JP2007250783A - 基板保持回転装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板を保持する個々の保持ローラの加工精度や位置精度を過度に高めることなく、基板を確実に定位置で保持して回転させることができる基板保持回転装置を提供する。
【解決手段】第1基板保持回転装置1は、基板Wの周端面に当接することにより、基板Wを挟持して保持するための4本の保持ローラ6,7を備える。2本の保持ローラ6は、ローラ保持部材56によって回転自在、かつ、一体的に保持されている。残り2本の保持ローラ7は、それぞれ、アーム34に回転自在に保持されており、コイルばね41を介して第2または第3シリンダ13,14の駆動力が伝達されるようになっている。保持ローラ7は、保持ローラ6によって定位置に位置決めされた基板Wの周端面に一定の押し付け力で押し付けられて弾性的に当接する。また、保持ローラ7は、コイルばね41が伸縮することにより、基板Wの周端面に追従することができる。
【選択図】図2
【解決手段】第1基板保持回転装置1は、基板Wの周端面に当接することにより、基板Wを挟持して保持するための4本の保持ローラ6,7を備える。2本の保持ローラ6は、ローラ保持部材56によって回転自在、かつ、一体的に保持されている。残り2本の保持ローラ7は、それぞれ、アーム34に回転自在に保持されており、コイルばね41を介して第2または第3シリンダ13,14の駆動力が伝達されるようになっている。保持ローラ7は、保持ローラ6によって定位置に位置決めされた基板Wの周端面に一定の押し付け力で押し付けられて弾性的に当接する。また、保持ローラ7は、コイルばね41が伸縮することにより、基板Wの周端面に追従することができる。
【選択図】図2
Description
この発明は、基板を保持して回転させる基板保持回転装置に関する。保持の対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、FED(Field Emission Display)用基板、光ディスク用基板、磁器ディスク用基板、光磁器ディスク用基板、フォトマスク用基板などが含まれる。
半導体装置の製造工程では、半導体基板(以下単に「基板」という。)の表面が必要に応じて洗浄される。基板を洗浄するための基板処理装置は、たとえば、基板を水平に保持して回転させる基板保持回転装置と、基板に接触して、基板の表面をスクラブ洗浄するスポンジ状の基板洗浄ブラシとを備えている。ほぼ円形の基板の上下面を同時にスクラブ洗浄する基板処理装置では、基板保持回転装置は、たとえば、基板の周端面に接触して回転する複数の基板保持ローラを備えている。これら複数の基板保持ローラを基板の周端面に沿って配置し、基板保持ローラの周面によって基板を挟持することにより、基板を保持することができる。そして、複数の基板保持ローラを一方向に回転させることにより、基板の上下面を覆い隠すことなく、基板を回転させることができる。また、回転状態の基板の上下面にそれぞれ第1および第2基板洗浄ブラシを接触させることによって、基板の上下面を同時にスクラブ洗浄することができる。
特開平10−289889号公報
前記の基板保持回転装置によって基板を確実に保持するには、全ての基板保持ローラを精度良く配置しなければならない。具体的には、全ての基板保持ローラの周面が基板の周端面に接するように、基板保持ローラを配置しなければならない。
各基板保持ローラの配置が適切でない場合には、基板に接触する基板保持ローラと、接触しない基板保持ローラとができてしまう。この場合、基板に接触する基板保持ローラの周面および基板の周端面と当該基板保持ローラの周面との接触部には、計算値以上の力がかかってしまう。これにより、基板の周端面にキズや摩耗等のダメージが生じたり、基板保持ローラの摩耗量が増大したりする。そして、基板保持ローラの摩耗によって生じたパーティクルは、基板に付着して、基板を汚染させるおそれがある。また、基板保持ローラから基板に伝達される回転駆動力が減少してしまう。
各基板保持ローラの配置が適切でない場合には、基板に接触する基板保持ローラと、接触しない基板保持ローラとができてしまう。この場合、基板に接触する基板保持ローラの周面および基板の周端面と当該基板保持ローラの周面との接触部には、計算値以上の力がかかってしまう。これにより、基板の周端面にキズや摩耗等のダメージが生じたり、基板保持ローラの摩耗量が増大したりする。そして、基板保持ローラの摩耗によって生じたパーティクルは、基板に付着して、基板を汚染させるおそれがある。また、基板保持ローラから基板に伝達される回転駆動力が減少してしまう。
一方、複数の基板保持ローラを精度良く配置したとしても、個々の基板保持ローラの加工精度が不十分であったり、個々の基板保持ローラの中心軸がその回転軸に対して偏心していたりする場合には、前記と同様に、基板保持ローラの周面および基板の周端面に、計算値以上の力がかかってしまうおそれがある。
また、基板の直径や真円度は、複数枚の基板の間で一定ではなく、公差の範囲内でばらつきがある。このことも、基板に接触する基板保持ローラと、接触しない基板保持ローラとができてしまう一因である。
また、基板の直径や真円度は、複数枚の基板の間で一定ではなく、公差の範囲内でばらつきがある。このことも、基板に接触する基板保持ローラと、接触しない基板保持ローラとができてしまう一因である。
この発明は、かかる背景のもとでなされたもので、基板を保持する個々の保持ローラの加工精度や位置精度を過度に高めることなく、基板を確実に定位置で保持して回転させることができる基板保持回転装置を提供することを目的とする。
この発明は、また、基板を確実に保持して回転させることにより、基板やこれを保持する保持ローラに損傷が発生することを抑制することができる基板保持回転装置を提供することを目的とする。
この発明は、また、基板を確実に保持して回転させることにより、基板やこれを保持する保持ローラに損傷が発生することを抑制することができる基板保持回転装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するための請求項1記載の発明は、ほぼ円形の基板(W)の周端面に当接して基板を定位置に位置決めするように配置された一対の位置決めローラ(6)、および前記一対の位置決めローラにほぼ対向し、前記基板の周端面に弾性的に当接して前記位置決めローラと共に基板を挟持して保持する一対の押し付けローラ(7)を含む複数の保持ローラ(6,7)と、前記一対の押し付けローラを前記基板の周端面に向けて独立に付勢し、当該周端面に弾性的に押し付ける付勢手段(41)と、前記複数の保持ローラのうちの少なくとも1つを回転駆動するローラ回転駆動機構(32,33)とを含む、基板保持回転装置である。
なお、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素等を表す。以下、この項において同じ。
この構成によれば、一対の位置決めローラ、および一対の位置決めローラにほぼ対向する一対の押し付けローラを含む複数の保持ローラを、基板の周端面に当接させることにより、基板を挟持して保持することができる。そして、複数の保持ローラが基板を保持した状態で、ローラ回転駆動機構が複数の保持ローラのうちの少なくとも1つを回転駆動することにより、基板を回転させることができる。
この構成によれば、一対の位置決めローラ、および一対の位置決めローラにほぼ対向する一対の押し付けローラを含む複数の保持ローラを、基板の周端面に当接させることにより、基板を挟持して保持することができる。そして、複数の保持ローラが基板を保持した状態で、ローラ回転駆動機構が複数の保持ローラのうちの少なくとも1つを回転駆動することにより、基板を回転させることができる。
