CN102905803B - 清洗方法 - Google Patents
清洗方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102905803B CN102905803B CN201180025373.9A CN201180025373A CN102905803B CN 102905803 B CN102905803 B CN 102905803B CN 201180025373 A CN201180025373 A CN 201180025373A CN 102905803 B CN102905803 B CN 102905803B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- workpiece
- cleaning fluid
- nozzle
- cleaning
- described lower
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
- B08B3/022—Cleaning travelling work
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G21/00—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge
- G03G21/0005—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge for removing solid developer or debris from the electrographic recording medium
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G21/00—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge
- G03G21/0005—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge for removing solid developer or debris from the electrographic recording medium
- G03G21/0052—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge for removing solid developer or debris from the electrographic recording medium using an air flow; Details thereof, e.g. nozzle structure
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Nozzles (AREA)
Abstract
清洗方法包括清洗工序,该清洗工序中通过在从配置于工件(10)上侧及下侧的上喷雾喷嘴(2)及下喷雾喷嘴(4)分别喷射上清洗液(3)及下清洗液(5)的状态下,使工件(10)相对于上下两喷嘴(2、4)相对地在水平方向上移动,从而用上清洗液(3)清洗工件(10)的上表面(10a)及外周面(10b)中的至少上表面(10a),并且用下清洗液(5)清洗工件(10)的下表面(10c)。在清洗工序中,从上喷嘴(2)及下喷嘴(4)分别喷射上清洗液(3)及下清洗液(5),以使在下清洗液(5)喷到工件(10)的下表面(10c)时上清洗液(3)必定喷到工件(10)的由上表面(10a)及外周面(10c)构成的区域的至少一部分。
Description
技术领域
本发明涉及清洗感光鼓基体等工件的清洗方法及清洗装置。
背景技术
在复印机、打印机、传真装置等电子照片装置的感光鼓中使用的筒状基体、即感光鼓基体是铝或其合金等金属制,在其外周面形成有机感光体层。在基体的轴向各端面的周缘部通过切削而施行了倒角加工。
在该基体中,为了能够形成良好的有机感光体层,在有机感光体层形成前清洗基体的整个面。通过该清洗,来去除在基体上附着的切削屑、油等附着物。
作为公开了基体清洗方法的公知文献,有例如特开2006-106380号公报(专利文献1)。在该公报中,作为基体清洗方法,采用用从喷雾喷嘴喷射出的清洗液来清洗基体的喷雾清洗。作为其他的公知文献,有特开2003-262964号公报(专利文献2)等。
而且,通常在用喷雾清洗方法来清洗感光鼓基体等工件的下表面的情况下,用工件支撑部件支撑着工件,从配置于工件下侧的喷雾喷嘴向上喷射清洗液。由此,用下清洗液来清洗工件的下表面。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:特开2006-106380号公报
专利文献2:特开2003-262964号公报
发明内容
本发明要解决的问题
然而,根据该清洗方法,在清洗工件的下表面时,从下喷嘴喷射出的下清洗液碰到工件的下表面,导致使工件有时会从工件支撑部件上浮。于是,难以充分清洗工件的下表面,再有,如果下清洗液没有碰到上浮了的工件的下表面则工件因自重而下降并与工件支撑部件碰撞,有可能在工件的下表面造成损伤。
本发明鉴于上述背景技术而研制,其目的在于提供能够防止在喷雾清洗感光鼓基体等工件的下表面时工件上浮的情况的清洗方法及该清洗方法所使用的清洗装置。
本发明的其他目的及优点可从以下的优选实施方式加以明确。
用于解决问题的技术方案
本发明提供以下的技术方案。
(1)一种清洗方法,其特征在于,包括清洗工序,该清洗工序中,通过在从配置于工件上侧的上喷雾喷嘴向下喷射上清洗液且从配置于工件下侧的下喷雾喷嘴向上喷射下清洗液的状态下,使工件相对于所述上下两喷嘴相对地在水平方向上移动,从而用所述上清洗液清洗工件的上表面及外周面中的至少上表面,并且用所述下清洗液清洗工件的下表面,
在所述清洗工序中,从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别喷射所述上清洗液及所述下清洗液,以使在下清洗液喷到工件的下表面时上清洗液必定喷到工件的由上表面及外周面构成的区域的至少一部分。
(2)上述(1)记载的清洗方法,在俯视时,所述上喷嘴的配置位置和所述下喷嘴的配置位置错开,在所述清洗工序中,从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别喷射所述上清洗液及所述下清洗液,以使上清洗液和下清洗液互不干涉。
