WO2008018599A1

WO2008018599A1 - Composés fluorés polymérisables et matériau de base traité ayant des régions hydrophiles et des régions hydrofuges

Info

Publication number: WO2008018599A1
Application number: PCT/JP2007/065773
Authority: WO
Inventors: Taiki Hoshino; Yutaka Furukawa
Original assignee: Asahi Glass Company, Limited
Priority date: 2006-08-11
Filing date: 2007-08-10
Publication date: 2008-02-14
Also published as: CN101501081A; TW200831544A; CN101501081B; US20090155549A1; US8338502B2; KR20090042784A; JPWO2008018599A1

Description

明細書

重合性含フッ素化合物、親水性領域と撥水性領域を有する処理基材技術分野

[0001] 本発明は、表面に親水性領域と撥水性領域を有する処理基材を製造するのに有用な重合性含フッ素化合物、該化合物を含む組成物、該処理基材、該処理基材を用いて機能性材料のパターンが形成された部材を製造する方法に関する。

背景技術

[0002] 半導体素子、ディスプレイ、発光素子などの分野において、多くの機能性薄膜が実用化されている。機能性薄膜は、所望の特性を有する材料を所望位置に配置させてノターン化したものである。該薄膜は、配線、電極、絶縁層、発光層、および光学薄膜等として利用される。

たとえば、フォトリソグラフィにより得たフォトレジストパターンはその一例である。しかしフォトリソグラフィの工程は複雑で、エネルギー、材料等の利用効率が低い。また、クリーンルーム内で実施するために設備コストが高価となる問題がある。

[0003] フォトリソグラフィの問題を解決する方法として、インクジェット法が提案されている。

しかしインクジェット法は、位置精度が低ぐ高精細なパターンの形成が困難であるため、予め基材表面上に、インクを受容しない撥水性領域とインクを受容する親水性領域をもつ下地膜を形成させて位置精度を上げる下記の（1)及び (2)の方法が提案されている。

[0004] (1)基材表面に親水性領域と撥水性領域とを形成する方法としては、具体的には、親水性の表面に含フッ素シランカップリング剤等の撥水性物質を塗布して撥水性の薄膜を形成し、光照射により該撥水性物質を分解し、つぎに除去する方法が挙げられる（特許文献 1参照）。該方法で得られた基材は、光照射部位のみが親水性表面になる。

(2)長波長の紫外線を用いる方法としては、酸化チタンのような光触媒を用いて撥水性の薄膜を分解する方法も知られて!/、る (特許文献 2参照）。

[0005] 特許文献 1 :特開 2000— 282240号公報特許文献 2：特開平 11 344804号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0006] 上記（1)の方法は、 200nm未満の高エネルギー光を必要とし、長時間の光の照射を必要とする方法である。また、該方法は大規模な設備、真空装置、高エネルギー光源などの特別な装置が必要になる。また、該方法は 200nm以下の高エネルギー光が用いられるため、パターンの薄膜中の有機物までもが分解し、親水性領域と撥水性領域のコントラストの低レ、パターンとなることがある。上記（2)の方法にお!/、ても、薄膜中の有機物を分解する問題がある。

[0007] 本発明は、コントラストの高い親水性領域と撥水性領域を表面に有する処理基材を、特別な装置や高エネルギー光、長時間の光の照射を必須とせず、低光量により短時間で製造するのに有用な重合性含フッ素化合物の提供を目的とする。また、本発明は、該処理基材の提供を目的とする。また、本発明は、該処理基材を用いて、機能性材料のパターンが形成された部材を製造する方法の提供を目的とする。

課題を解決するための手段

[0008] 本発明は以下を要旨とする。

(1)多価アルコールの誘導体であって、 1分子内に、 1個以上の下記構造 (A)と、 1 個以上の下記構造 (B)とを有することを特徴とする重合性含フッ素化合物。

構造 (A)：多価アルコールの水酸基の 1個に、 R^F基とカルボキシ基を有する化合物がエステル結合により結合した構造。ただし、 R^F基は、エーテル性酸素原子を含んで V、てもよ!/、フルォロアルキル基、またはエーテル性酸素原子を含んで!/、てもよ!/、フルォロアルケニル基を示す。

構造 (B)：多価アルコールの水酸基の 1個に、エチレン性二重結合とカルボキシ基を有する化合物がエステル結合により結合した構造またはエチレン性二重結合とイソシァネート基を有する化合物がウレタン結合により結合した構造。

(2)多価アルコールが糖類または糖誘導体である上記（1)に記載の重合性含フッ素化合物。

(3)構造 (A)は—CF COO 結合または CF (CF ) COO 結合を有する前記（1 )または (2)に記載の重合性含フッ素化合物。

(4) 3個以上の構造 (B)を有する前記（1)〜（3)の!/、ずれかに記載の重合性含フッ素化合物。

(5)前記（1 )〜（4)の!/、ずれかに記載の重合性含フッ素化合物と光重合開始剤とを含むことを特徴とする組成物。

(6) 4個以上の重合性官能基を有する多官能性化合物 (ただし、多官能性化合物は前記重合性含フッ素化合物以外の化合物である。）を含む前記（5)に記載の組成物

〇

(7)基材の表面に親水性領域と撥水性領域とを有する処理基材であって、前記撥水性領域が前記（5)または（6)に記載の組成物を硬化させた撥水性の膜からなることを特徴とする処理基材。

