JP3448844B2

JP3448844B2 - 基板洗浄装置

Info

Publication number: JP3448844B2
Application number: JP2000256091A
Authority: JP
Inventors: 輝幸中野; 康博小澤
Original assignee: Ishii Hyoki Co Ltd
Current assignee: Ishii Hyoki Co Ltd
Priority date: 2000-08-25
Filing date: 2000-08-25
Publication date: 2003-09-22
Anticipated expiration: 2020-08-25
Also published as: JP2002066466A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板やガラス基
板等の洗浄を行う基板洗浄装置に係り、特に基板に付着
したパーティクル（異物や汚れ等）を除去するためのス
クラビング洗浄工程、リンス工程、及び乾燥工程の各作
業を効率良く且つ確実に行うための技術に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】近年においては、所定の処理工程を終え
た半導体基板やガラス基板に付着しているパーティクル
を除去するため、その後処理として、スクラビング洗浄
工程、リンス工程、及び乾燥工程の一連の流れ作業が実
行されるに至っている。

【０００３】これらの流れ作業を実行する基板洗浄装置
としては、基板を水平姿勢でハンドリングさせ、その基
板の片面ずつをスクラビング洗浄する構成を採用するの
が一般的とされていた。

【０００４】しかしながら、基板を水平姿勢でハンドリ
ングしていたのでは、工程の流れ方向に対して大きな作
業スペースが必要になり、特に基板の大型化の要請に応
じようとすれば、装置全体の大型化を招く。また、基板
の片面ずつをスクラビング洗浄していたのでは、洗浄時
に洗浄液が基板の反対面にまわってパーティクルが転位
する事態を招き、基板の両面を確実に清浄化できなくな
る。

【０００５】このような問題に対処すべく、例えば特開
平１０−３２１５７１号公報によれば、基板保持手段に
基板を垂直姿勢で保持し、その基板の表裏両面を一対の
回転ブラシにより同時にスクラビング洗浄する構成が開
示されている。そして、同公報に開示の基板保持手段
は、基板のエッジ部分（側面部分）に当接する一対のチ
ャッキング部を備えており、このチャッキング部に保持
された基板は、一対の回転ブラシによる洗浄を受けつつ
上下動する構成とされている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記公報に
開示の基板洗浄装置によれば、基板だけでなくチャッキ
ング部も一対の回転ブラシに挟まれた状態でスクラビン
グ洗浄を行う構成であるため、チャッキング部の厚さを
基板の厚さと同等またはそれよりも薄くする必要があ
る。このため、近年における基板の薄肉化の要請に応じ
るには、チャッキング部を極めて薄くせざるを得ず、基
板の支持を適切に行う上で弊害が生じる。

【０００７】しかも、チャッキング部が基板のエッジ部
分に当接しているため、その当接部分に対する回転ブラ
シによる洗浄が不可能になり、基板のエッジ部分周辺に
パーティクルが残存して、製品歩留まりが低下する。

【０００８】更に、チャッキング部に保持された基板
は、水平方向に配列された回転ブラシに対して上下動す
る構成であるため、回転ブラシの軸方向寸法を基板の直
径よりも長くせざるを得ず、近年における基板の大径化
に対処するには、回転ブラシの価格高騰やその支持の困
難化を招くばかりでなく、その配列スペースが大きくな
って保守点検作業が困難になる。

【０００９】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、装置全体の小型化および簡素化を図りつつ基板
の支持を確実化させると共に、処理エリア内における各
構成要素のレイアウトの的確化、更には製品歩留まりの
改善を図り得る基板洗浄装置を提供することを技術的課
題とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記技術的課題を達成す
るため、本発明は、基板を処理エリアと退避エリアとの
間で往復移送させる洗浄治具を備えた基板洗浄装置にお
いて、洗浄治具に、基板をその径方向移動を規制しつつ
垂直姿勢で保持し、且つ、周方向に回転させる回転駆動
手段を設けたことに特徴づけられる。

【００１１】この場合、基板は、洗浄治具により処理エ
リアまで移送され、処理エリアで洗浄治具に保持された
ままの状態で、スクラビング洗浄、リンス、または乾燥
等の処理を受ける。この処理を受けている間は、回転駆
動手段の動作により基板が垂直姿勢（直立姿勢）で周方
向に回転するが、この回転時において、基板は径方向移
動が規制された状態にある。従って、処理エリアでの処
理に起因して基板に径方向の力が作用しても、基板は径
方向に移動することなく一定位置に保持された状態で回
転し続ける。尚、基板は、少なくとも処理エリアにおい
て垂直姿勢で洗浄治具に保持される。

