WO2007034572A1 - 亜鉛系めっき鋼板の表層酸化膜の膜厚測定方法 - Google Patents

亜鉛系めっき鋼板の表層酸化膜の膜厚測定方法 Download PDF

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zinc
steel sheet
oxygen
plated steel
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Hisato Noro
Masayasu Nagoshi
Shoichiro Taira
Yoshiharu Sugimoto
Shigeomi Sato
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Jfe Steel Corporation
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    • G01N23/225Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
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    • G01B15/00Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
    • G01B15/02Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring thickness

Definitions

  • This paper relates to a technique for quickly measuring the thickness of an oxide film with a thickness of 10 nm to 100 nm formed on the surface layer of a zinc-based plated steel sheet.
  • surface coatings with a thickness of several tens to several hundreds of nanometers may be the dominant factor in product characteristics.
  • surface layer thin films with a thickness of several tens to several hundreds of nanometers are the dominant factors in the press forming characteristics of products.
  • zinc-based plating is often applied to steel plates used in automobiles and home appliances from the viewpoint of high corrosion resistance.
  • press cracking of steel sheets is likely to occur at the V ⁇ part due to severe processing.
  • Patent Documents 1 to 3 the surface of the zinc-based plated steel sheet A technique for improving weldability or workability by forming an oxide film mainly composed of zinc oxide by applying electric field treatment, immersion treatment, coating oxidation treatment, or heat treatment is disclosed.
  • Patent Document 4 the surface of a dumbbell steel plate is immersed in a plated steel plate in an aqueous solution containing sodium phosphate 5-60 g / l and pH 2-6, or is subjected to electrolytic treatment or the above aqueous solution is applied.
  • a technique is disclosed in which an oxide film mainly composed of phosphorus oxide is formed to improve press formability and chemical conversion property.
  • press formability optimizing treatment is performed by forming Ni oxide on the surface of zinc-based plated steel sheets by electrolytic treatment, immersion treatment, coating treatment, coating oxidation treatment, or heat treatment. A technique for improving the performance is disclosed.
  • an oxygen-containing film (oxide film) that has a lubricating action on the surface of the plating layer
  • Technologies for evaluating the oxide film thickness include: (1) a method that measures information in the depth direction by combining surface analysis techniques such as Auger electron spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy and ion etching, and (2) a cross-section sample. And a method of observing with a transmission electron microscope from the film thickness direction, and (3) an optical technique such as ellipso using the interference effect of light in a thin film.
  • Patent Document 1 JP-A-53-60332
  • Patent Document 2 JP-A-2-190483
  • Patent Document 3 JP 2004-3004 A
  • Patent Document 4 Japanese Patent Laid-Open No. 4-88196
  • Patent Document 5 Japanese Patent Laid-Open No. 3-191093 Disclosure of Invention
  • the method (1) it is necessary to measure the sample in an ultra-high vacuum, so even if a device equipped with a pre-evacuation device is used, it takes several tens of minutes to several hours to evacuate. However, it takes a minimum of several hours to measure one sample because it repeats known ion etching to measure oxidation.
  • the method of (2) it takes at least half a day to adjust one sample, about one hour to observe the adjusted sample with a transmission electron microscope, and several hours to develop the taken electron micrograph. Thickness evaluation takes about one day at the shortest.
  • the optical method using the interference action of (3) is suitable for evaluating the film thickness of a sample having a thin film to be evaluated on a flat substrate such as a thermal oxide film formed on a silicon wafer. .
  • a flat substrate such as a thermal oxide film formed on a silicon wafer.
  • the present invention has been made in view of such circumstances, and the thickness ⁇ ⁇ formed on the surface layer of the zinc-based plated steel sheet!
  • the main objective is to provide a technique for measuring the thickness of an oxide film of lOOnm quickly and with high accuracy.
  • the main purpose is to evaluate the press formability of the plated steel sheet provided with the measured oxidation ff.
  • an electron beam micro-analyzer is a sample-containing element generated by irradiating a sample with an electron beam.
  • Characteristic X-ray intensity measurement equipment is used under certain conditions, the accuracy of oxidation Mff of thickness lOnm formed on the surface layer of zinc-based steel sheets We found that it can be measured well.
  • the present invention has been made based on the above findings, and the gist thereof is as follows.
  • the thickness ⁇ ⁇ formed on the surface layer of the zinc-based plated steel plate It is possible to measure the thickness of ⁇ lOOnm oxide film quickly and accurately. Moreover, it becomes possible to evaluate the press formability of the plated steel sheet from the measured oxidation JKff.
  • Figure 1 shows an example of a Monte Carlo simulation showing the internal diffusion behavior of an electron beam when a zinc oxide thin film with a thickness of lOOnm on a zinc-based plating is irradiated with an electron beam at various acceleration voltages.
  • Fig. 2 shows the characteristic X-ray spectrum of oxygen measured using a silicon oxide film formed on a silicon wafer under a wave height analyzer condition with a window width changed at an acceleration voltage of 5 kV.
  • A shows the window width. Open
  • (b) shows the results for a suitable window width
  • (c) shows the results for a window width that is too narrow.
  • Fig. 3 shows the characteristic X-ray spectrum of oxygen measured using the zinc oxide thin film formed on zinc under the same conditions as in Fig. 2.
  • Fig. 4 shows the same spectrum as Fig. 3 except that the acceleration voltage is changed to 15 kV: ⁇ .
  • FIG. 5 is a graph showing the correlation between the oxide film thickness of the flat portion of the galvannealed steel sheet and the number of coatings.