(3)上述(1)或(2)记载的清洗方法,从所述上喷嘴喷射的所述上清洗液的平均单位时间的喷射流量比从所述下喷嘴喷射的所述下清洗液的平均单位时间的喷射流量大。
(4)上述(1)~(3)中任一项记载的清洗方法,工件是筒状的且配置为使其轴铅垂,在所述清洗工序中,用所述上清洗液清洗工件的上表面、 外周面及内周面,并且用所述下清洗液清洗工件的下表面及内周面。
(5)上述(1)~(4)中任一项记载的清洗方法,所述上喷嘴及所述下喷嘴分别包括扁平喷雾喷嘴,在所述清洗工序中,从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别扇形膜状地喷射所述上清洗液及所述下清洗液。
(6)上述(5)记载的清洗方法,在所述清洗工序中,在俯视时,从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别喷射所述上清洗液及所述下清洗液,以使所述上清洗液的喷射扩散方向与所述下清洗液的喷射扩散方向互相平行。
(7)上述(5)或(6)记载的清洗方法,在俯视时,工件在所述工件的相对移动方向的正交方向上排列配置多个,并且在俯视时,所述上喷嘴和所述下喷嘴在所述工件的相对移动方向的正交方向上交替排列配置多个。
(8)上述(5)~(7)中任一项记载的清洗方法,在俯视时,所述上喷嘴配置于所述工件的相对移动区域的外侧,另一方面,所述下喷嘴配置于所述工件的相对移动区域的内侧。
(9)上述(5)~(8)中任一项记载的清洗方法,在所述清洗工序中,在俯视时,从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别喷射所述上清洗液及所述下清洗液,以使上清洗液及下清洗液的喷射扩散方向皆相对于所述工件的相对移动方向成为倾斜方向。
(10)上述(5)~(9)中任一项记载的清洗方法,在俯视时,工件在所述工件的相对移动方向及其正交方向上排列配置为多行及多列,在所述清洗工序中,喷射所述上清洗液,以使所述上清洗液喷到互相相邻的两个工件行中的一个工件行的至少一个工件和另一工件行的至少一个工件。
(11)上述(5)~(10)中任一项记载的清洗方法,工件配置位置处的从所述上喷嘴喷射的所述上清洗液的喷射扩散宽度比工件配置位置处的从所述下喷嘴喷射的所述下清洗液的喷射扩散宽度大。
(12)上述(1)~(11)中任一项记载的清洗方法,所述下喷嘴与工件之间的铅垂方向的距离比所述上喷嘴与工件之间的铅垂方向的距离短。
(13)上述(1)~(12)中任一项记载的清洗方法,所述工件是感光 鼓基体。
(14)一种清洗装置,其特征在于,具备:上喷雾喷嘴,其配置于工件的上侧且向下喷射上清洗液;下喷雾喷嘴,其配置于工件的下侧且向上喷射下清洗液;和驱动单元,其使工件相对于所述上下两喷嘴相对地在水平方向上移动,该清洗装置构成为,通过在从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别喷射所述上清洗液及所述下清洗液的状态下,由所述驱动单元使工件相对移动,从而用所述上清洗液清洗工件的上表面及外周面中的至少上表面并且用所述下清洗液清洗工件的下表面,从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别喷射所述上清洗液及所述下清洗液,以使在下清洗液喷到工件的下表面时上清洗液必定喷到工件的由上表面及外周面构成的区域的至少一部分。
此外,上述(14)的清洗装置也能够采用以下的结构。
(15)上述(14)记载的清洗装置,在俯视时,所述上喷嘴的配置位置与所述下喷嘴的配置位置错开,从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别喷射所述上清洗液及所述下清洗液,以使上清洗液与下清洗液互不干涉。
(16)上述(14)或(15)记载的清洗装置,从所述上喷嘴喷射的所述上清洗液的平均单位时间的喷射流量比从所述下喷嘴喷射的所述下清洗液的平均单位时间的喷射流量大。
(17)上述(14)~(16)中任一项记载的清洗装置,工件是筒状,且其轴铅垂地配置,用所述上清洗液清洗工件的上表面、外周面及内周面,并且用所述下清洗液清洗工件的下表面及内周面。
(18)上述(14)~(17)中任一项记载的清洗装置,所述上喷嘴及所述下喷嘴分别包括扁平喷雾喷嘴,从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别扇形膜状地喷射所述上清洗液及所述下清洗液。
(19)上述(18)记载的清洗装置,在俯视时,从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别喷射所述上清洗液及所述下清洗液,以使所述上清洗液的喷射扩散方向和所述下清洗液的喷射扩散方向互相平行。
(20)上述(18)或(19)记载的清洗装置,在俯视时,工件在所述工件的相对移动方向的正交方向上排列配置多个,并且在俯视时,所述上 喷嘴和所述下喷嘴在所述工件的相对移动方向的正交方向上交替排列配置多个。
(21)上述(18)~(20)中任一项记载的清洗装置,在俯视时,所述上喷嘴配置于所述工件的相对移动区域的外侧,另一方面,所述下喷嘴配置于所述工件的相对移动区域的内侧。
(22)上述(18)~(21)中任一项记载的清洗装置,在俯视时,从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别喷射所述上清洗液及所述下清洗液,以使上清洗液及下清洗液的喷射扩散方向皆相对于所述工件的相对移动方向成为倾斜方向。
(23)上述(18)~(22)中任一项记载的清洗装置,所述工件在所述工件的相对移动方向及其正交方向上排列配置为多行及多列,喷射所述上清洗液,以使所述上清洗液喷到互相相邻的两个工件行中的一个工件行的至少一个工件和另一工件行的至少一个工件。
(24)上述(18)~(23)中任一项记载的清洗装置,工件配置位置处的从所述上喷嘴喷射的所述上清洗液的喷射扩散宽度比工件配置位置处的从所述下喷嘴喷射的所述下清洗液的喷射扩散宽度大。
(25)上述(14)~(24)中任一项记载的清洗装置,所述下喷嘴与工件之间的铅垂方向的距离比所述上喷嘴与工件之间的铅垂方向的距离短。
(26)上述(14)~(25)中任一项记载的清洗装置,所述工件是感光鼓基体。
发明效果
本发明起到以下的效果。
