WO2009122589A1 - 2枚合わせ片面金属箔張積層板およびその製造方法、ならびに、片面プリント配線板およびその製造方法 - Google Patents

2枚合わせ片面金属箔張積層板およびその製造方法、ならびに、片面プリント配線板およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2009122589A1
WO2009122589A1 PCT/JP2008/056790 JP2008056790W WO2009122589A1 WO 2009122589 A1 WO2009122589 A1 WO 2009122589A1 JP 2008056790 W JP2008056790 W JP 2008056790W WO 2009122589 A1 WO2009122589 A1 WO 2009122589A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
metal foil
release material
sided
clad laminate
laminate
Prior art date
Application number
PCT/JP2008/056790
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
仁 小野関
貴弘 田邉
清 斉藤
Original Assignee
日立化成工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日立化成工業株式会社 filed Critical 日立化成工業株式会社
Priority to CN200880128448.4A priority Critical patent/CN101983126B/zh
Priority to US12/935,668 priority patent/US10051743B2/en
Publication of WO2009122589A1 publication Critical patent/WO2009122589A1/ja

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/022Processes for manufacturing precursors of printed circuits, i.e. copper-clad substrates
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0097Processing two or more printed circuits simultaneously, e.g. made from a common substrate, or temporarily stacked circuit boards
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0335Layered conductors or foils
    • H05K2201/0355Metal foils
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/15Position of the PCB during processing
    • H05K2203/1536Temporarily stacked PCBs
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/24Reinforcing the conductive pattern
    • H05K3/244Finish plating of conductors, especially of copper conductors, e.g. for pads or lands
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/269Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension including synthetic resin or polymer layer or component

