KR101164859B1 - 스크린 및 칠판 겸용 무광택 판재의 제조방법 - Google Patents

스크린 및 칠판 겸용 무광택 판재의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 스크린 및 칠판 겸용 무광택 판재의 제조방법에 관한 것으로, 좀 더 상세히 설명하면 유리 또는 금속 기판의 표면에 광학적으로 이방성을 갖는 이방성 코팅층을 형성하고 그 표면을 연마함으로써, 판서용으로 사용할 경우에는 필기성 및 지움성이 우수하고, 스크린용으로 사용할 경우 해상도가 높고 특히 단초점 프로젝터용 스크린으로 사용하기에 적합한 무광택 판재의 제조방법에 관한 것이다.

Description

스크린 및 칠판 겸용 무광택 판재의 제조방법{A preparing method of non-glared board useful for projection screen and writing}
본 발명은 스크린 및 칠판 겸용 무광택 판재의 제조방법에 관한 것으로, 좀 더 상세히 설명하면 유리 또는 금속 기판의 표면에 광학적으로 이방성을 갖는 이방성 코팅층을 형성하고 그 표면을 연마함으로써, 판서용으로 사용할 경우에는 필기성 및 지움성이 우수하고, 스크린용으로 사용할 경우 해상도가 높고 특히 단초점 프로젝터용 스크린으로 사용하기에 적합한 무광택 판재의 제조방법에 관한 것이다.
최근 판서용으로 사용되는 칠판이나 화이트보드(White-board)의 문제점을 보완하기 위하여 유리를 이용한 유리칠판이 개발되어 있다. 이러한 유리칠판은 화이트보드와 마찬가지로 전용 필기도구를 사용하기 때문에 분필가루가 날릴 우려가 없고 바탕 색상을 다양하게 구성할 수 있으며, 내구성이 강한 장점이 있다. 그러나, 표면 광택도가 너무 높기 때문에 필기내용이 잘 보이지 않는 사각지대가 생기기도 하고, 눈이 쉽게 피로해지는 문제점이 있어서 이에 대한 개선의 필요성이 요구되어 왔다.
일반적으로 유리기판의 표면에 미세한 요철을 형성하여 표면 반사율을 낮추는 방법으로는, 예컨대, 불산 등과 같은 산성 에칭(Etching)용액으로 유리 표면을 부식시키는 산 부식법이나, 작은 모래입자를 고압, 고속으로 분사하여 미세 요철을 형성하는 샌드블라스팅(Sandblasting)법, 그리고 유리기판에 유리보다 굴절율이 높거나 낮은 박막, 예컨대 굴절율이 1.5 정도인 이산화규소(SiO2)와 굴절율이 2.2 이상인 이산화티타늄(TiO2) 등을 순차 적층하는 방법 등이 알려져 있다.
상기와 같은 방법으로 제조된 무광택 유리기판은 유리칠판으로 사용되기도 하지만, 종종 빔 프로젝터와 같은 영사기기의 스크린(screen)으로 사용되기도 한다. 그래서 본 발명자는 스크린 및 유리칠판으로 사용 가능한 무광택 유리기판에 관한 특허를 출원 및 등록받은 바 있다.
먼저, 국내 특허등록 제10-0751444호(등록일자; 2007년 08월 16일)에는, 용융온도가 480~600℃인 저융점 유리분말 75~97 중량부와, 용융온도가 580~740℃인 고융점 유리분말 또는 미세유리구 3~25 중량부와, 비히클(vehicle) 10~40 중량부를 혼합하여 프리트(frit) 조성물을 제조하는 단계와; 유리기판의 일면에 상기 프리트 조성물을 10~40㎛의 두께로 도포하는 단계와; 상기 유리기판을 상기 고융점과 저융점 사이의 중간온도에서 열처리하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 무광택 유리기판의 제조방법이 소개되어 있다.
또한, 국내 특허등록 제10-0769240호(등록일자; 2007년 10월 16일)에는, 융점이 40~720℃이고 열팽창 계수가 80~95-7/℃ 인 유리입자를 사용하되 입자크기가 0.5~5㎛ 인 미세 유리입자 40~70 중량부와 입자크기가 5~15㎛ 인 거대 유리입자 1~30 중량부 및 비히클(vehicle) 20~40 중량부로 이루어진 프리트(frit) 조성물을 제조하는 단계와; 유리기판의 일면에 상기 프리트 조성물을 20~45㎛의 두께로 도포하는 단계와; 상기 유리기판을 640~720℃의 온도에서 열처리하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 무광택 유리기판의 제조방법이 소개되어 있다.