また、付勢手段が、一対の押し付けローラを基板の周端面に向けて独立に付勢し、当該周端面に弾性的に押し付けることにより、全ての位置決めローラおよび押し付けローラを基板の周端面に当接させることができる。すなわち、一対の位置決めローラは、基板の周端面に当接して基板を定位置に位置決めし、一対の押し付けローラは、この位置決めされた基板の周端面に向かって独立に付勢され、当該周端面に押し付けられて当接する。換言すると、押し付けローラが基板の周端面に追従することにより、保持ローラの加工誤差および配置誤差ならびに基板周端面形状の誤差(円形に対する誤差)が吸収されるようになっている。
したがって、位置決めローラおよび押し付けローラの位置精度を過度に向上させなくとも、全ての位置決めローラおよび押し付けローラを基板の周端面に当接させて、基板を定位置で確実に保持することができる。また、複数枚の基板間で直径や真円度が公差の範囲内でばらついていても、全ての位置決めローラおよび押し付けローラを基板の周端面に当接させることができる。これにより、一部の保持ローラや、これに当接する基板の周端面に、過大な力がかかることを抑制することができる。そして、押し付けローラの過度な位置精度を必要としないので、装置の組立てに要する時間を短縮することもできる。
また、押し付けローラは、基板の周端面に追従し、付勢手段によって基板の周端面に向けてほぼ一定の力で付勢されているので、全ての保持ローラが基板の周端面に当接している状態が保たれ、全ての保持ローラの基板に対する押付圧は終始ほぼ一定に保たれる。これにより、各保持ローラに高い加工精度が必要とされることがなく、また、たとえ保持ローラの中心軸がその回転軸に対して偏心している場合でも、保持ローラおよび基板の周端面に過大な力がかかることを抑制することができる。
また、一対の位置決めローラおよび一対の押し付けローラを設け、一対の押し付けローラを、付勢手段によって独立して付勢しているので、たとえば、基板の周縁部にオリエンテーションフラットやノッチなどの切り欠きが形成されている場合でも、基板を安定して保持することができる。保持対象の基板に前記のような切り欠きが形成されている場合には、2つ以上の保持ローラが、当該切り欠きに同時に掛かることのないように、複数の保持ローラを配置することが好ましい。
請求項2記載の発明は、前記複数の保持ローラが基板を保持する保持位置と、基板の保持を解放する解放位置との間で、前記一対の位置決めローラおよび一対の押し付けローラの少なくとも一方を他方に対して相対移動させるローラ移動機構(16〜18)をさらに含む、請求項1記載の基板保持回転装置である。
この構成によれば、ローラ移動機構によって、一対の位置決めローラおよび一対の押し付けローラの少なくとも一方を他方に対して相対移動させることにより、保持ローラに基板を保持させたり、解放させたりすることができる。すなわち、一対の位置決めローラおよび一対の押し付けローラの両方を移動させてもよいし、一方を固定して、他方を移動させてもよい。一対の位置決めローラが移動される場合には、基板の保持に際して、基板を定位置で保持できる所定位置まで一対の位置決めローラが移動されればよい。
この構成によれば、ローラ移動機構によって、一対の位置決めローラおよび一対の押し付けローラの少なくとも一方を他方に対して相対移動させることにより、保持ローラに基板を保持させたり、解放させたりすることができる。すなわち、一対の位置決めローラおよび一対の押し付けローラの両方を移動させてもよいし、一方を固定して、他方を移動させてもよい。一対の位置決めローラが移動される場合には、基板の保持に際して、基板を定位置で保持できる所定位置まで一対の位置決めローラが移動されればよい。
請求項3記載の発明は、前記付勢手段は、前記一対の押し付けローラを基板の周端面に向けて異なる方向から付勢するものである、請求項1または2記載の基板保持回転装置である。
この構成によれば、付勢手段が、一対の押し付けローラを基板の周端面に向けて異なる方向から付勢することにより、複数の保持ローラによる基板の保持の安定性を向上することができる。さらに、一対の押し付けローラを基板の中心に向かう方向にそれぞれ付勢する構成とすれば、基板保持の安定性をさらに向上できる。
この構成によれば、付勢手段が、一対の押し付けローラを基板の周端面に向けて異なる方向から付勢することにより、複数の保持ローラによる基板の保持の安定性を向上することができる。さらに、一対の押し付けローラを基板の中心に向かう方向にそれぞれ付勢する構成とすれば、基板保持の安定性をさらに向上できる。
請求項4記載の発明は、前記一対の位置決めローラを一体的に保持するローラ保持部材(56)をさらに含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の基板保持回転装置である。
この構成によれば、ローラ保持部材によって、一対の位置決めローラを一体的に保持することにより、一対の位置決めローラ相互間の相対位置関係を固定することができる。これにより、一対の位置決めローラによる基板の位置決め精度を安定させることができる。
この構成によれば、ローラ保持部材によって、一対の位置決めローラを一体的に保持することにより、一対の位置決めローラ相互間の相対位置関係を固定することができる。これにより、一対の位置決めローラによる基板の位置決め精度を安定させることができる。
請求項5記載の発明は、前記ローラ移動機構は、前記ローラ保持部材を移動させることにより、前記一対の位置決めローラを一体的に移動させるものである、請求項2に係る請求項4記載の基板保持回転装置である。
この構成によれば、ローラ保持部材を移動させることにより、一対の位置決めローラを一体的に移動させられるので、基板の位置決め精度を向上および安定させることができる。
この構成によれば、ローラ保持部材を移動させることにより、一対の位置決めローラを一体的に移動させられるので、基板の位置決め精度を向上および安定させることができる。
請求項6記載の発明は、ほぼ円形の基板(W)の周端面に当接して基板を定位置に位置決めするように配置された一対の位置決めローラ(6)、および前記一対の位置決めローラにほぼ対向し、前記基板の周端面に弾性的に当接して前記位置決めローラと共に基板を挟持して保持する一対の押し付けローラ(8)を含む複数の保持ローラ(6,8)と、前記一対の押し付けローラを一体的に保持する押し付けローラ保持部材(57)と、この押し付けローラ保持部材を、基板の主面に平行な平面に沿う所定角度範囲で揺動自在であるように保持する揺動保持機構(58)と、前記複数の保持ローラのうちの少なくとも1つを回転駆動するローラ回転駆動機構(32,33)とを含む、基板保持回転装置である。この基板処理装置は、前記一対の押し付けローラを前記基板の周端面に向けて付勢し、当該周端面に弾性的に押し付ける付勢手段(41)をさらに含むことが好ましい。この付勢手段は、前記揺動保持機構を基板に向けて付勢するものであってもよいし、前記押し付けローラ保持部材を基板に向けて付勢するものであってもよいし、個々の押し付けローラを基板に向けて付勢するものであってもよい。
請求項6の発明によれば、一対の位置決めローラ、および一対の位置決めローラにほぼ対向する一対の押し付けローラを含む複数の保持ローラを、基板の周端面に当接させることにより、基板を挟持して保持することができる。そして、複数の保持ローラが基板を保持した状態で、ローラ回転駆動機構が複数の保持ローラのうちの少なくとも1つを回転駆動することにより、基板を回転させることができる。
