WO2007022862A3 - Verfahren zum herstellen einer mehrschichtigen elektrostatischen linsenanordnung - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer mehrschichtigen elektrostatischen Linsenanordnung mit zumindest einer Linsenelektrode im Allgemeinen, ein Verfahren zum Herstellen einer Phasenplatte im Speziellen sowie die Linsenanordnung, die Phasenplatte und ein Transmissionselektronenmikroskop mit der Phasenplatte. Die Linsenanordnung bzw. Phasenplatte wird aus einer dünnen selbsttragenden Silizium-Nitrid-Membran, welche in einen makroskopischen Chip eingespannt ist unter Abscheidung weiterer Schichten erzeugt. Die zentrale Bohrung sowie die Aperturöffnung werden mittels eines Ionenstrahls herausgefräst.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP06776643A EP1920453A2 (de) | 2005-08-24 | 2006-08-05 | Verfahren zum herstellen einer mehrschichtigen elektrostatischen linsenanordnung |
US11/990,907 US8487268B2 (en) | 2005-08-24 | 2006-08-05 | Method for the production of multiplayer electrostatic lens array |
JP2008527336A JP2009506485A (ja) | 2005-08-24 | 2006-08-05 | 多層静電レンズアレイ生産のための方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102005040267.4 | 2005-08-24 | ||
DE102005040267A DE102005040267B4 (de) | 2005-08-24 | 2005-08-24 | Verfahren zum Herstellen einer mehrschichtigen elektrostatischen Linsenanordnung, insbesondere einer Phasenplatte und derartige Phasenplatte |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2007022862A2 WO2007022862A2 (de) | 2007-03-01 |
WO2007022862A3 true WO2007022862A3 (de) | 2007-05-03 |
Family
ID=37684814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/EP2006/007780 WO2007022862A2 (de) | 2005-08-24 | 2006-08-05 | Verfahren zum herstellen einer mehrschichtigen elektrostatischen linsenanordnung |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8487268B2 (de) |
EP (1) | EP1920453A2 (de) |
JP (1) | JP2009506485A (de) |
DE (1) | DE102005040267B4 (de) |
WO (1) | WO2007022862A2 (de) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006055510B4 (de) * | 2006-11-24 | 2009-05-07 | Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh | Phasenplatte, Bilderzeugungsverfahren und Elektronenmikroskop |
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2005
- 2005-08-24 DE DE102005040267A patent/DE102005040267B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-08-05 JP JP2008527336A patent/JP2009506485A/ja active Pending
- 2006-08-05 EP EP06776643A patent/EP1920453A2/de not_active Withdrawn
- 2006-08-05 WO PCT/EP2006/007780 patent/WO2007022862A2/de active Application Filing
- 2006-08-05 US US11/990,907 patent/US8487268B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
US8487268B2 (en) | 2013-07-16 |
DE102005040267A1 (de) | 2007-03-01 |
WO2007022862A2 (de) | 2007-03-01 |
EP1920453A2 (de) | 2008-05-14 |
JP2009506485A (ja) | 2009-02-12 |
US20100065741A1 (en) | 2010-03-18 |
DE102005040267B4 (de) | 2007-12-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application | ||
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 2008527336 Country of ref document: JP |
|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 2006776643 Country of ref document: EP |
|
WWP | Wipo information: published in national office |
Ref document number: 2006776643 Country of ref document: EP |
|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 11990907 Country of ref document: US |