TWI711494B - 洗淨裝置 - Google Patents

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Abstract

即使為翹曲激烈的板狀物，亦以簡易構成， 將板狀物的全面良好地洗淨。

洗淨裝置(1)形成為以下構成：具備 有：以外周緣保持板狀物(W)而使其以周方向旋轉的保持手段(10)；將旋轉中的板狀物進行洗淨的洗淨手段(20)；及對旋轉中的板狀物的上面(Wa)及下面(Wb)的各個噴射洗淨液的洗淨液噴射手段，洗淨手段具有：抵接於板狀物的上面，將板狀物進行洗淨的洗淨構件(23)；使洗淨構件以板狀物的徑方向擺動的擺動部(21)；及藉由洗淨構件抵接於呈彎曲的板狀物的上面而洗淨構件追隨板狀物的上面的追隨機構(22)，抵接於被保持在保持手段的板狀物的上面，藉由洗淨構件，沿著板狀物的上面，洗淨板狀物的上面。

Description

洗淨裝置
本發明係關於洗淨晶圓的洗淨裝置。
在以加工裝置所加工的晶圓等板狀物由於會附著污物等加工屑，因此藉由旋轉器裝置等洗淨裝置，洗淨板狀物。以該類洗淨裝置而言，已知一種保持板狀物的外周緣，以非接觸將板狀物的上面及下面進行洗淨者(參照例如專利文獻1)。在專利文獻1所記載的洗淨裝置中，在以把持夾具保持有板狀物的外周緣的3處的狀態下，洗淨液由上方的噴嘴被噴射至板狀物的上面，並且洗淨液由下方的噴嘴被噴射至板狀物的下面，板狀物的上面及下面即被同時洗淨。
此外，以洗淨裝置而言，已知一種為了彌補因由噴嘴噴射洗淨液所致之洗淨力不足，以海綿等擦拭板狀物的上面來進行刷洗洗淨的洗淨裝置(參照例如專利文獻2)。在專利文獻2所記載的洗淨裝置中，對洗淨平台上的板狀物，由上方的噴嘴被噴射洗淨液，筒狀的海綿輥旋轉抵接於板狀物的上面，藉此洗淨板狀物的上面。此時，使用板狀物的直徑以上的海綿輥，板狀物對海綿輥作 相對移動，藉此可使海綿輥抵接於板狀物的上面全體。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開平11-031643號公報
[專利文獻2]日本特開2014-110270號公報
但是，若以保持板狀物的外周緣的洗淨裝置實施使用海綿輥的刷洗洗淨，對於翹曲激烈的板狀物，無法以海綿輥良好地洗淨。亦即，若板狀物的翹曲激烈，海綿輥與板狀物僅有部分抵接，難以將板狀物的全面以海綿輥進行刷洗洗淨。亦考慮配備按照板狀物的翹曲而使海綿輥以鉛直方向上下動的機構，但是有洗淨裝置的裝置構成變得複雜而成本增加的問題。
本發明係鑑於該情形而完成者，目的在提供即使為翹曲激烈的板狀物，亦可以簡易構成，將板狀物的全面良好地洗淨的洗淨裝置。
本發明之洗淨裝置係具備有：以外周緣保持板狀物而使板狀物以周方向旋轉的保持手段；將被該保持手段所保持且正在旋轉的板狀物進行洗淨的洗淨手段；及 對被保持在該保持手段的板狀物的上面及下面的各個噴射洗淨液的洗淨液噴射手段，該洗淨裝置之特徵為：該洗淨手段係具備有：抵接於板狀物的上面，將板狀物進行洗淨的洗淨構件；及使該洗淨構件以板狀物的徑方向擺動，並且追隨呈彎曲的板狀物的上面的擺動部，抵接於被保持在該保持手段的板狀物的上面，該洗淨構件沿著板狀物的上面，將板狀物的上面進行洗淨。