【００１２】そして、回転駆動手段は、基板の外周に当
接してその径方向移動を規制する複数個のロールを備
え、これらのうちの少なくとも一個のロールは基板を回
転駆動させる駆動ロールで、他のロールは基板の回転を
案内する従動ロールであることが好ましい。すなわち、
基板に対しては、全てのロールによって回転が付与され
るのではなく、駆動源から回転トルクが伝達される駆動
ロールによって回転が付与され、従動ロールによってそ
の回転が案内される。従って、全てのロールを回転駆動
させる必要がなくなり、効率良く基板を周方向に回転さ
せることができる。

【００１３】より好ましくは、複数個のロールのうちの
少なくとも一個のロールが、基板を保持する位置と開放
する位置との間で移動可能となるように構成される。す
なわち、少なくとも一個のロールが基板を保持する位置
と開放する位置との間で移動することにより、基板の径
方向移動が規制されて取り外し不能な状態と、その規制
が解除されて取り外し可能な状態とに切り換わる。従っ
て、基板の他部材への受け渡しを適切に行うことができ
る。

【００１４】基板が処理を受ける処理エリアには、一例
として、基板の表裏両面をスクラビング洗浄する一対の
回転ブラシが配設され、洗浄治具には、回転ブラシとの
干渉を回避する逃げ部が設けられる。従って、基板を保
持した洗浄治具が処理エリアに到達した場合には、洗浄
治具の逃げ部に一対の回転ブラシが位置し、この一対の
回転ブラシにより基板の表裏両面がスクラビング洗浄を
受け得る状態になる。

【００１５】この場合、回転ブラシの軸方向寸法は、基
板の半径以上で且つ直径未満に設定されていることが好
ましい。すなわち、基板は周方向に回転しているため、
その外周から回転中心に至る部位に回転ブラシが接触す
るように配列すれば、回転ブラシの軸方向寸法が基板の
直径未満であっても、基板の全面に亘って回転ブラシに
よる洗浄が行えることになる。従って、回転ブラシの軸
方向寸法が、基板の半径以上であれば、その直径未満で
あってもスクラビング洗浄に支障が生じない。

【００１６】また、この処理エリアには、回転ブラシを
洗浄する補助洗浄手段が設けられていることが好まし
い。このように補助洗浄手段を設ければ、スクラビング
洗浄に起因して回転ブラシに付着したパーティクルやブ
ラシカス等を除去することができ、常に清浄な状態で基
板の洗浄を行えることになる。

【００１７】基板が処理を受ける処理エリアには、他の
例として、基板の表裏両面に対してリンス液を噴射する
一対のリンス液噴射ユニットが配設され、洗浄治具に
は、リンス液噴射ユニットの噴射範囲との干渉を回避す
る逃げ部が設けられる。従って、基板を保持した洗浄治
具が処理エリアに到達した場合には、洗浄治具の逃げ部
に一対のリンス液噴射ユニットの噴射範囲が位置し、こ
の一対のリンス液噴射ユニットにより基板の表裏両面が
リンス作用を受け得る状態になる。

【００１８】この場合、リンス液噴射ユニットの噴射範
囲の長手方向寸法は、基板の半径以上で且つ直径未満に
設定されていることが好ましい。すなわち、基板の外周
から回転中心に至る部位にリンス液が噴射されるように
構成すれば、その噴射範囲の長手方向寸法が基板の半径
以上で直径未満であっても、基板の全面に亘ってリンス
液の噴射を行えることになる。

【００１９】基板が処理を受ける処理エリアには、更に
他の例として、基板を乾燥させる乾燥液が貯留される。
これによれば、乾燥液中で基板が回転するため、その浸
漬部が基板の半部以上であれば全部でなくても、基板の
全面が乾燥液と充分に接触できることになり、乾燥液の
貯留量を少量にできる。

【００２０】そして、装置全体の構成としては、処理エ
リアと退避エリアと洗浄治具とが、ブラシスクラブ槽、
リンス槽、及び乾燥槽にそれぞれ対応して設けられると
共に、隣接する各退避エリア間を移動して各洗浄治具と
の間で基板の受け渡しを行う搬送手段が配備されること
が好ましい。このような構成によれば、各槽について洗
浄治具を共通化できると共に、搬送手段の動作により一
連の各処理工程が効率良く且つ円滑に行われる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面を
参照して説明する。

