WO2011142582A2 - 적층형 반도체 패키지 - Google Patents

적층형 반도체 패키지 Download PDF

Info

Publication number
WO2011142582A2
WO2011142582A2 PCT/KR2011/003468 KR2011003468W WO2011142582A2 WO 2011142582 A2 WO2011142582 A2 WO 2011142582A2 KR 2011003468 W KR2011003468 W KR 2011003468W WO 2011142582 A2 WO2011142582 A2 WO 2011142582A2
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
substrate
chip
stacked
semiconductor
semiconductor chips
Prior art date
Application number
PCT/KR2011/003468
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
WO2011142582A3 (ko
Inventor
황철규
이현우
Original Assignee
하나마이크론㈜
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 하나마이크론㈜ filed Critical 하나마이크론㈜
Priority to US13/697,288 priority Critical patent/US8729689B2/en
Priority to BR112012028794A priority patent/BR112012028794A2/pt
Publication of WO2011142582A2 publication Critical patent/WO2011142582A2/ko
Publication of WO2011142582A3 publication Critical patent/WO2011142582A3/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3121—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
    • H01L23/3128—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation the substrate having spherical bumps for external connection
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49811—Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
    • H01L23/49816—Spherical bumps on the substrate for external connection, e.g. ball grid arrays [BGA]
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5384—Conductive vias through the substrate with or without pins, e.g. buried coaxial conductors
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5387—Flexible insulating substrates
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161—Disposition
    • H01L2224/16135—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/16145—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161—Disposition
    • H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321—Disposition
    • H01L2224/32135—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/32145—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321—Disposition
    • H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805—Shape
    • H01L2224/4809—Loop shape
    • H01L2224/48091—Arched
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481—Disposition
    • H01L2224/48135—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48145—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481—Disposition
    • H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732—Location after the connecting process
    • H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265—Layer and wire connectors
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06555—Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking
    • H01L2225/06562—Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking at least one device in the stack being rotated or offset
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11—Device type
    • H01L2924/14—Integrated circuits
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151—Die mounting substrate
    • H01L2924/1515—Shape
    • H01L2924/15151—Shape the die mounting substrate comprising an aperture, e.g. for underfilling, outgassing, window type wire connections
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151—Die mounting substrate
    • H01L2924/153—Connection portion
    • H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181—Encapsulation

Definitions

  • the present invention relates to a stacked semiconductor package, and more particularly, to allow the package to be thin and thin, by essentially eliminating the clearance height of the molding part, minimizing chip flow due to external force during wire bonding, preventing cracks, and wire bonding.
  • the present invention relates to a laminated semiconductor package that can reduce the amount of wire used and work time required for wire bonding, and can reduce the size and volume of a packaged product by making the most of limited mounting space.
  • the thickness of the semiconductor chip is gradually thinner.
  • the semiconductor chip has a thickness of only 50 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • FIG. 7 is a block diagram illustrating a stacked semiconductor package according to the related art.
  • a plurality of semiconductor chips 21 are stacked on the substrate 10 in a stepped manner to be inclined in a plurality of steps to bond pads.
  • 22 includes a first cascade chip stack 20 that is externally exposed on one side of the chip, and steps the plurality of semiconductor chips 31 on the first cascade chip stack 20 in opposite directions.
  • the bonding pads 22 and 32 of each of the semiconductor chips 21 and 31 of the substrate 30 are connected to the connection pads 12 and 13 provided on the upper surface of the substrate 10 and the plurality of conductive wires 23, 33 and a molding portion 50 which is wire-bonded through the substrate 10 and molded on the substrate 10 with a resin material.
  • reference numeral 14 denotes a solder ball provided on the lower surface of the substrate.
  • the conventional stacked semiconductor package 1 has the uppermost semiconductor chip 31 and the molding in the process of forming the molding part 50 to include a loop of conductive wires connecting the uppermost semiconductor chip and the substrate. Since only the clearance height (h) of 2 to 300 ⁇ m is secured between the upper surfaces of the portions 50, there is a limit to the miniaturized design by reducing the size and volume of the package by such clearance height.
  • the conductive pads 33 are connected to the connection pads 13 by bonding the bonding pads 32 of the semiconductor chip 31 stacked in multiple steps inclined on the first cascade chip stack 20.
  • an external force is applied to the bonding pads 32 exposed to one side of the upper end of the bonding process, there is no structure supporting the first cascade chip stacked body 20 protruding to the left in the drawing. It may cause bouncing, making it difficult to perform a precise wire bonding operation, causing bad bonding, and causing cracks in the adhesive layers 25 and 35 between the stacked semiconductor chips.
  • the present invention is to solve the above problems, the object is to fundamentally exclude the height of the molding portion to enable a light and thin short of the package, to minimize the chip flow by the external force during wire bonding, cracks
  • the present invention aims to provide a stacked semiconductor package that can reduce the size and volume of a packaged product by making the most of the limited mounting space while reducing the amount of wire used and the time required for wire bonding.
  • the present invention is a substrate unit having a connecting substrate for electrically connecting between the first substrate having a connection pad and the second substrate having a connection pad; A first chip stacked structure in which a plurality of first semiconductor chips are stacked in multiple stages on the first substrate; A second chip stacked structure in which a plurality of second semiconductor chips are stacked in multiple stages on the second substrate; A first conductive wire electrically connecting the first bonding pad of the first semiconductor chip and the connection pad of the first substrate; A second conductive wire electrically connecting the second bonding pad of the second semiconductor chip and the connection pad of the second substrate; And a connection adhesive layer having a predetermined thickness interposed between the uppermost first semiconductor chip of the first integrated body and the uppermost second semiconductor chip of the second chip stacked body, so that the first chip stacked body and the second chip stacked body are stacked up and down.
  • a stacked semiconductor package including a junction part which is laminated and bonded.
  • the present invention is a substrate unit having a connecting substrate for electrically connecting between the first substrate having a connection pad and the second substrate having a connection pad;
  • a first chip stacked structure in which a plurality of first semiconductor chips are stacked in multiple stages on the first substrate;
  • a second chip stacked structure in which a plurality of second semiconductor chips are stacked in multiple stages on the second substrate;
  • a first conductive wire electrically connecting the first bonding pad of the first semiconductor chip and the connection pad of the first substrate;
  • a second conductive wire electrically connecting the second bonding pad of the second semiconductor chip and the connection pad of the second substrate;
  • And a predetermined thickness connection interposed between an upper surface of the first molding portion formed of a resin material to embed the first chip laminate and a lower surface of the second molding portion formed of a resin material to embed the second chip stacked body.
  • a stacked semiconductor package including a bonding portion having an adhesive layer and laminated by bonding the first molding portion and the second molding portion up and down.
  • connection substrate is provided with a flexible substrate capable of bending deformation.
  • the first chip stack or the second chip stack is provided in a cascade-type stacked structure in which a plurality of semiconductor chips are stacked in one step in an inclined manner, or a plurality of semiconductor chips protrude alternately from left to right. It is provided with a protruding laminated structure that is stacked in multiple stages.
  • the first conductive wire or the second conductive wire is composed of a single wire for simultaneously wire bonding between the connection pad of the first substrate or the second substrate and a plurality of first semiconductor chips or a plurality of second semiconductor chips.
  • the first conductive wire or the second conductive wire is composed of a plurality of wires individually wire-bonded between a connection pad of the first substrate or the second substrate and a plurality of first semiconductor chips or a plurality of second semiconductor chips. .
  • the first substrate or the second substrate is mounted with at least one electronic component in a region corresponding to the down-face surface exposed to the lower portion of the first semiconductor chip or the second semiconductor chip.
  • the electronic component is wire bonded or flip bonded to the first substrate or the second substrate.
  • the first substrate or the second substrate includes at least one support, and the support is stacked on the first semiconductor chip or the second semiconductor chip of the lowest layer mounted on the first substrate or the second substrate. The upper end is supported by the first semiconductor chip.
  • the support is made of an elastic material or made of a thermally conductive material.
  • a molding unit is provided between the first substrate and the second substrate to protect the first chip stack, the second chip stack, and the connection board from an external environment.
  • the first substrate and the second substrate includes a molding portion including a third molding portion connected integrally with the first molding portion and the second molding portion to protect the connecting substrate from the external environment.
  • connection substrate penetrates at least one through hole.
  • a first chip laminate and a second chip laminate are respectively provided on a first substrate and a second substrate electrically connected through a connecting substrate, and a plurality of first and second semiconductor chips are provided.
  • the first chip laminates are wire-bonded via a second conductive wire, and the first chip laminates are connected to each other by a connection adhesive layer having a predetermined thickness interposed between the first semiconductor chip of the first integrated layer and the second semiconductor chip of the second chip laminate.
  • wire bonding between a plurality of semiconductor chips and substrates is carried out by a single wire member, which reduces wire usage during wire bonding, reduces work time required for wire bonding, reduces manufacturing costs, and increases price competitiveness. On the other hand, it is possible to prevent short-circuits caused by contact between the wire bonding loops.
  • the chip flow can be minimized by the external force generated during wire bonding by the support member provided between the first and second chip stacked bodies and the substrate, it prevents the occurrence of cracks at the adhesive part between the chips, thereby improving the reliability and quality of the product. Can increase.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a stacked semiconductor package according to a first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a stacked semiconductor package according to a second exemplary embodiment of the present invention.
  • FIG 3 is a cross-sectional view illustrating a stacked semiconductor package according to a third exemplary embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a stacked semiconductor package according to a fourth exemplary embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a stacked semiconductor package according to a third exemplary embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a stacked semiconductor package according to a fourth exemplary embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a stacked semiconductor package according to the related art.
  • the stacked semiconductor package 100 may include a substrate unit 110, a first chip stacked structure 120, a second chip stacked structure 130, and a first stacked structure.
  • the conductive wire 140, the second conductive wire 150, and the junction 190 are included.
  • the substrate unit 110 may include a first substrate 111, a second substrate 112, and a connection substrate 113 electrically connecting them.
  • the first substrate 111 includes a connection pad 111a wire-bonded to an end of the first conductive wire 140 on an upper surface thereof, and an external terminal such as a ball land to form a solder ball 115 on the lower surface thereof. 111b).
  • the first substrate 111 may be mounted on the main substrate through the solder ball 115 applied on the external terminal 111b.
  • the second substrate 112 includes a connection pad 112a wire-bonded with an end of the second conductive wire 150.
  • the external terminal 111b is illustrated and described as being formed on the lower surface of the first substrate, but is not limited thereto and may be formed on the lower surface of the second substrate.
  • connection substrate 113 is formed of a substrate member having a predetermined length for electrically connecting the first substrate 111 and the second substrate 112, and the connection substrate 113 is formed of the first chip laminate ( 120 and the second chip stacked body 130 is preferably provided as a flexible substrate to enable free bending deformation during vertical stacking.
  • connection substrate 113 it is preferable that at least one through hole 113a is formed through the connection substrate 113 so as to smoothly flow out of the resin material during molding of the molding part.
  • the first and second substrates 111 and 112 are printed with a pattern circuit on the upper surface, and solder balls 115 on the ball lands for electrical connection with the main substrate, not shown on the lower surface, respectively. It may be provided as a printed circuit board that can be mounted on the main board via this.
  • the first chip stacked structure 120 includes a plurality of first semiconductor chips 121 stacked on at least two or more stages on the first substrate 111, and the plurality of first semiconductor chips ( 121 may be provided in a cascade-type stacked structure in which a multi-stage stack is inclined toward one side, which is a right side of the drawing in a step shape.
  • the plurality of first semiconductor chips 121 has a stepped shape to externally expose the first bonding pads 122 through the upface surface exposed to one side of the upper surface through the adhesive layer 125 having a predetermined thickness.
  • the second chip stacked body 130 includes a plurality of second semiconductor chips 131 stacked and mounted on the second substrate 112 in at least two or more stages.
  • the plurality of second semiconductor chips 131 may be provided in a cascade type stacked structure in which a plurality of second semiconductor chips 131 are inclined and stacked in a multi-stage direction to one side, which is a right side in the drawing.
  • the plurality of second semiconductor chips 131 may be stepped to expose the second bonding pads 132 through the up-face surface exposed to one side of the upper surface through the adhesive layer 135 having a predetermined thickness.
  • the adhesive layer 135 having a predetermined thickness.
  • the first chip stacked body 120 and the second chip stacked body 130 have a cascade cascade in which the plurality of first semiconductor chips 121 and the second semiconductor chips 131 are inclined in the same direction.
  • the first chip stacked body 120 and the second chip stacked body 130 have a cascade cascade in which the plurality of first semiconductor chips 121 and the second semiconductor chips 131 are inclined in the same direction.
  • illustrated as being provided in a laminated structure it is not limited thereto, and may be provided in a laminated structure in different directions.
  • the first and second semiconductor chips 121 and 131 may be provided as one of a memory chip such as an SRAM and a DRAM, a digital integrated circuit chip, an RF integrated circuit chip, and a baseband chip according to a set device to which a package is applied. .
  • the first conductive wire 140 has an upper end of the first semiconductor chip 121 to electrically connect the first semiconductor chip 121 constituting the first chip laminate 120 with the first substrate 110. It is made of a wire member of a predetermined length that is bonded between the first bonding pad 122 that is externally exposed on one side of the up face surface and the connection pad 111 a formed on the upper surface of the first substrate 111.
  • the second conductive wire 150 has an upper end of the second semiconductor chip 121 to electrically connect the second semiconductor chip 131 constituting the second chip laminate 130 with the second substrate 112. It is made of a wire member of a predetermined length that is bonded between the second bonding pad 132 that is externally exposed on one side of the up face surface and the second connection pad 112 a formed on the upper surface of the second substrate 112.
  • the junction part 190 is stacked in multiple stages on the first semiconductor chip and the second chip laminate 130 of the uppermost layer among the plurality of first semiconductor chips 121 stacked on the first chip stacked structure 120 in multiple stages.
  • the first chip stack 120 and the second chip stack 130 may be provided with a connection adhesive layer 191 having a predetermined thickness interposed between the second semiconductor chips on the top layer among the plurality of second semiconductor chips 131.
  • connection adhesive layer 191 is illustrated and described as being provided on the upper surface of the uppermost first semiconductor chip 121 of the first chip laminate 120, but the present invention is not limited thereto. ) May be provided on the uppermost second semiconductor chip 131.
  • connection adhesive layer 191 may be provided with a double-sided tape having a predetermined thickness attached to the outer surface of the semiconductor chip or an adhesive applied to the outer surface of the semiconductor chip with a predetermined thickness.
  • first and second conductive wires together with the first chip stacked body 120, the second chip stacked body 130, and the connecting substrate 113.
  • Forming a package form by providing a mold portion 160 wrapped using a resin encapsulant such as an epoxy molding compound to protect the 140 and 150 from external environmental damage such as physical damage and corrosion. do.
  • connection substrate 160 may be embedded in the mold part 160 so as not to be exposed to the outside, and each lower surface of the first substrate 111 and the second substrate 112 may be formed in the mold part 160. It is preferable that the external terminal is provided to expose the external terminal.
  • the first chip stacked structure 120a provided on the first substrate 111 and the second chip stacked structure 130b provided on the second substrate 112 are illustrated in FIG. 2.
  • the plurality of first semiconductor chips 121 and the second semiconductor chip 131 may be stacked one by one, and may be provided in a protruding stacked structure in which one side end and the other end are laminated in multiple stages so as to alternately protrude from both left and right sides.
  • the plurality of first semiconductor chips 121 and the second semiconductor chips 131 are alternately exposed to the left and right sides while being laminated in a protruding laminated structure through the adhesive layers 125 and 135 having a predetermined thickness.
  • the first and second bonding pads 122 and 132 are stacked in a plurality of steps in order to expose the first and second bonding pads 122 and 132 through the face.
  • the first and second bonding pads 122 and 132 may have left and right sides of the first and second chip stacks 120a and 130a of the first and second substrates 111 and 112 via the first and second conductive wires 140 and 150. Wire-bonded with the connection pads 111a and 112a formed on the respective surfaces.
  • first and second semiconductor chips stacked on the first and second chip stacked structures 120, 120a, 130, and 130a, respectively is illustrated and described as being stacked with the same semiconductor chip, but is not limited thereto. Can be stacked in multiple stages.
  • first conductive wire 140 wire-bonded with the connection pad 111a of the first substrate 111 or the second conductive wire 150 wire-bonded with the connection pad 112a of the second column 112.
  • single wire members 141 and 151 simultaneously wire-bond between the connection pads 111a 112a and the plurality of first semiconductor chips 121 or the plurality of second semiconductor chips 131. It may be made of.
  • one end of the first and second conductive wires 140 and 150 is wire-bonded to the bonding pad of the semiconductor chip of the uppermost layer of the plurality of first and second semiconductor chips 121 and 131 constituting the first and second chip stacked bodies.
  • the other end is wire-bonded to each of the connection pads 111a and 112a of the first and second substrates 111 and 112, and is continuously connected to the bonding pad of the semiconductor chip of the lower layer by a wire bonding jig that generates heat when power is applied.
  • the wire bonding is made of a single wire member (141, 151).
  • the compact height of the package can be reduced. This can reduce wire usage and wire bonding processes.
  • the first conductive wire 140 wire-bonded with the first connection pad 111 or the second conductive wire 150 wire-bonded with the connection pad 112 may include a first wire.
  • a plurality of wire members 142 and 152 which individually wire-bond between the connection pads 111a and 112a formed on the second substrates 111 and 112 and the plurality of first semiconductor chips 121 or the plurality of second semiconductor chips 131. Can be done.
  • first and second conductive wires 140 and 150 may be connected to the first and second bonding pads 122 and 132 of the plurality of first and second semiconductor chips 121 and 131 constituting the first and second chip stacked bodies 120 and 130, respectively.
  • One end is wire-bonded, and then a plurality of wire members 142 and 152 are wire-bonded at the other end to the connection pad 111a of the first substrate 111 and the connection pad 112a of the second substrate.
  • first conductive wire 140 and the second conductive wire 150 is shown and described as a single wire member 141, 151 or a plurality of wire members 142, 152 with the same type of wire bonding method, but is limited thereto.
  • One of the first and second conductive wires may be wire-bonded to a single wire member 141 and 151, and the remaining wires may be wire-bonded to a plurality of wire members 142 and 152 to be provided in different types of wire bonding methods.
  • FIGS. when the first chip stacked body 120 and the second chip stacked body 130 have a cascade stacked structure in which a plurality of semiconductor chips 121 and 131 are stacked in a stepped shape inclined to one side, FIGS. As shown in FIG. 3, the first substrate 111 or the second substrate 112 corresponding to the downface surface exposed to the lower portion of the first semiconductor chip 121 or the second semiconductor chip 131 may be provided.
  • An electronic component 170 such as a controller may be mounted via the third conductive wire 172.
  • the electronic component 170 is a space formed between the first chip stacked structure 120 and the first substrate 111 stacked in a cascade stacked structure or the second stacked structure 130 stacked in a cascade stacked structure. ) By wire bonding the third conductive wire 172 into a space formed between the second substrate 112 and the second substrate 112 to increase the space utilization of the package having a limited volume, thereby miniaturizing the package.
  • the electronic component 170 is illustrated and described as being wire bonded to the first substrate 111 or the second substrate 112 via the third conductive wire 172, but is not limited thereto and may be flip bonded. have.
  • the first substrate 111 or the second substrate 112 includes at least one support 116.
  • the support 116 is a lower portion of any other semiconductor chip among the plurality of first and second semiconductor chips stacked on the first and second semiconductor chips 121 and 131 of the lowest layer mounted on the first and second substrates 111 and 112. It is made of a pillar member disposed on the outside of the first and second substrates 111 and 112 so that the upper end is in contact with the surface.
  • the support 116 is made of an elastic material such as a resin material so as to elastically support the eccentric loads of the first and second chip stacks 120 stacked in a stepped manner to be inclined toward one side, or generated in the chip when the semiconductor chip is driven. It may be made of a thermally conductive material such as aluminum and copper having excellent thermal conductivity to guide the heat to the first and second substrates 111 and 112.
  • the support 116 forms a predetermined size space between the first substrate 111 and the second chip stacked body 120 and between the second substrate 112 and the second chip stacked body 130.
  • the first and second substrates 111 and 112 may be provided to have the same length as that of the downface surface of the first and second semiconductor chips 121 and 131 that are exposed to the outside.
  • first chip stacked body 120 and the second chip stacked body 130 may be formed on one of the plurality of first and second semiconductor chips 121 and 131 protruding outwardly by the support 116.
  • An electronic component 170 such as a controller may be mounted on the exposed upface surface through the third conductive wire 172.
  • the electronic component 170 may be exposed to an exposed area of an up-face surface on which the first and second bonding pads 122 and 132 are provided by protruding a predetermined length outward from the first and second chip stacked bodies 120 and 130 in a direction away from the first and second chip stacked bodies 120 and 130. This can be increased so that it can be mounted.
  • the electronic component 170 is illustrated and described as being wire-bonded to the up-face surfaces of the first and second semiconductor chips 121 through the third conductive wire 172, but is not limited thereto. It may be.
  • the junction part 190 is formed of a resin material on the first substrate 111 so as to protect the first chip stacked body 120 and 120a from an external environment.
  • a predetermined thickness interposed between the molding unit 161 and the second molding unit 161 formed of a resin material on the second substrate 112 to protect the second chip laminates 130 and 130a from the external environment.
  • the first molding part 161 is used as a lower structure
  • the second molding part 162 including the second chip laminates 130 and 130a mounted on the second substrate 112 is used as an upper structure to integrally bond them. will be.
  • connection adhesive layer 191 is illustrated and described as being provided on the upper surface of the first molding part 161, but is not limited thereto and may be provided on the upper surface of the second molding part 130.
  • the connecting substrate 113 connecting the first substrate 111 and the second substrate 112 to the outside of one side of the first and second molding parts 161 and 162 after vertically bonding between the first and second molding parts 161 and 162.
  • the exposed and externally exposed connection board 113 is formed of a resin material to protect the connection board 113 from the external environment in a state where the first molding part 161 and the second molding part 162 are joined up and down.
  • the third molding part 163 is integrally connected to the first and second molding parts 161 and 162 by a molding process.
  • the first molding part 161 is formed to surround and protect the first chip stacked body 120 and 120a and the first conductive wire 140 between the first substrate 111 and the second substrate 112.
  • a second molding part 162 formed to surround and protect the second chip laminates 130 and 130a and the second conductive wire 150, and a second molding formed to surround and protect the connection substrate 113.
  • the molding unit 160 having a portion 163 is configured to form one package form.

Abstract

적층형 반도체 패키지를 제공한다. 본 발명은 접속패드를 갖는 제1기판과 접속패드를 갖는 제2기판사이를 전기적으로 연결하는 연결기판을 구비하는 기판부; 상기 제1기판상에 복수개의 제1반도체칩이 다단으로 적층되는 제1칩적층체; 상기 제2기판상에 복수개의 제2반도체칩이 다단으로 적층되는 제2칩적층체; 상기 제1반도체칩의 제1본딩패드와 상기 제1기판의 접속패드를 전기적으로 연결하는 제1도전성 와이어; 상기 제2반도체칩의 제2본딩패드와 상기 제2기판의 접속패드를 전기적으로 연결하는 제2도전성 와이어; 및 상기 제1집적층체의 최상층 제1반도체칩과 상기 제2칩적층체의 최상층 제2반도체칩사이에 개재되는 일정두께의 연결접착층을 갖추어 상기 제1칩적층체와 제2칩적층체를 상하 적층하여 접합하는 접합부를 포함한다.

Description

적층형 반도체 패키지
본 발명은 적층형 반도체 패키지에 관한 것으로, 더욱 상세히는 몰딩부의 여유높이를 근본적으로 배제하여 패키지의 경박단소를 가능하게 하고, 와이어 본딩시 외력에 의한 칩 유동을 최소화하고, 크랙을 방지하고, 와이어본딩시 사용되는 와이어 사용량 및 와이어 본딩시 소요되는 작업시간을 줄일 수 있는 한편, 제한된 탑재공간을 최대한 활용하여 패키지 제품의 크기 및 부피를 줄일 수 있는 적층형 반도체 패키지에 관한 것이다.
최근의 반도체 산업 발전 그리고 사용자의 다양한 요구에 따라 전자기기는 더욱 더 소형화, 경량화, 고용량화 및 다기능화되고 있는 실정이며, 이러한 전자기에 채용되는 반도체 칩을 패키징하는 기술은 이러한 요구에 따라 동일 또는 이종의 반도체 칩들을 하나의 단위 패키지로 구현하는 것이다.
반도체 패키지의 사이즈가 반도체 칩(chip) 또는 다이(die) 사이즈의 약 110% 내지 120%에 불과한 칩 스케일 패키지(chipscale package) 및 반도체 소자의 데이터 용량 및 처리 속도를 향상시키기 위해서 복수 개의 반도체 칩들을 상호적층 시킨 적층형 반도체 패키지(stacked semiconductor package) 등이 개발되고 있다.
복수개의 반도체 칩들을 적층한 적층형 반도체 패키지의 경우, 적층된 반도체 칩들의 본딩패드 및 기판의 접속패드를 도전성 와이어로 연결하는 고도의 기술이 요구된다.
이에 따라, 보다 많은 반도체 칩들을 제한된 공간에서 적층하여 데이터 용량 및 처리 속도를 향상시기 위해서 반도체 칩의 두께는 점차 얇아지고 있으며, 이 결과 최근 반도체 칩은 50 ㎛ 내지 100 ㎛에 불과한 두께를 갖는다.
도 7은 종래기술에 따른 적층형 반도체 패키지를 도시한 구성도로서, 종래의 적층형 반도체 패키지(1)는 기판(10)상에 복수개의 반도체 칩(21)을 계단형으로 경사지게 다단으로 적층하여 본딩패드(22)가 칩상단 일측에 외부노출되는 제1캐스캐이드 칩적층체(20)를 구비하고, 상기 제1캐스케이드 칩적층체(20) 상에 반대방향으로 복수개의 반도체 칩(31)을 계단형으로 경사지게 다단으로 적층하여 본딩패드(32)가 칩상단 타측에 외부노출되는 제2캐스캐이드 칩적층체(30)를 구비한 다음, 상기 제1,2캐스캐이드 칩적층체(20,30)의 각 반도체칩(21,31)에 구비되는 각각의 본딩패드(22,32)는 상기 기판(10)의 상부면에 구비된 접속패드(12,13)와 복수개의 도전성 와이어(23,33)를 매개로 하여 와이어본딩되는 한편, 상기 기판(10)상에 수지재로 성형되는 몰딩부(50)를 구비한다.
도 5에서 미설명 부호 14는 기판 하부면에 구비되는 솔더볼이다.
그러나, 이러한 종래의 적층형 반도체 패키지(1)는 최상층의 반도체칩과 기판사이를 연결하는 도전성 와이어의 루프를 포함하도록 몰딩부(50)를 성형하는 과정에서 상기 최상층의 반도체칩(31)과 상기 몰딩부(50)의 상부면사이에는 2 내지 300㎛의 여유높이(h)를 확보해만 하기 때문에 이러한 여유높이에 의해서 패키지의 크기 및 부피를 줄여 소형화설계하는데 한계가 있었다.
또한, 상기 제1캐스캐이드 칩적층체(20)상에 다단으로 경사진 계단형으로 적층된 반도체칩(31)의 본딩패드(32)를 접속패드(13)에 도전성 와이어(33)를 매개로 본딩하는 과정에서 칩상단 일측에 노출된 본딩패드(32)에 외력이 가해지면 도면상 좌측으로 돌출된 제1캐스캐이드 칩적층체(20)를 하부에서 지지하는 구조물이 없기 때문에 본딩작업시 바운싱(bouncing)을 유발하여 정밀한 와이어본딩 작업을 곤란하게 하고, 본딩불량을 유발하는 한편, 적층된 반도체칩들간의 접착층(25,35)에 크랙을 유발할 수 있다.
그리고, 각각의 본딩패드(22,32)와 접속패드(12,13)사이를 복수개의 도전성 와이어(23,33)를 매개로 와이어본딩해야만 하기 때문에 와이어 사용량 및 본딩작업시간이 과다하게 소요되어 제조원가를 상승시키는 요인으로 작용할 뿐만 아니라 몰딩시 와이어본딩된 도전성 와이어의 휩쓸림(sweeping)에 기인하는 루프(loop)간 쇼트에 의하여 제품불량을 초래하였다.
또한, 상기 제1캐스캐이드 칩적층체(20)에 근접하여 콘트롤러와 같은 전자부품(40)을 탑재하고자 경우, 상기 반도체칩(21)과 접속패드(12)사이를 와이어본딩하는 도전성 와이어의 본딩영역에 의해서 전자부품의 탑재영역이 기판의 외측에 배치되어야만 하기 때문에 패키지의 크기 및 부피를 줄여 소형화 설계하는데 한계가 있었다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 몰딩부의 여유높이를 근본적으로 배제하여 패키지의 경박단소를 가능하게 하고, 와이어 본딩시 외력에 의한 칩 유동을 최소화하고, 크랙을 방지하고, 와이어본딩시 사용되는 와이어 사용량 및 와이어 본딩시 소요되는 작업시간을 줄일 수 있는 한편, 제한된 탑재공간을 최대한 활용하여 패키지 제품의 크기 및 부피를 줄일 수 있는 적층형 반도체 패키지를 제공하고자 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 구체적인 수단으로서 본 발명은, 접속패드를 갖는 제1기판과 접속패드를 갖는 제2기판사이를 전기적으로 연결하는 연결기판을 구비하는 기판부 ; 상기 제1기판상에 복수개의 제1반도체칩이 다단으로 적층되는 제1칩적층체 ; 상기 제2기판상에 복수개의 제2반도체칩이 다단으로 적층되는 제2칩적층체 ; 상기 제1반도체칩의 제1본딩패드와 상기 제1기판의 접속패드를 전기적으로 연결하는 제1도전성 와이어; 상기 제2반도체칩의 제2본딩패드와 상기 제2기판의 접속패드를 전기적으로 연결하는 제2도전성 와이어; 및 상기 제1집적층체의 최상층 제1반도체칩과 상기 제2칩적층체의 최상층 제2반도체칩사이에 개재되는 일정두께의 연결접착층을 갖추어 상기 제1칩적층체와 제2칩적층체를 상하 적층하여 접합하는 접합부를 포함하는 적층형 반도체 패키지를 제공한다.
또한, 본 발명은 접속패드를 갖는 제1기판과 접속패드를 갖는 제2기판사이를 전기적으로 연결하는 연결기판을 구비하는 기판부 ; 상기 제1기판상에 복수개의 제1반도체칩이 다단으로 적층되는 제1칩적층체 ; 상기 제2기판상에 복수개의 제2반도체칩이 다단으로 적층되는 제2칩적층체 ; 상기 제1반도체칩의 제1본딩패드와 상기 제1기판의 접속패드를 전기적으로 연결하는 제1도전성 와이어; 상기 제2반도체칩의 제2본딩패드와 상기 제2기판의 접속패드를 전기적으로 연결하는 제2도전성 와이어; 및 상기 제1칩적층체를 내장하도록 수지재로 성형하는 제1몰딩부의 상부면과 상기 제2칩적층체를 내장하도록 수지재로 성형하는 제2몰딩부의 하부면사이에 개재되는 일정두께의 연결접착층을 갖추어 상기 제1몰딩부와 제2몰딩부를 상하 적층하여 접합하는 접합부를 포함하는 적층형 반도체 패키지를 제공한다.
바람직하게, 상기 연결기판은 굴곡변형이 가능한 플렉시블기판으로 구비된다.
바람직하게, 상기 제1칩적층체 또는 제2칩적층체는 복수개의 반도체칩이 계단형태로 일측으로 경사지게 다단적층되는 캐스캐이드형 적층구조로 구비되거나 복수개의 반도체칩이 좌우양측으로 교대로 돌출되도록 다단 적층되는 돌출형 적층구조로 구비된다.
바람직하게, 상기 제1도전성 와이어 또는 제2도전성 와이어는 상기 제1기판또는 제2기판의 접속패드와 복수개의 제1반도체칩 또는 복수개의 제2반도체칩사이를 동시에 와이어본딩하는 단일 와이어로 이루어진다.
바람직하게, 상기 제1도전성 와이어 또는 제2도전성 와이어는 제1기판 또는 제2기판의 접속패드와 복수개의 제1반도체칩 또는 복수개의 제2반도체칩사이를 개별적으로 와이어본딩하는 복수개의 와이어로 이루어진다.
바람직하게, 상기 제1기판 또는 제2기판은 상기 제1반도체칩 또는 제2반도체칩의 하부로 노출되는 다운페이스면과 대응하는 영역에 적어도 하나의 전자부품을 탑재한다.
더욱 바람직하게 상기 전자부품은 상기 제1기판 또는 제2기판에 와이어본딩되거나 플립본딩된다
바람직하게, 상기 제1기판 또는 제2기판은 적어도 하나의 지지대를 포함하고, 상기 지지대는 상기 제1기판 또는 제2기판상에 탑재되는 최하층의 제1반도체칩 또는 제2반도체칩상에 적층된 다른 제1반도체칩에 상단이 지지된다.
더욱 바람직하게, 상기 지지대는 탄성소재로 이루어지거나 열전도성 소재로 이루어진다.
바람직하게, 상기 제1기판과 제2기판사이에는 상기 제1칩적층체와 제2칩적층체 및 연결기판을 외부환경으로부터 보호하는 몰딩부를 포함한다.
바람직하게, 상기 제1기판과 제2기판사이에는 상기 제1몰딩부와 제2몰딩부와 일체로 연결되어 상기 연결기판을 외부환경으로부터 보호하는 제3몰딩부를 포함하는 몰딩부를 포함한다.
더욱 바람직하게, 상기 연결기판은 적어도 하나의 관통홀을 관통형성한다.
본 발명에 의하면, 연결기판을 매개로 전기적으로 연결되는 제1기판과 제2기판상에 제1칩적층체와 제2칩적층체를 각각 구비하고, 복수개의 제1,2반도체칩을 제1,2도전성 와이어를 매개로 와이어본딩하고, 제1집적층체의 최상층 제1반도체칩과 제2칩적층체의 최상층 제2반도체칩사이에 개재되는 일정두께의 연결접착층을 매개로 제1칩적층체와 제2칩적층체를 상하 적층하여 접합함으로써, 패키지의 상부영역에 몰딩부의 여유높이를 확보할 필요없이 패키지를 제조할 수 있기 때문에 패키지의 부피를 줄여 패키지를 보다 소형화할 수 있다.
또한, 복수개의 반도체칩과 기판간의 와이어본딩을 하나의 단일 와이어부재에 의해서 와이어본딩처리함으로써 와이어본딩시 소요되는 와이어 사용량를 줄이고, 와이본딩 소요되는 작업시간을 줄여 제조원가를 절감하고, 가격경쟁력을 높일 수 있는 한편, 와이어본딩 루프간의 접촉에 의한 쇼트사고를 미연방지할 수 있다.
그리고, 콘트롤러와 같은 전자부품을 와이어본딩되지 않는 일측 또는 지지부재에 의해서 확보된 반도체 칩상의 여유면적에 탑재할 수 있기 때문에 패키지의 제한된 탑재공간을 최대한 활용하여 패키지 제품의 크기 및 부피를 줄일 수 있는 효과가 얻어진다.
또한, 제1,2칩적층체와 기판사이에 구비되는 지지부재에 의해서 와이어 본딩시 발생하는 외력에 의하여 칩 유동을 최소화할 수 있기 때문에 칩간의 접착부위에서의 크랙발생을 방지하여 제품의 신뢰성 및 품질을 높일 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 적층형 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.
도 2는 본 발명의 제2실시예에 따른 적층형 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 제3실시예에 따른 적층형 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제4실시예에 따른 적층형 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.
도 5는 본 발명의 제3실시예에 따른 적층형 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.
도 6은 본 발명의 제4실시예에 따른 적층형 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.
도 7은 종래기술에 따른 적층형 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.
본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 첨부된 도면을 따라 더욱 상세히 설명한다.
본 발명의 제1실시예에 따른 적층형 반도체 패키지(100)는 도 1에 도시한 바와 같이, 기판부(110), 제1칩적층체(120), 제2칩적층체(130), 제1도전성 와이어(140), 제2도전성 와이어(150) 및 접합부(190)를 포함한다.
상기 기판부(110)는 제1기판(111), 제2기판(112) 및 이들을 전기적으로 연결하는 연결기판(113)을 포함한다.
상기 제1기판(111)은 상기 제1도전성 와이어(140)의 단부와 와이어본딩되는 접속패드(111a)를 상부면에 구비하고, 하부면에는 솔더볼(115)이 형성되도록 볼랜드와 같은 외부단자(111b)를 구비한다.
이에 따라, 상기 제1기판(111)은 외부단자(111b)상에 도포되는 솔더볼(115)을 매개로 메인기판상에 탑재할 수 있다.
상기 제2기판(112)은 상기 제1기판과 마찬가지로 제2도전성 와이어(150)의 단부와 와이어본딩되는 접속패드(112a)를 구비한다.
여기서, 상기 외부단자(111b)는 상기 제1기판의 하부면에 형성되는 것으로 도시하고 설명하였지만 이에 한정되는 것은 아니며 상기 제2기판의 하부면에 형성될수 도 있다.
상기 연결기판(113)은 상기 제1기판(111)과 제2기판(112)사이를 전기적으로 연결하는 일정길이의 기판부재로 이루어지며, 이러한 연결기판(113)은 상기 제1칩적층체(120)와 제2칩적층체(130)간의 상하적층시 자유로운 굴곡변형이 가능하도록 플렉시블 기판으로 구비되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 연결기판(113)에는 몰딩부의 성형시 수지재의 유출입이 원활하도록 적어도 하나 이상의 관통공(113a)을 관통형성하는 것이 바람직하다.
여기서, 상기 제1기판(111)과 제2기판(112)은 상부면에 패턴회로가 인쇄되고, 하부면에 미도시된 메인기판과의 전기적인 연결을 위해서 볼랜드상에 솔더볼(115)을 각각 구비하여 이를 매개로 메인기판상에 탑재할 수 있는 인쇄회로기판으로 구비될 수 있다.
상기 제1칩적층체(120)는 상기 제1기판(111)상에 적어도 2개 이상 다단으로 적층되어 탑재되는 복수개의 제1반도체칩(121)을 포함하고, 이러한 복수개의 제1반도체칩(121)은 계단형태로 도면상 우측인 일측으로 경사지게 다단 적층되는 캐스캐이드형 적층구조로 구비될 수 있다.
이에 따라, 상기 복수개의 제1반도체칩(121)은 일정두께의 접착층(125)을 매개로 하여 상단 일측으로 노출된 업페이스면을 통하여 제1본딩패드(122)를 외부노출시키도록 계단형으로 다단 적층된다.
상기 제2칩적층체(130)는 상기 제1칩적층체(120)와 마찬가지로 상기 제2기판(112)상에 적어도 2개 이상 다단으로 적층되어 탑재되는 복수개의 제2반도체칩(131)을 포함하고, 이러한 복수개의 제2반도체칩(131)은 계단형태로 도면상 우측인 일측으로 경사지게 다단 적층되는 캐스캐이드형 적층구조로 구비될 수 있다.
이에 따라, 상기 복수개의 제2반도체칩(131)은 일정두께의 접착층(135)을 매개로 하여 상단 일측으로 노출된 업페이스면을 통하여 제2본딩패드(132)를 외부노출시키도록 계단형으로 다단 적층된다.
여기서, 상기 제1칩적층체(120) 및 제2칩적층체(130)는 복수개의 제1반도체칩(121)과 제2반도체칩(131)이 동일한 방향으로 경사진 계단형태의 캐스캐이드 적층구조로 구비되는 것으로 도시하였지만 이에 한정되는 것은 아니며 서로 다른 방향의 적층구조로 구비될 수 있다.
상기 제1,2 반도체칩(121)(131)은 패키지가 적용되는 세트기기에 따라 SRAM, DRAM과 같은 메모리 칩, 디지탈집적회로칩, RF집적회로칩 및 베이스밴드칩중 어느 하나로 구비될 수 있다.
상기 제1도전성 와이어(140)는 상기 제1 칩적층체(120)를 구성하는 제1반도체칩(121)을 제1기판(110)과 전기적으로 연결하도록 상기 제1반도체칩(121)의 상단 일측의 업페이스면에 외부노출되는 제1본딩패드(122)와 상기 제1기판(111)의 상부면에 형성된 접속패드(111a)와의 사이에 본딩연결되는 일정길이의 와어이부재로 이루어진다.
상기 제2도전성 와이어(150)는 상기 제2칩적층체(130)를 구성하는 제2반도체칩(131)을 제2기판(112)과 전기적으로 연결하도록 상기 제2반도체칩(121)의 상단 일측의 업페이스면에 외부노출되는 제2본딩패드(132)와 상기 제2기판(112)의 상부면에 형성된 제2접속패드(112a)와의 사이에 본딩연결되는 일정길이의 와어이부재로 이루어진다.
상기 접합부(190)는 상기 제1칩적층체(120)에 다단으로 적층되는 복수개의 제1반도체칩(121)중 최상층의 제1반도체칩과 상기 제2칩적층체(130)에 다단으로 적층되는 복수개의 제2반도체칩(131) 중 최상층의 제2반도체칩사이에 개재되는 일정두께의 연결접착층(191)을 갖추어 상기 제1칩적층체(120)와 제2칩적층체(130)를 상하 접합함으로써 상기 제1기판(111)에 탑재된 제1칩적층체(120)를 하부구조물로 하고 제2기판(112)에 탑재된 제2칩적층체(130)를 상부구조물로 하여 이들을 일체로 접합하는 것이다.
여기서, 상기 연결접착층(191)은 제1칩적층체(120)의 최상층 제1반도체칩(121)의 상부면에 구비되는 것으로 도시하고 설명하였지만 이에 한정되는 것은 아니며 상기 제2칩적층체(130)의 최상층 제2반도체칩(131)상에 구비될 수도 있다.
상기 연결접착층(191)은 반도체칩의 외부면에 부착되는 일정두께의 양면테이프 또는 반도체칩의 외부면에 일정두께로 도포되는 접착제로 구비될 수 있다.
또한, 상기 제1기판(111)과 제2기판(112)사이에는 상기 제1칩적층체(120),제2칩적층체(130) 및 연결기판(113)과 더불어 제1,2도전성 와이어(140,150)를 외부의 물리적 손상 및 부식과 같은 외부환경으로부터 보호할 수 있도록 에폭시 성형 수지(Epoxy Molding Compound)와 같은 수지봉지재를 이용하여 감싸는 몰드부(160)를 구비함으로써 하나의 패키지형태를 구성한다.
이때, 상기 연결기판(160)은 상기 몰드부(160)내에 외부노출되지 않도록 매입되는 것이 바람직하며, 상기 제1기판(111)과 제2기판(112)의 각 하부면은 상기 몰드부(160)를 통하여 외부단자를 외부노출시킬 수 있도록 구비되는 것이 바람직하다.
한편, 상기 제1기판(111)상에 구비되는 제1칩적층체(120a)와 상기 제2기판(112)상에 구비되는 제2칩적층체(130b)는 도 2에 도시한 바와 같이, 복수개의 제1반도체칩(121)과 제2반도체칩(131)이 한층씩 적층되면서 일측단과 타측단이 좌우 양측으로 교대로 돌출되도록 다단 적층되는 돌출형 적층구조로 구비될 수도 있다.
이에 따라, 상기 복수개의 제1반도체칩(121)과 제2반도체칩(131)은 일정두께의 접착층(125)(135)을 매개로 하여 돌출형 적층구조로 적층되면서 좌우양측으로 번갈아 노출된 업페이스면을 통하여 제1,2본딩패드(122)(132)를 외부노출시키도록 계단형으로 다단 적층된다.
상기 제1,2본딩패드(122)(132)는 제1,2도전성 와이어(140,150)를 매개로 상기 제1,2기판(111,112)의 제1,2칩적층체(120a,130a) 좌우양측에 형성된 접속패드(111a,112a)와 각각 와이어본딩된다.
여기서, 상기 제1,2칩적층체(120,120a,130,130a)에 각각 적층되는 제1,2반도체칩의 적층수는 동일한 반도체칩으로 적층되는 것으로 도시하고 설명하였지만 이에 한정되는 것은 아니며 서로 다른 적층수로 다단 적층될 수 있다.
한편, 상기 제1기판(111)의 접속패드(111a)와 와이어본딩되는 제1도전성 와이어(140) 또는 상기 제2기란(112)의 접속패드(112a)와 와이어본딩되는 제2도전성 와이어(150)는 도 1에 도시한 바와 같이, 상기 각 접속패드(111a 112a)와 복수개의 제1반도체칩(121) 또는 복수개의 제2반도체칩(131)사이를 동시에 와이어본딩하는 단일 와이어부재(141,151)로 이루어질 수 있다.
즉, 상기 제1,2도전성 와이어(140,150)는 상기 제1,2칩적층체를 구성하는 복수개의 제1,2반도체칩(121,131) 중 최상층의 반도체칩의 본딩패드에 일단이 와이어본딩되고, 상기 제1,2기판(111,112)의 각 접속패드(111a,112a)에 타단이 와이어본딩된 다음, 전원인가시 열을 발생시키는 와이어본딩지그에 의해서 길이중간이 아래층의 반도체칩의 본딩패드에 연속하여 와이어본딩되는 단일 와이어부재(141,151)로 이루어지는 것이다.
이러한 경우, 상기 제1,2기판(111,112)과 제1,2반도체칩(121,131)사이를 와이어본딩하는 제1,2도전성 와이어의 루프높이를 낮추어 패키지의 전체높이를 줄여 소형화 설계를 가능하게 함은 물른 와이어사용량 및 와이어본딩 공정을 줄일 수 있는 것이다.
또한, 상기 제1접속패드(111)와 와이어본딩되는 제1도전성 와이어(140) 또는 상기 접속패드(112)와 와이어본딩되는 제2도전성 와이어(150)는 도 3에 도시한 바와 같이, 제1,2기판(111,112)에 형성된 접속패드(111a,112a)와 복수개의 제1반도체칩 (121)또는 복수개의 제2반도체칩(131)사이를 개별적으로 와이어본딩하는 복수개의 와이어부재(142,152)로 이루어질 수 있다.
즉, 상기 제1,2도전성 와이어(140,150)는 상기 제1,2칩적층체(120,130)를 구성하는 복수개의 제1,2반도체칩(121,131)의 각 제1,2본딩패드(122,132)에 일단이 와이어본딩된 다음 상기 제1기판(111)의 접속패드(111a)와 제2기판의 접속패드(112a)에 타단이 와이어본딩되는 복수개의 와이어부재(142,152)로 이루어지는 것이다.
여기서, 상기 제1도전성 와이어(140)와 제2도전성 와이어(150)는 단일 와이어부재(141,151) 또는 복수개의 와이어부재(142,152)로 동일한 형태의 와이어본딩방식으로 구비되는 것으로 도시하고 설명하였지만 이에 한정되는 것은 아니며 제1,2도전성 와이어 중 어느 하나는 단일 와이어부재(141,151)로 와이어본딩되고, 나머지는 복수개의 와이어부재(142,152)로 와이어본딩되어 서로 다른 형태의 와이어본딩방식으로 구비될 수 있다.
그리고, 상기 제1칩적층체(120)와 제2칩적층체(130)가 복수개의 반도체칩(121,131)을 일측으로 경사진 계단형으로 적층되는 캐스캐이드 적층구조로 이루어지는 경우, 도 1 과 도 3에 도시한 바와 같이, 상기 제1반도체칩(121) 또는 제2반도체칩(131)의 하부로 노출디는 다운페이스면과 대응하는 제1기판(111) 또는 제2기판(112)에는 제3도전성 와이어(172)를 매개로 콘트롤러와 같은 전자부품(170)을 탑재할 수 있다.
이러한 전자부품(170)은 캐스캐이드 적층구조로 적층되는 제1칩적층체(120) 와 제1기판(111)사이에 형성되는 공간 또는 캐스캐이드 적층구조로 적층되는 제2적층체(130)와 제2기판(112)사이에 형성되는 공간에 제3도전성와이어(172)를 매개로 와이어본딩됨으로써 제한된 부피를 갖는 패키지의 공간활용도를 높여 패키지의 소형화를 도모할 수 있다.
여기서, 상기 전자부품(170)은 제1기판(111) 또는 제2기판(112)에 제3도전성 와이어(172)를 매개로 와이어본딩되는 것으로 도시하고 설명하였지만 이에 한정되는 것은 아니며 플립본딩될 수도 있다.
또한, 상기 제1칩적층체(120)와 제2칩적층체(130)가 복수개의 반도체칩(121,131)을 일측으로 경사진 계단형으로 적층되는 캐스캐이드 적층구조로 이루어지는 경우, 도 4에 도시한 바와 같이, 상기 제1기판(111) 또는 제2기판(112)은 적어도 하나의 지지대(116)를 포함한다.
이러한 지지대(116)는 상기 제1,2기판(111,112)에 탑재되는 최하층의 제1,2반도체칩(121,131))상에 적층되는 복수개의 제1,2반도체칩중 어느 하나의 다른 반도체칩 하부면에 상단이 접하도록 상기 제1,2기판(111,112)의 외측에 배치되는 기둥부재로 이루어진다.
상기 지지대(116)는 일측으로 경사지게 계단형으로 적층된 제1,2칩적층체(120)의 편심하중을 탄력적으로 지지하도록 수지물과 같은 탄성소재로 이루어지거나 반도체칩의 구동시 칩에서 발생하는 열을 제1,2기판(111,112)으로 방출안내하도록 열전도성이 우수한 알루미늄, 구리와 같은 열전도성 소재로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 지지대(116)는 상기 제1기판(111)과 제2칩적층체(120)사이 그리고 상기 제2기판(112)과 제2칩적층체(130)사이에 일정크기의 공간을 형성하도록 상기 제1,2기판(111,112))과 대응하여 외부노출되는 제1,2반도체칩(121,131)의 다운페이스면과 대응하는 길이보다 상대적으로 짧은 길이로 구비되거나 상기 공간을 지지대에 의해서 채워지도록 상기 제1,2기판(111,112))과 대응하여 외부노출되는 제1,2반도체칩(121,131))의 다운페이스면과 대응하는 길이와 동일한 길이로 구비될 수도 있다.
한편, 상기 제1칩적층체(120)와 제2칩적층체(130)에는 상기 지지대(116)에 의해서 외측으로 돌출되는 복수개의 제1,2반도체칩(121,131) 중 어느 하나의 칩상부로 노출되는 업페이스면에 제3도전성 와이어(172)를 매개로 콘트롤러와 같은 전자부품(170)을 탑재할 수 있다.
이는 상기 지지대(116)에 일단부가 지지되는 제1,2반도체칩(121,131)의 하부에 적층되는 최하층을 포함하는 제1,2반도체칩(121,131)을 상기 지지대(116)의 지지력에 의해서 상기 지지대로부터 멀어지는 방향으로 상기 제1,2칩적층체(120,130)로부터 외측으로 일정길이 돌출시킴으로써, 상기 제1,2본딩패드(122,132)가 구비되는 업페이스면의 노출면적을 상기 전자부품(170)을 탑재할 수 있도록 증대시킬 수 있기 때문이다.
여기서, 상기 전자부품(170)은 상기 제1,2반도체칩(121)의 업페이스면에 제3도전성 와이어(172)를 매개로 와이어본딩되는 것으로 도시하고 설명하였지만 이에 한정되는 것은 아니며 플립본딩될 수도 있다.
한편, 상기 접합부(190)는 도 5와 도 6에 도시한 바와 같이, 상기 제1칩적층체(120,120a)를 외부환경으로부터 보호하도록 제1기판(111)상에 수지재로 성형되는 제1몰딩부(161)와, 상기 제2칩적층체(130,130a)를 외부환경으로부터 보호하도록 제2기판(112)상에 수지재로 성형되는 제2몰딩부(161)사이에 개재되는 일정두께의 연결접착층(191)을 갖추어 상기 제1몰딩부(161)와 제2몰딩부(162)를 상하 접합함으로써 상기 제1기판(111)에 탑재된 제1칩적층체(120,120a))를 포함하는 제1몰딩부(161)를 하부구조물로 하고 제2기판(112)에 탑재된 제2칩적층체(130,130a)를 포함하는 제2몰딩부(162)를 상부구조물로 하여 이들을 일체로 접합하는 것이다.
여기서, 상기 연결접착층(191)은 제1몰딩부(161)의 상부면에 구비되는 것으로 도시하고 설명하였지만 이에 한정되는 것은 아니며 상기 제2몰딩부(130)의 상부면에 구비될 수도 있다.
상기 제1,2몰딩부(161,162)간의 상하접합후 제1기판(111)과 제2기판(112)을 연결하는 연결기판(113)은 제1,2몰딩부(161,162)의 일측에 외부로 노출되고, 외부노출되는 연결기판(113)은 상기 제1몰딩부(161)와 제2몰딩부(162)가 상하접합한 상태에서 상기 연결기판(113)을 외부환경으로부터 보호하도록 수지재로 성형하는 성형공정에 의해서 상기 제1,2몰딩부(161,162)와 일체로 연결되는 제3몰딩부(163)를 성형한다.
이에 따라, 상기 제1기판(111)과 제2기판(112)사이에는 상기 제1칩적층체(120,120a) 및 제1도전성와이어(140)를 감싸 보호하도록 성형되는 제1몰딩부(161)와, 상기 제2칩적층체(130,130a) 및 제2도전성와이어(150)를 감싸 보호하도록 성형되는 제2몰딩부(162)와, 상기 연결기판(113)을 감싸 보호하도록 성형되는 제2몰딩부(163)로 이루어진 몰딩부(160)를 구비하여 하나의 패키지형태를 구성한다.
본 발명은 특정한 실시예에 관련하여 도시하고 설명하였지만, 이하의 특허청구범위에 의해 마련되는 본 발명의 정신이나 분야를 벗어나지 않는 한도 내에서 본 발명이 다양하게 개조 및 변화될 수 있다는 것을 당업계에서 통상의 지식을 가진 자는 용이하게 알 수 있음을 밝혀두고자 한다.

Claims (13)

  1. 접속패드를 갖는 제1기판과 접속패드를 갖는 제2기판사이를 전기적으로 연결하는 연결기판을 구비하는 기판부 ;
    상기 제1기판상에 복수개의 제1반도체칩이 다단으로 적층되는 제1칩적층체 ;
    상기 제2기판상에 복수개의 제2반도체칩이 다단으로 적층되는 제2칩적층체 ;
    상기 제1반도체칩의 제1본딩패드와 상기 제1기판의 접속패드를 전기적으로 연결하는 제1도전성 와이어;
    상기 제2반도체칩의 제2본딩패드와 상기 제2기판의 접속패드를 전기적으로 연결하는 제2도전성 와이어; 및
    상기 제1칩적층체의 최상층 제1반도체칩과 상기 제2칩적층체의 최상층 제2반도체칩사이에 개재되는 일정두께의 연결접착층을 갖추어 상기 제1칩적층체와 제2칩적층체를 상하 적층하여 접합하는 접합부를 포함하는 적층형 반도체 패키지.
  2. 접속패드를 갖는 제1기판과 접속패드를 갖는 제2기판사이를 전기적으로 연결하는 연결기판을 구비하는 기판부 ;
    상기 제1기판상에 복수개의 제1반도체칩이 다단으로 적층되는 제1칩적층체 ; 상기 제2기판상에 복수개의 제2반도체칩이 다단으로 적층되는 제2칩적층체 ;
    상기 제1반도체칩의 제1본딩패드와 상기 제1기판의 접속패드를 전기적으로 연결하는 제1도전성 와이어;
    상기 제2반도체칩의 제2본딩패드와 상기 제2기판의 접속패드를 전기적으로 연결하는 제2도전성 와이어; 및
    상기 제1칩적층체를 내장하도록 수지재로 성형하는 제1몰딩부의 상부면과 상기 제2칩적층체를 내장하도록 수지재로 성형하는 제2몰딩부의 하부면사이에 개재되는 일정두께의 연결접착층을 갖추어 상기 제1몰딩부와 제2몰딩부를 상하 적층하여 접합하는 접합부를 포함하는 적층형 반도체 패키지.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 연결기판은 굴곡변형이 가능한 플렉시블기판으로 구비됨을 특징으로 하는 적층형 반도체 패키지.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제1칩적층체 또는 제2칩적층체는 복수개의 반도체칩이 계단형태로 일측으로 경사지게 다단적층되는 캐스캐이드형 적층구조로 구비되거나 복수개의 반도체칩이 좌우양측으로 교대로 돌출되도록 다단 적층되는 돌출형 적층구조로 구비됨을 특징으로 하는 적층형 반도체 패키지.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제1도전성 와이어 또는 제2도전성 와이어는 상기 제1기판또는 제2기판의 접속패드와 복수개의 제1반도체칩 또는 복수개의 제2반도체칩사이를 동시에 와이어본딩하는 단일 와이어로 이루어짐을 특징으로 하는 적층형 반도체 패키지.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제1도전성 와이어 또는 제2도전성 와이어는 제1기판 또는 제2기판의 접속패드와 복수개의 제1반도체칩 또는 복수개의 제2반도체칩사이를 개별적으로 와이어본딩하는 복수개의 와이어로 이루어짐을 특징으로 하는 적층형 반도체 패키지.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제1기판 또는 제2기판은 상기 제1반도체칩 또는 제2반도체칩의 하부로 노출되는 다운페이스면과 대응하는 영역에 적어도 하나의 전자부품을 탑재함을 특징으로 하는 적층형 반도체 패키지.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 전자부품은 상기 제1기판 또는 제2기판에 와이어본딩되거나 플립본딩됨을 특징으로 하는 적층형 반도체 패키지.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제1기판 또는 제2기판은 적어도 하나의 지지대를 포함하고,
    상기 지지대는 상기 제1기판 또는 제2기판상에 탑재되는 최하층의 제1반도체칩 또는 제2반도체칩상에 적층된 다른 제1반도체칩에 상단이 지지됨을 특징으로 하는 적층형 반도체 패키지.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 지지대는 탄성소재로 이루어지거나 열전도성 소재로 이루어짐을 특징으로 하는 적층형 반도체 패키지.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 제1기판과 제2기판사이에는 상기 제1칩적층체와 제2칩적층체 및 연결기판을 외부환경으로부터 보호하는 몰딩부를 포함함을 특징으로 하는 적층형 반도체 패키지.
  12. 제2항에 있어서,
    상기 제1기판과 제2기판사이에는 상기 제1몰딩부와 제2몰딩부와 일체로 연결되어 상기 연결기판을 외부환경으로부터 보호하는 제3몰딩부를 포함하는 몰딩부를 포함함을 특징으로 하는 적층형 반도체 패키지.
  13. 제11항 또는 제12항에 있어서,
    상기 연결기판은 적어도 하나의 관통홀을 관통형성함을 특징으로 하는 적층형 반도체 패키지.
PCT/KR2011/003468 2010-05-10 2011-05-11 적층형 반도체 패키지 WO2011142582A2 (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/697,288 US8729689B2 (en) 2010-05-10 2011-05-11 Stacked semiconductor package
BR112012028794A BR112012028794A2 (pt) 2010-05-10 2011-05-11 pacote semicondutor empilhado

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100043637A KR20110124063A (ko) 2010-05-10 2010-05-10 적층형 반도체 패키지
KR10-2010-0043637 2010-05-10

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO2011142582A2 true WO2011142582A2 (ko) 2011-11-17
WO2011142582A3 WO2011142582A3 (ko) 2012-03-01

Family

ID=44914816

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/KR2011/003468 WO2011142582A2 (ko) 2010-05-10 2011-05-11 적층형 반도체 패키지

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8729689B2 (ko)
KR (1) KR20110124063A (ko)
BR (1) BR112012028794A2 (ko)
WO (1) WO2011142582A2 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108735099A (zh) * 2017-04-21 2018-11-02 三星显示有限公司 显示装置

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8072058B2 (en) * 2004-10-25 2011-12-06 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package having a plurality input/output members
KR101768960B1 (ko) * 2011-07-04 2017-08-18 삼성전자 주식회사 칩 적층 반도체 패키지
JP6348759B2 (ja) * 2014-04-16 2018-06-27 オリンパス株式会社 半導体モジュール、接合用治具、および半導体モジュールの製造方法
KR102579877B1 (ko) 2016-11-22 2023-09-18 삼성전자주식회사 반도체 패키지 및 그 제조 방법
US10141265B2 (en) 2016-12-29 2018-11-27 Intel IP Corporation Bent-bridge semiconductive apparatus
JP2020035957A (ja) * 2018-08-31 2020-03-05 キオクシア株式会社 半導体装置
KR102131648B1 (ko) * 2018-11-30 2020-07-08 한국생산기술연구원 다종 소자를 이용한 3차원 적층형 패키지 구조
US11201096B2 (en) * 2019-07-09 2021-12-14 Texas Instruments Incorporated Packaged device with die wrapped by a substrate
KR20220058702A (ko) 2020-10-29 2022-05-10 삼성전자주식회사 반도체 패키지
TWI762058B (zh) * 2020-12-02 2022-04-21 恆勁科技股份有限公司 半導體封裝件

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001217388A (ja) * 2000-02-01 2001-08-10 Sony Corp 電子装置およびその製造方法
JP2005539403A (ja) * 2002-09-17 2005-12-22 チップパック，インク． 積み重ねられたパッケージ間のワイヤボンド相互接続を有する半導体マルチパッケージモジュール
KR20070045970A (ko) * 2005-10-27 2007-05-02 가부시끼가이샤 르네사스 테크놀로지 반도체 장치 및 그 제조 방법

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5378927A (en) 1993-05-24 1995-01-03 International Business Machines Corporation Thin-film wiring layout for a non-planar thin-film structure
US5646446A (en) * 1995-12-22 1997-07-08 Fairchild Space And Defense Corporation Three-dimensional flexible assembly of integrated circuits
US7149095B2 (en) * 1996-12-13 2006-12-12 Tessera, Inc. Stacked microelectronic assemblies
US6208521B1 (en) * 1997-05-19 2001-03-27 Nitto Denko Corporation Film carrier and laminate type mounting structure using same
DE19923467B4 (de) * 1999-05-21 2004-11-11 Infineon Technologies Ag Halbleitermodul mit mehreren Halbleiterchips und leitender Verbindung mittels flexibler Bänder zwischen den Halbleiterchips
JP3818359B2 (ja) 2000-07-18 2006-09-06 セイコーエプソン株式会社 半導体装置、回路基板及び電子機器
US8072058B2 (en) * 2004-10-25 2011-12-06 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package having a plurality input/output members
KR20070009776A (ko) 2005-07-14 2007-01-19 삼성전자주식회사 고집적 적층 칩 패키지

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001217388A (ja) * 2000-02-01 2001-08-10 Sony Corp 電子装置およびその製造方法
JP2005539403A (ja) * 2002-09-17 2005-12-22 チップパック，インク． 積み重ねられたパッケージ間のワイヤボンド相互接続を有する半導体マルチパッケージモジュール
KR20070045970A (ko) * 2005-10-27 2007-05-02 가부시끼가이샤 르네사스 테크놀로지 반도체 장치 및 그 제조 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108735099A (zh) * 2017-04-21 2018-11-02 三星显示有限公司 显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2011142582A3 (ko) 2012-03-01
US20130119558A1 (en) 2013-05-16
BR112012028794A2 (pt) 2016-07-19
KR20110124063A (ko) 2011-11-16
US8729689B2 (en) 2014-05-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2011142582A2 (ko) 적층형 반도체 패키지
KR100618892B1 (ko) 와이어 본딩을 통해 팬 아웃 구조를 달성하는 반도체패키지
US8120186B2 (en) Integrated circuit and method
US8704349B2 (en) Integrated circuit package system with exposed interconnects
WO2011162488A2 (ko) 적층형 반도체 패키지
TWI237354B (en) Stacked package structure
KR100204753B1 (ko) 엘오씨 유형의 적층 칩 패키지
WO2011162504A2 (ko) 적층형 반도체 패키지
WO2013100710A1 (ko) 적층형 반도체 패키지 및 그 제조 방법
TWI478250B (zh) 具有可設置的積體電路晶粒之可設置的積體電路封裝件系統
WO2011142581A2 (ko) 적층형 반도체 패키지
KR20070088177A (ko) 반도체 패키지 및 그 제조 방법
TWI536523B (zh) 具有垂直互連的積體電路封裝系統及其製造方法
JP2005045251A (ja) スタック半導体チップｂｇａパッケージ及びその製造方法
KR20080063097A (ko) 접착성 스페이싱 구조들을 갖는 마운트가능한 집적회로패키지-인-패키지 시스템
WO2017105004A1 (ko) 반도체 패키지 및 그 제조방법
US20090115045A1 (en) Stacked package module and method for fabricating the same
KR20110124061A (ko) 적층형 반도체 패키지
US20140097530A1 (en) Integrated circuit package
KR100650769B1 (ko) 적층형 패키지
KR101141707B1 (ko) 반도체 패키지 및 그 제조 방법
JP2005057271A (ja) 同一平面上に横配置された機能部及び実装部を具備する半導体チップパッケージ及びその積層モジュール
TWI823618B (zh) 電子封裝件
US20090298227A1 (en) Method of fabricating a stacked type chip package structure and a stacked type package structure
CN220474621U (zh) 线路载板及电子封装体

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 11780799

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A2

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13697288

Country of ref document: US

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 11780799

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A2

REG Reference to national code

Ref country code: BR

Ref legal event code: B01A

Ref document number: 112012028794

Country of ref document: BR

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 112012028794

Country of ref document: BR

Kind code of ref document: A2

Effective date: 20121109