WO2007029351A1

WO2007029351A1 - 映写黒板およびその製造方法

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Publication number: WO2007029351A1
Application number: PCT/JP2005/021772
Authority: WO
Inventors: Kazuhiro Hayashi
Original assignee: Jfe Metal Products & Engineering Inc.
Priority date: 2005-09-02
Filing date: 2005-11-28
Publication date: 2007-03-15
Also published as: EP1930177A1; EP1930177B1; TWI359748B; US20130216715A1; CN100591531C; CN101258040A; EP1930177A4; US8470451B2; TW200709956A; US9168566B2; US20090155759A1

Abstract

　課題　　優れた黒板機能および優れたスクリーン機能とを兼備する映写黒板およびその製造方法を提供する。　解決手段　　金属基板上に形成される琺瑯層のうち、最外層の表面琺瑯層を、透明マット釉薬に少なくとも酸化チタン被覆粒子を、あるいはさらに酸化チタン釉薬を、配合した琺瑯上釉薬を用いて形成し、所定の色調と、Ｒｚが5～25μmである表面特性と、ピークゲインが0.28以上である反射特性と、あるいはさらに光沢度Ｇｓ（75°）が１～30％である琺瑯層とする。これにより、優れた黒板機能とスクリーン機能を兼備する黒板とすることができる。なお、酸化チタン被覆粒子は、雲母粒子の表面に酸化チタンを被覆してなる粒子とすることが好ましい。また、金属基板は、冷延鋼板あるいはアルミニウムめっき鋼板またはZn－Al合金めっき鋼板とすることが好ましい。

Description

明細書

映写黒板およびその製造方法

技術分野

[0001] 本発明は、表面に琺瑯層を形成してなる黒板 (チョークボードともいう）に係り、とくに、優れた黒板機能と優れたスクリーン機能とを兼備する琺瑯製黒板に関する。なお、本発明でいう「優れた黒板機能」とは、チョークで文字、画像等を書き易ぐ見やすく、また書いた文字、画像等を消去しやすい機能を有することを意味する。また、「優れたスクリーン機能」とは、プロジェクタ、 OHP等で文字等の映像を投影した際に、文字等の映像が鮮明に映写できる機能を有することを意味する。

背景技術

[0002] 従来から、黒板 (チョークボード）は、表面に文字、画像等をチョークで消去可能に描ける機能を有し、種々の説明、講義、講演等の補助として利用されてきた。そのため、従来の黒板 (チョークボード）は、 JIS S 6007にも規定されているように、チョーク（白墨)で文字、画像等を書き易ぐ消去しやすくするために表面を適正に粗くし、かつチョーク（白墨)で書かれた文字,画像等を見やすくするため暗色系の材料を使用してきた。

[0003] しかし、近年では、スライド、 OHP等の各種プロジェクタを利用して、予め用意した資料をスクリーンに映写し、指示棒等で指しながら説明等を行う場合が一般的となつてきた。各種プロジェクタを利用して、説明等を行う場合には、映写用のスクリーンと補足説明のためチョーク（白墨)で文字等を描書および消去ができる黒板とを両方、用意する必要があり、準備 '後始末にかなりの手間を要していた。というのは、従来の黒板に各種プロジェクタで映像を投影すると画質が暗く不鮮明となるため、従来の黒板をスクリーンとして利用することはな力つた。

[0004] 一方、各種プロジェクタで映像を投影することを主たる目的とする反射スクリーンは、反射特性を向上させるために白色系、あるいは高明度色系の材料を使用している。このため、スクリーンにチョーク（白墨)で描書すると、コントラストが低ぐ文字、画像等の認識特性が低下することになるうえ、ビーズ、ホワイトマット等の一般的なスクリーンは表面硬さが低ぐチョーク（白墨)で描書 ·消去すると、スクリーンが摩耗するという問題があった。このため、例えば特開平 02— 153080号公報、特開平 04— 229299号公報に示されるように、スクリーンは、マーカーで描書し消去するマーカーボードとして用いられる場合はあっても、チョークボードとして用いられることはな力つた。

[0005] このような問題に対し、例えば、実開昭 57— 183190号公報には、釉薬中にブルー系統の染料を混入して鋼板上に明度 8乃至 4の粗面ホーロー層を形成してなる映写幕兼用ホーロー黒板が提案されている。

