JPS58113901A - 積層型光学構体 - Google Patents
積層型光学構体Info
- Publication number
- JPS58113901A JPS58113901A JP56211131A JP21113181A JPS58113901A JP S58113901 A JPS58113901 A JP S58113901A JP 56211131 A JP56211131 A JP 56211131A JP 21113181 A JP21113181 A JP 21113181A JP S58113901 A JPS58113901 A JP S58113901A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor
- substrate
- deposited
- internal stress
- intended
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
- G02B5/085—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal
- G02B5/0858—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal the reflecting layers comprising a single metallic layer with one or more dielectric layers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
- G02B5/0825—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers the reflecting layers comprising dielectric materials only
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガラスのような基板に光学的蒸着膜を施した積
層型光学構体例えばフィルター、反射鏡、レシズに関す
る。
層型光学構体例えばフィルター、反射鏡、レシズに関す
る。
反射防止膜のような光学的蒸着膜が、その材質、厚さ、
蒸着条件、などに応じて内部応力（引張り又は圧縮）を
有することが報告されている（例えば、ＡＰＰＬＩＥＤ
０ＰＴＩＣ５Ｖｏｌ、 ５ 、 篇１第５１〜６１
頁、１９６６年１月発行）。
蒸着条件、などに応じて内部応力（引張り又は圧縮）を
有することが報告されている（例えば、ＡＰＰＬＩＥＤ
０ＰＴＩＣ５Ｖｏｌ、 ５ 、 篇１第５１〜６１
頁、１９６６年１月発行）。
しかしながら、通常は基板に比べると蒸着膜は極めて薄
いので、これまで問題となることはなかった。
いので、これまで問題となることはなかった。
本発明者らも当初蒸着膜の内部応力を無摺していたが、
精密な光学製品に於いて、特に基板の形状が大きいとか
、薄いとか、剛性の小さいプラスチック製であるとか、
蒸着膜が多層で厚いような場合には、その蒸着膜の内部
応力によって基板が、僅かではあるが、変形しく第１図
参照）、この変形（そり）が問題となることが判った。
精密な光学製品に於いて、特に基板の形状が大きいとか
、薄いとか、剛性の小さいプラスチック製であるとか、
蒸着膜が多層で厚いような場合には、その蒸着膜の内部
応力によって基板が、僅かではあるが、変形しく第１図
参照）、この変形（そり）が問題となることが判った。
例えば、この基板のそりにより平行光が入射したとき、
反射光及び透過光が発散又は収束してしまう不都合があ
る、 従って、本発明の目的は、蒸着膜の内部応力が働く場合
であっても、所定の平面又は曲面を有する蒸着界面を持
った積層型光学構体を提供するにある。
反射光及び透過光が発散又は収束してしまう不都合があ
る、 従って、本発明の目的は、蒸着膜の内部応力が働く場合
であっても、所定の平面又は曲面を有する蒸着界面を持
った積層型光学構体を提供するにある。
本発明者らは鋭意研究の結果、蒸着面がもともと変形方
向と反対方向に変形した原形を有する基板を用い、この
蒸着面が蒸着膜によって変形させられたとぎに発生する
内部応力と蒸着膜の内部応力とを釣り合わせ、所定の界
面を得ろことを看砦し、本発明を成すに至った。
向と反対方向に変形した原形を有する基板を用い、この
