JP6233569B2 - ウエハ洗浄装置およびウエハ洗浄方法 - Google Patents

ウエハ洗浄装置およびウエハ洗浄方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6233569B2
JP6233569B2 JP2013207791A JP2013207791A JP6233569B2 JP 6233569 B2 JP6233569 B2 JP 6233569B2 JP 2013207791 A JP2013207791 A JP 2013207791A JP 2013207791 A JP2013207791 A JP 2013207791A JP 6233569 B2 JP6233569 B2 JP 6233569B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
cleaning
nozzle
wafers
gap
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2013207791A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015073008A (ja
Inventor
徹 古重
徹 古重
隆志 久保
隆志 久保
吉野 道朗
道朗 吉野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Original Assignee
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd filed Critical Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority to JP2013207791A priority Critical patent/JP6233569B2/ja
Publication of JP2015073008A publication Critical patent/JP2015073008A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6233569B2 publication Critical patent/JP6233569B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Description

本発明は、スライスベースに接着剤で接着されたウエハを洗浄するウエハ洗浄装置、およびウエハ洗浄方法に関する。
従来のシリコンウエハなどのウエハの製造工程について、図6〜図8を用いて説明する。
図6は従来のウエハ製造方法およびウエハ洗浄方法を示す工程図、図7は従来のウエハの分離方法を説明する図、図8は従来の洗浄液の噴射と超音波洗浄とを同時に行うウエハ洗浄装置を説明する図である。
まず、図6(a)に示すように、インゴット1と称される塊状物を、スライスベース2と称される保持体に接着剤3を介して固定する。次に、図6(b)に示すように、このスライスベース2に固定されたインゴット1を、ワイヤソー4などでスライスすることでウエハ状態にする。ワイヤソー4にてスライスした場合、ウエハ5には切削油やスラッジ(切り屑)13が付着する。そのため、図6(c),図6(d)に示すように、スライスベース2に固定された状態にて、ウエハ5を予備的に洗浄する。このとき従来の構成では、図6(c)に示すように、まず、洗浄液6で満たされた水槽7にウエハ5を浸し、ノズル8より洗浄液6を噴射してウエハ5をシャワー洗浄する。このとき、必ずしも水槽7は洗浄液6で満たされていなくても良く、水槽7内でウエハ5を洗浄液6から露出させ、その状態でウエハ5に洗浄液6を噴射しても良い。その場合、シャワー洗浄後、ウエハ5を洗浄液6に浸漬させる。次に、図6(d)に示すように、洗浄液6で満たされた水槽7にウエハ5を浸漬した状態で、ウエハ5を超音波装置9により超音波洗浄する。
次に、図7(a)および図7(b)に示すように、薬液もしくは熱水10で満たされた水槽11にスライスベース2に固定されたウエハ5を浸漬し、ウエハ5をスライスベース2に固定している接着剤3を薬液もしくは熱水10で軟化もしくは溶解させ、ウエハ5をスライスベース2から分離する。
次に、図7(c)および図7(d)に示すように、スライスベース2から分離されたウエハ5は、トレイ12に横方向(図7(c))もしくは縦方向(図7(d))に積層された後、図示されない枚葉装置を用いて一枚ずつ搬送アームを用いて搬送され、洗浄用のカセットに収納される。
次に、洗浄用カセットに収納されたウエハ5は、仕上げ洗浄、乾燥、ウエハ検査を経て製品ウエハとなる。
また、図8に示すように、スライスベース2に固定されたウエハ5を予備的に洗浄する他の手法として、水槽7にノズル8および超音波装置9を有した装置を用いる場合もあった。このウエハ洗浄装置は、水槽7内に超音波装置9と複数のノズル8とを備える構成であり、ノズル8はウエハ5の間に洗浄液6を噴射できる位置に向かい合い、且つ向かい合うノズル8からの流れが反対方向になるように配置される。このようなウエハ洗浄装置により、超音波を印加しながら洗浄液6を噴射することにより、超音波で緩んだスラッジ13等を洗い流していた(例えば、特許文献1参照)。
特表2009−529781号公報
