KR101204641B1 - 세정 장치, 기판 처리 시스템, 세정 방법, 및 기억 매체 - Google Patents

세정 장치, 기판 처리 시스템, 세정 방법, 및 기억 매체 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 기판의 유지를 행하는 유지 부재의 유지부에 세정액이 분사됨으로써 이 유지부가 세정되고 있는 동안에, 유지 부재에 있어서의 건조 처리가 곤란한 지점인 기단부에 세정액이 부착되어 버리는 것을 방지할 수 있는 세정 장치, 기판 처리 시스템, 세정 방법, 프로그램 및 기억 매체를 제공하는 것을 목적으로 한다.
유지 부재(31, 32, 33)의 세정을 행하는 세정 장치(40)는, 유지 부재(31, 32, 33)의 유지부(31p, 32p, 33p)에 세정액을 분사함으로써 이 유지부(31p, 32p, 33p)의 세정을 행하는 세정부(50)와, 유지 부재(31, 32, 33)에 대하여 진퇴를 행하여 유지 부재(31, 32, 33)의 기단부(31q, 32q, 33q)를 커버하는 커버부(60)를 구비하고 있다.

Description

세정 장치, 기판 처리 시스템, 세정 방법, 및 기억 매체{CLEANING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, CLEANING METHOD, AND STORAGE MEDIUM}
본 발명은, 기판을 유지하기 위한 유지홈이 복수 설치된 유지부와, 유지부로부터 연장되어 유지홈이 설치되어 있지 않은 기단부(基端部)를 갖는 유지 부재의 세정을 행하는 세정 장치, 이 세정 장치를 구비한 기판 처리 시스템, 세정 방법, 프로그램 및 기억 매체에 관한 것으로서, 특히, 유지 부재의 유지부에 세정액이 분사됨으로써 이 유지부가 세정되고 있는 동안에, 유지 부재에 있어서의 건조 처리가 곤란한 지점인 기단부에 세정액이 부착되어 버리는 것을 방지할 수 있는 세정 장치, 기판 처리 시스템, 세정 방법, 프로그램 및 기억 매체에 관한 것이다.
종래부터, 복수매의, 예컨대 반도체 웨이퍼 등의 기판을 유지하여 반송하는 척 등의 유지 부재를 세정하기 위한 세정 장치나 세정 방법으로서, 여러 가지 타입의 것이 알려져 있다(예컨대, 특허 문헌 1 등 참조).
특허 문헌 1에는, 척 등의 유지 부재의 유지홈을 향해 N2 가스 등의 가스와 함께 순수 등의 세정액을 분사하는 2유체 공급 노즐과, 유지 부재의 측면을 향해 세정액을 분사하는 세정액 공급 노즐을 구비한 세정 장치가 개시되어 있다. 이러한 세정 장치에 있어서, 유지 부재에 대하여, 2유체 공급 노즐 및 세정액 공급 노즐을, 유지 부재의 길이 방향을 따라 이동시키는 에어실린더가 설치되어 있다. 그리고, 이러한 세정 장치에 있어서는, 에어실린더의 구동에 의해 2유체 공급 노즐이 세정액 공급 노즐보다도 먼저 N2 가스와 함께 순수를 유지 부재의 유지홈을 향해 분사하도록 되어 있다. 또한, 특허 문헌 1에 나타낸 바와 같은 세정 장치에는, 유지 부재를 향해 가스를 분사하는 가스 공급 노즐이 설치되어 있다. 가스 공급 노즐도 전술한 에어실린더에 의해 유지 부재의 길이 방향을 따라 이동시킬 수 있도록 되어 있다. 그리고, 2유체 공급 노즐이나 세정액 공급에 의해 유지 부재에 세정액이 분사되어 이 유지 부재의 세정이 행해진 후에, 가스 공급 노즐에 의해 가스가 유지 부재에 분사됨으로써, 유지 부재의 건조가 행해지도록 되어 있다.
[특허문헌 1] 일본 특허 공개 제2005-101524호 공보
그러나, 특허 문헌 1등에 나타내는 바와 같은 종래의 세정 장치에서는, 2유체 공급 노즐이나 세정액 공급 노즐에 의해 유지 부재에 세정액을 분사할 때에, 이 유지 부재의 기단부(근원 부분)에도 세정액의 액적(液滴)이 부착되어 버리는 경우가 있다. 이러한 유지 부재의 기단부에 부착된 세정액의 액적은, 가스 공급 노즐에 의한 가스의 분사로는 완전히 제거할 수 없어, 유지 부재의 기단부에 액적이 남아, 기단부를 완전히 건조시킬 수 없게 될 우려가 있다.
본 발명은, 이러한 점을 고려하여 이루어진 것으로서, 기판의 유지를 행하는 유지 부재의 유지부에 세정액이 분사됨으로써 이 유지부가 세정되고 있는 동안에, 유지 부재에 있어서의 건조 처리가 곤란한 지점인 기단부에 세정액이 부착되어 버리는 것을 방지할 수 있는 세정 장치, 기판 처리 시스템, 세정 방법, 프로그램 및 기억 매체를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 세정 장치는, 기판을 유지하기 위한 유지홈이 복수 설치된 유지부와, 유지부로부터 연장되어 유지홈이 설치되어 있지 않은 기단부를 갖는 유지 부재의 세정을 행하는 세정 장치로서, 상기 유지 부재의 상기 유지부에 세정액을 분사함으로써 이 유지부의 세정을 행하는 세정부와, 상기 유지 부재에 대하여 진퇴(進退)를 행하여 상기 유지 부재의 상기 기단부를 커버하는 커버부를 구비한 것을 특징으로 한다.
본 발명의 세정 장치에 있어서는, 상기 커버부는, 상기 유지 부재를 향해 아래쪽에서부터 진퇴를 행하도록 되어 있고, 상기 커버부가 상기 유지 부재에 접근했을 때에 그 커버부는 상기 유지 부재의 상기 기단부를 커버하도록 되어 있어도 좋다.
본 발명의 세정 장치에 있어서는, 상기 유지 부재는 막대 형상의 것으로 이루어지고, 상기 커버부는, 막대 형상의 상기 유지 부재에 적합한 오목부를 갖도록 되어 있어도 좋다.
본 발명의 세정 장치에 있어서는, 상기 유지 부재에 있어서, 상기 유지부와 상기 기단부 사이에 시일 부재가 부착되어 있고, 상기 커버부가 상기 유지 부재에 접근하여 이 유지 부재의 상기 기단부를 커버할 때에, 상기 시일 부재와 상기 커버부 사이에서 시일을 행할 수 있도록 되어 있어도 좋다.
이 때에, 상기 커버부가 상기 유지 부재에 접근하여 이 유지 부재의 상기 기단부를 커버한 후, 상기 유지 부재를 그 기단부측을 향해 이동시킴으로써 상기 시일 부재와 상기 커버부를 접촉시킬 수 있도록 되어 있고, 상기 시일 부재와 상기 커버부가 접촉되었을 때에 이들 사이에서 시일이 행해지도록 되어 있어도 좋다.
본 발명의 세정 장치에 있어서는, 상기 커버부는, 승강 부재와, 상기 승강 부재에 부착된 커버 부재를 가지며, 상기 승강 부재는, 상기 커버 부재를, 상기 유지 부재의 상기 기단부를 커버하는 커버 위치와, 상기 유지 부재의 상기 기단부로부터 후퇴한 후퇴 위치 사이에서 왕복 이동시키도록 되어 있어도 좋다.
본 발명의 세정 장치에 있어서는, 상기 유지 부재의 기단부측에는 이 유지 부재의 구동을 행하는 구동 기구가 설치되어 있어도 좋다.