그러나 상기와 같은 기술들은 기본적으로 유리 기판을 대상으로 한다는 점에서 기술적인 한계가 있고, 나아가 상기 유리 기판을 스크린으로 사용할 경우, 휘도가 낮도 해상도가 다소 부족하다는 점에서 개선의 여지가 남아 있었다.
또한, 국내 특허등록 제10-1024302호(등록일자; 2011년 03월 16일)에는, 두께가 2~10mm인 유리기판의 전면을 입도가 200~1500 메쉬인 모래 또는 금강사로 샌드 블라스팅(Sandblasting)한 다음, 산 용액으로 1~3회 부식처리 하여 광택도가 5~60 이고, 표면 거칠기가 0.05~1.0㎛인 저반사 요철면을 형성하는 단계와; 상기 유리기판의 배면에 펄(Pearl) 분말의 함량이 5~30 중량% 포함된 도료용 합성수지를 30~60㎛의 두께로 도포하여 스크린층을 형성하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 영사막 겸용 유리칠판의 제조방법이 소개되어 있다.
상기 영사막 겸용 유리칠판에서는 유리기판의 전면으로 입사된 빛이 기판을 통과하여 그 배면에 도포된 스크린층에서 반사된 다음, 그 반사광이 유리기판의 전면에서 영상으로 나타나게 된다. 따라서 입사광이 상기 스크린층에 도달하는 과정에서 직진하지 않고 미세하게 굴절되는 현상이 발생하고, 이 빛이 스크린층에 반사되어 전면으로 나올 때 다시 굴절 현상이 발생하기 때문에 영사막의 전면에서 선명한 영상을 발현하는데 한계가 있고, 특히 프로젝터의 초점이 1m 이내인 단초점 프로젝터용 영사막으로 사용하기에는 적합하지 않은 문제가 있었다.
한편, 스크린 겸용 칠판으로서 유리 기판 대신에 알루미늄이나 구리 등과 같은 금속 기판 위에 법랑(porcelain enamel, 琺瑯)을 입힌 제품도 개발되고 있다. 그러나, 이 경우 금속 기판과 법랑층 사이의 접합력 및 표면 처리의 문제, 즉 철판에 법랑질을 입히고 열처리하는 과정, 즉 소성되는 과정에서 표면이 유리화 되어 표면 거칠기(Surface Roughness)가 낮아져서 결국 반사율이 높아지는 결과를 초래한다. 칠판 및 스크린에서 요구되는 무광택 저반사 효과를 기대하기 어려운 단점이 있었다. 그 뿐 아니라, 다양한 색상의 제품을 제조할 수 없고, 사용 시간이 경과하면서 법랑층에 미세균열이 발생하기 때문에 지움성의 저하와 같은 문제가 발생하게 된다.
1. 특허 제10-1024302호(2011년 03월 16일, 주식회사 에스엘디) 2. 특허 제10-0751444호(2007년 08월 16일, 주식회사 에스엘디) 3. 특허 제10-0751444호(2007년 08월 16일, 주식회사 에스엘디)
이에 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 스크린으로 사용시에는 표면 반사율이 낮고 휘도가 높아서 해상도가 우수하고, 특히 프로젝터의 초점이 1m 이내인 단초점 프로젝터용 영사막으로 사용하기에 적합하며, 또한 판서용 칠판으로 사용시에는 눈의 피로가 적고 필기성 및 지움성이 개선된 스크린 및 칠판 겸용 무광택 판재의 제조방법을 제공하는 것이다.
또한 본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 필요에 따라 유리 기판이나 금속 기판을 선택적으로 사용 할 수 있는 스크린 및 칠판 겸용 무광택 판재의 제조방법을 제공하는 것이다.