【００２２】図１は本発明の実施形態に係る基板洗浄装
置の外観を示す斜視図である。同図に示すように、基板
洗浄装置のケース本体１は、底部から所定高さ位置まで
前方に突出して形成された槽収納ケース部２と、この槽
収納ケース部２の後部に上方に突出して形成された縦ケ
ース部３とを備える。

【００２３】ケース本体１の槽収納ケース部２には、前
工程で基板４に付着したパーティクルを除去するための
ブラシスクラブ槽５、基板４に残存するパーティクルや
洗浄液を除去するためのリンス槽６、及び基板４を乾燥
させるための乾燥槽７が、工程の流れ方向の上流側から
順に収納されている。

【００２４】基板処理装置は、各槽５，６，７の内部の
処理エリア５ａ，６ａ，７ａと外部の退避エリア５ｂ，
６ｂ，７ｂとの間で基板４を垂直姿勢に保持して往復移
送させる三個の洗浄治具８を備える。各処理エリア５
ａ，６ａ，７ａと各退避エリア５ｂ，６ｂ，７ｂとはそ
れぞれ上下に配列されている。そして、ケース本体１の
縦ケース部３の内部には、各洗浄治具８を上下方向に案
内する各縦レール９と、各洗浄治具８を各縦レール９に
沿って往復移動させるエアシリンダ等の駆動手段（図示
略）とが配設されている。

【００２５】基板洗浄装置は、基板４を垂直姿勢に保持
して隣接する各退避エリア５ｂ，６ｂ，７ｂ間で搬送す
る搬送手段としての二台の搬送ロボット１０を備える。
ケース本体１の縦ケース部３の下端部、すなわち槽収納
ケース部２の上面後端部には、各搬送ロボット１０を工
程の流れ方向に沿って水平に案内する横レール１１と、
各搬送ロボット１０をそれぞれ横レール１１に沿って移
動させるエアシリンダ等の駆動手段（図示略）とが配設
されている。尚、各槽５，６，７の直下方には、これら
の底部に通じる排液管１２が配置されている。

【００２６】各洗浄治具８は、縦レール９に係合する係
合部８ａから前方に突出し且つその前端から下方に垂下
するＬ字形のハンガー部８ｂと、このハンガー部８ｂの
下端に一体的に連結された基板保持部８ｃとを備える。

【００２７】基板保持部８ｃは、図２（ａ），（ｂ）に
示すように、ハンガー部８ｂの下端から前方に突出し且
つその前端から下方に垂下するＬ字形を呈しており、そ
の内側領域である凹状部が、一対の回転ブラシ１３（ま
たは一対のリンス液噴射ユニット１４の噴射範囲）との
干渉を回避する逃げ部Ｘとされている

【００２８】基板保持部８ｃにおける垂下部の上下両端
には、第１ロール１５及び第２ロール１６が回転自在に
装着されており、この両ロール１５，１６は、基板保持
部８ｃにおけるロール配設部の裏側に装備された駆動モ
ータ１８及び動力伝達手段としてのベルト伝動機構１９
により回転駆動される構成である。尚、ベルト伝動機構
１９は、基板保持部８ｃの垂下部の中空部内に配設され
ている。

【００２９】基板保持部８ｃにおけるハンガー部８ｂ下
端との連結部には、揺動アーム２０が支軸２１を介して
揺動自在に装着されており、この揺動アーム２０の先端
部に第３ロール１７が回転自在に装着されている。基板
保持部８ｃにおける揺動アーム配設部の裏側には、揺動
アーム２０を所定角度範囲で揺動させるエアシリンダ等
の駆動手段（図示略）が装備されている。

【００３０】揺動アーム２０が一方側への揺動端に達し
た場合には、三個のロール１５，１６，１７により基板
４の径方向移動が規制されて、基板４が取り外し不能と
なるのに対して、揺動アーム２０が他方側への揺動端に
達した場合には、基板４の径方向移動の規制が解除され
て、基板４が取り外し可能となる。換言すれば、揺動ア
ーム２０が一方側への揺動端に達した場合には、第３ロ
ール１７と第２ロール１６との角度間隔が１８０°以下
となるのに対して、揺動アーム２０が他方側への揺動端
に達した場合には、第３ロール１７と第２ロール１６と
の角度間隔が１８０°以上となるように設定されてい
る。尚、第１、第２、第３ロール１５，１６，１７には
それぞれ、基板４の外周に当接してその表裏方向の移動
を規制するＶ溝２２が形成されている。