(8)親水性領域の水に対する接触角と撥水性領域の水に対する接触角の差が 50度以上である前記（7)に記載の処理基材。

(9)親水性領域のへキサデカンに対する接触角と撥水性領域のへキサデカンに対する接触角の差が 20度以上である前記（7)または（8)に記載の処理基材。

(10)撥水性の膜の厚みが 0·；!〜 lOOnmである前記（7)〜（9)のいずれかに記載の処理基材。

(11)親水性領域と撥水性領域が所望のパターンを形成してなる前記（7)〜（10)の V、ずれかに記載の処理基材。

(12)親水性の表面を有する基材の該表面に前記（5)または（6)に記載の組成物を含む塗膜を形成する工程、

ついで該塗膜の表面の一部に光を照射して組成物を硬化させ撥水性の膜を形成する工程、

ついで基材の表面に存在する未硬化の組成物を除去して親水性の表面を露出させる工程、

を含むことを特徴とする、基材の表面に親水性領域と撥水性領域とを有する処理基材の製造方法。

(13)親水性の表面を有する基材が、表面の親水化処理により得た基材である、前記 (12)に記載の製造方法。

(14) 200nm以上の波長を有する光を照射する、前記（13)に記載の製造方法。

(15)前記（11)に記載の処理基材の表面に機能性材料を含む液を塗布して、処理基材のパターンを形成した親水性領域に該液を付着させる工程、

ついで乾燥させることによって機能性材料のパターンを形成させる工程、を含むことを特徴とする、機能性材料のパターンが形成された部材の製造方法。

(16)前記（11)に記載の処理基材の表面に機能性材料を含む液を塗布して、処理基材のパターンを形成した親水性領域に該液を付着させる工程、

ついで乾燥させることによって機能性材料のパターンを形成させる工程、つ!/、で撥水性の膜を除去する工程、

を含むことを特徴とする、機能性材料のパターンが形成された部材の製造方法。

(17)アルカリ性水溶液を用いて洗浄することにより撥水性の膜を除去する前記（16) に記載の部材の製造方法。

発明の効果

[0009] 本発明の重合性含フッ素化合物を用いることにより、コントラストの高い親水性領域と撥水性領域を表面に有する処理基材を、大規模な設備、真空装置および高エネルギ一光源を用いることなく製造できる。すなわち、簡便な装置および光源を用い、低光量により短時間で、処理基材を製造できる。

また、本発明の処理基材を用いて、簡便に機能性材料のパターンが形成された部材を得ることができ、多くの用途に使用することができる。

図面の簡単な説明

[0010] [図 1]本発明の処理基材の製造方法の一態様を示す断面模式図である。

[図 2]本発明の部材の製造方法の一態様を示す断面模式図である。

[図 3]実施例の撥水親水パターンの形成された処理基材の SEM写真を示す。

符号の説明

[0011] 1 :基材

2 :親水性の表面

3：本発明の組成物を含む塗膜 4 :撥水性の膜

5 :フォトマスク

6 :光

7 :親水性領域

8 :撥水性領域

9：処理基材

10 :インクジェット装置

11 :機能性材料を含む液

12 :機能性材料

13：機能性材料のパターンが形成された部材

発明を実施するための最良の形態

[0012] 以下、アタリロイル基及びメタクリロイル基から選ばれた重合性官能基を意味する用語として (メタ）アタリロイル基を使用する。（メタ）アタリレートとはアタリレートまたはメタタリレートを意味する。

[0013] <重合性含フッ素化合物〉

本発明の重合性含フッ素化合物は、多価アルコールの誘導体である。このような多価アルコールとしては、以下の例が挙げられる。

エチレングリコーノレ、プロピレングリコーノレ、トリメチレングリコーノレ、 1 , 4 ブタンジオール、 2, 3 ブタンジオール、 1 , 5 ペンタンジオール、 1 , 6 へキサンジオール、グリセリン、ペンタエリスリトール等の脂肪族多価アルコール。

ジエチレングリコーノレ、トリエチレングリコーノレ、テトラエチレングリコーノレ、ジプロピレングリ: π—ノレ、ジグリセリン、トリグリセリン、テトラグリセリン、ジペンタユリスリトーノレ、トリペンタエリスリトール等の脂肪族多価アルコールの脱水縮合物。

[0014] 単糖類（ァロース、ァラビノース、フルクトース、ガラクトース、グルコース、グロース、リキソース、マンノース、ラムノース、リボース、ソノレボース、タガトース、タロース、キシロース等）、二糖類（セロビオース、ラクッロース、マルトース、メルビオース、パラチノース、スクロース、トレハロース等）、オリゴ糖類（マルトトリオース、ラフイノース、シクロデキストリン等）等の糖類。デォキシ糖（2—デォキシリボース、 2—デォキシガラタトース、 2—デォキシダルコース、フコース等）、ゥロン酸（ァスコルビン酸、ダルコン酸、ラタトビオン酸等）、ァミノ糖（ダルコサミン、グルカミン等）、糖アルコール（ァラビトール、エリスリトール、ガラクチトーノレ、ソノレビトーノレ、イノシトーノレ、マンニトール、タリトーノレ、キシリトーノレ、マルチトール、アド二トール等）等の糖誘導体。

[0015] これらの多価アルコールの中では、 4個以上の水酸基を有し、かつ有機溶剤への溶解性が高いものが好ましい。有機溶剤への溶解性が低いと、多価アルコールの誘導体を合成する際の容積効率が悪くなり、多量の溶媒が必要になる。このような多価アルコールとしては環状多価アルコールが好ましレ、。環状多価アルコールとしては、糖類または糖誘導体が好ましぐ中でも二糖類、オリゴ糖類、糖アルコールが好ましい。

[0016] 多価アルコールはその水酸基の 1個に、 R^F基とカルボキシ基を有する化合物がェステル結合により結合し、他の水酸基の 1個に、エチレン性二重結合とカルボキシ基を有する化合物がエステル結合により結合しまたはエチレン性二重結合とイソシァネ一ト基を有する化合物がウレタン結合により結合することから、多価アルコールの水酸基の数は 2個以上であり、 4個以上が好ましぐ 6個以上がより好ましい。水酸基の数の上限に制限はないが、 20個程度が好ましぐ 12個以下がより好ましい。

[0017] また、環状多価アルコールの水酸基はその多くが環に結合していることが好ましい。このような水酸基は分子の外側を向いており、該水酸基に導入されたエチレン性二重結合は重合反応しやす!/、と考えられるからである。

[0018] 本発明の重合性含フッ素化合物は、多価アルコールの水酸基の 1個に、 R^F基と力ルポキシ基を有する化合物がエステル結合により結合した構造 ( A)を 1個以上有す

[0019] R^F基の炭素数は、；!〜 12が好ましぐ 3〜； 12がより好ましい。 R^F基の構造は、直鎖構造、分岐構造、環構造、または部分的に環を有する構造が挙げられ、直鎖構造または分岐構造が好ましい。 R^F基は、エーテル性酸素原子を含んでいてもよいアルキル基、またはエーテル性酸素原子を含んでいてもよいアルケニル基の基中に存在する水素原子の 2個以上がフッ素置換された基であることが好ましぐエーテル性酸素原子を含んでレ、てもよ!/、ペルフルォロアルキル基、またはエーテル性酸素原子を含んで!/、てもよ!/、ペルフルォロアルケニル基がより好まし!/、。

