JP2009513555A - 有機ホウ素および有機アルミニウムアジドからのテトラゾール誘導体の調製のための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(i)式R−CN(IIa)の化合物を式(R1)(R2)M−N3(IIb)(ここでRは前記で定義した意味を有し;R1およびR2は互いに別個に脂肪族残基、脂環式残基、ヘテロ脂環式残基;脂環式−脂肪族残基;ヘテロ脂環式−脂肪族残基;炭素環式または複素環式芳香族残基;芳香脂肪族残基またはヘテロ芳香脂肪族残基のような有機残基を表し、各々の残基は互いに別個に非置換または置換されており;そしてMはホウ素またはアルミニウムである)のアジドと反応させること;および
(ii)得られた式(I)の化合物を単離すること;
を含む
式:
のテトラゾールまたはその互変異性体もしくは塩(式中、Rは有機残基を表す)の製造のための方法に関する。
有機残基、例えば;脂肪族残基、脂環式残基、ヘテロ脂環式残基;脂環式−脂肪族残基;ヘテロ脂環式−脂肪族残基;炭素環式または複素環式芳香族残基;芳香脂肪族残基またはヘテロ芳香脂肪族残基であり、各々の残基は互いに別個に非置換であるか、または置換されている。
シクロアルキルは、特にC3−C8シクロアルキルである。好ましくはシクロペンチルおよびシクロヘキシルである。
ヘテロ脂環式残基は、例えば少なくとも1つの炭素原子がテロ原子、例えばNH、置換NH、O、またはSにより置換されている脂環式残基であり、その各々もまた置換され得る。
ハロゲンは特にフッ素、塩素、臭素およびヨウ素のような原子番号が53を超えないハロゲンである。
置換アミノは置換カルバモイルに関連して示された意味を有し、そしてさらにC2−C8−アルカノイル−、フェニル−C2−C5−アルカノイル−、ベンゾイル−、C1−C8−アルカンスルホニル−またはベンゼンスルホニルアミノのようなアシルアミノである。
アルカノイルは、例えばC2−C10アルカノイルであり、そして特にアセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリルまたはピバロイルのようなC2−C7アルカノイルである。C2−C5アルカノイルが好ましい。
前記および後記するような残基の置換基は、好ましくは反応物質と干渉するこれらの置換基を含むべきではない。
式(IIa)の化合物は、好ましくはRが前記で定義される対応する化合物である。
式(IIb)のアジドおよび式(IIa)のニトリルのモル比は5から1、好ましくは3から1、最も好ましくは1.8から1または1.2から1の範囲である。
最も好ましくは反応を無水条件下で実施する。
本発明の好ましい実施形態では、本発明を80℃から120℃、好ましくは90℃と110℃との間で実施する。
Rが炭素環式または複素環式残基を表す式(IIa)の化合物が好ましい。
特に不活性溶媒もしくは希釈剤またはその混合物の存在下、0℃から120℃の温度範囲で式(IIb)のアジドの形成を実施する。最も好ましくは反応を無水条件下で実施する。
LiHが最も好ましいが、トリメチル−Alおよびトリエチル−Alもまた好ましい。
たいていのアンギオテンシンII受容体アンタゴニストは2つの必須構造エレメント、いわゆる「コアエレメント」および「薬理作用団エレメント」を有する。
により表される式(IIIa)の側鎖を有する該アンギオテンシンII受容体アンタゴニストまたはその互変異性体、特に前記の表で示されるようなアンギオテンシンII受容体アンタゴニストの製造のための方法に関する。
のテトラゾール環またはその互変異性体(式中、Rxは前記の表から誘導される関連する「コアエレメント」に相当する構造エレメント、特に
からなる群から選択される構造エレメント、または各々の場合のその塩を表す)
を有する該アンギオテンシンII受容体アンタゴニストの製造のための方法に関する。
(式中Rxは前記で示した意味を有する)の化合物を式(R1)(R2)M−N3(IIb')(式中、R1およびR2は互いに別個に有機残基を表す)の化合物と反応させ、そして得られた式(IV)の化合物を単離することを特徴とする。
の化合物またはそのエステルを式(R1)(R2)M−N3(IIb)(式中、R1およびR2は互いに別個に前記で定義したような意味を有する)のアジドと反応させ、そして式(IVb)の化合物を単離することを特徴とする。
の化合物を式(R1)(R2)M−N3(IIb)(式中R1およびR2は互いに別個に有機残基を表す)の化合物と反応させること;および得られた式(V)の化合物を単離することを含む、式
の化合物またはその互変異性体(式中、RyはメチルのようなC1−C8−アルキル;X’により置換されたC1−C8−アルキルを表し、そしてX’はハロゲン、スルホニルオキシ、ヒドロキシル、ブロモメチルのような保護されたヒドロキシル、またはホルミルのアセタールであり;そしてX1はベンジル位置にある)の製造のための方法である。
(a)式(VIa)
(式中、Xは離脱基を表す)を最初に求核剤と、そして次に「加溶媒分解性」塩基と処理して式(VIb)
の化合物を得ること;
(b)式(Vb)の化合物を式(R1)(R2)M−N3(IIb)のアジド(式中可変基R1およびR2は互いに別個に前記で定義したような意味を有する)と反応させて、式(VIc)
の化合物またはその互変異性体もしくは塩を得ること;
(c)式(VIc)の化合物またはその互変異性体もしくは塩を酸化して、式(VI)
の化合物またはその互変異性体もしくは塩を得ること;および
(d)式(VI)またはその互変異性体もしくは塩を単離すること;
を含む式(VI)
の化合物またはその互変異性体もしくは塩の製造のための方法である。
