JPS6313247A - 電子放出装置およびその製造方法 - Google Patents
電子放出装置およびその製造方法Info
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- JPS6313247A JPS6313247A JP61156264A JP15626486A JPS6313247A JP S6313247 A JPS6313247 A JP S6313247A JP 61156264 A JP61156264 A JP 61156264A JP 15626486 A JP15626486 A JP 15626486A JP S6313247 A JPS6313247 A JP S6313247A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J1/00—Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J1/02—Main electrodes
- H01J1/30—Cold cathodes, e.g. field-emissive cathode
- H01J1/316—Cold cathodes, e.g. field-emissive cathode having an electric field parallel to the surface, e.g. thin film cathodes
-
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01J2201/00—Electrodes common to discharge tubes
- H01J2201/30—Cold cathodes
- H01J2201/316—Cold cathodes having an electric field parallel to the surface thereof, e.g. thin film cathodes
- H01J2201/3165—Surface conduction emission type cathodes
Landscapes
- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は電子放出装置およびその製造方法に係り、特に
表面伝導型電子放出源および加速/レンズ用電極の構造
と、それを精度良く、かつ簡単に製造する方法に関する
。
表面伝導型電子放出源および加速/レンズ用電極の構造
と、それを精度良く、かつ簡単に製造する方法に関する
。
[従来技術]
電子放出源としては、従来より、PM接合のなだれ降伏
を用いたもの、PM接合に順バイアスをかけてP層に電
子を注入する方式のもの、薄い絶縁層を金属で挟んだ構
造を有するもの011M型)、粗い高抵抗薄膜に電流を
流して電子を放出させる表面伝導型のもの、その他電界
放出型等の電子放出素子が種々提案されている。
を用いたもの、PM接合に順バイアスをかけてP層に電
子を注入する方式のもの、薄い絶縁層を金属で挟んだ構
造を有するもの011M型)、粗い高抵抗薄膜に電流を
流して電子を放出させる表面伝導型のもの、その他電界
放出型等の電子放出素子が種々提案されている。
このような電子放出素子では、一般に、電子放出口に加
速電極を設け、素子表面から放出された電子を加速する
とともに、ショットキ効果によって仕事関数を低下させ
、電子放出効率を向上を図っている。更に、アインツエ
ルレンズやパイポテンシャルレンズ等の静電型レンズを
設け、放出された電子のビームをウェハ等の対象面に集
束させている。
速電極を設け、素子表面から放出された電子を加速する
とともに、ショットキ効果によって仕事関数を低下させ
、電子放出効率を向上を図っている。更に、アインツエ
ルレンズやパイポテンシャルレンズ等の静電型レンズを
設け、放出された電子のビームをウェハ等の対象面に集
束させている。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、従来の電子放出装置における電子放出口
の加速電極やレンズ用電極は、電子放出素子の電子放出
面上に別個に取付けられていたために、特に電子ビーム
を複数放出するマルチ型電子放出装置においてこれらの
電極の位を合せが困難となり、微細な電子放出口を精度
良く形成することができなかった。