藉由該構成，在板狀物的外周緣被保持的狀態下，洗淨液被噴射至板狀物的上面及下面，並且洗淨構件抵接於板狀物的上面，板狀物即被刷洗洗淨。此時，在板狀物以周方向被旋轉的狀態下，洗淨構件一邊追隨板狀物的上面的彎曲一邊以板狀物的徑方向被擺動，因此可使洗淨構件抵接於板狀物的上面全體。此外，洗淨構件抵接於板狀物的上面，沿著板狀物的上面，洗淨構件的動作被追隨，因此不需要有使洗淨構件以上下方向移動的機構，不會有裝置構成變得複雜的情形。如上所示，即使為翹曲激烈的板狀物，亦可以簡易構成，將板狀物的全面良好地洗淨。
在本發明之洗淨裝置中，該擺動部係具備有：被配設在擺動的前端而以鉛直方向導引該洗淨構件的鉛直導件；保持該洗淨構件而且被導引至該鉛直導件的保持具；及將該保持具在被導引至該鉛直導件的狀態下固定在該擺動部的該前端的彈簧，藉由該彈簧進行伸縮，沿著該鉛直導件，該保持具及該洗淨構件上下擺動而追隨呈彎 曲的板狀物的上面。
在本發明之洗淨裝置中，具備有：被配設在該擺動部的該前端且鉛直向下延伸的活塞構件；具備有扣合於該活塞構件的凹部且可以鉛直方向驅動的汽缸構件；對該汽缸構件的該凹部內鉛直朝下地噴射壓縮空氣的空氣噴射口；及被配設在該汽缸構件的下面側的該洗淨構件，由該活塞構件的該空氣噴射口，壓縮空氣被噴射至該凹部內且在該凹部內具有空間的狀態下，該洗淨構件抵接於板狀物，沿著該活塞構件，該汽缸構件及該洗淨構件上下擺動而追隨呈彎曲的板狀物的上面。
藉由本發明，因洗淨構件被壓入至呈彎曲的板狀物的上面，使洗淨構件的動作追隨板狀物的上面，即使為翹曲激烈的板狀物，亦可以簡易構成，將板狀物的全面良好地洗淨。
1‧‧‧洗淨裝置
10‧‧‧保持手段
11‧‧‧夾臂
12‧‧‧旋轉平台
13‧‧‧平台面
14‧‧‧噴射口(洗淨液噴射手段)
15‧‧‧噴射噴嘴(洗淨液噴射手段)
16、17‧‧‧供給源(洗淨液噴射手段)
20、40、60‧‧‧洗淨手段
21、41、61‧‧‧擺動部
22、42、62‧‧‧追隨機構
23、43、63‧‧‧洗淨構件
25‧‧‧導引板
26、46、52、66、76‧‧‧縱板部
27、47、53、67、77‧‧‧橫板部
28‧‧‧鉛直導件
29、49、64‧‧‧擺動臂
31、51、75‧‧‧保持具板(保持具)
32‧‧‧滑件
33、69、78‧‧‧開口
35、55‧‧‧彈簧
36、56、81‧‧‧構件保持具(保持具)
37、57‧‧‧上部保持具
38、58‧‧‧下部保持具
45、65‧‧‧L字板
48、68‧‧‧延長板
71‧‧‧活塞構件
72‧‧‧連接器
73‧‧‧空氣噴射口
81‧‧‧構件保持具
82‧‧‧構件保持具的凹部
83‧‧‧上部保持具(汽缸構件)
84‧‧‧下部保持具
90‧‧‧洗淨手段
91‧‧‧洗淨構件
W‧‧‧板狀物
Wa‧‧‧板狀物的上面
Wb‧‧‧板狀物的下面
圖1係本實施形態之洗淨裝置的模式圖。
圖2係藉由比較例之洗淨手段所為之洗淨動作的說明圖。
圖3係本實施形態之洗淨手段的斜視圖及側面模式圖。
圖4係顯示藉由本實施形態之洗淨手段所為之洗淨動作之一例的圖。
圖5係第1變形例之洗淨手段的斜視圖。
圖6係第2變形例之洗淨手段的斜視圖。
以下參照所附圖示，說明本實施形態之洗淨裝置。圖1係本實施形態之洗淨裝置的模式圖。其中，以下所示之洗淨裝置係顯示一例者，並非限定於該構成。
