WO2011148827A1 - 洗浄方法 - Google Patents

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WO2011148827A1
WO2011148827A1 PCT/JP2011/061312 JP2011061312W WO2011148827A1 WO 2011148827 A1 WO2011148827 A1 WO 2011148827A1 JP 2011061312 W JP2011061312 W JP 2011061312W WO 2011148827 A1 WO2011148827 A1 WO 2011148827A1
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WO
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cleaning liquid
workpiece
nozzle
cleaning
work
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PCT/JP2011/061312
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English (en)
French (fr)
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朋宏 渡辺
路哉 砂塚
勉 柳川
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昭和電工株式会社
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays
    • B08B3/022Cleaning travelling work
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G21/00Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge
    • G03G21/0005Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge for removing solid developer or debris from the electrographic recording medium
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G21/00Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge
    • G03G21/0005Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge for removing solid developer or debris from the electrographic recording medium
    • G03G21/0052Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge for removing solid developer or debris from the electrographic recording medium using an air flow; Details thereof, e.g. nozzle structure

Definitions

  • the present invention relates to a cleaning method and a cleaning apparatus for cleaning a workpiece such as a photosensitive drum substrate.
  • a cylindrical substrate used for a photosensitive drum of an electrophotographic apparatus such as a copying machine, a printer, or a facsimile machine that is, a photosensitive drum substrate is made of metal such as aluminum or an alloy thereof, and an organic photoreceptor layer is formed on an outer peripheral surface thereof.
  • the A chamfering process is performed on the peripheral edge portion of each end face in the axial direction of the base body by cutting.
  • the entire surface of the substrate is washed before the formation of the organic photoreceptor layer so that a good organic photoreceptor layer can be formed.
  • deposits such as chips and oil attached to the substrate are removed.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-106380
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 2003-262964
  • the workpiece when the lower surface of a workpiece such as a photosensitive drum base is cleaned by a spray cleaning method, the workpiece is supported by a workpiece support member, and the cleaning liquid is directed upward from a spray nozzle disposed on the lower side of the workpiece. To spray. Thereby, the lower surface of the workpiece is cleaned with the lower cleaning liquid.
  • the present invention has been made in view of the above-described technical background, and an object of the present invention is to a cleaning method and a cleaning method capable of preventing the workpiece from being lifted when the lower surface of the workpiece such as a photosensitive drum substrate is spray cleaned. It is to provide a cleaning device to be used. Other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following preferred embodiments.
  • the present invention provides the following means.
  • the upper cleaning liquid and the lower cleaning liquid are applied from the upper nozzle and the lower nozzle, respectively, and when the lower cleaning liquid hits the lower surface of the work, the upper cleaning liquid always hits at least a part of the region formed by the upper surface and the outer peripheral surface of the work.
  • the cleaning method is characterized by spraying.
  • the workpiece is cylindrical and arranged with its axis vertical. 4. The cleaning method according to any one of items 1 to 3, wherein in the cleaning step, the upper surface, outer peripheral surface, and inner peripheral surface of the workpiece are cleaned with the upper cleaning liquid, and the lower surface and inner peripheral surface of the workpiece are cleaned with the lower cleaning liquid. .
  • the upper nozzle and the lower nozzle are each composed of a flat spray nozzle, 5.
  • the upper cleaning liquid and the lower cleaning liquid are respectively supplied from the upper nozzle and the lower nozzle so that the jet spreading direction of the upper cleaning liquid and the jet spreading direction of the lower cleaning liquid are parallel to each other. 6.
  • a plurality of workpieces are arranged side by side in a direction orthogonal to the relative movement direction of the workpiece, 7.
  • the cleaning step in a plan view, the upper cleaning liquid and the lower cleaning liquid are respectively discharged from the upper nozzle and the lower nozzle, and both the jet spreading directions of the upper cleaning liquid and the lower cleaning liquid are relative to the relative movement direction of the workpiece.
  • the workpieces are arranged in a plurality of rows and a plurality of columns in the relative movement direction of the workpiece and the orthogonal direction thereof,
  • the upper cleaning liquid is sprayed so that the upper cleaning liquid hits at least one work in one work row and at least one work in the other work row among the two work rows adjacent to each other. 10.
  • the cleaning method according to any one of 5 to 9 above.
  • An upper spray nozzle that is disposed on the upper side of the work and sprays the upper cleaning liquid downward, A lower spray nozzle disposed below the workpiece and spraying a lower cleaning liquid upward;
  • Drive means for moving the workpiece in the horizontal direction relative to the upper and lower nozzles, and In a state where the upper cleaning liquid and the lower cleaning liquid are respectively ejected from the upper nozzle and the lower nozzle, the work is relatively moved by the driving means, so that at least the upper surface and the outer peripheral surface of the work are covered with the upper cleaning liquid.
  • a cleaning apparatus configured to clean the bottom surface of the workpiece with the lower cleaning liquid while cleaning,
  • the upper cleaning liquid and the lower cleaning liquid are sprayed from the upper nozzle and the lower nozzle, respectively, so that when the lower cleaning liquid hits the lower surface of the work, the upper cleaning liquid always hits at least a part of the area composed of the upper surface and the outer peripheral surface of the work.
  • the workpiece is cylindrical and arranged with its axis vertical.
  • the cleaning apparatus according to any one of Items 14 to 16, wherein an upper surface, an outer peripheral surface, and an inner peripheral surface of a work are cleaned with the upper cleaning liquid, and a lower surface and an inner peripheral surface of the work are cleaned with the lower cleaning liquid.
  • the upper nozzle and the lower nozzle are each composed of a flat spray nozzle, Item 18.
  • the upper cleaning liquid and the lower cleaning liquid are sprayed from the upper nozzle and the lower nozzle, respectively, so that the jet spreading direction of the upper cleaning liquid and the jet spreading direction of the lower cleaning liquid are parallel to each other. 19.
  • a plurality of workpieces are arranged side by side in a direction orthogonal to the relative movement direction of the workpiece, 20.
  • the upper cleaning liquid and the lower cleaning liquid are respectively inclined from the relative movement direction of the workpiece with the upper cleaning liquid and the lower cleaning liquid from the upper nozzle and the lower nozzle, respectively. 22.
  • the cleaning device according to any one of items 18 to 21 above, wherein
  • the workpieces are arranged in a plurality of rows and a plurality of columns in the relative movement direction of the workpiece and the orthogonal direction thereof,
  • the cleaning apparatus according to any one of the above.
  • the present invention has the following effects.
  • the upper cleaning liquid and the lower cleaning liquid are applied from the upper nozzle and the lower nozzle, respectively.
  • work can be wash
  • work can be prevented.
  • the upper cleaning liquid and the lower cleaning liquid are sprayed from the upper nozzle and the lower nozzle, respectively, so that the upper cleaning liquid and the lower cleaning liquid do not interfere with each other.
  • Each can be improved.
  • the work flow can be reliably prevented from being lifted because the upper cleaning liquid injection flow rate from the upper nozzle is larger than the lower cleaning liquid injection flow rate from the lower nozzle.
  • the entire surface of the workpiece that is, the upper surface, outer peripheral surface, lower surface and inner peripheral surface of the workpiece can be cleaned even if the workpiece has a small diameter cylindrical shape.
  • the upper nozzle and the lower nozzle are each composed of a flat spray nozzle, and the upper cleaning liquid and the lower cleaning liquid are sprayed from the upper nozzle and the lower nozzle, respectively, into a fan-shaped film, thereby The cleaning power of the cleaning liquid and the lower cleaning liquid can be further improved.
  • the upper cleaning liquid and the lower cleaning liquid are sprayed from the upper nozzle and the lower nozzle, respectively, such that the jet spreading direction of the upper cleaning liquid and the jet spreading direction of the lower cleaning liquid are parallel to each other.
  • the upper cleaning liquid and the lower cleaning liquid can be reliably prevented from interfering with each other, and the upper cleaning liquid and the lower cleaning liquid can be jetted in close proximity to each other, whereby the workpiece can be effectively cleaned,
  • the size of the cleaning device can be reduced.
  • a plurality of workpieces can be cleaned at once.
  • the upper surface and the outer peripheral surface of the workpiece can be reliably cleaned with the upper cleaning liquid, and the lower surface and the inner peripheral surface of the cylindrical workpiece are moved down even if the workpiece is cylindrical. It can be reliably cleaned with a cleaning solution.
  • the cleaning method of [9] above when a plurality of workpieces are arranged in a direction orthogonal to the relative movement direction of the workpiece, the upper cleaning liquid in which two adjacent workpieces are ejected from one upper nozzle. It becomes possible to wash with. Thereby, a workpiece
  • the spraying state of the upper cleaning solution and the lower cleaning solution in the previous item [1] can be reliably realized.
  • the lower surface of the workpiece can be reliably cleaned.
  • the photosensitive drum substrate as a workpiece can be cleaned.
  • the cleaning apparatus of the above item [14] can be suitably used for the cleaning method of the above item [1].
  • FIG. 1 is a plan view illustrating a cleaning method according to an embodiment of the present invention in a state where a workpiece is being cleaned.
  • FIG. 2 is a front view seen from the front side in the moving direction of the workpiece.
  • FIG. 3 is a perspective view of the workpiece support member.
  • FIG. 4 is a half sectional side view of the workpiece.
  • FIG. 1 is a cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, and 10 is a workpiece.
  • the workpiece 10 has a cylindrical shape, and more specifically, a cylindrical shape.
  • the workpiece 10 is a photosensitive drum base made of aluminum or an alloy thereof, and the cross-sectional shape thereof is an annular shape.
  • the workpiece 10 is arranged with its axis Q vertical.
