JP5052132B2 - 有機ホウ素および有機アルミニウムアジドからのテトラゾール誘導体の調製のための方法 - Google Patents

有機ホウ素および有機アルミニウムアジドからのテトラゾール誘導体の調製のための方法 Download PDF

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Description

発明の詳細な説明
本発明は置換テトラゾールを調製するための方法、この方法に従って得られた化合物、新しい反応物質および新しいテトラゾール誘導体に関する。
テトラゾールは例えば医薬用または農業用組成物、起泡剤、自動車用インフレーター等の構造エレメントである。特に、今日例えば高血圧およびうっ血性心不全の処置のために用いることができるアンギオテンシン受容体遮断薬(ARB)とも称されるいわゆるアンギオテンシンII受容体アンタゴニストのクラスに言及される。たいていの該ARBは構造エレメントとして5−テトラゾール基を含む。
種々のニトリルを有機アジドと反応させることにより比較的良好な収率でテトラゾール誘導体を調製することができることは当技術分野で公知である。代表的な対応するアジドは例えばいくらかの毒性プロファイルを有する有機スズアジドである。これらは生成過程において特別な注意を伴って取り扱いされるべきであり、環境問題を引き起こし、そして廃水からそれらをリサイクルするために相当量のさらなる処理作業を必要とし、それにより生成コストがさらに増加する。トリアルキルアンモニウムアジドまたはテトラアルキルアンモニウムアジドを用いるテトラゾール形成方法は、爆発の危険性を有し、そしてしたがって大規模な生成で取り扱うのが容易でない高温で、反応装置内で揮発性昇華物を形成し得る。
前記した不利を避ける変法、新しい試薬および中間物質を開発するための強い必要性がある。特に対応する有機スズアジドを、十分に高い収率でテトラゾールを生成するのに現実的な代替である代用薬と置き換えるために多くの努力が為されている。
驚くべきことに有機ホウ素アジドおよび有機アルミニウムアジドを対応する有機スズ化合物の代替として用いることができることが見出されている。該ホウ素およびアルミニウム化合物、特に重合体工業のために生成される対応するアルミニウム化合物(例えばZiegler-Natta触媒)はかなり大規模に利用可能であり、そして比較的安価である。驚くべきことに、本発明に従って用いられるこれらの有機アジドを用いる場合、テトラゾールの高収率を達成することができるということが解っている。さらに対応するホウ素およびアルミニウムアジドは毒性でないことが知られているので、廃水をリサイクルする場合にその使用は特別な注意を必要とせず、そしてさらにジアルキル金属アジドを低コストおよび穏やかな条件で大規模に生成することができる。対応するジアルキルホウ素およびジアルキルアルミニウムアジドはこれらの利点を有するが、テトラゾールを形成するためにニトリルと共に[2+3]付加環化に用いられることは文献には記載されていない。文献から公知であることは、例えばジオルガニルアルミニウムアジドを用いてエポキシドを開環し、そしてエステルからアシルアジドを形成することもできるということである。しかしながらニトリルでテトラゾールを形成するためのジオルガニルホウ素またはジオルガニルアルミニウムアジドの各々の使用は、十分に驚くべきことである。
本発明は、特にテトラゾール誘導体の製造のために以下に定義するような有機ホウ素および有機アルミニウムアジドの使用に関する。
本発明は、
(i)式R−CN(IIa)の化合物を式(R)(R)M−N(IIb)(ここでRは前記で定義した意味を有し;RおよびRは互いに別個に脂肪族残基、脂環式残基、ヘテロ脂環式残基;脂環式−脂肪族残基;ヘテロ脂環式−脂肪族残基;炭素環式または複素環式芳香族残基;芳香脂肪族残基またはヘテロ芳香脂肪族残基のような有機残基を表し、各々の残基は互いに別個に非置換または置換されており;そしてMはホウ素またはアルミニウムである)のアジドと反応させること;および
(ii)得られた式(I)の化合物を単離すること;
を含む
式:
Figure 0005052132
(I)
のテトラゾールまたはその互変異性体もしくは塩(式中、Rは有機残基を表す)の製造のための方法に関する。
式(I)の化合物の互変異性体は式
Figure 0005052132
(I’)
の化合物である。
式(I)または(I’)の化合物の塩は、式(I)または(I’)の化合物が例えば少なくとも1つの塩基性中心を有する場合、酸付加塩にすることができる。これは例えば強い無機酸と、強いカルボン酸と、または有機スルホン酸とで形成される。所望により、任意の別に存在する塩基性中心で対応する酸付加塩を形成することもできる。式(I)または(I’)の化合物が少なくとも1つの酸基(例えばCOOHまたは5−テトラゾリル)を有する場合、塩基との塩を形成することができる。塩基との適当な塩は、例えば金属塩、またはアンモニアもしくは有機アミンとの塩である。さらに対応する分子内塩を形成し得る。
前記および後記で用いる対応する残基の一般的な定義は、後記で特記しない場合、以下の意味を有する:
有機残基(an organic residue)、例えば;脂肪族残基(an aliphatic residue)、脂環式残基(an alicyclic residue)、ヘテロ脂環式残基(a heteroalicyclic residue);脂環式−脂肪族残基(an alicyclic-aliphatic residue);ヘテロ脂環式−脂肪族残基(a heteroalicyclic-aliphatic residue);炭素環式または複素環式芳香族残基(a carbocyclic or a heterocyclic aromatic residue);芳香脂肪族残基(an araliphatic residue)またはヘテロ芳香脂肪族残基(an heteroaraliphatic residue)であり、各々の残基は互いに別個に非置換であるか、または置換されている。
脂肪族残基は、例えばアルキル、アルケニルまたは二次的なアルキニルであり、その各々はNH、置換NH、O、またはSにより中断され得て;そしてその各々は非置換であるか、または置換、例えば一、二または三置換され得る。
アルキルは、例えばC−C20−アルキル、特にC−C10−アルキルである。C−C−アルキルは好ましくは、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチルまたはtert−ブチルである。
アルケニルは、例えばC−C20−アルケニル、特にC−C10−アルケニルである。好ましくはC−C−アルケニル;例えば2−プロペニルまたは2−もしくは3−ブテニルである。アルケニルは同様にC−C20−アルケニル、特にC−C10−アルケニルである。好ましくはC−C−アルケニルである。
アルキニルは、例えばC−C20アルキニル、特にC−C10アルキニルである。好ましくはプロパルギルのようなC−Cアルキニルである。アルキニルは同様にC−C20アルキニル、特にC−C10アルキニルである。好ましくはC−Cアルキニルである。
NH、置換NH、O、またはSにより中断され得るアルキル、アルケニルまたはアルキニルは特にC−C20−アルコキシ−C−C20−アルキル、−C−C20−アルケニルもしくは−C−C20−アルキニル、またはC−C20−アルケニルオキシ−C−C20−アルキル、−C−C20−アルケニルもしくは−C−C20−アルキニル、例えばC−C10−アルコキシ−C−C10−アルキル、−C−C10−アルケニルもしくは−C−C10−アルキニル、またはC−C10−アルケニルオキシ−C−C10−アルキル、−C−C10−アルケニルもしくは−C−C10−アルキニルである。好ましくはC−C−アルコキシ−C−C−アルキル、−C−C−アルケニルもしくは−C−C−アルキニル、またはC−C−アルケニルオキシ−C−C−アルキル、−C−C−アルケニルもしくは−C−C−アルキニルである。
置換NHは、例えばメチル、エチルもしくはプロピルのようなC−C−アルキル、ベンジルもしくは2−フェネチルのようなフェニル−C−C−アルキルにより、またはC−C−アルキル−アルカノイル、フェニル−C−C−アルカノイル、ベンゾイル、C−C−アルカンスルホニルもしくはベンゼンスルホニルのようなアシルにより置換されたNHである。
脂環式残基は、例えば単、二または多環式である。好ましくはシクロアルキルおよび2次的なシクロアルケニルであり、その各々はまた置換され得る。
シクロアルキルは、特にC−Cシクロアルキルである。好ましくはシクロペンチルおよびシクロヘキシルである。
シクロアルケニルは特にC−Cシクロアルケニルであり、そして好ましくはシクロペント−2−および−3−エニル、またはシクロヘキセ−2−および−3−エン−イルである。
ヘテロ脂環式残基は、例えば少なくとも1つの炭素原子がテロ原子、例えばNH、置換NH、O、またはSにより置換されている脂環式残基であり、その各々もまた置換され得る。
脂環式脂肪族残基は、例えばシクロアルキルにより、またはシクロアルケニルにより置換されたアルキル、アルケニルまたはアルキニルである。好ましくはC−C−アルキル、C−C−アルケニルまたはC−C−アルキニルであり、その各々はC−C−シクロアルキルにより、またはC−C−シクロアルケニルにより、特にシクロプロピルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、またはシクロヘキセニル−メチルにより置換されている。
複素環式脂肪族残基は、例えばC−C−アルキル、C−C−アルケニルまたはC−C−アルキニルであり、その各々はC−Cシクロアルキルにより、またはC−C−シクロアルケニルにより置換されており、ここでC−CシクロアルキルまたはC−C−シクロアルケニルの炭素原子は各々NH、置換NH、O、またはS、特にピペリジノ−メチルまたは−エチルにより置換されている。
炭素環式芳香族残基は、例えば単環式もしくは(二環式のような)多環式、またはフェニル、ナフチル、またビフェニルのようなベンゾアネル化(benzoanellated)化炭素環式残基であり、その各々はまた置換され得る。
複素環式芳香族残基は、例えば4個までの同一のまたは異なる窒素、酸素または硫黄原子のようなヘテロ原子、好ましくは1、2、3または4個の窒素原子、酸素原子または硫黄原子を有する5−または6員および単環式ラジカルであり、その各々はまた置換され得る。適切な5−員ヘテロアリールラジカルは、例えばピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、フリルおよびチエニルのようなモノアザ、ジアザ、トリアザ、テトラアザ、モノオキサまたはモノチア環状アリールラジカルであるが、適当な適切な6員ラジカルは特にピリジルである。
芳香脂肪族残基は、例えばC−C−アルキル、C−C−アルケニルまたはC−C−アルキニルであり、その各々はフェニルにより、またはナフチルにより、特にベンジル、2−フェネチルまたは2−フェニル−エテニルにより置換される。
ヘテロ芳香脂肪族残基は、例えばC−C−アルキル、C−C−アルケニルまたはC−C−アルキニルであり、その各々はピラゾリル、イミダゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、フリル、チエニルまたはピリジル、特にピリジルメチルにより置換される。
アルキル、アルケニル、またはアルキニルはまた、例えば脂環式残基、ヘテロ脂環式残基;炭素環式および複素環式芳香族残基;からなる群から選択される置換基により置換され得て、各々の残基は互いに別個に非置換であるかまたは例えばハロゲン、アミノ、置換アミノ、メルカプト、置換メルカプト、ヒドロキシル、エーテル化ヒドロキシル、カルボキシ、およびアミド化カルボキシからなる群から選択される1つまたはそれより多い、例えば2または3個の置換基により置換される。
脂環式またはヘテロ脂環式残基はまた、例えば、例えば脂肪族残基、脂環式残基、ヘテロ脂環式残基;炭素環式および複素環式芳香族残基からなる群から選択される1つまたはそれより多い、例えば2または3個の置換基により置換され得て;各々の残基は互いに別個に非置換であるか、または例えばハロゲン;アミノ、置換アミノ、メルカプト、置換メルカプト、ヒドロキシル、エーテル化ヒドロキシル、カルボキシ、およびアミド化カルボキシからなる群から選択される1つまたはそれより多い、例えば2または3個の置換基により置換される。
脂環式−脂肪族残基、ヘテロ脂環式−脂肪族残基、芳香脂肪族残基またはヘテロ芳香脂肪族残基、各々の残基は(例えば脂環式および脂肪族の双方の部分で)互いに別個に非置換であるか、または双方の構造エレメントにおいて、例えば脂肪族残基、脂環式残基、ヘテロ脂環式残基;脂環式−脂肪族残基;ヘテロ脂環式−脂肪族残基;炭素環式芳香族残基、複素環式芳香族残基;芳香脂肪族残基;ヘテロ芳香脂肪族残基、ハロゲン;アミノ、置換アミノ、メルカプト、置換メルカプト、ヒドロキシル、エーテル化ヒドロキシル、カルボキシ、およびアミド化カルボキシからなる群から選択される1つまたはそれより多い、例えば2または3個の置換基により置換される。
炭素環式または複素環式芳香族残基はまた例えば、例えば脂肪族残基、脂環式残基、ヘテロ脂環式残基;炭素環式および複素環式芳香族残基からなる群から選択される1つまたはそれより多い、例えば2または3個の置換基により置換され得て;各々の残基は互いに別個に、非置換であるか、またはハロゲン;アミノ、置換アミノ、メルカプト、置換メルカプト、ヒドロキシル、エーテル化ヒドロキシル、カルボキシ、およびアミド化カルボキシからなる群から選択される1つまたはそれより多い、例えば2または3個の置換基により置換される。
脂肪族残基、脂環式残基、ヘテロ脂環式残基;脂環式−脂肪族残基;ヘテロ脂環式−脂肪族残基;炭素環式または複素環式芳香族残基;芳香脂肪族残基またはヘテロ芳香脂肪族残基の置換基は同様にアセタール化ホルミルでよい。
ハロゲンは特にフッ素、塩素、臭素およびヨウ素のような原子番号が53を超えないハロゲンである。
置換メルカプトは、例えば脂肪族残基、脂環式残基、ヘテロ脂環式残基;脂環式−脂肪族残基;ヘテロ脂環式−脂肪族残基;炭素環式または複素環式芳香族残基;芳香脂肪族残基またはヘテロ芳香脂肪族残基により置換され、各々の残基は互いに別個に非置換であるか、またはハロゲン;アミノ、置換アミノ、メルカプト、置換メルカプト、ヒドロキシル、エーテル化ヒドロキシル、カルボキシ、およびアミド化カルボキシからなる群から選択される1つまたはそれより多い、例えば2または3個の置換基により置換される。
エーテル化ヒドロキシは、例えば脂肪族、脂環式、ヘテロ脂環式、芳香脂肪族、ヘテロアリール−脂肪族、炭素環式芳香族またはヘテロ芳香族アルコールによりエーテル化されたヒドロキシであり、その各々はまた置換され得る。
