WO2005021465A1 - 芳香族不飽和化合物の製造方法 - Google Patents

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WO2005021465A1
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acid
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methyl
indole
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Weiqi Wang
Tetsuya Ikemoto
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Sumitomo Chemical Company, Limited
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    • C07B37/00Reactions without formation or introduction of functional groups containing hetero atoms, involving either the formation of a carbon-to-carbon bond between two carbon atoms not directly linked already or the disconnection of two directly linked carbon atoms
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    • C07D209/18Radicals substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing an aromatic unsaturated compound.
  • Ar represents an optionally substituted aromatic group or an optionally substituted heteroaromatic group
  • Y represents an electron-withdrawing group
  • aromatic unsaturated compound (4) (Hereinafter abbreviated as aromatic unsaturated compound (4)).
  • a method for producing such an aromatic unsaturated compound (4) for example, a method is known in which a corresponding aromatic halide is reacted with an acrylic acid compound such as acrylic acid in the presence of a palladium catalyst and a base group.
  • an acrylic acid compound such as acrylic acid
  • a palladium catalyst and a base group for example, WO01 / 92223
  • hydrogen halide is by-produced as the reaction proceeds.
  • the atom economy was not necessarily a high reaction from the viewpoint of raw materials.
  • method (a) uses oxygen and must be carried out under reaction conditions below the explosion limit, which is not necessarily advantageous in terms of operation and facilities.
  • the method (b) has a high atom economy in terms of raw materials, but is disadvantageous in terms of cost because a palladium complex of a stoichiometric amount or more is used, and also has a post-treatment of the palladium complex after the reaction. Is complicated, the yield is low, and From a point of view, this was not always an advantageous method.
  • the present inventors have obtained the aromatic unsaturated compound (4) from the compound represented by the formula (1) as a raw material, which has higher atom economy and is more industrially advantageous. After intensive studies to develop a manufacturing method, the formula (1)
  • the object of the present invention can be achieved by reacting a compound represented by the formula (1) with an acid such as hydrochloric acid or a compound capable of generating a mineral acid by hydrolysis such as phosphorus oxychloride. Reached.
  • an acid such as hydrochloric acid or a compound capable of generating a mineral acid by hydrolysis such as phosphorus oxychloride.
  • the present invention includes the following inventions.
  • ⁇ 5> The method according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the reaction is performed in acetic acid.
  • formula (1) and Ar is in the formula (4), lower alkyl, lower alkoxyl, hydroxyl, -OR x, Amino, -NHR y, -NR y 2, which may be substituted by halogen and halogen phenyl At least one group selected from the group consisting of (where R x represents a hydroxyl-protecting group and R y represents an amino-protecting group). An aromatic or heteroaromatic group which may be substituted The method according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>.
  • ⁇ 7> The method according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, wherein Ar in the formulas (1) and (4) is an optionally substituted phenyl.
  • R 1 represents phenyl optionally substituted with halogen, hydrogen or alkyl
  • R 2 represents alkyl or phenyl optionally substituted with halogen.
  • the aromatic unsaturated compound represented by the formula (4) is a compound represented by the formula (6):
  • Ar represents an optionally substituted aromatic group or an optionally substituted heteroaromatic group.
  • Aromatic groups include, for example, phenyl, naphthyl, anthryl, phenanthryl
  • heteroaromatic group examples include an aromatic group containing a hetero atom such as a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom as a constituent atom of an aromatic ring. Specific examples include indolyl, benzofuryl, benzochenyl, and benzothiazolyl. Benzoxazolyl, pyrrolyl, furyl, chenyldibenzofuryl, dibenzochenyl, 2,3-dihydroindolyl, 2,3-dihydrobenzofuryl and the like. As the heteroaromatic group, an indolyl group is preferred.
  • Such aromatic or heteroaromatic groups may be substituted with substituents, such as alkyl, usually methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isoptyl. , Sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, n-hexyl and the like, alkyl having 1 to 6 carbon atoms, preferably lower alkyl having 1 to 4 carbon atoms; methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropyl Lower alkoxy usually having 1 to 4 carbon atoms, such as oxy, n-butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, tert-butoxy; a hydroxyl group; a hydroxyl group protected by a protecting group represented by -OR; ; -NHR y or - NR y amino protected by a protecting group represented by 2; fluorine, chlorine, bromine, halogen such as
  • R x for example Arukanoi Le such Asechiru; methoxy alkoxyalkyl such as methyl; Ararukiru such as benzyl; methylene down, alkylene etc. dimethylmethylene and the like, such - in OR x
  • the hydroxyl group protected with the protecting group represented include acetyloxy, methoxymethoxy, benzyloxy, methylenedioxy, dimethylmethylenedioxy and the like.
  • Examples of the amino-protecting group represented by R y include the above-mentioned alkanol; aralkyl such as benzyl; aralkyloxyalkyl such as benzyloxymethyl; dialkoxyalkyl such as dimethoxymethyl; benzenesulfonyl; —Sulfonyl such as toluenesulfonyl, methanesulfonyl and the like.
  • Examples of the amino protected with the protecting group represented by —NHR y or —NR y 2 include, for example, acetylamino, dibenzylamino, dibenzyloxymethylamino. And dimethoxymethylamino, benzenesulfonylamino, p-toluenesulfonylamino, methanesulfonylamino and the like.
  • the number of the substituent is not particularly limited, but from the viewpoint of reaction rate, an aromatic group substituted with two or more electron donating substituents is preferable. An aromatic group substituted with three or more electron donating substituents is more preferable.
  • the number of the substituent is not particularly limited, but from the viewpoint of reaction rate, the heteroaromatic substituted with one or more electron-donating substituents. Groups are preferred.
  • the electron-donating substituent referred to herein is an alkyl, lower alkoxy having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, a hydroxyl group protected with a protecting group represented by -ORX, amino, or -NHR among the above-mentioned substituents.
  • y or-NR y 2 Refers to protected amino.
  • compounds in which the heteroaromatic group is an indolyl group include, for example, indole compounds such as flupassin which are useful as hyperlipidemic agents (for example, Japanese Patent Publication No. 2-46031, It is important in terms of the raw material for synthesis of WO 01 Z9223, etc.).
  • indole compounds such as flupassin which are useful as hyperlipidemic agents
  • flupassin for example, Japanese Patent Publication No. 2-46031, It is important in terms of the raw material for synthesis of WO 01 Z9223, etc.
  • Such a compound in which the heteroaromatic group is an indolyl group is, for example, a compound represented by the formula (5)
  • R 1 represents phenyl optionally substituted with halogen, hydrogen or alkyl
  • R 2 represents alkyl or phenyl optionally substituted with halogen.
  • the phenyl optionally substituted with halogen includes the same as those described above.
  • the alkyl include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, and the like.
  • alkyl having 1 to 6 carbon atoms such as isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, and n-hexyl.
  • Examples of such compound (1) include benzene, naphthalene, dimethoxybenzene, 1,3,5-trimethoxybenzene, 1,2,3-trimethoxybenzene, 2,6-dimethoxyphenol, and 2-methoxyaniline , 4-Methoxyaniline, 2-Methoxyacetanilide, 4-Methoxyacetanilide, 2-Acetylaminophenol, 4-Acetylaminophenol, Catechol, Resorcinol, Hydroquinone, 4-tert-Butylcatechol, Capsaicin, 2- Methyl 1 H—Indole, 2-Methyl-1-methyl-1 H—indole, 2-Methyl—1-isopropyl—1 H—indole, 2-Methyl—1 1-Fe—1 H—Indole, 2-Ethyru 1 H—Indone, 2-ethyl-1—methyl—1H— Indole, 2-Ethyl 1-Fuenyl 1H
  • Equation (2) a commercially available compound may be used, or a compound produced according to a known method may be used.
  • a compound in which the aromatic group is an indolyl group can be produced according to a known method such as, for example, Tetraedr on Letters, 26, 2155 (11985). Equation (2)
  • Y represents an electron-withdrawing group
  • Z represents lower alkoxy
  • Examples of the electron-withdrawing group include alkoxyl propyl, aryloxycarbonyl, aralkyloxycarbonyl, acyl, and cyano.
  • Alkoxycarbonyl includes, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n- Alkoxy calponyls having 2 to 9 carbon atoms such as propoxyl-proponyl, isopropoxyl-lponyl, n-butoxycarponyl, isobutoxyl-carponyl, tert-butoxyl-carponyl, n-hexyloxyl-l-puloxyl, and n-l-octylloxyl-carpoxyloxy No.
  • aryloxycarbonyl examples include aryloxycarbonyl having 7 to 13 carbon atoms such as phenoxycarbonyl.
  • arylalkoxycarbonyl examples include carbon atoms of 8 such as benzyloxycarbonyl.
  • the acyl include an aliphatic acyl having 2 to 9 carbon atoms such as acetyl and propionyl; an aromatic acyl having 7 to 13 carbon atoms such as benzoyl.
  • Examples of the lower alkoxy include 1 to 6 carbon atoms such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, n-pentyloxy and n-hexyloxy. And an alkoxy having 1 to 4 carbon atoms is preferable.
