JPH0636680A - ダイヤモンドフイルム電子源を用いた電子素子 - Google Patents
ダイヤモンドフイルム電子源を用いた電子素子Info
- Publication number
- JPH0636680A JPH0636680A JP12219493A JP12219493A JPH0636680A JP H0636680 A JPH0636680 A JP H0636680A JP 12219493 A JP12219493 A JP 12219493A JP 12219493 A JP12219493 A JP 12219493A JP H0636680 A JPH0636680 A JP H0636680A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diamond material
- emission
- electron
- anode
- electrons
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J3/00—Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J3/02—Electron guns
- H01J3/021—Electron guns using a field emission, photo emission, or secondary emission electron source
- H01J3/022—Electron guns using a field emission, photo emission, or secondary emission electron source with microengineered cathode, e.g. Spindt-type
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2201/00—Electrodes common to discharge tubes
- H01J2201/30—Cold cathodes
- H01J2201/304—Field emission cathodes
- H01J2201/30446—Field emission cathodes characterised by the emitter material
- H01J2201/30453—Carbon types
- H01J2201/30457—Diamond
Abstract
(57)【要約】
【目的】 0.05ミクロン代の小さな構造サイズを必
要とせず、5x105V/cm程導電界のみを用いて、
大量の電子を放出させることができる、電子放出電子素
子を提供する。 【構成】 ダイヤモンド材料電子放出部(101)とア
ノード(102)とが双方とも支持基板(103)上に
配置されており、それらの間に相互電極領域(130)
を規定するようにした、電子素子。相互電極領域(13
0)を横切る電子の搬送は、ダイヤモンド材料電子放出
部(101)の放出面(120)において、開始され
る。代替実施例では、実質的に対称的で、電子放出部
(301)について軸方向にずれており、かつ相互電極
領域(330)内にあるゲート電極(340)を用い
て、変調能力を設けている。
要とせず、5x105V/cm程導電界のみを用いて、
大量の電子を放出させることができる、電子放出電子素
子を提供する。 【構成】 ダイヤモンド材料電子放出部(101)とア
ノード(102)とが双方とも支持基板(103)上に
配置されており、それらの間に相互電極領域(130)
を規定するようにした、電子素子。相互電極領域(13
0)を横切る電子の搬送は、ダイヤモンド材料電子放出
部(101)の放出面(120)において、開始され
る。代替実施例では、実質的に対称的で、電子放出部
(301)について軸方向にずれており、かつ相互電極
領域(330)内にあるゲート電極(340)を用い
て、変調能力を設けている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、一般的に電子素子に関
し、特に、電子源としてダイヤモンド材料料を用いた電
子素子に関するものである。
し、特に、電子源としてダイヤモンド材料料を用いた電
子素子に関するものである。
【0002】
【従来の技術および発明が解決使用とする課題】電子の
弾道搬送(ballastic transport)
を用いた電子素子は、当技術では公知である。しかしな
がら、公知の従来技術の素子は、多くの欠点を有してい
る。従来技術の真空管素子は、大きくしかも集積が不可
能である。最近開発された電界放出電子素子は、非常に
高い電界と、その非常に高い電界を達成するための数百
オングストローム程度の非常に小さな構造とを必要とす
る。当技術において公知の、プレーナ型電界放出電子素
子は、素子の動作を可能とするには、ミクロン以下
(0.05ミクロン)の電極構造のサイズを必要とす
る。
弾道搬送(ballastic transport)