상기와 같은 기술적 과제를 해결하기 위하여 본 발명에 따른 스크린 및 칠판 겸용 무광택 판재의 제조방법은, 연화점이 340~560℃인 저융점 유리분말 100 중량부에 대하여, 광학적으로 이방성을 나타내며 평균입도가 1~25㎛인 이방성 세라믹 입자 3~25 중량부와 비히클(vehicle) 10~40 중량부를 포함하는 코팅 페이스트를 제조하는 (A)단계와; 유리 또는 금속기판 위에 상기 코팅 페이스트를 도포하고 건조하여 두께가 10~100㎛인 이방성 코팅층을 형성하는 (B)단계와; 상기 (B)단계의 기판을 620~720℃의 온도에서 열처리하는 (C)단계와; 상기 (C)단계의 기판에서 이방성 코팅층이 도포된 표면을 5~17의 광택도를 갖도록 연마하는 (D)단계; 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명에서 상기 이방성 세라믹 입자는 운모 분말, 방해석 분말, 산화알미늄 분말, 또는 연화점이 560~780℃이고 고굴절 박막이 코팅된 미세유리구 중에서 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 한다.
그리고, 상기 미세 유리구에 코팅된 고굴절 박막은 이산화티타늄(TiO2), 산화네오비움(NbO), 산화주석(SnO2), 질화규소(SiN) 등과 같은 물질을 증착, 도포하여서 형성된 것을 특징을 한다.
본 발명에 따라 제조된 무광택 판재는 영사막으로 사용할 경우 전면 반사형으로서 판재 전면에 형성된 이방성 코팅층에 의해서 해상도가 우수한 영상을 제공할 수 있으며, 특히 단초점 프로젝터용 영사막으로 사용하기에 적합한 효과가 있다. 또한 상기 무광택 판재를 판서용으로 사용할 경우에는 표면 반사율이 낮아서 눈의 피로가 적고, 나아가 필기성 및 지움성이 우수한 효과가 있다.
또한 본 발명에 따른 스크린 및 칠판 겸용 무광택 판재의 제조방법은 유리 기판과 금속 기판에 모두 적용 가능하기 때문에 사용 목적에 따라 유리 기판과 금속 기판을 선택적으로 사용하여 다양한 성능과 기능을 갖는 제품을 생산할 수 있는 장점이 있으며, 나아가 종래 기술에 비해 제조공정이 간편하고, 제조비용이 저렴한 효과가 있다.
본 발명에 따른 스크린 및 칠판 겸용 무광택 판재의 제조방법은, 이방성 세라믹 입자를 포함하는 코팅 페이스트(coating paste)를 제조하는 (A)단계와, 유리 또는 금속 기판 위에 상기 코팅 페이스트를 도포하여 이방성 코팅층을 형성하는 (B)단계와, 코팅 페이스트가 도포된 기판을 열처리 하는 (C)단계와, 열처리된 기판의 이방성 코팅층을 연마하는 (D)단계로 이루어진다.
먼저 상기 (A)단계에서는 연화점이 340~560℃인 저융점 유리분말 100 중량부에 대하여, 광학적으로 이방성을 나타내며 평균입도가 1~25㎛인 이방성 세라믹 입자 3~25 중량부와, 비히클(vehicle) 10~40 중량부를 포함하는 코팅 페이스트를 제조한다.
이때 상기 저융점 유리분말 특별한 제한은 없으나, 평균입도가 3㎛ 이하이고, 구성성분은 SiO2 10~35%, PbO 또는 Bi2O3 40~78%, B2O3 5~15%, RO 또는 R2O 0.5~10%(여기서, R은 Na, Ca 또는 K 중에서 선택된 어느 하나 임), 기타 TiO2, ZrO2, ZnO 또는 CaF2 1~10%로 이루어지는 것을 사용하는 것이 바람직하다.
다음으로 본 발명의 특징인 상기 이방성 세라믹 입자로는 운모 분말, 방해석 분말, 산화알미늄 분말, 또는 연화점이 560~780℃이고 고굴절 박막이 코팅된 미세유리구 중에서 선택된 어느 하나 이상을 사용한다. 이때, 상기 미세 유리구에 코팅된 고굴절 박막은 이산화티타늄(TiO2), 산화네오비움(NbO), 산화주석(SnO2), 질화규소(SiN) 등과 같은 물질을 증착, 도포하여서 형성된 것이다.