また、一対の押し付けローラは、押し付けローラ保持部材によって一体的に保持されており、この押し付けローラ保持部材は、揺動保持機構によって、基板の主面に平行な平面に沿って所定角度範囲内で揺動自在に保持されている。したがって、一対の押し付けローラは、互いの位置関係が固定された状態で、基板の周端面に弾性的に当接し、揺動自在にされている。
これにより、一対の押し付けローラは、一体的に基板の周端面の形状に追従して、保持ローラの加工誤差および配置誤差ならびに基板周端面形状の誤差(円形に対する誤差)を吸収するように動作する。したがって、一部の保持ローラや、これに当接する基板周端面に、過大な力がかかることを抑制することができる。これにより、保持ローラの加工精度や位置精度を過度に高める必要がなく、また、基板間の直径や真円度のばらつきにも対応することができる。
また、全ての保持ローラが基板の周端面に当接している状態が保たれ、全ての保持ローラの基板に対する押付圧は終始ほぼ一定に保たれるので、基板の周端面や各保持ローラが損傷することを抑制できる。さらに、たとえば、周縁部に切り欠きが形成されている基板であっても、基板を安定に保持することができる。
請求項7記載の発明は、前記複数の保持ローラが基板を保持する保持位置と、基板の保持を解放する解放位置との間で、前記一対の位置決めローラおよび一対の押し付けローラのうちの少なくとも一方を他方に対して相対移動させるローラ移動機構(16,19)をさらに含む、請求項6記載の基板保持回転装置である。
請求項7記載の発明は、前記複数の保持ローラが基板を保持する保持位置と、基板の保持を解放する解放位置との間で、前記一対の位置決めローラおよび一対の押し付けローラのうちの少なくとも一方を他方に対して相対移動させるローラ移動機構(16,19)をさらに含む、請求項6記載の基板保持回転装置である。
この構成によれば、ローラ移動機構によって、一対の位置決めローラおよび一対の押し付けローラの少なくとも一方を他方に対して相対移動させることにより、保持ローラに基板を保持させたり、解放させたりすることができる。すなわち、一対の位置決めローラおよび一対の押し付けローラの両方を移動させてもよいし、一方を固定して、他方を移動させてもよい。一対の位置決めローラが移動される場合には、基板の保持に際して、基板を定位置で保持できる所定位置まで一対の位置決めローラが移動されればよい。
請求項8記載の発明は、前記ローラ移動機構は、前記押し付けローラ保持部材を移動させることにより、前記一対の押し付けローラを一体的に移動させるものである、請求項7記載の基板保持回転装置である。
この構成によれば、ローラ移動機構が、押し付けローラ保持部材を移動させることにより、一対の押し付けローラを一体的に移動させることができる。これにより、複数の保持ローラによる基板の保持を安定させることができる。
この構成によれば、ローラ移動機構が、押し付けローラ保持部材を移動させることにより、一対の押し付けローラを一体的に移動させることができる。これにより、複数の保持ローラによる基板の保持を安定させることができる。
請求項9記載の発明は、前記一対の位置決めローラを一体的に保持する位置決めローラ保持部材(56)をさらに含む、請求項6〜8のいずれか1項に記載の基板保持回転装置である。
この構成によれば、位置決めローラ保持部材によって、一対の位置決めローラを一体的に保持することにより、一対の位置決めローラ相互間の相対位置関係を固定することができる。これにより、一対の位置決めローラによる基板の位置決め精度を安定させることができる。
この構成によれば、位置決めローラ保持部材によって、一対の位置決めローラを一体的に保持することにより、一対の位置決めローラ相互間の相対位置関係を固定することができる。これにより、一対の位置決めローラによる基板の位置決め精度を安定させることができる。
請求項10記載の発明は、前記ローラ移動機構は、前記位置決めローラ保持部材を移動させることにより、前記一対の位置決めローラを一体的に移動させるものである、請求項7または8に係る請求項9記載の基板保持回転装置である。
この構成によれば、位置決めローラ保持部材を移動させることにより、一対の位置決めローラを一体的に移動させることができるので、基板の位置決め精度の向上および安定に寄与できる。
この構成によれば、位置決めローラ保持部材を移動させることにより、一対の位置決めローラを一体的に移動させることができるので、基板の位置決め精度の向上および安定に寄与できる。
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置の構成を説明するための図解図であり、その一部を断面で示している。また、図2は、前記基板処理装置の平面図である。
この基板処理装置は、半導体ウエハのようなほぼ円形の基板Wを1枚ずつ洗浄するための枚葉型の基板洗浄装置である。この基板処理装置は、基板Wを保持して回転させる第1基板保持回転装置1と、同じく基板Wを保持して回転させる第2基板保持回転装置2と、前記第1および第2基板保持回転装置1,2間で基板Wの受け渡しを行わせるための基板受け渡し機構3と、基板Wをスクラブ洗浄するための基板洗浄機構4と、前記第1または第2基板保持回転装置1,2に保持された基板Wに対して処理液(薬液または純水(脱イオン水)その他のリンス液)を供給するための処理液供給機構5とを備えている。薬液としては、たとえば、アンモニア水またはアンモニア過酸化水素水混合液を用いることができる。
図1は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置の構成を説明するための図解図であり、その一部を断面で示している。また、図2は、前記基板処理装置の平面図である。
この基板処理装置は、半導体ウエハのようなほぼ円形の基板Wを1枚ずつ洗浄するための枚葉型の基板洗浄装置である。この基板処理装置は、基板Wを保持して回転させる第1基板保持回転装置1と、同じく基板Wを保持して回転させる第2基板保持回転装置2と、前記第1および第2基板保持回転装置1,2間で基板Wの受け渡しを行わせるための基板受け渡し機構3と、基板Wをスクラブ洗浄するための基板洗浄機構4と、前記第1または第2基板保持回転装置1,2に保持された基板Wに対して処理液(薬液または純水(脱イオン水)その他のリンス液)を供給するための処理液供給機構5とを備えている。薬液としては、たとえば、アンモニア水またはアンモニア過酸化水素水混合液を用いることができる。
第1基板保持回転装置1は、基板Wの周端面に当接する複数本(本実施形態では4本)の保持ローラ6,7によって基板Wを挟持してほぼ水平姿勢に保持するとともに、保持ローラ6,7を回転させることによって、基板Wを鉛直軸線まわりに回転させるものである。具体的には、第1基板保持回転装置1は、それぞれ保持ローラ6,7を鉛直軸線まわりの自転が可能であるように支持する第1、第2および第3進退ハンド部12〜14と、前記第1、第2および第3進退ハンド部12〜14を互いに接近または離反する水平方向に進退させるための第1、第2および第3シリンダ16〜18とを備えている。第2および第3進退ハンド部13,14は、それぞれ第1進退ハンド部12に対向する位置に配置されている。
第1進退ハンド部12は、ハウジング20と、このハウジング20に収容され、2本の保持ローラ6に回転力を与える保持ローラ回転駆動機構と、ハウジング20の底面に固定され、昇降台22上に水平に取り付けられたレール23上を摺動する摺動ブロック27とを備えている。