[0020] R^F基の具体例としては、以下の基が挙げられる。

F(CF ) F(CF ) F(CF ) F(CF ) F(CF ) F(CF ) C

2 3 2 4 2 5 2 6 2 7 2 8

F CF OCF CF CF OCF CF OCF CF CF CF OCF CF CF CF

3 2 2 3 2 2 2 2 3 2 2 2 3 2 2

CF OCF CF CF CF OCF(CF ) CF CF CF OCF(CF )CF OCF(CF

2 2 3 2 2 3 3 2 2 3 2

)一。

3

[0021] 上記構造 (A)を形成するには、 R^F基を有するカルボン酸、 R^F基を有するカルボン酸ハロゲン化物又は R^F基を有する酸無水物が用いられる。なかでも、反応性と入手容易性の観点から、 R^F基を有するカルボン酸ノヽロゲン化物、特に RF基を有するカルボン酸フッ化物を用いることが好ましレ、。

[0022] R^F基を有するカルボン酸フッ化物としては、以下の化合物が挙げられる。

F(CF ) COF F(CF ) COF F(CF ) COF F(CF ) COF F(CF ) COF

2 3 2 4 2 5 2 6 2 7

F(CF ) COF CF CF OCF COF CF CF OCF CF OCF COF CF CF CF

2 8 3 2 2 3 2 2 2 2 3 2

OCF COF CF CF CF CF OCF COF CF CF CF OCF(CF )COF CF C

2 2 3 2 2 2 2 3 2 2 3 3

F CF OCF(CF )CF OCF(CF )COF

2 2 3 2 3

[0023] 上記構造 (A)は CF COO 結合または CF(CF ) COO 結合を有するのが

2 3

好ましい。すなわち、 R^F基を有するカルボン酸フッ化物として、カルボキシ基に結合する R^F基の末端は— CF—または— CF(CF )—であるのが好ましい。後述するよう

2 3

に、本発明の機能性材料のパターンが形成された部材の製造において、構造 (A)のエステル結合は加水分解しゃすいことが好ましぐエステル結合が CF COO 結

2 合一 CF(CF ) COO 結合であると特に加水分解しやすいからである。

3

[0024] 本発明の重合性含フッ素化合物は、多価アルコールの水酸基の 1個に、エチレン性二重結合とカルボキシ基を有する化合物がエステル結合により結合した構造またはエチレン性二重結合とイソシァネート基を有する化合物がウレタン結合により結合した構造である構造 (B)を 1個以上有する。このような構造を形成するには、以下の（ 1)及び（2)の方法が挙げられる。

(1)エチレン性二重結合を有する化合物として、エチレン性二重結合を有するカルボン酸、エチレン性二重結合を有するカルボン酸塩化物、またはエチレン性二重結合を有する酸無水物を用い、多価アルコールの水酸基とエステル結合を形成する方法

(2)エチレン性二重結合を有する化合物として、エチレン性二重結合とイソシァネート基を有する化合物を用い、多価アルコールの水酸基とウレタン結合を形成する方法

[0025] エチレン性二重結合を有するカルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビュル酢酸、クロトン酸、ィタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケィ皮酸が挙げられる。

エチレン性二重結合を有するカルボン酸塩化物としては、（メタ）アクリル酸塩化物が挙げられる。

エチレン性二重結合を有する酸無水物としては、無水マレイン酸、無水ィタコン酸、無水シトラコン酸、無水メチルー 5—ノルボルネンー 2, 3—ジカルボン酸、無水 3, 4, 5, 6—テトラヒドロフタル酸、無水 cis— 1 , 2, 3, 6—テトラヒドロフタル酸、無水 2—ブテュルコハク酸が挙げられる。

[0026] エチレン性二重結合とイソシァネート基を有する化合物としては、 2—（メタ）アタリ口イソシァネート、（メタ）アタリロイルォキシ基と水酸基を有する化合物とジイソシァネートとの 1： 1反応物が挙げられる。

[0027] 原料の入手容易性から、上記（1)の方法が好ましぐ反応容易性からエチレン性二重結合を有するカルボン酸ハロゲン化物を用いるのが特に好ましい。カルボン酸ハロゲン化物を用いた場合、上記 R^F基を有するカルボン酸フッ化物と該カルボン酸ハロゲン化物とを同時にあるいは連続的に多価アルコールと反応させることによって、構造 (A)と構造 (B)が同時にあるいは連続的に形成できるため、製造工程を短縮すること力 Sでさる。

[0028] 本発明の重合性含フッ素化合物におけるフッ素原子の含有率は 20 60質量％が好ましぐ 30 50質量％がょり好ましぃ。後述するが、重合性含フッ素化合物を含む組成物を硬化させた膜は撥水性のみならず撥油性も示す。フッ素原子の含有率が少なすぎると、重合性含フッ素化合物を含む組成物を硬化させた膜の撥水性 ·撥油性が劣るおそれがある。フッ素原子の含有率が多すぎると撥水性 ·撥油性は優れる

1S 有機溶媒への溶解性が悪くなり、基材への塗布が困難となるおそれがある。

[0029] 上記の観点から、本発明の重合性含フッ素化合物は、 1分子内に、 2個以上の構造

(A)を有するのが好ましい。

[0030] 本発明の重合性含フッ素化合物は、 1分子内に、 3個以上の構造 (B)を有するのが好ましぐ 4個以上の構造 (B)を有するのがより好ましい。重合性含フッ素化合物におけるエチレン性二重結合の数が多いほど該化合物が反応する確率は高くなり、光照射による硬化の感度が高くなる利点がある。

[0031] 上記の観点から、本発明の重合性含フッ素化合物は、 1分子内に、 2個以上の構造

(A)と、 3個以上の構造 (B)とを有するのが好まし!/、。

なお、本発明の重合性含フッ素化合物には、分子内に未反応の水酸基が残存していてもよい。

[0032] <組成物〉

本発明の組成物は、重合性含フッ素化合物と光重合開始剤とを含む。光重合開始剤としては、光を吸収してラジカルを発生することにより重合反応を開始させる物質であり、（メタ）アタリロイル基の重合反応を開始させる物質から選択されうる。例えば 2—ヒドロキシ一 2—メチルー 1—フエニルプロパン一 1 オン（メルク社製、ダロキュア 1173)、 1ーヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン（チノく'ガイギ一社製、イノレガキュア 184)、 1— (4 イソプロピルフエニル） 2 ヒドロキシ一 2 メチルプ口パン 1 オン（メルク社製、ダロキュア 1116)、ベンジルジメチルケタール（チバ' ガイギ一社製、ィルガキュア 651)、 2 メチルー 1 [4 （メチルチオ）フエニル ] 2 モルフォリノプロパンー1 オン（チノく'ガイギ一社製、ィルガキュア 907)、 2 ベンジル 2 ジメチルアミノー 1一（4 モルフオリノフエニル）ブタノン 1 (チバ 'ガイギ一社製、ィルガキュア 369)、 2, 4 ジェチルチオキサントン（日本化薬社製、カャキュア DETX)を好ましい例として挙げることができる。これらは単独で用いても、 2種類以上を混合して用いてもよい。光重合開始剤の量は、重合性含フッ素化合物の総量に対して 0. ；!〜 50質量％が好ましぐ；!〜 10質量％がより好ましい。