본 발명의 기판 처리 시스템은, 기판의 처리를 행하는 기판 처리 시스템으로서, 전술한 세정 장치를 구비한 것을 특징으로 한다.
본 발명의 세정 방법은, 기판을 유지하기 위한 유지홈이 복수 설치된 유지부와, 유지부로부터 연장되어 유지홈이 설치되어 있지 않은 기단부를 갖는 유지 부재의 세정 방법으로서, 상기 유지 부재에 대하여 진퇴를 행하도록 되어 있는 커버부를 상기 유지 부재에 진출시킴으로써, 이 유지 부재의 상기 기단부를 상기 커버부에 의해 커버하는 공정과, 상기 유지 부재의 상기 기단부가 상기 커버부에 의해 커버되어 있는 상태에서, 상기 유지 부재의 상기 유지부에 세정액을 분사함으로써 이 유지부의 세정을 행하는 공정을 포함한 것을 특징으로 한다.
본 발명의 세정 방법에 있어서는, 상기 유지 부재의 상기 유지부에 세정액을 분사함으로써 이 유지부의 세정을 행하는 공정 후에, 상기 커버부를 상기 유지 부재로부터 후퇴시키도록 되어 있어도 좋다.
본 발명의 세정 방법에 있어서는, 상기 커버부는, 상기 유지 부재를 향해 아래쪽에서부터 진퇴를 행하도록 되어 있고, 상기 커버부가 상기 유지 부재에 접근했을 때에 이 커버부는 상기 유지 부재의 상기 기단부를 커버하도록 되어 있어도 좋다.
본 발명의 세정 방법에 있어서는, 상기 유지 부재에 있어서, 상기 유지부와 상기 기단부 사이에 시일 부재가 부착되어 있고, 상기 커버부가 상기 유지 부재에 접근하여 이 유지 부재의 상기 기단부를 커버할 때에, 상기 시일 부재와 상기 커버부 사이에서 시일이 행해지도록 되어 있어도 좋다.
이 때에, 상기 커버부가 상기 유지 부재에 접근하여 이 유지 부재의 기단부를 커버한 후, 상기 유지 부재를 그 기단부측을 향해 이동시킴으로써 상기 시일 부재와 상기 커버부를 접촉시켜, 상기 시일 부재와 상기 커버부가 접촉되었을 때에 이들 사이에서 시일이 행해지도록 되어 있어도 좋다.
본 발명의 세정 방법에 있어서는, 상기 유지 부재의 기단부측에는 이 유지 부재의 구동을 행하는 구동 기구가 설치되어 있도록 되어 있어도 좋다.
본 발명의 프로그램은, 기판을 유지하기 위한 유지홈이 복수 설치된 유지부와, 유지부로부터 연장되어 유지홈이 설치되어 있지 않은 기단부를 갖는 유지 부재의 세정을 행하는 세정 장치의 제어 컴퓨터에 의해 실행할 수 있는 프로그램으로서, 이 프로그램을 실행함으로써, 상기 제어 컴퓨터가 상기 세정 장치를 제어하여 세정 방법을 실행시키는 것에 있어서, 상기 세정 방법은, 상기 유지 부재에 대하여 진퇴를 행하도록 되어 있는 커버부를 상기 유지 부재에 진출시킴으로써, 이 유지 부재의 상기 기단부를 상기 커버부에 의해 커버하는 공정과, 상기 유지 부재의 상기 기단부가 상기 커버부에 의해 커버되어 있는 상태에서, 상기 유지 부재의 상기 유지부에 세정액을 분사함으로써 이 유지부의 세정을 행하는 공정을 포함한 것을 특징으로 한다.
본 발명의 기억 매체는, 기판을 유지하기 위한 유지홈이 복수 설치된 유지부와, 유지부로부터 연장되어 유지홈이 설치되어 있지 않은 기단부를 갖는 유지 부재의 세정을 행하는 세정 장치의 제어 컴퓨터에 의해 실행할 수 있는 프로그램이 기억된 기억 매체로서, 이 프로그램을 실행함으로써, 상기 제어 컴퓨터가 상기 세정 장치를 제어하여 세정 방법을 실행시키는 것에 있어서, 상기 세정 방법은, 상기 유지 부재에 대하여 진퇴를 행하도록 되어 있는 커버부를 상기 유지 부재에 진출시킴으로써, 이 유지 부재의 상기 기단부를 상기 커버부에 의해 커버하는 공정과, 상기 유지 부재의 상기 기단부가 상기 커버부에 의해 커버되어 있는 상태에서, 상기 유지 부재의 상기 유지부에 세정액을 분사함으로써 이 유지부의 세정을 행하는 공정을 포함한 것을 특징으로 한다.
본 발명의 세정 장치, 기판 처리 시스템, 세정 방법, 프로그램 및 기억 매체에 따르면, 기판의 유지를 행하는 유지 부재의 유지부에 세정액이 분사됨으로써 이이 유지부가 세정되고 있는 동안에, 유지 부재에 있어서의 건조 처리가 곤란한 지점인 기단부에 세정액이 부착되어 버리는 것을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시형태의 세정 장치를 구비한 기판 처리 시스템의 구성의 개략을 나타낸 개략 평면도이다.
도 2는 본 발명의 실시형태의 세정 장치의 구성의 개략을 나타낸 구성도로서, 커버부가 유지 부재의 기단부를 커버하고 있지 않을 때의 상태를 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시형태의 세정 장치의 구성의 개략을 나타낸 구성도로서, 커버부가 유지 부재의 기단부를 커버하고 있을 때의 상태를 나타낸 도면이다.
도 4는 도 2 등에 도시된 세정 장치에 있어서의 세정부의 구성을 나타낸 사시도이다.
도 5는 도 4에 도시된 세정부를 옆쪽에서 보았을 때의 구성의 개략을 나타낸 구성도이다.
도 6은 도 2에 도시된 세정 장치의 커버부의 구성을 확대하여 나타낸 확대 구성도로서, 커버부가 유지 부재의 기단부를 커버하고 있지 않을 때의 상태를 나타낸 도면이다.
도 7은 도 6에 도시된 바와 같은 상태로부터 커버부의 커버 부재가 상승했을 때의 상태를 나타낸 도면이다.
도 8은 도 7에 도시된 바와 같은 상태로부터 유지 부재가 그 기단부를 향해 이동했을 때의 상태를 나타낸 도면이다.
도 9는 도 6에 도시된 세정 장치의 커버부 및 유지 부재의 A-A 화살표 방향에서 본 단면도로서, 커버부가 유지 부재의 기단부를 커버하고 있지 않을 때의 상태를 나타낸 도면이다.
도 10은 도 7에 도시된 세정 장치의 커버부 및 유지 부재의 B-B 화살표 방향에서 본 단면도로서, 커버부가 유지 부재의 기단부를 커버하고 있을 때의 상태를 나타낸 도면이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시형태에 대해서 설명한다. 도 1 내지 도 10은 본 실시형태에 따른 세정 장치 및 이 세정 장치를 구비한 기판 처리 시스템을 도시한 도면이다. 이 중, 도 1은 본 실시형태의 세정 장치를 구비한 기판 처리 시스템의 구성의 개략을 도시한 개략 평면도이며, 도 2 및 도 3은 본 실시형태의 세정 장치의 구성의 개략을 나타낸 구성도이다. 또한, 도 4 및 도 5는 도 2 등에 도시된 세정 장치에 있어서의 세정부의 구성을 나타낸 도면이며, 도 6 내지 도 10은 도 2 등에 도시된 세정 장치에 있어서의 커버부의 구성을 나타낸 도면이다.