如圖1所示，洗淨裝置1係所謂邊緣夾具式的洗淨裝置，構成為藉由保持加工完畢的板狀物W的外周緣，在使板狀物W由保持手段10的平台面13上浮的狀態下進行洗淨。在洗淨裝置1中，相對平台面13，板狀物W以非接觸被洗淨，因此污物等加工屑難以附著在板狀物W的下面Wb。其中，板狀物W若為成為洗淨對象者即可，亦可為例如矽、砷化鎵等半導體基板、藍寶石、碳化矽等無機材料基板、電子零件所使用的各種陶瓷基板。
洗淨裝置1的保持手段10係以複數(在本實施形態中為4個)夾臂11保持板狀物W的外周緣，藉由安裝有各夾臂11的旋轉平台12，使板狀物W以周方向旋轉。各夾臂11係可擺動地被連結在旋轉平台12的外周部分，藉由由彈簧或空氣汽缸等所成之開閉機構進行動作。藉由各夾臂11的前端側朝旋轉平台12的內側傾斜，板狀 物W的外周緣即被保持，藉由各夾臂11的前端側朝旋轉平台12的外側傾斜，板狀物W的外周緣即被解放。
在旋轉平台12的下部係連結有驅動馬達(未圖示)，藉由驅動馬達，旋轉平台12繞鉛直軸旋轉。在旋轉平台12的平台面13的中心係形成有對板狀物W的下面Wb噴射洗淨液的噴射口14。在旋轉平台12的上方係定位有對板狀物W的上面Wa噴射洗淨液的噴射噴嘴15。在噴射口14及噴射噴嘴15連接有洗淨液的供給源16、17，藉由該等噴射口14、噴射噴嘴15、供給源16、17，構成洗淨液噴射手段。此外，在洗淨裝置1設有將被保持在保持手段10的旋轉中的板狀物W進行洗淨的洗淨手段20。
但是，如圖2的比較例所示，一般的洗淨手段90前提為：構成為以水平方向進行刷洗洗淨，板狀物W相對保持手段10(參照圖1)以水平姿勢予以保持。因此，若在板狀物W發生翹曲，無法使洗淨構件91均一地抵接於板狀物W的全面。亦即，在板狀物W的高位置與低位置，洗淨構件91的抵碰情形或海綿部分的壓擠情形會改變，對板狀物W，無法以均一條件進行刷洗洗淨。因此，有污物等加工物殘留在板狀物W的表面之虞。
此時，亦考慮設置按照板狀物W的翹曲而使洗淨手段90以鉛直方向上下動的機構，但是有必須進行電性控制而洗淨手段90的構造變得複雜的問題。此外，一般在機械式構造上考慮強度而使用金屬製零件，但是有 重量增加且因被使用在洗淨液的藥品而腐蝕之虞。因此，在本實施形態中，當洗淨構件23抵接於板狀物W時，使洗淨構件23的動作追隨板狀物W的上面Wa。此外，使用輕量且抗藥性高的樹脂材料，形成洗淨手段20。
以下參照圖3，詳細說明本實施形態之洗淨手段。圖3係本實施形態之洗淨手段的斜視圖及側面模式圖。其中，分別圖3A顯示洗淨手段的斜視圖，圖3B顯示洗淨手段的側面模式圖。
如圖3A及圖3B所示，洗淨手段20係構成為：在藉由保持手段10(參照圖1)，板狀物W以周方向旋轉的狀態下，以擺動部21使洗淨構件23以板狀物W的徑方向擺動，且使洗淨構件23抵接於板狀物W的上面Wa，將板狀物W的上面Wa進行洗淨。擺動部21的擺動臂29係藉由樹脂材料形成為長形，可旋轉地被軸支在基端側的擺動軸(未圖示)。擺動部21係具備有使洗淨構件23追隨板狀物W的上面Wa的彎曲的追隨機構22。此外，在擺動部21係透過該追隨機構22安裝有被收容在構件保持具36的洗淨構件23。
追隨機構22係使被固定在擺動臂29的前端側的導引板25、及保持洗淨構件23的保持具板(保持具)31以彈簧35相連結而構成。導引板25係藉由樹脂材料的縱板部26與橫板部27，形成為側面視為倒L字狀。在導引板25的縱板部26的前面，以水平方向隔著間隔設有透過保持具板31而以鉛直方向導引洗淨構件23的 一對鉛直導件28。在導引板25的橫板部27的下面係連結有以樹脂材料形成的彈簧35的上端。