を用いた電子素子は、当技術では公知である。しかしな
がら、公知の従来技術の素子は、多くの欠点を有してい
る。従来技術の真空管素子は、大きくしかも集積が不可
能である。最近開発された電界放出電子素子は、非常に
高い電界と、その非常に高い電界を達成するための数百
オングストローム程度の非常に小さな構造とを必要とす
る。当技術において公知の、プレーナ型電界放出電子素
子は、素子の動作を可能とするには、ミクロン以下
(0.05ミクロン)の電極構造のサイズを必要とす
る。
【0003】したがって、従来技術の欠点の少なくとも
いくつかを克服する電子素子が必要とされている。
いくつかを克服する電子素子が必要とされている。
【0004】
【課題を解決するための手段】この必要性及びその他の
ものは、主面を有する支持用基板と、前記主面の一部に
配置され、電子を放出するための放出面を有するダイヤ
モンド材料電子放出部と、放出された電子の少なくとも
幾つかを収集するために、かつ前記ダイヤモンド材料電
子放出部に対して隔てて前記主面の一部上に配置され、
その間に相互電極領域を規定する、アノードとを有す
る、電子素子の提供によって、実質的に満足されるもの
である。
ものは、主面を有する支持用基板と、前記主面の一部に
配置され、電子を放出するための放出面を有するダイヤ
モンド材料電子放出部と、放出された電子の少なくとも
幾つかを収集するために、かつ前記ダイヤモンド材料電
子放出部に対して隔てて前記主面の一部上に配置され、
その間に相互電極領域を規定する、アノードとを有す
る、電子素子の提供によって、実質的に満足されるもの
である。
【0005】この必要性及びその他のものは、更に、主
面を有する支持用基板と、電子を放出するための放出面
を有し、前記主面の一部に配置された、ダイヤモンド材
料電子放出部と、放出された電子の少なくとも幾つかを
収集するために、前記ダイヤモンド材料電子放出部に対
して隔てて前記主面の一部上に配置され、その間に相互
電極領域を規定するアノードと、前記主面の一部に配置
され、実質的に前記相互電極領域内に、実質的に対称
で、かつ前記電子放出部に対して軸方向に変位した、ゲ
ート電極とを有する、電子素子によっても、満足される
ものである。
面を有する支持用基板と、電子を放出するための放出面
を有し、前記主面の一部に配置された、ダイヤモンド材
料電子放出部と、放出された電子の少なくとも幾つかを
収集するために、前記ダイヤモンド材料電子放出部に対
して隔てて前記主面の一部上に配置され、その間に相互
電極領域を規定するアノードと、前記主面の一部に配置
され、実質的に前記相互電極領域内に、実質的に対称
で、かつ前記電子放出部に対して軸方向に変位した、ゲ
ート電極とを有する、電子素子によっても、満足される
ものである。
【0006】
【実施例】図1は、本発明による電子素子100の一実
施例の部分的上平面図である。素子100は、放出面1
20を有し、電子を放出するためのダイヤモンド材料電
子放出部101と、放出された電子の少なくともいくつ
かを収集するための、互いに対して隔たって配置され、
かつその間に相互電極領域130を規定するアノード1
02とを備えている。
施例の部分的上平面図である。素子100は、放出面1
20を有し、電子を放出するためのダイヤモンド材料電
子放出部101と、放出された電子の少なくともいくつ
かを収集するための、互いに対して隔たって配置され、
かつその間に相互電極領域130を規定するアノード1
02とを備えている。
【0007】図2は、素子100の側断面図であり、更
に支持基板103も描いている。ダイヤモンド材料電子
放出部101とアノード103の両方は、各々支持基板
103の主面上に配置され、実質的にコプレーナ状配向
となっている。
に支持基板103も描いている。ダイヤモンド材料電子
放出部101とアノード103の両方は、各々支持基板
103の主面上に配置され、実質的にコプレーナ状配向
となっている。
【0008】ダイヤモンド材料電子放出部は、当技術で
は公知なように、一般的にダイヤモンド材料を適切な基
板上に付着させることによって実現することができるこ
とを明記しておく。このような付着技術の1つは、化学
的蒸着過程を用いている。付着方法の中には、実質的に
単結晶のダイヤモンド材料フィルムを用意することが望
ましいものもある。また、他の付着方法には、多結晶ダ
イヤモンド材料フィルムを備えるのが望ましいものもあ
る。以下に述べる本発明の一実施例では、実質的に単結
晶ダイヤモンド材料の電子放出部を備えることが望まし
い。別の実施例には、多結晶ダイヤモンド材料の電子放
出部を良好に用いるものもある。
は公知なように、一般的にダイヤモンド材料を適切な基
板上に付着させることによって実現することができるこ
とを明記しておく。このような付着技術の1つは、化学
的蒸着過程を用いている。付着方法の中には、実質的に
単結晶のダイヤモンド材料フィルムを用意することが望
ましいものもある。また、他の付着方法には、多結晶ダ
イヤモンド材料フィルムを備えるのが望ましいものもあ