  • the photosensitive drum substrate as the work 10 is cleaned by using the cleaning device 1 of the present embodiment so that a good organic photoreceptor layer can be formed on the outer peripheral surface 10b, and then the outer peripheral surface 10b.
  • a photosensitive drum is manufactured.
  • a chamfering process is performed on the peripheral edge portion of each end face in the axial direction of the base body by cutting. Therefore, chips (not shown) generated by chamfering are attached to each end face of the base. Further, the chips may adhere to the outer peripheral surface and inner peripheral surface of the base body, and processing oil or the like adheres to each end face, outer peripheral surface 10b, and inner peripheral surface 10d of the base body. .
  • the substrate is cleaned by a cleaning method using the cleaning apparatus 1 of the present embodiment.
  • the outer diameter (diameter) U of the workpiece 10 is, for example, 10 to 50 mm, and the wall thickness t is, for example, 0.5 to 2.0 mm.
  • the cleaning apparatus 1 performs spray cleaning on a plurality of workpieces 10 at once, and includes a workpiece support member 7 that supports a plurality of workpieces 10 at once, a plurality of upper spray nozzles 2, and a plurality of workpieces 10.
  • a plurality of lower spray nozzles 4 and driving means 8 are provided.
  • the work support member 7 includes a bar-shaped work mounting portion 7 a arranged horizontally and a plurality of bar-shaped work holding portions 7 b provided on the work mounting portion 7 a in a rising shape. And have.
  • the cross-sectional shape of the workpiece mounting portion 7a is circular.
  • the workpiece 10 is placed on the workpiece placement portion 7a with its axis Q vertical.
  • the work holding part 7b is inserted into the hollow part 10g of the work 10 arranged with the axis Q vertical, from the lower end opening 10f of the work 10 so as to hold the posture of the work 10 so that the work 10 does not fall down. It is.
  • the workpiece 10 is placed on the workpiece placement portion 7a in a state where the workpiece holding portion 7b is inserted into the hollow portion 10g from the lower end opening 10f of the workpiece 10, whereby the workpiece 10 has its axis Q vertical.
  • the workpiece support member 7 supports the workpiece.
  • the lower surface 10c of the workpiece 10 comes into linear contact with the workpiece placement portion 7a, and the lower end opening 10f of the workpiece 10 is completely closed by the workpiece placement portion 7a. It is not open, that is, it opens downward. Further, the upper end opening 10e of the workpiece 10 is opened upward.
  • the diameter of the workpiece mounting portion 7a is set smaller than the inner diameter of the workpiece 10, and is set, for example, in a range of 0.6 to 0.8 times the inner diameter of the workpiece 10. In FIG. 1, the work support member 7 is not shown.
  • the upper spray nozzle 2 is arranged above the workpiece 10 and sprays the cleaning liquid 3 downward.
  • the cleaning liquid 3 ejected from the upper nozzle 2 is referred to as “upper cleaning liquid 3”.
  • the lower spray nozzle 4 is disposed below the workpiece 10 and sprays the cleaning liquid 5 upward.
  • the cleaning liquid 5 ejected from the lower nozzle 4 is referred to as a “lower cleaning liquid 5”.
  • the upper cleaning liquid 3 is for cleaning the surfaces 10a, 10b, and 10d by hitting the upper surface 10a, the outer peripheral surface 10b, and the inner peripheral surface 10d (more specifically, the upper portion of the inner peripheral surface 10d) of the workpiece 10.
  • the lower cleaning liquid 5 cleans the surfaces 10c and 10d by hitting the lower surface 10c and the inner peripheral surface 10d of the workpiece 10 (specifically, the lower portion of the inner peripheral surface 10d). That is, the inner peripheral surface 10d of the workpiece 10 includes an upper cleaning solution 3 that has entered the hollow portion 10g of the workpiece 10 from the upper end opening 10e of the workpiece 10, and a lower cleaning solution that has entered the hollow portion 10g of the workpiece 10 from the lower end opening 10f of the workpiece 10. 5 and washed.
  • the upper cleaning solution 3 and the lower cleaning solution 5 are each composed of water, a degreasing agent, and the like, and the temperature is set within a range of 40 to 70 ° C., for example.
  • the arrangement positions of the upper nozzle 2 and the lower nozzle 4 are fixed.
  • the upper nozzle 2 is composed of a flat spray nozzle that sprays the upper cleaning liquid 3 in a fan-shaped film shape.
  • the lower nozzle 4 is composed of a flat spray nozzle that sprays the lower cleaning liquid 5 in a fan-shaped film shape.
  • the driving means 8 moves a plurality of workpieces 10 in one horizontal direction M in a lump and includes an electric actuator, a fluid pressure cylinder (eg, hydraulic cylinder, gas cylinder), and the like.
  • the drive unit 8 has a drive unit connected to the workpiece support member 7, and moves the workpiece support member 7 that supports a plurality of workpieces 10 in a predetermined direction M.
  • the plurality of workpieces 10 are collectively moved in a predetermined direction M.
  • the cleaning apparatus 1 of this embodiment moves the workpiece
  • the upper surface 10a and the outer peripheral surface 10b of the workpiece 10 at least the upper surface 10a is cleaned with the upper cleaning liquid 3 and the lower surface 10c of the workpiece 10 is cleaned with the lower cleaning liquid 5.
  • the upper nozzle 2 and the lower nozzle 4 The upper cleaning liquid 3 and the lower cleaning liquid 5 are sprayed so that when the lower cleaning liquid 5 hits the lower surface 10c of the work 10, the upper cleaning liquid 3 always hits at least a part of the region composed of the upper surface 10a and the outer peripheral surface 10b of the work 10. It is configured as follows. In the present embodiment, the upper surface 10 a and the outer peripheral surface 10 b of the workpiece 10 are cleaned with the upper cleaning liquid 3.
  • the workpieces 10 are arranged at equal intervals in a plurality of rows and a plurality of columns in the moving direction M of the driving unit 8 and the orthogonal direction N thereof, that is, in a matrix form. Is arranged.
  • a work group in which a plurality of works 10 are arranged in a line in the movement direction M of the work is referred to as a “work row 15”, and the plurality of works 10 are arranged in a direction N orthogonal to the movement direction M of the work.
  • a group of works arranged in a row is referred to as a “work row 16”.
  • the total number of work rows 15 is 12, and the total number of work columns 16 is 12, that is, 12 rows ⁇ 12 columns. Therefore, the total number of workpieces 10 is 144.
  • the pitch P1 between the workpieces 10 and 10 in the workpiece row 15 and the pitch P2 between the workpieces 10 and 10 in the workpiece row 16 are set to be equal to each other.
  • the outer diameter U is preferably set in a range of 1.5 to 2.5 times.
  • a plurality of upper nozzles 2 and lower nozzles 4 are alternately arranged in a line at equal intervals in a direction N orthogonal to the moving direction M of the workpiece in plan view. Therefore, the arrangement position of the upper nozzle 2 and the arrangement position of the lower nozzle 4 are shifted in a direction N orthogonal to the moving direction M of the workpiece. Further, when a nozzle group in which a plurality of upper nozzles 2 and lower nozzles 4 are alternately arranged in this manner is referred to as “nozzle row 6”, the nozzle row 6 is further arranged at equal intervals in the moving direction M of the workpiece. Multiple rows are arranged. In the present embodiment, the total number of nozzle rows 6 is four.
  • each lower nozzle 4 is disposed inside the movement area Z of the workpiece moved by the driving means 8. More specifically, each lower nozzle 4 is disposed at an intermediate position in the width direction inside the movement area Z of the workpiece. ing.
  • each upper nozzle 2 is arranged outside the movement area Z of the workpieces. More specifically, each upper nozzle 2 is arranged at an intermediate position between two workpieces 10 and 10 adjacent to each other in the workpiece row 16. Yes.
  • the pitch P3 between the nozzle rows 6 and 6 in a plurality of rows is set in a range of 2 to 11 times the pitch P1 between the workpieces 10 and 10 in the workpiece row 15. In this embodiment, P3 is set to be three times that of P1.
  • each upper nozzle 2 and each lower nozzle 4 the spray spreading direction H of the upper cleaning liquid 3 ejected from each upper nozzle 2 and the spray spreading direction J of the lower cleaning liquid 5 ejected from each lower nozzle 4 are parallel to each other.
  • each upper nozzle 2 and each lower nozzle 4 sprays the upper cleaning liquid 3 and the lower cleaning liquid 5, respectively, such that the jet spreading direction H of the upper cleaning liquid 3 and the jet spreading direction J of the lower cleaning liquid 5 are parallel to each other. Is.
  • each upper nozzle 2 and each lower nozzle Even if the upper cleaning liquid 3 and the lower cleaning liquid 5 are ejected from the nozzle 4, respectively, the upper cleaning liquid 3 and the lower cleaning liquid 5 do not directly interfere with each other, that is, the upper cleaning liquid 3 and the lower cleaning liquid 5 do not directly collide with each other.
  • the spray spreading directions H and J of the upper cleaning liquid 3 and the lower cleaning liquid 5 are both oblique to the moving direction M of the workpiece. Is injected as follows.
  • the angles ⁇ and ⁇ formed by the spray spreading directions H and J of the upper cleaning liquid 3 and the lower cleaning liquid 5 with respect to the moving direction M of the workpiece are preferably set in the range of 25 to 80 °, specifically ⁇ and ⁇ . Are set to 45 °, for example.
  • the injection flow rate V1 per unit time of the upper cleaning liquid 3 injected from each upper nozzle 2 is set to be larger than the injection flow rate V2 per unit time of the lower cleaning liquid 5 injected from each lower nozzle 4 (that is, V1> V2).
  • V1 is set in a range of 1.5 to 3.0 times V2.