  • FIG. 6 is a diagram showing the correlation between the average oxidation TO of the hot dip galvanized steel sheet and the number of friction.
  • EPMA electron probe micro-analyzer
  • the oxide film may be a microscopically discontinuous oxygen-containing material.
  • ⁇ ? Means the thickness when converted to a dense and uniform film. .
  • the wavelength component used for ⁇ is included in the oxide film and underlayer in the ⁇ -ray analyzer. Characteristic of zinc to be observed If the secondary line of X-rays (Zn-Lo; Zn-L / 3 line) overlaps with the oxygen characteristic X-ray detection position (detection angle) Don't be. This overlap occurs because the characteristic X-rays of zinc cause second order diffraction by the spectroscopic crystal.
  • oxygen characteristic X-rays can be obtained from an ultra-thin oxide film formed on the surface layer of a zinc-based steel sheet at a normal acceleration voltage (approximately 15 kV). Even when trying to detect it, it actually detects a large amount of characteristic X-rays of zinc generated from the substrate.
  • a pulse height analyzer is a device that has the function of selecting only the characteristic X-rays of the element of interest using the difference in energy of characteristic X-rays.
  • Fig. 1 shows the results of a computer simulation when an electron beam focused on a zinc oxide (ZnO) thin film with a thickness of lOOnm covering zinc-based plating is irradiated at various acceleration voltages. .
  • the reason why the film thickness is set to lOOnm in this simulation is that the upper limit of the thickness of the oxide film targeted by the present invention is lOOnm.
  • the acceleration voltage is too high, a large amount of characteristic X-rays are generated from the underlying zinc, so even if a wave height analyzer is used, it is inevitable that it will be detected at the oxygen detection position. Oxygen characteristics Only X-rays cannot be measured efficiently.
  • the upper limit of the acceleration voltage determined by this constraint is 6 kV.
  • the electron beam can be narrowed down to the front and back probe diameters to measure any location on the sample surface. For this reason, for example, even in the case of an oxide film formed on an uneven base such as a galvannealed steel sheet, if the flat part formed during temper rolling is irradiated with an electron beam, the underlying rough The oxide film thickness of the portion can be measured without being influenced by the thickness. Therefore, this effort is based on galvannealed steel sheets and galvanized steel sheets (sub-plating that has not been alloyed after galling). It is suitable as a method for measuring an oxide film formed on the surface layer of a steel plate.
  • the sample stage can be driven while being controlled by a computer, the irradiation position of the electron beam probe is scanned by this method, and the distribution of the oxide film thickness and the average oxide film thickness are measured at the critical area. It can also be measured. '
  • the oxide film thickness of the unknown sample can be expressed by converting it to the oxide film thickness of the standard sample. it can.
  • the device configuration of the kite is almost the same as that of a scanning electron microscope equipped with a wavelength dispersive X-ray spectrometer. Therefore, the same oxidation soot measurement can be performed using a scanning electron microscope equipped with a wavelength dispersion X-ray detector instead of soot.
  • the plating components of the zinc-based plated steel sheet targeted by the present invention include iron, chromium, nickel, silicon, aluminum, magnesium, lead, antimony, tin, manganese, titanium, lithium, and copper. Even if an element is added, the effect of the present invention is not impaired. '
  • the sample is cut into a size that can be placed on the sample stage used for the measurement, and then ultrasonically washed with an organic solvent-based degreasing solution such as toluene-ethanol for a minimum of several minutes. It is desirable to remove the contaminants attached to the sample in advance.
  • an organic solvent-based degreasing solution such as toluene-ethanol
  • the kite for carrying out the present invention is, for example, a commercially available device provided with a spectroscopic crystal for oxygen, a proportional counter, and a wave height analyzer, such as Shimadzu's LS7A artificial crystal. I do not care.
  • ⁇ acceleration voltage should be in the range of 3-6kV.
  • the beam current is set so that the detection efficiency of the proportional counter is high as long as the emitter is not overloaded.
  • a commercially available EPMA is used, and a tungsten filament is used as an emitter.
  • the diameter of the electron probe is set according to the purpose. For example, when aiming at a narrow flat part of a temper-rolled galvanized steel sheet, it is better to use it to the minimum. However, normal
  • the probe diameter is usually very large even if it is minimized, and the electron beam diffuses from the irradiation position by about 0.2 / zm within the sample. Therefore, when measuring a flat part that does not have a force of several / zm, use a luminescent standard sample such as zirconia to minimize it. It is better to check the probe diameter in the narrowed state and make sure to measure it after confirming that the probe is flat enough to fit the probe diameter.
  • the pulse height analyzer when measuring the oxygen characteristic X-rays of the oxide film on zinc, the pulse height analyzer must be set up to exclude the characteristic X-rays of zinc appearing at the same detection position as oxygen.
  • FIGs. Figure 2 shows an example in which the oxygen in a silicon oxide film formed on a silicon wafer was measured at 5 kV using an EPMA-1600 manufactured by Shimadzu Corporation.
  • the zinc oxide thin film formed on zinc was measured under the same conditions, and the results are shown in Fig. 3.
  • the wave height analyzer in (a) is open, the top of the detection peak is slightly shifted to the long wavelength side (right side) from the position in Fig. 2, and a sub peak appears on the long wavelength side of the main peak.
  • the L / 3 line of zinc overlaps the detection position of the characteristic X-ray of oxygen (oxygen ⁇ -ray), and the La line of zinc is further overlapped on the long wavelength side.
  • the La line is stronger than the L j3 line.
  • the oxygen Ka line is first measured in a window open state using a silicon wafer with a silicon oxide film having a known film thickness (for example, 96 nm).
