JP2009087958A - 洗浄・乾燥処理方法及びその装置並びにそのプログラム - Google Patents
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Abstract
【課題】先行する被処理体及び後続する被処理体の処理シーケンスによって、搬送手段の洗浄・乾燥処理の処理条件を切り換えて、搬送手段の占有時間を減少し、スループットの向上を図ること。
【解決手段】搬入部から搬入されるウエハWを搬送チャック10によって、薬液槽31a〜31c,水洗槽32a〜32c及び乾燥機33のいずれかのユニットに連続して搬送して処理を施した後、ウエハを搬送チャックによって搬出部に搬出する洗浄・乾燥処理において、搬送チャックを洗浄するチャック洗浄装置34と、搬送チャックを乾燥する乾燥機33と、予め記憶された処理シーケンスに基づいて搬送チャックを制御する制御コンピュータ50とを具備し、制御コンピュータからの制御信号に基づいて、先行するウエハの処理シーケンスと後続するウエハの処理シーケンスによって、搬送チャックの洗浄・乾燥処理の処理条件を切り換えて、搬送チャックによるウエハの搬送を行う。
【選択図】 図1
【解決手段】搬入部から搬入されるウエハWを搬送チャック10によって、薬液槽31a〜31c,水洗槽32a〜32c及び乾燥機33のいずれかのユニットに連続して搬送して処理を施した後、ウエハを搬送チャックによって搬出部に搬出する洗浄・乾燥処理において、搬送チャックを洗浄するチャック洗浄装置34と、搬送チャックを乾燥する乾燥機33と、予め記憶された処理シーケンスに基づいて搬送チャックを制御する制御コンピュータ50とを具備し、制御コンピュータからの制御信号に基づいて、先行するウエハの処理シーケンスと後続するウエハの処理シーケンスによって、搬送チャックの洗浄・乾燥処理の処理条件を切り換えて、搬送チャックによるウエハの搬送を行う。
【選択図】 図1
Description
この発明は、洗浄・乾燥処理方法及びその装置並びにそのプログラムに関するもので、更に詳細には、例えば半導体ウエハやLCD用ガラス基板等の被処理体を薬液処理,水洗処理,乾燥処理する洗浄・乾燥処理方法及びその装置並びにそのプログラムに関するものである。
一般に、この種の洗浄・乾燥処理においては、被処理体としての例えばLCDガラス基板や半導体ウエハ等(以下「ウエハ」という)に付着した汚染物を種々の薬液やリンス液(洗浄液)等の処理液によって取り除く処理を行うようになっている。
ウエハ表面の汚染物としては、例えばパーティクル、金属、有機物、酸化膜等がある。薬液は、汚染物の種類に応じて各種のものが使い分けられるようになっており、純水で希釈したアンモニアと過酸化水素との混合液(NH4OH/H2O2/H2O)、純水で希釈した希塩酸と過酸化水素の混合液(HCl/H2O2/H2O)、純水で希釈したフッ化水素酸液(HF/H2O)等が使用されている。また、リンス液は、主としてウエハに付着した薬液を洗い流すことに使われるようになっており、純水やオゾン水等が使用されている。
ウエハを洗浄・乾燥処理する方法として、搬入部から搬入される未処理のウエハを搬送手段例えばウエハ搬送チャックによって、薬液処理ユニット,水洗処理ユニット及び乾燥処理ユニットのいずれかのユニットに連続して搬送して処理を施した後、処理済みのウエハをウエハ搬送チャックによって搬出部に搬出する洗浄・乾燥処理方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。
特開2002−118086号公報(特許請求の範囲、図1)
しかしながら、従来のこの種の洗浄・乾燥処理においては、先行するウエハの処理シーケンスを実行した後に、ウエハ搬送チャックの洗浄・乾燥処理を毎回実行して、後続のウエハの搬送を行っている。そのため、乾燥処理する必要がない場合においてもウエハ搬送チャックを乾燥するので、乾燥時間分の無駄が生じ、スループットの低下をきたすという問題があった。
この発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、先行する被処理体の処理シーケンスと後続する被処理体の処理シーケンスによって、搬送手段の洗浄・乾燥処理の処理条件を切り換えて、搬送手段の占有時間を減少し、スループットの向上を図れるようにした洗浄・乾燥処理を提供することを課題とする。
