JP2023083873A - チョークボード - Google Patents

Abstract

【課題】チョークによる板書物の高い視認性を維持しつつ、板書物の高い消去性を可能にする。【解決手段】属基板上に、少なくとも一層の琺瑯層を有するチョークボードであって、琺瑯層のうち最外層の表面琺瑯層が以下の条件１及び条件２のうち少なくとも１つの条件と、条件３とを満たすことを特徴とする。条件１：表面琺瑯層の界面の展開面積率（Ｓｄｒ）が３０％以下である。条件２：表面琺瑯層の山頂点の主曲率の平均（Ｓｐｃ）が４０００μｍ－１以下である。条件３：表面琺瑯層の７５度鏡面光沢度（Ｇｓ（７５°））が１７％以上である。【選択図】なし

Description

本発明は、チョークボードに関する。

表面に琺瑯層が形成された黒板（以下、「チョークボード」ともいう）が知られている。チョークボードは、表面にチョークによる筆記及びチョークにより筆記された文字等が消去可能に形成されているとともに、スライド、ＯＨＰなどの各種プロジェクタを利用して、予め、用意した資料を映写するスクリーンとしても使用される。優れた黒板機能及び優れたスクリーン機能を兼備する琺瑯製のチョークボードが広く流通している（例えば、特許文献１参照）。

このようなチョークボードは、学校等の教育施設における授業や公共施設の集会や会議等において表示媒体として広く使用されている。そのため、チョークボードは、ＪＩＳ Ｓ ６００７に規定されているように、チョ－ク（白墨）によりボードへの筆記、描画等（以下、単に「板書」ともいう）し易くして、ボード上にチョークにより板書された線、文字、図形等（以下、単に「板書物」ともいう）を鮮明に残すために、表面を適正に粗くするようになっている。

特許第４７７１８８０号公報

ところで、チョークボードの最表面が所定の範囲の表面粗さを有していることにより、チョークボードの凹部にチョークの粉末が堆積することになる。チョークの粉末が凹部に堆積すると、イレーザによる板書物の消去性が低下してチョークボードの著しい汚染に繋がることになる。

そこで、本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、チョークによる板書物の高い視認性を維持しつつ、板書物の高い消去性を可能にする技術を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために本発明に係るチョークボードは、金属基板上に、少なくとも一層の琺瑯層を有するチョークボードであって、前記琺瑯層のうち最外層の表面琺瑯層が以下の条件１及び２のうち少なくとも１つの条件及び条件３を満たすことを特徴とする。
条件１：前記表面琺瑯層の界面の展開面積率（Ｓｄｒ）が３０％以下である。
条件２：前記表面琺瑯層の山頂点の主曲率の平均（Ｓｐｃ）が４０００μｍ^－１以下である。
条件３：前記表面琺瑯層の７５度鏡面光沢度（Ｇｓ（７５°））が１７％以上である。

本発明の一態様に係るチョークボードにおいて、前記表面琺瑯層の界面の展開面積率（Ｓｄｒ）が２０％以下であることが好ましい。

本発明の一態様に係るチョークボードにおいて、前記表面琺瑯層の山頂点の主曲率の平均（Ｓｐｃ）が３０００μｍ^－１以下であることが好ましい。

本発明の一態様に係るチョークボードにおいて、前記表面琺瑯層の７５度鏡面光沢度（Ｇｓ（７５°））が２０％以上であることが好ましい。

本発明の一態様に係るチョークボードにおいて、前記条件１、前記条件２及び前記条件３を満たすことが好ましい。

本発明により、チョークによる板書物の高い視認性が維持され、かつ板書物の高い消去性が可能になる。

本発明に係るチョークボードは、板書機能及びプロジェクタからの映像の映写機能を兼ね備える板書・映写兼用の黒板である。チョークボードは、金属基板上に、少なくとも一層の琺瑯層を有するチョークボードである。チョークボードは、琺瑯層のうち最外層の表面琺瑯層が以下の条件１～３のうち少なくとも１つの条件を満たすことを特徴とする。
条件１：表面琺瑯層の界面の展開面積率率（Ｓｄｒ）が３０％以下である。
条件２：表面琺瑯層の山頂点の主曲率の平均（Ｓｐｃ）が４０００μｍ^－１以下である。
条件３：表面琺瑯層の７５度鏡面光沢度（Ｇｓ（７５°））が１７％以上である。
以下に本発明に係るチョークボードについて具体的に説明する。