  • a silicon oxide film having a known film thickness for example, 96 nm.
  • An example is the method of setting the window width so that the measured intensity at the time of dow opening is attenuated to 80%.
  • Fig. 4 shows the spectrum when the same data as Fig. 3 is measured with the acceleration voltage changed to 15 kV.
  • Sff normal acceleration
  • a large amount of zinc generated from the substrate Since the intensity of the La line and Li 3 line overlaps the detection position of the oxygen line, even if the wave height analyzer is set to the state (c), it is not possible to efficiently detect only the oxygen ⁇ line.
  • the measurement time is desirable to determine the measurement time in consideration of the total allowable measurement time and relative variation.
  • the statistical relative variation is 1 / root of the root when the measurement count is ⁇ . For example, if 10,000 counts or more can be measured, the relative variation can be suppressed to 1% or less. From this perspective, it is usually realistic to measure within a range of several seconds to several tens of seconds per point.
  • Oxygen characteristics To convert the intensity of X-rays into an oxide film thickness, it is efficient to use a calibration curve created using a silicon oxide film with a known film thickness formed on a mirror-polished silicon wafer.
  • the main reason for using such a known silicon oxide film in particular is that such a film is a standard for depth analysis for surface analysis (such as Auger electron spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy). This is because it is commercially available in the form of and is easy to procure.
  • the calculation can be performed based on the same standard sample as the conventional technology that measures the film thickness by combining surface analysis techniques and ion etching, the measurement results are quick, and the obtained results are consistent with the values of the conventional technology. There are also advantages.
  • Thickness 0.8 Brittle alloyed hot-dip galvanized steel sheet was temper-rolled and immersed in sulfuric acid aqueous solution with pH of 2.0 and liquid temperature of 50 ° C for 1 second with 20 g / l of sodium acetate. Then, after leaving it to stand for a predetermined time, it was washed with water and dried to produce 40 test materials with zinc-based oxides (including hydroxides) formed on the plating surface. Used for measurement of oxide film thickness. At this time, the standing time was varied in the range of 2 to 60 seconds to adjust the thickness of the oxide film formed on the flat portion of the specimen. The specimens thus fabricated were punched into a diameter of 12 mm, then ultrasonically cleaned with toluene for 2 minutes and further with ethanol for 1 minute, dried in warm air, and set in a sample holder for EPMA.
  • EPMA-1600 manufactured by Shimadzu Corporation was used for EPMA.
  • the acceleration voltage during measurement was 5 kV
  • the beam current was 100 nA
  • the beam diameter was minimum
  • the spectroscopic crystal was set to LS7A to detect oxygen lines.
  • the wave height analyzer was set to the optimum value of the oxygen Ka line in the manner described in the embodiment of the invention.
  • the intensity at the pack ground position was also measured so that the net intensity of the oxygen ⁇ line could be calculated.
  • the measurement position of the sample was a flat part formed by temper rolling, and for each sample, 10 locations were measured for 5 seconds, and then the average oxygen intensity of each sample was calculated.
  • JKff 96nm and silicon wafers with 20nm silicon oxide film formed into appropriate sizes were set on the sample stage, and oxygen was also removed from these silicon oxide films.
  • the net intensity of the line can be calculated.
  • 10 points were measured for 5 seconds, and then the average oxygen intensity was calculated.
  • a test of the oxide film thickness and average oxygen intensity was made, and the thickness of the oxide film of the test material was calculated as the oxide film value in terms of silicon oxide film.
  • the measurement surface was preliminarily coated with cleaning oil (R352L manufactured by Breton).
  • the steel plate contact surface of the bead was a flat surface with a width of 10 thighs and a sliding direction length of 3 mm.
  • the number of frictions obtained in this way mainly reflects the sliding characteristics of the bead part during press forming, so the smaller this value, the smaller the sliding resistance at that part, and the breakage during press forming. And so on.
  • Figure 5 shows the relationship between the oxidation and the number of friction measured in this way.
  • the decrease in the number of friction with the increase in oxidized Jllff is remarkable up to around 20 dishes. Therefore, if the oxide film thickness measured in this way is managed, it is possible to evaluate the number of friction, which is a critical factor in the press formability of the steel sheet with galvannealed alloy.
  • the oxide ff present in the surface layer of these hot-dip galvanized steel sheets is randomly formed in the storage environment, etc. Therefore, it does not always cover the entire surface uniformly. In such a case, a method of measuring an average oxide film thickness using surface analysis is effective.
  • these friction numbers were measured by a flat plate sliding test.
  • the procedure of the flat plate vibration test is the same as in Example 1, but the friction coefficient was measured by setting the pressing load to two stages of 100 and 60013 ⁇ 4:? And changing the surface pressure to 3.3 and 20 MPa, respectively. .
  • the measurement surface was preliminarily coated with cleaning oil (R352L manufactured by Breton).
  • Figure 6 shows the relationship between the oxidation and the number of friction measured in this way. As can be seen from this figure, the higher the surface pressure, the lower the number of friction, and at any surface pressure, the thicker the oxide film, the lower the number of friction.
  • the present invention is a method for rapidly measuring the thickness of an oxide film having a thickness of 10 nm to 100 nm formed on the surface layer of a hot dip galvanized steel plate such as a hot dip galvanized steel plate or an alloyed hot dip galvanized steel plate. It can be used.
  • the present invention can be used as a method for judging the slidability of the plated steel sheet from the oxide film measured as described above.