우선, 본 실시형태의 세정 장치를 구비한 기판 처리 시스템에 대해서 도 1을 이용하여 설명한다. 도 1에 도시된 바와 같은 기판 처리 시스템은, 예컨대 반도체 웨이퍼(W) 등의 기판[이하, 웨이퍼(W)라 함]의 세정을 배치(batch) 방식으로[즉, 복수매(예컨대 25매)의 웨이퍼(W)의 세정을 동시에] 행하도록 되어 있다.
기판 처리 시스템은, 웨이퍼(W)를 수평 상태로 수용하는 캐리어(1)를 반입/반출하기 위한 반입/반출부(2)와, 웨이퍼(W)를 약액이나 세정액 등에 의해 액 처리하고, 건조 처리하는 처리부(3)와, 반입/반출부(2)와 처리부(3) 사이에 배치되어 웨이퍼(W)의 전달, 위치 조정, 자세 변환 및 간격 조정 등을 행하는 전달부(4)로 구성되어 있다. 또한, 기판 처리 시스템은 클린룸 내에 설치되어 있고, 클린룸의 천장부로부터 공급되는 청정 공기의 다운플로 분위기 하에 놓여 있다.
반입/반출부(2)에 있어서, 기판 처리 시스템의 일측 단부(端部)에는 캐리어 반입부(5a) 및 캐리어 반출부(5b)가 병렬 설치되고, 웨이퍼 반출입부(6)가 설치되어 있다. 이 경우, 캐리어 반입부(5a)와 웨이퍼 반출입부(6) 사이에는 도시하지 않은 반송 기구가 설치되어 있고, 이 반송 기구에 의해 캐리어(1)가 캐리어 반입부(5a)로부터 웨이퍼 반출입부(6)로 반송되도록 되어 있다.
또한, 처리부(3)에는, 전달부(4)로부터 먼 쪽에서부터 이 전달부(4)를 향해 차례로 제1 처리부(21), 제2 처리부(22), 제3 처리부(23)가 설치되어 있다. 제1 처리부(21)는, 웨이퍼(W)에 부착되는 파티클이나 유기 오염 물질을 제거하는 제1 약액 처리조(21a)와, 순수 등의 세정액을 오버플로하는 제1 수세 처리조(21b)를 갖고 있다. 또한, 제2 처리부(22)는, 웨이퍼(W)에 부착되는 금속 오염 물질을 제거하는 제2 약액 처리조(22a)와, 순수 등의 세정액을 오버플로하는 제2 수세 처리조(22b)를 갖고 있다. 또한, 제3 처리부(23)는 웨이퍼(W)에 부착되는 산화막을 제거하고, 건조 처리를 행하는 세정/건조 처리 유닛(23a)을 갖고 있다.
또한, 처리부(3)에는, 전달부(4)로부터 가장 먼 쪽[제1 처리부(21)의 외측]에 있어서, 후술하는 척(30)의 세정이나 건조를 행하는 세정 장치(40)가 설치되어 있다. 척(30) 및 세정 장치(40)의 구성의 상세한 내용에 대해서는 후술한다. 또한, 세정 장치(40)는, 반드시 처리부(3)에서의 전달부(4)로부터 가장 먼 쪽에 설치되는 것에 한정되지 않고, 세정 장치(40)를, 예컨대 제2 처리부(22)와 제3 처리부(23) 사이에 배치하거나, 혹은 제3 처리부(23)와 전달부(4) 사이에 배치하여도 좋다.
캐리어(1)는, 용기 본체와, 이 용기 본체의 개구부를 개폐하는 덮개를 갖고 있다. 용기 본체는, 그 일측에 도시하지 않은 개구부를 가지며, 내벽에 복수매(예컨대 25매)의 웨이퍼(W)를, 수직 방향을 따라 적절하게 간격을 두고 각각 수평 상태로 유지하는 유지홈(도시하지 않음)을 갖고 있다. 또한, 후술하는 덮개 개폐 장치(7)에 의해 캐리어(1)의 덮개를 개폐할 수 있도록 되어 있다.
웨이퍼 반출입부(6)는, 전달부(4)에 개구되어 있고, 그 개구부에는 덮개 개폐 장치(7)가 설치되어 있다. 이 덮개 개폐 장치(7)에 의해 캐리어(1)의 덮개가 개방 혹은 폐색되도록 되어 있다. 따라서, 웨이퍼 반출입부(6)로 반송된 처리전의 웨이퍼(W)를 수납하는 캐리어(1)의 덮개를 덮개 개폐 장치(7)에 의해 제거하여 캐리어(1) 내의 웨이퍼(W)를 반출 가능하게 하고, 모든 웨이퍼(W)가 반출된 후, 다시 덮개 개폐 장치(7)에 의해 덮개를 폐색할 수 있다. 또한, 웨이퍼 반출입부(6)로 반송된 빈 캐리어(1)의 덮개를 덮개 개폐 장치(7)에 의해 제거하여 캐리어(1) 내로의 웨이퍼(W)의 반입을 가능하게 하고, 모든 웨이퍼(W)가 반입된 후, 다시 덮개 개폐 장치(7)에 의해 덮개를 폐색할 수 있다. 또한, 웨이퍼 반출입부(6)의 개구부 근방에는 캐리어(1) 내에 수용된 웨이퍼(W)의 매수를 검출하는 매핑 센서(8)가 설치되어 있다.
전달부(4)에는, 복수매(예컨대 25매)의 웨이퍼(W)를 수평 상태로 유지하고, 웨이퍼 반출입부(6)의 캐리어(1)와의 사이에서 수평 상태로 웨이퍼(W)를 전달하는 웨이퍼 반송 아암(9)이 설치되어 있다. 또한, 전달부(4)에는, 복수매(예컨대 50매)의 웨이퍼(W)를 소정 간격을 두고 수직 상태로 유지하는, 예컨대 피치 체인저 등의 간격 조정 수단(도시하지 않음)이 설치되어 있다. 또한, 웨이퍼 반송 아암(9)과 간격 조정 수단 사이에는, 복수매(예컨대 25매)의 웨이퍼(W)를 수평 상태에서 수직 상태로, 혹은 수직 상태에서 수평 상태로 변환하는 자세 변환 장치(10)가 설치되어 있다. 또한, 자세 변환 장치(10)의 근방에는, 이 자세 변환 장치(10)에 의해 수직 상태로 변환된 웨이퍼(W)에 설치된 노치(도시하지 않음)를 검출하는, 예컨대 노치 얼라이너 등의 위치 검출 수단(도시하지 않음)이 설치되어 있다.
또한, 전달부(4)에는, 처리부(3)로 이어진 반송로(11)가 설치되어 있고, 이 반송로(11)에는, 웨이퍼(W)를 유지하여 반송로(11) 상을 이동하는 척(30)이 설치되어 있다. 척(30)은 제1, 제2 및 제3 처리부(21, 22, 23)에 있어서의 제1 약액 처리조(21a), 제1 수세 처리조(21b), 제2 약액 처리조(22a), 제2 수세 처리조(22b) 및 세정/건조 처리 유닛(23a) 중 어느 하나에 웨이퍼(W)를 전달하도록 되어 있다.
도 4에 도시된 바와 같이, 척(30)은, 웨이퍼(W)의 하부를 유지하는 막대 형상의 유지 부재(31)와, 유지 부재(31) 양측의 웨이퍼(W)의 변부를 유지하는 한 쌍의 막대 형상의 유지 부재(32, 33)를 갖고 있다. 이 경우, 각 유지 부재(31, 32, 33)는, 웨이퍼(W)를 유지하기 위한 복수매(예컨대 50개)의 유지홈(31a, 32a, 33a)이 설치된 유지부(31p, 32p, 33p)와, 유지부(31p, 32p, 33p)로부터 연장되어 유지홈(31a, 32a, 33a)이 설치되어 있지 않은 기단부(31q, 32q, 33q)를 갖고 있다. 또한, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 기단부(31q, 32q, 33q)측에는, 이들 각 유지 부재(31, 32, 33)의 구동을 행하는 구동 기구(37)가 설치되어 있다. 구동 기구(37)는, 각 유지 부재(31, 32, 33)를 서로 독립적으로 구동시킬 수 있도록 되어 있다.
