WO2009142238A1 - 焼結体およびその製造方法ならびに光学部品 - Google Patents

焼結体およびその製造方法ならびに光学部品 Download PDF

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sintered compact
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幹人 長谷川
友之 上野
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住友電気工業株式会社
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    • C04B2235/9646Optical properties
    • C04B2235/9653Translucent or transparent ceramics other than alumina

Definitions

  • the present invention relates to a sintered body, a manufacturing method thereof, and an optical component, and more particularly, to a sintered body based on ceramics, a manufacturing method thereof, and an optical component including the sintered body.
  • Patent Document 1 Before coating a vapor deposition layer on an elastic substrate, the amount of deformation due to internal stress of the coating layer is predicted, and the substrate surface is deformed in the opposite direction by that amount in advance. It shows how to prevent deformation and delamination after processing.
  • Patent Document 2 In Japanese Patent No. 3639822 (Patent Document 2), in order to prevent peeling of the base material and the coating layer, an adhesion layer is provided at the interface between them, and the coating thereon is made into a laminated structure, so A method of relieving stress is shown.
  • Patent Document 3 shows an optical device including an optical element having a wide bandwidth and high transmittance, in which layers of high and low refractive indexes are stacked.
  • Patent Document 4 discloses a technique in which a mold is brought into close contact with an optical element that has been heat-press-molded with a net size to smoothly separate the mold while maintaining shape accuracy. A method of cooling while pressurizing with pressure is shown.
  • Patent Document 5 discloses that the material of the upper die and the lower die used for press molding of a glass lens is graphite.
  • Non-patent Document 1 “Precision processing of fine ceramics” shows that a deteriorated layer is formed on the processed surface by grinding or polishing (polishing) of fine ceramics.
  • Non-patent Document 2 shows the crystal structure of the polished product of the ZnS sintered body (p76, FIG. 8).
  • Non-Patent Document 3 Optical Element and Mechanism Inspection Technique
  • JP 58-113901 A Japanese Patent No. 3639822 JP 2006-053180 A JP-A-2-252629 JP 60-246231 A
  • the functional surface is easily deformed. Further, when the functional surface is coated with another material or bonded, peeling of the coating or the bonding interface becomes a problem. For example, even if it is intended to improve the corrosion resistance by coating, if the coating layer has a larger coefficient of thermal expansion than the substrate, the force to peel off the substrate and the coating layer by subsequent heating works, The adhesion will be reduced. For this reason, a limit may arise naturally in the combination of a base material and a surface layer. On the other hand, a design (for example, shown in Patent Documents 1 to 3) that can take a stress relaxation measure corresponding to the situation is required. In addition, an appropriate stress relaxation measure is required for practical use of the polished surface of the zinc sulfide sintered body described in Non-Patent Document 2.
  • Patent Document 4 is based on the premise that an optical element is formed of glass, and the premise and configuration are completely different from those of the present invention.
  • Patent Document 5 only describes the materials of the upper mold and the lower mold used for press molding of a glass lens, and neither the idea nor the suggestion of the present invention is described.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is a sintered body that is less likely to be deformed in practical use and has a high degree of freedom in designing a surface layer, and a method for manufacturing the same. Another object is to provide an optical component including the sintered body.
  • the sintered body according to the present invention is a sintered body based on ceramics and has no residual stress on the surface or is oriented in the tensile direction.
  • an unprocessed surface is provided on the surface of the base material.
  • the “unprocessed surface” means “a surface that has not been subjected to mechanical processing such as grinding and polishing, and surface treatment such as film formation, heat treatment, and chemical treatment”. Further, the unprocessed surface may be provided on the entire surface of the base material, or may be provided on a part of the surface of the base material.
  • compressive stress tends to remain on the surface of the substrate by subjecting the surface of the substrate to processing such as polishing.
  • processing such as polishing.
  • by providing the “unprocessed surface” on at least a part of the substrate surface it is possible to suppress the compression stress from remaining on the surface of the sintered body.
  • the residual stress is a tensile stress of 1 MPa or more.
  • the residual stress (tensile direction) on the surface of the sintered body is less than 1 MPa, the sintered body may be less likely to be shattered when the sintered body is damaged, and it may be difficult to determine replacement due to the damage.
  • the residual stress in the tensile direction is 1 MPa or more as described above, it is possible to provide a sintered body that can be easily replaced by damage.
  • the base material contains at least one substance selected from the group consisting of zinc sulfide, germanium, zinc selenide, calcium fluoride, and spinel.
  • the method for producing a sintered body according to the present invention is a method for producing a sintered body having a predetermined shape using a ceramic as a base material, the step of preparing a ceramic preform, and a predetermined having an upper mold and a lower mold And forming a pressure sintered body by pressing and sintering a ceramic preform using a mold of 5 and 5 to 100 percent of the pressure load applied during the step of forming the pressure sintered body And a step of cooling the pressure sintered body while applying a pressure load of preferably 20% or more and 40% or less (preferably 20% or less).
  • the step of cooling the pressure sintered body by applying a predetermined pressure load to the pressure sintered body, a tensile stress can be generated on the surface of the sintered body after cooling. it can. Therefore, there is provided a sintered body that has no residual stress in the compression direction on the surface and hardly deforms during practical use. In addition, by the said method, the residual stress of a compression direction and a tension direction may not be formed on the surface.
  • the thermal expansion coefficient of at least one of the upper mold and the lower mold is lower than the thermal expansion coefficient of the sintered body.
