JP2990566B2 - トリ高級アルキルスズアジドおよびその用途 - Google Patents
トリ高級アルキルスズアジドおよびその用途Info
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- JP2990566B2 JP2990566B2 JP5166639A JP16663993A JP2990566B2 JP 2990566 B2 JP2990566 B2 JP 2990566B2 JP 5166639 A JP5166639 A JP 5166639A JP 16663993 A JP16663993 A JP 16663993A JP 2990566 B2 JP2990566 B2 JP 2990566B2
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- alkyl
- azide
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なトリ高級アルキ
ルスズアジドに関する。さらに、本発明は、トリ高級ア
ルキルスズアジドを使用した、シアノベンゼン化合物か
らテトラゾールベンゼン化合物を工業的かつ安全に製造
する方法に関し、より具体的には、アンジオテンシンII
拮抗作用に基づく降圧作用を有するテトラゾール誘導体
あるいはその製造中間体の安全かつ工業的に有利な製造
法に関する。
ルスズアジドに関する。さらに、本発明は、トリ高級ア
ルキルスズアジドを使用した、シアノベンゼン化合物か
らテトラゾールベンゼン化合物を工業的かつ安全に製造
する方法に関し、より具体的には、アンジオテンシンII
拮抗作用に基づく降圧作用を有するテトラゾール誘導体
あるいはその製造中間体の安全かつ工業的に有利な製造
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】特開平１−１１７８７６号公報には、抗
高血圧化合物のためのテトラゾール中間体の製造法の例
として下記に示すスキームの方法が記載されている。 （反応Ａ）
高血圧化合物のためのテトラゾール中間体の製造法の例
として下記に示すスキームの方法が記載されている。 （反応Ａ）
【化４】 すなわち、ニトリル体と過剰のトリメチルスズアジドを
反応させ、反応後結晶として析出するトリメチルスズテ
トラゾール誘導体をろ過により残存するトリメチルスズ
アジドと分離した後、塩化水素でトリメチルスズ基を脱
離して所望のテトラゾール体を得ている。また、特開昭
６３−２３８６８号公報には下記の方法が記載されてい
る。 （反応Ｂ）
反応させ、反応後結晶として析出するトリメチルスズテ
トラゾール誘導体をろ過により残存するトリメチルスズ
アジドと分離した後、塩化水素でトリメチルスズ基を脱
離して所望のテトラゾール体を得ている。また、特開昭
６３−２３８６８号公報には下記の方法が記載されてい
る。 （反応Ｂ）
【化５】
【０００３】しかし、上記反応Ａでは、一貫収率が７８
％と不充分であること、２段階の反応を行わなければな
らないことなどから工業的製造法としては問題がある。
また、過剰のトリメチルスズアジドは一部トリメチルス
ズテトラゾール誘導体に混入していると考えられる。ト
リメチルスズテトラゾール誘導体を塩化水素で加水分解
した場合、混入したトリメチルスズアジドが分解し、有
毒で極めて爆発性の高いアジ化水素が発生することが考
えられ、工業的な製造法としては安全性の面から非常に
問題がある。一方、上記反応Ｂにおいては、適応できる
化合物の範囲が有機スズアジドに比べ限定される。たと
えば、イミダゾール環の２位置換基が低級アルコキシで
ある化合物の場合には分解を引き起こし、目的物の収率
が低下する。また、反応中に爆発性のアジ化アンモニウ
ム［Ｎ．イルヴィング・サックス，リチャード・Ｊ．ル
イス，Sr.，デンジャラス・プロパティ・オブ・インダ
ストリアル・マテリアルズ，２巻，２３２頁，１９８９
年（N. Irving Sax, Richard J. Lewis, Sr.,Dengerous
Properties of Industrial Materials, Van Nostland
Reinhold (1989)）］が昇華し、冷却器あるいは反応機
上部等に付着するため、安全性の面から工業的製造法と
しては非常に問題がある。
％と不充分であること、２段階の反応を行わなければな
らないことなどから工業的製造法としては問題がある。
また、過剰のトリメチルスズアジドは一部トリメチルス
ズテトラゾール誘導体に混入していると考えられる。ト
リメチルスズテトラゾール誘導体を塩化水素で加水分解
した場合、混入したトリメチルスズアジドが分解し、有
毒で極めて爆発性の高いアジ化水素が発生することが考
えられ、工業的な製造法としては安全性の面から非常に
問題がある。一方、上記反応Ｂにおいては、適応できる
化合物の範囲が有機スズアジドに比べ限定される。たと
えば、イミダゾール環の２位置換基が低級アルコキシで
ある化合物の場合には分解を引き起こし、目的物の収率
が低下する。また、反応中に爆発性のアジ化アンモニウ
ム［Ｎ．イルヴィング・サックス，リチャード・Ｊ．ル
イス，Sr.，デンジャラス・プロパティ・オブ・インダ
ストリアル・マテリアルズ，２巻，２３２頁，１９８９
年（N. Irving Sax, Richard J. Lewis, Sr.,Dengerous
Properties of Industrial Materials, Van Nostland
Reinhold (1989)）］が昇華し、冷却器あるいは反応機
上部等に付着するため、安全性の面から工業的製造法と
しては非常に問題がある。
【０００４】そして、いずれの方法においても収率向上
および反応時間短縮のために過剰のアジド化合物を使用
するのが一般的であるが、反応系内に存在する未反応の
アジド化合物からは、反応液を酸性にすることにより有
毒で極めて爆発性の高いアジ化水素が発生する。このア
ジ化水素は揮発性の液体（沸点３７℃）であるため、作
業者に危険を及ぼすことは明らかである。アジ化水素は
０．０５−０．１mg/kgの量を投与すればヒトに虚脱状
態を引き起こすと言われており、また、アジ化水素はそ
れ自体極めて爆発し易いものであるが、溶液中でも１７
％以上であれば極めて爆発性が高いと言われている。こ
れは有機物中のアジ化水素濃度が高い場合も非常に危険
であることを示している。さらに、アジ化水素は重金属
と爆発性の塩を作ることも知られている。特に、トリア
ルキルスズアジドまたはトリフェニルスズアジドなどの
有機スズアジドを用いる場合は、トリアルキルスズテト
ラゾール誘導体またはトリフェニルスズ化合物を無機酸
で加水分解してテトラゾール誘導体を得る際、過剰の有
機スズアジドに由来するアジ化水素を反応液から追い出
しアルカリで捕集するなどの対策が必要であるが、操作
が煩雑で非常に危険であることから工業的製法とするこ
とはできない。
および反応時間短縮のために過剰のアジド化合物を使用
するのが一般的であるが、反応系内に存在する未反応の
アジド化合物からは、反応液を酸性にすることにより有
毒で極めて爆発性の高いアジ化水素が発生する。このア
ジ化水素は揮発性の液体（沸点３７℃）であるため、作
業者に危険を及ぼすことは明らかである。アジ化水素は
０．０５−０．１mg/kgの量を投与すればヒトに虚脱状
態を引き起こすと言われており、また、アジ化水素はそ
れ自体極めて爆発し易いものであるが、溶液中でも１７
％以上であれば極めて爆発性が高いと言われている。こ
れは有機物中のアジ化水素濃度が高い場合も非常に危険
であることを示している。さらに、アジ化水素は重金属
と爆発性の塩を作ることも知られている。特に、トリア
ルキルスズアジドまたはトリフェニルスズアジドなどの
有機スズアジドを用いる場合は、トリアルキルスズテト
ラゾール誘導体またはトリフェニルスズ化合物を無機酸
で加水分解してテトラゾール誘導体を得る際、過剰の有
機スズアジドに由来するアジ化水素を反応液から追い出
しアルカリで捕集するなどの対策が必要であるが、操作
が煩雑で非常に危険であることから工業的製法とするこ
とはできない。
【０００５】また、国際公開ＷＯ９２／０２５０８号公
報には下記の方法が記載されている。
報には下記の方法が記載されている。
【化６】 すなわち、ニトリル体とトリブチルスズアジドとを反応
させ、次いで水性鉱酸を反応液に添加することによっ
て、トリブチルスズテトラゾール誘導体を単離せずに、
トリブチルスズ基を除去して、所望のテトラゾール体を
得ている。
させ、次いで水性鉱酸を反応液に添加することによっ
て、トリブチルスズテトラゾール誘導体を単離せずに、
トリブチルスズ基を除去して、所望のテトラゾール体を
得ている。
【０００６】しかしながら、トリブチルスズアジドは蒸
気圧が高く（ｂｐ １１８−１２０℃／０．１８ｍｍＨ
ｇ）、臭いが強い。この臭いは非常に特異的で他のも
の、例えば作業者の衣服、反応機、遠心機あるいは乾燥
機等に移りやすく、一旦移ると除きにくい。また、トリ
ブチルスズアジドは直接皮膚に触れると皮膚が発赤し、
かゆくなり、水ぶくれになるといったかぶれの症状を引
き起こす。さらに、 一般に低級アルキルスズ化合物は毒
性が強い［Ｎ．イルヴィング・サックス，デンジャラス
・プロパティ・オブ・インダストリアル・マテリアル
ズ，１９８９年(N. Irving Sax, Dengerous Properties
of Industrial Materials (1989)］ことが知られてい
る。トリブチルスズアジドは通常トリブチルスズクロリ
ドとアジ化ソーダから合成されるが、原料トリブチルス
ズクロリドも臭いが強く、かぶれの原因となると共に、
ＬＤ50は１２９ｍｇ／ｋｇ（ラット、経口、アルブライ
ト・アンド・ウィルソン・リミテッド，テクニカル・サービ
ス・ノート，"トルブチルスズクロリド−セーフティ・ア
ンド・エンバイロメンタル・プロテクション"，１９７７
年３月（Albright and Wilson Ltd., Technical Servic
e Note,“Tributyltin Chloride −Safety and Environ
mental Protection, ”March, 1977））と毒性が強い。
さらにトリブチルスズクロリドは皮膚からも吸収され
る。トリブチルスズアジドの使用はトリブチルスズアジ
ド自体の衣服に付く特異的な臭い、 機器洗浄の繁雑さ、
かぶれ、そして原料化合物の臭い、かぶれ、毒性、皮膚
からの吸収の危険性で作業者に非常な苦痛を強いること
になる。従ってトリブチルスズアジドは作業者の安全を
確保しにくいという点で工業的に使用することは難し
い。
気圧が高く（ｂｐ １１８−１２０℃／０．１８ｍｍＨ
ｇ）、臭いが強い。この臭いは非常に特異的で他のも
の、例えば作業者の衣服、反応機、遠心機あるいは乾燥
機等に移りやすく、一旦移ると除きにくい。また、トリ
ブチルスズアジドは直接皮膚に触れると皮膚が発赤し、
かゆくなり、水ぶくれになるといったかぶれの症状を引
き起こす。さらに、 一般に低級アルキルスズ化合物は毒
性が強い［Ｎ．イルヴィング・サックス，デンジャラス
・プロパティ・オブ・インダストリアル・マテリアル
ズ，１９８９年(N. Irving Sax, Dengerous Properties
of Industrial Materials (1989)］ことが知られてい
る。トリブチルスズアジドは通常トリブチルスズクロリ
ドとアジ化ソーダから合成されるが、原料トリブチルス
ズクロリドも臭いが強く、かぶれの原因となると共に、
ＬＤ50は１２９ｍｇ／ｋｇ（ラット、経口、アルブライ
ト・アンド・ウィルソン・リミテッド，テクニカル・サービ
ス・ノート，"トルブチルスズクロリド−セーフティ・ア
ンド・エンバイロメンタル・プロテクション"，１９７７
年３月（Albright and Wilson Ltd., Technical Servic
e Note,“Tributyltin Chloride −Safety and Environ
mental Protection, ”March, 1977））と毒性が強い。
さらにトリブチルスズクロリドは皮膚からも吸収され
る。トリブチルスズアジドの使用はトリブチルスズアジ
ド自体の衣服に付く特異的な臭い、 機器洗浄の繁雑さ、
かぶれ、そして原料化合物の臭い、かぶれ、毒性、皮膚
からの吸収の危険性で作業者に非常な苦痛を強いること
になる。従ってトリブチルスズアジドは作業者の安全を
確保しにくいという点で工業的に使用することは難し
い。
【０００７】
【本発明が解決しようとする課題】本発明は、作業者に
安全なテトラゾール化剤およびテトラゾール誘導体の安
全な工業的製造法を提供する。
安全なテトラゾール化剤およびテトラゾール誘導体の安
全な工業的製造法を提供する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記事情
に鑑み、下記化合物（I）の工業的製造法を鋭意研究し
た結果、意外にも、適当に置換されたシアノベンゼン化
合物（II）に、過剰の式（Ｒ)3ＳnＮ3（式中、Ｒは炭素
数７〜１８のアルキルを示す）で表されるトリ高級アル
キルスズアジド（以下、一般式（Ｑ）と称することがあ
る）を１，３−双極性シクロ付加することにより製造さ
れたトリアルキルスズテトラゾール誘導体の反応液に亜
硝酸ソーダ水溶液と低級アルコール類を加えた後、反応
液を塩酸酸性にすることで、残存するアジド化合物由来
のアジ化水素を系外に出すことなく安全に分解するとと
もに、トリアルキルスズテトラゾール誘導体を分離する
ことなしに加水分解し、所望のテトラゾール誘導体が１
段階で工業的に安全に製造できることを見い出し、本発
明を完成させるに至った。すなわち、反応液を加水分解
する前に過剰に使用したトリアルキルスズアジド量に対
し1.5〜3当量の亜硝酸ソーダを加えた後、加水分解する
ために液性を酸性にすると、発生するアジ化水素は瞬間
的に亜硝酸と定量的に反応して、酸化二窒素と窒素およ
び水に分解される。一般にアジ化水素は、過剰の第二鉄
の塩を含有する水溶液と混ぜると血赤色を呈するので、
この呈色反応がその検出に使用されるが、亜硝酸が残存
している液ではこの呈色反応は認められない。すなわち
アジ化水素は完全に分解している。
に鑑み、下記化合物（I）の工業的製造法を鋭意研究し
た結果、意外にも、適当に置換されたシアノベンゼン化
合物（II）に、過剰の式（Ｒ)3ＳnＮ3（式中、Ｒは炭素
数７〜１８のアルキルを示す）で表されるトリ高級アル
キルスズアジド（以下、一般式（Ｑ）と称することがあ
る）を１，３−双極性シクロ付加することにより製造さ
れたトリアルキルスズテトラゾール誘導体の反応液に亜
硝酸ソーダ水溶液と低級アルコール類を加えた後、反応
液を塩酸酸性にすることで、残存するアジド化合物由来
のアジ化水素を系外に出すことなく安全に分解するとと
もに、トリアルキルスズテトラゾール誘導体を分離する
ことなしに加水分解し、所望のテトラゾール誘導体が１
段階で工業的に安全に製造できることを見い出し、本発
明を完成させるに至った。すなわち、反応液を加水分解
する前に過剰に使用したトリアルキルスズアジド量に対
し1.5〜3当量の亜硝酸ソーダを加えた後、加水分解する
ために液性を酸性にすると、発生するアジ化水素は瞬間
的に亜硝酸と定量的に反応して、酸化二窒素と窒素およ
び水に分解される。一般にアジ化水素は、過剰の第二鉄
の塩を含有する水溶液と混ぜると血赤色を呈するので、
この呈色反応がその検出に使用されるが、亜硝酸が残存
している液ではこの呈色反応は認められない。すなわち
アジ化水素は完全に分解している。
【０００９】すなわち、本発明は、テトラゾール化剤と
して有用な新規な一般式（Ｒ)3ＳnＮ3（式中、Ｒは炭素
数７〜１８のアルキルを示す）で表されるトリアルキル
スズアジド（一般式（Ｑ）と称することがある）に関す
る。上記一般式（Ｑ）において、Ｒで示されるアルキル
基としては、直鎖状あるいは分枝状のＣ7-18アルキル基
が挙げられ、例えば、ヘプチル，オクチル，ノニル，デ
シル，ウンデシル，ドデシル，トリデシル，テトラデシ
ル，ペンタデシル，ヘキサデシル，ヘプタデシル，オク
タデシルなどが挙げられるが、好ましくは、直鎖状のも
のがよい。その中でも、炭素数１０個以下のアルキル基
が好ましく、さらに、ｎ−オクチル基が最も好ましい。
Ｒがｎ−オクチル基であるトリオクチルスズアジドは、
毒性が低く、臭いも少なく、またさらに反応液からの回
収・除去が容易であるので、有利に用いられる。
して有用な新規な一般式（Ｒ)3ＳnＮ3（式中、Ｒは炭素
数７〜１８のアルキルを示す）で表されるトリアルキル
スズアジド（一般式（Ｑ）と称することがある）に関す
る。上記一般式（Ｑ）において、Ｒで示されるアルキル
基としては、直鎖状あるいは分枝状のＣ7-18アルキル基
が挙げられ、例えば、ヘプチル，オクチル，ノニル，デ
シル，ウンデシル，ドデシル，トリデシル，テトラデシ
ル，ペンタデシル，ヘキサデシル，ヘプタデシル，オク
タデシルなどが挙げられるが、好ましくは、直鎖状のも
のがよい。その中でも、炭素数１０個以下のアルキル基
が好ましく、さらに、ｎ−オクチル基が最も好ましい。
Ｒがｎ−オクチル基であるトリオクチルスズアジドは、
毒性が低く、臭いも少なく、またさらに反応液からの回
収・除去が容易であるので、有利に用いられる。
【００１０】一般式（Ｑ）で表される化合物は、下記の
ように製造することができる。オーガニック・シンセシ
ス・コレクティブ，第IV巻，１９６３年，８８１頁（Ｏ
rganic Ｓyntheses，Ｃoll. Ｖol. IV, 1963, p.８８
１）に記載の方法に準じてハロゲン化アルキルよりテト
ラアルキルスズを合成し、 続いてジー・ジェー・エム・フ
ァン・デア・ケルク・アンド・ジェー・ジー・エイ・ルイテ
ン，ジャーナル・オブ・アプライド・ケミストリー，第６
巻，９３頁，１９５６年（Ｇ.Ｊ.Ｍ. Ｖan ＤerＫerk a
nd Ｊ.Ｇ.Ａ.Ｌuijten, Ｊournal of Ａpplied Ｃhemis
try ６, 93（1956)）に記載の方法に準じてトリアルキ
ルスズクロリドを合成する。更にジェー・シ゛ー・エイ・ルイ
テンら，レキュエイル・デス・トラバオクス・キミークエ
ス・デス・ペイズ・バス，第８１巻，２０２頁，１９６２
年（Ｊ.Ｇ.Ａ.Ｌuijten ら, Ｒecueil des Ｔravaux Ｃ
himiques des Ｐays-Ｂas, ８１, 202（1962)）に記載
の方法でトリ高級アルキルスズアジドが合成できる。ト
リアルキルスズクロリドとアジ化ナトリウムとの反応
は、溶媒中で実施してもよいし、溶媒を使用しなくても
よい。溶媒としては、反応に関与しないものであればい
かなるものであってもよいが、ジエチルエーテル，トル
エン，水などが好ましい。溶媒量は特に制限されない
が、反応基質量に対して０．２倍から１０倍が好ましく
用いられる。アジ化ナトリウムの量としては、特に限定
されないが、経済的には、トリアルキルスズクロリド量
に対し、１〜３当量を用いることが好ましい。反応温度
は、特に限定されないが、通常２〜１３０℃、好ましく
は５〜１２０℃である。反応時間としては、特に制限さ
れないが、１〜１０時間が好ましい。
ように製造することができる。オーガニック・シンセシ
ス・コレクティブ，第IV巻，１９６３年，８８１頁（Ｏ
rganic Ｓyntheses，Ｃoll. Ｖol. IV, 1963, p.８８
１）に記載の方法に準じてハロゲン化アルキルよりテト
ラアルキルスズを合成し、 続いてジー・ジェー・エム・フ
ァン・デア・ケルク・アンド・ジェー・ジー・エイ・ルイテ
ン，ジャーナル・オブ・アプライド・ケミストリー，第６
巻，９３頁，１９５６年（Ｇ.Ｊ.Ｍ. Ｖan ＤerＫerk a
nd Ｊ.Ｇ.Ａ.Ｌuijten, Ｊournal of Ａpplied Ｃhemis
try ６, 93（1956)）に記載の方法に準じてトリアルキ
ルスズクロリドを合成する。更にジェー・シ゛ー・エイ・ルイ
テンら，レキュエイル・デス・トラバオクス・キミークエ
ス・デス・ペイズ・バス，第８１巻，２０２頁，１９６２
年（Ｊ.Ｇ.Ａ.Ｌuijten ら, Ｒecueil des Ｔravaux Ｃ
himiques des Ｐays-Ｂas, ８１, 202（1962)）に記載
の方法でトリ高級アルキルスズアジドが合成できる。ト
リアルキルスズクロリドとアジ化ナトリウムとの反応
は、溶媒中で実施してもよいし、溶媒を使用しなくても
よい。溶媒としては、反応に関与しないものであればい
かなるものであってもよいが、ジエチルエーテル，トル
エン，水などが好ましい。溶媒量は特に制限されない
が、反応基質量に対して０．２倍から１０倍が好ましく
用いられる。アジ化ナトリウムの量としては、特に限定
されないが、経済的には、トリアルキルスズクロリド量
に対し、１〜３当量を用いることが好ましい。反応温度
は、特に限定されないが、通常２〜１３０℃、好ましく
は５〜１２０℃である。反応時間としては、特に制限さ
れないが、１〜１０時間が好ましい。
【００１１】一般式（Ｑ）で表されるトリ高級アルキル
スズアジドは蒸気圧が低く、臭いが少ないので扱い易
く、かぶれることもないので作業者にとって安全であ
る。また、テトラゾールの収率もトリ低級アルキルスズ
アジドと同等か、あるいはそれ以上である。一般的にア
ジドは爆発物として知られているが、トリ高級アルキル
スズアジドはトリ低級アルキルスズアジドに比べ、爆発
性はより少ないと考えられる。このことは示差走査熱量
測定（ＤＳＣ：ディファレンシャル・スキャンニィング
・カロリメーター（Differential Scanning Calorimete
r)）でトリブチルスズアジドが２９５℃で発熱分解する
のに対して、 トリオクチルスズアジドは３０３℃で発熱
分解することから支持される。また、トリブチルスズア
ジドとトリオクチルスズアジドの急性毒性をラットの経
口投与で比較したところ、トリブチルスズアジドのＬＤ
50は、雄で４００ｍｇ／ｋｇ、雌で２００−４００ｍｇ
／ｋｇの範囲であるのに対し、トリオクチルスズアジド
の場合は雄で５００−１０００ｍｇ／ｋｇ、雌で２５０
−５００ｍｇ／ｋｇの範囲であった。雄雌ともに、トリ
オクチルスズアジド（５００ｍｇ／ｋｇ以上）またはト
リブチルスズアジド（１００ｍｇ／ｋｇ以上）を与えた
ところ、活動性低下、低反応性、異常姿勢などの様な症
状が観察された。更にトリブチルスズアジドが１００ｍ
ｇ／ｋｇ以上で唾液分泌亢進、尿失禁、活動性低下、触
刺激に対する反応性低下、下痢を、また２００ｍｇ／ｋ
ｇ以上で腹臥あるいは横臥位姿勢、腹筋緊張度低下の様
な症状を起こすのに対して、トリオクチルスズアジドは
２５０ｍｇ／ｋｇ以下でこの様な症状を起こさなかっ
た。また、死亡例でトリブチルスズアジドが消化管内液
体貯留の様な消化管に対する直接刺激作用を示すのに対
し、トリオクチルスズアジドはこの様な症状を示さなか
った。
スズアジドは蒸気圧が低く、臭いが少ないので扱い易
く、かぶれることもないので作業者にとって安全であ
る。また、テトラゾールの収率もトリ低級アルキルスズ
アジドと同等か、あるいはそれ以上である。一般的にア
ジドは爆発物として知られているが、トリ高級アルキル
スズアジドはトリ低級アルキルスズアジドに比べ、爆発
性はより少ないと考えられる。このことは示差走査熱量
測定（ＤＳＣ：ディファレンシャル・スキャンニィング
・カロリメーター（Differential Scanning Calorimete
r)）でトリブチルスズアジドが２９５℃で発熱分解する
のに対して、 トリオクチルスズアジドは３０３℃で発熱
分解することから支持される。また、トリブチルスズア
ジドとトリオクチルスズアジドの急性毒性をラットの経
口投与で比較したところ、トリブチルスズアジドのＬＤ
50は、雄で４００ｍｇ／ｋｇ、雌で２００−４００ｍｇ
／ｋｇの範囲であるのに対し、トリオクチルスズアジド
の場合は雄で５００−１０００ｍｇ／ｋｇ、雌で２５０
−５００ｍｇ／ｋｇの範囲であった。雄雌ともに、トリ
オクチルスズアジド（５００ｍｇ／ｋｇ以上）またはト
リブチルスズアジド（１００ｍｇ／ｋｇ以上）を与えた
ところ、活動性低下、低反応性、異常姿勢などの様な症
状が観察された。更にトリブチルスズアジドが１００ｍ
ｇ／ｋｇ以上で唾液分泌亢進、尿失禁、活動性低下、触
刺激に対する反応性低下、下痢を、また２００ｍｇ／ｋ
ｇ以上で腹臥あるいは横臥位姿勢、腹筋緊張度低下の様
な症状を起こすのに対して、トリオクチルスズアジドは
２５０ｍｇ／ｋｇ以下でこの様な症状を起こさなかっ
た。また、死亡例でトリブチルスズアジドが消化管内液
体貯留の様な消化管に対する直接刺激作用を示すのに対
し、トリオクチルスズアジドはこの様な症状を示さなか
った。
【００１２】トリ高級アルキルスズアジドの一つである
トリオクチルスズアジドの原料はトリオクチルスズクロ
リドであるが、本品のＬＤ50は４０００ｍｇ以上（ラッ
ト、経口、エイ・ボクラン・アンド・エイチ・プラ
ム，"インダストリアル・マニュファクチュア・アンド・ユ