る。以下に述べる本発明の一実施例では、実質的に単結
晶ダイヤモンド材料の電子放出部を備えることが望まし
い。別の実施例には、多結晶ダイヤモンド材料の電子放
出部を良好に用いるものもある。
【0009】図3は、電子素子100の変更例の側断面
図である。この変更例では、素子100は、支持基板1
03内に達する深さと、ダイヤモンド材料電子放出部1
01とアノード102の両方の一部が支持されない程の
幅を有するものとして示されている領域104を、有し
ている。
図である。この変更例では、素子100は、支持基板1
03内に達する深さと、ダイヤモンド材料電子放出部1
01とアノード102の両方の一部が支持されない程の
幅を有するものとして示されている領域104を、有し
ている。
【0010】図3に描かれているように、電子素子10
0は、ダイヤモンド材料電子放出部101とアノード1
02との間で、外部から供給される電圧源105を結合
することによって、動作する。その間に印加される電圧
が、電子放出部101の放出面120からの、矢印11
0で表されている電子の放出を誘導する。少なくとも放
出された電子のいくつかは、相互電極領域130の範囲
を横切り、アノード102において収集される。
0は、ダイヤモンド材料電子放出部101とアノード1
02との間で、外部から供給される電圧源105を結合
することによって、動作する。その間に印加される電圧
が、電子放出部101の放出面120からの、矢印11
0で表されている電子の放出を誘導する。少なくとも放
出された電子のいくつかは、相互電極領域130の範囲
を横切り、アノード102において収集される。
【0011】ここで、素子100内での電子の放出が、
相互電極領域130を部分的に規定する放出面120に
対応する放出面から、実質的に行なわれると、考える。
単一結晶(単結晶)ダイヤモンド材料として実現されて
いるダイヤモンド材料の電子放出部は、例えば(01
0)結晶配向のような、実質的に単一な結晶配向を示し
ている。しかしながら、多結晶ダイヤモンド材料からな
るダイヤモンド材料電子放出部では、結晶ファセット
(facet)の統計的分布が、放出面において示され
ており、そのファセットの少なくともあるものは、有限
の確率を以て、(111)結晶配向に対応している。ダ
イヤモンド材料の{100}結晶面と比較すると、(1
11)結晶配向(結晶面)に対応するダイヤモンド材料
の結晶面からの電子放出は、より容易に達成されるので
ある。
相互電極領域130を部分的に規定する放出面120に
対応する放出面から、実質的に行なわれると、考える。
単一結晶(単結晶)ダイヤモンド材料として実現されて
いるダイヤモンド材料の電子放出部は、例えば(01
0)結晶配向のような、実質的に単一な結晶配向を示し
ている。しかしながら、多結晶ダイヤモンド材料からな
るダイヤモンド材料電子放出部では、結晶ファセット
(facet)の統計的分布が、放出面において示され
ており、そのファセットの少なくともあるものは、有限
の確率を以て、(111)結晶配向に対応している。ダ
イヤモンド材料の{100}結晶面と比較すると、(1
11)結晶配向(結晶面)に対応するダイヤモンド材料
の結晶面からの電子放出は、より容易に達成されるので
ある。
【0012】ダイヤモンド材料は、電界があると、大量
の電子を放出するもので、これは、金属及びシリコンに
よる電子放出部による電子放出に必要な電界より、約2
桁低い程度の強度でよく(ダイヤモンドでは5x105
v/cm、これに対して金属及びシリコンでは3x10
7v/cm)、したがって、従来技術の電子放出部が要
求するような、小さな曲率半径の幾何学的不連続構造を
備える必要がない。素子の製造において従来技術の課題
となっている困難が、本発明のダイヤモンド材料の電子
放出部を用いることによって解消されるので、これは従
来技術に対する大きな改善である。例えば、従来技術の
電子放出電子素子を実現するためには、0.05ミクロ
ン以下程度の少なくとも1つの構造サイズを有する電子
放出部を備える必要があったが、本発明の電子放出部に
よって構成された電子素子には、まったく構造のサイズ
について強要される必須要件がない。
の電子を放出するもので、これは、金属及びシリコンに
よる電子放出部による電子放出に必要な電界より、約2
桁低い程度の強度でよく(ダイヤモンドでは5x105
v/cm、これに対して金属及びシリコンでは3x10
7v/cm)、したがって、従来技術の電子放出部が要
求するような、小さな曲率半径の幾何学的不連続構造を
備える必要がない。素子の製造において従来技術の課題
となっている困難が、本発明のダイヤモンド材料の電子
放出部を用いることによって解消されるので、これは従
来技術に対する大きな改善である。例えば、従来技術の
電子放出電子素子を実現するためには、0.05ミクロ
ン以下程度の少なくとも1つの構造サイズを有する電子
放出部を備える必要があったが、本発明の電子放出部に
よって構成された電子素子には、まったく構造のサイズ
について強要される必須要件がない。
【0013】図4は、本発明による、放出面220を有