  • V1 is set in the range of 4.5 to 39 L / min, for example, and V2 is set in the range of 3 to 13 L / min, for example.
  • the spray spread angle ⁇ 1 of the upper cleaning liquid 3 sprayed from each upper nozzle 2 is set smaller than the spray spread angle ⁇ 2 of the lower cleaning liquid 5 sprayed from each lower nozzle 4 (ie, , ⁇ 1 ⁇ 2).
  • ⁇ 2 is set in a range of 1.2 to 3.2 times ⁇ 1.
  • ⁇ 1 is set in the range of 25 to 65 °, for example, and ⁇ 2 is set in the range of 40 to 80 °, for example.
  • the vertical distance S2 between each lower nozzle 4 and the workpiece 10 is set to be shorter than the vertical distance S1 between each upper nozzle 2 and the workpiece 10 (that is, S2 ⁇ S1). .
  • S1 is set in a range of 3 to 7 times that of S2.
  • S2 is set in a range of 10 to 45 mm, for example, and S1 is set in a range of 70 to 150 mm, for example.
  • S2 is set shorter than S1, in other words, S1 is set longer than S2, and as shown in FIG.
  • the spray spread width W of the cleaning liquid 3 is set to be larger than the spray spread width Y of the lower cleaning liquid 5 sprayed from each lower nozzle 4 at the work arrangement position.
  • the length W1 in the orthogonal direction N of the workpiece movement direction M in the spray spreading width W of the upper cleaning liquid 3 is more than twice the pitch P2 between the workpieces 10 and 10 in the workpiece row 16 (more specifically, 2 to 3 times the range). Accordingly, when the workpiece 10 is moved in the predetermined direction M in a state where the upper cleaning liquid 3 is ejected from the upper nozzle 2, the upper cleaning liquid 3 is one of the two work rows 15, 15 adjacent to each other. At least one (1 or 2 in this embodiment) of the workpiece 10, the outer circumferential surface 10 b and the inner circumferential surface 10 d (more specifically, the upper portion of the inner circumferential surface 10 d) and at least one of the other workpiece rows 15.
  • the top surface 10a, the outer peripheral surface 10b, and the inner peripheral surface 10d (in detail, the upper portion of the inner peripheral surface 10d) of the individual workpieces 10 (one or two in this embodiment) and the movement of the workpiece 10 cause the workpiece 10
  • the entire upper surface 10a, the entire outer peripheral surface 10b, and the entire inner peripheral surface 10d (more specifically, the entire upper surface of the inner peripheral surface 10d) are cleaned with the upper cleaning liquid 3.
  • the length Y1 in the orthogonal direction N of the workpiece movement direction M in the spray spreading width Y of the lower cleaning liquid 5 is set to be equal to or longer than the outer diameter U of the workpiece 10, that is, the workpiece 10 in the workpiece row 16 is set.
  • the pitch P2 between 10 is set to 1 or more (more specifically, a range of 1 to 1.8 times).
  • the lower surface 10c and the inner peripheral surface 10d (more specifically, the lower portion of the inner peripheral surface 10d) of the workpiece 10 and the movement of the workpiece 10 causes the entire lower surface 10c and the entire inner peripheral surface 10d of the workpiece 10 (more specifically, the lower portion of the inner peripheral surface 10d).
  • the entire surface) is cleaned with the lower cleaning liquid 5.
  • the moving speed of the workpiece 10 by the driving means 8 is, for example, in the range of 8 to 50 mm / s.
  • the movement distance of the workpiece 10 is set equal to or longer than the length twice the pitch P1 between the workpieces 10 and 10 in the workpiece row 15, and is preferably set in the range of P1 ⁇ 2 to P1 ⁇ 3 times. It is good to be done.
  • the pitches P4 between the upper nozzle 2 and the lower nozzle 4 in the nozzle row 6 and the angles ⁇ and ⁇ formed by the jet spreading directions H and J of the upper cleaning liquid 3 and the lower cleaning liquid 5 with respect to the moving direction M of the workpiece are:
  • the upper cleaning liquids 3 and 3 ejected from the two upper nozzles 2 and 2 disposed on both sides of the lower nozzle 4 that ejected the lower cleaning liquid 5 in a plan view.
  • At least one of the workpieces 10 is set so as to be in contact with at least a part of the area composed of the upper surface 10a and the outer peripheral surface 10b of the workpiece 10.
  • a plurality of workpieces 10 are supported on the workpiece support member 7 of the cleaning apparatus 1 so that the axis Q is vertical.
  • a plurality of workpieces 10 are arranged in a matrix form arranged in a plurality of rows and a plurality of columns in the movement direction M of the workpieces and the orthogonal direction N thereof.
  • the upper cleaning liquid 3 is sprayed downward in a fan-shaped film form from each upper nozzle 2 of the cleaning apparatus 1, and the lower cleaning liquid 5 is sprayed upward from each lower nozzle 4 in a fan-shaped film form.
  • the plurality of workpieces 10 are collectively moved in the predetermined direction M via the workpiece support member 7 by the driving means 8.
  • the upper cleaning liquid 3 is the upper surface of at least one work row 15 (one or two in the present embodiment) of one work row 15 among the two work rows 15, 15 adjacent to each other. 10a, the outer peripheral surface 10b, the inner peripheral surface 10d (more specifically, the upper portion of the inner peripheral surface 10d) and the upper surface 10a, outer peripheral surface of at least one work 10 (one or two in this embodiment) in the other work row 15 10b and the inner peripheral surface 10d (more specifically, the upper part of the inner peripheral surface 10d), and the movement of the work 10 causes the entire upper surface 10a, the entire outer peripheral surface 10b, and the entire inner peripheral surface 10d (more specifically, the inner periphery) The entire upper surface of the surface 10d) is cleaned with the upper cleaning liquid 3.
  • the lower cleaning liquid 5 hits the lower surface 10c and the inner peripheral surface 10d of each workpiece 10 in each workpiece row 15 (more specifically, the lower portion of the inner peripheral surface 10d).
  • the entire lower surface 10c and the inner peripheral surface 10d are cleaned with the lower cleaning liquid 5.
  • cleaning process is called “cleaning process”.
  • the upper cleaning liquid 3 and the lower cleaning liquid 5 are sprayed from the upper nozzle 2 and the lower nozzle 4 respectively so that the upper cleaning liquid 3 and the lower cleaning liquid 5 do not interfere with each other, thereby increasing the cleaning power of the upper cleaning liquid 3 and the lower cleaning liquid 5 respectively. Can be improved.
  • the injection flow rate V1 per unit time of the upper cleaning liquid 3 injected from the upper nozzle 2 is larger than the injection flow rate V2 per unit time of the lower cleaning liquid 5 injected from the lower nozzle 4, the workpiece 10 is lifted. Can be reliably prevented.
  • the workpiece 10 has a cylindrical shape (in detail, a cylindrical shape) and is arranged with its axis Q vertical, and in the cleaning process, the upper surface 10a, the outer peripheral surface 10b, and the inner peripheral surface 10d (detailed) of the workpiece 10 are arranged. Then, the upper surface of the inner peripheral surface 10d) is cleaned with the upper cleaning liquid 3, and the lower surface 10c and the inner peripheral surface 10d of the workpiece 10 (more specifically, the upper portion of the inner peripheral surface 10d) are cleaned with the lower cleaning liquid 5.
  • the entire surface of the workpiece 10, that is, the upper surface 10a, the outer peripheral surface 10b, the lower surface 10c, and the inner peripheral surface 10d of the workpiece 10 can be cleaned.
  • the upper nozzle 2 and the lower nozzle 4 are each composed of a flat spray nozzle, and in the cleaning process, the upper cleaning liquid 3 and the lower cleaning liquid 5 are sprayed from the upper nozzle 2 and the lower nozzle 4 respectively in a fan-shaped film shape. Therefore, the hitting force of the upper cleaning liquid 3 and the lower cleaning liquid 5 on the workpiece 10 is higher than the hitting force of the cleaning liquid sprayed from the full cone spray nozzle on the workpiece 10. Thereby, the cleaning power of the upper cleaning liquid 3 and the lower cleaning liquid 5 can be further improved.
  • the cleaning apparatus 1 can be downsized.
  • a plurality of workpieces 10 are arranged in the orthogonal direction N of the workpiece movement direction M, and a plurality of upper nozzles 2 and lower nozzles 4 are arranged in the orthogonal direction N of the workpiece movement direction M. Since they are arranged alternately, a plurality of workpieces 10 can be cleaned at once.
  • the upper nozzle 2 is disposed outside the workpiece movement area Z, while the lower nozzle 4 is disposed inside the workpiece movement area Z.
  • the upper surface 10 a and the outer peripheral surface 10 b can be reliably cleaned, and the lower surface 10 c and the inner peripheral surface 10 d of the workpiece 10 can be reliably cleaned with the lower cleaning liquid 5 even if the workpiece 10 has a small diameter (cylindrical) shape. can do.
  • the upper cleaning liquid 3 and the lower cleaning liquid 5 are respectively supplied from the upper nozzle 2 and the lower nozzle 4 in the plan view, and the spray spreading directions H and J of the upper cleaning liquid 3 and the lower cleaning liquid 5 are both in the moving direction M of the workpiece. Since jetting is performed in an oblique direction, when a plurality of workpieces 10 are arranged in a direction N orthogonal to the movement direction M of the workpiece, two adjacent workpieces 10 and 10 are connected to one upper nozzle. It is possible to perform cleaning with the upper cleaning liquid 3 ejected from 2. Thereby, the workpiece
  • the workpiece 10 is arranged in a plurality of rows and columns in the moving direction M of the workpiece and the orthogonal direction N thereof, and in the cleaning process, the upper cleaning liquid 3 is adjacent to the two workpieces. Since the upper cleaning liquid 3 is sprayed so as to hit at least one workpiece 10 in one workpiece row 15 and at least one workpiece 10 in the other workpiece row 15 among the rows 15, 15, more workpieces 10 The workpiece 10 can be cleaned in a lump, and the workpiece 10 can be cleaned more efficiently.