第1進退ハンド部12には、第1シリンダ16の進退ロッド28が連結されており、進退ロッド28の駆動力が伝達されるようになっている。この第1シリンダ16は、進退ロッド28をレール23と平行に進退させるように昇降台22に取り付けられており、レール23は、対向する第2および第3進退ハンド部13,14に向かう水平姿勢で昇降台22に取り付けられている。したがって、第1シリンダ16を駆動することにより、第2および第3進退ハンド部13,14に対して、第1進退ハンド部12を接近させたり、離反させたりすることができる。
第1進退ハンド部12には、第1シリンダ16の進退ロッド28が連結されており、進退ロッド28の駆動力が伝達されるようになっている。この第1シリンダ16は、進退ロッド28をレール23と平行に進退させるように昇降台22に取り付けられており、レール23は、対向する第2および第3進退ハンド部13,14に向かう水平姿勢で昇降台22に取り付けられている。したがって、第1シリンダ16を駆動することにより、第2および第3進退ハンド部13,14に対して、第1進退ハンド部12を接近させたり、離反させたりすることができる。
また、第1進退ハンド部12は、2本の保持ローラ6を支持しており、2本の保持ローラ6は、鉛直軸線に沿う2本の回転軸29の下端にそれぞれ結合されている。これら2本の回転軸29は、ハウジング20に収容されたローラ保持部材56に回転自在に且つ一体的に保持されており、保持ローラ6に回転力を与えるための保持ローラ駆動モータ32とそれぞれベルト33を介して連結されている。図2に示すように、2本の保持ローラ6は、基板Wの周端面に沿うように互いに所定間隔をあけて並んで配置されており、それぞれベルト33を介して保持ローラ駆動モータ32の回転力が伝達されるようになっている。このように、保持ローラ駆動モータ32およびベルト33などにより、保持ローラ駆動機構が構成されている。
第2および第3進退ハンド部13,14は、それぞれ、1本の保持ローラ7と、この保持ローラ7が下端にされた鉛直軸線に沿う回転軸30と、この回転軸30を回転自在に保持するアーム34と、昇降台22上に水平に取り付けられたレール24上を摺動する摺動ブロック27とを備えている。アーム34は、鉛直方向に沿った主体部35と、この主体部35の上端から第1進退ハンド部1に向かってほぼ水平に張り出した上側延長部と、主体部35の下端から第1進退ハンド部1から離反する水平方向に延びた下側延長部とを含み、側面視略Z字状に成形された板状体である。回転軸30は、アーム34の前記上側延長部から垂下した状態で回転自在に保持されている。また、摺動ブロック27は、アーム34の前記下側延長部の下面に固定されている。
第2および第3進退ハンド部13,14には、それぞれ、第2および第3シリンダ17,18の進退ロッド28が連結されており、進退ロッド28の駆動力が伝達されるようになっている。具体的には、鉛直方向に延びるアーム34の主体部35には、他の部分よりも薄肉となった薄肉部36が一部に設けられている。この薄肉部36には、貫通孔37が形成されており、この貫通孔37を塞ぐようにプレート38が薄肉部36に取り付けられている。プレート38には、進退ロッド28が挿通される挿通孔(図示せず)が形成されており、この挿通孔は、貫通孔37よりも小径とされている。進退ロッド28は、前記挿通孔を挿通しており、その先端には、前記挿通孔よりも大径であり、かつ、貫通孔37よりも小径であるストッパー部39が固定されている。このストッパー部39により、進退ロッド28がプレート38から抜けないようになっており、さらに、ストッパー部39とプレート38とが当接することにより、進退ロッド28の引き込み方向の駆動力を、プレート38を介してアーム34に伝達することができるようになっている。すなわち、アーム34から第2または第3シリンダ17,18へ向かう引き込み方向の進退ロッド28の駆動力は、ストッパー部39およびプレート38を介してアーム34に伝達される。
一方、各進退ロッド28の途中部には、前記挿通孔よりも大径の(したがって進退ロッド28よりも大径の)鍔状支持部40が設けられている。この支持部40とプレート38との間には、進退ロッド28に巻装されたコイルばね41が配置されている。すなわち、コイルばね41の一端はプレート38の前記挿通孔周縁部に対向しており、その他端は支持部40に対向している。したがって、第2または第3シリンダ17,18からアーム34へ向かう進出方向の進退ロッド28の駆動力は、支持部40からコイルばね41を介してプレート38へと伝達され、さらにこのプレート38に結合されたアーム34に伝達される。
第2および第3シリンダ17,18は、それぞれ、進退ロッド28をレール24,25と平行に進退させるように昇降台22に取り付けられており、レール24,25は、対向する第1進退ハンド部12に向かう水平姿勢で昇降台22に取り付けられている。より具体的には、レール24,25は、それぞれ基板Wの回転中心に向かう方向に沿って配置されている。したがって、第2および第3シリンダ17,18をそれぞれ駆動することにより、第1進退ハンド部12に対して、第2および第3進退ハンド部13,14を接近させたり、離反させたりすることができる。すなわち、第1、第2および第3シリンダ16〜18を駆動することにより、第1、第2および第3進退ハンド部12〜14を互いに接近させたり、互いに離反させたりすることができる。
第1、第2および第3シリンダ16〜18が、それぞれの進退ロッド28を伸長することにより、第1、第2および第3進退ハンド部12〜14は互いに接近して、基板Wを保持する基板保持位置に移動させられる。これにより、基板Wの周縁部が、各保持ローラ6,7の周面に形成された基板保持溝42に入り込み、基板Wは、4本の保持ローラ6、7によってほぼ水平な姿勢で保持される。この状態で、保持ローラ駆動モータ32を駆動することにより、2本の保持ローラ6が回転し、この2本の保持ローラ6の回転駆動力が基板Wに伝達され、基板Wは、鉛直軸線まわりに回転する。また、第2および第3進退ハンド部13,14に支持された2本の保持ローラ7は、この基板Wの回転にともなって従動回転する。
第2および第3進退ハンド部13,14に支持された2本の保持ローラ7には、それぞれコイルばね41を介して進退ロッド28の駆動力が伝達されているので、これらの保持ローラ7は、基板Wの周端面に対して、ほぼ一定の押し付け力で弾性的に押し付けられる押し付けローラである。保持ローラ7による基板Wの周端面への押付方向は、レール24,25の方向に沿い、図2に示すように、互いに異なる方向、この実施形態ではそれぞれ基板Wの中心に向かう方向にされている。さらに、2本の保持ローラ7は、基板Wの周端面に沿うように互いに所定間隔をあけて並んで配置されている。
第1進退ハンド部12は、シリンダ16の進退ロッド28に固定されている。したがって、第1進退ハンド12に一体的に支持された2本の保持ローラ6は、進退ロッド28が伸張されることによって、定位置まで進出する。これにより、2本の保持ローラ6は、定位置で基板Wの周端面に当接し、この基板Wを位置決めする位置決めローラとしての働きを有することになる。
一方、第2基板保持回転装置2は、いわゆるスピンチャックとしての基本構成を有しており、ほぼ水平姿勢の円板状の回転ベース43と、この回転ベース43の上面に立設された複数本(本実施形態では6本)の基板保持ピン44と、回転ベース43を支持する回転軸45とを備えている。
