JP2007225810A - スピン洗浄方法及びスピン洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】矩形の大型基板に対して、洗浄残りの発生を防止し高品質な洗浄を行うことが可能なスピン洗浄方法及びスピン洗浄装置の提供を目的とする。
【解決手段】矩形のフォトマスク基板8を洗浄するスピン洗浄装置1は、フォトマスク基板8が収容される処理カップ2と、フォトマスク基板8を保持するとともに、フォトマスク基板8を回転させる回転板3と、長手方向の長さがフォトマスク基板8の対角長の1/2より長く、かつ、回転するフォトマスク基板8の外周部から中心部を越える部分にまで当接し、フォトマスク基板8の表面を接触洗浄するロールブラシ4とを具備した構成としてある。
【選択図】 図1
【解決手段】矩形のフォトマスク基板8を洗浄するスピン洗浄装置1は、フォトマスク基板8が収容される処理カップ2と、フォトマスク基板8を保持するとともに、フォトマスク基板8を回転させる回転板3と、長手方向の長さがフォトマスク基板8の対角長の1/2より長く、かつ、回転するフォトマスク基板8の外周部から中心部を越える部分にまで当接し、フォトマスク基板8の表面を接触洗浄するロールブラシ4とを具備した構成としてある。
【選択図】 図1
Description
本発明は、スピン洗浄方法及びスピン洗浄装置に関し、特に、長手方向の長さが矩形基板の対角長の1/2より長いロールブラシを、回転する基板の外周部から該基板の回転中心を越える部分にまで当接させて、基板の表面を接触洗浄し、基板中央部における洗浄品質を向上させることができるスピン洗浄方法及びスピン洗浄装置に関する。
LSI用フォトマスクやLCD用大型フォトマスク等のフォトマスクは、製造プロセス中にさまざまな汚染にさらされるため、製造プロセス中又は最終製品において洗浄される。この洗浄方法としては、一般的に、ディップ式の洗浄方法が用いられていた。
ディップ式の洗浄方法は、並列に配置された洗浄液槽,リンス槽及び乾燥槽に、垂直方向に支持されたフォトマスク基板を順次浸漬させる方法である。なお、これらの槽において使用する薬液の種類やリンス、乾燥方法は、様々な組合わせが用いられる。
ディップ式の洗浄方法は、並列に配置された洗浄液槽,リンス槽及び乾燥槽に、垂直方向に支持されたフォトマスク基板を順次浸漬させる方法である。なお、これらの槽において使用する薬液の種類やリンス、乾燥方法は、様々な組合わせが用いられる。
上記ディップ式の洗浄方法は、例えばLSI用フォトマスク等のマスクサイズが小さい基板に対しては、一度に複数枚の基板を処理することができるため、スループットも高く適しているが、LCD用大型フォトマスク等の大型基板に対しては、各槽が大型化し、薬液も大量に必要となるなどの問題があった。ましてや、近年、液晶表示パネル等の表示パネルやそれらを製造するためのフォトマスクの基板サイズは、さらに大型化する傾向にある。すなわち、例えば、液晶パネルの製造においては、多面取りや大画面化の傾向にあることから液晶パネル基板が大型化し、それにともない、液晶パネルを製造するためのフォトマスクも大型化している。このように基板が大型化し、また高精度化する傾向にあるなか、大型の薬液槽において清浄な洗浄液で洗浄しようとすると、多大な量の薬液が必要となるため、ディップ方式の洗浄を行うのが困難となってきたのが実状である。
上記実情を解決する技術として、枚葉式スピン洗浄法が注目され開発されている。この枚葉式スピン洗浄法は、回転する基板保持部材にフォトマスク基板等を保持し、回転させながら、洗浄、リンス、乾燥を連続的に行う方法である。すなわち、まず処理室内において水平に保持した基板を回転させながら、該基板に対し、処理液として洗浄液を噴出するなどして洗浄する薬液洗浄、ブラシ等によるスクラブ洗浄(接触洗浄)、供給する処理液や純水に超音波を与える超音波洗浄等の洗浄を行った後、純水等でリンスを行い、次いで、基板を所定時間だけ高速回転させることにより乾燥を行う。この方法によれば、上記のディップ方式に比べ、同じ処理室内で一連の処理が可能となるため装置が小型化でき、洗浄液が少なくてすみ、かつ洗浄時間も短くてすむという利点がある(例えば、特許文献1参照)。
また、上記接触洗浄として、たとえば、液晶表示装置用の長方形のガラス基板に対し、PVA(ポリビニルアルコール)製のディスクブラシやロールブラシを基板上に配置して揺動させることにより洗浄する基板洗浄装置及び洗浄方法の技術が開示されている(例えば、特許文献2参照)。