Definitions

  • the present invention relates to a two-sided single-sided metal foil-clad laminate and a method for manufacturing the same, and a single-sided printed wiring board and a method for manufacturing the same, and particularly to a multilayer wiring board, a semiconductor chip mounting substrate, and a semiconductor package substrate.
  • the present invention relates to a single-sided metal foil-clad laminate and a method for manufacturing the same, and a single-sided printed wiring board using the double-sided single-sided metal foil-clad laminate and a method for manufacturing the same.
  • the film which is smaller than a prepreg and a copper-clad laminate, and does not mutually adhere with a copper-clad laminate is put inside a copper-clad laminate.
  • the circuit processing cannot be performed on the entire surface of the support substrate, and the efficiency is deteriorated.
  • the product cannot be taken well and the probability of a defect is increased.
  • the present invention does not allow the chemical solution used in the manufacturing process to permeate, has a good release property of the release material, and does not peel off the mating surface due to the shrinkage of the release film during high temperature treatment.
  • An object of the present invention is to provide a sheet-fitting single-sided metal foil-clad laminate and a method for producing the same. It is another object of the present invention to provide a single-sided printed wiring board using the two-sheet single-sided metal foil-clad laminate and a method for manufacturing the same.
  • the above problem is solved by the present invention described below. That is, in the present invention, two sets of structures in which metal foils are superposed on one side of one prepreg or a laminated body of a plurality of prepregs are arranged so that each prepreg is inside through a release material.
  • the release material is a film made of a resin material or a composite material in which the resin material and a metal material are combined, and the thickness thereof is 10 to 200 ⁇ m. It is a two-sheet single-sided metal foil-clad laminate in which the release material has a heat shrinkage rate of 1.5% or less at a temperature at which treatment is performed.
  • the present invention produces a structure by superimposing a metal foil on one side of one prepreg or one side of a laminate of a plurality of prepregs, and the two sets of the structures are separated from each other through a release material.
  • a two-layer laminated single-sided metal foil-clad laminate having a thickness of 10 to 200 ⁇ m and a heat shrinkage rate of the release material at a temperature at which the heat and pressure treatment is applied is 1.5% or less. It is a manufacturing method of a board.
  • the present invention provides a circuit processing treatment, a solder resist coating treatment, a Ni—Au plating treatment, and a contour processing treatment on both surfaces of the two-sheet laminated single-sided metal foil-clad laminate, or each of the above treatments. After at least one of them is applied, each of the two sets of single-sided metal foil-clad laminates is a single-sided printed wiring board that is separated from the release material.
  • the two-sided single-sided metal foil-clad laminate is separated from the mold release material after manufacturing the single-sided printed wiring board.
  • the release material has good peelability, and the mating surface does not peel due to shrinkage of the release film during high temperature processing
  • a laminated single-sided metal foil-clad laminate and a method for producing the same can be provided.
  • seat single-sided metal foil tension laminated board and its manufacturing method can be provided.
  • Reference numeral 1 denotes a prepreg
  • 2 denotes a metal foil
  • 3 denotes a release material
  • 4 denotes an end plate.
  • the double-ply single-sided metal-foil-clad laminate of the present invention has a metal foil superimposed on one side of one prepreg or one side of a laminate of prepregs. Two sets of structural bodies to be formed are overlaid by heat and pressure treatment so that each prepreg is inside through a release material.
  • the two-sheet single-sided metal foil-clad laminate of the present invention will be described.
  • the release material used in the present invention adheres to the printed wiring board by the heating and pressurizing process without peeling off from the prepreg itself. On the other hand, when peeling with intention, the two-sided single-sided metal foil-clad laminate is used. The prepreg can be easily peeled by hand.
  • the release material is a film made of a resin material or a composite material in which the resin material and a metal material are combined. If the mold release material is composed of only metal materials, it is easy for various chemicals to seep into the wiring board manufacturing process. However, if the mold release material is made of the above materials, the chemicals will not seep. The adverse effect of the chemical remaining on the mating surface with the mold release material can be reduced.
  • the heat shrinkage rate of the release material is required to be 1.5% or less at the temperature at which the heat and pressure treatment is performed, and is preferably 1.0% or less, preferably 0.01 to 0.00. It is more preferably 9%, and further preferably 0.01 to 0.8%.
  • the thermal shrinkage rate exceeds 1.5%, the mold release material tends to shrink at a high temperature (eg, 160 ° C. or higher) such as a solder resist cure, and the mating surface peels off. That is, the heat resistance of the release material is inferior.
  • the heat shrinkage ratio is measured using a three-dimensional measuring instrument (manufactured by Mitutoyo) for the dimensions before and after being treated for 1 hour in a 180 ° C. dryer (difference in dimensions before and after heat treatment / before heat treatment). Dimension) was determined and used as the shrinkage rate.
  • the rate of decrease in elongation after the heat and pressure treatment of the release material is preferably 50% or less, more preferably 30% or less, and more preferably 1 to 20% before the heat and pressure treatment. Further preferred. By being 50% or less, generation
  • the release material before the heating and pressurizing treatment and the release material after the heating and pressurizing treatment were each pulled at a rate of 5 mm / min.
  • the sample length L at the time of rupture is measured by pulling the wire, and the elongation rate (E 0 ) before the heat and pressure treatment is first calculated from the sample length L 0 before the test and the sample length L at the time of rupture according to the following formula 1. And the elongation (E) after the heating and pressing treatment are calculated.
  • Elongation (E, E 0 ) (%) (L ⁇ L 0 ) ⁇ 100 / L 0 (Formula 1)
  • the elongation reduction rate is calculated and calculated by the following formula 2.
  • Reduction rate of elongation (%) (E 0 ⁇ E) ⁇ 100 / E 0 (Formula 2)
  • polyphenylene sulfide polyphenylene oxide, polysulfone, polyether sulfone, polyphenylene sulfone, polyetherimide, polyimide, polyamideimide, polyamide, polycarbonate, polyarylate, polyetherketone, polyetheretherketone, Examples include polyacetal, cellulose acetate, poly-4-methylpentene-1, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and derivatives of these resins. Of these, polyphenylene sulfide and polyimide are preferable.
  • a mold release material consists of a composite material which combined the resin material and the metal material
  • a resin material As the metal material, stainless steel, brass, or the like can be used.
  • the thickness of the metal layer is preferably less than 1 ⁇ m.
  • the thickness is less than 1 ⁇ m, even if the end of the laminated board is exposed to various chemicals in the manufacturing process of the wiring board, the chemicals do not penetrate to the back, and the adverse effects of the chemicals can be minimized.
  • a fluororesin polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene, etc.
  • a fluororesin polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene, etc.
  • the thickness of the release material is 10 to 200 ⁇ m, preferably 12 to 125 ⁇ m, and more preferably 40 to 125 ⁇ m.
  • the thickness is less than 10 ⁇ m, the strength of the release material is insufficient, and when the release material is separated from the two-sided single-sided metal foil-clad laminate, the release material is broken and the peelability is poor.
  • the handling at the time of constructing a two-sheet single-sided metal foil-clad laminate is not good.
  • the thickness exceeds 200 ⁇ m, it is not preferable from the viewpoint of availability and price.
  • Metal foil As the metal foil, a metal foil used for a normal printed wiring board, for example, a copper foil can be used.
  • the copper foil may be either an electrolytic copper foil or a rolled copper foil, and the thickness is not particularly limited. Accordingly, it is possible to use a copper foil having a thickness of 105 ⁇ m or less or a peelable copper foil generally used for printed wiring boards. Note that an etchable type copper foil having an aluminum carrier or a nickel carrier may be used instead of the peelable type.
  • the roughening process is generally given to the copper foil used for a printed wiring board, also in this invention, such a copper foil can be used and the roughening process is not given. But it does n’t matter.
  • the prepreg is formed by impregnating, coating or adhering a matrix resin composition to a base material.