回転軸45は、第1基板保持回転装置1による基板Wの回転軸と実質的に同軸となるように鉛直方向に沿って配置されており、当該回転軸45に回転力を与える回転ベース回転駆動機構としてのチャックモータ46が連結されている。各基板保持ピン44は、回転ベース43の周縁部の複数箇所にほぼ等角度間隔で設けられ、6本の基板保持ピン44が、基板Wの周端面に当接した挟持状態と、基板Wの周端面から退避させた解放状態とをとり得るようになっている。これらの6本の基板保持ピン44は、基板保持ピン駆動機構47によって同期して駆動されるようになっている。したがって、基板保持ピン44によって基板Wをほぼ水平姿勢で挟持した状態でチャックモータ46を駆動することにより、基板Wを鉛直軸線まわりに回転させることができる。
回転軸45は、第1基板保持回転装置1による基板Wの回転軸と実質的に同軸となるように鉛直方向に沿って配置されており、当該回転軸45に回転力を与える回転ベース回転駆動機構としてのチャックモータ46が連結されている。各基板保持ピン44は、回転ベース43の周縁部の複数箇所にほぼ等角度間隔で設けられ、6本の基板保持ピン44が、基板Wの周端面に当接した挟持状態と、基板Wの周端面から退避させた解放状態とをとり得るようになっている。これらの6本の基板保持ピン44は、基板保持ピン駆動機構47によって同期して駆動されるようになっている。したがって、基板保持ピン44によって基板Wをほぼ水平姿勢で挟持した状態でチャックモータ46を駆動することにより、基板Wを鉛直軸線まわりに回転させることができる。
基板受け渡し機構3は、昇降台22と、昇降台22を上下動させる上下動駆動機構48とで構成されている。この上下動駆動機構48が昇降台22を上下動させることにより、昇降台22上に保持された第1、第2および第3進退ハンド部12〜14を同時に上下動させることができる。これにより、第1基板保持回転装置1に保持された基板Wを第2基板保持回転装置2に渡すことができ、また、第2基板保持回転装置2に保持された基板Wを第1基板保持回転装置1に渡すこともできる。
前記基板保持ピン駆動機構47は、回転ベース43に組み込まれたリンク機構を駆動することにより基板保持ピン44を挟持位置と解放位置との間で駆動するものであってもよい。また、第2基板保持回転装置2は、いわゆるマグネットチャック機構であってもよい。この場合、基板保持ピン駆動機構47は、各基板保持ピン44とともに一体的に回動(各保持ピン44を通る鉛直軸線周りに回動)する第1永久磁石片と、回転ベース43の周囲において前記第1永久磁石片に所定高さ位置で対向するように昇降台22に保持された環状の第2永久磁石片とを備えていてもよい。この構成により、昇降台22の昇降に伴って第1および第2永久磁石片を互いに対向する状態と対向しない状態とで切り換えることができ、基板Wの保持/解放を行える。したがって、昇降台22を上下動させるための上下動駆動機構48は、基板保持ピン駆動機構に兼用されることになる。
基板洗浄機構4は、本実施形態では、基板Wの上面Waおよび周端面をスクラブすることができるスポンジ状の洗浄ブラシ51と、この洗浄ブラシ51を下方に向けた状態で、先端に保持した揺動アーム52と、この揺動アーム52を基板Wの回転範囲外に設定した鉛直軸線まわりに揺動させる揺動駆動機構49と、この揺動アーム52を上下動させる昇降駆動機構50と、第1または第2基板保持回転装置1,2に保持された基板Wの上面Waに処理液を供給するための処理液供給機構5Aと、第1または第2基板保持回転装置1,2に保持された基板Wの下面Wbに純水を供給するための純水供給機構5Bを備えている。
この構成により、基板Wを第1基板保持回転装置1によって保持させて回転させている状態で、洗浄ブラシ51を基板Wの回転中心とその周端面との間で移動させれば、基板Wの上面Waおよび周端面の全域をスクラブ洗浄することができる。また、基板Wの周端面のみの洗浄が望まれる場合には、洗浄ブラシ51を基板Wの周端面に当接させておくことで、当該周端面のスクラブ洗浄を行うことができる。
一方、基板Wを第2基板保持回転装置2によって保持させて回転させている状態では、洗浄ブラシ51を基板Wの回転中心から基板Wの周縁部側の基板保持ピン44との干渉の生じない位置まで移動させることによって、基板Wの上面Waの大部分(周縁部以外)をスクラブ洗浄することができる。
処理液供給機構5Aは、第1または第2基板保持回転装置1,2に保持された基板Wの上面Waに向けて処理液(薬液または純水)を吐出する処理液ノズル53Aと、この処理液ノズル53Aへと処理液供給源からの処理液を導く処理液供給管54Aと、この処理液供給管54Aに介装され、処理液の供給と停止とを切り換える処理液バルブ55Aとを含む。なおここで、薬液を用いる場合には、アンモニア過水、または濃度の薄いアンモニア等が用いられてもよい。
処理液供給機構5Aは、第1または第2基板保持回転装置1,2に保持された基板Wの上面Waに向けて処理液(薬液または純水)を吐出する処理液ノズル53Aと、この処理液ノズル53Aへと処理液供給源からの処理液を導く処理液供給管54Aと、この処理液供給管54Aに介装され、処理液の供給と停止とを切り換える処理液バルブ55Aとを含む。なおここで、薬液を用いる場合には、アンモニア過水、または濃度の薄いアンモニア等が用いられてもよい。
一方、基板Wの下面Wbに純水を供給するための純水供給機構5Bは、中空の回転軸45の中心に挿入されて設けられ、基板Wの下面Wbに向けて純水を吐出する純水ノズル53Bと、この純水ノズル53Bへと純水供給源からの純水を導く純水供給管54Bと、この純水供給管54Bに介装され、純水の供給と停止とを切り換える純水バルブ55Bとを含む。
図3は、前記基板処理装置の制御に関する構成を示すブロック図である。この基板処理装置は、制御装置90を備えている。この制御装置90は、第1基板保持回転装置1の保持ローラ駆動モータ32および第1、第2および第3シリンダ16〜18の動作を制御する。また、制御装置90は、第2基板保持回転装置2のチャックモータ46の動作を制御する。さらに、制御装置90は、基板洗浄機構4の揺動駆動機構49および昇降駆動機構50の動作を制御する。また、制御装置90は、基板受け渡し機構3の上下動駆動機構48の動作を制御する。
図4は、基板Wを洗浄するための処理シーケンスの一例を説明するための図解図である。未処理の基板Wは、図4(a)に示すように、基板Wの下面Wbがデバイス形成面となるフェイスダウン状態で、基板搬送ロボット(図示せず)によって、第2基板保持回転装置2に渡される。なお、この図4の処理シーケンスの期間中は常に、基板Wは前述のフェイスダウン状態とされて処理される。
そして、制御装置90は、上下動駆動機構48を制御して、第1および第2基板保持回転装置1,2による基板Wの保持位置が等しくなる位置に昇降台22を配置させる。また、それと同時に、制御装置90は、基板保持ピン44が基板Wの周端面から退避された解放状態となるように基板保持ピン駆動機構47を制御する。さらに、制御装置90は、チャックモータ46を制御して、回転ベース43の回転位置を基板保持ピン44と保持ローラ6,7とが干渉しない位置(平面視において重なり合わない位置)に配置させる。また、第1基板保持回転装置1は、制御装置90による第1、第2および第3シリンダ16〜18の制御により、第1、第2および第3進退ハンド部12〜14が基板Wの外方に退避された状態にされている。
次に、制御装置90は、図4(b)に示すように、第1シリンダ16を制御して、第1進退ハンド部12を第2および第3進退ハンド部13,14に対して接近する方向に進出させ、第1進退ハンド部12に支持された2本の保持ローラ6を基板Wの周端面に当接させる。これにより、基板Wは、当該2本の保持ローラ6によって、回転ベース43上で定位置に位置決めされる。