根据上述(1)的清洗方法,从上喷嘴及下喷嘴分别喷射上清洗液及下清洗液,以使在下清洗液喷到工件的下表面时上清洗液必定喷到工件的由上表面及外周面构成的区域的至少一部分,从而能够防止工件上浮。由此,能够可靠地清洗工件的下表面,还能够防止工件的下表面损伤。
根据上述(2)的清洗方法,从上喷嘴及下喷嘴分别喷射上清洗液及下清洗液,以使上清洗液和下清洗液互不干涉,从而能够分别提高上清洗液 及下清洗液的清洗力。
根据上述(3)的清洗方法,从上喷嘴喷射的上清洗液的喷射流量比从下喷嘴喷射的下清洗液的喷射流量大,从而能够可靠地防止工件上浮。
根据上述(4)的清洗方法,即使工件是小直径的筒状,也能够清洗该工件的整个面,即工件的上表面、外周面、下表面及内周面。
根据上述(5)的清洗方法,通过上喷嘴及下喷嘴分别包括扁平喷雾喷嘴,从上喷嘴及下喷嘴分别扇形膜状地喷射上清洗液及下清洗液,从而能够分别进一步提高上清洗液及下清洗液的清洗力。
根据上述(6)的清洗方法,通过从上喷嘴及下喷嘴分别喷射上清洗液及下清洗液,以使上清洗液的喷射扩散方向和下清洗液的喷射扩散方向互相平行,从而能够可靠地防止上清洗液和下清洗液干涉,进而,能够高效地清洗工件,还能够实现清洗装置的小型化。
根据上述(7)的清洗方法,能够统一清洗多个工件。
根据上述(8)的清洗方法,能够用上清洗液可靠地清洗工件的上表面及外周面,即使工件是筒状也能够可靠地用下清洗液清洗该筒状工件的下表面及内周面。
根据上述(9)的清洗方法,在工件的相对移动方向的正交方向上排列配置多个工件的情况下,能够用从一个上喷嘴喷射的上清洗液来清洗互相相邻的两个工件。由此,能够高效地清洗工件。
根据上述(10)的清洗方法,能够统一清洗更多的工件,因此能够高效地清洗工件。
根据上述(11)的清洗方法,能够可靠地实现上述(1)中的上清洗液及下清洗液的喷射状态。
根据上述(12)的清洗方法,能够可靠地清洗工件的下表面。
根据上述(13)的清洗方法,能够清洗作为工件的感光鼓基体。
上述(14)的清洗装置能够适用于上述(1)的清洗方法。
此外,上述(15)~(26)的清洗装置能够分别适用于上述(2)~(13)的清洗方法。
附图说明
图1是在清洗工件的途中的状态下表示本发明的一个实施方式涉及的清洗方法的俯视图。
图2是从工件的移动方向的前方侧观察到的主视图。
图3是工件支撑部件的立体图。
图4是工件的半剖侧视图。
具体实施方式
接下来,下面参照附图来说明本发明的一个实施方式。
在图1中,1是本发明的一个实施方式涉及的清洗装置,10是工件。
如图4所示,工件10是筒状,具体描述为圆筒状。具体地,工件10是铝或其合金制感光鼓基体,其截面形状为圆环状。在清洗工件10时,工件10以其轴Q垂直的方式配置。
此外,作为工件10的感光鼓基体,为了能够在其外周面10b形成良好的有机感光体层,通过使用本实施方式的清洗装置1来清洗、然后在其外周面10b形成有机感光体层,来制造感光鼓。在基体的轴向各端面的周缘部通过切削来施行倒角加工。因此,在基体的各端面附着有由于倒角加工而产生的切削屑(未图示)。进而,切削屑有时也会附着在基体的外周面和/或内周面,另外,在基体的各端面、外周面10b及内周面10d附着有加工油等。为了去除此类切削屑、油等附着物,通过使用本实施方式的清洗装置1的清洗方法来清洗基体。
工件10的外径(直径)U是例如10~50mm,其壁厚t是例如0.5~2.0mm。
本实施方式的清洗装置1是统一喷雾清洗多个工件10的装置,具备统一支撑多个工件10的工件支撑部件7、多个上喷雾喷嘴2、多个下喷雾喷嘴4和驱动单元8等。
如图3所示,工件支撑部件7具有:水平状配置的棒状的工件载置部7a;和在该工件载置部7a以立起状设置的多个棒状的工件保持部7b。工件载置 部7a的截面形状是圆形状。在工件装载部7a上,工件10以其轴Q铅垂的方式配置。工件保持部7b通过从工件10的下端开口10f插入以轴Q铅垂的方式配置的工件10的中空部10g中,从而保持工件10的姿势以使工件10不会倾倒。而且,工件10在工件保持部7b从工件10的下端开口10f插入工件10的中空部10g中的状态下被载置于工件载置部7a上,由此工件10以其轴Q铅垂的方式被支撑于工件支撑部件7。在如上述那样支撑工件10的状态下,工件10的下表面10c与工件载置部7a线状地抵接,并且工件10的下端开口10f没有被工件载置部7a完全封闭,即向下方开放。此外,工件10的上端开口10e向上方开放。工件在载置部7a的直径设定为比工件10的内径小,例如,相对于工件10的内径设定为0.6~0.8倍的范围内。此外,在图1中,省略图示了工件支撑部件7。
如图2所示,上喷雾喷嘴2配置于工件10的上侧且向下喷射清洗液3。在本说明书中,将从该上喷嘴2喷射的清洗液3称为“上清洗液3”。下喷雾喷嘴4配置于工件10的下侧且向上喷射清洗液5。本说明书中,将从该下喷嘴4喷射的清洗液5称为“下清洗液5”。
上清洗液3喷到工件10的上表面10a、外周面10b及内周面10d(具体描述为,内周面10d的上部)上从而清洗这些面10a、10b、10d。下清洗液5喷到工件10的下表面10c及内周面10d(具体描述为,内周面10d的下部)上从而清洗这些面10c、10d。即、工件10的内周面10d由从工件10的上端开口10e进入工件10的中空部10g的上清洗液3和从工件10的下端开口10f进入工件10的中空部10g的下清洗液5来清洗。
上清洗液3及下清洗液5皆包含水、脱脂剂等,其温度设定为例如40~70℃范围内。另外,在本实施方式中,上喷嘴2及下喷嘴4的配置位置分别固定。
进而,上喷嘴2包括将上清洗液3喷射成扇形膜状地的扁平喷雾喷嘴。另外,同样地,下喷嘴4包括将下清洗液5喷射成扇形膜状的扁平喷雾喷嘴。
驱动单元8使多个工件10统一地向水平方向的一个方向M移动,包括电动致动器、流体压力缸(例如,液压缸、气压缸)等。而且,如图2所示, 该驱动单元8的驱动部与工件支撑部件7连接,使支撑多个工件10的工件支撑部件7向预定方向M移动,从而使多个工件10统一地向预定方向M移动。
而且,本实施方式的清洗装置1构成为,通过在分别从上喷嘴2及下喷嘴4喷射出上清洗液3及下清洗液5的状态下、由驱动单元8使工件10向预定方向M移动,从而用上清洗液3来清洗工件10的上表面10a及外周面10b中的至少上表面10a、并且用下清洗液5来清洗工件10的下表面10c,进而,构成为,分别从上喷嘴2及下喷嘴4喷射上清洗液3及下清洗液5,以使在下清洗液5喷到工件10的下表面10c时上清洗液3必定会喷到工件10的由上表面10a及外周面10b构成的区域的至少一部分。在本实施方式中,用上清洗液3来清洗工件10的上表面10a及外周面10b。
接着,在下面就本实施方式的清洗装置1的详细结构进行说明。