[0033] 本発明の組成物は、組成物の硬化を促進するのに有効であることから、重合性官能基を 4個以上有する多官能性化合物を含むことが好ましい。ただし、多官能性化合物は上記重合性含フッ素化合物以外の化合物である。特に重合性含フッ素化合物としてエチレン性二重結合の数が 3個以下のものを使用する場合は、上記多官能性化合物を含むことが好ましレ、。重合性含フッ素化合物としてエチレン性二重結合の数が 4個以上のものを使用する場合であっても、上記多官能性化合物を含むことは好ましい。多官能性化合物の重合性官能基は、（メタ）アタリロイル基が好ましい。

[0034] 該多官能性化合物の好ましい例としては、ペンタエリスリトールテトラ (メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールへキサ（メタ）アタリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アタリレート等が挙げられる。組成物中の多官能性化合物の量は、重合性含フッ素化合物の総量に対して 0.；! 10 0質量％が好ましぐ 5 50質量％がより好ましい。多官能性化合物の量が多すぎると、組成物を硬化させた膜からなる撥水性領域の撥水性が低くなるおそれがある。

[0035] <親水性領域と撥水性領域とを有する処理基材〉

本発明の組成物を用いて、基材の表面に親水性領域と撥水性領域とを有する処理基材を製造することができる。本発明の処理基材は、親水性の表面を有する基材の該表面に本発明の組成物を含む塗膜を形成する工程、ついで該塗膜の表面の一部に光を照射して組成物を硬化させ撥水性の膜を形成する工程、つ!、で基材の表面に存在する未硬化の組成物を除去して親水性の表面を露出させる工程、によって製造できる。

[0036] 本発明の処理基材は、例えば、図 1に示すように下記の工程 1 4によって製造できる。

工程 1 :基材 1の表面を親水化処理して表面を親水性の表面 2にする工程（図 1 (a) ) 工程 2 :ついで該表面 2に、本発明の組成物を含む塗膜 3を形成する工程（図 1 (b) ) 工程 3：つ!/、で塗膜 3の表面の一部に光 6を照射して組成物を硬化させ撥水性の膜 4 を形成する工程 (図 1 (c) )

工程 4：ついで基材の表面に存在する未硬化の組成物を除去して親水性の表面 2を露出させる工程（図 l (d) )。

[0037] 工程 1：

基材の表面が親水性を示すときは工程 1を省略することができる力基材の表面を親水化処理することが好まし!/、。

本発明における基材としては、ガラス；シリコンウェハ； Pd、 Pt、 Ru、 Ag、 Au、 Ti、 I n、 Cu、 Cr、 Fe、 Zn、 Sn、 Ta、 W、または Pb等の金属； PdO、 SnO 、 In O 、 PbO、

2 2 3 または Sb O等の金属酸化物； HfB 、 ZrB 、 LaB 、 CeB 、 YB、または GdB等の

2 3 2 2 6 6 4 4 硼化物； TiC、 ZrC、 HfC、 TaC、 SiC、または WC等の炭化物； TiN、 ZrN、または H fN等の窒化物； Sほたは Ge等の半導体；カーボン；ポリイミド、ポリスチレン、ポリェチレンテレフタレート、またはポリテトラフルォロエチレン等の樹脂；等の材料からなる基材から選択できる。ガラス、シリコンウェハー、金属酸化物またはポリイミドが好ましい

〇

[0038] 基材の形状としては、特に限定されず、平面、曲面、または部分的に曲面を有する平面が好ましぐ平面がより好ましい。また基材の面積も特に限定されず、従来の塗布方法が適用できる限りの大きさの面を有する基材を採用できる。また、本発明における基材の表面における処理は、平面上の基材の片面で行うのが好ましい。

[0039] 処理基材の製造にあたって予め基材の表面を洗浄することが好ましい。また、基材表面を親水化処理することも好ましぐさらに表面に親水性薄膜を有する基材を使用することも好ましい。これらの表面の処理は共通する方法で行うことができ、また、その処理がこれらの処理のいずれかであるかを区別しがたい場合もある。本明細書では、これらを全て基材の親水化処理とみなして、以下説明する。

基材の表面を親水化処理する方法としては、プラスチック、金属、ガラス、セラミックスなどの表面を親水化処理する一般的な方法が適用可能である。該方法としては、基材の表面を湿式洗浄する方法、基材の表面を湿式酸化する方法、基材の表面を光洗浄もしくは光酸化する方法、基材の表面に親水性化合物を塗布する方法、またはこれらを組み合わせた方法が例示できる。基材の材質が親水性である場合にはそのまま用いることもできる力 S、このような基材は通常汚れやすい。そのため、基材を使用前に湿式洗浄、光洗浄、またはこれらの組合せにより親水化処理することが好ましい。基材の材質が疎水性である場合、基材の表面を湿式酸化、光酸化、または親水性化合物の塗布により親水化処理することが好ましい。

[0040] 基材の湿式洗浄には、水、水系洗浄剤、または非水系洗浄剤（有機溶剤、フッ素系溶剤等）を使用できる。特に基材を水または界面活性剤を含んだ水系洗浄剤を用 V、て洗浄した後に、イソプロピルアルコールやエチルアルコール等の低沸点の有機溶剤を用いて、表面の異物や水分等を除去しつつ乾燥する方法が好ましい。さらに基材の種類や汚れの種類.程度に応じて、工程の追加、または工程の一部の省略ができる。有機系の汚れが付着した基材の湿式洗浄は、まず該汚れを除去するために

、ジクロロペンタフルォロプロパン（旭硝子社製 AK— 225 ; CF CF CHC1と CC1F

3 2 2 2

CF CHC1Fの混合物）等のフッ素系溶剤であらかじめ洗浄しておき、つぎに水系洗

2

浄剤または有機溶剤で基材を浸漬洗浄するのが好ましレ、。浸漬洗浄する際には、超音波洗浄を併用してもよい。ガラスについては、浸漬洗浄の代わりに、または浸漬洗浄とともに、酸化セリウム系微粒子を含む研磨剤で研磨洗浄し、純水ですすいで風乾して用いる方法を採用してもょレ、。