또한, 각 유지 부재(31, 32, 33)에 있어서, 유지부(31p, 32p, 33p)와 기단부(31q, 32q, 33q) 사이에는, 예컨대 원판 형상의 비산 방지판(34)이, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 길이 방향과 직교하도록 장착되어 있어, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 세정시에 기단부(31q, 32q, 33q)에 세정액인 순수가 비산하여 부착되는 것을 방지하도록 되어 있다. 또한, 양측부의 유지 부재(32, 33)는, 웨이퍼(W)를 유지하지 않는 경우에는, 유지 부재(31)와 동일한 수평면 형상으로 위치하고, 웨이퍼(W)를 유지하는 경우에는, 위쪽측에 원호형의 궤적을 그리며 변위하여 웨이퍼(W)의 하부 양측을 유지할 수 있도록 구성되어 있다. 또한, 각 유지 부재(31, 32, 33)는, 내식성 및 내약품성이 우수한 부재, 예컨대 폴리에테르에테르케톤(PEEK)이나, 폴리클로로트리플루오로에틸렌(PCTFE) 등의 수지로 구성되어 있다. 또한, 비산 방지판(34)도, 내식성 및 내약품성이 우수한 부재, 구체적으로는, 예컨대 각 유지 부재(31, 32, 33)와 같은 종류의 수지로 구성되어 있다.
또한, 도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 각 유지 부재(31, 32, 33)에 있어서의 기단부(31q, 32q, 33q)측에는 구동 기구(37)와 각 유지 부재(31, 32, 33)를 연결시키기 위한 연결 부재(36)가 설치되어 있다.
이와 같이 구성되는 척(30)은, 처리전의 1로트분(예컨대 50매)의 웨이퍼(W)를 전달부(4)의 간격 조정 수단으로부터 수취하여 처리부(3)로 반송하고, 또한, 처리부(3)에서 적절하게 처리가 행해진 후의 1로트분(예컨대 50매)의 웨이퍼(W)를 전달부(4)의 간격 조정 수단으로 전달하도록 되어 있다.
다음에, 본 실시형태에 있어서의 세정 장치(40)에 대해서 상세히 설명한다. 전술한 바와 같이, 세정 장치(40)는, 척(30)의 각 유지 부재(31, 32, 33)의 세정이나 건조를 행하도록 구성되어 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 반송로(11) 및 세정 장치(40)는 벽부에 의해 구획되어 있고, 이 벽부에는, 척(30)의 각 유지 부재(31, 32, 33)를 세정 장치(40) 내로 진입시키기 위한 개구가 설치되어 있다. 또한, 이 개구에는 셔터 기구(49)가 설치되어 있다. 셔터 기구(49)는, 반송로(11)와 세정 장치(40) 사이의 벽부에 있는 개구를 막는 폐쇄 위치와, 이 벽부의 개구를 개방하는 개구 위치 사이에서 왕복 이동하도록 되어 있다. 보다 상세하게는, 셔터 기구(49)는, 벽부의 개구를 막는 폐쇄 위치로부터 위쪽으로 이동하여 이 개구로부터 후퇴함으로써, 벽부의 개구를 개방하도록 되어 있다. 그리고, 셔터 기구(49)가 벽부의 개구를 개방하고 있는 상태에서, 척(30)의 각 유지 부재(31, 32, 33)를 세정 장치(40) 내로 진입시키고, 그 후 셔터 기구(49)가 벽부의 개구를 막음으로써, 이들 유지 부재(31, 32, 33)의 세정이 세정 장치(40)에 의해 행해지도록 되어 있다.
세정 장치(40)는, 척(30)의 각 유지 부재(31, 32, 33)의 유지부(31p, 32p, 33p)에 세정액을 분사함으로써 이들 유지 부재(31, 32, 33)의 세정을 행하는 세정부(50)와, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 유지부(31p, 32p, 33p)가 세정부(50)에 의해 세정되고 있는 동안에 각 유지 부재(31, 32, 33)의 기단부(31q, 32q, 33q)의 일부를 커버하는 커버부(60)를 구비하고 있다.
우선, 세정부(50)의 구성에 대해서 도 2 내지 도 5를 이용하여 설명한다. 도 2 등에 도시된 바와 같이, 세정부(50)는, 2유체 공급 노즐(51)과, 세정액 공급 노즐(52)과, 1차 건조 가스 공급 노즐(53)과, 2차 건조 가스 공급 노즐(54)을 갖고 있다. 여기서, 2유체 공급 노즐(51)은, 순수 등의 세정액 및 N2(질소) 가스 등의 가스를 각 유지 부재(31, 32, 33)[이하, 유지 부재(31)로 대표함]의 유지부(31p)의 유지홈(31a)을 향해 분사하도록 되어 있다. 또한, 세정액 공급 노즐(52)은, 순수 등의 세정액을 유지 부재(31)의 유지부(31p)의 측면을 향해 분무하도록 되어 있다. 또한, 1차 건조 가스 공급 노즐(53)은 N2 가스 등의 가스를 유지 부재(31)의 유지부(31p)의 유지홈(31a) 및 측면을 향해 분사하도록 되어 있다. 또한, 2차 건조 가스 공급 노즐(54)은, N2 가스 등의 가스를 유지 부재(31)의 유지부(31p)의 유지홈(31a), 측면 하부 및 비산 방지판(34)을 향해 분사하도록 되어 있다. 또한, 이들 노즐(51, 53, 54)에서 이용되는 가스로서, N2 가스 대신에 청정 공기를 이용하여도 좋다.
이 경우, 2유체 공급 노즐(51)은, 제1 개폐 밸브(V1)를 통해 세정액 공급원(70)에 접속되고, 제2 개폐 밸브(V2)를 통해 가스 공급원(71)에 접속되어 있다. 그리고, 2유체 공급 노즐(51)에 대하여, 세정액 공급원(70)으로부터 순수 등의 세정액이 보내지고, 가스 공급원(71)으로부터 N2 가스 등의 가스가 보내지며, 이 2유체 공급 노즐(51)의 내부에서 세정액과 가스가 혼합됨으로써 세정액의 액적(미스트)이 생성된다. 2유체 공급 노즐(51)은, 세정액과 가스가 혼합됨으로써 생성된 세정액의 액적을 유지 부재(31)의 유지부(31p)의 유지홈(31a)을 향해 분사하도록 되어 있다.
세정액 공급 노즐(52)은, 제3 개폐 밸브(V3)를 통해 세정액 공급원(70)에 접속되어 있고, 이 세정액 공급원(70)으로부터 세정액 공급 노즐(52)에 순수 등의 세정액이 보내지도록 되어 있다. 그리고, 세정액 공급 노즐(52)은 세정액을 유지 부재(31)의 양측면을 향해 분사하도록 되어 있다.
1차 건조 가스 공급 노즐(53)은, 제4 개폐 밸브(V4)를 통해 가스 공급원(71)에 접속되어 있고, 이 가스 공급원(71)으로부터 1차 건조 가스 공급 노즐(53)에 N2 가스 등의 가스가 보내지도록 되어 있다. 그리고, 1차 건조 가스 공급 노즐(53)은 가스를 유지 부재(31)의 유지부(31p)의 유지홈(31a) 및 양측면을 향해 분사하도록 되어 있다.