本発明に係るチョークボードは、金属基板上に少なくとも一層の琺瑯層を有する黒板である。本発明では、使用する金属基板の種類は、特に限定されるものではないが、冷延鋼板とすることが好ましい。金属基板として使用する冷延鋼板には、金属基板と釉薬との密着性を向上させるために、Ｎｉめっきを施すことが好ましい。なお、冷延鋼板としては低炭素鋼板、ステンレス鋼板等が例示される。低炭素鋼板のＣ含有量は、質量％において０．０２００％以下とすることが好ましく、より好ましくは０．０１００％以下、さらに好ましくは０．００５０％以下である。

金属基板は、アルミニウムめっき鋼板、又はＺｎ－Ａｌ合金めっき鋼板であってよい。Ｚｎ－Ａｌ合金めっき鋼板としては、Ａｌ含有量が４～７０質量％、残部Ｚｎ及び不可避的不純物からなるめっき層を有するめっき鋼板が例示できる。なお、めっき層には、めっき皮膜特性向上のための添加物質を含有してもよい。

上記の金属基板上に形成される琺瑯層のうち、最外層の表面琺瑯層におけるＩＳＯ ２５１７８に規定される界面の展開面積率（Ｓｄｒ）の上限は、例えば、３０％であり、好ましくは２５％であり、より好ましくは２０％であり、さらに好ましくは１５％である。さらに、界面の展開面積率（Ｓｄｒ）の下限は、例えば、２％であり、好ましくは５％であり、さらに好ましくは１０％である。展開面積率（Ｓｄｒ）は、金属基板を平面視した面積に対して、実際の界面の面積がどの程度大きくなっているかを示す指標である。

展開面積率（Ｓｄｒ）は、微小な凹凸が多い場合や凹凸の傾斜が急な場合に大きくなる傾向がある。上記上限及び下限の範囲内に展開面積率（Ｓｄｒ）を収めることにより、板書時にチョークがチョークボードの山頂点へ引っかかる抵抗を少なくすることができ、板書不良を抑制して板書物の視認性を高めるとともに、板書時にチョーク粉末が凹部に堆積することを抑制し、板書物の消去性を高めることができる。

上記の金属基板上に形成される琺瑯層のうち、最外層の表面琺瑯層におけるＩＳＯ ２５１７８に規定される山頂点の主曲率の平均（Ｓｐｃ）の上限は、例えば、４０００μｍ^－１であり、好ましくは３５００μｍ^－１であり、さらに好ましくは３０００μｍ^－１である。さらに、表面琺瑯層の山頂点の主曲率の平均（Ｓｐｃ）の下限は、例えば、５００μｍ^－１であり、好ましくは１０００μｍ^－１であり、さらに好ましくは１５００μｍ^－１である。主曲率の平均（Ｓｐｃ）は、突起の頂点の曲率を表す指標である。主曲率の平均（Ｓｐｃ）の値が大きいほど頂点が尖っており、値が小さいほど頂点が滑らかであることを示す。

表面琺瑯層における山頂点の主曲率の平均（Ｓｐｃ）が、上記上限及び下限の範囲内にあれば、板書時にチョークがチョークボードの山頂点へ引っかかる抵抗を少なくすることができる。これにより、板書不良を抑制して板書物の視認性を高めるとともに、板書時にチョーク粉末が過度に山頂部に付着することを抑制し、板書物の消去性を高めることができる。

なお、界面の展開面積率（Ｓｄｒ）及び山頂点の主曲率の平均（Ｓｐｃ）は、粒度分布の目安として、乾燥残渣（後述する仕上げ用の琺瑯上釉薬１００ＣＣを３２５ＭＥＳＨの篩にかけて残渣を乾燥させたもの）の重量範囲が０．５ｇ～２．５ｇとし、好ましくは０．８ｇ～１．７ｇ、より好ましくは１．０ｇ～１．５ｇとなることにより、適正範囲に調整することができる。また、主曲率の平均（Ｓｐｃ）の算出の際、用いるソフトウエアにより負の値となることがあるが、上記の範囲は絶対値として当てはめればよい。