  • the optical component according to the present invention includes the sintered body described above or the sintered body manufactured by the method for manufacturing a sintered body described above. Thereby, the optical component provided with the sintered compact which does not produce a deformation
  • the sintered body according to the present invention can be used for, for example, precision and high-precision parts in addition to optical parts.
  • the base material alumina, zirconia, silicon nitride, silicon carbide and the like can be used in addition to those described above.
  • FIG. 1 is a diagram showing an optical component as a sintered body according to one embodiment of the present invention.
  • an optical component 1 is a lens member that includes at least one substance selected from the group consisting of zinc sulfide, germanium, zinc selenide, calcium fluoride, and spinel.
  • the optical component 1 shown in FIG. 1 will be described, but the scope of the “sintered body” according to the present invention is not limited to the optical component 1.
  • the optical component 1 according to the present embodiment is a sintered body having ceramic as a base material, and has no residual stress on the surface, or the residual stress is in the tensile direction. Ceramics may be any material.
  • Adjusting the residual stress on the surface of the ceramic as described above increases the proof strength of the ceramic substrate itself against thermal or mechanical external forces. Furthermore, the adhesion between the base material and the coating material when the base material itself is coated with a material having a large thermal expansion coefficient is improved. Therefore, the stress buffering of the metallized layer and the hard film is facilitated, and the variation of the laminated design increases. Moreover, the durability in a cooling / heating cycle is improved.
  • the base material is a state formed by a hot forming method such as hot pressing, and has a surface that is not newly chemically or physically processed (referred to herein as an “unprocessed surface”). It may be.
  • the base material is formed by hot forming such as hot press, and then chemically or physically processed (for example, the grain boundary is corroded, cut or polished) And may be heat-treated after being applied, another material joined and combined, or a coating layer formed on an unprocessed surface).
  • the unprocessed surface may be provided on the entire surface of the ceramic substrate, or may be provided on a part of the surface of the ceramic substrate.
  • the residual stress on the ceramic substrate surface is a tensile stress of 1 MPa or more (more preferably 4 MPa or more).
  • the optical component 1 When the residual stress (tensile direction) on the ceramic substrate surface is smaller than 1 MPa, the optical component 1 is not easily shattered when the optical component 1 is broken, and a relatively large range (for example, about 50% or more) remains. In some cases, it may be difficult to determine replacement due to damage. On the other hand, by setting the residual stress in the tensile direction to 1 MPa or more (more preferably 4 MPa or more) as described above, it is possible to provide the optical component 1 in which replacement can be easily determined due to breakage.
  • the optical component 1 with high durability can be provided by setting the residual stress in the tensile direction to 1 MPa or more as described above.
  • FIG. 2 is a flowchart for explaining a method of manufacturing the optical component 1 according to the present embodiment.
  • the manufacturing method of the optical component 1 which concerns on this Embodiment is a method of manufacturing the optical component 1 of the predetermined shape (lens shape) which uses ceramics as a base material, Comprising: A step of preparing (S10), a step of pressurizing and sintering the ceramic preform using a predetermined mold having an upper die and a lower die (S20), and pressurizing A step of cooling the pressure-sintered body while applying a pressure load of about 5 to 100 percent (preferably about 20 to 40 percent) of the pressure load applied during the step of forming the bonded body (S30).
  • the thermal expansion coefficient of at least one of the upper mold and the lower mold is lower than the thermal expansion coefficient of the sintered body.
  • the pressure sintered body cooling step (S30) by applying a predetermined pressure load to the pressure sintered body, tensile stress is generated on the surface of the sintered body after cooling. Can be made. Therefore, there is provided a sintered body that has no residual stress in the compression direction on the surface and hardly deforms during practical use. In addition, by the said method, the residual stress of a compression direction and a tension direction may not be formed on the surface.
  • the pressure load during the cooling step (S30) is less than 5 percent of the pressure load applied during the step of forming the pressure sintered body, the residual stress in the tensile direction is not always sufficient, When an optical component is damaged due to a mechanical factor, it is difficult to break down and it is difficult to determine whether or not to replace it. Furthermore, when a coating layer is provided on the surface by a vacuum vapor deposition method, the durability against the temperature cycle test is likely to decrease.
  • the pressure load during the cooling step (S30) exceeds 100% of the pressure load applied during the step of forming the pressure sintered body, the residual stress in the tensile direction becomes too large. As a result, distortion (asp) is caused and the function as an optical component is lowered. From the above viewpoint, more preferably, the pressure load during the cooling step (S30) is not less than 20 percent and not more than 40 percent of the pressure load applied during the step of forming the pressure sintered body.
  • the end point temperature of the pressurization during the cooling step (S30) is preferably 90% or less of the holding temperature of the pressure sintering step. However, if this end point temperature is lower than 25% of the holding temperature in the pressure sintering process, cracks may occur during deformation. Therefore, the end point temperature of the pressurization in the cooling step (S30) is preferably 25% or more and 90% or less of the holding temperature of the pressure sintering step.
  • the stress in the compression direction of the surface due to the shrinkage does not remain on the pressure surface of the ceramic base material, but rather the stress in the tensile direction remains. .
  • the conventional base material surface has a material with a large thermal expansion coefficient as a counterpart material. It was not possible to use it, and it was necessary to use a material with a low coefficient of thermal expansion, or to consider laminate bonding to relieve stress.
  • the optical component 1 according to the present embodiment it is possible to use a material having a large thermal expansion coefficient as the counterpart material. That is, according to the present embodiment, it is possible to provide the optical component 1 that is hardly deformed in practical use and that has a high degree of freedom in designing the surface layer.