上記課題を解決するために、請求項1記載の洗浄・乾燥処理方法は、搬入部から搬入される未処理の被処理体を搬送手段によって、薬液処理ユニット,水洗処理ユニット及び乾燥処理ユニットのいずれかのユニットに連続して搬送して処理を施した後、処理済みの被処理体を上記搬送手段によって搬出部に搬出する洗浄・乾燥処理方法において、 先行する被処理体の処理シーケンスと後続する被処理体の処理シーケンスによって、上記搬送手段の洗浄,乾燥処理の処理条件を切り換えて、搬送手段による被処理体の搬送を行うようにした、ことを特徴とする。
この発明の洗浄・乾燥処理方法において、上記洗浄・乾燥処理の処理条件に、洗浄処理,乾燥処理の少なくともいずれかの処理を省略することが含まれる(請求項2)。この場合、後続の被処理体の搬送が開始するまでの時間が、洗浄処理と乾燥処理に要する時間より長い場合に、洗浄処理,乾燥処理のいずれかの処理を省略できる(請求項3)。なお、ここで、省略とは、処理を簡略にするために処理の一部又は全部を省くことや処理時間を短縮することを含む意味である。
また、先行する被処理体の処理シーケンスにおける薬液処理と、後続する被処理体の処理シーケンスにおける薬液処理に使用される薬液が同じ種類の場合は、搬送手段の洗浄,乾燥を省略することができる(請求項4)。
また、先行する被処理体の処理シーケンスにおける薬液処理と、後続する被処理体の処理シーケンスにおける薬液処理に使用される薬液が異なる種類の場合は、搬送手段の洗浄を行うことができる(請求項5)。
また、上記被処理体を搬出部に搬出する際は、搬送手段の乾燥を行う方が好ましい(請求項6)。
また、請求項7記載の洗浄・乾燥処理装置は、請求項1記載の洗浄・乾燥処理方法を具現化するもので、 搬入部から搬入される未処理の被処理体を搬送手段によって、薬液処理ユニット,水洗処理ユニット及び乾燥処理ユニットのいずれかのユニットに連続して搬送して処理を施した後、処理済みの被処理体を上記搬送手段によって搬出部に搬出する洗浄・乾燥処理装置において、 上記搬送手段を洗浄する洗浄部と、 上記搬送手段を乾燥する乾燥部と、 予め記憶された処理シーケンスに基づいて上記搬送手段を制御する制御コンピュータとを具備してなり、 上記制御コンピュータからの制御信号に基づいて、先行する被処理体の処理シーケンスと後続する被処理体の処理シーケンスによって、上記搬送手段の洗浄,乾燥処理の処理条件を切り換えて、搬送手段による被処理体の搬送を行うようにした、ことを特徴とする。
請求項8記載の発明は、請求項2記載の洗浄・乾燥処理方法を具現化するもので、請求項7記載の洗浄・乾燥処理装置において、上記洗浄・乾燥処理の処理条件に、洗浄処理,乾燥処理の少なくともいずれかの処理を省略することが含まれる、ことを特徴とする。この場合、後続の被処理体の搬送が開始するまでの時間が、洗浄処理と乾燥処理に要する時間より長い場合に、洗浄処理,乾燥処理のいずれかの処理を省略できる(請求項9)。
また、請求項10記載の発明は、請求項4記載の洗浄・乾燥処理方法を具現化するもので、請求項7記載の洗浄・乾燥処理装置において、 上記制御コンピュータからの制御信号に基づいて、先行する被処理体の処理シーケンスにおける薬液処理と、後続する被処理体の処理シーケンスにおける薬液処理に使用される薬液が同じ種類の場合は、搬送手段の洗浄,乾燥を省略する、ことを特徴とする。
また、請求項11記載の発明は、請求項5記載の洗浄・乾燥処理方法を具現化するもので、請求項5記載の洗浄・乾燥処理装置において、 上記制御コンピュータからの制御信号に基づいて、先行する被処理体の処理シーケンスにおける薬液処理と、後続する被処理体の処理シーケンスにおける薬液処理に使用される薬液が異なる種類の場合は、搬送手段を洗浄部に移動して洗浄を行う、ことを特徴とする。
また、請求項12記載の発明は、請求項6記載の洗浄・乾燥処理方法を具現化するもので、請求項5ないし7のいずれかに記載の洗浄・乾燥処理装置において、 上記制御コンピュータからの制御信号に基づいて、上記被処理体を搬出部に搬出する際は、搬送手段を乾燥部に移動して乾燥を行う、ことを特徴とする。