  • the spray spreading width W of the upper cleaning liquid 3 ejected from the upper nozzle 2 at the workpiece arrangement position is larger than the ejection spreading width Y of the lower cleaning liquid 5 ejected from the lower nozzle 4 at the workpiece arrangement position, the upper nozzle When the lower cleaning liquid 5 hits the lower surface 10c of the workpiece 10, the upper cleaning liquid 3 always hits at least a part of the area formed by the upper surface 10a and the outer peripheral surface 10b of the workpiece 10. Thus, it is possible to reliably realize the spraying state of the upper cleaning liquid 3 and the lower cleaning liquid 5.
  • the vertical distance S2 between the lower nozzle 4 and the workpiece 10 is shorter than the vertical distance S1 between the upper nozzle 2 and the workpiece 10, the lower surface 10c of the workpiece 10 is reliably cleaned. Can do.
  • the photosensitive drum substrate as the workpiece 10 can be cleaned.
  • the base as the work 10 is arranged with its axis vertical, both end surfaces in the axial direction of the base become the upper surface and the lower surface, respectively, so that both end surfaces of the base to which the chips are attached are reliably cleaned. Therefore, the chips can be surely removed.
  • the workpiece 10 is cleaned by a method in which the workpiece 10 is moved in a state where the arrangement positions of the upper nozzle 2 and the lower nozzle 4 are fixed.
  • the workpiece 10 may be cleaned by a method in which the upper nozzle 2 and the lower nozzle 4 are moved in a state where the arrangement position is fixed.
  • the workpiece 10 may be other than the photosensitive drum substrate.
  • This application is accompanied by the priority claim of Japanese Patent Application No. 2010-118371 filed on May 24, 2010, the disclosure of which constitutes a part of this application as it is. .
  • the term present invention or inventory should not be improperly interpreted as identifying criticality, nor should it be improperly interpreted as applying across all aspects or all embodiments ( That is, it should be understood that the present invention has numerous aspects and embodiments) and should not be construed inappropriately to limit the scope of the present application or the claims.
  • the term “embodiment” is also used to describe any aspect, feature, process or step, any combination thereof, and / or any part thereof. It is done. In some examples, various embodiments may include overlapping features.
  • the abbreviations “e.g.,” and “NB” may be used, meaning “for example” and “careful”, respectively.
  • the present invention can be used for a method and apparatus for cleaning a workpiece such as a photosensitive drum substrate.
  • Cleaning device 2 Upper spray nozzle 3: Upper cleaning liquid 4: Lower spray nozzle 5: Lower cleaning liquid 6: Nozzle row 7: Workpiece support member 10: Workpiece 10a: Upper surface 10b: Outer peripheral surface 10c: Lower surface 10d: Inner peripheral surface 15 : Work row 16: Work column M: Work moving direction N: Work moving direction orthogonal Z: Work moving region S1: Vertical distance between the upper nozzle and the work S2: Lower nozzle and work Vertical distance between

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Abstract

洗浄方法は、ワーク(10)の上側及び下側にそれぞれ配置された上スプレーノズル(2)及び下スプレーノズル(4)から上洗浄液(3)及び下洗浄液(5)をそれぞれ噴射した状態で、ワーク(10)を上下両ノズル(2,4)に対して相対的に水平方向に移動させることにより、ワーク(10)の上面(10a)及び外周面(10b)のうち少なくとも上面(10a)を上洗浄液(3)で洗浄するとともに、ワーク(10)の下面(10c)を下洗浄液(5)で洗浄する洗浄工程を含む。洗浄工程では、上ノズル(2)及び下ノズル(4)からそれぞれ上洗浄液(3)及び下洗浄液(5)を、下洗浄液(5)がワーク(10)の下面(10c)に当たるときは上洗浄液(3)が必ずワーク(10)の上面(10a)及び外周面(10c)からなる領域の少なくとも一部に当たるように噴射する。

Description

洗浄方法
 本発明は、感光ドラム基体等のワークを洗浄する洗浄方法及び洗浄装置に関する。
 複写機、プリンタ、ファクシミリ装置等の電子写真装置の感光ドラムに用いられる筒状基体、即ち感光ドラム基体は、アルミニウム又はその合金等の金属製であり、その外周面に有機感光体層が形成される。基体の軸方向各端面の周縁部には切削により面取り加工が施されている。
 この基体では、良好な有機感光体層を形成できるようにするため、有機感光体層の形成の前に基体の全面が洗浄される。この洗浄により、基体に付着していた切粉、油等の付着物が除去される。
 基体の洗浄方法を開示した公知文献として、例えば特開2006-106380号公報(特許文献1)がある。この公報では、基体の洗浄方法として、スプレーノズルから噴射された洗浄液で基体を洗浄するスプレー洗浄が採用されている。その他の公知文献としては、特開2003-262964号公報(特許文献2)等がある。
 而して、一般に、感光ドラム基体等のワークの下面をスプレー洗浄方法により洗浄する場合には、ワークをワーク支持部材で支持しておき、ワークの下側に配置されたスプレーノズルから洗浄液を上向きに噴射する。これにより、ワークの下面が下洗浄液で洗浄される。
特開2006-106380号公報 特開2003-262964号公報
 しかるに、この洗浄方法によれば、ワークの下面の洗浄の際に、下ノズルから噴射された下洗浄液がワークの下面に当たることで、ワークがワーク支持部材から浮き上がることがあった。このようになると、ワークの下面を十分に洗浄することが困難になるし、更には、浮き上がったワークの下面に下洗浄液が当たらなくなるとワークが自重で下降してワーク支持部材に衝突し、ワークの下面に傷が付く虞があった。