上記の金属基板上に形成される琺瑯層のうち、最外層の表面琺瑯層におけるＩＳＯ２５１７８に規定される表面性状に関する、表面の平均面に対する各点の高さの差の絶対値の平均を表した算術平均高さ（Ｓａ）の上限は、例えば、３．０００μｍであり、好ましくは２．５００μｍであり、さらに好ましくは２．３５０μｍである。さらに、算術平均高さ（Ｓａ）の下限は、例えば、１．０００μｍであり、好ましくは１．２５０μｍであり、より好ましくは１．５００μｍである。

表面琺瑯層における算術平均高さ（Ｓａ）が、上記上限及び下限の範囲内にあれば、防塵性に優れる。

上記の金属基板上に形成される琺瑯層のうち、最外層の表面琺瑯層におけるＩＳＯ２５１７８に規定される最大高さ（Ｓｚ）の上限は、例えば、２０．０００であり、好ましくは１９．７００であり、さらに好ましくは１９．５００である。さらに、最大高さ（Ｓｚ）の下限は、例えば、１３．０００であり、好ましくは、１３．２５０であり、より好ましくは１３．５００である。

上記の金属基板上に形成される琺瑯層のうち、最外層の表面琺瑯層におけるＩＳＯ２５１７８に規定される表面性状の等方性及び異方性に関するアスペクト比（Ｓｔｒ）の上限は、例えば、０．７００であり、好ましくは０．６５０である。さらに、アスペクト比（Ｓｔｒ）の下限は、例えば、０．６０５であり、好ましくは０．６１０である。

上記の金属基板上に形成される琺瑯層のうち、最外層の表面琺瑯層におけるＪＩＳ Ｚ ８７２１－１９９３に規定される明度Ｖは、例えば、３．０～７．０である。表面琺瑯層は、好ましくは黒色系、灰色系、緑色系、茶色系、紺色系のうちのいずれか、さらに好ましくは黒色系、緑色系、茶色系のいずれかの暗色系色調の琺瑯層である。明度Ｖが上記した範囲を下方に外れると、暗くなりすぎて映像を投影したときに映像認識性が低下し、一方、明度Ｖが上記した範囲を上方に外れると、明るくなりすぎてチョーク文字認識性が低下する。

なお、表面琺瑯層の色調、明度は、添加顔料の種類、添加量により調整することができる。明度Ｖを３．０～７．０に調整するには、顔料として、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｔｉの金属又はそれらの酸化物を単独あるいは複合して添加することが好ましい。また、さらに好ましくは、明度Ｖは、４．０～６．０である。

なお、チョークボードにハンターＬａｂ表色系により表示した場合、明度Ｌは、例えば、４０～６０とすることが好ましい。さらに好ましくは、明度Ｌは４．０以上５．０未満、ハンターＬａｂ表色系で表示した場合には、明度Ｌは４０以上５０未満である。

また、本発明に係るチョークボードにおいては、さらにチョークによる板書性及び板書物の消去性を確保するために、表面琺瑯層の表面特性を、ＪＩＳ Ｂ ０６０１－２００１に規定される表面粗さＲｚが、例えば、５～２５μｍとなるように、好ましくは１０～２２μｍ、さらに好ましくは１４～２０μｍになるように調整する。

表面琺瑯層の表面粗さＲｚが上記した範囲を外れ、平坦に近づくと、チョークがすべり、チョークによる板書性が低下するとともに、板書物の視認性が低下する。一方、上記した範囲を外れ凹凸が大きくなりすぎると、チョークによる板書物の消去性が低下するとともに、板書物の視認性が低下する。なお、上記した表面琺瑯層の表面特性は、後記するように、金属基板に塗布する釉薬の組成と、釉薬塗布後の焼成条件の組み合わせを適正範囲とすることにより達成できる。

本発明に係るチョークボードにおいては、表面琺瑯層が上記した表面特性及び色調を有し、板書物の優れた消去性及び板書物の視認性を維持するとともに、ピークゲインが、例えば、０．２８以上で、好ましくはハーフゲインが１３以上である反射特性を有する。

ピークゲインが０．２８未満では、投影した映像が暗く、映像の視認性に劣ることになり、チョークボードが備える映写機能に対する要求を満足することができなくなる。そのため、本発明に係るチョークボードにおいては、例えば、０．２８をピークゲインの下限値としている。なお、ピークゲインは、例えば、好ましくは０．３５～１．０であり、より好ましくは０．３５～０．６０である。また、広い視野角を得るために、ハーフゲインを、例えば、１３以上とすることが好ましい。このため、本発明においては、例えば、０．２８以上のピークゲインと、好ましくは１３以上のハーフゲインを有する反射特性の表面琺瑯層としている。

