JP2008124515A - 基板洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ベース部材2に設けられた保持部材6によってベース部材2と基板Wとが離間された状態で基板Wの周縁部が保持され、保持部材6に保持された基板Wの面のうち、ベース部材2に向く側の第1洗浄面WF1を洗浄するための第1洗浄ブラシ21は、第1洗浄具支持アーム22によって、基板Wとベース部材2との間に第1洗浄面WF1に沿って移動可能に配置支持される。回転モーター11によってベース部材2に連結された中空状の回転軸9を介して基板保持機構1及びそれに保持された基板Wを回転させながら、回転モーター16による移動動力によって、第1洗浄面WF1に沿って第1洗浄ブラシ21を移動させ、第1洗浄ブラシ21により基板Wの第1洗浄面WF1を洗浄する。
【選択図】図1
Description
例えば、基板の表面と裏面の両面を洗浄する場合、従来は、基板の表面を上にしてスピンチャックに保持して基板の表面を洗浄する基板洗浄装置(表面洗浄装置)と、基板の裏面を上にしてスピンチャックに保持して基板の裏面を洗浄する基板洗浄装置(裏面洗浄装置)と、上を向く基板の面を表面と裏面とで反転させる基板反転装置とが必要になる。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板に洗浄処理を施す基板洗浄装置であって、ベース部材に設けられた保持部材によって前記ベース部材と基板とが離間された状態で基板の周縁部を保持する基板保持手段と、前記ベース部材に連結された中空状の回転軸を介して前記基板保持手段を回転させる回転駆動手段と、前記保持部材に保持された基板の面のうち、前記ベース部材に向く側の面(以下、この面を「第1洗浄面」と言う)を洗浄するための第1洗浄具と、前記保持部材に保持された基板と前記ベース部材との間に前記第1洗浄具を配置させて、前記第1洗浄面に沿って前記第1洗浄具を移動可能に支持する第1洗浄具支持手段と、前記ベース部材を挟んで、前記保持部材に保持された基板が配置される空間と反対側の空間に配設され、前記第1洗浄面に沿って前記第1洗浄具の往復移動を駆動する移動駆動手段と、前記回転軸内に同芯状で配設され、前記回転軸内の中空部を介して前記移動駆動手段による移動動力を伝達する第1の伝達軸を備えた移動動力伝達手段とを備え、かつ、前記基板保持手段は、前記ベース部材の周縁に沿って立設された複数の支軸を備え、前記支軸の上端部に設けられた前記保持部材によって前記ベース部材と基板とが離間された状態で基板の周縁部を保持することを特徴とするものである。
図1は本発明の一実施例に係る基板洗浄装置の全体的な構成を示す縦断面図であり、図2はその平面図、図3は第1洗浄具支持アーム内の拡大縦断面図、図4は保持部材による基板の保持とその解除との切り替えの原理を説明するための図である。
まず、保持部材6に保持された基板Wの第2洗浄面WF2を洗浄するための第2洗浄具に相当する、基板Wの表面洗浄用の、例えば、PVAブラシなどの第2洗浄ブラシ101を備えている。
基板Wに対する洗浄処理を行っていない非処理中は、第1洗浄ブラシ21は、カップ50の内側であって、保持機構3の外側の待機位置に位置されるとともに、洗浄液供給部ノズル60が、その第1洗浄ブラシ21の上方に位置され、洗浄液供給部ノズル60から供給される洗浄液で第1洗浄ブラシ21が洗浄されている。また、第2洗浄ブラシ101は、待機ポット107内に収容されて洗浄されている。なお、本実施例では、基板保持機構1を所定の位置で回転を停止させるための、周知の回転制御機構(図示せず)を備えていて、常に、保持機構3が図2に示す位置関係で基板保持機構1の回転が停止されるようになっており、保持機構3と干渉せずに第1洗浄ブラシ21を保持機構3の外側と内側との間で移動させられるようになっている。
2:ベース部材
6:保持部材
9:回転軸
10、15、17:ベルト伝動機構
11、16、18:回転モーター
12:第1の伝達軸
13:第2の伝達軸
21:第1洗浄ブラシ
22:第1洗浄具支持アーム
23:第1の動力伝達機構
24:第2の動力伝達機構
101:第2洗浄ブラシ
W:基板
WF1:第1洗浄面
WF2:第2洗浄面
Claims (4)
- 基板に洗浄処理を施す基板洗浄装置であって、
ベース部材に設けられた保持部材によって前記ベース部材と基板とが離間された状態で基板の周縁部を保持する基板保持手段と、
前記ベース部材に連結された中空状の回転軸を介して前記基板保持手段を回転させる回転駆動手段と、
前記保持部材に保持された基板の面のうち、前記ベース部材に向く側の面(以下、この面を「第1洗浄面」と言う)を洗浄するための第1洗浄具と、
前記保持部材に保持された基板と前記ベース部材との間に前記第1洗浄具を配置させて、前記第1洗浄面に沿って前記第1洗浄具を移動可能に支持する第1洗浄具支持手段と、
前記ベース部材を挟んで、前記保持部材に保持された基板が配置される空間と反対側の空間に配設され、前記第1洗浄面に沿って前記第1洗浄具の往復移動を駆動する移動駆動手段と、
前記回転軸内に同芯状で配設され、前記回転軸内の中空部を介して前記移動駆動手段による移動動力を伝達する第1の伝達軸を備えた移動動力伝達手段とを備え、
かつ、前記基板保持手段は、前記ベース部材の周縁に沿って立設された複数の支軸を備え、前記支軸の上端部に設けられた前記保持部材によって前記ベース部材と基板とが離間された状態で基板の周縁部を保持する
ことを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1に記載の基板洗浄装置において、
前記回転軸内に洗浄液を供給する供給路が形成されており、この供給路の上端部に設けられたノズルから洗浄液を基板の前記第1洗浄面に向けて噴出供給するように構成されている基板洗浄装置。 - 請求項1または2に記載の基板洗浄装置において、
前記第1の洗浄具が洗浄ブラシである基板洗浄装置。 - 請求項3に記載の基板洗浄装置において、
前記洗浄ブラシを洗浄するための洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルを更に備え、
前記洗浄液供給ノズルは、前記ベース部材の周縁に沿って立設された複数の支軸及び前記支軸の上端部に設けられた前記保持部材を備える保持機構の外側の待機位置で待機している前記洗浄ブラシを洗浄液で洗浄する基板洗浄装置。
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CN104941972A (zh) * | 2015-07-22 | 2015-09-30 | 上海华力微电子有限公司 | 掩模板表面微尘去除装置及除尘方法 |
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- 2008-02-13 JP JP2008032212A patent/JP2008124515A/ja active Pending
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