 本発明は、上述した技術背景に鑑みてなされたもので、その目的は、感光ドラム基体等のワークの下面をスプレー洗浄する際のワークの浮き上がりを防止することができる洗浄方法及び該洗浄方法に用いられる洗浄装置を提供することにある。
 本発明のその他の目的及び利点は、以下の好ましい実施形態から明らかにされるであろう。
 本発明は以下の手段を提供する。
 [1] ワークの上側に配置された上スプレーノズルから上洗浄液を下向きに噴射し且つワークの下側に配置された下スプレーノズルから下洗浄液を上向きに噴射した状態で、ワークを前記上下両ノズルに対して相対的に水平方向に移動させることにより、ワークの上面及び外周面のうち少なくとも上面を前記上洗浄液で洗浄するとともに、ワークの下面を前記下洗浄液で洗浄する洗浄工程を含み、
 前記洗浄工程では、前記上ノズル及び前記下ノズルからそれぞれ前記上洗浄液及び前記下洗浄液を、下洗浄液がワークの下面に当たるときは上洗浄液が必ずワークの上面及び外周面からなる領域の少なくとも一部に当たるように噴射することを特徴とする洗浄方法。
 [2] 平面視において、前記上ノズルの配置位置と前記下ノズルの配置位置とがずれており、
 前記洗浄工程では、前記上ノズル及び前記下ノズルからそれぞれ前記上洗浄液及び前記下洗浄液を、上洗浄液と下洗浄液が互いに干渉しないように噴射する前項1記載の洗浄方法。
 [3] 前記上ノズルから噴射される前記上洗浄液の単位時間当たりの噴射流量が、前記下ノズルから噴射される前記下洗浄液の単位時間当たりの噴射流量よりも大きい前項1又は2記載の洗浄方法。
 [4] ワークは筒状であり且つその軸を鉛直にして配置されており、
 前記洗浄工程では、ワークの上面、外周面及び内周面を前記上洗浄液で洗浄するとともに、ワークの下面及び内周面を前記下洗浄液で洗浄する前項1~3のいずれかに記載の洗浄方法。
 [5] 前記上ノズル及び前記下ノズルはそれぞれフラットスプレーノズルから構成されており、
 前記洗浄工程では、前記上ノズル及び前記下ノズルからそれぞれ前記上洗浄液及び前記下洗浄液を扇形膜状に噴射する前項1~4のいずれかに記載の洗浄方法。
 [6] 前記洗浄工程では、平面視において、前記上ノズル及び前記下ノズルからそれぞれ前記上洗浄液及び前記下洗浄液を、前記上洗浄液の噴射広がり方向と前記下洗浄液の噴射広がり方向とが互いに平行になるように噴射する前項5記載の洗浄方法。
 [7] 平面視において、ワークは、前記ワークの相対移動方向の直交方向に複数個並んで配置されるとともに、
 平面視において、前記上ノズルと前記下ノズルは、前記ワークの相対移動方向の直交方向に複数個交互に並んで配置されている前項5又は6記載の洗浄方法。
 [8] 平面視において、前記上ノズルは、前記ワークの相対移動領域の外側に配置される一方、前記下ノズルは、前記ワークの相対移動領域の内側に配置されている前項5~7のいずれかに記載の洗浄方法。
 [9] 前記洗浄工程では、平面視において、前記上ノズル及び前記下ノズルからそれぞれ前記上洗浄液及び前記下洗浄液を、上洗浄液及び下洗浄液の噴射広がり方向がともに前記ワークの相対移動方向に対して斜め方向になるように噴射する前項5~8のいずれかに記載の洗浄方法。
 [10] 平面視において、ワークは、前記ワークの相対移動方向及びその直交方向に複数行及び複数列に並んで配置されており、
 前記洗浄工程では、前記上洗浄液が互いに隣り合う2つのワーク行のうち一方のワーク行の少なくとも1個のワークと他方のワーク行の少なくとも1個のワークとに当たるように、前記上洗浄液を噴射する前項5~9のいずれかに記載の洗浄方法。
 [11] ワーク配置位置における前記上ノズルから噴射される前記上洗浄液の噴射広がり幅が、ワーク配置位置における前記下ノズルから噴射される前記下洗浄液の噴射広がり幅よりも大きい前項5~10のいずれかに記載の洗浄方法。
 [12] 前記下ノズルとワークとの間の鉛直方向の距離が、前記上ノズルとワークとの間の鉛直方向の距離よりも短い前項1~11のいずれかに記載の洗浄方法。
 [13] 前記ワークは、感光ドラム基体である前項1~12のいずれかに記載の洗浄方法。
 [14] ワークの上側に配置されるとともに上洗浄液を下向きに噴射する上スプレーノズルと、
 ワークの下側に配置されるとともに下洗浄液を上向きに噴射する下スプレーノズルと、
 ワークを前記上下両ノズルに対して相対的に水平方向に移動させる駆動手段と、を備え、
 前記上ノズル及び前記下ノズルからそれぞれ前記上洗浄液及び前記下洗浄液が噴射された状態で、前記駆動手段によってワークを相対移動させることにより、ワークの上面及び外周面のうち少なくとも上面を前記上洗浄液で洗浄するとともにワークの下面を前記下洗浄液で洗浄するように構成され、
 前記上ノズル及び前記下ノズルからそれぞれ前記上洗浄液及び前記下洗浄液が、下洗浄液がワークの下面に当たるときは上洗浄液が必ずワークの上面及び外周面からなる領域の少なくとも一部に当たるように噴射されることを特徴とする洗浄装置。
 なお、前項[14]の洗浄装置は、更に以下の構成も採用可能である。
 [15] 平面視において、前記上ノズルの配置位置と前記下ノズルの配置位置とがずれており、
 前記上ノズル及び前記下ノズルからそれぞれ前記上洗浄液及び前記下洗浄液が、上洗浄液と下洗浄液が互いに干渉しないように噴射される前項14記載の洗浄装置。
 [16] 前記上ノズルから噴射される前記上洗浄液の単位時間当たりの噴射流量が、前記下ノズルから噴射される前記下洗浄液の単位時間当たりの噴射流量よりも大きい前項14又は15記載の洗浄装置。
 [17] ワークは筒状であり且つその軸を鉛直にして配置されており、
 ワークの上面、外周面及び内周面が前記上洗浄液で洗浄されるとともに、ワークの下面及び内周面が前記下洗浄液で洗浄される前項14~16のいずれかに記載の洗浄装置。
 [18] 前記上ノズル及び前記下ノズルはそれぞれフラットスプレーノズルから構成されており、
 前記上ノズル及び前記下ノズルからそれぞれ前記上洗浄液及び前記下洗浄液が扇形膜状に噴射される前項14~17のいずれかに記載の洗浄装置。
 [19] 平面視において、前記上ノズル及び前記下ノズルからそれぞれ前記上洗浄液及び前記下洗浄液が、前記上洗浄液の噴射広がり方向と前記下洗浄液の噴射広がり方向とが互いに平行になるように噴射される前項18記載の洗浄装置。
 [20] 平面視において、ワークは、前記ワークの相対移動方向の直交方向に複数個並んで配置されるとともに、
 平面視において、前記上ノズルと前記下ノズルは、前記ワークの相対移動方向の直交方向に複数個交互に並んで配置されている前項18又は19記載の洗浄装置。
 [21] 平面視において、前記上ノズルは、前記ワークの相対移動領域の外側に配置される一方、前記下ノズルは、前記ワークの相対移動領域の内側に配置されている前項18~20のいずれかに記載の洗浄装置。
 [22] 平面視において、前記上ノズル及び前記下ノズルからそれぞれ前記上洗浄液及び前記下洗浄液が、上洗浄液及び下洗浄液の噴射広がり方向がともに前記ワークの相対移動方向に対して斜め方向になるように噴射される前項18~21のいずれかに記載の洗浄装置。
 [23] 前記ワークは、前記ワークの相対移動方向及びその直交方向に複数行及び複数列に並んで配置されており、
 前記上洗浄液が互いに隣り合う2つのワーク行のうち一方のワーク行の少なくとも1個のワークと他方のワーク行の少なくとも1個のワークとに当たるように、前記上洗浄液が噴射される前項18~22のいずれかに記載の洗浄装置。
 [24] ワーク配置位置における前記上ノズルから噴射される前記上洗浄液の噴射広がり幅が、ワーク配置位置における前記下ノズルから噴射される前記下洗浄液の噴射広がり幅よりも大きい前項18~23のいずれかに記載の洗浄装置。
 [25] 前記下ノズルとワークとの間の鉛直方向の距離が、前記上ノズルとワークとの間の鉛直方向の距離よりも短い前項14~24のいずれかに記載の洗浄装置。
 [26] 前記ワークは、感光ドラム基体である前項14~25のいずれかに記載の洗浄装置。
 本発明は以下の効果を奏する。
 前項[1]の洗浄方法によれば、上ノズル及び下ノズルからそれぞれ上洗浄液及び下洗浄液を、下洗浄液がワークの下面に当たるときは上洗浄液が必ずワークの上面及び外周面からなる領域の少なくとも一部に当たるように噴射することにより、ワークの浮き上がりを防止することができる。これにより、ワークの下面を確実に洗浄することができるし、ワークの下面の傷付きを防止することができる。
 前項[2]の洗浄方法によれば、上ノズル及び下ノズルからそれぞれ上洗浄液及び下洗浄液を、上洗浄液と下洗浄液が互いに干渉しないように噴射することにより、上洗浄液及び下洗浄液の洗浄力をそれぞれ向上させることができる。
 前項[3]の洗浄方法によれば、上ノズルからの上洗浄液の噴射流量が、下ノズルからの下洗浄液の噴射流量よりも大きいことにより、ワークの浮き上がりを確実に防止することができる。
 前項[4]の洗浄方法によれば、ワークが小径な筒状であっても当該ワークの全面、即ちワークの上面、外周面、下面及び内周面を洗浄することができる。
 前項[5]の洗浄方法によれば、上ノズル及び下ノズルはそれぞれフラットスプレーノズルから構成されており、上ノズル及び下ノズルからそれぞれ上洗浄液及び下洗浄液を扇形膜状に噴射することにより、上洗浄液及び下洗浄液の洗浄力をそれぞれ更に向上させることができる。
 前項[6]の洗浄方法によれば、上ノズル及び下ノズルからそれぞれ上洗浄液及び下洗浄液を、上洗浄液の噴射広がり方向と下洗浄液の噴射広がり方向とが互いに平行になるように噴射することにより、上洗浄液と下洗浄液との干渉を確実に防止できるし、更には、上洗浄液と下洗浄液を互いに近接して噴射することができ、これにより、ワークを効果的に洗浄することができるし、洗浄装置の小型化を図ることができる。
 前項[7]の洗浄方法によれば、複数個のワークを一括して洗浄することができる。
 前項[8]の洗浄方法によれば、上洗浄液でワークの上面及び外周面を確実に洗浄することができるし、ワークが筒状であっても該筒状ワークの下面及び内周面を下洗浄液で確実に洗浄することができる。
 前項[9]の洗浄方法によれば、ワークの相対移動方向の直交方向に複数個並んでワークが配置された場合において、互いに隣り合う2個のワークを1つの上ノズルから噴射された上洗浄液で洗浄することが可能となる。これにより、ワークを効率良く洗浄することができる。
