WO2011061996A1 - ビフェニル誘導体の製法 - Google Patents

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WO2011061996A1
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雅彦 関
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田辺三菱製薬株式会社
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D257/00—Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D257/02—Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
    • C07D257/04—Five-membered rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D403/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00
    • C07D403/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings
    • C07D403/10—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings linked by a carbon chain containing aromatic rings
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Definitions

  • the present invention relates to a process for producing a biaryl tetrazole derivative or a salt thereof which is useful as an intermediate for angiotensin II receptor antagonist.
  • Losartan potassium, valsartan, olmesartan medoxomil, candesartan cilexetil, telmisartan, irbesartan and the like are useful as angiotensin II receptor antagonists.
  • As a method for producing these compounds for example, as a synthesis method of losartan, J. Org. Chem. 1994, 59, 6391-6394 (non-patent document 1), and also as a synthesis method of valsartan, Org. Process Res. Dev. 2007, 11, pp. 892-898 (non-patent document 2), further, as a method of synthesizing irbesartan, J. Am. Med. Chem.
  • Non-patent Document 3 1993, 36, 3371-3380 (non-patent document 3) are known.
  • a conventional method of biphenylation reaction for example, Chem. Lett. 2008, 37, No. 9, pp. 994 to 995 (Non-patent Document 4), Tetrahedron, 2008, 64, 6051 to 6059 (Non-patent Document 5), Angewandte Chemie International Edition, 2009 48, pp. 9792 to 9827 (Non-patent Document 6).
  • the present invention makes it possible to use inexpensive metal compounds, and is capable of producing a biaryl tetrazole derivative useful as an intermediate for angiotensin II receptor antagonist under conditions suitable for economical and industrial production.
  • the purpose is to provide
  • R 1 represents a protecting group of tetrazolyl group.
  • R 1 represents a protecting group of tetrazolyl group.
  • aryl tetrazole derivative [II] represented by the general formula [III]
  • R 2 represents a methyl group, a methyl group substituted by a protective group protected by a hydroxyl group, or a lower alkoxycarbonyl group
  • X 1 represents a leaving group.
  • a process for producing a biaryl tetrazole derivative (also referred to as a biaryl tetrazole derivative [I]) or a salt thereof (hereinafter also referred to as “production method 1”) (2) The method according to the above (1), characterized in that the aryl tetrazole derivative represented by the general formula [II] and the benzene derivative represented by the general formula [III] are reacted in the presence of a metal catalyst; (3) The aryltetrazole derivative represented by the general formula [II] and the benzene derivative represented by the general formula [III] are reacted in the presence of a base and a metal catalyst, as described in the above (1) Manufacturing method; (4) 1) The general formula [I] obtained by the method described in (1) above:
  • X 2 represents a halogen atom
  • R 1 represents a protecting group for a tetrazolyl group.
  • a process for producing a compound represented by the formula i.e. losartan, hereinafter also referred to as compound [IX]) or a salt thereof (hereinafter also referred to as “production method 2”); (5) 1) The general formula [I] obtained by the method described in (1) above:
  • X 2 represents a halogen atom
  • R 1 represents a protecting group for a tetrazolyl group.
  • R 3 represents a carboxy-protecting group.
  • a process for producing a compound represented by the formula that is, valsartan, hereinafter also referred to as compound [XV]) or a salt thereof (hereinafter also referred to as “production method 3”); (6)
  • X 2 represents a halogen atom
  • R 1 represents a protecting group for a tetrazolyl group.
  • X 2 represents a halogen atom
  • R 1 represents a protecting group for a tetrazolyl group.
  • X 4 represents a leaving group or a hydroxyl group.
  • XXV a compound represented by the general formula [XXVI]:
  • a process for producing a compound represented by the formula ie, candesartan cilexetil, hereinafter also referred to as compound [XXVII]) or a salt thereof (hereinafter, also referred to as “production method 5”); About.
  • biaryl tetrazole derivatives useful as intermediates for angiotensin II receptor antagonists can be produced under conditions suitable for economical and industrial production. It becomes.
  • the “tetrazolyl group-protecting group” is not particularly limited as long as it can stably protect the tetrazolyl group during the reaction, and specific examples thereof include Protective Groups in Organic Synthesis 3 rd Ed. , T. W. Greene, P .; G. M. Wuts, John Wiley and Sons, Inc. And those described in 1999.
  • C 7-19 aralkyl group eg, benzyl, diphenylmethyl, trityl etc.
  • a substituted C 7-19 aralkyl group such as substituted benzyl and substituted diphenylmethyl (preferably selected from the group consisting of C 1-6 alkyl, nitro, C 1-6 alkylenedioxy and C 1-6 alkoxy C 7-19 aralkyl substituted with two or more substituents (when two or more substituents are present, they may be the same or different, and the substituents may be combined to form a ring ), Eg, p-methylbenzyl, p-nitrobenzyl, 2,4-dimethoxybenzyl, 3,4-dimethoxybenzyl, 3,4- (methylenedioxy) benzyl, p-methoxybenzyl, o-methoxybenzyl, 3) , 4,5-trimethoxybenzyl etc
  • the "protecting group" of the "methyl group substituted with a hydroxyl group protected with a protecting group” is not particularly limited as long as it can stably protect the hydroxyl group during the reaction, and specifically, Protective Groups in Organic Synthesis 3 rd Ed. , T. W. Greene, P .; G. M. Wuts, John Wiley and Sons, Inc. And those described in 1999.
  • an acyl group preferably, C 1-6 alkyl-carbonyl, C 3-8 cycloalkyl-carbonyl, C 6-10 aryl-carbonyl, such as acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, pivaloyl, cyclohexylcarbonyl, benzoyl etc.
  • C 7-19 aralkyl group eg, benzyl etc.
  • Trialkylsilyl group preferably, tri (C 1-6 alkyl) silyl, eg, trimethylsilyl, triethylsilyl, triisopropylsilyl, t-butyldimethylsilyl etc.
  • alkoxycarbonyl group preferably, C 1-6 alkoxy- Carbonyl
  • the “carboxy-protecting group” is not particularly limited as long as it can stably protect the carboxy group during the reaction, and specific examples thereof include Protective Groups in Organic Synthesis 3 rd Ed. , T. W. Greene, P .; G. M. Wuts, John Wiley and Sons, Inc. And those described in 1999.
  • Alkyl group preferably, C 1-6 alkyl, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, pentyl, hexyl
  • C 3-8 cycloalkyl group eg, cyclohexyl
  • C 7-19 aralkyl group eg, benzyl, diphenylmethyl, trityl
  • C 2-6 alkenyl group eg, allyl
  • amino-protecting group is not particularly limited as long as it can stably protect the amino group during the reaction, and more specifically, Protective Groups in Organic Synthesis 3 rd Ed. , T. W. Greene, P .; G. M. Wuts, John Wiley and Sons, Inc. And those described in 1999.
  • an acyl group preferably, C 1-6 alkyl - carbonyl, C 3-8 cycloalkyl - carbonyl, C 6-10 aryl - carbonyl, for example, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl And pivaloyl, cyclohexylcarbonyl, benzoyl and the like
  • lower alkoxycarbonyl group includes a linear or branched C 1-12 alkoxy-carbonyl group, preferably methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, butoxycarbonyl (eg, tert-butoxycarbonyl) and the like. It can be mentioned.
  • C 1-6 alkyl groups eg, toluenesulfonyloxy etc.
  • C 1-6 alkylsulfonyloxy group optionally substituted by 1 to 3 halogen atoms (eg, methanesulfonyloxy, trifluoromethanesulfonyloxy etc.) Etc.
  • Halogen atom A C 6-10 arylsulfonyloxy group which may be substituted by 1 to 3 C 1-6 alkyl groups (eg, toluenesulfonyloxy etc.), A C 1-6 alkylsulfonyloxy group optionally substituted by 1 to 3 halogen atoms (eg, methanesulfonyloxy etc.), An alkanoyloxy group (preferably, a C 1-6 alkyl-carbonyloxy), Aroyloxy group (preferably, C 6-10 aryl-carbonyloxy), Dialkoxy phosphoryloxy group (preferably, di (C 1-6 alkoxy) phosphoryloxy), Diaryloxyphosphoryloxy group (preferably, di (C 6-10 aryloxy) phosphoryloxy) Etc.
  • C 1-6 alkyl groups eg, toluenesulfonyloxy etc.
  • a C 1-6 alkylsulfonyloxy group optionally substituted by 1 to 3 halogen
  • halogen atom includes fluorine, chlorine, bromine or iodine.
  • the aryl tetrazole derivative [II] and the benzene derivative [III] may be commercially available products, and the aryl tetrazole derivative [II] may be produced by the method described in WO2009 / 49305, or a method analogous thereto.
  • Step 1 Compound [IV] can be produced by reacting aryl tetrazole derivative [II] with benzene derivative [III] in the presence of a metal catalyst and a base. This reaction can also be carried out using a solvent.
  • a metal catalyst such as a ruthenium catalyst, an iridium catalyst, a rhodium catalyst, a palladium catalyst, a nickel catalyst, a copper catalyst, an iron catalyst, a cobalt catalyst and the like can be used alone or in combination.
  • the amount of the metal catalyst to be used is generally 0.00001 to 10 equivalents, preferably 0.001 to 0.3 equivalents, relative to the aryl tetrazole derivative [II].
  • a base potassium carbonate (K 2 CO 3 ), sodium carbonate (Na 2 CO 3 ), sodium hydrogen carbonate (NaHCO 3 ), potassium hydrogen carbonate (KHCO 3 ), potassium phosphate (K 3 PO 4 ), cesium carbonate (Cs 2 CO 3 ), rubidium carbonate (Rb 2 CO 3 ), and the like.
  • the amount of the base to be used is generally 0.1 to 10 equivalents, preferably 1 to 3 equivalents, more preferably 1 to 2 equivalents, relative to the aryl tetrazole derivative [II].
  • a ligand may be further added.
  • the ligand triphenylphosphine (sometimes referred to as triphenylphosphane), tri (t-butyl) phosphine, triethyl phosphite, tricyclohexyl phosphine, tri (o-tolyl) phosphine, tri (p-tolyl) Phosphane, tri (p-methoxyphenyl) phosphane, cyclohexyl diphenylphosphane, acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzoic acid, 1-adamantylcarbonic acid An acid etc.
  • the amount of the ligand to be used is generally 0.00001 to 10 equivalents, preferably 0.001 to 1 equivalent, relative to the aryl tetrazole derivative [II].
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but N-methyl-2-pyrrolidone (sometimes abbreviated as NMP), N, N-dimethylformamide (sometimes abbreviated as DMF), N, N -Polar solvents such as dimethylacetamide (sometimes abbreviated as DMA), dimethylsulfoxide (sometimes abbreviated as DMSO) or nonpolar solvents such as toluene and xylene, and mixtures of these polar solvents and nonpolar solvents Is preferred.
  • NMP N-methyl-2-pyrrolidone
  • DMF N-dimethylformamide
  • DMA dimethylacetamide
  • DMSO dimethylsulfoxide
  • nonpolar solvents such as toluene and xylene, and mixtures of these polar solvents and
  • the amount of the solvent to be used is generally 0 to 100 mL, preferably 0.1 to 10 mL, per 1 mmol of the aryl tetrazole derivative [II].
  • the reaction temperature is generally 20 to 300 ° C., preferably 100 to 200 ° C.
  • the reaction time is generally 0.01 to 200 hours, preferably 0.5 to 24 hours.
  • Step 2a When R 2 of compound [IV] is a methyl group substituted with a hydroxyl group protected by a protecting group, compound [V] is produced by deprotecting compound [IV] in the presence of a base be able to.
  • This reaction can also be carried out using a solvent.
  • the base sodium methoxide, sodium ethoxide, dimethylamine, methylamine, ammonia, potassium carbonate, sodium carbonate and the like can be mentioned.
  • the amount of the base to be used is generally 0.001 to 10 equivalents, preferably 0.01 to 1 equivalent, relative to compound [IV].
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and methanol, ethanol, propanol and the like can be mentioned.
  • the amount of the solvent to be used is generally 0.01 to 100 mL, preferably 0.1 to 10 mL, per 1 mmol of compound [IV].
  • the reaction temperature is generally ⁇ 50 to 100 ° C., preferably 0 to 40 ° C.
  • the reaction time is usually 0.001 to 10 hours, preferably 0.1 to 5 hours.
  • Step 2b When R 2 of compound [IV] is a lower alkoxycarbonyl group, compound [V] can be produced by reducing compound [IV] in the presence of a reducing agent. This reaction can also be carried out using a solvent.
  • a reducing agent sodium borohydride (also referred to as sodium tetrahydroborate), lithium aluminum hydride, diisobutylaluminum hydride and the like can be mentioned.
  • the amount of the reducing agent to be used is generally 1 to 5 equivalents, preferably 1 to 2 equivalents, relative to compound [IV].
  • the amount of the metal salt to be used is generally 0.1 to 2 equivalents, preferably 0.5 to 1 equivalents, relative to compound [IV], but when lithium aluminum hydride or diisobutylaluminum hydride is used as the reducing agent, The reaction proceeds in the absence of metal salts.
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and ethanol, 2-propanol, methanol and the like can be mentioned.
  • the amount of the solvent to be used is generally 1 to 50 mL, preferably 1 to 2 mL, per 1 mmol of compound [IV].
  • the reaction temperature is generally ⁇ 50 to 120 ° C., preferably 0 to 80 ° C.
  • the reaction time is generally 0.1-24 hours, preferably 3-10 hours.
  • Step 3 When R 2 of the compound [IV] is a methyl group, the biaryl tetrazole derivative [I] or a salt thereof is obtained by reacting the compound [IV] with a halogenating reagent in the presence of azobisisobutyronitrile (AIBN) It can be manufactured.
  • AIBN azobisisobutyronitrile
  • R 2 of compound [IV] is a methyl group or lower alkoxycarbonyl group substituted with a hydroxyl group protected by a protecting group
  • biaryl tetrazole derivative [I] or a salt thereof is compounded with compound [V] as a halogenating reagent It can be produced by reacting with These reactions can also be carried out using a solvent.
  • the halogenating reagent is not particularly limited, and a halogenating reagent known per se can be applied.
  • a halogenating reagent known per se can be applied.
  • phosphorus tribromide, thionyl bromide, hydrobromic acid, hydrogen chloride, thionyl chloride, Carbon tetrachloride / triphenylphosphine, bromotrimethylsilane, N-bromosuccinimide (NBS) and the like can be mentioned.
  • the amount of the halogenation reagent to be used is generally 1 to 10 equivalents, preferably 1 to 3 equivalents, relative to compound [V].
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but tetrahydrofuran (sometimes abbreviated as THF), toluene, ethyl acetate, dioxane, methyl t-butyl ether (MTBE), chloroform, methylene chloride, diisopropyl ether, acetonitrile, etc. Can be mentioned.
  • the amount of the solvent to be used is generally 0.01 to 100 mL, preferably 0.1 to 10 mL, per 1 mmol of compound [V].
  • the reaction temperature is generally ⁇ 50 to 150 ° C., preferably ⁇ 20 to 50 ° C.
  • the reaction time is generally 0.001 to 24 hours, preferably 0.1 to 10 hours.
  • Step 1 Compound [VII] can be produced by reacting biaryl tetrazole derivative [I] obtained by the aforementioned production method 1 with compound [VI] in the presence of a base. This reaction can also be carried out using a solvent.
  • the base is not particularly limited, and a base known per se can be applied. For example, potassium carbonate, cesium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, triethylamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] Undeca-7-ene (DBU) etc. are mentioned.
  • the amount of the base to be used is generally 1 to 10 equivalents, preferably 1 to 3 equivalents, relative to the biaryl tetrazole derivative [I].
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and includes DMA, DMF, DMSO, NMP, acetonitrile, toluene, THF, dioxane and the like.
  • the amount of the solvent to be used is generally 0.001 to 100 mL, preferably 0.1 to 10 mL, per 1 mmol of the biaryl tetrazole derivative [I].
  • the reaction temperature is generally ⁇ 50 to 150 ° C., preferably ⁇ 20 to 50 ° C.
  • the reaction time is generally 0.1 to 48 hours, preferably 0.5 to 5 hours.
  • Step 2-A (1) Compound [VIII] can be produced by reducing compound [VII] in the presence of a reducing agent.
  • This reaction can also be carried out using a solvent.
  • the reducing agent is not particularly limited, and a reducing agent known per se can be applied, and examples thereof include sodium borohydride, lithium borohydride, zinc borohydride, triacetoxyborohydride and the like.
  • Be The amount of the reducing agent to be used is generally 1 to 10 equivalents, preferably 1 to 5 equivalents, relative to compound [VII].
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and methanol, water, ethanol, isopropyl alcohol, dimethoxyethane and the like can be mentioned.
  • the amount of the solvent to be used is generally 0.01 to 100 mL, preferably 0.1 to 10 mL, per 1 mmol of compound [VII].
  • a base can also be used for this reaction as needed. Examples of the base include sodium hydroxide and the like.
  • the amount of the base to be used is generally 0 to 10 equivalents, preferably 1 to 2 equivalents, relative to compound [VII].
  • the reaction temperature is generally ⁇ 50 to 100 ° C., preferably ⁇ 20 to 50 ° C.
  • the reaction time is generally 0.01 to 48 hours, preferably 0.1 to 5 hours.
  • Step 2-A (2) Compound [IX] can be produced by deprotection (removal of R 1 ) of compound [VIII] in the presence of an acid.
  • the acid is not particularly limited, and an acid known per se can be applied, and examples thereof include trifluoroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoromethanesulfonic acid, methanesulfonic acid, sulfuric acid, hydrochloric acid and the like.
  • the amount of the acid to be used is generally 0.1 to 1000 equivalents, preferably 1 to 500 equivalents, relative to compound [VIII].
  • Deprotection by acid may suitably be carried out in the presence of a scavenger.
  • the capture agent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but includes mercaptans such as anisole, mesitylene, 1-octanethiol and the like.
  • the amount of the scavenger to be used is generally 0.001 to 10 mL, preferably 0.1 to 5 mL, per 1 mmol of compound [VIII].
  • the above acids and scavengers may act as solvents in this step.
  • the reaction temperature is generally ⁇ 50 to 150 ° C., preferably 10 to 100 ° C.
  • the reaction time is generally 0.1 to 48 hours, preferably 0.5 to 20 hours.
  • a method of reduction eg, catalytic reduction, formic acid reduction, etc.
  • This reaction can also be carried out using a solvent.
  • the reduction can be carried out in the presence of a catalyst.
  • the catalyst is not particularly limited as long as it can be used for catalytic reduction or formic acid reduction, and examples thereof include palladium carbon, palladium black, palladium oxide, palladium chloride, palladium acetate and the like.
  • the amount of the catalyst to be used is generally 0.0001 to 10 equivalents, preferably 0.01 to 0.1 equivalents, relative to compound [VIII].
  • the hydrogen pressure is 1 to 100 atm, preferably 1 to 10 atm.
  • a salt of formic acid (such as ammonium formate) is added as an additive.
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and examples thereof include isopropyl alcohol, n-propyl alcohol, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, methylene chloride, ethyl acetate and the like, or a mixed solvent of the above solvent and water.
  • the amount of the solvent to be used is generally 0.1 to 100 mL, preferably 0.5 to 10 mL, per 1 mmol of compound [VIII].
  • the reaction temperature is generally 0 to 150 ° C., preferably 10 to 80 ° C.
  • the reaction time is generally 0.1 to 72 hours, preferably 0.5 to 24 hours.
  • Step 2-B (1) Compound [VIII-2] is, the compound [VII], in an analogous manner to that described in (deprotection of the compound [VIII]) above production method 2 Step 2-A (2), deprotection (R 1 It can manufacture by removing.
  • Step 2-B (2) Compound [IX] is produced by reducing compound [VIII-2] in the same manner as the method described in the step 2-A (1) (reduction of compound [VII]) of the above-mentioned production method 2 Can.
  • Step 1 Compound [XI] is a compound of compound [X] or a salt thereof (eg, p-toluenesulfonic acid salt, hydrochloride etc.) in the presence of a base in the biaryl tetrazole derivative [I] obtained by the aforementioned production method 1 It can be produced by reacting with This reaction can also be carried out using a solvent.
  • the base is not particularly limited, and a base known per se can be applied, and examples thereof include ethyldiisopropylamine, triethylamine, pyridine, sodium hydride, potassium t-butoxide and the like.
  • the amount of the base to be used is generally 1 to 10 equivalents, preferably 1 to 5 equivalents, relative to the biaryl tetrazole derivative [I].
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and includes acetonitrile, toluene, THF, dioxane, chloroform, methylene chloride and the like.
  • the amount of the solvent to be used is generally 0.1 to 100 mL, preferably 0.5 to 5 mL, per 1 mmol of the biaryl tetrazole derivative [I].
  • the reaction temperature is generally ⁇ 50 to 150 ° C., preferably 5 to 100 ° C.
  • the reaction time is generally 0.1 to 48 hours, preferably 0.5 to 5 hours.
  • Step 2-A (1) Compound [XII] can be produced by deprotecting (removing R 1 ) of compound [XI] in the presence of an acid.
  • the acid is not particularly limited, and an acid known per se can be applied, and examples thereof include trifluoroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoromethanesulfonic acid, methanesulfonic acid, sulfuric acid, hydrochloric acid and the like.
  • the amount of the acid to be used is generally 0.1 to 1000 equivalents, preferably 1 to 500 equivalents, relative to compound [XI]. Deprotection by acid may suitably be carried out in the presence of a scavenger.
  • the capture agent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but includes mercaptans such as anisole, mesitylene, 1-octanethiol and the like.
  • the amount of the scavenger to be used is generally 0.001 to 10 mL, preferably 0.1 to 5 mL, per 1 mmol of compound [XI].
  • the above acids and scavengers may act as solvents in this step.
  • the reaction temperature is generally ⁇ 50 to 150 ° C., preferably 10 to 100 ° C.
  • the reaction time is generally 0.1 to 48 hours, preferably 0.5 to 5 hours.
  • a method of reduction eg, catalytic reduction, formic acid reduction, etc.
  • This reaction can also be carried out using a solvent.
  • the reduction can be carried out in the presence of a catalyst.
  • the catalyst is not particularly limited as long as it can be used for catalytic reduction or formic acid reduction, and examples thereof include palladium carbon, palladium black, palladium oxide, palladium chloride, palladium acetate and the like.
  • the amount of the catalyst to be used is generally 0.0001 to 10 equivalents, preferably 0.01 to 0.1 equivalents, relative to compound [XI].
  • the hydrogen pressure is 1 to 100 atm, preferably 1 to 10 atm.
  • a salt of formic acid (such as ammonium formate) is added as an additive.
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and examples thereof include isopropyl alcohol, n-propyl alcohol, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, methylene chloride, ethyl acetate and the like, or a mixed solvent of the above solvent and water.
  • the amount of the solvent to be used is generally 0.1 to 100 mL, preferably 0.5 to 10 mL, per 1 mmol of compound [XI].
  • the reaction temperature is generally 0 to 150 ° C., preferably 10 to 80 ° C.
  • the reaction time is generally 0.1 to 72 hours, preferably 0.5 to 24 hours.
  • Step 2-A (2) Compound [XIV] can be produced by reacting compound [XII] with compound [XIII] in the presence of a base. This reaction can also be carried out using a solvent.
  • the base is not particularly limited and, for example, triethylamine, ethyldiisopropylamine, DBU, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium hydroxide, potassium carbonate, potassium hydrogencarbonate, potassium phosphate, 4- Dimethylaminopyridine (DMAP), lutidine, pyridine and the like can be mentioned.
  • the amount of the base to be used is generally 1 to 10 equivalents, preferably 1 to 3 equivalents, relative to compound [XII].
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but toluene, xylene, methylene chloride, chloroform, acetonitrile, NMP, DMF, DMSO, THF, dimethoxyethane, t-butyl methyl ether (hereinafter also referred to as t-BME) And 1,4-dioxane.
  • the amount of the solvent to be used is generally 0.001 to 100 mL, preferably 0.1 to 10 mL, per 1 mmol of compound [XII].
  • the reaction temperature is generally ⁇ 20 to 150 ° C., preferably 0 to 100 ° C.
  • the reaction time is generally 0.1 to 48 hours, preferably 0.5 to 5 hours.
  • Step 2-A (3) Compound [XV] can be produced by deprotection (removal of R 3 ) of compound [XIV] in the presence of an acid.
  • the acid is not particularly limited, and an acid known per se can be applied, and examples thereof include trifluoroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoromethanesulfonic acid, methanesulfonic acid, sulfuric acid, hydrochloric acid and the like.
  • the amount of the acid to be used is generally 0.1 to 1000 equivalents, preferably 1 to 500 equivalents, relative to compound [XIV].
  • Deprotection by acid may suitably be carried out in the presence of a scavenger.
  • the scavenger is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and examples include anisole, mesitylene, mercaptan and the like.
  • the amount of the scavenger to be used is generally 0.001 to 10 mL, preferably 0.1 to 5 mL, per 1 mmol of compound [XIV].
  • the above acids and scavengers may act as solvents in this step.
  • the reaction temperature is generally ⁇ 50 to 150 ° C., preferably 10 to 100 ° C.
  • the reaction time is generally 0.1 to 48 hours, preferably 0.5 to 5 hours.
  • compound [XV] can also be produced by deprotection (removal of R 3 ) of compound [XIV] in the presence of a base.
  • This reaction can also be carried out using a solvent.
  • the base sodium methoxide, sodium ethoxide, dimethylamine, methylamine, ammonia, potassium carbonate, sodium carbonate and the like can be mentioned.
  • the amount of the base to be used is generally 0.001 to 10 equivalents, preferably 0.01 to 1 equivalent, relative to compound [XIV].
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and methanol, ethanol, propanol and the like can be mentioned.
  • the amount of the solvent to be used is generally 0.01 to 100 mL, preferably 0.1 to 10 mL, per 1 mmol of compound [XIV].
  • the reaction temperature is generally ⁇ 50 to 100 ° C., preferably 0 to 20 ° C.
  • the reaction time is usually 0.001 to 10 hours, preferably 0.1 to 5 hours.
  • compound [XV] can also be produced by reduction (eg, catalytic reduction, formic acid reduction, etc.) of compound [XIV] for deprotection (removal of R 3 ).
  • This reaction can also be carried out using a solvent.
  • the reduction can be carried out in the presence of a catalyst.
  • the catalyst is not particularly limited as long as it can be used for catalytic reduction or formic acid reduction, and examples thereof include palladium carbon, palladium black, palladium oxide, palladium chloride, palladium acetate and the like.
  • the amount of the catalyst to be used is generally 0.0001 to 10 equivalents, preferably 0.01 to 0.1 equivalents, relative to compound [XIV].
  • the hydrogen pressure is 1 to 100 atm, preferably 1 to 10 atm.
  • formic acid a salt of formic acid (such as ammonium formate) is added as an additive.
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and includes n-propyl alcohol, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, methylene chloride, ethyl acetate and the like, or a mixed solvent of the above solvent and water.
  • the amount of the solvent to be used is generally 0.1 to 100 mL, preferably 0.5 to 10 mL, per 1 mmol of compound [XIV].
  • the reaction temperature is generally 0 to 150 ° C., preferably 10 to 80 ° C.
  • the reaction time is generally 0.1 to 72 hours, preferably 0.5 to 24 hours.
  • Step 2-B (1) Compound [XII-2] is a compound similar to Compound [XI] in the same manner as described in the step 2-A (2) (reaction of compound [XII] with compound [XIII]) of the above-mentioned production method 3 It can be produced by reacting with [XIII].
  • Step 2-B (2) Compound [XV] is produced by subjecting compound [XII-2] to a method similar to that described in steps 2-A (1) and (3) of the above-mentioned production method 3 (deprotection of compounds [XI] and [XIV]). Can be prepared by deprotection (removal of R 1 and R 3 ).
  • compound [XV] can also be produced by deprotecting (removing R 1 and R 3 ) by reducing (eg, catalytic reduction, formic acid reduction) of compound [XII-2].
  • This reaction can also be carried out using a solvent.
  • the reduction can be carried out in the presence of a catalyst.
  • the catalyst is not particularly limited as long as it can be used for catalytic reduction or formic acid reduction, and examples thereof include palladium carbon, palladium black, palladium oxide, palladium chloride, palladium acetate and the like.
  • the amount of the catalyst to be used is generally 0.0001 to 10 equivalents, preferably 0.01 to 0.1 equivalents, relative to compound [XII-2].
  • the hydrogen pressure is 1 to 100 atm, preferably 1 to 10 atm.
  • formic acid a salt of formic acid (such as ammonium formate) is added as an additive.
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and includes n-propyl alcohol, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, methylene chloride, ethyl acetate and the like, or a mixed solvent of the above solvent and water.
  • the amount of the solvent to be used is generally 0.1 to 100 mL, preferably 0.5 to 10 mL, per 1 mmol of compound [XII-2].
  • the reaction temperature is generally 0 to 150 ° C., preferably 10 to 80 ° C.
  • the reaction time is generally 0.1 to 72 hours, preferably 0.5 to 24 hours.
  • Step 1 Compound [XVII] is obtained by reacting biaryl tetrazole derivative [I] obtained by the aforementioned production method 1 with compound [XVI] or a salt thereof (eg, hydrochloride etc.) in the presence of a base or a base and an additive. It can be manufactured by This reaction can also be carried out using a solvent.
  • the base is not particularly limited and, for example, triethylamine, ethyldiisopropylamine, DBU, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium hydroxide, potassium carbonate, potassium hydrogencarbonate, potassium phosphate, 4- Examples include dimethylaminopyridine (DMAP) and lutidine.
  • DMAP dimethylaminopyridine
  • the amount of the base to be used is generally 1 to 10 equivalents, preferably 1 to 3 equivalents, relative to the biaryl tetrazole derivative [I] compound.
  • the additive include tetraalkyl ammonium halide (eg, tetrabutyl ammonium bromide), tetraalkyl phosphonium halide and the like.
  • the amount of the additive to be used is generally 0.01 to 10 equivalents, preferably 0.05 to 1 equivalent, relative to the biaryl tetrazole derivative [I] compound.
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but toluene, xylene, methylene chloride, chloroform, acetonitrile, DMF, DMSO, THF, dimethoxyethane, t-BME, 1,4-dioxane or the like, or the above solvent and water And mixtures thereof.
  • the amount of the solvent to be used is generally 0.001 to 100 mL, preferably 0.1 to 10 mL, per 1 mmol of the biaryl tetrazole derivative [I].
  • the reaction temperature is generally ⁇ 20 to 150 ° C., preferably 0 to 100 ° C.
  • the reaction time is generally 0.1 to 48 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
  • Step 2 Compound [XVIII] can be produced by deprotecting compound (XVII) (removing R 1 ).
  • a method of reduction eg, catalytic reduction, formic acid reduction, etc.
  • This reaction can also be carried out using a solvent.
  • the reduction can be carried out in the presence of a catalyst.
  • the catalyst is not particularly limited as long as it can be used for catalytic reduction or formic acid reduction, and examples thereof include palladium carbon, palladium black, palladium oxide, palladium chloride, palladium acetate and the like.
  • the amount of the catalyst to be used is generally 0.0001 to 10 equivalents, preferably 0.01 to 0.1 equivalents, relative to compound [XVII].
  • the hydrogen pressure is 1 to 100 atm, preferably 1 to 10 atm.
  • formic acid a salt of formic acid (such as ammonium formate) is added as an additive.
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and examples thereof include isopropyl alcohol, n-propyl alcohol, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, methylene chloride, ethyl acetate and the like, or a mixed solvent of the above solvent and water.
  • the amount of the solvent to be used is generally 0.1 to 100 mL, preferably 0.5 to 10 mL, per 1 mmol of compound [XVII].
  • the reaction temperature is generally 0 to 150 ° C., preferably 10 to 80 ° C.
  • the reaction time is generally 0.1 to 72 hours, preferably 0.5 to 24 hours.
  • Step 1 Compound [XX] can be produced by reacting biaryl tetrazole derivative [I] obtained by the aforementioned production method 1 with compound [XIX] in the presence or absence of a base. This reaction can also be carried out using a solvent. The reaction is preferably carried out in the presence of a base.
  • bases include metal hydrides such as sodium hydride, metal alkoxides such as t-butoxy sodium and t-butoxy potassium, potassium carbonate, potassium hydrogen carbonate, Although carbonates, such as sodium carbonate and sodium hydrogencarbonate, etc. are mentioned, carbonate, especially potassium carbonate is used preferably.
  • the amount of the base to be used is generally 1 to 5 equivalents relative to the biaryl tetrazole derivative [I].
  • aprotic polar solvents such as dimethylformamide, dimethylsulfoxide and dimethylacetamide, ketones such as acetone and ethyl methyl ketone, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, esters such as ethyl acetate, benzene, toluene, Aromatic hydrocarbons such as xylene, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, acetonitrile and the like can be mentioned, among which acetonitrile is preferably used.