保持具板31係以樹脂材料形成為以擺動部21的延長方向延伸的長形狀。在保持具板31的基端側係立設有藉由一對鉛直導件28而被導引成鉛直方向的滑件32，在滑件32的上面係連結有彈簧35的下端。在保持具板31的前端側係形成有可安裝構件保持具(保持具)36的開口33。構件保持具36係由以樹脂材料形成為圓筒狀的上部保持具37、及下部保持具38所構成，透過各保持具的上端側的凸緣部分而被螺止在保持具板31。
上部保持具37與下部保持具38係使上部保持具37的筒狀部分進入至下部保持具38的筒狀部分的內側而加以組合，在上部保持具37的筒狀部分的下端與下部保持具38的底壁部分之間安裝有洗淨構件23。在下部保持具38的底壁部分係形成有開口39，通過該開口39，洗淨構件23由下部保持具38朝下方突出。洗淨構件23係以PVA(Polyvinyl Alcohol，聚乙烯醇)形成為海綿狀，以上部保持具37的筒狀部分與下部保持具38的底壁部分夾入而被固定在構件保持具36。
在洗淨手段20中，藉由呈彎曲的板狀物W的上面Wa，被壓入洗淨構件23，洗淨構件23追隨板狀物W的上面Wa的彎曲。亦即，若洗淨構件23抵接於呈彎曲的板狀物W的上面Wa，彈簧35對應板狀物W的彎曲而伸縮，藉此沿著一對鉛直導件28，保持具板31、構件 保持具36、洗淨構件23一體地上下擺動。藉此，在板狀物W以周方向被旋轉的狀態下，洗淨構件23一邊追隨板狀物W的上面Wa的彎曲一邊以板狀物W的徑方向予以擺動，因此洗淨構件23抵接於板狀物W的上面全體。其中，按照板狀物W的種類，使用適當的彈簧常數者，作為彈簧35。
參照圖4，說明藉由洗淨手段所為之洗淨動作。圖4係顯示藉由本實施形態之洗淨手段所為之洗淨動作之一例的圖。其中，分別圖4A顯示板狀物的外周緣側的洗淨狀態，圖4B顯示板狀物的中央側的洗淨狀態。
如圖4A所示，藉由保持手段10的複數夾臂11，保持板狀物W的外周緣，藉由旋轉平台12，被保持在複數夾臂11的板狀物W以周方向予以旋轉。此外，由旋轉平台12的噴射口14朝向板狀物W的下面Wb噴射洗淨液，並且由旋轉平台12的上方的噴射噴嘴15朝向板狀物W的上面Wa噴射洗淨液。接著，擺動部21在旋轉中的板狀物W的中心與外周緣之間使洗淨構件23擺動，一邊藉由追隨機構22使其追隨板狀物W的彎曲一邊使洗淨構件23抵接於板狀物W的上面全體。
此時，板狀物W翹曲成由中央朝向外周緣側變高，因此若洗淨構件23被定位在板狀物W的外周緣側時，洗淨構件23藉由板狀物W的上面Wa而被壓入至上方。藉此，保持具板31的滑件32一邊藉由導引板25的一對鉛直導件28被導引一邊上動，將導引板25與保持具 板31相連結的彈簧35即被收縮。如上所示，在板狀物W的上面Wa的高位置，係抵抗彈簧35的反作用力，洗淨構件23進行上動，藉此使洗淨構件23追隨板狀物W的上面Wa的彎曲。
另一方面，若洗淨構件23被定位在板狀物W的中央側，洗淨構件23藉由彈簧35的反作用力，洗淨構件23被稍微壓回至下方。藉此，保持具板31的滑件32一邊藉由導引板25的一對鉛直導件28被導引一邊下動，將導引板25與保持具板31相連結的彈簧35即被伸長。如上所示，在板狀物W的上面Wa的低位置，係藉由彈簧35的反作用力，以板狀物W的上面Wa的高低差份，洗淨構件23進行下動，藉此使洗淨構件23追隨板狀物W的上面Wa的彎曲。