  • Example 1 all of ZnS (zinc sulfide), ZnSe (zinc selenide), CaF 2 (calcium fluoride), spinel and Ge (germanium) having an average particle diameter of 1 to 3 ⁇ m and a purity of 95.5% or more.
  • a ceramic preform from powder and pre-sintering the ceramic preform, a flat plate shape with dimensions of 20 mm ( ⁇ ) ⁇ 5 mm (thickness), or 20 mm ( ⁇ ) ⁇ 6 mm (thickness), Pre-sintered ceramic preforms (Nos. 1 to 18 in Table 1) having a plano-convex lens shape with a radius of curvature of 18 and a relative density of about 60% were prepared.
  • the ceramic preform is placed between an upper mold and a lower mold made of glassy carbon as a mold, and the ceramic preform is pressed while being sintered.
  • the pressurization described in Table 1 After reaching the holding temperature and holding load in the sintering step, the holding was performed for 300 seconds. Then, after reducing the pressure to the holding load of the cooling step described in Table 1, the ceramic optical of ⁇ 20 mm ⁇ 3 mmt is obtained by cooling to the holding temperature of the cooling step (end point temperature of pressurization) while maintaining the holding load. I got the parts. As a result of measuring the residual stress of these obtained samples using a Rigaku Co., Ltd. micro-part X-ray stress measurement apparatus, the residual stress shown in Table 1 was detected. In Table 1, No. 7, 10, 13, 15, and 17 are obtained by grinding and polishing a flat plate of ⁇ 20 mm ⁇ 3 mmt from a block ( ⁇ 100 mm ⁇ 30 mmt) obtained by hot pressing each powder.
  • No. 1 shown in Table 1. Strain measurement was performed on samples 1 to 18 (see “5.2.4 Judgment of curvature (asphericity: asperity) on the ridge surface” on pages 88 to 89 of Non-Patent Document 3). .
  • Table 2 shows the results of the copper ball drop test and strain measurement.
  • the evaluation by the copper ball drop test is marked as follows. 1. Less than 20% of remaining area where lens function is completely eliminated: 2. Remaining area ratio of 20% or more and less than 50% where deterioration in lens functionality can be remarkably confirmed 3. Remaining area ratio of 50% or more and less than 80% at a level that affects the visibility through the lens: ⁇ 4). Remaining area rate of 80% or more that does not affect the visibility through the lens: ⁇
  • a preferable range for the residual stress in the tensile direction is about 1 MPa to 15 MPa (more preferably about 4 MPa to 8 MPa).
  • the temperature of the sample is set to about 100 to 200 ° C., and a predetermined coating material is coated with about 0.5 ⁇ m by a vacuum vapor deposition method, and they are placed in a constant temperature room at ⁇ 40 ° C. and 80 ° C.
  • a temperature cycle test was performed with exposure every 30 minutes. Then, the entire front and back surfaces were observed using an optical microscope at a magnification of 10 times, and the number of cycles until partial peeling occurred was measured. Furthermore, the strain measurement and the copper ball drop test were performed on these samples in the same manner as described above.
  • the coating is not limited to the single layer coating described in the present embodiment, and may be a multilayer coating. Further, the film thickness is not limited by the thickness described in this embodiment.
  • Table 3 the evaluation by the temperature cycle test is marked as follows. 1. The number of cycles until partial peeling occurs is 10 or less: ⁇ 2. The number of cycles until partial peeling occurs 11 to 500 times: ⁇ 3. The number of cycles until partial peeling occurs 501 to 1000: ⁇ 4). The number of cycles until partial peeling occurs is 1001 times or more: ⁇
  • Sample No. 2, no. 7, no. 9, no. 10, no. Table 4 shows the results obtained by coating 14 to 17 with a coating material different from the above by about 0.5 ⁇ m and conducting a durability test by a cycle test in the same manner as described above. Table 4 also shows the same tendency as described above.
  • FIGS. 2 this example
  • No. 2 7 shows a surface observation image related to 7 (Comparative Example).
  • FIG. 5 comparative example
  • FIG. 4 in this example, the crystal grain boundaries can be clearly confirmed, so that it is possible to easily determine the quality of the structure in the molded product.
  • the dent corresponding to the crystal grain boundary exists on the surface, the anchor effect is obtained and the adhesion of the coat film is improved.
  • Example 2 an alumina-based pre-sintered body containing 0.5 wt% MgO sintering aid and fired at 1500 ° C. in the air, containing 5 wt% Y 2 O 3 sintering aid and at 1600 ° C. in nitrogen
  • a fired aluminum nitride presintered body and a silicon nitride presintered body containing 5 wt% MgO sintering aid and fired at 1600 ° C. in nitrogen were prepared.
  • pre-sintered bodies are put into a graphite mold whose molding surface is coated with diamond, and alumina-based pre-sintered bodies are pre-sintered at 1600 ° C. in nitrogen and aluminum nitride and silicon nitride systems. The body was hot-pressed at 1700 ° C. in nitrogen with a pressure of 70 MPa applied for 20 minutes.
  • Example 1 a copper ball drop test was performed in the same manner as in Example 1 using a separately prepared test piece. Ten test pieces, which were net-molded under the same conditions as described above, were used without being processed. The results of the copper ball drop test are also shown in Tables 5 and 6. Note that the notations ( ⁇ etc.) in Tables 5 and 6 are the same as those in Tables 2 and 3.
  • a coating layer is formed on each sample surface, a material film having a larger thermal expansion coefficient is formed as in Example 1, and the same cooling cycle as in Example 1 is applied to provide a coating. The adhesion durability of the interface was compared.