如图1所示,在俯视时,工件10基于驱动单元8的工件的移动方向M及其正交方向N上等间隔地排列配置为多行及多列,即矩阵状配置。在该工件矩阵状配置中,将多个工件10在工件的移动方向M上排列成一列而构成的工件组设为“工件行15”,将多个工件10在工件的移动方向M的正交方向N上排列成一列而构成的工件组设为“工件列16”。在本实施方式中,工件行15的全部行数为12行,工件列16的全部列数为12列,即12行×12列。因此,工件10的全部数量为144个。
进而,在该工件矩阵状配置中,工件行15中的工件10、10间的间距P1和工件列16中的工件10、10间的间距P2设定为互相相等,优选的是,相对于各工件10的外径U,设定为1.5~2.5倍的范围内。
上喷嘴2及下喷嘴4,在俯视时在工件的移动方向M的正交方向N上多个交替地等间隔排列配置成一列。因此,上喷嘴2的配置位置和下喷嘴4的配置位置在工件的移动方向M的正交方向N上错开。而且,在将如上述那样多个上喷嘴2及下喷嘴4交替地排列成一列而构成的喷嘴组设为“喷嘴列6”,该喷嘴列6还在工件的移动方向M上等间隔地配置多列。在本实施方式中,喷嘴列6的全部列数为4列。
在俯视时,喷嘴列6中的上喷嘴2及下喷嘴4间的间距P4相对于工件列 16中的工件10、10间的间距P2设定为1/2倍。进而,在俯视时,各下喷嘴4配置于通过驱动单元8而移动的工件的移动区域Z的内侧,具体描述为,配置于工件的移动区域Z的内侧的宽度方向中间位置。另一方面,在俯视时,各上喷嘴2配置于工件的移动区域Z的外侧,具体描述为,配置于工件列16中的互相相邻的两个工件10、10间的中间位置。
另外,多个(在本实施方式中为四个)喷嘴列6、6间的间距P3相对于工件行15中的工件10、10间的间距P1设定为2~11倍的范围内,在本实施方式中P3相对于P1设定为3倍。
各上喷嘴2及下喷嘴4配置成,从各上喷嘴2喷射的上清洗液3的喷射扩散方向H和从各个下喷嘴4喷射的下清洗液5的喷射扩散方向J互相平行。即、各上喷嘴2及各下喷嘴4分别喷射上清洗液3及下清洗液5,以使上清洗液3的喷射扩散方向H和下清洗液5的喷射扩散方向J互相平行。这里,如上所述,在俯视时,上喷嘴2的配置位置和下喷嘴4的配置位置在工件的移动方向M的正交方向N上错开,因此即使从各上喷嘴2及各下喷嘴4分别喷射上清洗液3及下清洗液5,上清洗液3及下清洗液5也不会互相直接干涉,即、上清洗液3及下清洗液5不会互相直接碰撞。
进而,从各上喷嘴2及各下喷嘴4分别喷射上清洗液3及下清洗液5,以使上清洗液3及下清洗液5的喷射扩散方向H、J皆相对于工件的移动方向M为倾斜方向。上清洗液3及下清洗液5的喷射扩散方向H、J相对于工件的移动方向M所成的角度α、α皆优选设定为25~80°的范围内,具体地,α、α皆设定为例如45°。
从各上喷嘴2喷射的上清洗液3的平均单位时间的喷射流量V1设定为比从各下喷嘴4喷射的下清洗液5的平均单位时间的喷射流量V2大(即、V1>V2)。优选地,V1相对于V2设定为1.5~3.0倍的范围内。具体地,V1设定为例如4.5~39L/min的范围内,V2设定为例如3~13L/min的范围内。
如图2所示,从各上喷嘴2喷射的上清洗液3的喷射扩散角度θ1设定为比从各下喷嘴4喷射的下清洗液5的喷射扩散角度θ2小(即、θ1<θ2)。优选,θ2相对于θ1设定为1.2~3.2倍的范围内。具体地,θ1设定为例如25~65°的 范围内,θ2设定为例如40~80°的范围内。
进而,各下喷嘴4与工件10之间的铅垂方向的距离S2设定为比各上喷嘴2与工件10之间的铅垂方向的距离S1短(即、S2<S1)。优选,S1相对于S2设定为3~7倍的范围内。具体地,S2设定为例如10~45mm的范围内,S1设定为例如70~150mm的范围内。
通过这样将S2设定为比S1短,换言之S1设定为比S2长,从而如图1所示,在俯视时,工件配置位置处的从各上喷嘴2喷射的上清洗液3的喷射扩散宽度W设定为比工件配置位置处的从各下喷嘴4喷射的下清洗液5的喷射扩散宽度Y大。
具体描述为,上清洗液3的喷射扩散宽度W在工件移动方向M的正交方向N上的长度W1相对于工件列16中的工件10、10间的间距P2设定为2倍以上(更具体描述为,2~3倍的范围)。由此,在从上喷嘴2喷射上清洗液3的状态下使工件10向预定方向M移动的情况下,上清洗液3喷到互相相邻的两个工件行15、15中的一个工件行15的至少一个(在本实施方式中为一个或两个)工件10的上表面10a、外周面10b及内周面10d(具体描述为,内周面10d的上部)和另一工件行15的至少一个(在本实施方式中为一个或两个)工件10的上表面10a、外周面10b及内周面10d(具体描述为,内周面10d的上部),并且通过工件10的移动而用上清洗液3清洗工件10的整个上表面10a、整个外周面10b及整个内周面10d(具体描述为,内周面10d的整个上部)。
另一方面,下清洗液5的喷射扩散宽度Y在工件移动方向M的正交方向N上的长度Y1相对于工件10的外径U设定为相等或较长,即相对于工件列16中的工件10、10间的间距P2设定为1倍以上(具体描述为,1~1.8倍的范围)。由此,如图2所示,在从下喷嘴4喷射下清洗液5的状态下使工件10向预定方向M移动的情况下,下清洗液5喷到各工件行15中的一个工件10的下表面10c及内周面10d(具体描述为,内周面10d的下部),并且通过工件10的移动而用下清洗液5清洗工件10的整个下表面10c及整个内周面10d(具体描述为,内周面10d的整个下部)。
基于驱动单元8的工件10的移动速度是例如8~50mm/s的范围。工件10的移动距离相对于工件行15中的工件10、10间的间距P1的2倍的长度设定为相等或较长,优选,设定为P1×2倍~P1×3倍的范围。
进而,喷嘴列6中的上喷嘴2及下喷嘴4间的间距P4和上清洗液3及下清洗液5的喷射扩散方向H、J相对于工件的移动方向M所成的角度α、α设定为,在下清洗液5喷到工件10的下表面10c时,在俯视时从在喷射该下清洗液5的下喷嘴4的两侧配置的两个上喷嘴2、2喷射的上清洗液3、3中的至少一方必定喷到该工件10的由上表面10a及外周面10b构成的区域的至少一部分。
接下来,在下面就使用本实施方式的清洗装置1的工件10的清洗方法进行说明。
如图3中双点划线所示,由清洗装置1的工件支撑部件7支撑多个工件10以使其轴Q为铅垂。由此,在俯视时,多个工件10配置成在工件的移动方向M及其正交方向N上排列多行及多列而成的矩阵状。
接着,从清洗装置1的各上喷嘴2向下扇形膜状地喷射上清洗液3,并且从各下喷嘴4向上扇形膜状地喷射下清洗液5。而且,在维持该状态的情况下,通过驱动单元8经由工件支撑部件7使多个工件10统一向预定方向M移动。