[0041] 基材の湿式酸化は、過酸化物等の酸化剤の水溶液を用いて表面を酸化する。酸化剤としては特に限定されず、硫酸、硝酸、過酸化水素、過硫酸カリウム、過硫酸ァンモユウム、過マンガン酸カリウム等が挙げられる。基材を湿式酸化する方法は該水溶液を基材の表面に塗布できるものであれば特に限定されず、スピンコート法、ディップコート法、スプレー法、ロールコート法等が採用できる。

[0042] 基材を光洗浄または光酸化する方法としては、 UV照射処理、 UV/O処理、ブラ

3 ズマ処理、コロナ放電処理、フレーム処理等があり、 UV/O処理が好ましい。

3

また、湿式洗浄のみでは微少な有機物の汚れ (例えば、中性洗剤の界面活性剤の残り滓、クリーンルームの浮遊物など）が残りやすい。これに対して、上述の光洗浄は、そのおそれがない。従って、最初に、湿式洗浄で比較的大きな汚れを除去し、その後、光洗浄により洗浄する方法も好ましい。

[0043] 基材の表面の親水化処理に用いうる親水性化合物としては、ポリ（ビュルアルコーノレ）、ポリ（ビュルピロリドン）、ポリ（エチレングリコール）等の親水性ポリマー；グリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビトール等の多価アルコール等がある。また、基材表面に反応して表面にシラノール基等の親水性残基を形成する親水化処理化合物としては、 Si (OCH ) 、 Si (OCH CH ) 、 [ (CH ) Si] NH、 H— Si (OCH CH ) 、 NH

3 4 2 3 4 3 3 2 2 3 3

CH CH CH Si (OCH CH ) 等の加水分解性基を有するシラン化合物または

2 2 2 2 2 3 3

該化合物の一部または全部が加水分解物された化合物、または該化合物の加水分解縮合物が挙げられる。

[0044] 親水性化合物は溶媒に溶解させた溶液として塗布することが好まし!/、。親水性ポリマーや多価アルコールは水に溶解させることが好ましぐシラン化合物はイソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒に溶解させることが好ましい。溶液中の親水性化合物の濃度は 0. 01〜； 10質量％が好ましぐ 0.；!〜 1質量％がより好ましい。

基材への塗布方法は特に限定されず、スピンコート法、ディップコート法、スプレー法、ロールコート法、メニスカスコート法、スクリーン印刷法等が採用できる。

[0045] 基材の表面が異なる材料で形成されている場合の親水化処理として、親水性化合物を塗布する方法を採用すると、異なる材料の表面に対して同じ親水性を付与することができるので好ましい。

[0046] 工程 2：

親水性の表面を有する基材の表面に本発明の組成物を含む塗膜を形成するには、組成物を基材に塗布後、乾燥するのが好ましい。組成物は溶媒を含む溶液として塗布するのが好ましい。溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類；酢酸ェチル、酢酸ブチル等のエステル類；へキサン等の炭化水素類が好ましい。溶液中の固形分濃度は 0. 0；!〜 50質量％が好ましぐ 0.；!〜 10質量％がより好ましい。

[0047] 塗布する方法としては、スピンコート、ディップコート、ワイヤーバーコート、ブレードコート、ロールコートなどの方法が採用できる。塗布は、室温下または加熱下で行うことが好ましい。また塗布後の基材は、大気中または窒素気流中等で乾燥されることが好ましい。該乾燥は室温で行うのが好ましい。乾燥を加熱下で行う場合には、基材の材質の耐熱性によって温度および時間を適宜変更するのが好ましい。

[0048] 工程 3：

塗膜を形成後、塗膜の表面の一部に光を照射する。光照射に用いる光は、波長 20 Onm以上の光が好ましぐ波長 300nm以上の光がより好ましい。また、波長 380nm 以下の光が好ましぐ波長 365nm以下の光がより好ましい。波長 200nm以上の光は、基材を分解するおそれが少ない利点がある。また、波長 380nm以下の光照射により重合を開始させる光重合開始剤は入手しやすぐ光源も安価である。照射時間は、光の波長、光の強度'光源の種類、組成物の種類等に応じて、適宜変更しうる。超高圧水銀ランプの場合、 2〜； !OOmw/cm²で 5〜120秒照射すればよい。高圧水銀ランプの場合は一般に、超高圧水銀ランプより短時間の照射でよい。

[0049] 光源としては、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ナトリウムランプ、窒素等の気体レーザー、有機色素溶液の液体レーザー、無機単結晶に希土類イオンを含有させた固体レーザー等が挙げられる。また、単色光が得られるレーザー以外の光源としては、広帯域の線スペクトル、連続スペクトルをバンドノスフィルター、カットオフフィルタ一等の光学フィルターを使用して取出した特定波長の光を使用してもよい。一度に大きな面積を照射することができることから、光源としては高圧水銀ランプまたは超高圧水銀ランプが好ましい。

[0050] 光の照射はフォトマスクを介して光を照射することが好ましい。この方法により、膜の表面の所望の領域でのみ硬化反応を起こすことが可能であり、親水性領域と撥水性領域が所望のパターンを形成した処理基材を得ることができる。本発明における所望のパターンとは、用途によりそのパターンは異なる力例えば、線状、ドット状、リング状、格子状、ハニカム状等の繰返しパターンや、用途に応じた配線、電極、絶縁層、発光層等のパターン等であり、間隔は、例えば 0. 5 111〜； lcmである。

[0051] 光照射する雰囲気は任意に選択することができる。膜厚 lOOnm以下の組成物を硬化させた撥水性の膜を形成する場合には、酸素による硬化阻害を受ける場合があるため、窒素ガス雰囲気等の不活性ガス雰囲気下に光照射するのが好ましい。不活性ガスとしては、窒素、アルゴン、ヘリウム、二酸化炭素等から選ばれるガスが挙げられ、安価に入手できるため窒素ガスが最も好ましい。

[0052] 光照射は、基材が光照射に用いる光を透過する波長の光であれば、基材のどちらの面側から行ってもよぐ通常は基材の組成物を含む膜の面側から光照射を行うのが好ましい。 [0053] フォトマスクを解した光やレーザー光を用いて光照射を行った場合には、親水性領域と撥水性領域が所望のパターンを形成してなる処理基材が得られる。また、親水性領域と撥水性領域の線幅が 10 m以下であるパターンを形成できる。