エステル化カルボキシは、例えばアルキル、フェニル−アルキル、アルケニルおよび2次的なアルキニルのような脂肪族または芳香脂肪族炭化水素ラジカルから誘導されたアルコールによりエステル化されたカルボキシであり、そしてこれはアルコキシ−アルキル、−アルケニルおよび−アルキニルのような−O−により中断され得る。言及され得る実例はC−Cアルコキシ−、フェニル−C−Cアルコキシ−、C−Cアルケニルオキシ−およびC−Cアルコキシ−C−Cアルコキシ−カルボニルである。
アミド化カルボキシルは、例えばアミノ基が非置換もしくは一置換されているか、または互いに別個に脂肪族もしくは芳香脂肪族炭化水素ラジカルにより二置換されているか、またはOにより中断され得るかもしくは2個の隣接する炭素原子でベンゼン環、特にアルキレンもしくは低級アルキレンオキシ−アルキレンと縮合され得る2価の脂肪族炭化水素ラジカルにより二置換されているカルバモイルである。言及され得る適切に置換されたアミノ基の実例は、C−Cアルキル−、C−Cアルケニル−、C−Cアルキニル−、フェニル−C−Cアルキル−、フェニル−C−Cアルケニル−、フェニル−C−Cアルキニル-、ジ−C−Cアルキル−、N−C−Cアルキル−N−フェニル−C−Cアルキル−およびジフェニル−C−Cアルキルアミノならびにまたキノール−1−イル、イソキノール−2−イル、C−Cアルキレン−およびC−Cアルキレンオキシ−C−Cアルキレン−アミノである。
アルキレンは、例えば、C−C10アルキレン、特にC−Cアルキレン、例えばメチレン、エチレン、または1,5−ペンチレンである。対応するアルキレンはまた分岐していてもよい。
置換アミノは置換カルバモイルに関連して示された意味を有し、そしてさらにC−C−アルカノイル−、フェニル−C−C−アルカノイル−、ベンゾイル−、C−C−アルカンスルホニル−またはベンゼンスルホニルアミノのようなアシルアミノである。
アセタール化ホルミルは、例えばジ−アルコキシメチルまたはオキシ−アルキレンオキシメチレンである。最も好ましくは、オキシ−2,3−ブチレン−オキシ−メチレンまたはオキシ−2,3−ジ−メチル−2,3−ブチレン−オキシ−メチレンのような、アルキレン基が分岐している、分岐したオキシ−アルキレン−オキシ−メチレンである。
アルカノイルは、例えばC−C10アルカノイルであり、そして特にアセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリルまたはピバロイルのようなC−Cアルカノイルである。C−Cアルカノイルが好ましい。
ハロアルキルスルファモイルは特にハロ−C−C10アルカンスルファモイルであり、そして特にC−Cアルカンスルファモイル、例えばトリフルオロメタン−、ジフルオロメタン−、1,1,2−トリフルオロエタン−またはヘプタフルオロプロパンスルファモイルである。ハロ−C−Cアルカンスルファモイルが好ましい。
ピロリルは、例えば2−または3−ピロリルである。ピラゾリルは3−または4−ピラゾリルである。イミダゾリルは2−または4−イミダゾリルである。トリアゾリルは、例えば1,3,5−1H−トリアゾール−2−イルまたは1,3,4−トリアゾール−2−イルである。テトラゾリルは、例えば1,2,3,4−テトラゾール−5−イルであり、フリルは2−または3−フリルであり、そしてチエニルは2−または3−チエニルであるが、適当なピリジルは2−、3−もしくは4−ピリジルまたは対応するN−オキシド−ピリジルである。
アルコキシは、例えばC−C20アルコキシ、特にC−C10アルコキシである。好ましくはC−Cアルコキシ、最も好ましくはメトキシ、エトキシ、n−プロピルオキシまたはtert−ブチルオキシのようなC−Cアルコキシである。
前記および後記するような残基の置換基は、好ましくは反応物質と干渉するこれらの置換基を含むべきではない。
好ましいRはその各々が非置換であるか、またはハロゲン、C−Cアルキル、C−Cアルコキシ、ヒドロキシル、ヒドロキシル−C−Cアルキル、CFのようなハロ−C−Cアルキル、ホルミル、ジ−C−Cアルコキシ−メチル、およびC−Cアルキレン−メチルからなる群から選択される置換基により置換されたフェニルまたはピリジル;C−Cシクロアルキル;C−Cシクロアルケニル;非置換であるか、またはハロゲン、C−Cアルキル、C−Cアルコキシ、ヒドロキシル、ヒドロキシル−C−Cアルキル、CFのようなハロ−C−Cアルキル、ホルミル、ジ−C−Cアルコキシ−メチル、およびC−Cアルキレン−メチルからなる群から選択される置換基により置換されたビフェニリル、例えば4'−C−Cアルキル−ビフェニル−2−イル、4’−ヒドロキシ−C−Cアルキル−ビフェニル−2−イル、4’−ハロ−C−Cアルキル−ビフェニル−2−イル、4’−ホルミル−ビフェニル−2イル、4−ジ−ジ−C−Cアルコキシ−メチル、またはC−Cアルキレン−メチル;非置換であるか、またはハロゲン、フェニルからなる群から選択される置換基により置換されたC−Cアルキル;フェニルスルホニル、フェニルスルフィニル、およびフェニルメルカプト(フェニルは非置換であるか、またはハロゲン、C−Cアルキル、C−Cアルコキシ、ヒドロキシル、ヒドロキシル−C−Cアルキル、およびCFのようなハロ−C−Cアルキルからなる群から選択される置換基により置換さている);カルボキシ、およびN−フェニル−N−C−Cアルキル−アミノ(フェニルは各々の場合で非置換であるか、またはハロゲン、C−Cアルキル、C−Cアルコキシ、ヒドロキシル、ヒドロキシル−C−Cアルキル、およびCFのようなハロ−C−Cアルキルからなる群から選択される置換基により置換されている);ならびに非置換であるか、またはハロゲン、フェニルからなる群から選択される置換基により置換されたC−Cアルケニル;カルボキシ、およびN−フェニル−N−C1−C7アルキル−アミノ(フェニルはハロゲン、C−Cアルキル、C−Cアルコキシ、ヒドロキシル、ヒドロキシル−C−Cアルキル、およびCFのようなハロ−C−Cアルキルからなる群から選択される置換基により置換される)からなる群から選択される。
特に好ましいRは2−、4−クロロフェニル、2−フルオロフェニルのようなハロフェニル;2−ヒドロキシフェニルのようなヒドロキシフェニル;2−CF−フェニルのようなCF−フェニル;2−クロロ−5−ピリジルのようなハロ−ピリジル;2−ヒドロキシ−5−ピリジルのようなヒドロキシピリジル;C−C-アルキル、ハロ−C−C−アルキル、ヒドロキシル−C−C−アルキル、またはホルミルにより置換されたビフェニル;フェニル−C−C−アルケニル;4’−メチル−ビフェニル−2−イル、4’−ブロモメチル−ビフェニル−2−イル、4’−ホルミル−ビフェニル−2−イル、または4−ヒドロキシメチル−ビフェニル−2−イルのような1−カルボキシ−2−フェニル−C−C−アルケニル;カルボキシ−C−C−アルキル、例えばカルボキシ−メチル;フェニルスルホニル−メチルのようなフェニルスルホニル−C−C−アルキル;フェニルメルカプトメチルのようなフェニルメルカプト−C−C−アルキル;シクロプロピルまたはシクロブチルのようなC−C−シクロアルキル;1−シクロヘキセニルのようなC−C−シクロアルケニル;および2−(N−フェニル−N’−メチル−アミノ)−メチルのようなN−フェニル−N'−C−C−アルキル−アミノ−C−C−アルキルからなる群から選択される。
前記および後記で記載する変法における反応は、例えば適当な溶媒もしくは希釈剤またはその混合物の不在下で、または通例存在下で実施し、反応は必要に応じて冷却して、室温で、または加温して、例えば約−80℃から反応溶媒の沸点までの範囲の温度で、好ましくは約−10℃から約+200℃までで、そして必要により密閉容器内で、加圧下で、不活性ガス雰囲気下で、および/または無水条件下で実施する。
好ましくは式(IIa)の化合物を用い、ここで可変基Rは反応の間、式(IIb)の化合物と干渉しない。
式(IIa)の化合物は、好ましくはRが前記で定義される対応する化合物である。
式(R)(R)M−N(IIb)の好ましいアジドは、Mがアルミニウムまたはホウ素であり、RおよびRは互いに別個にメチル、エチル、プロピル、ジイソブチル、tert−ブチルまたはn−オクチルのようなC−C−アルキル;アリルまたはクロチルのようなC−Cアルケニル、シクロヘキシルのようなC−C−シクロアルキル;ベンジルまたは2−フェネチルのようなフェニル−C−C−アルキル;シンナミルのようなフェニル−C−Cアルケニル、またはシクロプロピルメチルもしくはシクロヘキシルメチルのようなC−C−シクロアルキル−C−C−アルキルである対応する化合物である。同様にRおよびRは互いに別個にフェニル−C−Cアルケニルである。
特に好ましいアジドは実施例に記載されるようなものである。
式(IIb)のアジドおよび式(IIa)のニトリルのモル比は5から1、好ましくは3から1、最も好ましくは1.8から1または1.2から1の範囲である。
出発材料または中間物質と反応できないことを意味する不活性溶媒、希釈剤またはその混合物を選択すべきである。適当な溶媒は、例えばC−C10−アルカン、例えばヘプタン、シクロヘキサンのようなシクロアルカンのような脂肪族、脂環式および芳香族炭化水素;およびメチル−シクロヘキサンまたは1,3−ジメチル−シクロヘキサンのようなアルキル化C−Cシクロアルカン、エチルベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、またはメシチレンのようなアルキル化ベンゼン;クロロベンゼン、o−、m−またはp−クロロトルエン、ジクロロベンゼン、および例えばC−CアルキルまたはC−Cアルコキシによりさらに置換され得るトリフルオロメチルベンゼンのようなハロゲン化芳香族溶媒;ならびにハロゲン化炭化水素、例えばクロロベンゼンのようなハロゲン化芳香族化合物からなる群から選択される。さらなる溶媒はテトラヒドロフランのようなエーテルでよい。さらに、適当な溶媒、希釈剤またはその混合物は反応条件下で用いるのに十分に高い沸点を有しているべきである。
好ましい溶媒または希釈剤は脂肪族炭化水素、例えばヘプタンもしくn−オクタンのようなC−Cアルカン;芳香族炭化水素、例えばトルエンもしくキシレンのようなC−Cアルキルにより置換されたフェニルまたはその混合物である。
反応温度は室温から溶媒、希釈剤またはその混合物の沸点までの範囲の温度であるのが好ましく、例えば反応温度範囲は反応物質の反応性および組合せに依存して、約20℃から約170℃、好ましくは約60℃から約130℃または約140℃までである。当業者が対応する適当な溶媒および希釈剤系、ならびに溶媒系および反応物質の選択に適合した反応条件を選択することは十分に可能である。
最も好ましくは反応を無水条件下で実施する。
本発明の好ましい実施形態では、本発明を80℃から120℃、好ましくは90℃と110℃との間で実施する。
所望によりまたは必要により後処理した後、特に抽出による後、得られた化合物を反応混合物から結晶化することにより、または反応混合物のクロマトグラフィーによるような、得られた式(I)、(IV)、(IVc)、(V)、(VI)、(VII)、または(VII')の化合物、またはその互変異性体もしくは塩を反応混合物から各々結晶化することにより、または反応混合物のクロマトグラフィーによるような従来の単離方法に従って単離工程を実施する。この局面ではまた実施例をも参照する。
式(IIa)の化合物は公知であるか、または当分野において公知の方法を用いて調製することができる。
Rが炭素環式または複素環式残基を表す式(IIa)の化合物が好ましい。
本発明は同様に式(IIb)の化合物に関する。式(IIb)の好ましい化合物は、RおよびRが互いに別個にC−C10アルキル、C−Cアルケニル、C−C−シクロアルキル、アルキル化C−C−シクロアルキルまたはアラ−C−Cアルキル、特にメチル、エチル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、オクチル、アリル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチル−シクロヘキシル、またはベンジルであるものである。
例えば式(R)(R)M−X(IIc)(ここでMはアルミニウムまたはホウ素であり、RおよびRは前記で定義した意味を有し、そしてXは離脱基、例えばフッ化物、塩化物、臭化物、もしくはヨウ化物のようなハロゲン;またはスルホン酸アルカン、例えばメタンスルホン酸のようなスルホナート;ハロゲン化スルホン酸アルカン、例えばトリフルオロメタンスルホン酸、芳香族スルホナート、例えばトシラートである)の化合物をアジド、好ましくはリチウム、ナトリウムまたはカリウムアジドのようなアルカリ金属アジドと反応させることにより式(IIb)のアジドを調製することができる。
特に不活性溶媒もしくは希釈剤またはその混合物の存在下、0℃から120℃の温度範囲で式(IIb)のアジドの形成を実施する。最も好ましくは反応を無水条件下で実施する。
好ましいアジドは式(IIb)(式中、RおよびRは互いに別個にエチル、イソプロピル、n−プロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチルもしくはn−オクチルのようなC−C−アルキル、C−C−シクロアルキル、C−C−シクロアルキル−C−C−アルキルまたはベンジルもしくは2フェネチルのようなアリール−C−C−アルキルを表し;そしてMはホウ素またはアルミニウムである)の化合物を含む。対応する典型例はジメチルアルミニウムアジド、ジエチルアルミニウムアジド、ジイソプロピルアルミニウムアジド、ジプロピルアルミニウムアジド、ジイソブチルアルミニウムアジド、ジブチルアルミニウムアジド、ジシクロヘキシルアルミニウムアジド、ジエチルホウ素アジド、ジイソプロピルホウ素アジド、ジプロピルホウ素アジド、ジイソブチルホウ素アジド、ジブチルホウ素アジドまたはジシクロヘキシルホウ素アジド、さらにジフェニルホウ素アジドのようなジアリールホウ素アジドである。
置換基の種類に依存して、反応性置換基はまたアジドとも反応し得る可能性がある。例えば芳香族ヒドロキシ基またはベンジル型ヒドロキシル基は式(IIb)のアジドと反応し得るが、金属により、または有機金属基によりマスクされた得られたヒドロキシ官能基は例えば酸で分裂して、式(I)の化合物を得ることができ;したがって、この状況では高量の式(IIa)の化合物を用いる必要がある。エステル基は式(IIb)の化合物とアシル−アジドを形成し得るが、エポキシ環構造は式(IIb)の化合物で開環し得る。しかしながら特定の反応性置換基がシアノ官能基の代わりにアジドと反応し得るので、当業者はこれらの置換基を有する出発化合物を用いることができないことを直接予測することができるか、または当業者は、対応する副反応が認識される場合、対応する反応基を保護し、そして後で従来のそれ自体公知の方法を用いて対応する保護基を切り離す。
本発明の方法は同様に式(IIa)および(IIb)の化合物の反応性置換基を保護し、そしてテトラゾール環を形成した後、従来のそれ自体公知の方法を用いることにより、例えば官能基を保護および脱保護することに詳しい関連する分野の技術者により、対応する(複数の)保護基を切り離すことを含む。
本発明の好ましい実施形態では、式(IIa)の化合物と式(IIb)の化合物との反応の前に、式(IIa)(ここでRは式(IIb)の試薬に対して保護することができる反応基を含む)の化合物を保護することができる。次いで得られた保護された化合物を本明細書で記載するように式(IIb)の化合物と反応させ、そして得られた化合物から保護基を切り離し、式(I)の化合物またはその互変異性体が得られる。この原理を同様に式(IV)、(V)、(VI)の化合物の製造に各々適用することができる。
この変法の好ましい実施形態では、芳香族例えばフェノール型またはベンジル型OH基のようなOH基を各々マスクするか、または保護するかのいずれかを行うことができる。 対応するOH基を例えば式(IId)M’(R(式中、M’は元素周期表の1a族、2a族、3a族および4族の適当な元素、特にLi、Na、K、Mg、Ca、B、AlおよびSiからなる群から選択される元素を表し;Rは互いに別個に水素、ハロゲン、例えば塩素または臭素のような離脱基、NH、C−C−アルキルのようなアルキル、C−C−シクロアルキル、例えばシクロプロピルまたはシクロヘキシルのようなシクロアルキル、フェニルまたは置換フェニルのような炭素環式アリール、フェニル−C−C−アルキル、例えばベンジルまたは1−もしくは2−フェネチルのような炭素環式アリール−アルキル、メトキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ、tert−ブチルオキシ、n−オクチルオキシのようなC−C−アルコキシであり、そして指数「n」は元素M’の価数に相当する)の化合物との処理によりマスクすることができる。Rはハロゲンのような1つの離脱基のみを表し得る。
好ましい式(IId)の化合物はNaH、KH、NaNH、KNH;CaHおよびMgHのような対応するアルカリ金属水素化物またはアミド、対応するアルカリ金属オルガニル、例えばイソブチル−Li、ブチル−Li、イソブチル−Li、tert−ブチル−Li、n−ヘキシル−Li、n−ヘキシル−LiのようなM’−C−C−アルキルを含む。
好ましい式(IId)の化合物はナトリウムまたはカリウムC−C−アルカノラートのような対応するアルカリ金属アルコラートを含む。
好ましい式(IId)の化合物は対応するC−C−アルキル、C−C−シクロアルキル、フェニルもしくはトリメチル−Al、トリエチル−AlのようなBもしくはAlで形成された置換フェニルオルガニル、またはトリメトキシ−B、トリエトキシ−B、トリイソプロピルオキシ−B、トリ−ブチルオキシ−Bおよびトリ−n−ブチルオキシ−BのようなBもしくはAlで形成された対応するC−C−アルコキシオルガニルを含む。
好ましい式(IId)の化合物はトリメチル−Si−クロリド、トリエチル−Si−クロリド、トリベンジル−Si−クロリド、tert−ブチ−ジフェニル−B−クロリド、およびトリフェニル−Si−クロリドのようなSiで形成されたC−C−アルキル、フェニル−C−C−アルキル、C−C−シクロアルキル、フェニルまたは置換フェニルオルガニルの対応するハロゲン化物を含む。
LiHが最も好ましいが、トリメチル−Alおよびトリエチル−Alもまた好ましい。
式(IIa)の化合物の反応基、例えば対応するOH基を例えば適当なOH保護基で保護することもできる。
たいていのアンギオテンシンII受容体アンタゴニストは2つの必須構造エレメント、いわゆる「コアエレメント」および「薬理作用団エレメント」を有する。
対応するアンギオテンシンII受容体アンタゴニストに関する実例を以下の表から選ぶことができる:
Figure 0005052132
アンギオテンシンII受容体アンタゴニストのコア部分は、例えば、前記の表、例えば以下の構造エレメントから誘導されたコアエレメントを含む:
Figure 0005052132
Figure 0005052132
Figure 0005052132
Figure 0005052132
Figure 0005052132
および
Figure 0005052132
アンギオテンシンII受容体アンタゴニストのさらに好ましいコア部分は以下の構造を有している:
Figure 0005052132
対応するアンギオテンシンII受容体アンタゴニストの薬理作用団エレメントは式
Figure 0005052132
(IIIa)
により表されるか、またはその互変異性体である。
式(IIIa)の側鎖の互変異性体は式(IIIb)
Figure 0005052132
(IIIb)
により表される。
同様に本発明は構造特性として式
Figure 0005052132
(IIIa)
により表される式(IIIa)の側鎖を有する該アンギオテンシンII受容体アンタゴニストまたはその互変異性体、特に前記の表で示されるようなアンギオテンシンII受容体アンタゴニストの製造のための方法に関する。
同様に本発明は構造特性として例えば式(IV)
Figure 0005052132
(IV)
のテトラゾール環またはその互変異性体(式中、Rxは前記の表から誘導される関連する「コアエレメント」に相当する構造エレメント、特に
Figure 0005052132
(ロサルタンから誘導、欧州特許第253310号参照);
Figure 0005052132
(イルベサルタンから誘導、欧州特許第454511号参照);
Figure 0005052132
(UR−7247から誘導);
Figure 0005052132
(カンデサルタン−シレキセチルから誘導、欧州特許第459136号);
Figure 0005052132
(カンデサルタンから誘導);および
Figure 0005052132
(バルサルタンから誘導、欧州特許第443983号参照);
Figure 0005052132
(オルメサルタンから誘導、欧州特許第503785号参照)
からなる群から選択される構造エレメント、または各々の場合のその塩を表す)
を有する該アンギオテンシンII受容体アンタゴニストの製造のための方法に関する。
この方法は式 (IVa)
Figure 0005052132
(IVa)
(式中Rxは前記で示した意味を有する)の化合物を式(R)(R)M−N(IIb’)(式中、RおよびRは互いに別個に有機残基を表し、そしてMはアルミニウムまたはホウ素である)の化合物と反応させ、そして得られた式(IV)の化合物を単離することを特徴とする。
好ましいアンギオテンシンII受容体アンタゴニストは式
Figure 0005052132
(IVb)
の化合物またはその互変異性体である。
式(IVb)の化合物の製造のための本発明による好ましい変法は、式(IVc)
Figure 0005052132
(IVc)
の化合物またはそのエステルを式(R)(R)M−N(IIb)(式中、RおよびRは互いに別個に前記で定義したような意味を有し、そしてMは前記で定義したような意味を有する)のアジドと反応させ、そして式(IVb)の化合物を単離することを特徴とする。
式(IVc)の化合物のエステルは、例えば脂肪族、芳香脂肪族、脂環式、脂環式−脂肪族または芳香族アルコールから誘導されるエステルである。好ましくはC−C−アルキルエステルまたはアリール−C−C−アルキルエステル、最も好ましくはそのベンジルエステルである。
本発明の好ましい実施形態は、式(Va)
Figure 0005052132
(Va)
の化合物を式(R)(R)M−N(IIb)(式中RおよびRは互いに別個に有機残基を表し、そしてMはアルミニウムまたはホウ素である)の化合物と反応させること;および得られた式(V)の化合物を単離することを含む、式
Figure 0005052132
(V)
の化合物またはその互変異性体(式中、RyはメチルのようなC−C−アルキル;X’により置換されたC−C−アルキルを表し、そしてX’はハロゲン、スルホニルオキシ、ヒドロキシル、ブロモメチルのような保護されたヒドロキシル、またはホルミルのアセタールである)の製造のための方法である。
ホルミル基のアセタールは、例えばジメトキシ−もしくはジエトキシ−メチルのような対応するジ−C−Cアルコキシメチル、またはメチレンオキシ−エチレンオキシのようなメチレン−オキシ−C−C−アルキレン−オキシである。
同様に本発明は前記の反応に関する。さらに本発明はスズを全く含有しない式(V)の化合物またはその互変異性体もしくは塩に関する。本発明はまた、前記の反応に従って得られれば、いかなるときも式(V)の化合物に関する。
式(V)の化合物の製造のための変法は:
(a)式(VIa)
Figure 0005052132
(VIa)
(式中、Xは離脱基を表す)を最初に求核剤と、そして次に「加溶媒分解性」塩基と処理して式(VIb)
Figure 0005052132
(VIb)
の化合物を得ること;
(b)式(VIb)の化合物を式(R)(R)M−N(IIb)のアジド(式中可変基RおよびRは互いに別個に前記で定義したような意味を有し、そしてMは前記で定義したような意味を有する)と反応させて、式(VIc)
Figure 0005052132
(VIc)
の化合物またはその互変異性体もしくは塩を得ること;
(c)式(VIc)の化合物またはその互変異性体もしくは塩を酸化して、式(VI)
Figure 0005052132
(VI)
の化合物またはその互変異性体もしくは塩を得ること;および
(d)式(VI)またはその互変異性体もしくは塩を単離すること;
を含む式(VI)
Figure 0005052132
(VI)
の化合物またはその互変異性体もしくは塩の製造のための方法である。
本発明は反応工程(a)から(c)の各々、および完全な反応順序に従うが、反応工程(a)から(c)の各々にも従って得られた生成物に関する。
前記および後記で記載する変法における反応をそれ自体公知の様式で、例えば適当な溶媒もしくは希釈剤またはその混合物の不在下で、または通例存在下で実施し、反応は必要に応じて冷却して、室温で、または加温して、例えば約−80℃から反応溶媒の沸点までの範囲の温度で、好ましくは約−10℃から約+200℃までで、そして必要により密閉容器内で、加圧下で、不活性ガス雰囲気下で、および/または無水条件下で実施する。
工程(a)を例えば塩基、例えば、最初に求核剤の存在下、続いてけん化塩基での処理により実施する。
適当な求核剤は、例えばC−C10−アルカンカルボン酸、特にC−C−アルカンカルボン酸、芳香脂肪族カルボン酸もしくは芳香族カルボン酸のアルカリ金属塩、または酢酸脂肪族アンモニウム、特に酢酸テトラ−C−C−アルキル−アンモニウムである。実例には例えば酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、および酢酸テトラエチルアンモニウムが挙げられる。
適当なけん化塩基は、例えば水酸化アルカリ金属、水素化物、アミド、アルカノラート、カルボナート、または低級アルキルシリルアミド、ナフタレンアミン、低級アルキルアミン、塩基性複素環、水酸化アンモニウム、および炭素環式アミンである。言及され得る実例は、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムtert−ブトキシド、炭酸カリウム、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン(DBN)および1,8−ジアザ−ビシクロ[5.4.0]アンデコ−7−エン(DBU)(最後の2つの塩基は水の存在下であるのが好ましい)である。
適当なけん化塩基は水の存在下で用いるのが好ましい。水の最小化学量、特に水の1モル濃度増が好ましい。
同様に特に好ましい実施形態では、相間移動触媒、例えば公知のものの存在下で工程(a)を実施する。適当な相間移動触媒は対応する塩化物または臭化物のようなトリ−C−C−アルキル-アラ−C−Cアルキル−アンモニウムハロゲン化物、対応する塩化物または臭化物のようなテトラ−C−C−アルキル−アンモニウムハロゲン化物、対応する塩化物または臭化物のようなジ−C−C−アルキル−ジアラ−C−Cアルキル−アンモニウムハロゲン化物を含む。実例は臭化テトラブチルアンモニウムまたは塩化トリエチルベンジルアンモニウムである。
通常1モル当量以上、好ましくは1.1から1.5当量の塩基を用いる。
不活性溶媒または溶媒の混合物を用いる。適当な溶媒には例えばヘプタン、オクタン、トルエンまたはキシレンのような炭化水素、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン、フルオロベンゼンまたはトリフルオロベンゼンのようなハロゲン炭化水素を含む。
反応温度は、例えば0℃から溶媒の沸点まで、好ましくは0℃から130℃まで、さらに好ましくは40℃から80℃までである。
本発明は反応工程(a)に関する。この反応工程は2つの別個の工程を含み、そして驚くべきことに、収率はほとんど定量的である(理論値の>99重量%)。本発明はまた方法工程(a)に従って得られるときの、式(VIb)の化合物に関する。
工程(b):式(IIb)のアジドおよび式(VIb)のニトリルのモル比は5から1まで、好ましくは3から1まで、最も好ましくは1.8から1または1.2から1までの範囲である。
出発材料または中間物質と反応できないことを意味する不活性溶媒、希釈剤、またはその混合物を選択すべきである。適当な溶媒は、例えばC−C10−アルカン、例えばヘプタン、シクロヘキサンのようなシクロアルカンのような脂肪族、脂環式および芳香族炭化水素;メチル−シクロヘキサンまたは1,3−ジメチル−シクロヘキサンのようなアルキル化C−Cシクロアルカン、エチルベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、またはメシチレンのようなアルキル化ベンゼン;クロロベンゼン、クロロトルエン、ジクロロベンゼン、およびトリフルオロメチルベンゼンのようなハロゲン化芳香族溶媒;ハロゲン化炭化水素、例えばクロロベンゼンのようなハロゲン化芳香族化合物である。さらに、適当な溶媒、希釈剤またはその混合物は反応条件下で用いるのに十分に高い沸点を有しているべきである。
好ましい溶媒または希釈剤は脂肪族炭化水素、例えばヘプタンのようなC−Cアルカン;芳香族炭化水素、例えばトルエンもしくキシレンのようなC−Cアルキルにより置換されたフェニルまたはその混合物である。