なお「ピークゲイン」とは、標準白板（完全拡散板：硫酸バリウムを焼き付けた純白板）に光を当てたときの反射輝度に対する、同一条件で測定した被測定黒板の反射輝度の比率をいう。この場合、通常、視野角５°での反射輝度を用いる。また、本発明における「ハーフゲイン」は、反射特性曲線における反射輝度がピークの１／２となった場合の視野角幅（度）をいう。

上記の金属基板上に形成される琺瑯層のうち、最外層の表面琺瑯層におけるＪＩＳ Ｚ ８４７１－１９９７に規定される７５度表面光沢度（Ｇｓ（７５°））の下限は、例えば、１７％であり、好ましくは１７．５％であり、さらに好ましくは１８％である。さらに、７５度表面光沢度（Ｇｓ（７５°））の上限は、例えば、２５％であり、好ましくは２４％であり、さらに好ましくは２３．５％である。

７５度鏡面光沢度（Ｇｓ（７５°））が１７％未満では、チョークによる板書物の消去性が低下するとともに、反射輝度が小さくなり、板書物及び映写された像が不鮮明となる。一方、７５度鏡面光沢度（Ｇｓ（７５°））が２５％を超えると、チョークによる板書性が低下するとともに、ハレーションを起こし易く視野角が狭くなる。

７５度鏡面光沢度（Ｇｓ（７５°））は、後述するように、金属基板に塗布する釉薬に、適正粒径分布を有する酸化チタン被覆粒子、好ましくは酸化チタンを被覆した雲母粒子、を適正量添加し、焼成温度を適正範囲に調整することにより達成できる。

表面琺瑯層は、使用する釉薬を、通常のチョークボード釉薬である透明マット釉薬に、少なくとも適正量の酸化チタン被覆粒子と、あるいはさらに酸化チタン釉薬を配合した釉薬とし、焼成条件を適正範囲に調整することにより生成されている。表面琺瑯層は、酸化チタン被覆粒子を含有しており、これにより、チョークボードにおける鮮映性が向上するとともに、表面に凹凸が形成され拡散反射性が向上し、ハレーションが抑制され、反射特性が向上する。

本発明では、表面琺瑯層には、酸化チタン被覆粒子を表面琺瑯層全量に対する質量％で２～４０％、さらに好ましくは３～２０％含有させることが好ましい。酸化チタン被覆粒子が２質量％未満では反射特性の向上効果が少ない。酸化チタン被覆粒子が４０質量％を超えて含有させると、表面粗さＲｚが過剰に大きくなり、チョ－クによる板書物の消去性が悪化すると共に、明度が大きくなりすぎて、チョ－クによる板書の視認性が低下する。

また、酸化チタン被覆粒子は、例えば、１００μｍ以下の平均粒径を有することが好ましい。さらに好ましくは、酸化チタン被覆粒子は、５～８０μｍである。酸化チタン被覆粒子の平均粒径が５μｍ未満では拡散反射性が低下し、一方、酸化チタン被覆粒子の平均粒径が１００μｍを超えると、表面琺瑯層の表面粗さが過剰に大きくなり、チョークによる板書物の消去性が低下する。なお、ここでいう粒子の平均粒径とは、レーザ回折式粒度分布測定装置を利用して測定した、５０％累積粒子径とする。また、酸化チタン被覆粒子は、雲母粒子の表面に酸化チタンを被覆した粒子とすることが好ましく、雲母粒子は薄板状雲母粒子とすることがより好ましい。

上記特性を有する表面琺瑯層は、透明マット釉薬に、少なくとも酸化チタン被覆粒子を、あるいはさらに酸化チタン釉薬を、あるいはさらには透明グロス釉薬を配合した琺瑯上釉薬を用いて形成された琺瑯層とすることが好ましい。なお、表面琺瑯層の厚さは、剥離性の観点から、例えば、２００μｍ以下とすることが好ましく、より好ましくは１５０μｍ以下である。