2차 건조 가스 공급 노즐(54)은, 제5 개폐 밸브(V5)를 통해 가스 공급원(71)에 접속되어 있고, 이 가스 공급원(71)으로부터 2차 건조 가스 공급 노즐(54)에 N2 가스 등의 가스가 보내지도록 되어 있다. 그리고, 2차 건조 가스 공급 노즐(54)은 가스를 유지 부재(31)의 유지부(31p)의 유지홈(31a), 양측면 하부 및 비산 방지판(34)을 향해 분사하도록 되어 있다. 2차 건조 가스 공급 노즐(54)은, 1차 건조 가스 공급 노즐(53)로부터 분사되는 가스의 분사압보다도 작은 분사압으로 가스를 분사하도록 되어 있고, 1차 건조 가스 공급 노즐(53)에 의해 1차 건조된 유지 부재(31)의 유지부(31p)의 유지홈(31a) 및 양측면에 가능한 한 세정액을 재부착시키지 않도록 하여 마무리 건조를 행하도록 되어 있다.
이들 2유체 공급 노즐(51), 세정액 공급 노즐(52), 1차 건조 가스 공급 노즐(53) 및 2차 건조 가스 공급 노즐(54)은, 노즐 박스(55) 내에 배치되어 있다. 노즐 박스(55)의 하부에는, 하단이 개구되는 커버부가 연장되어 있고, 이 커버부에 의해 세정/건조시의 세정액 등이 옆쪽 주변부로 비산되는 것을 억제하고 있다.
노즐 박스(55)는, 에어실린더(56)의 가동부(56a)에 연결되어 있고, 이 가동부(56a)는 유지 부재(31)의 길이 방향에 따른 수평 방향으로 왕복 이동할 수 있도록 구성되어 있다. 이 경우, 유지 부재(31)의 선단측에서 기단측을 향해(도 2에서의 좌측에서 우측을 향해), 세정액 공급 노즐(52), 2유체 공급 노즐(51), 1차 건조 가스 공급 노즐(53), 2차 건조 가스 공급 노즐(54)이 차례로 배치되어 있다. 이 경우, 노즐 박스(55)가 유지 부재(31)의 선단측에서 기단측을 향해(도 2나 도 3의 우측 방향으로) 이동할 때에, 2유체 공급 노즐(51)로부터 가스와 함께 세정액을 유지 부재(31)의 유지부(31p)의 유지홈(31a)을 향해 분사하여 유지홈(31a)을 세정한 후에, 세정액 공급 노즐(52)로부터 세정액을 유지 부재(31)의 유지부(31p)의 양측면을 향해 분사함으로써, 유지 부재(31)의 세정을 행할 수 있다. 또한, 노즐 박스(55)가 유지 부재(31)의 기단측에서 선단측을 향해(도 2나 도 3의 좌측 방향으로) 이동할 때에, 2유체 공급 노즐(51)로부터 가스만을 유지 부재(31)의 유지부(31p)의 유지홈(31a)을 향해 분사하고, 1차 건조 가스 공급 노즐(53)로부터 가스를 유지 부재(31)의 유지부(31p)의 유지홈(31a) 및 양측면을 향해 분사하고, 또한, 2차 건조 가스 공급 노즐(54)로부터 가스를 유지 부재(31)의 유지부(31p)의 유지홈(31a), 양측면 하부 및 비산 방지판(34)을 향해 분사함으로써, 유지 부재(31)의 건조를 행할 수 있다.
다음에, 커버부(60)의 구성에 대해서 도 2, 도 3 및 도 6 내지 도 10을 이용하여 설명한다. 커버부(60)는, 척(30)이 세정부(50)에 의해 세정되고 있는 동안에, 척(30)의 일부를 커버하도록 되어 있다. 보다 구체적으로는, 커버부(60)는, 척(30)의 각 유지 부재(31, 32, 33)의 기단부(31q, 32q, 33q)를 커버하도록 되어 있다.
이하, 이러한 커버부(60)의 각 구성 요소에 대해서 상세히 설명한다. 커버부(60)는, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 기단부(31q, 32q, 33q)를 선택적으로 커버하는 커버 부재(62)와, 커버 부재(62)를 수직 방향으로 왕복 이동시키는 실린더(61)를 갖고 있다. 실린더(61)의 선단에는 수평 방향으로 연장되는 제1 접속 부재(63)가 설치되어 있고, 커버 부재(62)의 하단에는 수직 방향으로 연장되는 제2 접속 부재(64)가 설치되어 있으며, 제2 접속 부재(64)는 제1 접속 부재(63)에 부착되어 있다. 보다 상세하게는, 실린더(61)는 이 실린더(61)의 본체 부분으로부터 아래쪽으로 연장되는 신축 부분(61a)을 갖고 있고, 이 신축 부분(61a)의 선단(하단)에 제1 접속 부재(63)가 부착되어 있다. 또한, 제2 접속 부재(64)는 제1 접속 부재(63)로부터 위쪽으로 연장되도록 제1 접속 부재(63)에 부착되어 있다.
여기서, 실린더(61)가 신축 부분(61a)을 아래쪽으로 신장시키면, 도 6 및 도 9에 도시된 바와 같이, 커버 부재(62)는 각 유지 부재(31, 32, 33)로부터 아래쪽으로 이격되어, 이 커버 부재(62)는 각 유지 부재(31, 32, 33)의 기단부(31q, 32q, 33q)를 커버하는 일은 없다. 한편, 실린더(61)가 신축 부분(61a)을 위쪽으로 후퇴시키면, 도 7 및 도 10에 도시된 바와 같이, 커버 부재(62)는 각 유지 부재(31, 32, 33)에 접근하여, 이 커버 부재(62)는 각 유지 부재(31, 32, 33)의 기단부(31q, 32q, 33q) 및 연결 부재(36)를 커버하게 된다. 또한, 실린더(61)는 이중 구조의 커버 내에 설치되어 있다.
도 9 및 도 10에 도시된 바와 같이, 커버 부재(62)의 상면에는 각 유지 부재(31, 32, 33)의 기단부(31q, 32q, 33q)에 적합한 오목부(62a)가 형성되어 있다. 커버 부재(62)의 오목부(62a)는 그 단면이 대략 반원 형상으로 되어 있고, 이 단면에서의 오목부(62a)의 반경은, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 기단부(31q, 32q, 33q)의 반경보다도 약간 크게 되어 있다. 여기서, 실린더(61)가 신축 부분(61a)을 위쪽으로 후퇴시키면, 도 10에 도시된 바와 같이, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 기단부(31q, 32q, 33q)는 커버 부재(62)의 오목부(62a)에 끼워져, 각 기단부(31q, 32q, 33q)에 있어서의 하측 절반부가 커버 부재(62)에 의해 커버되게 된다.
커버 부재(62)는, 내식성 및 내약품성이 우수한 부재, 구체적으로는, 예컨대 척(30)의 각 유지 부재(31, 32, 33)와 같은 종류의 수지로 구성되어 있다.
도 7이나 도 10에 도시된 바와 같이, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 기단부(31q, 32q, 33q)나 연결 부재(36)가 커버 부재(62)에 의해 커버되면, 세정부(50)의 2유체 공급 노즐(51)이나 세정액 공급 노즐(52)에 의해 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 유지홈(31a, 32a, 33a)에 세정액을 분사했을 때에, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 기단부(31q, 32q, 33q)의 하부에 세정액의 액적이 부착되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 이 때에, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 기단부(31q, 32q, 33q)의 상부에 세정액의 액적이 부착되는 경우가 있지만, 기단부(31q, 32q, 33q)의 상부에 부착된 세정액의 액적은, 1차 건조 가스 공급 노즐(53)이나 2차 건조 가스 공급 노즐(54)로부터 각 유지 부재(31, 32, 33)에 분사되는 가스에 의해 제거할 수 있다.