反応温度は室温から溶媒、希釈剤またはその混合物の沸点までの範囲の温度であるのが好ましく、反応温度範囲は反応物質の反応性および組合せに依存して、約20℃から約170℃、好ましくは約60℃から約130℃までである。当業者が対応する適当な溶媒および希釈剤系、ならびに溶媒系および反応物質の選択に適合した反応条件を選択することは十分に可能である。
最も好ましくは反応を無水条件下で実施する。
本発明の好ましい実施形態では、本発明を80℃から120℃、好ましくは90℃と110℃との間で実施する。
本発明は同様に反応工程(b)に関する。さらに本発明はスズを全く含有しない式(VIc)の化合物またはその互変異性体もしくは塩に関する。本発明はまた、方法工程(b)に従って得られれば、いかなるときも式(VIc)の化合物に関する。
工程(c):適当な酸化剤の存在下で酸化を実施する。適当な酸化剤は、例えば次亜塩素酸リチウムもしくはナトリウムもしくはカリウムのような次亜塩素酸アルカリ金属、次亜塩素酸カルシウム、「Tempo」もしくはその類似体(Fluka参照)またはHNO、HNOもしくは対応するその無水物、およびペルオキソ二硫酸からなる群から選択される酸化剤である。
酸化剤として例えば次亜塩素酸アルカリ金属を用いる場合、例えば不活性溶媒、例えば低級アルカンカルボン酸、例えば酢酸、複素環式芳香族、例えばピリジン、ハロゲン化炭化水素、アルカンニトリル、例えばアセトニトリルもしくは水、またはその混合物のような、例えば酸化に対して不活性である溶媒中、必要により冷却または加温して、例えば約0℃から約50℃、例えば室温で酸化を行う。好ましい変法では、水性溶媒中、および塩基の存在下で反応を実施する。適当な塩基はとりわけ炭酸カリウムのような炭酸アルカリである。
HNO、HNOもしくは対応するその無水物、またはペルオキソ二硫酸、特に硝酸のような酸化剤を用いる場合、好ましい変法ではトルエンまたはキシレンのようなアルキル化芳香族炭化水素を溶媒として用いることができる。HNO、HNOもしくは対応するその無水物、またはペルオキソ二硫酸を用いる酸化の好ましい変法では、反応を約0℃から室温まで、または60℃までの温度範囲で実施するのが好ましい。驚くべきことに、溶媒の酸化は観察されず;すなわちトルエンまたはキシレンのメチル基は酸化に抵抗する。したがって、同様にHNO、HNOもしくは対応するその無水物、またはペルオキソ二硫酸のような酸化剤の使用は、特にトルエンまたはキシレンのようなアルキル化芳香族炭化水素溶媒中でHNO、HNOもしくは対応するその無水物、またはペルオキソ二硫酸のような酸化剤として用いる場合、反応工程c)であるような本発明の対象である。別の好ましい変法では、HNOを無水形態で、または水溶液中で約40%から約95%、好ましくは40から65%で用いる。
HNO、HNOもしくは対応するその無水物、またはペルオキソ二硫酸、特に硝酸のような酸化剤の使用により驚くべき結果が提供される。例えば対応するアルデヒドへの酸化は、アルデヒド官能基をカルボキシ基にさらに酸化することなく行われる。したがって、該酸化剤の使用は同様に本発明の対象である。
本発明はまた、前記の方法工程c)に従って得られるときの、式(VI)の化合物に関する。
工程(d):所望により、または必要により後処理した後、得られた式(VI)の化合物を反応混合物から結晶化することによる、特に抽出による、または反応混合物のクロマトグラフィーによるような従来の単離方法に従って、式(VI)の化合物の単離工程を実施する。
本発明はさらに
(a')式(VI)
Figure 0005052132
(VI)
の化合物またはその互変異性体もしくは塩(ここで、テトラゾール環は保護されていないか、またはテトラゾール保護基により保護されている)を式(VIIIb)
Figure 0005052132
(VIIIb)
の化合物またはその塩(式中、Rz1は水素またはカルボキシ保護基を表す)と還元的アミノ化条件下で反応させること;ならびに
(b')得られた式(VIIIc)
Figure 0005052132
(VIIIc)
の化合物またはその互変異性体もしくは塩を式(VIIId)(式中Rz1は水素またはカルボキシ保護基を表し、そしてここでテトラゾール環は保護されていないか、またはテトラゾール保護基により保護されている)の化合物と、式(VIIId)
Figure 0005052132
(VIIId)
(式中、Rz2は活性化基である)の化合物とアシル化すること;ならびに
(c')Rz1が水素と異なる場合、および/またはテトラゾール環が保護基により保護されている場合、得られた式(VIIIe)
Figure 0005052132
(VIIIe)
の化合物またはその互変異性体もしくは塩の(複数の)保護基を除去すること;ならびに
(d')得られた式(IVb)の化合物またはその塩を単離すること;および所望により、得られた式(IVb)の遊離酸をその塩に変換すること、または得られた式(IVb)の化合物の塩を式(IVb)の遊離酸に変換すること、または得られた式(IVb)の化合物の塩を異なる塩に変換すること;
を含む式(IVb)
Figure 0005052132
(IVb)
の化合物またはその互変異性体もしくは塩の製造のための方法に関する。
同様に本発明は、式(VI)の化合物の製造のための工程(a)から(c)を含む全順序(full sequence)および次に式(IVb)の化合物の製造のための続く工程(a’)から(d’)を含む反応順序(reaction sequence)を含む、式(IVb)の化合物またはその互変異性体もしくは塩の製造のための方法に関する。
前記および後記で記載する変法における反応は、例えば適当な溶媒もしくは希釈剤またはその混合物の不在下で、または通例存在下で実施し、反応は必要に応じて冷却して、室温で、または加温して、例えば約−80℃から反応溶媒の沸点までの範囲の温度で、好ましくは約−10℃から約+200℃までで、そして必要により密閉容器内で、加圧下で、不活性ガス雰囲気下で、および/または無水条件下で実施する。
ここでRおよびRのいずれかまたは双方が水素である式(VIIIa)、(VIIIb)、(VIIIc)および(VIIIe)の化合物は、保護されていないテトラゾール環および保護されていないカルボキシ基の双方が酸性特性を有するので、塩基と塩を形成することができるが、式(VIIIb)および(VIIIc)の化合物はまた酸と塩を形成することもできる。
対応するテトラゾール保護基は当分野において公知であるものから選択される。特にテトラゾール保護基はtert−ブチルのようなtert−C−C−アルキル;ベンジルまたはベンズヒドリルまたはトリチルのようなフェニルにより一、二または三置換されたC−C−アルキル(ここでフェニル環は置換されていないかまたは1つもしくはそれより多い、例えば2または3個の残基、例えばtert−C−C−アルキル、ヒドロキシ、C−Cアルコキシ、C−C−アルカノイル−オキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノおよびトリフルオロメチル(CF)からなる群から選択されるものにより置換されている);ピコリニル;ピペロニル;クミル; アリル;シンナモイル;フルオレニル;トリ−C−C−アルキル−シリル、例えばトリメチル−シリル、トリエチルシリルもしくはtert−ブチル−ジメチル−シリル、またはジ−C−C−アルキル−フェニル−シリル、例えばジメチル−フェニル−シリルのようなシリル;C−C−アルキル−スルホニル;フェニルスルホニルのようなアリールスルホニル(ここでフェニル環は置換されていないかまたは1つまたはそれより多い、例えば2または3個の残基、例えばC−C−アルキル、ヒドロキシ、C−Cアルコキシ、C−C−アルカノイル−オキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノおよびCFからなる群から選択されるものにより置換されている);アセチルまたはバレロイルのようなC2−C8−アルカノイル;およびC1−C7−アルコキシ−カルボニル、例えばメトキシ−、エトキシ−またはtert−ブチルオキシ−カルボニルのようなエステル化カルボキシ;およびアリルオキシカルボニルおよびからなる群から選択される。言及され得る好ましい保護基の実例は、tert−ブチル、ベンジル、p−メトキシベンジル、2−フェニル−2−プロピル、ジフェニルメチル、ジ(p−メトキシフェニル)メチル、トリチル、(p−メトキシフェニル)ジフェニルメチル、ジフェニル(4−ピリジル)メチル、ベンジルオキシメチル、メトキシメチル、エトキシメチル、メチルチオメチル、2−テトラヒドロピラニル、アリル、トリメチルシリルおよびトリエチルシリルである。
対応するカルボキシ保護基(Rz1)は当分野で公知のものから選択される。特にRz1はメチル、エチルまたはtert−C−C−アルキルのようなC−C−アルキル、特にtert−ブチル;ベンジルまたはベンズヒドリルのようなフェニルにより一、二または三置換されたC−C−アルキル(ここでフェニル環は置換されていないかまたは1つまたはそれより多い、例えば2または3個の残基、例えばC−C−アルキル、ヒドロキシ、C−Cアルコキシ、C−C−アルカノイル−オキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノおよびCFからなる群から選択されるものにより置換されている);ピコリニル;ピペロニル;アリル;シンナミル;テトラヒドロフラニル;テトラヒドロピラニル;メトキシエトキシ−メチル、およびベンジルオキシメチルからなる群から選択される。言及され得る好ましい保護基の実例はベンジルである。
活性化基Rz2は例えば、塩素、フッ素もしくは臭素のようなハロゲン;メチル−チオ、エチル−チオもしくはtert−ブチル−チオのようなC−C−アルキルチオ;2−ピリジル−チオのようなピリジル−チオ;1−イミダゾリルのようなイミダゾリル;ベンズチアゾリル−2−オキシ−のようなベンズチアゾリル−オキシ;ベンゾトリアゾリル−1−オキシ−のようなベンゾトリアゾール−オキシ;ブチロイルオキシもしくはピバロイルオキシのようなC−C−アルカノイルオキシ;または2,5−ジオクソ−ピロリジニル−1−オキシのようなペプチドの分野で用いられている活性化基である。
工程(a')
反応工程(a’)では還元剤の存在下で還元的アミノ化を実施する。適当な還元剤は、複合形態でも存在し得るホウ化水素、または、双方共に水素化触媒の存在下で、水素もしくは水素供与体である。さらに還元剤は適当なセレン化物またはシランである。
適当なホウ化水素または複合ホウ化水素、例えばホウ化水素ナトリウムまたはホウ化水素リチウムのようなホウ化水素アルカリ金属;ホウ化水素カルシウムのようなホウ化水素アルカリ土類金属;シアノホウ化水素ナトリウムまたはシアノホウ化水素リチウムのようなシアノホウ化水素アルカリ金属、トリメトキシ−エトキシ−ホウ化水素ナトリウムのようなトリ−(C−C−アルコキシ)−ホウ化水素アルカリ金属;テトラブチルアンモニウム−ホウ化水素またはテトラブチルアンモニウム−シアノホウ化水素のようなテトラ−C−C−アルキルアンモニウム−(シアノ)ホウ化水素である。
水素または水素供与体を用いる還元的アミノ化の適当な触媒は、所望により支持材料、例えば炭素または炭酸カルシウム、例えば炭素上の白金に適用することができる、例えばラネーニッケルのようなニッケル、およびパラジウム、白金または酸化白金のような貴金属またはその誘導体、例えば酸化物である。好ましくは1から100気圧の間の圧力で、および約−80℃から約200℃までの間の室温で、特に室温と100℃の間で水素または水素供与体を用いる水素化を実施することができる。
好ましい水素供与体は、所望によりトリエチルアミンのような4級アミンの存在下で、例えば2−プロパノールおよび所望により塩基、または最も好ましくはギ酸もしくはその塩、例えばそのアルカリ金属またはトリ−C1−C7−アルキル−アンモニウム塩、例えばそのナトリウムまたはカリウム塩を含む系である。さらに水素供与体はエタノール、2−メトキシエタノール、ベンジルアルコール、ベンズヒドロール、ペンタン−2−オール、1,2−エタンジオール、2,3−ブタンジオールもしくはシクロヘキサンジオールのようなその他のアルコール、ヒドラジン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、インダン、テトラリン、インドリン、テトラヒドロキノリン、ヒドロキノン、ハイポホスフィン酸(hypophosphinic acid)もしくはそのナトリウム塩のような適当なその塩、テトラヒドロホウ酸ナトリウム、糖、アスコルビン酸、リモネンまたはシランを含む。水素供与体、特に2−プロパノールまたはギ酸を溶媒として用いることもできる。
適当なセレン化合物は、例えば置換されていないかまたは置換されたセレノフェノールである。適当な置換基は、例えばハロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、C−C−アルキル、C−C−アルコキシ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、C−C12−アルカノイル、C−C12−アルカノイルオキシおよびカルボキシから選択される、例えば1、2または3個の置換基を含む。これらのシランは反応溶媒に完全に溶解し、そしてさらに有機溶媒可溶性の副産物を生成し得るものが好ましい。特に好ましくはトリ−C−C−アルキル−シラン、特にトリエチルシランおよびトリ−イソプロピル−シランである。好ましくは市販により入手可能なセレン化物である。
適当なシランは、例えばC−C12−アルキル、特にC−C−アルキル、およびC−C30−アシル、特にC−C−アシルからなる群から選択される置換基により三置換されているシランである。好ましくは市販により入手可能なシランである。
還元的アミノ化は好ましくは酸性、中性または好ましくは塩基性条件下で実施される。適当な塩基は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムまたは炭酸カリウムのような水酸化または炭酸アルカリ金属を含む。さらにアミン塩基、例えばトリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−ブチルアミンもしくはエチル−ジイソプロピルアミンのようなトリ−C−C−アルキルアミン、N−メチルピペリジンのようなピペリジン、またはN−メチル-モルホリンのようなモルホリンを用いることができる。好ましい塩基には水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウムおよび炭酸カリウムが挙げられる。特に好ましくは水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムまたはトリ−n−プロピルアミンである。
水を含む適当な不活性溶媒または溶媒の混合物中で還元的アミノ化を実施する。不活性溶媒は通常対応する式(VI)および(VIIIb)の出発材料と反応しない。ホウ化水素ナトリウムまたはホウ化水素リチウムのようなホウ化水素アルカリ金属;ホウ化水素カルシウムのようなホウ化水素アルカリ土類金属;シアノホウ化水素ナトリウムまたはシアノホウ化水素リチウムのようなシアノホウ化水素アルカリ金属を還元剤として用いる場合、例えば極性溶媒、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノールもしくは2−メトキシエタノールのようなアルコール、またはグリムが好ましい。トリメトキシ−エトキシ−ホウ化水素ナトリウムのようなトリ−(C−C−アルコキシ)−ホウ化水素アルカリ金属;テトラブチルアンモニウム−ホウ化水素またはテトラブチルアンモニウム−シアノホウ化水素のようなテトラ−C−C−アルキルアンモニウム−(シアノ)ホウ化水素を還元剤として用いる場合、例えばトルエンのような炭化水素、酢酸エチルまたは酢酸イソプロピルのようなエステル、テトラヒドロフランまたはtert−ブチルメチルエーテルのようなエーテルが好ましい。水素または水素供与体を還元系として用いる場合、各々水素化触媒の存在下で極性溶媒が好ましい。例えば有機溶媒および水の混合物中、単相および二相の双方で還元的アミノ化を実施することもできる。二相系では、ハロゲン化、例えば臭化テトラブチルアンモニウムまたはハロゲン化、例えば塩化ベンジルトリメチルアンモニウムのような相間移動触媒を加えることができる。
z1が保護基を表し、そしてテトラゾール環が保護されている場合、ならびに式(VIIIb)の化合物が遊離塩基である場合、塩基の存在は必要ではない。しかしながらRz1が水素であり、そしてテトラゾール環が保護基により保護されている場合、1モル当量を超えない塩基を添加することができる。ラセミ化を避けるために、当モル量未満の塩基を用いることにより反応を実施するのが好ましい。Rz1が水素であり、そしてテトラゾール環が保護されていない場合、穏やかな条件下、好ましくは−10℃と20℃の間の温度で等量または1当量を超える塩基と共に反応を実施した場合でさえも、ラセミ化は観察されない。
式(VI)の化合物と式(VIIIb)の化合物との反応の結果、中間に形成される式(VIIIc’’)
Figure 0005052132
(VIIIc’’)
のイミン(シッフ塩基)またはその互変異性体もしくは塩(ここでRz1は前記したような意味を有し、そしてここでテトラゾール環は保護されていないか、またはテトラゾール保護基により保護されている)が得られ、これを特定の反応条件下で単離することができるか、または単離せずに還元に供することができる。
還元的アミノ化は水の除去によるイミンの形成、続く還元工程の2工程反応である。除去は平衡反応であり、例えば共沸除去により継続的に水を排除することによりこれをイミンの形成に導くことができる。さらに水の捕捉剤を用いて吸収もしくは吸着のような物理学的過程により、または化学反応により、生じ得る遊離の水を除去または不活性化することができる。適当な水の捕捉剤には限定するものではないが、有機酸の無水物、モレキュラーシーブのようなアルミノケイ酸、その他のゼオライト、微粉シリカゲル、微粉アルミナ、無水リン酸のような無機酸の無水物(P)、硫酸カルシウム、硫酸ナトリウム、および硫酸マグネシウムのような無機硫酸、ならびに塩化カルシウムのようなその他の無機塩が挙げられる。
工程(a’)を、式(VIIIc’’)の化合物を最初に製造し、そして単離することにより実施する場合、Rz1が水素でありそしてテトラゾール環が保護されていない場合、恐らく塩基の存在下、式(VI)の化合物を式(VIIIb)の化合物と反応させる。次いで前記したような対応する還元剤を用いて式(VIIIc’’)の化合物を還元することにより、式(VIIIc’’)の化合物を対応する式(VIIIc’)の化合物に変換させることができる。
式(VIIIc’’)の中間物質のイミンを、例えば溶媒の除去により、例えば蒸留により、特に水の共沸除去により単離することができる。
好ましい変法では、式(VIIIc’)の化合物を単離することなく還元的アミノ化を実施する。
特にRz1が水素でありそしてテトラゾール環が保護されておらず、ならびに水酸化ナトリウムのような塩基、メタノールのような溶媒およびホウ化水素ナトリウムのような還元剤を用いる場合、還元的アミノ化を遊離の水を除去しないで実施するのが最も好ましい。
イミン構造エレメントを鑑みて、式(VIIIc’’)の化合物はその対応するEおよび対応するZ異性体の双方を含む。E異性体が好ましい。
本発明は同様に式(IIc')(ここでRは水素またはテトラゾール保護基であり、そしてここでRは水素またはカルボキシ保護基である)の化合物に関する。対応する化合物を式(I)の化合物の製造のための中間物質として用いることができる。RおよびRの少なくとも1つが水素を表すかまたはRおよびRの双方が水素を表すのが好ましい。
式(VI)および(VIIIb)の化合物は部分的に公知であり、そしてそれ自体公知の方法に従って調製することができる。
工程(a’)を穏やかな条件下で、特に約−10℃から約室温までの温度で、好ましくは約−5℃および+5℃の範囲で実施するのが好ましい。
工程(b')
反応工程(b’)では、例えば適当な塩基の不在下または存在下でアシル化を実施する。
適当な塩基は、例えば水酸化もしくは炭酸アルカリ金属、モルホリンもしくはピペリジンアミン、非置換または置換ピリジン、アニリン、ナフタレンアミン、トリ−C−C−アルキルアミン、塩基性複素環または水酸化テトラ−C−C−アルキル−アンモニウムである。言及し得る実例には、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、トリ−プロピル−アミン、トリ−ブチル−アミンもしくはエチルジイソプロピルアミン、N−メチル−モルホリンもしくはN−メチル−ピペリジン、ジメチル−アニリンもしくはジメチルアミノ−ナフタレン、ルチジン、コリジン、または水酸化ベンジルトリメチルアンモニウムが挙げられる。好ましい塩基はエチル-ジイソプロピル−アミンのようなトリ−C−C−アルキルアミンまたはピリジンである。
適当な不活性溶媒または溶媒の混合物中でアシル化を実施する。当業者が適当な溶媒または溶媒系を選択することは十分に可能である。例えばトルエンのような芳香族炭化水素、酢酸エチルのようなエステルもしくは酢酸エチルおよび水の混合物、塩化メチレンのようなハロゲン化炭化水素、プロプリオニトリルのアセトニトリルのようなニトリル、テトラヒドロフランもしくはジオキサンのようなエーテル、1,2−ジメトキシ−エタン、ジメチルホルムアミドのようなアミド、またはトルエンのような炭化水素を溶媒として用いる。
式(VIIIc)の化合物のアシル化の間、Rが水素である場合、カルボキシル基もまたアシル化されて混合無水物を形成し得る。この中間物質は主に塩基性条件下でラセミ化する傾向が強い。しかしながら、最初に適当な不活性溶媒(例えばジメトキシエタン、テトラヒドロフランまたはアセトニトリル)中、式(VIIId)の化合物、特にハロゲン化物を式(VIIIc)の化合物に加え、次いで式(VIIId)の化合物に関して半化学量論的量の塩基、特にピリジンをゆっくりと加えることによりラセミ化を避けることができる。反応混合物中の少量の水、好ましくは2当量をがさらにラセミ化を抑制し得る。
式(VIIId)の化合物およびピリジンのような塩基を同時にまたは択一的に加えて、反応混合物をずっと酸性に保って反応を実施することもできる。
z1が保護基を表し、そしてテトラゾール環が保護されていないかまたは保護基により保護されている場合、例えば2当量の式(VIIId)の化合物、例えばその対応するハロゲン化物、および塩基、例えばエチル−ジイソプロピル−アミンまたはトリ−n−プロピルアミンを、トルエンのような適当な溶媒に溶解した対応する式(VIIIc)の化合物に加える。ラセミ化は観察されない。
テトラゾール環が保護されておらず、そしてRz1が保護基である場合、テトラゾール環もまたアシル化され得る。しかしながら、反応混合物を例えば水またはメタノールのようなアルコールでクエンチすると、テトラゾール環が保護されていない対応する化合物を得ることができる。
式(VIIId)の化合物は公知であるか、またはそれ自体公知の方法に従って製造することができる。
工程(c')
テトラゾールおよびカルボキシ保護基の双方の保護基の除去を当分野でそれ自体公知の方法に従って実施することができる。
例えばベンジルエステルを特に適当な水素化触媒の存在下で水素化することにより対応する酸に変換することができる。適当な触媒には、所望により支持材料、例えば炭素または炭酸カルシウムに適用することができる、例えばラネーニッケルのようなニッケル、およびパラジウムまたは酸化白金のような貴金属またはその誘導体、例えば酸化物が含まれる。好ましくは1から100気圧の間の圧力で、および約−80℃から約200℃までの室温で、特に室温と約100℃の間で水素化を実施する。
トリチルまたはtert−ブチル基の除去は各々、特に穏やかな条件下で対応する保護された化合物を酸と処理することにより達成することができる。
工程(d')
式(IVb)の化合物の単離工程(d’)を、所望によりまたは必要により後処理、特に抽出による後に、得られた式(IVb)の化合物を反応混合物から結晶化することによる、または反応混合物のクロマトグラフィーによるような従来の単離方法に従って実施する。
式(IVb)の酸の塩への転換をそれ自体公知の様式で実施する。したがって酸形態を塩基と処理することにより、例えば式(IVb)の化合物の塩基との塩が得られる。一方、通常の様式で塩基との塩を酸(遊離の化合物)に変換することができ、そして塩基との塩を例えば適当な酸剤と処理することにより変換することがでる。
したがって、可変基Rは可変基Rx、Ryの意味を含み、そしてホルミルおよびアンギオテンシンII受容体アンタゴニストに相当するコアエレメント、特に前記の表に列挙したものをも表す。
本発明の別の実施形態は、本明細書で前記および後記する対応する反応工程を実施することにより、式(IVa)、特に(IVb)の化合物またはその互変異性体もしくは塩を製造するための式(VIa)、(VIb)、または(VIc)の化合物の使用である。
本発明の別の好ましい実施形態は、式(VIIa’)
Figure 0005052132
(VIIa’)
の化合物を式(R)(R)M−N(IIb)(ここでRおよびRは互いに別個に有機残基を表し、そしてMはアルミニウムまたはホウ素である)の化合物と反応させること;および得られた式(VII’)の化合物を単離することを含む、式
Figure 0005052132
(VII’)
の化合物、その互変異性体(ここでRyはメチルのようなC−C−アルキル;X’により置換されたC−C−アルキルを表し、そしてX’はハロゲン、スルホニルオキシ、ヒドロキシル、ブロモメチルのような保護されたヒドロキシル、またはホルミルのアセタールである)の製造のための方法である。
本発明の別の好ましい実施形態は、式(VIIa)
Figure 0005052132
(VIIa)
の化合物を式(R)(R)M−N(IIb)(ここでRおよびRは互いに別個に有機残基を表し、そしてMはアルミニウムまたはホウ素である)の化合物と反応させること;および得られた式(VII)の化合物を単離することを含む、式
Figure 0005052132
(VII)
の化合物またはその互変異性体(ここでRyはメチルのようなC−C−アルキル;X’により置換されたC−C−アルキルを表し、そしてX’はハロゲン、スルホニルオキシ、ヒドロキシル、ブロモメチルのような保護されたヒドロキシル、ホルミルまたはそのアセタールである)の製造のための方法である。
本発明は同様に前記の反応に関する。さらに本発明はスズを全く含有しない形態の式(VII)の化合物またはその互変異性体もしくは塩に関する。本発明はまた前記の反応に従って得られれば、いかなるときも式(VII)の化合物に関する。
式(VI)または(VII)または(VII')の化合物の単離工程を、各々得られた混合物から得られた式(VI)または(VII)の化合物を結晶化することによる、または反応混合物のクロマトグラフィーによるような従来の単離方法に従って各々実施する。
酸の塩への変換をそれ自体公知の様式で実施する。したがって、例えば酸形態を塩基と処理することにより塩基との塩が得られる。一方、通常の様式で塩基との塩を酸(遊離の化合物)に変換することができ、そして塩基との塩を例えば適当な酸剤と処理することにより変換することができる。
本発明は同様にスズを全く含有しない形態の式(I)、(IV)、(IVb)、(V)、(VI)、(VII)、(VII')の化合物またはその互変異性体もしくは塩に関する。
本発明は同様に、特にスズを全く含有しない形態の式(I)、(IV)、(IVb)、(V)、(VI)、(VII)、(VII')の化合物またはその互変異性体もしくは塩を製造するための方法における式(IIb)の化合物の使用に関する。
本発明は本発明の任意の方法に従って得られた化合物に関する。
実施例は本発明の具体的な実施態様の概要を示すが、本発明の範囲を限定するものではない。
実施例1:5−(2−クロロフェニル)−1H−テトラゾール
Figure 0005052132
ナトリウムアジド20ミリモル(1.3g)をアルゴン雰囲気下で25mlフラスコに充填し、続いて塩化ジエチルアルミニウム(トルエン中1.8モル濃度)、20ミリモルの溶液11mlを0℃で攪拌しながら(シリンジを介して)ゆっくりと加える。懸濁液を室温で一晩攪拌する。次いで固体2−クロロ−ベンゾニトリル2.06g(15ミリモル)を加え、そして混合物を外部温度90℃で9時間加熱する。この時間の後で変換は91.5%(HPLC)であった。完全に変換させる(>99.5%、HPLC)ために、反応混合物をさらに6時間90℃で維持する。後処理のために、過剰のアジ化水素酸を破壊するためにNaNO2.6gを含有するHCl(6N)20mlで0℃で攪拌しながら反応混合物をクエンチした。形成された白色の粘りのある沈殿(生成物)を0℃でさらに1時間攪拌し、そして次にろ過し、そして50℃で一晩乾燥して、白色の結晶性生成物が得られる。
融点 173−175℃
TLC:Rf値:0.48、トルエン:EtOAc:AcOH(20:20:1);SiOプレート
実施例2:5−(2−ヒドロキシフェニル)−1H−テトラゾール
Figure 0005052132
方法A
顆粒ナトリウムアジド286mg(4.4ミリモル)を塩化ジエチルアルミニウム(4.4ミリモル、トルエン中1M)の冷溶液に加え、そして混合物を室温で4時間(h)攪拌する。
0℃で冷却したトルエン3ml中2−ヒドロキシベンゾニトリル(4ミリモル、476mg)の溶液をトリエチルアルミニウム(4ミリモル、トルエン中1.8M)2.2mlと処理する。混合反応物を室温まで加温し、そして1時間攪拌する。混合物を0℃まで冷却し、ジエチルアルミニウムアジドの溶液と処理し、85℃まで徐々に加温し、そして2日間攪拌する。反応混合物を−10℃まで冷却し、そして6N HCl7mlで滴下して処理する。酢酸エチル10mlを加え、そして混合物を水10mlで1回、飽和NaCl10mlで1回抽出する。合わせた水層を酢酸エチル10mlで3回抽出する。合わせた有機相をNaSO上で乾燥する。溶媒を除去して粗製生成物が得られる。
方法B
顆粒のナトリウムアジド260mg(4ミリモル)をトルエン10mlで希釈した塩化ジエチルアルミニウム(4ミリモル、トルエン中1.8M)の冷溶液に加え、そして混合物を室温で4時間攪拌する。攪拌した溶液を0℃で冷却し、そして2−ヒドロキシベンゾニトリル238mg(2ミリモル)を加える。反応混合物を80℃まで加温し、そして一晩攪拌する。20時間後、変換は83%であった。次いで温度を100℃まで上昇させ、そして12時間攪拌する。ほぼ90%の変換で反応を後処理する。反応混合物を0℃まで冷却し、そして6M HC17ml、水5ml、酢酸エチル10ml、飽和NaCl(sat.)8mlを滴下して処理し、そして抽出する。有機相を水20mlで2回再抽出する。合わせた水層を酢酸エチル20mlで2回抽出する。合わせた有機相をNaSO上で乾燥する。溶媒を除去して粗製生成物が得られる。粗製生成物を酢酸エチルから結晶化して純粋な生成物が得られる。
融点:220−222℃
TLC:Rf値:0.46、トルエン:EtOAc:AcOH(20:20:1)
HPLC
Hewlett Packard、溶媒 HPO、アセトニトリル/水;流速:2ml/分;注入:5.0μl;波長 220nm、40℃、カラム: Merck, Chromolith Performance,
RP−18e 100−4.6mm;保持時間:4.12分
実施例3a:5−(4’−メチルビフェニル−2−イル)−1H−テトラゾール
Figure 0005052132
20mlフラスコをアルゴン下で乾燥し、そして次にフッ化ジイソブチルアルミニウム(ヘキサン中1モル濃度)7ml、続いてトルエン5mlおよびNaN455mg(7ミリモル)を充填する。懸濁液を室温で4時間攪拌した後、固体オルト−トリルベンゾニトリル(OTBN)966mgを0℃で一度に加える。懸濁液を内部温度100℃で130℃(外部温度)まで加温する。130℃(外部温度)で44時間後、変換は>93%である。反応混合物を塩酸(6モル濃度)でクエンチした。トルエン10mlを添加した後、層を分離し、有機層を水20mlで2回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして蒸発させて結晶性残留物の生成物が得られる。
物理化学的データは実施例3b参照。
実施例3b:5−(4’−メチルビフェニル−2−イル)−1H−テトラゾール
実施例3aと同一の反応を実施したが、高濃度のジエチルアルミニウムアジドおよび高温を用いた:
トルエン中ジエチルアルミニウムアジド(塩化ジエチルアルミニウムおよびNaNから調製)およびOTBNを用いる類似の条件下で、内部温度約110℃(還流)、外部温度135℃で40時間の後、98.5%の変換が得られた。
乾燥50mlフラスコをトルエン5mlおよび乾燥固体ナトリウムアジド1.3g(20ミリモル)を充填する。攪拌した懸濁液を0℃まで冷却し、そして塩化ジエチルアルミニウムの1.8モル濃度溶液11ml(20ミリモル)をシリンジを介して10分間加える。懸濁液を室温で4から6時間、または一晩攪拌する。次いで懸濁液を0℃まで冷却し、そしてトルエン5ml中o−トリルベンゾニトリル(2.1g、11ミリモル)の溶液を5分間滴加する。攪拌した溶液を還流まで加熱し、そして7時間後、54.5%(HPLC)が変換する。一晩(17時間)還流した後、92%の変換が観察される。40時間後、変換は>98.5%であった。その後、反応混合物を冷2N 塩酸(50ml)に攪拌しながら滴加して反応物をクエンチして、白色の沈殿物が得られ、これをアセトニトリル20mlを加えて溶解し、透明な二相性の溶液が得られる。生成物を酢酸イソプロピル50mlで抽出する。全生成物が水層にカリウム塩として溶解するまで、炭酸カリウム水溶液(pH10)で有機相を処理する。2N HCl約90mlを添加して塩基性水相をpH1−2に調整する。酢酸イソプロピル50mlで生成物を2回抽出し、そして有機相を減圧下蒸発させて、真空下乾燥させた後、非常に純粋な白色の結晶性生成物が得られる。
融点:150−152℃;(参照物質:DiPharmaサンプル:融点149−151℃)
TLC:Rf値:0.56、(トルエン:EtOAc:AcOH=20:20:1)、SiO−プレート(Merck KgaA)
実施例4a:5−(4’−ヒドロキシメチルビフェニル−2−イル)−1H−テトラゾール
Figure 0005052132
顆粒ナトリウムアジド1.235g(19ミリモル)をトルエン5mlに希釈した塩化ジイソブチルアルミニウム(19ミリモル、トルエン中1.8M)の冷溶液に加え、そして混合物を室温で一晩攪拌してジイソブチルアルミニウムアジドが得られる。
4’−ヒドロキシメチル−ビフェニル−2−カルボニトリル2.1g(10ミリモル)を0℃でトリエチルアルミニウム(10ミリモル、トルエン中1.8M)5.52mlと滴下して処理する。反応混合物を5分間攪拌する。その後、透明な無色の反応混合物をジイソブチルアルミニウムアジド(19ミリモル)の溶液に加え、内部温度約100℃まで徐々に加温し、そして一晩攪拌する(95.7%変換)。後処理のために反応混合物を0℃まで冷却し、そしてNaNO1.38g(20ミリモル)を含有するHCl(2N)溶液30mlに滴加する(0℃まで冷却)。酢酸イソ−プロピル40mlを加え、そして混合物を2N HCl15mlで1回、水20mlで1回抽出する。合わせた水相を酢酸イソプロピル10mlで2回抽出する。有機相をKCO(10%)水溶液の15ml部分で3回抽出する。水相を酢酸イソプロピル15mlで1回洗浄する。HCl(2N)を水相に加え、pH2に調整し、そして溶液を酢酸イソプロピル20ml部分で3回抽出する。合わせた有機相を水20mlで1回洗浄し、そして溶媒を除去して粗製生成物が得られる。粗製生成物を酢酸エチルおよびイソプロピルエーテルから結晶化して純粋な生成物が得られる。
融点:137−139℃;
TLC:Rf値:0.21、(トルエン:EtOAc:AcOH=20:20:1)、SiO−プレート(Merck KgaA)
カタログ番号1.05628.001)
実施例4b: 実施例でのように、また高濃度および高温でジエチルアルミニウムアジドを用いて反応を実施することができる:
実施例5:5−(E)−スチリル−2H−テトラゾールの合成
Figure 0005052132
手順
50mlの三つ首丸底フラスコに、トルエン10mlに希釈したフッ化ジイソブチルアルミニウム(10ミリモル、ヘキサン中1M)の溶液10mlを加える。NaNを溶液(650mg、10ミリモル)に加え、そして混合物を室温で4時間攪拌する。攪拌した溶液を氷浴中0℃で冷却する。トルエン3mlに希釈したシンナモニトリル0.62ml(5ミリモル)を加え、混合物を90℃(内部温度)まで加温し、そして一晩攪拌する。温度を105℃(内部温度)まで上昇させ、そして一晩攪拌する。全部で70時間の後(完全な変換ではない)、反応をクエンチした。混合物を−10℃まで冷却し、そしてHCl(6N)(pH1)8mlと滴下して処理する。水相を酢酸エチル10mlで抽出する。有機相を飽和NaCl10ml部分で2回洗浄し、そして次にKHCO10ml部分で2回抽出する。水相を酢酸エチル10ml部分で2回洗浄し、そして次にHClでpH1−2まで処理し、そして酢酸エチルで3回抽出する。有機相をNaSO上で乾燥し、そして溶媒を真空下除去して、乾燥後、標題生成物が得られる。
融点:158−160℃
TLC:Rf値:0.46(トルエン:EtOAc:AcOH(20:20:1)
実施例6:5−(2−フルオロフェニル)−1H−テトラゾール
Figure 0005052132
ナトリウムアジド20ミリモル(1.3g)をアルゴン雰囲気下25mlフラスコに充填し、続いて0℃で攪拌しながら塩化ジエチルアルミニウム(トルエン中1.8モル濃度)11ml(20ミリモル)をゆっくりと(シリンジを介して)加える。懸濁液を室温で一晩攪拌する。次いで2−フルオロ−ベンゾニトリル1.8g(1.2ml)(15ミリモル)を加え、そして混合物を外部温度90℃で7時間加熱する。この時間の後、反応は完了した(HPLC)。後処理:反応混合物を0℃でNaNO20ミリモル含有HCl(2モル濃度)20mlでクエンチして、過剰のアジドから形成されたアジ化水素酸を破壊する。形成された沈殿をアセトニトリル20mlの添加により溶解して透明な二相性の溶液が得られる。水相を各々酢酸エチル10mlで2回抽出する。合わせた有機相を炭酸カリウム水溶液(10%)15mlで抽出し、そしてpH10に調整する。有機相を水10mlで2回抽出する。合わせた塩基性水相を2N HClで中和し、そしてpHをpH1−2に調整する。生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチルを減圧下蒸発させ、結晶性の残留物が得られ、これをさらに真空下50℃で乾燥して白色の結晶性固体が得られる。
融点:158−160℃
TLC:Rf値:0.48(トルエン:EtOAc:AcOH=20:20:1)、SiO−プレート
実施例7:4’−ヒドロキシメチル−ビフェニル−2−カルボニトリル
Figure 0005052132
中間物質OAc(O−アセチル)誘導体の単離を行わない、4’−ブロモメチル−ビフェニル−2−カルボニトリルからの4’−ヒドロキシメチル−ビフェニル−2−カルボニトリルのワンポットPTC調製
750mlフラスコを4’−ブロモメチル−ビフェニル−2−カルボニトリル54.4g(0.2モル)およびトルエン250mlで充填する。この懸濁液に水15ml中酢酸カリウム30g(0.3モル)の溶液を加える。異成分混合物を内部温度90℃まで加熱して透明な二相性溶液にする。内部温度90℃で12時間後、OAc誘導体への変換は完了する。二相性混合物を内部温度約50℃まで冷却し、続いてNaOH(2N)150mlを加える。混合物を内部温度約70℃(外部温度80℃)まで加熱する。この温度で5時間後、PTCけん化が完了する(変換100%、HPLC)。さらにトルエン150mlを加え、そして温反応溶液(約50℃)を熱水50mlで3回、pHがほぼ7になるまで洗浄する。減圧下トルエン相を蒸発させ、そして得られた結晶性残留物を真空下50℃で24時間乾燥して、純度98%(HPLC)および水分含量0.23%の白色の結晶性生成物が得られる。
融点:118−120℃
TLC:Rf値:0.45、(トルエン:EtOAc:AcOH=20:20:1)、SiO−プレート
実施例8a:5−(4’−ホルミル−ビフェニル−2−イル)−1H−テトラゾールまたは2’−(2H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−カルバルデヒド
Figure 0005052132
5−(4’−ヒドロキシメチルビフェニル−2−イル)−1H−テトラゾール1.01g(4ミリモル)を10%炭酸カリウム水溶液7mlに溶解する。攪拌した溶液に室温で次亜塩素酸ナトリウムの水溶液(約8%)(eau de Labarraque)を加える。40分後、50%のアルデヒドへの変換が観察される。3.5時間後、さらに次亜塩素酸ナトリウム1.5mlを室温で加える。全反応時間7時間の後、>93%の変換が観察される。0℃で一晩攪拌することにより、変換が97%まで改善される。1時間攪拌しながら20%亜硫酸水素ナトリウム水溶液(5ml)で反応混合物をクエンチして、過剰の次亜塩素酸塩を破壊する。次いで2−メチル−2−ブテン(1.5ml)を加え、そして0℃で攪拌しながら6N HCl10mlを混合物に注意深く滴加することにより生成物を沈殿させる。生成物を酢酸エチルで抽出し、そして溶媒を蒸発乾固して固体生成物が得られる。
融点:184−186℃
TLC:Rf値:0.31、(トルエン:EtOAc:AcOH=20:20:1)、SiO−プレート
実施例8b:化合物(VIc)、5−(4’−ヒドロキシメチルビフェニル−2−イル)−1H−テトラゾール504mg(2ミリモル)をトルエン2mlおよびジクロロメタン1mlの混合物に懸濁する。懸濁液を0℃まで冷却し、そして0℃で攪拌しながら硝酸(65%、d=1.4)0.42ml(約6ミリモル)を一度に加えると、それはわずかに黄色の透明な溶液になる。氷浴を除去し、そして室温で約1時間攪拌を続ける。1時間後、生成物(VI)を反応混合物から直接結晶化する。スラリーを0℃まで1時間冷却し、そして次にろ過して真空下乾燥後、純粋なアルデヒド(VI)400mgが得られる。
実施例9:5−(2−クロロフェニル)−1H−テトラゾール(ジブチルホウ素アジドを伴う)
Figure 0005052132
乾燥25mlフラスコをアルゴン下、ジブチルボリルトリフレートのヘプタン溶液(1モル濃度)10ml(10ミリモル)で充填する。この溶液にナトリウムアジド650mg(10ミリモル)を加える。懸濁液を室温で一晩攪拌してジブチルホウ素アジドが得られる。懸濁液に固体の2−クロロベンゾニトリル1.0g(7.7ミリモル)を一度に加える。反応混合物を外部温度130℃まで加熱する。5時間後、望ましい生成物への変換はたった5%である。さらにトルエン5mlを加え、そして還流を一晩続ける。24時間後、変換は27%である。130℃(外部温度)でさらに24時間の還流の後、変換は35%である(HPLC)。6N HClで黄色懸濁液を注意深くクエンチすることにより、反応を停止させる。炭酸カリウム溶液2×10mlで生成物を水相に抽出する。水層を6N HClでpH1に調整し、そして生成物を酢酸エチルで抽出する。溶媒を蒸発乾固して灰白色固体の残留物が得られる。
TLC:Rf値:0.48、トルエン:EtOAc:AcOH(20:20:1);SiO−プレート
実施例10:5−(4−クロロフェニル)−1H−テトラゾール
Figure 0005052132
手順
顆粒のナトリウムアジド292mg(4.5ミリモル)をトルエン2.5mlに希釈した塩化ジエチルアルミニウム(4.5ミリモル、トルエン中1.8M)の冷溶液に加え、そして混合物を室温で4時間攪拌する。4−クロロベンゾニトリル473mgを攪拌した溶液に加え、そして反応混合物を135℃(外部温度)まで加熱し、そして一晩攪拌する。HPLCにより完全な変換が観察される。トルエン5mlを混合物に加え、次いで溶液を6N HClの冷溶液に滴加する。酢酸エチル10mlを加え、そして溶液を抽出する。水相を酢酸エチル10ml部分で2回洗浄する。合わせた有機相を2N HCl10ml部分で、および最後に水10mlで洗浄する。溶媒を除去し、そして生成物を60℃で一晩、真空下乾燥して生成物が得られる。