蒸着面が蒸着膜によって変形させられたとぎに発生する
内部応力と蒸着膜の内部応力とを釣り合わせ、所定の界
面を得ろことを看砦し、本発明を成すに至った。
従って、本発明は弾性を有する基板に内部応力を有する
蒸着膜を施した光学構体に於いて、前記基板を蒸着膜の
内部応力によって変形される変形量、に等しい量だけ予
め反対方向に変形加工したことを特徴とする積層型光学
構体を提供する。
蒸着膜を施した光学構体に於いて、前記基板を蒸着膜の
内部応力によって変形される変形量、に等しい量だけ予
め反対方向に変形加工したことを特徴とする積層型光学
構体を提供する。
先のＡＰＰＬＴＥＤ ０ＰＴＩＣ５の報告によればほ
とんど全ての金属膜（例えば、Ａ１、Ａｇ％Ａｔ％Ｃｒ
など）は引張り応力を示すという。また無機誘電体
の中では、ＳｉＯ、ＢｅｘＯｓ などの酸化物及びＭ
ｇ Ｆ２、ＣａＦ２、ＬｉＦなどの弗化物には蒸着膜が
引張り応力を示すものが多いという。更に５ｉＯ１、Ｍ
ｇＯなどの酸化物やＺｎＳ、 ＣｄＳなどの硫化物、Ｋ
ｌ。
とんど全ての金属膜（例えば、Ａ１、Ａｇ％Ａｔ％Ｃｒ
など）は引張り応力を示すという。また無機誘電体
の中では、ＳｉＯ、ＢｅｘＯｓ などの酸化物及びＭ
ｇ Ｆ２、ＣａＦ２、ＬｉＦなどの弗化物には蒸着膜が
引張り応力を示すものが多いという。更に５ｉＯ１、Ｍ
ｇＯなどの酸化物やＺｎＳ、 ＣｄＳなどの硫化物、Ｋ
ｌ。
Ｒｂｌなどのヨウ化物、ＫＢｒ 、 ＮａＢｒなどの臭
化物には蒸着膜が圧縮応力を示すものが多いという。
化物には蒸着膜が圧縮応力を示すものが多いという。
しかしながら、本発明者らが蒸着条件例えば蒸着源加熱
方式（抵抗加熱、電子ビーム加熱など）蒸着速度、蒸着
時の基板温度、真空度、蒸着源と基板との距離などと、
蒸着膜中に生じる内部物質でも蒸着膜の厚さ及び蒸着条
件によって、その発生する内部応力は異なることが判っ
た。
方式（抵抗加熱、電子ビーム加熱など）蒸着速度、蒸着
時の基板温度、真空度、蒸着源と基板との距離などと、
蒸着膜中に生じる内部物質でも蒸着膜の厚さ及び蒸着条
件によって、その発生する内部応力は異なることが判っ
た。
特に蒸着膜の耐久性の点から、高い基板温ＩＱ（３００
℃位）で蒸着することが多層・が、この条件ではＴｉＯ
２及びＭｇＦ２けＪりきな引張り゛応力に示し、また５
ｉ０２及びＺｒＯ２は圧縮応力を示した。また高屈折率
物質として良く用いられるＺｎＳは基板温度が高いと付
着性が小さくなって実用的ではないので、常温に於いて
蒸着したところ、蒸着膜は大ぎな圧縮応力を示した。
℃位）で蒸着することが多層・が、この条件ではＴｉＯ
２及びＭｇＦ２けＪりきな引張り゛応力に示し、また５
ｉ０２及びＺｒＯ２は圧縮応力を示した。また高屈折率
物質として良く用いられるＺｎＳは基板温度が高いと付
着性が小さくなって実用的ではないので、常温に於いて
蒸着したところ、蒸着膜は大ぎな圧縮応力を示した。
いずれにせよ、予め蒸着膜の内部応力を予測するのは難
しいので、本発明を実施するには、先ず（１）目的とす
る単層又は多層蒸着膜を試入ツこ同一の蒸着条件で同種
の基板に蒸着し、その蒸着膜に発生する内部応力に因る
基板蒸着面の歪みを測定する。
しいので、本発明を実施するには、先ず（１）目的とす
る単層又は多層蒸着膜を試入ツこ同一の蒸着条件で同種
の基板に蒸着し、その蒸着膜に発生する内部応力に因る
基板蒸着面の歪みを測定する。
次いで、（２）目的とする基板について、その形状、大
きさ、材質等に応じ、蒸着膜の内部応力により、蒸着面
がどの程度歪むかを材料力学上の計算により求める。
きさ、材質等に応じ、蒸着膜の内部応力により、蒸着面
がどの程度歪むかを材料力学上の計算により求める。
その後、（３）基板面の歪み量の分だけ、大きさが等し
く且つ蒸着膜により予定される歪み方向とは反対方向に
基板蒸着面を凹面又は凸面に研磨加工する。
く且つ蒸着膜により予定される歪み方向とは反対方向に
基板蒸着面を凹面又は凸面に研磨加工する。
最後に（４） 、Ｉ：、記（１）の蒸着条件と同一条件
において（３）の基板上に蒸着膜を形成する。
において（３）の基板上に蒸着膜を形成する。
以上により、蒸着膜が形成されると、その内部応力によ
り予定面り基板の蒸着面が歪み、その歪みによって生ず
る基板内め内部応力と上記蒸着膜の内部応力が釣り合っ
たところで、所望の平衡状態となり本発明の構体が得ら
れる。このときの歪み量は、真に基板を予め、予定平面
より逆方向ｔこ凹又は凸面に研磨加工しておいた量に等