  • Chromium (the material has a thermal expansion coefficient of 11 ⁇ 10 ⁇ 6 / ° C.) is used for the alumina sample (the material has a thermal expansion coefficient of 8 ⁇ 10 ⁇ 6 / ° C.), and the aluminum nitride sample (the material has a thermal expansion coefficient of 5 ⁇ 10 -6 / ° C) for titanium oxide (the material has a thermal expansion coefficient of 7.5 ⁇ 10 -6 / ° C) and silicon nitride samples (the material has a thermal expansion coefficient of 3 ⁇ 10 -6 / ° C) Were vapor-deposited with diamond (the material has a thermal expansion coefficient of 4.5 ⁇ 10 ⁇ 6 / ° C.), each having a thickness of 2 ⁇ m.
  • the present invention can be applied to, for example, a sintered body based on ceramics, a method for manufacturing the same, an optical component provided with the sintered body, and a precision high-precision component.

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Abstract

実用時に変形が生じ難く、かつ、表面層の設計の自由度が高い焼結体およびその製造方法、ならびに該焼結体を備えた光学部品を提供する。 焼結体の製造方法は、セラミックスを基材とする所定形状の焼結体を製造する方法であって、セラミックス予備成形体を準備する工程(S10)と、上型および下型を有する所定の成形型を用いてセラミックス予備成型体を加圧焼結して加圧焼結体を形成する工程(S20)と、加圧焼結体を形成する工程時に付与される加圧荷重の5パーセント以上100パーセント以下程度(好ましくは、10パーセント以上20パーセント以下程度)の加圧荷重を付与しながら加圧焼結体を冷却する工程(S30)とを備える。

Description

焼結体およびその製造方法ならびに光学部品
  本発明は、焼結体およびその製造方法ならびに光学部品に関し、特に、セラミックスを基材とした焼結体およびその製造方法ならびに該焼結体を備えた光学部品に関する。
  特開昭58-113901号公報(特許文献1)には、弾性基板に蒸着層を被覆する前に、被覆層の内部応力による変形量を予測し、基板面をその分だけ予め反対方向に変形加工し事後の変形や層の剥離を防ぐ方法が示されている。
  特許第3639822号公報(特許文献2)には、基材と被覆層の剥離を防ぐため、両者の界面に密着層を設けるとともに、その上の被覆は積層構造とすることにより、層全体の内部応力を緩和する方法が示されている。
  特開2006-053180号公報(特許文献3)には、高低屈折率の層が積層された、広帯域で高い透過率を有する光学素子を備えた光学装置が示されている。
  特開平2-252629号公報(特許文献4)には、ネット寸法で加熱加圧成形した光学素子に型を密着させて、形状精度を保ちながらスムーズに型離れさせるため、加熱加圧後に、低圧力で加圧しつつ冷却する方法が示されている。
  特開昭60-246231号公報(特許文献5)には、ガラスレンズのプレス成形に用いる上型、下型の材質を黒鉛とすることが示されている。
  「ファインセラミックスの精密加工」(非特許文献1)には、ファインセラミックスの研削や研磨(ポリッシング)により、加工表面に変質層が形成されることが示されている。
  「赤外透光性緻密質ZnS焼結体の光学特性」(非特許文献2)には、ZnS焼結体の研磨品の結晶組織が示されている(p76,図8)。
  なお、「光学素子と機構の検査技法」(非特許文献3)には、レンズの歪測定(面の偏曲測定)の方法が示されている。
特開昭58-113901号公報 特許第3639822号公報 特開2006-053180号公報 特開平2-252629号公報 特開昭60-246231号公報
セラミックス加工研究会編、「ファインセラミックスの精密加工」、工業調査会、p209,p264 長谷川幹人,小村修,他5名、「赤外透光性緻密質ZnS焼結体の光学特性」、SEIテクニカルレビュー、2002年3月発行、第160号、p73~p80 井上弘、「光学素子と機構の検査技法」、オプトロニクス社、1995年5月15日発行、p88~p89
  セラミックスの加工は手間がかかるため、ホットプレス等でネット形状やニアネット形状に成形して加工を省くことによる簡素化が従来から図られてきた。このようなネット成形またはニアネット成形は、加工に手間のかかるセラミックス製品、中でも特にレンズ等の光学系製品では盛んに行なわれている。ネット成形品では、焼結後機械加工されていない未加工の面がそのまま機能面として用いられるが、その面には熱収縮による圧縮応力が残っている。また、加工された面では、非特許文献1に記載のように、加工表面に変質層が生じる。表面変質層には圧縮応力が残存する。
  圧縮応力の残存した面を機能面としてそのまま使うと、機能面が変形し易い。また、その機能面に別の素材を被覆したり接合する際には、被覆や接合界面の剥離が問題になる。