  • the amount of the solvent to be used is generally 0.1 to 10 mL relative to 1 mmol of the biaryl tetrazole derivative [I].
  • the reaction temperature is usually 70 to 90 ° C., and the reaction time is 3 to 10 hours.
  • Step 2 (1) Compound [XXI] can be produced by deprotection (removal of R 5 ) of compound [XX] in the presence of an acid.
  • the acid is not particularly limited, and an acid known per se can be used, for example, a Bronsted acid (eg, trifluoromethanesulfonic acid, methanesulfonic acid, phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, etc.) or Lewis acids (eg, aluminum chloride, tin chloride, borane trifluoride diethyl ether etc.) can be mentioned.
  • the amount of the acid to be used is generally 0.1 to 1000 equivalents, preferably 1 to 500 equivalents, relative to compound [XX].
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and water, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, methyl t-butyl ether and the like can be mentioned.
  • the amount of the solvent to be used is generally 0.01 to 100 mL, preferably 0.1 to 10 mL, per 1 mmol of compound [XX].
  • the reaction temperature is generally ⁇ 50 to 150 ° C., preferably 10 to 100 ° C.
  • the reaction time is generally 0.1 to 48 hours, preferably 0.5 to 20 hours.
  • Step 2 (2) Compound [XXII] can be produced by reducing compound [XXI] in the presence of a reducing agent. This reaction can also be carried out using a solvent.
  • the reducing agent is not particularly limited, and a reducing agent known per se can be used, for example, tin chloride, sodium borohydride, lithium borohydride, zinc borohydride, triacetoxyborohydride Etc.
  • the amount of the reducing agent to be used is generally 1 to 10 equivalents, preferably 1 to 5 equivalents, relative to compound [XXI].
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and water, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, dimethoxyethane, methyl t-butyl ether and the like can be mentioned.
  • the amount of the solvent to be used is generally 0.01 to 100 mL, preferably 0.1 to 10 mL, per 1 mmol of compound [XXI].
  • the reaction temperature is generally ⁇ 50 to 100 ° C., preferably ⁇ 20 to 50 ° C.
  • the reaction time is generally 0.01 to 48 hours, preferably 0.1 to 5 hours.
  • Step 3 (1) Compound [XXIII] can be produced by reacting compound [XXII] with tetraethoxymethane in the presence or absence of a solvent.
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and ethanol, tetrahydrofuran, toluene, ethyl acetate, acetic acid, dimethoxyethane, methyl t-butyl ether and the like can be mentioned.
  • the reaction temperature is generally 0 to 120 ° C., preferably 50 to 100 ° C.
  • the reaction time is generally 0.01 to 48 hours, preferably 0.1 to 5 hours.
  • Step 3 (2) Compound [XXIV] can be produced by hydrolysis and deprotection (removal of R 4 ) in the presence of a base or an acid and an aqueous organic solvent.
  • the base is not particularly limited, and a base known per se can be applied, and examples thereof include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate and sodium hydride.
  • the acid is not particularly limited, and an acid known per se can be applied, and examples thereof include trifluoroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoromethanesulfonic acid, methanesulfonic acid, sulfuric acid, hydrochloric acid and the like. .
  • the reaction temperature is generally 0 to 120 ° C., preferably 50 to 100 ° C.
  • the reaction time is generally 0.1 to 48 hours, preferably 0.5 to 5 hours.
  • Step 4 (1) Compound [XXVI] can be produced by reacting compound [XXIV] with compound [XXV] in the presence of a base. This reaction can also be carried out using a solvent.
  • the base is not particularly limited, and a base known per se can be applied, and examples thereof include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, triethylamine, and the like. Examples include tributylamine, methylamine and dimethylamine.
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and methanol, ethanol, isopropyl alcohol, dimethylformamide and the like can be mentioned.
  • the amount of the solvent to be used is generally 0.01 to 100 mL, preferably 0.1 to 10 mL, per 1 mmol of compound [XXIV].
  • the reaction temperature is generally ⁇ 50 to 150 ° C., preferably 10 to 100 ° C.
  • the reaction time is generally 0.1 to 48 hours, preferably 0.5 to 20 hours.
  • Step 4 (2) Compound [XXVII] can be produced by deprotecting compound [XXVI] (removing R 1 ).
  • a method of reduction eg, catalytic reduction, formic acid reduction, etc.
  • This reaction can also be carried out using a solvent.
  • the reduction can be carried out in the presence of a catalyst.
  • the catalyst is not particularly limited as long as it can be used for catalytic reduction or formic acid reduction, and examples thereof include palladium carbon, palladium black, palladium oxide, palladium chloride, palladium acetate and the like.
  • the amount of the catalyst to be used is generally 0.0001 to 10 equivalents, preferably 0.01 to 0.1 equivalents, relative to compound [XXVII].
  • the hydrogen pressure is 1 to 100 atm, preferably 1 to 10 atm.
  • formic acid a salt of formic acid (such as ammonium formate) is added as an additive.
  • the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and examples thereof include isopropyl alcohol, n-propyl alcohol, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, methylene chloride, ethyl acetate and the like, or a mixed solvent of the above solvent and water.
  • the amount of the solvent to be used is generally 0.1 to 100 mL, preferably 0.5 to 10 mL, per 1 mmol of compound [XXVI].
  • the reaction temperature is generally 0 to 150 ° C., preferably 10 to 80 ° C.
  • the reaction time is generally 0.1 to 72 hours, preferably 0.5 to 24 hours.
  • the reaction can be carried out under pH 7-14 basic conditions or pH 7.
  • the salt of compound (I) is not particularly limited, and examples thereof include salts with hydrochloric acid, sulfuric acid and the like.
  • the compound (IX), the compound (XVIII) or the salt of the compound (XXVII) is not particularly limited as long as it is pharmacologically acceptable.
  • Salts with mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, hydrobromide, phosphoric acid etc .
  • Salts with organic acids such as methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, acetic acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, fumaric acid
  • Salts with alkali metals such as sodium and potassium
  • Salts with alkaline earth metals such as magnesium
  • salts with amines such as ammonia, ethanolamine, 2-amino-2-methyl-1-propanol and the like.
  • the salt of compound (XV) is not particularly limited as long as it is pharmacologically acceptable, for example, Salts with alkali metals such as sodium and potassium; Salts with alkaline earth metals such as magnesium; And salts with amines such as ammonia, ethanolamine, 2-amino-2-methyl-1-propanol and the like.
  • the compound (I), the compound (IX), the compound (XV), the compound (XVIII), the compound (XXVII) or a salt thereof includes a solvate.
  • a solvate for example, hydrate, alcoholate (eg, methanolate, ethanolate) can be mentioned.
  • room temperature refers to a temperature of 15 to 30 ° C.
  • C M indicates a major conformer
  • C m indicates a minor conformer.
  • % in concentration and content indicates “% by weight” unless otherwise specified.
  • Phosphorus pentachloride (67.9 g, 0.326 mol) was added in five portions to a mixture of N-benzyl benzamide (62.5 g, 0.296 mol) and dichloromethane (570 mL) at -15 to -8 ° C. The mixture was heated to 21 ° C. over 3 hours and then concentrated to 0.17 L under reduced pressure at 21 ° C. or less. Dichloromethane (450 mL) was added to this mixture, and azidotrimethylsilane (50.3 g, 0.436 mol) was dropped over 0.5 hours at ⁇ 8 ° C. or less, and washed with dichloromethane (5 mL). The reaction mixture was warmed to room temperature and stirred for 4 hours.
  • N-benzylbenzamide was confirmed by TLC (developing solvent: toluene / ethyl acetate (4: 1)).
  • saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (2300 mL) at 17 ° C. or less to separate.
  • the aqueous layer was extracted with dichloromethane (450 mL), and the combined organic layer was washed with 20% brine (300 mL), dried over magnesium sulfate (20 g), concentrated under reduced pressure at 40 ° C. or lower, crude product ( 69.8 g (99.8% of the theoretical yield) were obtained as a turbid yellow oil.
  • the mixture is gradually cooled to 6 ° C., and the precipitated crystals are collected by filtration, washed with cold ethyl acetate (10 mL), and dried at 40 ° C. or less under reduced pressure to obtain N-benzoyl-2-methoxybenzylamine (30.7 g). , 87.1%) as white crystals.
  • Phosphorus pentachloride (15.2 g, 73.1 mmol) was added to a mixture of N-benzoyl-2-methoxybenzylamine (16.0 g, 66.3 mmol) and dichloromethane (128 mL) at -15 to -11 ° C. After addition over 11 minutes, the temperature was raised to 21 ° C. over 2 hours. During this time, the inner wall of the reaction vessel was washed with dichloromethane (11 mL).
  • reaction mixture was concentrated under reduced pressure at room temperature or less, dichloromethane (101 mL) was added, azidotrimethylsilane (11.2 g, 97.5 mmol) was added dropwise at -13 to -10 ° C, and washed with dichloromethane (10 mL) .
  • the reaction mixture was warmed to room temperature and stirred for 4 hours.
  • the reaction was monitored by TLC (developing solvent: toluene / ethyl acetate (4: 1, 2: 1)).
  • saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution 200 mL was added dropwise at 3 to 11 ° C.
  • the solid is collected by filtration, washed with cold ethyl acetate (33 g), and dried at 50 ° C. or less under reduced pressure to give compound 1c (primary crystal; 14.6 g, 82.5%; HPLC 99.2 area%) Was obtained as white crystals.
  • the filtrate was concentrated under reduced pressure at 40 ° C. or less (5.6 g of contents), ethyl acetate (2.7 mL) was added, and heating was performed in a 70 ° C. bath to substantially dissolve the solid. The mixture was cooled to -3.degree. C. during which seeding was performed.
  • the solid is collected by filtration, washed with cold ethyl acetate (2 mL), and dried under reduced pressure at 50 ° C.
  • the reaction was monitored by TLC (developing solvent: hexane / ethyl acetate (1: 1)).
  • water 48 mL
  • ethyl acetate 144 mL
  • the combined organic layer is washed successively with 10% hydrochloric acid (48 mL), saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (48 mL), water (48 mL) and saturated brine (48 mL), dried with magnesium sulfate (12 g), and then reduced in pressure.
  • the solvent was distilled off at 40 ° C. or less.
  • the seed crystals obtained by the above operation were inoculated to precipitate crystals. After cooling to 13 ° C., the solid was collected by filtration, washed with a dichloromethane / hexane mixture (7: 3; 48 mL) and then dried at 30 ° C. or less under reduced pressure. After observation of melting during drying, vacuum drying was performed without using a warm bath to obtain Compound 1d (28.1 g, 82.8%) as a slightly brown solid.
  • the temperature of the reaction mixture was raised to room temperature over 3 hours and stirred for 6 hours.
  • the reaction was monitored by TLC (developing solvent: toluene / ethyl acetate (7: 3)).
  • the reaction mixture was cooled and saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (250 mL) was added at 3 to 10 ° C.
  • the layers were separated, and the aqueous layer was extracted by adding dichloromethane (90 mL).
  • the combined organic layer was washed with 20% brine (50 mL), dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure at 40 ° C. or less.
  • Dichloromethane (30 mL) was added to the concentrate and concentrated again.
  • the organic layer was washed successively with 1 mol / L hydrochloric acid (600 mL), water (600 mL) and 20% brine (600 mL), and dried over magnesium sulfate (60 g).
  • Magnesium sulfate was removed by filtration, the filtrate was concentrated under reduced pressure with a bath at 50 ° C. or less (about 830 g), and the bath temperature was lowered to 18 ° C.
  • the solid is collected by filtration, washed with cold dichloromethane (85 mL) and dried under reduced pressure at 50 ° C. or less to obtain N-benzoyl-2-methoxybenzylamine (primary crystals 481 g, 91.2%) as white crystals. Obtained.
  • the area percentage was 99.3% and the content was 97.8%.
  • the filtrate was concentrated under reduced pressure at 30 ° C. or less (53.5 g), ethyl acetate (41.1 g) was added, and the solution was dissolved using a 60 ° C. bath. After cooling to 1 ° C. over 4 hours, the solid is collected by filtration, washed with cold ethyl acetate (20 mL), and dried under reduced pressure at 50 ° C. or less to give a secondary N-benzoyl-2-methoxybenzylamine. Crystal (29.9 g, 5.7%) was obtained. As a result of HPLC analysis, the area percentage was 98.7%, and the content was 97.0%.
  • the concentrate is diluted with ethyl acetate (88 mL), washed sequentially with 1 mol / L hydrochloric acid (44 mL), saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (22 mL, 12 mL ⁇ 2) and 20% brine (33 mL), and magnesium sulfate (5 After drying with 0. 0g), it was concentrated at 35 ° C or less under reduced pressure. After adding chloroform (20 mL) to the concentrated solution and repeating the operation of concentration under reduced pressure at 45 ° C. or less four times, Compound 2c (14.0 g, 98.0%) was fined by drying under reduced pressure at 45 ° C. or lower. Obtained as a yellow oil. IR (neat): 1739, 1227 cm -1
  • Triphenylphosphine (4.81 g, 18.3 mmol), 1-benzyl-5-phenyl-1H-tetrazole (compound 1b, 43.3 g, 183 mmol), potassium carbonate (50.7 g, 367 mmol), dichloro (1, 5) -Cyclooctadiene) ruthenium (II) polymer (2.57 g, 9.17 mmol as monomer), p-bromobenzyl acetate (compound 2a, 62.9 g, 274 mmol) and N-methyl-2-pyrrolidone (366 mL) The mixture was stirred at 140 ° C. for 5 hours under a nitrogen atmosphere. The reaction was monitored by HPLC.
  • the aqueous layer was extracted with ethyl acetate (5.0 mL). The combined organic layer was washed with saturated brine (5.0 mL), and then saturated brine (8.0 mL) was added to separate the layers. Since the main product was detected in the aqueous layer by TLC, the aqueous layer was combined and extracted with ethyl acetate (10 mL).
  • the total amount (9.54 g) of the obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate (100: 0 to 2: 1)). After distilling off the solvent and heating with ethyl acetate (2 mL) to dissolve most of the solid, diisopropyl ether (8 mL) was gradually added, and seed crystals were appropriately inoculated. The mixture is cooled to ⁇ 2 ° C., the solid is collected by filtration, washed with diisopropyl ether (8.5 mL), and dried at 40 ° C. or less to give compound 3d (466 mg, 76.0% of the theoretical yield) as a white Obtained as a crystal.
  • the combined organic layer was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (3.0 mL) and 20% brine (3.0 mL), dried over magnesium sulfate (0.5 g) and concentrated under reduced pressure at 30 ° C. or less .
  • the obtained oil was triturated with diisopropyl ether (1.0 mL) to crystallize. Further, diisopropyl ether (2.0 mL) is added, and the mixture is stirred for 30 minutes, and the solid is collected by filtration, washed with diisopropyl ether (1.0 mL), and dried at 40 ° C. or less under reduced pressure to obtain compound 4c (62. 7 mg, 76.4%) were obtained.
  • reaction was monitored by TLC (developing solvent: toluene / ethyl acetate (3: 2)).
  • Cold water (0.33 mL), ethyl acetate (10 mL) and 20% brine (1.0 mL) were added to the reaction mixture to carry out liquid separation.
  • the organic layer was washed with 20% brine (1.0 mL), dried over magnesium sulfate (1.2 g), and concentrated under reduced pressure at 40 ° C. or less.
  • Chloroform (5 mL) was added to the concentrate and the operation of concentration under reduced pressure was repeated three times, and then dried under reduced pressure to obtain a crude product of compound 5c (63.1 mg, 114% of the theoretical yield).
  • the aqueous layer was extracted by adding cold ethyl acetate (3.8 mL). The combined organic layer was washed with 10% brine (1.7 mL) and saturated brine (1.0 mL), then washed with brine (2.0 mL), and then with magnesium sulfate (1.2 g) After drying, it was concentrated under reduced pressure at 35 ° C. or less. The solvent was replaced with chloroform, and purification was performed by silica gel (Merck; silica gel 60N (trade name)) column chromatography (developing solvent: toluene / ethyl acetate (100: 0 to 50: 1)).
  • reaction mixture was stirred at 5 ° C. for 25 minutes and then at room temperature for 3 hours.
  • NaBH 4 (8.6 mg, 0.23 mmol) was added and stirred for 1 hour.
  • the reaction was monitored by TLC (developing solvent: chloroform / methanol (10: 1)) and HPLC.
  • To the reaction mixture was added water (0.5 mL) and washed with diisopropyl ether (0.5 mL). The aqueous layer was added 1% HCl to adjust pH to 2, and extracted three times with ethyl acetate (5 mL).
  • reaction solution was diluted with ethyl acetate (20 mL) and washed with water (5 mL), and then the aqueous layer was reextracted with ethyl acetate (10 mL). The organic layers were combined and dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated to give a yellow oil.
  • a mixture of the crude product of compound 12-2a (153 mg), methanol (21 mL) and palladium carbon (200 mg, 4.12 mg in terms of Pd) is pressurized with hydrogen at about 0.46 MPa (4.5 atm) under hydrogen atmosphere, Stir at room temperature for 2 hours. The pressure was released, and the gas in the system was replaced with nitrogen, and then the same catalyst (206 mg, 4.24 mg in terms of Pd) was added. The reaction mixture was pressurized with hydrogen under a hydrogen atmosphere at 0.65 MPa and stirred at room temperature for 3 hours.
  • the filtrate was concentrated under reduced pressure, the concentrate was dissolved in 0.5 mol / L aqueous sodium hydroxide solution (1.5 mL) and water (4.2 mL), and washed with MTBE (5.5 mL). The aqueous layer was washed with water (4.2 mL) and MTBE (10 mL). The aqueous layer is brought to pH 2 by adding 4 mol / L hydrochloric acid (0.17 mL) and 0.2 mol / L hydrochloric acid (0.10 mL) and 5% hydrochloric acid (0.13 mL), and the solution is adjusted to 2 with ethyl acetate (34 mL, 10 mL) Extracted times.
  • the aqueous layer was further adjusted to pH 1 by adding 5% hydrochloric acid (70 ⁇ L) and extracted with ethyl acetate (30 mL). The combined organic layer was washed twice with 10% brine (20 mL), dried over magnesium sulfate (2.0 g), and concentrated to dryness under reduced pressure at 40 ° C. The concentrate was dissolved in ethyl acetate (0.29 mL), cyclohexane (0.30 mL) was added and seeded. Further, cyclohexane (0.30 mL) was added to the mixture and cooled to 9 ° C.
  • valsartan Compound 15, 25.9 mg, yield 25.1%
  • the reaction mixture was cooled to room temperature, 1% hydrochloric acid (3 mL) and ethyl acetate (10 mL) were added to separate, and the aqueous layer was extracted with ethyl acetate (10 mL).
  • the combined organic layers were washed twice with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (5 mL) and twice with 10% brine (5 mL) and then dried over magnesium sulfate, and the crude product (236 mg, 114% of the theoretical yield) was obtained Obtained.
  • the crude product was purified by TLC (developing solvent: hexane / ethyl acetate (10: 9)) to give compound 12-2a (227 mg, 109% of the theoretical yield) as a pale yellow oil.
  • the reaction mixture was allowed to stand for 5 days, water (10 mL) and tert-butyl methyl ether (30 mL) were added to separate, and the aqueous layer was extracted with tert-butyl methyl ether (20 mL).
  • the combined organic layers were washed with 5% citric acid (5.0 mL) and then twice with 20% brine (5 mL).
  • the washed organic layer was dried over magnesium sulfate (3.0 g), concentrated under reduced pressure at 40 ° C., and the crude product (0.99 g, 1.0 ⁇ 10 2 % of the theoretical yield) was white orange with foam. Obtained as a solid.
  • the reaction mixture was added with 5% palladium carbon (136 mg, 3.0 mg in terms of Pd, 0.028 mmol), and heated at 80 ° C. for 4 hours.
  • the reaction was monitored by HPLC and TLC (developing solvent: chloroform / methanol (20: 1)).
  • the reaction mixture was cooled to room temperature and filtered using isopropyl alcohol (about 20 mL).
  • the filtrate is concentrated to 0.15 g and then 0.5 mol / L aqueous sodium hydroxide solution (1.5 mL), water (1.6 mL), tert-butyl methyl ether (3.0 mL) and 1 mol / L aqueous sodium hydroxide solution (0.2 mL) was added and separated.
  • the aqueous layer was washed with tert-butyl methyl ether (3.0 mL), then 4 mol / L hydrochloric acid (0.17 mL), 0.2 mol / L hydrochloric acid (0.15 mL) and 1 mol / L hydrochloric acid (0.11 mL) were added.
  • the pH was dropped to 6.0.
  • the precipitated solid is collected by filtration, washed with water (5.0 mL) and dried under reduced pressure at 40-60 ° C. to give crude irbesartan (compound 18) (63.9 mg, 50. I got 5%).
  • the reaction mixture is warmed in a bath at 40 ° C. for 2 hours, the bath is removed, pyridine (92.8 mg, 1.17 mmol) and pentanoyl chloride (141 mg, 1.17 mol) are added, and again in a bath at 40 ° C. for 3 hours Half warmed.
  • the reaction mixture was cooled to room temperature, and 1 mol / L hydrochloric acid (5 mL) and ethyl acetate (20 mL) were added to separate the layers.
  • the aqueous layer was extracted with ethyl acetate (20 mL), and the combined organic layer was washed twice with saturated sodium bicarbonate (10 mL), twice with 20% brine (10 mL), and dried over magnesium sulfate.
  • Valerylated body isopropyl alcohol solution 24.4%, 800 mg, net 195 mg, 0.302 mmol
  • palladium-carbon E 1003 NN / W 5% Pd, water 58.8%; 128 mg, 2.6 mg as Pd, 25 ⁇ mol
  • ammonium formate 96.2 mg, 1.53 mmol
  • purified water 0.51 mL
  • the filtrate was concentrated under reduced pressure and then 0.5 mol / L sodium hydroxide (2.0 mL), water (7 mL) and t-butyl methyl ether (5 mL) were added to carry out liquid separation.
  • the aqueous layer was washed with t-butyl methyl ether (5 mL), and 1 mol / L hydrochloric acid (1.7 mL) and ethyl acetate (40 mL) were added to separate the layers.
  • the aqueous layer was extracted twice with ethyl acetate (15 mL) and the combined organic layers were washed twice with 10% brine (10 mL) and dried over magnesium sulfate (2.0 g).
  • the reaction mixture was cooled, filtered, and the cake was washed with acetonitrile (35 mL) and concentrated under reduced pressure at 35 ° C. to give a crude product.
  • the crude product is purified by silica gel column chromatography (developing solvent: toluene / ethyl acetate (100: 0 to 4: 1)), concentrated, and chloroform (about 30 mL) is added and concentrated four times.
  • biaryl tetrazole derivatives useful as intermediates for angiotensin II receptor antagonists can be produced under conditions suitable for economical and industrial production. It becomes.

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Abstract

　本発明は、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬の中間体として有用なビアリールテトラゾール誘導体又はその塩の製法を提供する。本発明の製法は、１）一般式［ＩＩ］のアリールテトラゾール誘導体と、一般式［ＩＩＩ］のベンゼン誘導体を反応させ；２）得られる一般式［ＩＶ］の化合物において（ａ）Ｒ２が保護基で保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、（ｂ）Ｒ２が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、一般式［Ｖ］の化合物を得；３）一般式［ＩＶ］の化合物のＲ２がメチル基である場合は、一般式［ＩＶ］の化合物を、一般式［ＩＶ］の化合物のＲ２が保護基で保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコキシカルボニル基である場合は、一般式［Ｖ］の化合物を、さらにハロゲン化することを特徴とする（各式中、各記号は本明細書中で定義した通り）。

Description

ビフェニル誘導体の製法
　本発明は、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬の中間体として有用なビアリールテトラゾール誘導体又はその塩の製法に関する。
　ロサルタン　カリウム、バルサルタン、オルメサルタン　メドキソミル、カンデサルタン　シレキセチル、テルミサルタン、イルベサルタンなどは、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬として有用である。
　これら化合物の製造方法としては、例えば、ロサルタンの合成法としてＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、１９９４年、５９巻、６３９１～６３９４頁（非特許文献１）に記載の製法が、また、バルサルタンの合成法としてＯｒｇ．Ｐｒｏｃｅｓｓ　Ｒｅｓ．Ｄｅｖ．、２００７年、１１巻、８９２～８９８頁（非特許文献２）に記載の製法が、さらにイルベサルタンの合成法としてＪ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．、１９９３年、３６巻、３３７１～３３８０頁（非特許文献３）に記載の製法がそれぞれ知られている。
　また、ビフェニル化反応の従来法としては、例えば、Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．、２００８年、３７巻、９号、９９４～９９５頁（非特許文献４）に記載の方法、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、２００８年、６４巻、６０５１～６０５９頁（非特許文献５）、Ａｎｇｅｗａｎｄｔe　Ｃｈｅｍｉｅ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　Ｅｄｉｔｉｏｎ、２００９年、４８巻、９７９２～９８２７頁（非特許文献６）に記載の方法が知られている。
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、１９９４年、５９巻、６３９１～６３９４頁 Ｏｒｇ．Ｐｒｏｃｅｓｓ　Ｒｅｓ．Ｄｅｖ．、２００７年、１１巻、８９２～８９８頁 Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．、１９９３年、３６巻、３３７１～３３８０頁 Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．、２００８年、３７巻、９号、９９４～９９５頁 Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、２００８年、６４巻、６０５１～６０５９頁 Ａｎｇｅｗａｎｄｔe　Ｃｈｅｍｉｅ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　Ｅｄｉｔｉｏｎ、２００９年、４８巻、９７９２～９８２７頁
　前記の従来技術の製造法は、高価な金属化合物を必要としているため、より経済的な製造法の開発が望まれている。
　本発明は、安価な金属化合物を用いることを可能とし、経済的かつ工業的製造に適した条件で、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬の中間体として有用なビアリールテトラゾール誘導体を製造することができる、新規な製法を提供することを目的とする。
　本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、下記の製法により、安価な金属化合物を用いることが可能となり、経済的かつ工業的製造に適した条件で、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬の中間体として有用なビアリールテトラゾール誘導体を製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。
　即ち、本発明は；
（１）１）一般式［ＩＩ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
［式中、Ｒ１はテトラゾリル基の保護基を表す。］
で示されるアリールテトラゾール誘導体（アリールテトラゾール誘導体［ＩＩ］ともいう）と、一般式［ＩＩＩ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
［式中、Ｒ２はメチル基、保護基で保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコキシカルボニル基、Ｘ１は脱離基を表す。］
で示されるベンゼン誘導体（ベンゼン誘導体［ＩＩＩ］ともいう）を反応させ；
２）得られる一般式［ＩＶ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
で示される化合物（化合物［ＩＶ］ともいう）において
（ａ）Ｒ２が保護基で保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
（ｂ）Ｒ２が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、
一般式［Ｖ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
で示される化合物（化合物［Ｖ］ともいう）を得；
３）一般式［ＩＶ］で示される化合物のＲ２がメチル基である場合は、一般式［ＩＶ］で示される化合物を、
一般式［ＩＶ］で示される化合物のＲ２が保護基で保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコキシカルボニル基である場合は、一般式［Ｖ］で示される化合物を、
さらにハロゲン化することを特徴とする、一般式［Ｉ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
［式中、Ｘ２はハロゲン原子を表し、他の記号は前記と同一意味を表す。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体（ビアリールテトラゾール誘導体［Ｉ］ともいう）又はその塩の製法（以下、「製造方法１」ともいう）；
（２）一般式［ＩＩ］で示されるアリールテトラゾール誘導体と、一般式［ＩＩＩ］で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒存在下で反応させることを特徴とする、上記（１）に記載の製法；
（３）一般式［ＩＩ］で示されるアリールテトラゾール誘導体と、一般式［ＩＩＩ］で示されるベンゼン誘導体を、塩基及び金属触媒存在下で反応させることを特徴とする、上記（１）に記載の製法；
（４）１）上記（１）記載の製法で得られた一般式［Ｉ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
［式中、Ｘ２はハロゲン原子を表し、Ｒ１はテトラゾリル基の保護基を表す。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、式［ＶＩ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
で示される化合物（化合物［ＶＩ］ともいう）を反応させ；
２－Ａ）得られる一般式［ＶＩＩ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
で示される化合物（化合物［ＶＩＩ］ともいう）を還元して、一般式［ＶＩＩＩ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
で示される化合物（化合物［ＶＩＩＩ］ともいう）を得、さらにＲ１を除去するか；又は２－Ｂ）一般式［ＶＩＩ］で示される化合物のＲ１を除去して、式［ＶＩＩＩ－２］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
で示される化合物（化合物［ＶＩＩＩ－２］ともいう）を得、さらに還元することを特徴とする、
式［ＩＸ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
で示される化合物（即ちロサルタン、以下化合物［ＩＸ］ともいう）又はその塩の製法（以下、「製造方法２」ともいう）；
（５）１）上記（１）記載の製法で得られた一般式［Ｉ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
［式中、Ｘ２はハロゲン原子を表し、Ｒ１はテトラゾリル基の保護基を表す。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［Ｘ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
［式中、Ｒ３はカルボキシ基の保護基を表す。］
で示される化合物（化合物［Ｘ］ともいう）又はその塩を反応させ；
２－Ａ）得られる一般式［ＸＩ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
で示される化合物（化合物［ＸＩ］ともいう）のＲ１を除去し、得られる一般式［ＸＩＩ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
で示される化合物（化合物［ＸＩＩ］ともいう）と、一般式［ＸＩＩＩ］：
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯ－Ｘ３
［式中、Ｘ３は脱離基を表す。］
で示される化合物（化合物［ＸＩＩＩ］ともいう）を反応させ、得られる一般式［ＸＩＶ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
で示される化合物（化合物［ＸＩＶ］ともいう）のＲ３を除去するか；又は
２－Ｂ）一般式［ＸＩ］で示される化合物と、一般式［ＸＩＩＩ］で示される化合物を反応させ、得られる一般式［ＸＩＩ－２］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
で示される化合物（化合物［ＸＩＩ－２］ともいう）のＲ１及びＲ３を除去することを特徴とする、
式［ＸＶ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
で示される化合物（即ちバルサルタン、以下化合物［ＸＶ］ともいう）又はその塩の製法（以下、「製造方法３」ともいう）；
（６）上記（１）記載の製法で得られた一般式［Ｉ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
［式中、Ｘ２はハロゲン原子を表し、Ｒ１はテトラゾリル基の保護基を表す。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、式［ＸＶＩ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
で示される化合物（化合物［ＸＶＩ］ともいう）又はその塩を反応させて、一般式［ＸＶＩＩ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
で示される化合物（化合物［ＸＶＩＩ］ともいう）を得、さらにＲ１を除去することを特徴とする、
式［ＸＶＩＩＩ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
で示される化合物（即ちイルベサルタン、以下化合物［ＸＶＩＩＩ］ともいう）又はその塩の製法（以下、「製造方法４」ともいう）；及び
（７）１）上記（１）記載の製法で得られた一般式［Ｉ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
［式中、Ｘ２はハロゲン原子を表し、Ｒ１はテトラゾリル基の保護基を表す。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［ＸＩＸ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
［式中、Ｒ４はカルボキシ基の保護基を表し、Ｒ５はアミノ基の保護基を表す。］
で示される化合物（化合物［ＸＩＸ］ともいう）を反応させ、
　２）得られる一般式［ＸＸ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
で示される化合物（化合物［ＸＸ］ともいう）のＲ５を除去して、一般式［ＸＸＩ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
で示される化合物（化合物［ＸＸＩ］ともいう）を得、さらに還元して、
　３）得られる一般式［ＸＸＩＩ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
で示される化合物（化合物［ＸＸＩＩ］ともいう）とテトラエトキシメタンを反応させて一般式［ＸＸＩＩＩ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
で示される化合物（化合物［ＸＸＩＩＩ］ともいう）を得、さらにＲ４を除去して、
　４）得られる一般式［ＸＸＩＶ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
で示される化合物（化合物［ＸＸＩＶ］ともいう）と一般式［ＸＸＶ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
［式中、Ｘ４は脱離基または水酸基を表す。］
で示される化合物（化合物［ＸＸＶ］ともいう）とを反応させて一般式［ＸＸＶＩ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
で示される化合物（化合物［ＸＸＶＩ］ともいう）を得、さらにＲ１を除去することを特徴とする、一般式［ＸＸＶＩＩ］：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
で示される化合物（即ちカンデサルタン　シレキセチル、以下化合物［ＸＸＶＩＩ］ともいう）又はその塩の製法（以下、「製造方法５」ともいう）；
に関する。
　本発明によれば、安価な金属化合物を用いることが可能となり、経済的かつ工業的製造に適した条件で、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬の中間体として有用なビアリールテトラゾール誘導体を製造することが可能となる。
　本発明において用いられる記号及び用語の定義について、以下に詳述する。
　「テトラゾリル基の保護基」とは、反応の際に安定してテトラゾリル基を保護し得るものであれば特に限定されないが、具体的にはＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　３ｒｄ　Ｅｄ．、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ、Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ著、Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　ａｎｄ　Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．、１９９９年に記載のものが挙げられる。
　テトラゾリル基の保護基としては、例えば、
Ｃ７－１９アラルキル基（例、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル等）；
置換ベンジル、置換ジフェニルメチル等の置換Ｃ７－１９アラルキル基（好ましくは、Ｃ１－６アルキル、ニトロ、Ｃ１－６アルキレンジオキシ及びＣ１－６アルコキシからなる群から選択される１～３個の置換基で置換された、Ｃ７－１９アラルキル（該置換基が２個以上存在する場合は、同一又は異なっていてもよく、該置換基同士が結合して環を形成してもよい）、例、ｐ－メチルベンジル、ｐ－ニトロベンジル、２，４－ジメトキシベンジル、３，４－ジメトキシベンジル、３，４－（メチレンジオキシ）ベンジル、ｐ－メトキシベンジル、ｏ－メトキシベンジル、３，４，５－トリメトキシベンジル等）；
置換Ｃ１－６アルキル基（好ましくは、ヒドロキシ、アルコキシ（例、Ｃ１－６アルコキシ）、アリールオキシ（例、Ｃ６－１０アリールオキシ）及びジアルキルアミノ（例、ジ（Ｃ１－６アルキル）アミノ）からなる群から選択される１～３個の置換基で置換された、Ｃ１－６アルキル、例、ヒドロキシメチル、アルコキシメチル、アリールオキシメチル、ジアルキルアミノメチル等）；
トリアルキルシリル基（好ましくは、トリ（Ｃ１－６アルキル）シリル）；
Ｃ１－６アルキル基（例、t－ブチル等）
等が挙げられる。
　「保護基で保護された水酸基で置換されたメチル基」の「保護基」とは、反応の際に安定して水酸基を保護し得るものであれば特に限定されないが、具体的にはＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　３ｒｄ　Ｅｄ．、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ、Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ著、Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　ａｎｄ　Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．、１９９９年に記載のものが挙げられる。
　該保護基としては、例えば、
アシル基（好ましくは、Ｃ１－６アルキル－カルボニル、Ｃ３－８シクロアルキル－カルボニル、Ｃ６－１０アリール－カルボニル、例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ピバロイル、シクロヘキシルカルボニル、ベンゾイル等）、
Ｃ７－１９アラルキル基（例、ベンジル等）、
トリアルキルシリル基（好ましくは、トリ（Ｃ１－６アルキル）シリル、例、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ｔ－ブチルジメチルシリル等）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、Ｃ１－６アルコキシ－カルボニル）
等が挙げられる。
　「カルボキシ基の保護基」とは、反応の際に安定してカルボキシ基を保護し得るものであれば特に限定されないが、具体的にはＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　３ｒｄ　Ｅｄ．、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ、Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ著、Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　ａｎｄ　Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．、１９９９年に記載のものが挙げられる。
　カルボキシ基の保護基としては、例えば、
アルキル基（好ましくは、Ｃ１－６アルキル、例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル）、
Ｃ３－８シクロアルキル基（例、シクロヘキシル）、
Ｃ７－１９アラルキル基（例、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル）、
Ｃ２－６アルケニル基（例、アリル）
等が挙げられる。
　「アミノ基の保護基」とは、反応の際に安定してアミノ基を保護し得るものであれば特に限定されないが、具体的にはＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　３ｒｄ　Ｅｄ．、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ、Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ著、Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　ａｎｄ　Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．、１９９９年に記載のものが挙げられる。
　アミノ基の保護基としては、例えば、アシル基（好ましくは、Ｃ１－６アルキル－カルボニル、Ｃ３－８シクロアルキル－カルボニル、Ｃ６－１０アリール－カルボニル、例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ピバロイル、シクロヘキシルカルボニル、ベンゾイル等）および低級アルコキシカルボニル基等が挙げられる。
　「低級アルコキシカルボニル基」としては、直鎖状又は分岐鎖状のＣ１－１２アルコキシ－カルボニル基が挙げられ、好ましくは、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル（例、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル）等が挙げられる。
　Ｘ１の「脱離基」としては、
ハロゲン原子、
１～３個のＣ１－６アルキル基で置換されていてもよいＣ６－１０アリールスルホニルオキシ基（例、トルエンスルホニルオキシ等）、
１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基（例、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ等）
等が挙げられる。
　Ｘ３及びＸ４の「脱離基」としては、
ハロゲン原子、
１～３個のＣ１－６アルキル基で置換されていてもよいＣ６－１０アリールスルホニルオキシ基（例、トルエンスルホニルオキシ等）、
１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基（例、メタンスルホニルオキシ等）、
アルカノイルオキシ基（好ましくは、Ｃ１－６アルキル－カルボニルオキシ）、
アロイルオキシ基（好ましくは、Ｃ６－１０アリール－カルボニルオキシ）、
ジアルコキシホスホリルオキシ基（好ましくは、ジ（Ｃ１－６アルコキシ）ホスホリルオキシ）、
ジアリールオキシホスホリルオキシ基（好ましくは、ジ（Ｃ６－１０アリールオキシ）ホスホリルオキシ）
等が挙げられる。
　「ハロゲン原子」としては、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素が挙げられる。
　次に本発明の製造方法につき説明する。
［製造方法１］
　アリールテトラゾール誘導体［ＩＩ］及びベンゼン誘導体［ＩＩＩ］は、市販品を用いてもよく、アリールテトラゾール誘導体［ＩＩ］はＷＯ２００９／４９３０５に記載の方法、又はそれに準じる方法で製造してもよい。
（工程１）
　化合物［ＩＶ］は、アリールテトラゾール誘導体［ＩＩ］を、金属触媒及び塩基の存在下で、ベンゼン誘導体［ＩＩＩ］と反応させることにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　金属触媒としては、ルテニウム触媒、イリジウム触媒、ロジウム触媒、パラジウム触媒、ニッケル触媒、銅触媒、鉄触媒、コバルト触媒等の触媒を単独または混合したものを用いることができ、ルテニウム触媒としては、例えば、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（ＲｕＣｌ２（ＰＰｈ３）３）、ジクロロ（１，５－シクロオクタジエン）ルテニウム（ＩＩ）ポリマー（［ＲｕＣｌ２（η４－ＣＯＤ）］ｎまたはポリ［（η２，η２－シクロオクタ－１，５－ジエン）ルテニウム－ジ－μ－クロロ］と表記することもある）、［ＲｕＣｌ２（η６－Ｃ６Ｈ６）］２、ジクロロ（ｐ－シメン）ルテニウム（ＩＩ）（［Ｒｕ（ｐ－ｃｙｍｅｎｅ）Ｃｌ２］２）、ジクロロ（メシチレン）ルテニウム（ＩＩ）（［Ｒｕ（ｍｅｓｉｔｙｌｅｎｅ）Ｃｌ２］２）、塩化ルテニウム（ＩＩＩ）（ＲｕＣｌ３）、塩化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物（ＲｕＣｌ３・ｘＨ２Ｏ）、ルテニウム炭素が挙げられる。金属触媒の使用量は、アリールテトラゾール誘導体［ＩＩ］に対して、通常０．００００１～１０当量、好ましくは０．００１～０．３当量である。
　塩基としては、炭酸カリウム（Ｋ２ＣＯ３）、炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ３）、炭酸水素カリウム（ＫＨＣＯ３）、リン酸カリウム（Ｋ３ＰＯ４）、炭酸セシウム（Ｃｓ２ＣＯ３）、炭酸ルビジウム（Ｒｂ２ＣＯ３）等が挙げられる。塩基の使用量は、アリールテトラゾール誘導体［ＩＩ］に対して、通常０．１～１０当量、好ましくは１～３当量、より好ましくは１～２当量である。
　好適に反応を進行させるために、配位子を更に添加してもよい。配位子としては、トリフェニルホスフィン（トリフェニルホスファンということもある）、トリ（ｔ－ブチル）ホスフィン、トリエチルホスファイト、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ（ｏ－トリル）ホスフィン、トリ（ｐ－トリル）ホスファン、トリ（ｐ－メトキシフェニル）ホスファン、シクロヘキシルジフェニルホスファン、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、２，４，６－トリメチル安息香酸、１－アダマンチルカルボン酸等が挙げられる。配位子の使用量は、アリールテトラゾール誘導体［ＩＩ］に対して、通常０．００００１～１０当量、好ましくは０．００１～１当量である。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰと略記することもある）、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦと略記することもある）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡと略記することもある）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯと略記することもある）等の極性溶媒、またはトルエン、キシレン等の非極性溶媒、さらにはこれら極性溶媒と非極性溶媒の混合物が好ましい。溶媒の使用量は、アリールテトラゾール誘導体［ＩＩ］１ｍｍｏｌに対して、通常０～１００ｍＬ、好ましくは０．１～１０ｍＬである。
　反応温度は、通常２０～３００℃、好ましくは１００～２００℃である。
　反応時間は、通常０．０１～２００時間、好ましくは０．５～２４時間である。
（工程２ａ）
　化合物［ＩＶ］のＲ２が保護基で保護された水酸基で置換されたメチル基である場合、化合物［Ｖ］は、化合物［ＩＶ］を、塩基の存在下で、脱保護することにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　塩基としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ジメチルアミン、メチルアミン、アンモニア、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等が挙げられる。塩基の使用量は、化合物［ＩＶ］に対して、通常０．００１～１０当量、好ましくは０．０１～１当量である。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、メタノール、エタノール、プロパノール等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［ＩＶ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．０１～１００ｍＬ、好ましくは０．１～１０ｍＬである。
　反応温度は、通常－５０～１００℃、好ましくは０～４０℃である。
　反応時間は、通常０．００１～１０時間、好ましくは０．１～５時間である。
（工程２ｂ）
　化合物［ＩＶ］のＲ２が低級アルコキシカルボニル基である場合、化合物［Ｖ］は、化合物［ＩＶ］を、還元剤の存在下で、還元することにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム（テトラヒドロホウ酸ナトリウムともいう）、水素化アルミニウムリチウム、ジイソブチルアルミニウムヒドリド等が挙げられる。還元剤の使用量は、化合物［ＩＶ］に対して、通常１～５当量、好ましくは１～２当量である。
　好適に反応を進行させるために、金属塩を添加してもよい。金属塩としては、塩化カルシウム、塩化亜鉛等が挙げられる。金属塩の使用量は、化合物［ＩＶ］に対して、通常０．１～２当量、好ましくは０．５～１当量であるが、還元剤として水素化アルミニウムリチウム、ジイソブチルアルミニウムヒドリドを用いる場合、金属塩の非存在下で反応は進行する。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、エタノール、２－プロパノール、メタノール等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［ＩＶ］１ｍｍｏｌに対して、通常１～５０ｍＬ、好ましくは１～２ｍＬである。
　反応温度は、通常－５０～１２０℃、好ましくは０～８０℃である。
　反応時間は、通常０．１～２４時間、好ましくは３～１０時間である。
（工程３）
　化合物［ＩＶ］のＲ２がメチル基である場合、ビアリールテトラゾール誘導体［Ｉ］又はその塩は、化合物［ＩＶ］を、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）存在下ハロゲン化試薬と反応させることにより製造することができる。
　化合物［ＩＶ］のＲ２が保護基で保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコキシカルボニル基である場合、ビアリールテトラゾール誘導体［Ｉ］又はその塩は、化合物［Ｖ］を、ハロゲン化試薬と反応させることにより製造することができる。
　これらの反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　ハロゲン化試薬としては、特に限定されるものではなく、自体公知のハロゲン化試薬を適用することができるが、例えば、三臭化リン、臭化チオニル、臭化水素酸、塩化水素、塩化チオニル、四塩化炭素／トリフェニルホスフィン、ブロモトリメチルシラン、Ｎ－ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）等が挙げられる。ハロゲン化試薬の使用量は、化合物［Ｖ］に対して、通常１～１０当量、好ましくは１～３当量である。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、テトラヒドロフラン（ＴＨＦと略記することもある）、トルエン、酢酸エチル、ジオキサン、メチルｔ－ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）、クロロホルム、塩化メチレン、ジイソプロピルエーテル、アセトニトリル等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［Ｖ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．０１～１００ｍＬ、好ましくは０．１～１０ｍＬである。
　反応温度は、通常－５０～１５０℃、好ましくは－２０～５０℃である。
　反応時間は、通常０．００１～２４時間、好ましくは０．１～１０時間である。
［製造方法２］
（工程１）
　化合物［ＶＩＩ］は、前記の製造方法１で得られたビアリールテトラゾール誘導体［Ｉ］を、塩基の存在下で、化合物［ＶＩ］と反応させることにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　塩基としては、特に限定されるものではなく、自体公知の塩基を適用することができるが、例えば、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）等が挙げられる。塩基の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［Ｉ］に対して、通常１～１０当量、好ましくは１～３当量である。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、ＤＭＡ、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ＮＭＰ、アセトニトリル、トルエン、ＴＨＦ、ジオキサン等が挙げられる。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［Ｉ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．００１～１００ｍＬ、好ましくは０．１～１０ｍＬである。
　反応温度は、通常－５０～１５０℃、好ましくは－２０～５０℃である。
　反応時間は、通常０．１～４８時間、好ましくは０．５～５時間である。
（工程２－Ａ（１））
　化合物［ＶＩＩＩ］は、化合物［ＶＩＩ］を、還元剤の存在下で還元することにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　還元剤としては、特に限定されるものではなく、自体公知の還元剤を適用することができるが、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、トリアセトキシボロヒドリド等が挙げられる。還元剤の使用量は、化合物［ＶＩＩ］に対して、通常１～１０当量、好ましくは１～５当量である。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、メタノール、水、エタノール、イソプロピルアルコール、ジメトキシエタン等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［ＶＩＩ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．０１～１００ｍＬ、好ましくは０．１～１０ｍＬである。
　本反応には、必要に応じて塩基を用いることもできる。塩基としては、例えば水酸化ナトリウム等が挙げられる。塩基の使用量は、化合物［ＶＩＩ］に対して、通常０～１０当量、好ましくは１～２当量である。
　反応温度は、通常－５０～１００℃、好ましくは－２０～５０℃である。
　反応時間は、通常０．０１～４８時間、好ましくは０．１～５時間である。
（工程２－Ａ（２））
　化合物［ＩＸ］は、化合物［ＶＩＩＩ］を、酸の存在下で脱保護（Ｒ１の除去）することにより製造することができる。
　酸としては、特に限定されるものではなく、自体公知の酸を適用することができるが、例えば、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、塩酸等が挙げられる。酸の使用量は、化合物［ＶＩＩＩ］に対して、通常０．１～１０００当量、好ましくは１～５００当量である。
　酸による脱保護は、好適には捕捉剤の存在下で行うことができる。捕捉剤としては、反応が進行する限り特に限定されないが、アニソール、メシチレン、１－オクタンチオール等のメルカプタン類等が挙げられる。捕捉剤の使用量は、化合物［ＶＩＩＩ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．００１～１０ｍＬ、好ましくは０．１～５ｍＬである。
　上記の酸及び捕捉剤が、本工程において溶媒として作用してもよい。
　反応温度は、通常－５０～１５０℃、好ましくは１０～１００℃である。
　反応時間は、通常０．１～４８時間、好ましくは０．５～２０時間である。
　Ｒ１の脱保護には、還元（例、接触還元、ギ酸還元等）する方法も用いることができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　還元は、触媒の存在下で行うことができる。触媒としては、接触還元またはギ酸還元に用いることができれば特に限定されるものではなく、例えば、パラジウム炭素、パラジウムブラック、酸化パラジウム、塩化パラジウム、酢酸パラジウム等が挙げられる。触媒の使用量は、化合物［ＶＩＩＩ］に対して、通常０．０００１～１０当量、好ましくは０．０１～０．１当量である。
　接触還元の場合、水素圧としては、１～１００気圧、好ましくは１～１０気圧である。
　ギ酸還元の場合、添加剤として、ギ酸、ギ酸の塩（ギ酸アンモニウム等）を添加する。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、イソプロピルアルコール、ｎ－プロピルアルコール、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、酢酸エチル等、あるいは上記溶媒と水との混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［ＶＩＩＩ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．１～１００ｍＬ、好ましくは０．５～１０ｍＬである。
　反応温度は、通常０～１５０℃、好ましくは１０～８０℃である。
　反応時間は、通常０．１～７２時間、好ましくは０．５～２４時間である。
（工程２－Ｂ（１））
　化合物［ＶＩＩＩ－２］は、化合物［ＶＩＩ］を、上記製造方法２の工程２－Ａ（２）（化合物［ＶＩＩＩ］の脱保護）に記載の方法と同様にして、脱保護（Ｒ１の除去）することにより製造することができる。
（工程２－Ｂ（２））
　化合物［ＩＸ］は、化合物［ＶＩＩＩ－２］を、上記製造方法２の工程２－Ａ（１）（化合物［ＶＩＩ］の還元）に記載の方法と同様にして、還元することにより製造することができる。
［製造方法３］
（工程１）
　化合物［ＸＩ］は、前記の製造方法１で得られたビアリールテトラゾール誘導体［Ｉ］を、塩基の存在下で、化合物［Ｘ］又はその塩（例えば、ｐ－トルエンスルホン酸塩、塩酸塩等）と反応させることにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　塩基としては、特に限定されるものではなく、自体公知の塩基を適用することができるが、例えば、エチルジイソプロピルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、水素化ナトリウム、カリウムｔ－ブトキサイド等が挙げられる。塩基の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［Ｉ］に対して、通常１～１０当量、好ましくは１～５当量である。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、アセトニトリル、トルエン、ＴＨＦ、ジオキサン、クロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［Ｉ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．１～１００ｍＬ、好ましくは０．５～５ｍＬである。
　反応温度は、通常－５０～１５０℃、好ましくは５～１００℃である。
　反応時間は、通常０．１～４８時間、好ましくは０．５～５時間である。
（工程２－Ａ（１））
　化合物［ＸＩＩ］は、化合物［ＸＩ］を、酸の存在下で脱保護（Ｒ１の除去）することにより製造することができる。
　酸としては、特に限定されるものではなく、自体公知の酸を適用することができるが、例えば、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、塩酸等が挙げられる。酸の使用量は、化合物［ＸＩ］に対して、通常０．１～１０００当量、好ましくは１～５００当量である。
　酸による脱保護は、好適には捕捉剤の存在下で行うことができる。捕捉剤としては、反応が進行する限り特に限定されないが、アニソール、メシチレン、１－オクタンチオール等のメルカプタン類等が挙げられる。捕捉剤の使用量は、化合物［ＸＩ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．００１～１０ｍＬ、好ましくは０．１～５ｍＬである。
　上記の酸及び捕捉剤が、本工程において溶媒として作用してもよい。
　反応温度は、通常－５０～１５０℃、好ましくは１０～１００℃である。
　反応時間は、通常０．１～４８時間、好ましくは０．５～５時間である。
　Ｒ１の脱保護には、還元（例、接触還元、ギ酸還元等）する方法も用いることができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　還元は、触媒の存在下で行うことができる。触媒としては、接触還元またはギ酸還元に用いることができれば特に限定されるものではなく、例えば、パラジウム炭素、パラジウムブラック、酸化パラジウム、塩化パラジウム、酢酸パラジウム等が挙げられる。触媒の使用量は、化合物［ＸＩ］に対して、通常０．０００１～１０当量、好ましくは０．０１～０．１当量である。
　接触還元の場合、水素圧としては、１～１００気圧、好ましくは１～１０気圧である。
　ギ酸還元の場合、添加剤として、ギ酸、ギ酸の塩（ギ酸アンモニウム等）を添加する。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、イソプロピルアルコール、ｎ－プロピルアルコール、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、酢酸エチル等、あるいは上記溶媒と水との混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［ＸＩ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．１～１００ｍＬ、好ましくは０．５～１０ｍＬである。
　反応温度は、通常０～１５０℃、好ましくは１０～８０℃である。
　反応時間は、通常０．１～７２時間、好ましくは０．５～２４時間である。
（工程２－Ａ（２））
　化合物［ＸＩＶ］は、化合物［ＸＩＩ］を、塩基存在下で、化合物［ＸＩＩＩ］と反応させることにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　塩基としては、特に限定されるものではなく、例えば、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ＤＢＵ、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、リン酸カリウム、４－ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）、ルチジン、ピリジン等が挙げられる。塩基の使用量は、化合物［ＸＩＩ］に対して、通常１～１０当量、好ましくは１～３当量である。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、トルエン、キシレン、塩化メチレン、クロロホルム、アセトニトリル、ＮＭＰ、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ＴＨＦ、ジメトキシエタン、ｔ－ブチルメチルエーテル（以下、ｔ－ＢＭＥともいう）、１，４－ジオキサン等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［ＸＩＩ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．００１～１００ｍＬ、好ましくは０．１～１０ｍＬである。
　反応温度は、通常－２０～１５０℃、好ましくは０～１００℃である。
　反応時間は、通常０．１～４８時間、好ましくは０．５～５時間である。
（工程２－Ａ（３））
　化合物［ＸＶ］は、化合物［ＸＩＶ］を、酸の存在下、脱保護（Ｒ３の除去）することにより製造することができる。
　酸としては、特に限定されるものではなく、自体公知の酸を適用することができるが、例えば、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、塩酸等が挙げられる。酸の使用量は、化合物［ＸＩＶ］に対して、通常０．１～１０００当量、好ましくは１～５００当量である。
　酸による脱保護は、好適には捕捉剤の存在下で行うことができる。捕捉剤としては、反応が進行する限り特に限定されないが、アニソール、メシチレン、メルカプタン等が挙げられる。捕捉剤の使用量は、化合物［ＸＩＶ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．００１～１０ｍＬ、好ましくは０．１～５ｍＬである。
　上記の酸及び捕捉剤が、本工程において溶媒として作用してもよい。
　反応温度は、通常－５０～１５０℃、好ましくは１０～１００℃である。
　反応時間は、通常０．１～４８時間、好ましくは０．５～５時間である。
　あるいは、化合物［ＸＶ］は、化合物［ＸＩＶ］を、塩基の存在下、脱保護（Ｒ３の除去）することにより製造することもできる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　塩基としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ジメチルアミン、メチルアミン、アンモニア、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等が挙げられる。塩基の使用量は、化合物［ＸＩＶ］に対して、通常０．００１～１０当量、好ましくは０．０１～１当量である。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、メタノール、エタノール、プロパノール等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［ＸＩＶ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．０１～１００ｍＬ、好ましくは０．１～１０ｍＬである。
　反応温度は、通常－５０～１００℃、好ましくは０～２０℃である。
　反応時間は、通常０．００１～１０時間、好ましくは０．１～５時間である。
　あるいは、化合物［ＸＶ］は、化合物［ＸＩＶ］を、還元（例、接触還元、ギ酸還元等）して脱保護（Ｒ３の除去）することにより製造することもできる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　還元は、触媒の存在下で行うことができる。触媒としては、接触還元またはギ酸還元に用いることができれば特に限定されるものではなく、例えば、パラジウム炭素、パラジウムブラック、酸化パラジウム、塩化パラジウム、酢酸パラジウム等が挙げられる。触媒の使用量は、化合物［ＸＩＶ］に対して、通常０．０００１～１０当量、好ましくは０．０１～０．１当量である。
　接触還元の場合、水素圧としては、１～１００気圧、好ましくは１～１０気圧である。
　ギ酸還元の場合、添加剤として、ギ酸、ギ酸の塩（ギ酸アンモニウム等）を添加する。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、ｎ－プロピルアルコール、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、酢酸エチル等、あるいは上記溶媒と水との混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［ＸＩＶ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．１～１００ｍＬ、好ましくは０．５～１０ｍＬである。
　反応温度は、通常０～１５０℃、好ましくは１０～８０℃である。
　反応時間は、通常０．１～７２時間、好ましくは０．５～２４時間である。
（工程２－Ｂ（１））
　化合物［ＸＩＩ－２］は、化合物［ＸＩ］を、上記製造方法３の工程２－Ａ（２）（化合物［ＸＩＩ］と化合物［ＸＩＩＩ］との反応）に記載の方法と同様にして、化合物［ＸＩＩＩ］と反応させることにより製造することができる。
（工程２－Ｂ（２））
　化合物［ＸＶ］は、化合物［ＸＩＩ－２］を、上記製造方法３の工程２－Ａ（１）及び（３）（化合物［ＸＩ］及び［ＸＩＶ］の脱保護）に記載の方法と同様にして、脱保護（Ｒ１及びＲ３の除去）することにより製造することができる。
　あるいは、化合物［ＸＶ］は、化合物［ＸＩＩ－２］を、還元（例、接触還元、ギ酸還元）することにより脱保護（Ｒ１及びＲ３の除去）しても製造することもできる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　還元は、触媒の存在下で行うことができる。触媒としては、接触還元もしくはギ酸還元に用いることができれば特に限定されるものではなく、例えば、パラジウム炭素、パラジウムブラック、酸化パラジウム、塩化パラジウム、酢酸パラジウム等が挙げられる。触媒の使用量は、化合物［ＸＩＩ－２］に対して、通常０．０００１～１０当量、好ましくは０．０１～０．１当量である。
　接触還元の場合、水素圧としては、１～１００気圧、好ましくは１～１０気圧である。
　ギ酸還元の場合、添加剤として、ギ酸、ギ酸の塩（ギ酸アンモニウム等）を添加する。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、ｎ－プロピルアルコール、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、酢酸エチル等、あるいは上記溶媒と水との混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［ＸＩＩ－２］１ｍｍｏｌに対して、通常０．１～１００ｍＬ、好ましくは０．５～１０ｍＬである。
　反応温度は、通常０～１５０℃、好ましくは１０～８０℃である。
　反応時間は、通常０．１～７２時間、好ましくは０．５～２４時間である。
［製造方法４］
（工程１）
　化合物［ＸＶＩＩ］は、前記の製造方法１で得られたビアリールテトラゾール誘導体［Ｉ］を、塩基または塩基および添加物の存在下で、化合物［ＸＶＩ］又はその塩（例えば、塩酸塩等）と反応させることにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　塩基としては、特に限定されるものではなく、例えば、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ＤＢＵ、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、リン酸カリウム、４－ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）、ルチジンが挙げられる。塩基の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［Ｉ］化合物に対して、通常１～１０当量、好ましくは１～３当量である。
　添加物としては、テトラアルキルアンモニウムハライド（例、テトラブチルアンモニウムブロミド）、テトラアルキルホスホニウムハライド等が挙げられる。添加物の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［Ｉ］化合物に対して、通常０．０１～１０当量、好ましくは０．０５～１当量である。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、トルエン、キシレン、塩化メチレン、クロロホルム、アセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ＴＨＦ、ジメトキシエタン、ｔ－ＢＭＥ、１，４－ジオキサン等、あるいは上記溶媒と水との混合物が挙げられる。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［Ｉ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．００１～１００ｍＬ、好ましくは０．１～１０ｍＬである。
　反応温度は、通常－２０～１５０℃、好ましくは０～１００℃である。
　反応時間は、通常０．１～４８時間、好ましくは０．５～１０時間である。
（工程２）
　化合物［ＸＶＩＩＩ］は、化合物［ＸＶＩＩ］を、脱保護（Ｒ１の除去）することにより製造することができる。脱保護には、例えば、還元（例、接触還元、ギ酸還元等）する方法を用いることができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　還元は、触媒の存在下で行うことができる。触媒としては、接触還元またはギ酸還元に用いることができれば特に限定されるものではなく、例えば、パラジウム炭素、パラジウムブラック、酸化パラジウム、塩化パラジウム、酢酸パラジウム等が挙げられる。触媒の使用量は、化合物［ＸＶＩＩ］に対して、通常０．０００１～１０当量、好ましくは０．０１～０．１当量である。
　接触還元の場合、水素圧としては、１～１００気圧、好ましくは１～１０気圧である。
　ギ酸還元の場合、添加剤として、ギ酸、ギ酸の塩（ギ酸アンモニウム等）を添加する。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、イソプロピルアルコール、ｎ－プロピルアルコール、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、酢酸エチル等、あるいは上記溶媒と水との混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［ＸＶＩＩ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．１～１００ｍＬ、好ましくは０．５～１０ｍＬである。
　反応温度は、通常０～１５０℃、好ましくは１０～８０℃である。
　反応時間は、通常０．１～７２時間、好ましくは０．５～２４時間である。
［製造方法５］
（工程１）
　化合物［ＸＸ］は、前記の製造方法１で得られたビアリールテトラゾール誘導体［Ｉ］を、塩基の存在下又は非存在下で、化合物［ＸＩＸ］と反応させることにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　本反応は、塩基の存在下に行うことが好ましく、かかる塩基としては、水素化ナトリウムなどの金属水素化物、ｔ－ブトキシナトリウム、ｔ－ブトキシカリウムなどの金属アルコキシド類、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなどの炭酸塩等が挙げられるが、なかでも炭酸塩、とりわけ炭酸カリウムが好ましく用いられる。塩基の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［Ｉ］に対して、通常１～５当量である。
　溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミドなどの非プロトン性極性溶媒類、アセトン、エチルメチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、酢酸エチルなどのエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、アセトニトリルなどが挙げられるが、なかでもアセトニトリルが好ましく用いられる。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［Ｉ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．１～１０ｍＬである。反応温度は、通常７０～９０℃で、反応時間は、３～１０時間である。
（工程２（１））
　化合物［ＸＸＩ］は、化合物［ＸＸ］を、酸の存在下で脱保護（Ｒ５の除去）することにより製造することができる。
　酸としては、特に限定されるものではなく、自体公知の酸を適用することができるが、例えば、ブレンステッド酸（例えば、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、リン酸、硫酸、塩酸等）あるいはルイス酸（例えば、塩化アルミ、塩化スズ、ボラントリフルオライドジエチルエーテル等）が挙げられる。酸の使用量は、化合物［ＸＸ］に対して、通常０．１～１０００当量、好ましくは１～５００当量である。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、メチルｔ－ブチルエーテル等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［ＸＸ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．０１～１００ｍＬ、好ましくは０．１～１０ｍＬである。
　反応温度は、通常－５０～１５０℃、好ましくは１０～１００℃である。
　反応時間は、通常０．１～４８時間、好ましくは０．５～２０時間である。
（工程２（２））
　化合物［ＸＸＩＩ］は、化合物［ＸＸＩ］を、還元剤の存在下で還元することにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　還元剤としては、特に限定されるものではなく、自体公知の還元剤を適用することができるが、例えば、塩化スズ、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、トリアセトキシボロヒドリド等が挙げられる。還元剤の使用量は、化合物［ＸＸＩ］に対して、通常１～１０当量、好ましくは１～５当量である。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ジメトキシエタン、メチルｔ－ブチルエーテル等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［ＸＸＩ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．０１～１００ｍＬ、好ましくは０．１～１０ｍＬである。
　反応温度は、通常－５０～１００℃、好ましくは－２０～５０℃である。
　反応時間は、通常０．０１～４８時間、好ましくは０．１～５時間である。
（工程３（１））
　化合物［ＸＸＩＩＩ］は、化合物［ＸＸＩＩ］とテトラエトキシメタンとを、溶媒の存在下又は非存在下で反応することにより製造することができる。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、エタノール、テトラヒドロフラン、トルエン、酢酸エチル、酢酸、ジメトキシエタン、メチルｔ－ブチルエーテル等が挙げられる。
　反応温度は、通常０～１２０℃、好ましくは５０～１００℃である。
　反応時間は、通常０．０１～４８時間、好ましくは０．１～５時間である。
（工程３（２））
　化合物［ＸＸＩＶ］は、化合物［ＸＸＩＩＩ］を、塩基又は酸、及び水性有機溶媒の存在下、加水分解して脱保護（Ｒ４の除去）することにより製造することができる。
　塩基としては、特に限定されるものではなく、自体公知の塩基を適用することができるが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウムが挙げられる。また酸としては、特に限定されるものではなく、自体公知の酸を適用することができるが、例えば、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、塩酸等が挙げられる。
　水性有機溶媒としては、メタノール、エタノール、アセトン等が挙げられる。
　反応温度は、通常０～１２０℃、好ましくは５０～１００℃である。
　反応時間は、通常０．１～４８時間、好ましくは０．５～５時間である。
（工程４（１））
　化合物［ＸＸＶＩ］は、化合物［ＸＸＩＶ］と化合物［ＸＸＶ］とを、塩基の存在下反応させて製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　塩基としては、特に限定されるものではなく、自体公知の塩基を適用することができるが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、トリエチルアミン、トリブチルアミン、メチルアミン、ジメチルアミンが挙げられる。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［ＸＸＩＶ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．０１～１００ｍＬ、好ましくは０．１～１０ｍＬである。
　反応温度は、通常－５０～１５０℃、好ましくは１０～１００℃である。
　反応時間は、通常０．１～４８時間、好ましくは０．５～２０時間である。
（工程４（２））
　化合物［ＸＸＶＩＩ］は、化合物［ＸＸＶＩ］を、脱保護（Ｒ１の除去）することにより製造することができる。脱保護には、例えば、還元（例、接触還元、ギ酸還元等）する方法を用いることができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
　還元は、触媒の存在下で行うことができる。触媒としては、接触還元またはギ酸還元に用いることができれば特に限定されるものではなく、例えば、パラジウム炭素、パラジウムブラック、酸化パラジウム、塩化パラジウム、酢酸パラジウム等が挙げられる。触媒の使用量は、化合物［ＸＸＶＩＩ］に対して、通常０．０００１～１０当量、好ましくは０．０１～０．１当量である。
　接触還元の場合、水素圧としては、１～１００気圧、好ましくは１～１０気圧である。
　ギ酸還元の場合、添加剤として、ギ酸、ギ酸の塩（ギ酸アンモニウム等）を添加する。
　溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、イソプロピルアルコール、ｎ－プロピルアルコール、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、酢酸エチル等、あるいは上記溶媒と水との混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［ＸＸＶＩ］１ｍｍｏｌに対して、通常０．１～１００ｍＬ、好ましくは０．５～１０ｍＬである。
　反応温度は、通常０～１５０℃、好ましくは１０～８０℃である。
　反応時間は、通常０．１～７２時間、好ましくは０．５～２４時間である。
　本反応は、ｐＨ７～１４塩基性条件下、もしくはｐＨ７で実施することができる。
　化合物（Ｉ）の塩としては、特に限定されないが、例えば、塩酸、硫酸等との塩が挙げられる。
　化合物（ＩＸ）、化合物（ＸＶＩＩＩ）又は化合物（ＸＸＶＩＩ）の塩としては、薬理学的に許容されるものであれば特に限定されないが、例えば、
塩酸、硫酸、臭化水素酸塩、リン酸等の鉱酸との塩；
メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、酢酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、フマル酸等の有機酸との塩；
ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属との塩；
マグネシウム等のアルカリ土類金属との塩；
アンモニア、エタノールアミン、２－アミノ－２－メチル－１－プロパノール等のアミンとの塩が挙げられる。
　また、化合物（ＸＶ）の塩としては、薬理学的に許容されるものであれば特に限定されないが、例えば、
ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属との塩；
マグネシウム等のアルカリ土類金属との塩；
アンモニア、エタノールアミン、２－アミノ－２－メチル－１－プロパノール等のアミンとの塩が挙げられる。
　化合物（Ｉ）、化合物（ＩＸ）、化合物（ＸＶ）、化合物（ＸＶＩＩＩ）、化合物（ＸＸＶＩＩ）又はその塩は、溶媒和物を含む。溶媒和物としては、例えば、水和物、アルコール和物（例、メタノール和物、エタノール和物）が挙げられる。
　以下に参考例、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明するが、これによって本発明が限定されるものではない。
　以下の参考例、実施例において、「室温」とは、１５～３０℃の温度をいう。
　以下の参考例、実施例において、「ＣＭ」は主コンホマーを示し、「Ｃｍ」は副コンホマーを示す。
　以下の参考例、実施例において、濃度および含量における「％」は、特段の記載が無い限り、「重量％」を示す。
参考例１
（工程１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
　ｐ－メトキシベンジルアミン（１８１ｇ，１．３２ｍｏｌ）、トリエチルアミン（１８５ｍＬ，１３４ｇ，１．３２ｍｏｌ）およびＴＨＦ（７７２ｍＬ）の混合物に、１６℃以下で塩化ベンゾイル（１８５ｇ，１．３２ｍｏｌ）を滴下した。７℃以下で３時間撹拌した後、水（４００ｍＬ）を１４℃以下で滴下した。この混合物に酢酸エチル（１４０ｍＬ）を加えて抽出し、さらに水層に酢酸エチル（３６０ｍＬ）を加えて抽出した。あわせた有機層を２０％食塩水（０．１５ｋｇ）で２回、２０％食塩水（０．２２ｋｇ）で１回洗浄し、硫酸マグネシウム（５０ｇ）で乾燥し、シリカゲル（２２ｇ）を加えた後、濾過（シリカゲルプレコート）した。濾液を６０℃以下で０．６７ｋｇまで減圧濃縮し、５℃まで冷却した。濾過を行い、結晶を冷酢酸エチル（１４０ｍＬ）で洗浄した後、減圧下５０℃で乾燥することにより、Ｎ－（ｐ－メトキシベンジル）ベンズアミド（２５７ｇ，収率８０．７％）を白色結晶として得た。
融点：98-99℃
IR (KBr): 3245 (NH), 1632 (C=O）cm-1
1H-NMR (CDCl3): δ= 7.78 (d, J = 8.2 Hz, 2H, Bz), 7.49 (t, J = 8.2 Hz, 1H, Bz), 7.42 (t, , J = 8.2, 2H, Bz), 7.29 (t, J = 8.7 Hz, 2H, Ph), 6.88 (d, J = 8.7 Hz, 2H, Ph), 6.36 (br s, 1H, NH), 4.58 (d, J = 5.6 Hz, 2H, CH2N), 3.80 (s, 3H, MeO).