そして、制御装置90は、図4(c)に示すように、第2および第3シリンダ17,18を制御して、第2および第3進退ハンド部13,14を第1進退ハンド部12に対して接近する方向に進出させ、第2および第3進退ハンド部13,14に支持された残り2本の保持ローラ7を基板Wの周端面に当接させる。これにより、第1基板保持回転装置1の4本の保持ローラ6,7によって基板Wが挟持され、第2基板保持回転装置2から第1基板保持回転装置1への基板Wの受け渡しが達成される。
ここで、第2および第3進退ハンド部13,14には、それぞれコイルばね41を介して第2および第3シリンダ17,18の駆動力が伝達されているので、第2および第3進退ハンド部13,14に支持された2本の保持ローラ7は、それぞれ独立して基板Wの周端面に向けて付勢され、弾性的に押し付けられている。これにより、4本全ての保持ローラ6,7が、基板Wの周端面に当接される。
したがって、2本の保持ローラ7から基板Wの周端面に与えられる押し付け力は、基板Wを介して4本の保持ローラ6,7に分散される。すなわち、基板Wの周端面に対する保持ローラ6,7の押付圧が個々の保持ローラ6,7間でほぼ等しくなる。
また、2つの保持ローラ7は、コイルばね41を介して基板Wの周端面にそれぞれ押し付けられているので、コイルばね41が伸縮することによって基板Wの周端面に追従することができる。さらに、コイルばね41が伸縮することによって、基板Wの周端面に対する保持ローラ7の押し付け力がほぼ一定に保たれる。これにより、基板Wの周端面に対する押付圧は、全ての保持ローラ6,7間でほぼ等しく、かつ、ほぼ一定となる。したがって、基板Wおよび保持ローラ6,7に計算値以上の力がかかることがないので、基板Wおよび保持ローラ6,7の損傷を抑制することができる。
また、2つの保持ローラ7は、コイルばね41を介して基板Wの周端面にそれぞれ押し付けられているので、コイルばね41が伸縮することによって基板Wの周端面に追従することができる。さらに、コイルばね41が伸縮することによって、基板Wの周端面に対する保持ローラ7の押し付け力がほぼ一定に保たれる。これにより、基板Wの周端面に対する押付圧は、全ての保持ローラ6,7間でほぼ等しく、かつ、ほぼ一定となる。したがって、基板Wおよび保持ローラ6,7に計算値以上の力がかかることがないので、基板Wおよび保持ローラ6,7の損傷を抑制することができる。
また、保持ローラ7が基板Wの周端面に追従することにより、保持ローラ6,7の高い加工精度や位置精度を必要とせずに、基板Wを確実に定位置で保持することができる。さらに、複数枚の基板W間で、直径や真円度が公差の範囲内でばらついていても、保持ローラ7が基板Wの周端面に追従し、基板Wを確実に定位置で保持することができる。
続いて、制御装置90は、図4(d)に示すように、上下動駆動機構48を制御して、昇降台22を上方へ移動させる。これにより、第2基板保持回転装置2から基板Wが離れた状態となる。さらに、制御装置90は、保持ローラ駆動モータ32を駆動させ、第1進退ハンド部12に支持された2本の保持ローラ6を回転させる。これにより、基板Wは、鉛直軸線まわりに回転する。このときの回転速度は、たとえば、20rpm程度である。また、前述したように、第2および第3進退ハンド部13,14にそれぞれ支持された保持ローラ7は、この基板Wの回転に従動して回転する。
続いて、制御装置90は、図4(d)に示すように、上下動駆動機構48を制御して、昇降台22を上方へ移動させる。これにより、第2基板保持回転装置2から基板Wが離れた状態となる。さらに、制御装置90は、保持ローラ駆動モータ32を駆動させ、第1進退ハンド部12に支持された2本の保持ローラ6を回転させる。これにより、基板Wは、鉛直軸線まわりに回転する。このときの回転速度は、たとえば、20rpm程度である。また、前述したように、第2および第3進退ハンド部13,14にそれぞれ支持された保持ローラ7は、この基板Wの回転に従動して回転する。
この状態で、制御装置90は、揺動駆動機構49および昇降駆動機構50を制御し、洗浄ブラシ51を基板Wの周端面に導く。具体的には、洗浄ブラシ51は、保持ローラ6,7を回避した位置(平面視において重なり合わない位置)において、基板Wの周端面に押し付けられる。ここで、洗浄ブラシ51による基板Wの周端面の洗浄の際には、純水供給機構5Bの純水ノズル53Bから基板Wの下面Wbに純水が供給されている。これにより、フェイスダウン状態となっている基板Wの下面Wbのデバイス形成領域内に基板Wの周端面からの異物が侵入することを防止しつつ、基板Wの周端面を洗浄することができる。つまり、この純水は、基板Wの周端面をリンスするためのリンス液として作用するとともに、基板Wの下面Wbのデバイス形成領域を保護するための保護液としても作用している。この際、処理液供給機構5Aは、基板Wの上面Waに処理液を供給していない。
次に、制御装置90は、洗浄ブラシ51を第1および第2基板保持回転装置1,2の側方に退避させた後、昇降台22が下方に移動するように制御する。これにより、第1および第2基板保持回転装置1,2の基板保持高さが等しくなる。
その後、制御装置90は、図4(e)に示すように、第1、第2および第3シリンダ16〜18を制御して、第1、第2および第3進退ハンド部12〜14を互いに離反する方向に退避させる。これにより、保持ローラ6,7による基板Wの挟持が解かれ、基板Wは、第1基板保持回転装置1から第2基板保持回転装置2に受け渡される。
その後、制御装置90は、図4(e)に示すように、第1、第2および第3シリンダ16〜18を制御して、第1、第2および第3進退ハンド部12〜14を互いに離反する方向に退避させる。これにより、保持ローラ6,7による基板Wの挟持が解かれ、基板Wは、第1基板保持回転装置1から第2基板保持回転装置2に受け渡される。
そして、制御装置90は、図4(f)に示すように、昇降台22を上方へ移動させ、基板保持ピン44に基板Wを挟持させる。この状態から、制御装置90は、チャックモータ46を駆動して、回転ベース43とともに基板Wを回転させる。このときの回転速度(処理時回転速度)は、たとえば1000rpm程度である。制御装置90は、さらに、処理液供給機構5Aの処理液バルブ55Aを開き、回転状態の基板Wの上面Waに処理液ノズル53Aから処理液を供給させる。このとき、基板Wは十分に高速に回転されているので、基板Wの上面Waに供給された処理液が基板Wの下面Wbにまで回りこんで、その内方のデバイス形成領域にまで至ることはない。さらに基板Wの下面Wbのデバイス形成領域の保護を確実なものとするためには、処理液ノズル53Aからの処理液の供給とともに、さらに、基板Wの下面Wbに向けて純水供給機構5Bから純水を供給すればよい。
一方、制御装置90は、揺動駆動機構49および昇降駆動機構50を制御することにより、洗浄ブラシ51を基板Wの上面Waに押し付けるとともに、この洗浄ブラシ51を基板Wの回転中心付近から基板Wの周縁部において基板保持ピン44と干渉しない位置までの範囲で移動させる。これにより、洗浄ブラシ51による基板Wの上面Waの中央領域のスクラブ洗浄が行われる。
その後、制御装置90は、揺動駆動機構49および昇降駆動機構50を制御して、洗浄ブラシ51を第2基板保持回転装置2の側方に退避させ、さらに、処理液バルブ55Aを閉じて処理液ノズル53Aからの処理液の供給を停止する。この状態で、制御装置90は、さらに、チャックモータ46を制御することにより、前記処理時回転速度よりも高速な乾燥時回転速度(たとえば3000rpm程度)まで基板Wの回転速度を加速する。これにより、基板Wの表面WaおよびWbの処理液は、遠心力によって外方へと振り切られ、基板Wの乾燥が達成される。