しかしながら、前記従来のウエハ洗浄装置およびウエハ洗浄方法において、シャワー洗浄だけではウエハ表面に固着したスラッジ13等を十分に除去することができない場合があった。また、超音波洗浄だけでも、隣接したウエハの隙間にばらつきがあり十分な隙間が生じない場合に、ウエハ表面のスラッジ13等が十分に除去できないという課題を有していた。
また、超音波洗浄とシャワー洗浄を同時に行う構成についても、水槽7内において、ノズル8から噴射された洗浄液6の噴流により超音波が減衰してウエハ5の隙間の奥まで届かないことがあり、十分な超音波洗浄の効果が得られず、ウエハ5表面のスラッジ13等が十分に除去できないという課題を有していた。
次に、スラッジ等がウエハに残った場合に生ずる不具合について、図9を用いて説明する。
図9はスラッジ等による不具合を説明する図である。
前記従来のウエハ洗浄装置およびウエハ洗浄方法においては、図9(a)に示すように、特にスライスベース2とウエハ5との接着領域の近傍のウエハ5表面(以下、ウエハトップ部という)の洗浄性が低く、ウエハトップ部にスラッジ13が固着したまま後工程に流れる場合があった。
通常、一本のインゴット1からは1000枚以上のウエハ5が得られるため、ウエハトップ部に厚み方向に20μmのスラッジ13が固着したままになると、20μm×1000枚×2(表裏)=40mmの厚み差が生じることになる。したがって、図9(b)および図9(c)に示すように、トレイ12にウエハ5を横方向(図9(b))もしくは縦方向(図9(c))に積層する際、ウエハトップ部にスラッジ13が残ってウエハ5の一部の厚みが厚くなるため、ウエハ5の整列性が悪くなり、枚葉装置で搬送ができなくなる場合があった。または、図9(d)に示すように、積層されたウエハ5の下部に偏荷重が生じ、ウエハ5が割れてしまう(符号Xで示す領域参照)などの品質課題をも有していた。
さらに、仕上げ洗浄工程においては、スラッジ13を除去するのに多大な時間を要してしまうなど生産性の低下や、スラッジ13を完全には除去できないためウエハ検査機にて不良と判断されウエハの歩留低下の要因にもなっていた。
上記問題点を解決するため、本発明は、スライス後のウエハに付着したスラッジ等を確実に除去することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明のウエハ洗浄装置は、スライスベースに隙間を隔てて並べて固定された複数の平板状のウエハを洗浄するウエハ洗浄装置であって、洗浄液を貯留する水槽と、前記スライスベースを保持して前記複数のウエハを前記水槽の前記洗浄液に浸漬させる保持部と、前記水槽内に配置されて前記ウエハを超音波洗浄する超音波装置と、前記水槽内に配置されて前記ウエハの前記隙間に前記洗浄液を前記スライスベースの前記ウエハが接着される面と平行な方向に噴射する複数の第1のノズルと、前記水槽内の前記第1のノズルより前記ウエハのウエハトップ部に近い位置に配置されて前記ウエハの前記隙間に前記ウエハトップ部に向けて前記洗浄液を噴射する複数の第2のノズルとを有し、前記第1のノズルおよび前記第2のノズルは、前記ウエハの表面に対して直交する方向に互いに同期して往復運動する機構を備え、前記第2のノズルは、前記ウエハの表面に対して平行で、前記洗浄液の照射方向と直交する方向に往復運動する機構を備え、前記第1のノズルの往復運動が前記第2のノズルの往復運動より遅いタイミングで行われることを特徴とする。
さらに、本発明のウエハ洗浄方法は、スライスベースに隙間を隔てて並べて固定された複数の平板状のウエハを洗浄する際に、前記ウエハの隙間に超音波を照射する工程と、前記超音波を照射しながら前記ウエハの隙間に洗浄液を噴射して前記ウエハの隙間を広げる工程と、前記ウエハの隙間を広げた状態で前記隙間に前記洗浄液を噴射して洗浄する工程とを有し、前記ウエハの隙間を広げるための噴射が前記ウエハの表面と直交する面を形成し、前記洗浄するための噴射が前記ウエハの表面と平行な面を形成することを特徴とする。
以上のように、超音波洗浄と同時に、水平方向に広く洗浄液を噴射することによりウエハの間隔を広げながら、垂直方向に広く洗浄液を噴射することにより、スライス後のウエハに付着したスラッジを十分に除去することができ、ウエハの品質を向上するとともに後工程の生産性を向上することができる。
実施の形態1におけるウエハ洗浄装置の構成を示す図 実施の形態1のウエハ洗浄装置におけるノズルの構成を説明する図 実施の形態1のウエハ洗浄装置におけるノズルの可動構成を説明する図 実施の形態1のウエハ洗浄装置における超音波洗浄装置とノズルの構成例を示す図 実施の形態2におけるウエハ洗浄装置の構成を示す図 従来のウエハ製造方法およびウエハ洗浄方法を示す工程図 従来のウエハの分離方法を説明する図 従来の洗浄液の噴射と超音波洗浄とを同時に行うウエハ洗浄装置を説明する図 スラッジ等による不具合を説明する図
一般的に、ウエハは、スライスベースに接着剤を介して接着されるインゴットをスライスして、スライス面を表面とする平板状のウエハとして形成される。各ウエハは、隣り合うウエハのスライス面である表面が向かい合うように並んでおり、向かい合う表面の間には、スライスの際に生じる隙間が形成されている。スライスの際に、ウエハには切削油やスラッジ(切り屑)等の汚れが付着する。そのため、スライスベースに固定された状態にて、ウエハを予備的に洗浄している。その後、ウエハは、仕上げ洗浄、乾燥、ウエハ検査を経て製品ウエハとなる。