たとえば、被覆によって耐食性を向上させるものを用いようとしても、その被覆層が基材よりも熱膨張係数の大きいものであれば、事後の加熱により基材と被覆層とを引き剥がす力が働き、密着力が低下することになる。このため、基材と表面層との組合せには自ずから限界が生じ得る。これに対し、状況に見合った応力緩和策の採れる設計(たとえば、特許文献1~3に例示)が必要である。また、非特許文献2に記載の硫化亜鉛燒結体の研磨加工面の実用にも、適正な応力緩和策が必要である。
  以上のように、従来では、焼結体の機能面に特定機能の表面層を形成する場合、その機能面に圧縮応力が残留していることを念頭に置いて設計を進める必要があった。したがって、表面層の耐久性や寸法精度などの機能と、表面層および基材の密着性との双方を両立させることができない場合があった。これに対し、表面層の設計の自由度が高い焼結体の開発が望まれていた。
  上記のような課題を解決可能な構成は、特許文献4,5にも記載されていない。たとえば、特許文献4では、ガラスにより光学素子を形成することが前提となっており、本願発明とは前提および構成が全く異なる。また、特許文献5においても、ガラスレンズのプレス成形に用いる上型、下型の材質が記載されているだけであり、本願発明の思想は記載も示唆もなされていない。
  本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、実用時に変形が生じ難く、かつ、表面層の設計の自由度が高い焼結体およびその製造方法、ならびに該焼結体を備えた光学部品を提供することにある。
  本発明に係る焼結体は、セラミックスを基材とした焼結体であって、表面の残留応力が無い、または、引張方向に向いている。
  上記構成によれば、焼結体の表面に圧縮方向の残留応力が無いため、焼結体の実用時に変形が生じ難く、かつ、表面層の設計の自由度が高いという効果を奏する。
  好ましくは、上記焼結体において、基材の表面に未加工面が設けられている。なお、「未加工面」とは、「研削、研磨のような機械加工、および、成膜、熱処理、化学処理のような表面処理が施されていない面」を意味する。また、未加工面は、基材の表面全体に設けられていてもよいし、基材の表面の一部に設けられていてもよい。
  一般的に、基材の表面に研磨などの加工を施すことにより、基材表面に圧縮応力が残存する傾向にある。これに対し、上記のように、基材表面の少なくとも一部に「未加工面」を設けることにより、焼結体の表面に圧縮応力が残存することを抑制することができる。
  好ましくは、上記焼結体において、上記残留応力が1MPa以上の引張応力である。
  焼結体の表面の残留応力(引張方向)が1MPaより小さい場合、焼結体の破損時に該焼結体が粉々になり難く、破損による交換の判断がつき難い場合が生じ得る。これに対し、引張方向の残留応力を上記のように1MPa以上とすることで、破損による交換の判断がつき易い焼結体を提供することができる。
  1つの例として、上記焼結体において、基材は、硫化亜鉛、ゲルマニウム、セレン化亜鉛、フッ化カルシウム、スピネルからなる群より選ばれた少なくとも一種の物質を含む。
  本発明に係る焼結体の製造方法は、セラミックスを基材とする所定形状の焼結体を製造する方法であって、セラミックス予備成形体を準備する工程と、上型および下型を有する所定の成形型を用いてセラミックス予備成型体を加圧焼結して加圧焼結体を形成する工程と、加圧焼結体を形成する工程時に付与される加圧荷重の5パーセント以上100パーセント以下(好ましくは、20パーセント以上40パーセント以下)の加圧荷重を付与しながら加圧焼結体を冷却する工程とを備える。
  上記方法によれば、加圧焼結体の冷却工程において、該加圧焼結体に所定の加圧荷重を付与することにより、冷却後の焼結体の表面に引張応力を生じさせることができる。したがって、表面に圧縮方向の残留応力が無く、実用時に変形が生じ難い焼結体が提供される。なお、上記方法によって、表面に圧縮方向および引張方向の残留応力がいずれも形成されない場合もある。
  好ましくは、上記焼結体の製造方法において、上型および下型の少なくとも一方の熱膨張係数が、焼結体の熱膨張係数よりも低い。
  これにより、焼結体の表面に容易に引張応力を生じさせることができる。
  本発明に係る光学部品は、上述した焼結体、または、上述した焼結体の製造方法により製造された焼結体を備える。これにより、変形の生じ難い焼結体を備えた光学部品が得られる。
  なお、本発明に係る焼結体は、光学部品の他、たとえば、精密高精度部品等に使用可能である。基材としては、上述したものの他、アルミナ、ジルコニア、窒化珪素、炭化シリコン等が使用可能である。
  本発明によれば、実用時に変形の生じ難く、かつ、表面層の設計の自由度が高い焼結体を提供することができる。
本発明の1つの実施の形態に係る焼結体としての光学部品を示す図である。 本発明の1つの実施の形態に係る焼結体の製造方法を説明するフロー図である。 銅球落下による粉砕状態観察試験の方法を説明するための図である。 本発明の実施例1に係る表面観察像を示す図である。 比較例に係る表面観察像を示す図である。
  以下に、本発明の実施の形態および実施例について説明する。なお、同一または相当する部分に同一の参照符号を付し、その説明を繰返さない場合がある。
  なお、以下に説明する実施の形態および実施例において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。また、以下の実施の形態および実施例において、各々の構成要素は、特に記載がある場合を除き、本発明にとって必ずしも必須のものではない。また、以下に複数の実施の形態および実施例が存在する場合、特に記載がある場合を除き、各々の実施の形態および実施例の構成を適宜組合わせることは、当初から予定されている。