適当な求核剤は、例えばC2−C10−アルカンカルボン酸、特にC2−C5−アルカンカルボン酸、芳香脂肪族カルボン酸もしくは芳香族カルボン酸のアルカリ金属塩、または酢酸脂肪族アンモニウム、特に酢酸テトラ−C1−C7−アルキル−アンモニウムである。実例には例えば酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、および酢酸テトラエチルアンモニウムが挙げられる。
同様に特に好ましい実施形態では、相間移動触媒、例えば公知のものの存在下で工程(a)を実施する。適当な相間移動触媒は対応する塩化物または臭化物のようなトリ−C1−C8−アルキル-アラ−C1−C5アルキル−アンモニウムハロゲン化物、対応する塩化物または臭化物のようなテトラ−C1−C8−アルキル−アンモニウムハロゲン化物、対応する塩化物または臭化物のようなジ−C1−C8−アルキル−ジアラ−C1−C5アルキル−アンモニウムハロゲン化物を含む。実例は臭化テトラブチルアンモニウムまたは塩化トリエチルベンジルアンモニウムである。
不活性溶媒または溶媒の混合物を用いる。適当な溶媒には例えばヘプタン、オクタン、トルエンまたはキシレンのような炭化水素、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン、フルオロベンゼンまたはトリフルオロベンゼンのようなハロゲン炭化水素を含む。
本発明は反応工程(a)に関する。この反応工程は2つの別個の工程を含み、そして驚くべきことに、収率はほとんど定量的である(理論値の>99重量%)。本発明はまた方法工程(a)に従って得られるときの、式(VIb)の化合物に関する。
出発材料または中間物質と反応できないことを意味する不活性溶媒、希釈剤、またはその混合物を選択すべきである。適当な溶媒は、例えばC5−C10−アルカン、例えばヘプタン、シクロヘキサンのようなシクロアルカンのような脂肪族、脂環式および芳香族炭化水素;メチル−シクロヘキサンまたは1,3−ジメチル−シクロヘキサンのようなアルキル化C3−C7シクロアルカン、エチルベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、またはメシチレンのようなアルキル化ベンゼン;クロロベンゼン、クロロトルエン、ジクロロベンゼン、およびトリフルオロメチルベンゼンのようなハロゲン化芳香族溶媒;ハロゲン化炭化水素、例えばクロロベンゼンのようなハロゲン化芳香族化合物である。さらに、適当な溶媒、希釈剤またはその混合物は反応条件下で用いるのに十分に高い沸点を有しているべきである。
本発明の好ましい実施形態では、本発明を80℃から120℃、好ましくは90℃と110℃との間で実施する。
本発明はまた、前記の方法工程c)に従って得られるときの、式(VI)の化合物に関する。
(a')式(VI)
の化合物またはその互変異性体もしくは塩(ここで、テトラゾール環は保護されていないか、またはテトラゾール保護基により保護されている)を式(VIIIb)
の化合物またはその塩(式中、Rz1は水素またはカルボキシ保護基を表す)と還元的アミノ化条件下で反応させること;ならびに
(b')得られた式(VIIIc)
の化合物またはその互変異性体もしくは塩を式(VIIId)(式中Rz1は水素またはカルボキシ保護基を表し、そしてここでテトラゾール環は保護されていないか、またはテトラゾール保護基により保護されている)の化合物と、式(VIIId)
(式中、Rz2は活性化基である)の化合物とアシル化すること;ならびに
(c')Rz1が水素と異なる場合、および/またはテトラゾール環が保護基により保護されている場合、得られた式(VIIIe)
の化合物またはその互変異性体もしくは塩の(複数の)保護基を除去すること;ならびに
(d')得られた式(IVb)の化合物またはその塩を単離すること;および所望により、得られた式(IVb)の遊離酸をその塩に変換すること、または得られた式(IVb)の化合物の塩を式(IVb)の遊離酸に変換すること、または得られた式(IVb)の化合物の塩を異なる塩に変換すること;
を含む式(IVb)
の化合物またはその互変異性体もしくは塩の製造のための方法に関する。
反応工程(a’)では還元剤の存在下で還元的アミノ化を実施する。適当な還元剤は、複合形態でも存在し得るホウ化水素、または、双方共に水素化触媒の存在下で、水素もしくは水素供与体である。さらに還元剤は適当なセレン化物またはシランである。
のイミン(シッフ塩基)またはその互変異性体もしくは塩(ここでRz1は前記したような意味を有し、そしてここでテトラゾール環は保護されていないか、またはテトラゾール保護基により保護されている)が得られ、これを特定の反応条件下で単離することができるか、または単離せずに還元に供することができる。
式(VIIIc’’)の中間物質のイミンを、例えば溶媒の除去により、例えば蒸留により、特に水の共沸除去により単離することができる。
特にRz1が水素でありそしてテトラゾール環が保護されておらず、ならびに水酸化ナトリウムのような塩基、メタノールのような溶媒およびホウ化水素ナトリウムのような還元剤を用いる場合、還元的アミノ化を遊離の水を除去しないで実施するのが最も好ましい。
イミン構造エレメントを鑑みて、式(VIIIc’’)の化合物はその対応するEおよび対応するZ異性体の双方を含む。E異性体が好ましい。
工程(a’)を穏やかな条件下で、特に約−10℃から約室温までの温度で、好ましくは約−5℃および+5℃の範囲で実施するのが好ましい。
反応工程(b’)では、例えば適当な塩基の不在下または存在下でアシル化を実施する。
適当な塩基は、例えば水酸化もしくは炭酸アルカリ金属、モルホリンもしくはピペリジンアミン、非置換または置換ピリジン、アニリン、ナフタレンアミン、トリ−C1−C7−アルキルアミン、塩基性複素環または水酸化テトラ−C1−C7−アルキル−アンモニウムである。言及し得る実例には、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、トリ−プロピル−アミン、トリ−ブチル−アミンもしくはエチルジイソプロピルアミン、N−メチル−モルホリンもしくはN−メチル−ピペリジン、ジメチル−アニリンもしくはジメチルアミノ−ナフタレン、ルチジン、コリジン、または水酸化ベンジルトリメチルアンモニウムが挙げられる。好ましい塩基はエチル-ジイソプロピル−アミンのようなトリ−C1−C4−アルキルアミンまたはピリジンである。
式(VIIId)の化合物は公知であるか、またはそれ自体公知の方法に従って製造することができる。
テトラゾールおよびカルボキシ保護基の双方の保護基の除去を当分野でそれ自体公知の方法に従って実施することができる。
例えばベンジルエステルを特に適当な水素化触媒の存在下で水素化することにより対応する酸に変換することができる。適当な触媒には、所望により支持材料、例えば炭素または炭酸カルシウムに適用することができる、例えばラネーニッケルのようなニッケル、およびパラジウムまたは酸化白金のような貴金属またはその誘導体、例えば酸化物が含まれる。好ましくは1から100気圧の間の圧力で、および約−80℃から約200℃までの室温で、特に室温と約100℃の間で水素化を実施する。
式(IVb)の化合物の単離工程(d’)を、所望によりまたは必要により後処理、特に抽出による後に、得られた式(IVb)の化合物を反応混合物から結晶化することによる、または反応混合物のクロマトグラフィーによるような従来の単離方法に従って実施する。
の化合物を式(R1)(R2)M−N3(IIb)(ここでR1およびR2は互いに別個に有機残基を表す)の化合物と反応させること;および得られた式(VII')の化合物を単離することを含む、式
の化合物、その互変異性体(ここでRyはメチルのようなC1−C8−アルキル;X’により置換されたC1−C8−アルキルを表し、そしてX’はハロゲン、スルホニルオキシ、ヒドロキシル、ブロモメチルのような保護されたヒドロキシル、またはホルミルのアセタールである)の製造のための方法である。
の化合物を式(R1)(R2)M−N3(IIb)(ここでR1およびR2は互いに別個に有機残基を表す)の化合物と反応させること;および得られた式(VII)の化合物を単離することを含む、式
の化合物またはその互変異性体(ここでRyはメチルのようなC1−C8−アルキル;X’により置換されたC1−C8−アルキルを表し、そしてX’はハロゲン、スルホニルオキシ、ヒドロキシル、ブロモメチルのような保護されたヒドロキシル、ホルミルまたはそのアセタールである)の製造のための方法である。
本発明は同様に、特にスズを全く含有しない形態の式(I)、(IV)、(IVb)、(V)、(VI)、(VII)、(VII')の化合物またはその互変異性体もしくは塩を製造するための方法における式(IIb)の化合物の使用に関する。
実施例は本発明の具体的な実施態様の概要を示すが、本発明の範囲を限定するものではない。
融点 173−175℃
TLC:Rf値:0.48、トルエン:EtOAc:AcOH(20:20:1);SiO2プレート
顆粒ナトリウムアジド286mg(4.4ミリモル)を塩化ジエチルアルミニウム(4.4ミリモル、トルエン中1M)の冷溶液に加え、そして混合物を室温で4時間(h)攪拌する。
顆粒のナトリウムアジド260mg(4ミリモル)をトルエン10mlで希釈した塩化ジエチルアルミニウム(4ミリモル、トルエン中1.8M)の冷溶液に加え、そして混合物を室温で4時間攪拌する。攪拌した溶液を0℃で冷却し、そして2−ヒドロキシベンゾニトリル238mg(2ミリモル)を加える。反応混合物を80℃まで加温し、そして一晩攪拌する。20時間後、変換は83%であった。次いで温度を100℃まで上昇させ、そして12時間攪拌する。ほぼ90%の変換で反応を後処理する。反応混合物を0℃まで冷却し、そして6M HC17ml、水5ml、酢酸エチル10ml、飽和NaCl(sat.)8mlを滴下して処理し、そして抽出する。有機相を水20mlで2回再抽出する。合わせた水層を酢酸エチル20mlで2回抽出する。合わせた有機相をNa2SO4上で乾燥する。溶媒を除去して粗製生成物が得られる。粗製生成物を酢酸エチルから結晶化して純粋な生成物が得られる。
TLC:Rf値:0.46、トルエン:EtOAc:AcOH(20:20:1)
HPLC:
Hewlett Packard、溶媒 H3PO4、アセトニトリル/水;流速:2ml/分;注入:5.0μl;波長 220nm、40℃、カラム: Merck, Chromolith Performance,
RP−18e 100−4.6mm;保持時間:4.12分
物理化学的データは実施例3b参照。
実施例3aと同一の反応を実施したが、高濃度のジエチルアルミニウムアジドおよび高温を用いた:
トルエン中ジエチルアルミニウムアジド(塩化ジエチルアルミニウムおよびNaN3から調製)およびOTBNを用いる類似の条件下で、内部温度約110℃(還流)、外部温度135℃で40時間の後、98.5%の変換が得られた。
TLC:Rf値:0.56、(トルエン:EtOAc:AcOH=20:20:1)、SiO2−プレート(Merck KgaA)
TLC:Rf値:0.21、(トルエン:EtOAc:AcOH=20:20:1)、SiO2−プレート(Merck KgaA)
カタログ番号1.05628.001)