しく、その結果、蒸着膜が形成された後の基板の蒸着界
面は、予定した平面又は曲面を成す。
り予定面り基板の蒸着面が歪み、その歪みによって生ず
る基板内め内部応力と上記蒸着膜の内部応力が釣り合っ
たところで、所望の平衡状態となり本発明の構体が得ら
れる。このときの歪み量は、真に基板を予め、予定平面
より逆方向ｔこ凹又は凸面に研磨加工しておいた量に等
しく、その結果、蒸着膜が形成された後の基板の蒸着界
面は、予定した平面又は曲面を成す。
基板はガラスでもプラスチックでも、弾性があればよい
。
。
また蒸着物質は、目的に応じて金属又は無機誘電体のよ
うな蒸着可能な物質が使用される。
うな蒸着可能な物質が使用される。
本発明で積層型光学構体とはレンズ、プリズム、反射鏡
、回折格子、フィルターなどに蒸着膜な施したものを総
称し、特に基板面歪みに高い精度を要求されるグイクロ
イックミラーや分光器に用いられるエタロン板を挙げる
ことがで？ ’！ｌ ｒｓ次いで実施例によって本発明
を具体的に説明−する０ 蒸着膜中の応力は、良く知らｈているようｔこト式で表
わされる。基板を矩形とし、炉全体の応力をσとすると
、 で表わされる。但し、膜厚は基板の厚みに対して著しく
薄いとする。
、回折格子、フィルターなどに蒸着膜な施したものを総
称し、特に基板面歪みに高い精度を要求されるグイクロ
イックミラーや分光器に用いられるエタロン板を挙げる
ことがで？ ’！ｌ ｒｓ次いで実施例によって本発明
を具体的に説明−する０ 蒸着膜中の応力は、良く知らｈているようｔこト式で表
わされる。基板を矩形とし、炉全体の応力をσとすると
、 で表わされる。但し、膜厚は基板の厚みに対して著しく
薄いとする。
応力の測定は、基板面の蒸着前と蒸着後の面歪み状態を
比較することにより行った。具体的には第２図に示すよ
うに参照用の平面ガラス盤上に、測定する基板のを載せ
て、下から水銀ランプＱ１）で照射し、その透過光を干
渉フィルター（ハ）を通して入方向から観察し、ニュー
トンリング（等高干渉縞）の有無又は数により蒸着前の
基板面歪み状態を測定する。
比較することにより行った。具体的には第２図に示すよ
うに参照用の平面ガラス盤上に、測定する基板のを載せ
て、下から水銀ランプＱ１）で照射し、その透過光を干
渉フィルター（ハ）を通して入方向から観察し、ニュー
トンリング（等高干渉縞）の有無又は数により蒸着前の
基板面歪み状態を測定する。
次に基板面上に所定の蒸着条件下で蒸着膜を形成し、膜
の経時変化を考慮して少なくとも一昼夜大気中に放置す
る。その後、再び参照用平面ガラス上に載せてニュート
ンリングを観察し、蒸着後の基板面の歪みを測定し、蒸
着前との差から蒸着膜の内部応力による基板面の歪み量
Δを知る。このΔを前出の式に代入し、基板の形状等を
代入すると、蒸着膜中の内部応力σが算出される。
の経時変化を考慮して少なくとも一昼夜大気中に放置す
る。その後、再び参照用平面ガラス上に載せてニュート
ンリングを観察し、蒸着後の基板面の歪みを測定し、蒸
着前との差から蒸着膜の内部応力による基板面の歪み量
Δを知る。このΔを前出の式に代入し、基板の形状等を
代入すると、蒸着膜中の内部応力σが算出される。
（１）蒸着物質： ’ ＭｇＦ２、Ｔ ｉ ０２．５１
０２（５） 蒸着装置：真空機械工業株式会社製Ａ
Ｂ Ｃ８００Ｎ （４）蒸着時基板温度二６００℃ （５）蒸着時４空度： ＭｇＦｌ ＝ ５ Ｘ １０
Ｔｏｒｒ。
０２（５） 蒸着装置：真空機械工業株式会社製Ａ
Ｂ Ｃ８００Ｎ （４）蒸着時基板温度二６００℃ （５）蒸着時４空度： ＭｇＦｌ ＝ ５ Ｘ １０
Ｔｏｒｒ。
（６） 蒸着速度： ＭｇＦ２ ＝ ８０ Ａ ／ｍ
ｉｎ。
ｉｎ。
Ｔｉ０２＝６０人／ｍｉｎ。
５ｉ０２ ＝ ４４０ Ａ ／ ｍｉｎ。
（７）蒸着源加熱方式：
ＭｇＦ２＝抵抗加熱−Ｗボー） −５００ＶＡＴｉｏｌ
、５ｉ０２＝電子ビーム加熱・加速電圧８．ＯＫＶ来
自動圧力制御装置を用い、酸素導入１ 単層蒸着膜の場
合 前記蒸着条件で膜厚０１μｍのＭｇＦ２の単層膜を蒸着
し、内部応力を測定したところ、 σ＝ ２．６ Ｘ １０ ｄｙｎ／ｃＴ４の引張り応
力が得られた。この応力値による基板ガラスの中心部と
縁との高低差（歪み量）は、５４６１Ａの光によるニュ
ートンリング（干渉縞）は凹面で６禾程度であった。
、５ｉ０２＝電子ビーム加熱・加速電圧８．ＯＫＶ来
自動圧力制御装置を用い、酸素導入１ 単層蒸着膜の場