  図1は、本発明の1つの実施の形態に係る焼結体としての光学部品を示す図である。図1を参照して、光学部品1は、硫化亜鉛、ゲルマニウム、セレン化亜鉛、フッ化カルシウム、スピネルからなる群より選ばれた少なくとも一種の物質を含むレンズ部材である。なお、本実施の形態においては、図1に示す光学部品1について説明するが、本発明に係る「焼結体」の範囲は、光学部品1に限定されない。
  本実施の形態に係る光学部品1は、セラミックスを基材とした焼結体であって、表面の残留応力が無い、または、残留応力が引張方向に向いている。なお、セラミックスは、如何なる素材であってもよい。
  セラミックスの表面の残留応力を上記のように調整することにより、セラミックス基材自体の熱的または機械的外力に対する耐力が増大する。さらに、基材自体に対して熱膨張係数の大きな素材を被覆した場合の基材と被覆材との密着性が向上する。したがって、メタライズ層や硬質膜の応力緩衝が容易になり、積層設計のバリエーションが増大する。また、冷熱サイクルでの耐久性が向上する。
  基材は、ホットプレスなどの熱間成形法で形成された状態で、新たに化学的または物理的に加工されていない表面(本明細書では、「未加工面」と称する。)を有するものであってもよい。また、基材は、ホットプレスなどの熱間成形法で形成された後、新たに化学的または物理的な加工が施されたもの(たとえば粒界が腐食されたもの、切削加工されたり研磨仕上げされた後で熱処理されたもの、また別の素材を接合し複合化されたもの、未加工面に被覆層が形成されたものなど)であってもよい。
  また、未加工面は、セラミックス基材の表面全体に設けられていてもよいし、セラミックス基材の表面の一部に設けられていてもよい。
  セラミックス基材表面における上記残留応力は、1MPa以上(より好ましくは、4MPa以上)の引張応力である。
  セラミックス基材表面の残留応力(引張方向)が1MPaより小さい場合、光学部品1の破損時に光学部品1が粉々になり難く、比較的大きな範囲(たとえば50パーセント以上程度)が残存することになるので、破損による交換の判断がつき難い場合が生じ得る。
これに対し、引張方向の残留応力を上記のように1MPa以上(より好ましくは、4MPa以上)とすることで、破損による交換の判断がつき易い光学部品1を提供することができる。
  さらに、セラミックス基材表面の残留応力(引張方向)が1MPaより小さい場合、表面に真空蒸着法によるコート層を設けた場合に、温度サイクル試験に対する耐久性が低下し易い。これに対し、引張方向の残留応力を上記のように1MPa以上とすることで、耐久性の高い光学部品1を提供することができる。
  図2は、本実施の形態に係る光学部品1の製造方法を説明するフロー図である。図2を参照して、本実施の形態に係る光学部品1の製造方法は、セラミックスを基材とする所定形状(レンズ形状)の光学部品1を製造する方法であって、セラミックス予備成形体を準備する工程(S10)と、上型および下型を有する所定の成形型を用いてセラミックス予備成型体を加圧焼結して加圧焼結体を形成する工程(S20)と、加圧焼結体を形成する工程時に付与される加圧荷重の5パーセント以上100パーセント以下程度(好ましくは、20パーセント以上40パーセント以下程度)の加圧荷重を付与しながら加圧焼結体を冷却する工程(S30)とを備える。なお、上型および下型の少なくとも一方の熱膨張係数が、焼結体の熱膨張係数よりも低いことが好ましい。
  上記方法によれば、加圧焼結体の冷却工程(S30)において、該加圧焼結体に所定の加圧荷重を付与することにより、冷却後の焼結体の表面に引張応力を生じさせることができる。したがって、表面に圧縮方向の残留応力が無く、実用時に変形が生じ難い焼結体が提供される。なお、上記方法によって、表面に圧縮方向および引張方向の残留応力がいずれも形成されない場合もある。
  ここで、冷却工程(S30)時の加圧荷重が加圧焼結体を形成する工程時に付与される加圧荷重の5パーセント未満であると、引張方向の残留応力が必ずしも十分でなく、外的因子により光学部品が破損する場合に粉々になり難く、破損交換判断がつき難い。さらに、表面に真空蒸着法によるコート層を設けた場合に、温度サイクル試験に対する耐久性が低下し易い。
  他方、冷却工程(S30)時の加圧荷重が加圧焼結体を形成する工程時に付与される加圧荷重の100パーセントを越えると、引張方向の残留応力が大きくなりすぎるため、成型品に歪(アス)を生じ、光学部品としての機能を低下させることになる。なお、上記観点から、より好ましくは、冷却工程(S30)時の加圧荷重は、加圧焼結体を形成する工程時に付与される加圧荷重の20パーセント以上40パーセント以下である。
  また、冷却工程(S30)時の加圧の終点温度は、加圧焼結工程の保持温度の90パーセント以下であることが好ましい。ただし、この終点温度が、加圧焼結工程の保持温度の25パーセントよりも低いと、変形中に亀裂が発生することがある。したがって、好ましくは、冷却工程(S30)時の加圧の終点温度は、加圧焼結工程の保持温度の25パーセント以上90パーセント以下である。
  本実施の形態に係る光学部品1の製造方法では、冷却工程(S30)における加圧により、セラミックス基材の加圧面に収縮による表面の圧縮方向の応力が残らず、むしろ引張方向の応力が残る。
  他方、熱間加圧成形後、加圧せずに冷却する場合や、上型の自重程度の低い圧力下で冷却する場合(たとえば、特許文献4)には、基材の加圧面には圧縮方向の応力が残る。したがって、たとえば、これらの基材に他の素材を接合したり、被覆膜を形成したりして、高温部材として用いる場合、従来の基材面には相手材として熱膨張係数の大きな素材は使えず、低熱膨張係数の素材を使うか、応力緩和のために積層貼り合せを考える必要があった。これに対し、本実施の形態に係る光学部品1であれば、相手材として熱膨張係数の大きな素材を用いることも可能である。すなわち、本実施の形態によれば、実用時に変形の生じ難く、かつ、表面層の設計の自由度が高い光学部品1を提供することができる。