上記琺瑯上釉薬を用いて形成された表面琺瑯層は、質量％で、酸化チタン被覆粒子の酸化チタンを含む酸化チタンの合計量をＴｉＯ_２として、例えば、ＴｉＯ_２：０．５～１５％、より好ましくは０．５～１０％未満、さらに好ましくは２～５％を含み、さらに、ＳｉＯ_２：１５～４５％、Ａｌ_２Ｏ_３：５～３０％、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、Ｌｉ_２Ｏから選ばれた１種または２種以上を合計：２～２０％、Ｂ_２Ｏ_３：２～２０％を含む琺瑯層とすることが好ましい。なお、本発明では、黒板の表面琺瑯層には、所望の色を得るために、黒色系顔料、灰色系顔料、緑色系顔料、茶色顔料、黄色系顔料、紺色系顔料のうちから選ばれた顔料を合計で４０質量％以下含んでいてもよい。

次に、本発明に係るチョークボードの好ましい製造方法について説明する。本発明のチョークボードは、金属基板の表面に、琺瑯下釉薬を塗布し、焼成して下地琺瑯層を形成する。下地琺瑯層を形成した後又は下地琺瑯層を形成することなく、透明マット釉薬に少なくとも酸化チタン被覆粒子又はさらに酸化チタン釉薬又はさらに透明グロス釉薬を配合した琺瑯上釉薬を、金属基板の表面に塗布し、例えば、４００～８５０℃において焼成し表面琺瑯層を形成する。なお、金属基板は、例えば、冷延鋼板、アルミめっき鋼板、Ｚｎ－Ａｌ合金めっき鋼板等とすることが好ましい。

例えば、金属基板として冷延鋼板を用いる場合、好ましくは冷延鋼板にＮｉめっきを施した後、冷延鋼板（金属基板）表面に琺瑯下釉薬を塗布し、焼成して下地琺瑯層を形成する。琺瑯下釉薬としては、特に限定されず、従来の琺瑯製黒板で使用される琺瑯下釉薬がいずれも好適である。琺瑯下釉薬の塗布は、スプレー、ロールコータ等の公知の塗布方法がいずれも適用できる。

琺瑯下釉薬としては、とりわけ、例えば、固形分全量に対する質量％で、ＳｉＯ_２：２０～８０％含有し、残部として、ＴｉＯ_２：０～１５％、ＺｒＯ_２：０～２０％、Ｂ_２Ｏ_３：０～２５％、Ａｌ_２Ｏ_３：０～２５％、Ｎａ_２Ｏ：０～２０％、Ｌｉ_２Ｏ：０～２０％、Ｋ_２Ｏ：０～２０％、ＰｂＯ：０～４０％、ＺｎＯ：０～５０％、ＢａＯ：０～１５％、ＣａＯ：０～１５％、ＣａＦ_２：０～１０％、ＣｏＯ：０～２０％、ＮｉＯ：０～２０％、ＭｎＯ：０～２０％などを含有するＳｉＯ_２系釉薬とすることが好ましい。

得られた下地琺瑯層の表面に琺瑯上釉薬を塗布し、その後、６００～８５０℃で焼成し表面琺瑯層を形成する。琺瑯上釉薬の塗布は、スプレー、ロールコータ等の公知の塗布方法がいずれも適用できる。

琺瑯上釉薬は、透明マット釉薬（フリット）に、あるいは、透明マット釉薬（フリット）１００重量部に対し、酸化チタン釉薬（フリット）を１００～２０重量部、あるいはさらに透明グロス釉薬（フリット）２０重量部以下を添加した釉薬に、適正量の酸化チタン被覆粒子を添加した釉薬とすることが好ましい。また、酸化チタン被覆粒子の添加量は、透明マット釉薬又は混合した釉薬（スリップ）：１００重量部（焼成後の重量換算）に対し、１～２５重量部とすることが好ましい。

琺瑯上釉薬は、透明マット釉薬のフリットと、あるいは、透明マット釉薬、酸化チタン釉薬、あるいはさらに透明グロス釉薬のフリットと、必要に応じて各種添加物及び顔料と、水との混合物の粉砕で得られた泥状物（スリップ）に、適正量の酸化チタン被覆粒子粉末を添加し、回転粉砕しながら混合して粘性のある液体として得られる。表面琺瑯層に使用される上記琺瑯上釉薬１００ＣＣを３２５ＭＥＳＨの篩にかけて乾燥させた場合、重量範囲が０．５～１．５ｇの乾燥残滓が得られるようになっている。