  • Materials constituting the substrate include glasses (E glass, D glass, S glass, T glass, quartz glass (quartz glass), etc.), ceramics (alumina, boron nitride, etc.), heat resistant engineering plastics (all Aromatic polyamide, polyphenylene sulfide, polyetherimide, polyimide, cell carbon) and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the form of the substrate include a woven or non-woven fabric using fibers, chops, etc .; an open-cell porous fluororesin film or sheet; and the like.
  • the matrix resin that is the main component of the prepreg matrix resin composition includes phenol resin, polyester resin, epoxy resin, cyanate resin, thermosetting polyimide resin, and other thermosetting resins; a composition comprising two or more of them. And so on.
  • the resin composition for a matrix of the prepreg may contain an inorganic filler for improving reliability.
  • the inorganic filler is not particularly limited, and examples thereof include silica, fused silica, talc, alumina, aluminum hydroxide, barium sulfate, calcium hydroxide, aerosil and calcium carbonate. These may be used alone or in combination of two or more. Silica is preferred in terms of dielectric properties and low thermal expansion.
  • the inorganic filler may be treated with various coupling agents such as a silane coupling agent.
  • the matrix resin composition of the prepreg may contain a thermoplastic resin for improving flexibility.
  • thermoplastic resin include, but are not limited to, fluororesin, polyphenylene ether, modified polyphenylene ether, polyphenylene sulfide, polycarbonate, polyether imide, polyether ether ketone, polyarylate, polyamide, polyamide imide, and polybutadiene. I don't mean.
  • the thermoplastic resins may be used alone or in combination of two or more.
  • additives such as a coupling agent, a pigment, a leveling agent, an antifoaming agent, and an ion trapping agent may be blended as necessary.
  • the number of prepregs constituting the single-sided metal foil-clad laminate is at least one, but a plurality of prepregs may be used.
  • the metal foil described above is provided on one side of the laminated body of the prepreg after lamination.
  • the two-piece single-sided metal foil-clad laminate of the present invention is produced as follows (see FIG. 1). That is, first, a metal foil 2 is superposed on one side of a prepreg 1 (or a laminated body when a plurality of prepregs are laminated) to produce a structure. Next, two sets of this structure are prepared, and are laminated by applying heat and pressure treatment with the respective prepregs being inside through the release material 3 according to the present invention. The heat and pressure treatment is performed, for example, by inserting these materials between the two end plates 4.
  • the release material 3 has a length (size) equal to or greater than that of the prepreg 1 and the metal foil 2. It is preferable that it is the same from a viewpoint of the operativity at the time of printed wiring board manufacture.
  • the conditions of heating and pressing differ depending on the prepreg resin.
  • the temperature is preferably 150 to 250 ° C. and the pressure is preferably 0.5 to 8.0 MPa.
  • the single-sided printed wiring board of the present invention is a circuit processing treatment, a solder resist coating treatment, a Ni—Au plating treatment on both surfaces of the two-sheet single-sided metal foil-clad laminate of the present invention. And after performing an external shape processing process, or after giving at least any one of each process, each of two sets of single-sided metal foil tension laminated sheets is manufactured separately from a mold release material. It should be noted that a connection failure (AOI) inspection or the like may be performed at the end of the series of processes or after separating the single-sided metal foil-clad laminate by any process.
  • AOI connection failure
  • Example 1 A prepreg with a thickness of 18 mm (3EC-VLP-18 made by Mitsui Kinzoku Co., Ltd.) and a prepreg with glass cloth as a base material impregnated with epoxy resin (GEA-679FGB made by Hitachi Chemical Co., Ltd.) Two sets of constructions in which two sheets were sequentially stacked were produced. These are laminated by heat and pressure treatment (180 ° C., 3 MPa, press molding treatment for 1 hour) so that each prepreg is inside through a release material (release film) having a thickness of 50 ⁇ m. A metal foil-clad laminate was produced.
  • the release material used was a polyimide-based film (trade name: Upilex-S) manufactured by Ube Industries, Ltd., with a thermal shrinkage rate of 0.05% at 180 ° C. and an elongation reduction rate after pressing. It was 5%.
  • the copper foil, the glass cloth base epoxy resin prepreg, and the release material were all 510 mm ⁇ 510 mm in size.
  • Example 2 (Example 2) Implemented except that the release material was a 25 ⁇ m thick Torelina film (manufactured by Toray Industries, Inc., heat shrinkage at 180 ° C., 0.7%, elongation reduction after pressing, 10%, polyphenylene sulfide film)
  • Torelina film manufactured by Toray Industries, Inc., heat shrinkage at 180 ° C., 0.7%, elongation reduction after pressing, 10%, polyphenylene sulfide film
  • Example 3 (Example 3) Implemented except that the release material was a Torelina film with a thickness of 75 ⁇ m (manufactured by Toray Industries, Inc., heat shrinkage at 180 ° C., 0.5%, elongation reduction after pressing, 18%, polyphenylene sulfide film)
  • the release material was a Torelina film with a thickness of 75 ⁇ m (manufactured by Toray Industries, Inc., heat shrinkage at 180 ° C., 0.5%, elongation reduction after pressing, 18%, polyphenylene sulfide film)
  • a two-sided single-sided metal foil-clad laminate was produced.
  • Example 4 A two-sheet single-sided metal foil-clad laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the release material was 12.5 ⁇ m.
  • Example 5 A two-sheet single-sided metal foil-clad laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the release material was 125 ⁇ m.
  • the mold release material was a 38 ⁇ m thick MAQINAS (manufactured by Nikko Metal Co., Ltd., with a heat shrinkage rate of 0.1% at 180 ° C., a reduction rate of elongation after pressing of 5%, and a polyimide resin film with a copper content of 0.1%.
  • a two-sided single-sided metal foil-clad laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the film was vapor-deposited so as to have a thickness of 3 ⁇ m.
  • Example 7 The release material was 0 ⁇ m copper on the film surface of a 25 ⁇ m thick Aflex film (Asahi Glass Co., Ltd., heat shrinkage 2.0% at 180 ° C., elongation reduction 10% after pressing, fluororesin). Except that the film was prepared by vapor deposition to a thickness of 3 ⁇ m (thermal shrinkage rate at 180 ° C .: 0.5%, elongation reduction rate after pressing: 10%). A two-sheet single-sided metal foil-clad laminate was prepared.
  • Example 8 Except the release material was a 50 ⁇ m thick Theonex film (Teijin DuPont Co., Ltd., heat shrinkage at 180 ° C, 1.5%, elongation reduction after pressing, 8%, polyethylene naphthalate film) In the same manner as in Example 1, a two-sheet single-sided metal foil-clad laminate was prepared.
  • Theonex film Teijin DuPont Co., Ltd., heat shrinkage at 180 ° C, 1.5%, elongation reduction after pressing, 8%, polyethylene naphthalate film
  • Example 1 Example except that the release material was an 25 mm thick aflex film (Asahi Glass Co., Ltd., heat shrinkage at 180 ° C. 2.0%, elongation reduction after pressing 10%, fluororesin) In the same manner as in Example 1, a two-sheet single-sided metal foil-clad laminate was produced.
  • the release material was an 25 mm thick aflex film (Asahi Glass Co., Ltd., heat shrinkage at 180 ° C. 2.0%, elongation reduction after pressing 10%, fluororesin)
  • a two-sheet single-sided metal foil-clad laminate was produced.
  • Example 2 Comparative Example 2 Except that the mold release material is a Lumirror film with a thickness of 4.5 ⁇ m (manufactured by Toray Industries, Inc., heat shrinkage at 180 ° C., 0.5%, elongation reduction after pressing, 60%, polyester film) In the same manner as in Example 1, a two-sided single-sided metal foil-clad laminate was produced.
  • the mold release material is a Lumirror film with a thickness of 4.5 ⁇ m (manufactured by Toray Industries, Inc., heat shrinkage at 180 ° C., 0.5%, elongation reduction after pressing, 60%, polyester film)
  • Example 3 A two-sheet single-sided metal foil-clad laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the release material was 7.5 ⁇ m in thickness.
  • Example 4 Example except that the release material was Sepanium with a thickness of 40 ⁇ m (manufactured by Sun Aluminum Industry Co., Ltd., heat shrinkage rate of 0.0% at 180 ° C., elongation reduction rate after pressing is 0%, made of aluminum) In the same manner as in Example 1, a two-sheet single-sided metal foil-clad laminate was produced.
  • the release material was Sepanium with a thickness of 40 ⁇ m (manufactured by Sun Aluminum Industry Co., Ltd., heat shrinkage rate of 0.0% at 180 ° C., elongation reduction rate after pressing is 0%, made of aluminum)
  • a two-sheet single-sided metal foil-clad laminate was produced.
  • solder resist (SR-7200G, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is applied on a two-sheet laminated single-sided metal foil-clad laminate subjected to circuit processing by screen printing so that the finished thickness is 25 ⁇ m and dried at 80 ° C. for 30 minutes. It was. Next, exposure printing was performed at 500 mJ / cm 2 , and development was performed at 30 ° C. for 3 minutes using a 1% aqueous sodium hydrogen carbonate solution. Thereafter, it was washed with running water and cured by heating at 170 ° C. for 60 minutes.
  • SR-7200G manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