するダイヤモンド材料の電子放出部201の側断面図で
ある。現在考慮中の電子放出部201に対しては、ダイ
ヤモンド材料は、結晶に関しては、結晶面(100)と
結晶面(111)とによって、識別されている。例え
ば、ダイヤモンドフィルムの選択的異方性エッチングに
よって、図4に描いた構造が作成され、優先的(選択
的)エッチングによって、(111)結晶面が放出面2
20を形成するようにしている。
するダイヤモンド材料の電子放出部201の側断面図で
ある。現在考慮中の電子放出部201に対しては、ダイ
ヤモンド材料は、結晶に関しては、結晶面(100)と
結晶面(111)とによって、識別されている。例え
ば、ダイヤモンドフィルムの選択的異方性エッチングに
よって、図4に描いた構造が作成され、優先的(選択
的)エッチングによって、(111)結晶面が放出面2
20を形成するようにしている。
【0014】図5は、電子放出部201とアノード20
2とを備えた電子素子200を示すものである。アノー
ド202は、電子放出部201の放出面220に対して
隔てられて配置されている。電子放出部201とアノー
ド202は、その間に相互電極領域230を規定してい
る。図6は、電子放出部201とアノード202の相対
位置を示した、電子素子200の上面図である。
2とを備えた電子素子200を示すものである。アノー
ド202は、電子放出部201の放出面220に対して
隔てられて配置されている。電子放出部201とアノー
ド202は、その間に相互電極領域230を規定してい
る。図6は、電子放出部201とアノード202の相対
位置を示した、電子素子200の上面図である。
【0015】図7は、電子素子200の変更例を表わす
側断面図である。図7において、図6を参照して先に述
べたように配置されている、(111)結晶面に対応す
る放出面220とアノード202とを有するダイヤモン
ド材料電子放出部201は、主面を有する指示基板20
3上に支持されている。図3を参照して先に述べた領域
204は、基板203の主面内に形成されている。図3
を参照して上述したように、電圧(図示せず)を印加す
ると、矢印210で表されているように電子を発生し、
放出面220から放出され、その内の少なくともいくつ
かは相互電極領域230の範囲を横切って、アノード2
02にて収集される。
側断面図である。図7において、図6を参照して先に述
べたように配置されている、(111)結晶面に対応す
る放出面220とアノード202とを有するダイヤモン
ド材料電子放出部201は、主面を有する指示基板20
3上に支持されている。図3を参照して先に述べた領域
204は、基板203の主面内に形成されている。図3
を参照して上述したように、電圧(図示せず)を印加す
ると、矢印210で表されているように電子を発生し、
放出面220から放出され、その内の少なくともいくつ
かは相互電極領域230の範囲を横切って、アノード2
02にて収集される。
【0016】次に図8を参照すると、本発明による電子
素子300の更に別の実施例の上面図が示されている。
素子300は、図4〜図6を参照して先に述べたように
電子を放出するための放出面320を有するダイヤモン
ド材料の電子放出部301と、アノード302とを備え
ている。アノード302は、放出面320に対して隔て
られて配置されており、その間に相互電極領域330を
規定している。ゲート電極340が対称的に配置され、
電子放出部301に対して軸方向にずれており、更に実
質的に相互電極領域330内に配置されている。
素子300の更に別の実施例の上面図が示されている。
素子300は、図4〜図6を参照して先に述べたように
電子を放出するための放出面320を有するダイヤモン
ド材料の電子放出部301と、アノード302とを備え
ている。アノード302は、放出面320に対して隔て
られて配置されており、その間に相互電極領域330を
規定している。ゲート電極340が対称的に配置され、
電子放出部301に対して軸方向にずれており、更に実
質的に相互電極領域330内に配置されている。
【0017】図9は、図7を参照して先に述べた主面と
領域304とを有する支持基板303を更に備えた電子
素子303を表す、側断面図である。図7を参照して述
べたように、ダイヤモンド材料の電子放出部301とア
ノード302が、支持基板303の主面上に配置される
と共に、ゲート電極340がその間に配置されている。
領域304とを有する支持基板303を更に備えた電子
素子303を表す、側断面図である。図7を参照して述
べたように、ダイヤモンド材料の電子放出部301とア
ノード302が、支持基板303の主面上に配置される
と共に、ゲート電極340がその間に配置されている。
【0018】素子300を動作させるためには、外部に
設けられた第1電圧源305が、ダイヤモンド材料電子
放出部301とアノード302との間に第1電圧を供給
する。第1電圧を印加すると、電子が放出面320から
放出され、相互電極領域330の範囲を横切って、アノ
ード302において収集される。次に、外部に設けられ