琺瑯上釉薬から得られる乾燥残渣が上記重量範囲を外れると、琺瑯上釉薬を調製する際の材料同士の溶け具合が十分でなく、例えば、界面の展開面積率（Ｓｄｒ）、山頂点の主曲率の平均（Ｓｐｃ）、７５度鏡面光沢度（Ｇｓ（７５°））等の表面性状が本発明の範囲から外れることになる。琺瑯上釉薬における乾燥残渣の重量範囲は、回転粉砕による工程時間により調整される。

なお、顔料として、チョークボードの所望の色調に合わせて、黒色系顔料、灰色系顔料、緑色系顔料、茶色系顔料、黄色系顔料、紺色系顔料のいずれか単独あるいは複合して添加する必要がある。顔料の添加量としては、スリップ：１００重量部（焼成後の重量換算）に対し合計で２０重量部以下とすることが好ましい。添加量が２０重量部を超えて多くなると、スリップの流動性が低下する。

なお、透明マット釉薬（フリット）としては、固形分全量に対する質量％で、ＳｉＯ_２：３０～４５％、Ａｌ_２Ｏ_３：２０～３５％、Ｂ_２Ｏ_２：５～１５％、Ｋ_２Ｏ：５～１５％、Ｎａ_２Ｏ：１０～２５％を含み、残部として、ＢａＯ：０～１５％、ＣａＯ：０～１５％、Ｆ_２：０～１０％、ＴｉＯ_２：０～１０％などを含む釉薬とすることが好ましい。

酸化チタン釉薬（フリット）としては、固形分全量に対する質量％で、ＴｉＯ_２を１０～３０％含有し、残部として、ＳｉＯ_２：０～８０％、Ａｌ_２Ｏ_３：０～２０％、Ｂ_２Ｏ_３：０～２５％、Ｎａ_２Ｏ：０～２０％、Ｋ_２Ｏ：０～２０％、Ｌｉ_２Ｏ：０～２０％、Ｐ_２Ｏ_５：０～１０％、ＺｒＯ_２：０～２０％、ＢａＯ：０～１５％、ＣａＯ：０～１５％、ＭｇＯ：０～５％、ＰｂＯ：０～４０％、ＺｎＯ：０～５０％、ＣａＦ_２：０～１０％などを含む釉薬とすることが好ましい。なお、酸化チタン釉薬の顔料である酸化チタンに代えて、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛のうちの１種または２種以上の顔料としてもよい。

透明グロス釉薬（フリット）としては、固形分全量に対する質量％で、ＳｉＯ_２：４０～６５％を含み、残部として、Ｂ_２Ｏ_３：５～２０％、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、Ｌｉ_２Ｏのいずれか１種以上を合計で５～４０％、Ｆ_２：０～１０％、Ａｌ_２Ｏ_３：０～１０％、ＣａＯ：０～１０％、ＴｉＯ_２：０～１０％、ＺｎＯ：０～１０％、ＭｇＯ：０～５％などを含む釉薬とすることが好ましい。なお、酸化チタン釉薬の顔料である酸化チタンに代えて、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛のうちの１種または２種以上の顔料としてもよい。

焼成温度が、６００℃未満では、表面粗さが粗くなりすぎて、反射特性が低下する。一方、８５０℃を超えると、表面が平滑になりすぎて、チョークによる板書の視認性、チョークによる板書性及び板書物の消去性が低下する。

また、金属基板としてアルミニウムめっき鋼板またはＺｎ－Ａｌ合金めっき鋼板を用いる場合には、金属基板表面に、琺瑯上釉薬を塗布し、例えば、４００～６００℃で焼成し表面琺瑯層を形成することが好ましい。

なお、この場合には、めっき層の溶融防止の観点から、低融点の琺瑯上釉薬を用いる必要がある。このため、上記した透明マット釉薬に代えてリン酸を配合した釉薬に、酸化チタン被覆粒子を、あるいはさらに酸化チタン釉薬を、配合してなる琺瑯上釉薬とすることが好ましい。リン酸を配合した釉薬中のリン酸の含有量は、例えば、４０質量％以上であり、好ましくは８０質量％以下であり、さらに好ましくは７０質量％以下である。