また、請求項13記載の発明は、搬入部から搬入される未処理の被処理体を搬送手段によって、薬液処理ユニット,水洗処理ユニット及び乾燥処理ユニットのいずれかのユニットに連続して搬送して処理を施した後、処理済みの被処理体を上記搬送手段によって搬出部に搬出する洗浄・乾燥処理装置の制御コンピュータにより実行することが可能なプログラムであって、 上記制御コンピュータを、 先行する被処理体の処理シーケンスと後続する被処理体の処理シーケンスによって、上記搬送手段の洗浄・乾燥処理の処理条件を切り換えて、搬送手段による被処理体の搬送を行うように機能させる、ことを特徴とする。
上記のように構成することにより、搬入部に収容される未処理の被処理体を搬送手段によって、薬液処理ユニット,水洗処理ユニット及び乾燥処理ユニットのいずれかのユニットに連続して搬送して処理を施した後、処理済みの被処理体を上記搬送手段によって搬出部に搬出する処理を行う際、先行する被処理体の処理シーケンスと後続する被処理体の処理シーケンスによって、搬送手段の洗浄・乾燥処理の処理条件を切り換えて、搬送手段による被処理体の搬送を行うことができる(請求項1,7,13)。具体的には、先行する被処理体の処理シーケンスに基づいて、洗浄処理,乾燥処理の少なくともいずれかの処理を省略(処理時間を短縮)することができる(請求項2,8)。この場合、後続の被処理体の搬送が開始するまでの時間が、洗浄処理と乾燥処理に要する時間より長い場合に、洗浄処理,乾燥処理のいずれかの処理を省略できる(請求項3,9)。
また、先行する被処理体の処理シーケンスにおける薬液処理と、後続する被処理体の処理シーケンスにおける薬液処理に使用される薬液の種類によって搬送手段の洗浄,乾燥の有無を切り換えることができ、薬液が同じ種類の場合は、搬送手段の洗浄,乾燥を省略することができ(請求項4,10)、薬液が異なる種類の場合は、搬送手段の洗浄のみを行うことができる(請求項5,11)。また、被処理体を搬出部に搬出する際は、搬送手段の乾燥のみを行う(請求項6,12)。
この発明によれば、先行する被処理体の処理シーケンスと後続する被処理体の処理シーケンスによって、搬送手段の洗浄・乾燥処理の処理条件を切り換えて、搬送手段による被処理体の搬送を行うことができるので、搬送手段の占有時間を減少してスループットの向上を図ることができる。
以下に、この発明の最良の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では、この発明に係る洗浄・乾燥処理装置を半導体ウエハの洗浄処理システムに適用した場合について説明する。
上記半導体ウエハの洗浄処理システムは、図1に示すように、被処理体として複数枚(例えば25枚)の半導体ウエハW(以下にウエハWという)を水平状態に収容するキャリア1を搬入、搬出するための搬入・搬出部2(以下に、ローダ・アンローダ部2という)と、ウエハWを薬液、洗浄等によって液処理すると共に乾燥処理する処理部3と、ローダ・アンローダ部2と処理部3との間に位置してウエハWの受け渡し,位置調整及び姿勢変換等を行うインターフェース部4とで主に構成されている。また、インターフェース部4及び処理部3に沿って搬送路11が設けられており、この搬送路11に、X,Y方向(水平方向)、Z方向(鉛直方向)及びθ方向(回転方向)に移動可能なウエハ搬送手段であるウエハ搬送チャック10(以下に搬送チャック10という)が配設されている。
上記ローダ・アンローダ部2は、洗浄処理システムの一側端部に位置しており、併設されるキャリア搬入部5aとキャリア搬出部5bと、ウエハ受渡し部6と、キャリア搬入部5aとウエハ受渡し部6の間に配設されて、キャリア1の受け渡しを行うキャリア搬送ロボット7を具備している。
上記ウエハ受渡し部6は、上記インターフェース部4に開口しており、その開口部には蓋開閉装置8が配設されている。この蓋開閉装置8によってキャリア1の蓋体(図示せず)が開放あるいは閉塞されるようになっている。したがって、ウエハ受渡し部6に搬送された未処理のウエハWを収納するキャリア1の蓋体を蓋開閉装置8によって取り外してキャリア1内のウエハWを搬出可能にし、全てのウエハWが搬出された後、再び蓋開閉装置8によって蓋体を閉塞することができる。また、キャリア待機部からウエハ受渡し部6に搬送された空のキャリア1の蓋体を蓋開閉装置8によって取り外してキャリア1内へのウエハWを搬入可能にし、全てのウエハWが搬入された後、再び蓋開閉装置8によって蓋体を閉塞することができる。なお、ウエハ受渡し部6の開口部近傍には、キャリア1内に収納されたウエハWの枚数を検出するマッピングセンサ9が配設されている。