の加速電極やレンズ用電極は、電子放出素子の電子放出
面上に別個に取付けられていたために、特に電子ビーム
を複数放出するマルチ型電子放出装置においてこれらの
電極の位を合せが困難となり、微細な電子放出口を精度
良く形成することができなかった。
[問題点を解決するための手段]
本発明による電子放出装置は、
表面伝導型電子放出源と、その電子放出口に設けられた
加速/レンズ用電極とを有する電子放出装置において。
加速/レンズ用電極とを有する電子放出装置において。
前記加速/レンズ用電極は、絶縁層を挟んで一層又は二
層以上形成され、かつ前記電子放出源と一体形成されて
いることを特徴とする。
層以上形成され、かつ前記電子放出源と一体形成されて
いることを特徴とする。
また1本発明による電子放出装置の製造方法は、
表面伝導型電子放出源と、羊の電子放出口に設けられた
加速/レンズ用電極とを有する電子放出装置の製造方法
において。
加速/レンズ用電極とを有する電子放出装置の製造方法
において。
前記電子放出源を形成しようとする面上に電極材料層を
絶縁層を挟んで一層又は二層以上形成し、 該一層又は二層以上の電極材料層および絶縁層の前記電
子放出口部分を除去することで、前記電子放出口および
加速/レンズ用電極を形成することを特徴とする。
絶縁層を挟んで一層又は二層以上形成し、 該一層又は二層以上の電極材料層および絶縁層の前記電
子放出口部分を除去することで、前記電子放出口および
加速/レンズ用電極を形成することを特徴とする。
[作用]
このように、上記加速/レンズ用電極が、絶縁層を挟ん
で一層又は二層以上形成され、かつ上記電子放出源と一
体形成されていることで、精度の良い微細形成が可能と
なり、また効率的な電子放出を行うことができる。
で一層又は二層以上形成され、かつ上記電子放出源と一
体形成されていることで、精度の良い微細形成が可能と
なり、また効率的な電子放出を行うことができる。
また、上記電極材料層および絶縁層の前記電子放出口部
分を除去するだけで前記電子放出口および加速/レンズ
用電極を形成するために、多層構成となっていても、簡
単な工程で微細な加速/レンズ用電極を精度良く形成す
ることができる。
分を除去するだけで前記電子放出口および加速/レンズ
用電極を形成するために、多層構成となっていても、簡
単な工程で微細な加速/レンズ用電極を精度良く形成す
ることができる。
なお、加速/レンズ用電極という場合には、加速電極、
レンズ電極およびレンズ作用を併せもつ加速電極を含む
ものとするつ [実施例] 以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳顧に説明する
。
レンズ電極およびレンズ作用を併せもつ加速電極を含む
ものとするつ [実施例] 以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳顧に説明する
。
第1図は、本発明による電子放出装置の第一実施例の模
式的断面図である。
式的断面図である。
同図において、ガラス等の絶縁基板1上に、電流供給用
電極2および3が形成され、その間に電子放出用の粗い
高抵抗薄膜4が形成されて表面伝導型電子放出素子を構
成している。更に、電極2および3上には絶縁層5を挟
んで加速/レンズ用電極Bおよび7が形成され、電子放
出口8の放出され、た電子を加速するとともに、粗い高
抵抗薄膜4の仕事関数を低下させ電子放出効率を向上さ
せている。ただし、加速/レンズ用電極6および7は、
独立した電極であってもよいし、同一の電極であっても
よい、独立した電極であれば、各々の電位を変化させる
ことで、電子流を偏向させることができる。
電極2および3が形成され、その間に電子放出用の粗い
高抵抗薄膜4が形成されて表面伝導型電子放出素子を構
成している。更に、電極2および3上には絶縁層5を挟
んで加速/レンズ用電極Bおよび7が形成され、電子放
出口8の放出され、た電子を加速するとともに、粗い高
抵抗薄膜4の仕事関数を低下させ電子放出効率を向上さ
せている。ただし、加速/レンズ用電極6および7は、
独立した電極であってもよいし、同一の電極であっても
よい、独立した電極であれば、各々の電位を変化させる
ことで、電子流を偏向させることができる。
第2図は、本発明の第二実施例の模式的断面図である。
同図に示すように、電流供給用電極2および3上に絶縁
層5を挟んで加速/レンズ用電極9および10、更に絶