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0006] しかし、実開昭 57— 183190号公報に記載された技術で製造された黒板では、反射輝度が低ぐ映像が不鮮明となる傾向が強ぐとくに輝度の低いプロジェクタを用いた場合には鮮明な映像が得られにくいなど、スクリーンとしての最近の要求特性を十分満足できないという問題があった。本発明は、上記した従来技術の問題を有利に解決し、チョーク（白墨)で文字、画像等を描書し易くかつ見やすくチョーク文字認識性に優れ、またチョーク（白墨)で書いた文字、画像等を容易に消去でき、チョーク文字認識性、チョーク文字描書 ·消去性に共に優れ、かつ投影された映像を鮮映に映写でき映像認識性に優れる、優れた黒板機能および優れたスクリーン機能とを兼備する映写黒板およびその製造方法を提供することを目的とする。なお、本発明が目的とする映写黒板は、金属基板の外表面に少なくとも 1層の琺瑯層を有する琺瑯製黒板とする。

課題を解決するための手段

[0007] 本発明者らは、上記した課題を達成するために、琺瑯製黒板のチョーク文字認識性、チョーク描書 ·消去性および映像認識性に影響する要因につ!、て鋭意検討した。その結果、従来の黒板と同等以上のチョーク文字認識性、チョーク文字描書'消去性を確保するために、黒板の表面琺瑯層が、所定範囲の明度と、所定の範囲の表面粗さを有するとともに、さらに映像認識性向上のために、所定値以上のピークゲインを有する反射特性となるように表面琺瑯層を調整することが肝要であることに想到し [0008] そして、そのような表面琺瑯層は、使用する釉薬を、通常のチョークボード釉薬である透明マット釉薬に、少なくとも適正量の酸ィ匕チタン被覆粒子と、あるいはさらに酸ィ匕チタン釉薬を配合した釉薬とし、焼成条件を適正範囲に調整することにより生成可能であることを新規に見出した。これにより、黒板に、優れた黒板機能と優れたスクリーン機能とを兼備させることができることを知見した。

[0009] 本発明は、上記した知見に基づいて、さらに検討をカ卩えて完成されたものである。

すなわち、本発明の要旨はつぎのとおりである。

(1)金属基板上に、少なくとも 1層の琺瑯層を有する黒板であって、前記琺瑯層のうち最外層の表面琺瑯層が、 JIS Z 8721— 1993に規定される明度 V力 ¾.0〜7.0である色調と、 JIS B 0601— 2001に規定される表面粗さ Rzが 5〜25 μ mである表面特性と、ピークゲインが 0.28以上である反射特性と、を有することを特徴とする映写黒板。

[0010] (2) (1)において、前記表面琺瑯層が、透明マット釉薬に少なくとも酸ィ匕チタン被覆粒子を、あるいはさらに酸ィ匕チタン釉薬、あるいはさらに透明ダロス釉薬を配合した琺瑯上釉薬を用いて形成された琺瑯層であることを特徴とする映写黒板。

(3) (1)または（2)において、前記表面琺瑯層が、黒色系、緑色系、茶色系のうちの!、ずれかの色を有することを特徴とする映写黒板。

[0011] (4) (1)な!、し（3)の!、ずれかにお、て、前記表面琺瑯層が、 JIS Z 8741 1997に規定される 75度鏡面光沢度 Gs (75° )が 1〜30%であることを特徴とする映写黒板。

(5) (1)ないし (4)のいずれか〖こおいて、前記酸化チタン被覆粒子が、雲母粒子の表面に酸ィ匕チタンを被覆してなる粒子であることを特徴とする映写黒板。

(6)金属基板の表面に、琺瑯下釉薬を塗布し、焼成して下地琺瑯層を形成したのち、あるいは下地琺瑯層を形成することなぐついで透明マット釉薬に少なくとも酸ィ匕チタン被覆粒子を、あるいはさらに酸ィ匕チタン釉薬をあるいはさらに透明ダロス釉薬を配合した琺瑯上釉薬を塗布し、 400〜800°Cで焼成し表面琺瑯層を形成することを特徴とする映写黒板の製造方法。

[0012] (7) (6)において、前記金属基板が、冷延鋼板、あるいはアルミめつき鋼板または Z n—Al合金めつき鋼板であることを特徴とする映写黒板の製造方法。

(8) (6)または（7)において、前記酸化チタン被覆粒子が、雲母粒子の表面に酸ィ匕チタンを被覆してなる粒子であることを特徴とする映写黒板の製造方法。発明の効果

[0013] 本発明によれば、チョーク文字認識性、およびチョーク文字消去性に優れるとともに、映像認識性にも優れ、取り扱いが容易で、施工性にも優れた映写黒板を、安価に製造でき、産業上格段の効果を奏する。