上記インターフェース部4には、複数枚例えば25枚のウエハWを水平状態に保持すると共に、ウエハ受渡し部6のキャリア1との間でウエハWを受け渡す水平搬送手段例えばウエハ搬送アーム20と、複数枚例えば50枚のウエハWを所定の間隔をおいて垂直状態に保持する図示しないピッチ・チエンジャと、ウエハ搬送アーム20とピッチ・チェンジャとの間に位置して、複数枚例えば25枚のウエハWを水平状態と垂直状態とに変換する姿勢変換手段例えば姿勢変換装置21と、垂直状態に姿勢変換されたウエハWに設けられたノッチ(図示せず)を検出する位置検出手段例えばノッチアライナ(図示せず)が配設されている。
一方、上記処理部3には、ウエハWに付着するパーティクルや有機物等の汚染物を除去する複数種類の薬液、例えば純水で希釈したフッ化水素酸液(DHF)、硫酸と過酸化水素の混合液(SMP),アンモニアと過酸化水素との混合液(SC1)等の薬液槽31a,31b,31c(薬液処理ユニット)と洗浄槽32a,32b,32c(水洗処理ユニット)を併設した複数(図面では3つ)の処理ユニット30a,30b,30cと、ウエハWを乾燥処理すると共に、搬送チャック10を乾燥する乾燥部である乾燥機33と、搬送チャック10を洗浄する洗浄部であるチャック洗浄装置34が四角形状に区画された状態で隣接するようにして直線状に配列されている。この場合、乾燥機33とチャック洗浄装置34は処理部3におけるインターフェース部4側に配置されているが、チャック洗浄装置34は必ずしもインターフェース部4側に配置しなくてもよく、処理部3におけるインターフェース部4から離れた端部に配置してもよい。なお、各ユニット30a〜30c,33,34の正面側の部分には、これらのユニットを連続的につなぐように上記搬送路11が設けられており、この搬送路11には、X,Y方向(水平方向)、Z方向(垂直方向)及びθ方向(回転方向)に移動可能な上記搬送チャック10が配設されている。また、各ユニット30a〜30c,33,34には、その搬送路11と反対側の位置に、薬液を貯留する複数の薬液タンク(図示せず)、やリンス液である純水の供給源や配管機器類を収容する収容部(図示せず)等が設けられている。
上記処理ユニット30a〜30cにおける薬液槽31a,31b,31cと洗浄槽32a,32b,32cには、それぞれ搬送チャック10との間でウエハWを受け渡しすると共に、搬送チャック10から受け取ったウエハWを薬液槽31a,31b,31c又は洗浄槽32a,32b,32c内に搬入及び槽外に搬出する昇降可能なウエハボート35が配設されている。
次に、薬液槽31a,31b,31cについて、薬液槽31aを代表して説明する。薬液槽31aは、ウエハWを収容すると共に、薬液すなわち希フッ酸(DHF)を貯留する薬液槽本体36と、薬液槽本体36内に薬液を循環供給する循環管路37と、薬液槽本体36内の薬液を排出する排出手段38と、薬液槽本体36内の薬液に補助薬液を補充する薬液補充手段39と、薬液槽本体36内にリンス液である純水(DIW)を供給する純水供給手段40とを具備している。
上記薬液槽本体36は、ウエハボート35によって表面が垂直に保持されるウエハWを収容すると共に、薬液を貯留する例えば石英製の内槽36aと、この内槽36aからオーバーフローする薬液を受け止める例えばポリテトラフルオロエチレン(PTFE)製の外槽36bとで構成されている。また、内槽36a内の底部側には、左右一対の薬液供給ノズル36cが配設されており、この薬液供給ノズル36cと外槽36bとが循環管路37を介して接続されている。循環管路37には、外槽36b側から順に、循環ポンプP0,温調用ヒータ41及びフィルタFが介設されている。したがって、薬液槽本体36内に貯留される薬液は、循環管路37及び薬液供給ノズル36cによって循環供給されると共に、温調用ヒータ41によって所定温度例えば23℃に維持されている。
上記排出手段38は、内槽36aの底部に介設された排出孔(図示せず)に接続する排出管路38aと、この排出管路38aに介設される開閉弁V1とで構成されている。