  実施例1では、いずれも平均粒径1~3μm、純度95.5%以上であるZnS(硫化亜鉛),ZnSe(セレン化亜鉛),CaF2(フッ化カルシウム),スピネルおよびGe(ゲルマニウム)の粉末からセラミックス予備成形体を成形し、そのセラミックス予備成形体を予備焼結することによって、寸法20mm(φ)×5mm(厚さ)の平板形状、または20mm(φ)×6mm(厚さ),曲率半径18の平凸レンズ形状を有し、相対密度が約60%である予備焼結されたセラミックス予備成形体(表1中のNo.1~18)を準備した。
  次に、そのセラミックス予備成形体を成形型のガラス状カーボンからなる上型および下型の間に載置し、セラミックス予備成形体をそれぞれ焼結しながら加圧し、表1に記載された加圧焼結工程の保持温度および保持荷重に到達後300秒保持した。その後、表1に記載された冷却工程の保持荷重まで減圧した後、該保持荷重を保った状態で冷却工程の保持温度(加圧の終点温度)まで冷却することによって、Φ20mm×3mmtのセラミックス光学部品を得た。これら得られた試料の残留応力を、株式会社リガク製・微細部X線応力測定装置により測定した結果、表1に示す残留応力が検出された。なお、表1におけるNo.7,10,13,15,17は、それぞれの粉末をホットプレスして得られたブロック(Φ100mm×30mmt)からΦ20mm×3mmtの平板を研削・研磨することにより得たものである。
  表1に示すNo.1~18に係る試料について、波長2.5~25μmの光の直線透過率を、日本分光株式会社製・FT-IRを用いて測定すると、波長10μmの透過率が、ZnS(硫化亜鉛),ZnSe(セレン化亜鉛),CaF2(フッ化カルシウム),スピネルの場合70パーセント以上程度、Ge(ゲルマニウム)の場合40パーセント以上程度と、良好な結果を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
  表1に示すNo.1~18に係る試料に対し、銅球落下試験による粉砕状態観察および成形品の面内での歪み測定を行った。具体的には、図3に示すように、各試料の外周部をリング2で固定し、50gの銅球を高さ150mm(平板形状の試料の場合)から、または500mm(平凸レンズ形状の試料の場合)から落下させた後に各試料を観察し、レンズとしての有効径内(ここではΦ18mm)において、有効径の面積に対する残存したレンズ破片面積の割合を残存エリア率として算出した。
  すなわち、
レンズ破片面積=A+B+C+D+E=W
有効径面積=S
残存エリア率=W/S
である(A,B,C,D,Eは図3を参照)。
  さらに、表1に示すNo.1~18に係る試料について、歪測定を行なった(歪測定の方法は、非特許文献3のp88~89の『5.2.4 面の偏曲(非球面度:アス)の判定』を参照)。
  上記の銅球落下試験および歪測定の結果を表2に示す。なお、表2においては、銅球落下試験による評価について、以下のように標記している。
1.レンズの機能が完全に無くなる残存エリア率20%未満:◎
2.レンズの機能性の低下が顕著に確認可能な残存エリア率20%以上50%未満:○
3.レンズを通した視認性に影響を与えるレベルの残存エリア率50%以上80%未満:△
4.レンズを通した視認性に影響が出ない残存エリア率80%以上:×
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
  表2を参照して、銅球落下試験より、圧縮方向の残留応力がある場合には、視認性に影響の出ないレベル(すなわち、表2中の×)となり、残留応力がゼロまたは引張方向に遷移するにつれて、レンズの機能性の低下認知レベルが上がり、引張方向の残留応力が4MPa以上となると、レンズの機能が完全に無くなる(すなわち、表2中の◎)レベルとなることが分かる。
  他方、引張方向の残留応力が大きすぎると、得られた成型品に歪(形状誤差)を生じ、光学部品としての機能を低下させる。また、焼結体を機械部品として用いる場合は、所望の精度からずれてしまう、または、相手材と接合等を行う場合に面が合わない等の問題を招来する。実用的な耐久性と歪量の範囲を考慮すれば、引張方向の残留応力として好ましい範囲は、1MPa以上15MPa以下程度(さらに好ましくは、4MPa以上8MPa以下程度)である。
  次に、該試料に対し、試料の温度を約100~200℃とした上で、真空蒸着法により所定のコート材を約0.5μm被覆し、それらを-40℃および80℃の恒温室に30分毎に暴露する温度サイクル試験を行なった。そして、光学顕微鏡を用いて10倍の倍率で表裏全面の観察を行ない、部分的な剥離が発生するまでのサイクル回数を計測した。さらに、これら試料について、上記と同様に、歪み測定及び銅球落下試験を行なった。なお、コートは、本実施例に記載の単層コートに限らず、多層コートでも構わない。また、膜厚も、本実施例に記載の厚みに捉われないものである。
  上記試験の結果を表3に示す。なお、表3においては、温度サイクル試験による評価について、以下のように標記している。
1.部分的な剥離が発生するまでのサイクル回数が10回以下:×
2.部分的な剥離が発生するまでのサイクル回数が11~500回:△
3.部分的な剥離が発生するまでのサイクル回数が501~1000回:○
4.部分的な剥離が発生するまでのサイクル回数が1001回以上:◎
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
  表3の結果から明らかなように、残留応力が圧縮方向である場合(試料No.7,10,13,15,17)、実用的な膜密着力が得られず、少ないサイクル回数で剥離が発生した。他方、残留応力が引張方向である場合、温度サイクルによる耐久性は向上する。さらに、銅球落下試験によれば、表2の場合と同様に、圧縮方向の残留応力がある場合よりも、残留応力がゼロまたは引張方向に遷移するにつれて破砕性がよくなる。しかし、引張応力が大きすぎると、得られた成型品に歪(形状誤差)を生じ、光学部品としての機能を低下させるという問題がある。引張方向の残留応力として好ましい範囲は、上述のように、実用的な耐久性と歪量の範囲から定まるものである。
