Lを加えて、 超音波振動を与えながら攪拌して、 アルミナ粉末を分 散させた。 この分散液に、 パラジウム分として 5 gZLの濃度の塩化パラジウム 水溶液 4mLを添加し、 さらに超音波振動を与えながら撹拌した。 その後、 分散 液を静置し、 上澄みをデカンテーシヨンにより除去した後、 純水を加え分散液の アルミナ濃度を 10 g/3 Lに調製し、 再び撹拌を開始して、 アルミナ粉末を分 散させた。 そして、 この分散液に 10 OmLZLの濃度のヒドラジン水溶液を 2 mL添加し、 その後 30分間、 室温下に 撹拌を続けて、 アルミナ粒子 φ表面に パラジウムを析出させた。 なお、 ヒドラジン水溶液添加時の分散液の ρΗは 7で あった。 最後に、 粉末を純水で洗浄し、 乾燥して、 パラジウム層付アルミナ粉末 を得た。
(3) 白金被覆アルミナ粉末の製造
上記 (2) で得たパラジウム層付アルミナ粉末 1 gを、 撹拌機付きの 5Lフラ スコに投入した。 次いで、 純水 2. 5 Lを投入し、 撹拌してパラジウム層付アル ミナ粉末を分散させ、 これに 10 g/Lの濃度のカルボキシメチルセルロ^ ~ス水 溶液を 25 OmL添加した後、 室温で 30分間撹拌した。 その後、 この分散液に、 金属白金分として 100 g/Lの濃度のテトラクロ口白金酸水溶液 25 OmLと 4 OmL/Lの濃度のヒドラ'ジン水溶液 25 OmLとを同時に、 それぞれ 7. 5 mL/分の速度で添加し、 さらに 1時間室温下にて撹拌を続け、 パラジウム層付 アルミナ粒子の周囲に白金を析出させた。 なお、 テトラクロ口白金酸水溶液とヒ ドラジン水溶液の添加時の分散液の pHは 1であった。 最後に、 粉末を純水で洗 浄し、 乾燥して約 10 gの白金被覆アルミナ粉末を得た。
得られた白金被覆アルミナ粉末の化学組成を分析したところ、 アルミナ 1質量 部に対するパラジウム量は 0. 001質量部、 白金量は 9質量部であった。 また、 得られた白金被覆アルミナ粉末を電子顕微鏡にて観察したところ、 各粒子の表面 全体に、 均一な白金の被覆層が形成されていることが確認された。 また、 その電 子顕微鏡の画像から測定した白金被覆アルミナ粉末の平均粒径は、 0. 6 zmで あった。
[電極材料としての評価]
. (1)導電性べ一ストの調製
' 上記の白金被覆アルミナ粉末 9 g、 平均粒径が 0. 5〃mの球状アルミナ粉末 0. 1 g、 夕一ビネオール 0. 42mL、 そしてェチルセルロース 0. 083 g
、 を混合した後、 三本ロール型混練装置を用いて混鰊して、 導電性ペーストを調製 し こ。
( 2 ) 電極の形成
上記の導電性べ一ストをアルミナ製基板に線状に塗布し、 150°Cで乾燥させ た。 その後、 1450°Cで 2時間焼成し、 線状白金電極を形成した。 この線状白 金電極の長さ、 断面積、 及びシート抵抗値を測定し、 下記式 (1) より比抵抗値 を算出したところ、 7 · cmであった。 なお、 線状白金電極の断面積は、 超深度形状測定顕微鏡 ( (株) キーエンス製、 VK— 8550) を用いて測定し、 シート抵抗値は、 (株) 東陽テク二力製マルチメ一夕を用いて測定した。
式 (1)
比抵抗値 (〃 Ω · c m) =
シート抵抗値 ( /Ω) X断面積 (cm2) Z長さ (cm)
[比較例 1 ]
[白金被覆アルミナ粉末の製造]
( 1 ) アルミナ粉末の活性化処理
実施例 1の (1) と同じ操作を行なって、 アルミナ粉末の活性化処理を実施し た。
(2) 白金層付アルミナ粉末の製造
アルミナ粉末の分 夜に、 塩ィ匕パラジウム水溶液を添加する代わりに、 白金分 として 5g/Lの濃度の塩化白金水溶液 4 m Lを添加する以外は、 実施例 1の
(2) と同じ操作を行なって、 アルミナ粒子の表面に白金を析出させた。
(3) 白金被覆アルミナ粉末の製造
上記 (2) で得た白金層付アルミナ粉末に、 実施例 1の (3) と同じ操作を行 なって、 白金層付アルミナ粒子の周囲に白金を析出させて、 白金被覆アルミナ粉 末を得た。