（工程２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
　Ｎ－（ｐ－メトキシベンジル）ベンズアミド（１９３ｇ，０．７９８ｍｏｌ）とジクロロメタン（１．５５Ｌ）の混合物に、－１１～－５℃で五塩化リン（１８３ｇ，０．８８０ｍｏｌ）を加えた。この混合物を１９℃まで昇温した後、１５℃以下で減圧下、０．２９Ｌまで濃縮した。この混合物にジクロロメタン（１．２５Ｌ）を加え、アジドトリメチルシラン（１３５ｇ，１．１７ｍｏｌ）を－６℃以下で２時間かけて滴下した。反応混合物を室温で５時間撹拌した後、１３℃以下で飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１．０Ｌ）を滴下した。さらに飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（４．６Ｌ）を加え、分液した。水層にジクロロメタン（１．２５Ｌ）を加えて抽出し、あわせた有機層を２０％食塩水（０．８５ｋｇ）で洗浄した。この有機層を硫酸マグネシウム（４３ｇ）で乾燥処理し、５０℃以下で減圧濃縮することによって、化合物１ａを粗生成物（２５８ｇ）として得た。ＨＰＬＣによって粗生成物中の化合物１ａの含量を測定した結果は８１．２％であり、正味の収量は２０９ｇ（８９．２％）であった。
1H-NMR (CDCl3): δ= 7.60-7.52 (m, 5H, Ph), 7.10 (d, J = 8.8 Hz, 2H, Ph), 6.86 (d, J = 8.8 Hz, 2H, Ph), 5.55 (s, 2H, CH2), 3.79 (s, 2H, CH3O).
MS: calcd for C15H15N4O [M + H]+ 267, found 267
参考例２
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
　５００ｍＬ四口フラスコに５－フェニル－１Ｈ－テトラゾール（１４．６４ｇ，１００ｍｍｏｌ）、炭酸ナトリウム（１５．９１ｇ，１５０ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド（ＴＢＡＢと略記することもある、０．７１ｇ，２．２ｍｍｏｌ）および水（１２０ｍＬ）を加え、ｐ－メトキシベンジルクロリド（１５．４０ｇ，９８ｍｍｏｌ）のクロロホルム（１６０ｍＬ）溶液を氷冷下１時間かけて滴下し、さらに５５℃で１時間撹拌した。反応終了後、有機層を分離し、水層をクロロホルム（１２０ｍＬ）で再抽出した。合わせた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し、白色の溶液（２７．８１ｇ，収率１０７％）を得た。
　１Ｈ－ＮＭＲから、粗生成物の組成比（モル比）は、１－メトキシベンジル体（化合物１ａ）：２－メトキシベンジル体（化合物１ａ’）：ｐ－メトキシベンジルアルコール＝４３：１６：４１と決定した。
　先に得られた粗生成物（２７．８１ｇ，ｐ－メトキシベンジルアルコール含量：７．５ｇ，５４ｍｍｏｌ）にＴＨＦ（１００ｍＬ）、無水酢酸（６．０２ｇ，５９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１．８２ｇ，１８ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン（ＤＭＡＰと略記することもある）（０．６６ｇ，５．４ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。メタノール（２０ｍＬ）を加えた後、溶媒を留去し、酢酸エチル（１００ｍＬ）に溶解し、水（２０ｍＬ×２）で洗浄した。有機層を濃縮して真空乾燥したところ、淡白色溶液（２２．０２ｇ）を得た。
　上記アセチル化処理した液体（２０．０２ｇ）をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝１／３～１／２）により精製したところ、化合物１ａ（９．６２ｇ，収率３７％）を白色固体として得た。
1H-NMR(400MHz, CDCl3)δ=3.79(3H, s), 5.55(2H, s), 6.84-6.88(2H, m), 7.08-7.13(2H, m), 7.48-7.62(5H, m).
13C-NMR(400MHz, CDCl3)δ=123.77, 125.72, 154.28, 159.61(4s), 114.37, 128.63, 128.78, 129.01, 131.12(5d), 51.03(1t), 55.37(1q).
IR(KBr)ν(cm-1):1611
EIMS(m/z):266 (M+)
融点:37.7-38.3℃
参考例３
（工程１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
　ベンジルアミン（７５．０ｇ，０．７００ｍｏｌ）、ＴＨＦ（３００ｍＬ）およびトリエチルアミン（７０．８ｇ，１３４ｇ，０．７００ｍｏｌ）の混合物に、２℃以下で塩化ベンゾイル（９８．４ｇ，０．７００ｍｏｌ）を滴下した後、昇温し、１２～３５で３時間攪拌した。反応の進行はＴＬＣ（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル（４：１））で確認した。反応混合物に１６℃以下で水（１６５ｍＬ）を加えた後、酢酸エチル（６０ｍＬ）で抽出し、さらに水層に酢酸エチル（１５０ｍＬ）を加えて抽出した。あわせた有機層を、５％クエン酸水溶液（５０ｍＬ）で２回、２０％食塩水（７５ｍＬ）で３回洗浄し、硫酸マグネシウム（２０ｇ）を加えて乾燥し、シリカゲル（１２ｇ）を加えた後、シリカゲルに通してろ過を行った。ろ液を、析出が始まるまで、４０℃で減圧下濃縮した。濃縮物（２６３ｇ）に酢酸エチル（４１．５ｇ）を加え、６０℃で固体を溶解した後、２時間かけて２０℃まで冷却し、酢酸エチル（４０ｍＬ）を加えた。さらに５℃まで冷却した後、結晶をろ取し、残渣を冷酢酸エチル（７５ｍＬ）で洗浄した。得られた結晶を、減圧下４０℃で乾燥することにより、Ｎ－ベンジルベンズアミド（１１６ｇ，収率７８．５％）を白色結晶として得た。
融点：104-105℃
IR (KBr): 3244 (NH), 1633 (C=O）cm-1
1H-NMR (CDCl3): δ = 7.79 (d, J = 8.0 Hz, 2H, Bz), 7.50 (t, J = 8.0 Hz, 1H, Bz),.43 (t, J = 8.0, 2H, Bz), 7.37-7.35 (m, 4H, Ph), 7.32 (m, 1H, Ph), 6.41 (br s, 1H, NH), 4.65 (d, J = 5.6 Hz, 2H, CH2).
（工程２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
　Ｎ－ベンジルベンズアミド（６２．５ｇ，０．２９６ｍｏｌ）とジクロロメタン（５７０ｍＬ）の混合物に、－１５～－８℃で五塩化リン（６７．９ｇ，０．３２６ｍｏｌ）を５回に分けて加えた。この混合物を３時間かけて２１℃まで昇温した後、２１℃以下で減圧下、０．１７Ｌまで濃縮した。この混合物にジクロロメタン（４５０ｍＬ）を加え、－８℃以下でアジドトリメチルシラン（５０．３ｇ，０．４３６ｍｏｌ）を０．５時間かけて滴下し、ジクロロメタン（５ｍＬ）で洗い込んだ。反応混合物を室温へ昇温し、４時間攪拌した。ＴＬＣ（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル（４：１））でＮ－ベンジルベンズアミドの消失を確認した。反応混合物に、１７℃以下で飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２３００ｍＬ）を加えて分離した。水層にジクロロメタン（４５０ｍＬ）を加えて抽出し、あわせた有機層を２０％食塩水（３００ｍＬ）で洗浄し、硫酸マグネシウム（２０ｇ）で乾燥し、４０℃以下で減圧濃縮し、粗生成物（６９．８ｇ，理論収量の９９．８％）を、濁りのある黄色油状物質として得た。
　得られた粗生成物（６９．０ｇ）にイソプロピルアルコール（７５．９ｍＬ）を加えて加熱溶解し、熱時ろ過し、イソプロピルアルコール（４．７ｍＬ）で洗い込んだ。ろ液を７時間かけて－１℃まで冷却した。この間３８℃のときに種晶の接種を行った。析出した結晶をろ取し、冷イソプロピルアルコール（２０ｍＬ）で洗浄し、減圧下乾燥することにより、化合物１ｂ（６５．４ｇ，収率９４．７％）を得た。
融点：66.0-67.5℃
IR (KBr)：1606 cm-1
1H-NMR (CDCl3): δ = 7.58 (d, J = 7.9 Hz, 2H, 5-Ph), 7.57 (t, J = 7.9 Hz, 1H, 5-Ph), 7.50 (t, J = 7.9 Hz, 2H, 5-Ph), 7.37-7.34 (m, 3H, Ph), 7.17-7.15 (m, 2H, Ph), 5.62 (s, CH2).
MS：237 (MH+)
参考例４
（工程１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
　ｏ－メトキシベンジルアミン（２０．０ｇ，０．１４６ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１２４ｍＬ）およびトリエチルアミン（１５．６ｇ，０．１５４ｍｏｌ）の混合物に、－９～０℃でベンゾイルクロリド（２０．５ｇ，０．１４６ｍｏｌ）を滴下し、ＴＨＦ（１０ｍＬ）で洗い込んだ。窒素雰囲気下反応混合物を徐々に昇温し約１６℃にした。この間、内容物を攪拌するため適宜ＴＨＦ（合計５１ｍＬ）を加えた。反応はＴＬＣ（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル（１：１））で確認した。反応混合物を約１６℃で１０時間攪拌した後、５℃に冷却し、水（４４ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１２０ｍＬ，４０ｍＬ，４０ｍＬ）で３回抽出した。あわせた有機層を１０％塩酸（４０ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（４０ｍＬ）、水（４０ｍＬ）および飽和食塩水（４４ｍＬ）で順次洗浄し、硫酸マグネシウム（２０ｇ）で乾燥処理し、減圧下４０℃以下で溶媒を留去した後、酢酸エチルを加え（内容物７４ｇ）、６０℃に加温し固体を溶解した。６℃まで徐々に冷却し、析出した結晶を濾取し、冷酢酸エチル（１０ｍＬ）で洗浄し、減圧下４０℃以下で乾燥することによって、Ｎ－ベンゾイル－２－メトキシベンジルアミン（３０．７ｇ，８７．１％）を白色結晶として得た。
融点：102～104℃
IR (KBr): 3308, 1647, 1636 cm-1
1H-NMR (DMSO-d6): δ = 8.86 (br t, J = 6.0 Hz, 1H), 7.91 (dd, J = 8.4, 1.6 Hz, 2H), 7.54 (t, J = 6.9, 1.6 Hz, 1H), 7.48 (dd, J = 8.9, 6.9 Hz, 2H), 7.24 (td, J = 7.8, 1.4 Hz, 1H), 7.17 (dd, J = 7.8, 1.4 Hz, 1H), 6.99 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 6.90 (td, J = 7.8, 1.4 Hz, 1H), 4.45 (d, J = 6.0 Hz, 2H), 3.83 (s, 3H).
MS: m/z = 242 (MH+)
（工程２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
　Ｎ－ベンゾイル－２－メトキシベンジルアミン（１６．０ｇ，６６．３ｍｍｏｌ）とジクロロメタン（１２８ｍＬ）の混合物に、－１５～－１１℃にて、五塩化リン（１５．２ｇ，７３．１ｍｍｏｌ）を５回に分け１１分かけて加えた後、２時間かけて２１℃に昇温した。この間ジクロロメタン（１１ｍＬ）で反応容器の内壁面を洗浄した。反応混合物を減圧下室温以下で濃縮した後、ジクロロメタン（１０１ｍＬ）を加え、－１３～－１０℃でアジドトリメチルシラン（１１．２ｇ，９７．５ｍｍｏｌ）を滴下し、ジクロロメタン（１０ｍＬ）で洗い込んだ。反応混合物を室温へ昇温し、４時間攪拌した。反応はＴＬＣ（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル（４：１，２：１））でモニターした。反応混合物に、３～１１℃で飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２００ｍＬ）を滴下した。さらに飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（８０ｍＬ）を加えて分液を行い、水層にジクロロメタン（１００ｍＬ）を加えて抽出を行った。あわせた有機層を２０％食塩水（５０ｍＬ）で洗浄し、硫酸マグネシウム（１０ｇ）で乾燥し、減圧下３５℃以下で溶媒を留去した。得られた固体（１８ｇ）に、酢酸エチル（２５ｍＬ）を加えて８０℃の浴で加熱し固体を溶解した後、４時間かけて－３℃まで冷却した。この間５５℃のときに種晶の接種を行った。固体を濾取し、冷酢酸エチル（３３ｇ）で洗浄した後、減圧下５０℃以下で乾燥することにより、化合物１ｃ（１次晶；１４．６ｇ，８２．５％；ＨＰＬＣ　９９．２ａｒｅａ％）を白色結晶として得た。濾液を減圧下４０℃以下で濃縮した後（内容物５．６ｇ）、酢酸エチル（２．７ｍＬ）を加え、７０℃の浴で加熱して固体をほぼ溶解した。この混合物を－３℃まで冷却し、この間種晶の接種を行った。固体を濾取し、冷酢酸エチル（２ｍＬ）で洗浄し、減圧下５０℃以下で乾燥することによって化合物１ｃの２次晶（２．１１ｇ，１１．９％；ＨＰＬＣ　９７．２ａｒｅａ％）を白色結晶として得た。ＨＰＬＣにて１次晶を標準とし、２次晶の含量を測定した結果９６．７％であった。
ＨＰＬＣ測定条件：
　　カラム　Ｉｎｅｒｔｓｉｌ　ＯＤＳ－３，２μｍ，３．０×５０ｍｍ
　　移動相Ａ　ＭｅＣＮ／３０ｍＭ　ＫＨ２ＰＯ４（１１：９）
　　移動相Ｂ　０．１ｗ／ｖ％リン酸
　　総流量　０．５ｍＬ／ｍｉｎ
　　グラジエントサイクル：０分（Ａ液／Ｂ液＝７０／３０）、５分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、３５分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、３８分（Ａ液／Ｂ液＝７０／３０）
　　検出器　ＵＶ２２５ｎｍ
　　温度　４０℃
融点：100～102℃
IR (KBr):1603 cm-1
1H-NMR (DMSO-d6): δ = 7.76 (dd, J = 7.9, 2.2 Hz, 2H), 7.65-7.60 (m, 3H), 7.32 (td, J = 8.0, 1.5 Hz, 1H), 7.09 (dd, J = 8.0, 1.5 Hz, 1H), 6.97 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 6.92 (t, J = 8.0 Hz, 1H), 5.64 (s, 2H), 3.58 (s, 3H).
13C-NMR (DMSO-d6): δ = 157, 154, 131, 130, 130, 129, 129, 124, 122, 120, 111, 55, 46.
MS: m/z = 267 (MH+)
参考例５
（工程１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
　３，４－ジメトキシベンジルアミン（２４．０ｇ，０．１４４ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１９２ｍＬ）およびトリエチルアミン（１５．５ｇ，０．１５３ｍｏｌ）の混合物に、－７～０℃でベンゾイルクロリド（２０．７ｇ，０．１４７ｍｏｌ）を滴下し、この間攪拌のためテトラヒドロフラン（２４ｍＬ）を加え、滴下後テトラヒドロフラン（１２ｍＬ）で洗い込み、さらにテトラヒドロフラン（２４ｍＬ）を追加した。反応混合物を約１５℃まで徐々に昇温した。反応はＴＬＣ（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル（１：１））でモニターした。反応混合物に、５～８℃で水（４８ｍＬ）を加えた後、酢酸エチル（１４４ｍＬ）を加えて分液を行い、水層を酢酸エチル（４８ｍＬ）で２回抽出した。あわせた有機層を１０％塩酸（４８ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（４８ｍＬ）、水（４８ｍＬ）および飽和食塩水（４８ｍＬ）で順次洗浄し、硫酸マグネシウム（１２ｇ）で乾燥処理した後、減圧下４０℃以下で溶媒を留去した。濃縮物（４０ｇ）に酢酸エチル（８９ｇ）を加えて５０℃で均質になるまで温浸した後、１１℃まで冷却した。固体を濾取し、冷酢酸エチル（１５ｍＬ）で洗浄した後、４０℃以下で減圧下乾燥することによって、Ｎ－ベンゾイル－３，４－ジメトキシベンジルアミン（３３．３ｇ，８５．４％）を白色結晶として得た。
融点: 101～102℃
IR (KBr): 3334, 1637 cm-1
（工程２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
　Ｎ－ベンゾイル－３，４－ジメトキシベンジルアミン（３１．０ｇ，０．１１４ｍｏｌ）とジクロロメタン（２４８ｍＬ）の混合物に、－１２～－１０℃で、五塩化リン（２６．２ｇ，０．１２６ｍｏｌ）を６回に分け１２分かけて加え、ジクロロメタン（９ｍＬ）で容器内面を洗浄した。反応混合物を２時間かけて２２℃まで昇温し、減圧下溶媒を留去した。濃縮物にジクロロメタン（２２０ｍＬ）を加えた後、－１４－～１３℃でアジドトリメチルシラン（１９．３ｇ，０．１６８ｍｏｌ）を３８分かけて滴下し、ジクロロメタン（９ｍＬ）で洗い込んだ。反応混合物を４時間かけて室温へ昇温し、１時間攪拌後、３～６℃にて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２００ｍＬ）を滴下し、さらに飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（４００ｍＬ）を加えた。水層にジクロロメタン（１８６ｍＬ）を加えて抽出を行い、あわせた有機層を２０％食塩水（１００ｍＬ）で洗浄し、硫酸マグネシウム（１５ｇ）で乾燥した後、減圧下４０℃の浴を用いて濃縮した（濃縮物は固化した。内容物４９ｇ）。得られた固体に、酢酸エチル（６０ｍＬ）を加え、４０℃に加温して溶解した後、４０ｇまで再び減圧濃縮し（濃縮物は固化しなかった）、酢酸エチル（２５ｇ）を加えた。
　得られた混合物の一部を採取し、溶媒をクロロホルムに置換して留去し、ジクロロメタンを加えた後、ヘキサンを加えて濁らせ、トリチュレーションを行った結果、結晶が析出した。これを種晶とした。
　残りの混合物について、溶媒をクロロホルムに置換して、留去した後、ジクロロメタン（３５ｍＬ）を加え、ヘキサン（１２ｍＬ）を滴下した。上記操作で得られた種晶を接種して結晶を析出させた。１３℃まで冷却し、固体を濾取し、ジクロロメタン／ヘキサン混液（７：３；４８ｍＬ）で洗浄した後、減圧下３０℃以下で乾燥した。乾燥途中に融解を観察後、温浴を使用せずに真空乾燥を行い、化合物１ｄ（２８．１ｇ，８２．８％）を微褐色の固体として得た。
融点: 59～61℃
IR (KBr): 1607 cm-1
1H-NMR (DMSO-d6): δ = 7.76 (dd, J = 7.9, 1.6 Hz, 2H), 7.65-7.59 (m, 3H), 6.87 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 6.72 (d, J = 1.8 Hz, 1H), 6.59 (dd, J = 8.4, 1.8 Hz, 1H), 5.70 (s, 2H), 3.70 (s, 3H), 3.62 (s, 3H).
13C-NMR (DMSO-d6): δ = 153, 149, 149, 131, 129, 129, 127, 124, 120, 112, 111, 55, 55, 51.
MS: m/z = 297 (MH+)
参考例６
（工程１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
　３，４，５－トリメトキシベンジルアミン（２０．０ｇ，０．１０１ｍｏｌ）、ＴＨＦ（８８．０ｍＬ）およびトリエチルアミン（１４．９ｇ，０．１４７ｍｏｌ）の混合物に、－６～－３℃にて、ベンゾイルクロリド（１４．３ｇ，０．１０１ｍｏｌ）を滴下し、ＴＨＦ（１０ｍＬ）で洗い込んだ。反応混合物を窒素雰囲気下、－６～２℃で１時間攪拌した。ＴＬＣ（ヘキサン／酢酸エチル（１：１））で出発原料の消費を確認した。反応混合物に２～１０℃にて、水（４４ｍＬ）を加えた後、酢酸エチル（１７，４０，１８ｍＬ）で３回抽出を行った。あわせた有機層を１８％食塩水（２０ｍＬ）で２回洗浄し、硫酸マグネシウム（７．４ｇ）で乾燥した後、シリカゲル（５．１ｇ）を加えて１１分攪拌後、シリカゲル（１９ｇ）を通して濾過した。３５℃の浴を用い、減圧下３５ｇまで濃縮した。濃縮物に酢酸エチルを加え、加熱し、固体を溶解した。この溶液を４０～３０℃の浴を用い、減圧下内容物が流動しなくなるまで溶媒を留去した（内容物量５２ｇ）。この際、途中で種晶の接種を行った。濾過に必要な量の酢酸エチルを加え、結晶を濾取し、酢酸エチルで洗浄し、減圧下５０℃以下で乾燥することによって、Ｎ－ベンゾイル－３，４，５－トリメトキシベンジルアミン（２７．３ｇ，８９．３％）を白色結晶として得た。
融点: 113～115℃
IR (KBr): 3374, 1654 cm-1
（工程２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
　Ｎ－ベンゾイル－３，４，５－トリメトキシベンジルアミン（１５．０ｇ，４９．８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１２０ｍＬ）溶液に、－１７～－１３℃にて五塩化リン（１１．４ｇ，５４．７ｍｍｏｌ）を１２分かけて加えた。反応混合物を４時間かけて２０℃に昇温し、減圧下濃縮した（浴温３５℃以下）。濃縮物にジクロロメタン（９７ｍＬ）を加え、－１３～－１４℃でアジドトリメチルシラン（８．４１ｇ，７３．０ｍｍｏｌ）を１９分かけて滴下し、ジクロロメタン（５ｍＬ）で洗い込んだ。反応混合物の温度を３時間かけて室温に上げ、６時間攪拌した。反応はＴＬＣ（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル（７：３））でモニターした。反応混合物を冷却し、３～１０℃で飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２５０ｍＬ）を加えた。分液を行い、水層にジクロロメタン（９０ｍＬ）を加えて抽出した。あわせた有機層を２０％食塩水（５０ｍＬ）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、４０℃以下で減圧下濃縮した。濃縮液にジクロロメタン（３０ｍＬ）を加え、再度濃縮した。濃縮液にジクロロメタン（１７ｍＬ）を加え、ヘキサンを加えて濁らせた。この混合物を少量採取し、減圧濃縮した後、ジイソプロピルエーテルを加えてトリチュレーションを行い結晶化させた。この結晶を種晶として上記の混合物に加え結晶を析出させた。この混合物を減圧下部分濃縮した後、結晶を濾取し、ヘキサン（４０ｍＬ）とジクロロメタン（２ｍＬ）の混液で洗浄し、減圧下４５℃以下で乾燥することによって、化合物１ｅの粗生成物（１５．９ｇ，９７．７％）を淡褐黄色の結晶として得た。
融点：105～113℃
IR (KBr): 1595 cm-1
1H-NMR (CDCl3): δ = 7.61-7.52 (m, 5H), 6.34 (s, 2H), 5.54 (s, 2H), 3.82 (s, 3H), 3.76 (s, 6H).
13C-NMR (CDCl3): δ = 155, 154, 138, 131, 129, 129, 124, 105, 61, 56, 52.
MS: 327 (MH+).
参考例７
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
　ピペロニルアミン（２０．０ｇ，０．１３３ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（８７．５ｍＬ）およびトリエチルアミン（１３．９ｇ，０．１３７ｍｏｌ）の混合物に、－１０～＋６℃にて、ベンゾイルクロリド（１８．６ｇ，０．１３３ｍｏｌ）を滴下し、滴下途中内容物を攪拌するため適宜テトラヒドロフラン（合計１２３ｍＬ）を加え、滴下後テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）で洗い込んだ。反応混合物を窒素雰囲気下２～１１℃で１５時間攪拌した。出発原料の消費をＴＬＣ（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル（１：１））で確認した。反応混合物に１１℃にて、水（５０ｍＬ）を加えた後、酢酸エチル（１２８ｍＬ）を加え分液を行った。水層につき酢酸エチル（４４ｍＬ）で２回抽出を行い、あわせた有機層を、１０％塩酸（４０ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（４０ｍＬ）、水（４０ｍＬ）および飽和食塩水（４４ｍＬ）で順次洗浄し、硫酸マグネシウム（１８ｇ）で乾燥した。減圧下３５℃以下で大部分の溶媒を留去した後（内容物６１ｇ）、酢酸エチル（６１ｍＬ）を加え、結晶を濾取し、酢酸エチル（４６ｍＬ）で洗浄し、減圧下５０℃以下で乾燥することによって、Ｎ－ベンゾイルピペロニルアミン（２８．６ｇ，８４．７％）を白色結晶として得た。
融点: 115～116℃
IR (KBr): 3308, 1629 cm-1
参考例８
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
　炭酸ナトリウム（２３２ｇ，２．１９ｍｏｌ）の水（７５０ｍＬ）溶液にトルエン（７５０ｍＬ）および水（７５０ｍＬ）を加え、９℃に冷却し、ｏ－メトキシベンジルアミン（３００ｇ，２．１９ｍｏｌ）を加えた。この混合物に、攪拌下３～８℃でベンゾイルクロリド（３０７ｇ，２．１９ｍｏｌ）を滴下し、この間攪拌のためトルエン（７５０ｍＬ）を加えた。反応混合物を室温に昇温し２０分攪拌した。反応はＴＬＣ（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル（１：１））でモニターした。反応混合物を３℃に冷却し、濾過した。固体に市水（８００ｍＬ）を加えて７時間半攪拌した後、濾過し、母液の有機層は濃縮乾固した。濾取した固体をトルエン（６００ｍＬ）と懸濁した後、濾過し、濾液を濃縮乾固した。濾取した固体、上記の母液の有機層の濃縮乾固物、トルエン懸濁液の濾液の濃縮乾固物、ジクロロメタン（１５００ｍＬ）および水（１５００ｍＬ）を混合し、分液を行った。有機層を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（６００ｍＬ）、水（６００ｍＬ）および２０％食塩水（６００ｍＬ）で順次洗浄し、硫酸マグネシウム（６０ｇ）で乾燥した。硫酸マグネシウムを濾去し、濾液を減圧下５０℃以下の浴で濃縮し（約８３０ｇ）、浴温を１８℃に下げた。固体を濾取し、冷ジクロロメタン（８５ｍＬ）で洗浄し、５０℃以下で減圧下乾燥することによって、Ｎ－ベンゾイル－２－メトキシベンジルアミン（１次晶４８１ｇ，９１．２％）を白色結晶として得た。ＨＰＬＣ分析の結果、面積百分率は９９．３％、含量は９７．８％であった。
　濾液を減圧下３０℃以下で濃縮した後（５３．５ｇ）、酢酸エチル（４１．１ｇ）を加え、６０℃の浴を用いて溶解した。４時間かけて１℃まで冷却した後、固体を濾取し、冷酢酸エチル（２０ｍＬ）で洗浄し、５０℃以下で減圧下乾燥することにより、Ｎ－ベンゾイル－２－メトキシベンジルアミンの２次晶（２９．９ｇ，５．７％）を得た。ＨＰＬＣ分析の結果、面積百分率は９８．７％、含量は９７．０％であった。
ＨＰＬＣ測定条件：
　　カラム　Ｉｎｅｒｔｓｉｌ　ＯＤＳ－３，２μｍ，３．０×５０ｍｍ
　　移動相Ａ　ＭｅＣＮ／３０ｍＭ　ＫＨ２ＰＯ４（１１：９）
　　移動相Ｂ　０．１ｗ／ｖ％リン酸
　　総流量　０．５ｍＬ／ｍｉｎ
　　グラジエントサイクル：０分（Ａ液／Ｂ液＝７０／３０）、５分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、３５分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、３８分（Ａ液／Ｂ液＝７０／３０）
　　検出器　ＵＶ２２５ｎｍ
　　温度　４０℃
参考例９
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
　１００ｍＬナスフラスコに４－ブロモベンジルアルコール（５．００ｇ，２６．７ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（１９ｇ）および無水酢酸（３．２８ｇ，３２．１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．８９ｇ，８．８０ｍｍｏｌ）を加え、１５℃でＤＭＡＰ（０．３３ｇ，２．７０ｍｍｏｌ）を加えたところ、３０℃まで温度が上昇した。１時間撹拌後、メタノール（１０ｇ）を加えて、溶媒を留去し、酢酸エチル（４０ｍＬ）に溶解し水（２０ｍＬ）で洗浄した。有機層を濃縮して真空乾燥したところ、薄黄色の透明溶液の化合物２ａ（５．５２ｇ，収率９０．０％）を得た。
1H-NMR(400MHz, CDCl3)δ=2.09(3H, s), 5.04(2H, s), 7.22(2H, d, J=8.0), 7.47(2H, d, J=8.4).
13C-NMR(400MHz, CDCl3)δ=122.00, 134.69, 170.32(3s), 129.65, 131.41(2d), 65.35(1t), 20.97(1q).
IR(KBr)ν(cm-1):1738
EIMS(m/z):228 (M+-1)
参考例１０
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
　ｐ－クロロベンジルアルコール（１１．０ｇ，７７．１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４４．０ｍＬ）溶液に、窒素雰囲気下攪拌しながら－２０～－１８℃で無水酢酸（８．８０ｇ，８６．２ｍｍｏｌ）を滴下し、テトラヒドロフラン（８．０ｍＬ）で洗い込んだ。この溶液に－１９～－１７℃でトリエチルアミン（９．５０ｇ，９３．９ｍｍｏｌ）を滴下し、テトラヒドロフラン（６．４ｍＬ）で洗い込んだ。この溶液に、－２０℃で４－ジメチルアミノピリジン（２０１ｍｇ，１．６４ｍｍｏｌ）を加え、テトラヒドロフラン（１．４ｍＬ）で容器内面を洗浄した（内温は－１℃まで上昇した）。冷浴を除き、内温を１９℃まで上昇させた。反応はＴＬＣ（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル（２：１））で確認した。反応混合物を適宜冷却しながら、２～１９℃でメタノール（２７．０ｍＬ）を滴下した後、４５℃以下で減圧下濃縮した。濃縮物を酢酸エチル（８８ｍＬ）で希釈し、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（４４ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２２ｍＬ，１２ｍＬ×２回）および２０％食塩水（３３ｍＬ）で順次洗浄し、硫酸マグネシウム（５．０ｇ）で乾燥した後、減圧下、３５℃以下で濃縮した。濃縮液にクロロホルム（２０ｍＬ）を加えて４５℃以下で減圧濃縮する操作を４回繰り返した後、４５℃以下で減圧下乾燥することによって、化合物２ｃ（１４．０ｇ，９８．０％）を微黄色油状物として得た。
IR (neat): 1739, 1227 cm-1
実施例１
（工程１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
　アルゴン雰囲気下、５０ｍＬ三口フラスコに、１－（４－メトキシベンジル）－５－フェニルテトラゾール（化合物１ａ，１６０ｍｇ，０．６０ｍｍｏｌ）、ｐ－ブロモベンジルアセタート（化合物２ａ，３４５ｍｇ，１．５ｍｍｏｌ）、ジクロロ（１，５－シクロオクタジエン）ルテニウム（ＩＩ）ポリマー（１６．９ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ（モノマー換算））、トリフェニルホスフィン（３１．８ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（３３３ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）、脱水Ｎ－メチル－２－ピロリドン（１．２ｍＬ）を加え、１４０℃で２時間反応した。ＴＬＣ（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１）で反応の終点を確認した。反応液に酢酸エチル（１８ｍＬ）を添加後ろ過し、残渣を酢酸エチル（９ｍＬ）で洗浄し、ろ液と洗液を合わせた。この液を硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮したところ、濃緑色液体の粗生成物（５０４ｍｇ，収率２０２％）が得られた。ＨＰＬＣにより粗生成物中の化合物３ａの収量を計算したところ、１５４ｍｇ（収率６２％）であった。続いて、粗生成物４１９ｍｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝１／４）により精製したところ、黄色油状の化合物３ａ（１３１ｍｇ，収率６３％）を得た。
1H-NMR(400MHz, CDCl3)δ=2.13(3H, s), 3.73(3H, s), 4.75(2H, s), 5.08(2H, s), 6.64-6.72(4H, m),7.10-7.15(2H, m), 7.24-7.29(2H, m), 7.35(1H, dd, J=7.6, 1.2), 7.43-7.48(1H, m), 7.57(1H, dd, J=8.0, 0.8), 7.62-7.68(1H, m).
13C-NMR(400MHz, CDCl3)δ=122.45, 124.75,135.57, 138.35, 140.85, 153.92, 159.29, 170.31(8s), 113.78, 127.65, 128.18, 128.52, 129.07, 130.00, 130.90, 131.27(8d), 50.37, 65.40(2t), 20.94, 55.10(2q).
IR(KBr)ν(cm-1):1612, 1740
EIMS(m/z):414 (M+）
（工程２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
　５０ｍＬナスフラスコに化合物３ａ（０．２６８ｇ，０．６５ｍｍｏｌ）、メタノール（１５ｍＬ）、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液（０．１２５ｇ，０．６５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１．５時間反応した。ＴＬＣ（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１）で原料の消失を確認した。反応終了後、溶媒を留去して橙色油状の粗生成物（０．２７１ｇ）を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝１／２）により精製したところ、黄色油状の化合物４ａ（０．１５１ｇ，収率６３％）を得た。
1H-NMR(400MHz, CDCl3)δ=3.72(3H, s), 4.68(2H, s), 4.74(2H, s), 6.63-6.72(4H, m), 7.08-7.12(2H, m), 7.24-7.29(2H, m), 7.33(1H, dd, J=7.6,1.2), 7.41-7.46(1H, m), 7.57(1H, dd, J=8.0, 1.2), 7.61-7.67(1H, m).
13C-NMR(400MHz, CDCl3)δ=122.48, 124.92, 137.68, 140.79, 141.21, 154.16, 159.36(7s), 113.88, 127.13, 127.61, 128.51, 129.19, 130.09, 131.01, 131.37(8d), 50.17, 64.44(2t), 55.24(1q).
IR(KBr)ν(cm-1):1612
EIMS(m/z):372 (M+）
（工程３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
　１００ｍＬナスフラスコに化合物４ａ（０．８９１ｇ，２．３９ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（８１．７ｍＬ）を加え、三臭化リン（１．３０ｇ，４．８０ｍｍｏｌ）を０℃で１．５時間かけて滴下した後、室温で４時間撹拌した。ＴＬＣ（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１）で反応の終了を確認した。反応液を水（８１７ｍＬ）に加え、酢酸エチル（６５３ｍＬ）で抽出し、水（４９０ｍＬ×３）で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮し、黄色油状の粗生成物（２．４７ｇ）を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝１／２）で精製し、黄色油状の化合物５ａ（１．０９ｇ，収率１０５％）を得た。
1H-NMR(400MHz, CDCl3)δ=3.73(3H, s), 4.46(2H, s), 4.75(2H, s), 6.64-6.73(4H, m), 7.07-7.13(2H, m), 7.28-7.33(2H, m), 7.34-7.38(1H, m), 7.44-7.49(1H, m), 7.55-7.59(1H, m), 7.62-7.68(1H, m).
13C-NMR(400MHz, CDCl3)δ=122.69, 124.87, 137.54, 138.72, 140.83, 154.02, 159.50(7s), 113.99, 127.92, 128.92, 129.26, 129.41, 130.11, 131.14, 131.45(8d), 32.72, 50.57(2t), 55.31(1q).
IR(KBr)ν(cm-1):1611
EIMS(m/z):434 (M+)
実施例２
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
　１－（ｐ－メトキシベンジル）－５－フェニル－１Ｈ－テトラゾール（化合物１ａ，１５１ｍｇ，０．５６７ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１５７ｍｇ，１．１３ｍｍｏｌ）、塩化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物（１４．４ｍｇ，ＲｕＣｌ３換算１１．８ｍｇ，５７．０μｍｏｌ）、ｐ－ブロモベンジルアセタート（化合物２ａ，１５６ｍｇ，０．６８１ｍｍｏｌ）およびＮ－メチル－２－ピロリドン（１．１ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下、１２０℃で１６時間加熱した。反応はＨＰＬＣでモニターした。反応混合物を冷却後、酢酸エチル（４ｍＬ）を加え、ろ過して、化合物３ａを含むろ液を得た。このろ液中の化合物３ａの含量をＨＰＬＣで求めた結果、含量は３０．０ｍｇ（１２．８％）であった。
実施例３
（工程１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
　アルゴン雰囲気下、１００ｍＬ四口フラスコに、１－（４－メトキシベンジル）－５－フェニルテトラゾール（化合物１ａ，８．５２２ｇ，３２．０ｍｍｏｌ）、ｐ－ブロモベンジルアセタート（化合物２ａ，９．４９６ｇ，４１．５ｍｍｏｌ）、［ＲｕＣｌ２（η４－ＣＯＤ）］ｎ（０．８９７ｇ，３．２０ｍｍｏｌ（１０ｍｏｌ％））、トリフェニルホスフィン（１．６７９ｇ，６．４０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（８．８４５ｇ，６４．０ｍｍｏｌ）、脱水ＮＭＰ（６４ｍＬ）を加え、１４０℃で４時間撹拌した。酢酸エチル（２００ｍＬ）を加え、ろ過した後、有機層を１０％食塩水（５０ｍＬ）で二回洗浄した。続いて、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し、褐色溶液（１９．９６ｇ，粗収率１５０．５％）を得た。化合物３ａを含む粗生成物はそのまま次工程に使用した。
（工程２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
　２００ｍＬフラスコに化合物３ａ（１９．９２ｇ（粗生成物））、メタノール（１６０ｍＬ）、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液（３．０８６ｇ，純分０．８６４３ｇ，１６．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で４５分間撹拌した。ＴＬＣ（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１）で反応の終了を確認した。反応終了後、溶媒を留去し、クロロホルム（１６０ｍＬ）を加え、１０％食塩水（４０ｍＬ×２）で洗浄した後、クロロホルム（４０ｍＬ）で水層から再抽出した。有機層を合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去し、褐色の液体（２５．６３ｇ，粗収率１４３％）を得た。化合物４ａを含む粗生成物はそのまま次工程に使用した。
（工程３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
　２００ｍＬ四口フラスコに化合物４ａ（２５．６３ｇ（粗生成物））、ＴＨＦ（１６０ｍＬ）を加え、三臭化リン（１７．４５ｇ，６４．５ｍｍｏｌ）を０℃で１時間かけて滴下した後、室温で２時間撹拌した。ＴＬＣ（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１）で反応の終了を確認した。反応終了後、この溶液を水（８０ｍＬ）に加え、酢酸エチル（８０ｍＬ×２）で抽出し、１０％食塩水（４０ｍＬ×２）で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し、黄色油状物（１９．６２ｇ，粗収率１４１％）を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝１／３～１／２）により精製し、黄色油状物の化合物５ａ（５．８９ｇ，化合物１ａからの収率４２％）を得た。
1H-NMR(400MHz, CDCl3)δ=3.73(3H, s), 4.46(2H, s), 4.75(2H, s), 6.64-6.73(4H, m), 7.07-7.13(2H, m), 7.28-7.33(2H, m), 7.34-7.38(1H, m), 7.44-7.49(1H, m), 7.55-7.59(1H, m), 7.62-7.68(1H, m).
13C-NMR(400MHz, CDCl3)δ=122.69, 124.87, 137.54, 138.72, 140.83, 154.02, 159.50(7s), 113.99, 127.92, 128.92, 129.26, 129.41, 130.11, 131.14, 131.45(8d), 32.72, 50.57(2t), 55.31(1q).
IR(KBr)ν(cm-1):1611
EIMS(m/z):434 (M+)
実施例４
（工程１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
　トリフェニルホスフィン（４．８１ｇ，１８．３ｍｍｏｌ）、１－ベンジル－５－フェニル－１Ｈ－テトラゾール（化合物１ｂ，４３．３ｇ，１８３ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（５０．７ｇ，３６７ｍｍｏｌ）、ジクロロ（１，５－シクロオクタジエン）ルテニウム（ＩＩ）ポリマー（２．５７ｇ，単量体として９．１７ｍｍｏｌ）、ｐ－ブロモベンジルアセタート（化合物２ａ，６２．９ｇ，２７４ｍｍｏｌ）およびＮ－メチル－２－ピロリドン（３６６ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下１４０℃で５時間攪拌した。反応はＨＰＬＣでモニターした。反応混合物を冷却後、酢酸エチル（１０００ｍＬ）と混合し、ろ過し、不溶物を酢酸エチル（約８０ｍＬ）で洗浄した。濾液を１０％食塩水（２５４ｍＬ）に加え、分離した。有機層を１０％食塩水（２５４ｍＬ）で洗浄し、硫酸マグネシウム（５０ｇ）で乾燥した後、４０℃以下で減圧下濃縮し、化合物３ｂの粗生成物（１６１ｇ，理論収量の２２９％）を暗褐色油状物として得た。次工程には該粗生成物を精製せずに用いた。
IR (neat）: 1741 (C=O), 1603 cm-1.
1H-NMR (CDCl3): δ = 7.63 (td, J = 7.6, 1.4 Hz, 1H, biphenyl), 7.57 (dd, J = 7.6, 1.4 Hz, 1H, biphenyl), 7.44 (td, J = 7.6, 1.4 Hz, 1H, biphenyl), 7.34 (dd, J = 7.6, 1.4 Hz, 1H, biphenyl), 7.27 (d, J = 8.6 Hz, 2H, o-Ph of Bn), 7.22 (t, J = 8.6 Hz, 1H, p-Ph of Bn), 7.16 (t, J = 8.6 Hz, 2H, m-Ph of Bn), 7.13 (d, J = 7.2 Hz, 2H, biphenyl), 6.76 (d, J = 7.2 Hz, 2H, biphenyl), 5.09 (s, 2H, CH2O), 4.82 (s, 2H, CH2N), 2.11 (s, 3H, Me).
13C-NMR (CDCl3): δ = 171 (C=O), 155 (tetrazole), 141, 139, 136, 133 (quaternary Ar), 132, 131, 130, 129, 129, 128, 128 (CH), 122 (quaternary Ar), 66 (CH2O), 51 (CH2 of Bn), 21 (CH3).
MS：385 (MH+)
（工程２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
　粗［２’－（１－ベンジル－１Ｈ－テトラゾール－５－イル）ビフェニル－４－イル］メチルアセタート（粗生成物として１５０ｇ，粗生成物中の化合物３ｂの含量６５．４ｇ，０．１７０ｍｏｌ）のメタノール（７４８ｍＬ）溶液に、１８～１９℃で、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液（１６．４ｇ，８５ｍｍｏｌ）を滴下し、メタノール（２．９ｇ）で洗い込んだ。反応はＴＬＣ（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル（４：１））およびＨＰＬＣで確認した。反応混合物を約２０℃で１時間攪拌後、４０℃以下で減圧下濃縮した。濃縮物をクロロホルム（７９１ｍＬ）および２４％食塩水（１８６ｇ）と混合した後、分離し、得られた有機層を２４％食塩水（１８６ｇ）で洗浄した。得られた混合物を硫酸マグネシウム（３６ｇ）で乾燥し、活性白土（ガレオンアースＮＶ，５０ｇ）に通してろ過し、クロロホルム（約５０ｍＬ）で洗い込んだ。濾液を減圧下濃縮することによって、化合物４ｂの粗生成物（１３０ｇ，理論収量の２２２％）を暗褐色油状物として得た。該粗生成物を精製せずに次工程に用いた。
IR (neat）: 3397 (OH), 1603 cm-1.
1H-NMR (CDCl3): δ = 7.64 (td, J = 7.6, 1.6 Hz, 1H, biphenyl), 7.57 (dd, J = 7.6, 1.6 Hz, 1H, biphenyl), 7.43 (td, J = 7.6, 1.6 Hz, 1H, biphenyl), 7.34 (dd, J = 7.6, 1.6 Hz, 1H, biphenyl), 7.29 (d, J = 8.4 Hz, 2H, Ph of Bn), 7.21 (t, J = 8.4 Hz, 1H, Ph of Bn), 7.16 (t, J = 8.4 Hz, 2H, Ph of Bn), 7.12 (d, J = 7.5 Hz, 2H, biphenyl), 6.78 (d, J = 7.5 Hz, 2H, biphenyl), 4.82 (s, 2H, CH2N), 4.70 (d, J = 5.7 Hz, 2H, CH2O), 1.81 (t, J = 5.7 Hz, 1H, OH).
13C-NMR (CDCl3): δ = 155 (tetrazole), 141, 141, 138, 133 (quaternary Ar), 132, 131, 130, 129, 129, 128, 127 (CH), 122 (quaternary Ar), 64 (CH2O), 51 (CH2 of Bn).
MS：343 (MH+)
（工程３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
　粗［２’－（１－ベンジル－１Ｈ－テトラゾール－５－イル）ビフェニル－４－イル］メタノール（粗生成物として１１８ｇ，粗生成物中の化合物４ｂの含量５２．９ｇ，０．１５４ｍｏｌ）とＴＨＦ（７１０ｍＬ）の混合物に、窒素雰囲気下－９～－４℃で三臭化リン（６２．７ｇ，０．２３２ｍｏｌ）を１時間かけて滴下し、ＴＨＦ（７ｍＬ）で洗い込んだ。反応はＴＬＣ（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル（４：１）および酢酸エチル／ヘキサン（１：１））で確認した。反応混合物を、１２℃まで昇温し、２６℃以下で水（３６０ｍＬ）に加え、酢酸エチル（３６０ｍＬ）を加えて抽出した。水層に酢酸エチル（３６０ｍＬ）を加えて抽出し、あわせた有機層を１０％食塩水（１９０ｇ）で２回洗浄し、硫酸マグネシウム（３４ｇ）で乾燥した後、４０℃以下で減圧下濃縮することにより、粗生成物（９６．５ｇ，理論収量の１５４％）を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル（１００：０～１：１））により、下記に示す３つの暗褐色油状物を得た。
（Ａ）：０．１７ｇ，理論収量の０．３％；化合物５ｂの他に低極性のスポットをごく少量含む
（Ｂ）：１６．６ｇ，理論収量の２６．５％；ほぼ化合物５ｂのみ
（Ｃ）：９．９９ｇ，理論収量の９．６％；化合物５ｂの他に高極性の２スポットを少量含む
　上記（Ｂ）の油状物（化合物５ｂ）をＮＭＲ測定に供した。
IR (neat）: 1603 cm-1
1H-NMR (CDCl3): δ = 7.65 (td, J = 7.5, 1.5 Hz, 1H, biphenyl), 7.57 (dd, J = 7.5, 1.5 Hz, 1H, biphenyl), 7.45 (td, J = 7.9, 1.4 Hz, 1H, biphenyl), 7.35 (dd, J = 7.9, 1.4 Hz, 1H, biphenyl), 7.31 (d, J = 8.2 Hz, 2H, o-Ph), 7.22 (t, J = 8.2 Hz, 1H, p-Ph), 7.17 (t, J = 8.2 Hz, 2H, m-Ph), 7.10 (2H, J = 8.2 Hz, 2H, biphenyl), 6.77 (2H, J = 8.2 Hz, 2H, biphenyl), 4.82 (s, 2H, CH2N), 4.46 (s, 2H, CH2Br).
13C-NMR (CDCl3）: δ = 154 (tetrazole), 141 (quaternary Ar), 139 (quaternary Ar), 138 (quaternary Ar), 133 (quaternary Ar), 132 (CH of Ar), 131 (CH of Ar), 130 (CH of Ar), 129 (CH of Ar), 129 (CH of Ar), 129 (CH of Ar), 128 (CH of Ar), 128 (CH of Ar), 122 (quaternary Ar), 51 (CH2N), 32 (CH2Br).
MS：405 (MH+)
実施例５
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
　アルゴン雰囲気下、５０ｍＬ三口フラスコに１－（４－メトキシベンジル）－５－フェニルテトラゾール（化合物１ａ，７９９．０ｍｇ，３ｍｍｏｌ）、４－ブロモトルエン（化合物２ｂ，１．２８０３ｇ，７．５ｍｍｏｌ）、［ＲｕＣｌ２（η６－Ｃ６Ｈ６）］２（７５．３ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ（５ｍｏｌ％））、トリフェニルホスフィン（１５７．０ｍｇ，０．６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１．６６０１ｇ，１２ｍｍｏｌ）、脱水ＮＭＰ（６．０ｍＬ）を加え、１４０℃で２時間反応した。反応終了後、酢酸エチル（９０ｍＬ）で希釈し、不溶物をろ別した後、酢酸エチル（４５ｍＬ）で洗浄した。ろ液および洗液を合わせ、食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を濃縮し、深緑色液体の粗生成物（１．５３ｇ，収率１４３％）を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、黄白色固体の１－（４－メトキシベンジル）－５－（４’－メチルビフェニル－２－イル）テトラゾール（化合物３ｅ，６４０ｍｇ，収率６０％）を得た。
1H-NMR(400MHz, CDCl3)δ=2.34(3H, s), 3.72(3H, s), 4.70(2H, s), 6.61-6.73(4H, m), 7.00-7.12(4H, m), 7.30-7.45(2H, m), 7.53-7.65(2H, m).
13C-NMR(400MHz, CDCl3)δ=122.61, 125.08, 135.76, 137.82, 141.42, 154.31, 159.40(7s), 113.87, 127.40, 128.32, 129.25, 129.52, 129.99, 131.11, 131.30(8d), 50.44(1t), 21.23, 55.25(3q).
IR(KBr)ν(cm-1):1612
EIMS(m/z):356
実施例６
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
　塩化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物（Ｒｕ４０．０１％；５．８ｍｇ，ＲｕＣｌ３として４．８ｍｇ，２３μｍｏｌ，１．３ｍｏｌ％）、トリフェニルホスファン（１０．４ｍｇ，３９．７μｍｏｌ）、１－（ｏ－メトキシベンジル）－５－フェニル－１Ｈ－テトラゾール（化合物１ｃ，４８１ｍｇ，１．８１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（４９９ｍｇ，３．６１ｍｍｏｌ）、ｐ－ブロモベンジルアセタート（化合物２ａ，４５５ｍｇ，１．９９ｍｍｏｌ）およびＮ－メチル－２－ピロリドン（１．９ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下攪拌しながら１４０℃の浴で１０時間加熱し、反応をＨＰＬＣでモニターした。反応混合物を室温に冷却後、酢酸エチル（１０ｍＬ）を加えて濾過し、酢酸エチル（１０ｍＬ）で洗浄した。得られた濾液（１９．６ｇ）中の生成物（化合物３ｃ）をＨＰＬＣにより定量した結果、化合物３ｃの正味量は６０７ｍｇ（８１％）であった。
ＨＰＬＣ測定条件：
　　カラム　Ｉｎｅｒｔｓｉｌ　ＯＤＳ－３，２μｍ，３．０×５０ｍｍ
　　移動相Ａ　ＭｅＣＮ／３０ｍＭ　ＫＨ２ＰＯ４（１１：９）
　　移動相Ｂ　０．１ｗ／ｖ％リン酸
　　総流量　０．５ｍＬ／ｍｉｎ
　　グラジエントサイクル：０分（Ａ液／Ｂ液＝８０／２０）、５分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、４０分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、４３分（Ａ液／Ｂ液＝８０／２０）
　　検出器　ＵＶ２２５ｎｍ
　　温度　４０℃
融点: 117～118℃
IR (KBr): 1735, 1603 cm-1
1H-NMR (DMSO-d6): δ = 7.74 (td, J = 7.7, 1.4 Hz, 1H), 7.61-7.58 (m, 3H), 7.28 (d, J = 8.2 Hz, 2H), 7.27 (td, J = 7.4, 1.4 Hz, 1H), 7.00 (d, 2H, J = 8.2 Hz, 2H), 6.91 (dd, J = 7.4, 1.4 Hz, 1H), 6.90 (d, J = 7.4 Hz, 1H), 6.81 (t, J = 7.4 Hz, 1H), 5.06 (s, 2H), 4.98 (s, 2H), 3.51 (s, 3H), 2.08 (s, 3H).
13C-NMR (DMSO-d6): δ = 170, 156, 154, 141, 138, 136, 131, 131, 130, 130, 128, 128, 128, 122, 121, 120, 111, 65, 55, 46, 21.
MS: m/z = 415 (MH+)
実施例７
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
　ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（３６０ｍｇ，０．３７５ｍｍｏｌ，５ｍｏｌ％）、１－（ｏ－メトキシベンジル）－５－フェニル－１Ｈ－テトラゾール（化合物１ｃ，２．００ｇ，７．５１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２．０９ｇ，１５．１ｍｍｏｌ）、ｐ－ブロモベンジルアセタート（化合物２ａ，２．５４ｇ，１１．１ｍｍｏｌ）およびＮ－メチル－２－ピロリドン（１５．０ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下攪拌しながら加熱して内温を約１４０℃に５時間保持した後、室温に冷却した。反応はＨＰＬＣでモニターした。反応混合物に酢酸エチル（４５ｍＬ）を加え、濾過を行い、酢酸エチル（１０ｍＬ）で洗浄した。濾液を２０％食塩水（４０ｍＬ）で２回洗浄し、硫酸マグネシウム（１．１ｇ）で乾燥した。硫酸マグネシウムを濾去し、酢酸エチル（約１０ｍＬ）で洗浄した。得られた濾液（５８．６ｇ）中の生成物（化合物３ｃ）をＨＰＬＣで定量した結果、化合物３ｃの正味量は２．５６ｇ（８２．２％）であった。
ＨＰＬＣ測定条件：
　　カラム　Ｉｎｅｒｔｓｉｌ　ＯＤＳ－３，２μｍ，３．０×５０ｍｍ
　　移動相Ａ　ＭｅＣＮ／３０ｍＭ　ＫＨ２ＰＯ４（１１：９）
　　移動相Ｂ　０．１ｗ／ｖ％リン酸
　　総流量　０．５ｍＬ／ｍｉｎ
　　グラジエントサイクル：０分（Ａ液／Ｂ液＝８０／２０）、５分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、４０分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、４３分（Ａ液／Ｂ液＝８０／２０）
　　検出器　ＵＶ２２５ｎｍ
　　温度　４０℃
実施例８
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
　塩化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物（Ｒｕ４０．０１％；５．２ｍｇ，ＲｕＣｌ３として４．３ｍｇ，２１μｍｏｌ，１．３ｍｏｌ％）、トリ（ｐ－トリル）ホスファン（１１．０ｍｇ，３６．１μｍｏｌ）、１－（ｏ－メトキシベンジル）－５－フェニル－１Ｈ－テトラゾール（化合物１ｃ，４３９ｍｇ，１．６５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（４５５ｍｇ，３．２９ｍｍｏｌ）、ｐ－ブロモベンジルアセタート（化合物２ａ，４１５ｍｇ，１．８１ｍｍｏｌ）およびＮ－メチル－２－ピロリドン（１．８ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下攪拌しながら１４０℃の浴で１１時間加熱し、反応をＨＰＬＣでモニターした。反応混合物を室温に冷却後、酢酸エチル（１０ｍＬ）を加えて濾過し、酢酸エチル（１０ｍＬ）で洗浄した。得られた濾液（１９．４ｇ）中の生成物（化合物３ｃ）をＨＰＬＣにより定量した結果、化合物３ｃの正味量は４６４ｍｇ（６７．９％）であった。
ＨＰＬＣ測定条件：
　　カラム　Ｉｎｅｒｔｓｉｌ　ＯＤＳ－３，２μｍ，３．０×５０ｍｍ
　　移動相Ａ　ＭｅＣＮ／３０ｍＭ　ＫＨ２ＰＯ４（１１：９）
　　移動相Ｂ　０．１ｗ／ｖ％リン酸
　　総流量　０．５ｍＬ／ｍｉｎ
　　グラジエントサイクル：０分（Ａ液／Ｂ液＝８０／２０）、５分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、４０分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、４３分（Ａ液／Ｂ液＝８０／２０）
　　検出器　ＵＶ２２５ｎｍ
　　温度　４０℃
実施例９
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
　塩化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物（Ｒｕ４０．０１％；５．１ｍｇ，ＲｕＣｌ３として４．２ｍｇ，２０μｍｏｌ，１．３ｍｏｌ％）、トリ（ｐ－メトキシフェニル）ホスファン（１２．５ｍｇ，３５．５μｍｏｌ）、１－（ｏ－メトキシベンジル）－５－フェニル－１Ｈ－テトラゾール（化合物１ｃ，４３０ｍｇ，１．６１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（４４６ｍｇ，３．２３ｍｍｏｌ）、ｐ－ブロモベンジルアセタート（化合物２ａ，４０７ｍｇ，１．７８ｍｍｏｌ）およびＮ－メチル－２－ピロリドン（１．７ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下攪拌しながら１４０℃の浴で１２時間加熱し、反応をＨＰＬＣでモニターした。反応混合物を室温に冷却後、酢酸エチル（１０ｍＬ）を加えて濾過し、酢酸エチル（１０ｍＬ）で洗浄した。得られた濾液（１９．３ｇ）中の生成物（化合物３ｃ）をＨＰＬＣにより定量した結果、化合物３ｃの正味量は４７５ｍｇ（７１．０％）であった。
ＨＰＬＣ測定条件：
　　カラム　Ｉｎｅｒｔｓｉｌ　ＯＤＳ－３，２μｍ，３．０×５０ｍｍ
　　移動相Ａ　ＭｅＣＮ／３０ｍＭ　ＫＨ２ＰＯ４（１１：９）
　　移動相Ｂ　０．１ｗ／ｖ％リン酸
　　総流量　０．５ｍＬ／ｍｉｎ
　　グラジエントサイクル：０分（Ａ液／Ｂ液＝８０／２０）、５分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、４０分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、４３分（Ａ液／Ｂ液＝８０／２０）
　　検出器　ＵＶ２２５ｎｍ
　　温度　４０℃
実施例１０
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
　塩化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物（Ｒｕ４０．０１％；５．５ｍｇ，ＲｕＣｌ３として４．５ｍｇ，２２μｍｏｌ，１．２ｍｏｌ％）、シクロヘキシルジフェニルホスファン（１０．２ｍｇ，３８．０μｍｏｌ）、１－（ｏ－メトキシベンジル）－５－フェニル－１Ｈ－テトラゾール（化合物１ｃ，４６４ｍｇ，１．７４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（４８２ｍｇ，３．４８ｍｍｏｌ）、ｐ－ブロモベンジルアセタート（化合物２ａ，４３９ｍｇ，１．９２ｍｍｏｌ）およびＮ－メチル－２－ピロリドン（１．９ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下攪拌しながら１４０℃の浴で１２時間加熱し、反応をＨＰＬＣでモニターした。反応混合物を室温に冷却後、酢酸エチル（１０ｍＬ）を加えて濾過し、酢酸エチル（１０ｍＬ）で洗浄した。得られた濾液（１９．５ｇ）中の生成物（化合物３ｃ）をＨＰＬＣにより定量した結果、化合物３ｃの正味量は２９２ｍｇ（４０．５％）であった。
ＨＰＬＣ測定条件：
　　カラム　Ｉｎｅｒｔｓｉｌ　ＯＤＳ－３，２μｍ，３．０×５０ｍｍ
　　移動相Ａ　ＭｅＣＮ／３０ｍＭ　ＫＨ２ＰＯ４（１１：９）
　　移動相Ｂ　０．１ｗ／ｖ％リン酸
　　総流量　０．５ｍＬ／ｍｉｎ
　　グラジエントサイクル：０分（Ａ液／Ｂ液＝８０／２０）、５分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、４０分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、４３分（Ａ液／Ｂ液＝８０／２０）
　　検出器　ＵＶ２２５ｎｍ
　　温度　４０℃
実施例１１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
　塩化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物（Ｒｕ４０．０１％；５．４ｍｇ，ＲｕＣｌ３として４．４ｍｇ，２１μｍｏｌ，１．３ｍｏｌ％）、トリフェニルホスファン（１１．２ｍｇ，４２．７μｍｏｌ）、１－（ｏ－メトキシベンジル）－５－フェニル－１Ｈ－テトラゾール（化合物１ｃ，４５５ｍｇ，１．７１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（４７２ｍｇ，３．４２ｍｍｏｌ）、ｐ－クロロベンジルアセタート（化合物２ｃ，３４７ｍｇ，１．８８ｍｍｏｌ）およびＮ－メチル－２－ピロリドン（１．８ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下攪拌しながら１４０℃の浴で１３時間加熱し、反応をＨＰＬＣでモニターした。反応混合物を室温に冷却後、酢酸エチル（１０ｍＬ）を加え、濾過し酢酸エチル（１０ｍＬ）で洗浄した。濾液（１９．８ｇ）中の生成物（化合物３ｃ）をＨＰＬＣで定量した結果、化合物３ｃの正味量は２１３ｍｇ（３０．０％）であった。
ＨＰＬＣ測定条件：
　　カラム　Ｉｎｅｒｔｓｉｌ　ＯＤＳ－３，２μｍ，３．０×５０ｍｍ
　　移動相Ａ　ＭｅＣＮ／３０ｍＭ　ＫＨ２ＰＯ４（１１：９）
　　移動相Ｂ　０．１ｗ／ｖ％リン酸
　　総流量　０．５ｍＬ／ｍｉｎ
　　グラジエントサイクル：０分（Ａ液／Ｂ液＝８０／２０）、５分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、４０分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、４３分（Ａ液／Ｂ液＝８０／２０）
　　検出器　ＵＶ２２５ｎｍ
　　温度　４０℃
実施例１２
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
　塩化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物（Ｒｕ４０．０１％；６．８ｍｇ，ＲｕＣｌ３として５．６ｍｇ，２７μｍｏｌ，１．３ｍｏｌ％）、トリフェニルホスファン（１４．０ｍｇ，５３．４μｍｏｌ）、１－（ｏ－メトキシベンジル）－５－フェニル－１Ｈ－テトラゾール（化合物１ｃ，５６７ｍｇ，２．１３ｍｍｏｌ）、ｐ－ブロモ安息香酸メチル（化合物２ｄ，５０３ｍｇ，２．３４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（３２４ｍｇ，２．３４ｍｍｏｌ）およびＮ－メチル－２－ピロリドン（２．０ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下攪拌しながら１４０℃の浴で１２時間加熱し、反応をＨＰＬＣでモニターした。反応混合物を室温に冷却後、酢酸エチル（１０ｍＬ）を加えて濾過し、酢酸エチル（１０ｍＬ）で洗浄した。得られた濾液（２０．３ｇ）中の生成物（化合物３ｄ）をＨＰＬＣにより定量した結果、化合物３ｄの正味量は６３２ｍｇ（７４．１％）であった。
ＨＰＬＣ測定条件：
　　カラム　Ｉｎｅｒｔｓｉｌ　ＯＤＳ－３，２μｍ，３．０×５０ｍｍ
　　移動相Ａ　ＭｅＣＮ／３０ｍＭ　ＫＨ２ＰＯ４（１１：９）
　　移動相Ｂ　０．１ｗ／ｖ％リン酸
　　総流量　０．５ｍＬ／ｍｉｎ
　　グラジエントサイクル：０分（Ａ液／Ｂ液＝７０／３０）、５分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、３５分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、３８分（Ａ液／Ｂ液＝７０／３０）
　　検出器　ＵＶ２２５ｎｍ
　　温度　４０℃
融点: 72～75℃
IR（KBr): 1735, 1719, 1610 cm-1
1H-NMR（DMSO-d6): δ = 7.84（d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.77（m, 1H), 7.67-7.65（m, 3H), 7.27（td, J = 8.4, 1.4Hz, 1H), 7.11（d, J = 8.4 Hz, 2H), 6.97（dd, J = 8.4, 1.4 Hz, 1H), 6.90（d, J = 8.4 Hz, 1H), 6.81（t, J = 8.4 Hz, 1H), 5.03（s, 2H), 3.85（s, 3H), 3.50（s, 3H).
MS: m/z = 401（MH+)
実施例１３
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
　ポリ［（η２，η２－シクロオクタ－１，５－ジエン）ルテニウム－ジ－μ－クロロ］（１０．２ｍｇ，単量体として３６．４μｍｏｌ，５ｍｏｌ％）、トリフェニルホスファン（１９．３ｍｇ，７３．６μｍｏｌ）、１－（ｏ－メトキシベンジル）－５－フェニル－１Ｈ－テトラゾール（化合物１ｃ，１９４ｍｇ，０．７２９ｍｍｏｌ）、ｐ－ブロモ安息香酸メチル（化合物２ｄ，２３６ｍｇ，１．１０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２０３ｍｇ，１．４７ｍｍｏｌ）およびＮ－メチル－２－ピロリドン（１．５ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下攪拌しながら１４０℃の浴で９時間加熱し、反応をＨＰＬＣでモニターした。反応混合物に酢酸エチル（５．０ｍＬ）を加え、濾過し、酢酸エチル（７．０ｍＬ）で洗浄した。濾液を２０％食塩水（４．０ｍＬ）で洗浄し、水層に酢酸エチル（１０．０ｍＬ）を加えて抽出を行った。あわせた有機層を硫酸マグネシウム（１．０ｇ）で乾燥し、活性炭（雪Ａ（ｄｒｙ）（商品名），セラケム株式会社製；０．１０ｇ）を加えて３０分攪拌した後濾過し、酢酸エチル（１０ｍＬ）で洗浄した。濾液を４０℃の浴を用い減圧下濃縮することにより、粗生成物（１０．６ｇ）を得た。粗生成物中の化合物３ｄをＨＰＬＣで定量した結果、正味量は２３２ｍｇ（７９．３％）であった。
ＨＰＬＣ測定条件：
　　カラム　Ｉｎｅｒｔｓｉｌ　ＯＤＳ－３，２μｍ，３．０×５０ｍｍ
　　移動相Ａ　ＭｅＣＮ／３０ｍＭ　ＫＨ２ＰＯ４（１１：９）
　　移動相Ｂ　０．１ｗ／ｖ％リン酸
　　総流量　０．５ｍＬ／ｍｉｎ
　　グラジエントサイクル：０分（Ａ液／Ｂ液＝７０／３０）、５分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、３５分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、３８分（Ａ液／Ｂ液＝７０／３０）
　　検出器　ＵＶ２２５ｎｍ
　　温度　４０℃
実施例１４
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
　ポリ［（η２，η２－シクロオクタ－１，５－ジエン）ルテニウム－ジ－μ－クロロ］（１１．２ｍｇ，単量体として４０．０μｍｏｌ，５ｍｏｌ％）、トリフェニルホスファン（２１．１ｍｇ，８０．４μｍｏｌ）、１－（ｏ－メトキシベンジル）－５－フェニル－１Ｈ－テトラゾール（化合物１ｃ，２１４ｍｇ，０．８０２ｍｍｏｌ）、ｐ－クロロ安息香酸メチル（化合物２ｅ，２０５ｍｇ，１．２０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２２２ｍｇ，１．６１ｍｍｏｌ）およびＮ－メチル－２－ピロリドン（１．６ｍＬ）の混合物を窒素雰囲気下攪拌しながら１４０℃の浴で９時間加熱し、反応をＨＰＬＣでモニターした。反応混合物を室温で放置後、酢酸エチル（５．０ｍＬ）を加え、濾過し、酢酸エチル（６．４ｍＬ）で洗い込んだ。１０％食塩水（４．０ｍＬ）を加えて分液を行った。ＴＬＣ（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル（１：１）およびトルエン／酢酸エチル（７：３））で水層に主生成物が検出されたため、水層に酢酸エチル（５．０ｍＬ）を加え抽出を行った。あわせた有機層に２０％食塩水を加えて分液した。ＴＬＣ（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル（１：１））で水層に主生成物が検出されたため、水層に酢酸エチル（５．０ｍＬ）を加えて抽出を行った。あわせた有機層を飽和食塩水（５．０ｍＬ）で洗浄した後、さらに飽和食塩水（８．０ｍＬ）を加えて分液した。ＴＬＣで水層に主生成物が検出されたため、水層をあわせ、酢酸エチル（１０ｍＬ）で抽出した。あわせた有機層に硫酸マグネシウム（３．４ｇ）を加えて乾燥した後、活性炭（雪Ａ（ｄｒｙ）（商品名），セラケム株式会社製；０．１０ｇ）を加え４０分攪拌後濾過し、酢酸エチル（１０ｍＬ）で洗浄した。濾液を４０℃の浴を用い、減圧下濃縮することによって粗生成物（９．５４ｇ）を得た。得られた粗生成物中の化合物３ｄを、ＨＰＬＣで定量した結果、７３．９％（粗生成物３２１ｍｇ中、化合物３ｄ　２３７ｍｇ）であった。得られた粗生成物の全量（９．５４ｇ）を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル（１００：０～２：１））で精製した。溶媒を留去し、酢酸エチル（２ｍＬ）と加熱して固体の大部分を溶解した後、ジイソプロピルエーテル（８ｍＬ）を徐々に加え、適宜種晶の接種を行った。この混合物を－２℃まで冷却し、固体を濾取し、ジイソプロピルエーテル（８．５ｍＬ）で洗浄し、４０℃以下で乾燥することにより化合物３ｄ（４６６ｍｇ，理論収量の７６．０％）を白色結晶として得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（化合物３ｄ／ジイソプロピルエーテル／酢酸エチル＝９０．３：５．８：３．９（質量比））から、得られた化合物３ｄの正味量を求めると、４２１ｍｇ（６８．６％）であった。
ＨＰＬＣ測定条件：
　　カラム　Ｉｎｅｒｔｓｉｌ　ＯＤＳ－３，２μｍ，３．０×５０ｍｍ
　　移動相Ａ　ＭｅＣＮ／３０ｍＭ　ＫＨ２ＰＯ４（１１：９）
　　移動相Ｂ　０．１ｗ／ｖ％リン酸
　　総流量　０．５ｍＬ／ｍｉｎ
　　グラジエントサイクル：０分（Ａ液／Ｂ液＝７０／３０）、５分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、３５分（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、３８分（Ａ液／Ｂ液＝７０／３０）
　　検出器　ＵＶ２２５ｎｍ
　　温度　４０℃
実施例１５
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
　塩化カルシウム（０．９１０ｇ）にエタノール（９９．５；７．８５ｇ）を加え、約６０℃に加熱して溶解し、室温に冷却することにより、塩化カルシウムエタノール溶液（１０．４％；密度０．８５０ｇ／ｍＬ）を得た。
　２’－［１－（ｏ－メトキシベンジル）－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－カルボン酸メチル（化合物３ｄ，含量９０．３％；９７．７ｍｇ，正味量８８．３ｍｇ，０．２２０ｍｍｏｌ）、上記の塩化カルシウムエタノール溶液（１０．４％；０．１６６ｍＬ，１４１ｍｇ，塩化カルシウム量１４．６ｍｇ，０．１３２ｍｍｏｌ）およびエタノール（９９．５；０．２９ｍＬ）の混合物を５℃の浴で冷却後、テトラヒドロホウ酸ナトリウム（１０．０ｍｇ，０．２６４ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下室温にて１時間攪拌した。反応はＴＬＣ（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル（２：１））でモニターした。反応混合物を攪拌しながら６０℃の浴で２時間半加熱後、室温に冷却した。反応混合物に塩化カルシウムエタノール溶液（１０．４％；５０μＬ，４２ｍｇ，塩化カルシウム量４．４ｍｇ，４０μｍｏｌ）を加え、８℃の浴で冷却した後、テトラヒドロホウ酸ナトリウム（３．１ｍｇ，８２μｍｏｌ）を加え、冷浴を除いた。反応混合物を６０℃の浴で２時間加熱した。反応混合物を８℃の浴で冷却し、１０％塩酸（０．１５ｍＬ，１５９ｍｇ）を加え、室温に昇温した後、水（１．０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５．０ｍＬ）で３回抽出を行った。あわせた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３．０ｍＬ）および２０％食塩水（３．０ｍＬ）で順次洗浄し、硫酸マグネシウム（０．５ｇ）で乾燥した後、減圧下３０℃以下で濃縮した。得られた油状物にジイソプロピルエーテル（１．０ｍＬ）を加えてトリチュレーションを行い、結晶化させた。さらにジイソプロピルエーテル（２．０ｍＬ）を加えて３０分攪拌し、固体を濾取し、ジイソプロピルエーテル（１．０ｍＬ）で洗浄した後、減圧下４０℃以下で乾燥することにより、化合物４ｃ（６２．７ｍｇ，７６．４％）を得た。
融点: 139～141℃
IR（KBr): 3398, 1605 cm-1
1H-NMR（DMSO-d6): δ = 7.73（td, J = 7.8, 2.3 Hz, 1H), 7.60（d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.59-7.55（m, 2H), 7.26（td, J = 7.9, 1.6 Hz, 1H), 7.23（d, J = 8.2 Hz, 2H), 6.96（d, J = 8.2 Hz, 2H), 6.91（dd, J = 7.9, 1.6 Hz, 1H), 6.89（d, J = 7.9 Hz, 1H), 6.81（t, J = 7.9 Hz, 1H), 5.22（t, J = 5.9 Hz, 1H), 4.93（s, 2H), 4.49（d, J = 5.9 Hz, 2H), 3.50（s, 3H).
13C-NMR（DMSO-d6): δ = 157, 154, 142, 141, 137, 131, 131, 130, 128, 128, 127, 122, 121, 120, 111, 62, 55, 46.
MS: m/z = 373（MH+)
実施例１６
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
　｛２’－［１－（ｏ－メトキシベンジル）－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル｝メチルアセタート（化合物３ｃ，１．０１ｇ，２．４４ｍｍｏｌ）およびメタノール（５．０ｍＬ）の混合物に、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液（２４μＬ，２３ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下９時間攪拌した。反応はＴＬＣ（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル（２：１））でモニターした。反応混合物を減圧下４０℃の浴を用いて濃縮し、クロロホルム（６ｍＬ）に溶解し、２０％食塩水（２ｍＬ）で２回洗浄し、硫酸マグネシウム（０．３ｇ）で乾燥した後、減圧下４０℃以下で濃縮し、結晶化させた。クロロホルムを加え内容物量を３．４ｇにし、攪拌下ヘキサン（５．５ｍＬ）を加えて、冷浴の温度を２０℃から１℃まで下げて冷却した。固体を濾取し、ヘキサン（４ｍＬ）で洗浄した後、４０℃の浴を用いて減圧乾燥することによって、化合物４ｃ（７６５ｍｇ，８４．３％）を白色結晶として得た。
実施例１７
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
　｛２’－［１－（ｏ－メトキシベンジル）－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル｝メタノール（化合物４ｃ，４７．２ｍｇ，０．１２７ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン（０．３５ｍＬ）の混合物に、－１５℃の浴で冷却下、三臭化リンのテトラヒドロフラン溶液（１４．２％；０．２７２ｍＬ，２６５ｍｇ，三臭化リン量３７．７ｍｇ，０．１３９ｍｍｏｌ）を加え、窒素気流下－１４～－４℃で１時間半攪拌した。反応はＴＬＣ（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル（３：２））でモニターした。反応混合物に冷水（０．３３ｍＬ）、酢酸エチル（１０ｍＬ）および２０％食塩水（１．０ｍＬ）を加えて分液を行った。有機層を２０％食塩水（１．０ｍＬ）で洗浄し、硫酸マグネシウム（１．２ｇ）で乾燥し、４０℃以下で減圧下濃縮した。濃縮物にクロロホルム（５ｍＬ）を加えて減圧下濃縮する操作を３回繰り返した後、減圧乾燥することによって、化合物５ｃの粗生成物（６３．１ｍｇ，理論収量の１１４％）を得た。
実施例１８
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
　｛２’－［１－（ｏ－メトキシベンジル）－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル｝メタノール（化合物４ｃ，２００ｍｇ，０．５３７ｍｍｏｌ）およびアセトニトリル（１．０ｍＬ）の混合物に、ブロモトリメチルシラン（１４２μＬ，１６５ｍｇ，１．０８ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下５０℃の浴で６時間攪拌した。反応はＨＰＬＣでモニターした。浴を除き、０℃の浴で反応混合物を冷却後、冷酢酸エチル（３．８ｍＬ）で希釈し、冷水（１．８ｍＬ）で洗浄した。水層に冷酢酸エチル（３．８ｍＬ）を加えて抽出を行った。あわせた有機層に１０％食塩水（１．７ｍＬ）と飽和食塩水（１．０ｍＬ）を加えて洗浄し、さらに飽和食塩水（２．０ｍＬ）で洗浄し、硫酸マグネシウム（１．２ｇ）で乾燥処理後、３５℃以下で減圧下濃縮した。溶媒をクロロホルムに置換し、シリカゲル（メルク；シリカゲル６０Ｎ（商品名））カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル（１００：０～５０：１））で精製した。主生成物と低極性生成物の混合フラクションを集め、減圧濃縮し、クロロホルム（５ｍＬ以上）を加えて減圧濃縮する操作を３回行った後、４０℃で真空乾燥することによって、化合物５ｃの粗精製物（２４０ｍｇ，理論収量の１０３％）を得た。
ＨＰＬＣ測定条件：
　　カラム　Ｃａｄｅｎｚａ　ＣＤ－Ｃ１８，３μｍ，４．６×１５０ｍｍ
　　移動相　ＭｅＣＮ／３０ｍＭ　ＫＨ２ＰＯ４（３：２）
　　流量　１．０ｍＬ／ｍｉｎ
　　検出器　ＵＶ２２５ｎｍ
　　温度　４０℃
1H-NMR（CDCl3): δ = 7.64（td, J = 7.2, 2.0 Hz, 1H), 7.57（dd, J = 7.2, 1.4 Hz, 1H), 7.48（td, J = 7.2, 1.4 Hz, 1H), 7.45（dd, J = 7.2, 2.0 Hz, 1H), 7.31（d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.21（ddd, J = 8.4, 7.2, 2.0 Hz, 1H), 7.10（d, J = 8.3 Hz, 2H), 6.81（dd, J = 7.2 Hz, 2.0 Hz, 1H), 6.78（t, J = 7.2 Hz, 1H), 6.69（d, J = 8.4 Hz, 1H), 4.75（s, 2H), 4.47（s, 2H), 3.51（s, 3H).
MS: m/z = 435（MH+)
実施例１９
（工程１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
　窒素雰囲気下、５０ｍＬなし型フラスコに化合物５ａ（９３．０ｍｇ，０．２１３ｍｍｏｌ）、化合物６（４０．５ｍｇ，０．２１７ｍｍｏｌ）、ＤＭＡ（１．００ｇ）、炭酸カリウム（３０．３ｍｇ，０．２１９ｍｍｏｌ）を加え、－１０℃で４時間反応を行った後、室温で４時間撹拌を行った。その後、酢酸エチル（１０ｍＬ）を加え、ろ過を行い、固形物を酢酸エチル（５ｍＬ）で洗浄した。ろ液と洗液を合わせ、濃縮し、室温で真空乾燥を行ったところ、淡黄色液体（０．１１ｇ，収率９５％）を得た。得られた粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝１／２）で精製し、化合物７ａ（０．１０６ｍｇ，収率９２％）を無色固体として得た。
1H-NMR(400MHz, CDCl3)δ=0.90(3H, t, J=7.2), 1.30-1.42(2H, m), 1.61-1.73(2H, m), 2.61(2H, t, J=7.6), 3.72(3H, s), 4.74(2H, s), 5.52(2H, s), 6.66-6.73(4H, m), 6.97(2H, d, J=8.0), 7.09(2H, d, J=8.0), 7.34(1H, d, J=7.6), 7.46(1H, t, J=7.2), 7.53(1H, d, J=7.6), 7.65(1H, t, J=7.6), 9.75(1H, s).
13C-NMR(400MHz, CDCl3)δ=122.64, 124.11, 124.87, 135.35, 138.45, 140.74, 143.03, 153.92, 154.30, 159.52(10s), 113.98, 126.73, 127.90, 129.07, 129.26, 130.10, 131.07, 131.43, 177.64(9d), 22.49, 26.60, 29.32, 47.88, 50.54(5t), 13.83, 55.30(2q).
IR(KBr)ν(cm-1):1664
EIMS(m/z):540（M+-1)
融点:47.1-48.6℃
（工程２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
　アルゴン雰囲気下、５０ｍＬフラスコに、化合物７ａ（４３３ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）及びメタノール（０．５０ｍＬ）を加え、ＮａＢＨ４（９０．８ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を－１０℃で加えた後、室温に昇温して０．５時間撹拌した。続いて、メタノール（０．５０ｍＬ）を追加して、室温で更に１．５時間撹拌した。続いて、ＮａＢＨ４（３０．３ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）を追加し、室温で１時間撹拌した。ＴＬＣ（酢酸エチル／ヘキサン＝１／１）で、原料がほぼ消失したことを確認した。その後５０％酢酸水溶液（０．０２９ｍＬ）を加え２０～２５℃で３０分間撹拌した。続いて水（１．６ｍＬ）を滴下し、室温で２時間撹拌した後、５～１０℃で３０分撹拌した。結晶をろ別し、乾燥して化合物８ａ（３７３ｍｇ，収率８６％）を得た。
1H-NMR(400MHz, CDCl3)δ=0.88(3H, t, J=7.6), 1.28-1.41(2H, m), 1.60-1.70(2H, m), 2.54(2H, dd, J=7.6), 3.73(3H, s), 4.49(2H, d, J=6.4), 4.78(2H, s), 5.18(2H, s), 6.64-6.75(4H, m), 6.91(2H, d, J=8.0), 7.07(2H, d, J=8.4), 7.30-7.35(1H, m), 7.42-7.50(1H, m), 7.51-7.55(1H, m), 7.62-7.68(1H, m).
13C-NMR(400MHz, CDCl3)δ=122.63, 124.55, 124.88, 127.46, 135.90, 138.37, 140.88, 148.37, 153.92, 159.54(10s), 114.00, 126.25, 127.90, 129.13, 129.26, 130.12, 130.99, 131.44(8d), 22.53, 26.88, 29.80, 47.16, 50.57, 53.24(6t), 13.90, 55.33(2q).
IR(KBr)ν(cm-1):1612, 1583
EIMS(m/z):542（M+-1)
融点:119.5-120.8℃
（工程３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
　５０ｍＬフラスコに化合物８ａ（７３．０ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）、トリフルオロ酢酸（１ｍＬ）とアニソール（０．０５ｍＬ（約５０ｍｇ））を加え、６０℃で１．５時間撹拌した。ＴＬＣ（酢酸エチル／ヘキサン＝１／１）で反応の終了を確認した。３％水酸化カリウム水溶液（２０ｍＬ）に反応混合物を溶解し、ヘキサン（１０ｍＬ）で洗浄した。水層を１Ｎ塩酸でｐＨ２．６５に調整して固体を析出させ、酢酸エチル（１０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を合わせ、１０％食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮し、ロサルタン（化合物９，２７．９ｍｇ，収率４９％）を得た。
1H-NMR(400MHz, DMSO-d6)δ=0.79(3H, t, J-=7.2), 1.18-1.30(2H, m), 1.37-1.48(2H, m), 2.47(2H, t, J=8.0), 4.32(2H, s), 5.24(2H, s), 6.98-7.08(4H, m), 7.48-7.72(4H, m).
IR(KBr)ν(cm-1):1741
EIMS(m/z):422（M+)
実施例２０
（工程１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000107
　実施例１９の工程１で得られた化合物７ａ（９３．０ｍｇ，０．１７２ｍｍｏｌ）、アニソール（６４μＬ，６３ｍｇ，０．５９ｍｍｏｌ）およびトリフルオロ酢酸（１．３ｍＬ）の混合物を窒素雰囲気下、室温で３時間攪拌した後、４５℃、６５℃および８０℃で順次１時間、４時間、５時間加熱した。反応はＨＰＬＣおよびＴＬＣ（展開溶媒：ジクロロメタン／メタノール（２０：１））でモニターした。反応混合物を４０℃で減圧濃縮した後、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウム水溶液（５ｍＬ）と混合し、水（２０ｍＬ）およびトルエン（２０ｍＬ）を加えて分離した。得られた水層をトルエン（２０ｍＬ）で洗浄した後、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸でｐＨを１．８にした。これを酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出し、あわせた有機層を１０％食塩水（３０ｍＬ）で洗浄し、硫酸マグネシウム（１．５ｇ）で乾燥し、４０℃で減圧濃縮し、粗生成物（８９．４ｍｇ；理論収量の１２４％）を得た。
　粗生成物の一部を分取ＴＬＣ（展開溶媒：ジクロロメタン／メタノール（２０：１））で粗精製した後、さらに分取ＴＬＣ（展開溶媒：ジクロロメタン／メタノール（１０：１），３度展開）で精製することにより、化合物８－２ａ（３２．９ｍｇ，仕込み原料に対し４５．５％）を白褐色固体として得た。
　上記精製に使用せずに残した粗生成物を減圧乾燥（４０℃）すると、化合物８－２ａ（９．１ｍｇ，仕込み原料から算出される理論収量の１３％）が得られた。
　したがって、化合物８－２ａの通算補正収率は５０．６％と推定される。
IR(KBr):1667(C=O), 1604 cm-1.
1H-NMR（CDCl3): δ = 9.69（s, 1H, CHO), 8.04（dd, J = 7.7, 1.5 Hz, 1H, biphenyl), 7.60（td, J = 7.7, 1.5 Hz, 1H, biphenyl), 7.54（td, J = 7.7, 1.5 Hz, 1H, biphenyl), 7.42（dd, J = 7.7, 1.5 Hz, 1H, biphenyl), 7.18（d, J = 8.2Hz, 2H, biphenyl), 7.04（d, J = 8.2Hz, 2H, biphenyl), 5.54（s, 2H, CH2), 2.64（t, J = 7.7 Hz, 2H, 1-CH2 in Bu), 1.68（quint, J = 7.7 Hz, 2H, 2-CH2 of Bu), 1.36（sext, J = 7.7 Hz, 2H, CH2Me), 0.89（t, J = 7.7 Hz, 3H, CH3 of Bu).
MS：421（MH+)
（工程２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000108
　２－ブチル－４－クロロ－１－｛［２’－（１Ｈ－テトラゾール－５－イル）ビフェニル－４－イル］メチル｝イミダゾール－５－カルバルデヒド（化合物８－２ａ）（または、２－ブチル－４－クロロ－１－｛［２’－（２Ｈ－テトラゾール－５－イル）ビフェニル－４－イル］メチル｝イミダゾール－５－カルバルデヒド）（１０１ｍｇ，０．２４０ｍｍｏｌ）、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．２４ｍＬ）および水（０．２４ｍＬ）の混合物を、５℃に冷却し、ＮａＢＨ４（１８．４ｍｇ，０．４８６ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を５℃で２５分攪拌後、室温で３時間攪拌した。ＮａＢＨ４（８．６ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。反応はＴＬＣ（展開溶媒：クロロホルム／メタノール（１０：１））およびＨＰＬＣでモニターした。反応混合物に水（０．５ｍＬ）を加え、ジイソプロピルエーテル（０．５ｍＬ）で洗浄した。水層に１％ＨＣｌを加え、ｐＨを２に調整し、酢酸エチル（５ｍＬ）で３回抽出した。得られた有機層を１０％食塩水（５ｍＬ）で洗浄し、硫酸マグネシウム（０．３５ｇ）で乾燥し、濃縮乾固して白色固体（６６．１ｍｇ，理論収量の６５．２％）を得た。得られた濃縮乾固物を水／アセトニトリル（４：３，１．４ｍＬ）を加えて溶解し、水（０．４９ｍＬ）を加えて懸濁させた。適宜種晶の接種を行い、懸濁液を５℃まで冷却した。析出した固体を濾過し、固体を冷水／アセトニトリル（４：１，数ｍＬ）で洗浄し、減圧下４０～５５℃で乾燥することによって、ロサルタン（化合物９，２９．６ｍｇ，収率２９．２％）を得た。
融点：161-164℃
IR（KBr）: 3374（OH), 1604, 1579, 1469 cm-1
1H-NMR（DMSO-d6): δ = 7.68（t, J = 7.4 Hz, 1H, biphenyl), 7.66（d, J = 7.4 Hz, 1H, biphenyl), 7.58（t, J = 7.4 Hz, 1H, biphenyl), 7.55（d, J = 7.4 Hz, 1H, biphenyl), 7.08（d, J = 8.2Hz, 2H, biphenyl), 7.02（d, J = 8.2Hz, 2H, biphenyl), 5.23（s, 1H, CH2N), 4.32（s, 1H, CH2O), 2.45（t, J = 7.5 Hz, 2H, 1-CH2 of Bu), 1.44 (quint, J = 7.5 Hz, 2H, 2-CH2 of Bu), 1.23（sext, J = 7.5 Hz, 2H, CH2Me), 0.80 (t, J = 7.7 Hz, 3H, CH3of Bu).
MS：m/z = 423（MH+)
実施例２１
（工程１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000109
　５０ｍＬフラスコに、アセトニトリル（２０ｍＬ）、化合物５ａ（１．９５ｇ，４．５０ｍｍｏｌ）、バリンベンジルエステル　ｐ－トルエンスルホン酸（ＰＴＳＡ）塩（化合物１０ａ，２．５６ｇ，６．７５ｍｍｏｌ）、エチルジイソプロピルアミン（２．１９ｇ，１６．９ｍｍｏｌ）を加え、８５℃で２時間還流した。ＴＬＣ（展開溶媒：メタノール／クロロホルム＝１／１９）で反応の終了を確認した。反応終了後、酢酸エチル（２０ｍＬ）で希釈し、水（５ｍＬ）で洗浄した後、水層を酢酸エチル（１０ｍＬ）で再抽出した。有機層を合わせ硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して黄色油状物を得た。
　得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／トルエン＝１／９）により精製し、減圧乾燥したところ、白色油状物のベンジル　Ｎ－（｛２’－［１－（ｐ－メトキシベンジル）－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル｝メチル）－Ｌ－バリナート(化合物１１ａ，１．９９ｇ，収率７９％）を得た。
1H-NMR(400MHz, CDCl3)δ=0.94(6H, q, J=3.6), 1.78(1H, s), 1.90-2.10(1H, m), 3.03(1H, d, J=6.4), 3.55(1H, d, J=13.2), 3.72(3H, s), 3.80(1H, d, J-13.2), 4.69(2H, s), 5.15-5.21（m, 2H), 5.55（s, 1H), 6.68(4H, q, J=8.8), 6.85(1H, d, J=8.8), 7.09(2H, t, J=10.4), 7.19-7.29(2H, m), 7.31-7.40(5H, m), 7.49-7.66(3H, m).
13C-NMR(400MHz, CDCl3)δ=122.61, 125.03, 135.61, 137.31, 139.96, 141.28, 154.21, 159.41, 174.72(9s), 31.78, 66.68, 113.89, 127.54, 128.27, 128.37, 128.54, 128.74, 128.99, 129.26, 130.05, 131.12, 131.33(13d), 50.46, 51.01, 66.36(3t), 18.67, 19.53, 55.25(3q).
IR(KBr)ν(cm-1):1729, 1611
EIMS(m/z):561（M+)
（工程２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000110
　アルゴン雰囲気下、５０ｍＬフラスコに化合物１１ａ（３９３ｍｇ，０．７ｍｍｏｌ）、トリフルオロ酢酸（５．６ｍＬ）とアニソール（０．２８ｍＬ）を加え、６０℃で２．５時間撹拌した。ＴＬＣ（展開溶媒：メタノール／クロロホルム＝１／１９）で原料の消失を確認した。
　反応終了後、反応液を濃縮し、５％重曹水（５０ｍＬ）に溶解させた後、ヘキサン（２０ｍＬ×２）で洗浄した。水層を１Ｎ塩酸でｐＨ４．３に調整し、析出した白色の粘性固体を、酢酸エチル（２０ｍＬ×３）で抽出し、有機層を合わせ、１０％食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮し、化合物１２ａ（２６１ｍｇ，収率８４％）を白色固体として得た。
1H-NMR(400MHz, CDCl3)δ=0.90(3H, d, J=6.4), 0.95(3H, d, J=6.8), 2.13-2.28(1H, m), 3.49(1H, d, J=4.4), 3.77-3.90(2H, m), 5.19(2H, dd, J=12.0, 29.2), 6.75-7.10(4H, m), 7.27-7.56(9H, m). 