【００３１】揺動アーム２０が一方側への揺動端位置に
保持されている時に、駆動モータ１８からの回転トルク
が第１、第２ロール１５，１６に伝達されることによ
り、基板４が第１、第２、第３ロール１５，１６，１７
によって径方向移動を規制された状態で周方向に回転す
るようになっている。この場合、第３ロール１７は、駆
動モータ１８からの回転トルクの伝達を受けずに回転す
るガイドロールとしての役目を果たす。

【００３２】従って、この実施形態の基板洗浄装置に備
えられる洗浄治具８においては、基板４を径方向移動を
規制しつつ垂直状態で周方向に回転させる回転駆動手段
が、第１、第２、第３ロール１５，１６，１７と、駆動
モータ１８と、ベルト伝動機構１９とから構成されてい
る。

【００３３】以上のように構成された洗浄治具８は、三
槽５，６，７について共通に使用されている。

【００３４】図３に示すように、ブラシスクラブ槽５に
おいては、そのケーシング２３の後面部内側に、軸心が
前後方向に延びる一対の回転ブラシ１３が片持ち的に支
持されて、処理エリア５ａに位置している。各回転ブラ
シ１３は、その軸方向寸法が基板４の半径以上で且つ直
径未満（直径の２／３以下）とされたローラ状体であっ
て、その外周にはナイロン繊維等の微細繊維が固着され
ている。そして、図示のように洗浄治具８の基板保持部
８ｃが処理エリア５ａに到達している時には、基板保持
部８ｃの逃げ部Ｘの領域内に回転ブラシ１３の先端側部
分が位置しており、回転ブラシ１３と洗浄治具８とが非
干渉状態とされている。また、洗浄治具８の基板保持部
８ｃが処理エリア５ａに侵入していく過程、および処理
エリア５ａから退避していく過程においても、回転ブラ
シ１３と洗浄治具８とが干渉しないように構成されてい
る。

【００３５】ケーシング２３の後面部外側には、各回転
ブラシ１３を回転駆動させる駆動手段としての一対の駆
動モータ２５が装備されている。各回転ブラシ１３は、
基板４の表裏両面における外周から中心に至る部位に当
接するように配列され、必要に応じて両回転ブラシ１３
が相互に近接する方向に付勢される。また、各回転ブラ
シ１３は、図外のエアシリンダ等の駆動手段により、軸
方向に所定寸法範囲で且つ所定周期で往復移動するよう
に構成されている。尚、ケーシング２３の上端部内側に
は、前後方向に延びる一対の噴射パイプ２６が配設さ
れ、各噴射パイプ２６の噴射ノズル２６ａから各回転ブ
ラシ１３及びその周辺に洗浄液が噴射されるようになっ
ている。

【００３６】更に、ブラシスクラブ槽５の処理エリア５
ａには、回転ブラシ１３に付着したパーティクルやブラ
シカス等を除去するための補助洗浄手段が配備される。
この補助洗浄手段は、第１の例として、図４（ａ），
（ｂ）に示すように、矢印方向に回転している一対の回
転ブラシ１３に対して、それぞれの軸方向全長に亘って
洗浄ノズル２９（ピンスポットタイプ）を移動させるよ
うにし、この各洗浄ノズル２９から高圧水または高圧洗
浄液を各回転ブラシ１３の外周に向けて噴射して、パー
ティクル等を除去するように構成する。この場合、各洗
浄ノズル２９の流体噴射方向は、各回転ブラシ１３の軸
心より相反する方向に離間した位置を指向している。ま
た、第２の例として、各回転ブラシ１３をスクラビング
洗浄時に比して高速回転させることにより、遠心力によ
りパーティクル等を除去するように構成する。更に、第
３の例として、回転ブラシ１３の内部に水等の流体供給
通路を形成し、その通路を回転ブラシ１３の外周に通じ
させ、回転ブラシ１３をスクラビング洗浄時に比して高
速回転させることにより、流体供給通路からの流体を回
転ブラシ１３の内部から外周側に放出させ、この時の流
体の放出力によってパーティクル等を放出させるように
構成する。