得られた白金被覆アルミナ粉末の化学組成を分析したところ、 アルミナ 1質量 部に対する白金量は 0. 2質量部であった。 また、 得られた白金被覆アルミナ粉 末を電子顕微鏡にて観察したところ、 不均一な白金層が形成された粒子が多数存 在していることが確認された。
[電極材料としての評価]
上記の白金被覆アルミナ粉末を用い、 実施例 1に記載の方法に従い、 導電性べ 一ストを調製し、 次いで、 この導電性ペーストから電極を形成した。 この電極の 比抵抗値を算出したところ、 348〃Ω · cmであり、 実施例 1で作られた電極 に比べて高かった。
[実施例 2]
[白金被覆アルミナ粉末の製造]
(1) アルミナ粉末の活性化処理
平均粒径が 1. 2 mの球状アルミナ粉末を用いた以外は実施例 1の (1) と 同じ操作を行つて、 アルミナ粉末の活性化処理を実施した。
(2) パラジウム層付アルミナ粉末の製造
実施例 1の (1) と同じ操作を行って、 パラジウム層付アルミナ粉末を製造し た。
(3) 白金被覆アルミナ粉末の製造
上記 (2) で得たパラジウム層付アルミナ粉末 1. 5 gを、 撹拌機付きの 5L フラスコに投入した。 次いで、 純水 2. 5 Lを投入し、 撹拌してパラジウム層付 200
アルミナ粉末を分散させ、 これに 10 g/Lの濃度のカルボキシメチルセルロー ス水溶液を 25 OmL添加した後、 60°Cで 30分間撹拌した。 その後、 この分 散液、 に白金分として 36 g/Lの濃度のへキサクロ口白金酸水溶液 25 OmL と 4 OmL/Lの濃度のヒドラジン水溶液 25 OmLとを同時に、 それぞれ 2. 5 mLZ分の速度で添加し、 さらに 60°Cで 1時間撹拌を続け、 パラジウム層付 アルミナ粒子の周囲に白金を析出させた。 なお、 テトラクロ口白金酸水溶液とヒ ドラジン水溶液の添加後の分散液の p Hは 1であった。 最後に、 粉末を純水で洗 浄し、 乾燥し、 その後 400°Cで 3時間加熱処理を施し約 10 gの白金被覆アル ミナ粉末を得た。
得られた白金被覆アルミナ粉末の化学組成を分析したところ、 アルミナ 1質量 部に対するパラジウム量は 0. 001質量部、 白金量は 5. 7質量部 あった。 また、 得られた白金被覆アルミナ粉末を電子顕微鏡にて観察した ころ、 各粒子 の表面全体に、 均一な白金の被覆層が形成されていることが確認された。 さらに、 その電子顕微鏡の画像から測定した白金被覆アルミナ粉末の平均粒径は、 1. 5 zmであった。
[電極材料としての評価]
(1) 導電性ペース卜の調製
上記の白金被覆アルミナ粉末 9 g、 平均粒径が 0. 14〃mの球状アルミナ粉 末 0. 90g、 平均粒径が 1. 2 /mおよび 0. 6〃mの白金粉末をそれそれ 3. 70 g、 夕一ビネオール 0. 42mL、 そしてェチルセルロース 0. 083 gを 混合した後、 三本ロール型混練装置を用いて混鍊して、 導電性べ一ストを調製し た。 この導電性ペースト中の白金分は 87重量%、 アルミナは 13重量%である。
(2) 電極の形成
実施例 1と同様に電極を形成し、 比抵抗値を算出したところ、 43 Q ' cm であった。
[比較例 2 ]
[白金粉末及びアルミナからなる導電ペーストの評価]
(1) 導電性ペース卜の調製
平均粒径が 0. 14〃mの球状アルミナ粉末 2. 25 g、 平均粒径が 0. 8〃 mの白金粉末を 1 3. 37 ぉょび0. 4〃mのの白金粉末を 1. 67 g、 夕一 ビネオール 0. 42mL、 そしてェチルセル口一ス 0. 083 gを混合した後、 三本ロール型混練装置を用いて混鍊して、 導電性ペーストを調製した。 この導電 性ぺ一スト中の白金分は実施例 2で調製した導電性ペーストと同じ 87重量%、 アルミナは 1 3重量%である。
( 2 ) 電極の形成
実施例 1と同様に電極を形成し、 比抵抗値を算出したところ、 52 j Q · cm であった。
[産業上の利用可能性]
本発明の白金被覆粉末は、 セラミヅクスなどの材料の基体粒子を核粒子としな がらも、 抵抗値の低い白金電極を形成するのに有利に用いることができる。 また、 本発明の白金被覆粉末の製造方法を利用することによって、 セラミックスなどの 材料の基体粒子の周囲を白金にて均一に被覆することができる。