 前項[10]の洗浄方法によれば、より多くのワークを一括して洗浄することができ、もってワークを効率良く洗浄することができる。
 前項[11]の洗浄方法によれば、前項[1]における上洗浄液及び下洗浄液の噴射状態を確実に実現することができる。
 前項[12]の洗浄方法によれば、ワークの下面を確実に洗浄することができる。
 前項[13]の洗浄方法によれば、ワークとしての感光ドラム基体を洗浄することができる。
 前項[14]の洗浄装置は、前項[1]の洗浄方法に好適に用いることができる。
 なお、前項[15]~[26]の洗浄装置は、それぞれ前項[2]~[13]の洗浄方法に好適に用いることができる。
図1は、本発明の一実施形態に係る洗浄方法を、ワークを洗浄している途中の状態で示す平面図である。 図2は、ワークの移動方向の前方側から見た正面図である。 図3は、ワーク支持部材の斜視図である。 図4は、ワークの半断面側面図である。
 次に、本発明の一実施形態について図面を参照して以下に説明する。
 図1において、1は本発明の一実施形態に係る洗浄装置、10はワークである。
 ワーク10は、図4に示すように、筒状であり、詳述すると円筒状である。具体的にはワーク10は、アルミニウム又はその合金製感光ドラム基体であり、その断面形状は円環状である。ワーク10を洗浄する際には、ワーク10はその軸Qを垂直にして配置される。
 なお、ワーク10としての感光ドラム基体は、その外周面10bに良好な有機感光体層を形成できるようにするため、本実施形態の洗浄装置1を用いて洗浄され、その後、その外周面10bに有機感光体層が形成されることで、感光ドラムが製造される。基体の軸方向各端面の周縁部には切削により面取り加工が施されている。そのため、基体の各端面には面取り加工により発生した切粉(図示せず)が付着している。さらに、切粉は、基体の外周面や内周面にも付着していることがあり、また、基体の各端面、外周面10b及び内周面10dには、加工油等が付着している。このような切粉、油等の付着物を除去するために、基体が本実施形態の洗浄装置1を用いた洗浄方法により洗浄される。
 ワーク10の外径(直径)Uは例えば10~50mm、その肉厚tは例えば0.5~2.0mmである。
 本実施形態の洗浄装置1は、複数個のワーク10を一括してスプレー洗浄するものであり、複数個のワーク10を一括して支持するワーク支持部材7、複数個の上スプレーノズル2、複数個の下スプレーノズル4、駆動手段8などを備えている。
 図3に示すように、ワーク支持部材7は、水平状に配置された棒状のワーク載置部7aと、該ワーク載置部7aに立ち上がり状に設けられた複数個の棒状のワーク保持部7bとを有している。ワーク載置部7aの断面形状は円形状である。ワーク載置部7a上には、ワーク10がその軸Qを鉛直にして載置される。ワーク保持部7bは、軸Qを鉛直にして配置されたワーク10の中空部10gにワーク10の下端開口10fから挿入されることで、ワーク10が倒れないようにワーク10の姿勢を保持するものである。そして、ワーク10は、その中空部10gにワーク保持部7bがワーク10の下端開口10fから挿入された状態でワーク載置部7a上に載置され、これにより、ワーク10がその軸Qを鉛直にしてワーク支持部材7に支持されている。このようにワーク10が支持された状態では、ワーク10の下面10cがワーク載置部7aに線状に当接するとともに、ワーク10の下端開口10fは、ワーク載置部7aで完全には閉塞されておらず、即ち下方向に開放している。また、ワーク10の上端開口10eは上方向に開放している。ワーク載置部7aの直径は、ワーク10の内径よりも小さく設定されており、例えばワーク10の内径に対して0.6~0.8倍の範囲に設定される。なお、図1ではワーク支持部材7は図示省略されている。
 図2に示すように、上スプレーノズル2は、ワーク10の上側に配置されるとともに洗浄液3を下向きに噴射するものである。本明細書では、この上ノズル2から噴射される洗浄液3を「上洗浄液3」という。下スプレーノズル4は、ワーク10の下側に配置されるとともに洗浄液5を上向きに噴射するものである。本明細書では、この下ノズル4から噴射される洗浄液5を「下洗浄液5」という。
 上洗浄液3は、ワーク10の上面10a、外周面10b及び内周面10d(詳述すると内周面10dの上部)に当たることでこれらの面10a、10b、10dを洗浄するものである。下洗浄液5は、ワーク10の下面10c及び内周面10d(詳述すると内周面10dの下部)に当たることでこれらの面10c、10dを洗浄するものである。すなわち、ワーク10の内周面10dは、ワーク10の上端開口10eからワーク10の中空部10gに入った上洗浄液3と、ワーク10の下端開口10fからワーク10の中空部10gに入った下洗浄液5とで洗浄される。
 上洗浄液3及び下洗浄液5は、いずれも水、脱脂剤などからなり、その温度は例えば40~70℃の範囲に設定されている。また本実施形態では、上ノズル2及び下ノズル4の配置位置はそれぞれ固定されている。
 さらに、上ノズル2は、上洗浄液3を扇形膜状に噴射するフラットスプレーノズルから構成されている。また同じく下ノズル4は、下洗浄液5を扇形膜状に噴射するフラットスプレーノズルから構成されている。
 駆動手段8は、複数個のワーク10を一括して水平方向の一方向Mに移動させるものであり、電動アクチュエータ、流体圧シリンダ(例:油圧シリンダ、ガスシリンダ)等からなる。そして、図2に示すように、この駆動手段8は、その駆動部がワーク支持部材7に接続されており、複数個のワーク10を支持したワーク支持部材7を所定方向Mに移動させることで、複数個のワーク10を一括して所定方向Mに移動させるものである。
 そして、本実施形態の洗浄装置1は、上ノズル2及び下ノズル4からそれぞれ上洗浄液3及び下洗浄液5が噴射された状態で、駆動手段8によってワーク10を所定方向Mに移動させることにより、ワーク10の上面10a及び外周面10bのうち少なくとも上面10aを上洗浄液3で洗浄するとともにワーク10の下面10cを下洗浄液5で洗浄するように構成されており、さらに、上ノズル2及び下ノズル4からそれぞれ上洗浄液3及び下洗浄液5が、下洗浄液5がワーク10の下面10cに当たるときは上洗浄液3が必ずワーク10の上面10a及び外周面10bからなる領域の少なくとも一部に当たるように噴射されるように構成されている。本実施形態では、ワーク10の上面10a及び外周面10bが上洗浄液3で洗浄される。
 次に、本実施形態の洗浄装置1の詳細な構成について以下に説明する。
 図1に示すように、平面視において、ワーク10は、駆動手段8によるワークの移動方向M及びその直交方向Nに複数行及び複数列に等間隔に並んで配置されており、即ち行列状に配置されている。このワーク行列状配置において、複数個のワーク10がワークの移動方向Mに一列に並んでなるワーク群を「ワーク行15」とし、複数個のワーク10がワークの移動方向Mの直交方向Nに一列に並んでなるワーク群を「ワーク列16」とする。本実施形態では、ワーク行15の全行数は12行であり、ワーク列16の全列数は12列であり、即ち12行×12列である。したがって、ワーク10の全個数は144個である。
 さらに、このワーク行列状配置では、ワーク行15におけるワーク10、10間のピッチP1と、ワーク列16におけるワーク10、10間のピッチP2とは、互いに等しく設定されており、望ましくはそれぞれワーク10の外径Uに対して1.5~2.5倍の範囲に設定されるのが良い。
 上ノズル2及び下ノズル4は、平面視において、ワークの移動方向Mの直交方向Nに複数個交互に一列に等間隔に並んで配置されている。したがって、上ノズル2の配置位置と下ノズル4の配置位置とはワークの移動方向Mの直交方向Nにずれている。さらに、このように複数個の上ノズル2及び下ノズル4が交互に一列に並んでなるノズル群を「ノズル列6」とするとき、このノズル列6が更にワークの移動方向Mに等間隔に複数列配置されている。本実施形態では、ノズル列6の全列数は4列である。
 平面視において、ノズル列6における上ノズル2及び下ノズル4間のピッチP4は、ワーク列16におけるワーク10、10間のピッチP2に対して1/2倍に設定されている。さらに、平面視において、各下ノズル4は、駆動手段8により移動されるワークの移動領域Zの内側に配置されており、詳述するとワークの移動領域Zの内側の幅方向中間位置に配置されている。一方、平面視において、各上ノズル2は、ワークの移動領域Zの外側に配置されており、詳述するとワーク列16における互いに隣り合う2個のワーク10、10間の中間位置に配置されている。
 また、複数列(本実施形態では4列)のノズル列6、6間のピッチP3は、ワーク行15におけるワーク10、10間のピッチP1に対して2~11倍の範囲に設定されており、本実施形態ではP3はP1に対して3倍に設定されている。
 各上ノズル2及び各下ノズル4は、各上ノズル2から噴射される上洗浄液3の噴射広がり方向Hと各下ノズル4から噴射される下洗浄液5の噴射広がり方向Jとが互いに平行になるように配置されている。すなわち、各上ノズル2及び各下ノズル4は、それぞれ上洗浄液3及び下洗浄液5を、上洗浄液3の噴射広がり方向Hと下洗浄液5の噴射広がり方向Jとが互いに平行になるように噴射するものである。ここで、上述したように、平面視において、上ノズル2の配置位置と下ノズル4の配置位置とがワークの移動方向Mの直交方向Nにずれていることから、各上ノズル2及び各下ノズル4からそれぞれ上洗浄液3及び下洗浄液5を噴射しても、上洗浄液3と下洗浄液5は互いに直接干渉することはなく、すなわち上洗浄液3と下洗浄液5は互いに直接衝突することはない。
 さらに、各上ノズル2及び各下ノズル4からそれぞれ上洗浄液3及び下洗浄液5が、上洗浄液3及び下洗浄液5の噴射広がり方向H、Jがともにワークの移動方向Mに対して斜め方向になるように噴射される。ワークの移動方向Mに対して上洗浄液3及び下洗浄液5の噴射広がり方向H、Jがなす角度α、αは、ともに望ましくは25~80°の範囲に設定され、具体的にはα、αはともに例えば45°に設定される。