縁層11を挟んで加速/レンズ用電極12および13が
形成されている。ただし、本実施例において電極9およ
び10と電極12および13は、一方の電極が高い電位
に、他方の電極が低い電位に段重されており、電子放出
口14にパイポテンシャルレンズを構成している。
層5を挟んで加速/レンズ用電極9および10、更に絶
縁層11を挟んで加速/レンズ用電極12および13が
形成されている。ただし、本実施例において電極9およ
び10と電極12および13は、一方の電極が高い電位
に、他方の電極が低い電位に段重されており、電子放出
口14にパイポテンシャルレンズを構成している。
なお、本実施例では加速/レンズ用電極が二層形成され
ているが、勿論三層以上の多層構成として加速電極およ
びアインツエルレンズ等を形成してもよい。
ているが、勿論三層以上の多層構成として加速電極およ
びアインツエルレンズ等を形成してもよい。
第3図(A)は、本発明の第三実施例の模式的平面図、
第3図(B)は、そのI−I線断面図である。
第3図(B)は、そのI−I線断面図である。
本実施例では表面伝導型電子放出素子が複数個配列され
、かつ加速/レンズ用電極が各電子放出素子について二
分割された構成を有している。
、かつ加速/レンズ用電極が各電子放出素子について二
分割された構成を有している。
各図において、ガラス等の絶縁基板1上に電流供給用電
極2および3が形成され、その間に電子放出用の粗い高
抵抗薄膜4が複数箇所形成されている。そして電極2お
よび3間に電圧Vが印加されることで、各電子放出素子
の粗い高抵抗gJ膜4に電流が流れて電子が放出される
。
極2および3が形成され、その間に電子放出用の粗い高
抵抗薄膜4が複数箇所形成されている。そして電極2お
よび3間に電圧Vが印加されることで、各電子放出素子
の粗い高抵抗gJ膜4に電流が流れて電子が放出される
。
更に、電極2および3上には絶縁層5を挟んで加速/レ
ンズ用電極6および7が形成されている。電極6は電子
放出素子ごとに個別に設けられ、スイッチ手段15およ
び16を介して電圧Va1が印加される。また電極7は
共通の電極であり、電圧Va2が印加されている。
ンズ用電極6および7が形成されている。電極6は電子
放出素子ごとに個別に設けられ、スイッチ手段15およ
び16を介して電圧Va1が印加される。また電極7は
共通の電極であり、電圧Va2が印加されている。
このような構成において、各加速/レンズ用電極6の電
位はトランジスタ等から成るスイッチ手段15および1
8の動作によって制御することができ、それによって各
電子放出素子からの電子流を各々偏向させることができ
る。
位はトランジスタ等から成るスイッチ手段15および1
8の動作によって制御することができ、それによって各
電子放出素子からの電子流を各々偏向させることができ
る。
次に、上記各実施例における゛電子放出素子および加速
/レンズ用電極の製造方法を説明する。
/レンズ用電極の製造方法を説明する。
第4図(A)〜(C)は、本発明による電子放出装置の
製造方法の一実施例を示す概略的工程図である。
製造方法の一実施例を示す概略的工程図である。
まず、同図(A)に示すように、ガラス、石英等の絶縁
基板l上に、Au、 AI等の電極材料層17゜AI2
03等の絶縁層18および電極材料層19を積層形成す
る。
基板l上に、Au、 AI等の電極材料層17゜AI2
03等の絶縁層18および電極材料層19を積層形成す
る。
続いて、FIB(集束イオンビーム)又はRIB(反応
性イオンビーム)等によって上記積層構造を部分的に除
去し、同図(B)に示すように電子放出口8を形成する
。これによって、電流供給用電極2および3と加速/レ
ンズ用電極6および7が同時に、しかも精度良く形成さ
れる。
性イオンビーム)等によって上記積層構造を部分的に除
去し、同図(B)に示すように電子放出口8を形成する
。これによって、電流供給用電極2および3と加速/レ
ンズ用電極6および7が同時に、しかも精度良く形成さ
れる。
次に、同図(C)に示すように、加速/レンズ用電極6
および7をマスクとして、金属、金属酸化物等の薄膜2
0を電子放出口8の基板l上に蒸着する。続いて、電極
6および7上の薄膜20を除去した後、電極2および3
間に電圧を印加して薄膜20に通電し、膜破壊を起こさ
せるというフォーミング処理を行い、粗い高抵抗薄膜4
を形成する。
および7をマスクとして、金属、金属酸化物等の薄膜2