図面の簡単な説明

[0014] [図 1]反射特性曲線の一例を示すグラフである。

[図 2]反射輝度の測定方法を示す概略説明図である。

符号の説明

[0015] 1入射光

2 反射光

3s 被測定黒板 (サンプル）

10 光源

11 輝度計

発明を実施するための最良の形態

[0016] 本発明になる映写黒板は、金属基板上に少なくとも 1層の琺瑯層を有する黒板である。本発明では、使用する金属基板の種類は、とくに限定されるものではないが、冷延鋼板とすることが好ましい。金属基板として使用する冷延鋼板には、金属基板と釉薬との密着性を向上させるために、 Niめっきを施すことが好ましい。なお、冷延鋼板としては低炭素鋼板、ステンレス鋼板等が例示できる。低炭素鋼板の C含有量は、 mas s%で 0.0200%以下とすることが好ましぐより好ましくは 0.0100%以下、さらに好ましくは 0.0050%以下である。

[0017] また、金属基板としては、アルミニウムめっき鋼板または Zn—Al合金めつき鋼板としてもよい。 Zn—Al合金めつき鋼板としては、 A1含有量が 4〜70mass%、残部 Znおよび不可避的不純物からなるめっき層を有するめっき鋼板が例示できる。なお、めっき層には、めっき皮膜特性向上のための添加物質を含有してもよいことは言うまでもない上記した金属基板上に形成される琺瑯層のうち、最外層の表面琺瑯層は、 JIS Z 87 21— 1993に規定される明度 V力 ¾.0〜7.0である色調と、 JIS B 0601— 2001に規定される表面粗さ Rzが 5〜25 μ mである表面特性と、ピークゲインが 0.28以上である反射特性と、を有する。なお、本発明でいう明度 Vは、 JIS Z 8722— 2000に規定される色の測定方法に準拠して測定し、 JIS Z 8721— 1993に規定される色の表示方法に準拠して表示される値を用いるものとする。

[0018] 本発明の映写黒板は、まず、従来の黒板と同等以上のチョーク文字認識性、チョーク文字消去性を維持し、優れた黒板機能を保持することを必要とする。

そのために、まずチョークで描書された文字、画像等が見えやすくなる、すなわち、チョーク文字認識性を確保するため、本発明では、表面琺瑯層を、 JIS Z 8721 - 1993 に規定される明度 V力 ¾.0〜7.0である、好ましくは黒色系、緑色系、茶色系、紺色系のうちのいずれか、さらに好ましくは黒色系、緑色系、茶色系のいずれかの暗色系色調の琺瑯層とする。明度 Vが上記した範囲を下方に外れると、暗くなりすぎて映像を投影したときに映像認識性が低下し、一方、明度 Vが上記した範囲を上方に外れると、明るくなりすぎてチョーク文字認識性が低下する。なお、琺瑯層の色調、明度は、添加顔料の種類、添加量により調整することができる。明度 Vを 3.0〜7.0に調整するには、顔料として、 Co、 Cr、 Tiの金属またはそれらの酸ィ匕物を単独あるいは複合して添加することが好ましい。なお、明度 Vは 4.0〜6.0とすることが好ましい。

[0019] また、本発明の映写黒板では、チョークで文字、画像等を書き易くかつ消去し易くなる、チョーク文字描書'消去性を確保するために、表面琺瑯層の表面特性を、 JIS B 0601— 2001に規定される表面粗さ Rzが 5〜25 μ mとなるように調整する。なお、好ましくは 10〜22 μ m、さらに好ましくは 14〜18 μ mである。

表面琺瑯層の表面粗さ Rzが上記した範囲を外れ、平坦に近づくと、チョークがすべり、チョーク描書性が低下するとともに、映像認識性が低下する。一方、上記した範囲を外れ凹凸が大きくなリすぎると、チョーク文字消去性が低下するとともに、映像認識性が低下する。なお、上記した表面琺瑯層の表面特性は、後記するように、金属基板に塗布する釉薬の組成と、釉薬塗布後の焼成条件の組み合わせを適正範囲とすること〖こより、達成できる。 [0020] 本発明の映写黒板においては、表面琺瑯層が上記した色調と表面特性を有し、優れた黒板機能を維持するとともに、さらにピークゲインが 0.28以上で、好ましくはハーフゲインが 15以上である反射特性を有する。