본 발명에서‘이방성(anisotropy, 異方性)’이라 함은, 어떤 물질이 방향에 따라 광학적으로 서로 다른 성질을 갖는 것을 말한다. 그래서 상기 이방성 세라믹 입자에 빛이 입사되면, 복굴절이 일어나면서 입사광이 정상 광선과 이상 광선으로 나뉘어져서 각각 서로 다른 방향으로 난반사된다. 따라서 상기 이방성 세라믹 입자는 반사광을 산란시켜서 표면 광택도를 낮추어주는 기능을 하면서 고휘도 영상을 나타나게 된다.
또한, 상기 미세유리구에 피복된 고굴절 박막은 매질과 다른 굴절율, 즉 고굴절율을 갖기 때문에 고반사 특성을 나타낸다. 따라서 입사광은 상기 고굴절 박막에 의해서 흡수되지 않고 전반사하므로 선명한 영상을 나타낼 수 있게 된다. 즉 스크린 전면에서 보면, 미세산란으로 인한 무반사 특성, 즉 입사광의 핫 스팟(빛의 맺힘 현상으로서, 국부적인 고반사에 의해서 발생하며 시인성 저하의 원인이 됨)이 생기지 않으면서도 선명한 영상을 제공하게 된다.
본 발명에서는 상기 이방성 세라믹 입자의 크기에 따라 장차 스크린에 투영되는 영상물의 해상도가 달라지기 되는데, 만일 이방성 세라믹 입자의 평균입도가 1㎛ 미만이면 스크린에서 원하는 휘도를 얻을 수 없고, 반대로 25㎛ 이상이면, 상기 이방성 세라믹 입자 때문에 영상물의 촛점이 흔들리는 현상, 즉 대비 효과 및 선명도가 저하되는 문제가 발생하여 선명한 영상을 볼 수가 없게 된다.
또한, 상기 이방성 세라믹 입자의 색상은 은색 계통을 사용하는 것이 영사막으로 사용하기에 적합하다. 백색 계통의 입자를 사용하면, 스크린의 백색도가 너무 높아서 영상물의 대비 효과가 다소 떨어지는 현상이 나타난다. 그러나 판서용으로 사용할 경우에는 은색 계통 보다는 백색 계통의 이방성 세라믹 입자를 사용했을 때 오히려 더 선명한 영상을 얻을 수 있다.
그리고 상기 이방성 세라믹 입자의 함량이 저융점 유리분말 100 중량부에 대하여 3 중량부 미만이면 스크린의 휘도가 낮아져서 영사물의 대비 효과와 선명도가 낮아지는 문제가 있고, 반대로 25 중량부 이상이면 다음 (B)단계에서 형성되는 이방성 코팅층의 균질도가 불량해져서 결과적으로 스크린 영상의 선명도가 저하되는 문제가 있다.
다음으로 상기 비히클(vehicle)은 상기 저융점 유리분말과 이방성 세라믹 입자를 물리적으로 결합시켜서 다음 (B)단계에서 도포작업이 가능한 페이스트(paste) 상태로 만들어 주는 기능을 하는 것으로서, 예컨대 테르핀유나 송진유를 사용하는 것이 바람직하다. 이때, 비히클의 함량이 10 중량부 이하이면, 상기 코팅 페이스트가 균일하게 혼합되지 않고 구성성분 중 일부가 분말상태로 남게 될 우려가 있고, 반대로 40 중량부 이상이면, 층 분리가 일어날 우려가 있어서 좋지 않다.
한편, 상기 코팅 페이스트는 선택적으로 안료 1~15 중량부를 포함할 수 있다. 상기 안료는 장차 스크린의 휘도 및 콘트라스트를 향상시키는 기능을 하며, 형광안료나 백색안료, 회색안료 또는 청록색 안료를 사용하는 것이 바람직하다.
다음으로 (B)단계에서는 상기 (A)단계에서 제조된 코팅 페이스트를 유리 또는 금속기판의 일면에 도포하고 건조하여 두께가 10~100㎛인 이방성 코팅층을 형성한다. 상기 유리기판은 투명 유리를 사용할 수도 있고, 착색 유리를 사용할 수도 있다. 상기 유리기판로서 투명 유리를 사용할 경우에는 상기 (A)단계에서 안료가 포함된 코팅 페이스트를 사용하는 것이 바람직하다.