[0054] 工程 4：

組成物を硬化させた撥水性の膜を形成した後、基材の表面に存在する未硬化の組成物を除去する。未硬化の組成物を除去することにより、親水性の表面を露出させることとなる。未硬化の組成物を除去する方法としては、重合性含フッ素化合物が低分子量である場合には、窒素気流を吹き付けて除去する方法が好ましい。重合性含フッ素化合物が高分子量である場合には、容易に蒸発しないため、重合性含フッ素化合物が残存する表面を有機溶媒で洗浄するのが好まし!/、。洗浄に用いる有機溶媒としては、重合性含フッ素化合物を溶解する溶媒が好ましい。該有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒；酢酸ェチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；へキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。

[0055] 上記のようにして、基材の表面に親水性領域と、撥水性領域とを有する処理基材が提供される。親水性領域と撥水性領域は、水に対する接触角で区別できる。本明細書では該接触角は、実施例に記載する静滴法による測定値で表す。

[0056] 親水性領域の水に対する接触角は、 50度以下が好ましぐ 40度以下がより好ましく、 20度以下が特に好ましい。撥水性領域の水に対する接触角は、 80度以上が好ましぐ 100度以上がより好ましぐ 110度以上が特に好ましい。

親水性領域の水に対する接触角と撥水性領域の水に対する接触角の差は 50度以上であるのが好ましぐ 70度以上がより好ましぐ 80度以上が特に好ましい。

[0057] 本発明の処理基材における撥水性領域は、本発明の重合性含フッ素化合物を含む組成物を硬化させた撥水性の膜からなるため、水だけでなく有機溶剤に対しても撥液性を奏する。撥水性領域が有機溶剤に対して撥液性を奏するため、相対的に親水性領域は有機溶剤に対して親液性を奏する。

[0058] 親水性領域のへキサデカンに対する接触角は、 40度以下が好ましぐ 30度以下がより好ましく、 20度以下が特に好ましい。撥水性領域のへキサデカンに対する接触角は、 40度以上が好ましぐ 50度以上がより好ましぐ 60度以上が特に好ましい。親水性領域のへキサデカンに対する接触角と撥水性領域のへキサデカンに対する接触角の差は 20度以上であるのが好ましぐ 30度以上がより好ましぐ 40度以上が特に好ましい。

[0059] 後述する機能性材料を含む液を塗布した場合、親水性領域と撥水性領域の接触角の差が大きレ、ほど、撥水性領域と親水性領域にまたがった機能性材料を含む液は親水性領域に流れ込みやすくなり、機能性材料を含む液を乾燥させることで得られる機能性材料のパターンは撥水性領域と親水性領域とのパターンをより正確に再現できる。

また、親水性領域の接触角の絶対値が小さ!/、ほど、機能性材料を含む液は親水性領域で良く濡れ広がり、機能性材料を含む液を乾燥させることで得られる機能性材料のパターンの膜厚をより均一にすることができる。

[0060] 本発明にお!/、て、基材としてプラスチック基板等のフレキシブル基板を用いた場合には、ロールツーロール法（Roll to Roll法）が実施できるように設置した複数の口ールと、複数のロールの間に露光機を設置して基板への光照射を行うことにより、高スループットで処理基材を得ることができる。

[0061] <機能性材料のパターンが形成された部材〉

親水性領域と撥水性領域が所望のパターンを形成してなる処理基材を用いて、機能性材料のパターンが形成された部材を製造することができる。本発明の部材は、処理基材の表面に機能性材料を含む液を塗布して、処理基材のパターンを形成した親水性領域に該液を付着させる工程、つ!/、で乾燥させることによって機能性材料のパターンを形成させる工程、必要に応じて、撥水性の膜を除去する工程によって製造できる。

[0062] 本発明の機能性材料のパターンが形成された部材は、例えば、図 2に示すように下記の工程 5、 6、必要に応じて工程 7によって製造できる。

工程 5：処理基材 9の表面に機能性材料を含む液 11を塗布して（図 2 (e) )、処理基材のパターンを形成した親水性領域 7に該液 1 1を付着させる工程（図 2 (f) )。

工程 6 :ついで乾燥させることによって機能性材料 12のパターンを形成させる工程（図 2 (g) )。工程 7：つ!/、で撥水性の膜 4からなる撥水性領域 8を除去する工程（図 2 (h) )。

[0063] 工程 5：

機能性材料としては、金属配線を形成する金属粒子分散ペースト、カラーフィルタを形成する色素材料、電子デバイス '有機ディスプレイを形成するセラミック材料、有機半導体材料等が挙げられる。

[0064] 機能性材料を含む液とは、機能性材料を水、有機溶剤、またはそれらの混合物に溶解または分散させた液体もしくは液状体をレ、う。本発明の処理基材の撥水性領域にお!/、ては前述のとおり撥油性をも示すため、上記有機溶剤としては極性の低!/、有機溶剤も使用できる。有機溶剤としては、特に限定されず、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類； n—ペンタン、 n—へキサン、 n—ヘプタン、 n—オクタン、デカン、ドデカン、テトラデカン、へキサデカン、ォクタデカン、シクロへキサン、トノレェン、キシレン、テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン等の炭化水素類；エチレングリコーノレジメチノレエーテノレ、エチレングリコーノレジェチノレエーテノレ、エチレングリコーノレメチノレエチノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレジメチノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレジェチノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレメチノレエチノレエーテル、テトラヒドロフラン、ジォキサン等のエーテル系化合物；プロピレンカーボネート、 γ—ブチロラタトン、 Ν—メチルー 2—ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロへキサノン等の極性化合物が上げられる。これらのうち、溶解性、分散性、それらの安定性の点で、好適な溶媒を選択することが好ましい。これらの有機溶媒は、単独で使用してもよぐ 2種以上の混合物として使用してもよい。

[0065] 液の塗布方法としては、スピンコート、ディップコート、ワイヤーバーコート、ブレードコート、ロールコート等の塗布方法、スクリーン印刷、インクジェット法等の特定領域への印刷方法が挙げられる。これらのうち、親水性領域と撥水性領域とからなるパターン上の親水性領域に選択的に塗布することが可能という点で、スクリーン印刷、インクジェット法が好ましい。