また、上記薬液補充手段39は、フッ酸(DHF)を貯留するフッ酸貯留タンク39a(以下にDHFタンク39aという)と、このDHFタンク39a内のDHFを内槽36a内に補充(供給)するDHF供給管路39Bと、このDHF供給管路39Bから分岐されてDHFを外槽36b内に補充するDHF補充管路39Cとを具備している。この場合、DHF供給管路39Bには開閉手段である開閉弁V2が介設され、DHF補充管路39Cには、開閉手段である開閉弁V3と薬液供給手段であるDHF供給ポンプP1が介設されている。
なお、純水供給手段40は、純水供給源40aに接続して純水(DIW)を内槽36a内に供給する純水供給管路40bと、この純水供給管路40bから分岐されて純水(DIW)を外槽36b内に補充する純水補充管路40cとを具備している。この場合、純水供給管路40bには、開閉手段である開閉弁V4が介設され、純水補充管路40cには、開閉手段である開閉弁V5が介設されている。
上記のように構成されるエッチング装置において、上記薬液補充手段39を構成する開閉弁V2,V3及びDHF供給ポンプP1は、それぞれ制御コンピュータ50に信号ラインを介して接続されており、制御コンピュータ50に予め記憶された処理シーケンスに基づいて制御されるようになっている。
上記搬送チャック10は、図3に示すように、ウエハWの下部を保持する下部保持部材12と、下部保持部材12の両側のウエハWの辺部を保持する一対の側部保持部材13,14を具備してなる。この場合、各保持部材12,13,14には複数例えば50個の保持溝12a,13a,14aが列設されている。また、各保持部材12,13,14の基部側には、例えば円板状の飛散防止板15が、長手方向と直交するように装着されており、チャック洗浄時にチャック駆動部側に洗浄液である純水(DIW)が飛散して付着するのを防止している。また、両側部保持部材13,14は、ウエハWを保持しない場合には、下部保持部材12と同一の水平面上に位置し、ウエハWを保持する場合には、上方側に円弧状の軌跡を描いて変位してウエハWの下部両側を保持し得るように構成されている。なお、各保持部材12,13,14は、耐食性及び耐薬品性に優れた部材例えばポリエーテルエーテルケトン(PEEK)やポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE)等の樹脂にて形成されている。
このように構成される搬送チャック10は、信号ラインを介して制御コンピュータ50に接続されており、制御コンピュータ50に予め記憶された処理シーケンスに基づいて制御可能に形成されている。すなわち、搬送チャック10は、制御コンピュータ50からの制御信号に基づいて、未処理の1ロット例えば50枚のウエハWをピッチ・チェンジャから受け取って処理部3の所定の処理ユニット30a,30b,30cの薬液槽31a,31b,31c、水洗槽32a,32b,32c及び乾燥機33のいずれかに搬送し、処理部3にて適宜処理が施された処理済みの1ロット例えば50枚のウエハWをピッチ・チェンジャに受け渡すように構成されている。
上記チャック洗浄装置34は、図3に示すように、洗浄液例えば純水及び気体例えば窒素(N2)ガスを、搬送チャック10の保持部材12,13,14の保持溝12a,13a,14aに向かって噴射する2流体供給ノズル34aと、洗浄液である純水(DIW)を保持部材12,13,14の側面に向かって噴射する洗浄液供給ノズル34bと、乾燥ガス例えばN2ガスを保持部材12,13,14の保持溝12a,13a,14a及び側面に向かって噴射する一次乾燥ガス供給ノズル34cと、乾燥ガスであるN2ガスを保持部材12,13,14の保持溝12a,13a,14a,側面下部及び基端部すなわち飛散防止板15に向かって噴射する二次乾燥ガス供給ノズル34dとを具備している。なお、気体をN2ガスに代えて清浄空気としてもよい。
また、上記2流体供給ノズル34a,洗浄液供給ノズル34b,一次乾燥ガス供給ノズル34c及び二次乾燥ガス供給ノズル34dは、ノズルボックス34e内に配置されている。ノズルボックス34eの下部には、下端が開口するカバー部が延在されており、このカバー部によって、チャック洗浄・乾燥時の洗浄液等が側方周辺部に飛散するのを抑制している。このノズルボックス34eは、移動手段例えばエアシリンダ34fの可動部34gに連結されて、上記保持部材12,13,14の長手方向に沿う水平方向(+Y,−Y方向)に往復移動し得るように構成されている。