被測定板の反射特性は、例えば、図 2に示すように、被測定板 Sの中心に垂直方向に光源 10力も入射光 1を照射し、中心点から同一円弧上を左右に各 75 ° の範囲で 5° ずつ移動したポイントでの反射光 2の大きさ（反射輝度）を輝度計 11で測定して得られた反射特性曲線（図 1参照）により求めるものとする。本発明でいう「ピークゲイン」とは、標準白板 (完全拡散板:硫酸バリウムを焼き付けた純白板）に光を当てたときの反射輝度に対する、同一条件で測定した被測定黒板の反射輝度の比率を、う力この場合、通常、視野角 5° での反射輝度を用いる。また、本発明でいう「ハーフゲイン」は、反射特性曲線における反射輝度がピークの 1/2となった場合の視野角幅 (度)をいう。

[0021] ピークゲインが 0.28未満では、投影した映像が暗ぐ映像認識性に劣ることになり、映写黒板としての要求を満足することができなくなるため、 0.28をピークゲインの下限値とした。なお、ピークゲインは好ましくは、 0.5〜1.0である。また、広い視野角を得るために、ハーフゲインを 15以上とすることが好ましい。このため、本発明では、 0.28以上のピークゲインと、好ましくは 15以上のハーフゲインを有する反射特性の表面琺瑯層とする。

[0022] 上記した表面琺瑯層の反射特性は、後記するように、金属基板に塗布する釉薬に、適正粒径分布を有する酸化チタン被覆粒子、好ましくは酸ィ匕チタンを被覆した雲母粒子、を適正量添加し、焼成温度を適正範囲に調整することにより達成できる。上記した特性を有する表面琺瑯層は、 JIS Z 8741— 1997に規定され 75度鏡面光沢度 Gs (75° )が 1〜30%の表面光沢を有することが好ましい。 Gs (75° )が 1%未満では、チョーク文字消去性が劣化するとともに、反射輝度が小さくなり、映像が不鮮明となる。一方、 Gs (75° )が 30%を超えると、チョーク文字描書性が劣化するとともに、ハレーシヨンを起こし易く視野角が狭くなる。なお、より好ましくは Gs (75° )が 15〜25% である。

[0023] 表面琺瑯層には、酸化チタン被覆粒子が含有される。表面琺瑯層に酸ィ匕チタン被覆粒子を含有させることにより、鮮映性が向上するとともに、表面に凹凸が形成され拡散反射性が向上し、ハレーションが抑制され、反射特性が向上する。本発明では、表面琺瑯層には、酸ィ匕チタン被覆粒子を表面琺瑯層全量に対する質量％で 2〜40 %、さらに好ましくは 3〜20%含有させることが好ましい。酸ィ匕チタン被覆粒子が 2質量％未満では反射特性向上効果が少な!/ヽ。酸化チタン被覆粒子が 40質量％を超えて含有させると、表面粗さ Rzが過剰に大きくなりすぎて、チヨ—ク文字消去性が悪ィ匕すると共に、明度が大きくなりすぎて、チヨ—ク文字認識性が低下する。

[0024] また、酸ィ匕チタン被覆粒子は、 100 μ m以下の平均粒径を有することが好ま、。さらに好ましくは 5〜80 μ mである。酸化チタン被覆粒子の平均粒径が 5 μ m未満では拡散反射性が低下し、一方、酸ィ匕チタン被覆粒子の平均粒径が 100 /z mを超えると、表面琺瑯層の表面粗さが過剰に大きくなり、チョーク文字消去性が低下する。なお、ここでいう粒子の平均粒径とは、レーザ回折式粒度分布測定装置を利用して測定した、 50%累積粒子径を言うものとする。また、酸ィ匕チタン被覆粒子は、雲母粒子の表面に酸ィ匕チタンを被覆した粒子とすることが好ましぐ雲母粒子は薄板状雲母粒子とすることがより好まし!/、。

[0025] 上記した特性を有する表面琺瑯層は、透明マット釉薬に、少なくとも酸ィ匕チタン被覆粒子を、あるいはさらに酸ィ匕チタン釉薬を、あるいはさらには透明ダロス釉薬を配合した琺瑯上釉薬を用いて形成された琺瑯層とすることが好ましい。なお、表面琺瑯層の厚さは、剥離性の観点から 200 m以下とすることが好ましい。なお、より好ましくは 150 m以下である。

[0026] 上記した琺瑯上釉薬を用いて形成された表面琺瑯層は、質量％で、酸化チタン被覆粒子の酸化チタンを含む酸化チタンの合計量を TiOとして、 TiO : 0.5〜15%、より