  • Examples of such compound (2) include methyl 3-methoxyacrylate, ethyl 3-methoxyacrylate, n-propyl 3-methoxyacrylate, isopropyl 3-methoxyacrylate, n-butyl 3-methoxyacrylate, —Isobutyl methoxyacrylate, sec-butyl 3-methoxyacrylate, tert-butyl 3-methoxyacrylate, phenyl 3-methoxyacrylate, benzyl 3-methoxyacrylate, methyl 3-ethoxyacrylate, 3-ethoxyacrylic acid Ethyl, n-propyl 3-ethoxyacrylate, isopropyl 3- ethoxyacrylate, n-butyl 3-ethoxyacrylate, isobutyl 3-ethoxyacrylate, sec-butyl ethoxyacrylate, 3-ethoxyacrylic acid tert-butyl, 3-ethoxyphenyl acrylate, 3-d Benzyl xyacrylate, methyl 3-iso
  • the compound (2) has a trans isomer and a cis isomer. In the present invention, either one of them may be used, or an arbitrary mixture of both may be used.
  • Compound (3) includes, for example, methyl 3,3-dimethoxypropionate, ethyl 3,3-dimethoxypropionate, n-propyl 3,3-dimethoxypropionate, isopropyl 3,3-dimethoxypropionate, 3,3 N-butyl, 3,3-dimethoxypropionate, isoptyl 3,3, -dimethoxypropionate Methoxy, sec-butyl cypropionate, tert-butyl 3,3-dimethoxypropionate, phenyl 3,3-dimethoxypropionate, benzyl 3,3-dimethoxypropionate, methyl 3,3-diethoxypropionate, 3, Ethyl 3-diethoxypropionate, n-propyl 3,3-diethoxypropionate, isopropyl 3,3-diethoxypropionate, n-butyl 3,3-diethoxypropionate, 3,3-diethoxypropionic acid Isobut
  • the total amount of compound (2) or compound (3) used is usually 1 to 5 moles, preferably 1 to 3 moles, relative to compound (1).
  • the acid include sulfuric acid, for example, hydrogen halides such as hydrochloric acid and hydrogen bromide; perhalogenic acids such as perchloric acid; sulfonic acids such as methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, and trifluoromethanesulfonic acid.
  • Perfluorocarboxylic acid such as trifluoroacetic acid; aprotic acid such as boron trifluoride, aluminum chloride, aluminum bromide, zinc chloride, zinc bromide, tin chloride, titanium tetrachloride; acidic ion exchange resin; And hydrogen halide is preferred.
  • aprotic acid a complex of an aprotic acid such as boron trifluoride / tetrahydrofuran complex may be used.
  • an acid having a pKa of 2.5 or less is preferable, and an acid having a pKa of 1.5 or less is more preferable.
  • MAGH compounds Compounds that generate a mineral acid by hydrolysis (hereinafter sometimes referred to as MAGH compounds) include, for example, oxyhalogens such as phosphorus oxychloride and phosphorus oxybromide.
  • Phosphorus halides such as phosphorus trichloride, phosphorus tribromide and phosphorus pentachloride; thionyl halides such as thionyl chloride; sulfuryl halides such as sulfuryl chloride; and oxyhalogenated phosphorus is preferred.
  • Compound (1) may be reacted with compound (2) or compound (3) in the presence of an acid, or compound (1) may be reacted with compound (2) or compound (3) in the presence of a MAGH compound. ). Further, compound (1) may be reacted with compound (2) or compound (3) in the presence of an acid and a MAGH compound.
  • an acid or MAGH compound may be added to a mixture of compound (1) and compound (2) or compound (3), or compound (1) and acid Alternatively, compound (2) or compound (3) may be added to the mixture of MAGH compounds.
  • the total amount of the acid or MAGH compound used is usually 0.001 mole times or more, preferably 0.01 mole times or more based on the compound (1), and there is no particular upper limit.
  • the solvent may be used in excess, but it is practically not more than 5 moles, preferably not more than 3 moles in terms of post-treatment and economics. It is carried out in the presence of, for example, nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile, carboxylic acid solvents such as formic acid and acetic acid, and halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform.
  • ether solvents such as tetrahydrofuran, etc.
  • ester solvents such as ethyl acetate
  • alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, etc.
  • water alone or mixed ether solvents
  • carboxylic acid solvents such as tetrahydrofuran, etc.
  • ester solvents such as ethyl acetate
  • alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, etc.
  • water alone or mixed water alone or mixed.
  • carboxylic acid solvents such as tetrahydrofuran, etc.
  • ester solvents such as ethyl acetate
  • alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, etc.
  • water alone or mixed water alone or mixed.
  • carboxylic acid solvents such as tetrahydrofuran, etc.
  • ester solvents such as ethyl acetate
  • alcohol solvents such as m
  • the desired aromatic unsaturated compound (4) can be obtained by reacting the compound (1) with the compound (2) or the compound (3) in the presence of an acid or a MAGH compound. By performing such a reaction in the coexistence of water, the aromatic unsaturated compound (4) can be obtained with higher yield.
  • the amount of water used is usually 0.1 mol times or more with respect to compound (1), and there is no particular upper limit, but practically 50 mol times. Or less, preferably 10 times or less.
  • the reaction temperature is usually from 20 to 80 ° C.
  • the target aromatic unsaturated compound (4) can be obtained.
  • the aromatic unsaturated compound (4) may be precipitated as crystals in the reaction solution.
  • the reaction solution is directly filtered to remove the aromatic unsaturated compound (4).
  • water and an organic solvent insoluble in water for example, toluene, ethyl acetate, methyl tert-butyl ether, methyl isobutyl ketone, etc.
  • the group unsaturated compound (4) can also be removed.
  • the aromatic unsaturated compound (4) taken out may be further purified by usual purification means such as recrystallization, column chromatography and the like.
  • Examples of the aromatic unsaturated compound (4) thus obtained include, for example, methyl 3_ (2,4,6-trimethoxyphenyl) acrylate, methyl 3- (2,3,4-trimethoxyphenyl) acrylate, 3 — (3-hydroxy-2,4-dimethoxyphenyl) methyl acrylate, 3- (3,4-dihydroxyphenyl) methyl acrylate, 3- (2,4,6-trimethoxyphenyl) ethyl acrylate, 3 1- (2,3,4-trimethoxyphenyl) ethyl acrylate, 3- (3-hydroxy-2,4-dimethoxyphenyl) ethyl acrylate, 3- (3,4-dihydroxy N-propyl acrylate, 3- (2,4,6-trimethoxyphenyl) acrylate, n-propyl 3- (2,3,4-trimethoxyphenyl) acrylate , 3- (3-hydroxy_2,4-dimethoxyphenyl) n-propyl
  • the trans isomer or the trans isomer of the aromatic unsaturated compound (4) is mainly used.
  • a mixture of trans and cis isomers of the aromatic unsaturated compound (4) is obtained.
  • the aromatic unsaturated compounds (4) for example, the following formula (7)
  • a compound having a 3- (4-monofluorophenyl) indolyl group in its molecule such as For example, according to the method of WOOl / 92223, it can be converted to fluvastin which is useful as a hyperlipidemic drug.
  • WOOl / 92223 the method of WOOl / 92223, it can be converted to fluvastin which is useful as a hyperlipidemic drug.
  • a concentrated residue was obtained that contained acrylonitrile (a mixture of trans and cis isomers, mainly trans isomers).
  • the obtained concentrated residue was purified by silica gel column chromatography (developing solution: n-heptane Z-ethyl acetate: 10Z1 force, et al. 5Z1) to give trans-3- (3- (4-fluorophenyl) -11-isopropyl 0.34 g of [1-1H-indole-12-yl] acrylonitrile (yellow solid) was obtained. Yield: 45%.
  • Example 8 The reaction and post-treatment were carried out in the same manner as in Example 8 except that the acid shown in Table 1 was used instead of phosphorus oxychloride, the amount of glacial acetic acid used was 6 mL, and the conditions shown in Table 1 were used. An s—3- [3- (4-fluorophenyl) -1-methyl-1-H-indole-12-yl] methyl acrylate (yellow solid) was obtained. The results are shown in Table 1.
  • the method of the present invention uses an aromatic octogenide having a high environmental load as a raw material. It is a higher atom economy method that can produce aromatic unsaturated compounds that can be derived from medicines and agricultural chemicals without by-producing hydrogen halides that need to be neutralized. Further, the method of the present invention is more industrially advantageous because it does not use a transition metal which is expensive and requires complicated post-treatment.