于是,如图1所示,上清洗液3喷到互相相邻的两个工件行15、15中的一个工件行15的至少一个(在本实施方式中为一个或两个)工件10的上表面10a、外周面10b及内周面10d(具体描述为,内周面10d的上部)和另一工件行15的至少一个(在本实施方式中为一个或两个)工件10的上表面10a、外周面10b及内周面10d(具体描述为,内周面10d的上部),并且通过工件10的移动来用上清洗液3清洗工件10的整个上表面10a、整个外周面10b及整个内周面10d(具体描述为,内周面10d的整个上部)。与此同时,下清洗液5喷到各工件行15中的一个工件10的下表面10c及内周面10d(具体描述为,内周面10d的下部),并且通过工件10的移动来用下清洗液5清洗工件10的整个下表面10c及内周面10d(具体描述为,内周面10d的整个下部)。 将以上工序称为“清洗工序”。
在该清洗工序中,在下清洗液5喷到工件10的下表面10c时,在俯视时从在喷射该下清洗液5的下喷嘴4的两侧配置的两个上喷嘴2、2喷射的上清洗液3、3中的至少一方必定喷到该工件10的由上表面10a及外周面10b构成的区域的至少一部分。因此,能够由下清洗液5向工件下表面10c的撞击力(碰撞力)来防止工件10上浮的不良情况。由此,能够可靠地清洗工件10的下表面10c,而且能够防止由于工件10的下表面10c碰到工件支撑部件7的工件载置部7a而导致的工件下表面10c的损伤。
进而,通过从上喷嘴2及下喷嘴4分别喷射上清洗液3及下清洗液5以使上清洗液3及下清洗液5互不干涉,从而能够分别提高上清洗液3及下清洗液5的清洗力。
进而,通过从上喷嘴2喷射的上清洗液3的平均单位时间的喷射流量V1比从下喷嘴4喷射的下清洗液5的平均单位时间的喷射流量V2大,从而能够可靠地防止工件10的上浮。
进而,工件10是筒状(具体描述为,圆筒状),且其轴Q铅垂地配置,在清洗工序中,用上清洗液3来清洗工件10的上表面10a、外周面10b及内周面10d(具体描述为,内周面10d的上部),并且用下清洗液5清洗工件10的下表面10c及内周面10d(具体描述为,内周面10d的下部)。由此,即使工件10是小直径的筒状(圆筒状),也能够清洗该工件10的整个面,即工件10的上表面10a、外周面10b、下表面10c及内周面10d。
进而,上喷嘴2及下喷嘴4分别包括扁平喷雾喷嘴,在清洗工序中,从上喷嘴2及下喷嘴4分别扇形膜状地喷射上清洗液3及下清洗液5。因此,上清洗液3及下清洗液5向工件10的撞击力比从全方位喷雾喷嘴喷射的清洗液向工件10的撞击力高。由此,能够进一步分别提高上清洗液3及下清洗液5的清洗力。
进而,通过从上喷嘴2及下喷嘴4分别喷射上清洗液3及下清洗液5以使上清洗液3的喷射扩散方向H和下清洗液5的喷射扩散方向J互相平行,从而能够可靠地防止上清洗液3及下清洗液5干涉,而且,能够使上清洗液3及下清洗液5干涉,而且,能够使上清洗液3及下 清洗液5互相接近地喷射,由此,能够高效地清洗工件10,还能够实现清洗装置1的小型化。
进而,在俯视时,工件10在工件的移动方向M的正交方向N上排列配置多个,并且上喷嘴2和下喷嘴4在工件10的移动方向M的正交方向N上交替地排列配置多个,因此能够统一清洗多个工件10。
进而,在俯视时,上喷嘴2配置于工件的移动区域Z的外侧,另一方面,下喷嘴4配置于工件的移动区域Z的内侧,所以能够用上清洗液3可靠地清洗工件10的上表面10a及外周面10b,即使工件10是小直径的筒状(圆筒状)也能够可靠地用下清洗液5清洗该工件10的下表面10c及内周面10d。
进而,在清洗工序中,从上喷嘴2及下喷嘴4分别喷射上清洗液3及下清洗液5以使上清洗液3及下清洗液5的喷射扩散方向H、J皆相对于工件的移动方向M成为倾斜方向,因此在工件的移动方向M的正交方向N上排列多个地配置了工件10的情况下,能够用从一个上喷嘴2喷射出的上清洗液3来清洗互相相邻的两个工件10、10。由此,能够高效地清洗工件10。
进而,在俯视时,工件10在工件的移动方向M及其正交方向N上排列多个而配置为多行及多列,在清洗工序中,喷射上清洗液3以使上清洗液3喷到互相相邻的两个工件行15、15中的一个工件行15的至少一个工件10和另一工件行15的至少一个工件10,因此能够统一清洗更多的工件10,因此能够更高效地清洗工件10。
另外,工件配置位置处的从上喷嘴2喷射的上清洗液3的喷射扩散宽度W比工件配置位置处的从下喷嘴4喷射的下清洗液5的喷射扩散宽度Y大,从而能够可靠地实现上清洗液3及下清洗液5的喷射状态,即:从上喷嘴2及下喷嘴4分别喷射上清洗液3及下清洗液5,以使在下清洗液5喷到工件10的下表面10c时上清洗液3必定喷到工件10的由上表面10a及外周面10b构成的区域的至少一部分。
进而,下喷嘴4与工件10之间的铅垂方向的距离S2比上喷嘴2与工件10之间的铅垂方向的距离S1短,因此能够可靠地清洗工件10的下表面10c。
另外,工件10是感光鼓基体,所以能够清洗作为工件10的感光鼓基体。 特别地,作为工件10的基体通过将其轴设为铅垂地配置从而使基体的轴向两端面分别成为上表面及下表面,因此能够可靠地清洗附着有切削屑的基体的两端面而将切削屑可靠地去除。
虽然以上说明了本发明的一个实施方式,但是,本发明不限于上述实施方式,能够进行各种变化。
例如,在上述实施方式中,通过在分别固定上喷嘴2及下喷嘴4的配置位置的状态下使工件10移动的方式,来进行工件10的清洗,但是,在本发明中,此外,还可以通过在固定了工件10的配置位置的状态下使上喷嘴2及下喷嘴4移动的方式来进行工件10的清洗。
当然,在本发明中,工件10也可以是感光鼓基体以外的部件。
本申请要求于2010年5月24日提交的日本专利申请的特愿2010-118371号的优先权,该申请的公开内容原样地构成本申请的一部分。
应当认识到的是,此处所使用的术语和表述仅用于进行说明而不用于限定性解释,也不排除这里所示且描述的特征事项的任何等同物,还允许本发明要求保护的方案的范围内的各种变形。
虽然本发明能够以多种不同的形式来实施,但是,该公开应视为提供本发明的原理性实施例,这些实施例并不意图将本发明限定于这里记载和/或图示的优选实施方式,在此认识的基础上,在这里记载了很多图示实施方式。