2 2

好ましくは 0.5〜10%未満、さらに好ましくは 2〜5%を含み、さらに、 SiO : 15〜45%、

2

A1 0 : 5〜30%、 Na 0、 K 0、 Li 0から選ばれた 1種または 2種以上を合計： 2〜20%

2 3 2 2 2

、 B 0 : 2〜20%を含む、琺瑯層とすることが好ましい。なお、本発明では、黒板の表

2 3

面琺瑯層には、所望の色を得るために、黒色系顔料、緑色系顔料、黄色系顔料のうちから選ばれた顔料を合計で 20質量％以下含むことは言うまでもない。

[0027] 次に、本発明映写黒板の好ましい製造方法について、説明する。本発明の映写黒板は、金属基板の表面に、琺瑯下釉薬を塗布し、焼成して下地琺瑯層を形成したのち、あるいは下地琺瑯層を形成することなぐついで透明マット釉薬に少なくとも酸ィ匕チタン被覆粒子を、あるいはさらに酸ィ匕チタン釉薬を、あるいはさらに透明ダロス釉薬を、配合した琺瑯上釉薬を塗布し、 400〜850°Cで焼成し表面琺瑯層を形成する製造方法で製造することが好ましい。なお、金属基板は、冷延鋼板、あるいはアルミめつき鋼板または Zn—Al合金めつき鋼板とすることが好ましい。

[0028] 金属基板として冷延鋼板を用いる場合には、好ましくは冷延鋼板に Niめっきを施したのち、冷延鋼板 (金属基板)表面に琺瑯下釉薬を塗布し、焼成して下地琺瑯層を形成する。琺瑯下釉薬としては、とくに限定されるものではなぐ従来の琺瑯製黒板で使用される琺瑯下釉薬がいずれも好適である。琺瑯下釉薬の塗布は、スプレー、ロールコータ等の公知の塗布方法がいずれも適用できる。

[0029] 琺瑯下釉薬としては、なかでも、例えば、固形分全量に対する質量％で、 SiO : 20

2

〜80%含有し、残部として、 TiO : 0〜： L5%、ZrO : 0〜20%、B O : 0〜25%、A1〇：

2 2 2 3 2 3

0〜25%、 Na O : 0〜20%、 Li O : 0〜20%、 K O : 0〜20%、 PbO : 0〜40%、 ZnO : 0〜

2 2 2

50%、 BaO : 0〜15%、 CaO : 0〜15%、 CaF : 0〜： 10%、 CoO : 0〜20%、 Ni〇：0〜20%

2

、 MnO : 0〜20%などを含有する SiO系釉薬とすることが好ましい。

2

[0030] 得られた下地琺瑯層の表面に、琺瑯上釉薬を塗布し、その後、 600〜850°Cで焼成し表面琺瑯層を形成する。琺瑯上釉薬の塗布は、スプレー、ロールコータ等の公知の塗布方法が、ずれも適用できる。

琺瑯上釉薬は、透明マット釉薬 (フリット）に、あるいは、透明マット釉薬 (フリット） 100 重量部に対し、酸化チタン釉薬 (フリット）を 100〜20重量部、あるいはさらに透明グロス釉薬 (フリット) 20重量部以下を添加した釉薬に、適正量の酸化チタン被覆粒子を添加した釉薬とすることが好ましい。また、酸ィ匕チタン被覆粒子の添加量は、透明マット釉薬または混合した釉薬 (スリップ）： 100重量部 (焼成後の重量換算）に対し、 1〜 25重量部とすることが好ま、。

[0031] 琺瑯上釉薬は、透明マット釉薬のフリットと、あるいは、透明マット釉薬、酸化チタン釉薬、あるいはさらに透明ダロス釉薬のフリットと、必要に応じて各種添加物および顔料と、水との混合物の粉砕で得られた泥状物 (スリップ）に、適正量の酸化チタン被覆粒子粉末を添加、混合して得られる。なお、顔料として、黒板の所望の色調に合わせて、黒色系顔料、緑色系顔料、黄色系顔料のいずれか単独あるいは複合して添カロする必要がある。顔料の添加量としては、スリップ： 100重量部（焼成後の重量換算）に対し合計で 20重量部以下とすることが好ま、。添加量が 20重量部を超えて多くなると、スリップの流動性が低下する。