如上所示，藉由使洗淨構件23追隨板狀物W的上面Wa的彎曲，使洗淨構件23抵接於板狀物W的上面全體。因此，在板狀物W的高位置與低位置，使洗淨構件23的抵碰情形或海綿部分的擠壓情形大致相同，可對板狀物W，以大致均一的條件進行刷洗洗淨。此外，由於使用抗藥性高的樹脂材料，形成洗淨手段20的全體，因此即使在洗淨液含有藥品的情形下，亦不會如金屬般有洗淨手段20因藥品而腐蝕的情形，與金屬相比較，可更加達成輕量化。
如以上所示，在本實施形態之洗淨裝置1中，在保持板狀物W的外周緣的狀態下，洗淨液被噴射 至板狀物W的上面Wa及下面Wb，並且洗淨構件23被抵接於板狀物W的上面Wa，使板狀物W被刷洗洗淨。此時，在板狀物W以周方向旋轉的狀態下，洗淨構件23一邊追隨板狀物W的上面Wa的彎曲一邊以板狀物W的徑方向被擺動，因此可使洗淨構件23抵接於板狀物W的上面全體。此外，洗淨構件23抵接於板狀物W的上面Wa，沿著板狀物W的上面Wa，追隨洗淨構件23的動作，因此不需要有使洗淨構件23朝上下方向移動的機構，不會有裝置構成變得複雜的情形。如上所示，即使為翹曲嚴重的板狀物W，亦可以簡易的構成，將板狀物W的全面良好地洗淨。
其中，本發明並非限定於上述實施形態，可作各種變更來實施。在上述實施形態中，關於所附圖面所圖示的大小或形狀等，並非限定於此，可在發揮本發明之效果的範圍內作適當變更。此外，只要未脫離本發明之目的的範圍，可適當變更來實施。
例如，在本實施形態中，係形成為洗淨手段20藉由彈簧35的伸縮，保持具板31以上下方向使其擺動，使被固定在保持具板31的前端的洗淨構件23追隨板狀物W的彎曲的構成，但是並非限定於該構成。洗淨手段20若具備：藉由抵接於呈彎曲的板狀物W的上面，洗淨構件23追隨板狀物W的上面的追隨機構22即可。以下參照圖5及圖6，說明洗淨手段的變形例。其中，在變形例之洗淨手段中，針對與本實施形態相同的構成，係省 略說明。
如圖5所示，在第1變形例之洗淨手段40中，擺動部41的追隨機構42係在擺動臂49的前端側透過L字板45安裝有延長板48，將延長板48與構件保持具56以複數(在本實施形態中為3個)彈簧55相連結而構成。L字板45係藉由樹脂材料的縱板部46、及橫板部47，形成為側面視為倒L字狀。在L字板45的橫板部47係固定有以樹脂材料形成的延長板48，在延長板48的下面係連結有以樹脂材料形成的複數彈簧55的上端。
在L字板45的縱板部46係固定有L字狀的保持具板51的縱板部52，在保持具板51的橫板部53形成有可以鉛直方向導引構件保持具56的開口(未圖示)。構件保持具56的筒狀部分進入至保持具板51的開口，藉由構件保持具56的凸緣部分，可止動地被支持在保持具板51。如上所示，第1變形例之保持具板51並非為如上述本實施形態之保持具板31(參照圖3)般與構件保持具56一體擺動的擺動構件，而是作為構件保持具56的鉛直方向的導件發揮功能。
構件保持具56係如上所述由上部保持具57及下部保持具58所構成，在上部保持具57的上面連結有複數彈簧55的下端。複數彈簧55係以由構件保持具56受到均一的力的方式，以構件保持具56的周方向以等間隔配置。此時，由於複數彈簧55位於洗淨構件43與板狀物W的上面Wa的抵接位置的正上方，由抵接位置對複數 彈簧55，抵接時的反作用力被直接傳達。如上所示，在第1變形例之洗淨手段40中，抵接時的反作用力筆直地作用於彈簧55，因此可在構件保持具56擺動時的偏位受到抑制的狀態下，使洗淨構件43的動作追隨呈彎曲的板狀物W的上面Wa。