50mlの三つ首丸底フラスコに、トルエン10mlに希釈したフッ化ジイソブチルアルミニウム(10ミリモル、ヘキサン中1M)の溶液10mlを加える。NaN3を溶液(650mg、10ミリモル)に加え、そして混合物を室温で4時間攪拌する。攪拌した溶液を氷浴中0℃で冷却する。トルエン3mlに希釈したシンナモニトリル0.62ml(5ミリモル)を加え、混合物を90℃(内部温度)まで加温し、そして一晩攪拌する。温度を105℃(内部温度)まで上昇させ、そして一晩攪拌する。全部で70時間の後(完全な変換ではない)、反応をクエンチした。混合物を−10℃まで冷却し、そしてHCl(6N)(pH1)8mlと滴下して処理する。水相を酢酸エチル10mlで抽出する。有機相を飽和NaCl10ml部分で2回洗浄し、そして次にKHCO310ml部分で2回抽出する。水相を酢酸エチル10ml部分で2回洗浄し、そして次にHClでpH1−2まで処理し、そして酢酸エチルで3回抽出する。有機相をNa2SO4上で乾燥し、そして溶媒を真空下除去して、乾燥後、標題生成物が得られる。
融点:158−160℃
TLC:Rf値:0.46(トルエン:EtOAc:AcOH(20:20:1)
融点:158−160℃
TLC:Rf値:0.48(トルエン:EtOAc:AcOH=20:20:1)、SiO2−プレート
融点:118−120℃
TLC:Rf値:0.45、(トルエン:EtOAc:AcOH=20:20:1)、SiO2−プレート
融点:184−186℃
TLC:Rf値:0.31、(トルエン:EtOAc:AcOH=20:20:1)、SiO2−プレート
TLC:Rf値:0.48、トルエン:EtOAc:AcOH(20:20:1);SiO2−プレート
顆粒のナトリウムアジド292mg(4.5ミリモル)をトルエン2.5mlに希釈した塩化ジエチルアルミニウム(4.5ミリモル、トルエン中1.8M)の冷溶液に加え、そして混合物を室温で4時間攪拌する。4−クロロベンゾニトリル473mgを攪拌した溶液に加え、そして反応混合物を135℃(外部温度)まで加熱し、そして一晩攪拌する。HPLCにより完全な変換が観察される。トルエン5mlを混合物に加え、次いで溶液を6N HClの冷溶液に滴加する。酢酸エチル10mlを加え、そして溶液を抽出する。水相を酢酸エチル10ml部分で2回洗浄する。合わせた有機相を2N HCl10ml部分で、および最後に水10mlで洗浄する。溶媒を除去し、そして生成物を60℃で一晩、真空下乾燥して生成物が得られる。
TLC:Rf値:0.40、トルエン:EtOAc:AcOH(20:20:1);SiO2−プレート
HPLC: Hewlett Packard、溶媒、H3PO4、アセトニトリル/水;流速:2ml/分;注入:5.0μl;波長220nm、40℃;流速:2ml/分;注入:5.0μl;カラム:Merck, Chromolith Performance RP−18e100−4.6mm、保持時間:6.184分
以下の表(実施例11a)から11 l)は本発明をさらに説明するであろう。本発明の方法を適用する場合、式(IIa)のニトリル化合物から出発して式(I)のテトラゾール化合物を得ることができる:
1)K. Srinivas et al., Synthesis, 2004,(4), 506
2)R. D. Larsen et al., J. Org. Chem., 59, 6391(1994)
3)T. Kato & Y. Shida, EP 578125 A1(19940112)
に開示されている。
「5−ホルミル−イミダゾール−1−イルメチル−ビフェニル−2−カルボニトリル」3.78g(10ミリモル)をエタノール50mlに懸濁する。この懸濁液に10℃で攪拌しながらNaBH4152mg(4ミリモル)を2度で加える。2−3時間攪拌した後、2N HCl10mlを加えることにより反応をクエンチする。反応混合物を真空下濃縮し、そして最後に水25mlで希釈する。水相を酢酸エチル30mlで3回抽出する。有機相を合わせ、そして蒸発乾固してほぼ白色の固体残留物が得られ、これを真空下乾燥する。粗製「アルコール」をさらに精製することなく、次の工程で用いる。
前工程からの「ヒドロキシメチル−イミダゾール−1−イルメチルビフェニルカルボニトリル」1.9g(5ミリモル)をアルゴン下乾燥トルエン10mlに懸濁する。この懸濁液に室温で攪拌しながらトルエン中1.8モル濃度のAlEt32.8mlを加える。懸濁液の攪拌をさらに3時間続けた。次いで別のフラスコで調製した、トルエン中ジエチルアルミニウムアジド10ミリモルの溶液をシリンジを介して加える(このEt2Al−N310ミリモルをトルエン中Et2AlCl10ミリモルおよびNaN310ミリモルを室温で一晩攪拌することにより調製してNaClの白色懸濁液が得られるが、ジエチルアルミニウムアジドはトルエンに溶解する)。反応混合物を還流(〜111℃)、外部温度約140℃まで加熱する。HPLC分析により変換を制御する。24時間の還流の後、反応混合物を室温まで冷却し、そして最後に2N塩酸40ml中NaNO240ミリモルの水溶液でクエンチする。次いでさらに2N HCl20mlを攪拌しながら加えて、沈殿した水酸化アルミニウムを溶解する。最後に酢酸エチルで水相抽出することにより生成物を単離した。合わせた有機相(トルエン/EtOAc)を水25mlで2回洗浄し、そして真空下蒸発乾固して粗製のロサルタンが得られる。文献に従ってCH3CNまたはCH3CN/水混合物から結晶化することにより粗製のロサルタンを精製することができる;(J.O.C., 59, 6391 (1994))。
a) 3−メチル−2{[1−[2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イル]−メト−(E/Z)−イルジエン]−アミノ}−酪酸の調製
δ= 8.21 (CH=N, s), 7.67 (C6H5-CH, d), 7.40-7.60 (4 C6H5-CH, m), 7.18 (C6H5-CH, d), 3.42 (CH, d), 2.31 (CH, m), 0.98 (CH3, d), 0.82 (CH3, d).
水(200ml)中L−バリン(24.8g;210ミリモル)および2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−カルバルデヒド(50g;200ミリモル)の攪拌した懸濁液に室温で、pH11に達するまで10M水酸化ナトリウム水溶液(およそ41ml;410ミリモル)を加える。得られた透明な溶液を真空下60℃で蒸発させ、そして1−ブタノールと共沸することにより残った水を除去する。残留物(固体泡状のイミン)をメタノール(600ml)に溶解し、そして0−5℃でホウ化水素ナトリウム(3.13g;80ミリモル)を分けて溶液に加える。反応混合物を0−5℃で30分間攪拌し、そして反応が完了した場合(HPLC)、水(300ml)および2.0M塩酸(160ml;320ミリモル)の添加によりクエンチする。真空下50℃で透明な溶液(pH7)から有機溶媒(メタノール)を取り除く。40℃で2.0M塩酸(およそ90ml)をゆっくりと添加することにより残った水性濃縮物をpH2に調整する。添加の間に所望の生成物が沈殿する。それをろ過により収集し、水で洗浄し、そして真空下乾燥する。粗製生成物を50℃でメタノールに懸濁し、そして数分間攪拌する。次いでスラリーを室温まで冷却する。ろ過により(S)−3−メチル−2−((2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イル−メチル)−アミノ)−酪酸を収集し、そして次に真空下乾燥する。
鏡像体過剰率(HPLCによる):ee>99.9%
メタノール中15ml中L−バリン(2.48g;21ミリモル)の攪拌した懸濁液に水酸化ナトリウム(1.71g;41.89ミリモル)を分けて加える。混合物を室温で30分間攪拌する。次いで2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−カルバルデヒド(5g;20ミリモル)を加える。数分後に混合物は透明な溶液になる。次いで混合物を−5℃まで冷却し、そしてホウ化水素ナトリウム(0.315g;8ミリモル)を溶液に分けて加える。温度は添加の間0−5℃を維持する。得られた混合物を0℃で2時間攪拌し(反応の完了はHPLCに従う)、次いでpHが2−2.5の間になるまで水(10ml)および37%塩酸(5.3g)を加えることによりクエンチする。さらなる後処理および結晶化は実施例1 b2)に従って行う。
鏡像体過剰率(HPLCによる):ee>99.9%
50mlのスチール製加圧滅菌器に、3−メチル−2{[1−[2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イル]−メト−(E/Z)−イリデン]−アミノ}−酪酸(1.5g;3.2ミリモル)および5%Pt/C(7.5mg、5重量/重量%)をアルゴン下で充填する。次いでメタノール15mlを加え、そして加圧滅菌器を密閉し、そしてアルゴンおよび水素を流す。圧力を5バールに設定し、そして反応物を室温で攪拌する。HPLCにより反応の完了をモニタリングする。次いで加圧滅菌器にアルゴンを流し、そして触媒をろ去する。さらなる後処理および結晶化は実施例1 b2)に類似して行う。
2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−カルバルデヒド(0.79g;3.2ミリモル)およびL−バリン(0.4g;3.4ミリモル)をメタノール15mlに懸濁する。次いで水酸化ナトリウム(0.27g;6.72ミリモル)を加え、そして透明な溶液が得られるまで反応混合物を室温で攪拌する。5%Pt/C(15.8mg、2重量/重量%)を加える。加圧滅菌器を密閉し、そしてアルゴンおよび水素を流す。圧力を5バールに設定し、そして反応物を60℃で攪拌する。HPLCにより反応の完了をモニタリングする。次いで加圧滅菌器にアルゴンを流し、そして触媒をろ去する。さらなる後処理および結晶化は実施例1 b2)に類似して行う。
鏡像体過剰率(HPLCによる):ee>99.9%
融点:108−110℃
鏡像体過剰率(HPLCによる):ee>99.5%
Claims (10)
- (i)式R−CN(IIa)の化合物を式(R1)(R2)M−N3(IIb)(ここでRは前記で定義した意味を有し;R1およびR2は互いに別個に脂肪族残基、脂環式残基、ヘテロ脂環式残基;脂環式−脂肪族残基;ヘテロ脂環式−脂肪族残基;炭素環式または複素環式芳香族残基;芳香脂肪族残基またはヘテロ芳香脂肪族残基のような有機残基を表し、各々の残基は互いに別個に非置換または置換されており;そしてMはホウ素またはアルミニウムである)のアジドと反応させること;および
(ii)得られた式(I)の化合物を単離すること;
を含む
式:
のテトラゾールまたはその互変異性体もしくは塩(式中、Rは有機残基を表す)の製造のための方法。 - 式(IVa)
(式中Rxは前記で示す意味を有する)の化合物を式(R1)(R2)M−N3(IIb)(ここでR1およびR2は互いに別個に有機残基を表す)の化合物と反応させ、そして得られた式(IV)の化合物を単離することを特徴とする、例えば式(IV)
またはその互変異性体(式中Rxは
または各々の場合のその塩;
からなる群から選択される構造エレメントを表す)のテトラゾール環を構造的特徴として有する該アンギオテンシンII受容体アンタゴニストの製造のための請求項1に記載の方法。 - (a)式(VIa)
(式中、Xは離脱基を表す)を最初に求核剤と、そして次に「加溶媒分解性」塩基と処理して式(VIb)
の化合物を得ること;
(b)式(Vb)の化合物を式(R1)(R2)M−N3(IIb)(式中可変基R1およびR2は互いに別個に前記で定義したような意味を有する)のアジドと反応させて、式(VIc)
の化合物またはその互変異性体もしくは塩を得ること;
(c)式(VIc)の化合物またはその互変異性体もしくは塩を酸化して、式(VI)
の化合物またはその互変異性体もしくは塩を得ること;および
(d)式(VI)の化合物またはその互変異性体もしくは塩を単離すること;
を含む式(VI)
の化合物またはその互変異性体もしくは塩の製造のための方法。 - HNO2、HNO3または対応するその無水物、およびペルオキソ二硫酸からなる群から選択される酸化剤の存在下で酸化を実施し、そして溶媒としてトルエンのようなアルキル化芳香族炭化水素溶媒を用いる請求項5または6に記載の方法。
- Mはアルミニウムまたはホウ素であり、R1およびR2は互いに別個にメチル、エチル、プロピル、ジイソブチル、tert−ブチルもしくはn−オクチルのようなC1−C8−アルキル;アリルもしくはクロチルのようなC3−C7アルケニル、シクロヘキシルのようなC3−C7−シクロアルキル;ベンジルもしくは2−フェネチルのようなフェニル−C1−C4−アルキル;シンナミルのようなフェニル−C3−C5アルケニル、またはシクロプロピルメチルもしくはシクロヘキシルメチルのようなC3−C8−シクロアルキル−C1−C8−アルキルである式(R1)(R2)M−N3(IIb)の化合物を用いる請求項1から5および8のいずれかに記載の方法。
- Mはアルミニウムまたはホウ素であり、そしてR1およびR2は互いに別個にアリルもしくはクロチルのようなC3−C7アルケニル、シクロヘキシルのようなC3−C7−シクロアルキル;ベンジルもしくは2−フェネチルのようなフェニル−C1−C4−アルキル;シンナミルのようなフェニル−C3−C5アルケニル、またはシクロプロピルメチルもしくはシクロヘキシルメチルのようなC3−C8−シクロアルキル−C1−C8−アルキルである式(R1)(R2)M−N3(IIb)の化合物。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011061996A1 (ja) * | 2009-11-17 | 2011-05-26 | 田辺三菱製薬株式会社 | ビフェニル誘導体の製法 |
JP2013508436A (ja) * | 2009-10-27 | 2013-03-07 | ノバルティス アーゲー | 有機化合物の製造方法 |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB0316546D0 (en) * | 2003-07-15 | 2003-08-20 | Novartis Ag | Process for the manufacture of organic compounds |
JP4537678B2 (ja) * | 2003-09-04 | 2010-09-01 | 住友化学株式会社 | 2’−(1h−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−カルボアルデヒド結晶およびその製造方法 |
EP1661891A1 (en) * | 2004-11-30 | 2006-05-31 | KRKA, D.D., Novo Mesto | A process for the synthesis of valsartan |
GB0514206D0 (en) * | 2005-07-11 | 2005-08-17 | Novartis Ag | Organic compounds |
GB0514686D0 (en) * | 2005-07-18 | 2005-08-24 | Novartis Ag | Organic compounds |
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KR100795589B1 (ko) * | 2006-05-29 | 2008-01-21 | 주식회사 대희화학 | 2-부틸-4-클로로-1-[[2'-(1h-테트라졸-5-일)바이페닐-4-일]메틸]이미다졸-5-카르복스알데하이드의 제조방법 |
CN101200455B (zh) * | 2007-09-29 | 2010-08-18 | 泰兴市江神化工有限公司 | 沙坦类治疗高血压药物主环5-(4'-甲酰基联苯-2-基)-1h-四氮唑的制备方法 |
CA2700893A1 (en) * | 2007-10-12 | 2009-04-16 | Arqule, Inc. | Substituted tetrazole compounds and uses thereof |
US10368340B2 (en) * | 2010-04-01 | 2019-07-30 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Network service exposure method and apparatus utilizing the same |
WO2012148148A2 (en) * | 2011-04-25 | 2012-11-01 | Lg Life Sciences Ltd. | Novel zinc azide complex and a process for preparing tetrazole derivatives using the same |
CN102351804B (zh) * | 2011-09-30 | 2013-07-31 | 浙江新赛科药业有限公司 | 一种缬沙坦消旋体的回收方法 |
CN102702117B (zh) * | 2012-06-01 | 2016-04-13 | 浙江沙星医药化工有限公司 | 一种制备5-(4’-溴代甲基-2-联苯基)-1-三苯甲基四氮唑的方法 |
CN103265560B (zh) * | 2013-05-17 | 2016-05-04 | 中国科学院上海高等研究院 | 棉酚/棉酮衍生物及其制备方法和抗肿瘤药物中的应用 |
KR101956281B1 (ko) * | 2013-08-13 | 2019-03-08 | 삼성전기주식회사 | 수지 조성물, 이를 이용한 인쇄회로기판 및 그 제조방법 |
KR102090155B1 (ko) * | 2019-11-22 | 2020-03-17 | 국방과학연구소 | 베타인 수용액 내에서 5-치환-1h-테트라졸의 제조방법 |
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CN116375687A (zh) * | 2021-12-22 | 2023-07-04 | 浙江华海药业股份有限公司 | 一种高纯度的氯沙坦钾及其制备方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04235149A (ja) * | 1990-02-19 | 1992-08-24 | Ciba Geigy Ag | アシル化合物 |
JPH05255326A (ja) * | 1992-02-11 | 1993-10-05 | Dr Karl Thomae Gmbh | イミダゾ[1,2−aピリジン、これらの化合物を含む医薬組成物及びそれらの調製法 |
JPH0673028A (ja) * | 1992-07-06 | 1994-03-15 | Takeda Chem Ind Ltd | トリ高級アルキルスズアジドおよびその用途 |
WO2001023442A1 (en) * | 1999-09-27 | 2001-04-05 | The Dow Chemical Company | Supported catalyst comprising expanded anions |
Family Cites Families (60)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2977372A (en) | 1958-04-09 | 1961-03-28 | William G Finnegan | Process for preparing substituted tetrazoles |
US3394142A (en) | 1966-01-19 | 1968-07-23 | Minnesota Mining & Mfg | Substituted tetrazoles and process therefor |
CH499526A (de) | 1968-06-06 | 1970-11-30 | Ciba Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung von neuen Tetrazolderivaten |
SU497775A3 (ru) | 1970-01-16 | 1975-12-30 | Циба-Гейги Аг (Фирма) | Способ получени производных тетразола |
DE2650231A1 (de) | 1976-11-02 | 1978-05-11 | Hoechst Ag | Neue imidazolverbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und diese enthaltende arzneimittel |
US4097479A (en) | 1977-03-11 | 1978-06-27 | Miles Laboratories, Inc. | Synthesis of 5-substituted tetrazoles |
US4122274A (en) | 1977-05-25 | 1978-10-24 | Bristol-Myers Company | 3-Tetrazolo-5,6,7,8-substituted-pyrido[1,2-a]pyrimidin-4-ones |
US4288352A (en) | 1979-03-26 | 1981-09-08 | Exxon Research & Engineering Co. | Electrically conductive polymeric compositions |
FI73423C (fi) * | 1980-02-29 | 1987-10-09 | Otsuka Pharma Co Ltd | Foerfarande foer framstaellning av farmakologiskt verksamma tetrazolderivat. |
JPS56158781A (en) | 1980-05-10 | 1981-12-07 | Kaken Pharmaceut Co Ltd | Tetrazolecoumarin derivative, its preparation and antiallergic agent containing the same as active constitutent |
US4338452A (en) * | 1980-09-17 | 1982-07-06 | Eli Lilly And Company | 1-and 2-(1-Alkyl-1H-tetrazol-5-yl-methyl)-1H-tetrazol-5-thiols and 1-cyanomethyl tetrazole-5-thiol |
US4735948A (en) | 1983-03-25 | 1988-04-05 | Merrell Dow Pharmaceuticals Inc. | (1H-tetrazol-5-yl)-2(1H)-quinolinones and-naphthyridones and antiallergic use thereof |
JPS6073028A (ja) | 1983-09-29 | 1985-04-25 | Japan Electronic Control Syst Co Ltd | 電子制御燃料噴射式内燃機関の始動時の噴射量の学習制御装置 |
CA1334092C (en) | 1986-07-11 | 1995-01-24 | David John Carini | Angiotensin ii receptor blocking imidazoles |