[0032] なお、透明マット釉薬 (フリット）としては、固形分全量に対する質量％で、 SiO ： 30

2

〜45%、A10 :20〜35%、B O :5〜： 15%、 K 0:5〜15%、 Na 0: 10〜25%、を含み

2 3 2 3 2 2

、残部として、 Ba〇：0〜： 15%、 Ca〇：0〜： 15%、 F :0〜： L0%、Ti〇：0〜： 10%などを含

2 2

む釉薬とすることが好ましい。

酸ィ匕チタン釉薬 (フリット）としては、固形分全量に対する質量％で、 TiOを 10〜30

2

%含有し、残部として、 SiO :0〜80%、 A10 :0〜20%、 B 0 :0〜25%、 Na O:0〜2

2 2 3 2 3 2

0%、 K O:0〜20%、 Li O:0〜20%、 P O :0〜： 10%、 ZrO :0〜20%、 BaO:0〜15%

2 2 2 5 2

、 Ca〇：0〜15%、 Mg〇：0〜5%、 Pb〇：0〜40%、 Zn〇：0〜50%、 CaF :0〜： 10%など

2

を含む釉薬とすることが好ましい。なお、酸ィ匕チタン釉薬の顔料である酸ィ匕チタンに代えて、酸ィ匕ジルコニウム、酸ィ匕アンチモン、酸ィ匕亜鉛のうちの 1種または 2種以上の顔料としてもよい。

[0033] 透明ダロス釉薬 (フリット）としては、固形分全量に対する質量％で、 SiO :40〜65%

2 を含み、残部として、 B 0 :5〜20%、 Na〇、 K〇、 Li 0のいずれか 1種以上を合計で

2 3 2 2 2

5〜40%、F :0〜10%、Α1 Ο :0〜： 10%、 CaO :0〜10%、 TiO :0〜10%、ZnO:0〜10

2 2 3 2

%、 MgO:0〜5%などを含む釉薬とすることが好ましい。なお、酸化チタン釉薬の顔料である酸化チタンに代えて、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛のうちの 1種または 2種以上の顔料としてもよ、。

[0034] 焼成温度が、 600°C未満では、表面粗さが粗くなりすぎて、反射特性が劣化する。

一方、 850°Cを超えると、表面が平滑になりすぎて、チョーク文字認識性、チョーク文字描書'消去性が低下する。

また、金属基板としてアルミニウムめっき鋼板または Zn—Al合金めつき鋼板を用いる場合には、金属基板表面に、琺瑯上釉薬を塗布し、 400〜600°Cで焼成し表面琺瑯層を形成することが好ましい。 [0035] なお、この場合には、めっき層の溶融防止の観点から、低融点の琺瑯上釉薬を用いる必要がある。このため、上記した透明マット釉薬に代えてリン酸を配合した釉薬に、酸ィ匕チタン被覆粒子を、あるいはさらに酸ィ匕チタン釉薬を、配合してなる琺瑯上釉薬とすることが好ましい。リン酸を配合した釉薬中のリン酸の含有量は、 40質量％以上、好ましくは 80質量％以下、さらに好ましくは 70%以下とすることが好ましい。

[0036] リン酸を配合した釉薬 (フリット）としては、固形分全量に対する質量％で、 P 0 :40

2 5

〜80%を含有し、残部として、 SiO : 0〜40%、 A1 0 : 0〜50%、 B 0 : 0〜25%、 Na 0

2 2 3 2 3 2

: 0〜20%、 K O : 0〜20%、 Li O : 0〜20%、 TiO : 0〜30%、 Sb O : 0〜25%、 ZnO : 0

2 2 2 2 3

〜20%、 BaO : 0〜15%、 CaO : 0〜15%、 MgO : 0〜5%、 PbO : 0〜10%、 SrO : 0〜20 %などを含む釉薬とすることが好ま、。

[0037] なお、金属基板としてアルミニウムめっき鋼板または Zn—Al合金めつき鋼板を用いる場合には、めっき層の溶融防止の観点から、低融点の琺瑯上釉薬を用いるため、密着性が向上し、琺瑯下釉薬の塗布は必ずしも必要ではない。

また、金属基板としてアルミニウムめっき鋼板または Zn—Al合金めつき鋼板を用いる場合、焼成温度が、 400°C未満では、琺瑯層の密着性が低下する。一方、 600°Cを超えると、めっき層が溶融するという問題が生じる。

実施例

[0038] (実施例 1)

金属基板として冷延鋼板 (C : 0.0050質量％の極低炭素鋼板)を用いた。冷延鋼板表面には、硫酸ニッケル浴中でニッケルめっき層を形成した。ついで、ニッケルめつきされた冷延鋼板の両表面に、琺瑯下釉薬をロールコータ法で塗布したのち、 800°C で焼成し 30 mの下地琺瑯層を形成した。なお、琺瑯下釉薬は、 SiO系釉薬 (フリット

2

) : 100重量部に、粘土: 6重量部、炭酸マグネシウム: 0.15重量部、硼砂: 0.4重量部、シリカ： 1重量部、水：70重量部を添加した配合原料をボールミルに投入し、混合、粉砕してスリップとしたものを使用した。