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Description

明 細 書 芳香族不飽和化合物の製造方法
技術分野
本発明は、 芳香族不飽和化合物の製造方法に関する <
背景技術
式 (4 )
Figure imgf000003_0001
(式中、 A rは置換されていてもよい芳香族基または置換されていてもよいへテ 口芳香族基を表わし、 Yは電子吸引性基を表わす。 )
で示される芳香族不飽和化合物 (以下、 芳香族不飽和化合物 (4 ) と略記する。
) は、 例えば医農薬の合成中間体等として有用である。 例えば下記式 (7 )
Figure imgf000003_0002
で示される化合物は、 例えば WO01/92223にも記載される如く高脂血症薬として 有用なフルパスタチンの合成中間体として知られている。
また、 下記式 (8 ) 及び (9 ) で示される化合物は.、 それぞれ特開平 9-202775 、 特開平 7-206842にも記載される如く動脈硬化症治療薬として開発中の化合物で ある。
Figure imgf000004_0001
かかる芳香族不飽和化合物 (4 ) の製造方法としては、 例えば対応する芳香族 ハロゲン化物とアクリル酸等のァクリル酸化合物とを、 パラジウム触媒および塩 基の存在下に反応させる方法が知られている (例えば WO01/92223) が、 環境に 対する負荷の高い芳香族ハロゲン化物を原料に用いる必要がある上、 ハロゲン化 水素が反応の進行とともに副生する。 しかも該ハロゲン化水素を塩基により中和 する必要があるという点で、 原料面から見ると、 必ずしもアトムエコノミーが高 い反応とは言えなかった。
一方、 よりアトムエコノミーが高い方法として、 式 ( 1 )
Ar—— H (1)
(式中、 A rは上記と同一の意味を表わす。 )
で示される化合物を原料とし、 アクリル酸化合物と反応させる方法がある。 例え ば (a ) ルテニウム触媒やパラジウム触媒を用い、 酸素の存在下に反応を実施す る方法 (例えば J.Am.Chem.Soc., 125, 1476 (2003)、 J.Am.Chem.Soc, 123, 337 (2001)
) 、 (b)理論量以上のパラジウム錯体を用いる方法 (例えば J.Org.Chem., ^, 851
(1981)^ Heterocycles, 22, 1493 (1984)) 等が提案されている。
しかしながら、 (a ) の方法は、 酸素を使用するため、 爆発限界以下の反応条 件下で実施する必要があり、 操作面、 設備面で必ずしも有利とは言えない。 また 、 (b ) の方法は、 原料面ではアトムエコノミーが高い方法ではあるものの、 理 論量以上のパラジウム錯体を用いているため、 コスト面で不利であり、 また反応 後のパラジウム錯体の後処理も煩雑で、 さらに収率も低く、 工業的製造という観 点からは、 必ずしも有利な方法とは言えなかった。
また、 インドール環を有する化合物の製造方法として、 インドール環を構成す る窒素原子をベンゼンスルホニル基で保護した後、 パラジウム触媒の存在下に、 ァクリル酸化合物と反応させる方法が知られている (例えば Synthesis, 236 (1984)) しかしながらこの方法は、 インドール環を構成する窒素原子をベンゼンスルホ ニル基で保護した化合物に限られた反応であり、 しかも収率よく目的物を得るた めには、 例えば酢酸銀等の比較的高価な再酸化剤を過剰量用いる必要があった。
発明の開示
このような状況のもと、 本発明者らは、 前記式 (1 ) で示される化合物を原料 として、 前記芳香族不飽和化合物 (4 ) を、 よりアトムエコノミーが高く、 工業 的にもより有利に製造する方法を開発すべく、 鋭意検討したところ、 前記式 (1
) で示される化合物と、 式 ( 2 )
Figure imgf000005_0001
(式中、 Yは電子吸引性基を表わし、 Zは低級アルコキシ基を表わす。 ) で示される化合物または式 (3 )
Figure imgf000005_0002
(式中、 Yおよび Zは上記と同一の意味を表わす。 )
で示される化合物とを、 塩酸等の酸や、 ォキシ塩化リン等の加水分解により鉱酸 を発生せしめる化合物の存在下に反応させることにより、 本願の目的が達せられ ることを見出し、 本発明に至った。
即ち本発明は、 下記の発明を含む。
< 1 > (a) 前記式 (1 ) で示される化合物を、
(b) 前記式 (2 ) で示される化合物または前記式 (3 ) で示される化合物と、 (c)酸または加水分解により鉱酸を発生せしめる化合物の存在下に 反応させることを包含する
前記式 (4) で示される芳香族不飽和化合物の製造方法。
<2> 水の共存下に反応を実施する <1>に記載の方法。
< 3 > (c)酸または加水分解により鉱酸を発生する化合物がハロゲン化水素であ るく 1 >または < 2 >に記載の方法。
<4> (c)酸または加水分解により鉱酸を発生せしめる化合物が、 ォキシハロゲ ン化リン、 ハロゲン化リン、 ハロゲン化チォニルまたはハロゲン化スルフリルで ある < 1 >または < 2 >に記載の方法。
<5> 酢酸中で反応を実施する <1>〜<4>のいずれかに記載の方法。 <6> 式 (1) 及び式 (4) における Arが、 低級アルキル、 低級アルコキシル 、 水酸基、 -ORx、 ァミノ、 -NHRy、 -NRy 2、 ハロゲンおよびハロゲンで置換され ていてもよいフエニルからなる群から選ばれる少なくとも一つの基 (ここで Rxは 水酸基の保護基を表し、 Ryはァミノの保護基を表す。 ) で置換されていてもよい 芳香族基またはへテロ芳香族基である < 1 >〜ぐ 5 >のいずれかに記載の方法。 <7> 式 (1) 及び式 (4) における Arが置換されていてもよいフエニルであ るく 1 >〜< 6〉のいずれかに記載の方法。
<8> 式 (1) 及び式 (4) における Arが置換されていてもよいインドリルで ある < 1>〜<6>のいずれかに記載の方法。
<9> 式 (1) で示される化合物が、 式 (5)
Figure imgf000006_0001
(式中、 R1 はハロゲンで置換されていてもよいフエニル、 水素またはアルキル を表わし、 R2 はアルキルを表わすか、 またはハロゲンで置換されていてもよい フエニルを表わす。 ) で示される化合物であり、 式 (4 ) で示される芳香族不飽和化合物が、 式 (6 )
Figure imgf000007_0001
(式中、 R 1 および R 2 は上記と同一の意味を表わす。 )
で示される芳香族不飽和化合物である < 1 >から < 6 >のいずれか、 または < 8 >に記載の方法。
発明を実施するための最良の形態
式 (1 )
Ar ~~ H (1)
で示される化合物 (以下、 化合物 (1 ) と略記する。 ) の式中、 A rは、 置換さ れていてもよい芳香族基または置換されていてもよいへテロ芳香族基を表わす。 芳香族基としては、 例えばフエニル、 ナフチル、 アンスリル、 フエナンスリル
、 テトラヒドロナフチル、 9 , 1 0 —ジヒドロアンスリル、 ァセナフテニル等が 挙げられる。 ヘテロ芳香族基としては、 芳香環の構成原子として窒素原子、 酸素 原子、 硫黄原子等のへテロ原子を含んだ芳香族基が挙げられ、 具体的に例えばィ ンドリル、 ベンゾフリル、 ベンゾチェ二ル、 ベンゾチアゾリル、 ベンゾォキサゾ リル、 ピロリル、 フリル、 チェニルジベンゾフリル、 ジベンゾチェ二ル、 2, 3 ージヒドロインドリル、 2, 3—ジヒドロベンゾフリル等が挙げられる。 ヘテロ 芳香族基としてはィンドリル基が好ましい。
かかる芳香族基またはへテロ芳香族基は、 置換基で置換されていてもよく、 置 換基としては、 例えばアルキル、 通常はメチル、 ェチル、 n—プロピル、 イソプ 口ピル、 n—ブチル、 イソプチル、 s e cーブチル、 t e r t —ブチル、 n—ぺ ンチル、 イソペンチル、 n—へキシル等の炭素数 1〜 6のアルキル、 好ましくは 炭素数 1〜4の低級アルキル;メトキシ、 エトキシ、 n—プロボキシ、 イソプロ ポキシ、 n—ブトキシ、 イソブトキシ、 s e c—ブ卜キシ、 t e r t—ブ卜キシ 等の通常は炭素数 1〜4の低級アルコキシ;水酸基; -ORで表される保護基で保 護された水酸基;ァミノ ; -NHRyまたは- NRy 2で表される保護基で保護されたアミ ノ ;フッ素、 塩素、 臭素、 ヨウ素等のハロゲン; フエニル、 4—クロ口フエニル 、 4 _フルオロフェニル等のハロゲンで置換されていてもよいフエニル等が挙げ られる。 Rxで表される水酸基の保護基としては、 例えばァセチル等のアルカノィ ル;メトキシメチル等のアルコキシアルキル;ベンジル等のァラルキル; メチレ ン、 ジメチルメチレン等のアルキレン等が挙げられ、 かかる- ORxで表される保護 基で保護された水酸基としては、 例えばァセチルォキシ、 メトキシメトキシ、 ベ ンジルォキシ、 メチレンジォキシ、 ジメチルメチレンジォキシ等が挙げられる。 また、 Ryで表されるァミノの保護基としては、 例えば前記アルカノィル;ベンジ ル等のァラルキル;ベンジルォキシメチル等のァラルキルォキシアルキル;ジメ トキシメチル等のジアルコキシアルキル;ベンゼンスルホニル、 P—トルエンス ルホニル、 メタンスルホニル等のスルホニル等が挙げられ、 かかる- NHRyまたは- NRy 2で表される保護基で保護されたァミノとしては、 例えばァセチルァミノ、 ジ ベンジルァミノ、 ジベンジルォキシメチルァミノ、 ジメトキシメチルァミノ、 ベ ンゼンスルホニルァミノ、 p —トルエンスルホニルァミノ、 メタンスルホニルァ ミノ等が挙げられる。