[0066] 工程 6：

塗布後の基材を乾燥させ、工程 5で用いた溶剤を除去することによって、機能性材料のパターンが形成された部材が得られる。乾燥は大気中または窒素気流中等で行うことが好ましい。また、乾燥は室温または加熱下で行うのが好ましい。乾燥を加熱下で行う場合には、基材の材質の耐熱性によって温度および時間を適宜変更するのが好ましい。

[0067] 工程 7：

機能性材料のパターンが形成された部材にお!/、て、さらに撥水性の膜を除去したものは電子素子として有用である。撥水性の膜を除去するのは、該部材を電子素子として使用する場合に、撥水性の膜が素子の動作に影響するおそれがあるからであ

[0068] 撥水性の膜の除去には、アルカリ性水溶液を用いて洗浄することが好ましい。アルカリ性水溶液によって撥水性の膜が除去できる理由については定かでないが、本発明者らは以下のように考えている。本発明において、撥水性の膜には重合性含フッ素化合物の重合体が存在する。該重合体は R^F基とカルボキシ基を有する化合物がエステル結合により結合した構造 (A)を持ち、該エステル結合はアルカリ性条件下に加水分解されて、 R^F基を有するカルボン酸の塩およびアルコールを生成する。 R^F基を有するカルボン酸の塩は水に溶解する。アルコールは重合体の一部である力多価アルコールであるため水に溶解しうる。アルカリ性水溶液としては、アルカリ金属水酸化物（水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）の水溶液もしくはメタノール溶液、テトラメチルアンモニゥム水酸化物の水溶液もしくはメタノール溶液が挙げられる力なかでも、水酸化ナトリウムの水溶液が好ましい。

[0069] このように除去しやすさの観点から、撥水性の膜の厚みは、薄いほうが好ましい。 0 . ；!〜 lOOnmカ好ましく、 0. ；!〜 50nmカより好ましく、 0. ；!〜 lOnmカ特に好ましレヽ

〇

実施例

[0070] 以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。

[0071] [例 1]重合性含フッ素化合物 (a)の合成

200mL三つ口フラスコにスクロース（1. Og)、トリエチノレアミン（3. Og)および重合禁止剤としてヒドロキノン（lOmg)をジメチルホルムアミドの 50mLに溶解した。氷浴下、スクロース 1当量に対して 4当量のアタリロイノレクロリドをゆっくりと滴下した。 1時間室温で撹拌した後、氷浴下、スクロース 1当量に対して 4当量のペルフルォロカルボン酸フッ化物 CF CF CF OCF (CF ) COFをゆっくりと滴下した。さらに室温で 3時

3 2 2 3

間撹拌し、 lOOmLの蒸留水を加え、 50mLのジクロ口ペンタフルォロプロパン（旭硝子社製、商品名 AK— 225、以下 R225と略す。）を加えて抽出した。 lOOmLの蒸留水で 3回洗浄し、溶媒を留去して生成物を得た。

[0072] 生成物におけるアタリロイル基と CF CF CF OCF (CF ) CO 基の比率（モル比）

3 2 2 3

は 1H— NMR、および¹⁹ F— NMRの内標分析により以下のように算出した。内部標準物質として 1 , 3—ビス（トリフルォロメチル)ベンゼンを用いた。アタリロイル基の含有量は、 NMRにて内部標準物質のベンゼン環に結合したプロトン（4H)と 5. 9 〜6. 5ppmのアタリロイル基のプロトン（3H)の積分比から求めた。また、 CF CF CF

3 2

OCF (CF ) CO 基の含有量は、 ¹⁹F— NMRにて内部標準物質のフッ素（6F)と C

2 3

F CF CF OCF (CF ) CO 基のフッ素の積分比から、それぞれの比率を算出した

3 2 2 3

。比率の合計を原料である多価アルコールの水酸基の数とした値を表 1に示した。

[0073] [例 2〜6]重合性含フッ素化合物 (b)〜（f )の合成

重合性含フッ素化合物（a)の合成において、多価アルコールの種類、アタリロイノレクロライドの量、ペルフルォロカルボン酸フッ化物の種類および量を表 1のように変更した以外は同様にして、重合性含フッ素化合物 (b)〜（f)を得た。

[0074] [表 1]

[0075] なお、表 1において、ペルフルォロカルボン酸フッ化物は以下の意味を示す。

x : CF CF CF OCF (CF ) COF,

3 2 2 3

y : CF CF CF OCF (CF ) CF OCF (CF ) COF。 [0076] [例 7]組成物の調製

サンプル瓶に溶媒としてイソプロパノール (以下 IPAと略す）（2· 5g)をとり、光重合開始剤（IRGACURE 907、チノく'ガイギ一社製）の 1 %IPA溶液（0· 06g)を加えた。これに重合性含フッ素化合物（a)の 10%溶液（0. lg、溶媒: IPA)を加えた。サンプル瓶を数回振って溶液を混合させ、組成物（al)を調製した。これを塗布溶液として、以下の工程において使用した。

[0077] [例 8〜； 16]組成物の調製

組成物 1の調整において、重合性含フッ素化合物の種類および溶媒、ジペンタエリスリトールへキサアタリレート溶液の添加の有無を表 2のように変更した以外は同様にして、表 2に記載の各組成物を得た。なお、ジペンタエリスリトールへキサアタリレート溶液の添加とは、組成物を調製にあたり、ジペンタエリスリトールへキサアタリレート（以下 DPHAと略す）の 1 %IPA溶液（0· 2g)をさらに加えたことを意味する。

[0078] [表 2]

[例 17]処理基材の作製

(基板の洗浄）

5cm四方のシリコンウェハをエタノールで洗浄後、 UV/O洗浄した。

3

(組成物の塗布）

例 7で作製した組成物 alを洗浄後のシリコンウェハにスピンコート（3000rpm、 20 秒）して、塗膜を形成した。

(光照射）得られた塗膜の表面に、窒素雰囲気下、膜側から、開孔パターン（2. 5cm X 5cm) を有するフォトマスクを介して、超高圧水銀ランプを用いて照射した。下記に示す光照射条件のうち、条件 1を採用した。