[0039] っ、で、得られた下地琺瑯層の一方の表面に、琺瑯上釉薬をスプレー法で塗布したのち、 750°Cで焼成し 70 mの表面琺瑯層を形成し、サンプル黒板とした。一部の黒板では、焼成温度を 700〜780°Cの範囲で変化させた。なお、表 1に示す組成の透明マット釉薬 (フリット）： 100重量部に、粘土: 5.5重量部、亜硝酸ソーダ : 0.15重量部、シリカ： 0.5重量部、水： 70重量部を添加し、さらに顔料として、 TiO、 Sb 0、 NiOを合計： 1重量部、 Cr 0 : 8.2重量部、 Co、 Crを合計： 10.0重

2 2 5 2 3

量部、 Fe 0、 CuO、 CoO、 MnO等を合計： 0.1重量部を添カ卩し、ボールミルで、混合、

2 3

粉砕して得たスリップ Aを作製し、また、表 2に示す酸ィ匕チタン釉薬 (フリット）： 100重量部に、粘土: 5.5重量部、塩化カリ： 0.2重量部、アルミン酸ソーダ : 0.3重量部、水： 5 4重量部を添加し、ボールミルで、混合、粉砕してスリップ Bを得た後、該スリップ B : 10 0重量部に、（焼成後の重量換算)酸化チタン被覆粒子粉末： 20重量部を水： 45重量部とともに添加し、混合してスリップ Cを作製し、これらスリップ Aとスリップ Cとを、 3 : 1 の比率で配合し、混合して本発明で使用する琺瑯上釉薬とした。なお、一部では、スリップ Aとスリップ Cとの混合比を変化した。酸化チタン被覆粒子粉末は、薄板状雲母粒子の表面に酸ィ匕チタンを被覆した粒子で、平均粒径は 20 m、酸化チタン被覆率は 30%である。なお、平均粒径は、レーザ回折式粒度分布測定装置を利用して測定した、 50%累積粒子径を示す。

[0040] 従来例として、表 1に示す組成の透明マット釉薬 (フリット）： 100重量部に、粘土: 5.5 重量部、亜硝酸ソーダ : 0.15重量部、シリカ： 0.5重量部、水： 70重量部を添加し、さらに顔料として、 TiO、 Sb 0、 NiOを合計： 0.5重量部、 Cr 0 :4.1重量部、 Co、 Crを合

2 2 5 2 3

計： 5.0重量部、 Fe 0、 CuO、 CoO、 MnO等を合計： 0.05重量部を添カ卩し、ボールミル

2 3

で、混合、粉砕して得たスリップ Dを琺瑯上釉薬として使用し、焼成温度： 700°Cで焼成した。

[0041] 得られたサンプル黒板の表面琺瑯層につヽて、組成と、表面粗さ、色調、光沢度、反射特性を調査した。

(1)表面粗さ

表面粗さの測定は、接触式表面粗度計を用い、 JIS B 0601— 2001の規定に準拠して、算術平均粗さ Raと最大高さ Rzを求めた。

(2)色調

色調は、 JIS Z 8722— 2000の規定に準拠して測定し、 JIS Z 8721— 1993の規定に準拠して、各サンプル黒板の色調を表示した。 (3)光沢度

光沢度は、 JIS Z 8741 1997に準拠して 75度鏡面光沢度 Gs (75° )を求めた。

(4)反射特性

反射特性は、図 2に示すように、被測定板 Sの中心に垂直方向に光源 10力入射光 1を照射し、中心点から同一円弧上を左右に各 75 ° の範囲で 5° ずつ移動したポイントでの反射光 2の大きさ (反射輝度）を輝度計 11で測定し、ピークゲイン、ハーフゲインを求めた。ピークゲインとは、標準白板 (完全拡散板:硫酸バリウムを焼き付けた純白板）に光を当てたときの反射輝度に対する、同一条件で測定したサンプル黒板の反射輝度の比率を、ピークゲインとした。なお反射輝度は、視野角 5° での反射輝度を用いた。

[0042] 本発明の黒板 (本発明品）と従来の黒板 (従来品）の反射特性の一例を図 1に示す。なお、縦軸は被測定黒板の反射輝度を標準白板の反射輝度 (ピーク)を 100%としたときの比率で示した。