 各上ノズル2から噴射される上洗浄液3の単位時間当たりの噴射流量V1は、各下ノズル4から噴射される下洗浄液5の単位時間当たりの噴射流量V2よりも大きく設定されている(即ち、V1>V2)。望ましくはV1はV2に対して1.5~3.0倍の範囲に設定されるのが良い。具体的には、V1は例えば4.5~39L/minの範囲に設定され、V2は例えば3~13L/minの範囲に設定される。
 図2に示すように、各上ノズル2から噴射される上洗浄液3の噴射広がり角度θ1は、各下ノズル4から噴射される下洗浄液5の噴射広がり角度θ2よりも小さく設定されている(即ち、θ1<θ2)。望ましくはθ2はθ1に対して1.2~3.2倍の範囲に設定されるのが良い。具体的には、θ1は例えば25~65°の範囲に設定され、θ2は例えば40~80°の範囲に設定される。
 さらに、各下ノズル4とワーク10との間の鉛直方向の距離S2は、各上ノズル2とワーク10との間の鉛直方向の距離S1よりも短く設定されている(即ち、S2<S1)。望ましくはS1はS2に対して3~7倍の範囲に設定されるのが良い。具体的には、S2は例えば10~45mmの範囲に設定され、S1は例えば70~150mmの範囲に設定される。
 このようにS2がS1よりも短く設定され、換言するとS1がS2よりも長く設定されることにより、図1に示すように、平面視において、ワーク配置位置における各上ノズル2から噴射される上洗浄液3の噴射広がり幅Wが、ワーク配置位置における各下ノズル4から噴射される下洗浄液5の噴射広がり幅Yよりも大きく設定されている。
 詳述すると、上洗浄液3の噴射広がり幅Wにおけるワーク移動方向Mの直交方向Nの長さW1は、ワーク列16におけるワーク10、10間のピッチP2に対して2倍以上(更に詳述すると、2~3倍の範囲)に設定されている。これにより、上ノズル2から上洗浄液3を噴射した状態でワーク10を所定方向Mに移動させた場合に、上洗浄液3が、互いに隣り合う2つのワーク行15、15のうち一方のワーク行15の少なくとも1個(本実施形態では1又は2個)のワーク10の上面10a、外周面10b及び内周面10d(詳述すると内周面10dの上部)と、他方のワーク行15の少なくとも1個(本実施形態では1又は2個)のワーク10の上面10a、外周面10b及び内周面10d(詳述すると内周面10dの上部)とに当たるとともに、ワーク10の移動によって、ワーク10の上面10a全面、外周面10b全面及び内周面10d全面(詳述すると内周面10dの上部全面)が上洗浄液3で洗浄されるものとなされている。
 一方、下洗浄液5の噴射広がり幅Yにおけるワーク移動方向Mの直交方向Nの長さY1は、ワーク10の外径Uに対して等しいか又は長く設定されており、すなわちワーク列16におけるワーク10、10間のピッチP2に対して1倍以上(詳述すると、1~1.8倍の範囲)に設定されている。これにより、図2に示すように、下ノズル4から下洗浄液5を噴射した状態でワーク10を所定方向Mに移動させた場合に、下洗浄液5が、各ワーク行15における1個のワーク10の下面10c及び内周面10d(詳述すると内周面10dの下部)に当たるとともに、ワーク10の移動によって、ワーク10の下面10c全面及び内周面10d全面(詳述すると内周面10dの下部全面)が下洗浄液5で洗浄されるものとなされている。
 駆動手段8によるワーク10の移動速度は、例えば8~50mm/sの範囲である。ワーク10の移動距離は、ワーク行15におけるワーク10、10間のピッチP1の2倍の長さに対して等しいか又は長く設定され、望ましくはP1×2倍~P1×3倍の範囲に設定されるのが良い。
 さらに、ノズル列6における上ノズル2及び下ノズル4間のピッチP4と、ワークの移動方向Mに対して上洗浄液3及び下洗浄液5の噴射広がり方向H、Jがなす角度α、αとは、下洗浄液5がワーク10の下面10cに当たるときは、平面視において当該下洗浄液5を噴射した下ノズル4の両側に配置された2つの上ノズル2、2から噴射された上洗浄液3、3のうち少なくとも一方が必ず当該ワーク10の上面10a及び外周面10bからなる領域の少なくとも一部に当たるように設定されている。
 次に、本実施形態の洗浄装置1を用いたワーク10の洗浄方法について以下に説明する。
 図3に二点鎖線で示すように、洗浄装置1のワーク支持部材7に複数個のワーク10をその軸Qが鉛直になるように支持させる。これにより、平面視において、複数個のワーク10をワークの移動方向M及びその直交方向Nに複数行及び複数列に並べた行列状に配置する。
 次いで、洗浄装置1の各上ノズル2から上洗浄液3を下向きに扇形膜状に噴射するとともに、各下ノズル4から下洗浄液5を上向きに扇形膜状に噴射する。そしてこの状態を維持したままで、駆動手段8によって複数個のワーク10をワーク支持部材7を介して所定方向Mに一括して移動させる。
 すると、図1に示すように、上洗浄液3が、互いに隣り合う2つのワーク行15、15のうち一方のワーク行15の少なくとも1個(本実施形態では1又は2個)のワーク10の上面10a、外周面10b及び内周面10d(詳述すると内周面10dの上部)と他方のワーク行15の少なくとも1個(本実施形態では1又は2個)のワーク10の上面10a、外周面10b及び内周面10d(詳述すると内周面10dの上部)とに当たるとともに、ワーク10の移動によって、ワーク10の上面10a全面、外周面10b全面及び内周面10d全面(詳述すると内周面10dの上部全面)とが上洗浄液3で洗浄される。これと同時に、下洗浄液5が、各ワーク行15における1個のワーク10の下面10c及び内周面10d(詳述すると内周面10dの下部)に当たるとともに、ワーク10の移動によって、ワーク10の下面10c全面及び内周面10d(詳述すると内周面10dの下部全面)が下洗浄液5で洗浄される。以上の工程を「洗浄工程」という。
 この洗浄工程では、下洗浄液5がワーク10の下面10cに当たるときは、平面視において当該下洗浄液5を噴射した下ノズル4の両側に配置された2つの上ノズル2、2から噴射された上洗浄液3、3のうち少なくとも一方が必ず当該ワーク10の上面10a及び外周面10bからなる領域の少なくとも一部に当たる。そのため、下洗浄液5のワーク下面10cへの当たり力(衝突力)によりワーク10が浮き上がる不具合を防止することができる。これにより、ワーク10の下面10cを確実に洗浄することができるし、更にワーク10の下面10cがワーク支持部材7のワーク載置部7aに衝突することによるワーク下面10cの傷付きを防止することができる。
 さらに、上ノズル2及び下ノズル4からそれぞれ上洗浄液3及び下洗浄液5を、上洗浄液3と下洗浄液5が互いに干渉しないように噴射することにより、上洗浄液3及び下洗浄液5の洗浄力をそれぞれ向上させることができる。
 さらに、上ノズル2から噴射される上洗浄液3の単位時間当たりの噴射流量V1が、下ノズル4から噴射される下洗浄液5の単位時間当たりの噴射流量V2よりも大きいことにより、ワーク10の浮き上がりを確実に防止することができる。
 さらに、ワーク10は筒状(詳述すると円筒状)であり且つその軸Qを鉛直にして配置されており、洗浄工程では、ワーク10の上面10a、外周面10b及び内周面10d(詳述すると内周面10dの上部)を上洗浄液3で洗浄するとともに、ワーク10の下面10c及び内周面10d(詳述すると内周面10dの上部)を下洗浄液5で洗浄している。これにより、ワーク10が小径な筒状(円筒状)であっても当該ワーク10の全面、即ちワーク10の上面10a、外周面10b、下面10c及び内周面10dを洗浄することができる。
 さらに、上ノズル2及び下ノズル4はそれぞれフラットスプレーノズルから構成されており、洗浄工程では、上ノズル2及び下ノズル4からそれぞれ上洗浄液3及び下洗浄液5を扇形膜状に噴射している。そのため、上洗浄液3及び下洗浄液5のワーク10への当たり力が、フルコーンスプレーノズルから噴射される洗浄液のワーク10への当たり力よりも高くなっている。これにより、上洗浄液3及び下洗浄液5の洗浄力をそれぞれ更に向上させることができる。
 さらに、上ノズル2及び下ノズル4からそれぞれ上洗浄液3及び下洗浄液5を、上洗浄液3の噴射広がり方向Hと下洗浄液5の噴射広がり方向Jとが互いに平行になるように噴射することにより、上洗浄液3と下洗浄液5との干渉を確実に防止できるし、更には、上洗浄液3と下洗浄液5を互いに近接して噴射することができ、これにより、ワーク10を効果的に洗浄することができるし、洗浄装置1の小型化を図ることができる。
 さらに、平面視において、ワーク10は、ワークの移動方向Mの直交方向Nに複数個並んで配置されるとともに、上ノズル2と下ノズル4は、ワーク10の移動方向Mの直交方向Nに複数個交互に並んで配置されているので、複数個のワーク10を一括して洗浄することができる。
 さらに、平面視において、上ノズル2は、ワークの移動領域Zの外側に配置される一方、下ノズル4は、ワークの移動領域Zの内側に配置されているので、上洗浄液3でワーク10の上面10a及び外周面10bを確実に洗浄することができるし、ワーク10が小径な筒状(円筒状)であっても当該ワーク10の下面10c及び内周面10dを下洗浄液5で確実に洗浄することができる。
 さらに、洗浄工程では、平面視において、上ノズル2及び下ノズル4からそれぞれ上洗浄液3及び下洗浄液5を、上洗浄液3及び下洗浄液5の噴射広がり方向H、Jがともにワークの移動方向Mに対して斜め方向になるように噴射するので、ワークの移動方向Mの直交方向Nに複数個並んでワーク10が配置された場合において、互いに隣り合う2個のワーク10、10を1つの上ノズル2から噴射された上洗浄液3で洗浄することが可能となる。これにより、ワーク10を効率良く洗浄することができる。
 さらに、平面視において、ワーク10は、ワークの移動方向M及びその直交方向Nに複数行及び複数列に複数個並んで配置されており、洗浄工程では、上洗浄液3が互いに隣り合う2つのワーク行15、15のうち一方のワーク行15の少なくとも1個のワーク10と他方のワーク行15の少なくとも1個のワーク10とに当たるように、上洗浄液3を噴射するので、より多くのワーク10を一括して洗浄することができ、もってワーク10を更に効率良く洗浄することができる。