リン酸を配合した釉薬（フリット）としては、固形分全量に対する質量％で、Ｐ_２Ｏ_５：４０～８０％を含有し、残部として、ＳｉＯ_２：０～４０％、Ａｌ_２Ｏ_３：０～５０％、Ｂ_２Ｏ_３：０～２５％、Ｎａ_２Ｏ：０～２０％、Ｋ_２Ｏ：０～２０％、Ｌｉ_２Ｏ：０～２０％、ＴｉＯ_２：０～３０％、Ｓｂ_２Ｏ_３：０～２５％、ＺｎＯ：０～２０％、ＢａＯ：０～１５％、ＣａＯ：０～１５％、ＭｇＯ：０～５％、ＰｂＯ：０～１０％、ＳｒＯ：０～２０％などを含む釉薬とすることが好ましい。

なお、金属基板としてアルミニウムめっき鋼板またはＺｎ－Ａｌ合金めっき鋼板を用いる場合には、めっき層の溶融防止の観点から、低融点の琺瑯上釉薬を用いるため、密着性が向上し、琺瑯下釉薬の塗布は必須ではない。また、金属基板としてアルミニウムめっき鋼板またはＺｎ－Ａｌ合金めっき鋼板を用いる場合、焼成温度が、４００℃未満では、琺瑯層の密着性が低下する。一方、６００℃を超えると、めっき層が溶融するという問題が生じる。

表面琺瑯層における展開面積率（Ｓｄｒ）、主曲率の平均（Ｓｐｃ）及び７５度鏡面光沢度（Ｇｓ（７５°））がそれぞれ、上記の上限及び下限の範囲内にあるサンプル（実施例１，２）と、上記の上限及び下限の範囲外にあるサンプル（比較例１～３）を準備して、チョークボードのサンプルそれぞれの表面琺瑯層における展開面積率（Ｓｄｒ）、主曲率の平均（Ｓｐｃ）及び７５度鏡面光沢度（Ｇｓ（７５°））と消去性との関係について調査した。実施例１，２は、上記実施の形態に記載した重量範囲における乾燥残渣が得られるように調製された琺瑯上釉薬を用いて製造されている。

（１）展開面積率（Ｓｄｒ）
各サンプルにおける展開面積率（Ｓｄｒ）は、キーエンス社製の白色干渉計搭載レーザ顕微鏡（ＶＫ－Ｘ３００）を用い、ＩＳＯ ２５１７８に準拠して求めた。

（２）主曲率の平均（Ｓｐｃ）
各サンプルにおける山頂点の主曲率の平均（Ｓｐｃ）は、キーエンス社製の白色干渉計搭載レーザ顕微鏡（ＶＫ－Ｘ３００）を用い、ＩＳＯ ２５１７８に準拠して求めた。

（３）７５度表面光沢度（Ｇｓ（７５°））
各サンプルにおける７５度表面光沢度（Ｇｓ（７５°））は、村上色彩技術研究所製の携帯用光沢度計ＧＭＸ２０３を用い、ＪＩＳ Ｚ ８４７１－１９９７に準拠して求めた。

各サンプルの表面琺瑯層における展開面積率（Ｓｄｒ）、主曲率の平均（Ｓｐｃ）及び７５度鏡面光沢度（Ｇｓ（７５°））並びに各サンプルの消去性に関する評価を下記表１に示す。

各サンプルに、ＪＩＳ Ｂ ６００７の規定に準拠して、白、黄、赤の各チョークを横に寝かせて軽く各サンプルの表面をこすり３列の線を板書した。次いで、フェルト製のイレーザを備えた所定の機械により７００ｇの荷重をかけて各チョークの線を交差するように３往復して擦って、消去性について判定した。一往復ごとに各チョークボードから１ｍ離れた位置でチョークボードを見て、各サンプルにおけるチョークごとの線が完全に消えている場合を「３点」、線のエッジが視認できる場合を「２点」、線全体がうっすらと視認できる場合を「１点」、線が残っていることを視認できる場合を「０点」として、消去性を数値化した。

消去性の総得点が「２０」を越えるサンプルを「○」とし、総得点が「１５～１９」であるサンプルを「△」とし、総得点が「１４」以下であるサンプルは「×」と評価した。

表１から分かるように、本発明に係る実施例１，２については、消去性の総合点がいずれも「２４点」であり「２０点」を越え、評価としても「○」となり、板書によるチョークの線の消去性に関して優れていることが証明された。特に、実施例１，２は、それぞれ、一往復後の評価が白、黄、赤いずれのチョークにおいても「２点」を獲得しており、二往復以降の評価は、いずれの線においても「３点」であった。つまり、実施例１，２においては、二往復目においてチョークの線が完全に消えていた、という評価であった。