た第2電圧源が、ダイヤモンド材料電子放出部301と
ゲート電極340との間に、第2電圧を供給する。第2
電圧の印加を利用して、放出面320からの電子の放出
率を制御する。第2電圧を変調すると、電子放出率がそ
れにしたがって変調される。
設けられた第1電圧源305が、ダイヤモンド材料電子
放出部301とアノード302との間に第1電圧を供給
する。第1電圧を印加すると、電子が放出面320から
放出され、相互電極領域330の範囲を横切って、アノ
ード302において収集される。次に、外部に設けられ
た第2電圧源が、ダイヤモンド材料電子放出部301と
ゲート電極340との間に、第2電圧を供給する。第2
電圧の印加を利用して、放出面320からの電子の放出
率を制御する。第2電圧を変調すると、電子放出率がそ
れにしたがって変調される。
【0019】1つの実現可能性において、多結晶ダイヤ
モンド材料からなるダイヤモンド材料電子放出部を用い
て、図3を参照して先に述べた電子素子と組み合せて、
図8及び図9の電子素子のゲート電極340を有利に用
いることができることが、予期される。
モンド材料からなるダイヤモンド材料電子放出部を用い
て、図3を参照して先に述べた電子素子と組み合せて、
図8及び図9の電子素子のゲート電極340を有利に用
いることができることが、予期される。
【0020】素子の動作を行なうのに、0.05ミクロ
ン代の小さな構造サイズを必要としない、実質的にプレ
ーナ型の電子放出電子素子を提供することが、本発明の
目的の1つである。
ン代の小さな構造サイズを必要としない、実質的にプレ
ーナ型の電子放出電子素子を提供することが、本発明の
目的の1つである。
【0021】5x105V/cm程度の誘導電界のみを
用いることによって、ダイヤモンド材料電子から大量の
電子を放出させることができる、実質的にプレーナ型の
電子放出電子素子を提供することが、本発明の別の目的
である。
用いることによって、ダイヤモンド材料電子から大量の
電子を放出させることができる、実質的にプレーナ型の
電子放出電子素子を提供することが、本発明の別の目的
である。
【図1】本発明による、電子素子の実施例の部分的上面
図。
図。
【図2】図1の電子素子の側断面図。
【図3】本発明による、電子素子の他の実施例の側断面
図。
図。
【図4】本発明による、電子放出部を表わす側断面図。
【図5】本発明による電子素子の更に他の実施例の、一
部分を取除いた側断面図。
部分を取除いた側断面図。
【図6】図5に描いた電子素子の、一部分を取除いた上
平面図。
平面図。
【図7】本発明による電子素子の更に他の実施例を示
す、側断面図。
す、側断面図。
【図8】本発明による電子素子の更に別の実施例を示
す、部分的上平面図。
す、部分的上平面図。
【図9】図8に描いた電子素子を示す側断面図。
101,301 ダイヤモンド材料電子放出部 102,302 アノード 103,303 支持基板 120,320 放出面 130,330 相互電極領域 340 ゲート電極
Claims (2)
- 【請求項1】主面を有する支持基板(103);前記支
持基板の主面の一部上に配置され、電子を放出するため
の放出面(120)を有する、ダイヤモンド材料電子放
出部(101);および放出された電子の少なくとも幾
つかを収集するために、前記ダイヤモンド材料電子放出
部の放出面に対して隔てて前記主面の一部上に配置さ
れ、かつ相互電極領域(130)をその間に規定する、
アノード(102);から成ることを特徴とする電子素
子。 - 【請求項2】主面を有する支持基板(303);前記支
持基板(303)の主面上に配置され、電子を放出する
ための放出面(320)を有する、ダイヤモンド材料電
子放出部(301);前記ダイヤモンド材料電子放出部
(301)の放出面(320)によって放出された電子
の少なくとも幾つかを収集するためのアノード(30
2)であって、前記ダイヤモンド材料電子放出部(30
1)の放出面(320)に対して隔てて前記主面上に配
置され、前記アノード(302)と前記ダイヤモンド材
料電子放出部(301)の放出面(320)との間に、
相互電極領域(330)規定する、前記アノード(30
2);および前記支持基板(303)の主面上に配置さ
れ、実質的に対称で、前記ダイヤモンド材料電子放出部
(301)に対して軸方向にずれており、実質的に前記
相互電極領域(330)内にある、ゲート電極(34
0);から成ることを特徴とする電子素子。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/877,931 US5289086A (en) | 1992-05-04 | 1992-05-04 | Electron device employing a diamond film electron source |
US877931 | 1992-05-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0636680A true JPH0636680A (ja) | 1994-02-10 |