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Abstract

亜鉛系めっき鋼板の表層に形成された厚さ10nm~100nmの酸化膜の厚さを迅速かつ高精度で測定する技術を提供することを主な目的とする。また、測定した酸化膜厚からそれを備えためっき鋼板のプレス成形性を評価することを主な目的とする。電子線マイクロアナライザもしくは波長分散型X線検出器を備えた走査電子顕微鏡を用いて、3~6kVに加速した電子線を亜鉛系めっき鋼板の表面に照射し、それによって発生した酸素のKα線の強度を検出器とその後段の波高分析器を通して測定することにより、亜鉛のL線の二次線の影響を除くことを特徴とする、亜鉛系めっき鋼板の表層に形成された酸化膜の膜厚測定方法。

Description

明細書 亜鉛系めっき鋼板の表層酸化膜の 測定方法 技術分野
本宪明は、 亜鉛系めつき鋼板の表層に形成された厚さ 10nm〜100nmの酸化膜の厚さを迅 速に測定する技術に関するものである。 背景技術
鉄鋼、 半導体、 ディスプレイなどの製品分野では厚さ数 10〜数 100 nmの表層皮膜が製品 特性の支配因子になっている場合がある。 鉄鋼製品分野では、 厚さ数 10〜数 100 nmの表層 薄膜が製品のプレス成形特性の支配因子になっている がある。 自動車や家電製品に使用 される鋼板には、 近年、 高耐食性の観点から亜鉛系のめっきが施される場合が多い。 亜鉛系 めっき鋼板をプレス成形して難成形部品を製造する場合、 加工の厳し Vヽ部位で鋼板のプレス 割れが起こりやす 、という問題がある。 この亜鉛系めっき鋼板のプレス成形性をプレス時に 高粘度の潤滑油を使用することで改善する方法が知られている。 しかしこの方法ではプレス 成形の後、 脱脂工程を強化しないと、 後工程の化成処理や塗装などでムラが発生するという 問題がある。
このような後工程での懸念が少ない方法として、 めっき層の表面に潤滑作用のある皮膜 を形成させる方法が知られている 9 例えば、 特許文献 1〜3には、 亜鉛系めつき鋼板の表面に 電界処理、 浸漬処理、 塗布酸化処理、 または加熱処理を施すことにより、 亜鉛酸化物を主体 とする酸化膜を形成させて溶接性または加工性を向上させる技術が開示されている。
特許文献 4には、 亜鈴系めつき鋼板の表面にリン酸ナトリウム 5〜60g/lを含み pH2〜6の水 溶液にめっき鋼板を浸漬するか、 電解処理を行うカ または、 上記水溶液を塗布することに より、 リン酸化物を主体とする酸化膜を形成して、 プレス成形性及び化成処理性を向上させ る技術が開示されている。 特許文献 5 には、 亜鉛系めつき鋼板の表面に電解処理、 浸漬処理、 塗布処理、 塗布酸化処理、 または加熱処理により、 Ni酸化物を生成させることにより、 プレ ス成形性おょぴ化成処理性を向上させる技術が開示されている。 このようなめっき層の表面に潤滑作用のある酸素含有皮膜 (酸化膜) を形成させる方法で は、 酸化膜の厚さを迅速に評価することが製品特性の制御と管理を行う上で大変重要である。 酸化膜厚を評価する技術としては、 (1) ォージェ電子分光法や X線光電子分光法などの表面 分析手法とイオンエッチングを組み合わせて深さ方向の情報を測定する方法、 (2) 断面試 料を作製して膜厚方向から透過電子顕微鏡で観察する方法、 (3) 光の薄膜中での干渉効果 を利用するエリプソなどの光学的手法、 などが知られている。
特許文献 1 : 特開昭 53- 60332号公報
特許文献 2 : 特開平 2- 190483号公報
特許文献 3 : 特開 2004-3004号公報
特許文献 4 : 特開平 4-88196号公報
特許文献 5 : 特開平 3- 191093号公報 発明の開示
溶融亜鉛系めっき鋼板の場合、 めっき表面の酸化膜が数 rmレベルの膜厚でもプレス成形 性の改善に効果があり、 特許文献 3等に開示されている通り、 それが 10nm以上になると特に 改善効果が大きい。 したがって、 めっき表面の酸化膜の厚さを迅速に測定できれば、 その測 定結果を製造プロセスにフィ一ドパックすることによってプレス成形性に優れた製品の歩留 まりを向上させることができる。 また、 出荷判定に利用することによって製品の品質管理を 行うことが可能になる。
先に述ぺたこのような極薄の酸化膜の厚さ評価に利用できる (1) 〜 (3) の方法のうち、 (1) と (2) は、 測定もしくは試料調整に長時間を要するため、 プロセスへのフィードパッ クどころか出荷判定での利用さえも極めて困難である。
(1) の方法では、 試料を超高真空中で測定する必要があるため、 予備排気装置を備えた装 置を使用しても排気に数 10分ないし数時間を要し、 更に、 エッチング速度が既知のイオンェ ツチングを繰り返して酸化 a¾¥を測定するため、試料 1個の測定に最低数時間かかる。