如圖6A及圖6B所示，在第2變形例之洗淨手段60中，擺動部61的追隨機構62在擺動臂64的前端側透過L字板65安裝有延長板68，藉由延長板68的活塞構件71與構件保持具81的凹部82，構成空氣彈簧。L字板65係藉由樹脂材料的縱板部66及橫板部67，形成為側面視為倒L字狀。在L字板65的橫板部67係固定有以樹脂材料形成的延長板68，在延長板68係形成有供安裝以樹脂材料形成的活塞構件71的開口69。
活塞構件71係筒狀部分由延長板68的開口69鉛直向下延伸，以筒狀部分的基端的凸緣部分被固定在延長板68。在活塞構件71的筒狀部分係形成有空氣流路，在筒狀部分的上端側係透過連接器72連接有壓縮器等。活塞構件71的筒狀部分係進入至構件保持具81的凹部82，在活塞構件71的下端係形成有對凹部82內噴射鉛直朝下的壓縮空氣的空氣噴射口73。藉由來自該空氣噴射口73的壓縮空氣的噴射，調整構件保持具81的凹部82內的壓力。
在L字板65的縱板部66係固定有L字狀的保持具板75的縱板部76，在保持具板75的橫板部77係 形成有可以鉛直方向導引構件保持具81的開口78。構件保持具81的筒狀部分進入至保持具板75的開口78，藉由構件保持具81的凸緣部分，可止動地被支持在保持具板75。如上所示，第2變形例之保持具板75並非為如上述本實施形態之保持具板31(參照圖3)般與構件保持具81一體擺動的擺動構件，而是作為構件保持具81的鉛直方向的導件發揮功能。
構件保持具81係如上所述由上部保持具83與下部保持具84所構成，在上部保持具83形成有供活塞構件71的筒狀部分插入的凹部82。如上所示，在第2變形例中，構件保持具81的上部保持具83作為具有活塞構件71所進入的凹部82的汽缸構件來發揮功能。此時，壓縮空氣由活塞構件71的空氣噴射口73被噴射至凹部82內，凹部82的底面與活塞構件71的下面之間的空間的壓力被提高。接著，在具有凹部82內的空間的狀態下，洗淨構件63抵接於板狀物W，藉此一邊壓擠凹部82內的空間一邊沿著活塞構件71，洗淨構件63連同構件保持具81被上下擺動。
如上所示，在第2變形例之洗淨手段60中，藉由使用空氣彈簧來取代彈簧，無須使用彈簧等，即可使洗淨構件43的動作追隨呈彎曲的板狀物W的上面Wa。此外，由於在洗淨構件63與板狀物W的上面Wa的抵接位置的正上方，構件保持具81以上下方向擺動，因此抑制構件保持具81擺動時的偏位。其中，凹部82內的壓力 係依板狀物W的種類而被調整為適當的值。
其中，洗淨手段20係除了上述第1、第2變形例之洗淨手段40、60之外，亦考慮其他變形例。例如，亦可形成為由第1變形例之洗淨構件40將保持具板51卸下後的構成，亦可形成為在延長板48透過單一彈簧55而連結構件保持具56的構成。
此外，在本實施形態及各變形例中，洗淨手段20、40、60以由抗藥性高的樹脂材料形成為佳，但是並非限定於該構成。例如亦可由抗藥性高的金屬材料形成，若為未含有藥品的洗淨液，亦可使用抗藥性低的材料。