0を電子放出口8の基板l上に蒸着する。続いて、電極
6および7上の薄膜20を除去した後、電極2および3
間に電圧を印加して薄膜20に通電し、膜破壊を起こさ
せるというフォーミング処理を行い、粗い高抵抗薄膜4
を形成する。
このようにして、粗い高抵抗薄膜4、電極2および3、
加速/レンズ用電極6および7を、特別な位置合せを行
うことなく、精度良く形成することができる。また、電
子放出口8を形成するだけで加速/レンズ用電極等を容
易に形成できるために、極めて簡単な工程により微細な
加速/レンズ用電極を形成することができる。
加速/レンズ用電極6および7を、特別な位置合せを行
うことなく、精度良く形成することができる。また、電
子放出口8を形成するだけで加速/レンズ用電極等を容
易に形成できるために、極めて簡単な工程により微細な
加速/レンズ用電極を形成することができる。
なお1本実施例では、第1図に示す第一実施例の場合を
説明したが、勿論、第2図に示す第二実施例であっても
同様に、電子放出口14を形成するだけで加速/レンズ
用電極8.10および12.13を容易に、かつ精度良
く形成できる。
説明したが、勿論、第2図に示す第二実施例であっても
同様に、電子放出口14を形成するだけで加速/レンズ
用電極8.10および12.13を容易に、かつ精度良
く形成できる。
更に、第三実施例のように複数個の電子放出素子が配列
されたマルチ型電子放出装置の場合であっても、本発明
による製造方法によって加速/レンズ用電極Bおよび7
を容易に精度良く形成することができる。
されたマルチ型電子放出装置の場合であっても、本発明
による製造方法によって加速/レンズ用電極Bおよび7
を容易に精度良く形成することができる。
また、上記各実施例では、電子放出源として表面伝導型
電子放出素子を用いた場合を説明したが、これに限定さ
れるものではなく、その他の電子放出源を用いる場合で
あっても本発明は適用することができる。
電子放出素子を用いた場合を説明したが、これに限定さ
れるものではなく、その他の電子放出源を用いる場合で
あっても本発明は適用することができる。
[発明の効果]
以上詳細に説明したように、本発明による電子放出装置
およびその製造方法は、加速/レンズ用電極が、絶縁層
を挟んで一層又は二層以上形成され、かつ表面伝導型電
子放出源と一体形成されていることで、精度の良い微細
形成が可能となり、また効率的な電子放出を行うことが
できる。
およびその製造方法は、加速/レンズ用電極が、絶縁層
を挟んで一層又は二層以上形成され、かつ表面伝導型電
子放出源と一体形成されていることで、精度の良い微細
形成が可能となり、また効率的な電子放出を行うことが
できる。
また、電極材料層および絶縁層の電子放出口部分を除去
するだけで前記電子放出口および加速/レンズ用電極を
形成するために、多層構成となっていても、簡単な工程
で微細な加速/レンズ用電極を精度良く形成することが
できる。
するだけで前記電子放出口および加速/レンズ用電極を
形成するために、多層構成となっていても、簡単な工程
で微細な加速/レンズ用電極を精度良く形成することが
できる。
第1図は1本発明による電子放出装置の第一実施例の模
式的断面図、 第2図は、本発明の第二実施例の模式的断面図、 第3図(A)は1本発明の第三実施例の模式的平面図、
第3図(B)は、そのI−I線断面図、第4図(A)〜
(C)は、本発明による電子放出装置の製造方法の一実
施例を示す概略的工程図である。 1・・・絶縁基板 2.3・・・電波供給用電極 4・・・粗い高抵抗薄膜 5.11・拳・絶縁層 [1,7,9,10,12,13・・・加速/レンズ用
電極8.14Φ・・電子放出口 17.19・Φ・電極材料層 18・・・絶縁層 代理人 弁理士 山 下 積 平 第1図 第2図 第4図 (A)
式的断面図、 第2図は、本発明の第二実施例の模式的断面図、 第3図(A)は1本発明の第三実施例の模式的平面図、
第3図(B)は、そのI−I線断面図、第4図(A)〜
(C)は、本発明による電子放出装置の製造方法の一実
施例を示す概略的工程図である。 1・・・絶縁基板 2.3・・・電波供給用電極 4・・・粗い高抵抗薄膜 5.11・拳・絶縁層 [1,7,9,10,12,13・・・加速/レンズ用
電極8.14Φ・・電子放出口 17.19・Φ・電極材料層 18・・・絶縁層 代理人 弁理士 山 下 積 平 第1図 第2図 第4図 (A)
Claims (4)