US5138069A (en) | 1986-07-11 | 1992-08-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Angiotensin II receptor blocking imidazoles |
GB8708459D0 (en) | 1987-04-09 | 1987-05-13 | Avdel Ltd | Fastener installation apparatus |
US4820843A (en) | 1987-05-22 | 1989-04-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Tetrazole intermediates to antihypertensive compounds |
US4870186A (en) | 1987-05-22 | 1989-09-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Tetrazole intermediates to antihypertensive compounds |
US4874867A (en) | 1987-05-22 | 1989-10-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Tetrazole intermediates to antihypertensive compounds |
US4831192A (en) | 1987-12-31 | 1989-05-16 | Boc, Inc. | Methods of preparing 4-heteropentacyclic-4-(N-phenyl)amido) piperidine derivatives and intermediate compounds |
US5210079A (en) | 1988-01-07 | 1993-05-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Treatment of chronic renal failure with imidazole angiotensin-II receptor antagonists |
US5128069A (en) * | 1989-03-22 | 1992-07-07 | Nippon Zoki Pharmaceutical Co., Ltd. | Luciferin derivatives |
NZ237476A (en) | 1990-03-20 | 1994-01-26 | Sanofi Sa | N-substituted heterocyclic compounds and pharmaceutical compositions. |
US5270317A (en) | 1990-03-20 | 1993-12-14 | Elf Sanofi | N-substituted heterocyclic derivatives, their preparation and the pharmaceutical compositions in which they are present |
US5196444A (en) | 1990-04-27 | 1993-03-23 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | 1-(cyclohexyloxycarbonyloxy)ethyl 2-ethoxy-1-[[2'-(1H-tetrazol-5-yl)biphenyl-4-yl]methyl]benzimidazole-7-carboxylate and compositions and methods of pharmaceutical use thereof |
JPH04297466A (ja) | 1990-06-22 | 1992-10-21 | Nippon Shinyaku Co Ltd | テトラゾール誘導体及び医薬 |
US5284954A (en) | 1990-09-10 | 1994-02-08 | Abbott Laboratories | Process for the preparation of tetrazoles |
JP3214856B2 (ja) | 1990-12-14 | 2001-10-02 | スミスクライン・ビーチャム・コーポレイション | イミダゾリル−アルケン酸 |
SI9210098B (sl) | 1991-02-06 | 2000-06-30 | Dr. Karl Thomae | Benzimidazoli, zdravila, ki te spojine vsebujejo, in postopek za njihovo pripravo |
US5594003A (en) | 1991-02-06 | 1997-01-14 | Dr. Karl Thomae Gmbh | Tetrahydroimidazo[1,2-a]pyridin-2-yl-(benzimidazol-1-yl)-methyl-biphenyls useful as angiotensin-II antagonists |
US5602127A (en) | 1991-02-06 | 1997-02-11 | Karl Thomae Gmbh | (Alkanesultam-1-yl)-benzimidazol-1-yl)-1yl)-methyl-biphenyls useful as angiotensin-II antagonists |
US5591762A (en) | 1991-02-06 | 1997-01-07 | Dr. Karl Thomae Gmbh | Benzimidazoles useful as angiotensin-11 antagonists |
CA2229000C (en) | 1991-02-21 | 2002-04-09 | Sankyo Company, Limited | 1-biphenylimidazole derivatives, their preparation and their therapeutic use |
JP2524842Y2 (ja) | 1991-02-28 | 1997-02-05 | 三菱重工業株式会社 | 原紙供給装置 |
US5447949A (en) | 1991-05-15 | 1995-09-05 | Smithkline Beecham Corporation | N-(heteroaryl) imidazolyl-alkenoic acids having angiotension II receptor antagonist activity |
AU2494792A (en) | 1991-08-19 | 1993-03-16 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Angiotensin ii receptor blocking imidazolinone derivatives |
ATE144501T1 (de) | 1991-08-22 | 1996-11-15 | Warner Lambert Co | Tetrazolamide als acat inhibitoren |
EP0550313A1 (fr) | 1991-12-30 | 1993-07-07 | Synthelabo | Nouveaux dérivés de 2-(tétrazol-5-yl)-(1,1'-biphényle), leur préparation et leur utilisation comme intermédiaires de synthèse |
AU3440693A (en) | 1992-01-17 | 1993-08-03 | Syntex (U.S.A.) Inc. | Substituted 1-isoquinolone derivatives as angiotensin II antagonists |
DE4206045A1 (de) | 1992-02-27 | 1993-09-02 | Bayer Ag | Sulfonylbenzyl substituierte pyridone |
US5484955A (en) | 1992-07-06 | 1996-01-16 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Tri-higher alkyl tin azide and its use |
JPH06107658A (ja) | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Kanebo Ltd | 新規なピラジン誘導体 |
US5256658A (en) | 1993-01-15 | 1993-10-26 | Ortho Pharmaceutical Corporation | Angiotensin II inhibitors |
US5502191A (en) | 1993-07-01 | 1996-03-26 | American Cyanamid Company | Method of synthesizing sterically hindered 5-substituted-1H-tetrazoles from nitriles using a lewis acid and an azide |
WO1995017396A1 (en) | 1993-12-23 | 1995-06-29 | Merck & Co., Inc. | Polymorphs of losartan and the process for the preparation of form ii of losartan |
ES2120185T3 (es) | 1994-03-25 | 1998-10-16 | Merrell Pharma Inc | Procedimiento para preparar (1h-tetrazol-5-il)tetrazolo(1,5-a)quinolinas y naftiridinas. |
ES2119377T3 (es) | 1994-03-28 | 1998-10-01 | Pfizer | Derivados bencisotiazoles inhibidores de la biosintesis de la 5-lipoxigenasa. |
US5541209A (en) | 1994-08-22 | 1996-07-30 | Bristol-Myers Squibb Company | Method of treating or preventing cardiac arrhythmia employing an N-substituted heterocyclic derivative |
JPH08325248A (ja) | 1995-05-26 | 1996-12-10 | Chugoku Kayaku Kk | テトラゾール類の新規な合成試薬及びそれを用いたテトラゾール類の製造方法 |
JP3671266B2 (ja) | 1996-03-21 | 2005-07-13 | 東洋化成工業株式会社 | 5−置換テトラゾール類の製造方法 |
JPH10218868A (ja) | 1997-02-12 | 1998-08-18 | Toyo Kasei Kogyo Co Ltd | 5ーメチルテトラゾールの製造方法 |
JP4450881B2 (ja) | 1998-12-28 | 2010-04-14 | 株式会社日本ファインケム | 5,5’−ビ−1h−テトラゾール塩の製造方法 |
JP2000281662A (ja) | 1999-03-31 | 2000-10-10 | Masuda Kagaku Kogyo Kk | テトラゾール類の製造方法 |
DE19935219A1 (de) * | 1999-07-27 | 2001-02-01 | Boehringer Ingelheim Pharma | Carbonsäureamide, diese Verbindungen enthaltende Arzneimittel, deren Verwendung und Herstellung |
US20040072886A1 (en) * | 2002-04-15 | 2004-04-15 | Dr. Reddy's Laboratories Limited | Novel crystalline forms of (S)-N- (1-Carboxy-2-methyl-prop-1-yl) -N-pentanoyl-N- [2' -(1H-tetrazol-5-yl)- biphenyl-4-yl methyl] amine (Valsartan) |
GB0222056D0 (en) * | 2002-09-23 | 2002-10-30 | Novartis Ag | Process for the manufacture of organic compounds |
US6934312B2 (en) * | 2002-09-30 | 2005-08-23 | Agilent Technologies, Inc. | System and method for fabricating efficient semiconductor lasers via use of precursors having a direct bond between a group III atom and a nitrogen atom |
GB0316546D0 (en) * | 2003-07-15 | 2003-08-20 | Novartis Ag | Process for the manufacture of organic compounds |
DK1660463T3 (da) * | 2003-08-08 | 2008-04-14 | Dipharma Francis Srl | Fremgangsmåde til fremstilling af phenyltetrazolderivater |
WO2005090644A2 (en) | 2004-03-17 | 2005-09-29 | Kennecott Utah Copper Corporation | Wireless electrolytic cell monitoring powered by ultra low bus voltage |
-
2003
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2012
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- 2012-11-19 RU RU2012149012/04A patent/RU2012149012A/ru unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04235149A (ja) * | 1990-02-19 | 1992-08-24 | Ciba Geigy Ag | アシル化合物 |
JPH05255326A (ja) * | 1992-02-11 | 1993-10-05 | Dr Karl Thomae Gmbh | イミダゾ[1,2−aピリジン、これらの化合物を含む医薬組成物及びそれらの調製法 |
JPH0673028A (ja) * | 1992-07-06 | 1994-03-15 | Takeda Chem Ind Ltd | トリ高級アルキルスズアジドおよびその用途 |
WO2001023442A1 (en) * | 1999-09-27 | 2001-04-05 | The Dow Chemical Company | Supported catalyst comprising expanded anions |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013508436A (ja) * | 2009-10-27 | 2013-03-07 | ノバルティス アーゲー | 有機化合物の製造方法 |
WO2011061996A1 (ja) * | 2009-11-17 | 2011-05-26 | 田辺三菱製薬株式会社 | ビフェニル誘導体の製法 |
JPWO2011061996A1 (ja) * | 2009-11-17 | 2013-04-04 | 田辺三菱製薬株式会社 | ビフェニル誘導体の製法 |
US8530506B2 (en) | 2009-11-17 | 2013-09-10 | Mitsubishi Tanabe Pharma Corporation | Process for production of biphenyl derivative |
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JP4787498B2 (ja) | バルサルタンの製造方法 | |
Melnikova et al. | Non-catalyzed addition of heterocyclic thiols and 5-substituted-1H-tetrazoles to vinyl ethers | |
US20080200687A1 (en) | Preparation of Terazole Derivatives | |
AU2007234598B2 (en) | Process for the manufacture of Valsartan |
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