かかる置換基で置換された芳香族基の場合、 その置換基の数は特に制限されな いが、 反応速度の観点から、 2個以上の電子供与性置換基で置換された芳香族基 が好ましく、 3個以上の電子供与性置換基で置換された芳香族基がより好ましい 。 また、 置換基で置換されたへテロ芳香族基の場合もその置換基の数は特に制限 されないが、 反応速度の観点から、 1個以上の電子供与性置換基で置換されたへ テロ芳香族基が好ましい。 ここでいう電子供与性置換基とは、 前記した置換基の うち、 アルキル、 炭素数 1〜4の低級アルコキシ、 水酸基、 -ORXで表される保護 基で保護された水酸基、 ァミノ、 または- NHRyまたは- NRy 2で表される保護基で保 護されたァミノを指す。
かかる化合物 (1 ) のうち、 ヘテロ芳香族基がインドリル基である化合物は、 例えば高脂血症薬として有用なフルパス夕チン等のインドール化合物 (例えば特 公平 2— 4 6 0 3 1号公報、 国際公開第 0 1 Z 9 2 2 2 3号パンフレット等) の 合成原料という点で重要であり、 かかるヘテロ芳香族基がィンドリル基である化 合物としては、 例えば式 (5 )
Figure imgf000009_0001
(式中、 R 1 はハロゲンで置換されていてもよいフエニル、 水素またはアルキル を表わし、 R 2 はアルキルを表わすか、 またはハロゲンで置換されていてもよい フエニルを表わす。 )
で示される化合物が挙げられる。
上記式 (5 ) の式中、 ハロゲンで置換されていてもよいフエニルは、 前記した ものと同様のものが挙げられ、 アルキルとしては、 例えばメチル、 ェチル、 n— プロピル、 イソプロピル、 n—ブチル、 イソブチル、 s e c—ブチル、 t e r t 一プチル、 n—へキシル等の炭素数 1〜 6のアルキルが挙げられる。
かかる化合物 (1 ) としては、 例えばベンゼン、 ナフタレン、 ジメトキシベン ゼン、 1, 3 , 5 —トリメトキシベンゼン、 1 , 2 , 3 —トリメトキシベンゼン 、 2 , 6ージメトキシフエノ一ル、 2—メトキシァニリン、 4—メトキシァニリ ン、 2 —メトキシァセ卜ァニリド、 4ーメトキシァセ卜ァニリド、 2—ァセチル ァミノフエノール、 4ーァセチルァミノフエノール、 カテコール、 レゾルシノー ル、 ヒドロキノン、 4— t e r t—プチルカテコール、 カプサイシン、 2—メチ ルー 1 H—インド一ル、 2—メチルー 1ーメチルー 1 H—インドール、 2—メチ ル— 1ーィソプロピル— 1 H—ィンドール、 2—メチル— 1 一フエ二ルー 1 H— インドール、 2—ェチルー 1 H—インド一ル、 2—ェチルー 1—メチル— 1 H— インドール、 2—ェチルー 1一フエ二ルー 1H—インドール、 2—フエ二ルー 1 H—インドール、 2—フエ二ルー 1—メチルー 1H_インドール、 2—フエニル 一 1一フエニル— 1H—インドール、 3—メチルー 1 H—インドール、 3—メチ ルー 1ーメチルー 1 H—ィンドール、 3—メチル— 1—イソプロピル— 1 H—ィ ンドール、 3—メチルー 1一フエエル— 1 H—インドール、 3—ェチルー 1H— インドール、 3—ェチルー 1—メチルー 1 H—インドール、 3—ェチルー 1—フ ェニル一 1 H—インドール、 3—フエニル— 1 H—インドール、 3—フエ二ルー 1—メチル— 1 H—インドール、 3—フエ二ルー 1一フエ二ルー 1 H—インド一 ル、 3— (4—フルオロフェニル) 一 1一イソプロピル一 1H—インドール等が 挙げられる。
かかる化合物 (1) は、 市販されているものを用いてもよいし、 公知の方法に 準じて製造したものを用いてもよい。 例えば芳香族基がインドリル基である化合 物は、 例えば T e t r a e d r on L e t t e r s, 26, 21 55 (19 85) 等の公知の方法に準じて製造することができる。 式 (2)
Figure imgf000010_0001
で示される化合物 (以下、 化合物 (2) と略記する。 ) および式 (3) (3)
Figure imgf000010_0002
で示される化合物 (以下、 化合物 (3) と略記する。 ) の式中、 Yは電子吸引性 基を表わし、 Zは低級アルコキシを表わす。
電子吸引性基としては、 例えばアルコキシ力ルポニル、 ァリールォキシカルボ ニル、 ァラルキルォキシカルボニル、 ァシル、 シァノ等が挙げられる。 アルコキ シカルポニルとしては、 例えばメトキシカルボニル、 エトキシカルポニル、 n— プロポキシ力ルポニル、 イソプロポキシ力ルポニル、 n—ブトキシカルポニル、 イソブトキシカルポニル、 t e r t—ブトキシカルポニル、 n—へキシルォキシ 力ルポニル、 n—才クチルォキシカルポニルォキシ等の炭素数 2〜 9のアルコキ シカルポニルが挙げられる。 ァリールォキシカルポニルとしては、 例えばフエノ キシカルポニル等の炭素数 7〜 1 3のァリールォキシカルボニルが挙げられ、 ァ ラルキルォキシカルポニルとしては、 例えばべンジルォキシカルポニル等の炭素 数 8〜: 14のァラルキルォキシ力ルポニルが挙げられる。 ァシルとしては、 例えば ァセチル、 プロピオニル等の炭素数 2〜 9の脂肪族ァシル;ベンゾィル等の炭素 数 7〜1 3の芳香族ァシル等が挙げられる。 また、 低級アルコキシとしては、 例 えばメトキシ、 エトキシ、 n—プロポキシ、 イソプロポキシ、 n—ブトキシ、 ィ ソブトキシ、 s e c 一ブトキシ、 t e r t —ブトキシ、 n—ペンチルォキシ、 n 一へキシルォキシ等の炭素数 1〜 6のアルコキシが挙げられ、 炭素数 1〜 4のァ ルコキシが好ましい。
かかる化合物 (2 ) としては、 例えば 3—メトキシアクリル酸メチル、 3—メ トキシアクリル酸ェチル、 3—メトキシアクリル酸 n—プロピル、 3—メトキシ アクリル酸イソプロピル、 3—メトキシアクリル酸 n—プチル、 3—メトキシァ クリル酸イソプチル、 3—メトキシアクリル酸 s e c—プチル、 3—メトキシァ クリル酸 t e r t—プチル、 3—メトキシアクリル酸フエニル、 3—メトキシァ クリル酸ベンジル、 3—エトキシアクリル酸メチル、 3—エトキシアクリル酸ェ チル、 3—エトキシアクリル酸 n—プロピル、 3 _エトキシアクリル酸イソプロ ピル、 3—エトキシアクリル酸 n—プチル、 3—エトキシアクリル酸イソブチル 、 3—エトキシアクリル酸 s e c —プチル、 3—エトキシアクリル酸 t e r t— プチル、 3—エトキシアクリル酸フエニル、 3—エトキシアクリル酸ベンジル、 3—イソプロポキシァクリル酸メチル、 3—イソプロポキシァクリル酸ェチル、 3 —イソプロポキシアクリル酸 n—プロピル、 3 —イソプロポキシアクリル酸ィ ソプロピル、 3—イソプロポキシアクリル酸 n—プチル、 3 _イソプロボキシァ クリル酸イソプチル、 3—イソプロポキシアクリル酸 s e c—プチル、 3—イソ プロポキシアクリル酸 t e r t—プチル、 3—イソプロポキシアクリル酸フエ二 ル、 3—イソプロポキシアクリル酸ベンジル、 3— n—ブトキシアクリル酸メチ ル、 3— n—ブトキシアクリル酸ェチル、 3— n—ブトキシアクリル酸 n—プロ ピル、 3— n—ブトキシアクリル酸イソプロピル、 3— n—ブトキシアクリル酸 n—プチル、 3— n—ブトキシァクリル酸イソプチル、 3— n—ブトキシァクリ ル酸 s e c—プチル、 3 _n—ブトキシアクリル酸 t e r t—プチル、 3 _n_ ブトキシアクリル酸フエニル、 3— n—ブトキシアクリル酸ベンジル、 3— t e r t一ブトキシアクリル酸メチル、 3— t e r t—ブトキシァクリル酸ェチル、 3— t e r t _ブトキシアクリル酸 n—プロピル、 3— t e r t—ブトキシァク リル酸イソプロピル、 3— t e r t—ブトキシアクリル酸 n—ブチル、 3— t e r t—ブトキシアクリル酸イソプチル、 3_ t e r t—ブトキシアクリル酸 s e c—ブチル、 3— t e r t _ブトキシアクリル酸 t e r t—ブチル、 3— t e r t—ブトキシアクリル酸フエニル、 3— t e r t—ブトキシァクリル酸べンジル 、 3—メトキシァクリロニ卜リル、 3—エトキシアクリロニトリル、 3—イソプ 口ポキシアクリロニトリル、 3— n—ブトキシアクリロニトリル、 3— t e r t 一ブトキシァクリロニトリル、 4ーメトキシー 3—ブテン一 2—オン、 4—エト キシー 3—ブテン一 2—オン、 3—メトキシー 1一フエニルプロぺノン等が挙げ られる。
なお、 かかる化合物 (2) には、 トランス異性体とシス異性体が存在するが、 本発明には、 そのいずれか一方を用いてもよいし、 両者の任意の混合物を用いて もよい。