条件 1： 365nmを 85mW/cm²の強度で 30秒間照射。

条件 2： 365nmを 50mW/cm²の強度で 10秒間照射。

(基材の洗浄）

光照射後の基材を、 IPAでリンスした後、エタノールでリンスし、窒素気流で乾燥したものを処理基材とした。

[0080] [例 18〜28]処理基材の作製

例 17の処理基材の作製において、塗布する組成物、光照射条件を表 3のように変更した以外は同様にして、各処理基材を得た。

[0081] 例 17〜28において作製された処理基材について、以下の評価を行った。

(接触角の測定）

処理基材の表面の水およびへキサデカンに対する接触角を測定した。水に対する接触角は、静滴法により、 JIS R3257「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」に準拠して、基材上の測定表面の 3ケ所に水滴を載せ、各水滴について測定した。液滴は 2 し/滴であり、測定は 20°Cで行った。接触角は、 3測定値の平均値 (n = 3)で示す。へキサデカンに対する接触角も同じ方法で行った。結果を表 3に示す。

[0082] (アルカリ水溶液による撥水性の膜の除去）

処理基材を水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、撥水性の膜の除去の程度を以下のように評価した。結果を表 3に示す。

◎ : 0. lmol/L水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、水に対する接触角が 10度以下になった場合、

0 : 1. Omol/L水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、水に対する接触角が 10度以下になった場合、

X : 1. Omol/L水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、水に対する接触角が 10度以下にならなかった場合。

[0083] [表 3] 例組成物光照射接触角（度）撥水膜の除去性

条件水へキサデ力ン

照射部遮光部照射部遮光部

1 7 a 1 1 1 0 8 1 7 6 1 2 4 ◎

1 8 a 1 2 1 0 2 1 7 4 6 2 5 ◎

1 9 a 2 1 1 0 4 3 2 6 2 2 9 ◎

2 0 a 2 2 1 0 5 3 1 5 8 1 8 ◎

2 1 b 1 1 1 0 2 7 5 9 1 9 ◎

2 2 b 2 1 1 0 2 1 1 6 0 2 5 ◎

2 3 c 1 1 9 8 2 8 4 9 1 6 ◎

2 4 c 2 1 9 8 3 2 4 5 1 0 ◎

2 5 d 1 1 1 1 1 1 2 6 2 1 8 o

2 6 e 1 1 1 0 8 2 5 5 8 1 2 〇

2 7 e 2 1 1 0 8 3 1 6 0 1 8 〇

2 8 f 1 1 1 0 5 2 3 5 9 2 2 ◎

[0084] 例 17〜28において、親水性領域と撥水性領域とを有する処理基材の形成が確認された。組成物に DPHAを添加しない例 17と例 18では、光照射量の多い例 17が光照射量の少ない例 18に比べ、光照射部のへキサデカンに対する接触角が高ぐ組成物に DPHAを添加した例 19と例 20では光照射量の影響が少ないことがわかる。

[0085] [例 29] (比較例）

例 17において、組成物 alを塗布する代わりに CH =C (CH ) COOCH CH CF

2 3 2 2 2

CF CF CF CF CFを用いた以外は同様の方法により、処理基材を作製した。接触

2 2 2 2 3

角を測定したが、撥水性は全く見られなかった。

[0086] [例 30]撥水親水パターンの形成された処理基材の作製

光照射の際に 10 mL/Sのフォトマスクを用いた以外は例 17と同様の操作を行い、親水性領域と撥水性領域のパターンを有する処理基板を得た。

サンプル表面を SEMにより観察した。写真を図 2に示す。幅 10 mの明喑パターンの形成が確認された。撥水性領域の膜厚を AFMにより測定したところ、 6〜； l lnm であり、 10点の平均値は 8. 3nmであった。

産業上の利用可能性

[0087] 本発明によれば、大規模な設備、真空装置および高エネルギー光源を用いることなく親水性領域と撥水性領域とからなる微細なパターンを形成できる。該パターン面に、インクジェットを利用して機能性インクを噴射した場合には、親水性領域にのみ機能性インクが保持され、撥水性領域には保持されな!、ことから、基材を機能性インクでパターユングできる。また本発明は電子デバイスの回路形成にも応用できる。また、撥水親水パターンを有する薄膜は、親水性領域に機能性インクを含ませ、別の基材に転写することもできる。なお、 2006年 8月 11曰に出願された曰本特許出願 2006— 219780号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims

請求の範囲

[1] 多価アルコールの誘導体であって、 1分子内に、 1個以上の下記構造 (A)と、 1個以上の下記構造 (B)とを有することを特徴とする重合性含フッ素化合物。

[2] 多価アルコールが糖類または糖誘導体である請求項 1に記載の重合性含フッ素化合物。

[3] 構造 (A)は— CF COO—結合または— CF (CF ) COO—結合を有する請求項 1

2 3

または 2に記載の重合性含フッ素化合物。

[4] 3個以上の構造 (B)を有する請求項 1〜3のいずれかに記載の重合性含フッ素化合物。

[5] 請求項;!〜 4のいずれかに記載の重合性含フッ素化合物と光重合開始剤とを含むことを特徴とする組成物。

[6] 4個以上の重合性官能基を有する多官能性化合物 (ただし、多官能性化合物は前記重合性含フッ素化合物以外の化合物である。 )を含む請求項 5に記載の組成物。

[7] 基材の表面に親水性領域と撥水性領域とを有する処理基材であって、前記撥水性領域が請求項 5または 6に記載の組成物を硬化させた撥水性の膜からなることを特徴とする処理基材。

[8] 親水性領域の水に対する接触角と撥水性領域の水に対する接触角の差が 50度以上である請求項 7に記載の処理基材。

[9] 親水性領域のへキサデカンに対する接触角と撥水性領域のへキサデカンに対する接触角の差が 20度以上である請求項 7または 8に記載の処理基材。

[10] 撥水性の膜の厚みが 0. ；!〜 lOOnmである請求項 7〜9のいずれかに記載の処理基材。

[11] 親水性領域と撥水性領域が所望のパターンを形成してなる請求項 7〜； 10のいずれかに記載の処理基材。

[12] 親水性の表面を有する基材の該表面に請求項 5または 6に記載の組成物を含む塗膜を形成する工程、

[13] 親水性の表面を有する基材が、表面の親水化処理により得た基材である、請求項

12に記載の製造方法。

[14] 200nm以上の波長を有する光を照射する、請求項 13に記載の製造方法。

[15] 請求項 11に記載の処理基材の表面に機能性材料を含む液を塗布して、処理基材のパターンを形成した親水性領域に該液を付着させる工程、

[16] 請求項 11に記載の処理基材の表面に機能性材料を含む液を塗布して、処理基材のパターンを形成した親水性領域に該液を付着させる工程、

[17] アルカリ性水溶液を用いて洗浄することにより撥水性の膜を除去する請求項 16に記載の部材の製造方法。