Family
ID=25371024
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12219493A Pending JPH0636680A (ja) | 1992-05-04 | 1993-04-27 | ダイヤモンドフイルム電子源を用いた電子素子 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5289086A (ja) |
JP (1) | JPH0636680A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6028391A (en) * | 1996-10-18 | 2000-02-22 | Nec Corporation | Field emission device having spherically curved electron emission layer and spherically recessed substrate |
WO2006135093A1 (ja) * | 2005-06-17 | 2006-12-21 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | ダイヤモンド電子放射陰極、電子放射源、電子顕微鏡及び電子ビーム露光機 |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0681311B1 (en) * | 1993-01-19 | 2002-03-13 | KARPOV, Leonid Danilovich | Field-effect emitter device |
US5502314A (en) * | 1993-07-05 | 1996-03-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Field-emission element having a cathode with a small radius |
US5631196A (en) * | 1994-07-18 | 1997-05-20 | Motorola | Method for making inversion mode diamond electron source |
US5637950A (en) * | 1994-10-31 | 1997-06-10 | Lucent Technologies Inc. | Field emission devices employing enhanced diamond field emitters |
FR2726688B1 (fr) * | 1994-11-08 | 1996-12-06 | Commissariat Energie Atomique | Source d'electrons a effet de champ et procede de fabrication de cette source, application aux dispositifs de visualisation par cathodoluminescence |
US5592053A (en) * | 1994-12-06 | 1997-01-07 | Kobe Steel Usa, Inc. | Diamond target electron beam device |
JP2809129B2 (ja) * | 1995-04-20 | 1998-10-08 | 日本電気株式会社 | 電界放射冷陰極とこれを用いた表示装置 |
US5679895A (en) * | 1995-05-01 | 1997-10-21 | Kobe Steel Usa, Inc. | Diamond field emission acceleration sensor |
US5713775A (en) * | 1995-05-02 | 1998-02-03 | Massachusetts Institute Of Technology | Field emitters of wide-bandgap materials and methods for their fabrication |
US5630741A (en) * | 1995-05-08 | 1997-05-20 | Advanced Vision Technologies, Inc. | Fabrication process for a field emission display cell structure |
US5644188A (en) * | 1995-05-08 | 1997-07-01 | Advanced Vision Technologies, Inc. | Field emission display cell structure |
US5811929A (en) * | 1995-06-02 | 1998-09-22 | Advanced Vision Technologies, Inc. | Lateral-emitter field-emission device with simplified anode |