化合物 (3) としては、 例えば 3, 3—ジメトキシプロピオン酸メチル、 3, 3—ジメトキシプロピオン酸ェチル、 3, 3—ジメトキシプロピオン酸 n—プロ ピル、 3, 3—ジメトキシプロピオン酸イソプロピル、 3, 3—ジメトキシプロ ピオン酸 n_プチル、 3, 3—ジメトキシプロピオン酸イソプチル、 3, 3—ジ メトキ、シプロピオン酸 s e c—ブチル、 3, 3—ジメトキシプロピオン酸 t e r t 一プチル、 3, 3—ジメトキシプロピオン酸フエニル、 3, 3—ジメトキシプ ロピオン酸ベンジル、 3, 3—ジエトキシプロピオン酸メチル、 3 , 3—ジエト キシプロピオン酸ェチル、 3 , 3—ジェトキシプロピオン酸 n—プロピル、 3, 3—ジエトキシプロピオン酸イソプロピル、 3, 3—ジエトキシプロピオン酸 n —プチル、 3, 3—ジエトキシプロピオン酸イソプチル、 3, 3—ジェトキシプ ロピオン酸 s e c —プチル、 3, 3—ジエトキシプロピオン酸 t e r t —ブチル 、 3, 3—ジエトキシプロピオン酸フエニル、 3 , 3—ジェトキシプロピオン酸 ベンジル、 3, 3—ジイソプロポキシプロピオン酸メチル、 3 , 3—ジイソプロ ポキシプロピオン酸ェチル、 3 , 3—ジイソプロポキシプロピオン酸 n—プロピ ル、 3, 3—ジイソプロポキシプロピオン酸イソプロピル、 3, 3—ジイソプロ ポキシプロピオン酸 n—プチル、 3, 3—ジイソプロポキシプロピオン酸イソブ チル、 3, 3—ジイソプロポキシプロピオン酸 s e c—プチル、 3 , 3—ジイソ プロポキシプロピオン酸 t e r t—ブチル、 3 , 3—ジイソプロポキシプロピオ ン酸フエニル、 3 , 3—ジイソプロポキシプロピオン酸ベンジル、 3 , 3—ジ ( n—ブトキシ) プロピオン酸メチル、 3, 3—ジ (n—ブトキシ) プロピオン酸 ェチル、 3, 3—ジ (n—ブトキシ) プロピオン酸 n—プロピル、 3 , 3—ジ ( n—ブトキシ) プロピオン酸イソプロピル、 3, 3—ジ (n—ブトキシ) プロピ オン酸 n _プチル、 3, 3—ジ (n—ブトキシ) プロピオン酸イソプチル、 3, 3—ジ (n—ブトキシ) プロピオン酸 s e c—ブチル、 3, 3—ジ (n—ブトキ シ) プロピオン酸 t e r t—プチル、 3, 3—ジ (n—ブトキシ) プロピオン酸 フエニル、 3, 3—ジ (n—ブトキシ) プロピオン酸ベンジル、 3 , 3—ジ ( t e r t —ブトキシ) プロピオン酸メチル、 3, 3—ジ ( t e r t —ブトキシ) プ 口ピオン酸ェチル、 3, 3—ジ ( t e r t —ブトキシ) プロピオン酸 n—プロピ ル、 3 , 3—ジ ( t e r t —ブトキシ) プロピオン酸イソプロピル、 3 , 3—ジ ( t e r t —ブトキシ) プロピオン酸 n—ブチル、 3 , 3—ジ ( t e r t —ブト キシ) プロピオン酸イソブチル、 3, 3—ジ (t e r t —ブトキシ) プロピオン 酸 s e c—ブチル、 3 , 3—ジ ( t e r t —ブトキシ) プロピオン酸 t e r t— プチル、 3, 3—ジ (t e r t—ブトキシ) プロピオン酸フエニル、 3, 3—ジ ( t e r t —ブトキシ) プロピオン酸ベンジル、 3, 3—ジメトキシプロピオ二 トリル、 3 , 3—ジエトキシプロピオ二トリル、 3, 3—ジイソプロポキシプロ ピオ二トリル、 3, 3—ジ (n—ブトキシ) プロピオ二トリル、 3 , 3—ジ (t e r t —ブトキシ) プロピオ二トリル、 1, 1ージメトキシ— 3—ブ夕ノン、 1 , 1 —ジエトキシ一 3 —ブ夕ノン、 3, 3 —ジメトキシ一 1 —フエニルプロパン - 1—オン等が挙げられる。
かかる化合物 (2 ) や化合物 (3 ) は、 市販されているものを用いてもよいし 、 例えば特公昭 6 1 - 4 5 9 7 4号公報、 特開昭 5 8 - 2 6 8 5 5号公報等公知 の方法に準じて製造したものを用いてもよい。
化合物 (2 ) または化合物 (3 ) の使用量は合計で、 化合物 (1 ) に対して、 通常 1〜 5モル倍、 好ましくは 1〜 3モル倍である。 酸としては、 例えば硫酸、 例えば塩酸、 臭化水素等のハロゲン化水素;過塩素 酸等の過ハロゲン酸;メタンスルホン酸、 ベンゼンスルホン酸、 p—トルエンス ルホン酸、 トリフルォロメ夕ンスルホン酸等のスルホン酸; トリフルォロ酢酸等 のパ一フルォロカルボン酸;三フッ化ホウ素、 塩化アルミニウム、 臭化アルミ二 ゥム、 塩化亜鉛、 臭化亜鉛、 塩化スズ、 四塩化チタン等の非プロトン酸;酸性ィ オン交換樹脂等が挙げられ、 ハロゲン化水素が好ましい。 なお、 非プロトン酸と して、 例えば三フッ化ホウ素 ·テトラヒドロフラン錯体等の非プロトン酸の錯体 を用いてもよい。 本発明方法において、 用いられる酸がプロトン酸の場合、 pKa が 2 . 5以下の酸が好ましく、 pKaが 1 . 5以下の酸がさらに好ましい。
加水分解により鉱酸を発生せしめる化合物 (以下、 MA G H化合物と記すこと がある。 ) としては、 例えばォキシ塩化リン、 ォキシ臭化リン等のォキシハロゲ ン化リン;三塩化リン、 三臭化リン、 五塩化リン等のハロゲン化リン;塩化チォ ニル等のハロゲン化チォニル;塩化スルフリル等のハロゲン化スルフリル等が挙 げられ、 ォキシハロゲン化リンが好ましい。
酸の存在下に、 化合物 (1) を、 化合物 (2) または化合物 (3) と反応させ てもよいし、 MAGH化合物の存在下に、 化合物 (1) を、 化合物 (2) または 化合物 (3) と反応させてもよい。 また、 酸および MAGH化合物の存在下に、 化合物 (1) を、 化合物 (2) または化合物 (3) と反応させてもよい。
これらの混合順序は特に制限されず、 例えば化合物 (1) と、 化合物 (2) ま たは化合物 (3) の混合物に、 酸または MAGH化合物を加えてもよいし、 化合 物 (1) と酸または MAGH化合物の混合物に、 化合物 (2) または化合物 (3 ) を加えてもよい。
酸または MAGH化合物の使用量は合計で、 化合物 (1) に対して、 通常 0. 001モル倍以上、 好ましくは 0. 01モル倍以上であり、 その上限は特になく 、 反応条件下で液体である場合には、 溶媒を兼ねて過剰量用いてもよいが、 後処 理ゃ、 経済性の点から実用的には 5モル倍以下、 好ましくは 3モル倍以下である 反応は、 通常溶媒の存在下に実施され、 溶媒としては、 例えばァセトニトリル 、 プロピオ二トリル等の二トリル系溶媒、 例えばギ酸、 酢酸等のカルボン酸系溶 媒、 例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、 例え ばテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、 例えば酢酸ェチル等のエステル系溶 媒、 例えばメタノール、 エタノール、 イソプロパノール等のアルコール系溶媒、 水等の単独または混合溶媒が挙げられ、 カルボン酸系溶媒、 二卜リル系溶媒が好 ましく、 カルボン酸系溶媒がより好ましく、 なかでも酢酸が特に好ましい。 かか る溶媒の使用量は特に制限されない。 また、 前述のとおり、 反応条件下で、 前記 酸または MAGH化合物が液体である場合には、 かかる酸または MAGH化合物 を溶媒として使用してもよい。 化合物 (1) を、 化合物 (2) または化合物 (3) と、 酸または MAGH化合 物の存在下に反応させることにより、 目的とする芳香族不飽和化合物 (4) が得 られる。 かかる反応を、 水の共存下に実施することにより、 より収率よく芳香族 不飽和化合物 (4) を得ることができる。
水の共存下に反応を実施する場合の水の使用量は、 化合物 (1) に対して、 通 常 0. 1モル倍以上であり、 その上限は特にないが、 実用的には 50モル倍以下 、 好ましくは 10モル倍以下である。
反応温度は、 通常一 20〜80°Cである。