虽然此处记载了几个本发明的图示实施方式,但是,本发明不限定于此处记载的各种优选实施方式,也包括具有由所谓的本领域技术人员基于该公开内容能够认识到的等同要素、修改、删除、组合(例如、跨各种实施方式的特征组合)、改进和/或变化的所有实施方式。请求保护的限定事项应基于在该保护方案中使用的术语来广泛地解释,不应限定于本说明书或本申请的程序中记载的实施例,此类实施例应解释为非排他的。例如,在公开内容中,“优选”这一术语是非排他的术语,意指“理想但不限定”。在该公开内容及本申请的程序中,装置加功能或步骤加功能的限定事项涉及特定保护方案的限定事项,仅在a)明确记载为“用于···的装置”或 “用于···的步骤”,并且b)明确记载了与其对应的功能,且c)没有提及确保该结构的结构、材料或行为这些全部条件尽存在于该限定事项的情况下适用。在该公开内容及本申请的程序中,“本发明”或“发明”这一术语有时用作谈及其公开范围内的一个或多个侧面的术语。该本发明或发明这一术语不应当作为识别临界的术语而不适当地解释,也不应作为在全部侧面即所有实施方式的范围内适用的术语而不适当地解释(即、应当认识到本发明具有多个侧面及实施方式),且不应不适当地解释以限定本申请或保护方案的范围。在该公开内容及本申请的程序中,“实施例”这一术语也在记载任意侧面、特征、工艺或步骤、其任意组合和/或其任意部分等的情况下使用。在几个实施例中,有时各种实施方式包括重复的特征。在该公开内容及本申请的程序中,有时使用“e.g.,”、“NB”这些省略字,分别意指“例如”、“请注意”。
产业上的应用可能性
本发明能够用于感光鼓基体等工件的清洗方法及清洗装置。
附图标记说明
1:清洗装置
2:上喷雾喷嘴
3:上清洗液
4:下喷雾喷嘴
5:下清洗液
6:喷嘴列
7:工件支撑部件
10:工件
10a:上表面
10b:外周面
10c:下表面
10d:内周面
15:工件行
16:工件列
M:工件的移动方向
N:工件移动方向的正交方向
Z:工件的移动区域
S1:上喷嘴与工件之间的铅垂方向的距离
S2:下喷嘴与工件之间的铅垂方向的距离
Claims (8)
1.一种清洗方法,其特征在于,
包括清洗工序,该清洗工序中,通过在从配置于工件上侧的上喷嘴向下喷射上清洗液且从配置于工件下侧的下喷嘴向上喷射下清洗液的状态下,使工件相对于所述上下两喷嘴相对地在水平方向上移动,从而用所述上清洗液清洗工件的上表面及外周面中的至少上表面,并且用所述下清洗液清洗工件的下表面,
在所述清洗工序中,从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别喷射所述上清洗液及所述下清洗液,以使在下清洗液喷到工件的下表面时上清洗液必定喷到工件的由上表面及外周面构成的区域的至少一部分,
所述上喷嘴及所述下喷嘴分别包括扁平喷雾喷嘴,
在所述清洗工序中,从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别扇形膜状地喷射所述上清洗液及所述下清洗液,
在所述清洗工序中,在俯视时,从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别喷射所述上清洗液及所述下清洗液,以使所述上清洗液的喷射扩散方向和所述下清洗液的喷射扩散方向互相平行,
在俯视时,工件在所述工件的相对移动方向的正交方向上排列配置多个,并且
在俯视时,所述上喷嘴和所述下喷嘴在所述工件的相对移动方向的正交方向上交替排列配置多个,
在所述清洗工序中,在俯视时,从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别喷射所述上清洗液及所述下清洗液,以使上清洗液及下清洗液的喷射扩撒方向皆相对于所述工件的相对移动方向成为倾斜方向,
在俯视时,所述上喷嘴的配置位置与所述下喷嘴的配置位置错开,
在所述清洗工序中,从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别喷射所述上清洗液及所述下清洗液,以使上清洗液与下清洗液互不干涉,
从所述上喷嘴喷射的所述上清洗液的平均单位时间的喷射流量比从所述下喷嘴喷射的所述下清洗液的平均单位时间的喷射流量大。
2.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于,
工件是筒状的且配置为使其轴铅垂,
在所述清洗工序中,用所述上清洗液清洗工件的上表面、外周面及内周面,并且用所述下清洗液清洗工件的下表面及内周面。
3.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于,
在俯视时,所述上喷嘴配置于所述工件的相对移动区域的外侧,另一方面,所述下喷嘴配置于所述工件的相对移动区域的内侧。
4.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于,
在俯视时,工件在所述工件的相对移动方向及其正交方向上排列配置为多行及多列,
在所述清洗工序中,喷射所述上清洗液,以使所述上清洗液喷到互相相邻的两个工件行中的一个工件行的至少一个工件和另一工件行的至少一个工件。
5.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于,
工件配置位置处的从所述上喷嘴喷射的所述上清洗液的喷射扩撒宽度比工件配置位置处的从所述下喷嘴喷射的所述下清洗液的喷射扩散宽度大。
6.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于,
所述下喷嘴与工件之间的铅垂方向的距离比所述上喷嘴与工件之间的铅垂方向的距离短。
7.根据权利要求1所述的清洗方法,其特征在于,
所述工件是感光鼓基体。
8.一种清洗装置,其特征在于,具备:
上喷嘴,其配置于工件的上侧并且向下喷射上清洗液;
下喷嘴,其配置于工件的下侧并且向上喷射下清洗液;和
驱动单元,其使工件相对于所述上下两喷嘴相对地在水平方向上移动,
该清洗装置构成为,通过在从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别喷射所述上清洗液及所述下清洗液的状态下,由所述驱动单元使工件相对移动,从而用所述上清洗液清洗工件的上表面及外周面中的至少上表面并且用所述下清洗液清洗工件的下表面,
从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别喷射所述上清洗液及所述下清洗液,以使在下清洗液喷到工件的下表面时上清洗液必定喷到工件的由上表面及外周面构成的区域的至少一部分,
所述上喷嘴及所述下喷嘴分别包括扁平喷雾喷嘴;
从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别扇形膜状地喷射所述上清洗液及所述下清洗液,