合 前記蒸着条件で膜厚０１μｍのＭｇＦ２の単層膜を蒸着
し、内部応力を測定したところ、 σ＝ ２．６ Ｘ １０ ｄｙｎ／ｃＴ４の引張り応
力が得られた。この応力値による基板ガラスの中心部と
縁との高低差（歪み量）は、５４６１Ａの光によるニュ
ートンリング（干渉縞）は凹面で６禾程度であった。
そこで、別の同じ硝種のや〜厚めのガラス基板を用意し
く第３図（１）参照）、これを第３図（２）の如く両面
を研磨して５４６１人の光によりニュートンリングが約
５本表われる程度の曲率を持ったメニスカスレンズ風に
加工した。
く第３図（１）参照）、これを第３図（２）の如く両面
を研磨して５４６１人の光によりニュートンリングが約
５本表われる程度の曲率を持ったメニスカスレンズ風に
加工した。
こうして加工されたガラス基板０υの凸面に前記蒸着条
件で同じ膜厚（０，１μｍ）のＭｇＦ、■を蒸着した。
件で同じ膜厚（０，１μｍ）のＭｇＦ、■を蒸着した。
この結果、ガラス基板は蒸着膜の内部応力ｌこより引張
られ、蒸着界面が第３図（３）に示す如く平面を成した
光学構体が得られた。
られ、蒸着界面が第３図（３）に示す如く平面を成した
光学構体が得られた。
■ 多層蒸着膜の場合
ここでは、特定波長に対し選択的に高反射性を持たせる
ため内層：、Ｔ＋ｏｔ（高屈折率物質）膜厚００６μ、
外層：５ｉ０１（低屈折率物質）膜厚０．０９μの２層
を前記蒸着条件で交互に合計７回積層して多層蒸着膜を
得た。
ため内層：、Ｔ＋ｏｔ（高屈折率物質）膜厚００６μ、
外層：５ｉ０１（低屈折率物質）膜厚０．０９μの２層
を前記蒸着条件で交互に合計７回積層して多層蒸着膜を
得た。
この結果、１４層蒸着膜全体として
ｔｙ −４Ｘ １０ ｄｙｎ／ｅ４
の引張り応力の存在が測定された。この応力による基板
ガラスの歪み量は、波長５４６１Ａのニュートンリング
で凹面方向に３〜４本程度であった。
ガラスの歪み量は、波長５４６１Ａのニュートンリング
で凹面方向に３〜４本程度であった。
次に別の基板硝子について前処理加工をした。
予め、蒸着される面について、所望の平面精度に対し、
上記蒸着膜応力による歪みの量だけ反対曲率（凸方向に
ニュートンリング３〜４本）を持つように凸面に研削加
工した。
上記蒸着膜応力による歪みの量だけ反対曲率（凸方向に
ニュートンリング３〜４本）を持つように凸面に研削加
工した。
次いでその凸面に前記予備実験と同一条件で前記の１４
層交互蒸着膜を積層すると、膜の応力により基板は凹面
方“向に変形させられ、蒸着界面は二ニートンリングが
１本も観測されない平面が得られた。
層交互蒸着膜を積層すると、膜の応力により基板は凹面
方“向に変形させられ、蒸着界面は二ニートンリングが
１本も観測されない平面が得られた。
本発明では最終的に所望の蒸着界面が、実施例の如く平
面に限られることはなく、レンズのように一定の曲率あ
るいは“そり°を待ったものにも適用できる。また一般
に膜応力による基板歪みの関係が直線関係にある範囲内
では、予備実験により、それとは別な膜構成の応力歪み
も推測することが可能であり、基本的な単層蒸着膜につ
いてのデータを取得しておけば、その都度予備実験を繰
り返さずとも、本発明の技術思想により、所望の蒸着面
精度を有する積層型光学構体を作成することができる。
面に限られることはなく、レンズのように一定の曲率あ
るいは“そり°を待ったものにも適用できる。また一般
に膜応力による基板歪みの関係が直線関係にある範囲内
では、予備実験により、それとは別な膜構成の応力歪み
も推測することが可能であり、基本的な単層蒸着膜につ
いてのデータを取得しておけば、その都度予備実験を繰
り返さずとも、本発明の技術思想により、所望の蒸着面
精度を有する積層型光学構体を作成することができる。
本発明によれば、積層型光学構体に於いて蒸着膜の内部
応力により予期しない歪んだ蒸着面が生成するという問
題が解決され、当該技術分野の発達が促される。
応力により予期しない歪んだ蒸着面が生成するという問
題が解決され、当該技術分野の発達が促される。
第１図は断面図であり、図（１）はガラス基板、図（２
）は蒸着膜を有する前記ガラス基板（従来例）を表わす
。 第２図は基板の歪み量を測定する手段を説明する概念図
である。 第３図は断面図であり、図（１）は加工部のガラス基板
、図（２）は研削加工することにより原形をメニスカス
レンズ風に変形加工したガラス基板−１図（３）は図（
２）のガラス基板のＩ−に蒸着膜を積層［た積層型光学