 1枚のプリプレグの片面、又は複数枚のプリプレグの積層体の片面に金属箔が重ね合わされてなる構成体2組が、離型材を介しそれぞれのプリプレグが内側となるように加熱加圧処理により重ね合わされてなり、離型材が樹脂材料等からなるフィルムであり、その厚みが10~200μmで、かつ、加熱加圧処理を施す温度での前記離型材の熱収縮率が1.5%以下である2枚合わせ片面金属箔張積層板およびその製造方法である。また、当該2枚合わせ片面金属箔張積層板を使用した片面プリント配線板およびその製造方法である。

Description

2枚合わせ片面金属箔張積層板およびその製造方法、ならびに、片面プリント配線板およびその製造方法
 本発明は、2枚合わせ片面金属箔張積層板およびその製造方法、ならびに、片面プリント配線板およびその製造方法に関し、特に、多層配線板、半導体チップ搭載基板および半導体パッケージ基板などに適用される2枚合わせ片面金属箔張積層板およびその製造方法、ならびに、その2枚合わせ片面金属箔張積層板を用いた片面プリント配線板およびその製造方法に関する。
 従来、BOC(Board On Chip)基板などに用いる片面金属箔張積層板の多くは、下記のようにして製造される。まず、所要枚数のプリプレグを重ねて積層体とする。そして、その両面側に金属箔を重ね合わせて両面板金属箔張積層板とする。その後、両面板金属箔張積層板の片面側のみをエッチングし、銅箔を除去して片面金属箔張積層板としている。このようなプロセスでは必然的に片面の銅箔分が無駄となってしまうという問題がある。
 そこで、片面金属箔張積層板を効率よく製造するために、離型材のそれぞれの面側に、所定枚数のプリプレグおよび金属箔を重ねて加熱加圧して、2枚合わせ片面金属箔張積層板とし、次いで2枚に分離する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。また、離型フィルムを使用して、基材との剥離性を向上させることで、片面金属箔張積層板を効率よく製造しようとする方法も提案されている(例えば、特許文献2参照)。さらに、銅張り積層板を2枚用いて、間に、プリプレグと、銅張り積層板よりも小さな、銅張り積層板とは相互接着しないフィルムを、銅張り積層板の内側に介して、加熱加圧により擬似多層板とし、回路加工後剥離する工法も提案されている(例えば文献3参照)。
特開平7-302977号公報 特開2007-90581号公報 特開2001-308548号公報
 特許文献1のように、2枚合わせ片面金属箔張積層板を2枚に分離しない状態で、回路加工、ソルダーレジスト塗布、Ni-Auめっき、外形加工等の各処理を両面に行うと作業効率はよくなる。しかし、離型材にアルミニウムを用いているため、2枚合わせのままで各処理を行なうと、処理中で使用する薬液が2枚合わせ片面金属箔張積層板の片面板と離型材との合わせ面(以下、「合わせ面」という)に滲み込むことがあった。この場合、付着している薬液成分を洗浄する工程を設けることが考えられるが、合わせ面に滲みこんでいる薬液は通常の洗浄では除去されにくい。そのため、薬液が残存し、他の処理に使用する薬液を汚染する問題がある。また、回路加工においては、離型材のアルミニウムが溶解してしまう問題もある。
 特許文献2のように、離型材に離型フィルムを用いると、上記のような薬液の滲み込み、離型材の溶解といった問題は解決できる。しかし、ソルダーレジストのキュアといった高温となる工程では、離型フィルムの収縮によりその合わせ面が剥離してしまう問題がある。
 また、特許文献3のように、銅張り積層板を2枚用いて、プリプレグと銅張り積層板よりも小さな、銅張り積層板とは相互接着しないフィルムを、銅張り積層板の内側に介して、加工する工法については、支持基板全面に回路加工ができず効率が悪くなる。また、フィルムの位置がずれた場合には、うまく製品が取れず、不良となる確率が高くなる。
 以上から、本発明は、製造プロセスで使用される薬液の滲み込みがなく、離型材の剥離性が良好で、高温処理時に離型フィルムの収縮によりその合わせ面が剥離してしまうことがない2枚合わせ片面金属箔張積層板およびその製造方法を提供することを目的とする。また、この2枚合わせ片面金属箔張積層板を用いた片面プリント配線板およびその製造方法を提供することを目的とする。
 上記課題は、下記本発明により解決される。すなわち、本発明は、1枚のプリプレグの片面、又は複数枚のプリプレグの積層体の片面に金属箔が重ね合わされてなる構成体2組が、離型材を介しそれぞれのプリプレグが内側となるように加熱加圧処理により重ね合わされてなり、前記離型材が樹脂材料、または該樹脂材料と金属材料とを組み合わせた複合材料からなるフィルムであり、その厚みが10~200μmで、かつ、前記加熱加圧処理を施す温度での前記離型材の熱収縮率が1.5%以下である2枚合わせ片面金属箔張積層板である。
 また、本発明は、1枚のプリプレグの片面、又は複数枚のプリプレグの積層体の片面に金属箔を重ね合わせて構成体を作製し、該構成体2組を、離型材を介しそれぞれのプリプレグが内側となるように加熱加圧処理を施して重ね合わせる2枚合わせ片面金属箔張積層板の製造方法であって、前記離型材が樹脂材料、または該樹脂材料と金属材料とを組み合わせた複合材料からなるフィルムであり、その厚みが10~200μmで、かつ、前記加熱加圧処理を施す温度での前記離型材の熱収縮率が1.5%以下である2枚合わせ片面金属箔張積層板の製造方法である。
 さらに、本発明は、上記2枚合わせ片面金属箔張積層板の両面に、回路加工処理、ソルダーレジスト塗布処理、Ni-Auめっき処理、および外形加工処理が施された後、又は前記各処理の少なくともいずれかが施された後、前記2組の片面金属箔張積層板のそれぞれが前記離型材から分離されてなる片面プリント配線板である。
 また、上記2枚合わせ片面金属箔張積層板の両面に、回路加工処理、ソルダーレジスト塗布処理、Ni-Auめっき処理、および外形加工処理を施した後、又は前記各処理の少なくともいずれかの処理を施した後、前記2組の片面金属箔張積層板のそれぞれを前記離型材から分離する片面プリント配線板の製造方法である。
 本発明によれば、製造プロセスで使用される薬液の滲み込みがなく、離型材の剥離性が良好で、高温処理時に離型フィルムの収縮によりその合わせ面が剥離してしまうことがない2枚合わせ片面金属箔張積層板およびその製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、この2枚合わせ片面金属箔張積層板を用いた片面プリント配線板およびその製造方法を提供することができる。
本発明の2枚合わせ片面金属箔張積層板の製造方法の一例を示す概略説明図である。1はプリプレグ、2は金属箔、3は離型材、4は鏡板を表す。
[1]2枚合わせ片面金属箔張積層板
 本発明の2枚合わせ片面金属箔張積層板は、1枚のプリプレグの片面、又は複数枚のプリプレグの積層体の片面に金属箔が重ね合わされてなる構成体2組が、離型材を介しそれぞれのプリプレグが内側となるように加熱加圧処理により重ね合わされてなる。
 以下、本発明の2枚合わせ片面金属箔張積層板について説明する。
(離型材)
 本発明で用いる離型材は、加熱加圧処理によってプリント配線板の製造プロセスにおいて自らプリプレグと剥離することなく接着する一方で、意図を持って剥離する時には、2枚合わせ片面金属箔張積層板からプリプレグを容易に手で剥離できる態様となっている。そして、当該離型材は、樹脂材料、又は該樹脂材料と金属材料とを組み合わせた複合材料からなるフィルムである。金属材料のみで離型材を構成すると、配線板の製造プロセスにおいて、種々の薬液の滲み込みが発生しやすくなるが、上記のような材料で離型材を構成することで、薬液の滲み込みが無くなり、離型材との合わせ面に残留した薬液による悪影響を低減することができる。