また、チャック洗浄装置34は、信号ラインを介して制御コンピュータ50に接続されており、制御コンピュータ50に予め記憶された処理シーケンスに基づいて制御可能に形成されている。
制御コンピュータ50は、中央演算処理装置(CPU)からなる制御手段50a(以下にCPU50aという)と、CPU50aに接続された入出力部50bと、処理シーケンスを作成するための処理シーケンス入力画面を表示する表示部50cと、入出力部50bに挿着され制御ソフトウエアを格納した記録媒体50dとを具備する。
上記記録媒体50dは、制御コンピュータ50に固定的に設けられるもの、あるいは、制御コンピュータ50に設けられた読み取り装置に着脱自在に挿着されて該読み取り装置により読み取り可能なものであってもよい。最も典型的な実施形態においては、記録媒体50dは、基板処理装置のメーカーのサービスマンによって制御ソフトウエアがインストールされたハードディスクドライブである。他の実施の形態においては、記録媒体50dは、制御ソフトウエアが書き込まれたCD−ROM又はDVD−ROMのような読み出し専用のリムーバブルディスクであり、このようなリムーバブルディスクは制御コンピュータ50に設けられた光学的読み取り装置によって読み取られる。記録媒体50dは、RAM(random access memory)又はROM(read only memory)のいずれの形式のものであってもよく、また、記録媒体50dは、カセット式のROMのようなものであってもよい。要するに、コンピュータの技術分野において知られている任意のものを記録媒体50dとして用いることが可能である。
上記のように構成された制御コンピュータ50によって制御ソフトウエアを実行することにより、上記洗浄・乾燥処理装置の各機能要素である上記搬送チャック10、処理ユニット30a,30b,30cの薬液供給手段,洗浄液(リンス液)供給手段、チャック洗浄装置34及び乾燥機33等を、所定の処理シーケンスにより定義された様々なプロセス条件が実現されるように制御する。
この発明においては、制御コンピュータ50の記録媒体50dに、図6に示すような、先行するウエハWの処理シーケンスと後続するウエハWの処理シーケンスの実行可能な全てのウエハ搬送における搬送チャック10の洗浄・乾燥処理の処理条件例えば、洗浄処理,乾燥処理の少なくともいずれかの処理の省略や洗浄,乾燥の有無のパターンの処理シーケンスを記憶しておき、この処理シーケンスに基づいて搬送チャック10の洗浄・乾燥処理の処理条件を切り換えて、搬送チャック10によるウエハWの搬送を行うように機能させている。
例えば、先行するウエハWの薬液処理と後続するウエハWの薬液処理に使用する薬液の種類が異なる処理{例えば、SPM処理(硫酸過酸化水素洗浄処理)とSC1処理(フッ酸洗浄処理)}を行う場合、図4のフローチャートに示すように、搬送チャック10によって先行(先発)のウエハWを薬液槽31aに搬送してSPM処理(ステップ4−1)し、薬液槽31aに併設された水洗槽32aで水洗処理(ステップ4−2)した後、搬送チャック10をチャック洗浄装置34に移動して、搬送チャック10の洗浄を行い(ステップ4−3)。その後、搬送チャック10によって後続(後発)のウエハWを別の薬液槽31bに搬送してSC1処理(ステップ4−4)し、薬液槽31bに併設された水洗槽32bで水洗処理(ステップ4−5)する。なお、水洗処理された先行(先発)のウエハWは、搬送チャック10によって乾燥機33に搬送されて乾燥処理(ステップ4−6)された後、アンローダ部へ搬出される。このように処理することにより、従来では、先行するウエハWの薬液処理、水洗処理後に、搬送チャック10をチャック洗浄装置34で洗浄し、乾燥機33で乾燥した後、後続するウエハWを別の処理ユニットの薬液槽で薬液処理していた場合に比べて、搬送チャック10の乾燥の無駄を省くことができる。
なお、この場合、先行(先発)のウエハWの薬液処理で使用する薬液の種類に応じて、洗浄・乾燥処理時間を種々変更するようにしてもよい。