여기서, 실린더(61)가 신축 부분(61a)을 위쪽으로 후퇴시켜, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 기단부(31q, 32q, 33q)가 커버 부재(62)에 의해 커버되었을 때에, 도 7에 도시된 바와 같이, 각 유지 부재(31, 32, 33)에 부착된 원판 형상의 비산 방지판(34)과 커버 부재(62) 사이에 간극이 생기는 경우가 있다. 이 경우, 구동 기구(37)가 각 유지 부재(31, 32, 33)를 그 기단측을 향해 수평 방향으로(도 7의 우측 방향으로) 이동시킴으로써, 비산 방지판(34)과 커버 부재(62)를 접촉시킬 수 있다(도 8 참조). 이 때에, 비산 방지판(34)과 커버 부재(62) 사이에서 시일이 행해진다. 이와 같이, 비산 방지판(34)과 커버 부재(62)를 접촉시켜, 비산 방지판(34)과 커버 부재(62) 사이에서 시일이 행해지는 경우에는, 세정부(50)의 2유체 공급 노즐(51)이나 세정액 공급 노즐(52)에 의해 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 유지홈(31a, 32a, 33a)에 세정액을 분사했을 때에, 커버 부재(62)의 측부의 대략 반원 형상의 개구로부터 이 커버 부재(62)의 오목부(62a) 내로 세정액의 액적이 진입하는 것을 방지할 수 있다. 이와 같이, 비산 방지판(34)은, 커버부(60)의 커버 부재(62)와 시일을 행하는 시일 부재로서 기능한다.
또한, 도 2에 도시된 바와 같이, 세정 장치(40)에는, 이 세정 장치(40)의 각 구성 요소를 제어하는, 제어 컴퓨터로 이루어진 제어부(80)가 설치되어 있다. 이 제어부(80)는 세정 장치(40)의 각 구성 요소에 접속되어, 이 제어부(80)에 의해, 세정 장치(40)에 있어서의 웨이퍼(W)의 세정 처리가 제어되도록 되어 있다. 제어부(80)에 의한 세정 장치(40)의 각 구성 요소의 제어 내용에 대해서는 후술한다. 본 실시형태에 있어서, 제어부(80)에는, 세정 장치(40)에서 실행되는 세정 처리를 제어부(80)에 의한 제어로써 실현하기 위한 제어 프로그램이 기억된 기억 매체(82)가 접속되어 있다. 기억 매체(82)는, ROM이나 RAM 등의 메모리, 하드디스크, CD-ROM, DVD-ROM 등의 디스크형 기억 매체, 그 밖의 공지의 기억 매체로 구성될 수 있다. 그리고, 제어 프로그램을 기억 매체(82)로부터 호출하여 제어부(80)에 실행시킴으로써 제어부(80)의 제어 하에서, 세정 장치(40)에서의 원하는 세정 처리가 행해진다.
다음에, 이러한 구성으로 이루어진 세정 장치(40)의 동작에 대해서 설명한다. 구체적으로는, 세정 장치(40)에 의해 척(30)의 각 유지 부재(31, 32, 33)의 세정을 행하는 동작에 대해서 설명한다. 또한, 이하에 나타내는 동작은, 제어부(80)가 세정 장치(40)의 각 구성 요소를 제어함으로써 행해진다.
척(30)의 각 유지 부재(31, 32, 33)의 세정을 행하는 데 있어서, 우선, 척(30)이 반송로(11)에 있어서의 세정 장치(40)에 가장 가까운 위치[도 1에 있어서의 반송로(11)의 우단(右端)의 위치]로 이동한다. 이 때에, 셔터 기구(49)는, 반송로(11)와 세정 장치(40) 사이의 벽부에 있는 개구를 개방하고 있다. 또한, 커버부(60)의 실린더(61)는 도 6에 도시된 바와 같이 신축 부분(61a)을 아래쪽으로 신장시킨 상태에 있다. 그리고, 척(30)의 각 유지 부재(31, 32, 33)를 세정 장치(40) 내로 진입시킨 후, 셔터 기구(49)를 개구 위치로부터 폐쇄 위치로 이동시킴으로써, 보다 상세하게는 셔터 기구(49)를 하강시킴으로써, 셔터 기구(49)는 벽부의 개구를 막는다. 또한, 척(30)의 각 유지 부재(31, 32, 33)를 세정 장치(40) 내로 진입시킨 후, 커버부(60)의 실린더(61)가 도 7에 도시된 바와 같이 신축 부분(61a)을 위쪽으로 후퇴시킴으로써, 커버부(60)의 커버 부재(62)가 위쪽으로 이동하여, 이 커버 부재(62)가 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 기단부(31q, 32q, 33q)의 하측 절반부를 커버한다. 이 때에, 도 7에 도시된 바와 같이, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 비산 방지판(34)과, 커버 부재(62) 사이에 간극이 생긴다.
그 후, 척(30)의 구동 기구(37)는, 각 유지 부재(31, 32, 33)를 그 길이 방향을 따라 기단측으로 이동시킨다. 즉, 구동 기구(37)는, 각 유지 부재(31, 32, 33)를 도 7에서의 우측 방향으로 이동시킨다. 이것에 의해, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 비산 방지판(34)과 커버 부재(62)가 접촉하여 비산 방지판(34)과 커버 부재(62) 사이에서 시일이 행해진다.
그 후, 에어실린더(56)의 가동부(56a)를 도 3에서의 각 유지 부재(31, 32, 33)의 선단측(도 3에서의 좌측)에서 기단측(도 3에서의 우측)을 향해 이동시킨다. 이것에 의해, 노즐 박스(55)가 유지 부재(31, 32, 33)의 선단측에서 기단측(도 3에서의 우측 방향으로)을 향해 이동한다. 이와 같이 노즐 박스(55)가 이동하는 동안에, 2유체 공급 노즐(51)로부터 가스와 함께 세정액을 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 유지홈(31a, 32a, 33a)을 향해 분사하여 이들 유지홈(31a, 32a, 33a)을 세정하고, 또한, 세정액 공급 노즐(52)로부터 세정액을 각 유지 부재(31, 32, 33)의 유지부(31p, 32p, 33p)의 양측면을 향해 분사한다. 이와 같이 하여 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 유지부(31p, 32p, 33p)의 세정을 행한다.
노즐 박스(55)가 유지 부재(31, 32, 33)의 기단측으로 이동하면, 에어실린더(56)의 가동부(56a)를 도 3에서의 각 유지 부재(31, 32, 33)의 기단측(도 3에서의 우측)에서 선단측(도 3에서의 좌측)을 향해 이동시킨다. 이것에 의해, 노즐 박스(55)가 유지 부재(31, 32, 33)의 기단측에서 선단측을 향해(도 3에서의 좌측 방향으로) 이동한다. 이와 같이 노즐 박스(55)가 이동하는 동안에, 2유체 공급 노즐(51)로부터 가스만을 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 유지홈(31a, 32a, 33a)을 향해 분사하고, 1차 건조 가스 공급 노즐(53)로부터 가스를 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 유지홈(31a, 32a, 33a) 및 양측면을 향해 분사하며, 2차 건조 가스 공급 노즐(54)로부터 가스를 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 유지홈(31a, 32a, 33a), 양측면 하부 및 비산 방지판(34)을 향해 더 분사한다. 이와 같이 하여 각 유지 부재(31, 32, 33)의 건조를 행한다.