Claims

請 求 の 範 囲
1. 基体粒子の表面全体にパラジウム層が形成されてなるパラジウム層付基体 粒子の周囲を、 白金により被覆した白金被覆粒子からなる白金被覆粉末。
2. 基体粒子の平均粒径が 0. 1〜10 zmの範囲にあることを特徴とする請 求の範囲 1に記載の白金被覆粉末。
3. 前記基体粒子が無機粉末であることを特徴とする請求の範囲 1に記載の白 金被覆粉末。
4. 前記無機粉末がセラミヅクス粉末であることを特徴とする請求の範囲 3に 記載の白金被覆粉末。
5. 前記セラミックス粉末がアルミナ粉末であることを特徴とする請求の範囲 4に記載の白金被覆粉末。
6. 前記パラジウムの量が、 基体粒子 1質量部に対して 0. 0001〜1質量 部の範囲にあることを特徴とする請求の範囲 1に記載の白金被覆粉末。
7. 前記白金の量が、 基体粒子 1質量部に対して 0. 1~100質量部の範囲 にあることを特徴とする請求の範囲 1に記載の白金被覆粉末。
8. 基体粒子の表面全体にパラジウム層が形成されてなるパラジウム層付棊体 粒子の分散液に、 白金化合物水溶液と還元剤とを同時に添加して、 該基体粒子の 周囲に白金を析出させることを特徴とする白金被覆粉末の製造方法。
9 . 前記パラジウム層付基体粒子が、 表面に活性化処理が施された基体粒子の 表面に、 パラジウム層を形成したものであることを特徴とする請求の範囲 8に記 載の白金被覆粉末の製造方法。
1 0 . 前記基体粒子が無機粉末であることを特徴とする請求の範囲 8に記載の 白金被覆粉末の製造方法。
1 1 . 前記無機粉末がセラミックス粉末であることを特徴とする請求の範囲 1 0に記載の白金被覆粉末の製造方法。
1 2 . 前記セラミヅクス粉末がアルミナ粉末であることを特徴とする請求の範 囲 1 1に記載の白金被覆粉末の製造方法。
1 3 . 前記白金被覆粉末を加熱処理することを特徴とする請求の範囲 8に記載 の白金被覆粉末の製造方法。
1 4 . 請求の範囲 1に記載の白金被覆粉末を含む導電性ペースト。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007165063A (ja) * 2005-12-13 2007-06-28 Samsung Sdi Co Ltd 導電性粒子、導電性ペースト及び電子部品
JP2008184679A (ja) * 2007-01-31 2008-08-14 Okuno Chem Ind Co Ltd 無電解パラジウムめっき用活性化組成物
WO2012008373A1 (ja) * 2010-07-12 2012-01-19 田中貴金属工業株式会社 電極形成用の導電微粒子及び金属ペースト並びに電極
JP2012117111A (ja) * 2010-12-01 2012-06-21 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 無電解白金めっき液、及び白金めっき製品の製造方法
RU2792330C1 (ru) * 2022-12-07 2023-03-21 Общество с ограниченной ответственностью "С-Компонент" Платиновая резистивная паста

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000322936A (ja) * 1999-05-12 2000-11-24 Sekisui Chem Co Ltd 導電性微粒子及び導電接続構造体
JP2001247974A (ja) * 2000-03-08 2001-09-14 Sekisui Chem Co Ltd 導電性微粒子の製造方法及び導電性微粒子
JP2002334611A (ja) * 2001-05-07 2002-11-22 Kawakado Kimiko 導電性粒子組成物

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000322936A (ja) * 1999-05-12 2000-11-24 Sekisui Chem Co Ltd 導電性微粒子及び導電接続構造体
JP2001247974A (ja) * 2000-03-08 2001-09-14 Sekisui Chem Co Ltd 導電性微粒子の製造方法及び導電性微粒子
JP2002334611A (ja) * 2001-05-07 2002-11-22 Kawakado Kimiko 導電性粒子組成物

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007165063A (ja) * 2005-12-13 2007-06-28 Samsung Sdi Co Ltd 導電性粒子、導電性ペースト及び電子部品
JP2008184679A (ja) * 2007-01-31 2008-08-14 Okuno Chem Ind Co Ltd 無電解パラジウムめっき用活性化組成物
WO2012008373A1 (ja) * 2010-07-12 2012-01-19 田中貴金属工業株式会社 電極形成用の導電微粒子及び金属ペースト並びに電極
CN102714072A (zh) * 2010-07-12 2012-10-03 田中贵金属工业株式会社 电极形成用的导电粒子及金属糊料以及电极
KR101313982B1 (ko) 2010-07-12 2013-10-01 다나카 기킨조쿠 고교 가부시키가이샤 전극 형성용의 도전 미립자, 금속 페이스트 및 전극
US8771553B2 (en) 2010-07-12 2014-07-08 Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. Conductive fine particle and metal paste for electrode formation, and electrode
CN102714072B (zh) * 2010-07-12 2015-08-12 田中贵金属工业株式会社 电极形成用的导电粒子及金属糊料以及电极
US9556343B2 (en) 2010-07-12 2017-01-31 Tanaka Kikinzoku Kogyo K. K. Conductive fine particle and metal paste for electrode formation and electrode
JP2012117111A (ja) * 2010-12-01 2012-06-21 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 無電解白金めっき液、及び白金めっき製品の製造方法
RU2792330C1 (ru) * 2022-12-07 2023-03-21 Общество с ограниченной ответственностью "С-Компонент" Платиновая резистивная паста

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