JP2005098923A - 薄膜の厚さ及び厚さ分布の評価方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基材上に低導電性薄膜を有する評価対象試料表面に、加速電圧を逐次変化させて電子を照射し、前記評価対象試料表面から放出される2次電子量を加速電圧に対応して測定し、2次電子量が変化する加速電圧から薄膜の厚さを決定することを特徴とする、薄膜厚さの評価方法。
【選択図】 図1
Description
(1)基材上に低導電性薄膜を有する評価対象試料表面に、加速電圧を逐次変化させて電子を照射し、前記評価対象試料表面から放出される2次電子量を加速電圧に対応して測定し、2次電子量が変化する加速電圧から薄膜の厚さを決定することを特徴とする、薄膜厚さの評価方法。
基材上に低導電性薄膜を有する評価対象試料表面に、加速電圧を逐次変化させて電子を照射し、前記評価対象試料表面から放出される2次電子量を測定し、2次電子量が変化する加速電圧を求める電圧調査ステップと、
前記電圧調査ステップで求めた加速電圧及び前記関係調査ステップで求めた加速電圧と膜厚との関係を用いて、評価対象試料の薄膜の厚さを決定する膜厚決定ステップと、
を有することを特徴とする、薄膜厚さの評価方法。
本発明の特徴は、(1)工業製品上で重要な皮膜の多くが低導電性であることと、(2)電子線照射に対して皮膜物質と下地物質の2次電子放出率の違いに着目し、(3)複数の加速電圧を用いることにより、(4)皮膜厚さの違いを加速電圧に対する2次電子放出率およびその変化の違いとして検出することにある。
Ic=Iobs×Io S/IS …(1)
また、2次電子放出量と膜厚との関係(図4)でなく、2次電子像の明るさ数値と膜厚の関係を求めたときの、参照試料の明るさ数値をLo S、膜厚が未知の試料を評価したときの明るさ数値をLS、とすると、未知試料の明るさ数値Lobsは、Lo SとLSから(2)式より補正された明るさ数値Lcに変換するものである。Lcから、すでに求めていた明るさ数値と膜厚との関係(図4)を用いて膜厚を決定することができる。
Lc=Lobs×Lo S/LS …(2)
前記試料を、参照試料と共に極低加速SEM内に導入する。SEMは安定化のため、可動状態にした後数時間経過していることがのぞましい。例えば、ショットキー電子銃の電圧をかけた状態で保持しておくことが有効である。SEM観察により膜厚の均一性や薄膜分布をチェックした後、画像を取込む領域を決定する。
・加速電圧:対象とする膜厚により変更可能である。例えば、金属上の数〜数十nmの酸化膜では、0.5kV程度の加速電圧が有効である。
・入射電子条件:加速電圧、アパーチャ−、ビーム径(通常最小)、電子の走査範囲(倍率)、走査スピード(一点あたりの電子線照射時間)、走査方法
・検出条件:検出器の条件(印可電圧など)、明るさ、コントラスト、ゲイン、オフセット
・画像取込み条件:取込み点数、取込み時間、明るさ、コントラスト、ゲイン、オフセット
次いで取込んだ画像を、画像処理ソフトウエアで読み込む。このソフトウエアは自作、市販品を問わない。後者の一例は、Adobe製Photoshopである。前記ソフトウエア上で、異物付着部など異常部を除いた画像範囲の明るさを数値化する。数値化方法は問わないが、例えば明るさを256階調に分ける。試料表面の平均情報を得る場合は、前記範囲内の画像データ点数で平均化する方法を採用できる。評価対象試料と参照試料の両方について、同様の方法で画像を数値化する。
p型半導体のシリコンウエハ上に熱処理により膜厚の異なる3種類の酸化膜(SiO2)を付与した。その膜厚は、10nm、19nmおよび50nmである。また、ふっ酸により、自然酸化膜を除去したシリコンウエハも用意した。SEM(LEO1530)を用い、加速電圧2kV〜0.1kVまで0.1kVステップで変化させ前記試料表面を走査し、各加速電圧で2次電子像をデジタルデータで取り込んだ。各加速電圧で得られた画像の平均明るさを、市販のソフトウエアPhotoshop(Adobe製)を用いて256階調で、平均明るさを求めることで、数値化した。なお、加速電圧に伴う2次電子像の明るさの滑らかな変化部分の影響を軽減するため、自然酸化膜を除去したシリコンウエハの結果を差引いた。
Claims (10)
- 基材上に低導電性薄膜を有する評価対象試料表面に、加速電圧を逐次変化させて電子を照射し、前記評価対象試料表面から放出される2次電子量を加速電圧に対応して測定し、2次電子量が変化する加速電圧から薄膜の厚さを決定することを特徴とする、薄膜厚さの評価方法。