構体（本発明の実施例）を表わす。 〔主要部分の符号の説明〕 ３１・・・・・・・・・予め反対方向に変形加工した原
形を有する基板 ５２・・・・・・・・・・蒸着膜 出願人 日本光学工業株式合釘 代理人 渡 辺 隆 男
）は蒸着膜を有する前記ガラス基板（従来例）を表わす
。 第２図は基板の歪み量を測定する手段を説明する概念図
である。 第３図は断面図であり、図（１）は加工部のガラス基板
、図（２）は研削加工することにより原形をメニスカス
レンズ風に変形加工したガラス基板−１図（３）は図（
２）のガラス基板のＩ−に蒸着膜を積層［た積層型光学
構体（本発明の実施例）を表わす。 〔主要部分の符号の説明〕 ３１・・・・・・・・・予め反対方向に変形加工した原
形を有する基板 ５２・・・・・・・・・・蒸着膜 出願人 日本光学工業株式合釘 代理人 渡 辺 隆 男
Claims (1)
- 弾性を有する基板に蒸着膜を施した光学構体に於いて、
前記基板を蒸着膜の内部応力による変形量に等しい量だ
け予め反対方向に変形加工したことを特徴とする積層型
光学構体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56211131A JPS58113901A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 積層型光学構体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56211131A JPS58113901A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 積層型光学構体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58113901A true JPS58113901A (ja) | 1983-07-07 |
Family
ID=16600894
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56211131A Pending JPS58113901A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 積層型光学構体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58113901A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004317834A (ja) * | 2003-04-17 | 2004-11-11 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ透過部材及びその製造方法 |
| WO2006006363A1 (ja) * | 2004-07-09 | 2006-01-19 | Daishinku Corporation | 光学フィルタおよび光学フィルタの製造方法 |
| JP2007187851A (ja) * | 2006-01-13 | 2007-07-26 | Fujinon Sano Kk | プリズムの製造方法、プリズム、光ピックアップ及び液晶プロジェクタ |
| JP2008298874A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Fujinon Corp | 反射プリズム、光ピックアップ及び反射プリズムの製造方法 |
| WO2009142238A1 (ja) | 2008-05-23 | 2009-11-26 | 住友電気工業株式会社 | 焼結体およびその製造方法ならびに光学部品 |
| KR100998500B1 (ko) | 2007-03-16 | 2010-12-06 | 후지논 가부시키가이샤 | 광학 소자, 광학막 평면화 방법 및 광학 소자의 제조 방법 |
-
1981
- 1981-12-26 JP JP56211131A patent/JPS58113901A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004317834A (ja) * | 2003-04-17 | 2004-11-11 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ透過部材及びその製造方法 |