特開2004−290934号公報
特開2002−233829号公報
しかしながら、上記特許文献2に記載された技術では、矩形基板に対し全面を効果的に接触洗浄することができず、洗浄残りが発生するといった問題があった。特に、基板の中央部分には、異物が除去されない液溜りが発生し、洗浄残りになるといった問題があった。
本発明は、上記問題を解決すべくなされたものであり、矩形の大型基板に対して、洗浄残りの発生を防止し高品質な洗浄を行うことが可能なスピン洗浄方法及びスピン洗浄装置の提供を目的とする。
上記目的を達成するために、本発明のスピン洗浄方法は、矩形基板を洗浄するスピン洗浄方法において、長手方向の長さが前記基板の対角長の1/2より長いロールブラシを、回転する前記基板の外周部から該基板の回転中心を越える部分にまで当接させて、前記基板の表面を接触洗浄する方法としてある。
このようにすると、基板が一回転すると、基板の全面を接触洗浄することができ、洗浄残りが発生するといった不具合を防止することができる。特に、基板の中央部分に対しても、接触洗浄が行われるので、基板中央部に洗浄残りが発生するといった不具合を効果的に防止することができる。
このようにすると、基板が一回転すると、基板の全面を接触洗浄することができ、洗浄残りが発生するといった不具合を防止することができる。特に、基板の中央部分に対しても、接触洗浄が行われるので、基板中央部に洗浄残りが発生するといった不具合を効果的に防止することができる。
また、本発明のスピン洗浄方法は、前記ロールブラシを、該ロールブラシの長手軸を回転中心として回転させながら洗浄する方法としてある。
このようにすると、基板の回転中心付近に対する洗浄性を向上させることができる。
このようにすると、基板の回転中心付近に対する洗浄性を向上させることができる。
また、本発明のスピン洗浄方法は、前記基板を、時計回り方向及び反時計回り方向の少なくとも一方向に回転させ、かつ、前記ロールブラシを、前記基板と前記ロールブラシの接触相対速度が速くなる方向に回転させながら洗浄する方法としてある。
このようにすると、異物を除去しにくい複雑なパターンに対して、洗浄性を向上させることができる。
なお、基板とロールブラシの接触相対速度とは、基板表面とロールブラシの毛先(線状部材の先端部)が接触する際の相対速度をいい、接触相対速度が速くなる方向とは、基板表面の回転移動方向に対して、ロールブラシの毛先(線状部材の先端部)が逆方向に回転移動する方向をいう。
このようにすると、異物を除去しにくい複雑なパターンに対して、洗浄性を向上させることができる。
なお、基板とロールブラシの接触相対速度とは、基板表面とロールブラシの毛先(線状部材の先端部)が接触する際の相対速度をいい、接触相対速度が速くなる方向とは、基板表面の回転移動方向に対して、ロールブラシの毛先(線状部材の先端部)が逆方向に回転移動する方向をいう。
また、本発明のスピン洗浄方法は、前記ロールブラシを、前記基板上で揺動させながら洗浄する方法としてある。
このようにすると、ロールブラシに対する相対速度が遅い基板中央部に対しても、ロールブラシを効果的に接触させることができるので、基板中央部に対する洗浄性を向上させることができる。
このようにすると、ロールブラシに対する相対速度が遅い基板中央部に対しても、ロールブラシを効果的に接触させることができるので、基板中央部に対する洗浄性を向上させることができる。
また、本発明のスピン洗浄方法は、前記基板を、長辺が300mm以上のフォトマスク基板とした方法としてある。
このようにすると、基板中央部における洗浄品質が低下する、長辺が300mm以上の大型矩形基板に対しても、洗浄性を向上させることができる。
このようにすると、基板中央部における洗浄品質が低下する、長辺が300mm以上の大型矩形基板に対しても、洗浄性を向上させることができる。
上記目的を達成するために、本発明のスピン洗浄装置は、矩形基板を洗浄するスピン洗浄装置において、前記基板が収容される処理室と、前記基板を保持するとともに、前記基板を回転させる回転板と、長手方向の長さが前記基板の対角長の1/2より長く、かつ、回転する前記基板の外周部から該基板の回転中心を越える部分にまで当接し、前記基板の表面を接触洗浄するロールブラシとを具備した構成としてある。