(2) の方法では、 試料 1個の調整に最低半日以上、 調整した試料の透過電子顕微鏡観察に 更に 1時間程度、 撮 した電子顕微鏡写真の現像に更に数時間かかるため、 試料 1個の膜厚 評価に最短でも 1日前後の時間を要する。 (3) の干渉作用を利用した光学的手法は、 シリコンウェハー上に形成した熱酸化膜のよう に平坦な下地の上に評価すべき薄膜がある試料の膜厚を評価するのに適している。 しかしな がら、 例えば、 合金化溶融亜鉛めつき鋼板のように、 調質圧延に起因する凹凸や合金化反応 に起因する微細な凹凸が下地めつき鋼板に存在する場合、 の測定精度を確保することが 難しい。
このように、 溶融亜鉛系めつき鋼板の表層に形成された極薄の酸化膜の厚さを、 最低限、 出荷が滞ることのないスピードで精度良く測定できる技術は知られていないのが現状である。 本発明は、 このような事情に鑑みてなされたものであり、 亜鉛系めっき鋼板の表層に形成 された厚さ ΙΟηη!〜 lOOnmの酸化膜の厚さを迅速かつ高精度で測定する技術を提供することを 主な目的とする。 また、 測定した酸化 ffからそれを備えためっき鋼板のプレス成形性を評 価することを主な目的とする。
本発明者らは、 '上記の課題を解決するべく鋭意研究を重ねた結果、 電子線マイクロアナ ライザ (Electron Probe Micro-Analyzer; EPMA (試料に電子線を照射することによって発生 する試料含有元素の特性 X線の強度を測定することを基 «能どする分析装置) ;) をある特 定の条件で用いると、 亜鉛系めつき鋼板の表層に形成された厚さ数 lOnmの酸化 Mffを精度良 く測定できることを見出した。
本発明は、 以上の知見に基づいてなされたものであり、 そ 要旨は以下の通りである。
(1)電子線マイクロアナライザもしくは波長分散型 X線検出器を備えた走査電子顕微鏡を 用いて、 3~6kVに加速した電子線を亜鉛系めつき鋼板の表面に照射し、 それによつて発生し た酸素の 線の強度を検出器とその後段の波高分析器を通して測定することにより、 亜鉛 の L線の二次線の影響を除くことを特徴とする、 亜鉛系めつき鋼板の表層酸化膜の 測定 方法。
(2)鏡面研磨されたシリコンヴヱハー上に形成された Hi?既知の酸化シリコ
Figure imgf000005_0001
て酸素の Ko;線の強度と酸化^?の関係を表わす検¾線を作成し、 この検 ¾を用いて、 亜 鉛系めつき鋼板の表層酸化膜の jgffを算出することを特徴とする請求項 1記載の亜鉛系めつ き鋼板の表層酸化膜の J^ff測定方法。
本発明によれば、 亜鉛系めつき鋼板の表層に形成された厚さ ΙΟηη!〜 lOOnmの酸化膜の厚 さを迅速に精度良く測定することが可能になる。 また、 この測定した酸化 JKffから該めっき 鋼板のプレス成形性の良否を評価できるようになる。 図面の簡単な説明
図 1は、 亜鉛系めっき上の厚さ lOOnmの酸化亜鉛薄膜に種々の加速電圧で電子線を照 射した場合の電子線の内部拡散挙動を表すモンテカルロシミュレーションの例である。
図 2は、 シリコンゥェハー上に形成した酸化シリコン皮膜を用いて加速電圧 5kVでゥ インドゥ幅を変えた波高分析器条件で測定した酸素の特性 X線スぺクトルで、 (a)はウインド ゥ幅がオープン、 (b)は適性ウィンドウ幅、 (c)は狭すぎるウィンドウ幅での結果を示す。
図 3は、 亜鉛上に形成した酸化亜鉛薄膜を用いて図 2と同一条件で測定した酸素の特 性 X線スぺクトルである。
図 4は、 図 3と同じデータを加速電圧だけ 15kVに変えて測定した:^のスぺクトルで ある。
図 5は、 合金化溶融亜鉛めつき鋼板の平坦部の酸化膜厚と摩 ¾ ^数の相関関係を示す 図である。
図 6は、 溶融亜鉛めつき鋼板の平均酸化 TOと摩 «数の相関関係を示す図である。 発明を実施するための最良の形態
本楽明者らは、 上記の課題を解決するべく鋭意研究を重ねた結果、 電子線マイクロアナ ライザ (Electron Probe Micro-Analyzer; EPMA (試料に電子線を照射することによって発生 する試料含有元素の特性 X線の強度を測定することを基 «能とする分析装置) ) をある特 定の条件で用いると、 亜鉛系めつき鋼板の表層に形成された厚さ数 lOnmの酸化 を精度良 く測定できることを見出した。
尚、 本発明おいて、 酸化膜は微視的に不連続な酸素含有物であっても構わず、 その場合 の^?は緻密で一様な皮膜に換算した場合の厚さという意味である。
EPMAを用いて亜鉛系めつき鋼板上の酸化膜に含まれる酸素の特性 X線 (0- Κα線) を測 定する場合、 ΕΡΜΑに用いられる波長分 βΧ線分析器では酸化膜と下地に含まれる亜鉛の特 性 X線 (Zn-Lo;線、 Zn- L /3線) の二次線が、 酸素の特性 X線の検出位置 (検出角度) と重な るという現象に留意しなければならない。 この重なりは、 亜鉛の特性 X線が分光結晶によつ て二次の回折を起こすために生じるものである。 この点に留意することなく、 通常の加速電 圧 (15kV程度) で亜鉛系めつき鋼板の表層に形成された極薄の酸化膜から酸素の特性 X線を 検出しょうとしても、 実際には、 下地から発生した亜鉛の特性 X線を大量に検出することに なる。
しかも、 この点に気付いても、 通常の加速条件では、 波高分析器を使って亜鉛の重なり の影響を効果的に除くことができない。 波高分析器とは、 特性 X線のエネルギーの違いを利 用して注目元素の特性 X線だけを選別する機能を有する機器である。