在俯视时,从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别喷射所述上清洗液及所述下清洗液,以使所述上清洗液的喷射扩散方向和所述下清洗液的喷射扩散方向互相平行,
在俯视时,工件在所述工件的相对移动方向的正交方向上排列配置多个,并且
在俯视时,所述上喷嘴和所述下喷嘴在所述工件的相对移动方向的正交方向上交替排列配置多个,
在俯视时,从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别喷射所述上清洗液及所述下清洗液,以使上清洗液及下清洗液的喷射扩撒方向皆相对于所述工件的相对移动方向成为倾斜方向,
在俯视时,所述上喷嘴的配置位置与所述下喷嘴的配置位置错开,
在所述清洗工序中,从所述上喷嘴及所述下喷嘴分别喷射所述上清洗液及所述下清洗液,以使上清洗液与下清洗液互不干涉,
从所述上喷嘴喷射的所述上清洗液的平均单位时间的喷射流量比从所述下喷嘴喷射的所述下清洗液的平均单位时间的喷射流量大。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010118371A JP5490610B2 (ja) | 2010-05-24 | 2010-05-24 | 洗浄方法 |
JP118371/2010 | 2010-05-24 | ||
PCT/JP2011/061312 WO2011148827A1 (ja) | 2010-05-24 | 2011-05-17 | 洗浄方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102905803A CN102905803A (zh) | 2013-01-30 |
CN102905803B true CN102905803B (zh) | 2015-07-22 |
Family
ID=45003818
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201180025373.9A Expired - Fee Related CN102905803B (zh) | 2010-05-24 | 2011-05-17 | 清洗方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20150053242A1 (zh) |
JP (1) | JP5490610B2 (zh) |
CN (1) | CN102905803B (zh) |
WO (1) | WO2011148827A1 (zh) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5643556B2 (ja) * | 2009-07-10 | 2014-12-17 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体用の円筒状基体のすすぎ洗浄方法および電子写真感光体の製造方法。 |
CN103230891A (zh) * | 2013-05-03 | 2013-08-07 | 山东瑞帆果蔬机械科技有限公司 | 错流式清洗喷冲装置 |
CN103941562A (zh) * | 2014-05-09 | 2014-07-23 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 显影机 |
JP2017000913A (ja) * | 2015-06-04 | 2017-01-05 | 日本電気硝子株式会社 | 管ガラスの処理方法及び処理装置 |
JP6420778B2 (ja) * | 2016-01-15 | 2018-11-07 | 株式会社スギノマシン | 余剰溶射被膜除去装置、シールド板、およびシールドユニット |
GB2609028B (en) * | 2021-07-19 | 2024-03-27 | Tiny Air Ltd | Apparatus for pre-cleaning of surgical instruments |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3262460A (en) * | 1964-02-17 | 1966-07-26 | Cincinnati Cleaning And Finish | Conveyor type cleaning device for fragile containers and the like |
US4092991A (en) * | 1975-10-16 | 1978-06-06 | Metalwash Machinery Corporation | Cleaning machine |
US5564448A (en) * | 1994-12-14 | 1996-10-15 | Eagle-Picher Industries, Inc. | Container washing apparatus and system |
WO1997022829A1 (en) * | 1995-12-20 | 1997-06-26 | Oven Systems, Inc. | Quick disconnect riser pipe assembly for can washer |
EP0824973A2 (de) * | 1996-08-19 | 1998-02-25 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren und Einrichtung zum Reinigen eines verunreinigten Gegenstands |
US6269823B1 (en) * | 1998-05-04 | 2001-08-07 | Eagle-Picher Industries, Inc. | Can washing apparatus with plastic risers |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0444222Y2 (zh) * | 1987-01-08 | 1992-10-19 | ||
JP2754300B2 (ja) * | 1991-12-06 | 1998-05-20 | 大和製罐株式会社 | Di缶表面処理方法およびその装置 |
EP0983730A3 (en) * | 1998-09-03 | 2001-02-21 | Ryubi Company Ltd. | A food washing apparatus |