(5)黒板機能

さらに、得られたサンプル黒板に、 JIS B 6007の規定に準拠して、チョーク（白墨)で文字を描書し、白墨の着きやすさ、および落ち易さを判定した。白墨の着きやすさは、黒板面から lm離れた位置力見て、線にムラがないか、さらに 8m離れた位置で見て、線が鮮明であるか、を判定した。線のムラがなくかつ鮮明である場合を◎とし、やや鮮明度が低下する場合を〇とし、線のムラがある力あるいは鮮明でない場合を Xとし、チョーク文字認識性を評価した。また、白墨の落ち易さは、黒板の描書した文字を、イレーザー (フェルト製)で擦ったのち、黒板から lm離れた位置で見て、黒板面に筆跡跡、消しムラがない場合を◎、やや筆跡跡が残る場合を〇、それ以外の場合を Xとして、チョーク文字消去性を評価した。

[0043] 得られた結果を、表 3、表 4に示す。

[0044] [表 1]

[0045] [表 2] 組成 (質量! ¾)

Si0₂ A1₂0₃ Na₂0+K₂0+Li₂0 B₂0₃ Ti0₂ P₂0₅ F₃ 残部酸化チタン釉薬 35 3 18 13 22 2.5 4 2.5

[0046] [表 3]

[0047] [表 4]

[0048] 本発明例はいずれも、従来黒板と同等のチョーク文字認識性、チョーク文字消去性を維持し、優れた黒板機能を保持するとともに、 0.28以上のピークゲインが得られ、反射特性に優れた黒板となり、映像を投影した場合に、映像認識性に優れ、映写用として好適な黒板となっている。本発明の範囲を外れる比較例は、チョーク文字認識性、チョーク文字消去性の黒板機能が低下している力あるいは反射特性が劣り、映像認識性が低下している。

Claims

請求の範囲

[1] 金属基板上に、少なくとも 1層の琺瑯層を有する黒板であって、前記琺瑯層のうち最外層の表面琺瑯層が、 JIS Z 8721— 1993に規定される明度 V力 ¾.0〜7.0である色調と、 JIS B 0601— 2001に規定される表面粗さ Rzが 5〜25 μ mである表面特性と、ピークゲインが 0.28以上である反射特性と、を有することを特徴とする映写黒板。

[2] 前記表面琺瑯層が、透明マット釉薬に少なくとも酸ィ匕チタン被覆粒子を配合した琺瑯上釉薬を用いて形成された琺瑯層であることを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の映写黒板。

[3] 前記琺瑯上釉薬がさらに酸ィ匕チタン釉薬を、あるいはさらに透明ダロス釉薬を配合したものであることを特徴とする請求の範囲第 2項に記載の映写黒板。

[4] 前記表面琺瑯層が、黒色系、緑色系、茶色系のうちのいずれかの色を有することを特徴とする請求の範囲第 1項ないし請求の範囲第 3項のいずれかに記載の映写黒板。

[5] 前記表面琺瑯層が、 JIS Z 8741— 1997に規定される 75度鏡面光沢度 Gs (75° )が 1 〜30%であることを特徴とする請求の範囲第 1項な、し請求の範囲第 4項の、ずれかに記載の映写黒板。

[6] 前記酸ィ匕チタン被覆粒子が、雲母粒子の表面に酸ィ匕チタンを被覆してなる粒子であることを特徴とする請求の範囲第 2項な、し請求の範囲第 5項の、ずれかに記載の映写黒板。

[7] 前記金属基板が、冷延鋼板、あるいはアルミめつき鋼板または Zn—Al合金めつき鋼板であることを特徴とする請求の範囲第 1項ないし請求の範囲第 6項のいずれかに記載の映写黒板。

[8] 金属基板の表面に、琺瑯下釉薬を塗布し、焼成して下地琺瑯層を形成したのち、あるいは下地琺瑯層を形成することなぐついで透明マット釉薬に少なくとも酸ィ匕チタン被覆粒子を配合した琺瑯上釉薬を塗布し、 400〜850°Cで焼成し表面琺瑯層を形成することを特徴とする映写黒板の製造方法。

[9] 前記琺瑯上釉薬が、さらに酸ィ匕チタン釉薬を、あるいはさらに透明ダロス釉薬を配合したものであることを特徴とする請求の範囲第 8項に記載の映写黒板の製造方法。

[10] 前記酸ィ匕チタン被覆粒子が、雲母粒子の表面に酸ィ匕チタンを被覆してなる粒子であることを特徴とする請求の範囲第 8項または請求の範囲第 9項に記載の映写黒板の製造方法。

[11] 前記金属基板が、冷延鋼板、あるいはアルミめつき鋼板または Zn—Al合金めつき鋼板であることを特徴とする請求の範囲第 8項ないし請求の範囲第 10項のいずれかに記載の映写黒板の製造方法。