また、先行するウエハWの薬液処理と後続するウエハWの薬液処理に使用する薬液の種類が同じ処理{例えば、SC1処理}を行う場合、図5のフローチャートに示すように、搬送チャック10によって先行(先発)のウエハWを薬液槽31bに搬送してSC1処理(ステップ5−1)し、薬液槽31bに併設された水洗槽32bで水洗処理(ステップ5−2)した後、搬送チャック10によって後続(後発)のウエハWを薬液槽31bに搬送してSC1処理(ステップ5−3)し、薬液槽31bに併設された水洗槽32bで水洗処理(ステップ5−4)する。なお、水洗処理された先行(先発)のウエハWは、搬送チャック10によって乾燥機33に搬送されて乾燥処理(ステップ5−5)された後、アンローダ部へ搬出される。このように処理することにより、従来では、先行するウエハWの薬液処理、水洗処理後に、搬送チャック10をチャック洗浄装置34で洗浄し、乾燥機33で乾燥する場合に比べて、搬送チャック10の洗浄・乾燥時間の無駄を省くことができる。
上述した処理シーケンス以外の場合も、図6の表に示したように、先行(先発)ウエハWの処理シーケンスと後続(後発)ウエハの処理シーケンスによって、搬送チャック10の洗浄・乾燥処理の処理条件を切り換えて、搬送チャック10によるウエハWの搬送を行うことができる。
また、後続(後発)のウエハWの搬送が開始するまでの時間が、洗浄処理,乾燥処理に要する時間より長い場合は、搬送チャック10の洗浄処理,乾燥処理の少なくともいずれかの処理を省略してもよい。なお、この場合、ウエハWの品質を一層向上するために、搬送チャック10の洗浄処理を省略せずに、洗浄処理時間を短縮してもよい。
また、搬送チャック10の洗浄処理,乾燥処理をしなくてよい場合においても、処理のスループットに影響をきたさない場合には、ウエハWの品質をより高めるために、搬送チャック10の洗浄・乾燥処理を行うようにしてもよい。例えば、(a)CPU50aが、処理レシピに基づいて、先行(先発)のウエハWの搬送と後続(後発)のウエハWの搬送の間の時間(A)を算出し、(b)洗浄処理に必要な時間(B){最低限必要な洗浄・乾燥時間〜通常の洗浄・乾燥時間}を算出しておく。そして、(A)>(B)の場合に、搬送チャック10の洗浄・乾燥処理を行うようにしてもよい。
2 ローダ・アンローダ部(搬入・搬出部)
3 処理部
10 ウエハ搬送チャック(搬送手段)
30a,30b,30c 処理ユニット
31a,31b,31c 薬液槽(薬液処理ユニット)
32a,32b,32c 水洗槽(水洗処理ユニット)
33 乾燥機(乾燥処理ユニット)(乾燥部)
34 チャック洗浄装置(洗浄部)
50 制御コンピュータ
50a CPU(制御手段)
50d 記録媒体
W 半導体ウエハ(被処理体)
3 処理部
10 ウエハ搬送チャック(搬送手段)
30a,30b,30c 処理ユニット
31a,31b,31c 薬液槽(薬液処理ユニット)
32a,32b,32c 水洗槽(水洗処理ユニット)
33 乾燥機(乾燥処理ユニット)(乾燥部)
34 チャック洗浄装置(洗浄部)
50 制御コンピュータ
50a CPU(制御手段)
50d 記録媒体
W 半導体ウエハ(被処理体)
Claims (13)
- 搬入部から搬入される未処理の被処理体を搬送手段によって、薬液処理ユニット,水洗処理ユニット及び乾燥処理ユニットのいずれかのユニットに連続して搬送して処理を施した後、処理済みの被処理体を上記搬送手段によって搬出部に搬出する洗浄・乾燥処理方法において、
先行する被処理体の処理シーケンスと後続する被処理体の処理シーケンスによって、上記搬送手段の洗浄・乾燥処理の処理条件を切り換えて、搬送手段による被処理体の搬送を行うようにした、ことを特徴とする洗浄・乾燥処理方法。 - 請求項1記載の洗浄・乾燥処理方法において、
上記洗浄・乾燥処理の処理条件に、洗浄処理,乾燥処理の少なくともいずれかの処理を省略することが含まれる、ことを特徴とする洗浄・乾燥処理方法。 - 請求項2記載の洗浄・乾燥処理方法において、
後続の被処理体の搬送が開始するまでの時間が、洗浄処理と乾燥処理に要する時間より長い場合に、洗浄処理,乾燥処理のいずれかの処理を省略する、ことを特徴とする洗浄・乾燥処理方法。 - 請求項1記載の洗浄・乾燥処理方法において、
先行する被処理体の処理シーケンスにおける薬液処理と、後続する被処理体の処理シーケンスにおける薬液処理に使用される薬液が同じ種類の場合は、搬送手段の洗浄,乾燥を省略する、ことを特徴とする洗浄・乾燥処理方法。 - 請求項1記載の洗浄・乾燥処理方法において、