IR(KBr)ν(cm-1):1742, 1668, 1604
EIMS(m/z):441（M+)
融点:53.5-57.2℃
実施例２２
（工程１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000111
　実施例２１の工程１で得られた化合物１１ａ（２５３ｍｇ，０．４５１ｍｍｏｌ）のトルエン（１．３ｍＬ）溶液に、ピリジン（５５μＬ，５４ｍｇ，０．６８ｍｍｏｌ）およびペンタノイルクロリド（化合物１３ａ，７５μＬ，７６ｍｇ，０．６３ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、室温で７時間攪拌した。その後、ピリジン（１８．２ｍｇ，０．２３０ｍｍｏｌ）およびペンタノイルクロリド（化合物１３ａ，２８．０ｍｇ，０．２３２ｍｍｏｌ）を加えて６時間攪拌した後、ピリジン（１８．６ｍｇ，０．２３５ｍｍｏｌ）、ペンタノイルクロリド（化合物１３ａ，３０．０ｍｇ，０．２４９ｍｍｏｌ）を加え２２時間攪拌した。反応はＨＰＬＣでモニターした。反応混合物に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（３ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１０ｍＬ）で２回抽出した。あわせた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍＬ）で２回、２０％食塩水（５ｍＬ）で２回洗浄し、硫酸マグネシウム（２．４ｇ）で乾燥し、濃縮し、メタノールを加え溶液（１０．３２６８ｇ）とした。この溶液の一部（５．６１９９ｇ）を４５℃以下で減圧濃縮し、化合物１２－２ａの粗生成物（１５３ｍｇ，仕込み量に対して５２．５％）を黄褐色油状物として得た。この粗生成物を、次工程（脱保護）に用いた。残りを濃縮し、化合物１２－２ａの粗生成物（１１９ｍｇ，仕込み量に対して４０．７％）を黄褐色油状物として得た。
（工程２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000112
　化合物１２－２ａの粗生成物（１５３ｍｇ）、メタノール（２１ｍＬ）およびパラジウム炭素（２００ｍｇ，Ｐｄ換算４．１２ｍｇ）の混合物を水素雰囲気下、水素で約０．４６ＭＰａ（４．５気圧）加圧し、室温にて２時間攪拌した。放圧し、系内の気体を窒素に置換した後、同触媒（２０６ｍｇ，Ｐｄ換算４．２４ｍｇ）を加えた。反応混合物を水素雰囲気下、水素で０．６５ＭＰａ加圧し、室温にて３時間攪拌した。放圧し、系内の気体を窒素に置換した後、同触媒（２１５ｍｇ，Ｐｄ換算４．４３ｍｇ）および０．２ｍｏｌ／Ｌ塩酸（５０μＬ）を加え、系を水素雰囲気にした後、水素で０．５８～０．６５ＭＰａ加圧した状態で５日間攪拌した。反応はＨＰＬＣでモニターした。反応混合物を窒素雰囲気状態にした後、反応混合物にＭｅＯＨ（４２ｍＬ）を加え、濾過し、ケーキをＭｅＯＨ（４３ｍＬ）で洗浄した。濾液を減圧下濃縮し、濃縮物を０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）および水（４．２ｍＬ）に溶解し、ＭＴＢＥ（５．５ｍＬ）で洗浄した。水層に水（４．２ｍＬ）およびＭＴＢＥ（１０ｍＬ）を加えて洗浄した。水層に４ｍｏｌ／Ｌ塩酸（０．１７ｍＬ）および０．２ｍｏｌ／Ｌ塩酸（０．１０ｍＬ）および５％塩酸（０．１３ｍＬ）を加えてｐＨを２にし、酢酸エチル（３４ｍＬ，１０ｍＬ）で２回抽出した。さらに水層に５％塩酸（７０μＬ）を加えてｐＨを１にし、酢酸エチル（３０ｍＬ）で抽出した。あわせた有機層を１０％食塩水（２０ｍＬ）で２回洗浄し、硫酸マグネシウム（２．０ｇ）で乾燥した後、４０℃で減圧下濃縮乾固した。濃縮物を酢酸エチル（０．２９ｍＬ）に溶解し、シクロヘキサン（０．３０ｍＬ）を加え、種晶を接種した。さらに混合物にシクロヘキサン（０．３０ｍＬ）を加えて、９℃まで冷却した。析出した固体を濾過し、固体をシクロヘキサン（０．３０ｍＬ）で洗浄した後、４０℃で減圧乾燥することにより、バルサルタン（化合物１５，２５．９ｍｇ，収率２５．１％）を白色固体として得た。
融点：約70-95℃
IR（KBr)：1732（CO2H), 1607（CON）cm-1
1H-NMR（DMSO-d6): δ = 16.3（br s, 1H, CO2H), 12.6（br s, 1H, CO2H or CO2H), 7.70-7.63（m, 2H, biphenyl;CM, Cm), 7.58-7.53（m, 2H, biphenyl, ;CM, Cm), 7.20（d, J = 8.2 Hz, 1H, biphenyl; CM), 7.08（d, J = 8.2 Hz, 1H, biphenyl; Cm), 7.07（d, J = 8.2 Hz, 1H, biphenyl; CM), 6.97（d, J = 8.2 Hz, 1H, biphenyl; Cm), 4.67（s, 2H, CH2-Val; CM), 4.48（d, J = 15.2 Hz, 1H, CH2-Val; Cm), 4.36（d, J = 10.3 Hz, 1H, CHPri; CM), 4.08（d, J = 10.5 Hz, 1H, CHPri; Cm), 2.22-2.12（m, 1H, CHMe2; CM, Cm), 2.21（dt, J = 15.8, 7.9 Hz, 1H, 1-CH2 of Bu; CM), 2.03（dt, J = 15.8, 7.9 Hz, 1H, 1-CH2 of Bu; CM), 1.54（quint, J = 6.9 Hz, 2H, 2-CH2of Bu; Cm), 1.41（dquint, J = 14.1, 7.9 Hz, 1H, 2-CH2 of Bu; CM), 1.37（dquint, J = 14.1, 7.9 Hz, 1H, 2-CH2 of Bu; CM), 1.31（sext, J = 6.9 Hz, 2H, CH2Me; Cm), 1.15（sext, J = 7.9 Hz, 2H, CH2Me; CM), 0.93（d, J = 6.9 Hz, 3H, CH3 of i-Pr; Cm), 0.93（d, J = 7.9 Hz, 3H, CH3 of i-Pr; CM), 0.88（t, 3H, J = 6.9 Hz, 4-CH3 of Bu; Cm), 0.76（t, 3H, J = 7.9 Hz, 4-CH3of Bu; CM), 0.75（d, 3H, J = 7.9 Hz, CH3 of i-Pr; CM), 0.70 (d, J = 6.9 Hz, 3H, CH3 of i-Pr; Cm).
実施例２３
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000113
　実施例２１の工程１で得られた化合物１１ａ（０．１８ｇ，０．３２ｍｍｏｌ）のＮ－メチル－２－ピロリドン（０．９ｍＬ）溶液に、エチルジイソプロピルアミン（０．１０ｍＬ，７４ｍｇ，０．５７ｍｍｏｌ）およびペンタン酸無水物（化合物１３ｂ，９５μＬ，９０ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、室温で１時間攪拌した。反応混合物に、４－（ジメチルアミノ）ピリジン（１４．７ｍｇ，０．１２０ｍｍｏｌ）を加え、４５℃で２時間加熱後、エチルジイソプロピルアミン（０．１０ｍＬ，７４ｍｇ，０．５７ｍｍｏｌ）およびペンタン酸無水物（化合物１３ｂ，９５μＬ，９０ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）を加え、７０℃に昇温し、さらに１２時間後９０℃に昇温して５時間攪拌した。エチルジイソプロピルアミン（４０μＬ，３０ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）およびペンタン酸無水物（化合物１３ｂ，５０μＬ，４７ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で１３時間攪拌した。反応はＨＰＬＣでモニターした。反応混合物を室温に冷却後、１％塩酸（３ｍＬ）および酢酸エチル（１０ｍＬ）を加えて分離し、水層に酢酸エチル（１０ｍＬ）を加え抽出した。あわせた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍＬ）で２回、１０％食塩水（５ｍＬ）で２回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、粗生成物（２３６ｍｇ，理論収量の１１４％）を得た。粗生成物をＴＬＣ（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル（１０：９））で精製することにより、化合物１２－２ａ（２２７ｍｇ，理論収量の１０９％）を淡黄色油状物として得た。
IR（neat)：1735（COO), 1654（CON), 1613 cm-1.
1H-NMR（CDCl3): δ = 7.65（t, J = 6.8 Hz, 1H, biphenyl; CM), 7.65（t, J = 6.8 Hz, 1H, biphenyl; Cm), 7.53（d, J = 6.8 Hz, 1H, biphenyl; CM）, 7.50（d, J = 6.8 Hz, 1H, biphenyl; Cm), 7.45（t, J = 6.8 Hz, 1H, biphenyl; CM), 7.42（t, J = 6.8 Hz, 1H, biphenyl; Cm), 7.36-7.23（m, 6H, biphenyl, Ph of Bn; CM, Cm), 7.13（d, J = 8.4 Hz, 1H, biphenyl; Cm), 7.07（d, J = 8.4 Hz, 1H, biphenyl; CM), 7.03（d, J = 8.4 Hz, 1H, biphenyl; Cm), 7.01（d, J = 8.4 Hz, 1H, biphenyl; CM), 6.72（d, J = 8.7 Hz, 1H, Ar of PMB; CM), 6.69（d, J = 8.7 Hz, 1H, Ar of PMB; Cm), 6.68（d, J = 8.7 Hz, 1H, Ar of PMB; CM）, 6.67（d, J = 8.7 Hz, 1H, Ar of PMB; Cm), 4.94（d, J = 12.6 Hz, 1H, CH2 of Bn; CM), 4.89（d, J = 12.6 Hz, 1H, CH2 of Bn; Cm), 4.86（d, J = 12.6 Hz, 1H, CH2 of Bn; CM), 4.79（d, J = 15.9 Hz, 1H, CH2-Val; CM), 4.79（d, J = 10.6 Hz, 1H, CHPri; CM), 4.78（d, J = 12.6 Hz, 1H, CH2 of Bn; Cm), 4.68（d, J = 18.0 Hz, 1H, CH2-Val; CM), 4.67（s, 2H, CH2-Val; CM or Cm), 4.67（d, J = 14.8 Hz, 1H, CH2-Val; Cm or CM), 4.66（d, J = 15.9 Hz, 1H, PMB; Cm), 4.63（d, J = 14.8 Hz, 1H, CH2-Val; Cm or CM), 4.53（d, J = 18.0 Hz, 1H, CH2-Val; CM), 4.42（d, J = 15.9 Hz, 1H, PMB; Cm), 4.07（d, J = 10.6 Hz, 1H, CHPri; CM, Cm), 3.72（s, 3H, CH3O; CM), 3.72（s, 3H, CH3O; Cm), 2.56（dt, J = 16.0, 8.0 Hz, 1H, 1-CH2 of Bu; Cm), 2.42（dt, J = 16.0, 8.0 Hz, 1H, 1-CH2 of Bu; Cm), 2.35-2.30（m, 1H, CHMe2; CM, Cm)2.25（dt, J = 16.0, 8.0 Hz, 1H, 1-CH2of Bu; CM), 2.16（dt, J = 16.0, 8.0 Hz, 1H, 1-CH2of Bu; CM), 1.70-1.25（m, 4H; CM, Cm), 1.37（dquint, J = 16.0, 8.0 Hz, 1H, 2-CH2of Bu; CM), 1.38（dquint, J = 16.0, 8.0 Hz, 1H, 2-CH2 of Bu; CM), 1.26（quint, J = 6.7 Hz, 2H, CH2Me; Cm), 0.97 or 0.96（J = 6.7 Hz, 2H, CH3 of i-Pr; Cm), d, 0.96（t, J = 6.7 Hz, 3H, CH3 of Bu; Cm), 0.92（d, J = Hz, J = 6.7 Hz, 3H, CH3 of i-Pr; CM), 0.88（d, J = 6.7 Hz, 3H, CH3of i-Pr; CM), 0.84（t, J = 6.7 Hz, 1H, CH3of Bu; CM), 0.81（d, J = 6.7 Hz, 3H, CH3of i-Pr; Cm).
13C-NMR（CDCl3): δ = 178（C=O), 174（C=O), 170（C=O), 170（C=O), 160（tetrazole), 154（tetrazole), 141（quaternary Ar), 141（quaternary Ar), 138（quaternary Ar), 138（quaternary Ar), 137（quaternary Ar), 137（quaternary Ar), 135（quaternary Ar), 135（quaternary Ar), 132（CH of Ar), 132（CH of Ar), 131（CH of Ar), 130（CH of Ar), 129（CH of Ar), 129（CH of Ar), 129（CH of Ar), 129（CH of Ar), 128（CH of Ar), 128（CH of Ar), 128（CH of Ar), 128（CH of Ar), 128（CH of Ar), 127（CH of Ar), 125（quaternary Ar), 125（quaternary Ar), 123（quaternary Ar), 114（Ar CH of PMB), 114（Ar CH of PMB), 67（CH2 of Bn), 67（CH2of Bn), 66（CHPri), 63 (CHPri), 55（MeO), 50（CH2), 49（CH2N), 46 CH2N), 33（1-CH2of Bu), 33（1-CH2of Bu), 28（CH of i-Pr), 28（CH of i-Pr), 27（2-CH2of Bu), 27（2-CH2of Bu), 22（3-CH2of Bu), 22（3-CH2of Bu), 20（Me of i-Pr), 20（Me of i-Pr), 19（Me of i-Pr), 19（Me of i-Pr), 14（Me of Bu), 14（Me of Bu).
MS: m/z = 646（MH+)
実施例２４
（工程１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000114
　１－ベンジル－５－［４’－（ブロモメチル）ビフェニル－２－イル］－１Ｈ－テトラゾール（化合物５ｂ，７４９ｍｇ，１．８５ｍｍｏｌ）、アセトニトリル（４．８ｍＬ）、２－ブチル－１，３－ジアザスピロ［４．４］ノナ－１－エン－４－オン塩酸塩（化合物１６，５１２ｍｇ，２．２２ｍｍｏｌ）およびテトラブチルアンモニウムブロミド（２４２ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）の混合物に、水酸化カリウム（粉末，６９９ｍｇ，１２．５ｍｍｏｌ）およびアセトニトリル（１．２ｍＬ）を加え、窒素雰囲気下室温で７時間攪拌した。反応はＨＰＬＣでモニターした。反応混合物を５日間放置した後、水（１０ｍＬ）およびｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル（３０ｍＬ）を加えて分離し、水層にｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル（２０ｍＬ）を加えて抽出した。あわせた有機層を５％クエン酸（５．０ｍＬ）で洗浄した後、２０％食塩水（５ｍＬ）で２回洗浄した。洗浄した有機層を硫酸マグネシウム（３．０ｇ）で乾燥し、４０℃で減圧下濃縮し、粗生成物（０．９９ｇ，理論収量の１．０×１０２％）を泡を含む白橙色の固体として得た。粗生成物をＥｔＯＡｃ（１５ｍＬ）およびトルエン（１０ｍＬ）に溶解し、シリカゲル（６．０ｇ）を加え１時間攪拌した後、シリカゲル（１５ｇ）に通し濾過した。シリカゲルを酢酸エチル／トルエン（３：２～４：１）で洗浄し、濾液を減圧下１．１ｇまで濃縮した。
　濃縮液の一部を減圧下濃縮乾燥（４５℃）し、粗生成物（０．４２ｇ，仕込み原料に対して４４％）を得た。この粗生成物をＴＬＣ（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン（２：１）；２度展開）で精製することによって化合物１７ａ（２８７ｍｇ，精製収率６８％）を得た。
IR（KBr)：1723（COO), 1632（CON), 1604 cm-1.
1H-NMR（CDCl3): δ = 7.64（td, J = 7.7, 1.5 Hz, 1H, biphenyl), 7.54（dd, J = 7.7, 1.5 Hz, 1H, biphenyl), 7.44（td, J = 7.7, 1.5 Hz, 1H, biphenyl), 7.38（dd, J = 7.7, 1.5 Hz, 1H, biphenyl), 7.22（t, J = 7.7 Hz, 1H, p-Ph), 7.16（t, J = 7.7 Hz, 1H, m-Ph), 7.10（d, J = 7.7 Hz, 1H, o-Ph), 7.08（d, J = 7.7 Hz, 2H, biphenyl), 7.07（d, J = 7.7 Hz, 1H, o-Ph), 6.77（d, J = 7.7 Hz, 2H, biphenyl), 4.81（s, 2H, CH2N), 4.65（s, 2H, CH2N), 2.28（t, J = 7.7 Hz, 2H, 1-CH2 of Bu), 2.03-1.94（m, 6H, cyclopentanediyl), 1.83-1.81（m, 2H, cyclopentanediyl), 1.58（quint, J = 7.7 Hz, 2H, 2-CH2of Bu), 1.33（sext, J = 7.7 Hz, 2H, CH2Me), 1.87（t, J = 7.7 Hz, 2H, CH3).
13C-NMR（CDCl3): δ = 187（CO), 161（CBu), 154（tetrazole), 141（quaternary Ar), 141（quaternary Ar), 138（quaternary Ar), 137（quaternary Ar), 133（quaternary Ar), 132（CH of Ar), 131（CH of Ar), 131（CH of Ar), 130（CH of Ar), 129（CH of Ar), 129（CH of Ar), 129（CH of Ar), 129（CH of Ar), 128（CH of Ar), 128（CH of Ar), 128（CH of Ar), 127（CH of Ar), 127（CH of Ar), 123（quaternary Ar), 51（CH2of Bn), 43（CH2-biphenyl), 37（CH2of 2-CH2 of cyclopentanediyl), 29（1-CH2of Bu), 28（2-CH2of Bu), 26（3-CH2 of cyclopentanediyl), 22（CH2Me), 14（CH3).
MS: m/z = 519（MH+)
（工程２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000115
　粗３－［２’－（１－ベンジル－１Ｈ－テトラゾール－５－イル）ビフェニル－４－イル］－２－ブチル－１，３－ジアザスピロ［４．４］ノナ－１－エン－４－オン（化合物１７ａの粗生成物，１５３ｍｇ，０．２９５ｍｍｏｌ）、イソプロピルアルコール／精製水（３：２，２．０ｍＬ）、５％パラジウム炭素（１３４ｍｇ，Ｐｄ換算２．９ｍｇ，０．０２８ｍｍｏｌ）およびギ酸アンモニウム（１１９ｍｇ，１．８８ｍｍｏｌ）の混合物を、攪拌下５５～６０℃で３時間加熱した。反応混合物に同５％パラジウム炭素（１３６ｍｇ，Ｐｄ換算３．０ｍｇ，０．０２８ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で４時間加熱した。反応はＨＰＬＣおよびＴＬＣ（展開溶媒：クロロホルム／メタノール（２０：１））でモニターした。反応混合物を室温に冷却後、イソプロピルアルコール（約２０ｍＬ）を用いて濾過した。濾液を０．１５ｇまで濃縮した後、０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）、水（１．６ｍＬ）、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル（３．０ｍＬ）および１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．２ｍＬ）を加えて分離した。水層をｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル（３．０ｍＬ）で洗浄した後、４ｍｏｌ／Ｌ塩酸（０．１７ｍＬ）、０．２ｍｏｌ／Ｌ塩酸（０．１５ｍＬ）および１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（０．１１ｍＬ）を滴下してｐＨを６．０にした。析出した固体を濾取し、水（５．０ｍＬ）で洗浄した後、４０～６０℃で減圧下乾燥することによって、イルベサルタン（化合物１８）の粗生成物（６３．９ｍｇ，理論収量の５０．５％）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6): δ = 7.68（t, J = 7.8 Hz, 1H, biphenyl), 7.64（d, J = 7.8 Hz, 1H, biphenyl), 7.57（t, J = 7.8 Hz, 1H, biphenyl), 7.04（d, J = 7.8 Hz, 1H, biphenyl), 7.08（s, 4H, biphenyl), 4.68（s, 2H, CH2N), 2.29（t, J = 7.5 Hz, 2H, 1-CH2 of Bu), 1.86-1.60（m, 8H, cyclopentanediyl), 1.47（quint, J = 7.5 Hz, 2H, 2-CH2of Bu), 1.26（sext, J = 7.5 Hz, 2H, CH2Me), 0.80（t, J = 7.5 Hz, 2H, CH3).
IR（KBr): 1725（C=O), 1630（C=N）cm-1
MS: m/z = 429（MH+)
実施例２５
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000116
　｛２’－［１－（ｏ－メトキシベンジル）－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル｝メタノール（化合物４ｃ，１１３ｍｇ，０．３０３ｍｍｏｌ）およびアセトニトリル（０．５６ｍＬ）の混合物に、ブロモトリメチルシラン（８０μＬ，９３ｍｇ，０．６１ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下５０℃の浴で５時間攪拌した。反応はＨＰＬＣでモニターした。得られた化合物５ｃを含む反応混合物を、精製することなく次工程に用いた。
　該反応混合物に室温で、エチルジイソプロピルアミン（２４０μＬ，１８２ｍｇ，１．４１ｍｍｏｌ）、（Ｓ）－１－ベンジルオキシカルボニル－２－メチルプロピルアンモニウム　ｐ－トルエンスルホナート（化合物１０ａ，１７１ｍｇ，０．４５２ｍｍｏｌ）およびアセトニトリル（０．３０ｍＬ）を加え、５０℃の浴で加熱しながら３時間攪拌し、反応をＨＰＬＣでモニターした。反応混合物を室温に冷却後、酢酸エチル（３．３ｍＬ）で希釈し、水（１．７ｍＬ）で洗浄した。水層に酢酸エチル（３．３ｍＬ）を加えて抽出を行い、あわせた有機層を飽和食塩水（２．５ｍＬ）で洗浄し、硫酸マグネシウム（１．３ｇ）で乾燥処理後、減圧濃縮した。この溶液（７．４３ｇ）中の生成物（化合物１１ｂ）を定量した結果、正味量は１５６ｍｇ（９２．０％）であった。
ＨＰＬＣ測定条件：
　　カラム　Ｃａｄｅｎｚａ　ＣＤ－Ｃ１８，３μｍ，４．６×１５０ｍｍ
　　移動相　ＭｅＣＮ／３０ｍＭ　ＫＨ２ＰＯ４（３：２）
　　流量　１．０ｍＬ／ｍｉｎ
　　検出器　ＵＶ２２５ｎｍ
　　温度　４０℃
実施例２６
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000117
　｛２’－［１－（ｏ－メトキシベンジル）－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル｝メタノール（化合物４ｃ，１．００ｇ，２．６９ｍｍｏｌ）、アセトニトリル（５．０ｍＬ）、ブロモトリメチルシラン（０．７１１ｍＬ，８２２ｍｇ，５．３７ｍｍｏｌ）の混合物を窒素雰囲気下攪拌しながら約５０℃の浴で４時間半加熱した。反応混合物を冷却後、エチルジイソプロピルアミン（１．５７ｇ，１２．１ｍｍｏｌ）および（Ｓ）－１－ベンジルオキシカルボニル－２－メチルプロピルアンモニウム　ｐ－トルエンスルホナート（１．５３ｇ，４．０３ｍｍｏｌ）およびアセトニトリル（４．０ｍＬ）を加え、５０℃の浴で加熱しながら２時間攪拌し、反応混合物を室温に冷却後、酢酸エチル（２０ｍＬ）、水（１．７ｍＬ）を加えて分液した。水層に酢酸エチル（１０ｍＬ）を加えて抽出を行い、あわせた有機層を飽和食塩水（５．０ｍＬ）で洗浄し、硫酸マグネシウム（１．３ｇ）で乾燥処理後、減圧濃縮およびクロロホルム（２０ｍＬ）添加を３回行い、クロロホルム（１０ｍＬ）を加えて粗体溶液（生成物理論量１．５１ｇ含有を仮定）とした。この内、ベンジル　Ｎ－｛２’－［１－（ｏ－メトキシベンジル）－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル｝メチル－Ｌ－バリナートクロロホルム溶液（１５．３ｇ，ｎｅｔ１．２７ｇ，２．２６ｍｍｏｌ）に相当するものを約４０℃の浴を用い、減圧下濃縮および乾燥を行った。トルエン（６．４ｍＬ）、ピリジン（０．２７５ｍＬ，０．２６９ｇ，３．４０ｍｍｏｌ）およびペンタノイルクロリド（０．３７６ｍＬ，０．３８２ｇ，３．１７ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下４時間攪拌した。反応はＨＰＬＣでモニターした。反応混合物を４０℃の浴で２時間加温した後浴を除き、ピリジン（９２．８ｍｇ，１．１７ｍｍｏｌ）およびペンタノイルクロリド（１４１ｍｇ，１．１７ｍｏｌ）を加え、再び４０℃の浴で３時間半加温した。反応混合物を室温に冷却し、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（５ｍＬ）および酢酸エチル（２０ｍＬ）を加えて分液した。水層に酢酸エチル（２０ｍＬ）を加えて抽出し、あわせた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム（１０ｍＬ）で２回、２０％食塩水（１０ｍＬ）で２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過液を減圧濃縮し濃縮残渣をカラムクロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル（５０：１～５：１））で精製し得たもの（濃縮物：１．４７ｇ／本中間体の推定構造及び物性値は後記）をイソプロピルアルコール（２－プロパノール）（４．５３ｇ）に溶かした。バレリル化体イソプロピルアルコール溶液（２４．４％，８００ｍｇ，ｎｅｔ　１９５ｍｇ，０．３０２ｍｍｏｌ）、パラジウム－炭素（Ｅ　１００３　ＮＮ／Ｗ　５％Ｐｄ，水分５８．８％；１２８ｍｇ，Ｐｄとして２．６ｍｇ，２５μｍｏｌ，８．２ｍｏｌ％）、ギ酸アンモニウム（９６．２ｍｇ，１．５３ｍｍｏｌ）、精製水（０．５１ｍＬ）の混合物を窒素雰囲気下、室温で１４分攪拌後、４５℃の浴で６時間加熱した。浴温を５５℃に上げた。反応混合物を室温に冷却後、イソプロピルアルコール（１０ｍＬ）を加えて濾過し、イソプロピルアルコール（５ｍＬ）で洗浄した。濾液を減圧下濃縮した後、０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム（２．０ｍＬ）、水（７ｍＬ）およびｔ－ブチルメチルエーテル（５ｍＬ）を加えて分液を行った。水層をｔ－ブチルメチルエーテル（５ｍＬ）で洗浄した後、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（１．７ｍＬ）および酢酸エチル（４０ｍＬ）を加えて分液した。水層につき酢酸エチル（１５ｍＬ）で２回抽出を行い、あわせた有機層を１０％食塩水（１０ｍＬ）で２回洗浄し、硫酸マグネシウム（２．０ｇ）で乾燥した。不溶物を濾去後濾液（８３．０ｇ）中の生成物を定量した結果、正味量は９９．５ｍｇ（７５．６％）であった。硫酸マグネシウム濾去後４０℃の浴を用い、減圧下濃縮乾固することにより、粗生成物（１３９ｍｇ，理論収量の１０６％）を得た。粗生成物に酢酸エチル（０．３０ｍＬ）を加えた後、シクロヘキサン（５．０ｍＬ）を加え、９℃の浴で２時間冷却した。固体を濾取し、シクロヘキサン（０．３０ｍＬ）で洗浄し、４０℃以下で減圧下乾燥することにより、バルサルタン（化合物１５、７２．２ｍｇ，５４．９％）を白色固体として得た。
IR (KBr): 1730, 1619 cm-1
中間体の推定構造及び物性値：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000118
IR (neat): 1652, 1604 cm-1
実施例２７
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000119
　｛２’－［１－（ｏ－メトキシベンジル）－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル｝メタノール（化合物４ｃ，１９６ｍｇ，０．５２５ｍｍｏｌ）、アセトニトリル（１．０ｍＬ）の混合物（溶解していない）に、ブロモトリメチルシラン（０．１４０ｍＬ，１６２ｍｇ，１．０６ｍｍｏｌ）を加え、攪拌しながら５０～６０℃の浴で７時間加熱し、反応混合物を室温に冷却後、炭酸カリウム（７４．８ｍｇ，０．５４１ｍｍｏｌ）、２－ブチル－４－クロロ－１Ｈ－イミダゾール－５－カルバルデヒド（化合物６，１０１ｍｇ，０．５４１）およびアセトニトリル（０．５０ｍＬ）を加え、攪拌下５０℃の浴で３時間加熱した。反応混合物を室温に冷却後、酢酸エチル（２０ｍＬ）を加えて濾過し、酢酸エチル（１０ｍＬ）で洗浄した。得られた酢酸エチル溶液を減圧濃縮し濃縮残渣を薄層シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル（１：１））で精製し、目的物（化合物７ｂ）を３８４ｍｇ（７３％）得た。
IR (neat): 1664, 1604 cm-1
実施例２８
（工程１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000120
　１－（ｏ－メトキシベンジル）－５－フェニル－１Ｈ－テトラゾール（化合物１ｃ，２０６ｍｇ，０．７７４ｍｍｏｌ）、ジ－μ－クロロ－ビス［（η６－ベンゼン）クロロルテニウム］（Ｊｏｈｎｓｏｎ　Ｍａｔｔｈｅｙ；１９３ｍｇ，単量体として０．７７３ｍｍｏｌ）、ヘキサフルオロリン酸カリウム（２８５ｍｇ，１．５５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３１．４ｍｇ，０．７８５ｍｍｏｌ）およびアセトニトリル（６．４ｍＬ）の混合物を窒素雰囲気下室温で１時間半攪拌後、約４７℃の浴で１時間半加熱した。反応液を減圧濃縮し濃縮残渣をアルミナカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン／アセトニトリル（１００：０～２：１））で精製することにより目的物９０ｍｇ（１７．２％）を得た。
　IR (KBr): 2277, 1605, 842 cm-1.
（工程２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000121
　テトラキス（アセトニトリル）｛［１－（ｏ－メトキシベンジル）－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］フェニル｝ルテニウム（ＩＩ）ヘキサフルオロリン酸塩（６９．４ｍｇ，０．１０３ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスファン（２６．９ｍｇ，０．１０３ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２８．４ｍｇ，０．２０５ｍｍｏｌ）、ｐ－ブロモベンジルアセタート（化合物２ａ）のＮ－メチル－２－ピロリドン溶液（５６．７ｍｇ／ｍＬ；０．８３１ｍＬ，ｎｅｔ　４７．１ｍｇ，０．２０５ｍｍｏｌ）およびＮ－メチル－２－ピロリドン（１３８μＬ）の混合物を窒素雰囲気下、攪拌しながら１４０℃の浴で６時間加熱し、反応をＨＰＬＣでモニターした。反応混合物を室温に冷却した。反応混合物を室温に冷却後、酢酸エチル（５ｍＬ）を加えて濾過し、酢酸エチル（５ｍＬ）で洗浄した。濾液（９．５０ｇ）中の生成物（化合物３ｃ）を定量した結果、正味量は１６．８ｍｇ（４０％）であった。生成物のＨＰＬＣ分析条件を以下に記載する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000122
実施例２９
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000123
　ジ－μ－クロロ－ビス［クロロ（η６－ｐ－シメン）ルテニウム］（Ｊｏｈｎｓｏｎ　Ｍａｔｔｈｅｙ；８．８ｍｇ，単量体として２９μｍｏｌ，０．６３ｍｏｌ％）、トリフェニルホスファン（１３．２ｍｇ，５０．３μｍｏｌ）、１－（ｏ－メトキシベンジル）－５－フェニル－１Ｈ－テトラゾール（化合物１ｃ，１．２２ｇ，４．６０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１．２７ｇ，９．２０ｍｍｏｌ）、ｐ－ブロモベンジルアセタート（化合物２ａ，１．１６ｇ，５．０６ｍｍｏｌ）およびＮ－メチル－２－ピロリドン（４．９ｍＬ）の混合物を窒素雰囲気下攪拌しながら１４０℃の浴で１５時間加熱し、反応をＨＰＬＣでモニターした。反応混合物を室温に冷却後酢酸エチル（２０ｍＬ）を加えて濾過し、酢酸エチル（１２ｍＬ）で洗浄した。得られた濾液（２７．３ｇ）中の生成物（化合物３ｃ）を定量した結果、正味量は１．４９ｇ（７８．３％）であった。
実施例３０
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000124
　ジ－μ－クロロ－ビス［クロロ（η６－ｐ－シメン）ルテニウム］（Ｊｏｈｎｓｏｎ　Ｍａｔｔｈｅｙ；６．１ｍｇ，単量体として２０μｍｏｌ，０．３１ｍｏｌ％）、トリフェニルホスファン（６．６ｍｇ，２５μｍｏｌ）、１－（ｏ－メトキシベンジル）－５－フェニル－１Ｈ－テトラゾール（化合物１ｃ，１．７０ｇ，６．３７ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１．７６ｇ，１２．７ｍｍｏｌ）、ｐ－ブロモベンジルアセタート（化合物２ａ，１．６１ｇ，７．０１ｍｍｏｌ）およびＮ－メチル－２－ピロリドン（６．８ｍＬ）の混合物を窒素雰囲気下攪拌しながら１４０℃の浴で８時間加熱し、反応をＨＰＬＣでモニターした。反応混合物を室温に冷却後、酢酸エチル（２０ｍＬ）を加えて濾過し、酢酸エチル（１３ｍＬ）で洗浄した。得られた濾液（３０．６ｍｇ）中の生成物（化合物３ｃ）をＨＰＬＣで定量した結果、正味量は１．５４ｇ（５８．２％）であった。
実施例３１
（工程１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000125
　２－メトキシカルボニル－６－ニトロ安息香酸（１８．３ｇ，８１．３ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（２４．１ｍＬ）溶液に、室温でジフェニル　アジドホスホナート（２２．８ｇ，８３．０ｍｍｏｌ）を滴下しＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（１．８ｍＬ）で洗い込んだ。その後トリエチルアミン（９．７５ｇ，９６．４ｍｍｏｌ）を２２～３１℃で滴下し、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（１．６ｍＬ）で洗い込んだ。反応混合物を窒素雰囲気下２８～２３℃で５時間攪拌した。反応はＨＰＬＣでモニターした。反応混合物に室温で、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール（１０４ｇ）を滴下した後、反応混合物を５時間かけて約８５℃に昇温し、８５～８７℃で４時間攪拌した。反応はＨＰＬＣでモニターした。反応混合物を減圧下５０℃以下で濃縮した後、酢酸エチル（１５６ｍＬ）と１．３％塩酸（２２９ｍＬ）を加えて分液した。有機層を水（７４ｍＬ）、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（１１７ｍＬ）、水（７４ｍＬ）で順次洗浄した後、有機層を減圧下４０℃以下で濃縮し（固化）、メタノール（４２．３ｍＬ）を加え約５５℃で固体を溶解した。さらにメタノール（６３．５ｍＬ）を加えた後、内容物を５０℃から、３時間かけて約５℃に冷却した。この際、３６℃のときに接種を行った。約５℃で２時間攪拌した後、結晶を濾取し、冷メタノール（１８ｍＬ）で洗浄し、５０℃以下で減圧下乾燥することにより、２－（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルアミノ）－３－ニトロ安息香酸メチル（化合物１９ａ，１７．５ｇ，７２．５％）を淡黄色結晶として得た。
融点：92～94℃
IR (KBr): 3368, 1735, 1608, 1540, 1508 cm-1
1H-NMR (CDCl3): δ= 9.61 (br s, 1H), 8.16 (dd, J = 8.1, 1.5 Hz, 1H), 8.10 (dd, J = 8.1, 1.5 Hz, 1H), 7.23 (t, J = 8.1 Hz, 1H), 3.95 (s, 3H), 1.50 (s, 9H)
MS: m/z = 314 (MNH4 +)
（工程２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000126
　５－［４’－（ブロモメチル）ビフェニル－２－イル］－１－（ｐ－メトキシベンジル）－１Ｈ－テトラゾール（化合物５ａ，９．２５ｇ，２１．２ｍｍｏｌ）、アセトニトリル（１０７ｍＬ）、２－（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルアミノ）－３－ニトロ安息香酸メチル（化合物１９ａ，６．４３ｇ，２１．７ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（３．００ｇ，２１．７ｍｍｏｌ）の混合物を窒素雰囲気下６時間加熱還流した。反応はＴＬＣ（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル（４：１））でモニターした。反応混合物を冷却後、濾過し、ケーキをアセトニトリル（３５ｍＬ）で洗浄した後、減圧下３５℃以下で濃縮することにより、粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル（１００：０～４：１））で精製し、濃縮して、クロロホルム（約３０ｍＬ）を加えて濃縮する操作を４回繰り返し、４０℃の浴を用いて減圧乾燥することによって、２－（Ｎ－ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル－Ｎ－｛（２’－［１－（ｐ－メトキシベンジル）－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル）メチル｝アミノ）－３－ニトロ安息香酸メチル（化合物２０ａ）を黄褐色のアモルファス固体（９．８３ｇ（７１．１％））として得た。
IR (KBr): 1735, 1604, 1513 cm-1
1H-NMR (CDCl3): δ= 8.06 (dd, J = 8.2, 1.7 Hz, 1H), 7.88 (dd, J = 8.2, 1.7 Hz, 1H), 7.61 (td, J = 7.5, 1.3 Hz, 1H), 7.53 (dd, J = 7.5, 1.3 Hz, 1H), 7.50 (t, J = 8.2 Hz, 1H), 7.40 (td, J = 7.5, 1.3 Hz, 1H), 7.26 (dd, J = 7.5 Hz, 1.3 Hz, 1H), 7.05 (d, J = 8.2 Hz, 2H), 7.02 (d, J = 8.2 Hz, 2H), 6.72-6.74 (m, 2H), 6.68-6.65 (m, 2H), 4.85 (d, J = 14.5 Hz, 1H), 4.85 (d, J = 14.5 Hz, 1H), 4.67 (d, J = 14.5 Hz, 1H), 4.43 (d, J = 14.5 Hz, 1H), 3.79 (s, 3H), 3.73 (s, 3H), 1.34 (s, 9H)
13C-NMR (CDCl3): δ= 165, 159, 154, 154, 149, 141, 138, 136, 135, 135, 132, 131, 131, 130, 130, 129, 129, 128, 128, 125, 123, 114, 81, 55, 53, 53, 51, 28
MS: m/z = 651 (MH+)
（工程３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000127
　塩化水素メタノール（３０％；２６．９ｇ，ｎｅｔ　８．０８ｇ，２２２ｍｍｏｌ）に、４～５℃で、２－（Ｎ－ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル－Ｎ－｛（２’－［１－（ｐ－メトキシベンジル）－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル）メチル｝アミノ）－３－ニトロ安息香酸メチル（化合物２０ａ，５．００ｇ，７．６８ｍｍｏｌ）を４回に分け１３分かけて加えた。約３℃で２時間攪拌した後、１時間かけて９℃に昇温した。反応はＴＬＣ（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル（２：１））でモニターした。反応混合物を３℃に冷却し、３０℃以下で飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１８０ｍＬ）を滴下した。酢酸エチル（４５０ｍＬ，２５０ｍＬ）で２回抽出し、あわせた有機層を飽和食塩水（２００ｍＬ）で洗浄し、硫酸マグネシウム（１０ｇ）で乾燥した後、４０℃以下で減圧下濃縮した。濃縮物にクロロホルムを加え、４０℃の浴を用いて減圧下溶媒を留去することにより、２－［（｛２’－［１－（ｐ－メトキシベンジル）－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル｝メチル）アミノ］－３－ニトロ安息香酸メチル（化合物２１ａ，４．２７ｇ，１０１％）を黄褐色のアモルファス固体として得た。
IR: 1701, 1610, 1508, 1345 cm-1
1H-NMR (CDCl3): δ= 8.85 (br s, 1H), 8.12 (dd, J = 8.0, 1.8 Hz, 1H), 7.98 (dd, J = 8.0, 1.8 Hz, 1H), 7.65 (td, J = 7.8, 1.2 Hz, 1H), 7.58 (dd, J = 7.8, 1.2 Hz, 1H), 7.45 (td, J = 7.8, 1.2 Hz, 1H), 7.36 (dd, J = 7.8, 1.2 Hz, 1H), 7.19 (d, J = 8.2, 1.2 Hz, 2H), 7.10 (d, J = 8.2 Hz, 2H), 6.74 (t, J = 8.0 Hz, 1H), 6.67 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 6.72 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 4.68 (s, 2H), 4.20 (d, J = 5.0 Hz, 2H), 3.90 (s, 3H), 3.72 (s, 3H)
13C-NMR (CDCl3): δ= 168, 160, 154, 145, 141, 138, 138, 137, 132, 131, 130, 130, 129, 128, 128, 125, 123, 117, 115, 114, 56, 52, 50, 50
MS: m/z = 551 (MH+)
（工程４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000128
　２－［（｛２’－［１－（ｐ－メトキシベンジル）－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル｝メチル）アミノ］－３－ニトロ安息香酸メチル（化合物２１ａ，２．７３ｇ，４．９６ｍｍｏｌ）および塩化スズ（ＩＩ）２水和物（４．４８ｇ，１９．９ｍｍｏｌ）のメタノール（６０ｍＬ）混合物を２時間加熱還流した。反応混合物を減圧濃縮し、濃縮残渣に飽和重曹水と酢酸エチルを加えて１時間攪拌した。この混合物を濾過し、不溶物を酢酸エチルで洗浄した。濾過液と洗浄液を合わし減圧濃縮後、濃縮液を酢酸エチルで抽出した。生成物の酢酸エチル溶液を硫酸マグネシウム上乾燥後濾過した。濾過液を減圧濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルカラムで精製すること（ヘキサン→ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝４：１→２：１→３：２）により２－［（｛２’－［１－（ｐ－メトキシベンジル）－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル｝メチル）アミノ］－３－アミノ安息香酸メチル（化合物２２ａ）を褐色アモルファスとして得た（１．９６ｇ，７０％）。
IR: 1693, 1514, 1468, 1251 cm-1
1H-NMR (CDCl3): δ= 7.57-7.65 (m, 2H), 7.36-7.41 (m, 3H), 7.24-7.26 (m,3H), 7.06-7.08 (m, 2H), 6.86-6.88 (m, 2H), 6.58-6.72 (m, 5H), 4.62 (s, 2H), 4.19 (s, 2H), 3.80 (s, 3H), 3.72 (s, 3H).  
MS: m/z = 521 (MH+)
（工程５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000129
　２－［（｛２’－［１－（ｐ－メトキシベンジル）－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル｝メチル）アミノ］－３－アミノ安息香酸メチル（化合物２２ａ，１．７６ｇ，３．３９ｍｍｏｌ）、テトラエトキシメタン（１ｍＬ，４．８ｍｍｏｌ）および酢酸（２ｍＬ）の混合物を９０℃で１時間攪拌した。反応混合物を冷却後、氷と飽和重曹水を加えてクロロホルムで抽出した。抽出液を硫酸マグネシウム上乾燥後濾過し濾過液を減圧濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムで精製すること（ヘキサン→ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝５：１→４：１→３：１→２：１→１：１）により目的物（化合物２３ａ）を褐色アモルファスとして得た（１．６２ｇ，８３％）。
IR: 1716, 1549 cm-1
1H-NMR (CDCl3): δ= 7.73-7.74 (m, 1H), 7.15-7.56 (m,6H), 6.99 (d, J = 8Hz, 2H), 6.89 (d, J = 8Hz, 2H), 6.60-6.66 (m, 4H), 5.59 (s, 2H), 4.68 (q, J = 4Hz, 2H), 4.59 (s, 2H), 3.75 (s, 3H), 3.68 (s, 3H), 1.49 (t, J = 4Hz, 3H).  
MS: m/z = 575 (MH+)
（工程６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000130
　メチルエステル体（化合物２３ａ，１．４１ｇ，２．４５ｍｍｏｌ）、１Ｎ水酸化ナトリウム（１５ｍＬ）およびメタノール（７．５ｍＬ）の混合物を９０℃で２時間攪拌した。メタノールを減圧濃縮後、１０％塩酸を加えて生成物をクロロホルムとＴＨＦの混合物で抽出した。抽出液を硫酸マグネシウム上乾燥して濾過し濾過液を減圧濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムで精製した（ＣＨＣｌ３→ＭｅＯＨ／ＣＨＣｌ３２％→５％）。目的物のフラクションを集めて減圧濃縮した。濃縮残渣にクロロホルムとジイソプロピルエーテルの混合物を加えて結晶化し、得られた結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄後乾燥することにより目的物（化合物２４ａ）を無色固体として得た（１ｇ，７３％）。
融点：196-198℃
IR: 1690, 1551, 1465 cm-1
1H-NMR (DMSO-d6): δ= 7.65-7.72 (m, 2H), 7.49-7.60 (m, 5H), 7.16-7.20 (m, 1H), 6.85-6.90 (m, 4H), 6.71-6.75 (m, $H), 5.59 (s, 2H), 4.89 (s, 2H), 4.58 (q, J = 8Hz, 2H), 3.65 (s, 3H), 1.37 (t, J = 8Hz, 3H).  
MS: m/z = 561 (MH+)
元素分析: Calcd for C31H26N6O3・0.1iPr2O: C: 68.38; H: 5.21; N: 14.68%.  Found: C: 68.10; H: 5.15; N: 14.68%.
（工程７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000131
　カルボン酸体（化合物２４ａ，８０４ｍｇ，１．４ｍｍｏｌ）、炭酸１－クロロエチルシクロヘキシル（化合物２５ａ，３４６ｍｇ，１．７ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（３０９ｍｇ，２．２ｍｍｏｌ）およびＤＭＦ（５ｍＬ）の混合物を６５℃で４時間攪拌した。反応液に水を加えて生成物を酢酸エチルで抽出した。抽出液を水洗、硫酸マグネシウム上乾燥後濾過した。濾過液を減圧濃縮し濃縮残渣をシリカゲルカラムで精製すること（ヘキサン→ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝４：１→２：１→３：２→１：１）により目的物（化合物２６ａ）を無色アモルファスとして得た（９７２ｍｇ，９３％）。
IR: 1751, 1550, 1462 cm-1
1H-NMR (CDCl3): δ= 7.74-7.76 (m, 1H), 7.59-7.62 (m, 2H), 7.49-7.51 (m, 1H), 7.38-7.40 (m, 1H), 7.31-7.33 (m, 1H), 7.16-7.20 (m, 1H), 7.01 (d, J = 8Hz, 2H), 6.96 (d, J = 8Hz, 2H), 6.87-6.89 (m, 1H), 6.62-6.68 (m, 4H), 5.56-5.68 (m, 2H), 4.60-4.69 (m, 6H), 3.70 (s, 3H), 1.91-1.93 (m, 2H), 1.71-1.73 (m, 2H), 1.15-1.63 (m, 13H).  
MS: m/z = 731 (MH+)
（工程８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000132
　ｐ－メトキシベンジル保護体（化合物２６ａ，８０．２ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）、イソプロパノール（０．４５ｍＬ）、水（０．３ｍＬ）、蟻酸アンモニウム（３６ｍｇ，０．５７ｍｍｏｌ）、パラジウム炭素触媒（１７ｍｇ，０．００３３ｍｍｏｌ，Ｅｖｏｎｉｋ，ＮＮ／Ｗ　５％Ｐｄ，水分５６％）の混合物を４０℃～５０℃で４時間攪拌後、パラジウム炭素触媒（１３．５ｍｇ，０．００２８ｍｍｏｌ，Ｅｖｏｎｉｋ，ＮＮ／Ｗ　５％Ｐｄ，水分５６％）を追加した後、５０℃で１時間攪拌した。さらに、パラジウム炭素触媒（１３．８ｍｇ，０．００２９ｍｍｏｌ，Ｅｖｏｎｉｋ，ＮＮ／Ｗ　５％Ｐｄ，水分５６％）を追加した後、５０℃で１２時間攪拌した。反応終了後、反応液に酢酸エチルを加えて濾過し、濾過液をＨＰＬＣで定量したところ、目的物（化合物２７，カンデサルタン）が３６．８ｍｇ（収率５５％）含まれていた。
実施例３２
（工程１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000133
　１－ベンジル－５－［４’－（ブロモメチル）ビフェニル－２－イル］－１Ｈ－テトラゾール（化合物５ｂ，９．８２ｇ，２４ｍｍｏｌ）、２－（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルアミノ）－３－ニトロ安息香酸メチル（化合物１９ａ，７．３２ｇ，２４．７ｍｍｏｌ）および炭酸カリウム（３．６８ｇ，２６．７ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１００ｍＬ）混合物をアルゴン気流下６時間加熱還流した。反応混合物に炭酸カリウム（１．３４ｇ）を加えて、さらに３時間加熱還流した。反応混合物を冷却後濾過した。不溶物をクロロホルムで洗浄した。濾過液および洗浄液を合わして減圧濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムで精製すること（ヘキサン→ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝５：１→４：１→３：１→２：１→３：２）により２－（Ｎ－ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル－Ｎ－｛（２’－［１－ベンジル－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル）メチル｝アミノ）－３－ニトロ安息香酸メチル（化合物２０ｂ）を黄色アモルファスとして得た（１２．１７ｇ，８１％）。
IR: 1710 cm-1.
1H-NMR (CDCl3): δ= 8.05-8.11, 7.88-7.90 (m, 2H), 7.60-7.61 (m, 1H), 7.50-7.52 (m。１H), 7.05-7.26 (m, 10H), 6.78-6.80 (m, 2H), 4.85-4.94, 4.72-4.75 (m, 4H), 3.79 (s, 3H), 1.34 (s, 9H).
MS: m/z = 621 (MH+)
（工程２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000134
　２－（Ｎ－ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル－Ｎ－｛（２’－［１－ベンジル－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル）メチル｝アミノ）－３－ニトロ安息香酸メチル（化合物２０ｂ，１１．９３ｇ，１９．２ｍｍｏｌ）のメタノール（１５ｍＬ）溶液に２Ｎ　ＨＣｌ－ＭｅＯＨ（３０ｍＬ）を氷冷下加えて、同温度で２時間攪拌後、室温で１終夜攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し濃縮残渣にメタノールとジイソプロピルエーテルを加えて結晶化し濾過した。得られた結晶をジイソプロピルエーテルおよびヘキサンで洗浄後、減圧乾燥することにより、２－［（｛２’－［１－ベンジル－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル｝メチル）アミノ］－３－ニトロ安息香酸メチル（化合物２１ｂ）を黄色結晶として得た（８．６４ｇ，８６％）。
融点：115-117℃.
IR: 1696, 1530, 1451, 1256 cm-1.
1H-NMR (CDCl3): δ= 8.59-8.62 (m, 1H), 8.05-8.08 (m, 2H), 7.94-7.96 (m, 2H), 7.73-7.75 (m, 1H), 7.52-7.62 (m, 3H), 7.17-7.26 (m, 4H), 6.94-6.96 (m, 2H), 6.80-6.83 (m, 3H).  
MS: m/z = 521 (MH+)
元素分析: Calcd for C29H24N6O4: C: 6691; H: 9.65; N: 16.14%.  Found: C: 66.75; H: 4.66; N: 16.19%.
（工程３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000135
　２－［（｛２’－［１－ベンジル－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル｝メチル）アミノ］－３－ニトロ安息香酸メチル（化合物２１ｂ，８．３９６ｇ）および塩化スズ（ＩＩ）２水和物（１３．５６ｇ）のメタノール（１５５ｍＬ）混合物を２時間加熱還流した。反応混合物を減圧濃縮し、濃縮残渣に飽和重曹水と酢酸エチルを加えて１時間攪拌した。この混合物を濾過し、不溶物を酢酸エチルで洗浄した。濾過液と洗浄液を合わし、減圧濃縮した後、濃縮液を酢酸エチルで抽出した。生成物の酢酸エチル溶液を硫酸マグネシウム上で乾燥した後、濾過した。濾過液を減圧濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルカラムで精製すること（ヘキサン→ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝５：１→４：１→３：１→２：１→３：２）により２－［（｛２’－［１－ベンジル－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル｝メチル）アミノ］－３－アミノ安息香酸メチル（化合物２２ｂ）を褐色アモルファスとして得た（６．６８ｇ，８４％）。
IR: 1692, 1468 cm-1.
1H-NMR (CDCl3): δ= 7.56-7.64 (m, 2H), 7.05-7.43 (m, 10H), 6.86-6.90 (m, 2H), 6.74-6.76 (m, 2H), 4.68 (s, 2H), 4.16 (s, 2H), 3.80 (s, 3H).
MS: m/z = 491 (MH+)
（工程４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000136
　２－［（｛２’－［１－ベンジル－１Ｈ－テトラゾール－５－イル］ビフェニル－４－イル｝メチル）アミノ］－３－アミノ安息香酸メチル（化合物２２ｂ，６．４６ｇ，１３ｍｍｏｌ）、テトラエトキシメタン（３．６ｍＬ，１７ｍｍｏｌ）および酢酸（８ｍＬ）の混合物を９０℃で１時間攪拌した。反応混合物を冷却後、氷と飽和重曹水を加えてクロロホルムで抽出した。抽出液を硫酸マグネシウム上で乾燥した後、濾過し、濾過液を減圧濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムで精製すること（ヘキサン→ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝５：１→４：１→３：１→２：１→１：１）により目的物（化合物２３ｂ）を褐色アモルファスとして得た（５．６１ｇ，７８％）。
IR: 1715, 1548 cm-1
1H-NMR (CDCl3): δ= 7.72-7.74 (m, 1H), 7.10-7.62 (m, 9H), 6.99 (d, J = 8Hz, 2H), 6.90 (d, J = 8HZ, 2H), 6.70-6.72 (m, 2H), 5.59 (s, 2H), 4.70 (q, J = 4Hz, 2H), 4.65 (s, 2H), 3.76 (s, 3H), 1.50 (t, J = 4Hz, 3H).
MS: m/z = 545 (MH+)
（工程５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000137
　メチルエステル体（化合物２３ｂ，５．４ｇ，９．９ｍｍｏｌ）、１Ｎ水酸化ナトリウム（３０ｍＬ）およびメタノール（１５ｍＬ）の混合物を９０℃で２時間攪拌した。メタノールを減圧濃縮後、１０％塩酸を加えて、生成物をクロロホルムとＴＨＦの混合物で抽出した。抽出液を硫酸マグネシウム上乾燥して濾過し濾過液を減圧濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムで精製した（ＭｅＯＨ／ＣＨＣｌ３２％→４％）。目的物のフラクションを集めて減圧濃縮した。濃縮残渣にクロロホルムとジイソプロピルエーテルの混合物を加えて結晶化し、得られた結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄後乾燥することにより目的物（化合物２４ｂ）を無色固体として得た（３．９６ｇ，７５％）。
融点：171-173℃
IR: 1696, 1530, 1451, 1256 cm-1
1H-NMR (DMSO-d6): δ= 7.65-7.72 (m, 2H), 7.49-7.56 (m, 4H), 7.15-7.23 (m, 4H), 6.86-6.90 (m, 4H), 6.75-6.77 (m, 2H), 5.59 (s, 2H), 4.97 (s, 2H), 4.59 (q, J = 8Hz, 2H), 1.37 (t, J = 8Hz, 3H).  
MS: m/z = 531 (MH+)
元素分析: Calcd for C31H26N6O3・0.1H2O: C: 69.94; H: 4.96; N: 15.79%.  Found: C: 69.83; H: 4.96; N: 15.73%.
（工程６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000138
　カルボン酸体（化合物２４ｂ，３．７１ｇ，６．９９ｍｍｏｌ）、炭酸１－クロロエチルシクロヘキシル（化合物２５ａ，１．７３ｇ）、炭酸カリウム（１．５４ｇ）およびＤＭＦ（２０ｍＬ）の混合物を６５℃で４時間攪拌した。反応液に水を加えて、生成物を酢酸エチルで抽出した。抽出液を水洗し、硫酸マグネシウム上で乾燥した後、濾過した。濾過液を減圧濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルカラムで精製すること（ヘキサン→ヘキサン：ＡｃＯＥｔ＝４：１→２：１→３：２→１：１）により、目的物（化合物２６ｂ）を黄色アモルファスとして得た（４．９ｇ，定量的）。
IR: 1751, 1549, 1458 cm-1
1H-NMR (CDCl3): δ= 7.74-7.76 (m, 1H), 7.57-7.61 (m, 2H), 7.48-7.50 (m, 1H), 7.30-7.40 (m, 2H), 7.13-7.18 (m, 3H), 6.87-7.02 (m, 5H), 6.70-6.72 (m, 2H), 5.56-5.67 (m, 2H), 4.61-4.71 (m, 6H), 1.85-1.93 (m, 2H), 1.65-1.80 (m, 2H), 1.20-1.62 (m, 13H).  
MS: m/z = 701 (MH+)
　本発明によれば、安価な金属化合物を用いることが可能となり、経済的かつ工業的製造に適した条件で、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬の中間体として有用なビアリールテトラゾール誘導体を製造することが可能となる。
　本願は、日本に出願された特願２００９－２６２１４９及び特願２０１０－１４３８４５を基礎としており、その内容は本明細書に全て包含される。

Claims (7)

  1. 　１）一般式［ＩＩ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    ［式中、Ｒ１はテトラゾリル基の保護基を表す。］
    で示されるアリールテトラゾール誘導体と、一般式［ＩＩＩ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    ［式中、Ｒ２はメチル基、保護基で保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコキシカルボニル基、Ｘ１は脱離基を表す。］
    で示されるベンゼン誘導体を反応させ；
    ２）得られる一般式［ＩＶ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    ［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
    で示される化合物において
    （ａ）Ｒ２が保護基で保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
    （ｂ）Ｒ２が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、
    一般式［Ｖ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    ［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
    で示される化合物を得；
    ３）一般式［ＩＶ］で示される化合物のＲ２がメチル基である場合は、一般式［ＩＶ］で示される化合物を、
    一般式［ＩＶ］で示される化合物のＲ２が保護基で保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコキシカルボニル基である場合は、一般式［Ｖ］で示される化合物を、
    さらにハロゲン化することを特徴とする、一般式［Ｉ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    ［式中、Ｘ２はハロゲン原子を表し、他の記号は前記と同一意味を表す。］
    で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩の製法。
  2. 　一般式［ＩＩ］で示されるアリールテトラゾール誘導体と、一般式［ＩＩＩ］で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒存在下で反応させることを特徴とする、請求項１に記載の製法。
  3. 　一般式［ＩＩ］で示されるアリールテトラゾール誘導体と、一般式［ＩＩＩ］で示されるベンゼン誘導体を、塩基及び金属触媒存在下で反応させることを特徴とする、請求項１に記載の製法。
  4. 　１）請求項１記載の製法で得られた一般式［Ｉ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
    ［式中、Ｘ２はハロゲン原子を表し、Ｒ１はテトラゾリル基の保護基を表す。］
    で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、式［ＶＩ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
    で示される化合物を反応させ；
    ２－Ａ）得られる一般式［ＶＩＩ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
    ［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
    で示される化合物を還元して、一般式［ＶＩＩＩ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
    ［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
    で示される化合物を得、さらにＲ１を除去するか；又は
    ２－Ｂ）一般式［ＶＩＩ］で示される化合物のＲ１を除去して、式［ＶＩＩＩ－２］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
    で示される化合物を得、さらに還元することを特徴とする、
    式［ＩＸ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
    で示される化合物又はその塩の製法。
  5. 　１）請求項１記載の製法で得られた一般式［Ｉ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
    ［式中、Ｘ２はハロゲン原子を表し、Ｒ１はテトラゾリル基の保護基を表す。］
    で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［Ｘ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
    ［式中、Ｒ３はカルボキシ基の保護基を表す。］
    で示される化合物又はその塩を反応させ；
    ２－Ａ）得られる一般式［ＸＩ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
    ［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
    で示される化合物のＲ１を除去し、得られる一般式［ＸＩＩ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
    ［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
    で示される化合物と、一般式［ＸＩＩＩ］：
    ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯ－Ｘ３
    ［式中、Ｘ３は脱離基を表す。］
    で示される化合物を反応させ、得られる一般式［ＸＩＶ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
    ［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
    で示される化合物のＲ３を除去するか；又は
    ２－Ｂ）一般式［ＸＩ］で示される化合物と、一般式［ＸＩＩＩ］で示される化合物を反応させ、得られる一般式［ＸＩＩ－２］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
    ［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
    で示される化合物のＲ１及びＲ３を除去することを特徴とする、
    式［ＸＶ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
    で示される化合物又はその塩の製法。
  6. 　請求項１記載の製法で得られた一般式［Ｉ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
    ［式中、Ｘ２はハロゲン原子を表し、Ｒ１はテトラゾリル基の保護基を表す。］
    で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、式［ＸＶＩ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
    で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［ＸＶＩＩ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
    ［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
    で示される化合物を得、さらにＲ１を除去することを特徴とする、
    式［ＸＶＩＩＩ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
    で示される化合物又はその塩の製法。
  7. 　１）請求項１記載の製法で得られた一般式［Ｉ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
    ［式中、Ｘ２はハロゲン原子を表し、Ｒ１はテトラゾリル基の保護基を表す。］
    で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［ＸＩＸ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
    ［式中、Ｒ４はカルボキシ基の保護基を表し、Ｒ５はアミノ基の保護基を表す。］
    で示される化合物を反応させ、
    　２）得られる一般式［ＸＸ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
    ［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
    で示される化合物のＲ５を除去して、一般式［ＸＸＩ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
    ［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
    で示される化合物を得、さらに還元して、
    　３）得られる一般式［ＸＸＩＩ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
    ［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
    で示される化合物とテトラエトキシメタンを反応させて一般式［ＸＸＩＩＩ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
    ［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
    で示される化合物を得、さらにＲ４を除去して、
    　４）得られる一般式［ＸＸＩＶ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
    ［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
    で示される化合物と一般式［ＸＸＶ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
    ［式中、Ｘ４は脱離基または水酸基を表す。］
    で示される化合物とを反応させて一般式［ＸＸＶＩ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
    ［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
    で示される化合物を得、さらにＲ１を除去することを特徴とする、一般式［ＸＸＶＩＩ］：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
    ［式中、記号は前記と同一意味を表す。］
    で示される化合物又はその塩の製法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013171643A1 (en) * 2012-05-14 2013-11-21 Piramal Enterprises Limited An improved process for preparation of irbesartan
WO2014034868A1 (ja) 2012-08-31 2014-03-06 株式会社エーピーアイ コーポレーション ビアリール化合物の製造方法
WO2014051008A1 (ja) 2012-09-26 2014-04-03 株式会社エーピーアイ コーポレーション テトラゾール化合物の脱保護方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015054120A1 (en) * 2013-10-08 2015-04-16 Chicago Discovery Solutions, Llc Ruthenium-catalyzed synthesis of biaryl compounds in water
WO2015090635A1 (en) * 2013-12-20 2015-06-25 Farma Grs, D.O.O. A new process for the preparation of candesartan cilexetil
CN112920193B (zh) * 2021-02-07 2021-11-16 南通大学 一种灰黄霉素四唑衍生物及其制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05286972A (ja) * 1992-01-28 1993-11-02 Zeneca Ltd 化学的方法
JP2009513555A (ja) * 2003-07-15 2009-04-02 ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト 有機ホウ素および有機アルミニウムアジドからのテトラゾール誘導体の調製のための方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0753489A (ja) * 1993-06-11 1995-02-28 Sankyo Co Ltd ビフェニルカルボキサミド誘導体の製造法
ATE203526T1 (de) * 1994-10-27 2001-08-15 Novartis Erfind Verwalt Gmbh Verfahren zur herstellung tetrazole
JPH10195063A (ja) * 1996-10-21 1998-07-28 Dai Ichi Seiyaku Co Ltd エチニルチアゾール誘導体
CZ298685B6 (cs) * 2003-05-15 2007-12-19 Zentiva, A.S. Zpusob výroby N-(1-oxopentyl)-N-[[2´-(1H-tetrazol-5-yl)[1,1´-bifenyl]-4-yl]methyl]-L-valinu (valsartanu)
CN1272325C (zh) * 2003-05-16 2006-08-30 天津药物研究院 坎地沙坦酯中间体1－（（2′－氰基联苯－4－基）甲基）－2－乙氧基苯并咪唑－7－甲酸乙酯的制备方法
WO2006038223A1 (en) * 2004-10-06 2006-04-13 Matrix Laboratories Ltd A process for preparation of 2-n-butyl -4-chloro - 1 - {[2`- (2-triphenylmethyl - 2h - tetrazole - 5- yl) - 1, 1’ - biphenyl-4-yl] methyl}-lh- imidazoie-5-methanol (intermediate of losartan)
CN101323610B (zh) * 2007-06-15 2013-10-30 横店集团成都分子实验室有限公司 三苯甲基坎地沙坦酯中间体制备方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05286972A (ja) * 1992-01-28 1993-11-02 Zeneca Ltd 化学的方法
JP2009513555A (ja) * 2003-07-15 2009-04-02 ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト 有機ホウ素および有機アルミニウムアジドからのテトラゾール誘導体の調製のための方法

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
COUSAERT, N. ET AL.: "Efficient, protection-free Suzuki-Miyaura synthesis of ortho-biphenyltetrazoles", TETRAHEDRON LETTERS, vol. 46, no. 38, 2005, pages 6529 - 6532, XP008157573 *
COUSAERT, N. ET AL.: "Original loading and Suzuki conditions for the solid-phase synthesis of biphenyltetrazoles. Application to the first solid-phase synthesis of irbesartan", TETRAHEDRON LETTERS, vol. 49, no. 17, 2008, pages 2743 - 2747, XP008157575 *
OI, S. ET AL.: "Nitrogen-directed ortho-arylation and - heteroarylation of aromatic rings catalyzed by ruthenium complexes", TETRAHEDRON, vol. 64, no. 26, 2008, pages 6051 - 6059, XP008157587 *
OI, S. ET AL.: "Ortho-selective Arylation of Arylazoles with Aryl Bromides Catalyzed by Ruthenium Complexes", CHEMISTRY LETTERS, vol. 37, no. 9, 2008, pages 994 - 995, XP008157584 *

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013171643A1 (en) * 2012-05-14 2013-11-21 Piramal Enterprises Limited An improved process for preparation of irbesartan
WO2014034868A1 (ja) 2012-08-31 2014-03-06 株式会社エーピーアイ コーポレーション ビアリール化合物の製造方法
CN104583185A (zh) * 2012-08-31 2015-04-29 株式会社Api 联芳基化合物的制造方法
JP5925899B2 (ja) * 2012-08-31 2016-05-25 株式会社エーピーアイ コーポレーション ビアリール化合物の製造方法
US9624181B2 (en) 2012-08-31 2017-04-18 Api Corporation Method for producing biaryl compound
WO2014051008A1 (ja) 2012-09-26 2014-04-03 株式会社エーピーアイ コーポレーション テトラゾール化合物の脱保護方法
JP5881837B2 (ja) * 2012-09-26 2016-03-09 株式会社エーピーアイ コーポレーション テトラゾール化合物の脱保護方法
US9527821B2 (en) 2012-09-26 2016-12-27 Api Corporation Deprotection method for tetrazole compound

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