そこで本突明者らは、 電子線が酸化膜の^!厚領域でほぼ均等に酸素の特性: X線を発生 させ、 し力も、 下地に含まれる亜鉛からの特性 X線の癸生を極力抑制できる測定条件につい て検討を重ねた。 その結果、 亜鉛系めつき鋼板上の高々数 lOnmの酸化膜を測定対象とする場 合、 3~6kVの加速電圧で測定するのが最適であるとの知見を得た。 この理由を説明するため、 亜鉛系めっきを被覆する厚さ lOOnmの酸化亜鉛 (ZnO) の薄膜に細く絞つた電子線を種々の加 速電圧で照射した場合のコンピュータシミュレーションの結果を図 1に示す。
このシミュレーションで膜厚を lOOnmに設定したのは、 本発明が対象とする酸化膜の^ の上限が lOOnmであることに基く。
酸素から特性 X線を発生させるためには、 酸素の吸収端エネルギーに相当する 0. 53kVを 超える加速 ¾Εで電子線を試料に照射して酸素をィオン化する必要がある。 この吸収端エネ ルギーに相当する電圧で加速された電子は試料の最表面に衝突して少しでもエネルギーを失 つた瞬間に酸素をイオン化する能力を失う。 したがって、 実際に酸化膜の厚さを反映する強 さの特性 X線を発生させるためには電子線を更に高い加速 で加速する必要がある。 図 1 からわかるように、 発生する酸素の特性 X線強度が lOOnmの酸化膜厚まで と共に増加す るようにするためには、 最低 3 k Vの加速電圧で加速する必要がある。
一方、 加速電圧が高すぎると、 下地の亜鉛からの特性 X線が大量に発生するため、 波高 分析器を利用してもそれが、 酸素の検出位置で検出されることを避けられないため、 酸素の 特性 X線だけを効率的に計測することができなくなる。 この制約条件で決まる加速電圧の上 限が 6 kVである。
EPMAでは電子線を 前後のプローブ径まで絞って試料表面の任意の場所を測定する ことができる。 そのため、 例えば、 合金化溶融亜鉛めつき鋼板のように凹凸の激しい下地の 上に形成された酸化膜の場合でも、 調質圧延時に形成される平坦部に電子線を照射すれば下 地の粗さに影響されずにその部分の酸化膜厚を測定できる。 従って、 本努明は、 合金化溶融 亜鉛めつき鋼板ならぴに溶融亜鉛めつき鋼板 (めつき後合金化処理されていない亜 めっき 鋼板) の平 ΐ|部表層に形成された酸化膜の 測定法として好適である。 また、 試料ステー ジをコンピュータで制御しながら駆動させることが可能なため、 電子線プローブの照射位置 をこの方法で走査してマク口的なェリァでの酸化膜厚の分布や平均酸化膜厚を測定すること もできる。 '
シリコンウェハー上に形成され.た膜厚が既知の酸化シリコン皮膜などの市販の試料を標 準試料として、 これを未知試料と一緒に測定することにより、 測定結果を標準化することも 容易で る。 このような標準試料の酸素の特性 X線強度と酸化膜厚の関係を表わす検量線を 作成しておけば、 未知試料の酸化膜厚を標準試料の酸化膜厚に換算する形で表わすこともで きる。
ΕΡΜΑの装置構成は波長分散型の X線分光器を備えた走査電子顕微鏡とほぼ同じである。 したがって、 ΕΡΜΑの代わりに波長分散型 X線検出器を備えた走査電子顕微鏡を用いても同様 の酸化醇測定を行うことができる'。
本発明が対象とする亜鉛系めつき鋼板のめっき成分には、 亜鉛の他に、 鉄、 クロム、 二 ッケレ、 シリコン、 アルミニウム、 マグネシウム、 鉛、 アンチモン、 錫、 マンガン、 チタン、 リチウム、 銅などの元素が添加されていても本発明の効果は損なわれない。 '
酸化 を精度良く測定するためには、 試料を測定に使用する ΕΡ Αの試料ステージに載 る大きさに切り出した後、 トルェンゃェタノールなどの有機溶媒系脱脂液で最低数分間超音 波洗浄して試料に付着した汚染物を事前に除去するのが望ましい。
本発明を実施するための ΕΡΜΑは、 例えば、 島津製作所の LS7A人工結晶などの装置メ一 力指定の酸素用分光結晶、 比例計数管、 波高分析器を備えたものであれば、 市販の装置で構 わない。
ΕΡΜΑの加速電圧は 3〜6kVの範囲であれば良い。 ビーム電流はエミッターに過負荷が力か らない範囲で、 比例計数管での検出効率が高くなるように設定する。 市販の EPMAを、 タンダ ステンフィラメントをェミッタ一として使用する ¾ ^には ΙΟΟηΑ程度が適当である。
電子線プローブの直径は、 目的に応じて設定する。 例えば、 調質圧延された亜鉛系めつ き鋼板の狭い平坦部を狙うような は、 最小に絞って使用するのが良い。 但し、 通常の
EPMAを上記の加速電圧で使用する場合、 最小に絞っても 超のプローブ径となるのが普 通で、 しかも、 試料内で電子線は照射位置から 0. 2 /z m程度拡散する。 そのため、 数/ z mし力 ない平坦部を測定するような場合には、 ジルコニァなどの発光性の標準試料を用いて最小に 絞った状態でのプローブ径を確認し、 プロ一プ径が充分収まるような平坦部であることを確 認した上で測定するように注意した方が良い。