그 후, 척(30)의 구동 기구(37)는, 각 유지 부재(31, 32, 33)를 그 길이 방향을 따라 선단측으로 이동시킨다. 즉, 구동 기구(37)는, 각 유지 부재(31, 32, 33)를 도 8에서의 좌측 방향으로, 도 7에 도시한 바와 같은 위치까지 이동시킨다. 이것에 의해, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 비산 방지판(34)은 커버 부재(62)로부터 이격되어, 비산 방지판(34)과 커버 부재(62) 사이에 간극이 형성된다.
그리고, 커버부(60)의 실린더(61)가 도 6에 도시된 바와 같이 신축 부분(61a)을 아래쪽으로 신장시킨다. 이것에 의해, 커버부(60)의 커버 부재(62)가 아래쪽으로 이동하여, 이 커버 부재(62)가 각 유지 부재(31, 32, 33)로부터 아래쪽으로 이격된다. 또한, 이 때에, 셔터 기구(49)는 벽부의 개구를 막는 폐쇄 위치로부터 개구 위치로 이동한다. 이것에 의해, 반송로(11)와 세정 장치(40) 사이의 벽부에 있는 개구가 개방된다. 그 후, 척(30)의 각 유지 부재(31, 32, 33)를 세정 장치(40)로부터 후퇴시킨다. 이와 같이 하여, 척(30)의 각 유지 부재(31, 32, 33)의 세정이 종료된다.
이상과 같이 본 실시형태의 세정 장치(40)에 따르면, 척(30)의 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 유지부(31p, 32p, 33p)에 세정액을 분사함으로써 이 유지부(31p, 32p, 33p)의 세정을 행하는 세정부(50)와, 각 유지 부재(31, 32, 33)에 대하여 진퇴를 행하여 이들 유지 부재(31, 32, 33)의 기단부(31q, 32q, 33q)를 커버하는 커버부(60)를 구비하고 있다. 또한, 이러한 세정 장치(40)에 의한 세정 방법에 따르면, 각 유지 부재(31, 32, 33)에 대하여 진퇴를 행하도록 되어 있는 커버부(60)를 각 유지 부재(31, 32, 33)에 진출시킴으로써, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 기단부(31q, 32q, 33q)를 커버부(60)에 의해 커버하여, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 기단부(31q, 32q, 33q)가 커버부(60)에 의해 커버되어 있는 상태에서 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 유지부(31p, 32p, 33p)에 세정액을 분사함으로써 이들 유지부(31p, 32p, 33p)의 세정을 행하도록 되어 있다. 이것에 의해, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 유지부(31p, 32p, 33p)가 세정부(50)에 의해 세정되고 있는 동안에, 각 유지 부재(31, 32, 33)에서의 건조 처리가 곤란한 특정 지점, 즉 각 유지 부재(31, 32, 33)의 기단부(31q, 32q, 33q)에 세정액의 액적이 부착되어 버리는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 실시형태의 세정 장치(40)에 있어서는, 커버부(60)의 커버 부재(62)는, 척(30)의 각 유지 부재(31, 32, 33)를 향해 아래쪽에서부터 진퇴를 행하도록 되어 있고, 커버 부재(62)가 각 유지 부재(31, 32, 33)에 접근했을 때에 이 커버 부재(62)는 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 기단부(31q, 32q, 33q)를 커버하도록 되어 있다. 이것에 의해, 1차 건조 가스 공급 노즐(53)이나 2차 건조 가스 공급 노즐(54)로는 건조시키기 어렵고, 세정액의 액적이 부착되기 쉬운 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 기단부(31q, 32q, 33q)의 하부를 커버 부재(62)에 의해 커버할 수 있어, 이들 유지 부재(31, 32, 33)의 각 기단부(31q, 32q, 33q)의 하부에는 세정액의 액적이 부착되지 않게 되기 때문에, 세정 장치(40)에 의한 세정의 종료 후에 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 기단부(31q, 32q, 33q)의 하부로부터 세정액의 액적이 아래쪽으로 낙하해 버리는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 실시형태의 세정 장치(40)에 있어서는, 각 유지 부재(31, 32, 33)는 막대 형상의 것으로 이루어지고, 커버부(60)의 커버 부재(62)는 막대 형상의 각 유지 부재(31, 32, 33)에 적합한 오목부(62a)를 갖고 있다.
또한, 본 실시형태의 세정 장치(40)에 있어서는, 척(30)의 각 유지 부재(31, 32, 33)에 있어서, 유지부(31p, 32p, 33p)와 기단부(31q, 32q, 33q) 사이에 비산 방지판(34)(시일 부재)이 부착되어 있어, 커버부(60)가 각 유지 부재(31, 32, 33)에 접근하여 기단부(31q, 32q, 33q)를 커버할 때에, 비산 방지판(34)과 커버부(60)의 커버 부재(62) 사이에서 시일을 행할 수 있도록 되어 있다. 이것에 의해, 커버 부재(62)의 측면으로부터 세정액의 액적이 커버 부재(62)의 내부[오목부(62a) 내]로 진입해 버리는 것을 방지할 수 있다.
이 경우, 커버부(60)의 커버 부재(62)가 각 유지 부재(31, 32, 33)에 접근하여 기단부(31q, 32q, 33q)를 커버할 때에, 구동 기구(37)에 의해 각 유지 부재(31, 32, 33)를 그 기단부(31q, 32q, 33q)측을 향해 이동시킴으로써 비산 방지판(34)과 커버 부재(62)를 접촉시킬 수 있도록 되어 있어, 비산 방지판(34)과 커버 부재(62)가 접촉되었을 때에 이들 사이에서 시일이 행해지도록 되어 있다. 또한, 커버부(60)의 커버 부재(62)가 각 유지 부재(31, 32, 33)에 접근하여 기단부(31q, 32q, 33q)를 커버할 때에, 각 유지 부재(31, 32, 33)가 이동하는 대신에 커버부(60)의 커버 부재(62)를 각 유지 부재(31, 32, 33)의 비산 방지판(34)을 향해 이동시킴으로써 비산 방지판(34)과 커버 부재(62)를 접촉시키도록 되어 있어도 좋다.
또한, 본 실시형태의 세정 장치(40)에 있어서는, 커버부(60)는, 실린더(승강 부재)(61)와, 제1 접속 부재(63) 및 제2 접속 부재(64)를 통해 실린더(61)에 부착된 커버 부재(62)를 가지며, 실린더(61)는, 커버 부재(62)를, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 기단부(31q, 32q, 33q)를 커버하는 커버 위치(도 8 및 도 10 참조)와, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 기단부(31q, 32q, 33q)로부터 후퇴한 후퇴 위치(도 6 및 도 9 참조) 사이에서 왕복 이동시키도록 되어 있다.
또한, 본 실시형태에 따른 세정 장치(40)는, 상기한 양태에 한정되지 않고, 여러 가지 변경을 가할 수 있다. 예컨대, 세정 장치(40)의 세정부(50)는, 도 4나 도 5에 도시된 바와 같은 구성의 것에 한정되지 않는다. 세정부(50)는, 적어도 척(30)의 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 유지부(31p, 32p, 33p)에 세정액을 분사하는 노즐을 구비한 것이라면, 다른 양태의 것으로 할 수 있다.
또한, 각 유지 부재(31, 32, 33)는 막대 형상의 것에 한정되지 않는다. 각 유지 부재(31, 32, 33)가 막대 형상 이외의 형상의 것인 경우라도, 커버부(60)의 커버 부재(62)는, 막대 형상의 각 유지 부재(31, 32, 33)에 적합한 형상을 갖고 있는 것이 바람직하다.