상기 유리기판은 일반적인 창호 유리를 사용할 수 있는데 연화점이 540~620℃ 이고, 두께가 2~10mm인 것을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 금속기판으로는 알루미늄, 구리, 아연 강판 등과 같이 비교적 저온에서 안정하면서도 열적 내구성이 우수한 법랑 형성이 쉬운 재질의 기판으로서 두께가 0.5~2mm 인 것을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 기판 위에 코팅 페이스트를 도포하는 방법은 통상적인 방법을 사용할 수 있으나, 바람직하기로는 상기 프리트 조성물에 알코올류나 광유 등 적당한 희석유를 첨가하여 점도를 10,000 센티포아즈 정도로 조절한 다음, 예컨대 폴리에스터 메쉬를 이용한 스크린 인쇄방법으로 도포하는 것이 편리하다.
본 발명에서 금속기판을 사용할 경우에는 금속기판 위에 먼저 두께 가 5~25㎛인 프라이머층을 도포하고, 그 위에다 두께가 5~75㎛인 이방성 코팅층을 형성하는 것이 바람직하다. 이때 상기 프라이머층은 금속기판과 이방성 코팅층의 접착력을 향상시켜 주는 것으로 열팽창계수가 400 x 10-7/℃ 인 저윰점 프리트(Frit)를 사용하는 것이 바람직하다. 그리고, 상기 프라이머층 위에 도포되는 이방성 코팅층의 두께가 5㎛ 이하이면 코팅층의 표면에 요철이 부족하여 반사광의 산란 효과가 부족하게 될 우려가 있고, 반대로 두께가 75㎛ 이상이면, 금속기판과 이방성 코팅층 사이의 미세한 열적 성질의 차이에 의해서 이방성 코팅층이 박리 또는 열 파손 될 우려가 있어서 좋지 않다.
다음 (C)단계에서는 이방성 코팅층이 도포된 기판을 620~720℃에서 열처리 한다. 상기 열처리 온도는 상기 저융점 유리분말만 용해되고, 상기 이방성 세라믹 입자 및 기판의 형상은 변형되지 않는 온도로서 예컨대 7개의 열처리 영역으로 나누어 실시하는 것이 바람직하다. 즉, 열처리 강화로의 투입구부터 인출부까지 온도 구배를 두는 것을 의미한다. 이렇게 하면, 저융점 유리분말이 용해되어 상기 이방성 세라믹 입자 사이의 미세공극을 채워주면서 동시에 이들을 기판의 표면에 고착시킨다.
이때 상기 열처리 온도가 620℃ 미만이면 사용하는 상기 저융점 유리분말이 단시간 내에 충분히 융착하지 않아서 원하는 이방성 코팅층을 형성하지 못할 가능성이 있고, 반대로 720℃ 이상이면 상기 기판이 고온 변형을 일으켜 평탄한 형상을 얻기 어려울 뿐만 아니라, 표면 반사율이 높아지는 문제가 있다.
이와 같이 본 발명에서는 기판 표면의 반사광을 산란시키기 위하여 이방성 세라믹 입자를 사용하고, 상기 이방성 세라믹 입자를 기판에 고착시키기 위하여 저융점 유리분말을 사용하며, 상기 세라믹 입자와 상기 유리분말을 기판 표면에 도포하기 위하여 비히클(vehicle)을 사용하는 것이다.
마지막으로 (D)단계에서는 열처리된 기판의 표면, 즉 상기 이방성 코팅층의 표면을 연마하되, 5~17의 표면 광택도를 갖도록 연마한다. 상기 (C)단계에서 열처리된 이방성 코팅층의 표면에는 상기 이방성 세라믹 입자들이 원형 그대로 거칠게 돌출되어 있기 때문에 특히 판서용으로 사용할 경우에 지움성이 불량한 문제가 있다. 그래서 상기 이방성 코팅층의 표면을 기계적, 화학적 또는 기계-화학적 방법으로 연마하는 것이다. 이때, 상기 연마 방법에는 특별한 제한은 없으나, 예컨대 입도가 80~2000 mesh인 산화세륨, 산화알루미늄, 탄화규소, 화산재 등을 연마재로 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에서는 상기 (B)단계에서 유리 기판을 사용할 경우, 안전성과 기능성을 향상시키기 상기 (D)단계의 표면 연마가 끝난 무광택 유리 기판의 이면에 플라스틱판이나 합판 등의 보강판을 부착할 수도 있고, 파손시 유리가 비산하는 것을 방지하기 위하여 보강필름을 접착할 수도 있다. 상기와 같은 방법으로 제조된 무광택 판재는 판서용 칠판으로는 물론, 특히 프로젝터의 초점이 1m 이내인 단초점 프로젝터의 스크린으로 사용하기에 적합하다.