既に述べた通り、 亜鉛上の酸化膜の酸素の特性 X線を測定する 、 酸素と同じ検出位 置に現れる亜鉛の特性 X線を除くように波高分析器を設定しなければならない。 この様子を 図 2〜4に示す。 図 2はシリコンウェハー上に形成した酸化シリコン膜の酸素を島津製作所製 EPMA- 1600を用いて 5kVで測定した例である。 (a)波高分析器をオープンにした場合、 (b)酸 素の特性 X線エネルギーにウインドウ幅を合わせた場合、 (c)ウインドウ幅を更に狭めた場合、 の 3条件での結果を示しており、 ウィンドゥ幅が狭まるにつれて検出ピークの高さが低くな つている様子がわかる。
これに対して、 亜鉛上に形成した酸化亜鉛の薄膜を同一条件で測定しこ結果を図 3に示 す。 (a)の波高分析器をオープンにした状態では検出ピークのトップが図 2の位置よりも若干 長波長側 (右側) にずれており、 更に、 メインピークの長波長側にサブピークが現れている のがわかる。 これは酸素の特性 X線 (酸素の Κα線) の検出位置に亜鉛の L /3線が重なり、 その長波長側に亜鉛の L a線が更に重なって検出されるためである。 この図では亜鉛の L a 線よりも L j3線の方が高いという印象を受けるかもしれないが、 これは、 亜鉛の L i3線が酸 素の Κ α線位置に重なっているからであって、 本来は L a線の方が L j3線よりも強い。
この亜鉛の L α線のピークが無視できる程度にウィンドゥ幅を狭めたのが (b)の状態であ る。 この状態ではメィンピークの位置が図 2の酸化シリコン膜の酸素の位置とほぼ同等の位 置になっていることがわかる。 このウィンドウ幅を狭めるほど亜鉛の L a線 ' L j3線の検出 は抑制されるが、 それと同時に酸素の K Q;線の検出効率も下がって行く。 この状態が(c)であ る。 したがって、 波高分析器を設定する場合には亜鉛の L a線のピークが無視できる範囲で 広めのウィンドウ幅になるようこれを設定することが重要である。 このようにウィンドウ幅 を設定する方法としては、 膜厚が既知 (例えば 96nm) の酸化シリコン皮膜が载つたシリコン ウェハーを使って酸素の K a線をまずウィンドウオープンの状態で測定し、 その後、 ウィン ドウオープン時の測定強度が 80%まで減衰するようにウインドウ幅を設定する方法を例示で さる。
図 4は、 図 3と同じデータを加速電圧だけ 15kVに変えて測定した場合のスぺクトルであ る。 この図からわかるように、 このような通常の加速 Sffでは下地から発生する大量の亜鉛 L a線 · L i3線の強度が酸素 線の検出位置に重なるため、 波高分析器を (c)の状態に設定 しても酸素の Κ α線だけを効率的に検出することはできない。
計測時間は許容しうるトータルの測定時間と相対変動を考慮して決定するのが望ましい。 通常、 統計的な相対変動は測定カウント数を Νとした場合、 ルート Ν分の 1となるため、 例 えば、 1万カウント以上計測できれば相対変動は 1%以下に抑えることができる。 このような 考え方から、 通常、 一点あたり数秒〜数 10秒の範囲で測定するのが現実的である。
酸素の特性 X線の強度を酸化膜厚に換算するには、 鏡面研磨されたシリコンウェハー上 に形成された膜厚既知の酸化シリコン皮膜を用いて作成した検量線を用いるのが効率的であ る。 このような 既知の酸化シリコン皮膜を特に好んで使用する主な理由は、 このような 皮膜が (ォージェ電子分光法や X線光電子分光法などの) 表面分析用の深さ方向分析用標準 試料などの形で市販されていて調達が容易だからである。 また、 表面分析手法とイオンエツ チングを組み合わせて膜厚を測定する従来技術と同じ標準試料に基づいて計算できるため、 測定時間が迅速でありながら、 得られる結果が従来技術での値と整合するという利点もある。
以下、 本発明を実施例により具体的に説明する。
実施例 1
板厚 0. 8脆の合金化溶融亜鉛めつき鋼板を調質圧延後、 酢酸ナトリウム 20g/lを添加し た pH : 2. 0、 液温: 50°Cの硫酸酸性水溶液に 1秒間浸漬した後、 所定時間放置した上で水 洗 ·乾燥させることによって、 めっき表面に亜鉛主体の酸化物 (水酸化物も含む) を形成さ せた供試材を 40枚作製し、 これらの表裏面を酸化膜厚の測定に用いた。 この際、 放置時間を 2〜60秒の範囲で変化ざせて、 供試材の平埠部に形成される酸化膜の^ を調整した。 この ようにして作製した供試材を直径 12匪に打ち抜き加工した後、 トルエンで 2分間、 更にエタ ノールで 1分間超音波洗浄し、 これを温風乾燥して EPMAの試料ホルダーにセットした。
EPMAには島津製作所製 EPMA-1600を使用した。 測定時の加速電圧は 5 k V、 ビーム電流は 100nA、 ビーム径は最小、 分光結晶は LS7Aに設定して酸素の 線を検出した。 また、 波高 分析器は、 発明の実施形態で説明した要領で酸素 K a線の最適値に設定した。 酸素の Κ ο;線 の測定に際しては、 そのピーク位置に加えてパックグラウンド位置での強度も測定し、 酸素 Κα線の正味の強度が算出できるようにした。 試料の測定位置は調質圧延で形成された平坦 部とし、 これを各試料とも 10箇所を 5秒間測定した後、 各試料の平均酸素強度を算出した。 また、 試料ステージには、 これら一連の試料と一緒に、 適当な大きさに癖開した JKff 96nmと 20nmの酸化シリコン皮膜を形成したシリコンゥェハーをセットし、 これらの酸化シ リコン皮膜からも酸素 Κο;線の正味の強度を算出できるようにした。 2試料とも任意の 10箇 所を 5秒間測定した後、 それぞれの平均酸素強度を算出した。 これらのデータを用いて酸化 膜厚と平均酸素強度との検膽を作成し、 供試材の酸化膜の厚さを酸化シリコン皮膜換算で の酸化醇値として算出するようにした。