此外，在本實施形態及各變形例中，係形成為保持手段10藉由複數夾臂11來保持板狀物W的外周緣的構成，但是並非限定於該構成。保持手段10若為可保持板狀物W的外周緣的構成即可，例如亦可形成為藉由使複數進退銷抵接於板狀物W的外周緣來保持的構成。
此外，在本實施形態及各變形例中，洗淨液噴射手段以旋轉平台12的噴射口14與噴射噴嘴15所構成，但是並非限定於該構成。洗淨液噴射手段若為可對板狀物W的上面Wa及下面Wb噴射洗淨液的構成即可，例如亦可由設在板狀物W的上方及下方的上下的噴射噴嘴所構成。
此外，在本實施形態及各變形例中，洗淨構 件23形成為海綿狀，但是並非限定於該構成。洗淨構件23若為可刷洗洗淨板狀物W者即可，亦可形成為例如刷子狀。
此外，在本實施形態及各變形例中，係形成為藉由擺動部21使洗淨構件23回旋，使洗淨構件23以板狀物W的徑方向擺動的構成，但是並非限定於該構成。擺動部21若為使洗淨構件23以板狀物W的徑方向擺動的構成即可，例如亦可藉由使洗淨構件23直線移動，使洗淨構件23以板狀物W的徑方向擺動。
[產業上可利用性]
如以上說明所示，本發明係具有即使為翹曲激烈的板狀物，亦可以簡易構成，將板狀物的全面良好地洗淨的效果，尤其有用於將產生激烈翹曲的板狀物進行洗淨的洗淨裝置。
10‧‧‧保持手段
11‧‧‧夾臂
12‧‧‧旋轉平台
13‧‧‧平台面
14‧‧‧噴射口(洗淨液噴射手段)
15‧‧‧噴射噴嘴(洗淨液噴射手段)
16、17‧‧‧供給源(洗淨液噴射手段)
20‧‧‧洗淨手段
21‧‧‧擺動部
22‧‧‧追隨機構
23‧‧‧洗淨構件
25‧‧‧導引板
28‧‧‧鉛直導件
31‧‧‧保持具板(保持具)
32‧‧‧滑件
35‧‧‧彈簧
36‧‧‧構件保持具(保持具)
W‧‧‧板狀物
Wa‧‧‧板狀物的上面
Wb‧‧‧板狀物的下面

Claims (2)

  1. 一種洗淨裝置，其係具備有：以外周緣保持板狀物而使板狀物以周方向旋轉的保持手段；將被該保持手段所保持且正在旋轉的板狀物進行洗淨的洗淨手段；及對被保持在該保持手段的板狀物的上面及下面的各個噴射洗淨液的洗淨液噴射手段，該洗淨裝置之特徵為：該洗淨手段係具備有：抵接於板狀物的上面，將板狀物進行洗淨的洗淨構件；及使該洗淨構件以板狀物的徑方向擺動，並且追隨呈彎曲的板狀物的上面的擺動部，抵接於被保持在該保持手段的板狀物的上面，該洗淨構件沿著板狀物的上面，將板狀物的上面進行洗淨，具備有：被配設在該擺動部的該前端且鉛直向下延伸的活塞構件；具備有扣合於該活塞構件的凹部且可以鉛直方向驅動的汽缸構件；及對該汽缸構件的該凹部內鉛直朝下地噴射壓縮空氣的空氣噴射口，該洗淨構件被配設在該汽缸構件的下面側，由該活塞構件的該空氣噴射口，壓縮空氣被噴射至該凹部內且在該凹部內具有空間的狀態下，該洗淨構件抵接於板狀物，沿著該活塞構件，該汽缸構件及該洗淨構件上下擺動而追隨呈彎曲的板狀物的上面。
  2. 如申請專利範圍第1項之洗淨裝置，其中，該擺動部係具備有： 被配設在擺動的前端而以鉛直方向導引該洗淨構件的鉛直導件；保持該洗淨構件而且被導引至該鉛直導件的保持具；及將該保持具在被導引至該鉛直導件的狀態下固定在該擺動部的該前端的彈簧，藉由該彈簧進行伸縮，沿著該鉛直導件，該保持具及該洗淨構件上下擺動而追隨呈彎曲的板狀物的上面。
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