反応終了後、 例えば反応液と水を混合した後、 濾過処理することにより、 目的 とする芳香族不飽和化合物 (4) を取り出すことができる。 場合によっては、 反 応液中に芳香族不飽和化合物 (4) が結晶として析出していることがあるが、 そ の場合には、 反応液をそのまま濾過処理して芳香族不飽和化合物 (4) を取り出 してもよいし、 反応液と水を混合した後、 濾過処理し、 取り出してもよい。 また 、 例えば反応液に、 水および水に不溶の有機溶媒、 例えばトルエン、 酢酸ェチル 、 メチル t一ブチルエーテル、 メチルイソブチルケトン等を加え、 抽出処理し、 得られる有機層を濃縮処理することにより、 芳香族不飽和化合物 (4) を取り出 すこともできる。 取り出した芳香族不飽和化合物 (4) は、 例えば再結晶、 カラ ムクロマトグラフィ等の通常の精製手段によりさらに精製してもよい。 かくして得られる芳香族不飽和化合物 (4) としては、 例えば 3_ (2, 4, 6—トリメトキシフエ二ル) ァクリル酸メチル、 3 - (2, 3, 4—トリメトキ シフエニル) アクリル酸メチル、 3— (3—ヒドロキシー 2, 4—ジメトキシフ ェニル) アクリル酸メチル、 3— (3, 4ージヒドロキシフエニル) アクリル酸 メチル、 3 - (2, 4, 6—トリメトキシフエニル) アクリル酸ェチル、 3一 ( 2, 3, 4 _卜リメ卜キシフエニル) ァクリル酸ェチル、 3— (3—ヒドロキシ - 2, 4ージメトキシフエ二ル) ァクリル酸ェチル、 3— (3, 4ージヒドロキ シフエ二ル) アクリル酸ェチル、 3— (2, 4, 6 _トリメトキシフエ二ル) ァ クリル酸 n—プロピル、 3— (2, 3, 4—トリメトキシフエ二ル) アクリル酸 n—プロピル、 3― (3—ヒドロキシ _ 2, 4ージメトキシフエ二ル) アクリル 酸 n—プロピル、 3— (3, 4—ジヒドロキシフエニル) アクリル酸 n—プロピ ル、 3 - (2, 4, 6—トリメトキシフエニル) ァクリル酸イソプロピル、 3― (2, 3, 4_卜リメトキシフエ二ル) ァクリル酸イソプロピル、 3一 (3—ヒ ドロキシ一 2, 4ージメトキシフエ二ル) アクリル酸イソプロピル、 3— (3, 4ージヒドロキシフエニル) アクリル酸イソプロピル、 3— (2, 4, 6—トリ メトキシフエ二ル) アクリル酸 n—プチル、 3― (2, 3, 4—トリメトキシフ ェニル) アクリル酸 n—プチル、 3— (3—ヒドロキシ _2, 4—ジメトキシフ ェニル) アクリル酸 n—プチル、 3一 (3, 4—ジヒドロキシフエニル) アタリ ル酸 n—プチル、 3_ (2, 4, 6—トリメトキシフエ二ル) アクリル酸イソブ チル、 3― (2, 3, 4ートリメトキシフエ二ル) アクリル酸イソプチル、 3 - (3—ヒドロキシ— 2, 4ージメトキシフエニル) アクリル酸イソプチル、 3一 (3, 4—ジヒドロキシフエニル) アクリル酸イソブチル、 3一 (2, 4, 6一 トリメトキシフエエル) アクリル酸フエニル、 3 - (2, 3, 4—トリメトキシ フエニル) アクリル酸フヱニル、 3 - (3—ヒドロキシ一 2, 4ージメトキシフ ェニル) ァクリル酸フエニル、 3一 (3, 4—ジヒドロキシフエニル) アクリル 酸フエニル、 3 _ (2, 4, 6—トリメトキシフエ二ル) アクリル酸ベンジル、 3 - (2, 3, 4 _トリメトキシフエ二ル) ァクリル酸ベンジル、 3 - (3—ヒ ドロキシ _ 2, 4ージメトキシフエニル) アクリル酸ベンジル、 3一 (3, 4― ジヒドロキシフエニル) ァクリル酸ベンジル、 3 - (2, 4, 6—トリメトキシ フエニル) アクリロニトリル、 3 - (2, 3, 4ートリメトキシフエ二ル) ァク リロ二トリル、 3_ (3—ヒドロキシー 2, 4—ジメトキシフエニル) ァクリロ 二トリル、 3— (3, 4—ジヒドロキシフエニル) アクリロニトリル、 4一 (2 , 4, 6—トリメトキシフエニル) 一 3—ブテン一 2—オン、 4― (2, 3, 4 —トリメトキシフエニル) 一 3—ブテン— 2—オン、 4一 (3—ヒドロキシー 2 , 4ージメトキシフエ二ル) - 3ーブテン一 2—オン、 4一 (3, 4—ジヒドロ キシフエニル) —3—ブテン一 2—オン、 3― (2, 3, 4一卜リメ卜キシフエ ニル) _ 1一フエニルプロべノン、 3— (3—ヒドロキシー 2, 4—ジメトキシ フエニル) 一 1一フエニルプロべノン、 3— (3, 4—ジヒドロキシフエニル) 一 1一フエニルプロぺノン、
3 - [ 3 - (4 _フルオロフェニル) - 1一イソプロピル— 1 H—ィンド一ルー 2_ィル] アクリル酸メチル、 3 - [3— (4 _フルオロフェニル) 一 1一イソ プロピル一 1 H—インド一ル— 2—ィル] アクリル酸ェチル、 3— [3— (4- フルオロフェニル) - 1—イソプロピル一 1 H—インドール— 2—ィル] ァクリ ル酸 n—プロピル、 3— [3— (4一フルオロフェニル) — 1—イソプロピル— 1 H rンドール一 2一^ rル] ァクリル酸イソプロピル、 3 - [3— (4一フル オロフェニル) 一 1—イソプロピル— 1H—インドール— 2—ィル] アクリル酸 n—ブチル、 3 - [3 - (4一フルオロフェニル) - 1—イソプロピル一 1 H— インドール— 2—^ rル] アクリル酸イソプチル、 3 - [3 - (4 _フルオロフェ ニル) — 1一イソプロピル _ 1 H—インドール— 2—ィル] アクリル酸 t e r t ーブチル、 3 - [3 - (4—フルオロフェニル) 一 1—イソプロピル— 1 H—ィ ンドール— 2 ィル] ァクリル酸フエニル、 3 - [3 - (4—フルオロフェニル ) 一 1—イソプロピル— 1 H—インドール一 2一ィル] ァクリル酸ベンジル、 3 一 [3— (4—フルオロフェニル) 一 1一イソプロピル— 1 H—インドール— 2 一^ fル] アクリロニトリル、 3一 ( 1ーメチル— 2 _フエニル— 1 H—インド一 ルー 3—ィル) ァクリル酸メチル、 3 - ( 1—メチルー 2—フエ二ルー 1 H—ィ ンドール一 3—ィル) ァクリル酸ェチル、 3― ( 1ーメチルー 2—フエ二ルー 1 H—インドールー 3—ィル) アクリル酸 n—プロピル、 3一 (1一メチル—2— フエニル— 1 H—ィンドール— 3—ィル) アクリル酸イソプロピル、 3 - ( 1— メチル— 2—フエ二ルー 1 H—ィンドール— 3一ィル) ァクリル酸 n _プチル、 3 - (1ーメチルー 2 _フエニル— 1 H—インドール— 3 _ィル) アクリル酸ィ ソブチル、 3— (1—メチル _ 2—フエ二ルー 1 H—インド一ルー 3—ィル) ァ クリル酸 t e r t—プチル、 3一 ( 1—メチルー 2—フエニル— 1 H—インドー ルー 3—ィル) ァクリル酸フエニル、 3一 (1—メチルー 2—フエニル— 1 H— ィンドール一 3—ィル) ァクリル酸ベンジル、 3 - ( 1一メチル— 2—フエニル 一 1H—インド一ル _ 3 _ィル) アクリロニトリル、 4一 [3— (4—フルォロ フエニル) 一 1—イソプロピル— 1H—インド一ル— 2—ィル] 一 3—ブテン一 2—オン、 4 - (1—メチルー 2—フエニル _ 1 H—インド一ル— 3—ィル) - 3—ブテン一 2—オン、 3 - [3— (4—フルオロフェニル) - 1一イソプロピ ル— 1 H—インドール— 2—ィル] - 1—フエニルプロぺノン、 3一 ( 1ーメチ ルー 2—フエ二ルー 1 H—インド一ル— 3—ィル) 一 1一フエニルプロぺノン等 が挙げられる。
本反応においては、 化合物 (2) として、 トランス異性体、 シス異性体のいず れを用いても、 通常は芳香族不飽和化合物 (4) のトランス異性体か、 トランス 異性体を主とする芳香族不飽和化合物 (4) のトランス,シス異性体混合物が得 られる。 なお、 かかる芳香族不飽和化合物 (4) のうち、 例えば下記式 (7)
Figure imgf000019_0001
等のその分子内に 3— (4一フルオロフェニル) ィンドリル基を有する化合物は 、 例えば WOOl/92223の方法に従い、 高脂血症薬として有用なフルバス夕チンへ 変換することができる。 以下、 実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、 本発明はこれら実施例 に限定されない。 実施例 1
3 - (4一フルオロフェニル) 一 1—イソプロピル一 1 H—インドール 1. 0 l g、 3, 3—ジメトキシプロピオン酸メチル 0. 9.2 g、 90重量%酢酸水 0 . 72mL (水 4mmo l含有) および氷酢酸 6 mLを混合した後、 内温 25°C で、 該混合物にォキシ塩ィヒリン 0. 33 gを滴下し、 同温度で 9時間攪拌し、 反 応させた。 反応終了後、 反応液に、 水 16mLを滴下し、 析出した結晶を濾取し た。 該結晶を、 20体積%メタノール水で洗浄した後、 乾燥処理し、 t r an s - 3 - [3 - (4 _フルオロフェニル) - 1—イソプロピル一 1H—インドール — 2—ィル] アクリル酸メチル (黄色固体) 1. 25 gを得た。 収率: 93%。 1 H-NMR (δ/ρ pm, CDC 13 , 400 MH z )
1. 70 (6H, d, J = 7Hz) , 3. 76 (3H, s ) , 4. 95 (1 H, m) , 5. 96 (1H, d, J = 16Hz) , 7. 50 (1 H, d, J = 8 H z ) , 7. 57 ( 1 H, d, J = 8Hz) , 7. 08〜7. 40 (6 H, m) , 7 . 82 ( 1 H, d, J = 16Hz) 実施例 2
1ーメチル— 2—フエ二ルー 1 H—インドール 1. 04 g、 t r a n s - 3 - メトキシアクリル酸メチル 0. 64 g、 水 94. 5mgおよび氷酢酸 6mLを混 合し、 内温 25°Cで、 ォキシ塩化リン 124mgを該混合物に加え、 同温度で 1 7時間攪拌し、 反応させた。 反応終了後、 反応液に、 水 30mLを滴下した後、 酢酸ェチル 5 OmLを加えて抽出処理し、 得られた有機層を濃縮処理した。 得ら れた濃縮残渣をフラッシュクロマトグラフィ (flash chromatography) により精製 処理し、 t r an s _3— ( 1ーメチルー 2—フエ二ルー 1 H—インドール— 3 —ィル) アクリル酸メチル (黄色固体) 1. l l gを得た。 収率: 76%。 1 H-NMR (δ/p pm, CDC 13 , 400 MHz)