融点:255−257℃
TLC:Rf値:0.40、トルエン:EtOAc:AcOH(20:20:1);SiO−プレート
HPLC: Hewlett Packard、溶媒、HPO、アセトニトリル/水;流速:2ml/分;注入:5.0μl;波長220nm、40℃;流速:2ml/分;注入:5.0μl;カラム:Merck, Chromolith Performance RP−18e100−4.6mm、保持時間:6.184分
実施例11a)から11 l):
以下の表(実施例11a)から11 l)は本発明をさらに説明するであろう。本発明の方法を適用する場合、式(IIa)のニトリル化合物から出発して式(I)のテトラゾール化合物を得ることができる:
Figure 0005052132
前記した、特に実施例で記載したような技術を用いて、以下の化合物を得ることができる:
Figure 0005052132
融点220−222℃
Figure 0005052132
融点158−160℃
Figure 0005052132
融点255−257℃
Figure 0005052132
融点253−255℃
Figure 0005052132
Rf:0.31
Figure 0005052132
融点140−141℃
Figure 0005052132
融点150−152℃
Figure 0005052132
融点158−160℃
Figure 0005052132
173−175℃
実施例12
Figure 0005052132
トルエン5ml中式
Figure 0005052132
5ミリモルの懸濁液(1.96g、5ミリモル)および乾燥トルエン中1.8モル濃度のトリエチルアルミニウム溶液2.7mlを0℃でゆっくりと合わせる。トルエン中別個に調製したジイソブチル−Al−アジド(7ミリモル)を懸濁液に加え、そして最後に混合物を内部温度約110℃まで一晩加熱する。HPLC制御は14時間後に約50%の変換を示す。さらにジイソブチルアルミニウムアジド部分(4ミリモル)を加え、そして還流温度130℃で加熱をさらに12時間続ける。HPLCにより所望の生成物(Valsartan DS)への約77%の変換および約23%の出発材料が示される。室温まで冷却した後、反応混合物を2N塩酸40ml中NaNO 50ミリモルの水溶液の混合物でクエンチした。さらに2N HCl20mlを攪拌しながら加えて、沈殿した水酸化アルミニウムを溶解する。最後に酢酸i−プロピルで抽出することにより生成物を水相から単離する。合わせた有機相(トルエン/i−PrOAc)を水30mlで洗浄し、そして真空下蒸発乾固して粗製の油状バルサルタンが得られ、これはなお約23%の出発材料を含有した。KHCOで有機相から水相に注意深く抽出することによりビスカリウム塩として生成物を精製し、そして続いて塩酸で調整し、そして酢酸i−プロピルに逆抽出する。
実施例13
Figure 0005052132
反応工程1:
1)K. Srinivas et al., Synthesis, 2004,(4), 506
2)R. D. Larsen et al., J. Org. Chem., 59, 6391(1994)
3)T. Kato & Y. Shida, EP 578125 A1(19940112)
に開示されている。
反応工程2. 対応するアルコール:lを形成するためのNaBHでのアルデヒドの還元
「5−ホルミル−イミダゾール−1−イルメチル−ビフェニル−2−カルボニトリル」3.78g(10ミリモル)をエタノール50mlに懸濁する。この懸濁液に10℃で攪拌しながらNaBH152mg(4ミリモル)を2度で加える。2−3時間攪拌した後、2N HCl10mlを加えることにより反応をクエンチする。反応混合物を真空下濃縮し、そして最後に水25mlで希釈する。水相を酢酸エチル30mlで3回抽出する。有機相を合わせ、そして蒸発乾固してほぼ白色の固体残留物が得られ、これを真空下乾燥する。粗製「アルコール」をさらに精製することなく、次の工程で用いる。
反応工程3. AlEtを用いる「インサイチュ保護」のための実施例およびジエチル−Al−アジドを用いる続く付加環化およびロサルタンの後処理
前工程からの「ヒドロキシメチル−イミダゾール−1−イルメチルビフェニルカルボニトリル」1.9g(5ミリモル)をアルゴン下乾燥トルエン10mlに懸濁する。この懸濁液に室温で攪拌しながらトルエン中1.8モル濃度のAlEt2.8mlを加える。懸濁液の攪拌をさらに3時間続けた。次いで別のフラスコで調製した、トルエン中ジエチルアルミニウムアジド10ミリモルの溶液をシリンジを介して加える(このEtAl−N10ミリモルをトルエン中EtAlCl10ミリモルおよびNaN10ミリモルを室温で一晩攪拌することにより調製してNaClの白色懸濁液が得られるが、ジエチルアルミニウムアジドはトルエンに溶解する)。反応混合物を還流(〜111℃)、外部温度約140℃まで加熱する。HPLC分析により変換を制御する。24時間の還流の後、反応混合物を室温まで冷却し、そして最後に2N塩酸40ml中NaNO40ミリモルの水溶液でクエンチする。次いでさらに2N HCl20mlを攪拌しながら加えて、沈殿した水酸化アルミニウムを溶解する。最後に酢酸エチルで水相抽出することにより生成物を単離した。合わせた有機相(トルエン/EtOAc)を水25mlで2回洗浄し、そして真空下蒸発乾固して粗製のロサルタンが得られる。文献に従ってCHCNまたはCHCN/水混合物から結晶化することにより粗製のロサルタンを精製することができる;(J.O.C., 59, 6391 (1994))。
実施例14
Figure 0005052132
「4−ヒドロキシメチル−ビフェニル−2−カルボニトリル」16.74g(80ミリモル)をアルゴン下乾燥キシレン(異性体混合物)100mlに懸濁する。この懸濁液に室温で攪拌しながら水素化リチウム0.636g(80ミリモル)を加える。懸濁液を外部温度120℃でさらに4時間攪拌し、そしてトルエン中ジエチルアルミニウムアジド160ミリモルの溶液(これはキシレン(異性体混合物)中室温で一晩塩化ジエチルアルミニウム160ミリモルおよびナトリウムアジド160ミリモルを攪拌することにより別個に調製する)をシリンジを介して加える。反応混合物を還流(〜120℃)、外部温度約140℃まで加熱する。HPLC分析により変換を制御する。24時間の還流の後、反応混合物を室温まで冷却し、そして最後に亜硝酸ナトリウム300ミリモルおよび15%水酸化ナトリウム(240ミリモル)の溶液でクエンチする。最後に濃HCl95mlを攪拌しながら加える。得られた懸濁液に室温で攪拌しながら65%硝酸31g(320ミリモル)を加える。懸濁液を外部温度60℃(内部温度=55℃)でさらに6時間攪拌する。最後にろ過により生成物を単離する。粗製2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−カルバルデヒドが得られる。
実施例15
a) 3−メチル−2{[1−[2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イル]−メト−(E/Z)−イルジエン]−アミノ}−酪酸の調製
Figure 0005052132
水(20ml)中L−バリン(2.43g;20.8ミリモル)および2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−カルバルデヒド(5g;19.6ミリモル)の攪拌懸濁液に室温で、pH11に達するまで30%水酸化ナトリウム水溶液(4.2ml;31.5ミリモル)を加える。得られた溶液を室温で15分間攪拌する。透明な溶液を真空下60℃で蒸発させ、そして1−ブタノール10mlと共沸することにより残った水を除去する。
1H NMR (CD3OD, 300MHz):
δ= 8.21 (CH=N, s), 7.67 (C6H5-CH, d), 7.40-7.60 (4 C6H5-CH, m), 7.18 (C6H5-CH, d), 3.42 (CH, d), 2.31 (CH, m), 0.98 (CH3, d), 0.82 (CH3, d).
b1) (S)−3−メチル−2−((2'−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イルメチル)−アミノ)−酪酸の調製
Figure 0005052132
水(100ml)中L−バリン(11.8g;100ミリモル)および2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−カルバルデヒド(25.1g;100ミリモル)の攪拌した懸濁液に室温で、pH11に達するまで2.0M水酸化ナトリウム水溶液(およそ100ml;200ミリモル)を加える。得られた透明な溶液を真空下60℃で蒸発させ、そして残った水を1−ブタノールと共沸することにより除去する。残留物(固体泡状のイミン)を無水エタノール(300ml)に溶解し、そして0−5℃でホウ化水素ナトリウム(3.78g;100ミリモル)を分けて溶液に加える。反応混合物を0−5℃で30分間攪拌し、そして反応が完了した場合(HPLC)、水(100ml)および2.0M塩酸(80ml;160ミリモル)の添加によりクエンチする。真空下50℃で透明な溶液(pH7)から有機溶媒(エタノール)を取り除く。40℃で2.0M塩酸(およそ70ml;140ミリモル)をゆっくりと添加することにより残った水性濃縮物をpH2に調整する。添加の間に所望の生成物が沈殿する。それをろ過により収集し、水で洗浄し、そして真空下乾燥する。粗製生成物を50℃でメタノールに懸濁し、そしてスラリーを室温まで冷却する。ろ過により(S)−3−メチル−2−((2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イル−メチル)−アミノ)−酪酸を収集し、そして次に真空下乾燥する。
b2) これに代えて、(S)−3−メチル−2−((2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イル−メチル)−アミノ)−酪酸を例えば以下のように調製することができる:
水(200ml)中L−バリン(24.8g;210ミリモル)および2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−カルバルデヒド(50g;200ミリモル)の攪拌した懸濁液に室温で、pH11に達するまで10M水酸化ナトリウム水溶液(およそ41ml;410ミリモル)を加える。得られた透明な溶液を真空下60℃で蒸発させ、そして1−ブタノールと共沸することにより残った水を除去する。残留物(固体泡状のイミン)をメタノール(600ml)に溶解し、そして0−5℃でホウ化水素ナトリウム(3.13g;80ミリモル)を分けて溶液に加える。反応混合物を0−5℃で30分間攪拌し、そして反応が完了した場合(HPLC)、水(300ml)および2.0M塩酸(160ml;320ミリモル)の添加によりクエンチする。真空下50℃で透明な溶液(pH7)から有機溶媒(メタノール)を取り除く。40℃で2.0M塩酸(およそ90ml)をゆっくりと添加することにより残った水性濃縮物をpH2に調整する。添加の間に所望の生成物が沈殿する。それをろ過により収集し、水で洗浄し、そして真空下乾燥する。粗製生成物を50℃でメタノールに懸濁し、そして数分間攪拌する。次いでスラリーを室温まで冷却する。ろ過により(S)−3−メチル−2−((2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イル−メチル)−アミノ)−酪酸を収集し、そして次に真空下乾燥する。
鏡像体過剰率(HPLCによる):ee>99.9%
b3) これに代えて、(S)−3−メチル−2−((2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イル−メチル)−アミノ)−酪酸を例えば以下のように調製することができる:
メタノール中15ml中L−バリン(2.48g;21ミリモル)の攪拌した懸濁液に水酸化ナトリウム(1.71g;41.89ミリモル)を分けて加える。混合物を室温で30分間攪拌する。次いで2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−カルバルデヒド(5g;20ミリモル)を加える。数分後に混合物は透明な溶液になる。次いで混合物を−5℃まで冷却し、そしてホウ化水素ナトリウム(0.315g;8ミリモル)を溶液に分けて加える。温度は添加の間0−5℃を維持する。得られた混合物を0℃で2時間攪拌し(反応の完了はHPLCに従う)、次いでpHが2−2.5の間になるまで水(10ml)および37%塩酸(5.3g)を加えることによりクエンチする。さらなる後処理および結晶化は実施例1 b2)に従って行う。
鏡像体過剰率(HPLCによる):ee>99.9%
b4) これに代えて、(S)−3−メチル−2−((2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イル−メチル)−アミノ)−酪酸を例えば以下のように調製することができる:
50mlのスチール製加圧滅菌器に、3−メチル−2{[1−[2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イル]−メト−(E/Z)−イリデン]−アミノ}−酪酸(1.5g;3.2ミリモル)および5%Pt/C(7.5mg、5重量/重量%)をアルゴン下で充填する。次いでメタノール15mlを加え、そして加圧滅菌器を密閉し、そしてアルゴンおよび水素を流す。圧力を5バールに設定し、そして反応物を室温で攪拌する。HPLCにより反応の完了をモニタリングする。次いで加圧滅菌器にアルゴンを流し、そして触媒をろ去する。さらなる後処理および結晶化は実施例1 b2)に類似して行う。
b5) これに代えて、(S)−3−メチル−2−((2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イル−メチル)−アミノ)−酪酸を例えば以下のように調製することができる:
2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−カルバルデヒド(0.79g;3.2ミリモル)およびL−バリン(0.4g;3.4ミリモル)をメタノール15mlに懸濁する。次いで水酸化ナトリウム(0.27g;6.72ミリモル)を加え、そして透明な溶液が得られるまで反応混合物を室温で攪拌する。5%Pt/C(15.8mg、2重量/重量%)を加える。加圧滅菌器を密閉し、そしてアルゴンおよび水素を流す。圧力を5バールに設定し、そして反応物を60℃で攪拌する。HPLCにより反応の完了をモニタリングする。次いで加圧滅菌器にアルゴンを流し、そして触媒をろ去する。さらなる後処理および結晶化は実施例1 b2)に類似して行う。
鏡像体過剰率(HPLCによる):ee>99.9%
c) (S)−3−メチル−2−{ペンタノイル−[2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イルメチル]−アミノ}−酪酸の調製
Figure 0005052132
1,2−ジメトキシエタン(116g)中(S)−3−メチル−2−((2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イルメチル)−アミノ)−酪酸(17.6g;50.0ミリモル)の懸濁液を−5℃まで冷却し、そして塩化バレロイル(9.9ml;80ミリモル)を加え、続いて1,2−ジメトキシエタン(60ml)で希釈したピリジン(6.0ml;75ミリモル)をゆっくりと加える。[1]反応の完了後、反応混合物をメタノール(18ml)でクエンチする。最後に室温で水(50ml)を加え、そして1時間攪拌した後、0℃で10%炭酸ナトリウム水溶液(〜116ml、120ミリモル)の添加により混合物をpH7.5に調整する。真空下50℃で有機溶媒を取り除く。酢酸エチル(125ml)を残った水性濃縮物に加え、そして2.0M HCl(〜98ml)の添加により2相系を0−5℃でpH2に調整する。有機相を分離し、そして真空下45℃で濃縮する(水を共沸除去する)。生成物の結晶化を45℃で開始し、そしてシクロヘキサン(102ml)を加えた後、−5℃まで冷却することにより完了する。固体をろ過により収集し、そして50℃で乾燥した後、(S)−3−メチル−2−{ペンタノイル−[2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イルメチル]−アミノ}−酪酸が白色粉末として得られる。
融点:108−110℃
鏡像体過剰率(HPLCによる):ee>99.5%
[1]これに代えてピリジンおよび塩化バレロイルを交互に加えることができる:1,2−ジメトキシエタン(126g)中(S)−3−メチル−2−((2’−(1H−テトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イルメチル)−アミノ)−酪酸(25.5g;72.6ミリモル)の懸濁液を−10℃まで冷却し、そして塩化バレロイル(8.75g;72.6ミリモル)を15分間にわたって加え、続いてピリジン(5.6g)および水(1.5g)の混合物(7.16g)を61分間にわたってゆっくりと加える。30分間攪拌した後、塩化バレロイル(5.3g;43.5ミリモル)を8分間にわたって加え、続いてピリジン(3.4g)および水(0.9g)の混合物(4.3g)を30分間にわたってゆっくりと加える。ピリジンの各々の添加の後、サンプリングによりpHを制御する(水で加水分解)。試料のpHはいつも2.5よりも低くあるべきである。反応物を25分間攪拌し、次いで水(25.6g)を30分間にわたって加える。混合物をさらに30分間攪拌し、次いで30分間にわたって23℃まで加温し、そしてさらに2時間攪拌する。前記の実施例1 c)に記載したようにpHの調整、蒸留による有機溶媒の除去、さらなる後処理および結晶化を行う。

Claims (20)

  1. 式:
    Figure 0005052132
    (I)
    のテトラゾールまたはその互変異性体もしくは塩を製造する方法であって、
    (i)式R−CN(IIa)の化合物を式(R)(R)M−N(IIb)のアジドと反応させること;および
    (ii)得られた式(I)の化合物を単離すること;
    を含み、
    ここでR、RおよびRは互いに別個に脂肪族残基、脂環式残基、ヘテロ脂環式残基;脂環式−脂肪族残基;ヘテロ脂環式−脂肪族残基;炭素環式または複素環式芳香族残基;芳香脂肪族残基またはヘテロ芳香脂肪族残基を表し、各々の残基は互いに別個に非置換または置換されており;そしてMはホウ素またはアルミニウムである、方法。
  2. 式(IV):
    Figure 0005052132
    (IV)
    のアンギオテンシンII受容体アンタゴニストまたはその互変異性体(式中Rxは
    Figure 0005052132
    Figure 0005052132
    Figure 0005052132
    Figure 0005052132
    Figure 0005052132
    Figure 0005052132
    Figure 0005052132
    または各々の場合のその塩;
    からなる群から選択される構造エレメントを表す)の製造のための請求項1に記載の方法であって、
    式(IVa)
    Figure 0005052132
    (IVa)
    (式中Rxは式IVのために与えられた意味を有する)の化合物を式(R)(R)M−N(IIb)(ここでRおよびRは互いに別個に請求項1に記載されたようであり、そして、Mはアルミニウムまたはホウ素である)の化合物と反応させ、そして得られた式(IV)の化合物を単離することを含む、方法。
  3. 式(IVb):
    Figure 0005052132
    の化合物を製造する方法であって、
    式(IVc)
    Figure 0005052132
    (IVc)
    の化合物を式(R)(R)M−N(IIb)(ここでRおよびRは互いに別個に脂肪族残基、脂環式残基、ヘテロ脂環式残基;脂環式−脂肪族残基;ヘテロ脂環式−脂肪族残基;炭素環式または複素環式芳香族残基;芳香脂肪族残基またはヘテロ芳香脂肪族残基を表し、各々の残基は互いに別個に非置換または置換されており;そしてMはホウ素またはアルミニウムである)のアジドと反応させること、および式(IVb)の化合物を単離することを含む、方法。
  4. 式:
    Figure 0005052132
    (V)
    の化合物またはその互変異性体(式中、RyはC−C−アルキル;X’により置換されたC−C−アルキルを表し、そしてX’はハロゲン、スルホニルオキシ、ヒドロキシル、保護されたヒドロキシル、ホルミルまたはホルミルのアセタールである)の製造のための請求項1に記載の方法であって、
    式(Va):
    Figure 0005052132
    (Va)
    の化合物を式(R)(R)M−N(IIb)(式中RおよびRは互いに別個に請求項1に記載したようであり、そして、Mはアルミニウムまたはホウ素である)の化合物と反応させること;および得られた式(V)の化合物を単離することを含む、方法。
  5. 式(VI):
    Figure 0005052132
    (VI)
    の化合物またはその互変異性体もしくは塩を製造する方法であって、
    (a)式(VIa):
    Figure 0005052132
    (VIa)
    (式中、Xは離脱基を表す)を最初に求核剤と、そして次に「加溶媒分解性」塩基と処理して式(VIb):
    Figure 0005052132
    (VIb)
    の化合物を得ること
    (ここで、「加溶媒分解性」塩基は、水酸化アルカリ金属、水素化物、アミド、アルカノラート、カルボナート、または低級アルキルシリルアミド、ナフタレンアミン、低級アルキルアミン、塩基性複素環、水酸化アンモニウム、および炭素環式アミンからなる群より選択される);
    (b)式(VIb)の化合物を式(R)(R)M−N(IIb)(式中RおよびRは互いに別個に脂肪族残基、脂環式残基、ヘテロ脂環式残基;脂環式−脂肪族残基;ヘテロ脂環式−脂肪族残基;炭素環式または複素環式芳香族残基;芳香脂肪族残基またはヘテロ芳香脂肪族残基を表し、各々の残基は互いに別個に非置換または置換されており;そしてMはホウ素またはアルミニウムである)のアジドと反応させて、式(VIc):
    Figure 0005052132
    (VIc)
    の化合物またはその互変異性体もしくは塩を得ること;
    (c)式(VIc)の化合物またはその互変異性体もしくは塩を酸化して、式(VI):
    Figure 0005052132
    (VI)
    の化合物またはその互変異性体もしくは塩を得ること;および
    (d)式(VI)の化合物またはその互変異性体もしくは塩を単離すること;
    を含む、方法。
  6. 工程cの酸化が、HNO、HNOまたは対応するその無水物、およびペルオキソ二硫酸からなる群から選択される酸化剤の存在下で実施され、そして溶媒としてアルキル化芳香族炭化水素溶媒を用いる請求項5に記載の方法。
  7. 式Iのテトラゾールまたはその互変異性体もしくは塩を製造する、請求項1に記載の方法であって、
    i)式(IIa):R−CNの化合物(ここで、Rは保護された反応基を含む)を請求項1に記載された式(IIb):RMNのアジドと反応させること;および
    ii)得られた式(I)のテトラゾール(ここで、Rは保護された反応基を含む)から保護基を取り除くことを含む、方法。
  8. 反応基が、ヒドロキシル基である、請求項7に記載の方法。
  9. ヒドロキシル基が、式(IId):M'(R)(ここで、M’は、元素周期表の1a、2a、3aおよび4a族の元素を表し;
    は互いに別個に水素、離脱基、NH、C−C−アルキル、C−C−シクロアルキル、炭素環式アリール、炭素環式アリール−アルキル、C−C−アルコキシであり;そして指数「n」は元素M’の価数に相当する;およびRは1つの離脱基のみを表すことができる)
    の化合物との処置により保護される、請求項8に記載の方法。
  10. M’が、Li、Na、K、Mg、Ca、B、AlおよびSiからなる群から選択される、請求項9に記載の方法。
  11. 式Iの化合物またはその互変異性体もしくは塩を製造するための請求項1および7−10のいずれかに記載の方法であって、
    反応する式(IIa):R−CNの化合物が、式(VIb):
    Figure 0005052132
    またはその塩である、方法。
  12. 式(VIb)の化合物が、式(VIa):
    Figure 0005052132
    (ここで、Xは、離脱基である)を、最初に求核剤と、そして次に「加溶媒分解性」塩基と処理することにより調製される、請求項11に記載の方法であって、「加溶媒分解性」塩基が、水酸化アルカリ金属、水素化物、アミド、アルカノラート、カルボナート、または低級アルキルシリルアミド、ナフタレンアミン、低級アルキルアミン、塩基性複素環、水酸化アンモニウム、および炭素環式アミンからなる群より選択される方法。
  13. 式(VII’):
    Figure 0005052132
    (式中、RyはC−C−アルキル、またはX’により置換されたC−C−アルキルを表し、そしてX’はハロゲン、スルホニルオキシ、ヒドロキシル、保護されたヒドロキシル、またはホルミルのアセタールである)
    の化合物またはその互変異性体を製造するための請求項1に記載の方法であって、
    式(VIIa’):
    Figure 0005052132
    の化合物を、式(IIb):(R)(R)M−N
    (式中、RおよびRは互いに別個に脂肪族残基、脂環式残基、ヘテロ脂環式残基;脂環式−脂肪族残基;ヘテロ脂環式−脂肪族残基;炭素環式または複素環式芳香族残基;芳香脂肪族残基またはヘテロ芳香脂肪族残基を表し、各々の残基は互いに別個に非置換または置換されており;そしてMはホウ素またはアルミニウムである)の化合物と反応させること;および
    得られた式(VII’)の化合物を単離することを含む、方法。
  14. 式:
    Figure 0005052132
    (VII)
    の化合物、その互変異性体(ここでRyはC−C−アルキルまたはX’により置換されたC−C−アルキルを表し、そしてX’はハロゲン、スルホニルオキシ、ヒドロキシル、保護されたヒドロキシル、ホルミルまたはそのアセタールである)の製造のための請求項1に記載の方法であって、
    式(VIIa):
    Figure 0005052132
    の化合物を式(IIb):(R)(R)M−N(ここでRおよびRは互いに別個に請求項1に記載されるようであり、そして、Mはアルミニウムまたはホウ素である)の化合物と反応させること;および得られた式(VII)の化合物を単離することを含む、方法。
  15. Ryがメチルである、請求項4、13または14に記載の方法。
  16. アルキル化芳香族炭化水素溶媒が、トルエンである、請求項6に記載の方法。
  17. 式(IIb):(R)(R)M−N(式中、Mはアルミニウムまたはホウ素であり、RおよびRは互いに別個にC−C−アルキル;C−Cアルケニル、C−C−シクロアルキル;フェニル−C−C−アルキル;フェニル−C−Cアルケニル、またはC−C−シクロアルキル−C−C−アルキルである)の化合物を用いる請求項1から16のいずれかに記載の方法。
  18. 式(IIb):(R)(R)M−N(式中、Mがアルミニウムまたはホウ素であり、RおよびRが互いに別個にメチル、エチル、プロピル、ジイソブチル、tert−ブチル、n−オクチル、アリル、クロチル、シクロヘキシル、ベンジル、2−フェネチル、シンナミル、シクロプロピルメチルまたはシクロヘキシルメチルである)の化合物を用いる請求項1から16のいずれかに記載の方法。
  19. 式(IIb)の化合物が、ジメチルアルミニウムアジド、ジエチルアルミニウムアジド、ジイソプロピルアルミニウムアジド、ジプロピルアルミニウムアジド、ジイソブチルアルミニウムアジド、ジブチルアルミニウムアジド、ジシクロヘキシルアルミニウムアジド、ジエチルホウ素アジド、ジイソプロピルホウ素アジド、ジプロピルホウ素アジド、ジイソブチルホウ素アジド、ジブチルホウ素アジド、ジシクロヘキシルホウ素アジド、およびジフェニルホウ素アジドからなる群から選択される、請求項1から16のいずれかに記載の方法。
  20. 式:
    Figure 0005052132
    (I)
    (ここでRは請求項1に記載の通りである)のテトラゾールまたはその互変異性体もしくは塩の製造方法における、式(R )(R )M−N (IIb)(ここで、Mはアルミニウムまたはホウ素であり、R およびR は互いに別個に請求項1に記載の通りである)の化合物の使用。
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