その後は、制御装置90は、チャックモータ46を停止させて、基板Wの回転を停止させる。このとき、制御装置90は、回転ベース43を、基板保持ピン44と保持ローラ6,7とが干渉しない回転位置(平面視において重なり合わない位置)で停止させる。さらに、制御装置90は、上下動駆動機構48を制御して、昇降台22を下方に移動させ、基板保持ピン44による基板Wの保持を解除して基板処理装置を図4(a)の状態に戻す。この状態で、基板搬送ロボットによって、第2基板保持回転装置2上の処理済の基板Wが搬出される。
図5は、この発明の他の実施形態に係る基板処理装置の平面図である。この図5において、前述の図1および図2等に示された各部と同等の構成部分については、図1および図2等と同一の参照符号を付して示す。
この図5の構成における図1および図2の構成との主要な相違点は、図1および図2における第2および第3進退ハンド部13,14に代わって、2本の保持ローラ8をそれぞれ鉛直軸線まわりの自転が可能であるように支持する第4進退ハンド部15が備えられていることにある。
この図5の構成における図1および図2の構成との主要な相違点は、図1および図2における第2および第3進退ハンド部13,14に代わって、2本の保持ローラ8をそれぞれ鉛直軸線まわりの自転が可能であるように支持する第4進退ハンド部15が備えられていることにある。
具体的には、第4進退ハンド部15は、第1進退ハンド部12に対向する位置に配置されており、第1進退ハンド部12に支持された2本の保持ローラ6と、第4進退ハンド部15に支持された2本の保持ローラ8とによって、基板Wの周端面を挟持して保持することができる。第4進退ハンド部15に支持された2本の保持ローラ8は、基板Wの周端面に沿って互いに所定間隔をあけて並んで配置されている。
また、第4進退ハンド部15は、2本の保持ローラ8にそれぞれ連結された鉛直軸線に沿う回転軸31と、この回転軸31を回転自在、且つ一体的に保持するローラ保持部材57と、このローラ保持部材57を、基板Wに平行な平面(本実施形態では水平面)に沿って所定角度範囲内で揺動自在であるように保持する揺動保持機構58とを備えている。
ローラ保持部材57は、平面視において、両端部に一対の回転軸31をそれぞれ支持するように一対の保持ローラ8の間に跨って水平方向に延びた略台形形状を有している。この保持ローラ8の中間部付近には、第1進退ハンド12から離反する方向(基板Wから離反する方向)に延びた連結部材59の基端部が結合されている。揺動保持機構58は、前記連結部材59と、この連結部材59とピン60を介して連結され、ピン60を中心にして連結部材59を揺動自在に保持するプレート61と、同じくプレート61に連結され、連結部材59の揺動角度範囲を規制するための規制部材62とを備えている。連結部材59の先端部には、鉛直方向に挿通孔が形成されており、この挿通孔にピン60が挿通している。これにより、ローラ保持部材57は、鉛直軸周りに水平面に沿って揺動可能となっている。規制部材62は、平面視において略コ字形に成形された板状体である。連結部材59の先端部は、ピン61よりも若干基板W側までの領域が、規制部材62に抱え込まれている。したがって、連結部材59が水平面に沿って所定角度揺動すると、連結部材59が規制部材62に当接し、その揺動が規制される。連結部材59の揺動角度範囲は、たとえば、1°〜5°程度になるように設定されている。これにより、ローラ保持部材57を水平面に沿って所定角度範囲内で揺動させることができ、ローラ保持部材57に保持された回転軸31および2本の保持ローラ8を一体的に揺動させることができる。
ローラ保持部材57は、平面視において、両端部に一対の回転軸31をそれぞれ支持するように一対の保持ローラ8の間に跨って水平方向に延びた略台形形状を有している。この保持ローラ8の中間部付近には、第1進退ハンド12から離反する方向(基板Wから離反する方向)に延びた連結部材59の基端部が結合されている。揺動保持機構58は、前記連結部材59と、この連結部材59とピン60を介して連結され、ピン60を中心にして連結部材59を揺動自在に保持するプレート61と、同じくプレート61に連結され、連結部材59の揺動角度範囲を規制するための規制部材62とを備えている。連結部材59の先端部には、鉛直方向に挿通孔が形成されており、この挿通孔にピン60が挿通している。これにより、ローラ保持部材57は、鉛直軸周りに水平面に沿って揺動可能となっている。規制部材62は、平面視において略コ字形に成形された板状体である。連結部材59の先端部は、ピン61よりも若干基板W側までの領域が、規制部材62に抱え込まれている。したがって、連結部材59が水平面に沿って所定角度揺動すると、連結部材59が規制部材62に当接し、その揺動が規制される。連結部材59の揺動角度範囲は、たとえば、1°〜5°程度になるように設定されている。これにより、ローラ保持部材57を水平面に沿って所定角度範囲内で揺動させることができ、ローラ保持部材57に保持された回転軸31および2本の保持ローラ8を一体的に揺動させることができる。
これらローラ保持部材57および揺動保持機構58は、ハウジング21に収容されており、ハウジング21には、第4シリンダ19の進退ロッド28が連結されている。進退ロッド28は、コイルばね41を介してハウジング21に連結されており、進退ロッド28の駆動力は、コイルばね41を介してハウジング21に伝達されるようになっている。第4シリンダ19は、進退ロッド28をレール26と平行に進退させるように昇降台22に取り付けられており、レール26は、対向する第1進退ハンド部12に向かう水平姿勢で昇降台22に取り付けられている。したがって、第4シリンダ19を駆動することにより、第1進退ハンド部12に対して、第4進退ハンド部15を接近させたり、離反させたりすることができる。
すなわち、第1および第4シリンダ16,19が、それぞれ進退ロッド28を伸長することにより、第1および第4進退ハンド部12,15は互いに接近して、基板Wを保持する基板保持位置に移動させられる。これにより、基板Wの周端面が4本の保持ローラ6,8に挟持され、基板Wは、ほぼ水平な姿勢で保持される。この状態で、保持ローラ駆動モータ32を駆動することにより、2本の保持ローラ6が回転し、この2本の保持ローラ6の回転駆動力が基板Wに伝達され、基板Wは、鉛直軸線まわりに回転する。また、第4進退ハンド部15に支持された2本の保持ローラ8は、この基板Wの回転に伴って従動回転する。
第4進退ハンド部15に支持された2本の保持ローラ8には、コイルばね41を介して進退ロッド28の駆動力が伝達されているので、これらの2本の保持ローラ8は、基板保持状態において、基板Wの周端面に対して、ほぼ一定の押し付け力で弾性的に押し付けられることになる。さらに、ローラ保持部材57の揺動により、2本の保持ローラ8は、一体的に基板Wの周端面に追従できるようにされている。これにより、保持ローラ6,8の加工誤差や配置誤差ならびに公差範囲での基板サイズのばらつきは、ローラ保持部材57の揺動によって吸収されるから、4本全ての保持ローラ6,8は、基板保持状態において、いずれも終始基板Wの周端面に当接される。したがって、2本の保持ローラ8から基板Wの周端面に与えられる押し付け力は、基板Wを介して4本の保持ローラ6,8に分散され、基板Wの周端面に対する保持ローラ6,8の押付圧は、全ての保持ローラ6,8間でほぼ等しくなる。したがって、基板Wおよび保持ローラ6,8に計算値以上の力がかかることがないので、基板Wおよび保持ローラ6,8が損傷することを抑制することができる。