일반적으로 통상적인 프로젝터는 스크린과 프로젝터의 거리가 1m 이상 떨어져 있으면서 입사각도가 15°이내인데 반하여 단초점 프로젝터는 스크린과의 거리가 대개 즉 60~100㎝ 정도로서 스크린의 최상단 또는 최하단에서는 45~75°이상의 큰 각도로 빛이 입사된다. 따라서 이러한 단초점 프로젝터용 스크린은 배면 반사형이 아니라 전면 반사형을 사용해야 한다.
앞서 설명한 바와 같이 본 발명에 따라 제조되는 무광택 판재는 전면 반사형으로서 그 표면에 이방성 코팅층이 도포되어 있기 때문에 종래의 필름형, 또는 롤형 스크린과 같은 특성을 발현할 수 있고, 특히 스크린의 크기에 관계없이 화면 전체에서 고른 고휘도 영상을 나타나게 된다.
한편, 상기 단초점 프로젝터용 스크린을 전자칠판으로 사용하기 위해서는 스크린에 입사된 정보의 위치를 기억시키는 얼라이닝(Aligning)이 가능 해야 한다. 그런데, 종래의 필름형이나, 롤형 또는 법랑형 스크린의 경우에는 온도나 습도 등 외부 요인에 의해여 뒤틀림이나 변형이 쉽게 발생하기 때문에 이들을 전자칠판으로 사용할 경우에는 매번 얼라이닝을 다시 해야 하는 불편함이 있다. 그러나 본 발명에 따라 제조되는 무광택 판재는 스크린의 평탄도가 매우 우수하고 주변 환경에 따라 변형이 거의 일어나지 않기 때문에 이를 전자칠판으로 사용하는 경우에도 얼라이닝을 자주할 필요가 없이 계속 사용할 수 있는 편리함이 있다.
이하, 본 발명에 대한 실시예를 들어 보면 다음과 같다. 그러나 하기 실시예들이 본 발명의 권리범위를 제한하는 것은 아니다.
용융온도가 500℃ 인 저융점 유리분말을 평균입도 5㎛ 이하로 분쇄하고, 이방성 세라믹 입자로서 운모분말을 평균입도 5㎛로 분쇄한 다음, 상기 유리분말 80g과 운모분말 20g을 혼합기에 투입한다. 여기에 비히클로서 송진유 30g을 첨가하고, 2시간 혼합하여 코팅 페이스트를 제조한다.
상기 코팅 페이스트의 점도를 측정하여 그 점도가 10,000 센티포아즈가 되도록 희석하고, 이를 폴리에스터 170mesh 스크린을 사용하여 유리기판 상에 스크린 인쇄한다. 이때 인쇄층의 두께는 건조 전 50㎛, 건조 후 35㎛가 되도록 한다.
이어 상기 유리기판을 건축용 유리 강화로에 넣어 열처리한다. 이때 상기 강화로의 온도조건은 620~720℃의 온도에서 7개의 열처리 영역으로 나누어 실시하고, 전체 열처리 시간은 5분으로 한다. 열처리된 유리기판을 1500mesh 산화알루미나 분말로 연마하되, 그 표면 광택도가 10정도 되도록 연마하여 무광택 유리기판을 완성한다.
이방성 세라믹 입자로서 용융온도가 720℃이고 평균직경이 5㎛이며 표면에 이산화티타늄(TiO2)이 코팅된 미세유리구를 사용하는 것 이외에는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅 페이스트를 준비한다.
상기 실시예 1과 동일한 방법으로 유리기판 위에 상기 코팅 페이스트를 스크린 인쇄하고, 열처리한 후 1500mesh 산화알루미나 분말로 연마하되, 그 표면 광택도가 15정도 되도록 연마하여 무광택 유리기판을 완성한다.