- (1)表面伝導型電子放出源と、その電子放出口に設け
られた加速/レンズ用電極とを有する電子放出装置にお
いて、 前記加速/レンズ用電極は、絶縁層を挟 んで一層又は二層以上形成され、かつ前記電子放出源と
一体形成されていることを特徴とする電子放出装置。 - (2)上記加速/レンズ用電極のうち少なくとも一層は
分割されており、分割された各電極を所望の電位に制御
することで、放出された電子を偏向させることを特徴と
する特許請求に範囲第1項記載の電子放出装置。 - (3)表面伝導型電子放出源と、その電子放出口に設け
られた加速/レンズ用電極とを有する電子放出装置の製
造方法において、 前記電子放出源を形成しようとする面上 に電極材料層を絶縁層を挟んで一層又は二層以上形成し
、 該一層又は二層以上の電極材料層および 絶縁層の前記電子放出口部分を除去することで、前記電
子放出口および加速/レンズ用電極を形成することを特
徴とする電子放出装置の製造方法。 - (4)上記表面伝導型電子放出源は、上記電子放出口部
分を除去した後、上記電極材料層の最下層を電流供給電
極として前記電子放出口底部に電子放出用の抵抗薄膜を
堆積させることにより形成されることを特徴とする特許
請求の範囲第3項記載の電子放出装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61156264A JPS6313247A (ja) | 1986-07-04 | 1986-07-04 | 電子放出装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61156264A JPS6313247A (ja) | 1986-07-04 | 1986-07-04 | 電子放出装置およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6313247A true JPS6313247A (ja) | 1988-01-20 |
Family
ID=15624004
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61156264A Pending JPS6313247A (ja) | 1986-07-04 | 1986-07-04 | 電子放出装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6313247A (ja) |
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JPH01298624A (ja) * | 1988-05-26 | 1989-12-01 | Canon Inc | 電子線発生装置 |
JPH01311534A (ja) * | 1988-06-10 | 1989-12-15 | Canon Inc | 電子放出素子及びそれを用いた発光素子 |
JPH05225914A (ja) * | 1992-02-07 | 1993-09-03 | Toshiba Corp | 電子放出素子及びこれを用いた平面ディスプレイ装置 |
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DE102005040267A1 (de) * | 2005-08-24 | 2007-03-01 | Universität Karlsruhe | Verfahren zum Herstellen einer mehrschichtigen elektrostatischen Linsenanordnung |
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JPS5887731A (ja) * | 1981-10-29 | 1983-05-25 | エヌ・ベー・フイリツプス・フルーイランペンフアブリケン | 画像記録または表示用陰極線管を具える装置 |
JPS6017832A (ja) * | 1983-07-11 | 1985-01-29 | Toshiba Corp | 単結晶ランタンヘキサボライド電子銃 |
-
1986
- 1986-07-04 JP JP61156264A patent/JPS6313247A/ja active Pending
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