3. 64 (3H, s) , 3. 74 ( 3 H, s) , 6. 46 ( 1 H, d, J = 16 Hz) , 7. 29〜7. 55 (9H, m) , 7. 72 ( 1 H, d, J = 16 H z ) 実施例 3
1, 3, 5—トリメトキシベンゼン 1. 68 g、 t r a n s— 3—メトキシァ クリル酸メチル 2. 32 g、 水 0. 18 gおよび氷酢酸 6 mLを混合し、 内温 2 5°Cで、 該混合物にォキシ塩化リン 164mgを加え、 同温度で 3時間攪拌し、 反応させた。 反応終了後、 反応液に水 36mLを滴下し、 析出した結晶を濾取し た。 該結晶を、 20体積%メタノール水で洗浄した後、 乾燥処理し、 t r an s — 3— (2, 4, 6—トリメトキシフエニル) アクリル酸メチル (白色固体) 2 . 28 gを得た。 収率: 91 %。
1 H-NMR (δ/p pm, CDC 13 , 400MHz)
3. 79 (3H, s) , 3. 85 (3H, s ) , 3. 87 (6H, s) , 6. 1 2 (2H, s ) , 6. 76 ( 1 H, d, J = 16Hz) , 8. 08 ( 1 H, d, J = 16Hz) 実施例 4
1, 3, 5—トリメトキシベンゼン 1. 7 g、 3, 3ージメ卜キシプロピオン 酸メチル 1. 68 gおよび氷酢酸 12mLを混合し、 内温 25°Cで、 該混合物に 35重量%塩酸 313mgを加え、 同温度で 1時間攪拌し、 反応させた。 反応終 了後、 反応液に水 36mLを滴下し、 析出した結晶を濾取した。 該結晶を、 20 体積%メタノール水で洗浄処理した後、 乾燥処理し、 t r an s— 3— (2, 4 , 6—トリメ卜キシフエニル) アクリル酸メチル (白色固体) 2. 46 gを得た 。 収率: 98 %。 実施例 5
1, 2, 3—トリメトキシベンゼン 1. 68 g、 t r a n s— 3—メトキシァ クリル酸メチル 1. 34 gおよび氷酢酸 6mLを混合し、 内温 25°Cで、 該混合 物に 35重量%塩酸 313mgを加え、 同温度で 16時間攪拌し、 反応させた。 反応終了後、 反応液に水 3 OmLおよび酢酸ェチル 5 OmLを加え、 抽出処理し た。 得られた有機層を水洗浄した後、 濃縮処理し、 得られた濃縮残渣をシリカゲ ルカラムクロマトグラフィ (展開液: n—ヘプタンノ酢酸ェチル =6Z1から 5 /1) により精製処理し、 t r an s— 3— (2, 3, 4-トリメトキシフエ二 ル) アクリル酸メチル (白色固体) 0. 63 gを得た。 また、 原料 1, 2, 3— トリメトキシベンゼン 0. 92 gを回収した。 転化した 1, 2, 3—トリメトキ シベンゼンに対する 3— (2, 3, 4—トリメトキシフエニル) アクリル酸メチ ルの収率は、 55 %であった。
1 H-NMR ( δ/ρ m, CDC 13 , 400 MH z )
3. 80 (3H, s ) , 3. 88 (3H, s ) , 3. 89 (3 H, s ) , 3. 9 2 (3 H, s ) , 6. 42 ( 1 H, d, J = 16 H z ) , 6. 69 ( 1 H, d, J = 9Hz) , 7. 26 ( 1 H, d, J = 9Hz) , 7. 88 ( 1 H, d, J = 16H z) 実施例 6
1, 2, 3—卜リメトキシベンゼン 1 · 68 gに代えて、 2, 6ージメ卜キシ フエノール 1. 54 gを用いた以外は実施例 5と同様に反応及び後処理を行い、 t r an s— 3— (3—ヒドロキシ— 2, 4—ジメトキシフエニル) アクリル酸 メチル (白色固体) 0. 76 gを得た。 収率: 32%。
1 H-NMR (δ/ρ pm, CDC 13, 400MHz)
3. 80 (3H, s ) , 3. 91 (3H, s) , 3. 93 (3H, s) , 5. 5 8 (1H, s ) , 6. 45 ( 1 H, d, J = 16Hz) , 6. 67 ( 1 H, d, J = 9Hz) , 7. 07 (1H, d, J = 9Hz) , 7. 87 (1H, d, J = 16Hz) 実施例 7
3— (4—フルオロフェニル) — 1一イソプロピル一 1H—インド一ル 0. 6 3 gをジクロロメタン 3mLに溶解した溶液に、 内温 0〜10°Cで、 ォキシ塩化 リン 0. 77 gを滴下し、 次いで、 t r a n s _ 3—メトキシァクリロニトリル 0. 92 gを滴下した。 その後、 混合物を室温で一晩攪拌して、 反応させ、 さら に還流温度で 6時間反応させた。 反応終了後、 反応液を、 5重量%炭酸水素ナト リウム水 10 OmLに加え、 酢酸ェチルで 3回抽出処理した。 得られた有機層を 合一し、 水洗浄した後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥処理した。 硫酸マグネシゥ ムを濾別し、 得られた濾液を濃縮処理し、 3— [3_ (4—フルオロフェニル)
- 1一^ rソプロピル一 1 H—インド一ルー 2 rル] アクリロニトリル (トラン ス異性体を主とするトランス,シス異性体混合物) を含む濃縮残渣を得た。 得ら れた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ (展開液: n—ヘプタン Z酢 酸ェチル: 10Z1力、ら 5Z1) で精製処理し、 t r a n s— 3— [3— (4— フルオロフェニル) 一 1—ィソプロピル一 1 H—インドール一 2—ィル] ァクリ ロニトリル (黄色固体) 0. 34 gを得た。 収率: 45%。
1 H-NMR (δ/ρ pm, CDC 13, 400MHz)
1. 70 (6H, d, J = 7Hz) , 4. 85 (1H, m) , 5. 35 ( 1 H, d, J = 16Hz) , 7. 09〜7. 46 (7 H, m) , 7. 55 ( 1 H, d, J = 8Hz) , 7. 48 (1H, d, J = 16Hz) 実施例 8
3 - (4 _フルオロフェニル) 一 1一イソプロピル一 1 H—インドール 0 · 6 2 g、 t r a n s _ 3—メトキシアクリル酸メチル 0. 5 78、 水461118ぉょ び氷酢酸 6. 4mLを混合した後、 内温 25°Cで、 該混合物にォキシ塩化リン 6 6mgを滴下し、 同温度で 21時間攪拌し、 反応させた。 反応終了後、 実施例 1 と同様に後処理し、 t r an s— 3— [3— (4一フルオロフェニル) 一 1ーィ ソプロピル一 1 H—インド一ルー 2—ィル] アクリル酸メチル (黄色固体) 0. 65 gを得た。 収率: 79%。 実施例 9
ォキシ塩化リンの使用量を、 164mgとし、 反応時間を 9時間とした以外は 実施例 8と同様に反応及び後処理を行い、 t r an s _ 3— [3— (4—フルォ 口フエニル) — 1一イソプロピル— 1H—インドールー 2—^ rル] アクリル酸メ チル (黄色固体) 0. 79 gを得た。 収率: 96 %。 実施例 10〜 13
ォキシ塩化リンに代えて、 表 1に示した酸を用い、 氷酢酸の使用量を 6mLと し、 表 1に示した条件とした以外は実施例 8と同様に反応及び後処理を行い、 t r an s— 3— [3— (4一フルオロフェニル) — 1—イソプロピル一 1 H—ィ ンドール一 2—ィル] アクリル酸メチル (黄色固体) を得た。 結果を表 1に示す 実施例 酸 (m g ) 水 反応時間 収率
99重量%硫酸
10 46 mg 1 5 H r 59 %
(156)
35重量%塩酸 108mg
1 1 1 5 H r 94%
(166) (塩酸中の水)
P -トルエンスル
56 m g
12 ホン酸 ·一水和物 1 5H r 74%
(結晶水 10mg含む)
(302)
47重量%臭化水 145 m g
13 5H r 90 % 素酸水 (274) (臭化水素酸水中の水 実施例 14
3— (4—フルオロフェニル) — 1—イソプロピル一 1H— ^ Γンドール 0. 3 l g、 t r an s— 3—メトキシアクリル酸メチル 0. 288、 水3 61118ぉょ びァセトニトリル 6mLを混合した後、 内温 25°Cで、 該混合物にォキシ塩化リ ン 164mgを滴下し、 同温度で 22時間攪拌し、 反応させた。 反応終了後、 実 施例 1と同様に後処理し、 t r an s— 3— [3— (4—フルオロフェニル) ― 1一イソプロピル一 1H—インド一ルー 2—ィル] アクリル酸メチル (黄色固体 ) 0. 21 gを得た。 収率: 51 %。
実施例 1 5