용융온도가 500℃ 이고 평균입도가 3㎛ 이하인 저융점 유리분말 100g과, 평균직경이 5㎛인 운모 분말 10 g, 그리고 송진유 30 g 및 형광안료 5 g을 혼합하여 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅 페이스트를 준비한다.
상기 실시예 1과 동일한 방법으로 유리기판 위에 상기 코팅 페이스트를 스크린 인쇄하고, 열처리한 후, 1500mesh 산화알루미나 분말로 연마하되, 표면 광택도가 15 정도 되도록 연마하여 무광택 유리기판을 완성한다.
용융온도가 500℃ 이고 평균입도가 3㎛ 이하인 저융점 유리분말 100g과, 평균직경이 5㎛인 운모 분말 10 g, 그리고 송진유 30 g 및 형광안료 5 g을 혼합하여 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅 페이스트를 준비한다.
두께가 0.5 mm인 구리기판을 산으로 세척을 하고, 그 일면에 열팽창계수가 400 x 10-7/℃ 인 저윰점 프리트(Frit)를 10㎛의 두께로 도포하여 프라이머층을 형성하고, 그 위에 미리 제조된 상기 코팅 페이스트를 35㎛의 두께로 스크린 인쇄하여 이방성 코팅층을 형성한다.
이어 상기 구리기판을 700 ℃로 3분간 열처리하고, 서냉한 후 코팅층의 표면을 1500mesh 산화알루미나 분말로 연마하되, 표면 광택도가 15 정도 되도록 연마하여 무광택 구리기판을 완성한다.
상기 실시예 1 내지 4에 따라 제조된 무광택 유리기판 및 구리기판은 유성 및 수성 필기구를 사용했을 때 모두 원활하게 필기성을 보였으며, 필기물의 지움성도 자국을 남기지 않고 용이하게 지워지는 특성을 나타내었다. 또한, 단초점 프로젝터용 스크린으로 사용하여도 휘도가 높고 해상도가 우수한 선명한 영상을 보여 주었다.

Claims (5)

  1. 연화점이 340~560℃인 저온형 유리분말 100 중량부에 대하여, 광학적으로 이방성을 나타내며 평균입도가 1~25㎛인 이방성 세라믹 입자 3~25 중량부와 비히클(vehicle) 10~40 중량부를 포함하는 코팅 페이스트를 제조하는 (A)단계와;
    유리 또는 금속기판 위에 상기 코팅 페이스트를 도포하고 건조하여 두께가 10~100㎛인 이방성 코팅층을 형성하는 (B)단계와;
    상기 (B)단계의 기판을 620~720℃의 온도에서 열처리하는 (C)단계와;
    상기 (C)단계의 기판에서 이방성 코팅층이 도포된 표면을 5~17의 광택도를 갖도록 연마하는 (D)단계; 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 스크린 및 칠판 겸용 무광택 판재의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 이방성 세라믹 입자는 운모 분말, 방해석 분말, 산화알미늄 분말, 또는 연화점이 560~780℃이고 고굴절 박막이 코팅된 미세유리구 중에서 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 스크린 및 칠판 겸용 무광택 판재의 제조방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 미세 유리구에 코팅된 고굴절 박막은 이산화티타늄(TiO2), 산화네오비움(NbO), 산화주석(SnO2), 질화규소(SiN) 등과 같은 물질을 증착, 도포하여서 형성된 것을 특징을 하는 스크린 및 칠판 겸용 무광택 판재의 제조방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 코팅 페이스트는 추가적으로 안료 1~15 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 스크린 및 칠판 겸용 무광택 판재의 제조방법.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 기판으로서 금속기판을 사용할 경우에는 먼저 열팽창계수가 400 x 10-7/℃ 인 저융점 프리트(Frit)를 사용하여 두께가 5~25㎛인 프라이머층을 형성하고, 그 위에 상기 코팅 페이스트를 도포하여 두께가 5~75㎛인 이방성 코팅층을 형성하는 것을 특징으로 하는 스크린 및 칠판 겸용 무광택 판재의 제조방법.
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KR20180086178A (ko) 2018-07-23 2018-07-30 심우경 전자칠판용 플라스틱 스크린의 제조방법

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