| WO2006006363A1 (ja) * | 2004-07-09 | 2006-01-19 | Daishinku Corporation | 光学フィルタおよび光学フィルタの製造方法 |
| JP2007187851A (ja) * | 2006-01-13 | 2007-07-26 | Fujinon Sano Kk | プリズムの製造方法、プリズム、光ピックアップ及び液晶プロジェクタ |
| KR100998500B1 (ko) | 2007-03-16 | 2010-12-06 | 후지논 가부시키가이샤 | 광학 소자, 광학막 평면화 방법 및 광학 소자의 제조 방법 |
| JP2008298874A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Fujinon Corp | 反射プリズム、光ピックアップ及び反射プリズムの製造方法 |
| WO2009142238A1 (ja) | 2008-05-23 | 2009-11-26 | 住友電気工業株式会社 | 焼結体およびその製造方法ならびに光学部品 |
| US8298975B2 (en) | 2008-05-23 | 2012-10-30 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Sintered compact, process for production thereof, and optical element |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2519722A (en) | Metallic mirror and method of making same | |
| US4313647A (en) | Nonreflective coating | |
| EP2962137B1 (en) | Enhanced, durable silver coating stacks for highly reflective mirrors | |
| US3922068A (en) | Multi-layer anti-reflection coating with high and low index material | |
| US3738732A (en) | Multi-layer antireflection coating | |
| US4979802A (en) | Synthetic resin half-mirror | |
| JPS58217901A (ja) | 透過型光学部材 | |
| JPS58113901A (ja) | 積層型光学構体 | |
| JPS60502173A (ja) | 有機材料から成る光学部材に対する反射防止被膜 | |
| JPS5860701A (ja) | 反射防止膜 | |
| JPS59202408A (ja) | 薄層配列 | |
| JPS5910901A (ja) | 光学積層物 | |
| JPH06273601A (ja) | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 | |
| JPH06186403A (ja) | 多層膜光学部材 | |
| JP3610777B2 (ja) | 赤外域用反射防止膜及び透過窓 | |
| JPH07140310A (ja) | レプリカ回折格子 | |
| US4838628A (en) | Process and apparatus for production of an optical element | |
| US20230161077A1 (en) | Anti-reflective optical coatings and methods of forming the same | |
| JPH02291502A (ja) | プラスチックレンズ用多層反射防止膜 | |
| JPS638605A (ja) | 合成樹脂部材の反射鏡 | |
| JPS6326603A (ja) | 合成樹脂部材の反射鏡 | |
| JPS633281B2 (ja) | ||
| JPH0258002A (ja) | 光学レンズ | |
| JP2678437B2 (ja) | セラミツクスミラー | |
| JPH07199812A (ja) | 積層体 |