3― (4—フルオロフェニル) - 1一イソプロピル— 1 H—インドール 2. 5 3 g、 t r a n s— 3—メトキシアクリル酸メチル 2. 328、 水0. 3 gおよ びァセトニトリル 1 5mLを混合した後、 内温 25°Cで、 該混合物にォキシ塩化 リン 2. 51 gを滴下し、 同温度で 1 9時間攪拌し、 反応させた。 反応終了後、 実施例 1と同様に後処理し、 t r a n s— 3— [3— (4—フルオロフェニル) 一 1一イソプロピル一 1H—インドールー 2—ィル] アクリル酸メチル (黄色固 体) 2. 17 gを得た。 収率: 65 %。 実施例 16〜 18
ォキシ塩化リンおよび水の使用量を表 2に示す量とし、 反応時間を 18時間と した以外は実施例 14と同様に反応及び後処理を行い、 t r an s— 3_ [3— (4一フルオロフェニル) 一 1一イソプロピル一 1 H—ィンド一ルー 2一ィル] アクリル酸メチル (黄色固体) を得た。 結果を表 2に示す。
表 2
Figure imgf000026_0001
実施例 19〜 20
ォキシ塩化リンに代えて、 表 3に示した酸を用い、 反応時間を 19時間とした 以外は実施例 14と同様に反応及び後処理を行い、 t r an s— 3— [3 - (4 —フルオロフェニル) 一 1一イソプロピル— 1 H_インドール— 2—ィル] ァク リル酸メチル (黄色固体) を得た。 結果を表 3に示す。
表 3
Figure imgf000026_0002
実施例 21
3— (4—フルオロフェニル) — 1—イソプロピル _ 1H—インドール 1. 2 7 g、 t r a n s _ 3—メトキシアクリル酸メチル 1. 16 gおよび氷酢酸 12 mLを混合した後、 内温 25°Cで、 該混合物に 30重量%臭化水素ノ酢酸溶液 7 97mgを滴下し、 同温度で 5時間攪拌し、 反応させた。 反応終了後、 実施例 1 と同様に後処理し、 t r an s— 3— [3— (4—フルオロフェニル) — 1ーィ ソプロピル— 1H—インドール— 2—ィル] アクリル酸メチル (黄色固体) 0. 15 gを得た。 収率: 8 %。 実施例 22
3― (4—フルオロフェニル) 一 1—イソプロピル一 1H—インドール 1. 2 7 g、 1, 1ージメトキシー 3—ブタノン 1. 32 gおよびギ酸 6 mLを混合し た後、 室温で該混合物に 30重量%臭化水素 Z酢酸溶液 0. 78 gを加え、 同温 度で約 19時間攙拌し、 反応させた。 反応終了後、 酢酸ェチル 5 OmLおよび水 20mLを加え、 抽出処理し、 得られた有機層を水で洗浄した後、 無水硫酸マグ ネシゥムで乾燥処理した。 硫酸マグネシウムを濾別した後、 得られ濾液を濃縮処 理し、 t r an s— 4— [3— (4—フルオロフェニル) ― 1—イソプロピル— 1H—インドールー 2 _ィル] _ 3—ブテン一 2—オンを含む濃縮残渣を得た。 該濃縮残渣をシリカゲルクロマトグラフィ (展開液 n—ヘプタン/酢酸ェチル : 4/1) で精製処理し、 t r an s— 4— [3— (4—フルオロフェニル) ― 1—イソプロピル— 1H—インドールー 2 _ィル] - 3—ブテン一 2—オン (黄 色固体) 0. 72 gを得た。 収率: 52%。 また、 原料である 3— (4—フルォ 口フエ二ル) — 1—イソプロピル— 1H—インドール 0. 18 gをあわせて回収 した。
1 H-NMR (δ/p pm, CDC 13 , 40 ΟΜΗζ)
1. 71 (6Η, d, J = 7 Hz) , 2. 23 (3H, s ) , 4. 94 ( 1 H, m) , 6. 29 ( 1 H, d, J = 16Hz) , 7. 09〜 7. 40 (6H, m) , 7. 49 (1 H, J = 8Hz) , 7. 51 (1H, J = 8Hz) , 7. 66 ( 1 H, d, J = 16Hz) 実施例 23
3 - (4一フルオロフェニル) 一 1一イソプロピル一 1H—インド一ル 1· 2 7 g、 1, 1ージメトキシ— 3—ブタノン 1. 32 gおよび酢酸 6mLを混合し た後、 室温で該混合物に 35重量%塩酸 26 Omgを加え、 同温度で約 18時間 攪拌し、 反応させた。 反応終了後、 反応液 2滴をサンプリングした。 サンプリン グ液を減圧条件下で濃縮処理し、 得られた濃縮残渣を重クロ口ホルムに溶解させ 、 1 H—NMRスペクトルを測定したところ、 前記濃縮残渣中には、 t r an s 一 4— [3— (4—フルオロフェニル) 一 1—イソプロピル一 1H—インドール 一 2一ィル] _ 3—ブテン一 2—オンと原料の 3— (4 _フルオロフェニル) ― 1一イソプロピル一 1H—インドールが含まれており、 その含有比 (t r an s 一 4一 [3― (4一フルオロフェニル) 一 1一イソプロピル一 1H—インドール 一 2—ィル] 一 3—ブテン— 2—オン Z3— (4一フルオロフェニル) — 1ーィ ソプロピル— 1H—インドール (NMR積分値から算出) ) は 1Z2. 7である ことがわかった。 実施例 24
1ーメチルー 2—フエ二ルー 1 H—インドール 2. 07 g、 1, 1—ジメトキシ 一 3—ブ夕ノン 1. 32 gおよび酢酸 12 mLを混合した後、 室温で該混合物に 35重量%塩酸 313mgを加え、 同温度で約 14時間攪拌し、 反応させた。 な お攪拌、 反応開始から約 10分経過した時点で、 青色固体が析出し、 攪拌が困難 となったため、 酢酸 8mLを加えた。 反応終了後、 水 60mLを滴下し、 析出し た結晶を濾取した。 該結晶を 10体積%メタノール/水で洗浄処理後、 乾燥処理 し、 t r an s— 4— [ 1—メチル— 2—フエ二ルー 1 H—インドールー 3—ィ ル] — 3—ブテン _ 2—オン (青緑色固体) 2. 44 gを得た。 収率: 89%。 1 H-NMR (δ/ρ pm, CDC 13, 400MHz)
2. 24 (3H, s) , 3. 65 (3H, s) , 6. 83 ( 1 H, d, J = 16 Hz) , 7. 30〜 7. 43 (5 H, m) , 7. 52〜7. 59 (4H, m) , 8. 02 ( 1 H, J = 8 H z ) 本発明方法は、 環境に対する負荷の高い芳香族八ロゲン化物を原料に用いるこ となく、 また、 中和の必要があるハロゲン化水素を副生することなく医農薬等に 誘導可能な芳香族不飽和化合物を製造できる、 ァトムエコノミーのより高い方法 である。 また、 高価で、 後処理が煩雑な遷移金属を用いないので、 本発明方法は 工業的にもより有利である。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . (a)式 ( 1 )
Ar "~ H (1)
(式中、 A rは置換されていてもよい芳香族基または置換されていてもよい ヘテロ芳香族基を表わす。 )
で示される化合物を、
(b)式 ( 2 )
Figure imgf000030_0001
(式中、 Yは電子吸引性基を表わし、 Zは低級アルコキシを表わす。 ) で示される化合物または式 (3 )
Figure imgf000030_0002
(式中、 Yおよび Zは上記と同一の意味を表わす。 )
で示される化合物と、
(c)酸または加水分解により鉱酸を発生せしめる化合物の存在下に
反応させることを包含する
式 (4 )
Figure imgf000030_0003
(式中、 A rおよび Yは上記と同一の意味を表わす。 )
で示される芳香族不飽和化合物の製造方法。
2 . 水の共存下に反応を実施する請求の範囲 1に記載の方法。
3 . (c)酸または加水分解により鉱酸を発生する化合物がハロゲン化水素である請 求の範囲 1に記載の方法。
4. (c)酸または加水分解により鉱酸を発生せしめる化合物が、 ォキシハロゲン化 リン、 ハロゲン化リン、 ハロゲン化チォニルまたはハロゲン化スルフリルである 請求の範囲 1に記載の方法。
5. 酢酸中で反応を実施する請求の範囲 1に記載の方法。
6. 式 (1) 及び式 (4) における Arが、 低級アルキル、 低級アルコキシル、 水 酸基、 -ORx、 ァミノ、 -NHRy、 -NRy 2、 ハロゲンおよびハロゲンで置換されていて もよいフエニルからなる群から選ばれる少なくとも一つの基 (ここで Rxは水酸基 の保護基を表し、 Ryはァミノの保護基を表す。 ) で置換されていてもよい芳香族 基またはへテロ芳香族基である請求の範囲 1に記載の方法。
7. 式 (1) 及び式 (4) における Axが置換されていてもよいフエニルである請 求'の範囲 1に記載の方法。
8. 式 (1) 及び式 (4) における Arが置換されていてもよいインドリルである 請求の範囲 1に記載の方法。
9. 式 (1) で示される化合物が、 式 (5)
Figure imgf000031_0001
(式中、 R1 はハロゲンで置換されていてもよいフエニル、 水素またはアルキル を表わし、 R2 はアルキルを表わすか、 またはハロゲンで置換されていてもよい フエニルを表わす。 )
で示される化合物であり、 式 (4) で示される芳香族不飽和化合物が、 式 (6)
Figure imgf000031_0002
(式中、 R1 および R2 は上記と同一の意味を表わす。 )
で示される芳香族不飽和化合物である請求の範囲 1に記載の方法。
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