 離型材の熱収縮率は、加熱加圧処理を施す温度において、1.5%以下となっていることを必須とし、1.0%以下となっていることが好ましく、0.01~0.9%となっていることがより好ましく、0.01~0.8%となっていることがさらに好ましい。熱収縮率が1.5%を超えると、ソルダーレジストのキュアといった高温下(例えば、160℃以上)で、離型材の収縮が生じやすくなり、その合わせ面が剥離してしまう。すなわち、離型材の耐熱性が劣ってしまうことになる。
 なお、熱収縮率は、180℃の乾燥機にて1時間処理した前後の寸法を、三次元測定器(ミツトヨ製)を用いて測定し、(加熱処理前後の寸法の差/加熱処理前の寸法)を求めて収縮率とした。
 また、離型材の加熱加圧処理後における伸びの低下率は、加熱加圧処理前の50%以下であることが好ましく、30%以下であることがより好ましく、1~20%であることがさらに好ましい。50%以下であることで、離型材を剥離する際の破れの発生を防ぐことができ、剥離性をより良好なものとすることができる。
 なお、伸びの低下率については、精密万能試験機(島津製作所製)を用いて、上記加熱加圧処理前の離型材と上記加熱加圧処理後の離型材をそれぞれ引っ張り速度5mm/min.で引っ張って破断時の試料長さLを測定し、先ず試験前の試料長さL0と破断時の試料長さLから下記式1によって上記加熱加圧処理する前の伸び率(E0)と上記加熱加圧処理後の伸び率(E)とを算出する。
 伸び率(E,E0)(%)=(L-L0)×100/L0    (式1)
 次に、下記式2によって伸びの低下率を算出して求める。
 伸びの低下率(%)=(E0-E)×100/E0       (式2)
 離型材を構成する樹脂材料としては、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキシド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアセタール、酢酸セルロース、ポリ-4-メチルペンテン-1、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート及びこれら樹脂の誘導体が挙げられる。なかでも、ポリフェニレンスルフィド、ポリイミドが好ましい。
 また、離型材が、樹脂材料と金属材料とを組み合わせた複合材料からなる場合、樹脂材料としては、上述したものを使用することが可能である。金属材料としては、ステンレス、真鍮などを使用することが可能である。複合材料の形態としては、樹脂材料からなるフィルム上に、(a)金属材料からなるフィルム(例えば、極薄の金属箔)またはシートがプレス処理などにより設けられている形態や、(b)金属材料からなる層が蒸着などにより設けられている形態が挙げられる。また、接着性を調整するため、離型材に表面粗面化処理(マット処理)を施してもよい。この場合、金属層の厚みは1μm未満であることが好ましい。1μm未満であると、配線板の製造プロセスにおいて種々の薬液に積層板端部が曝されても、薬液が奥部まで染み込まず、薬液による悪影響を最小限に抑えることが出来る。
 なお、複合材料として使用される場合、樹脂材料としては、上記の他にフッ素樹脂(ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフロロエチレン等)を使用することができる。
 離型材の厚みは、10~200μmとし、12~125μmとすることが好ましく、40~125μmとすることがより好ましい。厚みが10μm未満であると、離型材の強度が不足し、2枚合わせ片面金属箔張積層板から離型材を分離する際に離型材が破れるなどして剥離性が劣ってしまう。また、2枚合わせ片面金属箔張積層板を構成する際のハンドリングもよくない。厚みが200μmを超えると、入手のし易さ、価格の面から好ましくない。
 なお、上記離型材は、必要に応じて上記厚みの範囲内で複数枚重ねて使用してもよい。複数枚重ねることで、2枚合わせ片面金属箔張積層板からの離型材の分離が容易となる場合がある。
(金属箔)
 金属箔としては、通常のプリント配線板に用いられる金属箔、例えば、銅箔を用いることができる。銅箔としては、電解銅箔および圧延銅箔のいずれでもよく、厚みは特に限定されるものではない。従って、一般にプリント配線板に用いられている厚み105μm以下の銅箔や、ピーラブルタイプの銅箔を用いることができる。
 なお、ピーラブルタイプの代わりに、アルミキャリアやニッケルキャリアを有するようなエッチャブルタイプの銅箔を用いることもできる。
 また、一般にプリント配線板に用いられる銅箔には、粗化処理が施されているが、本発明でも、そのような銅箔を用いることができるし、また、粗化処理が施されていなくても特にかまわない。
(プリプレグ)
 プリプレグは、基材にマトリックス樹脂組成物が含浸、塗布または付着されてなる。
 基材を構成する材料としては、ガラス類(Eガラス、Dガラス、Sガラス、Tガラス、石英ガラス(クオーツガラス)など)、セラミックス類(アルミナ、窒化硼素など)、耐熱性エンジニアリングプラスチック類(全芳香族ポリアミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルイミド、ポリイミド、セルカーボン)などが挙げられ、これを1種または2種以上適宜併用することができる。基材の形態としては、繊維、チョップなどを用いた織布または不織布;連続気泡多孔質のフッ素樹脂フィルムまたはシート;などが挙げられる。
 プリプレグのマトリックス樹脂組成物の主成分であるマトリックス樹脂としては、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、シアナト樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、その他の熱硬化性樹脂;それらの2種以上からなる組成物;などが挙げられる。
 上記プリプレグのマトリックス用樹脂組成物中には、信頼性向上のため無機フィラーを含有していてもよい。この無機フィラーは、特に限定されないが、シリカ、溶融シリカ、タルク、アルミナ、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、水酸化カルシウム、アエロジル及び炭酸カルシウムなどが挙げられる。これらは、単独でも、2種以上を組み合せて用いてもよい。誘電特性や低熱膨張の点からシリカが好ましい。
 分散性を高める等の目的で、無機フィラーには、シランカップリング剤等の各種カップリング剤で処理を施してもよい。
 また、上記プリプレグのマトリックス用樹脂組成物中には、可とう性向上のため、熱可塑性樹脂を含有してもよい。熱可塑性樹脂としては、フッ素樹脂、ポリフェニレンエーテル、変性ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリブタジエンなどが例示されるが、これらに限定されるわけではない。熱可塑性樹脂は、単独でも、2種以上を組み合せて用いてもよい。
 上記プリプレグのマトリックス用樹脂組成物中には、必要に応じて、カップリング剤、顔料、レベリング剤、消泡剤、イオントラップ剤等の添加剤を配合してもよい。
 片面金属箔張積層板を構成するプリプレグの枚数は、少なくとも1枚であるが、複数枚としてもよい。積層後のプリプレグの積層体の片面には、既述の金属箔を設ける。
[2]2枚合わせ片面金属箔張積層板の製造方法
 本発明の2枚合わせ片面金属箔張積層板は、下記のようにして製造される(図1参照)。すなわち、まず、プリプレグ1(プリプレグを複数枚積層する場合は、その積層体)の片面に金属箔2を重ね合わせて構成体を作製する。次に、この構成体を2組用意し、本発明に係る離型材3を介しそれぞれのプリプレグが内側となるようにして加熱加圧処理を施して積層する。加熱加圧処理は、例えば、2枚の鏡板4の間にこれらの材料を挿んで行う。本発明において、離型材3はプリプレグ1及び金属箔2と同等以上の長さ(大きさ)を有している。プリント配線板製造時の操作性の観点から同じであることが好ましい。