  試料No.2,No.7,No.9,No.10,No.14~17に上記とは別のコート材を約0.5μm被覆し、上記と同様にサイクル試験による耐久試験を実施した結果を表4に示す。表4においても、上記と同様の傾向が示されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
  なお、図4,図5は、それぞれ、試料No.2(本実施例),No.7(比較例)に関する表面観察像を示すものである。図5(比較例)に対して、図4(本実施例)では、結晶粒界が鮮明に確認出来るため、成形品における組織の良否判定を容易に行なうことが可能となる。
  上述したように、本実施例に係る焼結体では、結晶粒界に相当する凹みが表面に存在するため、アンカー効果が得られてコート膜の密着力が向上する。
  実施例2では、0.5wt%MgO焼結助剤を含み、気中1500℃で焼成されたアルミナ系予備焼結体、5wt%Y23焼結助剤を含み、窒素中1600℃で焼成された窒化アルミニウム系予備焼結体、および5wt%MgO焼結助剤を含み、窒素中1600℃で焼成された窒化珪素系予備焼結体を用意した。
  これらの予備焼結体を、成形面がダイヤモンドで被覆された黒鉛製の成形型に入れ、アルミナ系の予備焼結体は、窒素中1600℃で、窒化アルミニウム系および窒化珪素系の予備焼結体は、窒素中1700℃で、いずれも70MPaの圧力を20分間付与して熱間加圧成形を行なった。
  その後、加熱を止め、同じ雰囲気中で下記表5の『冷却工程』欄に記載の保持圧力を、同欄記載の終点温度まで加圧し、その後、加圧も止めて同じ雰囲気中で室温まで冷却した。最終的には、外径がほぼ20mm、厚みがほぼ5mmのネット成形焼結体(試料No.19~45)が得られた。なお試料No.43~45は、それぞれ試料No.24,No.32,No.40の円形面をさらに微粒ダイヤモンド砥粒で鏡面研磨したものである。
  以上の試料の表面の残留応力を実施例1と同じ方法で確認した。その結果を表5,表6に示す。表5,表6を参照して、加圧焼結工程の保持温度の25パーセント以上90パーセント以下程度の温度まで熱間加圧時の5~100%の圧力で加圧しつつ冷却された未加工面は、引張応力が残る面であり、粒界が鮮明に露呈していた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
  また、本実施の形態においても、別途用意した試験片を用い、実施例1と同様な方法で銅球落下試験を行った。試験片は、上記と同じ条件でネット成形したもの10個を加工せずそのまま用いて行った。その銅球落下試験結果も、表5,表6に併記している。なお、表5,表6における標記(◎等)は、表2,表3と同様である。
  さらに、本実施の形態においても、各試料面に被覆層を形成し、実施例1と同じく、熱膨張係数のより大きな素材被膜を形成し、実施例1と同じ冷熱サイクルを付与して、被覆界面の密着耐久性を比較した。アルミナ系試料(素材の熱膨張係数は8×10-6/℃)にはクロム(素材の熱膨張係数は11×10-6/℃)を、窒化アルミニウム系試料(素材の熱膨張係数は5×10-6/℃)には酸化チタン(素材の熱膨張係数は7.5×10-6/℃)を、窒化珪素系試料(素材の熱膨張係数は3×10-6/℃)にはダイヤモンド(素材の熱膨張係数は4.5×10-6/℃)を、それぞれ厚み2μm蒸着した。これらの試料の被覆層の密着性を確認するため、温度サイクル試験と損傷の確認のし易さを確認するための銅球落下試験を、実施例1と同じ手順で行った。その結果も表5,表6に併記する(『被覆後の温度サイクル試験結果』および『被覆後の銅球落下試験結果』の欄を参照)。
  以上、本発明の実施の形態および実施例について説明したが、今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
  本発明は、たとえば、セラミックスを基材とする焼結体およびその製造方法ならびに該焼結体を備えた光学部品や精密高精度部品等に適用され得る。
  1  光学部品、2  リング。

Claims (7)

  1.   セラミックスを基材とした焼結体であって、
      表面の残留応力が無い、または、引張方向に向いている、焼結体。
  2.   前記基材の表面に未加工面が設けられている、請求項1に記載の焼結体。
  3.   前記残留応力が1MPa以上の引張応力である、請求項1または請求項2に記載の焼結体。
  4.   前記基材は、硫化亜鉛、ゲルマニウム、セレン化亜鉛、フッ化カルシウム、スピネルからなる群より選ばれた少なくとも一種の物質を含む、請求項1から請求項3のいずれかに記載の焼結体。
  5.   セラミックスを基材とする所定形状の焼結体を製造する焼結体の製造方法であって、
      セラミックス予備成形体を準備する工程と、
      上型および下型を有する所定の成形型を用いて前記セラミックス予備成型体を加圧焼結して加圧焼結体を形成する工程と、
      前記加圧焼結体を形成する工程時に付与される加圧荷重の5パーセント以上100パーセント以下の加圧荷重を付与しながら前記加圧焼結体を冷却する工程とを備えた、焼結体の製造方法。
  6.   前記上型および前記下型の少なくとも一方の熱膨張係数が、前記焼結体の熱膨張係数よりも低い、請求項5に記載の焼結体の製造方法。
  7.   請求項1から請求項4のいずれかに記載の焼結体、または、請求項5もしくは請求項6に記載の焼結体の製造方法により製造された焼結体を備えた、光学部品。
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