- 予め表面に評価対象試料と同種又は同系統の低導電性薄膜を有する膜厚が既知の複数の標準試料で加速電圧を逐次変化させて2次電子量を測定し、2次電子量が変化する加速電圧と膜厚との関係を求める関係調査ステップと、
基材上に低導電性薄膜を有する評価対象試料表面に、加速電圧を逐次変化させて電子を照射し、前記評価対象試料表面から放出される2次電子量を測定し、2次電子量が変化する加速電圧を求める電圧調査ステップと、
前記電圧調査ステップで求めた加速電圧及び前記関係調査ステップで求めた加速電圧と膜厚との関係を用いて、評価対象試料の薄膜の厚さを決定する膜厚決定ステップと、
を有することを特徴とする、薄膜厚さの評価方法。 - 前記2次電子量が変化する加速電圧は、照射する電子線の加速電圧を高い方から低い方に逐次変化させて2次電子量が減少を開始する加速電圧に基き、または照射する電子線の加速電圧を低い方から高い方に逐次変化させて2次電子量が増加しなくなる加速電圧に基き、決定することを特徴とする、請求項1又は2に記載の薄膜厚さの評価方法。
- 前記関係調査ステップは、表面に評価対象試料と同種又は同系統の低導電性薄膜を有する膜厚が既知の複数の標準試料で加速電圧を逐次変化させて2次電子量を測定して2次電子量が変化する加速電圧を求めることに代えて、モンテカルロシミュレーションを用いて評価対象試料と同種の薄膜に照射する電子線の薄膜内での拡散深さが膜厚さと等しくなる加速電圧を求め、この加速電圧を2次電子量が変化する加速電圧とみなして、2次電子量が変化する加速電圧と膜厚との関係を求めることを特徴とする、請求項2に記載の薄膜厚さの評価方法。
- 基材上に導電性薄膜を有する評価対象試料表面に、請求項2〜4に記載される2次電子量が変化する加速電圧よりも低い加速電圧の一定加速電圧で電子線を照射し、評価対象試料表面から発生する2次電子量を測定し、その2次電子量から評価対象試料の薄膜の厚さを決定することを特徴とする、薄膜厚さの評価方法。
- 請求項1〜5における2次電子量に代えて、走査電子顕微鏡で観察する2次電子像の明るさを数値化した明るさ数値化を用いることを特徴とする、請求項1乃至5のうちのいずれかに記載の薄膜厚さの評価方法。
- 請求項1〜6において、表面に照射する電子の加速電圧は0.01kV〜5kVの範囲内であることを特徴とする、薄膜厚さの評価方法。
- 請求項1〜7(但し、請求項5を除く)において、評価対象試料表面に照射する電子線を、前記評価対象試料表面上を走査しながら照射し、その際に、加速電圧を逐次変化させて、加速電圧毎に電子線照射位置に対応した、2次電子量を測定し又は2次電子像の明るさを数値化した明るさ数値を求め、評価対象試料表面上の各位置における2次電子量が変化する加速電圧又は明るさ数値が変化する加速電圧から、前記評価対象試料表面上の各位置における薄膜の厚さを決定することを特徴とする、薄膜厚さの試料面内分布の評価方法。
- 請求項5において、評価対象試料表面に照射する電子線を、前記評価対象試料表面上を走査しながら照射し、電子線照射位置に対応した、2次電子量を測定し又は2次電子像の明るさを数値化した明るさ数値を求め、その2次電子量又はその明るさ数値から、前記評価対象試料表面上の各位置における薄膜の厚さを決定することを特徴とする、薄膜厚さの試料面内分布の評価方法。
- 請求項1〜9において、基材は金属あるいは半導体であり、薄膜は酸化物および/または水酸化物からなることを特徴とする、薄膜厚さの評価方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003335128A JP4089580B2 (ja) | 2003-09-26 | 2003-09-26 | 薄膜の厚さ及び厚さ分布の評価方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005098923A true JP2005098923A (ja) | 2005-04-14 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2003335128A Expired - Fee Related JP4089580B2 (ja) | 2003-09-26 | 2003-09-26 | 薄膜の厚さ及び厚さ分布の評価方法 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP4089580B2 (ja) |
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