 加熱加圧の条件は、プリプレグの樹脂によって異なり、例えば、ガラス布基材エポキシ樹脂プリプレグを用いるときは、温度を150~250℃、圧力を0.5~8.0MPaとすることが好ましい。
[3]片面プリント配線板およびその製造方法
 本発明の片面プリント配線板は、本発明の2枚合わせ片面金属箔張積層板の両面に、回路加工処理、ソルダーレジスト塗布処理、Ni-Auめっき処理、および外形加工処理を施した後、又は各処理の少なくともいずれかを施した後、2組の片面金属箔張積層板のそれぞれを離型材から分離して製造される。
 なお、これら一連の処理の最後に、又は任意の処理で片面金属箔張積層板を分離した後、接続不良(AOI)検査などを行ってもよい。
(実施例1)
 厚さ18μmの銅箔(三井金属株式会社製3EC-VLP-18)に、厚さ0.1mmのプリプレグ(ガラス布を基材としエポキシ樹脂を含浸したプリプレグ 日立化成工業株式会社製GEA-679FGB)2枚を順次重ねた構成体を2組作製した。これらを、厚さ50μmの離型材(離型フィルム)を介しそれぞれのプリプレグが内側となるように加熱加圧処理(180℃、3MPa、1時間のプレス成形処理)により積層し、2枚合わせ片面金属箔張積層板を作製した。
 なお、使用した離型材は、宇部興産株式会社製のポリイミド系のフィルム(商品名:ユーピレックス-S)であり、180℃での熱収縮率は0.05%、プレス後における伸びの低下率は5%であった。また、銅箔、ガラス布基材エポキシ樹脂プリプレグ、離型材は、いずれも510mm×510mmの寸法のものを用いた。
(実施例2)
 離型材を、厚さ25μmのトレリナフィルム(東レ株式会社製、180℃での熱収縮率0.7%、プレス後における伸びの低下率が10%、ポリフェニレンスルフィドフィルム)としたこと以外は実施例1と同様にして2枚合わせ片面金属箔張積層板を作製した。
(実施例3)
 離型材を、厚さ75μmのトレリナフィルム(東レ株式会社製、180℃での熱収縮率0.5%、プレス後における伸びの低下率が18%、ポリフェニレンスルフィドフィルム)としたこと以外は実施例1と同様にして2枚合わせ片面金属箔張積層板を作製した。
(実施例4)
 離型材の厚みを12.5μmとしたこと以外は実施例1と同様にして2枚合わせ片面金属箔張積層板を作製した。
(実施例5)
 離型材の厚みを125μmとしたこと以外は実施例1と同様にして2枚合わせ片面金属箔張積層板を作製した。
(実施例6)
 離型材を、厚さ38μmのマキナス(MAQINAS)(日鉱金属株式会社製、180℃での熱収縮率0.1%、プレス後における伸びの低下率が5%、ポリイミド樹脂フィルムに銅を0.3μmの厚みとなるように蒸着したフィルム)としたこと以外は実施例1と同様にして2枚合わせ片面金属箔張積層板を作製した。
(実施例7)
 離型材を、厚さ25μmのアフレックスフィルム(旭硝子株式会社製、180℃での熱収縮率2.0%、プレス後における伸びの低下率が10%、フッ素樹脂)のフィルム表面に銅を0.3μmの厚みとなるように蒸着して作製したフィルム(180℃での熱収縮率0.5%、プレス後における伸びの低下率が10%)としたこと以外は実施例1と同様にして2枚合わせ片面金属箔張積層板を作製した。
(実施例8)
 離型材を厚さ50μmのテオネックスフィルム(帝人デュポン株式会社製,180℃での熱収縮率1.5%,プレス後における伸びの低下率8%,ポリエチレンナフタレートフィルム)とした以外は,実施例1と同様にして,2枚合わせ片面金属箔張積層板を作製した。
(比較例1)
 離型材を、厚さ25μmのアフレックスフィルム(旭硝子株式会社製、180℃での熱収縮率2.0%、プレス後における伸びの低下率が10%、フッ素樹脂)としたこと以外は実施例1と同様にして2枚合わせ片面金属箔張積層板を作製した。
(比較例2)
 離型材を、厚さ4.5μmのルミラーフィルム(東レ株式会社製、180℃での熱収縮率0.5%、プレス後における伸びの低下率が60%、ポリエステルフィルム)としたこと以外は実施例1と同様にして2枚合わせ片面金属箔張積層板を作製した。
(比較例3)
 離型材を、厚さ7.5μmとしたこと以外は実施例1と同様にして2枚合わせ片面金属箔張積層板を作製した。
(比較例4)
 離型材を、厚さ40μmのセパニウム(サン・アルミニウム工業社製、180℃での熱収縮率0.0%、プレス後における伸びの低下率が0%、アルミニウム製)としたこと以外は実施例1と同様にして2枚合わせ片面金属箔張積層板を作製した。
 実施例1~8、比較例1~4で作製した2枚合わせ片面金属箔張積層板に、下記の処理(1)~(3)を順次施し、以下の評価(A)~(C)を行った。試験結果を下記表2に示す。
(1)回路加工処理:
 各実施例および比較例で得られた2枚合わせ片面金属箔張積層板の周辺をカットして、寸法を500mm×500mmとした。次に、この状態で両面にドライフィルム(日立化成工業株式会社製、H-K425(商品名)を使用した)をラミネートし、露光、現像、水洗、エッチング、水洗の各処理を順次行って回路加工を行った。
(2)ソルダーレジスト塗布処理:
 回路加工処理した2枚合わせ片面金属箔張積層板上にソルダーレジスト(日立化成工業株式会社製SR-7200G)をスクリーン印刷で仕上り厚が25μmになるように塗布し、80℃で30分間乾燥させた。次に、500mJ/cm2で露光焼付けを行い、1%炭酸水素ナトリウム水溶液を用いて、30℃、3分間現像した。その後、流水で洗浄し、170℃、60分間加熱硬化させた。
(3)Ni-Auめっき処理:
 次に、この2枚合わせ片面金属箔張積層板に下記表1に示す手順で、各種の処理a)~q)を順次行った。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1中の溶液に使用した材料の詳細は下記の通りである。
Z-200:株式会社ワールドメタル製
SA-100:日立化成工業株式会社製
NIPS-100:日立化成工業株式会社製
トップケミアロイ66:奥野薬品工業株式会社製
パレット:小島化学薬品株式会社製
HGS-100:日立化成工業株式会社製
HGS-2000:日立化成工業株式会社製
(A)剥離性評価:
 各処理を施した後、2組のそれぞれの片面金属箔張積層板を離型材から分離し、その時の剥離性を確認した。表2中の「◎」は、離型材の剥離が問題なく行えたことを示し、「○」は、離型材の剥離がほとんど問題なく行えたことを示し、「×」は、剥離の際に離型材の一部が破れたことを示す。なお、「◎」及び「○」であれば、剥離性が良好で実用上問題はない。
(B)薬液染込み評価:
 各処理を施した後、2組のそれぞれの片面金属箔張積層板を離型材から分離し、離型材の合わせ面に薬液(各処理で使用した溶液)の染込みがないか目視で確認した。
(C)耐熱性評価:
 ソルダーレジスト塗布処理の際、170℃となるソルダーレジストの加熱硬化部分で、合わせ面の剥離の有無を確認した。表2中の「◎」は、合わせ面での剥離が無く耐熱性が非常に良好であることを示し、「○」は、合わせ面での剥離が無く耐熱性が良好であることを示し、「×」は、合わせ面での剥離があり耐熱性が劣ることを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 表2より、実施例1~8で作製したサンプルは剥離性、薬液染込み性、耐熱性とも良好で、各処理を問題なく行うことができた。また、その後の2枚に分離する際も問題はなかった。
 一方、比較例1では、離型材の熱収縮率が大きいため、高温になると合わせ面で剥離が起こった。比較例2はプレス後の伸びが大きく低下するため、2枚合わせ片面金属箔張積層板を分離する際に、離型材が破れてしまい上手く剥離できなかった。比較例3は、離型材が非常に薄く強度がないため、分離の際に離型材が破れてしまった。比較例4は、離型材が金属であるため、合わせ面に薬液が染込みかつ離型材が少し溶解していた。