先行する被処理体の処理シーケンスにおける薬液処理と、後続する被処理体の処理シーケンスにおける薬液処理に使用される薬液が異なる種類の場合は、搬送手段の洗浄を行う、ことを特徴とする洗浄・乾燥処理方法。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載の洗浄・乾燥処理方法において、
上記被処理体を搬出部に搬出する際は、搬送手段の乾燥を行う、ことを特徴とする洗浄・乾燥処理方法。 - 搬入部から搬入される未処理の被処理体を搬送手段によって、薬液処理ユニット,水洗処理ユニット及び乾燥処理ユニットのいずれかのユニットに連続して搬送して処理を施した後、処理済みの被処理体を上記搬送手段によって搬出部に搬出する洗浄・乾燥処理装置において、
上記搬送手段を洗浄する洗浄部と、
上記搬送手段を乾燥する乾燥部と、
予め記憶された処理シーケンスに基づいて上記搬送手段を制御する制御コンピュータとを具備してなり、
上記制御コンピュータからの制御信号に基づいて、先行する被処理体の処理シーケンスと後続する被処理体の処理シーケンスによって、上記搬送手段の洗浄・乾燥処理の処理条件を切り換えて、搬送手段による被処理体の搬送を行うようにした、ことを特徴とする洗浄・乾燥処理装置。 - 請求項7記載の洗浄・乾燥処理装置において、
上記洗浄・乾燥処理の処理条件に、洗浄処理,乾燥処理の少なくともいずれかの処理を省略することが含まれる、ことを特徴とする洗浄・乾燥処理装置。 - 請求項8記載の洗浄・乾燥処理装置において、
後続の被処理体の搬送が開始するまでの時間が、洗浄処理と乾燥処理に要する時間より長い場合に、洗浄処理,乾燥処理のいずれかの処理を省略する、洗浄・乾燥処理装置。 - 請求項7記載の洗浄・乾燥処理装置において、
上記制御コンピュータからの制御信号に基づいて、先行する被処理体の処理シーケンスにおける薬液処理と、後続する被処理体の処理シーケンスにおける薬液処理に使用される薬液が同じ種類の場合は、搬送手段の洗浄,乾燥を省略する、ことを特徴とする洗浄・乾燥処理装置。 - 請求項7記載の洗浄・乾燥処理装置において、
上記制御コンピュータからの制御信号に基づいて、先行する被処理体の処理シーケンスにおける薬液処理と、後続する被処理体の処理シーケンスにおける薬液処理に使用される薬液が異なる種類の場合は、搬送手段を洗浄部に移動して洗浄を行う、ことを特徴とする洗浄・乾燥処理装置。 - 請求項7ないし11のいずれかに記載の洗浄・乾燥処理装置において、
上記制御コンピュータからの制御信号に基づいて、上記被処理体を搬出部に搬出する際は、搬送手段を乾燥部に移動して乾燥を行う、ことを特徴とする洗浄・乾燥処理装置。 - 搬入部から搬入される未処理の被処理体を搬送手段によって、薬液処理ユニット,水洗処理ユニット及び乾燥処理ユニットのいずれかのユニットに連続して搬送して処理を施した後、処理済みの被処理体を上記搬送手段によって搬出部に搬出する洗浄・乾燥処理装置の制御コンピュータにより実行することが可能なプログラムであって、
上記制御コンピュータを、
先行する被処理体の処理シーケンスと後続する被処理体の処理シーケンスによって、上記搬送手段の洗浄・乾燥処理の処理条件を切り換えて、搬送手段による被処理体の搬送を行うように機能させる、ことを特徴とするプログラム。
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JP2006001186A JP2009087958A (ja) | 2006-01-06 | 2006-01-06 | 洗浄・乾燥処理方法及びその装置並びにそのプログラム |
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Cited By (1)
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JP2010267654A (ja) * | 2009-05-12 | 2010-11-25 | Tokyo Electron Ltd | 洗浄装置、基板処理システム、洗浄方法、プログラムおよび記憶媒体 |
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