本発明は、スライスベースに固定された状態のウエハに対する予備的な洗浄を行うウエハ洗浄装置およびウエハ洗浄方法に関するものである。
以下、本発明の実施の形態について、図1から図4を用いて説明する。
(実施の形態1)
図1は実施の形態1におけるウエハ洗浄装置の構成を示す図、図2は実施の形態1のウエハ洗浄装置におけるノズルの構成を説明する図、図3は実施の形態1のウエハ洗浄装置におけるノズルの可動構成を説明する図、図4は実施の形態1のウエハ洗浄装置における超音波洗浄装置とノズルの構成例を示す図である。
図1(a)および図1(b)に示すように、本発明の実施の形態1における洗浄装置は、スライスベース2に接着剤3で接着された複数のウエハ5を洗浄する装置である。複数のウエハ5は、接着剤3でスライスベース2に接着されたインゴットを所定の厚みにスライスすることにより製造され、スライスベース2におおむね平行に接着された状態である。実施の形態1におけるウエハ洗浄装置の構成は、洗浄液6を貯留する水槽7と、スライスベース2を保持する保持部14と、複数の隣接したウエハ5の隙間に洗浄液6を噴出する複数のノズル8Aおよび複数のノズル8Bと、複数のウエハ5に超音波洗浄処理を実施する超音波装置9とを有するものである。保持部14は、スライスベース2を複数のウエハ5が下向きになる状態で保持し、ウエハ5を水槽7の洗浄液6に浸漬させる。
ノズル8Aおよび8Bはそれぞれ水平方向に等間隔で複数個ずつ配置され、かつ上下2列に配置される。また、超音波装置9から発生される超音波の向きは、ノズル8Aおよび8Bから噴出される噴流の向きと平行かつ逆方向になるように設置される。すなわち、複数のウエハ5は、ノズル8Aおよび8Bと超音波装置9の間に位置するように配置されている。また、本実施の形態では、ノズル8Aはノズル8Bの下方に設置され、ノズル8Bはノズル8Aに比べて、ウエハ5のスライスベース2に近い領域、ウエハトップ部15に近い領域に洗浄液6を噴射する構成である。
複数のノズル8Aの噴流は水平方向に広がる扇形状(図2(a))、もしくはフラット形状(図2(b))に噴出され、噴流面はウエハ5のスライス面である表面とおおむね直行し、かつスライスベース2のウエハ5接着面と平行な面に広がり、すなわち複数のウエハ5にわたって噴射されるように広がる。また、複数のノズル8Bの噴流は垂直方向に広がる扇形状(図2(c))、もしくはフラット形状(図2(d))で噴出され、噴流面はウエハ5のスライス面である表面とおおむね平行する面、すなわちウエハ5の隙間内に噴射されるように広がる。
ここで、ウエハトップ部15のスラッジ13を効率よく除去するため、複数のノズル8Aは、噴射角もしくは噴流を調整して噴出する洗浄液6を水平方向に広げる。洗浄液6を水平方向に広げてウエハ5の隙間部分に噴射することにより、ウエハ5の互いの隙間を広げ、ウエハトップ部15に洗浄液6が噴射されやすくする。この状態で、複数のノズル8Bの噴射角もしくは噴流を調整して洗浄液6が水平方向に広がる幅を狭くして、噴流を集中的にウエハトップ部15近傍に噴出する。複数のノズル8Bの噴射角もしくは噴流が垂直方向に広がる幅は、複数の隣接したウエハ5の隙間を広げるための複数のノズル8Aの噴射角、もしくは噴流が水平方向に広がる幅よりも狭くする。複数のノズル8Aおよび8Bの噴射角は、特に限定されないものの例えば、ノズル8Aの噴射角は40°以上120°以下であり、ノズル8Bの噴射角は10°以上30°以下である。ノズル8Aが40°未満、または120°より大きく広がる場合、ウエハ間の開き量が少なくなり洗浄性が低下する。また、ノズルBの噴射角が10°未満の場合、ウエハトップ部15の狭い範囲にしか噴流が当たらなくなり、洗浄性が低下する。ノズルBの噴射角が30°より大きい場合、噴流が分散され、噴流が集中的に当てることができず洗浄性が低下する。
このように、ノズル8Aが水平方向に広く洗浄液6を噴出することにより、ウエハ5の隙間を広げることができる。また、ノズル8Bが垂直方向に広く洗浄液6を噴出することにより、広げられたウエハ5の隙間からウエハ5の表面全面にわたって洗浄液6を噴射できるので、ノズル8Bからの噴流がウエハトップ部15にも届きやすくなり、ウエハトップ部15を含めウエハ5に付着したスラッジ13等を確実に除去することができる。さらに、ノズル8Bがウエハ5の接着部分であるウエハトップ部15に向かって垂直方向に広く洗浄液6を噴射する構成とすることにより、より確実にウエハトップ部15のスラッジ13を除去することが可能となる。これにより、スライス後のウエハ5に付着したスラッジ13を十分に除去することができ、ウエハ5の品質を向上するとともに、後工程の生産性を向上することができる。また、ウエハ5の間隔を広げた状態で超音波洗浄を行うことができるため、超音波の減衰を抑制することもできる。特に、ノズル8Aをノズル8Bよりウエハトップ部15から離れた領域で、できるだけウエハトップ部15の反対側のウエハ5の先端部分に近い領域に配置することにより、ノズル8Aからの洗浄液6の噴出をウエハ5の先端領域に行うことができ、よりウエハ5の間隔を広げることが容易となる。
また、図3(a)に示すように、複数のノズル8Aおよび8Bは、水平方向に往復運動可能なように構成しても良く、図3(b)に示すように、複数のノズル8Bは、さらに垂直方向に往復運動可能なように構成されている。このように、ノズル8Aが水平方向に移動しながら洗浄液6を噴出することにより、全てのウエハ5に十分に洗浄液6を噴射して、確実にウエハ5の隙間を広げることができる。また、ノズル8Bが水平方向に移動しながら洗浄液6を噴出することにより全てのウエハ5の隙間に洗浄液6を噴射でき、同時に、ノズル8Bが垂直方向に移動しながら洗浄液6を噴出することにより、全てのウエハ5の隙間において、ウエハ5の表面全面に十分に洗浄液6を噴射し、スラッジ13等を確実に除去することができる。
ここで、複数のノズル8Aおよび8Bは上下方向に2列以上あってもよい。
なお、ノズル8A,8Bおよびウエハ5に対する超音波装置9の位置関係は任意であるが、図4に示すように、ウエハ5に対してノズル8A,8Bと同じ側に超音波装置9を配置しても良い。すなわち、超音波装置9から発生される超音波の向きは、複数のノズル8Aおよび8Bから噴出される洗浄液6の噴流の向きと同じ方向であって、複数のノズル8Aおよび8Bは超音波装置9と複数のウエハ5の間に配置されても良い。また、従来のウエハ洗浄装置のように、超音波装置9をウエハ5の先端側であるウエハ5の下方に配置した場合、洗浄によりウエハ5からはがれたスラッジ13等が超音波装置9上に堆積し、超音波装置9の性能が経時劣化することがあった。そのため、ノズル8A,8Bおよび超音波装置9を、図1,図4に示すように、ウエハ5の隙間と向かい合うウエハ5の側面領域に配置することが好ましい。これにより、ウエハ5に付着したスラッジ13を十分に除去しながら、生産性を向上することができる。
次に、本発明の実施の形態1における洗浄装置を用いたウエハ洗浄方法について、図1から図4を用いて説明する。
まず、スライスベース2に固定された複数のウエハ5を洗浄液6で満たされた水槽7に完全に浸漬させる。
次に、複数のウエハ5に向かって、最上段の複数のノズル8Bおよび最下段の複数のノズル8Aから洗浄液6を噴出するとともに、超音波装置9から超音波を発振する。ここで、複数のノズル8Aおよび8Bから噴出される洗浄液6の流量は、特に限定はされないものの、例えばそれぞれ1.5L/分以上3.0L/分以下である。また、超音波装置9の周波数は、特に限定されないものの、例えば40kHzや100kHzである。
洗浄液6を最下段の複数のノズル8Aから噴出させることにより、複数の隣接したウエハ5の隙間が広げられる。その広げられたウエハの隙間に向かって、洗浄液6を最上段の複数のノズル8Bから噴出することにより、複数のウエハの表面を1枚ずつ洗浄していくことができる。
さらに、図3(b)に示すように、最上段の複数のノズル8Bの噴出口を上方に傾斜させ、なおかつ垂直方向に往復運動させることで、ウエハトップ部15表面に付着したスラッジ13を効率よく除去することができ、洗浄性をさらに向上することができる。なお、ノズル8Bが往復運動する垂直方向とは、ウエハ5の表面と平行で、かつ洗浄液6の噴出方向と直交する方向であり、配列されるウエハ5をノズル8Bから見たときに見える隙間と平行な方向である。ここで最上段の複数のノズル8Bの噴射口を上方に傾斜させる角度は特に限定されないものの、例えば、噴流をウエハトップ部15の広い範囲に当てて洗浄性を向上させるために、5°以上35°以下である。また、複数のノズル8Bが垂直方向に往復運動する速度は特に限定されないものの、例えば1.0mm/秒以上5.0mm/秒以下である。ノズル8Bは水平方向にも移動するため、速度が1.0mm/秒未満となるとウエハ5の表面に噴流が当たらない領域が発生する場合があり、洗浄性が低下する。また、速度が5.0mm/秒より大きくなると噴流を集中して当てることができない場合があり、洗浄性が低下する。
このとき図3(a)に示すように、複数のノズル8Aおよび8Bを水平方向に同期させながら往復運動させることで、複数の隣接したウエハ5の隙間を満遍なく広げ、洗浄性を向上することができる。なお、ノズル8Aおよび8Bが往復運動する水平方向とは、ウエハ5の表面と直交する方向であり、複数のウエハ5が配列された方向である。ここで、複数のノズル8Aおよび8Bが水平方向に往復運動する速度は、複数の隣接したウエハ5を一枚ずつ確実に洗浄させるため低速であるほうが好ましく、特に限定されないものの0.3mm/秒以上3.0mm/秒以下である。速度が0.3mm/秒未満になると、全てのウエハ5の隙間に噴射するための時間が長くなりすぎ、3.0mm/秒より早くなると、ウエハ5の隙間を広げる前に移動してしまい、洗浄性が低下する。
以上のように、実施の形態1におけるウエハ洗浄方法は、超音波洗浄を行うと同時に、水平方向に広い洗浄液6の噴流をウエハ5に照射しながら、水平方向の噴流より上側であるウエハトップ部15に近い場所から垂直方向に広い洗浄液6の噴流をウエハ5に向かって照射するものである。この方法により、シャワー洗浄と超音波洗浄を同時に行うことにより、洗浄効率の向上を図りながら、水平方向に広い噴射で隣り合うウエハ5の隙間を広げた状態で、広げた隙間にウエハトップ部15に向かって垂直方向に広い噴射で洗浄液6を照射することができるため、ウエハトップ部15においてもスラッジ等を十分に除去することができる。さらに、ウエハトップ部15に向かって垂直方向に広い洗浄液6を噴射することにより、より確実にウエハトップ部15のスラッジ等を除去することができる。
さらに、図3(c)に示すウエハ洗浄装置において、複数のノズル8Aおよび8Bが水平方向に同期して往復運動する際に、複数のノズル8Bがある位置から隣接するウエハ5の方向Vへと動き始めるタイミングを、複数のノズル8Aがその位置から隣接するウエハ5の方向Vへと動き始めるよりも遅らせるように調整しても良い。ノズル8Bが移動した後をノズル8Aが追随するようにノズル8Aおよび8Bが水平方向に往復運動することにより、ウエハトップ部15表面に複数のノズル8Bから洗浄液6の噴流を当てる時に、複数の隣接したウエハ5の隙間を最大に広げることができ、洗浄性をさらに向上することができる。
以上のように、本発明の実施の形態1におけるウエハ洗浄装置およびウエハ洗浄方法によれば、複数のウエハ5の表面に付着したスラッジ13を効率よく除去でき、製品ウエハの品質を向上するとともに、後工程の生産性を向上することができる。
(実施の形態2)
次に、図5を用いて実施の形態2におけるウエハ洗浄装置およびウエハ洗浄方法について説明する。
図5は実施の形態2におけるウエハ洗浄装置の構成を示す図である。
図5に示すように本発明の実施の形態2におけるウエハ洗浄装置は、スライスベース2に固定された複数のウエハ5を洗浄する洗浄装置であり、洗浄液6を貯留する第1の水槽7Aと洗浄液6を貯留する第2の水槽7Bと、スライスベース2に固定された複数のウエハ5を第1の水槽7Aから第2の水槽7Bに搬送する搬送機構(ウエハ5の移動を示す符号T参照)を有している。
第1の水槽7Aと第2の水槽7Bはそれぞれ、複数のウエハ5がスライスベース2の下方になるようにウエハ5を保持する第1の保持部14A、第2の保持部14Bと、複数の隣接したウエハ5の隙間に、洗浄液6を噴出する複数のノズル8Aおよび8Bと複数のノズル80Aおよび80Bと、複数のウエハ5に超音波処理を実施する超音波装置9A、超音波装置9Bとを有している。
実施の形態1のウエハ洗浄装置と同様に、洗浄液6を噴出するノズル8Aおよび8Bと、洗浄液6を噴出するノズル80Aおよび80Bは、それぞれ水平方向に複数個、等間隔で設置され、かつ少なくとも上下段2列に設置されている。また、最上段に設置された複数のノズル8B、80Bからは洗浄液6が垂直方向に広がるように噴出され、最下段に設置された複数のノズル8A、80Aからは洗浄液6が水平方向に広がるように噴出される。また、複数のノズル8B、80Bは、下からウエハトップ部15に向かう方向である上向きに洗浄液6を噴出しても良い。
超音波装置9Aおよび超音波装置9Bから発生される超音波の向きは、それぞれ複数のノズル8Aおよび8Bと複数のノズル80Aおよび80Bから噴出される噴流の向きと、平行かつ逆方向になるように設置されており、複数のウエハ5は、それぞれ複数のノズル8Aおよび8Bと超音波装置9Aとの間に、複数のノズル80Aおよび80Bと超音波装置9Bとの間に位置するように配置されている。
なお、実施の形態2におけるウエハ洗浄装置では、第2の水槽7Bでは、汚れを満遍なく除去するために複数のノズル80Aおよび80Bと超音波装置9Bとのウエハ5に対する位置関係が、第1の水槽7Aとは対称に設置されており、第1の水槽7Aとは反対の方向から複数のウエハ5に向かって複数のノズル80Aより洗浄液6を噴出するとともに超音波装置9Bより超音波を発振する構成である。
このように、実施の形態1のウエハ洗浄装置と同様に、超音波装置9Aから超音波を発振させた状態で、ノズル8Aが水平方向に広く洗浄液6を噴出することにより、ウエハ5の隙間を広げることができる。また、ノズル8Bが垂直方向に広く洗浄液6を噴出することによりウエハ5の隙間に洗浄液6を噴射でき、ウエハ5の表面全面に十分に洗浄液6を噴射し、スラッジ13等を確実に除去することができる。さらに、実施の形態2のウエハ洗浄装置では、ウエハ5に対して超音波装置9Aと逆方向から超音波装置9Bにより同様に超音波を発振させた状態で、ウエハ5に対してノズル8Aおよび8Bと逆方向からノズル80Aおよび80Bにより同様に洗浄液6を噴出することにより、異なる2方向から超音波洗浄およびシャワー洗浄を行うことができ、より、スラッジ13等を確実に除去することができる。
さらに、実施の形態1のウエハ洗浄装置と同様に、超音波装置9A,9Bから超音波を発振させた状態で、ノズル8A,80Aが水平方向に移動しながら洗浄液6を噴出することもでき、全てのウエハ5に十分に洗浄液6を噴射して、確実にウエハ5の隙間を広げることができる。また、ノズル8B,80Bが水平方向に移動しながら洗浄液6を噴出することにより全てのウエハ5の隙間に洗浄液6を噴射することもでき、同時に、ノズル8B,80Bが垂直方向に移動しながら洗浄液6を噴出することもでき、全てのウエハ5の隙間において、ウエハ5の表面全面に十分に洗浄液6を噴射し、スラッジ13等を確実に除去することができる。
ここで、複数のノズル8Aおよび8Bと複数のノズル80A、80Bは、上下方向に2列以上あってもよい。
次に、本発明の実施の形態2におけるウエハ洗浄方法について説明する。
まず、スライスベース2に固定された複数のウエハ5を洗浄液6で満たされた第1の水槽7Aに完全に浸漬させる。
次に、複数のウエハ5に向かって、複数のノズル8Aおよび8Bから洗浄液6を噴出する第1のシャワー洗浄を行うとともに、超音波装置9Aより超音波を発振して第1の超音波洗浄を行う。ここで、複数のノズル8Aより噴出される洗浄液6の流量は、特に限定されないものの、例えば1.5L/分以上3.0L/分以下である。また、超音波装置9Aの周波数は特に限定されないものの、例えば40kHzや100kHzである。
実施の形態1のウエハ洗浄方法と同様に、洗浄液6を最下段の複数のノズル8Aから水平方向に広く噴出させることにより、複数の隣接したウエハ5の隙間が広げられる。その広げられたウエハ5の隙間に向かって、洗浄液6を最上段の複数のノズル8Bから垂直方向に広く噴出することにより、複数のウエハの表面を1枚ずつ洗浄していくことができる。
さらに、実施の形態1と同様に、図3(b)に示すように、最上段の複数のノズル8Bの噴出口を上方に傾斜させ、なおかつ垂直方向に往復運動させることもでき、ウエハトップ部15表面に付着したスラッジ13を効率よく除去することができるので、洗浄性をさらに向上することができる。ここで、最上段の複数のノズル8Bの噴射口を上方に傾斜させる角度は特に限定されないものの、例えば5°以上35°以下である。また、複数のノズル8Bが垂直方向に往復運動する速度は特に限定されないものの、例えば1.0mm/秒以上5.0mm/秒以下である。
このとき実施の形態1と同様に、図3(a)に示すように、複数のノズル8Aおよび8Bを水平方向に同期させながら往復運動させることで、複数の隣接したウエハ5の隙間を満遍なく広げ、洗浄性を向上することができる。ここで、複数のノズル8Aおよび8Bが水平方向に往復運動する速度は、複数の隣接したウエハ5を一枚ずつ確実に洗浄させるため低速であるほうが好ましく、特に限定されないものの、0.3mm/秒以上3.0mm/秒以下である。
次に、スライスベース2に固定された複数のウエハ5を、搬送機構を用いて水槽7Aから洗浄液6で満たされた第2の水槽7Bに搬送し、完全に浸漬させる(符号T参照)。
この第2の水槽7Bでは、汚れを満遍なく除去するために複数のノズル80Aおよび80Bと、超音波装置9Bが第1の水槽7Aとは対称に設置されており、第1の水槽7Aとは反対の方向から複数のウエハ5に向かって、複数のノズル80Aより洗浄液6を噴出する第2のシャワー洗浄を行うとともに、超音波装置9Bより超音波を発振する第2の超音波洗浄を行う。ここで、複数のノズル80Aより噴出される洗浄液6の流量は、特に限定されないものの、例えば1.5L/分以上3.0L/分以下である。
また、超音波装置9Bの周波数は特に限定されないものの、例えば40kHzや100kHzである。
洗浄液6を最下段の複数のノズル80Aから水平方向に広く噴出させることにより、複数の隣接したウエハ5の隙間が広げられる。その広げられたウエハの隙間に向かって、洗浄液6を最上段の複数のノズル80Bから垂直方向に広く噴出することにより、複数のウエハ5の表面を1枚ずつ洗浄していくことができる。
さらに実施の形態1と同様に、図3(b)に示すように、最上段の複数のノズル8Bの噴出口を上方に傾斜させ、なおかつ垂直方向に往復運動させることで、ウエハトップ部15表面に付着したスラッジ13を効率よく除去することができ、洗浄性をさらに向上することができる。ここで、最上段の複数のノズル80Bの噴射口を上方に傾斜させる角度は特に限定されないものの、例えば5°以上35°以下である。また、複数のノズル8Bが垂直方向に往復運動する速度は特に限定されないものの、例えば1.0mm/秒以上5.0mm/秒以下である。
このとき実施の形態1と同様に図3(a)に示すように、複数のノズル80Aおおび80Bを水平方向に同期させながら往復運動させることで、複数の隣接したウエハ5の隙間を満遍なく広げ、洗浄性を向上することができる。ここで、複数のノズル80Aおよび80Bが水平方向に往復運動する速度は、複数の隣接したウエハ5を一枚ずつ確実に洗浄させるため低速であるほうが好ましく、特に限定されないものの0.3mm/秒以上3.0mm/秒以下である。
このように、実施の形態2におけるウエハ洗浄方法は、実施の形態1におけるウエハ洗浄方法と同様に、超音波洗浄を行うと同時に、水平方向に広い洗浄液6の噴流をウエハ5に照射しながら、水平方向の噴流より上側であるウエハトップ部15に近い場所から垂直方向に広い洗浄液6の噴流をウエハ5に向かって上向きに照射して第1の超音波洗浄および第1のシャワー洗浄を行い、その後、ウエハ5に対して第1の超音波洗浄と逆方向から超音波を発振して第2の超音波洗浄を行いながら、ウエハ5に対して第1のシャワー洗浄と逆方向から洗浄液6を噴出して第2のシャワー洗浄を行うものである。この方法により、シャワー洗浄と超音波洗浄を同時に行った後、異なる方向から再度シャワー洗浄と超音波洗浄を同時に行うことにより、洗浄効率の向上を図りながら、ウエハトップ部15においてもスラッジ等を十分に除去することができる。
以上のように、第1の水槽7Aおよび第2の水槽7Bにおける洗浄により、複数のウエハ5の全体のスラッジ13を効率よく除去でき、製品ウエハの品質を向上することができるとともに、第1の水槽7Aと第2の水槽7Bの二つの槽を有することで、サイクルタイムを早くすることが可能となり、生産性も向上する効果が得られる。
本発明は、ウエハのスラッジを効率よく除去でき、スライスベースに接着剤で接着されたウエハを洗浄するウエハ洗浄装置、およびウエハ洗浄方法等に有用である。
1 インゴット
2 スライスベース
3 接着剤
4 ワイヤソー
5 ウエハ
6 洗浄液
7 水槽
8 ノズル
9 超音波装置
10 薬液もしくは熱水
11 水槽
12 トレイ
13 スラッジ
14 保持部
15 ウエハトップ部
16 表面
7A 第1の水槽
7B 第2の水槽
8A ノズル
8B ノズル
9A 第1の超音波装置
9B 第2の超音波装置
14A 第1の保持部
14B 第2の保持部
80A 第1のノズル
80B 第2のノズル

Claims (8)

  1. スライスベースに隙間を隔てて並べて固定された複数の平板状のウエハを洗浄するウエハ洗浄装置であって、
    洗浄液を貯留する水槽と、
    前記スライスベースを保持して前記複数のウエハを前記水槽の前記洗浄液に浸漬させる保持部と、
    前記水槽内に配置されて前記ウエハを超音波洗浄する超音波装置と、
    前記水槽内に配置されて前記ウエハの前記隙間に前記洗浄液を前記スライスベースの前記ウエハが接着される面と平行な方向に噴射する複数の第1のノズルと、
    前記水槽内の前記第1のノズルより前記ウエハのウエハトップ部に近い位置に配置されて前記ウエハの前記隙間に前記ウエハトップ部に向けて前記洗浄液を噴射する複数の第2のノズルと
    を有し、
    前記第1のノズルおよび前記第2のノズルは、前記ウエハの表面に対して直交する方向に互いに同期して往復運動する機構を備え、
    前記第2のノズルは、前記ウエハの表面に対して平行で、前記洗浄液の照射方向と直交する方向に往復運動する機構を備え、
    前記第1のノズルの往復運動が前記第2のノズルの往復運動より遅いタイミングで行われる
    ことを特徴とするウエハ洗浄装置。
  2. 前記第2のノズルから噴出される噴流は、前記ウエハの表面と平行な面を形成し、扇状もしくはフラット形状をなし、
    前記第1のノズルから噴出される噴流は、前記ウエハの表面と直交し、前記スライスベースの接着面と平行な面を形成し、扇状もしくはフラット形状をなすことを特徴とする請求項1に記載のウエハ洗浄装置。
  3. 前記第2のノズルから噴出される噴流幅は、前記第1のノズルから噴出される噴流幅よりも狭いことを特徴とする請求項1または2に記載のウエハ洗浄装置。
  4. 前記超音波装置と前記第1のノズルおよび前記第2のノズルとの間に前記ウエハが配置されることを特徴とする請求項1〜請求項のいずれか1項に記載のウエハ洗浄装置。
  5. 前記超音波装置と前記第1のノズルおよび前記第2のノズルとが、前記ウエハに対して、同一の側面側に配置されることを特徴とする請求項1〜請求項のいずれか1項に記載のウエハ洗浄装置。
  6. 前記保持部,前記超音波装置、前記第1のノズルおよび前記第2のノズルを備える前記水槽を2つ有し、
    前記超音波装置と前記第1のノズルおよび前記第2のノズルとの前記ウエハに対する配置位置が、前記水槽ごとに逆になる
    ことを特徴とする請求項記載のウエハ洗浄装置。
  7. スライスベースに隙間を隔てて並べて固定された複数の平板状のウエハを洗浄する際に、
    前記ウエハの隙間に超音波を照射する工程と、
    前記超音波を照射しながら前記ウエハの隙間に洗浄液を噴射して前記ウエハの隙間を広げる工程と、
    前記ウエハの隙間を広げた状態で前記隙間に前記洗浄液を噴射して洗浄する工程と
    を有し、前記ウエハの隙間を広げるための噴射が前記ウエハの表面と直交する面を形成し、前記洗浄するための噴射が前記ウエハの表面と平行な面を形成することを特徴とするウエハ洗浄方法。
  8. スライスベースに隙間を隔てて並べて固定された複数の平板状のウエハを洗浄する際に、
    第1の方向から前記ウエハの隙間に第1の超音波を照射する工程と、
    前記第1の超音波を照射しながら、前記ウエハに対して前記第1の方向と逆方向となる第2の方向から前記ウエハに洗浄液を噴射して前記ウエハの隙間を広げる工程と、
    前記ウエハの隙間を広げた状態で前記第2の方向から前記隙間に前記洗浄液を噴射して洗浄する工程と、
    前記第2の方向から前記ウエハの隙間に第2の超音波を照射する工程と、
    前記第2の超音波を照射しながら、前記ウエハに対して前記第1の方向から前記ウエハに前記洗浄液を噴射して前記ウエハの隙間を広げる工程と、
    前記第1の方向から前記洗浄液を噴射して前記ウエハの隙間を広げた状態で前記第1の方向から前記隙間に前記洗浄液を噴射して洗浄する工程と
    を有し、前記ウエハの隙間を広げるための噴射が前記ウエハの表面と直交する面を形成し、前記洗浄するための噴射が前記ウエハの表面と平行な面を形成することを特徴とするウエハ洗浄方法。
JP2013207791A 2013-10-03 2013-10-03 ウエハ洗浄装置およびウエハ洗浄方法 Expired - Fee Related JP6233569B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013207791A JP6233569B2 (ja) 2013-10-03 2013-10-03 ウエハ洗浄装置およびウエハ洗浄方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013207791A JP6233569B2 (ja) 2013-10-03 2013-10-03 ウエハ洗浄装置およびウエハ洗浄方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015073008A JP2015073008A (ja) 2015-04-16
JP6233569B2 true JP6233569B2 (ja) 2017-11-22

Family

ID=53015186

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013207791A Expired - Fee Related JP6233569B2 (ja) 2013-10-03 2013-10-03 ウエハ洗浄装置およびウエハ洗浄方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6233569B2 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101905671B1 (ko) * 2016-11-15 2018-10-10 한국에너지기술연구원 파손 방지 효과가 우수한 실리콘 웨이퍼 세척 장치 및 세척 방법
CN113136582B (zh) * 2021-03-12 2023-09-22 昆明汇泉高纯半导材料有限公司 一种单晶炉石墨加热器制备用钽箔预处理装置
CN114472307A (zh) * 2021-12-31 2022-05-13 华海清科股份有限公司 一种晶圆竖直刷洗装置
KR102519871B1 (ko) * 2022-10-28 2023-04-11 손귀욱 반도체 웨이퍼 낱장 분리시스템
KR102507049B1 (ko) * 2022-10-28 2023-03-07 손귀욱 듀얼 박리 시스템을 기반으로 한 웨이퍼 낱장 분리장치
KR102507055B1 (ko) * 2022-10-28 2023-03-07 손귀욱 변위센서를 기반으로 한 웨이퍼 낱장 분리장치

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002110591A (ja) * 2000-09-27 2002-04-12 Takata Corp ワイヤーソー後ウエハ洗浄装置及び洗浄方法
DE102008004548A1 (de) * 2008-01-15 2009-07-16 Rec Scan Wafer As Waferstapelreinigung
JP5288974B2 (ja) * 2008-09-29 2013-09-11 京セラ株式会社 洗浄装置、基板の製造方法、および太陽電池素子

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015073008A (ja) 2015-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6233569B2 (ja) ウエハ洗浄装置およびウエハ洗浄方法
JP6336801B2 (ja) 基板乾燥装置
JP2015028971A (ja) ウエハ洗浄装置およびウエハ洗浄方法
RU2018136898A (ru) Способ и устройство для очистки подложек
KR101825231B1 (ko) 전자 부품의 세정 장치 및 세정 방법
JP6233570B2 (ja) ウエハ洗浄装置
JP2008288541A (ja) 枚葉式洗浄装置
JP6580177B2 (ja) 基板乾燥装置
KR101971151B1 (ko) 웨이퍼 세정 장치
KR102205607B1 (ko) 이물 제거 장치
JP7338817B2 (ja) 枚葉式ウエハ洗浄機においてsoi基板を処理するためのプロセス
JP5982650B2 (ja) ウエハ剥離装置
JP7249373B2 (ja) 研磨パッド洗浄装置
JP5849201B2 (ja) 切り残し部除去装置
JP2010063806A (ja) 食器洗浄装置および食器洗浄方法
US20140083456A1 (en) Method and apparatus for substrate edge cleaning
JPH05175184A (ja) ウエハの洗浄方法
JP2017119259A (ja) 洗浄装置及び洗浄方法
JP2010212408A (ja) 切断薄板相互間の密着防止方法及びその方法に用いられる密着防止装置
JP2008166426A (ja) 洗浄方法及び洗浄装置
JP2008279317A (ja) 付着物除去装置及び付着物除去方法
WO2011155440A1 (ja) 塗布装置および塗布装置における気泡排出方法
JP5717244B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
JP2006066793A (ja) ウエハ洗浄方法及びその装置
JP2018153748A (ja) 付着物除去方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160713

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170420

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170509

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170529

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170912

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20171010

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6233569

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees