JP5925899B2 - ビアリール化合物の製造方法 - Google Patents
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Description
これらの化合物の製造方法としては、例えば、ロサルタンの合成法としてJ.Org.Chem.、1994年、59巻、6391〜6394頁(非特許文献1)に記載の製法が、また、バルサルタンの合成法としてOrg.Process Res.Dev.、2007年、11巻、892〜898頁(非特許文献2)に記載の製法が、さらにイルベサルタンの合成法としてJ.Med.Chem.、1993年、36巻、3371〜3380頁(非特許文献3)に記載の製法がそれぞれ知られている。
また、オルメサルタンの製造方法としては、特公平7−121918号(特許文献1)、特表2010−505926号(特許文献2)、国際公開第2004/085428号(特許文献3)等に記載の製法が知られている。
また、ビフェニル化反応の従来法としては、例えば、Chem.Lett.、2008年、37巻、9号、994〜995頁(非特許文献4)に記載の方法が、Tetrahedron、2008年、64巻、6051〜6059頁(非特許文献5)、Angewandte Chemie International Edition、2009年、48巻、9792〜9827頁(非特許文献6)、国際公開第2011/061996号(特許文献4)に記載の方法が知られている。
本発明は、経済的かつ工業的製造に適した条件で、アンジオテンシンII受容体拮抗薬の中間体として有用なビアリール化合物を製造することができる、新規な製法を提供することを目的とする。
即ち、本発明は;
[1]一般式[1]:
で示される2−フェニルアゾール誘導体又はその塩(2−フェニルアゾール誘導体[1]ともいう)と、一般式[2]:
で示されるベンゼン誘導体(ベンゼン誘導体[2]ともいう)を、金属触媒、塩基及び下記(a)〜(d)からなる群より選ばれる1種以上の化合物の存在下に反応させることを特徴とする、一般式[3]:
で示されるビアリール化合物又はその塩(ビアリール化合物[3]ともいう)の製造方法(以下、「製造方法1」ともいう);
(a)モノカルボン酸の金属塩
(b)ジカルボン酸の金属塩
(c)スルホン酸の金属塩
(d)RA xP(O)(OM)y[式中、RAは、R”’O又はR”’2Nを表し、ここで、R”’は、水素原子、あるいは、それぞれ、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数1〜20の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数7〜14のアラルキル基又は炭素数6〜18のアリール基を表す。Mは、金属原子を表し、xおよびyは、それぞれ独立して、1又は2の整数であり、かつ、x+yは3である。]で表されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩;
[2]一般式[1]:
で示される2−フェニルアゾール誘導体又はその塩(2−フェニルアゾール誘導体[1]ともいう)と、一般式[2]:
で示されるベンゼン誘導体(ベンゼン誘導体[2]ともいう)を、金属触媒、塩基及び下記(a)〜(d)からなる群より選ばれる1種以上の化合物の存在下に反応させることを特徴とする、一般式[3]:
で示されるビアリール化合物又はその塩(ビアリール化合物[3]ともいう)の製造方法(以下、「製造方法1’」ともいう);
(a)モノカルボン酸の金属塩
(b)ジカルボン酸の金属塩
(c)スルホン酸の金属塩
(d)(R”’O)xP(O)(OM)y[式中、R”’は、水素原子、あるいは、それぞれ、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数1〜20の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数7〜14のアラルキル基又は炭素数6〜18のアリール基を表す。Mは、金属原子を表し、xおよびyは、それぞれ独立して、1又は2の整数であり、かつ、x+yは3である。]で表されるリン酸エステルの金属塩;
[3]さらに、ホスフィン系化合物が存在する条件下で反応させることを特徴とする、上記[1]又は[2]記載の製造方法;
[4]上記[1]又は[2]記載の一般式[1]が一般式[1’]:
で示される2−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩(2−フェニルテトラゾール誘導体[1’]ともいう)であり、上記[1]又は[2]記載の一般式[2]が一般式[2’]:
で示されるベンゼン誘導体(ベンゼン誘導体[2’]ともいう)である、上記[1]ないし[3]のいずれか1つに記載の製造方法;
[5]1)上記[4]記載の製造方法で得られた一般式[3’]:
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩(ビアリールテトラゾール化合物[3’]ともいう)において、
1−A)(a)R5’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
(b)R5’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、
一般式[4]:
で示される化合物又はその塩(化合物[4]ともいう)を得、さらにハロゲン化するか;又は
1−B)一般式[3’]で示される化合物のR5’がメチル基である場合は、一般式[3’]で示される化合物をハロゲン化することを特徴とする、一般式[5]:
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩(ビアリールテトラゾール誘導体[5]ともいう)の製造方法(以下、「製造方法2」ともいう);
[6]1)上記[5]記載の製造方法で得られた一般式[5’]:
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩(ビアリールテトラゾール誘導体[5’]ともいう)と、一般式[6]:
で示される化合物又はその塩(化合物[6]ともいう)を反応させて、一般式[7]:
で示される化合物又はその塩(化合物[7]ともいう)を得;
2)化合物[7]のR6を除去して、一般式[Y1]:
で示される化合物又はその塩(化合物[Y1]ともいう)を得;
3)化合物[Y1]を、一般式[Y3]:R6’−X5[式中、R6’はトリチル基を表し、X5はハロゲン原子を表す。]で示される化合物(化合物[Y3]ともいう)と反応させて、一般式[Y2]:
で示される化合物又はその塩(化合物[Y2]ともいう)を得;
4)化合物[Y2]を加水分解して、一般式[8’]:
で示される化合物又はその塩(化合物[8’]ともいう)を得;
5)化合物[8’]と式[9]:
で示される化合物又はその塩(化合物[10’]ともいう)を得;
6)化合物[10’]のR6’を除去することを特徴とする、式[11]:
[7]1)上記[5]記載の製造方法で得られた一般式[5’]:
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩(ビアリールテトラゾール誘導体[5’]ともいう)と、式[6’]:
で示される化合物又はその塩(化合物[7’]ともいう)を得;
2)化合物[7’]を加水分解して、一般式[8]:
で示される化合物又はその塩(化合物[8]ともいう)を得;
3)化合物[8]と式[9]:
で示される化合物又はその塩(化合物[10]ともいう)を得;
4)化合物[10]のR6を除去することを特徴とする、式[11]:
[8]1)上記[5]記載の製造方法で得られた一般式[5’]:
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、式[12]:
で示される化合物又はその塩(化合物[13]ともいう)を得;
2−A)化合物[13]を還元して、一般式[14]:
で示される化合物又はその塩(化合物[14]ともいう)を得、さらにR6を除去するか;又は、
2−B)化合物[13]のR6を除去して、式[15]:
[9]1)上記[5]記載の製造方法で得られた一般式[5’]:
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式[17]:
で示される化合物又はその塩(化合物[17]ともいう)を反応させて、一般式[18]:
で示される化合物又はその塩(化合物[18]ともいう)を得;
2−A)化合物[18]のR6を除去して、一般式[19]:
で示される化合物又はその塩(化合物[19]ともいう)を得;
3−A)化合物[19]と、一般式[20]:CH3CH2CH2CH2CO−X3[式中、X3は脱離基を表す。]で示される化合物(化合物[20]ともいう)を反応させて、一般式[21]:
で示される化合物又はその塩(化合物[21]ともいう)を得;
4−A)化合物[21]のR7を除去するか;又は
2−B)化合物[18]と、化合物[20]を反応させ、一般式[22]:
で示される化合物又はその塩(化合物[22]ともいう)を得;
3−B)化合物[22]のR6及びR7を除去することを特徴とする、式[23]:
[10]上記[5]記載の製造方法で得られた一般式[5’]:
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、式[24]:
で示される化合物又はその塩(化合物[25]ともいう)を得、さらにR6を除去することを特徴とする、式[26]:
[11]1)上記[5]記載の製造方法で得られた一般式[5’]:
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式[X]:
で示される化合物又はその塩(化合物[X]ともいう)を反応させて、一般式[31]:
で示される化合物又はその塩(化合物[31]ともいう)を得;
2)化合物[31]のR8を除去して、一般式[32]:
で示される化合物又はその塩(化合物[32]ともいう)を得;
3)化合物[32]と、一般式[33]:
で示される化合物又はその塩(化合物[33]ともいう)を反応させて、一般式[34]:
で示される化合物又はその塩(化合物[34])を得;
4)化合物[34]のR6を除去することを特徴とする、式[35]:
[12]1)上記[5]記載の製造方法で得られた一般式[5’]:
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式[27]:
で示される化合物又はその塩(化合物[27]ともいう)を反応させて、一般式[28]:
で示される化合物又はその塩(化合物[28]ともいう)を得;
2)化合物[28]のR9を除去して、一般式[29]:
で示される化合物又はその塩(化合物[29]ともいう)を得;
3)化合物[29]を還元して、一般式[30]:
で示される化合物又はその塩(化合物[30]ともいう)を得;
4)化合物[30]と、テトラエトキシメタンを反応させて、一般式[31]:
で示される化合物又はその塩(化合物[31]ともいう)を得;
4)化合物[31]のR8を除去して、一般式[32]:
で示される化合物又はその塩(化合物[32]ともいう)を得;
5)化合物[32]と、一般式[33]:
で示される化合物又はその塩(化合物[33]ともいう)を反応させて、一般式[34]:
で示される化合物又はその塩(化合物[34]ともいう)を得;
6)化合物[34]のR6を除去することを特徴とする、一般式[35]:
に関する。
テトラゾリル基の保護基としては、例えば、
C7−19アラルキル基(例、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル等);
置換ベンジル、置換ジフェニルメチル等の置換C7−19アラルキル基(好ましくは、C1−6アルキル、ニトロ、C1−6アルキレンジオキシ及びC1−6アルコキシからなる群から選択される1〜3個の置換基で置換されたC7−19アラルキル(該置換基が2個以上存在する場合は、同一又は異なっていてもよく、該置換基同士が結合して環を形成してもよい)、例、p−メチルベンジル、p−ニトロベンジル、2,4−ジメトキシベンジル、3,4−ジメトキシベンジル、3,4−(メチレンジオキシ)ベンジル、p−メトキシベンジル、o−メトキシベンジル、3,4,5−トリメトキシベンジル等);
置換C1−6アルキル基(好ましくは、ヒドロキシ、アルコキシ(例、C1−6アルコキシ)、アリールオキシ(例、C6−10アリールオキシ)及びジアルキルアミノ(例、ジ(C1−6アルキル)アミノ)からなる群から選択される1〜3個の置換基で置換されたC1−6アルキル、例、ヒドロキシメチル、アルコキシメチル、アリールオキシメチル、ジアルキルアミノメチル等);
トリアルキルシリル基(好ましくは、トリ(C1−6アルキル)シリル);
C1−6アルキル基(例、t−ブチル等)
等が挙げられる。
水酸基の保護基としては、例えば、
アシル基(好ましくは、C1−6アルキル−カルボニル、C3−8シクロアルキル−カルボニル、C6−10アリール−カルボニル、例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ピバロイル、シクロヘキシルカルボニル、ベンゾイル等)、
C7−19アラルキル基(例、ベンジル等)、
トリアルキルシリル基(好ましくは、トリ(C1−6アルキル)シリル、例、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、t−ブチルジメチルシリル等)、
アルコキシカルボニル基(好ましくは、C1−6アルコキシ−カルボニル)
等が挙げられる。
カルボキシ基の保護基としては、例えば、
アルキル基(好ましくは、C1−6アルキル、例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル)、
C3−8シクロアルキル基(例、シクロヘキシル)、
C7−19アラルキル基(例、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル)、
C2−6アルケニル基(例、アリル)
等が挙げられる。
アミノ基の保護基としては、例えば、アシル基(好ましくは、C1−6アルキル−カルボニル、C3−8シクロアルキル−カルボニル、C6−10アリール−カルボニル、例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ピバロイル、シクロヘキシルカルボニル、ベンゾイル等)および低級アルコキシカルボニル基等が挙げられる。
本明細書中、「低級アルコキシカルボニル基」としては、直鎖状又は分岐鎖状のC1−12アルコキシ−カルボニル基が挙げられ、好ましくは、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル(例、tert−ブトキシカルボニル)等が挙げられる。
ハロゲン原子、
1〜3個のC1−6アルキル基で置換されていてもよいC6−10アリールスルホニルオキシ基(例、トルエンスルホニルオキシ等)、
1〜3個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−6アルキルスルホニルオキシ基(例、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ等)
等が挙げられる。
X3の「脱離基」としては、
ハロゲン原子、
1〜3個のC1−6アルキル基で置換されていてもよいC6−10アリールスルホニルオキシ基(例、トルエンスルホニルオキシ等)、
1〜3個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−6アルキルスルホニルオキシ基(例、メタンスルホニルオキシ等)、
アルカノイルオキシ基(好ましくは、C1−6アルキル−カルボニルオキシ)、
アロイルオキシ基(好ましくは、C6−10アリール−カルボニルオキシ)、
ジアルコキシホスホリルオキシ基(好ましくは、ジ(C1−6アルコキシ)ホスホリルオキシ)、
ジアリールオキシホスホリルオキシ基(好ましくは、ジ(C6−10アリールオキシ)ホスホリルオキシ)
等が挙げられる。
本明細書中の「それぞれ置換基を有してよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基」、「置換されていてもよい含窒素複素環」としては、例えば、
(1)ハロゲン原子;
(2)ヒドロキシ;
(3)アミノ;
(4)ニトロ;
(5)シアノ;
(6)ハロゲン原子、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、ハロゲン化されていてもよいC1−6アルキル、モノ−又はジ−C1−6アルキル−アミノ、C6−14アリール、モノ−又はジ−C6−14アリール−アミノ、C3−8シクロアルキル、C1−6アルコキシ、C1−6アルコキシ−C1−6アルコキシ、C1−6アルキルスルファニル、C1−6アルキルスルフィニル、C1−6アルキルスルホニル、エステル化されていてもよいカルボキシ、カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−又はジ−C1−6アルキル−カルバモイル、モノ−又はジ−C6−14アリール−カルバモイル、スルファモイル、モノ−又はジ−C1−6アルキル−スルファモイル及びモノ−又はジ−C6−14アリール−スルファモイルから選ばれる1ないし3個の置換基で置換されていてもよい複素環基;
(7)モノ−又はジ−C1−6アルキル−アミノ;
(8)モノ−又はジ−C6−14アリール−アミノ;
(9)モノ−又はジ−C7−14アラルキル−アミノ;
(10)N−C1−6アルキル−N−C6−14アリール−アミノ;
(11)N−C1−6アルキル−N−C7−14アラルキル−アミノ;
(12)C3−8シクロアルキル;
(13)ハロゲン化されていてもよいC1−6アルコキシ;
(14)C1−6アルキルスルファニル;
(15)C1−6アルキルスルフィニル;
(16)C1−6アルキルスルホニル;
(17)エステル化されていてもよいカルボキシ;
(18)C1−6アルキル−カルボニル;
(19)C3−8シクロアルキル−カルボニル;
(20)C6−14アリール−カルボニル;
(21)カルバモイル;
(22)チオカルバモイル;
(23)モノ−又はジ−C1−6アルキル−カルバモイル;
(24)モノ−又はジ−C6−14アリール−カルバモイル;
(25)N−C1−6アルキル−N−C6−14アリール−カルバモイル;
(26)モノ−又はジ−5ないし7員複素環−カルバモイル;
(27)カルボキシで置換されていてもよいC1−6アルキル−カルボニルアミノ;
(28)ハロゲン原子、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、ハロゲン化されていてもよいC1−6アルキル、モノ−又はジ−C1−6アルキル−アミノ、C6−14アリール、モノ−又はジ−C6−14アリール−アミノ、C3−8シクロアルキル、C1−6アルコキシ、C1−6アルコキシ−C1−6アルコキシ、C1−6アルキルスルファニル、C1−6アルキルスルフィニル、C1−6アルキルスルホニル、エステル化されていてもよいカルボキシ、カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−又はジ−C1−6アルキル−カルバモイル、モノ−又はジ−C6−14アリール−カルバモイル、スルファモイル、モノ−又はジ−C1−6アルキル−スルファモイル及びモノ−又はジ−C6−14アリール−スルファモイルから選ばれる1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC6−14アリールオキシ;
(29)ハロゲン原子、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、ハロゲン化されていてもよいC1−6アルキル、モノ−又はジ−C1−6アルキル−アミノ、C6−14アリール、モノ−又はジ−C6−14アリール−アミノ、C3−8シクロアルキル、C1−6アルコキシ、C1−6アルコキシ−C1−6アルコキシ、C1−6アルキルスルファニル、C1−6アルキルスルフィニル、C1−6アルキルスルホニル、エステル化されていてもよいカルボキシ、カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−又はジ−C1−6アルキル−カルバモイル、モノ−又はジ−C6−14アリール−カルバモイル、スルファモイル、モノ−又はジ−C1−6アルキル−スルファモイル及びモノ−又はジ−C6−14アリール−スルファモイルから選ばれる1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC6−14アリール;
(30)複素環−オキシ;
(31)スルファモイル;
(32)モノ−又はジ−C1−6アルキル−スルファモイル;
(33)モノ−又はジ−C6−14アリール−スルファモイル;
(34)ハロゲン原子、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、ハロゲン化されていてもよいC1−6アルキル、モノ−又はジ−C1−6アルキル−アミノ、C6−14アリール、モノ−又はジ−C6−14アリール−アミノ、C3−8シクロアルキル、C1−6アルコキシ、C1−6アルコキシ−C1−6アルコキシ、C1−6アルキルスルファニル、C1−6アルキルスルフィニル、C1−6アルキルスルホニル、エステル化されていてもよいカルボキシ、カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−又はジ−C1−6アルキル−カルバモイル、モノ−又はジ−C6−14アリール−カルバモイル、スルファモイル、モノ−又はジ−C1−6アルキル−スルファモイル及びモノ−又はジ−C6−14アリール−スルファモイルから選ばれる1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC7−14アラルキルオキシ;
(35)C1−6アルキル−カルボニルオキシ;
(36)C1−6アルコキシ−カルボニル;
(37)トリC1−6アルキルシリルオキシ;
などから選ばれる1ないし5個の置換基をそれぞれ置換可能な位置に有していてもよい、「アルキル基」、「アラルキル基」、「アリール基」、「含窒素複素環」が挙げられる。置換基が複数存在する場合、各置換基は同一でも異なっていてもよい。
2−フェニルアゾール誘導体[1]及びベンゼン誘導体[2]は、市販品を用いてもよく、2−フェニルアゾール誘導体[1]は国際公開第2009/49305号に記載の方法、又はそれに準じる方法で製造してもよい。
金属触媒としては、ルテニウム触媒、イリジウム触媒、ロジウム触媒、パラジウム触媒を用いることができ、ルテニウム触媒としては、例えば、ジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム(II)(RuCl2(PPh3)3)、ジクロロ(1,5−シクロオクタジエン)ルテニウム(II)ポリマー([RuCl2(η4−COD)]nまたはポリ[(η2,η2−シクロオクタ−1,5−ジエン)ルテニウム−ジ−μ−クロロ]と表記することもある)、[RuCl2(η6−C6H6)]2、ジクロロ(p−シメン)ルテニウム(II)ダイマー([Ru(p−cymene)Cl2]2)、ジクロロ(メシチレン)ルテニウム(II)ダイマー([Ru(mesitylene)Cl2]2)、塩化ルテニウム(III)(RuCl3)、塩化ルテニウム(III)水和物(RuCl3・xH2O)、ルテニウム炭素、ジピバロイルオキシ(p−シメン)ルテニウム(II)が挙げられる。好ましくは、ルテニウム触媒(例、ジクロロ(p−シメン)ルテニウム(II)ダイマー([Ru(p−cymene)Cl2]2)、塩化ルテニウム(III)水和物(RuCl3・xH2O)、ジピバロイルオキシ(p−シメン)ルテニウム(II))である。
金属触媒の使用量は、2−フェニルアゾール誘導体[1]に対して、通常0.00001当量〜10当量、好ましくは、0.001当量〜0.3当量であり、より好ましくは、0.003当量〜0.015当量である。
塩基としては、炭酸カリウム(K2CO3)、炭酸ナトリウム(Na2CO3)、炭酸水素ナトリウム(NaHCO3)、炭酸水素カリウム(KHCO3)、リン酸カリウム(K3PO4)、炭酸セシウム(Cs2CO3)、炭酸ルビジウム(Rb2CO3)等が挙げられる。好ましくは、炭酸カリウムである。
塩基の使用量は、2−フェニルアゾール誘導体[1]に対して、通常0.1当量〜10当量、好ましくは、0.1当量〜3当量、より好ましくは、0.3当量〜2当量である。
Rは、水素原子、あるいはそれぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数1〜20の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数7〜14のアラルキル基、炭素数6〜18のアリール基又は炭素数3〜7のシクロアルキル基であり、該アルキル基、アラルキル基、シクロアルキル基およびアリール基は、それぞれ置換基を有していてもよい。Rは、好ましくは、炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖のアルキル基(例、メチル、tert−ブチル、2−エチル−ヘキシル、n−ドデシル)、炭素数7〜10のアラルキル基、炭素数1〜6のアルキル基で置換されていてもよい炭素数6〜12のアリール基(例、メシチル)、炭素数3〜7のシクロアルキル基(例、シクロヘキシル)であり、特に好ましくは、メチル基及びtert−ブチル基である。
Mは、金属原子を表し、好ましくは、Li(リチウム)、Na(ナトリウム)、K(カリウム)、Rb(ルビジウム)、Cs(セシウム)、Mg(マグネシウム)又はZn(亜鉛)であり、より好ましくはアルカリ金属原子であり、特に好ましくは、Kである。
モノカルボン酸の金属塩の好ましい例としては、Rが、直鎖または分岐鎖の炭素数1〜12のアルキル基(例、メチル、tert−ブチル、2−エチル−ヘキシル、n−ドデシル)、炭素数3〜7のシクロアルキル基(例、シクロヘキシル)、又は炭素数1〜6のアルキル基で置換されていてもよい炭素数6〜12のアリール基(例、メシチル)であるカルボン酸のカリウム塩が挙げられ、酢酸のカリウム塩又はピバリン酸のカリウム塩が特に好ましい。
本発明の(b)ジカルボン酸の金属塩としては、特に限定されないが、例えば、
R’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数1〜10の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数7〜14のアラルキル基又は炭素数6〜18のアリール基であり、該アルキル基、アラルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。R’は、好ましくは、水素原子、あるいは、炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数7〜10のアラルキル基、又は炭素数6〜12のアリール基であり、水素原子が特に好ましい。
nは、0〜10の整数であり、好ましくは、0〜5の整数であり、特に好ましくは、0又は3である。
環Zは、炭素数3〜8のシクロアルキレン、炭素数3〜8のシクロアルケニレン、アリーレン、又はヘテロシクリレンを表し、好ましくは、フェニレン、ナフチレン、アントリレン、フェナントリレン等が挙げられる。
Mは、金属原子を表し、好ましくは、Li(リチウム)、Na(ナトリウム)、K(カリウム)、Rb(ルビジウム)、Cs(セシウム)、Mg(マグネシウム)又はZn(亜鉛)であり、より好ましくは、アルカリ金属原子であり、特に好ましくは、Kである。
ジカルボン酸の金属塩の好ましい例としては、R’が水素原子であり、nが0〜5の整数であるジカルボン酸のカリウム塩が挙げられ、シュウ酸のカリウム塩又はグルタル酸のカリウム塩が特に好ましい。
本発明の(c)スルホン酸の金属塩としては、特に限定されないが、例えば、R”SO3Mで表されるスルホン酸金属塩等が挙げられる。
R”は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数1〜10の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数7〜14のアラルキル基又は炭素数6〜18のアリール基であり、これらアルキル基、アラルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。好ましくは、炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数7〜10のアラルキル基、炭素数1〜12のアルキル基で置換されていてもよい炭素数6〜12のアリール基(例、2,4,6−トリメチルフェニル又は4−ドデシルフェニル)であり、特に好ましくは、4−ドデシルフェニル基である。
Mは、金属原子を表し、好ましくは、Li(リチウム)、Na(ナトリウム)、K(カリウム)、Rb(ルビジウム)、Cs(セシウム)、Mg(マグネシウム)又はZn(亜鉛)であり、より好ましくは、アルカリ金属原子であり、特に好ましくは、Kである。
本発明の(c)スルホン酸の金属塩の好ましい例としては、R”が炭素数1〜12のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基であるスルホン酸のカリウム塩が挙げられ、4−ドデシルベンゼンスルホン酸カリウムが特に好ましい。
本発明の(d)RA xP(O)(OM)y(ここで、RAは、R”’OまたはR”’2Nを表す。)で表されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩のR”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数7〜14のアラルキル基、又は炭素数6〜18、好ましくは炭素数6〜12のアリール基であり、これらアルキル基、アラルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。また、2つのR”’は、分子内で環を形成していてもよい。好ましくは、炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖のアルキル基(例、エチル、n−ブチル、t−ブチル、ドデシル、2−エチル−n−ヘキシル)、炭素数7〜10のアラルキル基又は炭素数6〜12のアリール基(例、2−ナフチル)であり、特に好ましくは、2−エチル−n−へキシル基である。
xおよびyは、それぞれ独立して、1又は2の整数であり、かつ、x+yは3である。
Mは、金属原子を表し、好ましくは、Li(リチウム)、Na(ナトリウム)、K(カリウム)、Rb(ルビジウム)、Cs(セシウム)、Mg(マグネシウム)又はZn(亜鉛)であり、より好ましくは、アルカリ金属原子であり、特に好ましくは、Kである。
本発明の(d)RA xP(O)(OM)y(ここで、RAは、R”’O又はR”’2Nを表す。)で表されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩の好ましい例としては、R”’が炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖のアルキル基(例、エチル、n−ブチル、t−ブチル、ドデシル、2−エチル−n−ヘキシル)又は炭素数6〜12のアリール基(例、2−ナフチル)である、リン酸エステルのカリウム塩又はリン酸アミドのカリウム塩が挙げられ、ビス(2―エチル−n−ヘキシル)リン酸カリウムが特に好ましい。
別の態様として、本発明の(d)(R”’O)xP(O)(OM)yで表されるリン酸エステルの金属塩のR”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数7〜14のアラルキル基、又は炭素数6〜18、好ましくは炭素数6〜12のアリール基であり、これらアルキル基、アラルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。また、2つのR”’は、分子内で環を形成していてもよい。好ましくは、炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖のアルキル基(例、エチル、n−ブチル、t−ブチル、ドデシル、2−エチル−n−ヘキシル)、炭素数7〜10のアラルキル基又は炭素数6〜12のアリール基(例、2−ナフチル)であり、特に好ましくは、2−エチル−n−へキシル基である。
xおよびyは、それぞれ独立して、1又は2の整数であり、かつ、x+yは3である。
Mは、金属原子を表し、好ましくは、Li(リチウム)、Na(ナトリウム)、K(カリウム)、Rb(ルビジウム)、Cs(セシウム)、Mg(マグネシウム)又はZn(亜鉛)であり、より好ましくは、アルカリ金属原子であり、特に好ましくは、Kである。
本発明の(d)(R”’O)xP(O)(OM)yで表されるリン酸エステルの金属塩の好ましい例としては、R”’が炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖のアルキル基(例、エチル、n−ブチル、t−ブチル、ドデシル、2−エチル−n−ヘキシル)又は炭素数6〜12のアリール基(例、2−ナフチル)である、リン酸エステルのカリウム塩が挙げられ、ビス(2―エチル−n−ヘキシル)リン酸カリウムが特に好ましい。
なお、収率が高くなることから、上述した(a)〜(d)の中でも、(d)RA xP(O)(OM)yを用いることが好ましく、(R”’O)xP(O)(OM)yで表されるリン酸エステルの金属塩を用いることがより好ましい。
(a)〜(d)からなる群より選ばれる1種以上の化合物の使用量は、2−フェニルアゾール誘導体[1]に対して、通常0.00001当量〜10当量、好ましくは、0.001当量〜8.0当量であり、より好ましくは、0.005当量〜5.0当量である。
金属触媒、塩基、上記(a)〜(d)からなる群より選ばれる1種以上の化合物の添加方法は、特に限定されず、塩基と上記(a)〜(d)からなる群より選ばれる1種以上の化合物を添加した後に金属触媒を添加する方法、塩基を添加した後に金属触媒と上記(a)〜(d)からなる群より選ばれる1種以上の化合物から調製したルテニウム触媒を添加する方法等が挙げられる。
具体的には、トリフェニルホスフィン(トリフェニルホスファンということもある)、トリ(t−ブチル)ホスフィン、トリエチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ(o−トリル)ホスフィン、トリ(p−トリル)ホスファン、トリ(p−メトキシフェニル)ホスファン、シクロヘキシルジフェニルホスファン等が挙げられ、トリフェニルホスフィンが好ましい。
ホスフィン系化合物の使用量は、2−フェニルアゾール誘導体[1]に対して、通常0.00001当量〜10当量、好ましくは、0.001当量〜1当量である。
また、上記(a)〜(d)記載の金属塩の共役酸の存在下に反応させてもよい。
共役酸の使用量は、2−フェニルアゾール誘導体[1]に対して、通常0.00001当量〜3当量、好ましくは、0.05当量〜1.0当量であり、より好ましくは、0.1当量〜0.5当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、N−メチル−2−ピロリドン(NMPと略記することもある)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMFと略記することもある)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAと略記することもある)、ジメチルスルホキシド(DMSOと略記することもある)等の極性溶媒、又はトルエン、キシレン等の非極性溶媒、さらにはこれら極性溶媒と非極性溶媒の混合物が好ましい。
溶媒の使用量は、2−フェニルアゾール誘導体[1]1mmolに対して、通常0mL〜100mL、好ましくは、0.1mL〜10mLである。
反応温度は、通常20℃〜300℃、好ましくは、100℃〜200℃である。
反応時間は、通常0.01時間〜200時間、好ましくは、0.5時間〜24時間である。
ビアリールテトラゾール化合物[3’]のR5’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合、化合物[4]は、ビアリールテトラゾール化合物[3’]を、塩基または酸の存在下で、脱保護することにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ジメチルアミン、メチルアミン、アンモニア、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等が挙げられる。塩基の使用量は、ビアリールテトラゾール化合物[3’]に対して、通常0.001当量〜10当量、好ましくは、0.01当量〜1当量である。
酸としては、臭化水素酸、塩化水素等が挙げられる。酸の使用量は、ビアリールテトラゾール化合物[3’]に対して、通常1当量〜10000当量、好ましくは、1当量〜100当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、メタノール、エタノール、プロパノール、テトラヒドロフラン(THFと略記することもある)等が挙げられ、酸の存在下で脱保護する場合は、酢酸等を用いることもできる。また、これらの溶媒と水との混合溶媒を用いてもよい。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール化合物[3’]1mmolに対して、通常0.01mL〜100mL、好ましくは、0.1mL〜10mLである。
反応温度は、通常−50℃〜100℃、好ましくは、10℃〜40℃である。
反応時間は、通常0.001時間〜50時間、好ましくは、0.1時間〜20時間である。
水酸基の保護基が酸で脱保護される基(例えば、ベンゾイル基)であって、ハロゲン化水素またはハロゲン化水素酸を使用する場合、工程2a(脱保護工程)および下記工程3(ハロゲン化工程)を同時に行うこともできる。
ビアリールテトラゾール化合物[3’]のR5’が低級アルコキシカルボニル基である場合、化合物[4]は、ビアリールテトラゾール化合物[3’]を、還元剤の存在下で、還元することにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム(テトラヒドロホウ酸ナトリウムともいう)、水素化アルミニウムリチウム、ジイソブチルアルミニウムヒドリド等が挙げられる。還元剤の使用量は、ビアリールテトラゾール化合物[3’]に対して、通常1当量〜5当量、好ましくは、1当量〜2当量である。
好適に反応を進行させるために、金属塩を添加してもよい。金属塩としては、塩化カルシウム、塩化亜鉛等が挙げられる。金属塩の使用量は、ビアリールテトラゾール化合物[3’]に対して、通常0.1当量〜2当量、好ましくは、0.5当量〜1当量であるが、還元剤として水素化アルミニウムリチウム、ジイソブチルアルミニウムヒドリドを用いる場合、金属塩の非存在下で反応は進行する。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、エタノール、2−プロパノール、メタノール等が挙げられる。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール化合物[3’]1mmolに対して、通常1mL〜50mL、好ましくは、1mL〜2mLである。
反応温度は、通常−50℃〜120℃、好ましくは、0℃〜80℃である。
反応時間は、通常0.1時間〜24時間、好ましくは、3時間〜10時間である。
ビアリールテトラゾール化合物[3’]のR5’が保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコキシカルボニル基である場合、ビアリールテトラゾール誘導体[5]は、化合物[4]を、ハロゲン化試薬と反応させることにより製造することができる。
これらの反応は溶媒を用いて行うこともできる。
ハロゲン化試薬としては、特に限定されるものではなく、自体公知のハロゲン化試薬を適用することができるが、例えば、三臭化リン、臭化チオニル、臭化水素酸、塩化水素、塩化チオニル、四塩化炭素/トリフェニルホスフィン、ブロモトリメチルシラン、N−ブロモスクシンイミド(NBS)等が挙げられる。ハロゲン化試薬の使用量は、ビアリールテトラゾール化合物[3’]又は化合物[4]に対して、通常1当量〜10当量、好ましくは、1当量〜3当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、THF、トルエン、酢酸エチル、ジオキサン、メチルt−ブチルエーテル(MTBE)、クロロホルム、塩化メチレン、ジイソプロピルエーテル、アセトニトリル、酢酸等が挙げられる。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール化合物[3’]又は化合物[4]1mmolに対して、通常0.01mL〜100mL、好ましくは、0.1mL〜10mLである。
反応温度は、通常−50℃〜150℃、好ましくは、−20℃〜50℃である。
反応時間は、通常0.001時間〜24時間、好ましくは、0.1時間〜10時間である。
(オルメサルタン)
塩基としては、特に限定されるものではなく、自体公知の塩基を適用することができるが、例えば、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン(DBU)等が挙げられる。塩基の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体[5’]に対して、通常1当量〜10当量、好ましくは、1当量〜3当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、DMA、DMF、DMSO、NMP、アセトニトリル、トルエン、THF、ジオキサン、アセトン等が挙げられる。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体[5’]1mmolに対して、通常0.001mL〜100mL、好ましくは、0.1mL〜10mLである。
反応温度は、通常−50℃〜150℃、好ましくは、20℃〜50℃である。
反応時間は、通常0.1時間〜48時間、好ましくは、0.5時間〜5時間である。
本工程における化合物[6]および化合物[7]のR10は、炭素数1〜6の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、中でも、炭素数1〜3のアルキル基であることがより好ましく、メチル基又はエチル基であることがさらに好ましい。
塩基としては、特に限定されるものではなく、自体公知の塩基を適用することができるが、例えば、水酸化カリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム等が挙げられる。また、酸としては、特に限定されるものではなく、自体公知の酸を適用することができるが、例えば、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、塩酸等が挙げられる。塩基または酸の使用量は、化合物[7]に対して、通常1当量〜10当量、好ましくは、1当量〜3当量である。
水溶性有機溶媒としては、メタノール、エタノール、アセトン等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物[7]1mmolに対して、通常0.001mL〜100mL、好ましくは、0.1mL〜10mLである。
反応温度は、通常0℃〜120℃、好ましくは、30℃〜100℃である。
反応時間は、通常0.1時間〜48時間、好ましくは、0.5時間〜10時間である。
本工程における化合物[7]のR10は、炭素数1〜6の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、中でも、炭素数1〜3のアルキル基であることがより好ましく、メチル基又はエチル基であることがさらに好ましい。
(工程2)の別の態様として、以下の工程が挙げられる。
化合物[Y1]は、化合物[7]のR6を除去することにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
R6の除去には、酸を用いることができる。酸としては、特に限定されるものではなく、自体公知の酸を適用することができるが、例えば、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、塩酸、酢酸等が挙げられる。酸の使用量は、化合物[7]に対して、通常0.1当量〜1000当量、好ましくは、1当量〜500当量である。
酸によるR6の除去は、好適には捕捉剤の存在下で行うことができる。捕捉剤としては、反応が進行する限り特に限定されないが、アニソール、メシチレン、1−オクタンチオール等のメルカプタン類等が挙げられる。捕捉剤の使用量は、化合物[7]1mmolに対して、通常0.001mL〜10mL、好ましくは、0.1mL〜5mLである。
上記の酸及び捕捉剤が、本工程において溶媒として作用してもよい。
反応温度は、通常−50℃〜150℃、好ましくは、10℃〜100℃である。
反応時間は、通常0.1時間〜48時間、好ましくは、0.5時間〜20時間である。
還元は、触媒の存在下で行うことができる。触媒としては、接触還元又はギ酸還元に用いることができれば特に限定されるものではなく、例えば、パラジウム/硫酸バリウム、パラジウム炭素、パラジウムブラック、酸化パラジウム、塩化パラジウム、酢酸パラジウム等のパラジウム触媒が挙げられる。触媒の使用量は、化合物[7]に対して、通常0.0001当量〜10当量、好ましくは、0.01当量〜0.1当量である。
本反応は、pH7〜pH14塩基性条件下、もしくはpH7で実施することもできる。
接触還元の場合、水素圧は、1気圧〜100気圧、好ましくは、1気圧〜10気圧である。
ギ酸還元の場合、添加剤として、ギ酸、ギ酸の塩(ギ酸アンモニウム等)を添加する。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、イソプロピルアルコール、n−プロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、酢酸エチル等、あるいは上記溶媒と水との混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物[7]1mmolに対して、通常0.1mL〜100mL、好ましくは、0.5mL〜10mLである。
反応温度は、通常0℃〜150℃、好ましくは、10℃〜80℃である。
反応時間は、通常0.1時間〜72時間、好ましくは、0.5時間〜24時間である。
本工程における化合物[7]のR6はベンジル基が好ましく、ギ酸アンモニウム、パラジウム触媒およびアルコールの存在下で反応させることによりR6を除去することが好ましい。
本工程における化合物[7]、化合物[Y1]および化合物[Y2]のR10は、炭素数1〜6の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、中でも、炭素数1〜3のアルキル基であることがより好ましく、メチル基又はエチル基であることがさらに好ましい。
化合物[Y2]は、塩基の存在下で、化合物[Y1]を化合物[Y3]と反応させることにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
塩基としては、特に限定されるものではなく、自体公知の塩基を適用することができるが、例えば、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ルチジン、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等が挙げられる。好ましくは、トリエチルアミンである。塩基の使用量は、化合物[Y1]に対して、通常0.1当量〜10当量、好ましくは、1当量〜5当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、塩化メチレン、クロロホルム、トルエン、アセトン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物[Y1]1mmolに対して、通常0.01mL〜50mL、好ましくは、0.5mL〜5mLである。
反応温度は、通常−10℃〜50℃、好ましくは、−5℃〜40℃である。
反応時間は、通常0.1時間〜48時間、好ましくは、1時間〜24時間である。
化合物[8’]は、化合物[Y2]を用いて、上記工程2に記載の方法と同様にして製造することができる。
本工程は、塩基の存在下で加水分解することが好ましい。
塩基としては、特に限定されるものではなく、自体公知の塩基を適用することができるが、例えば、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン(DBU)等が挙げられる。塩基の使用量は、化合物[8]に対して、通常1当量〜10当量、好ましくは、1当量〜3当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、DMA、DMF、DMSO、NMP、アセトニトリル、トルエン、THF、ジオキサン、アセトン等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物[8]1mmolに対して、通常0.001mL〜100mL、好ましくは、0.1mL〜10mLである。
反応温度は、通常0℃〜150℃、好ましくは、30℃〜100℃である。
反応時間は、通常0.1時間〜48時間、好ましくは、0.5時間〜24時間である。
R6の除去には、酸を用いることができる。酸としては、特に限定されるものではなく、自体公知の酸を適用することができるが、例えば、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、塩酸、酢酸等が挙げられる。酸の使用量は、化合物[10]に対して、通常0.1当量〜1000当量、好ましくは、1当量〜500当量である。
酸によるR6の除去は、好適には捕捉剤の存在下で行うことができる。捕捉剤としては、反応が進行する限り特に限定されないが、アニソール、メシチレン、1−オクタンチオール等のメルカプタン類等が挙げられる。捕捉剤の使用量は、化合物[10]1mmolに対して、通常0.001mL〜10mL、好ましくは、0.1mL〜5mLである。
上記の酸及び捕捉剤が、本工程において溶媒として作用してもよい。
反応温度は、通常−50℃〜150℃、好ましくは、10℃〜100℃である。
反応時間は、通常0.1時間〜48時間、好ましくは、0.5時間〜20時間である。
還元は、触媒の存在下で行うことができる。触媒としては、接触還元又はギ酸還元に用いることができれば特に限定されるものではなく、例えば、パラジウム炭素、パラジウムブラック、酸化パラジウム、塩化パラジウム、酢酸パラジウム等が挙げられる。触媒の使用量は、化合物[10]に対して、通常0.0001当量〜10当量、好ましくは、0.01当量〜0.1当量である。
本反応は、pH7〜14塩基性条件下、もしくはpH7で実施することもできる。
接触還元の場合、水素圧は、1〜100気圧、好ましくは、1〜10気圧である。
ギ酸還元の場合、添加剤として、ギ酸、ギ酸の塩(ギ酸アンモニウム等)を添加する。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、イソプロピルアルコール、n−プロピルアルコール、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、酢酸エチル等、あるいは上記溶媒と水との混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物[10]1mmolに対して、通常0.1mL〜100mL、好ましくは、0.5mL〜10mLである。
反応温度は、通常0℃〜150℃、好ましくは、10℃〜80℃である。
反応時間は、通常0.1時間〜72時間、好ましくは、0.5時間〜24時間である。
還元剤としては、特に限定されるものではなく、自体公知の還元剤を適用することができるが、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリド等が挙げられる。還元剤の使用量は、化合物[13]に対して、通常1当量〜10当量、好ましくは、1当量〜5当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ジメトキシエタン、水等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物[13]1mmolに対して、通常0.01mL〜100mL、好ましくは、0.1mL〜10mLである。
本反応には、必要に応じて塩基を用いることもできる。塩基としては、例えば水酸化ナトリウム等が挙げられる。塩基の使用量は、化合物[13]に対して、通常0当量〜10当量、好ましくは、1当量〜2当量である。
反応温度は、通常−50℃〜100℃、好ましくは、20℃〜50℃である。
反応時間は、通常0.01時間〜48時間、好ましくは、0.1時間〜5時間である。
塩基としては、特に限定されるものではなく、自体公知の塩基を適用することができるが、例えば、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、水素化ナトリウム、カリウムt−ブトキサイド等が挙げられる。塩基の使用量はビアリールテトラゾール誘導体[5’]に対して、通常1当量〜10当量、好ましくは、1当量〜5当量である。
本反応には、必要に応じて触媒を用いることもでき、例えば、テトラブチルアンモニウムヨージド等が挙げられる。触媒の使用量はビアリールテトラゾール誘導体[5’]に対して、通常0.01当量〜0.5当量、好ましくは、0.01当量〜0.1当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、DMF、アセトニトリル、トルエン、THF、ジオキサン、クロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体[5’]1mmolに対して、通常0.1mL〜100mL、好ましくは、0.5mL〜5mLである。
反応温度は、通常−50℃〜150℃、好ましくは、5℃〜100℃である。
反応時間は、通常0.1時間〜48時間、好ましくは、0.5時間〜36時間である。
塩基としては、特に限定されるものではなく、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、DBU、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、リン酸カリウム、4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、ルチジン、ピリジン等が挙げられる。塩基の使用量は、化合物[19]に対して、通常1当量〜10当量、好ましくは、1当量〜3当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、トルエン、キシレン、塩化メチレン、クロロホルム、アセトニトリル、NMP、DMF、DMSO、THF、ジメトキシエタン、t−ブチルメチルエーテル(以下、t−BMEともいう)、1,4−ジオキサン等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物[19]1mmolに対して、通常0.001mL〜100mL、好ましくは、0.1mL〜10mLである。
反応温度は、通常−20℃〜150℃、好ましくは、0℃〜100℃である。
反応時間は、通常0.1時間〜48時間、好ましくは、0.5時間〜5時間である。
酸としては、特に限定されるものではなく、自体公知の酸を適用することができるが、例えば、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、塩酸等が挙げられる。酸の使用量は、化合物[21]に対して、通常0.1当量〜1000当量、好ましくは、1当量〜500当量である。
酸による脱保護は、好適には捕捉剤の存在下で行うことができる。捕捉剤としては、反応が進行する限り特に限定されないが、アニソール、メシチレン等のメルカプタン類等が挙げられる。捕捉剤の使用量は、化合物[21]1mmolに対して、通常0.001mL〜10mL、好ましくは、0.1mL〜5mLである。
上記の酸及び捕捉剤が、本工程において溶媒として作用してもよい。
反応温度は、通常−50℃〜150℃、好ましくは、10℃〜100℃である。
反応時間は、通常0.1時間〜48時間、好ましくは、0.5時間〜5時間である。
塩基としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ジメチルアミン、メチルアミン、アンモニア、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等が挙げられる。塩基の使用量は、化合物[21]に対して、通常0.001当量〜10当量、好ましくは、0.01当量〜1当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、メタノール、エタノール、プロパノール等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物[21]1mmolに対して、通常0.01mL〜100mL、好ましくは、0.1mL〜10mLである。
反応温度は、通常−50℃〜100℃、好ましくは、0℃〜20℃である。
反応時間は、通常0.001時間〜10時間、好ましくは、0.1時間〜5時間である。
還元は、触媒の存在下で行うことができる。触媒としては、接触還元又はギ酸還元に用いることができれば特に限定されるものではなく、例えば、パラジウム炭素、パラジウムブラック、酸化パラジウム、塩化パラジウム、酢酸パラジウム等が挙げられる。触媒の使用量は、化合物[21]に対して、通常0.0001当量〜10当量、好ましくは、0.01当量〜0.1当量である。
接触還元の場合、水素圧は、1気圧〜100気圧、好ましくは、1気圧〜10気圧である。
ギ酸還元の場合、添加剤として、ギ酸、ギ酸の塩(ギ酸アンモニウム等)を添加する。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、n−プロピルアルコール、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、酢酸エチル等、あるいは上記溶媒と水との混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物[21]1mmolに対して、通常0.1mL〜100mL、好ましくは、0.5mL〜10mLである。
反応温度は、通常0℃〜150℃、好ましくは、10℃〜80℃である。
反応時間は、通常0.1時間〜72時間、好ましくは、0.5時間〜24時間である。
塩基としては、特に限定されるものではなく、例えば、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、DBU、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、リン酸カリウム、4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、ルチジンが挙げられる。塩基の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体[5’]に対して、通常1当量〜10当量、好ましくは、1当量〜3当量である。
添加物としては、テトラアルキルアンモニウムハライド(例、テトラブチルアンモニウムブロミド)、テトラアルキルホスホニウムハライド等が挙げられる。添加物の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体[5’]に対して、通常0.01当量〜10当量、好ましくは、0.05当量〜1当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、トルエン、キシレン、塩化メチレン、クロロホルム、アセトニトリル、DMF、DMSO、THF、ジメトキシエタン、t−BME、1,4−ジオキサン等、あるいは上記溶媒と水との混合物が挙げられる。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体[5’]1mmolに対して、通常0.001mL〜100mL、好ましくは、0.1mL〜10mLである。
反応温度は、通常−20℃〜150℃、好ましくは、0℃〜100℃である。
反応時間は、通常0.1時間〜48時間、好ましくは、0.5時間〜10時間である。
塩基としては、特に限定されるものではなく、例えば炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、リン酸カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、DBU、4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、ルチジン等が挙げられる。塩基の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体[5’]に対して、通常1当量〜10当量、好ましくは、1当量〜3当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、DMA、メタノール、エタノール、プロパノール、トルエン、キシレン、塩化メチレン、クロロホルム、アセトニトリル、DMF、DMSO、THF、ジメトキシエタン、t−BME、1,4−ジオキサン等、またはこれらから選択される2種以上の混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体[5’]1mmolに対して、通常0.001mL〜100mL、好ましくは、0.1mL〜10mLである。
反応温度は、通常−20℃〜150℃、好ましくは、10℃〜40℃である。
反応時間は、通常0.1時間〜48時間、好ましくは、0.5時間〜36時間である。
(工程1’−1)
本反応は、塩基の存在下に行うことが好ましく、かかる塩基としては、水素化ナトリウムなどの金属水素化物、t−ブトキシナトリウム、t−ブトキシカリウムなどの金属アルコキシド類、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなどの炭酸塩等が挙げられるが、なかでも炭酸塩、とりわけ炭酸カリウムが好ましく用いられる。塩基の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体[5’]に対して、通常1当量〜5当量である。
溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミドなどの非プロトン性極性溶媒類、アセトン、エチルメチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、酢酸エチルなどのエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、アセトニトリルなどが挙げられるが、なかでもアセトニトリルが好ましく用いられる。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体[5’]1mmolに対して、通常0.1mL〜10mLである。
反応温度は、通常70℃〜90℃で、反応時間は、3時間〜10時間である。
酸としては、特に限定されるものではなく、自体公知の酸を適用することができるが、例えば、ブレンステッド酸(例えば、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、リン酸、硫酸、塩酸等)あるいはルイス酸(例えば、塩化アルミニウム、塩化スズ、ボロントリフルオライドジエチルエーテル等)が挙げられる。酸の使用量は、化合物[28]に対して、通常0.1当量〜1000当量、好ましくは、1当量〜500当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、メチルt−ブチルエーテル等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物[28]1mmolに対して、通常0.01mL〜100mL、好ましくは、0.1mL〜10mLである。
反応温度は、通常−50℃〜150℃、好ましくは、10℃〜100℃である。
反応時間は、通常0.1時間〜48時間、好ましくは、0.5時間〜20時間である。
還元剤としては、特に限定されるものではなく、自体公知の還元剤を適用することができるが、例えば、塩化スズ、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリド等が挙げられる。還元剤の使用量は、化合物[29]に対して、通常1当量〜10当量、好ましくは、1当量〜5当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ジメトキシエタン、メチルt−ブチルエーテル等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物[29]1mmolに対して、通常0.01mL〜100mL、好ましくは、0.1mL〜10mLである。
反応温度は、通常−50℃〜100℃、好ましくは、20℃〜50℃である。
反応時間は、通常0.01時間〜48時間、好ましくは、0.1時間〜5時間である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、エタノール、テトラヒドロフラン、トルエン、酢酸エチル、酢酸、ジメトキシエタン、メチルt−ブチルエーテル等が挙げられる。
反応温度は、通常0℃〜120℃、好ましくは、50℃〜100℃である。
反応時間は、通常0.01時間〜48時間、好ましくは、0.1時間〜5時間である。
塩基としては、特に限定されるものではなく、自体公知の塩基を適用することができるが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、トリエチルアミン、トリブチルアミン、メチルアミン、ジメチルアミンが挙げられる。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物[32]1mmolに対して、通常0.01mL〜100mL、好ましくは、0.1mL〜10mLである。
反応温度は、通常−50℃〜150℃、好ましくは、10℃〜100℃である。
反応時間は、通常0.1時間〜48時間、好ましくは、0.5時間〜20時間である。
化合物[11]、化合物[16]、化合物[23]、化合物[26]又は化合物[35]の塩としては、薬理学的に許容されるものであれば特に限定されないが、例えば、
塩酸、硫酸、臭化水素酸、リン酸等の鉱酸との塩;
メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、酢酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、フマル酸等の有機酸との塩;
ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属との塩;
マグネシウム等のアルカリ土類金属との塩;
アンモニア、エタノールアミン、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール等のアミンとの塩が挙げられる。
また、化合物[23]の塩としては、薬理学的に許容されるものであれば特に限定されないが、例えば、
ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属との塩;
マグネシウム等のアルカリ土類金属との塩;
アンモニア、エタノールアミン、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール等のアミンとの塩が挙げられる。
以下の参考例、実施例において、「室温」とは、15℃〜30℃の温度をいう。
以下の参考例、実施例において、濃度及び含量における「%」は、特段の記載が無い限り、「重量%」を示す。
HBT :1−ベンジル−5−フェニル−1H−テトラゾール
BAC :[2’−(1−ベンジル−1H−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イル]メチルアセタート
BBA :p−ブロモベンジルアセタート
DBAC:{2’−[2−ベンジル−2H−テトラゾール−5−イル]−1,1’:3’,1”−ターフェニル−4,4”−ジイル}ジメチルジアセタート
BBB :p−ブロモベンジルベンゾエート
BBZ :1−ベンジル−5−[4’−(ベンゾイルオキシメチル)ビフェニル−2−イル]−1H−テトラゾール
BBR :1−ベンジル−5−[4’−(ブロモメチル)ビフェニル−2−イル]−1H−テトラゾール
IME :エチル 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロピル−イミダゾール−5−カルボキシラート
TBAB:テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド
BIA :エチル 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロピル−1−[[2’−[2−ベンジル−2H−テトラゾール−5−イル]ビフェニル−4−イル]メチル]イミダゾール−5−カルボキシラート
BIH :エチル 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロピル−1−[[2’−[2H−テトラゾール−5−イル]ビフェニル−4−イル]メチル]イミダゾール−5−カルボキシラート
BIT :エチル 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロピル−1−[[2’−[2−(トリフェニルメチル)−2H−テトラゾール−5−イル]ビフェニル−4−イル]メチル]イミダゾール−5−カルボキシラート
BIC :4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロピル−1−[[2’−[2−(トリフェニルメチル)−2H−テトラゾール−5−イル]ビフェニル−4−イル]メチル]イミダゾール−5−カルボン酸カリウム
TOLM:(5−メチル−2-オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル)メチル 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロピル−1−[[2’−[2−(トリフェニルメチル)−2H−テトラゾール−5−イル]ビフェニル−4−イル]メチル]イミダゾール−5−カルボキシラート
OLM MDX:(5−メチル−2-オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル)メチル 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロピル−1−[[2’−(2H−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イル]メチル]イミダゾール−5−カルボキシラート
BCL :1−ベンジル−5−[4’−(クロロメチル)ビフェニル−2−イル]−1H−テトラゾール
VM :N−[[2’−ベンジル−1H−テトラゾール−5−イル][1,1’−ビフェニル]−4−イル]メチル]−L−バリンメチルエステル
BAL :1−ベンジル−5−[4’−(ヒドロキシメチル)ビフェニル−2−イル]−1H−テトラゾール
BIM :メチル 2−エトキシ−1H−ベンズイミダゾール−7−カルボキシラート
CBME:エチル 2−エトキシ−1−[2’−[1−ベンジル−1H−テトラゾール−5−イル]ビフェニル−4−イル]−1H−ベンズイミダゾール−7−カルボキシラート
CBCA:2−エトキシ−1−[2’−[1−ベンジル−1H−テトラゾール−5−イル]ビフェニル−4−イル]−1H−ベンズイミダゾール−7−カルボン酸
mp 74.4℃; IR (neat): 1741 (C=O), 1603 cm-1; 1H NMR (CDCl3): δ = 7.63 (td, J = 7.6, 1.4 Hz, 1H), 7.57 (dd, J = 7.6, 1.4 Hz, 1H), 7.44 (td, J = 7.6, 1.4 Hz, 1H), 7.34 (dd, J = 7.6, 1.4 Hz, 1H), 7.27 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 7.22 (t, J = 8.6 Hz, 1H), 7.16 (t, J = 8.6 Hz, 2H), 7.13 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 6.76 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 5.09 (s, 2H), 4.82 (s, 2H), 2.11 (s, 3H); 13C NMR (CDCl3): δ = 171, 155, 141, 139, 136, 133, 132, 131, 130, 129, 129, 128, 128, 122, 66, 51, 21; MS 385 [M + H]+.
反応混合物を25℃〜30℃まで冷却し、そこに、t−ブチルメチルエーテル(500mL,5vol)を加えて5分間攪拌し、次いで、セライトを敷いたフィルターで濾過した。セライト層をt−ブチルメチルエーテル(500mL,5vol)で洗浄した。濾液および洗浄液を合わせて、そこに脱塩水(500mL,5vol)を加え、10分間攪拌後5分間静置した。分液して、水層をt−ブチルメチルエーテル(2x500mL,2x5vol)で抽出した。有機層を合わせて脱塩水(500mL,5vol)を加えて10分間攪拌した。混合物を5分間静置して分液した。t−ブチルメチルエーテル層に飽和食塩水(500mL,5vol)を加えて10分間攪拌した。静置後、分液し、t−ブチルメチルエーテル層を硫酸ナトリウムで(50g,0.5w/w)乾燥した。混合物を濾過して濾液を40℃〜45℃で減圧濃縮しBBZの粗生成物(220g)を緑色シロップとして得た。
得られた粗生成物にt−ブチルメチルエーテル(400mL,4vol)を加えて25℃〜30℃で24時間攪拌したところ、固体が析出したので、これを濾過した。得られた固体を吸引乾燥することにより、BBZ(140g,68.5%)を緑色固体として得た。
(1)
反応混合物を濾過し析出したBBRを濾取し、得られた固体を1時間吸引乾燥し、さらに、8時間送風乾燥した。得られた固体に50%酢酸エチル/ヘキサン(270mL,2vol)を加え、得られた懸濁液を25℃〜30℃で1時間攪拌した。該懸濁液を濾過することにより、BBR(113g,92%)を淡黄色固体として得た。
得られたBIAの粗生成物に酢酸エチル(110mL,粗生成物に対して1vol)を加えて60℃〜65℃に加熱し溶解した。そこに、n−ヘプタン(550mL,粗生成物に対して5vol)を60℃〜65℃で5分間かけて加えた後、加熱を止めて25℃〜30℃まで徐々に冷却し、固体を析出させた。濾過することによりBIAを得た。得られたBIA(175g)に、酢酸エチル(175mL,1vol)を加えて60℃〜65℃で15分間攪拌し溶解した。そこに、n−ヘプタン(875mL,5vol)を15分間かけて加えた後、加熱を止めて25℃〜30℃まで徐々に冷却し、固体を析出させた。濾過し、30分間吸引乾燥を行ない、さらに、45℃〜50℃で30分間乾燥することによりBIA(165g)を得た。
25℃〜30℃まで冷却した反応混合物を、セライトを敷いたフィルターで濾過し、セライト層をイソプロピルアルコール(2x160mL,2x1vol)で洗浄し、濾液および洗浄液を合わせて40℃〜45℃で減圧濃縮した。濃縮残渣に塩化メチレン(720mL,4.5vol)および脱塩水(448mL,2.8vol)を加えて5分間攪拌した。5%塩酸を加えて、pHを3〜4に調整した後、5分間攪拌し、5分間静置し、分液した。水層を塩化メチレン(2x200mL,2x1.25vol)で抽出し、そこに有機層を合わせて脱塩水(2x320mL,2x2vol)で洗浄し、分液した。有機層を飽和食塩水(2x320mL,2x2vol)で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濾液を40℃〜45℃で減圧濃縮することでBIH(100g,74%)を得た。
反応混合物を0℃〜5℃まで冷却し、脱塩水(270mL,2.7vol)を加えた後、25℃〜30℃で15分間攪拌した。混合物を静置し、分液した。水層を塩化メチレン(200mL,2vol)で抽出し、そこに有機層を合わせて脱塩水(500mL,5vol)で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濾液を40℃〜45℃で減圧濃縮しBIT(135g,89%)を得た。
析出した固体を濾別し、濾液を40℃〜45℃で減圧濃縮した。得られた濃縮残渣に25%食塩水(520mL,4vol)と酢酸エチル(780mL,6vol)を加えた。10分間攪拌した後、5分間静置し、分液した。水層を酢酸エチル(2x260mL,2x2vol)で抽出し、有機層を合わせた。有機層に飽和重曹水(3x390mL,3x3vol)を加えて5分間攪拌し、静置し、分液した。有機層に、飽和食塩水(650mL,5vol)を加えて5分間攪拌後、静置し、分液した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濾液を40℃〜45℃で減圧濃縮してBICの粗生成物(115g,87%)を白色固体として得た。粗生成物はそのまま次工程に用いた。
得られたTOLMにアセトン(110mL,1vol)を加えて25℃〜30℃で30分間攪拌した。n−ヘプタン(440mL,4vol)を加えて5℃〜10℃まで冷却し、5℃〜10℃で30分間攪拌したところ、固体の析出が確認された。固体(80g,66%)を濾取し、送風乾燥を行なった。得られた固体にイソプロピルアルコール(400mL,5vol)を加えて50℃〜55℃に加熱し、50℃〜55℃で1時間攪拌した。次いで、混合物を25℃〜30℃まで冷却し、25℃〜30℃で1時間攪拌した。生成した固体を濾過し、10分間吸引濾過することにより、TOLM(76g,62%)を得た。
反応混合物を濾過し不溶性のトリチルアルコールを除去した。25%炭酸ナトリウム水溶液を加えることにより、水層のpHを2〜3になるように調整した(反応混合物の最初のpHは4〜4.5であった)。反応液を5分間攪拌し、そこに塩化メチレン(225mL,3vol)を加えて5分間攪拌した。攪拌を止め、静置し、分液した。水層を塩化メチレン(2x225mL,2x3vol)で抽出し、有機層を合わせて、脱塩水(375mL,5vol)を加えて5分間攪拌した。攪拌を止めて、5分間静置し、分液した。有機層に飽和食塩水(375mL,5vol)を加えて5分間攪拌した後、静置し、分液した。有機層を40℃〜45℃で減圧濃縮して粗OLM MDX(49g,93%)を淡黄色固体として得た。
上記(7)で得られた粗OLM MDX(49g,1eq)に、アセトン(735mL,15vol)を加えて55℃〜60℃で10分間攪拌した。さらに、反応液を同温で15分間攪拌し、アセトンを常圧で留去した。固体が析出したところで加熱を止め、25℃〜30℃まで冷却した。析出した固体を濾取し、30分間吸引乾燥することによりOLM MDX(41g,83%)を得た。
上述のようにして得られたOLM MDXにイソプロピルアルコール(164mL,4vol)を加え、混合物を55℃〜60℃に加熱し、55℃〜60℃で1時間攪拌した。加熱を止めて25℃〜30℃まで徐々に冷却し、25℃〜30℃で30分間攪拌した。析出した固体を濾過後、吸引乾燥することにより、OLM MDX(41g,100%)を得た。
上述のようにして得られたOLM MDX(41g)およびアセトン(約1L)を55℃〜60℃に加熱し、55℃〜60℃で25分間攪拌した後、該混合物が濁るまでアセトンを常圧で留去し、25℃〜30℃まで徐々に冷却した。析出した固体を濾取し30分間吸引乾燥することにより、OLM MDX(34g,83%)を得た。得られたOLM MDXのHPLC純度は99.66%であった。
上述のようにして得られたOLM MDX(44g)をアセトン(約1.2L)に溶解し、55℃〜60℃で10分間攪拌した後、溶液が濁るまでアセトンを常圧で留去し、25℃〜30℃まで徐々に冷却した。析出した固体を濾取し、30分間吸引乾燥後、1時間送風乾燥し、さらに40℃〜45℃で5時間送風乾燥を行ない、OLM MDX(36g)を白色固体として得た。得られたOLM MDXのHPLC純度は、99.8%であった。
得られたVMを原料化合物として、本明細書に記載の方法により、VALを合成することが可能である。
(1)
得られた粗BALに、ジイソプロピルエーテル(700mL,5vol)を加えて60℃〜65℃で1時間攪拌した後、25℃〜30℃まで冷却した。析出した固体を濾過後、ジイソプロピルエーテル(140mL,1vol)で洗浄し、30分間吸引乾燥した。その後、50℃〜55℃で2時間乾燥することによりBAL(92.5g,92%)を得た。
得られた粗BCLに酢酸エチル(90mL,1vol)を加えて溶解し、さらに、n−ヘプタン(360mL,4vol)を加えて0℃〜5℃で2時間攪拌した。析出した固体を濾過し、n−ヘプタン(90mL,1vol)で洗浄後、20分間吸引乾燥した。さらに、50℃〜55℃で2時間乾燥することによりBCL(89g,91%)をベージュ色固体として得た。
得られた粗CBCA(16g)に酢酸エチル(160mL,10vol)、ジシクロヘキシルアミン(DCHA)(8.2g,1.5eq)を加え、25℃〜30℃で2時間撹拌した。析出した固体を濾過し、酢酸エチル(80mL,5vol)で洗浄し、15分間吸引乾燥した後、さらに50℃〜55℃で4時間送風乾燥することによりCBCAのDCHA塩(16g)を得た。この塩にイソプロピルアルコール(192mL,12vol)を25℃〜30℃で加えた後、75℃〜85℃に加熱することで、この塩を溶解させ、15分間撹拌した。その後、反応液を25℃〜30℃まで冷却し、同温度で2時間攪拌した。析出した固体を濾過し、イソプロピルアルコール(32mL,2vol)で洗浄後、15分間吸引乾燥し、さらに、50℃〜55℃で4時間送風乾燥することにより純品のCBCAのDCHA塩(13g)を得た。この塩に25%水酸化ナトリウム水溶液(120mL,10vol)を25℃〜30℃で加えて15分間攪拌した後、酢酸(5.8mL,0.48vol)を加えてpHを5.5〜6.5に調整し、塩化メチレン(120mL,2×5vol)で抽出した。有機層を合わせて、水(120mL,2×5vol)で洗浄後、さらに、飽和食塩水(60mL,5vol)で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した後、40℃〜45℃で減圧濃縮することによりCBCA(9g,BCLから47%)を得た。
HBTの合成
(1) N−ベンジルベンズアミド
融点:104℃〜105℃
IR (KBr): 3328 (NH), 1642 (C=O) cm-1
1H NMR (CDCl3): δ = 7.79 (d, J = 8.0 Hz, 2H, o-Bz), 7.50 (t, J = 8.0 Hz, 1H, p-Bz), 7.43 (t, J = 8.0, 2H, m-Bz), 7.37-7.35 (m, 4H, Ph), 7.32 (m, 1H, Ph), 6.41 (br s, 1H, NH), 4.65 (d, J = 5.6 Hz, 2H, CH2)
融点:66.0℃〜67.5℃
IR (KBr):1606 cm-1
1H NMR (CDCl3): δ = 7.58 (d, J = 7.9 Hz, 2H, 5-Ph), 7.57 (t, J = 7.9 Hz, 1H, 5-Ph), 7.50 (t, J = 7.9 Hz, 2H, 5-Ph), 7.37-7.34 (m, 3H, Ph), 7.17-7.15 (m, 2H, Ph), 5.62 (s, CH2)
MS:237 (MH+)
1H NMR (CDCl3): δ = 7.49 (d, J = 8.2 Hz, 2H, Ar), 7.23 (d, J = 8.2 Hz, 2H, Ar), 5.05 (s, 2H, CH2), 2.10 (s, 3H, Ac)
Claims (8)
- 一般式[1’]:
[式中、R1ないしR4は、それぞれ、独立して、水素原子、あるいは、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を表し、R6は、テトラゾリル基の保護基を表す。]
で示される2−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式[2’]:
[式中、R5’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、X1は脱離基を表す。]
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記(a)〜(d)からなる群より選ばれる1種以上の化合物の存在下に反応させることを特徴とする、一般式[3’]:
[式中、各記号は前記と同義である。]
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩の製造方法。
(a)モノカルボン酸の金属塩
(b)ジカルボン酸の金属塩
(c)スルホン酸の金属塩
(d)RA xP(O)(OM)y[式中、RAは、R”’O又はR”’2Nを表し、ここで、R”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数1〜20の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数7〜14のアラルキル基又は炭素数6〜18のアリール基を表し、Mは、金属原子を表し、xおよびyは、それぞれ独立して、1又は2の整数であり、かつ、x+yは3である。]で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩 - さらに、ホスフィン系化合物が存在する条件下で反応させることを特徴とする、請求項1記載の製造方法。
- 1)一般式[1’]:
[式中、R1ないしR4は、それぞれ、独立して、水素原子、あるいは、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を表し、R6は、テトラゾリル基の保護基を表す。]
で示される2−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式[2’]:
[式中、R5’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、X1は脱離基を表す。]
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記(a)〜(d)からなる群より選ばれる1種以上の化合物の存在下に反応させて、一般式[3’]:
[式中、各記号は前記と同義である。]
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩を製造し、
(a)モノカルボン酸の金属塩
(b)ジカルボン酸の金属塩
(c)スルホン酸の金属塩
(d)RA xP(O)(OM)y[式中、RAは、R”’O又はR”’2Nを表し、ここで、R”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数1〜20の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数7〜14のアラルキル基又は炭素数6〜18のアリール基を表し、Mは、金属原子を表し、xおよびyは、それぞれ独立して、1又は2の整数であり、かつ、x+yは3である。]で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩;
1−A)(a)一般式[3’]においてR5’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
(b)一般式[3’]においてR5’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、
一般式[4]:
[式中、各記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか;又は
1−B)一般式[3’]で示される化合物のR5’がメチル基である場合は、一般式[3’]で示される化合物をハロゲン化することを特徴とする、一般式[5]:
[式中、X2は、ハロゲン原子を表し、R1ないしR4およびR6は、前記と同義である。]
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩の製造方法。 - 1)一般式[1’]:
[式中、R1ないしR4は、それぞれ、水素原子を表し、R6は、テトラゾリル基の保護基を表す。]
で示される2−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式[2’]:
[式中、R5’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、X1は脱離基を表す。]
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記(a)〜(d)からなる群より選ばれる1種以上の化合物の存在下に反応させて、一般式[3’]:
[式中、各記号は前記と同義である。]
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩を製造し、
(a)モノカルボン酸の金属塩
(b)ジカルボン酸の金属塩
(c)スルホン酸の金属塩
(d)RA xP(O)(OM)y[式中、RAは、R”’O又はR”’2Nを表し、ここで、R”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数1〜20の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数7〜14のアラルキル基又は炭素数6〜18のアリール基を表し、Mは、金属原子を表し、xおよびyは、それぞれ独立して、1又は2の整数であり、かつ、x+yは3である。]で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩;
1−A)(a)一般式[3’]においてR5’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
(b)一般式[3’]においてR5’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、一般式[4]:
[式中、各記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか;又は
1−B)一般式[3’]で示される化合物のR5’がメチル基である場合は、一般式[3’]で示される化合物をハロゲン化することにより一般式[5’]:
[式中、X 2 は、ハロゲン原子を表し、R 6 は前記と同義である。]
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩を製造し、
得られた一般式[5’]
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式[6]:
[式中、R10は、カルボキシ基の保護基を示す。]
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式[7]:
[式中、各記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得;
2)一般式[7]で示される化合物又はその塩のR6を除去して、一般式[Y1]:
[式中、記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得;
3)一般式[Y1]で示される化合物又はその塩を、一般式[Y3]:R6’−X5[式中、R6’はトリチル基を表し、X5はハロゲン原子を表す。]で示される化合物と反応させて、一般式[Y2]:
[式中、各記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得;
4)一般式[Y2]で示される化合物又はその塩を加水分解して、一般式[8’]:
[式中、記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得;
5)一般式[8’]で示される化合物又はその塩と式[9]:
で示される化合物を反応させて、一般式[10’]:
[式中、記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得;
6)一般式[10’]で示される化合物又はその塩のR6’を除去することを特徴とする、式
[11]:
で示される化合物又はその塩の製造方法。 - 1)一般式[1’]:
[式中、R1ないしR4は、それぞれ、水素原子を表し、R6は、テトラゾリル基の保護基を表す。]
で示される2−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式[2’]:
[式中、R5’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、X1は脱離基を表す。]
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記(a)〜(d)からなる群より選ばれる1種以上の化合物の存在下に反応させて、一般式[3’]:
[式中、各記号は前記と同義である。]
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩を製造し、
(a)モノカルボン酸の金属塩
(b)ジカルボン酸の金属塩
(c)スルホン酸の金属塩
(d)RA xP(O)(OM)y[式中、RAは、R”’O又はR”’2Nを表し、ここで、R”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数1〜20の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数7〜14のアラルキル基又は炭素数6〜18のアリール基を表し、Mは、金属原子を表し、xおよびyは、それぞれ独立して、1又は2の整数であり、かつ、x+yは3である。]で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩;
1−A)(a)一般式[3’]においてR5’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
(b)一般式[3’]においてR5’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、一般式[4]:
[式中、各記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか;又は
1−B)一般式[3’]で示される化合物のR5’がメチル基である場合は、一般式[3’]で示される化合物をハロゲン化することにより、一般式[5’]:
[式中、X 2 は、ハロゲン原子を表し、R 6 は前記と同義である。]
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩を製造し、
得られた一般式[5’]
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、式[12]:
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式[13]:
[式中、記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得;
2−A)一般式[13]で示される化合物又はその塩を還元して、一般式[14]:
[式中、記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得、さらにR6を除去するか;又は、
2−B)一般式[13]で示される化合物又はその塩のR6を除去して、式[15]:
で示される化合物又はその塩を得、さらに還元することを特徴とする、式[16]:
で示される化合物又はその塩の製造方法。 - 1)一般式[1’]:
[式中、R1ないしR4は、それぞれ、水素原子を表し、R6は、テトラゾリル基の保護基を表す。]
で示される2−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式[2’]:
[式中、R5’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、X1は脱離基を表す。]
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記(a)〜(d)からなる群より選ばれる1種以上の化合物の存在下に反応させて、一般式[3’]:
[式中、各記号は前記と同義である。]
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩を製造し、
(a)モノカルボン酸の金属塩
(b)ジカルボン酸の金属塩
(c)スルホン酸の金属塩
(d)RA xP(O)(OM)y[式中、RAは、R”’O又はR”’2Nを表し、ここで、R”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数1〜20の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数7〜14のアラルキル基又は炭素数6〜18のアリール基を表し、Mは、金属原子を表し、xおよびyは、それぞれ独立して、1又は2の整数であり、かつ、x+yは3である。]で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩;
1−A)(a)一般式[3’]においてR5’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
(b)一般式[3’]においてR5’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、一般式[4]:
[式中、各記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか;又は
1−B)一般式[3’]で示される化合物のR5’がメチル基である場合は、一般式[3’]で示される化合物をハロゲン化することにより一般式[5’]:
[式中、X 2 は、ハロゲン原子を表し、R 6 は前記と同義である。]
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩を製造し、
得られた一般式[5’]で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式[17]:
[式中、R7は、カルボキシ基の保護基を表す。]
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式[18]:
[式中、各記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得;
2−A)一般式[18]で示される化合物又はその塩のR6を除去して、一般式[19]:
[式中、記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得;
3−A)一般式[19]で示される化合物又はその塩と、一般式[20]:CH3CH2CH2CH2CO−X3[式中、X3は脱離基を表す。]で示される化合物を反応させて、一般式[21]:
[式中、記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得;
4−A)一般式[21]で示される化合物又はその塩のR7を除去するか;又は2−B)一般式[18]で示される化合物又はその塩と、一般式[20]で示される化合物又はその塩を反応させ、一般式[22]:
[式中、各記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得;
3−B)一般式[22]で示される化合物又はその塩のR6及びR7を除去することを特徴とする、式[23]:
で示される化合物又はその塩の製造方法。 - 1)一般式[1’]:
[式中、R1ないしR4は、それぞれ、水素原子を表し、R6は、テトラゾリル基の保護基を表す。]
で示される2−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式[2’]:
[式中、R5’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、X1は脱離基を表す。]
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記(a)〜(d)からなる群より選ばれる1種以上の化合物の存在下に反応させて、一般式[3’]:
[式中、各記号は前記と同義である。]
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩を製造し、
(a)モノカルボン酸の金属塩
(b)ジカルボン酸の金属塩
(c)スルホン酸の金属塩
(d)RA xP(O)(OM)y[式中、RAは、R”’O又はR”’2Nを表し、ここで、R”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数1〜20の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数7〜14のアラルキル基又は炭素数6〜18のアリール基を表し、Mは、金属原子を表し、xおよびyは、それぞれ独立して、1又は2の整数であり、かつ、x+yは3である。]で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩;
1−A)(a)一般式[3’]においてR5’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
(b)一般式[3’]においてR5’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、一般式[4]:
[式中、各記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか;又は
1−B)一般式[3’]で示される化合物のR5’がメチル基である場合は、一般式[3’]で示される化合物をハロゲン化することにより、一般式[5’]:
[式中、X 2 は、ハロゲン原子を表し、R 6 は前記と同義である。]
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩を製造し、
得られた一般式[5’]で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、式[24]:
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式[25]:
[式中、記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得、さらにR6を除去することを特徴とする、式[26]:
で示される化合物又はその塩の製造方法。 - 1)一般式[1’]:
[式中、R1ないしR4は、それぞれ、水素原子を表し、R6は、テトラゾリル基の保護基を表す。]
で示される2−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式[2’]:
[式中、R5’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、X1は脱離基を表す。]
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記(a)〜(d)からなる群より選ばれる1種以上の化合物の存在下に反応させて、一般式[3’]:
[式中、各記号は前記と同義である。]
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩を製造し、
(a)モノカルボン酸の金属塩
(b)ジカルボン酸の金属塩
(c)スルホン酸の金属塩
(d)RA xP(O)(OM)y[式中、RAは、R”’O又はR”’2Nを表し、ここで、R”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数1〜20の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数7〜14のアラルキル基又は炭素数6〜18のアリール基を表し、Mは、金属原子を表し、xおよびyは、それぞれ独立して、1又は2の整数であり、かつ、x+yは3である。]で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩;
1−A)(a)一般式[3’]においてR5’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
(b)一般式[3’]においてR5’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、一般式[4]:
[式中、各記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか;又は
1−B)一般式[3’]で示される化合物のR5’がメチル基である場合は、一般式[3’]で示される化合物をハロゲン化することにより、一般式[5’]:
[式中、X 2 は、ハロゲン原子を表し、R 6 は前記と同義である。]
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩を製造し、
得られた一般式[5’]で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式[X]:
[式中、R8はカルボキシ基の保護基を表す。]
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式[31]:
[式中、各記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得;
2)一般式[31]で示される化合物又はその塩のR8を除去して、一般式[32]:
[式中、記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得;
3)一般式[32]で示される化合物又はその塩と、一般式[33]:
[式中、X4は脱離基又は水酸基を表す。]
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式[34]:
[式中、記号は前記と同義である。]
で示される化合物又はその塩を得;
4)一般式[34]で示される化合物又はその塩のR6を除去することを特徴とする、式[35]:
で示される化合物又はその塩の製造方法。
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