JP4150195B2 (ja) * | 2002-03-08 | 2008-09-17 | 古河スカイ株式会社 | アルミニウム製感光ドラム基体の製造方法 |
JP2008093546A (ja) * | 2006-10-10 | 2008-04-24 | Kn Lab Analysis:Kk | トンネル型洗浄処理装置 |
-
2010
- 2010-05-24 JP JP2010118371A patent/JP5490610B2/ja active Active
-
2011
- 2011-05-17 CN CN201180025373.9A patent/CN102905803B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-05-17 US US13/699,427 patent/US20150053242A1/en not_active Abandoned
- 2011-05-17 WO PCT/JP2011/061312 patent/WO2011148827A1/ja active Application Filing
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3262460A (en) * | 1964-02-17 | 1966-07-26 | Cincinnati Cleaning And Finish | Conveyor type cleaning device for fragile containers and the like |
US4092991A (en) * | 1975-10-16 | 1978-06-06 | Metalwash Machinery Corporation | Cleaning machine |
US5564448A (en) * | 1994-12-14 | 1996-10-15 | Eagle-Picher Industries, Inc. | Container washing apparatus and system |
WO1997022829A1 (en) * | 1995-12-20 | 1997-06-26 | Oven Systems, Inc. | Quick disconnect riser pipe assembly for can washer |
EP0824973A2 (de) * | 1996-08-19 | 1998-02-25 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren und Einrichtung zum Reinigen eines verunreinigten Gegenstands |
US6269823B1 (en) * | 1998-05-04 | 2001-08-07 | Eagle-Picher Industries, Inc. | Can washing apparatus with plastic risers |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011245364A (ja) | 2011-12-08 |
JP5490610B2 (ja) | 2014-05-14 |
CN102905803A (zh) | 2013-01-30 |
WO2011148827A1 (ja) | 2011-12-01 |
US20150053242A1 (en) | 2015-02-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102905803B (zh) | 清洗方法 | |
JP2018519852A5 (zh) | ||
TWI832954B (zh) | 基板處理方法及基板處理裝置 | |
JP6093569B2 (ja) | 基板洗浄装置 | |
CN102555489A (zh) | 喷墨头清洗设备和喷墨头清洗方法 | |
KR102525018B1 (ko) | 기판 세정 장치, 기판 세정 방법 및 기판 세정 장치의 제어 방법 | |
US20020050015A1 (en) | Cleaning apparatus for semiconductor wafer | |
JP2010063806A (ja) | 食器洗浄装置および食器洗浄方法 | |
KR101204641B1 (ko) | 세정 장치, 기판 처리 시스템, 세정 방법, 및 기억 매체 | |
JP2017119259A (ja) | 洗浄装置及び洗浄方法 | |
CN102091700A (zh) | 晶圆的喷雾清洗方法 | |
JP2995394B2 (ja) | 被洗浄物の洗浄方法 | |
JP2012245460A (ja) | 真空脱脂洗浄装置および真空脱脂洗浄方法 | |
KR101891665B1 (ko) | 튜브 세척용 브러쉬볼 및 이를 포함하는 브러쉬볼 조립체 | |
JP2019122922A (ja) | 洗浄装置、及び、インクジェット塗布装置 | |
JP4493977B2 (ja) | 積層体及びカラーフィルター基板の利用方法 | |
JP4875920B2 (ja) | 農作物洗浄装置 | |
JP2019048253A (ja) | 洗浄装置 | |
JP4548599B2 (ja) | ケースのラベル剥離装置 | |
JP4069315B2 (ja) | 基板乾燥方法およびその装置 | |
JP4494056B2 (ja) | 積層体及びカラーフィルター基板の利用方法 | |
JP2017148742A (ja) | ノズル清掃装置 | |
JP6981327B2 (ja) | 流体噴射装置 | |
KR102151810B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
KR100809596B1 (ko) | 기판 세정 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20150722 Termination date: 20180517 |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |