WO2011125898A1 - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 - Google Patents

磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 Download PDF

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拓洋 平川
平野　康成
宏一 田本
智行 山口
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    • G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/0075—Cleaning of glass

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a glass substrate for a magnetic disk.
  • a magnetic disk used for an HDD which is one of magnetic recording media, has been rapidly reduced in size, thinned, and increased in recording density and access speed.
  • a magnetic disk having a magnetic layer on a disk-shaped substrate is rotated at high speed, and recording and reproduction are performed while a magnetic head is flying over the magnetic disk.
  • the magnetic head Since the rotation speed of the magnetic disk increases as the access speed increases, a higher substrate strength is required for the magnetic disk. As the recording density increases, the magnetic head is also changing from a thin film head to a magnetoresistive head (MR head) and a large magnetoresistive head (GMR head), and the flying height of the magnetic head from the magnetic disk is increased. It has narrowed to about 8 nm. For this reason, if there are irregularities on the surface of the magnetic disk, there may be a crash failure in which the magnetic head collides, or a thermal asperity failure that causes a read error due to adiabatic compression or contact of air. In order to suppress such troubles in the magnetic head, it is important to finish the main surface of the magnetic disk as a very smooth surface.
  • a glass substrate is used instead of a conventional aluminum substrate as a substrate for a magnetic disk.
  • a glass substrate made of glass that is a hard material is superior in flatness, substrate strength, and rigidity of the substrate surface compared to an aluminum substrate made of a metal that is a soft material.
  • Glass substrates used for these magnetic disks are manufactured by subjecting the main surface to grinding or polishing. As a grinding process or a polishing process for a glass substrate, there is a method in which a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism is used.
  • a glass substrate is sandwiched between upper and lower surface plates to which a polishing pad (polishing cloth) is attached, and a polishing liquid in which abrasive grains (slurry) are turbid is supplied between the polishing pad and the glass substrate,
  • the main surface of the glass substrate is finished to a predetermined smooth surface by moving the glass substrate relative to the upper and lower surface plates (see, for example, Patent Document 1).
  • a recording / reproducing track is formed by forming a thin film (magnetic layer) of several nanometers on a glass substrate for a magnetic disk whose surface is smoothed by grinding or polishing. Therefore, in the manufacturing process of a glass substrate for magnetic disks, it is important to keep the substrate surface clean by removing slight contamination of the glass substrate surface at the same time as smoothing by grinding or polishing. Yes.
  • the glass substrate has an aspect that it is a brittle material. Therefore, in the manufacturing process of the magnetic disk glass substrate, the glass substrate is immersed in a heated chemical strengthening solution, and lithium ions and sodium ions on the surface of the glass substrate are ion-exchanged with sodium ions and potassium ions in the chemical strengthening solution, respectively. Thus, a compressive stress layer is formed on the surface layer of the glass substrate and strengthened (chemical strengthening step).
  • a stainless steel member may be used for a grinding device and a polishing device as shown in Patent Document 1.
  • a stainless steel material may be used in the chemical strengthening process. That is, when a process using a stainless steel device is performed, there is a possibility that metal-based contaminants resulting from stainless steel are generated from these devices and adhere to the glass substrate.
  • Contamination with metallic fine particles causes irregularities on the surface of the magnetic layer after film formation, which reduces the electrical characteristics and yield of products such as recording and playback. Therefore, it must be removed in the manufacturing process of the magnetic recording disk glass substrate. In particular, in consideration of the fact that the flying height of the magnetic head from the magnetic disk becomes smaller as the recording density increases, it is also necessary to consider the contaminants caused by the material of the apparatus.
  • DFH Dynamic Flying Height
  • the main surface of the magnetic disk is smoother and more than conventional. It has been found that it is necessary to clean with few defects such as foreign matter.
  • the DFH head instead of lowering the flying height of the head main body and approaching the magnetic disk surface, only the periphery of the head element portion is projected and brought closer to the medium surface. Is considered to be affected.
  • the distance between the protruding head element portion and the magnetic disk is preferably 1 nm or less.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and in a glass substrate for a magnetic disk, effectively removes metal-based contaminants adhering to the glass substrate surface without increasing the roughness of the glass substrate surface. Is one of the purposes.
  • the method for producing a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention is a method for producing a glass substrate for a magnetic disk having a glass substrate washing step, and the washing step comprises subjecting glass to a washing solution containing peroxodisulfate and having a pH of 2 or more and 4 or less. It has the process which makes a board
  • the concentration of peroxodisulfate in the cleaning liquid is 0.005 mol / L or more and 1 mol / L or less.
  • the peroxodisulfate is preferably ammonium peroxodisulfate.
  • the pH of the cleaning liquid is preferably 3 or more and 4 or less.
  • glass is formed without increasing the roughness of the surface of the glass substrate by performing a cleaning process having a process of bringing the glass substrate into contact with a cleaning liquid containing peroxodisulfate and having a pH of 2 or more and 4 or less. Metal contaminants adhering to the substrate surface can be effectively removed.
  • One of the methods for manufacturing a magnetic disk glass substrate shown in the present embodiment includes a cleaning process for removing metallic contaminants on the glass substrate, and the cleaning process oxidizes the metallic contaminants on the glass substrate.
  • a cleaning solution containing peroxodisulfate ions is used.
  • cleaning can be performed under acidic conditions using a cleaning liquid containing peroxodisulfate ions.
  • peroxodisulfate ions exhibit a very strong oxidizing power under acidic conditions, it is possible to oxidize and ionize metal contaminants that are not easily corroded, such as stainless steel, and dissolve them in the liquid. Thereby, the metallic contaminant adhering to the glass substrate surface can be effectively removed.
  • the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk shown in the present embodiment is characterized by performing a cleaning step having a process of bringing a glass substrate into contact with a cleaning liquid containing peroxodisulfate and having a pH of 2 or more and 4 or less.
  • the cleaning liquid can be prepared by adding peroxodisulfate to an acidic solution.
  • ammonium peroxodisulfate As peroxodisulfate, ammonium peroxodisulfate, sodium peroxodisulfate, potassium peroxodisulfate and the like can be used. Ammonium peroxodisulfate is a strong oxidizing substance and is easily dissolved in water (solubility 36.8%; 20 ° C.) and dissociates as follows.
  • Peroxodisulfate exhibits a strong oxidizing power in an acidic solution and dissolves metal-based contaminants (iron oxide) firmly adhered to the glass substrate.
  • metal-based contaminants iron oxide
  • peroxodisulfuric acid hydrolyzes in water to produce acidic ammonium sulfite and hydrogen peroxide, and exhibits extremely strong oxidizing power. Utilizing this oxidizing power, the metallic contaminants firmly adhered on the substrate can be oxidized and dissolved in water.
  • the acidic solution to which peroxodisulfate is added sulfuric acid, nitric acid and the like can be applied.
  • the pH of the cleaning solution is adjusted to 2 or more and 4 or less, preferably 3 or more and 4 or less. When the pH is less than 2, the roughness of the glass substrate surface is increased, and when the pH exceeds 4, the metal contaminants on the glass substrate surface cannot be sufficiently removed.
  • the concentration of peroxodisulfate in the cleaning liquid is preferably 0.005 mol / L or more and 1 mol / L or less. If the concentration is less than 0.005 mol / L, metal contaminants on the surface of the glass substrate cannot be sufficiently removed, and even if the concentration exceeds 1 mol / L, no further effect can be obtained.
  • plate glass can be used in the material processing step.
  • This plate-like glass can be manufactured by using a known manufacturing method such as a press method, a float method, a downdraw method, a redraw method, or a fusion method using a molten glass as a material.
  • a press method if a press method is used, a sheet glass can be produced at a low cost.
  • both main surfaces of the disk-shaped glass are lapped to adjust mainly the flatness and thickness of the glass substrate.
  • This lapping process can be performed using alumina free abrasive grains with a double-sided lapping apparatus using a planetary gear mechanism. Specifically, the lapping platen is pressed on both sides of the disk-shaped glass from above and below, a grinding liquid containing free abrasive grains is supplied onto the main surface of the disk-shaped glass, and these are moved relative to each other for lapping. Do. By this lapping process, a glass substrate having a flat main surface can be obtained.
  • Shape processing step (coring step for forming a hole, chamfering step for forming a chamfered surface at the end (outer peripheral end and inner peripheral end) (chamfered surface forming step)
  • an inner hole is formed at the center of the glass substrate using a cylindrical diamond drill to obtain an annular glass substrate.
  • the inner peripheral end surface and the outer peripheral end surface are ground with a diamond grindstone, and a predetermined chamfering process is performed.
  • Second Lapping Step the second lapping process is performed on both main surfaces of the obtained glass substrate in the same manner as in the first lapping step.
  • this second lapping step for example, the fine uneven shape formed on the main surface in the previous shape processing step can be removed in advance, and the subsequent polishing step for the main surface can be performed in a short time. Can be completed.
  • the end surface polishing step the outer peripheral end surface and the inner peripheral end surface of the glass substrate are mirror-polished by a brush polishing method.
  • abrasive grains for example, a slurry containing cerium oxide abrasive grains (free abrasive grains) can be used.
  • the end face of the glass substrate can be prevented from the precipitation of sodium and potassium, and in a mirror state that can suppress the generation of particles that cause thermal asperity and the like and the adhesion to the end face portion. Become.
  • Main surface polishing step As the main surface polishing step, first, a first polishing step is performed.
  • the first polishing process is a process whose main purpose is to remove scratches and distortions remaining on both main surfaces in the lapping process described above.
  • both main surfaces are polished using a hard resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism.
  • abrasive cerium oxide abrasive grains can be used.
  • the glass substrate after the first polishing step is washed with a neutral detergent, pure water, IPA, or the like.
  • Chemical strengthening step the glass substrate that has been subjected to the lapping step and the polishing step described above is chemically strengthened.
  • a chemical strengthening solution used for chemical strengthening for example, a mixed solution of potassium nitrate (60%) and sodium nitrate (40%) can be used.
  • the chemical strengthening solution is heated to 300 ° C. to 400 ° C., the cleaned glass substrate is preheated to 200 ° C. to 300 ° C., and immersed in the chemical strengthening solution for 3 hours to 4 hours.
  • the lithium ions and sodium ions in the surface layer of the glass substrate are respectively replaced with sodium ions and potassium ions having a relatively large ion radius in the chemical strengthening solution.
  • the chemically strengthened glass substrate is washed with sulfuric acid and then with pure water, IPA or the like.
  • a second polishing process is performed as a final polishing process.
  • the second polishing step is a step aimed at finishing both main surfaces into a mirror shape.
  • both main surfaces are mirror-polished using a soft foam resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism.
  • cerium oxide abrasive grains or colloidal silica finer than the cerium oxide abrasive grains used in the first polishing step can be used.
  • the glass substrate is subjected to a cleaning process after the final polishing process.
  • the cleaning process is a process aimed at removing particles adhering to the surface of the glass substrate by the chemical strengthening process and the final polishing process.
  • a cleaning process is performed in which the glass substrate is brought into contact with a cleaning solution containing at least peroxodisulfate and having a pH of 2 to 4. Specifically, the glass substrate is immersed in a cleaning solution in which ammonium peroxodisulfate (0.005 mol / L to 1 mol / L) is added to sulfuric acid.
  • the pH of the cleaning liquid is preferably adjusted to 2 or more and 4 or less.
  • the metal-based contaminant can be effectively removed by performing the above-described cleaning treatment.
  • the apparatus used for the chemical strengthening process includes a stainless steel material, the above cleaning process is effective.
  • washing cleaning process
  • alkali cleaning there is an effect that metal contaminants that cannot be completely dissolved by either acid or alkali can be removed more reliably.
  • the configuration in which the cleaning process using the cleaning liquid containing peroxodisulfate is performed after the chemical strengthening process may be performed before or after the chemical strengthening process.
  • a cleaning process using a cleaning liquid containing peroxodisulfate can be performed.
  • a perpendicular magnetic layer is formed by sequentially forming, for example, an adhesion layer, a soft magnetic layer, a nonmagnetic underlayer, a perpendicular magnetic recording layer, a protective layer, and a lubricating layer on the main surface of the glass substrate obtained through the above-described steps.
  • a recording disk can be manufactured.
  • the material constituting the adhesion layer include a Cr alloy.
  • the material constituting the soft magnetic layer include a CoTaZr-based alloy.
  • the nonmagnetic underlayer include a granular nonmagnetic layer.
  • An example of the perpendicular magnetic recording layer is a granular magnetic layer.
  • Examples of the material constituting the protective layer include hydrogenated carbon.
  • Examples of the material constituting the lubrication layer include a fluororesin.
  • these recording layers and the like are more specifically formed on a glass substrate by using an in-line type sputtering apparatus, under a CrTi adhesion layer, a CoTaZr / Ru / CoTaZr soft magnetic layer, and a nonmagnetic granular layer of CoCrSiO2.
  • a base layer, a CoCrPt—SiO 2 ⁇ TiO 2 granular magnetic layer, and a hydrogenated carbon protective film can be sequentially formed, and a perfluoropolyether lubricating layer can be formed by a dipping method.
  • a Ru underlayer may be used in place of the CoCrSiO 2 nonmagnetic granular underlayer.
  • a NiW seed layer may be added between the soft magnetic layer and the underlayer.
  • a CoCrPtB magnetic layer may be added between the granular magnetic layer and the protective layer.
  • Examples and comparative examples (1) Material processing step The melted aluminosilicate glass was molded into a disk shape by direct pressing using an upper mold, a lower mold, and a trunk mold to obtain an amorphous plate glass.
  • the main components of the aluminosilicate glass are SiO2: 58 wt% to 75 wt%, Al2O3: 5 wt% to 23 wt%, Li2O: 3 wt% to 10 wt%, and Na2O: 4 wt% to 13 wt%.
  • Main surface polishing step As a main surface polishing step, first, a first polishing step was performed. This first polishing step is mainly intended to remove scratches and distortions remaining on the main surface in the lapping step described above. In the first polishing step, the main surface was polished using a hard resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains were used.
  • the glass substrate after the first polishing step was sequentially immersed in each washing tank of neutral detergent, pure water, and IPA (isopropyl alcohol) and washed.
  • Chemical strengthening process Next, the glass substrate which finished the main surface polishing process was subjected to a chemical strengthening process (ion exchange process).
  • a chemical strengthening solution prepared by mixing potassium nitrate (60%) and sodium nitrate (40%) is prepared, and the chemically strengthened solution is heated to 400 ° C., and the cleaned glass substrate is preheated to 300 ° C. And was immersed in the chemical strengthening solution for about 3 hours. In this immersion, in order to chemically strengthen the entire surface of the glass substrate, it was carried out in a state of being housed in a substrate holder so that a plurality of glass substrates were held at the end surfaces.
  • the lithium ions and sodium ions in the surface layer of the glass substrate were replaced with sodium ions and potassium ions in the chemical strengthening solution, respectively, and the glass substrate was strengthened.
  • a second polishing step was performed as the main surface polishing step.
  • the purpose of this second polishing step is to polish the compressive stress layer formed on the glass substrate by a predetermined thickness so that both main surfaces of the glass substrate are finished in a mirror shape.
  • the main surface was mirror-polished using a soft foam resin polisher with a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism.
  • the abrasive colloidal silica abrasive grains (average particle diameter of 5 nm to 80 nm) finer than the cerium oxide abrasive grains used in the first polishing step were used.
  • the defect was test
  • the measurement conditions were a laser wavelength of 405 nm with a laser power of 25 mW and a laser spot diameter of 5 ⁇ m, and a region between 15 mm and 31.5 mm from the center of the glass substrate was measured.
  • Table 1 shows the number of fixed defects (per 24 cm 2) among defects detected as a size of 1.0 ⁇ m or less. The number of defects was measured by counting the number of defects remaining at the same position after the cleaning process, based on the defects on the surface of the glass substrate before the cleaning process.
  • the defect in a present Example means the metal type pollutant (more specifically, microparticles) adhering to the glass substrate surface.
  • the standard that is accepted as a magnetic disk is a substrate with a result of this evaluation of less than 200 defects and a surface roughness of 0.25 nm or less.
  • the number of defects may be less than 229 and the surface roughness may be less than 0.28 nm.
  • Magnetic disk A 2.5 inch (inner diameter 20 mm, outer diameter 65 mm, plate thickness 0.8 mm) glass substrate is manufactured, and a recording layer or the like is formed on the glass substrate. Evaluation radius: 22mm Magnetic disk rotation speed: 5400 RPM Temperature: 25 ° C Humidity: 60%
  • the recording layer was formed on the glass substrate as follows. First, an adhesion layer / soft magnetic layer / pre-underlayer / main layer / main recording layer / auxiliary recording layer / protection on a substrate in a Ar atmosphere by a DC magnetron sputtering method using a vacuum-deposited film forming apparatus A layer / lubricating layer was sequentially formed. Unless otherwise noted, the Ar gas pressure during film formation was 0.6 Pa. As the adhesion layer, Cr-50Ti was formed to a thickness of 10 nm. As the soft magnetic layer, 92 Co-3Ta-5Zr was formed to a thickness of 20 nm with a 0.7 nm Ru layer interposed therebetween.
  • Ni-5W was deposited to 8 nm.
  • Ru was formed to a thickness of 10 nm at 0.6 Pa, and then Ru was deposited to a thickness of 10 nm at 5 Pa.
  • 90 (72Co-10Cr-18Pt) -5 (SiO2) -5 (TiO2) was formed to a thickness of 15 nm at 3 Pa.
  • 62Co-18Cr-15Pt-5B was formed to a thickness of 6 nm.
  • the protective layer a film of 4 nm was formed using C2H4 by a CVD method, and the surface layer was nitrided. The lubricating layer was formed to 1 nm using PFPE by dip coating.
  • Table 2 The results of the DFH touchdown test are shown in Table 2.
  • Table 2 the following evaluation was performed according to the distance (x) where the head element portion and the magnetic disk contacted. ⁇ : x ⁇ 1.0 nm ⁇ : 1.0 nm ⁇ x
  • the distance between the head element portion and the magnetic disk could be reduced to 1.0 nm or less.
  • the distance that the head element portion and the magnetic disk contacted was greater than 1.0 nm. This is considered to be due to the influence of the surface roughness of the glass substrate and the number of defects. From this result, the magnetic disk was formed using a glass substrate cleaned with a cleaning solution having a pH of 2 to 4 to which an appropriate amount of peroxodisulfate was added. Can be reduced.
  • this invention is not limited to the said embodiment, It can change and implement suitably.
  • the material, size, processing procedure, inspection method, and the like in the above-described embodiment are merely examples, and various modifications can be made within the scope of the effects of the present invention. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the object of the present invention.

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Abstract

　磁気ディスク用ガラス基板において、ガラス基板表面の粗さを大きくすることなく、ガラス基板表面に付着した金属系汚染物質を効果的に除去することを目的の一とする。磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ペルオキソ二硫酸塩を含みｐＨ２以上４以下の洗浄液にガラス基板を接触させる処理を有する洗浄工程を設ける。また、洗浄液の一例として、酸性溶液にペルオキソ二硫酸ナトリウムを添加することにより作製することができる。

Description

磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
　本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法に関する。
　情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。磁気記録媒体の一つであるＨＤＤ（ハードディスクドライブ）等に用いられる磁気ディスクにおいては、急速な小型化、薄板化、及び記録密度の増加とアクセス速度の高速化が続けられている。ＨＤＤでは、円盤状の基板の上に磁性層を備えた磁気ディスクを高速回転し、この磁気ディスク上に磁気ヘッドを浮上飛行させながら記録と再生を行う。
　アクセス速度の高速化に伴って磁気ディスクの回転速度も速くなるため、磁気ディスクには、より高い基板強度が求められる。また記録密度の増加に伴い、磁気ヘッドも薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）、大型磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）へと推移しており、磁気ヘッドの磁気ディスクからの浮上量が８ｎｍ程度にまで狭くなってきている。このため磁気ディスク面上に凹凸形状があると、磁気ヘッドが衝突するクラッシュ障害や、空気の断熱圧縮または接触により加熱して読み出しエラーを生じるサーマルアスペリティ障害を生じる場合がある。このような磁気ヘッドに生じる障害を抑制するには、磁気ディスクの主表面を極めて平滑な面として仕上げておくことが重要となる。
　そこで現在では、磁気ディスク用の基板として、従来のアルミニウム基板に代えて、ガラス基板が用いられるようになってきている。軟質材料である金属からなるアルミニウム基板に比べて、硬質材料であるガラスからなるガラス基板は、基板表面の平坦性、基板強度、および剛性に優れているためである。これらの磁気ディスクに用いられるガラス基板は、その主表面に研削加工や研磨加工等を施すことにより製造されている。ガラス基板の研削加工や研磨加工としては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置を用いて行う方法がある。遊星歯車機構においては、研磨パッド（研磨布）が貼付された上下定盤にガラス基板を挟み、砥粒（スラリー）を混濁させた研磨液を研磨パッドとガラス基板との間に供給すると共に、当該ガラス基板を上下定盤に対して相対的に移動することにより、ガラス基板の主表面が所定の平滑面に仕上げられる（例えば、特許文献１参照）。
　また、研削加工や研磨加工等を用いて表面が平滑化された磁気ディスク用ガラス基板に、数ｎｍレベルの薄膜（磁性層）を形成して記録・再生トラックの形成等が行われる。そのため、磁気ディスク用ガラス基板の製造工程においては、研削加工や研磨加工等による平滑化と同時に、ガラス基板表面の僅かな汚染も除去し当該基板表面を清浄に保つことが重要な課題となっている。
　また、ガラス基板は、脆性材料であるという側面も有している。そこで、磁気ディスク用ガラス基板の製造工程において、加熱した化学強化液にガラス基板を浸漬し、ガラス基板表層のリチウムイオン、ナトリウムイオンを化学強化液中のナトリウムイオン、カリウムイオンにそれぞれイオン交換することにより、ガラス基板の表層に圧縮応力層を形成して強化すること（化学強化工程）が行われている。
特開２００９－２１４２１９号公報
　ところで、磁気ディスク用ガラス基板の製造工程においては、特許文献１に示すように研削装置、研磨装置にステンレス製の部材が用いられる場合がある。また、化学強化工程においてもステンレス製の材料が用いられる場合がある。つまり、ステンレス製の装置を用いる工程を行う場合には、これらの装置からステンレスに起因する金属系汚染物質が発生してガラス基板に付着するおそれがある。
　ガラス基板に影響を及ぼす汚染の中でも特に金属系の微粒子が付着した汚染は、磁性層の成膜後の表面に凹凸が生じてしまい、製品の記録・再生等の電気的特性や歩留まりを低下させる原因となるため、磁気記録ディスク用ガラス基板の製造工程において除去する必要がある。特に、記録密度の向上に伴い益々磁気ヘッドの磁気ディスクからの浮上量が小さくなることを考慮すると、装置の材質に起因した汚染物についても考慮する必要が生じる。
　しかしながら、ステンレス由来の金属系汚染物質は腐食され難く、洗浄工程で一般的に用いられる酸性水溶液やアルカリ性水溶液等の洗浄液では除去することが難しく、これらの金属系汚染物質を除去するには、強力な反応性を有する酸性溶液（例えば、王水）等を使用する必要がある。
　一方で、強力な反応性を有する酸性溶液を洗浄液として用いた場合には、ガラス基板の表面も影響を受け、表面粗さが大きくなるという問題がある。そのため、ガラス基板表面の平滑性や清浄度をより一層向上させるためには、ガラス基板に強固に付着した金属系汚染物質を効果的に除去でき且つガラス基板に影響を与えない洗浄液を用いた洗浄処理が求められる。
　また、近年、記録密度をより一層向上させるために、ヘッドにＤＦＨ(Dynamic　Flying　Height)技術を搭載するＨＤＤが開発されている。この技術によってヘッド素子部を従来以上に媒体表面に近づけて磁気的スペーシングを低減することが可能となるが、他方、ＤＦＨヘッドを用いる場合には、磁気ディスクの主表面を従来以上に平滑かつ異物等の欠陥が少なく清浄とすることが必要であることがわかってきた。ＤＦＨヘッドでは、ヘッド本体の浮上量を下げて磁気ディスク表面に近づけるのではなく、ヘッド素子部周辺のみを突き出して媒体表面に近づけるため、僅かな表面凹凸の乱れや異物との接触でもヘッド素子部が影響を受けてしまうためと考えられる。例えば、２．５インチの磁気ディスク一枚あたり５００ＧＢ以上の記録密度を達成するためには、突き出したヘッド素子部と磁気ディスクとの間隔を好ましくは１ｎｍ以下とすることが求められる。
　本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、磁気ディスク用ガラス基板において、ガラス基板表面の粗さを大きくすることなく、ガラス基板表面に付着した金属系汚染物質を効果的に除去することを目的の一とする。
　本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板の洗浄工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、洗浄工程は、ペルオキソ二硫酸塩を含みｐＨ２以上４以下の洗浄液にガラス基板を接触させる処理を有することを特徴とする。
　本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、洗浄液のペルオキソ二硫酸塩の濃度が、０．００５ｍｏｌ／Ｌ以上１ｍｏｌ／Ｌ以下とすることが好ましい。
　本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ペルオキソ二硫酸塩は、ペルオキソ二硫酸アンモニウムであることが好ましい。
　本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、洗浄液のｐＨを３以上４以下とすることが好ましい。
　本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、洗浄液とガラス基板を接触させることにより、ガラス基板上の金属系金属汚染物を除去することが好ましい。
　本発明の一態様によれば、ペルオキソ二硫酸塩を含みｐＨ２以上４以下の洗浄液にガラス基板を接触させる処理を有する洗浄工程を行うことにより、ガラス基板表面の粗さを大きくすることなく、ガラス基板表面に付着した金属系汚染物質を効果的に除去することができる。
　以下に、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下の説明は本発明を例示するものであり、本発明の範囲を制限するものではない。本発明の趣旨に合致する限り他の実施の形態も本発明の範疇に属し得ることは言うまでもない。
　ガラス基板のより一層の平滑化及び清浄度の向上を図るべく本発明者が研究を行ったところ、磁気ディスク用ガラス基板の製造装置の材質に起因して生じる金属系汚染物質がガラス基板に付着し、通常の洗浄処理では十分に除去できないという問題に直面した。そこで、ガラス基板の表面粗さを大きくすることなく、ステンレスに起因する金属系汚染物質を除去する方法について鋭意研究した結果、強酸性条件を作り出さずに、酸化力だけを増加させた洗浄液を用いることにより、ガラス基板の表面に影響を与えずに金属系汚染物質を効果的に除去できる方法を見出した。具体的には、酸性溶液にペルオキソ二硫酸塩を添加することにより、酸性雰囲気下でステンレス由来の金属汚染物に対して特異的に酸化力を発揮する洗浄液となることを発見した。以下に、本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の具体例について説明する。
　本実施の形態で示す磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の一は、ガラス基板上の金属系汚染物質を除去する洗浄工程を具備し、洗浄工程は、ガラス基板上の金属系汚染物質を酸化して溶解すべく、ペルオキソ二硫酸イオンを含む洗浄液を用いて行うことを特徴とする。具体的には、ペルオキソ二硫酸イオンを含む洗浄液を用いて酸性条件下で洗浄を行うことができる。
　ペルオキソ二硫酸イオンは酸性条件下で非常に強い酸化力を発揮するため、ステンレス等の腐食されにくい金属系汚染物質をも酸化してイオン化させて液中に溶解することができる。これにより、ガラス基板表面に付着した金属系汚染物質を効果的に除去することができる。
　本実施の形態で示す磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、ペルオキソ二硫酸塩を含みｐＨ２以上４以下の洗浄液にガラス基板を接触させる処理を有する洗浄工程を行うことを特徴とする。洗浄液は、酸性溶液にペルオキソ二硫酸塩を添加することにより作製することができる。
　ペルオキソ二硫酸塩としては、ペルオキソ二硫酸アンモニウム、ペルオキソ二硫酸ナトリウム、ペルオキソ二硫酸カリウム等を用いることができる。ペルオキソ二硫酸アンモニウムは強酸化性物質であり、水に溶解しやすく（溶解度３６．８％；２０℃）以下のように解離する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　ペルオキソ二硫酸塩は、酸性溶液中で強い酸化力を発揮して、ガラス基板に強固に付着した金属系汚染物質（酸化鉄）を溶解する。具体的には、ペルオキソ二硫酸は水中で加水分解し、酸性亜硫酸アンモニウムと過酸化水素を生成し、極めて強力な酸化力を発揮する。この酸化力を利用して、基板上に強固に付着した金属系汚染物質を水中に酸化溶解することができる。
　ペルオキソ二硫酸塩を添加する酸性溶液としては、硫酸、硝酸等を適用することができる。また、洗浄液のｐＨが２以上４以下、好ましくはｐＨが３以上４以下となるように調整する。ｐＨが２未満であると、ガラス基板表面の粗さを大きくし、ｐＨが４を超えると、ガラス基板表面の金属汚染物を充分に除去できない。
　また、洗浄液中のペルオキソ二硫酸塩の濃度は、０．００５ｍｏｌ／Ｌ以上１ｍｏｌ／Ｌ以下とすることが好ましい。濃度が０．００５ｍｏｌ／Ｌ未満であると、ガラス基板表面の金属汚染物を充分に除去できず、１ｍｏｌ／Ｌを超えてもそれ以上の効果が得られない。
　以下に、磁気ディスク用基板の製造工程の各工程について説明する。なお、各工程の順序は適宜入れ替えてもよい。
（１）素材加工工程及び第１ラッピング工程
　まず、素材加工工程においては、板状ガラスを用いることができる。この板状ガラスは、例えば、溶融ガラスを材料として、プレス法やフロート法、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法など、公知の製造方法を用いて製造することができる。これらの方法うち、プレス法を用いれば、板状ガラスを廉価に製造することができる。
　第１ラッピング工程においては、ディスク状のガラスの両主表面をラッピング加工し、主にガラス基板の平坦度、板厚を調整する。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行うことができる。具体的には、ディスク状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液をディスク状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行う。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス基板を得ることができる。
（２）形状加工工程（穴部を形成するコアリング工程、端部（外周端部及び内周端部）に面取り面を形成するチャンファリング工程（面取り面形成工程）
　コアリング工程においては、例えば、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とする。チャンファリング工程においては、内周端面及び外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施す。　
（３）第２ラッピング工程
　第２ラッピング工程においては、得られたガラス基板の両主表面について、第１ラッピング工程と同様に、第２ラッピング加工を行う。この第２ラッピング工程を行うことにより、例えば前工程である形状加工工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。　
（４）端面研磨工程
　端面研磨工程においては、ガラス基板の外周端面及び内周端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行う。このとき、研磨砥粒としては、例えば、酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いることができる。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止でき、また、サーマルアスペリティ等の発生原因となるパーティクルの発生およびその端面部分への付着を抑制しうる鏡面状態になる。　
（５）主表面研磨工程（第１研磨工程）
　主表面研磨工程として、まず第１研磨工程を施す。第１研磨工程は、前述のラッピング工程で両主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とする工程である。この第１研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、両主表面の研磨を行う。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いることができる。第１研磨工程を終えたガラス基板は、中性洗剤、純水、ＩＰＡ等で洗浄する。　
（６）化学強化工程
　化学強化工程においては、前述のラッピング工程及び研磨工程を終えたガラス基板に化学強化を施す。化学強化に用いる化学強化液としては、例えば、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）の混合溶液などを用いることができる。化学強化においては、化学強化液を３００℃～４００℃に加熱し、洗浄済みのガラス基板を２００℃～３００℃に予熱し、化学強化溶液中に３時間～４時間浸漬することによって行う。この浸漬の際には、ガラス基板の両表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行うことが好ましい。
　このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板の表層のリチウムイオン及びナトリウムイオンが、化学強化溶液中の相対的にイオン半径の大きなナトリウムイオン及びカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化される。化学強化されたガラス基板は、硫酸で洗浄した後に、純水、ＩＰＡ等で洗浄する。
（７）主表面研磨工程（最終研磨工程）
　次に、最終研磨工程として、第２研磨工程を施す。第２研磨工程は、両主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする工程である。第２研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、両主表面の鏡面研磨を行う。スラリーとしては、第１研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒やコロイダルシリカなどを用いることがきる。　
（８）洗浄工程
　最終研磨工程後にガラス基板に洗浄工程を施す。洗浄工程は、化学強化工程及び最終研磨工程によりガラス基板の表面に付着したパーティクルを除去することを目的とする工程である。
　洗浄工程としては、少なくともペルオキソ二硫酸塩を含みｐＨ２以上４以下の洗浄液にガラス基板を接触させる洗浄処理を行う。具体的には、硫酸にペルオキソ二硫酸アンモニウム（０．００５ｍｏｌ／Ｌ以上１ｍｏｌ／Ｌ以下）を添加した洗浄液にガラス基板を浸漬させる。洗浄液のｐＨは２以上４以下に調整することが好ましい。この洗浄処理により、ガラス基板表面の粗さを大きくすることなく、ガラス基板表面に付着した装置の材質（ステンレス）に起因する金属系汚染物質を効果的に除去することができる。また、化学強化工程により、金属系汚染物質がガラス基板に強固に付着している場合であっても、上記洗浄処理を行うことにより、効果的に金属系汚染物質を除去することができる。特に、化学強化工程に用いる装置がステンレス製の材質を含んでいる場合には、上記洗浄処理が有効となる。
　なお、洗浄工程としては、上記の洗浄処理の他に他の洗浄処理を組み合わせて行ってもよい。例えば、アルカリ洗浄を組み合わせることにより、酸およびアルカリのいずれかでは溶解し切れない金属系汚染物質を、より確実に除去できるという効果を奏する。
　また、ここでは、ペルオキソ二硫酸塩を含む洗浄液を用いる洗浄工程を化学強化工程後に行う構成を示したが、化学強化工程前や化学強化工程前と後の双方に行ってもよい。例えば、第１ラッピング工程及び／又は第２ラッピング工程の後に、ペルオキソ二硫酸塩を含む洗浄液を用いた洗浄処理を行うことができる。
＜磁気ディスク製造工程（記録層等形成工程）＞
　上述した工程を経て得られたガラス基板の主表面に、例えば、付着層、軟磁性層、非磁性下地層、垂直磁気記録層、保護層、及び潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造することができる。付着層を構成する材料としては、Ｃｒ合金などを挙げることができる。軟磁性層を構成する材料としては、ＣｏＴａＺｒ基合金などを挙げることができる。非磁性下地層としては、グラニュラー非磁性層などを挙げることができる。垂直磁気記録層としては、グラニュラー磁性層などを挙げることができる。保護層を構成する材料としては、水素化カーボンなどを挙げることができる。潤滑層を構成する材料としては、フッ素樹脂などを挙げることができる。例えば、これらの記録層等は、より具体的には、インライン型スパッタリング装置を用いて、ガラス基板の上に、ＣｒＴｉの付着層、ＣｏＴａＺｒ／Ｒｕ／ＣｏＴａＺｒの軟磁性層、ＣｏＣｒＳｉＯ２の非磁性グラニュラー下地層、ＣｏＣｒＰｔ－ＳｉＯ２・ＴｉＯ２のグラニュラー磁性層、水素化カーボン保護膜を順次成膜し、さらに、ディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜することができる。
　なお、ＣｏＣｒＳｉＯ２の非磁性グラニュラー下地層の替わりにＲｕの下地層を用いてもよい。また、軟磁性層と下地層の間にＮｉＷのシード層を追加してもよい。また、グラニュラー磁性層と保護層の間にＣｏＣｒＰｔＢの磁性層を追加してもよい。
　次に、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。
（実施例、比較例）
（１）素材加工工程
　溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ２：５８重量％～７５重量％、Ａｌ２Ｏ３：５重量％～２３重量％、Ｌｉ２Ｏ：３重量％～１０重量％、Ｎａ２Ｏ：４重量％～１３重量％を主成分として含有するガラスを使用した。なお、Ｌｉ２Ｏは０重量％より大きく７重量％以下であってもよい。
（２）第１研削（ラッピング）工程
　次に、ディスク状のガラス基板の両主表面をラッピング加工した。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行った。具体的には、ガラス基板の両面に上下から定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行った。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス基板を得た。
（３）形状加工工程（コアリング、チャンファリング）
　次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とした（コアリング）。そして内周端面及び外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した（チャンファリング）。
（４）第２ラッピング工程
　次に、得られたガラス基板の両主表面について、第１ラッピング工程と同様に、第２ラッピング加工を行った。この第２ラッピング工程を行うことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
（５）端面研磨工程
　次に、ガラス基板の外周端面及び内周端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いた。そして、端面研磨工程を終えたガラス基板を水洗浄した。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止できる鏡面状態に加工された。
（６）主表面研磨工程（第１研磨工程）
　主表面研磨工程として、まず第１研磨工程を施した。この第１研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第１研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面の研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
　この第１研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。
（７）化学強化工程
　次に、主表面研磨工程を終えたガラス基板に、化学強化処理（イオン交換処理）を施した。化学強化は、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を４００℃に加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板を３００℃に予熱し、化学強化溶液中に約３時間浸漬することにより行った。この浸漬の際には、ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるように、基板ホルダに収納した状態で行った。
　このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板の表層のリチウムイオン及びナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオン及びカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化された。
（８）主表面研磨工程（最終研磨工程）
　次に、主表面研磨工程として、第２研磨工程を施した。この第２研磨工程は、ガラス基板に形成された圧縮応力層に対して所定の膜厚だけ減じるように研磨加工を行い、当該ガラス基板の両主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。本実施例では、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第１研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細なコロイダルシリカ砥粒（平均粒子径５ｎｍ～８０ｎｍ）を使用した。
（９）洗浄工程
　化学強化処理を終えたガラス基板を、２０℃の水槽に浸漬して急冷し、約１０分間維持した。そして、急冷を終えたガラス基板に最終研磨工程を実施した後、複数の金属（Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｚｎ）の酸化物を分散、一部溶解した水溶液に浸漬し擬似汚染基板を作製した。この擬似汚染基板を表１に示す各条件のペルオキソ二硫酸塩を含む洗浄液に浸漬させて洗浄処理を行った。なお、擬似汚染基板の異物の初期カウントは平均して約１０，０００となった。さらに、硫酸＋ペルオキソ二硫酸アンモニウム洗浄を終えたガラス基板を純水、ＩＰＡの各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。
（欠陥評価）
　実施例、比較例で得られたそれぞれのガラス基板について、光学式欠陥検査装置（ＫＬＡ－Ｔｅｎｃｏｒ社製、商品名：ＯＳＡ６１００）で欠陥を検査した。このとき、測定条件としては、レーザパワ２５ｍＷのレーザ波長４０５ｎｍ、レーザスポット径５μｍとし、ガラス基板の中心から１５ｍｍ～３１．５ｍｍの間の領域を測定した。１．０μｍ以下のサイズとして検出された欠陥のうち、固着している欠陥の個数（２４ｃｍ２当たり）を表１に示す。なお、欠陥の個数は、洗浄工程前にガラス基板の表面における欠陥を基準として、洗浄工程後に同じ位置に残存している欠陥の個数をカウントすることにより測定した。なお、本実施例における欠陥とは、ガラス基板表面に付着している金属系汚染物質（より具体的には、微粒子）をいう。
（ガラス基板の表面測定）
　実施例、比較例で得られたそれぞれのガラス基板について、原子間力顕微鏡を用いて２μｍ×２μｍ角で２５６×２５６ピクセルの解像度で測定して表面粗さ（算術平均粗さ（Ｒａ））を求めた。結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　磁気ディスクとして合格品となる基準は、この評価による結果が欠陥個数が２００個未満、表面粗さが０．２５ｎｍ以下の基板である。なお、欠陥個数が２２９個未満、表面粗さが０．２８ｎｍ未満であってもよい。
　表１より、ｐＨが２未満の洗浄液を用いた場合（比較例２～６）では、ガラス基板の表面粗さが大きくなることが確認された。また、ｐＨが４を超えた洗浄液を用いた場合（比較例７～１１）では、ガラス基板の粗さは大きくならなかったが、ガラス基板の欠陥個数が多く、ガラス基板に付着した異物を十分に除去できなかった。ペルオキソ二硫酸塩を適量添加させたｐＨが２～４の洗浄液を用いることにより、ガラス基板表面の粗さを大きくすることなく、ガラス基板表面に付着した金属系汚染物質を効果的に除去することができた。
（ＤＦＨタッチダウン試験）
　次に、上記表１に示した実施例２、６、比較例３、８の条件で、新たに疑似汚染を行わずに洗浄工程を行ったガラス基板を用いて磁気ディスクを作製し、クボタコンプス社製ＨＤＦテスター(Head/Disk　Flyability　Tester)を用いて、ＤＦＨヘッド素子部のタッチダウン試験を行った。この試験は、ＤＦＨ機構によって素子部を徐々に突き出していき、ＡＥセンサーによって磁気ディスク表面との接触を検知することによって、ヘッド素子部が磁気ディスク表面と接触するときの距離を評価するものである。ヘッドは３２０ＧＢ／Ｐ磁気ディスク（２．５インチサイズ）向けのＤＦＨヘッドを用いた。素子部の突き出しがない時の浮上量は１０ｎｍである。また、その他の条件は以下の通り設定した。
　磁気ディスク：２．５インチ（内径２０ｍｍ、外径６５ｍｍ、板厚０．８ｍｍ）のガラス基板を製造し、当該ガラス基板に記録層等を成膜。
評価半径：２２ｍｍ
磁気ディスクの回転数：５４００ＲＰＭ
温度：２５℃
湿度：６０％
　また、ガラス基板に対する記録層の成膜は以下の通り行った。まず、真空引きを行った成膜装置を用い、ＤＣマグネトロンスパッタリング法にてＡｒ雰囲気中で、基板上に付着層／軟磁性層／前下地層／下地層／主記録層／補助記録層／保護層／潤滑層を順次成膜した。なお、断らない限り成膜時のＡｒガス圧は０．６Ｐａで行った。付着層としては、Ｃｒ－５０Ｔｉを１０ｎｍ成膜した。軟磁性層としては、０．７ｎｍのＲｕ層を挟んで、９２Ｃｏ－３Ｔａ－５Ｚｒをそれぞれ２０ｎｍ成膜した。前下地層としては、Ｎｉ－５Ｗを８ｎｍ成膜した。下地層としては、０．６ＰａでＲｕを１０ｎｍ成膜した上に５ＰａでＲｕを１０ｎｍ成膜した。主記録層としては、３Ｐａで９０（７２Ｃｏ－１０Ｃｒ－１８Ｐｔ）－５（ＳｉＯ２）－５（ＴｉＯ２）を１５ｎｍ成膜した。補助記録層としては、６２Ｃｏ－１８Ｃｒ－１５Ｐｔ－５Ｂを６ｎｍ成膜した。保護層としては、ＣＶＤ法によりＣ２Ｈ４を用いて４ｎｍ成膜し、表層を窒化処理した。潤滑層としては、ディップコート法によりＰＦＰＥを用いて１ｎｍ形成した。
　ＤＦＨタッチダウン試験の結果を表２に示す。なお、表２において、ヘッド素子部と磁気ディスクが接触した距離（ｘとする）に応じて以下の通り評価した。
○：ｘ≦１．０ｎｍ
△：１．０ｎｍ＜ｘ
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　表２より、実施例２、６の洗浄条件を用いたガラス基板（疑似汚染なし）を用いた場合には、ヘッド素子部と磁気ディスクが接触した距離を１．０ｎｍ以下と小さくできた。一方で、比較例３、８の洗浄条件を用いたガラス基板（疑似汚染なし）を用いた場合は、ヘッド素子部と磁気ディスクが接触した距離が１．０ｎｍより大きくなった。これは、ガラス基板の表面粗さや欠陥個数が影響したものと考えられる。この結果より、ペルオキソ二硫酸塩を適量添加させたｐＨが２～４の洗浄液を用いて洗浄を行ったガラス基板を用いて磁気ディスクを形成することにより、ヘッド素子部と磁気ディスクが接触した距離を小さくすることができる。
　なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、適宜変更して実施することができる。例えば、上記実施の形態における材料、サイズ、処理手順、検査方法などは一例であり、本発明の効果を発揮する範囲内において種々変更して実施することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。
　本出願は、２０１０年３月３１日出願の特願２０１０－０８２４５４に基づく。この内容は、全てここに含めておく。

Claims (8)

  1. 　ガラス基板の洗浄工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
    　前記洗浄工程は、ペルオキソ二硫酸塩を含みｐＨ２以上４以下の洗浄液にガラス基板を接触させる処理を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  2. 　前記洗浄液の前記ペルオキソ二硫酸塩の濃度が、０．００５ｍｏｌ／Ｌ以上１ｍｏｌ／Ｌ以下とすることを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  3. 　前記ペルオキソ二硫酸塩は、ペルオキソ二硫酸アンモニウムであることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  4. 　前記洗浄液のｐＨを３以上４以下とすることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  5. 　前記洗浄液と前記ガラス基板を接触させることにより、前記ガラス基板上の金属系金属汚染物を除去することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  6. 　ガラス基板上の金属系汚染物質を除去する洗浄工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
    　前記洗浄工程は、ペルオキソ二硫酸イオンを含む洗浄液を用いて酸性条件下で洗浄を行うことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  7. 　ガラス基板の洗浄工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
    　前記洗浄工程は、ガラス基板上の金属系汚染物質を酸化して溶解すべく、ペルオキソ二硫酸イオンを含む洗浄液を用いて行われることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  8. 　前記洗浄工程では、ガラス基板の表面粗さが損なわれないことを特徴とする請求項６又は請求項７に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
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