【００３７】図５に示すように、リンス槽６において
は、そのケーシング２７の後面部内側に、純水等のリン
ス液を超音波液流として噴射する一対のリンス液噴射ユ
ニット１４が片持ち的に支持されて、処理エリア６ａに
位置している。各リンス液噴射ユニット１４の噴射範囲
は、基板４の表裏両面における外周から中心に至ってお
り、その長手方向寸法は、基板４の半径以上で且つ直径
未満（直径の２／３以下）とされている。

【００３８】そして、図示のように洗浄治具８の基板保
持部８ｃが処理エリア６ａに到達している時には、基板
保持部８ｃの逃げ部Ｘの領域内に各リンス液噴射ユニッ
ト１４の噴射範囲の先端側部分が位置しており、この噴
射範囲と洗浄治具８とが非干渉状態とされている。

【００３９】乾燥槽７には、基板４の乾燥を早期化させ
るための加温されたイソプロピルアルコール等の乾燥液
２８が貯留されている（図１参照）。尚、乾燥槽７に
は、乾燥液２８を貯留することに代えて、基板４をスク
ラビング洗浄時に比して高速で周方向に回転させ、この
時の遠心力により基板４から液体を分離させる遠心分離
手段を設けるようにしても良い。

【００４０】図６（ａ），（ｂ）に示すように、搬送ロ
ボット１０は、横レール１１にスライド可能に係合され
たスライドブロック３０と、このスライドブロック３０
に前後移動自在に保持されたスライダ３１と、このスラ
イダ３１に前後出退動自在に保持されたピストン３２
と、このピストン３２の前端に固定された支持体３３と
を備える。

【００４１】スライダ３１の前後移動およびピストン３
２の前後出退動はそれぞれ、図外のエアシリンダ等の駆
動手段の動作により行われる。スライダ３１には一対の
支持ロール３４が上下に所定寸法離間して配設され、支
持体３３にも一対の支持ロール３５が上下に所定寸法離
間して配設されている。これらの支持ロール３４，３５
にはそれぞれ、基板４の表裏方向移動を規制するための
Ｖ溝３４ａ，３５ａが形成されている。そして、スライ
ダ３１に対してピストン３２が後退動することにより、
四個の支持ロール３４，３５が基板４を保持し、このよ
うな状態からピストン３２が前出動することにより、基
板４の保持が解除されるようになっている。

【００４２】尚、基板４としては、半導体基板（ＤＶＤ
原板およびＣＤ原板等を含む）やガラス基板等が挙げら
れる。

【００４３】上記構成からなる基板洗浄装置は、以下に
示すような手順に従って基板４の洗浄を行う。

【００４４】先ず、前工程でパーティクルが付着した基
板４は、図１に示すように、一方の搬送ロボット１０に
垂直姿勢に保持された状態でブラシスクラブ槽５の退避
エリア５ｂまで搬送され、この退避エリア５ｂで搬送ロ
ボット１０から洗浄治具８への基板４の受け渡しが行わ
れる。

【００４５】この受け渡しは、洗浄治具８が上動端位置
にある時に、図６（ｂ）に示すように、搬送ロボット１
０の四個の支持ロール３４，３５に基板４を保持させた
状態でスライダ３１を前方に移動させることにより、基
板４の外周を洗浄治具８の第１、第２ロール１５，１６
の外周に当接させる。この時点において、揺動アーム２
０は、他方側の揺動端位置まで揺動された状態にあっ
て、第３ロール１７を退避させているため、基板４が前
方に移動してその外周が第１、第２ロール１５，１６に
当接するまでの過程で、基板４と第３ロール１７とが干
渉することはない。

【００４６】このような状態で、揺動アーム２０が一方
側の揺動端位置まで揺動することにより、第３ロール１
７が基板４の外周に当接して、洗浄治具８に基板４が取
り外し不能に保持された状態になる。この後、搬送ロボ
ット１０のピストン３２が前出動し、更にスライダ３１
が後方に移動して、搬送ロボット１０による基板４の保
持を解除した後、搬送ロボット１０が工程の流れ方向の
下流側に僅かに移動した時点で、洗浄治具８が下動す
る。これに伴って、基板４がブラシスクラブ槽５の処理
エリア５ｂに侵入していく過程においては、一対の回転
ブラシ１３の相互間に基板４が挟み込まれていくが、こ
の間において各回転ブラシ１３と洗浄治具８とが干渉す
ることはない。

【００４７】そして、洗浄治具８が下動端に達した時点
で、各回転ブラシ１３が基板４の外周から中心に至る部
位に接触することになり、このような状態の下でスクラ
ビング洗浄が行われる。すなわち、洗浄治具８の回転駆
動手段を構成している駆動モータ１８及びベルト伝動機
構１９の動作によって第１、第２ロール１５，１６に回
転トルクが付与されることにより、基板４が周方向に回
転すると共に、各回転ブラシ１３が駆動モータ２５の動
作によって例えば相反する方向に回転し、洗浄液の供給
の下で基板４に対する洗浄作業が行われる。この場合、
回転ブラシ１３の軸方向寸法は基板４の直径未満である
が、基板１３が周方向に回転しているため、回転ブラシ
１３によるスクラビング洗浄は、基板４の全面に亘って
均等に施される。しかも、基板４は、エッジ部分（側面
部分）が露出した状態で回転するため、エッジ部分に対
しても回転ブラシ１３によるスクラビング洗浄が適切に
施される。

【００４８】このような洗浄作業が所定時間行われた後
に、洗浄治具８が上動して基板４を再び退避エリア５ａ
まで移送するが、この時点においては、補助洗浄手段に
より回転ブラシ１３に対する洗浄作業が行われ、また退
避エリア５ｂにおいては、洗浄治具８から搬送ロボット
１０への基板４の受け渡しが行われる。この受け渡し
は、洗浄治具８に基板４が保持されている状態の下で、
搬送ロボット１０によっても基板４が保持された状態に
し、この後、洗浄治具８の揺動アーム２０を他方側の揺
動端位置まで揺動させることにより完了する。

【００４９】この後においては、搬送ロボット１０が基
板４をリンス槽６の退避エリア６ｂまで搬送し、この退
避エリア６ｂで搬送ロボット１０から洗浄治具８への基
板４の受け渡しが行われ、この受け渡し後に、洗浄治具
８が下動して基板４をリンス槽６の処理エリア６ｂに移
送する。この処理エリア６ｂにおいては、洗浄治具８の
回転駆動手段の動作により基板４が周方向に回転すると
共に、リンス液噴射ユニット１４から基板４にリンス液
が噴射されて、基板４に対する濯ぎが行われる。この場
合、リンス液噴射ユニット１４の噴射範囲と洗浄治具８
とは干渉しておらず、確実な濯ぎが行われると共に、こ
の噴射範囲の長手方向寸法が基板４の直径未満である
が、基板４が周方向に回転しているため、基板４の全面
に亘ってリンス液が均等に噴射される。また、基板４の
エッジ部分についても、適切な濯ぎが行われる。

【００５０】このような濯ぎ作業が所定時間行われた後
に、洗浄治具８が上動して基板４を再び退避エリア６ｂ
まで移送し、この退避エリア６ｂで洗浄治具８から他の
搬送ロボット１０に基板４の受け渡しが行われ、この搬
送ロボット１０が基板４を乾燥槽７の退避エリア７ｂま
で移送する。そして、この退避エリア７ｂで搬送ロボッ
ト１０から洗浄治具８への基板４の受け渡しが行われた
後、洗浄治具８が下動して基板４を処理エリア７ａの乾
燥液２８中に浸漬させる。この場合にも、基板４は周方
向に回転しているため、基板４の表裏両面およびエッジ
部分が乾燥液２８と充分に接触する。この後、洗浄治具
８が上動して基板４が大気中に晒された場合には、乾燥
液２８の作用により基板４が即座に乾燥し、この乾燥し
た基板４は、退避エリア７ｂで洗浄治具７ｂから搬送ロ
ボット１０に受け渡された後，図外の待機位置まで搬送
される。

【００５１】尚、上述の実施形態では、洗浄治具８に三
個のロール１５，１６，１７を装着したが、四個以上の
ロールを装着するようにしても良く、また揺動アーム２
０及びこれに装着されるロール１７は複数個であっても
良い。

【００５２】そして、揺動アーム２０に代えて、例えば
スライド部材を洗浄治具８にスライド可能に支持させ、
このスライド部材にロールを装着するようにしても良
い。

【００５３】また、洗浄治具８は、ハンガー部８ｂの下
端と基板保持部８ｃの後端とを一体的に連結したもので
あるが、基板保持部８ｃの構成に変更を加えずにその後
端とハンガー部８ｂ下端との連結部を分離し、ハンガー
部８ｂの前方への突出寸法を長くして、そのハンガー部
の下端と基板保持部８ｃの前端とを一体的に連結しても
良い。

【００５４】更に、上述の実施形態では、搬送手段を二
台の搬送ロボット１０で構成したが、一台の搬送ロボッ
トであっても良い。

【００５５】また、搬送ロボット１０は、支持ロール３
４，３５を計四個備えているが、計三個であっても良
く、或いは計五個以上であっても良い。

【００５６】図７は、本発明の他の実施形態を例示し、
洗浄治具８の基板保持部８ｃに、前後に所定寸法離間す
る一対の垂下部８ｄを設け、この各垂下部８ｄの上端を
ハンガー部８ｂの下端に連結し、少なくともいずれか一
方の垂下部８ｄをハンガー部８ｂの下端に支軸４０を介
して揺動自在に装着したものである。そして、この洗浄
治具８の基板保持部８ｃには、計四個のロール４１、詳
しくは各垂下部８ｄの上下両端部に一対ずつのロール４
１が装着されている。この場合、洗浄治具８と回転ブラ
シ１３との干渉を回避するための逃げ部Ｘは、一対の垂
下部８ｄの相互間に設けられ、各回転ブラシ３１は軸心
が上下方向に延びるように垂直に配設されている。そし
て、一対の回転ブラシ３１は、相接近動および相離反動
可能に支持されている。尚、リンス液噴射ユニット１４
につても、噴射範囲の長手方向が上下に延びるように配
設される。

【００５７】

【発明の効果】本発明によれば、基板を処理エリアと退
避エリアとの間で往復移送させる洗浄治具に、基板の径
方向移動を規制し且つ基板を垂直姿勢で周方向に回転さ
せる回転駆動手段を設けたから、基板洗浄装置の工程の
流れ方向に対するコンパクト化を図りつつ、基板の支持
が確実化されてその破損等の弊害が回避されると共に、
基板のエッジ部分の異物残存等の不具合が回避され、製
品歩留まりの向上が図られる。

【００５８】回転駆動手段が、複数個のロールを備え、
少なくとも一個のロールを駆動ロールとし、他のロール
を従動ロールとしたから、基板を回転させるための駆動
部の構成を簡素化でき、低コスト化を図りつつ効率良く
基板を回転させることができる。

【００５９】少なくとも一個のロールを、基板を保持す
る位置と開放する位置との間で移動可能としたから、基
板を洗浄治具から取り外し可能な状態と取り外し不能な
状態とに容易に切り換えることができ、洗浄治具と他部
材との間の基板受け渡し作業が容易化される。

【００６０】処理エリアに、一対の回転ブラシを配設
し、洗浄治具に回転ブラシとの干渉を回避する逃げ部を
設けたから、基板を保持した洗浄治具が処理エリアに到
達した場合に、洗浄治具の逃げ部に回転ブラシが位置す
ることになり、処理エリア内のレイアウト上の問題を回
避した上で、適切なスクラビング洗浄が行われる。

【００６１】回転ブラシの軸方向寸法を、基板の半径以
上で且つ直径未満に設定したから、回転ブラシの短寸法
化が図られ、その片持ち支持が可能になると共に、製作
コストの低廉化、および配列スペースの狭小化が図られ
る。

【００６２】処理エリアに、回転ブラシを洗浄する補助
洗浄手段を設けたから、回転ブラシに付着したパーティ
クルやブラシカス等を除去することができ、常に清浄な
状態で基板の洗浄を行える。

【００６３】処理エリアに、一対のリンス液噴射ユニッ
トを配設し、洗浄治具に、リンス液噴射ユニットの噴射
範囲との干渉を回避する逃げ部を設けたから、処理エリ
ア内のレイアウト上の問題を回避した上で、適切な濯ぎ
作業が行われる。

【００６４】リンス液噴射ユニットの噴射範囲の長手方
向寸法を、基板の半径以上で且つ直径未満に設定したか
ら、リンス液噴射ユニットの短寸法化が図られ、その片
持ち支持が可能になると共に、製作コストの低廉化、純
水等のリンス液の少量化、および配列スペースの狭小化
が図られる。

【００６５】処理エリアに、基板を乾燥させる乾燥液を
貯留したから、乾燥液中で基板が回転することにより、
その全面が乾燥液と適切に接触し、乾燥能力の向上が図
られる。

【００６６】装置全体の構成として、処理エリアと退避
エリアと洗浄治具とを、ブラシスクラブ槽、リンス槽、
及び乾燥槽にそれぞれ対応して設けると共に、隣接する
各退避エリア間を移動して各洗浄治具との間で基板の受
け渡しを行う搬送手段を配備したから、各槽について洗
浄治具を共通化できると共に、搬送手段の動作により一
連の流れ作業を効率良く且つ円滑に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態に係る基板洗浄装置の概略全
体構成を示す斜視図である。

【図２】本発明の実施形態に係る洗浄治具および回転ブ
ラシを示す要部正面図（図２ａ），要部側面図（図２
ｂ）である。

【図３】本発明の実施形態に係るブラシスクラブ槽を示
す要部破断斜視図である。

【図４】本発明の実施形態に係る補助洗浄装置を示す要
部斜視図（図４ａ），要部正面図（図４ｂ）である。

【図５】本発明の実施形態に係るリンス槽を示す要部破
断斜視図である。

【図６】本発明の実施形態に係る洗浄治具と搬送手段と
を示す要部平面図（図６ａ）、要部側面図（図６ｂ）で
ある。

【図７】本発明の他の実施形態に係る洗浄治具を示す要
部側面図である。

【符号の説明】

４基板５ブラシスクラブ槽５ａ処理エリア５ｂ退避エリア６リンス槽６ａ処理エリア６ｂ退避エリア７乾燥槽７ａ処理エリア７ｂ退避エリア８洗浄治具１０搬送ロボット（搬送手段）１３回転ブラシ１４リンス液噴射ユニット１５第１ロール１６第２ロール１７第３ロール２０揺動アームＸ逃げ部４１ロール

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を処理エリアと退避エリアとの間で
往復移送させる洗浄治具を備えた基板洗浄装置におい
て、前記洗浄治具に、前記基板をその径方向移動を規制
しつつ垂直姿勢で保持し、且つ、周方向に回転させる回
転駆動手段を設けたことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】前記回転駆動手段が、前記基板の外周に
当接してその径方向移動を規制する複数個のロールを備
え、これらのうちの少なくとも一個のロールが前記基板
を回転駆動させる駆動ロールで、他のロールが前記基板
の回転を案内する従動ロールであることを特徴とする請
求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】前記複数個のロールのうちの少なくとも
一個のロールが、前記基板を保持する位置と開放する位
置との間で移動可能となるように構成されていることを
特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】前記処理エリアに、前記基板の表裏両面
をスクラビング洗浄する一対の回転ブラシが配設され、
前記洗浄治具に、前記回転ブラシとの干渉を回避する逃
げ部が設けられていることを特徴とする請求項１〜３の
何れかに記載の基板洗浄装置。
【請求項５】前記回転ブラシの軸方向寸法が、前記基
板の半径以上で且つ直径未満に設定されていることを特
徴とする請求項４に記載の基板洗浄装置。
【請求項６】前記処理エリアに、前記回転ブラシを洗
浄する補助洗浄手段が設けられていることを特徴とする
請求項４または５に記載の基板洗浄装置。
【請求項７】前記処理エリアに、前記基板の表裏両面
に対してリンス液を噴射する一対のリンス液噴射ユニッ
トが配設され、前記洗浄治具に、前記リンス液噴射ユニ
ットの噴射範囲との干渉を回避する逃げ部が設けられて
いることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の基
板洗浄装置。
【請求項８】前記リンス液噴射ユニットの噴射範囲の
長手方向寸法が、前記基板の半径以上で且つ直径未満に
設定されていることを特徴とする請求項７に記載の基板
洗浄装置。
【請求項９】前記処理エリアに、前記基板を乾燥させ
る乾燥液が貯留されていることを特徴とする請求項１〜
３の何れかに記載の基板洗浄装置。
【請求項１０】前記処理エリアと退避エリアと洗浄治
具とが、ブラシスクラブ槽、リンス槽、及び乾燥槽にそ
れぞれ対応して設けられると共に、隣接する前記各退避
エリア間を移動して前記各洗浄治具との間で前記基板の
受け渡しを行う搬送手段が配備されていることを特徴と
する請求項１〜３の何れかに記載の基板洗浄装置。