US5647998A (en) * | 1995-06-13 | 1997-07-15 | Advanced Vision Technologies, Inc. | Fabrication process for laminar composite lateral field-emission cathode |
US5703380A (en) * | 1995-06-13 | 1997-12-30 | Advanced Vision Technologies Inc. | Laminar composite lateral field-emission cathode |
US5616061A (en) * | 1995-07-05 | 1997-04-01 | Advanced Vision Technologies, Inc. | Fabrication process for direct electron injection field-emission display device |
US5644190A (en) * | 1995-07-05 | 1997-07-01 | Advanced Vision Technologies, Inc. | Direct electron injection field-emission display device |
KR0181256B1 (ko) * | 1996-02-01 | 1999-03-20 | 김은영 | 침상의 다이아몬드 팁 제조방법 |
ATE279782T1 (de) | 1996-06-25 | 2004-10-15 | Univ Vanderbilt | Strukturen, anordnungen und vorrichtungen mit vakuum-feldemissions-mikrospitzen und verfahren zu deren herstellung |
WO1998045868A1 (fr) * | 1997-04-09 | 1998-10-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Dispositif emetteur d'electrons et procede de fabrication associe |
KR20010075311A (ko) * | 1999-07-26 | 2001-08-09 | 어드밴스드 비젼 테크놀러지스 인코포레이티드 | 절연-게이트 전자의 전계 방출 소자 및 그 제작 공정 |
WO2001008193A1 (en) * | 1999-07-26 | 2001-02-01 | Advanced Vision Technologies, Inc. | Vacuum field-effect device and fabrication process therefor |
JPWO2008001805A1 (ja) * | 2006-06-28 | 2009-11-26 | 住友電気工業株式会社 | ダイヤモンド電子放射陰極、電子源、電子顕微鏡及び電子ビーム露光機 |
KR100880562B1 (ko) | 2007-07-09 | 2009-01-30 | (주)제이디에이테크놀로지 | 진공 채널 트랜지스터 및 전계 방출형 평판 표시 장치 |
KR101165809B1 (ko) * | 2011-01-11 | 2012-07-16 | 고려대학교 산학협력단 | 횡형 전계 방출 소자 |
US9805900B1 (en) | 2016-05-04 | 2017-10-31 | Lockheed Martin Corporation | Two-dimensional graphene cold cathode, anode, and grid |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5138237A (en) * | 1991-08-20 | 1992-08-11 | Motorola, Inc. | Field emission electron device employing a modulatable diamond semiconductor emitter |
US5180951A (en) * | 1992-02-05 | 1993-01-19 | Motorola, Inc. | Electron device electron source including a polycrystalline diamond |
-
1992