Claims (5)

  1.  1枚のプリプレグの片面、又は複数枚のプリプレグの積層体の片面に金属箔が重ね合わされてなる構成体2組が、離型材を介しそれぞれのプリプレグが内側となるように加熱加圧処理により重ね合わされてなり、
     前記離型材が樹脂材料、または該樹脂材料と金属材料とを組み合わせた複合材料からなるフィルムであり、その厚みが10~200μmで、かつ、前記加熱加圧処理を施す温度での前記離型材の熱収縮率が1.5%以下である2枚合わせ片面金属箔張積層板。
  2.  前記離型材の加熱加圧処理後における伸びの低下率が、加熱加圧処理前の50%以下である請求項1に記載の2枚合わせ片面金属箔張積層板。
  3.  1枚のプリプレグの片面、又は複数枚のプリプレグの積層体の片面に金属箔を重ね合わせて構成体を作製し、該構成体2組を、離型材を介しそれぞれのプリプレグが内側となるように加熱加圧処理を施して重ね合わせる2枚合わせ片面金属箔張積層板の製造方法であって、
     前記離型材が樹脂材料、または該樹脂材料と金属材料とを組み合わせた複合材料からなるフィルムであり、その厚みが10~200μmで、かつ、前記加熱加圧処理を施す温度での前記離型材の熱収縮率が1.5%以下である2枚合わせ片面金属箔張積層板の製造方法。
  4.  請求項1または2に記載の2枚合わせ片面金属箔張積層板の両面に、回路加工処理、ソルダーレジスト塗布処理、Ni-Auめっき処理、および外形加工処理が施された後、又は前記各処理の少なくともいずれかが施された後、前記2組の片面金属箔張積層板のそれぞれが前記離型材から分離されてなる片面プリント配線板。
  5.  請求項1または2に記載の2枚合わせ片面金属箔張積層板の両面に、回路加工処理、ソルダーレジスト塗布処理、Ni-Auめっき処理、および外形加工処理を施した後、又は前記各処理の少なくともいずれかの処理を施した後、前記2組の片面金属箔張積層板のそれぞれを前記離型材から分離する片面プリント配線板の製造方法。
PCT/JP2008/056790 2008-04-04 2008-04-04 2枚合わせ片面金属箔張積層板およびその製造方法、ならびに、片面プリント配線板およびその製造方法 WO2009122589A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN200880128448.4A CN101983126B (zh) 2008-04-04 2008-04-04 双片层合且单面贴有金属箔的层叠板及其制造方法、以及单面印制电路板及其制造方法
US12/935,668 US10051743B2 (en) 2008-04-04 2008-04-04 Two-layered laminate having metal foil cladded on its one surface, method for production of the laminate, single-sided printed wiring board, and method for production of the wiring board

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008-097808 2008-04-04
JP2008097808A JP4293278B1 (ja) 2008-04-04 2008-04-04 2枚合わせ片面金属箔張積層板およびその製造方法、ならびに、片面プリント配線板およびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2009122589A1 true WO2009122589A1 (ja) 2009-10-08