ース・オブ・オルガノティン・コンパウンズ", シェーリン
グ・エイ・ジー,ベルクカーメン,ウエスト・ジャーマニー,
１９７５年３月（Ａ.Ｂokranz and Ｈ.Ｐlum, “Ｉndus
trial Ｍanufacture and use of Ｏrganotin Ｃompoun
ds,”Ｓchering ＡＧ, Ｂergkamen, Ｗ. Ｇermany, Ｍa
rch, １９７５））なのでトリオクチルスズアジドを製
造するさいも安全であることがわかる。したがって、ト
リ高級アルキルスズアジドはテトラゾール化剤として、
非常に優れている。
トリオクチルスズアジドの原料はトリオクチルスズクロ
リドであるが、本品のＬＤ50は４０００ｍｇ以上（ラッ
ト、経口、エイ・ボクラン・アンド・エイチ・プラ
ム，"インダストリアル・マニュファクチュア・アンド・ユ
ース・オブ・オルガノティン・コンパウンズ", シェーリン
グ・エイ・ジー,ベルクカーメン,ウエスト・ジャーマニー,
１９７５年３月（Ａ.Ｂokranz and Ｈ.Ｐlum, “Ｉndus
trial Ｍanufacture and use of Ｏrganotin Ｃompoun
ds,”Ｓchering ＡＧ, Ｂergkamen, Ｗ. Ｇermany, Ｍa
rch, １９７５））なのでトリオクチルスズアジドを製
造するさいも安全であることがわかる。したがって、ト
リ高級アルキルスズアジドはテトラゾール化剤として、
非常に優れている。
【００１３】さらに、本発明は、シアノベンゼン化合物
に一般式（Ｑ）で表される化合物を反応させた後、亜硝
酸またはその塩の存在下に反応液を酸性にすることを特
徴とするテトラゾールベンゼン化合物の製造法、より具
体的には、式（II）で表される化合物に一般式（Ｑ）で
表される化合物を反応させた後、亜硝酸またはその塩の
存在下に反応液を酸性にすることを特徴とする式（Ｉ）
で表される化合物の製造法を提供する。
に一般式（Ｑ）で表される化合物を反応させた後、亜硝
酸またはその塩の存在下に反応液を酸性にすることを特
徴とするテトラゾールベンゼン化合物の製造法、より具
体的には、式（II）で表される化合物に一般式（Ｑ）で
表される化合物を反応させた後、亜硝酸またはその塩の
存在下に反応液を酸性にすることを特徴とする式（Ｉ）
で表される化合物の製造法を提供する。
【化７】 [式中、Ａは水素，フタルイミド，または式
【化８】 (式中、Ｒ1は置換されていてもよく、ヘテロ原子を介し
てイミダゾール環に結合していてもよいアルキルを示
し、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ水素，ハロゲン，ホルミ
ル，アルコキシカルボニル，または水酸基で置換されて
いてもよいアルキルを示し、またＲ2およびＲ3が結合し
てイミダゾール環上の隣接する２個の炭素原子とともに
置換されていてもよいベンゼン環を形成していてもよ
い)で表される基を示す]。
てイミダゾール環に結合していてもよいアルキルを示
し、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ水素，ハロゲン，ホルミ
ル，アルコキシカルボニル，または水酸基で置換されて
いてもよいアルキルを示し、またＲ2およびＲ3が結合し
てイミダゾール環上の隣接する２個の炭素原子とともに
置換されていてもよいベンゼン環を形成していてもよ
い)で表される基を示す]。
【００１４】シアノベンゼン化合物としては、ベンゼン
環上にシアノ基を有する化合物であって、一般式（Ｑ）
で表されるトリ高級アルキルスズアジドと反応してテト
ラゾール環を形成し得るものであればいずれでもよい
が、なかでも上記式（II）で表される化合物が好まし
い。上記式（I）中、Ｒ1としては、置換されていてもよ
く、ヘテロ原子（例、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＮＨ−など）
を介して結合していてもよいアルキルなどが挙げられる
が、より具体的には低級（C1-4）アルキル，低級
（C1-4）アルコキシ，低級（C1-4）アルキルチオ，低級
（C1-4）アルキルアミノなどが挙げられ、なかでもエト
キシ，ブチルなどが好ましい。また、Ｒ2およびＲ3とし
ては、水素，ハロゲン（例、Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉなど），ホ
ルミル，アルコキシカルボニル（例、低級（C1-4）アル
コキシカルボニルなど），水酸基で置換されていてもよ
いアルキル（例、低級（C1-4）アルキル，ヒドロキシメ
チルなど）などが挙げられる。
環上にシアノ基を有する化合物であって、一般式（Ｑ）
で表されるトリ高級アルキルスズアジドと反応してテト
ラゾール環を形成し得るものであればいずれでもよい
が、なかでも上記式（II）で表される化合物が好まし
い。上記式（I）中、Ｒ1としては、置換されていてもよ
く、ヘテロ原子（例、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＮＨ−など）
を介して結合していてもよいアルキルなどが挙げられる
が、より具体的には低級（C1-4）アルキル，低級
（C1-4）アルコキシ，低級（C1-4）アルキルチオ，低級
（C1-4）アルキルアミノなどが挙げられ、なかでもエト
キシ，ブチルなどが好ましい。また、Ｒ2およびＲ3とし
ては、水素，ハロゲン（例、Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉなど），ホ
ルミル，アルコキシカルボニル（例、低級（C1-4）アル
コキシカルボニルなど），水酸基で置換されていてもよ
いアルキル（例、低級（C1-4）アルキル，ヒドロキシメ
チルなど）などが挙げられる。
【００１５】上記式（II）中、Ｒ2およびＲ3がベンゼン
環を形成する場合、該ベンゼン環上への置換基（好まし
くは、１〜２個）としては、低級（C1-4）アルキル，ハ
ロゲン，低級（C1-4）アルコキシ，置換されていてもよ
い低級（C1-4）アルコキシカルボニル、フェニル−低級
（C1-4）アルコキシカルボニルなどが挙げられるが、式
（II）のＡとしては式
環を形成する場合、該ベンゼン環上への置換基（好まし
くは、１〜２個）としては、低級（C1-4）アルキル，ハ
ロゲン，低級（C1-4）アルコキシ，置換されていてもよ
い低級（C1-4）アルコキシカルボニル、フェニル−低級
（C1-4）アルコキシカルボニルなどが挙げられるが、式
（II）のＡとしては式
【化９】 ［Ｒ1は前記と同意義、Ｒ4は水素、または水酸基，アミ
ノ，ハロゲン，低級（Ｃ2-6）アルカノイルオキシ
（例、アセチルオキシ，ピバロイルオキシなど），１−
低級（Ｃ1-6）アルコキシカルボニルオキシ（例、メト
キシカルボニルオキシ，エトキシカルボニルオキシな
ど），１−低級（Ｃ3-6）シクロアルコキシカルボニル
オキシ（例、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシな
ど）もしくは低級（Ｃ1-4）アルコキシなどで置換され
ていてもよい低級（C1-4）アルキル基（好ましくは、メ
チル，エチル）を示す。］で表される基が好ましく、特
に好ましくは式
ノ，ハロゲン，低級（Ｃ2-6）アルカノイルオキシ
（例、アセチルオキシ，ピバロイルオキシなど），１−
低級（Ｃ1-6）アルコキシカルボニルオキシ（例、メト
キシカルボニルオキシ，エトキシカルボニルオキシな
ど），１−低級（Ｃ3-6）シクロアルコキシカルボニル
オキシ（例、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシな
ど）もしくは低級（Ｃ1-4）アルコキシなどで置換され
ていてもよい低級（C1-4）アルキル基（好ましくは、メ
チル，エチル）を示す。］で表される基が好ましく、特
に好ましくは式
【化１０】 ［Ｒ4は前記と同意義を示す。］で表される基である。
【００１６】一般式（Ｑ）で表されるトリアルキルスズ
アジドは、シアノベンゼン化合物と反応してテトラゾー
ル環を形成し得るものである。本発明の製造法におい
て、一般式（Ｑ）中、Ｒで示されるアルキル基として
は、直鎖状あるいは分枝状のＣ7-18アルキル基が挙げら
れ、例えば、ヘプチル，オクチル，ノニル，デシル，ウ
ンデシル，ドデシル，トリデシル，テトラデシル，ペン
タデシル，ヘキサデシル，ヘプタデシル，オクタデシル
などが挙げられるが、好ましくは、直鎖状のものがよ
い。その中でも、炭素数１０個以下のアルキル基が好ま
しく、さらに、ｎ−オクチル基が最も好ましい。Ｒがｎ
−オクチル基であるトリオクチルスズアジドは、毒性が
低く、臭いも少なく、またさらに反応液からの回収・除
去が容易であるので、有利に用いられる。
アジドは、シアノベンゼン化合物と反応してテトラゾー
ル環を形成し得るものである。本発明の製造法におい
て、一般式（Ｑ）中、Ｒで示されるアルキル基として
は、直鎖状あるいは分枝状のＣ7-18アルキル基が挙げら
れ、例えば、ヘプチル，オクチル，ノニル，デシル，ウ
ンデシル，ドデシル，トリデシル，テトラデシル，ペン
タデシル，ヘキサデシル，ヘプタデシル，オクタデシル
などが挙げられるが、好ましくは、直鎖状のものがよ
い。その中でも、炭素数１０個以下のアルキル基が好ま
しく、さらに、ｎ−オクチル基が最も好ましい。Ｒがｎ
−オクチル基であるトリオクチルスズアジドは、毒性が
低く、臭いも少なく、またさらに反応液からの回収・除
去が容易であるので、有利に用いられる。
【００１７】亜硝酸またはその塩としては、ナトリウ
ム，カリウムなどのアルカリ金属との塩などが好まし
く、なかでも亜硝酸ソーダが好ましい。また、亜硝酸ま
たはその塩の存在下に反応液を酸性にする場合、無機酸
でｐＨ４程度以下，好ましくはｐＨ１〜３程度に調整す
るのが望ましく、無機酸としては例えば、塩酸，硫酸，
リン酸などが挙げられるが、なかでも塩酸が好ましい。
上記反応は溶媒中で行われる。溶媒としては、反応に関
与しないものであればいかなるものであってもよいが、
トルエン，キシレン，ジメチルホルムアミド，ジメチル
イミダゾリジノンなどの比較的に高沸点の有機溶媒が好
ましい。溶媒量は特に制限はないが、好ましくは反応基
質の３〜１０倍である。反応温度は通常９０℃〜１５０
℃であり、好ましくは１００℃〜１３０℃である。一般
式（Ｑ）で表されるトリアルキルスズアジドの使用量は
特に制限はないが、シアノベンゼン化合物に対して１〜
３当量を用いることが経済的である。反応時間は特に制
限されないが、一般には５〜４０時間であることが好ま
しい。さらに、本発明は、シアノベンゼン化合物，トリ
高級アルキルスズクロリド，アジ化ナトリウムおよび溶
媒の混合物を、上記した条件下で、一つの容器中で撹拌
し反応させる（one pot reaction）ことにより実施し、
所望のテトラゾール誘導体を得ることができる。
ム，カリウムなどのアルカリ金属との塩などが好まし
く、なかでも亜硝酸ソーダが好ましい。また、亜硝酸ま
たはその塩の存在下に反応液を酸性にする場合、無機酸
でｐＨ４程度以下，好ましくはｐＨ１〜３程度に調整す
るのが望ましく、無機酸としては例えば、塩酸，硫酸，
リン酸などが挙げられるが、なかでも塩酸が好ましい。
上記反応は溶媒中で行われる。溶媒としては、反応に関
与しないものであればいかなるものであってもよいが、
トルエン，キシレン，ジメチルホルムアミド，ジメチル
イミダゾリジノンなどの比較的に高沸点の有機溶媒が好
ましい。溶媒量は特に制限はないが、好ましくは反応基
質の３〜１０倍である。反応温度は通常９０℃〜１５０
℃であり、好ましくは１００℃〜１３０℃である。一般
式（Ｑ）で表されるトリアルキルスズアジドの使用量は
特に制限はないが、シアノベンゼン化合物に対して１〜
３当量を用いることが経済的である。反応時間は特に制
限されないが、一般には５〜４０時間であることが好ま
しい。さらに、本発明は、シアノベンゼン化合物，トリ
高級アルキルスズクロリド，アジ化ナトリウムおよび溶
媒の混合物を、上記した条件下で、一つの容器中で撹拌
し反応させる（one pot reaction）ことにより実施し、
所望のテトラゾール誘導体を得ることができる。
【００１８】トリアルキルスズアジドが酸で分解されて
生じるアジ化水素を、亜硝酸またはその塩により分解す
る時の条件は特に制限はないが、温度は５〜４０℃を保
持するのが望ましい。加水分解が終了し、亜硝酸の残存
が確認できれば分解は終了である。亜硝酸またはその塩
の量は一般に過剰に使用したアジド化合物に対し、当量
以上あればよいが、１．２〜３倍が安全かつ経済的であ
る。亜硝酸またはその塩の存在下に反応液を酸性にする
ことによって、過剰に存在するアジ化物を安全に分解で
きるので、反応混合物中のトリアルキルスズテトラゾー
ル誘導体は単離する必要がなく、しかも容易に加水分解
され、テトラゾールベンゼン化合物に導くことができ、
多くの場合は、目的化合物を結晶として析出させること
ができる。テトラゾールベンゼン化合物の分離精製は通
常の手段（例、ろ過，抽出，濃縮，再結晶，カラムクロ
マトグラフィーなど）を用いて行うことができる。なか
でもトリオクチルスズアジドを使用した場合は、トリオ
クチルスズ化合物の脂溶性がトリ低級アルキルスズ化合
物に比べて高いため、目的化合物中に残留する有機スズ
の除去が容易になることが期待できる。
生じるアジ化水素を、亜硝酸またはその塩により分解す
る時の条件は特に制限はないが、温度は５〜４０℃を保
持するのが望ましい。加水分解が終了し、亜硝酸の残存
が確認できれば分解は終了である。亜硝酸またはその塩
の量は一般に過剰に使用したアジド化合物に対し、当量
以上あればよいが、１．２〜３倍が安全かつ経済的であ
る。亜硝酸またはその塩の存在下に反応液を酸性にする
ことによって、過剰に存在するアジ化物を安全に分解で
きるので、反応混合物中のトリアルキルスズテトラゾー
ル誘導体は単離する必要がなく、しかも容易に加水分解
され、テトラゾールベンゼン化合物に導くことができ、
多くの場合は、目的化合物を結晶として析出させること
ができる。テトラゾールベンゼン化合物の分離精製は通
常の手段（例、ろ過，抽出，濃縮，再結晶，カラムクロ
マトグラフィーなど）を用いて行うことができる。なか
でもトリオクチルスズアジドを使用した場合は、トリオ
クチルスズ化合物の脂溶性がトリ低級アルキルスズ化合
物に比べて高いため、目的化合物中に残留する有機スズ
の除去が容易になることが期待できる。
【００１９】
【発明の効果】本発明のトリ高級アルキルスズアジドを
用いることにより、テトラゾールベンゼン化合物，とり
わけアンジオテンシンII拮抗作用に基づく降圧作用を有
するテトラゾール誘導体あるいはその製造中間体が安全
にしかも収率よく得られ、本発明はテトラゾールベンゼ
ン化合物の工業的製造法として有用である。
用いることにより、テトラゾールベンゼン化合物，とり
わけアンジオテンシンII拮抗作用に基づく降圧作用を有
するテトラゾール誘導体あるいはその製造中間体が安全
にしかも収率よく得られ、本発明はテトラゾールベンゼ
ン化合物の工業的製造法として有用である。
【００２０】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
もとより本発明はこれらに限定されるものではない。
もとより本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２１】実施例１ トリ−ｎ−オクチルスズアジドの合成 アジ化ナトリウム１０．１９ｇを純水３０ｍｌに溶解
し、８℃に冷却した。トリオクチルスズクロリド５０．
０ｇを１０分間で滴下し、同温度で２時間撹拌した。反
応液を塩化メチレン８８ｍｌ、次いで２５ｍｌで抽出
し、１０％食塩水２５ｍｌで洗浄後、濃縮してトリオク
チルスズアジド５０．０５ｇを得た。 ＩＲ（film）：2924, 2856, 2080, 1466 cm-1
し、８℃に冷却した。トリオクチルスズクロリド５０．
０ｇを１０分間で滴下し、同温度で２時間撹拌した。反
応液を塩化メチレン８８ｍｌ、次いで２５ｍｌで抽出
し、１０％食塩水２５ｍｌで洗浄後、濃縮してトリオク
チルスズアジド５０．０５ｇを得た。 ＩＲ（film）：2924, 2856, 2080, 1466 cm-1
【００２２】実施例２ トリ−ｎ−ドデシルスズアジドの合成 塩化ドデシル３０ｇをジエチルエーテル６０ｍｌに溶か
した液１０ｍｌをマグネシウム３.１８ｇに加え、臭素
２滴を添加した。しばらく撹拌した後、還流が始まった
ときに、残りの溶液を滴加した。発熱反応が終わったあ
と、加熱し還流下３０分間撹拌した。反応液を氷冷した
後、塩化第２錫５.２９ｇを滴加し、還流下１時間撹拌
し、さらにジエチルエーテルを留去し、６５℃で１．５
時間撹拌した。冷却後ジエチルエーテルと１０％塩酸を
加え分液後、有機層を塩化カルシウムで乾燥し、減圧濃
縮した。これに塩化第２錫１.７６ｇを加え２００℃で
３時間撹拌後一旦冷却しさらに２００℃で３時間撹拌し
た。冷却後、塩化メチレンを加え不溶物を除去、水洗後
硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮した。これをアジ化
ナトリウム３.４４ｇの水１０ｍｌ溶液に４℃で滴加し
た後、１.５時間撹拌した。塩化メチレンで抽出し硫酸
マグネシウムで乾燥後濃縮し２１.５９ｇのトリドデシ
ルスズアジドを得た。 ＩＲ（film）：２９２８， ２８５６， ２０８０，
１４６８ｃｍ−１
した液１０ｍｌをマグネシウム３.１８ｇに加え、臭素
２滴を添加した。しばらく撹拌した後、還流が始まった
ときに、残りの溶液を滴加した。発熱反応が終わったあ
と、加熱し還流下３０分間撹拌した。反応液を氷冷した
後、塩化第２錫５.２９ｇを滴加し、還流下１時間撹拌
し、さらにジエチルエーテルを留去し、６５℃で１．５
時間撹拌した。冷却後ジエチルエーテルと１０％塩酸を
加え分液後、有機層を塩化カルシウムで乾燥し、減圧濃
縮した。これに塩化第２錫１.７６ｇを加え２００℃で
３時間撹拌後一旦冷却しさらに２００℃で３時間撹拌し
た。冷却後、塩化メチレンを加え不溶物を除去、水洗後
硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮した。これをアジ化
ナトリウム３.４４ｇの水１０ｍｌ溶液に４℃で滴加し
た後、１.５時間撹拌した。塩化メチレンで抽出し硫酸
マグネシウムで乾燥後濃縮し２１.５９ｇのトリドデシ
ルスズアジドを得た。 ＩＲ（film）：２９２８， ２８５６， ２０８０，
１４６８ｃｍ−１
【００２３】実施例３ トリ−ｎ−オクタデシルスズアジドの合成 トリオクタデシルスズクロリド２０．０ｇ，アジ化ナト
リウム３．０ｇおよびトルエン４０ｍｌとの混合物を１
２０℃で約６時間撹拌した。氷冷後、トルエン１００ｍ
ｌを反応液に添加し、トルエン層を水洗し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後減圧濃縮し１３．８ｇのトリオクタデシ
ルスズアジドを得た。 ＩＲ（film）：2128, 2056cm-1
リウム３．０ｇおよびトルエン４０ｍｌとの混合物を１
２０℃で約６時間撹拌した。氷冷後、トルエン１００ｍ
ｌを反応液に添加し、トルエン層を水洗し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後減圧濃縮し１３．８ｇのトリオクタデシ
ルスズアジドを得た。 ＩＲ（film）：2128, 2056cm-1
【００２４】実施例４ ５−［２−（４’−メチルビフェニリル）］−１Ｈ−テ
トラゾール ２−（４−メチルフェニル）ベンゾニトリル４．８５
ｇ、トリオクチルスズアジド３７．４６ｇおよびトルエ
ン２４ｍｌを１２５℃で８．５時間撹拌した。冷却後濃
縮し、エタノール４３ｍlと亜硝酸ソーダ水溶液（５．
４ｇ／２１ｍｌ）を加え、濃塩酸でｐＨ３に調整した。
酢酸エチル１０ｍｌとｎ−ヘキサン３０ｍｌを加え、濃
塩酸でｐＨ１に調整した。結晶が析出したところで３０
％水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ３に調整し、結晶を分
離した。なお液層の一部に塩化第二鉄溶液を加えたが、
赤変しなかった。乾燥して結晶４．４５ｇを得た。母液
を塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を水洗した
後、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で抽出した。水酸化ナ
トリウム層を塩化メチレンで洗浄した後、濃塩酸でｐＨ
２．６に調整し、析出した結晶を分離した。乾燥して結
晶１．５６ｇを得た。結晶を合わせて酢酸エチル２５ｍ
ｌに加熱溶解し、ｎ−ヘキサン２５mlを加えて冷却し
た。析出した結晶を分離し、酢酸エチル／ｎ−ヘキサン
混液（１：１）２５ｍｌで洗浄した。乾燥して５−［２
−（４’−メチルビフェニリル）］−１Ｈ−テトラゾー
ル５．１４ｇを得た。収率 ８７％1 H NMR(CDCl3)δ:2.40(3H,s),7.16(4H,dd),7.40(t)1),
7.43(d)1),7.55(2H,quintet-d),8.15(d)2),8.19(t)2) 注：1) 7.40と7.43で1H；2) 8.15と8.19で1H IR(KBr):1604,1570,1486,1452,1400,1248,1162,1080,10
52,1010,912,826,776, 756,556,522,450 cm-1
トラゾール ２−（４−メチルフェニル）ベンゾニトリル４．８５
ｇ、トリオクチルスズアジド３７．４６ｇおよびトルエ
ン２４ｍｌを１２５℃で８．５時間撹拌した。冷却後濃
縮し、エタノール４３ｍlと亜硝酸ソーダ水溶液（５．
４ｇ／２１ｍｌ）を加え、濃塩酸でｐＨ３に調整した。
酢酸エチル１０ｍｌとｎ−ヘキサン３０ｍｌを加え、濃
塩酸でｐＨ１に調整した。結晶が析出したところで３０
％水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ３に調整し、結晶を分
離した。なお液層の一部に塩化第二鉄溶液を加えたが、
赤変しなかった。乾燥して結晶４．４５ｇを得た。母液
を塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を水洗した
後、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で抽出した。水酸化ナ
トリウム層を塩化メチレンで洗浄した後、濃塩酸でｐＨ
２．６に調整し、析出した結晶を分離した。乾燥して結
晶１．５６ｇを得た。結晶を合わせて酢酸エチル２５ｍ
ｌに加熱溶解し、ｎ−ヘキサン２５mlを加えて冷却し
た。析出した結晶を分離し、酢酸エチル／ｎ−ヘキサン
混液（１：１）２５ｍｌで洗浄した。乾燥して５−［２
−（４’−メチルビフェニリル）］−１Ｈ−テトラゾー
ル５．１４ｇを得た。収率 ８７％1 H NMR(CDCl3)δ:2.40(3H,s),7.16(4H,dd),7.40(t)1),
7.43(d)1),7.55(2H,quintet-d),8.15(d)2),8.19(t)2) 注：1) 7.40と7.43で1H；2) 8.15と8.19で1H IR(KBr):1604,1570,1486,1452,1400,1248,1162,1080,10
52,1010,912,826,776, 756,556,522,450 cm-1
【００２５】実施例５ メチル ２−エトキシ−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾ
ール−５−イル）ビフェニル−４−イル］メチルベンズ
イミダゾール−７−カルボキシラート メチル １−（２’−シアノビフェニル−４−イル）メ
チル−２−エトキシベンズイミダゾール−７−カルボキ
シラート１３．０ｇ、トリオクチルスズアジド４７．１
ｇおよびトルエン６０ｍｌを１２５℃で３１時間還流し
た。冷却後濃縮し、エタノール５６ｍｌと亜硝酸ソーダ
水溶液(７．７ｇ／２８ｍｌ)を加え、濃塩酸でｐＨ５に
調整し、酢酸エチル３１ｍｌを加えた。さらに濃塩酸で
ｐＨ１．１に調整し、ｎ−ヘキサン２０ｍｌを加え、１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ３．３に調整した。結
晶を分離し、酢酸エチル／ｎ−ヘキサン混液（１：
３）、ｎ−ヘキサンで洗浄乾燥し、メチル ２−エトキ
シ−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビ
フェニル−４−イル］メチルベンズイミダゾール−７−
カルボキシラート１４．５６ｇを得た。収率１００％1 H NMR (CDCl3)δ:1.42(3H,t),3.56(3H,s),4.27(2H,q),
5.54(2H,s),6.70(2H,d),6.78-6.95(4H,m),7.28-7.33(1
H,m),7.40(1H,dd),7.56-7.66(2H,m),8.02-8.06(1H,m) IR(KBr):1720,1618,1548,1476,1432,1390,1354,1324,12