- 1992-05-04 US US07/877,931 patent/US5289086A/en not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-04-27 JP JP12219493A patent/JPH0636680A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6028391A (en) * | 1996-10-18 | 2000-02-22 | Nec Corporation | Field emission device having spherically curved electron emission layer and spherically recessed substrate |
WO2006135093A1 (ja) * | 2005-06-17 | 2006-12-21 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | ダイヤモンド電子放射陰極、電子放射源、電子顕微鏡及び電子ビーム露光機 |
WO2006135092A1 (ja) * | 2005-06-17 | 2006-12-21 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | ダイヤモンド電子放射陰極、電子放射源、電子顕微鏡及び電子ビーム露光機 |
US7737614B2 (en) | 2005-06-17 | 2010-06-15 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Diamond electron emission cathode, electron emission source, electron microscope, and electron beam exposure device |
JP4868294B2 (ja) * | 2005-06-17 | 2012-02-01 | 住友電気工業株式会社 | ダイヤモンド電子放射陰極、電子放射源、電子顕微鏡及び電子ビーム露光機 |
JP4868293B2 (ja) * | 2005-06-17 | 2012-02-01 | 住友電気工業株式会社 | ダイヤモンド電子放射陰極、電子放射源、電子顕微鏡及び電子ビーム露光機 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5289086A (en) | 1994-02-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0636680A (ja) | ダイヤモンドフイルム電子源を用いた電子素子 | |
US6515640B2 (en) | Electron emission device with gap between electron emission electrode and substrate | |
US6097138A (en) | Field emission cold-cathode device | |
US5757344A (en) | Cold cathode emitter element | |
JP3070469B2 (ja) | 電界放射冷陰極およびその製造方法 | |
EP0513777A2 (en) | Multiple electrode field electron emission device and process for manufacturing it | |
EP0707333A1 (en) | Manufacture of electron emitter by replica technique | |
JPH05205612A (ja) | 電界放出電子デバイスおよびその製造方法 | |
US6899584B2 (en) | Insulated gate field emitter array | |
JP2969081B2 (ja) | 水平電界効果を有する電子放出素子及びその製造方法 | |
JP3407289B2 (ja) | 電子放出装置およびその駆動方法 | |
JPH08306302A (ja) | 電界放射型電子源及びその製造方法 | |
JP2001160355A (ja) | 電子放出素子及び画像表示装置 | |
JP2835434B2 (ja) | 冷電子放出素子 | |
KR100286450B1 (ko) | 전계방출 이미터 및 그의 제조방법 | |
JP3211572B2 (ja) | 電界放射型電子素子およびその製造方法 | |
JP3468299B2 (ja) | 電子放出装置 | |
JP3184890B2 (ja) | 電子放出素子及びその製造方法 | |
JP3622406B2 (ja) | 冷電子放出素子及びその製造方法 | |
JP2000090811A (ja) | 冷電子放出素子とその製造方法 | |
JPH09270228A (ja) | 電界放射型電子源の製造方法 | |
JP3097523B2 (ja) | 電界放射型素子の製造方法 | |
JP3097522B2 (ja) | 電界放射型素子の製造方法 | |
JPH0378929A (ja) | 微細電極の製造方法 | |
JP3127054B2 (ja) | 電界放出型真空管 |