또한, 세정 장치(40)의 커버부(60)는, 도 6 내지 도 10에 도시된 바와 같은 구성의 것에 한정되지 않는다. 예컨대, 커버 부재(62)를, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 기단부(31q, 32q, 33q)를 커버하는 커버 위치(도 8 및 도 10 참조)와, 각 유지 부재(31, 32, 33)의 각 기단부(31q, 32q, 33q)로부터 후퇴한 후퇴 위치(도 6 및 도 9 참조) 사이에서 왕복 이동시키는 기구는, 실린더(61)에 한정되지 않고, 다른 구동 기구를 이용하여도 좋다.
1 : 캐리어 2 : 반입/반출부
3 : 처리부 4 : 전달부
5a : 캐리어 반입부 5b : 캐리어 반출부
6 : 웨이퍼 반출입부 7 : 덮개 개폐 장치
8 : 매핑 센서 9 : 웨이퍼 반송 아암
10 : 자세 변환 장치 11 : 반송로
21 : 제1 처리부 21a : 제1 약액 처리조
21b : 제1 수세 처리조 22 : 제2 처리부
22a : 제2 약액 처리조 22b : 제2 수세 처리조
23 : 제3 처리부 23a : 세정/건조 처리 유닛
30 : 척 31, 32, 33 : 유지 부재
31a, 32a, 33a : 유지홈 31p, 32p, 33p : 유지부
31q, 32q, 33q : 기단부 34 : 비산 방지판
36 : 연결 부재 37 : 구동 기구
40 : 세정 장치 49 : 셔터 기구
50 : 세정부 51 : 2유체 공급 노즐
52 : 세정액 공급 노즐 53 : 1차 건조 가스 공급 노즐
54 : 2차 건조 가스 공급 노즐 55 : 노즐 박스
56 : 에어실린더 56a : 가동부
60 : 커버부 61 : 실린더
61a : 신축 부분 62 : 커버 부재
62a : 오목부 63 : 제1 접속 부재
64 : 제2 접속 부재 70 : 세정액 공급원
71 : 가스 공급원 80 : 제어부
82 : 기억 매체

Claims (15)

  1. 기판을 유지하기 위한 유지홈이 복수개 형성된 유지부와, 유지부로부터 연장되어 유지홈이 형성되어 있지 않은 기단부(基端部)를 갖는 유지 부재의 세정을 행하는 세정 장치로서,
    상기 유지 부재의 상기 유지부에 세정액을 분사함으로써 상기 유지부의 세정을 행하는 세정부와,
    상기 유지 부재에 대하여 진퇴(進退)를 행하여 상기 유지 부재의 상기 기단부를 커버하는 커버부
    를 구비하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 커버부는, 상기 유지 부재를 향해 아래쪽에서부터 진퇴를 행하도록 되어 있고, 상기 커버부가 상기 유지 부재에 접근했을 때에 상기 커버부는 상기 유지 부재의 상기 기단부를 커버하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 유지 부재는 막대 형상의 것으로 이루어지고, 상기 커버부는, 막대 형상의 상기 유지 부재의 기단부를 커버할 수 있는 오목부를 갖는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 유지 부재에 있어서, 상기 유지부와 상기 기단부 사이에 시일 부재가 부착되어 있고,
    상기 커버부가 상기 유지 부재에 접근하여 상기 유지 부재의 상기 기단부를 커버할 때에, 상기 시일 부재와 상기 커버부 사이에서 시일을 행할 수 있도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 커버부가 상기 유지 부재에 접근하여 상기 유지 부재의 상기 기단부를 커버한 후, 상기 유지 부재를 그 기단부측을 향해 이동시킴으로써 상기 시일 부재와 상기 커버부를 접촉시킬 수 있도록 되어 있어, 상기 시일 부재와 상기 커버부가 접촉되었을 때에 이들 사이에서 시일이 행해지도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 커버부는, 승강 부재와, 상기 승강 부재에 부착된 커버 부재를 가지며, 상기 승강 부재는, 상기 커버 부재를, 상기 유지 부재의 상기 기단부를 커버하는 커버 위치와, 상기 유지 부재의 상기 기단부로부터 후퇴한 후퇴 위치 사이에서 왕복 이동시키도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 유지 부재의 기단부측에는, 상기 유지 부재의 구동을 행하는 구동 기구가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
  8. 기판의 처리를 행하는 기판 처리 시스템으로서, 제1항 또는 제2항에 기재된 세정 장치를 구비한 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.
  9. 기판을 유지하기 위한 유지홈이 복수개 형성된 유지부와, 유지부로부터 연장되어 유지홈이 형성되어 있지 않은 기단부를 갖는 유지 부재의 세정 방법으로서,
    상기 유지 부재에 대하여 진퇴를 행하도록 되어 있는 커버부를 상기 유지 부재에 진출시킴으로써, 상기 유지 부재의 상기 기단부를 상기 커버부에 의해 커버하는 공정과,
    상기 유지 부재의 상기 기단부가 상기 커버부에 의해 커버되어 있는 상태에서, 상기 유지 부재의 상기 유지부에 세정액을 분사함으로써 상기 유지부의 세정을 행하는 공정
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 유지 부재의 상기 유지부에 세정액을 분사함으로써 상기 유지부의 세정을 행하는 공정 후에, 상기 커버부를 상기 유지 부재로부터 후퇴시키는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
  11. 제9항 또는 제10항에 있어서,
    상기 커버부는, 상기 유지 부재를 향해 아래쪽에서부터 진퇴를 행하도록 되어 있고, 상기 커버부가 상기 유지 부재에 접근했을 때에 상기 커버부는 상기 유지 부재의 상기 기단부를 커버하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
  12. 제9항 또는 제10항에 있어서,
    상기 유지 부재에 있어서, 상기 유지부와 상기 기단부 사이에 시일 부재가 부착되어 있고,
    상기 커버부가 상기 유지 부재에 접근하여 상기 유지 부재의 상기 기단부를 커버할 때에, 상기 시일 부재와 상기 커버부 사이에서 시일이 행해지는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 커버부가 상기 유지 부재에 접근하여 상기 유지 부재의 기단부를 커버한 후, 상기 유지 부재를 그 기단부측을 향해 이동시킴으로써 상기 시일 부재와 상기 커버부를 접촉시켜, 상기 시일 부재와 상기 커버부가 접촉되었을 때에 이들 사이에서 시일이 행해지는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
  14. 제9항 또는 제10항에 있어서,
    상기 유지 부재의 기단부측에는, 상기 유지 부재의 구동을 행하는 구동 기구가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
  15. 기판을 유지하기 위한 유지홈이 복수개 형성된 유지부와, 유지부로부터 연장되어 유지홈이 형성되어 있지 않은 기단부를 갖는 유지 부재의 세정을 행하는 세정 장치의 제어 컴퓨터에 의해 실행하는 것이 가능한 프로그램이 기억된 기억 매체로서, 상기 프로그램을 실행함으로써, 상기 제어 컴퓨터가 상기 세정 장치를 제어하여 세정 방법을 실행시키는 것에 있어서,
    상기 세정 방법은,
    상기 유지 부재에 대하여 진퇴를 행하도록 되어 있는 커버부를 상기 유지 부재에 진출시킴으로써, 상기 유지 부재의 상기 기단부를 상기 커버부에 의해 커버하는 공정과,
    상기 유지 부재의 상기 기단부가 상기 커버부에 의해 커버되어 있는 상태에서, 상기 유지 부재의 상기 유지부에 세정액을 분사함으로써 상기 유지부의 세정을 행하는 공정
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 장치의 제어 컴퓨터에 의해 실행하는 것이 가능한 프로그램이 기억된 기억 매체.
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