このように、本発明はスピン洗浄装置としても有効であり、基板が一回転すると、基板の全面を接触洗浄することができ、洗浄残りが発生するといった不具合を効果的に防止することができる。
このように、本発明はスピン洗浄装置としても有効であり、基板が一回転すると、基板の全面を接触洗浄することができ、洗浄残りが発生するといった不具合を効果的に防止することができる。
また、本発明のスピン洗浄装置は、前記ロールブラシが、長手軸を回転中心として、時計回り方向及び反時計回り方向の少なくとも一方向に回転し、かつ、前記回転板が、該回転板の回転軸を回転中心として、時計回り方向及び反時計回り方向の少なくとも一方向に回転する構成としてある。
このようにすると、異物を除去しにくい複雑なパターンに対して、洗浄性を向上させることができる。
このようにすると、異物を除去しにくい複雑なパターンに対して、洗浄性を向上させることができる。
また、本発明のスピン洗浄装置は、前記ロールブラシの一端に、昇降自在な回動軸が設けられており、前記ロールブラシの他端が、回転する前記基板の中心部を挟むように揺動する構成としてある。
このようにすると、ロールブラシに対する相対速度が遅い基板中央部に対しても、ロールブラシを効果的に接触させることができるので、基板中央部に対する洗浄性を向上させることができる。また、ロールブラシを昇降させることにより、ロールブラシの押し圧を調整することができるので、洗浄性を向上させることができる。
このようにすると、ロールブラシに対する相対速度が遅い基板中央部に対しても、ロールブラシを効果的に接触させることができるので、基板中央部に対する洗浄性を向上させることができる。また、ロールブラシを昇降させることにより、ロールブラシの押し圧を調整することができるので、洗浄性を向上させることができる。
また、本発明のスピン洗浄装置は、前記ロールブラシが、該ロールブラシに液体を供給する一又は二以上のノズルを備えた構成としてある。
このようにすると、接触洗浄の効果を増大させることができ、洗浄性を向上させることができる。
このようにすると、接触洗浄の効果を増大させることができ、洗浄性を向上させることができる。
本発明のスピン洗浄方法及びスピン洗浄装置によれば、矩形の大型基板に対して、洗浄残りの発生を防止し高品質な洗浄を行うことができる。
[スピン洗浄装置]
図1は、本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の概略平面図を示している。
同図において、スピン洗浄装置1は、処理カップ2,回転板3,ロールブラシ4及びコントローラ(図示せず)を備えた直方体状の筐体構造としてある。
なお、スピン洗浄装置1は、投入回収手段(図示せず)を備えており、洗浄前のフォトマスク基板8がスピン洗浄装置1に投入され、洗浄後のフォトマスク基板8が回収される。また、フォトマスク基板8は、フォトマスク用ガラス基板,フォトマスクブランク及びフォトマスクを含むものとする。
図1は、本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の概略平面図を示している。
同図において、スピン洗浄装置1は、処理カップ2,回転板3,ロールブラシ4及びコントローラ(図示せず)を備えた直方体状の筐体構造としてある。
なお、スピン洗浄装置1は、投入回収手段(図示せず)を備えており、洗浄前のフォトマスク基板8がスピン洗浄装置1に投入され、洗浄後のフォトマスク基板8が回収される。また、フォトマスク基板8は、フォトマスク用ガラス基板,フォトマスクブランク及びフォトマスクを含むものとする。
(処理カップ)
処理カップ2は、円筒状の容器としてあり、スピン洗浄装置1のほぼ中央部に設置されている。この処理カップ2は、フォトマスク基板8が収容される処理室を形成している。
処理カップ2は、円筒状の容器としてあり、スピン洗浄装置1のほぼ中央部に設置されている。この処理カップ2は、フォトマスク基板8が収容される処理室を形成している。
(回転板)
回転板3は、処理カップ2の中央部に、回転自在に突設されている。この回転板3は、一対の位置決めピン(図示せず)などの保持手段が設けられた円板としてあり、フォトマスク基板8の保持された基板保持部材(図示せず)を保持する。スピン洗浄装置1は、回転板3を回転させるための駆動手段(図示せず)を備えており、この駆動手段は、コントローラによって回転方向,回転速度及び回転時間などが制御され、洗浄工程の諸条件に応じて、回転板3を回転させる。
回転板3は、処理カップ2の中央部に、回転自在に突設されている。この回転板3は、一対の位置決めピン(図示せず)などの保持手段が設けられた円板としてあり、フォトマスク基板8の保持された基板保持部材(図示せず)を保持する。スピン洗浄装置1は、回転板3を回転させるための駆動手段(図示せず)を備えており、この駆動手段は、コントローラによって回転方向,回転速度及び回転時間などが制御され、洗浄工程の諸条件に応じて、回転板3を回転させる。
(ロールブラシ)
ロールブラシ4は、図2に示すように、長手方向の長さ(寸法L)が、矩形のフォトマスク基板8の対角長(対角線の長さ)の1/2(寸法W)より長く(L>W)、かつ、回転板3によって回転されるフォトマスク基板8の外周部から、回転されるフォトマスク基板8の回転中心を越える部分にまで当接し、フォトマスク基板8の表面を接触洗浄する。すなわち、ロールブラシ4は、フォトマスク基板8の外周部から、回転されるフォトマスク基板8の回転中心を通り、フォトマスク基板8の回転中心を通りすぎた部分にまで当接する。このようにすると、フォトマスク基板8が一回転すると、フォトマスク基板8の全面を接触洗浄することができ、洗浄残りが発生するといった不具合を防止する。特に、フォトマスク基板8の中央部分(中心部分)に対しても、接触洗浄が行われるので、フォトマスク基板8の中央部に洗浄残りが発生するといった不具合を効果的に防止する。
ロールブラシ4は、図2に示すように、長手方向の長さ(寸法L)が、矩形のフォトマスク基板8の対角長(対角線の長さ)の1/2(寸法W)より長く(L>W)、かつ、回転板3によって回転されるフォトマスク基板8の外周部から、回転されるフォトマスク基板8の回転中心を越える部分にまで当接し、フォトマスク基板8の表面を接触洗浄する。すなわち、ロールブラシ4は、フォトマスク基板8の外周部から、回転されるフォトマスク基板8の回転中心を通り、フォトマスク基板8の回転中心を通りすぎた部分にまで当接する。このようにすると、フォトマスク基板8が一回転すると、フォトマスク基板8の全面を接触洗浄することができ、洗浄残りが発生するといった不具合を防止する。特に、フォトマスク基板8の中央部分(中心部分)に対しても、接触洗浄が行われるので、フォトマスク基板8の中央部に洗浄残りが発生するといった不具合を効果的に防止する。
ロールブラシ4は、図3に示すように、両端に設けられた長手軸(長手方向の軸)が軸受(図示せず)を介して、アーム41に回転自在に軸支されており、さらに、ロールブラシ4の一方の端部が動力伝達手段を介して可変速モータ43と連結されている。この可変速モータ43は、回転方向及び回転速度が制御可能な構成としてあり、コントローラによって制御される。これにより、長手軸を回転中心として、ロールブラシ4を所定の一方向に回転させながら洗浄したり、前記回転方向と反対方向に回転させながら洗浄することができ、フォトマスク基板8上に形成された、異物が除去されにくい複雑なパターンに対して、接触洗浄性が大幅に向上する。
アーム41は、ロールブラシ4の軸支された側と反対側の端部が、回動軸44と連結されており、昇降自在かつ回動自在に支持されている。この回動軸44は、図示してないが、下方端部が、アーム41を水平方向に回動させるための回動手段(図示せず)と連結されている。また、この回動手段は、図示してないが、アーム41を昇降させるための昇降手段(図示せず)によって昇降される。
上記昇降手段は、コントローラによって制御され、フォトマスク基板8の板厚や指定されたロールブラシ4の押圧力などに応じて、ロールブラシ4をフォトマスク基板8に対する最適な当接高さに位置決めする。また、回動手段は、コントローラによって制御され、ロールブラシ収納室40上方と回転板3上方との間で、アーム41を回動させる。
ここで、好ましくは、アーム41を回動させる上記回動手段が、図2に示すように、ロールブラシ4の中央側端部が、回転するフォトマスク基板8の中心を挟むように揺動する構成とするとよい。このようにすると、ロールブラシ4に対する相対速度が遅いフォトマスク基板8の中央部に対しても、ロールブラシ4を効果的に接触させることができるので、フォトマスク基板8の中央部に対する洗浄性が向上する。
なお、本実施形態では、アーム41を回動させることにより、ロールブラシ4を揺動させる構成としてあるが、これに限定されるものではなく、たとえば、アーム41を往復移動させることにより、ロールブラシ4を揺動させる構成としてもよい。
なお、本実施形態では、アーム41を回動させることにより、ロールブラシ4を揺動させる構成としてあるが、これに限定されるものではなく、たとえば、アーム41を往復移動させることにより、ロールブラシ4を揺動させる構成としてもよい。
また、ロールブラシ4は、図3に示すように、ロールブラシ4に薬液や純水などの液体(図示せず)を供給する二本のノズル45を、ロールブラシ4の両側斜め上方に備えている。このノズル45は、長手方向に沿って液体を噴出する噴出孔(図示せず)が複数箇所に穿設されている。このようにすると、接触洗浄の効果を増大させることができ、洗浄性が向上する。
(コントローラ)
スピン洗浄装置1は、コントローラ(図示せず)が設けてある。このコントローラは、シーケンサやコンピュータなどの情報処理装置であり、スピン洗浄装置1を制御する。また、コントローラは、洗浄等に関する制御も行い、たとえば、回転板3の回転数,回転方向や、ロールブラシ4の回転数,回転方向,高さ位置(フォトマスク基板8に対する押圧力),揺動の有無などの制御を行う。すなわち、スピン洗浄装置1は、コントローラに制御されることにより、複数の洗浄工程(たとえば、薬液洗浄,スクラブ洗浄,リンス,乾燥など)を自動的に実施する。
スピン洗浄装置1は、コントローラ(図示せず)が設けてある。このコントローラは、シーケンサやコンピュータなどの情報処理装置であり、スピン洗浄装置1を制御する。また、コントローラは、洗浄等に関する制御も行い、たとえば、回転板3の回転数,回転方向や、ロールブラシ4の回転数,回転方向,高さ位置(フォトマスク基板8に対する押圧力),揺動の有無などの制御を行う。すなわち、スピン洗浄装置1は、コントローラに制御されることにより、複数の洗浄工程(たとえば、薬液洗浄,スクラブ洗浄,リンス,乾燥など)を自動的に実施する。
次に、上記構成のスピン洗浄装置1における洗浄の一例について、図面を参照して説明する。
図4は、本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の洗浄例を説明するための概略フローチャート図を示している。
まず、スピン洗浄装置1は、投入回収手段によって、基板保持部材81に保持されたフォトマスク基板8が投入される(ステップS1)。すなわち、フォトマスク基板8が保持された基板保持部材が回転板3に保持され、処理カップ2に収容される。
図4は、本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の洗浄例を説明するための概略フローチャート図を示している。
まず、スピン洗浄装置1は、投入回収手段によって、基板保持部材81に保持されたフォトマスク基板8が投入される(ステップS1)。すなわち、フォトマスク基板8が保持された基板保持部材が回転板3に保持され、処理カップ2に収容される。
次に、シャワーパイプ(図示せず)からフォトマスク基板8の上面に薬液が噴出するとともに、フォトマスク基板8が時計回り方向に回転し、薬液洗浄が行われる(ステップS2)。続いて、フォトマスク基板8の回転が停止し、シャワーパイプからの薬液の噴出が停止する。
次に、ロールブラシ4が、フォトマスク基板8上に移動し、フォトマスク基板8と当接する。ここで、ロールブラシ4は、図2に示すように、長手方向の長さ(寸法L)が、矩形のフォトマスク基板8の対角長(対角線の長さ)の1/2(寸法W)より長く(L>W)、かつ、回転板3によって回転されるフォトマスク基板8の外周部から、回転されるフォトマスク基板8の回転中心を越える部分にまで当接する。続いて、ノズル45から純水が噴出するとともに、ロールブラシ4及びフォトマスク基板8が回転し、接触洗浄が行われる(ステップS3)。すなわち、本発明の接触洗浄は、フォトマスク基板8が一回転すると、フォトマスク基板8の全面を接触洗浄することができ、洗浄残りが発生するといった不具合を防止することができる。また、トマスク基板8の中央部に対しても、接触洗浄が行われるので、フォトマスク基板8の中央部に洗浄残りが発生するといった不具合を効果的に防止することができる。
また、本実施形態では、ロールブラシ4を、ロールブラシ4の長手軸を回転中心として回転させながら洗浄する。このようにすると、周速の遅いフォトマスク基板8の中央部(フォトマスク基板8の回転中心付近)に対する洗浄性を向上させることができる。
また、本実施形態では、まず、フォトマスク基板8を(上方から見て)時計回り方向に回転させ、かつ、ロールブラシ4を(回動軸44側方向から見て)反時計回り方向に回転させた状態で接触洗浄を行い、続いて、フォトマスク基板8を(上方から見て)時計回り方向に回転させたまま、ロールブラシ4を(回動軸44側方向から見て)時計回り方向に回転させた状態で接触洗浄を行う。
ここで、フォトマスク基板8を(上方から見て)時計回り方向に回転させ、かつ、ロールブラシ4を(回動軸44側方向から見て)反時計回り方向に回転させた状態での接触洗浄は、フォトマスク基板8とロールブラシ4の接触相対速度が速くなる方向に、ロールブラシ4を回転させた接触洗浄であり、ロールブラシ4の毛先(線状部材の先端部)と基板表面が強く当たるので、異物を除去しにくい複雑なパターンに対して、洗浄性を向上させることができる。
ここで、フォトマスク基板8を(上方から見て)時計回り方向に回転させ、かつ、ロールブラシ4を(回動軸44側方向から見て)反時計回り方向に回転させた状態での接触洗浄は、フォトマスク基板8とロールブラシ4の接触相対速度が速くなる方向に、ロールブラシ4を回転させた接触洗浄であり、ロールブラシ4の毛先(線状部材の先端部)と基板表面が強く当たるので、異物を除去しにくい複雑なパターンに対して、洗浄性を向上させることができる。
次に、フォトマスク基板8を(上方から見て)反時計回り方向に回転させ、かつ、ロールブラシ4を(回動軸44側方向から見て)時計回り方向に回転させた状態で接触洗浄を行い、続いて、フォトマスク基板8を(上方から見て)反時計回り方向に回転させたまま、ロールブラシ4を(回動軸44側方向から見て)反時計回り方向に回転させた状態で接触洗浄を行う。
ここで、フォトマスク基板8を(上方から見て)反時計回り方向に回転させ、かつ、ロールブラシ4を(回動軸44側方向から見て)時計回り方向に回転させた状態での接触洗浄は、フォトマスク基板8とロールブラシ4の接触相対速度が速くなる方向に、ロールブラシ4を回転させた接触洗浄であり、ロールブラシ4の毛先(線状部材の先端部)と基板表面が強く当たるので、異物を除去しにくい複雑なパターンに対して、洗浄性を向上させることができる。
このように、フォトマスク基板8とロールブラシ4の回転方向の組合わせを変更して洗浄すると、フォトマスク基板8に対するロールブラシ4の接触状態を変化させることができ、フォトマスク基板8のパターン形状が複雑な場合であっても、接触洗浄品質を向上させることができる。
なお、本実施形態では、フォトマスク基板8に対するロールブラシ4の接触状態を四種類に変化させているが、四種類を常に必要としない場合、一又は二以上の種類の接触状態で洗浄してもよい。
ここで、フォトマスク基板8を(上方から見て)反時計回り方向に回転させ、かつ、ロールブラシ4を(回動軸44側方向から見て)時計回り方向に回転させた状態での接触洗浄は、フォトマスク基板8とロールブラシ4の接触相対速度が速くなる方向に、ロールブラシ4を回転させた接触洗浄であり、ロールブラシ4の毛先(線状部材の先端部)と基板表面が強く当たるので、異物を除去しにくい複雑なパターンに対して、洗浄性を向上させることができる。
このように、フォトマスク基板8とロールブラシ4の回転方向の組合わせを変更して洗浄すると、フォトマスク基板8に対するロールブラシ4の接触状態を変化させることができ、フォトマスク基板8のパターン形状が複雑な場合であっても、接触洗浄品質を向上させることができる。
なお、本実施形態では、フォトマスク基板8に対するロールブラシ4の接触状態を四種類に変化させているが、四種類を常に必要としない場合、一又は二以上の種類の接触状態で洗浄してもよい。
さらに、上記接触洗浄を行う際、ロールブラシ4の中央側端部が、回転するフォトマスク基板8の回転中心を挟むように揺動させるとよい。このようにすると、ロールブラシ4に対する相対速度が遅いフォトマスク基板8の中央部に対しても、ロールブラシ4を効果的に接触させることができるので、フォトマスク基板8の中央部に対する洗浄性を向上させることができる。
次に、ロールブラシ4及びフォトマスク基板8の回転が停止し、ノズル45から純水の噴出が停止し、アーム41が回動し、フォトマスク基板8の上方から移動する。
次に、ロールブラシ4及びフォトマスク基板8の回転が停止し、ノズル45から純水の噴出が停止し、アーム41が回動し、フォトマスク基板8の上方から移動する。
次に、スピン洗浄装置1は、シャワーパイプ(図示せず)から純水が噴出するとともに、フォトマスク基板8が時計回り方向に回転し、純水によるリンスが行われる(ステップS4)。続いて、シャワーパイプからの純水の噴出が停止し、フォトマスク基板8の回転が停止する。
次に、スピン洗浄装置1は、エアーノズル(図示せず)からフォトマスク基板8にエアーが吹きかけられ、さらに、フォトマスク基板8が回転することにより、フォトマスク基板8を乾燥させる(ステップS5)。続いて、フォトマスク基板8の回転が停止し、エアーの供給が停止する。
次に、スピン洗浄装置1は、フォトマスク基板8の保持された基板保持部材81が搬送手段に保持され、搬送手段が、フォトマスク基板8をスピン洗浄装置1から回収し(ステップS6)、スピン洗浄装置1は、洗浄工程を終了する。
このように、本実施形態のスピン洗浄装置1によれば、フォトマスク基板8が一回転すると、フォトマスク基板8の全面を接触洗浄することができ、洗浄残りが発生するといった不具合を防止することができる。特に、フォトマスク基板8の中央部分に対しても、接触洗浄が効果的に行われるので、フォトマスク基板8の中央部に洗浄残りが発生するといった不具合を効果的に防止することができる。すなわち、スピン洗浄装置1によれば、矩形の大型基板に対して、洗浄残りの発生を防止し高品質な洗浄を行うことができる。
[スピン洗浄方法]
また、本発明は、スピン洗浄方法としても有効であり、本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄方法は、矩形のフォトマスク基板8を洗浄するスピン洗浄方法において、長手方向の長さがフォトマスク基板8の対角長(対角線の長さ)の1/2より長いロールブラシ4を、回転するフォトマスク基板8の外周部から、回転するフォトマスク基板8の回転中心を越える部分にまで当接させて、フォトマスク基板8の表面を接触洗浄する方法としてある。
また、本発明は、スピン洗浄方法としても有効であり、本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄方法は、矩形のフォトマスク基板8を洗浄するスピン洗浄方法において、長手方向の長さがフォトマスク基板8の対角長(対角線の長さ)の1/2より長いロールブラシ4を、回転するフォトマスク基板8の外周部から、回転するフォトマスク基板8の回転中心を越える部分にまで当接させて、フォトマスク基板8の表面を接触洗浄する方法としてある。
また、ロールブラシ4を、ロールブラシ4の長手軸を回転中心として回転させながら洗浄するとよい。このようにすると、フォトマスク基板8の中央部(回転中心付近)に対する洗浄性を向上させることができる。
さらに、フォトマスク基板8を、時計回り方向及び/又は反時計回り方向に回転させ、かつ、ロールブラシ4を、フォトマスク基板8とロールブラシ4の接触相対速度が速くなる方向に回転させながら洗浄するとよい。このようにすると、ロールブラシ4の毛先(線状部材の先端部)とフォトマスク基板8の表面が強く当たるので、異物を除去しにくい複雑なパターンに対して、洗浄性を向上させることができる。
さらに、フォトマスク基板8を、時計回り方向及び/又は反時計回り方向に回転させ、かつ、ロールブラシ4を、フォトマスク基板8とロールブラシ4の接触相対速度が速くなる方向に回転させながら洗浄するとよい。このようにすると、ロールブラシ4の毛先(線状部材の先端部)とフォトマスク基板8の表面が強く当たるので、異物を除去しにくい複雑なパターンに対して、洗浄性を向上させることができる。
さらに、ロールブラシ4を、フォトマスク基板8上で揺動させながら洗浄するとよい。このようにすると、ロールブラシ4に対する相対速度が遅いフォトマスク基板8の中央部に対しても、ロールブラシ4を効果的に接触させることができるので、フォトマスク基板8の中央部に対する洗浄性を向上させることができる。
また、被処理体を、長辺が300mm以上のフォトマスク基板8としてある。このようにすると、フォトマスク基板8の中央部における洗浄品質が低下する、長辺が300mm以上の大型矩形基板に対しても、洗浄性を向上させることができる。なお、フォトマスク基板8は、フォトマスク用ガラス基板,フォトマスクブランク及びフォトマスクを含むものとする。
このように、本実施形態のスピン洗浄方法によれば、フォトマスク基板8が一回転すると、フォトマスク基板8の全面を接触洗浄することができ、洗浄残りが発生するといった不具合を防止することができる。特に、フォトマスク基板8の中央部分に対しても、接触洗浄が行われるので、フォトマスク基板8の中央部に洗浄残りが発生するといった不具合を効果的に防止することができる。
以上、本発明のスピン洗浄方法及びスピン洗浄装置について、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明に係るスピン洗浄方法及びスピン洗浄装置は、上述した実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。
たとえば、スピン洗浄装置1は、一つのロールブラシ4を有する構成としてあるが、この構成に限定されるものではなく、たとえば、二以上のロールブラシ4を備えた構成としてもよい。
たとえば、スピン洗浄装置1は、一つのロールブラシ4を有する構成としてあるが、この構成に限定されるものではなく、たとえば、二以上のロールブラシ4を備えた構成としてもよい。
本発明のスピン洗浄方法及びスピン洗浄装置は、フォトマスク基板を洗浄する構成に限定されるものではなく、セラミック板や、金属板などの洗浄装置及び洗浄方法に利用することができる。
1 スピン洗浄装置
2 処理カップ
3 回転板
4 ロールブラシ
8 フォトマスク基板
41 アーム
43 可変速モータ
44 回動軸
45 ノズル
2 処理カップ
3 回転板
4 ロールブラシ
8 フォトマスク基板
41 アーム
43 可変速モータ
44 回動軸
45 ノズル
Claims (9)
- 矩形基板を洗浄するスピン洗浄方法において、
長手方向の長さが前記基板の対角長の1/2より長いロールブラシを、回転する前記基板の外周部から該基板の回転中心を越える部分にまで当接させて、前記基板の表面を接触洗浄することを特徴とするスピン洗浄方法。 - 前記ロールブラシを、該ロールブラシの長手軸を回転中心として回転させながら洗浄することを特徴とする請求項1記載のスピン洗浄方法。
- 前記基板を、時計回り方向及び反時計回り方向の少なくとも一方向に回転させ、かつ、前記ロールブラシを、前記基板と前記ロールブラシの接触相対速度が速くなる方向に回転させながら洗浄することを特徴とする請求項2記載のスピン洗浄方法。
- 前記ロールブラシを、前記基板上で揺動させながら洗浄することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のスピン洗浄方法。
- 前記基板を、長辺が300mm以上のフォトマスク基板としたことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のスピン洗浄方法。
- 矩形基板を洗浄するスピン洗浄装置において、
前記基板が収容される処理室と、
前記基板を保持するとともに、前記基板を回転させる回転板と、
長手方向の長さが前記基板の対角長の1/2より長く、かつ、回転する前記基板の外周部から該基板の回転中心を越える部分にまで当接し、前記基板の表面を接触洗浄するロールブラシと
を具備したことを特徴とするスピン洗浄装置。 - 前記ロールブラシが、長手軸を回転中心として、時計回り方向及び反時計回り方向の少なくとも一方向に回転し、かつ、前記回転板が、該回転板の回転軸を回転中心として、時計回り方向及び反時計回り方向の少なくとも一方向に回転することを特徴とする請求項6記載のスピン洗浄装置。
- 前記ロールブラシの一端に、昇降自在な回動軸が設けられており、前記ロールブラシの他端が、回転する前記基板の中心部を挟むように揺動することを特徴とする請求項6又は7記載のスピン洗浄装置。
- 前記ロールブラシが、該ロールブラシに液体を供給する一又は二以上のノズルを備えたことを特徴とする請求項6〜8のいずれか一項に記載のスピン洗浄装置。
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- 2006-02-22 JP JP2006045774A patent/JP2007225810A/ja active Pending
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