これに対して、比較例１においては、一往復後の評価が白、黄、赤いずれのチョークにおいても「１点」、二往復後の評価は、いずれの線においても「２点」となり、三往復後の評価は、いずれの線においても「３点」となり、総合点は「１８」であり、評価としては「△」であった。二往復までの消去性が実施例１，２と比べて劣っており、チョークごとの板線が完全に消えるまでに三往復を要した。

また、比較例２においては、一往復後の評価が白、黄、赤いずれのチョークにおいても「０点」、二往復後の評価は、いずれの線においても「２点」となり、三往復後の評価は、白線が「２点」、黄線及び赤線のいずれにおいても「３点」となり、総合点は「１４点」であり、評価としては「×」であった。二往復までの消去性が実施例１，２と比べて劣っており、三往復目において黄線及び赤線は消えていたが、白線がうっすらと残っていた。

また、比較例３においては、一往復後の評価が白、黄、赤いずれのチョークにおいても「０点」、二往復後の評価は、いずれの線においても「１点」となり、三往復後の評価は、いずれの線においても「２点」となり、総合点は「９点」であり、評価としては「×」であった。二往復までの消去性が実施例１，２と比べて劣っており、三往復目においても全ての線がうっすらと残っており、実施例１，２の消去性に対して大きく劣っていた。

上述のように、展開面積率（Ｓｄｒ）、主曲率の平均（Ｓｐｃ）及び光沢度（Ｇｓ（７５°））が本発明の範囲内にある実施例１，２は、本発明の範囲を外れる比較例１～３に比して、板書物の消去性の点において優れていた。

＜その他＞
以上、本発明の好適な実施の形態等について説明したが、本発明は上記の実施の形態等に限定されるものではなく、本発明の概念及び特許請求の範囲に含まれるあらゆる態様を含む。また、上述した課題及び効果の少なくとも一部を奏するように、各構成を適宜選択的に組み合わせてもよい。また、例えば、上記実施の形態等における各構成要素の形状、材料、配置、サイズ等は、本発明の具体的使用態様によって適宜変更され得る。

例えば、上記実施の形態におけるチョークボードは、板書・映写兼用のチョークボードであったが、特に、表面琺瑯層における展開面積率（Ｓｄｒ）、主曲率の平均（Ｓｐｃ）及び光沢度（Ｇｓ（７５°））について本発明の範囲内にあれば板書専用のチョークボードであってもよい。

また、チョークボードにおいては、表面琺瑯層における展開面積率（Ｓｄｒ）、主曲率の平均（Ｓｐｃ）及び光沢度（Ｇｓ（７５°））の少なくとも１つが本発明の範囲内にある実施の形態であってもよい。

Claims (5)

1. 金属基板上に、少なくとも一層の琺瑯層を有するチョークボードであって、
   前記琺瑯層のうち最外層の表面琺瑯層が以下の条件１及び条件２のうち少なくとも１つの条件及び条件３を満たすことを特徴とするチョークボード。
   条件１：前記表面琺瑯層の界面の展開面積率（Ｓｄｒ）が３０％以下である。
   条件２：前記表面琺瑯層の山頂点の主曲率の平均（Ｓｐｃ）が４０００μｍ^－１以下である。
   条件３：前記表面琺瑯層の７５度鏡面光沢度（Ｇｓ（７５°））が１７％以上である。
2. 前記表面琺瑯層の界面の展開面積率（Ｓｄｒ）が２０％以下であることを特徴とする請求項１に記載のチョークボード。
3. 前記表面琺瑯層の山頂点の主曲率の平均（Ｓｐｃ）が３０００μｍ^－１以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載のチョークボード。
4. 前記表面琺瑯層の７５度鏡面光沢度（Ｇｓ（７５°））が２０％以上であることを特徴とする請求項１から３までのいずれか一項に記載のチョークボード。
5. 前記条件１、前記条件２及び前記条件３を満たすことを特徴とする請求項１から４までのいずれか一項に記載のチョークボード。