Family

ID=40921866

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2008/056790 WO2009122589A1 (ja) 2008-04-04 2008-04-04 2枚合わせ片面金属箔張積層板およびその製造方法、ならびに、片面プリント配線板およびその製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10051743B2 (ja)
JP (1) JP4293278B1 (ja)
CN (1) CN101983126B (ja)
MY (1) MY155884A (ja)
WO (1) WO2009122589A1 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI460076B (zh) * 2010-10-01 2014-11-11 Elite Material Co Ltd A substrate manufacturing method and a structure for simplifying the process
JP5887561B2 (ja) * 2012-11-29 2016-03-16 パナソニックIpマネジメント株式会社 金属張積層板の製造方法
CN104418286A (zh) * 2013-09-04 2015-03-18 苏州霞光电子科技有限公司 一种低应力mems传感器芯片的基板结构及制造方法
JP6306865B2 (ja) * 2013-12-05 2018-04-04 Jx金属株式会社 樹脂基板を互いに剥離可能に密着させた積層体
KR102412000B1 (ko) * 2015-05-12 2022-06-22 삼성전기주식회사 동박적층판 및 이를 이용한 인쇄회로기판의 제조방법
WO2018221876A1 (ko) * 2017-05-30 2018-12-06 주식회사 아모그린텍 연성인쇄회로기판 제조 방법 및 이에 의해 제조된 연성인쇄회로기판
CN109152226B (zh) * 2018-11-06 2019-12-03 瑞华高科技电子工业园(厦门)有限公司 一种超薄单面fpc产品制作的方法
WO2023171705A1 (ja) * 2022-03-09 2023-09-14 株式会社カネカ 片面金属張積層板の製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07302977A (ja) * 1994-04-28 1995-11-14 Ibiden Co Ltd 多層プリント配線板の製造方法とそれに用いる銅張積層板
JP2004255705A (ja) * 2003-02-26 2004-09-16 Teijin Dupont Films Japan Ltd 離形フィルム
JP2005302997A (ja) * 2004-04-12 2005-10-27 Hitachi Chem Co Ltd 絶縁層と絶縁層の間に接着補助層を有するプリント配線板およびその製造方法
JP2007090581A (ja) * 2005-09-27 2007-04-12 Matsushita Electric Works Ltd 片面板の製造方法及びプリント配線板の製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4086375A (en) * 1975-11-07 1978-04-25 Rockwell International Corporation Batch process providing beam leads for microelectronic devices having metallized contact pads
US5175047A (en) * 1990-08-09 1992-12-29 Teledyne Industries, Inc. Rigid-flex printed circuit
US6299721B1 (en) * 1998-12-14 2001-10-09 Gould Electronics Incl Coatings for improved resin dust resistance
DE19940681A1 (de) * 1999-08-27 2001-03-01 Basf Ag Cholesterisches Schichtmaterial mit verbesserter Farbbeständigkeit und Verfahren zu dessen Herstellung
KR100333627B1 (ko) 2000-04-11 2002-04-22 구자홍 다층 인쇄회로기판 및 그 제조방법
EP1459882B1 (en) * 2001-12-28 2010-02-17 Taisei Plas Co., Ltd. Production method for composite material of aluminum alloy and resin
WO2003107471A1 (ja) * 2002-06-14 2003-12-24 日立マクセル株式会社 光電変換素子及びその製造方法
JPWO2005010987A1 (ja) * 2003-07-24 2006-09-14 松下電器産業株式会社 球状半導体素子埋設配線板
TWI282259B (en) * 2004-01-30 2007-06-01 Hitachi Chemical Co Ltd Adhesion assisting agent-bearing metal foil, printed wiring board, and production method of printed wiring board
JP2005332896A (ja) * 2004-05-19 2005-12-02 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体装置、チップサイズパッケージ、半導体装置の製造方法、及びチップサイズパッケージの製造方法
JP4829585B2 (ja) * 2005-10-12 2011-12-07 日本電気株式会社 配線基板及び半導体装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07302977A (ja) * 1994-04-28 1995-11-14 Ibiden Co Ltd 多層プリント配線板の製造方法とそれに用いる銅張積層板
JP2004255705A (ja) * 2003-02-26 2004-09-16 Teijin Dupont Films Japan Ltd 離形フィルム
JP2005302997A (ja) * 2004-04-12 2005-10-27 Hitachi Chem Co Ltd 絶縁層と絶縁層の間に接着補助層を有するプリント配線板およびその製造方法
JP2007090581A (ja) * 2005-09-27 2007-04-12 Matsushita Electric Works Ltd 片面板の製造方法及びプリント配線板の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4293278B1 (ja) 2009-07-08
US10051743B2 (en) 2018-08-14
CN101983126B (zh) 2015-07-15
CN101983126A (zh) 2011-03-02
JP2009248409A (ja) 2009-10-29
US20110108310A1 (en) 2011-05-12
MY155884A (en) 2015-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4293278B1 (ja) 2枚合わせ片面金属箔張積層板およびその製造方法、ならびに、片面プリント配線板およびその製造方法
KR101528763B1 (ko) 캐리어를 갖는 금속 호일 및 이를 사용하여 적층 기판을 제조하는 방법
TWI671863B (zh) 疊層體及半導體元件搭載用基板之製造方法
US5633069A (en) Multilayer printed-circuit substrate, wiring substrate and process of producing the same
JP5883542B2 (ja) 保護層付銅張積層板及び多層プリント配線板
TWI492675B (zh) 可剝離之附銅箔基板及電路基板之製造方法
TW201611667A (zh) 附有剝離樹脂層之金屬箔及印刷配線板
JP3992225B2 (ja) プリント配線板用樹脂付金属箔及びこれを用いた多層プリント配線板
JP5256747B2 (ja) セミアディティブ法による銅配線絶縁フィルムの製造法、及びこれらから製造された銅配線絶縁フィルム
JP2004356238A (ja) 金属箔付き絶縁シート、多層配線板、及び多層配線板の製造方法
WO2010018790A1 (ja) マルチ導通部を有する多層積層回路基板
TWI481499B (zh) 兩張合成的單面金屬箔積層板及其製造方法以及單面印刷配線板及其製造方法
JP7201405B2 (ja) 多層配線板の製造方法
JP5077662B2 (ja) 多層配線基板の製造方法
KR100977329B1 (ko) 2장 합체 편면 금속박장 적층판 및 그의 제조 방법, 및,편면 인쇄 배선판 및 그의 제조 방법
JPH1126938A (ja) 内層回路入り積層板の製造方法
JP2006156760A (ja) リジッド・フレックスプリント配線板の製造方法
JPH0316196A (ja) 多層プリント基板の製造法
TWI796378B (zh) 附設有經圖案化之金屬箔之疊層體的製造方法及附設有經圖案化之金屬箔之疊層體
JP2010108984A (ja) プリント配線板の製造方法
JP2010062372A (ja) 多層積層回路基板の製造方法
KR920010177B1 (ko) 다층 프린트기판 및 그 제조법
JP2010050116A (ja) 多層積層回路基板
JPH10138395A (ja) 2枚合わせ片面金属はく張積層板及び片面プリント配線板の製造方法
JP2009130049A (ja) 多層プリント基板およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200880128448.4

Country of ref document: CN

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1020087012360

Country of ref document: KR

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 08739896

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 12935668

Country of ref document: US

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 08739896

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1