また、保持ローラ8が基板Wの周端面に追従することにより、保持ローラ6,8の高い加工精度や位置精度を必要とせずに、基板Wを確実に定位置で保持することができる。さらに、複数枚の基板W間で、直径や真円度が公差の範囲内でばらついていても、保持ローラ8が基板Wの周端面に追従し、基板Wを確実に定位置で保持することができる。
この発明は、以上の実施形態の内容に限定されるものではなく、「課題を解決するための手段」の項で述べた変更のほか、請求項記載の範囲内において種々の変更が可能である。たとえば、上述の実施形態においては、基板Wはフェイスダウン状態で処理されることとしたが、逆に、基板Wの上面Waがデバイス形成面となるフェイスアップ状態で基板Wが処理されるものであってもよい。このような場合には、たとえば図4(d)の基板Wの周端面洗浄時において、処理液供給機構5Aから基板Wの上面Waに向けて純水が供給されつつ、洗浄ブラシ51によって基板Wの周端面が洗浄されるのが好ましい。続いて、図4(e)および(f)のように第2基板保持回転装置2に基板Wを保持させることなく、図4(d)のように基板Wを第1基板保持回転装置1によって回転しつつ保持させた状態で、洗浄ブラシ51を天地逆転させたような別の洗浄ブラシによって、基板Wの下面Wbをスクラブ洗浄するのが好ましい。このスクラブ洗浄の際には、処理機供給機構5Aから基板Wの上面Waに向けて純水を供給しつつ、純水供給機構5Bと同様の薬液供給機構から基板Wの下面Wbに向けて薬液を供給するのが好ましい。
この発明は、以上の実施形態の内容に限定されるものではなく、「課題を解決するための手段」の項で述べた変更のほか、請求項記載の範囲内において種々の変更が可能である。たとえば、上述の実施形態においては、基板Wはフェイスダウン状態で処理されることとしたが、逆に、基板Wの上面Waがデバイス形成面となるフェイスアップ状態で基板Wが処理されるものであってもよい。このような場合には、たとえば図4(d)の基板Wの周端面洗浄時において、処理液供給機構5Aから基板Wの上面Waに向けて純水が供給されつつ、洗浄ブラシ51によって基板Wの周端面が洗浄されるのが好ましい。続いて、図4(e)および(f)のように第2基板保持回転装置2に基板Wを保持させることなく、図4(d)のように基板Wを第1基板保持回転装置1によって回転しつつ保持させた状態で、洗浄ブラシ51を天地逆転させたような別の洗浄ブラシによって、基板Wの下面Wbをスクラブ洗浄するのが好ましい。このスクラブ洗浄の際には、処理機供給機構5Aから基板Wの上面Waに向けて純水を供給しつつ、純水供給機構5Bと同様の薬液供給機構から基板Wの下面Wbに向けて薬液を供給するのが好ましい。
1 基板保持回転装置
6 保持ローラ(一対の位置決めローラ)
7,8 保持ローラ(一対の押し付けローラ)
16 第1シリンダ(ローラ移動機構)
17 第2シリンダ(ローラ移動機構)
18 第3シリンダ(ローラ移動機構)
19 第4シリンダ(ローラ移動機構)
32 保持ローラ駆動モータ(ローラ回転駆動機構の一部)
33 ベルト(ローラ回転駆動機構の一部)
41 コイルばね(付勢手段)
56 ローラ保持部材(位置決めローラ保持部材)
57 ローラ保持部材(押し付けローラ保持部材)
58 揺動保持機構
W 基板
6 保持ローラ(一対の位置決めローラ)
7,8 保持ローラ(一対の押し付けローラ)
16 第1シリンダ(ローラ移動機構)
17 第2シリンダ(ローラ移動機構)
18 第3シリンダ(ローラ移動機構)
19 第4シリンダ(ローラ移動機構)
32 保持ローラ駆動モータ(ローラ回転駆動機構の一部)
33 ベルト(ローラ回転駆動機構の一部)
41 コイルばね(付勢手段)
56 ローラ保持部材(位置決めローラ保持部材)
57 ローラ保持部材(押し付けローラ保持部材)
58 揺動保持機構
W 基板
Claims (10)
- ほぼ円形の基板の周端面に当接して基板を定位置に位置決めするように配置された一対の位置決めローラ、および前記一対の位置決めローラにほぼ対向し、前記基板の周端面に弾性的に当接して前記位置決めローラと共に基板を挟持して保持する一対の押し付けローラを含む複数の保持ローラと、
前記一対の押し付けローラを前記基板の周端面に向けて独立に付勢し、当該周端面に弾性的に押し付ける付勢手段と、
前記複数の保持ローラのうちの少なくとも1つを回転駆動するローラ回転駆動機構とを含む、基板保持回転装置。 - 前記複数の保持ローラが基板を保持する保持位置と、基板の保持を解放する解放位置との間で、前記一対の位置決めローラおよび一対の押し付けローラの少なくとも一方を他方に対して相対移動させるローラ移動機構をさらに含む、請求項1記載の基板保持回転装置。
- 前記付勢手段は、前記一対の押し付けローラを基板の周端面に向けて異なる方向から付勢するものである、請求項1または2記載の基板保持回転装置。
- 前記一対の位置決めローラを一体的に保持するローラ保持部材をさらに含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の基板保持回転装置。
- 前記ローラ移動機構は、前記ローラ保持部材を移動させることにより、前記一対の位置決めローラを一体的に移動させるものである、請求項2に係る請求項4記載の基板保持回転装置。
- ほぼ円形の基板の周端面に当接して基板を定位置に位置決めするように配置された一対の位置決めローラ、および前記一対の位置決めローラにほぼ対向し、前記基板の周端面に弾性的に当接して前記位置決めローラと共に基板を挟持して保持する一対の押し付けローラを含む複数の保持ローラと、
前記一対の押し付けローラを一体的に保持する押し付けローラ保持部材と、
この押し付けローラ保持部材を、基板の主面に平行な平面に沿う所定角度範囲で揺動自在であるように保持する揺動保持機構と、
前記複数の保持ローラのうちの少なくとも1つを回転駆動するローラ回転駆動機構とを含む、基板保持回転装置。 - 前記複数の保持ローラが基板を保持する保持位置と、基板の保持を解放する解放位置との間で、前記一対の位置決めローラおよび一対の押し付けローラのうちの少なくとも一方を他方に対して相対移動させるローラ移動機構をさらに含む、請求項6記載の基板保持回転装置。
- 前記ローラ移動機構は、前記押し付けローラ保持部材を移動させることにより、前記一対の押し付けローラを一体的に移動させるものである、請求項7記載の基板保持回転装置。
- 前記一対の位置決めローラを一体的に保持する位置決めローラ保持部材をさらに含む、請求項6〜8のいずれか1項に記載の基板保持回転装置。
- 前記ローラ移動機構は、前記位置決めローラ保持部材を移動させることにより、前記一対の位置決めローラを一体的に移動させるものである、請求項7または8に係る請求項9記載の基板保持回転装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006071366A JP2007250783A (ja) | 2006-03-15 | 2006-03-15 | 基板保持回転装置 |
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JP2006071366A Pending JP2007250783A (ja) | 2006-03-15 | 2006-03-15 | 基板保持回転装置 |
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-
2006
- 2006-03-15 JP JP2006071366A patent/JP2007250783A/ja active Pending
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