このようにして酸化膜厚を測定した供試材のプレス成形性を評価する手段として、 平 板摺動試験によってこれらの摩 数を測定した。 平板摺動試験では、 スライドテーブル上 に固定した亜鉛めつき鋼板の表面に、 押し付け荷重 400kgfでビードエ具を押し付けながらス ライドテーブルを 100cm/minで移動させて、 亜鉛めつき鋼板とビードとの間にすベりを与え て試験した。 この時のビードの押し付け荷重 Nとスライドテーブルを移動させる力 Fを、 そ れぞれロードセルを用いて測定し、 その比 (F/N) 力ゝら摺動時の摩聽数を求めた。
尚、 測定面には予め洗浄油 (ブレトン社製 R352L) を塗布した。 ビードの鋼板接触面は幅 10腿、 摺動方向長さ 3讓の平面とした。 このよう して求めた摩 数は、 主に、 プレス成 形時のビード部の摺動特性を反映するため、 この値が小さいほど同部分での摺動抵抗が小さ く、 プレス成形時の破断等が生じにくいと判断した。
このようにして測定した酸化 と摩 数の関係を図 5に示す。 この図から分かるよ うに、 20皿付近までは酸化 Jllffの増加に伴う摩 数の減少が著しい。 従って、 このように して測定した酸化膜厚を管理すれば、 合金化溶融亜鉛 つき鋼板のプレス成形性における重 窭因子である摩 数を評価することが可能である。 また、 プレス成形性を考慮して摩 数に閾値を設けることでプレス成形性の要否を判断することが可能である。
実施例 2
放電ダルロールで調質圧延した板厚 0. 8〜; L 2謹の範囲の種々の溶融亜鉛めつき鋼板を 40匪角にせん断加工した後、 トルエンで 2分間、 更にエタノールで 1分間超音波洗浄し、 .こ れを温風乾燥して供試材とした。 これらの溶融亜鉛めつき鋼板の表層に存在する酸化 ffは 保管環境等で無作為に形成されたもので、 それゆえ、 均一に全面を被覆しているとは限らな い。 このような場合には面分析を利用して平均的な酸化膜厚を測定する方法が有効である。
EPMAには B本電子製 ERA-8600MXを使用した。 測定時の加速電圧は 3kV、 ビーム電流は
120nA、 ビーム径は 100 μ m、 分光結晶は LDE1に設定して試料中央付近の 20腿角のエリアを 100 ピッチの 200点 X200点の条件でステージスキャンしながら酸素の Κ α線を測定した。 この際の 1点あたりの測定時間は 20msecとした。 波高分析器の設定や酸素 Κ α線の正味の強 度を算出できるように設定する点ほ実施例 1と同様である。 この各点での正味の強度を平均 して試料の平均酸素強度を求め、 これを試料と一緒に測定した前述の酸化シリコン皮膜を使 つて引いた検量線で酸化膜厚に換算した。
このようにして酸化 Jgffを測定した供試材のプレス成形性を評価する手段として、 平板 摺動試験によってこれらの摩 »数を測定した。 平板搐動試験の要領は実施例 1と同様であ るが、 押し付け荷重は 100、 6001¾:?の2段階に設定して面圧を各々3. 3、 20Mpaに変化させて 摩擦係数を測定した。 尚、 測定面には予め洗浄油 (ブレトン社製 R352L) を塗布した。
このようにして測定した酸化 と摩 数の関係を図 6に示す。 この図から分かるよ うに、 面圧が高いほど摩^^数は下がる傾向にあり、 いずれの面圧でも酸化膜厚が厚いほど 摩 数が下がる妥当な結果が得られる。 産業上の利用可能性
本発明は、 溶融亜鉛めつき鋼板や合金化溶融亜鉛めつき鋼板などの溶融亜鉛系めつき鋼 板の表層に形成された厚さ 10nm〜100nmの酸化膜の厚さを迅速に測定する方法として利用す ることができる。
丰発明は、 前記のようにして測定した酸化膜 から該めっき鋼板の摺動性の良否を判断 する方法として利用することができる。

Claims

請求の範囲
1 . 電子線マイクロアナライザもしくは波長分散型 X線検出器を備えた走査電子顕微鏡 を用いて、 3~6kVに加速した電子線を亜鉛系めつき鋼板の表面に照射し、 それによつて発生 した酸素の Κ ο;線の強度を検出器とその後段の波高分析器を通して測定することにより、 亜 鉛の L線の二次線の影響を除くことを特徴とする、 亜鉛系めっき鋼板の表層酸化膜の膜厚測 定方法。
2 . 鏡面研磨されたシリコンウェハー上に形成された膜厚既知の酸化シリコン皮膜を用 いて酸素の 線の強度と酸化膜厚の関係を表わす検量線を作成し、 この検量線を用いて、 亜 系めつき鋼板の表層酸化膜の を算出することを特徴とする請求項 1記載の亜鉛系め つき鋼板の表層酸化膜の 測定方法。
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