84,1222,1134,1042,872,840,820,780,756 cm-1
ール−５−イル）ビフェニル−４−イル］メチルベンズ
イミダゾール−７−カルボキシラート メチル １−（２’−シアノビフェニル−４−イル）メ
チル−２−エトキシベンズイミダゾール−７−カルボキ
シラート１３．０ｇ、トリオクチルスズアジド４７．１
ｇおよびトルエン６０ｍｌを１２５℃で３１時間還流し
た。冷却後濃縮し、エタノール５６ｍｌと亜硝酸ソーダ
水溶液(７．７ｇ／２８ｍｌ)を加え、濃塩酸でｐＨ５に
調整し、酢酸エチル３１ｍｌを加えた。さらに濃塩酸で
ｐＨ１．１に調整し、ｎ−ヘキサン２０ｍｌを加え、１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ３．３に調整した。結
晶を分離し、酢酸エチル／ｎ−ヘキサン混液（１：
３）、ｎ−ヘキサンで洗浄乾燥し、メチル ２−エトキ
シ−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビ
フェニル−４−イル］メチルベンズイミダゾール−７−
カルボキシラート１４．５６ｇを得た。収率１００％1 H NMR (CDCl3)δ:1.42(3H,t),3.56(3H,s),4.27(2H,q),
5.54(2H,s),6.70(2H,d),6.78-6.95(4H,m),7.28-7.33(1
H,m),7.40(1H,dd),7.56-7.66(2H,m),8.02-8.06(1H,m) IR(KBr):1720,1618,1548,1476,1432,1390,1354,1324,12
84,1222,1134,1042,872,840,820,780,756 cm-1
【００２６】実施例６ ５−［２−（４’−フタルイミドイルメチルビフェニリ
ル）］−１Ｈ−テトラゾール ４−（２−ベンゾニトリル）ベンジルフタルイミド３．
００ｇ、トリオクチルスズアジド１３．３ｇ、トルエン
１５ｍｌを１１５〜１２０℃で２９時間撹拌した。冷却
後濃縮し、エタノール１６ｍｌ、亜硝酸ソーダ水溶液
（２．０ｇ／８ｍｌ）を加え、濃塩酸でｐＨ３．１に調
整した。酢酸エチル５ｍｌとｎ−ヘキサン１５ｍｌを加
え、冷却後結晶を分離した。ｎ−ヘキサン３０ｍｌで洗
浄後乾燥し、５−［２−（４’−フタルイミドメチルビ
フェニリル）］−１Ｈ−テトラゾール３．５１gを得
た。収率１００％1 H NMR(CDCl3)δ:4.78(2H,s),7.9-8.0(12H,m) IR(KBr):1770,1714,1466,1436,1396,1346,1090,944,76
8,758,718,630,530 cm-1
ル）］−１Ｈ−テトラゾール ４−（２−ベンゾニトリル）ベンジルフタルイミド３．
００ｇ、トリオクチルスズアジド１３．３ｇ、トルエン
１５ｍｌを１１５〜１２０℃で２９時間撹拌した。冷却
後濃縮し、エタノール１６ｍｌ、亜硝酸ソーダ水溶液
（２．０ｇ／８ｍｌ）を加え、濃塩酸でｐＨ３．１に調
整した。酢酸エチル５ｍｌとｎ−ヘキサン１５ｍｌを加
え、冷却後結晶を分離した。ｎ−ヘキサン３０ｍｌで洗
浄後乾燥し、５−［２−（４’−フタルイミドメチルビ
フェニリル）］−１Ｈ−テトラゾール３．５１gを得
た。収率１００％1 H NMR(CDCl3)δ:4.78(2H,s),7.9-8.0(12H,m) IR(KBr):1770,1714,1466,1436,1396,1346,1090,944,76
8,758,718,630,530 cm-1
【００２７】実施例７ ２−ブチル−４−クロロ−５−ホルミル−１−［２’−
（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イ
ル］メチルイミダゾール ２−ブチル−４−クロロ−５−ホルミル−１−（２’−
シアノビフェニル−４−イル）メチルイミダゾール２．
１１ｇ、トリオクチルスズアジド８．３８ｇ、トルエン
１０ｍｌを１２０℃で１８時間撹拌した。冷却後濃縮
し、エタノール１０ｍｌ亜硝酸ソーダ水溶液（１．３ｇ
／５ｍｌ）を加え、濃塩酸でｐＨ３．３に調整した。水
２０ｍｌを加え、酢酸エチル２０ｍｌで２回抽出した。
酢酸エチル層を濃縮し、残査をシリカゲル３０ｇのクロ
マトグラフィー（ＣＨ2Ｃｌ2−ＭｅＯＨ）で精製した。
有効画分を濃縮し、２−ブチル−４−クロロ−５−ホル
ミル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）
ビフェニル−４−イル］メチルイミダゾール１．８２ｇ
を得た。収率７３％1 H NMR(CDCl3)δ:0.78-1.80(9H),2.53(3H,t),5.51(2H,
s),6.9-8.0(12H,m),9.66(1H,s) IR(KBr):2964,1668,1518,1466,1382,1280,758 cm-1
（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イ
ル］メチルイミダゾール ２−ブチル−４−クロロ−５−ホルミル−１−（２’−
シアノビフェニル−４−イル）メチルイミダゾール２．
１１ｇ、トリオクチルスズアジド８．３８ｇ、トルエン
１０ｍｌを１２０℃で１８時間撹拌した。冷却後濃縮
し、エタノール１０ｍｌ亜硝酸ソーダ水溶液（１．３ｇ
／５ｍｌ）を加え、濃塩酸でｐＨ３．３に調整した。水
２０ｍｌを加え、酢酸エチル２０ｍｌで２回抽出した。
酢酸エチル層を濃縮し、残査をシリカゲル３０ｇのクロ
マトグラフィー（ＣＨ2Ｃｌ2−ＭｅＯＨ）で精製した。
有効画分を濃縮し、２−ブチル−４−クロロ−５−ホル
ミル−１−［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）
ビフェニル−４−イル］メチルイミダゾール１．８２ｇ
を得た。収率７３％1 H NMR(CDCl3)δ:0.78-1.80(9H),2.53(3H,t),5.51(2H,
s),6.9-8.0(12H,m),9.66(1H,s) IR(KBr):2964,1668,1518,1466,1382,1280,758 cm-1
【００２８】実施例８ ２−ブチル−４−クロロ−５−（ヒドロキシメチル）−
１−［［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフ
ェニル−４−イル］メチル］イミダゾール ２−ブチル−４−クロロ−１−[(２'−シアノビフェニ
ル−４−イル)メチル］−５−(ヒドロキシメチル）イミ
ダゾール５ｇ、トリオクチルスズアジド３０.２ｇ、 ト
ルエン２５ｍｌおよびジメチルホルムアミド１ｍｌを窒
素気流下１１５℃で２４時間撹拌した。冷却後濃縮し、
エタノール４０ｍｌと亜硝酸ナトリウム５.２ｇ／水１
９ｍｌを加え、濃塩酸でｐＨ３.４に調整した。混合物
を塩化メチレンで抽出し、減圧濃縮した。残留物にヘキ
サンを加え、析出した結晶を濾取した。ヘキサンで洗浄
後乾燥し、２−ブチル−４−クロロ−５−（ヒドロキシ
メチル）−１−［［２'−（１Ｈ−テトラゾール−５−
イル）ビフェニル−４−イル］メチル］イミダゾール
５.２７ｇ（収率 ９４.７％）を得た。ＮＭＲスペクト
ルは文献（ジャーナル・メディカル・ケミストリー（Ｊ.
Ｍed.Ｃhem.), 1991, 34, 2525）記載の値と一致した。
１−［［２’−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフ
ェニル−４−イル］メチル］イミダゾール ２−ブチル−４−クロロ−１−[(２'−シアノビフェニ
ル−４−イル)メチル］−５−(ヒドロキシメチル）イミ
ダゾール５ｇ、トリオクチルスズアジド３０.２ｇ、 ト
ルエン２５ｍｌおよびジメチルホルムアミド１ｍｌを窒
素気流下１１５℃で２４時間撹拌した。冷却後濃縮し、
エタノール４０ｍｌと亜硝酸ナトリウム５.２ｇ／水１
９ｍｌを加え、濃塩酸でｐＨ３.４に調整した。混合物
を塩化メチレンで抽出し、減圧濃縮した。残留物にヘキ
サンを加え、析出した結晶を濾取した。ヘキサンで洗浄
後乾燥し、２−ブチル−４−クロロ−５−（ヒドロキシ
メチル）−１−［［２'−（１Ｈ−テトラゾール−５−
イル）ビフェニル−４−イル］メチル］イミダゾール
５.２７ｇ（収率 ９４.７％）を得た。ＮＭＲスペクト
ルは文献（ジャーナル・メディカル・ケミストリー（Ｊ.
Ｍed.Ｃhem.), 1991, 34, 2525）記載の値と一致した。
【００２９】実施例９ ５−[２−(４'−メチルビフェニリル）］−１Ｈ−テト
ラゾール ２−（４−メチルビフェニル）ベンゾニトリル１.５０
ｇ，トリドデシルスズアジド１９．５ｇおよびトルエン
７ｍｌを１２０℃で３７．５時間撹拌した。冷却後濃縮
し、エタノール１８ｍｌ，塩化メチレン１ｍｌおよび亜
硝酸ナトリウム２.４ｇ／水９ｍｌを加え、濃塩酸でｐ
Ｈ３.４に調整した。酢酸エチル２ｍｌとヘキサン１０
０ｍｌを加え、不溶物を濾去した後分液した。有機層を
１Ｎ ＮａＯＨで抽出した。アルカリ層を濃塩酸でｐＨ
３に調整し、酢酸エチルで抽出し濃縮した。残留物に酢
酸エチルとヘキサンを加え結晶化し、濾過した。ヘキサ
ンで洗浄後乾燥し、５−［２−（４'−メチルビフェニ
リル）］テトラゾール１.５１ｇ（収率８２.３％）を得
た。スペクトルデータは実施例４と一致した。
ラゾール ２−（４−メチルビフェニル）ベンゾニトリル１.５０
ｇ，トリドデシルスズアジド１９．５ｇおよびトルエン
７ｍｌを１２０℃で３７．５時間撹拌した。冷却後濃縮
し、エタノール１８ｍｌ，塩化メチレン１ｍｌおよび亜
硝酸ナトリウム２.４ｇ／水９ｍｌを加え、濃塩酸でｐ
Ｈ３.４に調整した。酢酸エチル２ｍｌとヘキサン１０
０ｍｌを加え、不溶物を濾去した後分液した。有機層を
１Ｎ ＮａＯＨで抽出した。アルカリ層を濃塩酸でｐＨ
３に調整し、酢酸エチルで抽出し濃縮した。残留物に酢
酸エチルとヘキサンを加え結晶化し、濾過した。ヘキサ
ンで洗浄後乾燥し、５−［２−（４'−メチルビフェニ
リル）］テトラゾール１.５１ｇ（収率８２.３％）を得
た。スペクトルデータは実施例４と一致した。
【００３０】実施例１０ ５−［２−（４’−メチルビフェニリル）］−１Ｈ−テ
トラゾール ２−（４−メチルフェニル）ベンゾニトリル０.５０
ｇ，トリオクタデシルスズアジド１３.６ｇを１２０℃
で１３.５時間撹拌した。実施例９と同様の処理を行
い、５−［２−（４’−メチルビフェニリル）］テトラ
ゾール０.４９９ｇ（収率８１.６ｇ）を得た。スペクト
ルデータは実施例４と一致した。
トラゾール ２−（４−メチルフェニル）ベンゾニトリル０.５０
ｇ，トリオクタデシルスズアジド１３.６ｇを１２０℃
で１３.５時間撹拌した。実施例９と同様の処理を行
い、５−［２−（４’−メチルビフェニリル）］テトラ
ゾール０.４９９ｇ（収率８１.６ｇ）を得た。スペクト
ルデータは実施例４と一致した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07F 7/22 C07D 257/04 C07D 403/10 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (19)
- 【請求項１】式（Ｒ)3ＳnＮ3（式中、Ｒは炭素数７〜１
８のアルキルを示す）で表される化合物。 - 【請求項２】Ｒが炭素数７〜１０のアルキルである請求
項１記載の化合物。 - 【請求項３】Ｒがオクチルである請求項２記載の化合
物。 - 【請求項４】シアノベンゼン化合物に式（Ｒ)3ＳnＮ
3（式中、Ｒは炭素数７〜１８のアルキルを示す）で表
される化合物を反応させることを特徴とするテトラゾー
ルベンゼン化合物の製造法。 - 【請求項５】シアノベンゼン化合物に式（Ｒ)3ＳnＮ3で
表される化合物を反応させた後、亜硝酸またはその塩の
存在下に反応液を酸性にすることを特徴とする請求項４
記載のテトラゾールベンゼン化合物の製造法。 - 【請求項６】式 【化１】 (式中、Ｒ1は置換されていてもよく、ヘテロ原子を介し
てイミダゾール環に結合していてもよいアルキルを示
し、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ水素，ハロゲン，ホルミ
ル，アルコキシカルボニル，または水酸基で置換されて
いてもよいアルキルを示し、またＲ2およびＲ3が結合し
てイミダゾール環上の隣接する２個の炭素原子とともに
置換されていてもよいベンゼン環を形成していてもよ
い)で表される基を示す〕で表される化合物に、 式 （Ｒ)3ＳnＮ3 （式中、Ｒは炭素数７〜１８のアルキルを示す）で表さ
れる化合物を反応させることを特徴とする式 【化２】 （式中、各記号は前記と同意義）で表されるテトラゾー
ル誘導体の製造法。 - 【請求項７】式 【化３】 で表される基を示す〕で表される化合物に、式（Ｒ)3Ｓ
nＮ3で表される化合物を反応させた後、亜硝酸またはそ
の塩の存在下に反応液を酸性にすることを特徴とする請
求項６記載の製造法。 - 【請求項８】ヘテロ原子が酸素原子，硫黄原子または窒
素原子である請求項６記載の製造法。 - 【請求項９】Ｒ1が低級(Ｃ1-4)アルキル，低級(Ｃ1-4)
アルコキシ，低級(Ｃ1-4)アルキルチオまたは低級（Ｃ
1-4）アルキルアミノである請求項６記載の製造法。 - 【請求項１０】Ｒ1がブチルまたはエトキシである請求
項６記載の製造法。 - 【請求項１１】Ｒ2およびＲ3がそれぞれ水素，ハロゲ
ン，ホルミル，低級（Ｃ1-4）アルコキシカルボニル，
ヒドロキシメチルまたは低級（Ｃ1-4）アルキルである
請求項６記載の製造法。 - 【請求項１２】置換されていてもよいベンゼン環が１〜
２個のハロゲン，低級(Ｃ1-4)アルキル，低級（Ｃ1-4）
アルコキシ，低級（Ｃ1-4）アルコキシカルボニルまた
はフェニル−低級（Ｃ1-4）アルコキシカルボニルで置
換されていてもよいベンゼン環である請求項６記載の製
造法。 - 【請求項１３】Ｒ2およびＲ3が結合してイミダゾール環
上の隣接する２個の炭素原子とともに１個の低級（Ｃ
1-4）アルコキシカルボニルで置換されたベンゼン環を
形成していることを特徴とする請求項６記載の製造法。 - 【請求項１４】Ａが２−エトキシ−７−メトキシカルボ
ニルベンズイミダゾール−１−イルである請求項６記載
の製造法。 - 【請求項１５】Ｒが炭素数７〜１０のアルキルである請
求項６記載の製造法。 - 【請求項１６】Ｒがオクチルである請求項６記載の製造
法。 - 【請求項１７】亜硝酸塩が亜硝酸ソーダである請求項６
記載の製造法。 - 【請求項１８】塩酸の添加により反応液を酸性にするこ
とを特徴とする請求項６記載の製造法。 - 【請求項１９】メチル １−（２’−シアノビフェニル
−４−イル）メチル−２−エトキシベンズイミダゾール
−７−カルボキシラートにトリオクチルスズアジドを反
応させた後、亜硝酸ソーダ存在下に反応液を塩酸酸性に
することを特徴とするメチル ２−エトキシ−１−
［２’−（テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−
イル）メチル］ベンズイミダゾール−７−カルボキシラ
ートの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5166639A JP2990566B2 (ja) | 1992-07-06 | 1993-07-06 | トリ高級アルキルスズアジドおよびその用途 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17848492 | 1992-07-06 | ||
| JP4-178484 | 1992-07-06 | ||
| JP5166639A JP2990566B2 (ja) | 1992-07-06 | 1993-07-06 | トリ高級アルキルスズアジドおよびその用途 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0673028A JPH0673028A (ja) | 1994-03-15 |
| JP2990566B2 true JP2990566B2 (ja) | 1999-12-13 |
Family
ID=26490930
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5166639A Expired - Lifetime JP2990566B2 (ja) | 1992-07-06 | 1993-07-06 | トリ高級アルキルスズアジドおよびその用途 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2990566B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08325248A (ja) * | 1995-05-26 | 1996-12-10 | Chugoku Kayaku Kk | テトラゾール類の新規な合成試薬及びそれを用いたテトラゾール類の製造方法 |
| GB0316546D0 (en) * | 2003-07-15 | 2003-08-20 | Novartis Ag | Process for the manufacture of organic compounds |
| US9846396B2 (en) | 2015-10-14 | 2017-12-19 | Ricoh Company, Ltd. | Transfer device and image forming apparatus incorporating same |
-
1993
- 1993-07-06 JP JP5166639A patent/JP2990566B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0673028A (ja) | 1994-03-15 |
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| JPH048422B2 (ja) |
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