 また、ワーク配置位置における上ノズル2から噴射される上洗浄液3の噴射広がり幅Wが、ワーク配置位置における下ノズル4から噴射される下洗浄液5の噴射広がり幅Yよりも大きいことにより、上ノズル2及び下ノズル4からそれぞれ上洗浄液3及び下洗浄液5を、下洗浄液5がワーク10の下面10cに当たるときは上洗浄液3が必ずワーク10の上面10a及び外周面10bからなる領域の少なくとも一部に当たるように噴射するという、上洗浄液3及び下洗浄液5の噴射状態を確実に実現することができる。
 さらに、下ノズル4とワーク10との間の鉛直方向の距離S2が、上ノズル2とワーク10との間の鉛直方向の距離S1よりも短いので、ワーク10の下面10cを確実に洗浄することができる。
 また、ワーク10は感光ドラム基体であるから、ワーク10としての感光ドラム基体を洗浄することができる。特に、ワーク10としての基体は、その軸を鉛直にして配置されることで基体の軸方向両端面がそれぞれ上面及び下面となるので、切粉が付着している基体の両端面を確実に洗浄し得て切粉を確実に除去することができる。
 以上で本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、様々に変更可能である。
 例えば、上記実施形態では、上ノズル2及び下ノズル4の配置位置をそれぞれ固定した状態でワーク10を移動させる方式により、ワーク10の洗浄を行っているが、本発明では、その他に、ワーク10の配置位置を固定した状態で上ノズル2及び下ノズル4を移動させる方式により、ワーク10の洗浄を行うものであっても良い。
 もとより本発明では、ワーク10は感光ドラム基体以外のものであっても良い。
 本願は、2010年5月24日付で出願された日本国特許出願の特願2010-118371号の優先権主張を伴うものであり、その開示内容は、そのまま本願の一部を構成するものである。
 ここに用いられた用語及び表現は、説明のために用いられたものであって限定的に解釈するために用いられたものではなく、ここに示され且つ述べられた特徴事項の如何なる均等物をも排除するものではなく、この発明のクレームされた範囲内における各種変形をも許容するものであると認識されなければならない。
 本発明は、多くの異なった形態で具現化され得るものであるが、この開示は本発明の原理の実施例を提供するものと見なされるべきであって、それら実施例は、本発明をここに記載しかつ/または図示した好ましい実施形態に限定することを意図するものではないという了解のもとで、多くの図示実施形態がここに記載されている。
 本発明の図示実施形態を幾つかここに記載したが、本発明は、ここに記載した各種の好ましい実施形態に限定されるものではなく、この開示に基づいていわゆる当業者によって認識され得る、均等な要素、修正、削除、組み合わせ(例えば、各種実施形態に跨る特徴の組み合わせ)、改良及び/又は変更を有するありとあらゆる実施形態をも包含するものである。クレームの限定事項はそのクレームで用いられた用語に基づいて広く解釈されるべきであり、本明細書あるいは本願のプロセキューション中に記載された実施例に限定されるべきではなく、そのような実施例は非排他的であると解釈されるべきである。例えば、この開示において、「preferably」という用語は非排他的なものであって、「好ましいがこれに限定されるものではない」ということを意味するものである。この開示および本願のプロセキューション中において、ミーンズ・プラス・ファンクションあるいはステップ・プラス・ファンクションの限定事項は、特定クレームの限定事項に関し、a)「means for」あるいは「step for」と明確に記載されており、かつb)それに対応する機能が明確に記載されており、かつc)その構成を裏付ける構成、材料あるいは行為が言及されていない、という条件の全てがその限定事項に存在する場合にのみ適用される。この開示および本願のプロセキューション中において、「present invention」または「invention」という用語は、この開示範囲内における1または複数の側面に言及するものとして使用されている場合がある。このpresent inventionまたはinventionという用語は、臨界を識別するものとして不適切に解釈されるべきではなく、全ての側面すなわち全ての実施形態に亘って適用するものとして不適切に解釈されるべきではなく(すなわち、本発明は多数の側面および実施形態を有していると理解されなければならない)、本願ないしはクレームの範囲を限定するように不適切に解釈されるべきではない。この開示および本願のプロセキューション中において、「embodiment」という用語は、任意の側面、特徴、プロセスあるいはステップ、それらの任意の組み合わせ、及び/又はそれらの任意の部分等を記載する場合にも用いられる。幾つかの実施例においては、各種実施形態は重複する特徴を含む場合がある。この開示および本願のプロセキューション中において、「e.g.,」、「NB」という略字を用いることがあり、それぞれ「たとえば」、「注意せよ」を意味するものである。
 本発明は、感光ドラム基体等のワークの洗浄方法及び洗浄装置に利用可能である。
1:洗浄装置
2:上スプレーノズル
3:上洗浄液
4:下スプレーノズル
5:下洗浄液
6:ノズル列
7:ワーク支持部材
10:ワーク
10a:上面
10b:外周面
10c:下面
10d:内周面
15:ワーク行
16:ワーク列
M:ワークの移動方向
N:ワークの移動方向の直交方向
Z:ワークの移動領域
S1:上ノズルとワークとの間の鉛直方向の距離
S2:下ノズルとワークとの間の鉛直方向の距離

Claims (14)

  1.  ワークの上側に配置された上スプレーノズルから上洗浄液を下向きに噴射し且つワークの下側に配置された下スプレーノズルから下洗浄液を上向きに噴射した状態で、ワークを前記上下両ノズルに対して相対的に水平方向に移動させることにより、ワークの上面及び外周面のうち少なくとも上面を前記上洗浄液で洗浄するとともに、ワークの下面を前記下洗浄液で洗浄する洗浄工程を含み、
     前記洗浄工程では、前記上ノズル及び前記下ノズルからそれぞれ前記上洗浄液及び前記下洗浄液を、下洗浄液がワークの下面に当たるときは上洗浄液が必ずワークの上面及び外周面からなる領域の少なくとも一部に当たるように噴射することを特徴とする洗浄方法。
  2.  平面視において、前記上ノズルの配置位置と前記下ノズルの配置位置とがずれており、
     前記洗浄工程では、前記上ノズル及び前記下ノズルからそれぞれ前記上洗浄液及び前記下洗浄液を、上洗浄液と下洗浄液が互いに干渉しないように噴射する請求項1記載の洗浄方法。
  3.  前記上ノズルから噴射される前記上洗浄液の単位時間当たりの噴射流量が、前記下ノズルから噴射される前記下洗浄液の単位時間当たりの噴射流量よりも大きい請求項1又は2記載の洗浄方法。
  4.  ワークは筒状であり且つその軸を鉛直にして配置されており、
     前記洗浄工程では、ワークの上面、外周面及び内周面を前記上洗浄液で洗浄するとともに、ワークの下面及び内周面を前記下洗浄液で洗浄する請求項1~3のいずれかに記載の洗浄方法。
  5.  前記上ノズル及び前記下ノズルはそれぞれフラットスプレーノズルから構成されており、
     前記洗浄工程では、前記上ノズル及び前記下ノズルからそれぞれ前記上洗浄液及び前記下洗浄液を扇形膜状に噴射する請求項1~4のいずれかに記載の洗浄方法。
  6.  前記洗浄工程では、平面視において、前記上ノズル及び前記下ノズルからそれぞれ前記上洗浄液及び前記下洗浄液を、前記上洗浄液の噴射広がり方向と前記下洗浄液の噴射広がり方向とが互いに平行になるように噴射する請求項5記載の洗浄方法。
  7.  平面視において、ワークは、前記ワークの相対移動方向の直交方向に複数個並んで配置されるとともに、
     平面視において、前記上ノズルと前記下ノズルは、前記ワークの相対移動方向の直交方向に複数個交互に並んで配置されている請求項5又は6記載の洗浄方法。
  8.  平面視において、前記上ノズルは、前記ワークの相対移動領域の外側に配置される一方、前記下ノズルは、前記ワークの相対移動領域の内側に配置されている請求項5~7のいずれかに記載の洗浄方法。
  9.  前記洗浄工程では、平面視において、前記上ノズル及び前記下ノズルからそれぞれ前記上洗浄液及び前記下洗浄液を、上洗浄液及び下洗浄液の噴射広がり方向がともに前記ワークの相対移動方向に対して斜め方向になるように噴射する請求項5~8のいずれかに記載の洗浄方法。
  10.  平面視において、ワークは、前記ワークの相対移動方向及びその直交方向に複数行及び複数列に並んで配置されており、
     前記洗浄工程では、前記上洗浄液が互いに隣り合う2つのワーク行のうち一方のワーク行の少なくとも1個のワークと他方のワーク行の少なくとも1個のワークとに当たるように、前記上洗浄液を噴射する請求項5~9のいずれかに記載の洗浄方法。
  11.  ワーク配置位置における前記上ノズルから噴射される前記上洗浄液の噴射広がり幅が、ワーク配置位置における前記下ノズルから噴射される前記下洗浄液の噴射広がり幅よりも大きい請求項5~10のいずれかに記載の洗浄方法。
  12.  前記下ノズルとワークとの間の鉛直方向の距離が、前記上ノズルとワークとの間の鉛直方向の距離よりも短い請求項1~11のいずれかに記載の洗浄方法。
  13.  前記ワークは、感光ドラム基体である請求項1~12のいずれかに記載の洗浄方法。
  14.  ワークの上側に配置されるとともに上洗浄液を下向きに噴射する上スプレーノズルと、
     ワークの下側に配置されるとともに下洗浄液を上向きに噴射する下スプレーノズルと、
     ワークを前記上下両ノズルに対して相対的に水平方向に移動させる駆動手段と、を備え、
     前記上ノズル及び前記下ノズルからそれぞれ前記上洗浄液及び前記下洗浄液が噴射された状態で、前記駆動手段によってワークを相対移動させることにより、ワークの上面及び外周面のうち少なくとも上面を前記上洗浄液で洗浄するとともにワークの下面を前記下洗浄液で洗浄するように構成され、
     前記上ノズル及び前記下ノズルからそれぞれ前記上洗浄液及び前記下洗浄液が、下洗浄液がワークの下面に当たるときは上洗浄液が必ずワークの上面及び外周面からなる領域の少なくとも一部に当たるように噴射されることを特徴とする洗浄装置。
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